JP2012126814A - Conductive ink composition, and method for producing electrically conductive site - Google Patents

Conductive ink composition, and method for producing electrically conductive site Download PDF

Info

Publication number
JP2012126814A
JP2012126814A JP2010278975A JP2010278975A JP2012126814A JP 2012126814 A JP2012126814 A JP 2012126814A JP 2010278975 A JP2010278975 A JP 2010278975A JP 2010278975 A JP2010278975 A JP 2010278975A JP 2012126814 A JP2012126814 A JP 2012126814A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dimethyl
particles
ink composition
methyl
conductive ink
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010278975A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Manabu Yanase
学 柳瀬
Masami Zeniya
まさみ 銭谷
Yasushi Hara
靖 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Corp filed Critical Tosoh Corp
Priority to JP2010278975A priority Critical patent/JP2012126814A/en
Publication of JP2012126814A publication Critical patent/JP2012126814A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Conductive Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive ink composition for forming electrically conductive sites containing copper as a main component, which can form the electrically conductive sites at a temperature enabling to use a resin as a substrate, can form patterns by a screen printing method, contains the copper in a high concentration, and does not deteriorate the conductivity, even when contacted with the atmosphere for a long time, and to provide a method for producing the electrically conductive site using the same.SOLUTION: There is provided the conductive ink composition comprising at least one of a specific alkoxyamino compound and a specific alkoxydiamino compound, metal particles, and copper formate particles, and an electrically conductive site is formed with the same.

Description

本発明は、導電性インク組成物、及び電気的導通部位の製造方法に関する。本発明の導電性インクは、エレクトロニクス分野で配線基板の回路パターン形成用材料として好適に用いることができる。   The present invention relates to a conductive ink composition and a method for producing an electrically conductive portion. The conductive ink of the present invention can be suitably used as a circuit pattern forming material for a wiring board in the electronics field.

近年、金属粒子の分散体を導電性インクとして用い、インクジェット印刷法や、スクリーン印刷法により所望のパターンを形成し、回路基板における配線等の電気的導通部位を形成する技術が注目を集めている。金属粒子の平均粒子径が数nm〜数10nm程度であるとき、バルクの金属よりも融点が著しく降下し、低い温度で粒子同士の融着が起こることを利用し、金属粒子を低温で焼結させて電気的導通部位を得るものである。現状、このような導電性インクとしては銀粒子を含有するものが中心である。   2. Description of the Related Art In recent years, a technique that uses a metal particle dispersion as a conductive ink, forms a desired pattern by an ink jet printing method or a screen printing method, and forms an electrically conductive portion such as a wiring in a circuit board has attracted attention. . When the average particle diameter of the metal particles is about several nanometers to several tens of nanometers, the melting point is remarkably lowered than that of the bulk metal, and the metal particles are sintered at a low temperature by utilizing the fusion of the particles at a low temperature. To obtain an electrically conductive portion. At present, such conductive ink mainly contains silver particles.

しかしながら、銀では、エレクトロマイグレーション(electromigration)が発生しやすいという問題や、銀自体が高価な金属であるといった問題がある。ここで、エレクトロマイグレーションとは、電界の影響で、金属成分(例えば、配線や電極に使用した金属)が非金属媒体(例えば、絶縁物)の上や中を横切って移動する現象である。   However, silver has a problem that electromigration tends to occur, and silver itself is an expensive metal. Here, electromigration is a phenomenon in which a metal component (for example, a metal used for a wiring or an electrode) moves across or inside a non-metallic medium (for example, an insulator) due to the influence of an electric field.

そこで、低コスト化が可能で且つエレクトロマイグレーションが生じるおそれが少なく且つ、高い導電性をもつ銅を主成分とする配線を印刷法により形成可能な導電性インクが望まれている。   Therefore, there is a demand for a conductive ink that can reduce the cost, is less likely to cause electromigration, and can form wiring having copper as a main component with high conductivity by a printing method.

銅の導電性インクとしては、窒素、酸素、硫黄等のヘテロ原子を分子構造内に有する有機化合物を金属銅表面に吸着させ、酸素や水との接触を妨げ酸化を防ぐと同時に、金属銅粒子相互の凝集を抑制した、平均粒子径が数nm〜数100nm程度の銅粒子を利用する方法が多数提案されている。例えば、酸化抑制剤として、アルキルアミンを利用する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   As copper conductive ink, organic compounds having hetero atoms such as nitrogen, oxygen, sulfur, etc. in the molecular structure are adsorbed on the surface of metal copper, preventing contact with oxygen and water, preventing oxidation, and at the same time, metal copper particles Many methods using copper particles having an average particle diameter of about several nanometers to several hundred nanometers that suppress mutual aggregation have been proposed. For example, a method using alkylamine as an oxidation inhibitor has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

しかしながら、このような金属銅粒子を利用した導電性インクは、金属銅粒子を塗布後、電気的導通部位とする工程で、金属銅粒子表面を被覆する酸化抑制剤を除去し、金属銅粒子同士を融着させるために一般的に、300℃程度といった高温での加熱が必要であり、適応できる基材が限られる問題がある。また、金属銅の酸化を抑制するために水素を含む還元雰囲気下での加熱が必要な場合が多いため、安全面にも大きな問題があった。   However, the conductive ink using such metal copper particles removes the oxidation inhibitor that coats the surface of the metal copper particles in the process of applying the metal copper particles and then forming the electrically conductive portion, and the metal copper particles In general, heating at a high temperature of about 300 ° C. is necessary to fuse the substrate, and there is a problem that applicable substrates are limited. Moreover, since there are many cases where heating in a reducing atmosphere containing hydrogen is required in order to suppress oxidation of metallic copper, there has been a serious problem in terms of safety.

そこで、金属銅の粒子を利用せず、水素を含まない非還元雰囲気下で、比較的低温度での加熱により、銅の電気的導通部位を形成可能な導電性インクが検討されている。   Therefore, a conductive ink that can form an electrically conductive portion of copper by heating at a relatively low temperature in a non-reducing atmosphere not containing hydrogen without using metal copper particles has been studied.

例えば、ギ酸銅(II)とアルコキシアルキルアミンとからなる混合生成物を、80〜200℃及び0.1〜5barで基材に接触させることでより、基材上に銅層を析出する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。   For example, there is a method of depositing a copper layer on a substrate by bringing a mixed product composed of copper (II) formate and an alkoxyalkylamine into contact with the substrate at 80 to 200 ° C. and 0.1 to 5 bar. It has been proposed (see, for example, Patent Document 2).

また、例えば、(A)ギ酸銅(II)又はその水和物と、(B)式:NR(式中、Rは、水酸基、メトキシ基、エトキシ基及びアミノ基からなる群より選択される置換基の1個で置換されている炭素数2〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、R及びRは、それぞれ独立して、水素であるか、又は水酸基もしくはアミノ基で置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基を表す。)で示されるアミノ化合物と、(C)炭素数5〜11の飽和脂肪酸とを含み、成分(A)1モルに対して、成分(C)が0.1〜1モルであることを特徴とする導電性ペーストの層を、基板上に成形し、非酸化性雰囲気中において200〜550℃で加熱し、銅膜を製造する方法が提案されている。(例えば、特許文献3参照)。 Further, for example, (A) copper formate (II) or a hydrate thereof, and (B) formula: NR 1 R 2 R 3 (wherein R 1 is composed of a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, and an amino group. Represents a C2-C4 linear or branched alkyl group substituted with one of the substituents selected from the group, wherein R 2 and R 3 are each independently hydrogen; Or an amino compound having 1 to 3 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group or an amino group.) And (C) a saturated fatty acid having 5 to 11 carbon atoms, and component (A) A layer of a conductive paste characterized in that the component (C) is 0.1 to 1 mol with respect to 1 mol is formed on a substrate and heated at 200 to 550 ° C. in a non-oxidizing atmosphere. A method of manufacturing a copper film has been proposed. (For example, refer to Patent Document 3).

しかし、特許文献2の方法では、ギ酸銅(II)をアルコキシアルキルアミンに完全に溶解させた溶液であるため、粘度が低く、10〜500Pa・s程度の粘度が必要なスクリーン印刷法では、パターン形成が困難であるといった問題や、基板へ塗布した後の加熱処理時において体積変化が大きく、塗布時と加熱後のパターン形状や膜厚の変化が大きいといった問題があり、工業的には利用できないおそれがあった。   However, in the method of Patent Document 2, since it is a solution in which copper (II) formate is completely dissolved in an alkoxyalkylamine, in the screen printing method in which the viscosity is low and a viscosity of about 10 to 500 Pa · s is necessary, There is a problem that it is difficult to form, and there is a problem that the volume change is large during the heat treatment after application to the substrate, and there is a problem that the pattern shape and film thickness change greatly after application and after heating. There was a fear.

また、特許文献3の方法では、スクリーン印刷法によるパターン形成が可能となっているが、銅濃度は導電性ペースト全体の重量に対して15重量%程度以下である。銅の含有量が低い場合、電気的導通部位を形成する際、所望の膜厚とするために、何度も塗り重ねが必要となり、作業効率が低下するといった問題があり、工業的には利用できないおそれがあった。   Moreover, in the method of patent document 3, although pattern formation by a screen printing method is possible, copper concentration is about 15 weight% or less with respect to the weight of the whole electrically conductive paste. When the copper content is low, there is a problem that, when forming the electrically conductive part, it is necessary to repeatedly apply the film to obtain the desired film thickness, and there is a problem that the work efficiency is lowered. There was a risk of not being able to.

以上のように従来の方法は、いずれも十分なものとは言えず、工業的な実用化を図るために更なる検討が要望されていた。すなわち、銅を主成分とする電気的導通部位を形成するための導電性インク組成物において、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、スクリーン印刷法によるパターン形成が可能で、高濃度の銅を含有し、且つ大気に長時間接触しても導電性の低下が無い導電性インク組成物の開発が望まれていた。   As described above, none of the conventional methods can be said to be sufficient, and further studies have been demanded for industrial practical use. That is, in a conductive ink composition for forming an electrically conductive portion mainly composed of copper, the electrically conductive portion can be formed at a temperature at which a resin can be used as a substrate, and pattern formation by a screen printing method is possible. Therefore, there has been a demand for the development of a conductive ink composition that contains a high concentration of copper and does not deteriorate in conductivity even when exposed to the atmosphere for a long time.

特開2007−321215号公報JP 2007-32215 A 特開2005−2471号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-2471 特開2009−158441号公報JP 2009-158441 A

本発明は、上記した背景技術に鑑みてなされたものであり、その目的は、銅を主成分とする電気的導通部位を形成するための導電性インク組成物において、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、スクリーン印刷法によるパターン形成が可能で、高濃度の銅を含有し、且つ大気に接触しても導電性の低下が無い導電性インク組成物、及びそれを用いた電気的導通部位の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described background art, and an object of the present invention is to use a resin as a base material in a conductive ink composition for forming an electrically conductive portion mainly composed of copper. An electrically conductive ink composition that can form an electrically conductive portion at a temperature, can be patterned by a screen printing method, contains a high concentration of copper, and has no decrease in conductivity even when in contact with the atmosphere, And it is providing the manufacturing method of the electrical conduction | electrical_connection site | part using the same.

本発明者らは、上記の課題を解決するため、鋭意検討を重ねた結果、アミン化合物、金属粒子、及びギ酸銅粒子を含有する導電性インク組成物を見出した。そしてこの導電性インク組成物は、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、スクリーン印刷法によるパターン形成が可能で、高濃度の銅を含有し、且つ大気に長時間接触しても導電性の低下が無いことを見出し、本発明を完成させるに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have made extensive studies and found a conductive ink composition containing an amine compound, metal particles, and copper formate particles. The conductive ink composition can form an electrically conductive portion at a temperature at which a resin can be used as a substrate, can be formed by a screen printing method, contains a high concentration of copper, and is contained in the atmosphere. It has been found that there is no decrease in conductivity even after a long contact, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、以下に示すとおりの導電性インク組成物、及び電気的導通部位の製造方法に関するものである。
[1]下記一般式(1)、及び一般式(2)で示されるアミン化合物の少なくとも一種、金属粒子、及びギ酸銅粒子を含有することを特徴とする導電性インク組成物。
That is, the present invention relates to a conductive ink composition and a method for producing an electrically conductive portion as described below.
[1] A conductive ink composition comprising at least one amine compound represented by the following general formula (1) and general formula (2), metal particles, and copper formate particles.

Figure 2012126814
Figure 2012126814

[R、Rは各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、又は2−エトキシエチル基を表し、R、Rは各々独立して、水素原子、又はメチル基を表し、Rは水素原子、又は炭素数1〜6の直鎖状、炭素数3〜6の分岐状若しくは環式のアルキル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、又は2−エトキシエチル基を表し、Xはメチレン基、エチレン基、又はプロピレン基を表す。] [R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 2-methoxyethyl group, or a 2-ethoxyethyl group, and R 3 and R 4 each independently represent A hydrogen atom or a methyl group, and R 5 is a hydrogen atom, a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, a branched or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, a 2-hydroxyethyl group, A 2-methoxyethyl group or a 2-ethoxyethyl group is represented, and X represents a methylene group, an ethylene group, or a propylene group. ]

Figure 2012126814
Figure 2012126814

[R〜Rは各々独立して、水素原子、又はメチル基、エチル基を表す。]
[2]一般式(1)、及び一般式(2)で示されるアミン化合物が、エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、2−メトキシエチルアミン、N−メチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、ビス(2−メトキシエチル)アミン、2−エトキシエチルアミン、N−メチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、ビス(2−エトキシエチル)アミン、2−n−プロポキシエチルアミン、N−メチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−n−プロポキシエチルアミン、2−i−プロポキシエチルアミン、N−メチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−i−プロポキシエチルアミン、2−n−ブトキシエチルアミン、N−メチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−n−ブトキシエチルアミン、2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、3−ヒドロキシプロピルアミン、N−メチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、3−メトキシプロピルアミン、N−メチル−3−メトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、N−メチル−3−エトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−エトキシプロピルアミン、3−n−プロポキシプロピルアミン、3−i−プロポキシプロピルアミン、N−メチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、3−n−ブトキシプロピルアミン、N−メチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、N, N′,N′−トリメチル−N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N, N′,N′−トリメチル−N−(2−メトキシエチル)エチレンジアミン、及びN, N′,N′−トリメチル−N−(2−エトキシエチル)エチレンジアミンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする上記[1]に記載の導電性インク組成物。
[3]金属粒子が、金粒子、銀粒子、銅粒子、白金粒子、パラジウム粒子、ロジウム粒子、イリジウム粒子、ルテニウム粒子、銀コート銅粒子及びオスミウム粒子からなる群より選ばれる少なくとも一種の金属種を含有することを特徴とする上記[1]又は[2]に記載の導電性インク組成物。
[4]金属粒子が、金粒子、銀粒子、銅粒子、白金粒子、パラジウム粒子、及び銀コート銅粒子からなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする上記[1]〜[3]のいずれかに記載の導電性インク組成物。
[5]金属粒子の平均粒子径が、0.01〜100μmの範囲であることを特徴とする上記[1]〜[4]のいずれかに記載の導電性インク組成物。
[6]ギ酸銅粒子の平均粒子径が、1nm〜5μmの範囲であることを特徴とする上記[1]〜[5]のいずれかに記載の導電性インク組成物。
[7]導電性インク組成物全量に対し、金属粒子の濃度が0.1〜99重量%、一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物の濃度が0.1〜80重量%、及びギ酸銅粒子の濃度が0.1重量%〜80重量%、であることを特徴とする上記[1]〜[6]のいずれかに記載の導電性インク組成物。
[8]さらに分散媒を含有することを特徴とする上記[1]〜[7]のいずれかに記載の導電性インク組成物。
[9]分散媒が、アルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素類、及び芳香族炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする上記[8]に記載の導電性インク組成物。
[10]分散媒が、ヘキサノール、ターピネオール、メチル−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、n−ヘキサン、及びγ−ブチロラクトンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする上記[8]又は[9]に記載の導電性インク組成物。
[11]分散媒の濃度が導電性インク組成物全体の重量に対して1〜90重量%の範囲であることを特徴とする上記[8]〜[10]のいずれかに記載の導電性インク組成物。
[12]導電性インク組成物の粘度が、1〜1000Pa・sの範囲であることを特徴とする上記[1]〜[11]のいずれかに記載の導電性インク組成物。
[13]上記[1]〜[12]のいずれかに記載の導電性インク組成物を、基材に塗布又は充填し、当該基材を加熱処理することを特徴とする電気的導通部位の製造方法。
[14]基材が、樹脂、紙、ガラス、シリコン系半導体、化合物半導体、金属酸化物、金属窒化物、及び木材からなる群より選ばれる一種、又は二種以上の複合基材であることを特徴とする上記[13]に記載の電気的導通部位の製造方法。
[15]加熱処理の温度が60〜300℃の範囲であることを特徴とする上記[13]又は[14]に記載の電気的導通部位の製造方法。
[16]非酸化性雰囲気で加熱処理を行うことを特徴とする上記[13]〜[15]のいずれかに記載の電気的導通部位の製造方法。
[R 6 to R 9 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group. ]
[2] The amine compound represented by general formula (1) and general formula (2) is ethanolamine, N-methylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, 2-methoxyethylamine, N-methyl-2- Methoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-methoxyethylamine, bis (2-methoxyethyl) amine, 2-ethoxyethylamine, N-methyl-2-ethoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-ethoxyethylamine, bis ( 2-ethoxyethyl) amine, 2-n-propoxyethylamine, N-methyl-2-n-propoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-n-propoxyethylamine, 2-i-propoxyethylamine, N-methyl-2 -I-propoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-i-propoxye Ruamine, 2-n-butoxyethylamine, N-methyl-2-n-butoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-n-butoxyethylamine, 2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N, N-dimethyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-methoxyethyloxy) Ethylamine, N, N-dimethyl-2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N, N-dimethyl -2- (2-Ethoxyethyloxy) ethylamine, 1,1-dimethyl-2-hydroxy Roxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N-methyl- 1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2 -Ethoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, 3-hydroxypropylamine, N-methyl-3-hydroxypropylamine, N, N-dimethyl-3-hydroxypropylamine, 3 -Methoxypropylamine, N-methyl-3-methoxypropylamine, N, N-dimethyl Tyl-3-methoxypropylamine, 3-ethoxypropylamine, N-methyl-3-ethoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-ethoxypropylamine, 3-n-propoxypropylamine, 3-i-propoxypropyl Amine, N-methyl-3-i-propoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-i-propoxypropylamine, 3-n-butoxypropylamine, N-methyl-3-n-butoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-n-butoxypropylamine, N, N ′, N′-trimethyl-N- (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N ′, N′-trimethyl-N- (2-methoxyethyl) From ethylenediamine and N, N ', N'-trimethyl-N- (2-ethoxyethyl) ethylenediamine Conductive ink composition according to [1], wherein the at least one selected from the group that.
[3] The metal particles are at least one metal species selected from the group consisting of gold particles, silver particles, copper particles, platinum particles, palladium particles, rhodium particles, iridium particles, ruthenium particles, silver-coated copper particles, and osmium particles. The conductive ink composition as described in [1] or [2] above, which is contained.
[4] The above [1] to [3], wherein the metal particles are at least one selected from the group consisting of gold particles, silver particles, copper particles, platinum particles, palladium particles, and silver-coated copper particles. The conductive ink composition according to any one of the above.
[5] The conductive ink composition according to any one of [1] to [4], wherein the average particle diameter of the metal particles is in the range of 0.01 to 100 μm.
[6] The conductive ink composition as described in any one of [1] to [5] above, wherein the average particle diameter of the copper formate particles is in the range of 1 nm to 5 μm.
[7] The concentration of the metal particles is 0.1 to 99% by weight and the concentration of the amine compound represented by the general formula (1) or (2) is 0.1 to 80% by weight with respect to the total amount of the conductive ink composition. The conductive ink composition according to any one of [1] to [6] above, wherein the concentration of the copper formate particles is 0.1 wt% to 80 wt%.
[8] The conductive ink composition as described in any one of [1] to [7] above, further containing a dispersion medium.
[9] The above-mentioned [8], wherein the dispersion medium is at least one selected from the group consisting of alcohols, ethers, esters, aliphatic hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons. Conductive ink composition.
[10] The above [8], wherein the dispersion medium is at least one selected from the group consisting of hexanol, terpineol, methyl-t-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, n-hexane, and γ-butyrolactone. The conductive ink composition according to [9].
[11] The conductive ink according to any one of [8] to [10] above, wherein the concentration of the dispersion medium is in the range of 1 to 90% by weight with respect to the weight of the entire conductive ink composition. Composition.
[12] The conductive ink composition as described in any one of [1] to [11] above, wherein the viscosity of the conductive ink composition is in the range of 1 to 1000 Pa · s.
[13] A conductive ink composition according to any one of the above [1] to [12] is applied or filled on a base material, and the base material is heat-treated. Method.
[14] The base material is one or two or more composite base materials selected from the group consisting of resin, paper, glass, silicon-based semiconductor, compound semiconductor, metal oxide, metal nitride, and wood. The method for producing an electrically conductive portion according to [13] above, which is characterized in that
[15] The method for producing an electrically conductive part according to [13] or [14] above, wherein the temperature of the heat treatment is in a range of 60 to 300 ° C.
[16] The method for producing an electrically conductive portion according to any one of [13] to [15], wherein the heat treatment is performed in a non-oxidizing atmosphere.

本発明は以下に示す効果を奏する。   The present invention has the following effects.

(1)本発明の導電性インク組成物は、塗布又は充填、加熱といった簡便な方法で、導電性パターン等の電気的導通部位を形成することが可能であるため、省エネルギー、低コスト、低環境負荷を達成でき、工業的に極めて有用である。   (1) Since the conductive ink composition of the present invention can form an electrically conductive portion such as a conductive pattern by a simple method such as coating, filling, and heating, energy saving, low cost, and low environment. The load can be achieved and is extremely useful industrially.

本発明の導電性インク組成物は、銅前駆体としてのギ酸銅粒子を含有し、これが電気的導通部位の主成分である金属銅となるため、銅の優れた特性を有する電気的導通部位を形成可能である。   The conductive ink composition of the present invention contains copper formate particles as a copper precursor, and this becomes metallic copper, which is the main component of the electrical conduction site. Therefore, the electrical conduction site having excellent characteristics of copper is provided. It can be formed.

また、本発明の導電性インク組成物は、固体として、ギ酸銅粒子を含有するため、金属濃度が高く、膜厚を厚くするための塗り重ねが必要ないか、若しくは回数を削減でき、作業効率に優れる。さらに、金属粒子を含有するため、これがフィラーとしての役割を果たし、塗布後加熱時の粘度変化、表面張力変化の影響が少ないため、塗布時と加熱後の配線幅や配線形状の変化が小さく寸法精度が優れる。   In addition, since the conductive ink composition of the present invention contains copper formate particles as a solid, the metal concentration is high, and there is no need for recoating to increase the film thickness, or the number of times can be reduced, and work efficiency can be reduced. Excellent. In addition, since it contains metal particles, it plays a role as a filler and is less affected by changes in viscosity and surface tension during heating after coating, so changes in wiring width and wiring shape during coating and after heating are small and dimensional. Excellent accuracy.

そのうえ、本発明の導電性インク組成物は、長時間、大気中で取り扱った場合も導電性の低下が少ないため、作業性に優れる。   In addition, the conductive ink composition of the present invention is excellent in workability because of a small decrease in conductivity even when handled in the air for a long time.

加えて、本発明の導電性インク組成物は、必要に応じて分散媒を含有させることで、所望する粘度に容易に調整できるため、スクリーン印刷法によるパターン形成が可能である。   In addition, since the conductive ink composition of the present invention can be easily adjusted to a desired viscosity by containing a dispersion medium as required, a pattern can be formed by a screen printing method.

(2)本発明の電気的導通部位の製造方法は、本発明の導電性インク組成物を用いることにより、電気的導通部位の形成工程において、水素を含む還元雰囲気を必要とせず、窒素等の不活性雰囲気下での加熱で電気的導通部位形成が可能であり、安全性に優れる。   (2) The method for producing an electrically conductive portion of the present invention uses the conductive ink composition of the present invention, so that a reducing atmosphere containing hydrogen is not required in the step of forming the electrically conductive portion, such as nitrogen. Electrically conductive sites can be formed by heating in an inert atmosphere, and the safety is excellent.

また、本発明の電気的導通部位の製造方法によれば、基材として樹脂を利用できる温度で、電気的導通部位の形成が可能であり、汎用性に優れる。   Moreover, according to the manufacturing method of the electrical conduction site | part of this invention, formation of an electrical conduction site | part is possible at the temperature which can utilize resin as a base material, and it is excellent in versatility.

以下に、本発明をさらに詳細に説明する。   The present invention is described in further detail below.

まず、本発明の導電性インク組成物について説明する。   First, the conductive ink composition of the present invention will be described.

本発明の導電性インク組成物は、下記一般式(1)、及び一般式(2)で示されるアミン化合物の少なくとも一種、金属粒子、及びギ酸銅粒子を含む。   The conductive ink composition of the present invention includes at least one amine compound represented by the following general formula (1) and general formula (2), metal particles, and copper formate particles.

Figure 2012126814
Figure 2012126814

[R、Rは各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、又は2−エトキシエチル基を表し、R、Rは各々独立して、水素原子、又はメチル基を表し、Rは水素原子、又は炭素数1〜6の直鎖状、炭素数3〜6の分岐状若しくは環式のアルキル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、又は2−エトキシエチル基を表し、Xはメチレン基、エチレン基、又はプロピレン基を表す。] [R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 2-methoxyethyl group, or a 2-ethoxyethyl group, and R 3 and R 4 each independently represent A hydrogen atom or a methyl group, and R 5 is a hydrogen atom, a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, a branched or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, a 2-hydroxyethyl group, A 2-methoxyethyl group or a 2-ethoxyethyl group is represented, and X represents a methylene group, an ethylene group, or a propylene group. ]

Figure 2012126814
Figure 2012126814

[R〜Rは各々独立して、水素原子、又はメチル基、エチル基を表す。]
本発明の導電性インク組成物は加熱処理することにより、ギ酸銅粒子中に含まれる銅イオンがギ酸により還元され、金属銅となり、形成される電気的導通部位の導電性を発現させる役割を果たす。また、金属粒子は、当該導電性インク組成物を基材上に塗布し、加熱処理した際に、ギ酸銅粒子中に含まれる銅イオンの還元を促進する役割を果たし、その結果として、処理温度を低下させ、処理時間を短縮させることができる。さらに、金属粒子は、フィラーとして機能し、塗布後加熱時の粘度変化、表面張力変化を抑制し、塗布時と加熱後の電気的導通部位の形状変化を低減する。一方、一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物は、金属粒子、ギ酸銅粒子の分散性の向上や、電気的導通部位形成時の銅イオンの還元反応を安定化させる効果を有する。
[R 6 to R 9 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group. ]
The conductive ink composition of the present invention plays a role of developing the electrical conductivity of the electrically conductive site formed by heat treatment, whereby copper ions contained in the copper formate particles are reduced by formic acid to become metallic copper. . In addition, the metal particles play a role of promoting reduction of copper ions contained in the copper formate particles when the conductive ink composition is applied on a substrate and subjected to heat treatment. And the processing time can be shortened. Furthermore, the metal particles function as fillers, suppress changes in viscosity and surface tension during heating after application, and reduce changes in the shape of the electrically conductive portion during application and after heating. On the other hand, the amine compound represented by the general formula (1) or (2) has an effect of improving the dispersibility of the metal particles and the copper formate particles and stabilizing the reduction reaction of the copper ions at the time of forming the electrically conductive site. Have.

一般式(1)におけるRは水素原子、又は炭素数1〜6の直鎖状、炭素数3〜6の分岐状若しくは環式のアルキル基であり、炭素数1〜6の直鎖状アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数3〜6の分岐状アルキル基としては、例えばi−プロピル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、i−ペンチル基、sec−ペンチル基、t−ペンチル基、neo−ペンチル基、i−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環式のアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R 5 in the general formula (1) is a hydrogen atom or a straight chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a branched or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and a straight chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. Examples of the branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms include i -Propyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, i-pentyl group, sec-pentyl group, t-pentyl group, neo-pentyl group, i-hexyl group and the like. Examples of the 3-6 cyclic alkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.

本発明の導電性インク組成物において、上記一般式(1)、及び一般式(2)で示されるアミン化合物としては、金属粒子、及び/又はギ酸銅粒子に対し配位能を有し、分散性の向上や、電気的導通部位形成時の銅イオンの還元反応を安定化させる効果であればよく、特に限定するものではなく、例えば、上記一般式(1)で示されるアミン化合物において、R、Rが共に水素原子であり、Xがメチレン基のものとしては、具体的には、エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−(2−メトキシエチル)エタノールアミン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)エタノールアミン、N−(2−エトキシエチル)エタノールアミン、N,N−ビス(2−エトキシエチル)エタノールアミン、2−メトキシエチルアミン、N−メチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N−エチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジエチル−2−メトキシエチルアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)−2−メトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−メトキシエチルアミン、ビス(2−メトキシエチル)アミン、トリス(2−メトキシエチル)アミン、N−(2−エトキシエチル)−2−メトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−エトキシエチル)−2−メトキシエチルアミン、2−エトキシエチルアミン、N−メチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N−エチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジエチル−2−エトキシエチルアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)−2−エトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−エトキシエチルアミン、N−(2−メトキシエチル)−2−エトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)−2−エトキシエチルアミン、ビス(2−エトキシエチル)アミン、トリス(2−エトキシエチル)アミン、2−n−プロポキシエチルアミン、N−メチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N−エチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ジエチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−n−プロポキシエチルアミン、N−(2−メトキシエチル)−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)−2−n−プロポキシエチルアミン、N−(2−エトキシエチル)−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ビス(2−エトキシエチル)−2−n−プロポキシエチルアミン、2−i−プロポキシエチルアミン、N−メチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N−エチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ジエチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−i−プロポキシエチルアミン、N−(2−メトキシエチル)−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)−2−i−プロポキシエチルアミン、N−(2−エトキシエチル)−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ビス(2−エトキシエチル)−2−i−プロポキシエチルアミン、2−n−ブトキシエチルアミン、N−メチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N−エチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ジエチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−n−ブトキシエチルアミン、N−(2−メトキシエチル)−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)−2−n−ブトキシエチルアミン、N−(2−エトキシエチル)−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−エトキシエチル)−2−n−ブトキシエチルアミン、2−t−ブトキシエチルアミン、N−メチル−2−t−ブトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−t−ブトキシエチルアミン、N−エチル−2−t−ブトキシエチルアミン、N,N−ジエチル−2−t−ブトキシエチルアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)−2−t−ブトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−t−ブトキシエチルアミン、N−(2−メトキシエチル)−2−t−ブトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)−2−t−ブトキシエチルアミン、N−(2−エトキシエチル)−2−t−ブトキシエチルアミン、N,N−ビス(2−エトキシエチル)−2−t−ブトキシエチルアミン、2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N−エチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジエチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N−(2−メトキシエチル)−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N−(2−エトキシエチル)−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ビス(2−エトキシエチル)−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−エチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジエチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−(2−メトキシエチル)−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−(2−エトキシエチル)−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ビス(2−エトキシエチル)−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−エチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジエチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−(2−ヒドロキシエチル)−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−(2−メトキシエチル)−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−(2−エトキシエチル)−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ビス(2−エトキシエチル)−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン等が例示される。 In the conductive ink composition of the present invention, the amine compound represented by the general formula (1) and the general formula (2) has a coordination ability with respect to metal particles and / or copper formate particles and is dispersed. There is no particular limitation as long as it is an effect that stabilizes the reduction reaction of copper ions at the time of forming an electrically conductive site, and, for example, in the amine compound represented by the above general formula (1), R 3 and R 4 are both hydrogen atoms and X is a methylene group, specifically, ethanolamine, N-methylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N-ethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N- (2-methoxyethyl) ethanolamine, N, N-bis (2-methoxyethyl) ethanol Ruamine, N- (2-ethoxyethyl) ethanolamine, N, N-bis (2-ethoxyethyl) ethanolamine, 2-methoxyethylamine, N-methyl-2-methoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-methoxy Ethylamine, N-ethyl-2-methoxyethylamine, N, N-diethyl-2-methoxyethylamine, N- (2-hydroxyethyl) -2-methoxyethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2- Methoxyethylamine, bis (2-methoxyethyl) amine, tris (2-methoxyethyl) amine, N- (2-ethoxyethyl) -2-methoxyethylamine, N, N-bis (2-ethoxyethyl) -2-methoxy Ethylamine, 2-ethoxyethylamine, N-methyl-2-ethoxyethylamine N, N-dimethyl-2-ethoxyethylamine, N-ethyl-2-ethoxyethylamine, N, N-diethyl-2-ethoxyethylamine, N- (2-hydroxyethyl) -2-ethoxyethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2-ethoxyethylamine, N- (2-methoxyethyl) -2-ethoxyethylamine, N, N-bis (2-methoxyethyl) -2-ethoxyethylamine, bis (2-ethoxyethyl) Amine, tris (2-ethoxyethyl) amine, 2-n-propoxyethylamine, N-methyl-2-n-propoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-n-propoxyethylamine, N-ethyl-2-n- Propoxyethylamine, N, N-diethyl-2-n-propoxyethylamine, N- (2-hydride Roxyethyl) -2-n-propoxyethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2-n-propoxyethylamine, N- (2-methoxyethyl) -2-n-propoxyethylamine, N, N-bis (2-methoxyethyl) -2-n-propoxyethylamine, N- (2-ethoxyethyl) -2-n-propoxyethylamine, N, N-bis (2-ethoxyethyl) -2-n-propoxyethylamine, 2 -I-propoxyethylamine, N-methyl-2-i-propoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-i-propoxyethylamine, N-ethyl-2-i-propoxyethylamine, N, N-diethyl-2-i -Propoxyethylamine, N- (2-hydroxyethyl) -2-i-propoxyethylamine, N, N-bi (2-hydroxyethyl) -2-i-propoxyethylamine, N- (2-methoxyethyl) -2-i-propoxyethylamine, N, N-bis (2-methoxyethyl) -2-i-propoxyethylamine, N -(2-Ethoxyethyl) -2-i-propoxyethylamine, N, N-bis (2-ethoxyethyl) -2-i-propoxyethylamine, 2-n-butoxyethylamine, N-methyl-2-n-butoxy Ethylamine, N, N-dimethyl-2-n-butoxyethylamine, N-ethyl-2-n-butoxyethylamine, N, N-diethyl-2-n-butoxyethylamine, N- (2-hydroxyethyl) -2- n-butoxyethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2-n-butoxyethylamine, N- (2-methyl Xylethyl) -2-n-butoxyethylamine, N, N-bis (2-methoxyethyl) -2-n-butoxyethylamine, N- (2-ethoxyethyl) -2-n-butoxyethylamine, N, N-bis (2-Ethoxyethyl) -2-n-butoxyethylamine, 2-t-butoxyethylamine, N-methyl-2-t-butoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-t-butoxyethylamine, N-ethyl-2 -T-butoxyethylamine, N, N-diethyl-2-t-butoxyethylamine, N- (2-hydroxyethyl) -2-t-butoxyethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2-t -Butoxyethylamine, N- (2-methoxyethyl) -2-t-butoxyethylamine, N, N-bis (2-methoxyethyl)- 2-t-butoxyethylamine, N- (2-ethoxyethyl) -2-t-butoxyethylamine, N, N-bis (2-ethoxyethyl) -2-t-butoxyethylamine, 2- (2-hydroxyethyloxy) ) Ethylamine, N-methyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N, N-dimethyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N-ethyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N, N-diethyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N- (2-hydroxyethyl) -2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2 -(2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N- (2-methoxyethyl) -2- (2-hydroxy Tiloxy) ethylamine, N, N-bis (2-methoxyethyl) -2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N- (2-ethoxyethyl) -2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N, N -Bis (2-ethoxyethyl) -2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N, N- Dimethyl-2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N-ethyl-2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N, N-diethyl-2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N- (2- Hydroxyethyl) -2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N, N-bis (2-hydroxy) Til) -2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N- (2-methoxyethyl) -2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N, N-bis (2-methoxyethyl) -2- (2 -Methoxyethyloxy) ethylamine, N- (2-ethoxyethyl) -2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N, N-bis (2-ethoxyethyl) -2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N, N-dimethyl-2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N-ethyl-2- ( 2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N, N-diethyl-2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N- (2- Hydroxyethyl) -2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N- (2-methoxyethyl) -2- ( 2-Ethoxyethyloxy) ethylamine, N, N-bis (2-methoxyethyl) -2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N- (2-ethoxyethyl) -2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine N, N-bis (2-ethoxyethyl) -2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine and the like.

また、上記一般式(1)で示されるアミン化合物において、例えば、R、Rが共にメチル基であり、Xがメチレン基のものとしては、具体的には、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N−エチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N,N−ジエチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N−エチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジエチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N−エチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジエチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N−エチル−1,1−ジメチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ジエチル−1,1−ジメチル−2−n−プロポキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N−エチル−1,1−ジメチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ジエチル−1,1−ジメチル−2−i−プロポキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N−エチル−1,1−ジメチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ジエチル−1,1−ジメチル−2−n−ブトキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−t−ブトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−t−ブトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−t−ブトキシエチルアミン、N−エチル−1,1−ジメチル−2−t−ブトキシエチルアミン、N,N−ジエチル−1,1−ジメチル−2−t−ブトキシエチルアミン、等が例示される。 In the amine compound represented by the general formula (1), for example, when R 3 and R 4 are both methyl groups and X is a methylene group, specifically, 1,1-dimethyl-2 -Hydroxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, N-ethyl-1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine N, N-diethyl-1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N, N-dimethyl- 1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N-ethyl-1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N, N-diethyl-1 1-dimethyl-2-methoxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-ethoxy Ethylamine, N-ethyl-1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, N, N-diethyl-1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-n-propoxyethylamine, N-methyl -1,1-dimethyl-2-n-propoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-n-propoxyethylamine, N-ethyl-1,1-dimethyl-2-n-propoxyethylamine, N, N-diethyl-1,1-dimethyl-2-n-propoxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-i-propoxy Ethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-i-propoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-i-propoxyethylamine, N-ethyl-1,1-dimethyl-2- i-propoxyethylamine, N, N-diethyl-1,1-dimethyl-2-i-propoxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-n-butoxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-n -Butoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-n-butoxyethylamine, N-ethyl-1,1-dimethyl-2-n-butoxyethylamine, N, N-diethyl-1,1- Dimethyl-2-n-butoxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-tert-butoxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-tert-butoxy Cyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-tert-butoxyethylamine, N-ethyl-1,1-dimethyl-2-tert-butoxyethylamine, N, N-diethyl-1,1-dimethyl Examples include 2-t-butoxyethylamine.

また、上記一般式(1)で示されるアミン化合物において、例えば、R、Rが共に水素原子であり、Xがエチレン基のものとしては、具体的には、3−ヒドロキシプロピルアミン、N−メチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、N−エチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、N,N−ジエチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、3−メトキシプロピルアミン、N−メチル−3−メトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−メトキシプロピルアミン、N−エチル−3−メトキシプロピルアミン、N,N−ジエチル−3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、N−メチル−3−エトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−エトキシプロピルアミン、N−エチル−3−エトキシプロピルアミン、N,N−ジエチル−3−エトキシプロピルアミン、3−n−プロポキシプロピルアミン、N−メチル−3−n−プロポキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−n−プロポキシプロピルアミン、N−エチル−3−n−プロポキシプロピルアミン、N,N−ジエチル−3−n−プロポキシプロピルアミン、3−i−プロポキシプロピルアミン、N−メチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、N−エチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、N,N−ジエチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、3−n−ブトキシプロピルアミン、N−メチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、N−エチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、N,N−ジエチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、3−t−ブトキシプロピルアミン、N−メチル−3−t−ブトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−t−ブトキシプロピルアミン、N−エチル−3−t−ブトキシプロピルアミン、N,N−ジエチル−3−t−ブトキシプロピルアミン等が例示される。 In the amine compound represented by the general formula (1), for example, when R 3 and R 4 are both hydrogen atoms and X is an ethylene group, specific examples include 3-hydroxypropylamine, N -Methyl-3-hydroxypropylamine, N, N-dimethyl-3-hydroxypropylamine, N-ethyl-3-hydroxypropylamine, N, N-diethyl-3-hydroxypropylamine, 3-methoxypropylamine, N -Methyl-3-methoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-methoxypropylamine, N-ethyl-3-methoxypropylamine, N, N-diethyl-3-methoxypropylamine, 3-ethoxypropylamine, N -Methyl-3-ethoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-ethoxypropylamine, N- Tyl-3-ethoxypropylamine, N, N-diethyl-3-ethoxypropylamine, 3-n-propoxypropylamine, N-methyl-3-n-propoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-n- Propoxypropylamine, N-ethyl-3-n-propoxypropylamine, N, N-diethyl-3-n-propoxypropylamine, 3-i-propoxypropylamine, N-methyl-3-i-propoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-i-propoxypropylamine, N-ethyl-3-i-propoxypropylamine, N, N-diethyl-3-i-propoxypropylamine, 3-n-butoxypropylamine, N- Methyl-3-n-butoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-n-butoxypropylamine N-ethyl-3-n-butoxypropylamine, N, N-diethyl-3-n-butoxypropylamine, 3-t-butoxypropylamine, N-methyl-3-t-butoxypropylamine, N, N- Examples thereof include dimethyl-3-t-butoxypropylamine, N-ethyl-3-t-butoxypropylamine, N, N-diethyl-3-t-butoxypropylamine and the like.

また、上記一般式(2)で示されるアミン化合物としては、具体的には、例えば、N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N−(2−メトキシエチル)エチレンジアミン、N−(2−エトキシエチル)エチレンジアミン、N,N′,N′−トリメチル−N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N,N′,N′−トリメチル−N−(2−メトキシエチル)エチレンジアミン、N,N′,N′−トリメチル−N−(2−エトキシエチル)エチレンジアミン、N,N′,N′−トリエチル−N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N,N′,N′−トリエチル−N−(2−メトキシエチル)エチレンジアミン、N,N′,N′−トリエチル−N−(2−エトキシエチル)エチレンジアミン等が例示される。   Specific examples of the amine compound represented by the general formula (2) include N- (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N- (2-methoxyethyl) ethylenediamine, and N- (2-ethoxyethyl). ) Ethylenediamine, N, N ', N'-trimethyl-N- (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N', N'-trimethyl-N- (2-methoxyethyl) ethylenediamine, N, N ', N' -Trimethyl-N- (2-ethoxyethyl) ethylenediamine, N, N ', N'-triethyl-N- (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N', N'-triethyl-N- (2-methoxyethyl) ) Ethylenediamine, N, N ', N'-triethyl-N- (2-ethoxyethyl) ethylenediamine and the like.

一般式(1)、及び一般式(2)で示されるアミン化合物のうち、電気的導通部位を形成する際の除去性、及び製造時又は入手時のコストを考慮すると、アミン化合物としては、エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、2−メトキシエチルアミン、N−メチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、ビス(2−メトキシエチル)アミン、2−エトキシエチルアミン、N−メチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、ビス(2−エトキシエチル)アミン、2−n−プロポキシエチルアミン、N−メチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−n−プロポキシエチルアミン、2−i−プロポキシエチルアミン、N−メチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−i−プロポキシエチルアミン、2−n−ブトキシエチルアミン、N−メチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−n−ブトキシエチルアミン、2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、3−ヒドロキシプロピルアミン、N−メチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、3−メトキシプロピルアミン、N−メチル−3−メトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、N−メチル−3−エトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−エトキシプロピルアミン、3−n−プロポキシプロピルアミン、3−i−プロポキシプロピルアミン、N−メチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、3−n−ブトキシプロピルアミン、N−メチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、N,N′,N′−トリメチル−N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N,N′,N′−トリメチル−N−(2−メトキシエチル)エチレンジアミン、及びN,N′,N′−トリメチル−N−(2−エトキシエチル)エチレンジアミン等が好ましく、さらにエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、2−メトキシエチルアミン、2−エトキシエチルアミン、ビス(2−エトキシエチル)アミン、2−n−プロポキシエチルアミン、2−n−ブトキシエチルアミン、2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、3−ヒドロキシプロピルアミン、3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、3−n−プロポキシプロピルアミン、3−n−ブトキシプロピルアミン、N,N′,N′−トリメチル−N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N,N′,N′−トリメチル−N−(2−メトキシエチル)エチレンジアミン、及びN,N′,N′−トリメチル−N−(2−エトキシエチル)エチレンジアミン等が好ましく、特にエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、2−メトキシエチルアミン、2−エトキシエチルアミン、2−n−プロポキシエチルアミン、2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、3−エトキシプロピルアミン、3−n−プロポキシプロピルアミン、3−n−ブトキシプロピルアミン、及びN,N,N′−トリメチル−N′−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン等からなる群の中より選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。   Of the amine compounds represented by the general formula (1) and the general formula (2), in view of the removability when forming an electrically conductive site and the cost at the time of production or acquisition, the amine compound is ethanol. Amine, N-methylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, 2-methoxyethylamine, N-methyl-2-methoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-methoxyethylamine, bis (2-methoxyethyl) amine, 2-ethoxyethylamine, N-methyl-2-ethoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-ethoxyethylamine, bis (2-ethoxyethyl) amine, 2-n-propoxyethylamine, N-methyl-2-n-propoxy Ethylamine, N, N-dimethyl-2-n-propoxyethylamine, 2-i-propoxy Ethylamine, N-methyl-2-i-propoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-i-propoxyethylamine, 2-n-butoxyethylamine, N-methyl-2-n-butoxyethylamine, N, N-dimethyl- 2-n-butoxyethylamine, 2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N, N-dimethyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N, N-dimethyl-2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-ethoxyethyl) Oxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-ethoxyethyloxy) ethyl Amine, N, N-dimethyl-2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, 1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, N, N-dimethyl -1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl- 2-methoxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, 3- Hydroxypropylamine, N-methyl-3-hydroxypropylamine, N, N-dimethyl-3-hydroxy Cypropylamine, 3-methoxypropylamine, N-methyl-3-methoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-methoxypropylamine, 3-ethoxypropylamine, N-methyl-3-ethoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-ethoxypropylamine, 3-n-propoxypropylamine, 3-i-propoxypropylamine, N-methyl-3-i-propoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-i-propoxypropyl Amine, 3-n-butoxypropylamine, N-methyl-3-n-butoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-n-butoxypropylamine, N, N ′, N′-trimethyl-N- (2 -Hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N ', N'-trimethyl-N- (2-methoxyethyl) Tylenediamine, N, N ′, N′-trimethyl-N- (2-ethoxyethyl) ethylenediamine and the like are preferable, and ethanolamine, N-methylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, 2-methoxyethylamine, 2-ethoxyethylamine, bis (2-ethoxyethyl) amine, 2-n-propoxyethylamine, 2-n-butoxyethylamine, 2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-hydroxyethyl) Oxy) ethylamine, N, N-dimethyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, 1,1-dimethyl-2 -Hydroxyethylamine, 1,1-dimethyl 2-methoxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, 3-hydroxypropylamine, 3-methoxypropylamine, 3-ethoxypropylamine, 3-n-propoxypropylamine, 3-n-butoxypropylamine N, N ', N'-trimethyl-N- (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N', N'-trimethyl-N- (2-methoxyethyl) ethylenediamine, and N, N ', N'- Trimethyl-N- (2-ethoxyethyl) ethylenediamine and the like are preferable, especially ethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, 2-methoxyethylamine, 2-ethoxyethylamine, 2-n-propoxyethylamine, 2-n-butoxyethylamine. N, N-dimethyl-2- (2-hydroxy Ethyloxy) ethylamine, 1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, 3-ethoxypropylamine, 3-n-propoxypropylamine, 3-n-butoxypropylamine, and N, N, N'-trimethyl-N'- It is preferable to use at least one selected from the group consisting of (2-hydroxyethyl) ethylenediamine and the like.

本発明の導電性インク組成物においては、本発明の趣旨に反しない程度であれば、上記した以外のアミン化合物を含んでいても差し支えない。   The conductive ink composition of the present invention may contain an amine compound other than those described above as long as it does not contradict the spirit of the present invention.

本発明の導電性インク組成物において、一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物は市販のものでもよいし、公知の方法により合成したものでも良く、特に限定されない。合成方法としては、例えば、一般式(1)で示されるアミン化合物において、Xがメチレン基である化合物を合成する方法としては、対応するアミンとエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、若しくはイソブチレンオキサイドを反応させ、アルカノールアミンとし、さらに水酸基を修飾し誘導体とする方法等が挙げられる。   In the conductive ink composition of the present invention, the amine compound represented by the general formula (1) or (2) may be commercially available or synthesized by a known method, and is not particularly limited. As a synthesis method, for example, in the amine compound represented by the general formula (1), as a method of synthesizing a compound in which X is a methylene group, a corresponding amine and ethylene oxide, propylene oxide, or isobutylene oxide are reacted. Examples thereof include a method in which an alkanolamine is used and a hydroxyl group is further modified to obtain a derivative.

例えば、一般式(1)で示されるアミン化合物において、Xがエチレン基である化合物を合成する方法としては、水、若しくは対応するアルコールとアクリロニトリルを反応させ、生ずるシアノエチル基を還元しアルカノールアミン若しくはアルコキシアミンとし、さらに修飾し誘導体とする方法等が挙げられる。   For example, in the amine compound represented by the general formula (1), as a method of synthesizing a compound in which X is an ethylene group, water or a corresponding alcohol and acrylonitrile are reacted, and the resulting cyanoethyl group is reduced to alkanolamine or alkoxy. Examples thereof include a method of obtaining an amine and further modifying it into a derivative.

例えば、一般式(2)で示されるアミン化合物を合成する方法としては、対応するエチレンジアミンとエチレンオキサイドを反応させ、アルカノールアミンとし、さらに水酸基を修飾し誘導体とする方法等が挙げられる。   For example, a method for synthesizing the amine compound represented by the general formula (2) includes a method in which a corresponding ethylenediamine and ethylene oxide are reacted to form an alkanolamine, and a hydroxyl group is further modified to obtain a derivative.

一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物の純度は、特に限定するものではなく、電子材料分野での使用を考慮すると、95%以上が好ましく、99%以上が特に好ましい。   The purity of the amine compound represented by the general formula (1) or (2) is not particularly limited, and is preferably 95% or more and particularly preferably 99% or more in consideration of use in the field of electronic materials.

本発明の導電性インク組成物において、金属粒子としては、特に限定するものではなく、例えば、金粒子、銀粒子、銅粒子、白金粒子、パラジウム粒子、ロジウム粒子、イリジウム粒子、ルテニウム粒子、銀コート銅粒子及びオスミウム粒子からなる群より選ばれる一種又は二種以上の金属種を含有するものが挙げられる。これらの金属種は、単体であってもその他の金属との合金であっても差し支えない。中でもコスト面、入手の容易さ、及び電気的導通部位形成時の触媒能から、金粒子、銀粒子、銅粒子、白金粒子、パラジウム粒子、及び銀コート銅粒子からなる群より選ばれる一種又は二種以上が好ましい。ここで銀コート銅粒子とは銀で表面が被覆(コーティング)された銅粒子を表す。   In the conductive ink composition of the present invention, the metal particles are not particularly limited. For example, gold particles, silver particles, copper particles, platinum particles, palladium particles, rhodium particles, iridium particles, ruthenium particles, silver coats. What contains the 1 type (s) or 2 or more types of metal seed | species chosen from the group which consists of a copper particle and an osmium particle | grain is mentioned. These metal species may be simple substances or alloys with other metals. Among them, one or two selected from the group consisting of gold particles, silver particles, copper particles, platinum particles, palladium particles, and silver-coated copper particles because of cost, availability, and catalytic ability at the time of forming an electrically conducting site. More than species are preferred. Here, the silver-coated copper particles represent copper particles whose surfaces are coated (coated) with silver.

本発明の導電性インク組成物において、金属粒子としてこれら以外の金属粒子を使用しても差し支えなく、特にギ酸銅粒子に含まれる銅イオンにより金属粒子が酸化を受けたり、触媒能が低下、又は発現しなかったりして、ギ酸銅粒子から金属銅への還元析出速度が低下するおそれがあるため、上記した金属粒子を使用することが好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, metal particles other than these may be used as the metal particles, and in particular, the metal particles are oxidized by the copper ions contained in the copper formate particles, or the catalytic ability is reduced, or It is preferable to use the above-described metal particles because they may not be expressed, and the rate of reduction and precipitation from copper formate particles to metal copper may be reduced.

本発明の導電性インク組成物において、金属粒子は、金属表面の活性が非常に高くなり、酸化されたり、溶解するおそれがなく、スクリーン印刷法で印刷する際にメッシュをインクが通過でき印刷可能となることから、平均粒子径が、0.01〜100μmの範囲のものが好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the metal particles have a very high activity on the metal surface, there is no risk of being oxidized or dissolved, and the ink can pass through the mesh when printing by screen printing. Therefore, the average particle diameter is preferably in the range of 0.01 to 100 μm.

本発明において、金属粒子の平均粒子径の測定方法としては、透過型電子顕微鏡(TEM)又は走査型電子顕微鏡(SEM)を用い、観測された視野の中から、粒子径が比較的そろっている箇所を3箇所選択し、粒径測定に最も適した倍率で撮影する。各々の写真から、一番多数存在すると思われる粒子を100個選択し、その直径をものさしで測り、測定倍率を除して粒子径を算出し、これらの値を算術平均することにより、求めた。   In the present invention, as a method for measuring the average particle diameter of metal particles, a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM) is used, and the particle diameters are relatively uniform from the observed field of view. Select three locations and shoot at the most suitable magnification for particle size measurement. From each photograph, 100 particles that seemed to be the most abundant were selected, the diameter was measured with a ruler, the particle size was calculated by dividing the measurement magnification, and these values were obtained by arithmetic averaging. .

本発明の導電性インク組成物において、金属粒子は市販のものでもよいし、公知の方法により合成したものでもよく、特に限定されない。また、金属粒子の形状としては、特に限定はなく、球状、鱗片状、針状、樹枝状など任意の形状のものを用いることができる。公知の合成方法としては、例えば、機械的粉砕法、アトマイズ法、気相還元法、CVD法、PVD法、電解析出法、化学的還元法等が一般的に知られている。また、銀コート銅粒子の合成方法としては、例えば、銅粒子自体に銀をメッキさせる方法や、硝酸銀などの銀塩を銅粒子と混ぜ合わせて析出させる方法が、一般的に知られている。   In the conductive ink composition of the present invention, the metal particles may be commercially available or may be synthesized by a known method, and is not particularly limited. Moreover, there is no limitation in particular as a shape of a metal particle, The thing of arbitrary shapes, such as spherical shape, scale shape, needle shape, and dendritic shape, can be used. As a known synthesis method, for example, mechanical pulverization method, atomization method, gas phase reduction method, CVD method, PVD method, electrolytic deposition method, chemical reduction method and the like are generally known. As a method for synthesizing silver-coated copper particles, for example, a method of plating silver on the copper particles themselves or a method of depositing silver salts such as silver nitrate mixed with copper particles is generally known.

本発明の導電性インク組成物において、金属粒子の純度としては、特に限定するものではなく、導電性付与の観点から、95%以上が好ましく、99%以上が特に好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the purity of the metal particles is not particularly limited, and is preferably 95% or more and particularly preferably 99% or more from the viewpoint of imparting conductivity.

本発明の導電性インク組成物において、ギ酸銅粒子としては、銅イオンをカチオン種とし、ギ酸をアニオン種とする銅塩の粒子であればよく、特に限定するものではない。例えば、一価の銅イオン、二価の銅イオン、及び三価の銅イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種と、ギ酸からなる銅塩の粒子が挙げられる。これらの中でも、安定性、及び入手の容易さから、二価の銅イオンとギ酸からなる銅塩の粒子が好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the copper formate particles are not particularly limited as long as they are copper salt particles having a copper ion as a cation species and formic acid as an anion species. For example, at least one selected from the group consisting of monovalent copper ions, divalent copper ions, and trivalent copper ions, and particles of copper salts made of formic acid can be given. Among these, from the viewpoint of stability and availability, copper salt particles composed of divalent copper ions and formic acid are preferable.

本発明の導電性インク組成物において、ギ酸銅粒子の純度については特に限定はなく、導電性付与の観点から、95%以上が好ましく、99%以上が特に好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the purity of the copper formate particles is not particularly limited, and is preferably 95% or more and particularly preferably 99% or more from the viewpoint of imparting conductivity.

本発明の導電性インク組成物において、ギ酸銅粒子の平均粒子径は、特に限定はなく、1nm以上、10μm未満の範囲であることが好ましい。この範囲とすることにより、溶解した場合、再析出した際に、他の粒子を核として析出し、粒子の粗大化を引起すおそれがなく、印刷法により配線等のパターン形成できる導電性インク組成物への適応が困難となったり、電気的導通部位を形成する際に、粒子の内部まで完全に反応せず、金属銅への還元が不十分となり、形成された電気的導通部位の導電性に悪影響を及ぼすおそれがない。   In the conductive ink composition of the present invention, the average particle size of the copper formate particles is not particularly limited, and is preferably in the range of 1 nm or more and less than 10 μm. By setting the amount within this range, when dissolved, when reprecipitated, other particles are deposited as nuclei, and there is no risk of coarsening of the particles, and a conductive ink composition that can form patterns such as wiring by a printing method When it becomes difficult to adapt to an object or forms an electrically conductive part, it does not react completely to the inside of the particle, the reduction to metallic copper becomes insufficient, and the conductivity of the formed electrically conductive part There is no risk of adverse effects.

本発明の導電性インク組成物において、ギ酸銅粒子としては、市販のものでも、公知の方法により製造したものでも良く、さらには、銅イオンを含む化合物とギ酸を混合することにより、系中で形成させたものでも何ら差し支えなく使用することができ、特に限定されない。   In the conductive ink composition of the present invention, the copper formate particles may be commercially available or produced by a known method, and further, by mixing a compound containing copper ions and formic acid in the system. The formed one can be used without any limitation, and is not particularly limited.

ギ酸銅粒子を製造する方法としては、特に限定はなく、例えば、ギ酸銅粒子の粗粉末を機械的粉砕により粉砕する方法や、銅イオンとギ酸を含有する溶液から、ギ酸銅粒子を析出させる方法等が挙げられる。これらのうち、粒子サイズの再現性が良好なことや、大量の溶媒及び大規模な設備が必要ないことから、ギ酸銅粒子の粗粉末を機械的粉砕により粉砕する方法が好ましい。   The method for producing the copper formate particles is not particularly limited. For example, a method of pulverizing a coarse powder of copper formate particles by mechanical pulverization, or a method of depositing copper formate particles from a solution containing copper ions and formic acid. Etc. Among these, the method of pulverizing the coarse powder of copper formate particles by mechanical pulverization is preferable because the reproducibility of the particle size is good and a large amount of solvent and large-scale equipment are not required.

機械的粉砕としては、特に限定するものではなく、例えば、乾式であっても、湿式であっても一向に差し支えなく、具体的には、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、ジェットミル、カッターミル、ハンマーミル、振動ミル、コロイドミル、ロールミル、乳鉢、及び石臼からなる群の一種又は二種以上を用いることができる。中でも微細粒子が効率的に得られることから、ビーズミルを用いることが好ましい。   The mechanical pulverization is not particularly limited. For example, it may be dry or wet. Specifically, a ball mill, a bead mill, a sand mill, a jet mill, a cutter mill, a hammer mill, One or more of the group consisting of a vibration mill, a colloid mill, a roll mill, a mortar, and a stone mortar can be used. Among them, it is preferable to use a bead mill because fine particles can be obtained efficiently.

本発明において、ギ酸銅粒子の平均粒子径の測定方法としては、透過型電子顕微鏡(TEM)又は走査型電子顕微鏡(SEM)を用い、観測された視野の中から、粒子径が比較的そろっている箇所を3箇所選択し、粒径測定に最も適した倍率で撮影する。各々の写真から、一番多数存在すると思われる粒子を100個選択し、その直径をものさしで測り、測定倍率を除して粒子径を算出し、これらの値を算術平均することにより、求めた。   In the present invention, as a method for measuring the average particle size of copper formate particles, a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM) is used. Select three locations and shoot at the most suitable magnification for particle size measurement. From each photograph, 100 particles that seemed to be the most abundant were selected, the diameter was measured with a ruler, the particle size was calculated by dividing the measurement magnification, and these values were obtained by arithmetic averaging. .

本発明の導電性インク組成物において、各成分の濃度は特に制限はなく、導電性インク組成物全量に対し、金属粒子の濃度が0.1〜99重量%、上記一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物の濃度が0.1〜80重量%、及びギ酸銅粒子の濃度が0.1重量%〜80重量%の範囲で含有することが好ましい[ただし、上記一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物、金属粒子、及びギ酸銅粒子の合計量が100重量%を超えることはない。]。   In the conductive ink composition of the present invention, the concentration of each component is not particularly limited, and the concentration of metal particles is 0.1 to 99% by weight relative to the total amount of the conductive ink composition, the general formula (1), or It is preferable that the concentration of the amine compound represented by (2) is 0.1 to 80% by weight and the concentration of the copper formate particles is in the range of 0.1 to 80% by weight. The total amount of the amine compound, metal particles, and copper formate particles represented by 1) or (2) does not exceed 100% by weight. ].

一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物の濃度は、前記範囲とすることにより、金属粒子、及び/又はギ酸銅粒子が十分に分散し、また導電性インク組成物全量における銅の濃度が低下することもなく、所望する膜厚の電気的導通部位を得るための導電性インク組成物の塗布量が増加することもない。   By setting the concentration of the amine compound represented by the general formula (1) or (2) within the above range, the metal particles and / or the copper formate particles are sufficiently dispersed, and the copper in the total amount of the conductive ink composition. Thus, the coating amount of the conductive ink composition for obtaining an electrically conducting portion having a desired film thickness does not increase.

また、金属粒子の濃度は、前記範囲とすることにより、その触媒能を発現させ、また、膜厚を向上させるためのフィラーとして機能させ、導電性インク組成物の粘度上昇又は固化が起こることもない。   In addition, by setting the concentration of the metal particles within the above range, the catalytic ability is manifested, and the metal particles function as a filler for improving the film thickness, and the viscosity or solidification of the conductive ink composition may occur. Absent.

さらに、ギ酸銅粒子の濃度は前記範囲とすることにより、ギ酸銅粒子から生じる金属銅の量が少なくなることもなく、十分な膜厚を有する電気的導通部位を形成でき、導電性インク組成物の粘度上昇又は固化が起こることもない。   Furthermore, by setting the concentration of the copper formate particles within the above range, the amount of metallic copper generated from the copper formate particles can be reduced, and an electrically conductive portion having a sufficient film thickness can be formed. No increase in viscosity or solidification occurs.

本発明の導電性インク組成物は、上記成分に加えて、分散媒を含有しても一向に差し支えない。   The conductive ink composition of the present invention may contain a dispersion medium in addition to the above components.

本発明の導電性インク組成物において、分散媒は、その濃度を変えることにより、導電性インク組成物の粘度を、所望の粘度に容易に調整することができる。   In the conductive ink composition of the present invention, the dispersion medium can easily adjust the viscosity of the conductive ink composition to a desired viscosity by changing the concentration thereof.

本発明の導電性インク組成物において分散媒は、一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物、金属粒子、及びギ酸銅粒子と反応しないものであればよく、特に限定するものではなく、例えば、アルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素類、及び芳香族炭化水素類からなる群より選ばれる一種又は二種以上が挙げられる。   In the conductive ink composition of the present invention, the dispersion medium is not particularly limited as long as it does not react with the amine compound represented by the general formula (1) or (2), the metal particles, and the copper formate particles. For example, 1 type, or 2 or more types chosen from the group which consists of alcohols, ethers, ester, aliphatic hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons are mentioned.

アルコール類としては、具体的には、例えばヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ターピネオール等が例示される。   Specific examples of alcohols include hexanol, heptanol, octanol, 2-ethylhexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, and terpineol.

エーテル類としては、具体的には、例えばジエチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジブチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、メチルシクロヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4−ジオキサン等が例示される。   Specific examples of ethers include diethyl ether, diisobutyl ether, dibutyl ether, methyl-t-butyl ether, methyl cyclohexyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, Examples include tetrahydropyran and 1,4-dioxane.

エステル類としては、具体的には、例えばギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が例示される。   Specific examples of the esters include methyl formate, ethyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, and γ-butyrolactone.

脂肪族炭化水素類としては、具体的には、例えばn−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ウンデカン、n−ドデカン、シクロヘキサン、デカリン等が例示される。   Specific examples of the aliphatic hydrocarbons include n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, n-undecane, n-dodecane, cyclohexane, decalin and the like. Is exemplified.

芳香族炭化水素類としては、具体的には、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、i−プロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が例示される。   Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, n-propylbenzene, i-propylbenzene, n-butylbenzene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and the like.

これらの中でもコスト、及び安全性の面から、ヘキサノール、ターピネオール、メチル−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、n−ヘキサン、及びγ−ブチロラクトンからなる群より選ばれる一種又は二種以上であることが好ましい。   Among these, from the viewpoint of cost and safety, it may be one or more selected from the group consisting of hexanol, terpineol, methyl-t-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, n-hexane, and γ-butyrolactone. preferable.

本発明の導電性インク組成物において、分散媒は市販のものでもよいし、公知の方法により合成したものでもよい。   In the conductive ink composition of the present invention, the dispersion medium may be a commercially available one or one synthesized by a known method.

本発明の導電性インク組成物において、分散媒の純度は、特に限定するものではなく、電子材料分野での使用を考慮すると、95%以上が好ましく、99%以上が特に好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the purity of the dispersion medium is not particularly limited, and is preferably 95% or more and particularly preferably 99% or more in consideration of use in the field of electronic materials.

本発明の導電性インク組成物において、分散媒の濃度は特に限定するものではなく、導電性インク組成物全量における銅の濃度が低下し、所望する膜厚の電気的導通部位を得るための導電性インク組成物の塗布量が増加することがないことから、導電性インク組成物全量に対し、分散媒の濃度が1〜90重量%の範囲であることが好ましい[ただし、一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物、金属粒子、ギ酸銅粒子、及び分散媒の合計量が100重量%を超えることはない。]。   In the conductive ink composition of the present invention, the concentration of the dispersion medium is not particularly limited, and the concentration of copper in the total amount of the conductive ink composition decreases, and the conductivity for obtaining an electrically conductive portion with a desired film thickness. Since the coating amount of the conductive ink composition does not increase, the concentration of the dispersion medium is preferably in the range of 1 to 90% by weight based on the total amount of the conductive ink composition [however, the general formula (1) Or the total amount of the amine compound, metal particles, copper formate particles, and dispersion medium represented by (2) does not exceed 100% by weight. ].

本発明の導電性インク組成物において、導電性インク組成物の粘度は、所望する塗布方法により、適宜、調整すれば良く、特に限定するものではなく、例えば、スクリーン印刷法により塗布し、パターン形成を行う場合、通常1〜1000Pa・sの範囲に調整することが好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the viscosity of the conductive ink composition may be appropriately adjusted according to a desired application method, and is not particularly limited. For example, the conductive ink composition is applied by a screen printing method to form a pattern. When performing, it is preferable to adjust to the range of 1-1000 Pa.s normally.

次に本発明の導電性インク組成物を用いた電気的導通部位の製造方法[以下、表記を簡潔にするため、これを「本発明の製造方法」と称する。]について説明する。   Next, a method for producing an electrically conductive portion using the conductive ink composition of the present invention [hereinafter, for the sake of brevity, this is referred to as “the production method of the present invention”. ] Will be described.

本発明において、「電気的導通部位」とは、本発明の電気的導通部位の製造方法によって形成された電気的導通を有する部位を意味する。例えば、導電性薄膜、配線、電極、スルーホールを介した両面及び/又は多層間の電気的導通部位、基板と被接合物との電気的導通を有する接合部位等が挙げられる。   In the present invention, the “electrical conduction part” means a part having electrical conduction formed by the method for producing an electrical conduction part of the present invention. For example, a conductive thin film, a wiring, an electrode, an electrical conduction part between both surfaces and / or multilayers through a through hole, a joint part having electrical conduction between a substrate and an object to be joined, and the like can be given.

本発明の製造方法は、本発明の導電性インク組成物を、基材に塗布又は充填し、当該基材を加熱処理することで行われる。例えば、本発明の導電性インク組成物を基材上に塗布した後に、加熱処理することによって、ギ酸銅粒子中に含まれる銅イオンを還元させると共に、一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物が揮発し除去され、当該基材上に電気的導通部位を容易に形成することができる。   The production method of the present invention is performed by applying or filling the conductive ink composition of the present invention onto a substrate and heat-treating the substrate. For example, after applying the conductive ink composition of the present invention onto a substrate, the copper ion contained in the copper formate particles is reduced by heat treatment, and the general formula (1) or (2) The amine compound shown is volatilized and removed, and an electrical conduction site can be easily formed on the substrate.

本発明の製造方法において、基材としては、公知のものを用いることができ、特に限定するものではなく、例えば、樹脂、紙、ガラス、シリコン系半導体、化合物半導体、金属酸化物、金属窒化物、木材等からなる一種又は二種以上、若しくは二種以上の複合基材が挙げられる。   In the production method of the present invention, a known substrate can be used as the substrate, and is not particularly limited. For example, resin, paper, glass, silicon-based semiconductor, compound semiconductor, metal oxide, metal nitride 1 type, 2 types or more, or 2 types or more composite base materials which consist of wood etc. are mentioned.

樹脂としては、具体的には、例えば低密度ポリエチレン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、ABS樹脂(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂)、アクリル樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、セルロース誘導体等が例示される。   Specific examples of the resin include low density polyethylene resin, high density polyethylene resin, ABS resin (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin), acrylic resin, styrene resin, vinyl chloride resin, polyester resin, phenol resin, epoxy Examples thereof include resins, polyacetal resins, polysulfone resins, polyimide resins, polyetherimide resins, polyether ketone resins, and cellulose derivatives.

紙としては、具体的には、例えば非塗工印刷用紙、微塗工印刷用紙、塗工印刷用紙(アート紙、コート紙)、特殊印刷用紙、コピー用紙(PPC用紙)、未晒包装紙(重袋用両更クラフト紙、両更クラフト紙)、晒包装紙(晒クラフト紙、純白ロール紙)、コートボール、チップボール、段ボール等が例示される。   Specifically, for example, non-coated printing paper, fine-coated printing paper, coated printing paper (art paper, coated paper), special printing paper, copy paper (PPC paper), unexposed packaging paper ( Examples include heavy-duty kraft paper and double-kraft paper), bleached wrapping paper (bleached kraft paper, pure white roll paper), coated balls, chip balls, cardboard and the like.

ガラスとしては、具体的には、例えばソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、シリカガラス、石英ガラス等が例示される。   Specific examples of the glass include soda glass, borosilicate glass, silica glass, and quartz glass.

シリコン系半導体としては、具体的には、例えば単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン、ポリシリコン等が例示される。   Specific examples of the silicon-based semiconductor include single crystal silicon, polycrystalline silicon, amorphous silicon, and polysilicon.

化合物半導体としては、具体的には、例えばCdS、CdTe、GaAs等が例示される。   Specific examples of the compound semiconductor include CdS, CdTe, GaAs, and the like.

金属酸化物としては、具体的には、例えばアルミナ、サファイア、ジルコニア、チタニア、酸化イットリウム、酸化インジウム、ITO(インジウム錫酸化物)、IZO(インジウム亜鉛酸化物)、ネサ(酸化錫)、ATO(アンチモンドープ酸化錫)、フッ素ドープ酸化錫、酸化亜鉛、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、ガリウムドープ酸化亜鉛等が例示される。   Specific examples of the metal oxide include alumina, sapphire, zirconia, titania, yttrium oxide, indium oxide, ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), nesa (tin oxide), ATO ( Examples include antimony-doped tin oxide), fluorine-doped tin oxide, zinc oxide, AZO (aluminum-doped zinc oxide), and gallium-doped zinc oxide.

金属窒化物としては、具体的には、例えば窒化アルミニウム、窒化珪素等が例示される。   Specific examples of the metal nitride include aluminum nitride and silicon nitride.

また、複合基材としては、具体的には、例えば、紙−フェノール樹脂、紙−エポキシ樹脂、紙−ポリエステル樹脂等の紙−樹脂複合基材;ガラス布−エポキシ樹脂、ガラス布−ポリイミド系樹脂、ガラス布−フッ素樹脂等のガラス布−樹脂複合基材が挙げられる。   Specific examples of the composite base material include, for example, paper-resin composite base materials such as paper-phenol resin, paper-epoxy resin, paper-polyester resin; glass cloth-epoxy resin, glass cloth-polyimide resin. And glass cloth-resin composite base materials such as glass cloth-fluorine resin.

本発明の製造方法において、加熱処理は、非酸化性雰囲気下で行うことが好ましい。非酸化性雰囲気としては、例えば、ヘリウム、窒素、アルゴン等が挙げられる。これらの中でも安価なことから、窒素を用いることが好ましい。また、非酸化性雰囲気中には、形成された電気的導通部位の酸化に大きな影響を与えない程度ならば酸素を含んでいても良く、その濃度は、5000ppm以下が好ましく、500ppm以下が特に好ましい。   In the production method of the present invention, the heat treatment is preferably performed in a non-oxidizing atmosphere. Examples of the non-oxidizing atmosphere include helium, nitrogen, and argon. Among these, it is preferable to use nitrogen because it is inexpensive. Further, the non-oxidizing atmosphere may contain oxygen as long as it does not significantly affect the oxidation of the formed electrical conduction site, and its concentration is preferably 5000 ppm or less, particularly preferably 500 ppm or less. .

本発明の製造方法において、加熱処理の温度は、ギ酸銅粒子中の銅イオンが還元され、一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物が揮発し除去される温度であればよく、特に限定するものではなく、ギ酸銅粒子中の銅イオンの還元が完全に進行し、一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物の残存がなく、有機基材を利用できることから、60〜300℃が好ましく、80〜200℃の範囲が特に好ましい。   In the production method of the present invention, the heat treatment temperature may be any temperature at which the copper ions in the copper formate particles are reduced and the amine compound represented by the general formula (1) or (2) is volatilized and removed. However, there is no particular limitation, and the reduction of the copper ions in the copper formate particles proceeds completely, the amine compound represented by the general formula (1) or (2) does not remain, and an organic base material can be used. 60 to 300 ° C is preferable, and a range of 80 to 200 ° C is particularly preferable.

また、加熱処理の時間は、温度や所望する導電性により適宜選択すればよく、200℃程度の加熱温度を設定した場合には、通常10〜60分程度である。   Moreover, what is necessary is just to select the time of heat processing suitably with temperature or the electroconductivity desired, and when the heating temperature of about 200 degreeC is set, it is about 10 to 60 minutes normally.

本発明の製造方法において、本発明の導電性インク組成物を基材に塗布する方法としては、公知の方法によって行うことができ、特に限定するものではなく、例えば、スクリーン印刷法、ディップコーティング法、スプレー塗布法、スピンコーティング法、インクジェット法、ディスペンサーでの塗布法等が挙げられる。塗布の形状としては面状であっても、ドット状であっても、問題は無く、特に限定されない。導電性インク組成物を基材に塗布する塗布量としては、所望する電気的導通部位の膜厚に応じて適宜調整すればよく、乾燥後の導電性インク組成物の膜厚が0.01〜5000μmの範囲が好ましく、特に好ましくは0.1〜1000μmの範囲となるよう塗布すれば良い。   In the production method of the present invention, the method for applying the conductive ink composition of the present invention to a substrate can be performed by a known method, and is not particularly limited. For example, a screen printing method or a dip coating method is used. , Spray coating method, spin coating method, ink jet method, dispenser coating method and the like. There is no problem even if the shape of application is planar or dot-like, and there is no particular limitation. The coating amount for applying the conductive ink composition to the substrate may be appropriately adjusted according to the desired film thickness of the electrically conductive part, and the film thickness of the conductive ink composition after drying is 0.01 to The range of 5000 μm is preferable, and the coating may be particularly preferably performed in the range of 0.1 to 1000 μm.

本発明の製造方法は、様々な工業製品を製造する工程の一部として利用することができ、本発明の製造方法により一部〜全体を製造した電気的導通部位を有する工業製品を得ることができる。   The production method of the present invention can be used as a part of a process for producing various industrial products, and an industrial product having an electrically conductive portion that is partially or wholly produced by the production method of the present invention can be obtained. it can.

本発明の製造方法により一部〜全体を製造した電気的導通部位を有する工業製品としては、特に限定するものではなく、例えば、有機エレクトロルミネッセンスパネル、プラズマディスプレイパネル、液晶パネル等の画像表示装置;LED(Light Emitting Diode)発光装置、及び有機エレクトロルミネッセンス発光装置等の発光装置;1層(片面)プリント配線基板、2層(両面)プリント配線基板、多層プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板等の回路基板;積層コンデンサ、固体電解コンデンサ等のコンデンサ;シリコン系太陽電池、化合物半導体系太陽電池、色素増感型太陽電池、有機半導体型太陽電池等の太陽電池;リチウム二次電池、ニッケル−水素二次電池等の二次電池;電波方式認識タグ;電磁波遮蔽シールド等が挙げられる。   The industrial product having an electrically conducting portion partially or wholly produced by the production method of the present invention is not particularly limited, and for example, an image display device such as an organic electroluminescence panel, a plasma display panel, a liquid crystal panel; Light emitting devices such as LED (Light Emitting Diode) light emitting devices and organic electroluminescence light emitting devices; Circuits such as one-layer (single-sided) printed wiring boards, two-layer (double-sided) printed wiring boards, multilayer printed wiring boards, and flexible printed wiring boards Substrates; capacitors such as multilayer capacitors and solid electrolytic capacitors; solar cells such as silicon solar cells, compound semiconductor solar cells, dye-sensitized solar cells, and organic semiconductor solar cells; lithium secondary batteries, nickel-hydrogen secondary Secondary batteries such as batteries; radio wave type recognition tags; Examples thereof include a magnetic wave shielding shield.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定して解釈されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not construed as being limited to these examples.

なお、以下の参考例において、粒子の平均粒子径は、粒子サイズに応じて、透過型電子顕微鏡(TEM)又は走査型電子顕微鏡(SEM)を用い、観測した視野の中から、ランダムに3箇所選択し、50,000〜1,000,000倍の範囲における任意の倍率で撮影を行い、それぞれの写真から、粒子を計100個選択し、その直径をものさしで測り、測定倍率を除して粒子径を算出し、これらの値を算術平均することにより求めた。TEMは日本電子社製、商品名:JEM−2000FX、SEMは、日本電子社製、商品名:JSM T220Aを使用した。   In the following reference examples, the average particle diameter of the particles is randomly selected from three points in the field of view using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM) depending on the particle size. Select and shoot at an arbitrary magnification in the range of 50,000 to 1,000,000 times, select 100 particles in total from each photo, measure the diameter with a ruler, and divide the measurement magnification The particle diameter was calculated and obtained by arithmetically averaging these values. TEM manufactured by JEOL Ltd., trade name: JEM-2000FX, and SEM used by JEOL Ltd., trade name: JSM T220A.

また、元素分析はパーキンエルマー社製、全自動元素分析装置、商品名:2400IIにより測定し、H−NMRはVarian社製、商品名:Gemini−200により測定した。 Elemental analysis was measured by Perkin Elmer, fully automatic elemental analyzer, trade name: 2400II, and 1 H-NMR was measured by Varian, trade name: Gemini-200.

さらに、導電性インク組成物の粘度は、別途記載が無い限り、レオメーター(ティー・エイ・インスツルメント社製、商品名:ARレオメーター AR2000ex)を用い、測定温度30℃で測定した。   Furthermore, the viscosity of the conductive ink composition was measured at a measurement temperature of 30 ° C. using a rheometer (trade name: AR Rheometer AR2000ex, manufactured by TA Instruments Inc.) unless otherwise specified.

[参考例1] ギ酸銅粒子の調製.
エタノール40gにギ酸銅粒子粉末(平均粒子径21μm)2.24g、及びジルコニア製ビーズ(ニッカトー社製、商品名:YZT ボール、サイズ:Φ0.1mm)150gを添加し、攪拌用モーターに連結した攪拌羽を用い、周速10m/秒で、12時間攪拌し粉砕を行った。
[Reference Example 1] Preparation of copper formate particles.
To 40 g of ethanol, 2.24 g of copper formate particle powder (average particle size 21 μm) and 150 g of zirconia beads (made by Nikkato Co., Ltd., trade name: YZT ball, size: Φ0.1 mm) are added, and the stirring is connected to a stirring motor. Using wings, the mixture was stirred for 12 hours at a peripheral speed of 10 m / sec and pulverized.

次にこのスラリー状の混合物を、目開き0.075mmの篩に通し、さらにエタノール160gで洗浄し、ジルコニア製ビーズを分離し、ギ酸銅粒子分散体を得た。   Next, this slurry-like mixture was passed through a sieve having an opening of 0.075 mm and further washed with 160 g of ethanol to separate zirconia beads to obtain a copper formate particle dispersion.

このギ酸銅粒子分散体をSEMで観測し、平均粒子径を求めたところ、210nmであった。次に、このギ酸銅粒子分散体を、減圧下、40℃で、エタノールと余分な水分を留去することで、ギ酸銅粒子の粉末1.68gを得た。   This copper formate particle dispersion was observed with an SEM and the average particle size was determined to be 210 nm. Next, this copper formate particle dispersion was distilled off ethanol and excess water at 40 ° C. under reduced pressure to obtain 1.68 g of copper formate particle powder.

[実施例1] 銅粒子、N,N−ジメチルエタノールアミン、及びギ酸銅粒子を含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gに、銅粒子(Alfa Aesar社製 Copper Powder,−625 mesh,APS 0.50−1.5 micron)を1.02g、一般式(1)で示されるアミン化合物であるN,N−ジメチルエタノールアミンを1.54g、及び参考例1で得たギ酸銅粒子(平均粒子径210nm)1.54gを添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧下、25℃で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
Example 1 Preparation of a conductive ink composition containing copper particles, N, N-dimethylethanolamine and copper formate particles.
To 10 g of tetrahydrofuran, 1.02 g of copper particles (Copper Powder, -625 mesh, APS 0.50-1.5 micron manufactured by Alfa Aesar), N, N-dimethyl which is an amine compound represented by the general formula (1) 1.54 g of ethanolamine and 1.54 g of copper formate particles (average particle size 210 nm) obtained in Reference Example 1 were added, and the mixture was sufficiently kneaded until completely dispersed in a mortar. From this slurry-like mixture, tetrahydrofuran and excess water were distilled off at 25 ° C. under reduced pressure to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は178Pa・sであり、元素分析の結果、40.6重量%の銅粒子、21.8重量%のギ酸銅粒子、37.6重量%のN,N−ジメチルエタノールアミンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「導電性インクA」と称する)。   The resulting conductive ink composition had a viscosity of 178 Pa · s. As a result of elemental analysis, 40.6 wt% copper particles, 21.8 wt% copper formate particles, 37.6 wt% N, N It contained dimethylethanolamine (hereinafter referred to as “conductive ink A” for the sake of brevity).

[実施例2] 銀粒子、N,N−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、及びギ酸銅粒子を含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gに、銀粒子(Alfa Aesar社製 Silver Powder,APS 0.7−1.3 micron)を0.64g、一般式(1)で示されるアミン化合物であるN,N−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミンを1.33g、及び参考例1で得たギ酸銅粒子(平均粒子径210nm)1.54gを添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧下、25℃で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
Example 2 Preparation of a conductive ink composition containing silver particles, N, N-dimethyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, and copper formate particles.
To 10 g of tetrahydrofuran, 0.64 g of silver particles (Silver Powder, APS 0.7-1.3 micron manufactured by Alfa Aesar), N, N-dimethyl-2- (A) which is an amine compound represented by the general formula (1) 1.33 g of 2-hydroxyethyloxy) ethylamine and 1.54 g of copper formate particles (average particle size 210 nm) obtained in Reference Example 1 were added, and the mixture was sufficiently kneaded until completely dispersed in a mortar. From this slurry-like mixture, tetrahydrofuran and excess water were distilled off at 25 ° C. under reduced pressure to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は125Pa・sであり、元素分析の結果、18.2重量%の銅粒子、18.1重量%の銀粒子、25.9重量%のギ酸銅粒子、37.8重量%のN,N−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「導電性インクB」と称する)。
[実施例3] 銀コート銅粒子、2−エトキシエチルアミン、及びギ酸銅粒子を含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gに、銀コート銅粒子(三井金属社製 Ag/湿式銅粉)を1.12g、一般式(1)で示されるアミン化合物である2−エトキシエチルアミンを1.07g、及び参考例1で得たギ酸銅粒子(平均粒子径210nm)1.54gを添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧下、25℃で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
The resulting conductive ink composition has a viscosity of 125 Pa · s. As a result of elemental analysis, 18.2 wt% copper particles, 18.1 wt% silver particles, 25.9 wt% copper formate particles, It contained 37.8% by weight of N, N-dimethyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine (hereinafter referred to as “conductive ink B” for the sake of brevity).
Example 3 Preparation of a conductive ink composition containing silver-coated copper particles, 2-ethoxyethylamine, and copper formate particles.
In 10 g of tetrahydrofuran, 1.12 g of silver-coated copper particles (Ag / wet copper powder manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd.), 1.07 g of 2-ethoxyethylamine, which is an amine compound represented by the general formula (1), and Reference Example 1 1.54 g of the obtained copper formate particles (average particle size 210 nm) was added, and kneaded sufficiently in a mortar until the dispersion was completely dispersed. From this slurry-like mixture, tetrahydrofuran and excess water were distilled off at 25 ° C. under reduced pressure to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は205Pa・sであり、元素分析の結果、44.1重量%の銅粒子、3.0重量%の銀粒子、24.1重量%のギ酸銅粒子、28.8重量%の2−エトキシエチルアミンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「導電性インクC」と称する)。   The resulting conductive ink composition has a viscosity of 205 Pa · s. As a result of elemental analysis, 44.1 wt% copper particles, 3.0 wt% silver particles, 24.1 wt% copper formate particles, 28.8% by weight of 2-ethoxyethylamine was contained (hereinafter referred to as “conductive ink C” for the sake of brevity).

[実施例4] 銅粒子、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、ギ酸銅粒子、及びデカンを含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gに、銅粒子(Alfa Aesar社製 Copper Powder,−625 mesh,APS 0.50−1.5 micron)を1.06g、一般式(1)で示されるアミン化合物である1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミンを1.28g、及び参考例1で得たギ酸銅粒子(平均粒子径210nm)1.54gを添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧下、25℃で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去し、残った固体に分散媒としてデカン0.32gを添加し、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
Example 4 Preparation of a conductive ink composition containing copper particles, 1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, copper formate particles, and decane.
To 1.0 g of tetrahydrofuran, 1.06 g of copper particles (Copper Powder, -625 mesh, APS 0.50-1.5 micron manufactured by Alfa Aesar), 1,1-dimethyl which is an amine compound represented by the general formula (1) 1.28 g of 2-hydroxyethylamine and 1.54 g of copper formate particles (average particle size 210 nm) obtained in Reference Example 1 were added, and the mixture was sufficiently kneaded until completely dispersed in a mortar. Tetrahydrofuran and excess water were distilled off from this slurry-like mixture at 25 ° C. under reduced pressure, and 0.32 g of decane was added as a dispersion medium to the remaining solid to prepare a paste-like conductive ink composition. .

得られた導電性インク組成物の粘度は147Pa・sであり、元素分析の結果、40.4重量%の銅粒子、21.4重量%のギ酸銅粒子、30.6重量%の1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、7.6重量%のデカンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「導電性インクD」と称する)。   The resulting conductive ink composition had a viscosity of 147 Pa · s. As a result of elemental analysis, 40.4 wt% copper particles, 21.4 wt% copper formate particles, 30.6 wt% 1,1 -Dimethyl-2-hydroxyethylamine, containing 7.6 wt% decane (hereinafter referred to as "conductive ink D" for the sake of brevity).

[実施例5] 銅粒子、3−n−ブトキシプロピルアミン、及びギ酸銅粒子を含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gに、銅粒子(Alfa Aesar社製 Copper Powder,−625 mesh,APS 0.50−1.5 micron)を0.7g、一般式(1)で示されるアミン化合物である3−n−ブトキシプロピルアミンを1.24g、及び参考例1で得たギ酸銅粒子(平均粒子径210nm)1.54gを添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧下、25℃で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
Example 5 Preparation of a conductive ink composition containing copper particles, 3-n-butoxypropylamine, and copper formate particles.
To 10 g of tetrahydrofuran, 0.7 g of copper particles (Copper Powder, -625 mesh, APS 0.50-1.5 micron manufactured by Alfa Aesar), 3-n-butoxy which is an amine compound represented by the general formula (1) 1.24 g of propylamine and 1.54 g of the copper formate particles (average particle size 210 nm) obtained in Reference Example 1 were added, and the mixture was sufficiently kneaded until completely dispersed in a mortar. From this slurry-like mixture, tetrahydrofuran and excess water were distilled off at 25 ° C. under reduced pressure to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は162Pa・sであり、元素分析の結果、38.6重量%の銅粒子、25.9重量%のギ酸銅粒子、35.5重量%の3−n−ブトキシプロピルアミンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「導電性インクE」と称する)。   The obtained conductive ink composition had a viscosity of 162 Pa · s. As a result of elemental analysis, it was found that 38.6 wt% copper particles, 25.9 wt% copper formate particles, 35.5 wt% 3-n -It contained butoxypropylamine (hereinafter, for the sake of brevity, this is referred to as "conductive ink E").

[実施例6] 銅粒子、N, N,N′−トリメチル−N′−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、及びギ酸銅粒子を含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gに、銅粒子(Alfa Aesar社製 Copper Powder,−625 mesh,APS 0.50−1.5 micron)を1.03g、一般式(2)で示されるアミン化合物であるN,N,N′−トリメチル−N′−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミンを1.46g、及び参考例1で得たギ酸銅粒子(平均粒子径210nm)1.54gを添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧下、25℃で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
Example 6 Preparation of a conductive ink composition containing copper particles, N, N, N′-trimethyl-N ′-(2-hydroxyethyl) ethylenediamine, and copper formate particles.
To 10 g of tetrahydrofuran, 1.03 g of copper particles (Copper Powder, -625 mesh, APS 0.50-1.5 micron manufactured by Alfa Aesar), N, N, N which is an amine compound represented by the general formula (2) 1.46 g of '-trimethyl-N'-(2-hydroxyethyl) ethylenediamine and 1.54 g of copper formate particles (average particle size 210 nm) obtained in Reference Example 1 are added, and the mixture is completely dispersed in a mortar. Kneaded thoroughly. From this slurry-like mixture, tetrahydrofuran and excess water were distilled off at 25 ° C. under reduced pressure to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は143Pa・sであり、元素分析の結果、41.3重量%の銅粒子、22.4重量%のギ酸銅粒子、36.3重量%のN,N,N′−トリメチル−N′−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「導電性インクF」と称する)。   The resulting conductive ink composition had a viscosity of 143 Pa · s. As a result of elemental analysis, 41.3 wt% copper particles, 22.4 wt% copper formate particles, 36.3% wt N, N , N′-trimethyl-N ′-(2-hydroxyethyl) ethylenediamine (hereinafter referred to as “conductive ink F” for the sake of brevity).

[比較例1] ギ酸銅粒子、及び3−メトキシプロピルアミンを含有する導電性インク組成物の調製.(金属粒子添加しない系)
テトラヒドロフラン10gにギ酸銅粒子を2.24g、一般式(1)で示されるアミン化合物である3−メトキシプロピルアミンを1.96g順次添加した。室温で、完全に溶解するまで10分間攪拌し、均一な溶液とした。この溶液を、0.5μmメンブランフィルターで濾過した後、得られた濾液中のテトラヒドロフランを、減圧濃縮により脱溶剤して、導電性インク組成物を調製した。
Comparative Example 1 Preparation of a conductive ink composition containing copper formate particles and 3-methoxypropylamine. (System without adding metal particles)
2.24 g of copper formate particles and 1.96 g of 3-methoxypropylamine which is an amine compound represented by the general formula (1) were sequentially added to 10 g of tetrahydrofuran. The mixture was stirred at room temperature for 10 minutes until it was completely dissolved to obtain a uniform solution. This solution was filtered through a 0.5 μm membrane filter, and then the tetrahydrofuran in the obtained filtrate was desolvated by concentration under reduced pressure to prepare a conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度をB型粘度計(東機産業社製、商品名:BL II)で測定した結果、3.9mPa・sであった。また、元素分析の結果、18.3重量%の銅粒子、25.7重量%のギ酸銅粒子、56.0重量%の3−メトキシプロピルアミンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「導電性インクG」と称する)。   It was 3.9 mPa * s as a result of measuring the viscosity of the obtained electroconductive ink composition with the B-type viscosity meter (the Toki Sangyo company make, brand name: BL II). Further, as a result of elemental analysis, it contained 18.3% by weight of copper particles, 25.7% by weight of copper formate particles, and 56.0% by weight of 3-methoxypropylamine. Therefore, this is referred to as “conductive ink G”).

[比較例2] 銅粒子、n−オクチルアミン、及びギ酸銅粒子を含有する導電性インク組成物の調製.(一般式(1)、(2)で示されるアミン化合物ではないアミン化合物を使用した系)
テトラヒドロフラン10gに、銅粒子(Alfa Aesar社製 Copper Powder,−625 mesh,APS 0.50−1.5 micron)を1.02g、一般式(1)、(2)で示されるアミン化合物ではないn−オクチルアミンを1.54g、及び参考例1で得たギ酸銅粒子(平均粒子径210nm)1.54gを添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧下、25℃で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
Comparative Example 2 Preparation of a conductive ink composition containing copper particles, n-octylamine, and copper formate particles. (System using an amine compound that is not an amine compound represented by the general formulas (1) and (2))
To 10 g of tetrahydrofuran, 1.02 g of copper particles (Copper Powder, -625 mesh, APS 0.50-1.5 micron manufactured by Alfa Aesar) is not an amine compound represented by the general formulas (1) and (2). -1.54 g of octylamine and 1.54 g of the copper formate particles (average particle size 210 nm) obtained in Reference Example 1 were added, and the mixture was sufficiently kneaded until completely dispersed in a mortar. From this slurry-like mixture, tetrahydrofuran and excess water were distilled off at 25 ° C. under reduced pressure to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は188Pa・sであり、元素分析の結果、39.8重量%の銅粒子、21.2重量%のギ酸銅粒子、39.0重量%のオクチルアミンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「導電性インクH」と称する)。   The obtained conductive ink composition had a viscosity of 188 Pa · s. As a result of elemental analysis, it was found that 39.8 wt% copper particles, 21.2 wt% copper formate particles, 39.0 wt% octylamine were obtained. (Hereinafter, for the sake of brevity, this is referred to as “conductive ink H”).

[実施例7〜12、比較例3、4] 印刷性評価、導電性評価、及び体積変化評価.
ガラス基材上に、導電性インクA〜Hを、スクリーン印刷法(スクリーン仕様 メッシュ数:200、線径:40μm、織厚:115μm、目開き:87μm、空間率:46.9%、ペースト透過体積:53.94mg/cm)を用いて塗布し、幅2mm×長さ30mm、膜厚54μmの均一な塗布膜とした。
[Examples 7 to 12, Comparative Examples 3 and 4] Printability evaluation, conductivity evaluation, and volume change evaluation.
Conductive inks A to H are applied on a glass substrate by a screen printing method (screen specifications: mesh number: 200, wire diameter: 40 μm, weaving thickness: 115 μm, mesh opening: 87 μm, space ratio: 46.9%, paste transmission Volume: 53.94 mg / cm 3 ) was applied to form a uniform coating film having a width of 2 mm × length of 30 mm and a film thickness of 54 μm.

次に、窒素ガスを6L/分の流量で流通した加熱炉で、これら導電性インクを塗布したガラス基材を30分間、加熱処理を行い、電気的導通部位を得た。各加熱温度を表1に示す。   Next, in a heating furnace in which nitrogen gas was circulated at a flow rate of 6 L / min, the glass substrate coated with these conductive inks was subjected to heat treatment for 30 minutes to obtain an electrically conductive portion. Each heating temperature is shown in Table 1.

印刷性の評価は、印刷したパターンの形状を目視で確認し、
断裂、欠け、にじみが無い場合:○,
断裂、欠け、にじみがある場合:×,
と評価した。
The printability is evaluated by visually checking the shape of the printed pattern.
If there is no tearing, chipping or bleeding: ○,
If there is tear, chipping, or bleeding: ×,
It was evaluated.

導電性の評価は、各電気的導通部位において、測定した表面抵抗率と膜厚から、下記の式により算出した体積抵抗率の比較により行った。   The electrical conductivity was evaluated by comparing the volume resistivity calculated by the following formula from the measured surface resistivity and film thickness at each electrically conductive portion.

体積抵抗率(Ω・cm)=表面抵抗率(Ω/□)×膜厚(cm)。   Volume resistivity (Ω · cm) = surface resistivity (Ω / □) × film thickness (cm).

表面抵抗率は、四探針抵抗測定機(三菱化学社製、商品名:ロレスタGP)にて測定した。   The surface resistivity was measured with a four-probe resistance measuring machine (trade name: Loresta GP, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).

膜厚は、形成された各電気的導通部位を切断し、断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、平均膜厚をその値とした。すなわち、各電気的導通部位について、走査型電子顕微鏡(SEM)で観測した視野の中から、ランダムに3箇所選択し、5000倍の倍率で撮影を行い、それぞれの写真において、電気的導通部位の膜厚を計測し、これらの値を撮影倍率で除し、3箇所の膜厚を算術平均して得られた値を各電気的導通部位の膜厚とした。   Regarding the film thickness, each formed electrical conduction site was cut, the cross section was observed with a scanning electron microscope (SEM), and the average film thickness was taken as the value. That is, for each electrical conduction site, three locations were selected at random from the field of view observed with a scanning electron microscope (SEM) and photographed at a magnification of 5000 times. The film thickness was measured, and these values were divided by the photographing magnification, and the value obtained by arithmetically averaging the film thickness at the three locations was taken as the film thickness of each electrically conductive portion.

体積変化については、加熱処理前後の面積、すなわち導電性インク塗布膜の面積と電気的導通部位の面積に差が無いことから、塗布時の塗布膜厚と加熱処理後の電気的導通部位の膜厚の変化率で評価した。   Regarding the volume change, there is no difference in the area before and after the heat treatment, that is, the area of the conductive ink coating film and the area of the electrically conductive part, so the coating film thickness at the time of application and the film of the electrically conductive part after the heat treatment Evaluation was based on the rate of change in thickness.

体積変化率(%)=[(電気的導通部位の膜厚/導電性インク塗布膜厚)−1]×100。     Volume change rate (%) = [(film thickness of electrically conductive part / conductive ink coating film thickness) −1] × 100.

これら評価の結果を表1に併せて示す。   The results of these evaluations are also shown in Table 1.

Figure 2012126814
Figure 2012126814

表1から明らかなとおり、実施例7〜12において、本発明の導電性インク組成物は、いずれも良好な印刷性を示し、断裂、欠け、にじみは全く見られなかった。また導電性に関しても、良好な導電性を示し、加熱処理前後の体積変化も小さかった。   As is clear from Table 1, in Examples 7 to 12, all of the conductive ink compositions of the present invention exhibited good printability, and no tearing, chipping or bleeding was observed. Moreover, regarding electroconductivity, favorable electroconductivity was shown and the volume change before and behind heat processing was also small.

これに対し、比較例3は、金属粒子を用いなかったため、断裂、欠け、にじみ等の印刷不良により、配線を均一に塗布できなかった。また導電性に関しては、大差ないものの、加熱処理前後の体積変化が大きかった。また、比較例4は、一般式(1)、(2)で示されるアミン化合物ではないアミン化合物を使用したため、印刷性に劣るものであった。   On the other hand, since the comparative example 3 did not use metal particles, the wiring could not be applied uniformly due to printing defects such as tearing, chipping and bleeding. Moreover, regarding the conductivity, although there is no great difference, the volume change before and after the heat treatment was large. Moreover, since the comparative example 4 used the amine compound which is not an amine compound shown by General formula (1), (2), it was inferior to printability.

[実施例13、比較例5] 大気接触後のインクについての導電性評価.
ガラス基材上に、導電性インクA、及びHを、実施例7〜12に記載の方法と同様にスクリーン印刷法で塗布し、幅2mm×長さ30mm、膜厚54μmの均一な塗布膜とした。
[Example 13, Comparative Example 5] Conductivity evaluation of ink after contact with air.
On the glass substrate, conductive inks A and H were applied by a screen printing method in the same manner as described in Examples 7 to 12, and a uniform coating film having a width of 2 mm × length of 30 mm and a film thickness of 54 μm was obtained. did.

次に、これら塗布膜を大気中に24時間放置し、十分に大気と接触させた。   Next, these coating films were left in the atmosphere for 24 hours, and were sufficiently brought into contact with the atmosphere.

次に、実施例7〜12に記載の方法と同様の加熱処理を加熱温度140℃で行い、電気的導通部位を得た。導電性の評価結果を表2に示す。   Next, the same heat treatment as that described in Examples 7 to 12 was performed at a heating temperature of 140 ° C. to obtain an electrically conductive portion. Table 2 shows the evaluation results of the conductivity.

尚、導電性の評価は、体積抵抗率の比較により行い、体積抵抗率は実施例7〜12に記載の方法で算出した。   In addition, evaluation of electroconductivity was performed by the comparison of volume resistivity, and the volume resistivity was computed by the method as described in Examples 7-12.

Figure 2012126814
Figure 2012126814

表2から明らかなとおり、実施例13において、本発明の導電性インク組成物は、24時間の大気接触後も体積抵抗率の低下は殆ど無く、良好な導電性を示した。   As is apparent from Table 2, in Example 13, the conductive ink composition of the present invention showed good conductivity with almost no decrease in volume resistivity even after 24 hours of atmospheric contact.

これに対し、比較例5において、一般式(1)、(2)で示されるアミン化合物ではないアミン化合物であるn−オクチルアミンを用いた導電性インク組成物は、24時間の大気接触で体積抵抗率が大幅に悪化した。   On the other hand, in Comparative Example 5, the conductive ink composition using n-octylamine which is an amine compound that is not an amine compound represented by the general formulas (1) and (2) has a volume of 24 hours by atmospheric contact. The resistivity has deteriorated significantly.

Claims (16)

下記一般式(1)、及び一般式(2)で示されるアミン化合物の少なくとも一種、金属粒子、及びギ酸銅粒子を含有することを特徴とする導電性インク組成物。
Figure 2012126814
[R、Rは各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、又は2−エトキシエチル基を表し、R、Rは各々独立して、水素原子、又はメチル基を表し、Rは水素原子、又は炭素数1〜6の直鎖状、炭素数3〜6の分岐状若しくは環式のアルキル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、又は2−エトキシエチル基を表し、Xはメチレン基、エチレン基、又はプロピレン基を表す。]
Figure 2012126814
[R〜Rは各々独立して、水素原子、又はメチル基、エチル基を表す。]
A conductive ink composition comprising at least one amine compound represented by the following general formula (1) and general formula (2), metal particles, and copper formate particles.
Figure 2012126814
[R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 2-methoxyethyl group, or a 2-ethoxyethyl group, and R 3 and R 4 each independently represent A hydrogen atom or a methyl group, and R 5 is a hydrogen atom, a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, a branched or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, a 2-hydroxyethyl group, A 2-methoxyethyl group or a 2-ethoxyethyl group is represented, and X represents a methylene group, an ethylene group, or a propylene group. ]
Figure 2012126814
[R 6 to R 9 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group. ]
一般式(1)、及び一般式(2)で示されるアミン化合物が、エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、2−メトキシエチルアミン、N−メチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、ビス(2−メトキシエチル)アミン、2−エトキシエチルアミン、N−メチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、ビス(2−エトキシエチル)アミン、2−n−プロポキシエチルアミン、N−メチル−2−n−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−n−プロポキシエチルアミン、2−i−プロポキシエチルアミン、N−メチル−2−i−プロポキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−i−プロポキシエチルアミン、2−n−ブトキシエチルアミン、N−メチル−2−n−ブトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−2−n−ブトキシエチルアミン、2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−ヒドロキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−メトキシエチルオキシ)エチルアミン、2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N−メチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、N,N−ジメチル−2−(2−エトキシエチルオキシ)エチルアミン、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−メトキシエチルアミン、1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N−メチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、N,N−ジメチル−1,1−ジメチル−2−エトキシエチルアミン、3−ヒドロキシプロピルアミン、N−メチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアミン、3−メトキシプロピルアミン、N−メチル−3−メトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、N−メチル−3−エトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−エトキシプロピルアミン、3−n−プロポキシプロピルアミン、3−i−プロポキシプロピルアミン、N−メチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−i−プロポキシプロピルアミン、3−n−ブトキシプロピルアミン、N−メチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、N,N−ジメチル−3−n−ブトキシプロピルアミン、N, N′,N′−トリメチル−N−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N, N′,N′−トリメチル−N−(2−メトキシエチル)エチレンジアミン、及びN, N′,N′−トリメチル−N−(2−エトキシエチル)エチレンジアミンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載の導電性インク組成物。   The amine compound represented by the general formula (1) and the general formula (2) is ethanolamine, N-methylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, 2-methoxyethylamine, N-methyl-2-methoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-methoxyethylamine, bis (2-methoxyethyl) amine, 2-ethoxyethylamine, N-methyl-2-ethoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-ethoxyethylamine, bis (2-ethoxy Ethyl) amine, 2-n-propoxyethylamine, N-methyl-2-n-propoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-n-propoxyethylamine, 2-i-propoxyethylamine, N-methyl-2-i- Propoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-i-propoxyethyla , 2-n-butoxyethylamine, N-methyl-2-n-butoxyethylamine, N, N-dimethyl-2-n-butoxyethylamine, 2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, N, N-dimethyl-2- (2-hydroxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-methoxyethyloxy) Ethylamine, N, N-dimethyl-2- (2-methoxyethyloxy) ethylamine, 2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N-methyl-2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, N, N-dimethyl -2- (2-ethoxyethyloxy) ethylamine, 1,1-dimethyl-2-hydroxy Ethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-hydroxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N-methyl-1 , 1-dimethyl-2-methoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-methoxyethylamine, 1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, N-methyl-1,1-dimethyl-2- Ethoxyethylamine, N, N-dimethyl-1,1-dimethyl-2-ethoxyethylamine, 3-hydroxypropylamine, N-methyl-3-hydroxypropylamine, N, N-dimethyl-3-hydroxypropylamine, 3- Methoxypropylamine, N-methyl-3-methoxypropylamine, N, N-dimethyl- 3-methoxypropylamine, 3-ethoxypropylamine, N-methyl-3-ethoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-ethoxypropylamine, 3-n-propoxypropylamine, 3-i-propoxypropylamine, N-methyl-3-i-propoxypropylamine, N, N-dimethyl-3-i-propoxypropylamine, 3-n-butoxypropylamine, N-methyl-3-n-butoxypropylamine, N, N- Dimethyl-3-n-butoxypropylamine, N, N ′, N′-trimethyl-N- (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N ′, N′-trimethyl-N- (2-methoxyethyl) ethylenediamine, And N, N ', N'-trimethyl-N- (2-ethoxyethyl) ethylenediamine Conductive ink composition according to claim 1, characterized in that more least one selected. 金属粒子が、金粒子、銀粒子、銅粒子、白金粒子、パラジウム粒子、ロジウム粒子、イリジウム粒子、ルテニウム粒子、銀コート銅粒子及びオスミウム粒子からなる群より選ばれる少なくとも一種の金属種を含有することを特徴とする請求項1又2に記載の導電性インク組成物。   The metal particles contain at least one metal species selected from the group consisting of gold particles, silver particles, copper particles, platinum particles, palladium particles, rhodium particles, iridium particles, ruthenium particles, silver-coated copper particles, and osmium particles. The conductive ink composition according to claim 1 or 2. 金属粒子が、金粒子、銀粒子、銅粒子、白金粒子、パラジウム粒子、及び銀コート銅粒子からなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の導電性インク組成物。   The metal particles are at least one selected from the group consisting of gold particles, silver particles, copper particles, platinum particles, palladium particles, and silver-coated copper particles. Conductive ink composition. 金属粒子の平均粒子径が、0.01〜100μmの範囲であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の導電性インク組成物。   5. The conductive ink composition according to claim 1, wherein the average particle diameter of the metal particles is in the range of 0.01 to 100 μm. ギ酸銅粒子の平均粒子径が、1nm〜5μmの範囲であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の導電性インク組成物。   The conductive ink composition according to claim 1, wherein the average particle diameter of the copper formate particles is in the range of 1 nm to 5 μm. 導電性インク組成物全量に対し、金属粒子の濃度が0.1〜99重量%、一般式(1)、又は(2)で示されるアミン化合物の濃度が0.1〜80重量%、及びギ酸銅粒子の濃度が0.1重量%〜80重量%、であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の導電性インク組成物。   The concentration of the metal particles is 0.1 to 99% by weight, the concentration of the amine compound represented by the general formula (1) or (2) is 0.1 to 80% by weight, and formic acid based on the total amount of the conductive ink composition. The conductive ink composition according to claim 1, wherein the concentration of copper particles is 0.1 wt% to 80 wt%. さらに分散媒を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の導電性インク組成物。   The conductive ink composition according to claim 1, further comprising a dispersion medium. 分散媒が、アルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素類、及び芳香族炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項8に記載の導電性インク組成物。   9. The conductive ink composition according to claim 8, wherein the dispersion medium is at least one selected from the group consisting of alcohols, ethers, esters, aliphatic hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons. object. 分散媒が、ヘキサノール、ターピネオール、メチル−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、n−ヘキサン、及びγ−ブチロラクトンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項8又9に記載の導電性インク組成物。   The dispersion medium is at least one selected from the group consisting of hexanol, terpineol, methyl-t-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, n-hexane, and γ-butyrolactone. Conductive ink composition. 分散媒の濃度が導電性インク組成物全体の重量に対して1〜90重量%の範囲であることを特徴とする請求項8〜10のいずれかに記載の導電性インク組成物。   The conductive ink composition according to any one of claims 8 to 10, wherein the concentration of the dispersion medium is in the range of 1 to 90% by weight with respect to the weight of the entire conductive ink composition. 導電性インク組成物の粘度が、1〜1000Pa・sの範囲であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の導電性インク組成物。   The conductive ink composition according to claim 1, wherein the viscosity of the conductive ink composition is in a range of 1 to 1000 Pa · s. 請求項1〜12のいずれかに記載の導電性インク組成物を、基材に塗布又は充填し、当該基材を加熱処理することを特徴とする電気的導通部位の製造方法。   A method for producing an electrically conductive portion, comprising applying or filling the conductive ink composition according to any one of claims 1 to 12 to a substrate, and subjecting the substrate to heat treatment. 基材が、樹脂、紙、ガラス、シリコン系半導体、化合物半導体、金属酸化物、金属窒化物、及び木材からなる群より選ばれる一種、又は二種以上の複合基材であることを特徴とする請求項13に記載の電気的導通部位の製造方法。   The substrate is one or two or more composite substrates selected from the group consisting of resin, paper, glass, silicon-based semiconductor, compound semiconductor, metal oxide, metal nitride, and wood The manufacturing method of the electrical conduction | electrical_connection site | part of Claim 13. 加熱処理の温度が60〜300℃の範囲であることを特徴とする請求項13又は14に記載の電気的導通部位の製造方法。   The method for producing an electrically conductive portion according to claim 13 or 14, wherein the temperature of the heat treatment is in a range of 60 to 300 ° C. 非酸化性雰囲気で加熱処理を行うことを特徴とする請求項13〜15のいずれかに記載の電気的導通部位の製造方法。   The method for producing an electrically conductive portion according to claim 13, wherein heat treatment is performed in a non-oxidizing atmosphere.
JP2010278975A 2010-12-15 2010-12-15 Conductive ink composition, and method for producing electrically conductive site Pending JP2012126814A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010278975A JP2012126814A (en) 2010-12-15 2010-12-15 Conductive ink composition, and method for producing electrically conductive site

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010278975A JP2012126814A (en) 2010-12-15 2010-12-15 Conductive ink composition, and method for producing electrically conductive site

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012126814A true JP2012126814A (en) 2012-07-05

Family

ID=46644222

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010278975A Pending JP2012126814A (en) 2010-12-15 2010-12-15 Conductive ink composition, and method for producing electrically conductive site

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012126814A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014051569A (en) * 2012-09-06 2014-03-20 Tosoh Corp Conductive copper ink composition
JP2014210847A (en) * 2013-04-17 2014-11-13 東ソー株式会社 Conductive copper ink composition
JP2014210846A (en) * 2013-04-17 2014-11-13 東ソー株式会社 Conductive copper ink composition
JPWO2015045932A1 (en) * 2013-09-30 2017-03-09 新日鉄住金化学株式会社 Copper thin film forming composition

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002271000A (en) * 2001-03-08 2002-09-20 Mitsubishi Electric Corp Wiring board
JP2005002471A (en) * 2003-06-03 2005-01-06 Basf Ag Deposition of copper on substrate
JP2005537386A (en) * 2001-10-05 2005-12-08 スーペリア マイクロパウダーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー Low viscosity precursor composition and method for depositing conductive electronic features
WO2010074119A1 (en) * 2008-12-25 2010-07-01 ナミックス株式会社 Conductive paste for external electrode, and multilayer ceramic electronic component comprising external electrode which is formed using same
JP2010176976A (en) * 2009-01-28 2010-08-12 Tosoh Corp Composition for conductive film formation, its manufacturing method, and forming method of the conductive film

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002271000A (en) * 2001-03-08 2002-09-20 Mitsubishi Electric Corp Wiring board
JP2005537386A (en) * 2001-10-05 2005-12-08 スーペリア マイクロパウダーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー Low viscosity precursor composition and method for depositing conductive electronic features
JP2005002471A (en) * 2003-06-03 2005-01-06 Basf Ag Deposition of copper on substrate
WO2010074119A1 (en) * 2008-12-25 2010-07-01 ナミックス株式会社 Conductive paste for external electrode, and multilayer ceramic electronic component comprising external electrode which is formed using same
JP2010176976A (en) * 2009-01-28 2010-08-12 Tosoh Corp Composition for conductive film formation, its manufacturing method, and forming method of the conductive film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014051569A (en) * 2012-09-06 2014-03-20 Tosoh Corp Conductive copper ink composition
JP2014210847A (en) * 2013-04-17 2014-11-13 東ソー株式会社 Conductive copper ink composition
JP2014210846A (en) * 2013-04-17 2014-11-13 東ソー株式会社 Conductive copper ink composition
JPWO2015045932A1 (en) * 2013-09-30 2017-03-09 新日鉄住金化学株式会社 Copper thin film forming composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5866749B2 (en) Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof
JP2012131894A (en) Electrically conductive ink composition and electric conduction part produced using the same
KR100711505B1 (en) Silver paste for forming conductive layers
JP5505695B2 (en) Metal paste for conductive film formation
JP3764349B2 (en) Method of forming an alternative conductive metal film for plating using metal fine particle dispersion
CN104245192A (en) Synthetic method of suppressing metal nano-particle from having oxidezed film and method of manufacturing conductive metal thin film via solution-processed
CN106463201B (en) Conductive composition
CN107250292A (en) Silver particles coating composition
US9683123B2 (en) Silver ink
JP2014182913A (en) Composition for conductive film formation, and method for producing conductive film using the same
JP2017069175A (en) Conductive paste and conductive film
KR101151366B1 (en) Conductive particles and method for preparing the same
JP5776180B2 (en) Conductive ink composition and electrically conducting portion produced using the same
JP2012126814A (en) Conductive ink composition, and method for producing electrically conductive site
JP2014034697A (en) Method for producing copper fine particle, conductive paste and method for producing conductive paste
JP6036185B2 (en) High purity metal nanoparticle dispersion and method for producing the same
JP2014051569A (en) Conductive copper ink composition
JP6567921B2 (en) Silver-coated copper powder and method for producing the same
JP2015049988A (en) Composition for forming conductive film and method for producing conductive film using the same
JP2016094665A (en) Silver coated copper powder and conductive paste using the same, conductive coating and conductive sheet
JP5983805B2 (en) Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof
WO2017057201A1 (en) Conductive paste and conductive film
CN110809806B (en) Conductive paste
JP6102697B2 (en) Aqueous silver colloidal liquid, method for producing the same, and ink using aqueous silver colloidal liquid
JP2015110682A (en) Conductive ink, substrate with conductor, and production method of substrate with conductor

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131121

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140912

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141028

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141225

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150623