JP5983805B2 - Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof - Google Patents

Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof Download PDF

Info

Publication number
JP5983805B2
JP5983805B2 JP2015045012A JP2015045012A JP5983805B2 JP 5983805 B2 JP5983805 B2 JP 5983805B2 JP 2015045012 A JP2015045012 A JP 2015045012A JP 2015045012 A JP2015045012 A JP 2015045012A JP 5983805 B2 JP5983805 B2 JP 5983805B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
ink composition
conductive ink
fine particles
electrical conduction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015045012A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015147929A (en
Inventor
柳瀬 学
学 柳瀬
靖 原
靖 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Corp filed Critical Tosoh Corp
Priority to JP2015045012A priority Critical patent/JP5983805B2/en
Publication of JP2015147929A publication Critical patent/JP2015147929A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5983805B2 publication Critical patent/JP5983805B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Description

本発明は、導電性インク組成物、電気的導通部位の製造方法、及びその用途に関する。本発明の導電性インク組成物は、エレクトロニクス分野で配線基板の回路パターン形成用材料として好適に用いることができる。   The present invention relates to a conductive ink composition, a method for producing an electrically conductive portion, and use thereof. The conductive ink composition of the present invention can be suitably used as a circuit pattern forming material for a wiring board in the electronics field.

近年、金属微粒子の分散体を導電性インクとして用い、インクジェット印刷法や、スクリーン印刷法により所望のパターンを形成し、回路基板における配線等の電気的導通部位を形成する技術が注目を集めている。金属微粒子の平均粒子径が数nm〜数10nm程度であるとき、バルクの金属よりも融点が著しく降下し、低い温度で粒子同士の融着が起こることを利用し、金属微粒子を低温で焼結させて電気的導通部位を得るものである。現状、このような導電性パターン形成用組成物としては銀微粒子を含有するものが中心である。   2. Description of the Related Art In recent years, a technique for forming a desired pattern by using an ink-jet printing method or a screen printing method using a dispersion of metal fine particles as a conductive ink and forming an electrically conductive portion such as a wiring on a circuit board has attracted attention. . When the average particle size of metal fine particles is about several nanometers to several tens of nanometers, the melting point of the metal particles is significantly lower than that of bulk metal, and the particles are fused at a low temperature. To obtain an electrically conductive portion. At present, such a composition for forming a conductive pattern is mainly one containing silver fine particles.

しかしながら、銀では、エレクトロマイグレーション(electromigration)が発生しやすいという問題や、銀自体が高価な金属であるといった問題がある。ここで、エレクトロマイグレーションとは、電界の影響で、金属成分(例えば、配線や電極に使用した金属)が非金属媒体(例えば、絶縁物)の上や中を横切って移動する現象である。   However, silver has a problem that electromigration tends to occur, and silver itself is an expensive metal. Here, electromigration is a phenomenon in which a metal component (for example, a metal used for a wiring or an electrode) moves across or inside a non-metallic medium (for example, an insulator) due to the influence of an electric field.

そこで、低コスト化が可能で且つエレクトロマイグレーションが生じるおそれが少なく且つ、高い導電性をもつ銅を主成分とする配線を印刷法により形成可能な電気的導通部位形成用材料が望まれている。   Therefore, there is a demand for a material for forming an electrically conductive portion that can reduce the cost, is less likely to cause electromigration, and can form wiring having copper as a main component with high conductivity by a printing method.

銅の電気的導通部位形成用材料としては、窒素、酸素、硫黄等のヘテロ原子を分子構造内に有する有機化合物を金属銅表面に吸着させ、酸素や水との接触を妨げ酸化を防ぐと同時に、金属銅微粒子相互の凝集を抑制した、平均粒子径が数nm〜数100nm程度の銅微粒子を利用する方法が多数提案されている。例えば、酸化抑制剤として、アルキルアミンを利用する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   As a material for forming an electrical conduction site of copper, an organic compound having a heteroatom such as nitrogen, oxygen, sulfur, etc. in the molecular structure is adsorbed on the surface of the metal copper, preventing contact with oxygen or water and preventing oxidation. Many methods have been proposed that use copper fine particles having an average particle diameter of several nanometers to several hundreds of nanometers, which suppresses aggregation between metal copper fine particles. For example, a method using alkylamine as an oxidation inhibitor has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

しかしながら、このような金属銅微粒子を利用した電気的導通部位形成用材料は、金属銅微粒子を塗布後、電気的導通部位とする工程で、金属銅微粒子表面を被覆する酸化抑制剤を除去し、金属銅微粒子同士を融着させるために一般的に、300℃程度といった高温での加熱が必要であり、適応できる基材が限られる問題がある。また、金属銅の酸化を抑制するために水素を含む還元雰囲気下での加熱が必要な場合が多いため、安全面にも大きな問題があった。   However, the material for forming an electrical conduction site using such metal copper fine particles removes the oxidation inhibitor that covers the surface of the metal copper fine particles in the step of making the electrical conduction site after applying the metal copper fine particles, Generally, in order to fuse metal copper fine particles, heating at a high temperature of about 300 ° C. is necessary, and there is a problem that the applicable base materials are limited. Moreover, since there are many cases where heating in a reducing atmosphere containing hydrogen is required in order to suppress oxidation of metallic copper, there has been a serious problem in terms of safety.

そこで、銅微粒子を利用せず、水素を含まない非還元雰囲気下で、比較的低温度での加熱により、銅の電気的導通部位を形成可能な電気的導通部位形成用材料が検討されている。   Therefore, a material for forming an electrically conductive part that can form an electrically conductive part of copper by heating at a relatively low temperature in a non-reducing atmosphere that does not contain copper fine particles and does not contain hydrogen has been studied. .

例えば、ギ酸銅(II)とアルコキシアルキルアミンとからなる混合生成物を、80〜200℃及び0.1〜5barで基材に接触させることでより、基材上に銅層を析出する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。また、少なくとも金属塩及び還元剤を含有し、かつ25℃における粘度が3〜50mPa・sである金属パターン形成用の金属塩混合物を用い、基材上にパターンを描画した後、加熱することで金属膜を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献3参照)。これらの方法によれば、非還元雰囲気下において、180℃程度の温度での加熱により、銅膜又は金属膜が形成されるとされている。   For example, there is a method of depositing a copper layer on a substrate by bringing a mixed product composed of copper (II) formate and an alkoxyalkylamine into contact with the substrate at 80 to 200 ° C. and 0.1 to 5 bar. It has been proposed (see, for example, Patent Document 2). In addition, by using a metal salt mixture for forming a metal pattern that contains at least a metal salt and a reducing agent and has a viscosity of 3 to 50 mPa · s at 25 ° C., a pattern is drawn on the substrate, and then heated. A method of forming a metal film has been proposed (see, for example, Patent Document 3). According to these methods, a copper film or a metal film is formed by heating at a temperature of about 180 ° C. in a non-reducing atmosphere.

しかしながら、特許文献2の方法では、ギ酸銅(II)をアルコキシアルキルアミンに完全に溶解させた溶液であるため、粘度が低く、適応粘度が10〜300Pa・sであるスクリーン印刷法によるパターン形成が困難であるといった問題や、基板へ塗布した後の加熱処理時において粘度や表面張力が変化し、塗布時と加熱後の配線幅や配線形状の変化が大きいといった問題があり、工業的には利用できないおそれがあった。   However, since the method of Patent Document 2 is a solution in which copper (II) formate is completely dissolved in an alkoxyalkylamine, pattern formation by a screen printing method having a low viscosity and an adaptive viscosity of 10 to 300 Pa · s is possible. There are problems such as difficulty and changes in viscosity and surface tension during the heat treatment after application to the substrate, and there are problems such as large changes in wiring width and shape after application and after heating. There was a risk of not being able to.

また、特許文献3の方法においても、金属塩混合物の粘度が3〜50mPa・sと低いため、上記と同様にスクリーン印刷法によるパターン形成が困難であるといった問題や、金属塩濃度が金属塩混合物全体の重量に対して10重量%以下であり、金属の含有量が低いと、電気的導通部位を形成する際、所望の膜厚とするために、何度も塗り重ねが必要となり、作業効率が低下するといった問題があり、工業的には利用できないおそれがあった。   Also in the method of Patent Document 3, since the viscosity of the metal salt mixture is as low as 3 to 50 mPa · s, there is a problem that it is difficult to form a pattern by the screen printing method as described above, and the metal salt concentration is a metal salt mixture. If the metal content is 10% by weight or less with respect to the total weight and the metal content is low, it is necessary to repeat the coating many times in order to obtain the desired film thickness when forming the electrically conductive portion. There was a problem that it could not be used industrially.

以上のように従来法はいずれも十分なものとは言えず、工業的な実用化を図るために更なる検討が要望されていた。すなわち、銅を主成分とする電気的導通部位の形成において、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、且つスクリーン印刷法によるパターン形成が可能な導電性インク組成物の開発が望まれていた。   As described above, none of the conventional methods can be said to be sufficient, and further studies have been demanded for industrial practical use. That is, in the formation of an electrically conductive portion mainly composed of copper, the conductive ink composition can form an electrically conductive portion at a temperature at which a resin can be used as a base material, and can form a pattern by a screen printing method. Development of things was desired.

特開2007−321215号公報JP 2007-32215 A 特開2005−2471号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-2471 特開2008−205430号公報JP 2008-205430 A

本発明は、上記した背景技術に鑑みてなされたものであり、その目的は、銅を主成分とする電気的導通部位の形成において、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、且つスクリーン印刷法によるパターン形成が可能な導電性インク組成物、それを用いた電気的導通部位の製造方法、及びその用途を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described background art, and its purpose is to form an electrically conductive part at a temperature at which a resin can be used as a base material in the formation of an electrically conductive part mainly composed of copper. It is possible to provide a conductive ink composition capable of forming a pattern by a screen printing method, a method for producing an electrically conductive portion using the same, and a use thereof.

本発明者らは、上記の課題を解決するため、鋭意検討を重ねた結果、還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩の微粒子(A)、及び配位性化合物(B)を含有する導電性インク組成物を見出した。そしてこの導電性インク組成物は、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、且つスクリーン印刷法によるパターン形成が可能であることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have obtained fine particles (A) of a copper salt comprising a carboxylic acid having a reducing power and copper ions, and a coordinating compound (B). A conductive ink composition was found. The conductive ink composition is found to be capable of forming an electrically conductive portion at a temperature at which a resin can be used as a base material, and to form a pattern by a screen printing method, thereby completing the present invention. It came.

すなわち、本発明は、以下に示すとおりの導電性インク組成物、電気的導通部位の製造方法、及びその用途である。
[1]還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩の微粒子(A)、アルカンチオール、脂肪族アミン、芳香族アミン、及び環状アミンからなる群より選ばれる一種又は二種以上の配位性化合物(B)及び分散媒(D)を含有し、粘度が10〜300Pa・sの範囲である導電性インク組成物。
[2]還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩が、ギ酸銅、ヒドロキシ酢酸銅、グリオキシル酸銅、乳酸銅、シュウ酸銅、酒石酸銅、リンゴ酸銅、及びクエン酸銅からなる群より選ばれる一種又は二種以上であることを特徴とする上記[1]に記載の導電性インク組成物。
[3]銅塩の微粒子(A)の一次平均粒子径が、1nm〜5μmの範囲であることを特徴とする上記[1]又は[2]に記載の導電性インク組成物。
[4]金属触媒が、金属微粒子及び/又は金属化合物を含有することを特徴とする上記[1]乃至[3]のいずれかに記載の導電性インク組成物。
[5]金属微粒子が、金微粒子、銀微粒子、銅微粒子、白金微粒子、及びパラジウム微粒子からなる群より選ばれる一種又は二種以上であることを特徴とする上記[4]に記載の導電性インク組成物。
[6]金属微粒子の平均粒子径が、1〜1000nmの範囲であることを特徴とする上記[4]又は[5]に記載の導電性インク組成物。
[7]金属化合物が、金、銀、銅、白金、及びパラジウムからなる群より選ばれる一種又は二種以上の金属元素からなる化合物であることを特徴とする上記[4]に記載の導電性インク組成物。
[8]金属化合物が、金属塩、金属酸化物、及び金属硫化物からなる群より選ばれる一種又は二種以上であることを特徴とする上記[4]又は[7]に記載の導電性インク組成物。
[9]上記[1]乃至[8]のいずれかに記載の導電性インク組成物を、基材中の電気的導通を得たいと所望する部位に塗布又は充填し、当該基材を加熱処理することを特徴とする電気的導通部位の製造方法。
[10]基材が、樹脂、紙、ガラス、シリコン系半導体、化合物半導体、金属酸化物、金属窒化物、及び木材からなる群より選ばれる一種、又は二種以上の複合基材であることを特徴とする上記[9]に記載の電気的導通部位の製造方法。
[11]加熱処理の温度が60℃〜300℃の範囲であることを特徴とする上記[9]又は[10]に記載の電気的導通部位の製造方法。
[12]非酸化性雰囲気で加熱処理を行うことを特徴とする上記[9]乃至[11]のいずれかに記載の電気的導通部位の製造方法。
[13]上記[9]乃至[12]のいずれかに記載の製造方法により形成された電気的導通部位。
[14]上記[9]乃至[12]のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする画像表示装置。
[15]上記[9]乃至[12]のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする発光装置。
[16]上記[9]乃至[12]のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする回路基板。
[17]上記[9]乃至[12]のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とするコンデンサ。
[18]上記[9]乃至[12]のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする太陽電池。
[19]上記[9]乃至[12]のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする二次電池。
[20]上記[9]乃至[12]のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする電波方式認識タグ。
[21]上記[9]乃至[12]のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする電磁波遮蔽シールド。
That is, the present invention is a conductive ink composition, a method for producing an electrically conductive portion, and uses thereof as described below.
[1] One or two or more kinds of arrangements selected from the group consisting of copper salt fine particles (A) comprising a reducing carboxylic acid and copper ions, alkanethiols, aliphatic amines, aromatic amines, and cyclic amines A conductive ink composition containing a potential compound (B) and a dispersion medium (D) and having a viscosity in the range of 10 to 300 Pa · s.
[2] A copper salt composed of a carboxylic acid having a reducing power and copper ions is composed of copper formate, copper hydroxyacetate, copper glyoxylate, copper lactate, copper oxalate, copper tartrate, copper malate, and copper citrate. The conductive ink composition as described in [1] above, which is one or more selected from the group.
[3] The conductive ink composition as described in [1] or [2] above, wherein the primary average particle diameter of the copper salt fine particles (A) is in the range of 1 nm to 5 μm.
[4] The conductive ink composition as described in any one of [1] to [3], wherein the metal catalyst contains fine metal particles and / or a metal compound.
[5] The conductive ink according to [4], wherein the metal fine particles are one or more selected from the group consisting of gold fine particles, silver fine particles, copper fine particles, platinum fine particles, and palladium fine particles. Composition.
[6] The conductive ink composition as described in [4] or [5] above, wherein the average particle size of the metal fine particles is in the range of 1 to 1000 nm.
[7] The conductivity according to [4], wherein the metal compound is a compound composed of one or more metal elements selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, and palladium. Ink composition.
[8] The conductive ink according to [4] or [7], wherein the metal compound is one or more selected from the group consisting of metal salts, metal oxides, and metal sulfides. Composition.
[9] The conductive ink composition according to any one of [1] to [8] is applied or filled in a desired portion of the base material where electrical continuity is desired to be obtained, and the base material is heat-treated. A method for producing an electrically conducting portion.
[10] The substrate is one or two or more composite substrates selected from the group consisting of resin, paper, glass, silicon-based semiconductor, compound semiconductor, metal oxide, metal nitride, and wood. The method for producing an electrically conductive portion according to [9] above, which is characterized in that
[11] The method for producing an electrically conductive part according to [9] or [10] above, wherein the temperature of the heat treatment is in a range of 60 ° C to 300 ° C.
[12] The method for producing an electrically conductive portion according to any one of [9] to [11], wherein the heat treatment is performed in a non-oxidizing atmosphere.
[13] An electrically conductive portion formed by the manufacturing method according to any one of [9] to [12].
[14] An image display device comprising an electrically conductive portion that is partially or wholly manufactured by the manufacturing method according to any one of [9] to [12].
[15] A light-emitting device having an electrically conductive portion that is partially or wholly manufactured by the manufacturing method according to any one of [9] to [12].
[16] A circuit board characterized by having an electrically conductive portion partially or wholly manufactured by the manufacturing method according to any one of [9] to [12].
[17] A capacitor having an electrically conductive portion that is partially or wholly manufactured by the manufacturing method according to any one of [9] to [12].
[18] A solar cell characterized by having an electrically conductive portion that is partially or wholly manufactured by the manufacturing method according to any one of [9] to [12].
[19] A secondary battery comprising an electrically conductive portion that is partially or wholly manufactured by the manufacturing method according to any one of [9] to [12].
[20] A radio wave system recognition tag having an electrically conductive part that is partially or wholly manufactured by the manufacturing method according to any one of [9] to [12].
[21] An electromagnetic shielding shield characterized by having an electrically conductive portion that is partially or wholly manufactured by the manufacturing method according to any one of [9] to [12].

本発明は以下に示す効果を奏する。   The present invention has the following effects.

(1)本発明の導電性インク組成物は、塗布又は充填、加熱といった簡便な方法で、導電性パターン等の電気的導通部位を形成することが可能であるため、省エネルギー、低コスト、低環境負荷を達成でき、工業的に極めて有用である。   (1) Since the conductive ink composition of the present invention can form an electrically conductive portion such as a conductive pattern by a simple method such as coating, filling, and heating, energy saving, low cost, and low environment. The load can be achieved and is extremely useful industrially.

また、本発明の導電性インク組成物は、還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩の微粒子(A)を含有し、これは銅が主金属成分であるため、銅の優れた特性を有する電気的導通部位を形成可能である。   Further, the conductive ink composition of the present invention contains fine particles (A) of a copper salt composed of a carboxylic acid having a reducing power and copper ions, and since copper is a main metal component, it is excellent in copper. It is possible to form an electrically conducting portion having characteristics.

また、本発明の導電性インク組成物は、固体として、還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩の微粒子(A)と、必要に応じて金属触媒(C)を含有するため、金属濃度が高く、膜厚を厚くするための塗り重ね回数を削減でき、作業効率に優れる。また、塗布後加熱時の粘度変化、表面張力変化の影響が少ないため、塗布時と加熱後の配線幅や配線形状の変化が小さく寸法精度が優れる。   Further, since the conductive ink composition of the present invention contains, as a solid, fine particles (A) of a copper salt composed of a carboxylic acid having a reducing power and copper ions, and a metal catalyst (C) as necessary, The metal concentration is high, the number of coatings for increasing the film thickness can be reduced, and the work efficiency is excellent. Moreover, since there is little influence of changes in viscosity and surface tension during heating after application, changes in the wiring width and shape after application and after heating are small, and dimensional accuracy is excellent.

さらに、本発明の導電性インク組成物は、必要に応じて分散媒(D)を含有させることで、所望する粘度に容易に調整できるため、スクリーン印刷法によるパターン形成が可能である。   Furthermore, since the conductive ink composition of the present invention can be easily adjusted to a desired viscosity by containing a dispersion medium (D) as necessary, a pattern can be formed by a screen printing method.

(2)本発明の電気的導通部位の製造方法は、本発明の導電性インク組成物を用いることにより、電気的導通部位の形成工程において、水素を含む還元雰囲気を必要とせず、窒素等の不活性雰囲気下での加熱で電気的導通部位形成が可能であり、安全性に優れる。   (2) The method for producing an electrically conductive portion of the present invention uses the conductive ink composition of the present invention, so that a reducing atmosphere containing hydrogen is not required in the step of forming the electrically conductive portion, such as nitrogen. Electrically conductive sites can be formed by heating in an inert atmosphere, and the safety is excellent.

また、本発明の電気的導通部位の製造方法によれば、基材として樹脂を利用できる温度で、電気的導通部位の形成が可能であり、汎用性に優れる。   Moreover, according to the manufacturing method of the electrical conduction site | part of this invention, formation of an electrical conduction site | part is possible at the temperature which can utilize resin as a base material, and it is excellent in versatility.

以下に、本発明をさらに詳細に説明する。   The present invention is described in further detail below.

まず、本発明の導電性インク組成物について説明する。   First, the conductive ink composition of the present invention will be described.

本発明の導電性インク組成物は、還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩の微粒子(A)[以下、表記を簡潔にするため、これを「銅塩の微粒子(A)」と称する。]、配位性化合物(B)を含む。   The conductive ink composition of the present invention has a copper salt fine particle (A) composed of a carboxylic acid having a reducing power and copper ions (hereinafter referred to as “copper salt fine particle (A)” for the sake of brevity). Called. ], A coordination compound (B) is included.

本発明の導電性インク組成物を加熱処理することにより、銅塩の微粒子(A)中に含まれる銅イオンが還元力を有するカルボン酸により還元され、銅金属となり、形成される電気的導通部位の導電性を発現させる役割を果たす。また、配位性化合物(B)は、銅塩の微粒子(A)の分散性向上、電気的導通部位形成時の銅イオンの還元反応を安定化させる役割を果たす。   By conducting the heat treatment of the conductive ink composition of the present invention, the copper ion contained in the copper salt fine particles (A) is reduced by a carboxylic acid having a reducing power to become a copper metal, thereby forming an electrically conductive site. It plays a role in developing the electrical conductivity of. The coordinating compound (B) plays a role of improving the dispersibility of the copper salt fine particles (A) and stabilizing the reduction reaction of the copper ions at the time of forming the electrically conductive site.

本発明の導電性インク組成物において、還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩としては、銅イオンをカチオン種とし、還元力を有するカルボン酸をアニオン種とする銅塩であればよく、特に限定するものではない。例えば、一価の銅イオン、二価の銅イオン、及び三価の銅イオンからなる群より選ばれる一種又は二種以上と、還元力を有するカルボン酸からなる銅塩が挙げられる。これらの中でも、安定性、及び入手の容易さから、二価の銅イオンと還元力を有するカルボン酸からなる銅塩が好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the copper salt comprising a carboxylic acid having a reducing power and a copper ion is a copper salt having a copper ion as a cation species and a carboxylic acid having a reducing power as an anion species. Well, not particularly limited. Examples thereof include one or more selected from the group consisting of monovalent copper ions, divalent copper ions, and trivalent copper ions, and a copper salt composed of a carboxylic acid having a reducing power. Among these, a copper salt composed of a divalent copper ion and a carboxylic acid having a reducing power is preferable from the viewpoint of stability and availability.

例えば、銅イオンと還元力を有するカルボン酸からなる銅塩としては、具体的には、ギ酸銅、ヒドロキシ酢酸銅、グリオキシル酸銅、乳酸銅、シュウ酸銅、酒石酸銅、リンゴ酸銅、及びクエン酸銅からなる群より選ばれる一種又は二種以上が挙げられ、中でも、コストの面から、ギ酸銅及び/又はシュウ酸銅が好ましい。   For example, copper salts composed of copper ions and carboxylic acids having reducing power include copper formate, hydroxyacetate copper, glyoxylate copper, lactate, copper oxalate, tartrate, malate, and citric acid. One kind or two or more kinds selected from the group consisting of acid copper can be mentioned, and among these, copper formate and / or copper oxalate is preferable from the viewpoint of cost.

本発明の導電性インク組成物において、これら以外の銅イオンと還元力を有するカルボン酸とからなる銅塩を使用しても差し支えないが、入手が困難であったり、高価であったりするため、工業的に不利な場合がある。また、銅イオンと還元力を有するカルボン酸からなる銅塩としては、市販のものでも、公知の方法により合成したものでも良く、さらには、銅イオンを含む化合物と還元力を有するカルボン酸を混合することにより、系中で形成させたものでも何ら差し支えなく使用することができ、特に限定されない。   In the conductive ink composition of the present invention, a copper salt composed of a copper ion other than these and a carboxylic acid having a reducing power may be used, but it is difficult to obtain or expensive. There may be industrial disadvantages. Moreover, as a copper salt which consists of a carboxylic acid which has a copper ion and a reducing power, it may be a commercially available one or one synthesized by a known method, and furthermore, a compound containing a copper ion and a carboxylic acid having a reducing power are mixed. By doing so, even those formed in the system can be used without any limitation, and are not particularly limited.

本発明の導電性インク組成物において、銅イオンと還元力を有するカルボン酸からなる銅塩の純度については特に限定するものではないが、あまりにも低純度であると導電性薄膜とした際に、導電性に悪影響を与えるおそれがあるため、95%以上が好ましく、99%以上がさらに好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the purity of the copper salt composed of carboxylic acid having copper ions and reducing power is not particularly limited, but when the conductive thin film is too low purity, Since there exists a possibility of having a bad influence on electroconductivity, 95% or more is preferable and 99% or more is further more preferable.

本発明の導電性インク組成物において、銅塩の微粒子(A)としては、特に限定するものではないが、例えば、ギ酸銅微粒子、ヒドロキシ酢酸銅微粒子、グリオキシル酸銅微粒子、乳酸銅微粒子、シュウ酸銅微粒子、酒石酸銅微粒子、リンゴ酸銅微粒子、及びクエン酸銅微粒子からなる群より選ばれる一種又は二種以上が挙げられる。中でも、コスト面、及び入手のし容易さから、ギ酸銅微粒子及び/又はシュウ酸銅微粒子が好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the copper salt fine particles (A) are not particularly limited, and examples thereof include copper formate fine particles, hydroxy hydroxy copper fine particles, copper glyoxylate fine particles, copper lactate fine particles, and oxalic acid. One type or two or more types selected from the group consisting of copper fine particles, copper tartrate fine particles, copper malate fine particles, and copper citrate fine particles may be mentioned. Of these, copper formate fine particles and / or copper oxalate fine particles are preferable from the viewpoint of cost and availability.

本発明の導電性インク組成物において、銅塩の微粒子(A)の一次平均粒子径は、特に
限定するものではないが、1nm以上、5μm未満の範囲であることが好ましい。粒子径が1nm未満になると、粒子表面の活性が非常に高くなり、溶解するおそれがある。溶解した場合、再析出した際に、他の微粒子を核として析出し、微粒子の粗大化を引起すおそれがあるため好ましくない。また、5μm以上では、印刷法により配線等のパターン形成できる導電性インク組成物への適応が困難となったり、電気的導通部位を形成する際に、粒子の内部まで完全に反応せず、金属銅への還元が不十分となり、形成された電気的導通部位の導電性に悪影響を及ぼすおそれがある。よって、上記範囲内であることが望ましい。
In the conductive ink composition of the present invention, the primary average particle size of the copper salt fine particles (A) is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 nm or more and less than 5 μm. When the particle diameter is less than 1 nm, the activity of the particle surface becomes very high and may be dissolved. When dissolved, it is not preferable because, when reprecipitated, other fine particles may be precipitated as nuclei and cause coarsening of the fine particles. In addition, when the thickness is 5 μm or more, it is difficult to adapt to a conductive ink composition that can form a pattern such as a wiring by a printing method, or when forming an electrically conductive portion, the inside of the particle does not react completely, and the metal Reduction to copper becomes insufficient, which may adversely affect the conductivity of the formed electrical conduction site. Therefore, it is desirable to be within the above range.

本発明の導電性インク組成物において、銅塩の微粒子(A)としては、市販のものでも、公知の方法により合成したものでも、さらには、銅イオンを含む化合物と還元力を有するカルボン酸を混合することにより、系中で形成させたものでも何ら差し支えなく使用することができ、特に限定されない。   In the conductive ink composition of the present invention, the copper salt fine particles (A) may be commercially available or synthesized by a known method, or a compound containing copper ions and a carboxylic acid having a reducing power. Even if it mixes and what was formed in the system can be used without any limitation, it does not specifically limit.

銅塩の微粒子(A)を製造する方法としては、特に限定するものではないが、例えば、還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩の粉末を機械的粉砕により粉砕する方法や、銅イオンと還元力を有するカルボン酸からなる銅塩の溶液から、銅イオンと還元力を有するカルボン酸からなる銅塩の微粒子を析出させる方法等が挙げられる。これらのうち、粒子サイズの再現性が良好なことや、大量の溶媒及び大規模な設備が必要ないことから、還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩の粉末を機械的粉砕により粉砕する方法が好ましい。   The method for producing the copper salt fine particles (A) is not particularly limited, for example, a method of pulverizing a copper salt powder composed of a carboxylic acid having a reducing power and copper ions by mechanical pulverization, Examples thereof include a method of precipitating fine particles of a copper salt comprising a copper ion and a carboxylic acid having a reducing power from a copper salt solution comprising the carboxylic acid having a copper ion and a reducing power. Among these, since the reproducibility of the particle size is good and a large amount of solvent and large-scale equipment are not required, a copper salt powder composed of a carboxylic acid having a reducing power and copper ions is mechanically pulverized. A method of pulverizing is preferred.

機械的粉砕としては、特に限定するものではなく、例えば、乾式であっても、湿式であっても一向に差し支えなく、具体的には、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、ジェットミル、カッターミル、ハンマーミル、振動ミル、コロイドミル、ロールミル、乳鉢、及び石臼からなる群の一種又は二種以上を用いることができる。中でも微細粒子が効率的に得られることから、ビーズミルを用いることが好ましい。   The mechanical pulverization is not particularly limited. For example, it may be dry or wet. Specifically, a ball mill, a bead mill, a sand mill, a jet mill, a cutter mill, a hammer mill, One or more of the group consisting of a vibration mill, a colloid mill, a roll mill, a mortar, and a stone mortar can be used. Among them, it is preferable to use a bead mill because fine particles can be obtained efficiently.

本発明において、銅塩の微粒子(A)の粒子径を測定する方法としては、一般的な粒子の測定方法を用いることができる。例えば、透過型電子顕微鏡(TEM),電界放射型透過電子顕微鏡(FE−TEM),電界放射型走査電子顕微鏡(FE−SEM)等を適宜使用することができる。平均粒子径の値は、上記装置を用いて測定し、観測された視野の中から、粒子径が比較的そろっている箇所を3箇所選択し、粒径測定に最も適した倍率で撮影する。各々の写真から、一番多数存在すると思われる粒子を100個選択し、その直径をものさしで測り、測定倍率を除して粒子径を算出し、これらの値を算術平均することにより、求めることができる。   In the present invention, as a method for measuring the particle diameter of the copper salt fine particles (A), a general particle measuring method can be used. For example, a transmission electron microscope (TEM), a field emission transmission electron microscope (FE-TEM), a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), or the like can be used as appropriate. The value of the average particle diameter is measured using the above-mentioned apparatus, and three locations where the particle diameters are relatively uniform are selected from the observed field of view, and images are taken at the magnification most suitable for the particle size measurement. From each photo, select the 100 most likely particles, measure the diameter with a ruler, calculate the particle size by dividing the measurement magnification, and obtain these values by arithmetically averaging them. Can do.

本発明の導電性インク組成物において、配位性化合物(B)としては、アルカンチオール、脂肪族アミン、芳香族アミン、及び環状アミンからなる群より選ばれる一種又は二種以上である。   In the conductive ink composition of the present invention, the coordination compound (B) is one or more selected from the group consisting of alkanethiols, aliphatic amines, aromatic amines, and cyclic amines.

例えば、アルカンチオール類としては、具体的には、エタンチオール、n−プロパンチオール、i−プロパンチオール、n−ブタンチオール、i−ブタンチオール、t−ブタンチオール、n−ペンタンチオール、n−ヘキサンチオール、シクロヘキサンチオール、n−ヘプタンチオール、n−オクタンチオール、2−エチルヘキサンチオール等が例示される。   For example, as alkanethiols, specifically, ethanethiol, n-propanethiol, i-propanethiol, n-butanethiol, i-butanethiol, t-butanethiol, n-pentanethiol, n-hexanethiol , Cyclohexanethiol, n-heptanethiol, n-octanethiol, 2-ethylhexanethiol and the like.

また、脂肪族アミンとしては、具体的には、エチルアミン、n−プロピルアミン、i−プロピルアミン、n−ブチルアミン、i−ブチルアミン、t−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、2−エチルヘキシルアミン、n−ノニルアミン、n−デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデシルアミン、n−トリデシルアミン、n−テトラデシルアミン、n−ペンタデシルアミン、n−ヘキサデシルアミン、ベンジルアミン、N−メチルエチルアミン、N−メチル−n−プロピルアミン、N−メチル−i−プロピルアミン、N−メチル−n−ブチルアミン、N−メチル−i−ブチルアミン、N−メチル−t−ブチルアミン、N−メチル−n−ペンチルアミン、N−メチル−n−ヘキシルアミン、N−メチルシクロヘキシルアミン、N−メチル−n−ヘプチルアミン、N−メチル−n−オクチルアミン、N−メチル−2−エチルヘキシルアミン、N−メチル−n−ノニルアミン、N−メチル−n−デシルアミン、N−メチル−n−ウンデシルアミン、N−メチル−n−ドデシルアミン、N−メチル−n−トリデシルアミン、N−メチル−n−テトラデシルアミン、N−メチル−n−ペンタデシルアミン、N−メチル−n−ヘキサデシルアミン、及びN−メチル−ベンジルアミン等が例示される。   Specific examples of the aliphatic amine include ethylamine, n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, cyclohexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, 2-ethylhexylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, n-tridecylamine, n-tetradecylamine, n-pentadecyl Amine, n-hexadecylamine, benzylamine, N-methylethylamine, N-methyl-n-propylamine, N-methyl-i-propylamine, N-methyl-n-butylamine, N-methyl-i-butylamine, N-methyl-t-butylamine, N-methyl-n-pentyl Min, N-methyl-n-hexylamine, N-methylcyclohexylamine, N-methyl-n-heptylamine, N-methyl-n-octylamine, N-methyl-2-ethylhexylamine, N-methyl-n- Nonylamine, N-methyl-n-decylamine, N-methyl-n-undecylamine, N-methyl-n-dodecylamine, N-methyl-n-tridecylamine, N-methyl-n-tetradecylamine, N -Methyl-n-pentadecylamine, N-methyl-n-hexadecylamine, N-methyl-benzylamine and the like are exemplified.

また、芳香族アミンとしては、具体的には、アニリン、p−トルイジン、4−エチルアニリン、N−メチルアニリン、N−メチル−p−トルイジン、N−メチル−4−エチルアニリン等が例示される。   Specific examples of the aromatic amine include aniline, p-toluidine, 4-ethylaniline, N-methylaniline, N-methyl-p-toluidine, N-methyl-4-ethylaniline and the like. .

また、環状アミンとしては、具体的には、ピロリジン、ピロール、ピペリジン、ピリジン、ヘキサメチレンイミン、イミダゾール、ピラゾール、ピペラジン、N−メチルピペラジン、N−エチルピペラジン、及びホモピペラジン等が例示される。   Specific examples of the cyclic amine include pyrrolidine, pyrrole, piperidine, pyridine, hexamethyleneimine, imidazole, pyrazole, piperazine, N-methylpiperazine, N-ethylpiperazine, and homopiperazine.

本発明の導電性インク組成物において、配位性化合物(B)は市販のものでもよいし、公知の方法により合成したものでもよい。   In the conductive ink composition of the present invention, the coordination compound (B) may be a commercially available product or may be synthesized by a known method.

本発明の導電性インク組成物において、配位性化合物(B)の純度は、特に限定するものではないが、電子材料分野での使用を考慮すると、95%以上が好ましく、99%以上がさらに好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the purity of the coordination compound (B) is not particularly limited, but is preferably 95% or more, more preferably 99% or more in consideration of use in the field of electronic materials. preferable.

本発明の導電性インク組成物は、以下の理由により、金属触媒(C)を含有させることが好ましい。   The conductive ink composition of the present invention preferably contains a metal catalyst (C) for the following reasons.

すなわち、本発明の導電性インク組成物に、金属触媒(C)を含有させなくても、導電性インクとして使用することはできるが、金属触媒(C)を含有させることにより、例えば、当該導電性インク組成物を基材上に塗布し、加熱処理した際に、銅塩の微粒子(A)中に含まれる銅イオンの還元を促進する役割を果たし、その結果として、処理温度を低下させ、処理時間を短縮させることができる。   That is, the conductive ink composition of the present invention can be used as a conductive ink without containing the metal catalyst (C), but by containing the metal catalyst (C), for example, the conductive ink composition can be used. When the heat-sensitive ink composition is applied onto a substrate and heat-treated, it plays a role in promoting reduction of copper ions contained in the fine particles (A) of the copper salt, and as a result, the processing temperature is lowered, Processing time can be shortened.

金属触媒(C)に用いられる金属微粒子としては、特に限定するものではないが、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、及びオスミウムからなる群より選ばれる一種又は二種以上の金属種を含有するものが挙げられる。これらの金属種は、単体であってもその他の金属との合金であっても差し支えない。これらの中でもコスト面、入手の容易さ、及び電気的導通部位形成時の触媒能から、金微粒子、銀微粒子、銅微粒子、白金微粒子、及びパラジウム微粒子からなる群より選ばれる一種又は二種以上が好ましい。   The metal fine particles used in the metal catalyst (C) are not particularly limited. For example, one or two selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, palladium, rhodium, iridium, ruthenium, and osmium. The thing containing the metal seed | species more than a seed | species is mentioned. These metal species may be simple substances or alloys with other metals. Among these, one or two or more selected from the group consisting of gold fine particles, silver fine particles, copper fine particles, platinum fine particles, and palladium fine particles are selected from the viewpoint of cost, availability, and catalytic ability at the time of forming an electrically conductive site. preferable.

金属触媒(C)にこれら以外の金属微粒子を使用しても差し支えないが、銅塩の微粒子(A)に含まれる銅イオンにより金属微粒子が酸化を受けたり、触媒能が低下したり又は発現しなかったりして、銅塩の微粒子(A)から金属銅への還元析出速度が低下するおそれがあるため、上記した金属微粒子を使用することが望ましい。   Although metal fine particles other than these may be used for the metal catalyst (C), the metal fine particles may be oxidized by the copper ions contained in the copper salt fine particles (A), or the catalytic ability may be reduced or expressed. Otherwise, the reduction precipitation rate from the copper salt fine particles (A) to the metal copper may be reduced, and therefore, it is desirable to use the metal fine particles described above.

金属触媒(C)に用いられる金属微粒子は、その平均粒子径が1〜1000nmの範囲のものが好ましい。金属微粒子の粒子径が1nm未満になると、金属表面の活性が非常に高くなり、酸化されたり、溶解するおそれがある。また、1000nmを超えると、長期保存した場合に金属微粒子が沈降することがある。よって、上記範囲内であることが望ましい。   The metal fine particles used for the metal catalyst (C) preferably have an average particle diameter in the range of 1 to 1000 nm. When the particle diameter of the metal fine particles is less than 1 nm, the activity of the metal surface becomes very high, and there is a risk of being oxidized or dissolved. On the other hand, when the thickness exceeds 1000 nm, the metal fine particles may settle when stored for a long time. Therefore, it is desirable to be within the above range.

本発明において、金属微粒子の粒子径の測定方法としては、一般的な粒子の測定方法を用いることができる。例えば、透過型電子顕微鏡(TEM),電界放射型透過電子顕微鏡(FE−TEM),電界放射型走査電子顕微鏡(FE−SEM)等を適宜使用することができる。平均粒子径の値は、上記装置を用いて測定し、観測された視野の中から、粒子径が比較的そろっている箇所を3箇所選択し、粒径測定に最も適した倍率で撮影する。各々の写真から、一番多数存在すると思われる粒子を100個選択し、その直径をものさしで測り、測定倍率を除して粒子径を算出し、これらの値を算術平均することにより、求めることができる。   In the present invention, as a method for measuring the particle diameter of the metal fine particles, a general particle measuring method can be used. For example, a transmission electron microscope (TEM), a field emission transmission electron microscope (FE-TEM), a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), or the like can be used as appropriate. The value of the average particle diameter is measured using the above-mentioned apparatus, and three locations where the particle diameters are relatively uniform are selected from the observed field of view, and images are taken at the magnification most suitable for the particle size measurement. From each photo, select the 100 most likely particles, measure the diameter with a ruler, calculate the particle size by dividing the measurement magnification, and obtain these values by arithmetically averaging them. Can do.

金属触媒(C)に用いられる金属微粒子は市販のものでもよいし、公知の方法により合成したものでもよく、特に限定されない。公知の合成方法としては、例えば、スパッタリング法やガス中蒸着法等、物理的な手法で合成反応を行う気相法(乾式法)や、基金属化合物溶液を表面保護剤の存在下、還元して貴金属微粒子を析出させる等の液相法(湿式法)等が一般的に知られている。これらの中でも、一般的に用いられる液相法の例としては、保護剤としてのポリビニルアルコールを含む水とメタノールやエタノール等との混合溶媒に溶解した金属錯イオンを加熱することにより、金属微粒子を得る方法(例えば、「Journal of Macromolecular Science : Part A. Pure & Applied Chemistry」, 1979年, 第13巻, p.727参照)や、エチレングリコールやジエチレングリコール等のポリオールを溶媒に用い、それらの沸点近傍またはそれ以下で加熱することにより、緩やかに金属イオンを還元析出させ、金属微粒子を得る方法(例えば、「MRS Bulletin」, 1989年, 第14巻, p.29参照)等を挙げることができる。   The metal fine particles used for the metal catalyst (C) may be commercially available or may be synthesized by a known method, and is not particularly limited. As a known synthesis method, for example, a gas phase method (dry method) in which a synthesis reaction is performed by a physical method such as a sputtering method or a vapor deposition method in gas, or a base metal compound solution is reduced in the presence of a surface protective agent. A liquid phase method (wet method) or the like for precipitating fine metal particles is generally known. Among these, as an example of a generally used liquid phase method, metal fine particles are obtained by heating a metal complex ion dissolved in a mixed solvent of water containing polyvinyl alcohol as a protective agent and methanol or ethanol. (E.g., "Journal of Macromolecular Science: Part A. Pure & Applied Chemistry", 1979, Vol. 13, p. 727), and the vicinity of their boiling points using polyols such as ethylene glycol and diethylene glycol Alternatively, a method of slowly reducing and precipitating metal ions to obtain metal fine particles by heating at a temperature lower than that (see, for example, “MRS Bulletin”, 1989, Vol. 14, p. 29) can be used.

金属触媒(C)に用いられる金属微粒子の純度としては、特に限定するものではないが、余りに低純度であると導電性薄膜とした際に、導電性に悪影響を与えるおそれがあるため、95%以上が好ましく、99%以上がさらに好ましい。   The purity of the metal fine particles used in the metal catalyst (C) is not particularly limited, but if it is too low in purity, there is a possibility of adversely affecting the conductivity when the conductive thin film is used. The above is preferable, and 99% or more is more preferable.

一方、金属触媒(C)に用いられる金属化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウムからなる群より選ばれる一種又は二種以上の金属種を含有する化合物が好ましい。これらの中でもコスト面、入手の容易さから、金、銀、銅、白金、及びパラジウムからなる群より選ばれる、一種又は二種以上の金属種を含有する化合物であることが好ましく、銀、及び/又はパラジウムを含有することがさらに好ましい。金属化合物としては、上記金属のイオンを含有する化合物であればよく、特に限定するものではないが、例えば、金属塩、金属酸化物、金属硫化物等が挙げられる。これらの中でも、溶解度の面から金属塩を用いることが好ましい。   On the other hand, the metal compound used for the metal catalyst (C) is not particularly limited, but for example, one or more selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, palladium, rhodium, iridium, ruthenium, and osmium. A compound containing two or more metal species is preferred. Among these, from the viewpoint of cost and availability, it is preferably a compound containing one or more metal species selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, and palladium, silver, and More preferably, it contains palladium. The metal compound is not particularly limited as long as it is a compound containing the above metal ions, and examples thereof include metal salts, metal oxides, and metal sulfides. Among these, it is preferable to use a metal salt from the viewpoint of solubility.

金属塩としては、特に限定するものではないが、金属イオンと、無機アニオン種及び/又は有機アニオン種とからなるものが好ましい。例えば、金属ハロゲン化物、金属硝酸塩、金属亜硝酸塩、金属炭酸塩、金属カルボン酸塩、金属テトラフルオロほう酸塩、金属とアセチルアセトン誘導体との錯塩等が挙げられ、これらの中でも、コスト及び溶解性の面から、金属カルボン酸塩、及び/又は金属とアセチルアセトン誘導体との錯塩が好ましい。   Although it does not specifically limit as a metal salt, What consists of a metal ion and inorganic anion species and / or organic anion species is preferable. Examples include metal halides, metal nitrates, metal nitrites, metal carbonates, metal carboxylates, metal tetrafluoroborate, complex salts of metals and acetylacetone derivatives, among these, cost and solubility aspects Therefore, metal carboxylates and / or complex salts of metals and acetylacetone derivatives are preferred.

具体的には、金属カルボン酸塩としては、例えば、ギ酸銀、酢酸銀、トリフルオロ酢酸銀、プロピオン酸銀、酪酸銀、イソ酪酸銀、吉草酸銀、イソ吉草酸銀、ピバリン酸銀、ヘキサン酸銀、ヘプタン酸銀、シクロヘキサンカルボン酸銀、オクタン酸銀、2−エチルヘキサン酸銀、ノナン酸銀、デカン酸銀、ウンデカン酸銀、ドデカン酸銀、トリデカン酸銀、オレイン酸銀、リノール酸銀、リノレン酸銀、安息香酸銀、ギ酸パラジウム、酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、酪酸パラジウム、イソ酪酸パラジウム、吉草酸パラジウム、イソ吉草酸パラジウム、ピバリン酸パラジウム、ヘキサン酸パラジウム、ヘプタン酸パラジウム、シクロヘキサンカルボン酸パラジウム、オクタン酸パラジウム、2−エチルヘキサン酸銀パラジウム、ノナン酸パラジウム、デカン酸パラジウム、ウンデカン酸パラジウム、ドデカン酸パラジウム、トリデカン酸パラジウム、オレイン酸パラジウム、リノール酸パラジウム、リノレン酸パラジウム、安息香酸パラジウム等が好適なものとして挙げられる。   Specifically, as the metal carboxylate, for example, silver formate, silver acetate, silver trifluoroacetate, silver propionate, silver butyrate, silver isobutyrate, silver valerate, silver isovalerate, silver pivalate, hexane Silver, silver heptanoate, silver cyclohexanecarboxylate, silver octanoate, silver 2-ethylhexanoate, silver nonanoate, silver decanoate, silver undecanoate, silver dodecanoate, silver tridecanoate, silver oleate, silver linoleate Silver linolenate, silver benzoate, palladium formate, palladium acetate, palladium trifluoroacetate, palladium propionate, palladium butyrate, palladium isobutyrate, palladium valerate, palladium isovalerate, palladium pivalate, palladium hexanoate, heptanoic acid Palladium, palladium cyclohexanecarboxylate, palladium octoate, 2-ethyl Hexane silver palladium, nonanoic acid, palladium decanoic acid, palladium undecanoic acid, palladium dodecanoic acid, tridecanoic acid, palladium oleic acid, palladium linoleic acid, palladium linolenic acid, benzoic acid palladium and the like as preferred.

また、金属とアセチルアセトン誘導体との錯塩としては、例えば、アセチルアセトナト銀、ヘキサフルオロアセチルアセトナト銀、アセチルアセトナトパラジウム、ヘキサフルオロアセチルアセトナトパラジウム等が好適なものとして挙げられる。   Moreover, as a complex salt of a metal and an acetylacetone derivative, for example, acetylacetonate silver, hexafluoroacetylacetonate silver, acetylacetonatopalladium, hexafluoroacetylacetonatopalladium and the like are preferable.

これらの中でも、コスト及び溶解性の面から、酢酸銀、プロピオン酸銀、酪酸銀、イソ酪酸銀、酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、酪酸パラジウム、イソ酪酸パラジウム等の金属カルボン酸塩が好ましい。   Among these, from the viewpoint of cost and solubility, metal carboxylates such as silver acetate, silver propionate, silver butyrate, silver isobutyrate, palladium acetate, palladium trifluoroacetate, palladium propionate, palladium butyrate, palladium isobutyrate, etc. Is preferred.

金属触媒(C)にこれら以外の金属化合物を使用しても差し支えないが、入手が困難であったり、高価であったりするため、工業的に不利な場合がある。また、金属化合物としては、市販のもの、公知の方法により合成したものでも良く、さらには、金属イオンを含む化合物と無機アニオン種、及び/又は有機アニオン種を混合すること等により、系中で形成させたものでも何ら差し支えなく使用することができ、特に限定されない。また、還元成分の影響により系中で還元され、0価の錯体となったり、金属粒子となっても一向に差し支えない。   Although metal compounds other than these may be used for the metal catalyst (C), they may be industrially disadvantageous because they are difficult to obtain or expensive. Moreover, as a metal compound, what was synthesize | combined by the commercially available thing and the well-known method may be sufficient, and also in a system by mixing the compound and inorganic anion species, and / or organic anion species containing a metal ion, etc. The formed one can be used without any limitation, and is not particularly limited. Further, it may be reduced in the system due to the influence of the reducing component to form a zero-valent complex or metal particles.

本発明の導電性インク組成物において、金属化合物の純度については特に限定するものではないが、低純度であると電気的導通部位を形成した際に、導電性に悪影響を与えるおそれがあるため、95%以上が好ましく、99%以上がさらに好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the purity of the metal compound is not particularly limited, but when it has a low purity, there is a possibility of adversely affecting the conductivity when an electrically conductive portion is formed. 95% or more is preferable, and 99% or more is more preferable.

本発明の導電性インク組成物において、各成分の濃度は特に制限はないが、導電性インク組成物全量に対し、銅塩の微粒子(A)を0.1〜80重量%、配位性化合物(B)を0.1〜80重量%の範囲、及び金属触媒(C)を0重量%〜50重量%の範囲で含有することが好ましい[ただし、銅塩の微粒子(A)、配位性化合物(B)及び金属触媒(C)の合計量が100重量%を超えることはない。]。   In the conductive ink composition of the present invention, the concentration of each component is not particularly limited, but 0.1 to 80% by weight of the copper salt fine particles (A) and the coordinating compound with respect to the total amount of the conductive ink composition. It is preferable to contain (B) in the range of 0.1 to 80% by weight and metal catalyst (C) in the range of 0 to 50% by weight [however, fine particles of copper salt (A), coordination property The total amount of the compound (B) and the metal catalyst (C) does not exceed 100% by weight. ].

銅塩の微粒子(A)の濃度が0.1重量%未満では、銅塩の微粒子(A)から生じる金属銅の量が少なく、十分な膜厚を有する電気的導通部位を形成できない場合があり、80重量%を超えると、導電性インク組成物の粘度上昇又は固化が起こり作業性が低下する場合がある。   If the concentration of the copper salt fine particles (A) is less than 0.1% by weight, the amount of metallic copper generated from the copper salt fine particles (A) is small, and there may be a case where an electrically conductive portion having a sufficient film thickness cannot be formed. If it exceeds 80% by weight, the viscosity or solidification of the conductive ink composition may occur and the workability may decrease.

また、配位性化合物(B)の濃度が0.1重量%未満では、銅イオンと還元力を有するカルボン酸からなる銅塩の微粒子が十分に分散しないおそれがあり、80重量%を超えて使用しても入れただけの向上効果がないばかりではなく、導電性インク組成物全量における銅の濃度が低下し、所望する膜厚の電気的導通部位を得るための導電性インク組成物の塗布量が増加し、工業的に不利となる。   Further, if the concentration of the coordinating compound (B) is less than 0.1% by weight, the fine particles of the copper salt composed of carboxylic acid having a copper ion and a reducing power may not be sufficiently dispersed, exceeding 80% by weight. Application of conductive ink composition for obtaining an electrically conductive portion having a desired film thickness is reduced in copper concentration in the total amount of the conductive ink composition. The amount increases, which is industrially disadvantageous.

さらに、金属触媒(C)の濃度は、その触媒能を発現させるためには1重量ppb以上であることが好ましいが、50重量%を超えて使用しても、入れただけの向上効果は得られないばかりでなく、導電性インク組成物の単位重量当たりの金属銅の含有量が低下し、工業的に不利となるおそれがある。   Further, the concentration of the metal catalyst (C) is preferably 1 wt. Ppb or more in order to express its catalytic ability, but even if it is used in excess of 50 wt. In addition to this, the content of metallic copper per unit weight of the conductive ink composition is lowered, which may be industrially disadvantageous.

なお、本発明の導電性インク組成物において、銅塩の微粒子(A)と金属触媒(C)とが複合化して、これらの複合体微粒子を形成することはない。ここで、複合化の方法としては、例えば、物理的な複合化方法や化学的な複合化方法が挙げられる。物理的な複合化方法としては、具体的には、還元力を有するカルボン酸と銅イオンからなる銅塩上へ触媒金属を担持する方法、還元力を有するカルボン酸と銅イオンからなる銅塩上へ触媒金属を吸着させる方法、還元力を有するカルボン酸と銅イオンからなる銅塩上へ触媒金属を析出させる方法等が例示される。また、化学的な複合方法としては、具体的には、還元力を有するカルボン酸と銅イオンからなる銅塩と触媒金属を複合塩化する方法や、還元力を有するカルボン酸と銅イオンからなる銅塩の一部を、触媒金属と合金化する方法等が例示される。   In the conductive ink composition of the present invention, the copper salt fine particles (A) and the metal catalyst (C) are not complexed to form these composite fine particles. Here, examples of the compounding method include a physical compounding method and a chemical compounding method. Specifically, the physical complexing method includes a method of supporting a catalytic metal on a copper salt composed of a carboxylic acid having a reducing power and a copper ion, and a copper salt comprising a carboxylic acid having a reducing power and a copper ion. Examples thereof include a method of adsorbing a catalytic metal, a method of depositing a catalytic metal on a copper salt comprising a carboxylic acid having a reducing power and copper ions, and the like. Further, as a chemical compounding method, specifically, a method of compounding a copper salt composed of a carboxylic acid having a reducing power and a copper ion and a catalytic metal, or a copper compound comprising a carboxylic acid having a reducing power and a copper ion. Examples thereof include a method of alloying a part of the salt with the catalyst metal.

本発明の導電性インク組成物は、上記成分に加えて、分散媒(D)を含有しても一向に差し支えない。   The conductive ink composition of the present invention may contain the dispersion medium (D) in addition to the above components.

本発明の導電性インク組成物において、分散媒(D)は、その濃度を変えることにより、導電性インク組成物の粘度を、所望の粘度に容易に調整することができる。   In the conductive ink composition of the present invention, the dispersion medium (D) can easily adjust the viscosity of the conductive ink composition to a desired viscosity by changing its concentration.

本発明の導電性インク組成物において分散媒(D)は、銅塩の微粒子(A)と反応しないものであればよく、特に限定するものではないが、例えば、アルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素類、及び芳香族炭化水素類からなる群より選ばれる一種又は二種以上が挙げられる。   In the conductive ink composition of the present invention, the dispersion medium (D) is not particularly limited as long as it does not react with the copper salt fine particles (A), and examples thereof include alcohols, ethers and esters. , One or more selected from the group consisting of aliphatic hydrocarbons and aromatic hydrocarbons.

例えば、アルコール類としては、具体的には、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ターピネオール等が例示される。   For example, specific examples of alcohols include hexanol, heptanol, octanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, terpineol, and the like.

エーテル類としては、具体的には、ジエチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジブチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、メチルシクロヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4−ジオキサン等が例示される。   Specific examples of ethers include diethyl ether, diisobutyl ether, dibutyl ether, methyl t-butyl ether, methyl cyclohexyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, tetrahydro Examples include pyran and 1,4-dioxane.

エステル類としては、具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が例示される。   Specific examples of esters include methyl formate, ethyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, and γ-butyrolactone.

脂肪族炭化水素類としては、具体的には、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ウンデカン、n−ドデカン、シクロヘキサン、デカリン等が例示される。   Specific examples of the aliphatic hydrocarbons include n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, n-undecane, n-dodecane, cyclohexane, decalin and the like. Illustrated.

芳香族炭化水素類としては、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、i−プロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が例示される。   Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, n-propylbenzene, i-propylbenzene, n-butylbenzene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and the like.

これらの中でもコスト、及び安全性の面から、ヘキサノール、ターピネオール、メチル−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、n−ヘキサン、及びγ−ブチロラクトンからなる群より選ばれる一種又は二種以上であることが好ましい。   Among these, from the viewpoint of cost and safety, it may be one or more selected from the group consisting of hexanol, terpineol, methyl-t-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, n-hexane, and γ-butyrolactone. preferable.

本発明の導電性インク組成物において、分散媒(D)は市販のものでもよいし、公知の方法により合成したものでもよい。   In the conductive ink composition of the present invention, the dispersion medium (D) may be commercially available or may be synthesized by a known method.

本発明の導電性インク組成物において、分散媒(D)の純度は、特に限定するものではないが、電子材料分野での使用を考慮すると、95%以上が好ましく、99%以上がさらに好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the purity of the dispersion medium (D) is not particularly limited, but is preferably 95% or more and more preferably 99% or more in consideration of use in the field of electronic materials.

本発明の導電性インク組成物において、分散媒(D)の濃度は特に限定するものではないが、例えば、導電性インク組成物全量に対し、分散媒(D)の濃度が0〜90重量%の範囲であることが好ましい[ただし、銅塩の微粒子(A)、配位性化合物(B)、金属触媒(C)及び分散媒(D)の合計量が100重量%を超えることはない。]。   In the conductive ink composition of the present invention, the concentration of the dispersion medium (D) is not particularly limited. For example, the concentration of the dispersion medium (D) is 0 to 90% by weight with respect to the total amount of the conductive ink composition. [However, the total amount of the copper salt fine particles (A), the coordinating compound (B), the metal catalyst (C) and the dispersion medium (D) does not exceed 100% by weight). ].

分散媒(D)の濃度が90重量%を超えて使用しても入れただけの向上効果がないばかりではなく、導電性インク組成物全量における銅の濃度が低下し、所望する膜厚の電気的導通部位を得るための導電性インク組成物の塗布量が増加し、工業的に不利となる。   Even if the concentration of the dispersion medium (D) exceeds 90% by weight, not only the improvement effect is not added, but also the concentration of copper in the total amount of the conductive ink composition is reduced, and the electric film having a desired film thickness is obtained. The application amount of the conductive ink composition for obtaining a mechanical conduction site increases, which is industrially disadvantageous.

本発明の導電性インク組成物において、導電性インク組成物の粘度は、所望する塗布方法により、適宜、調整すれば良く、特に限定するものではないが、例えば、スクリーン印刷法により塗布し、パターン形成を行う場合、通常10〜300Pa・sの範囲に調整することが好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the viscosity of the conductive ink composition may be appropriately adjusted according to a desired coating method, and is not particularly limited. When forming, it is preferable to adjust to the range of 10-300 Pa.s normally.

本発明の導電性インク組成物は、上記成分に加えて、電気的導通部位平滑化剤、表面張力調整剤等の添加剤(E)を含有しても一向に差し支えない。   In addition to the above components, the conductive ink composition of the present invention may contain an additive (E) such as an electrical conduction site smoothing agent and a surface tension adjusting agent.

本発明の導電性インク組成物において、電気的導通部位平滑化剤としては、特に限定するものではないが、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、ペンタエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ペンタエチレングリコールジメチルエーテル等の含酸素化合物を挙げることができ、これらより選ばれる一種又は二種以上を用いることが好ましい。   In the conductive ink composition of the present invention, the electrical conduction site smoothing agent is not particularly limited. For example, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, pentaethylene glycol, Ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, tetraethylene glycol monomethyl ether, pentaethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene Glico Dimethyl ether, can be mentioned oxygen-containing compounds such as pentaethylene glycol dimethyl ether, it is preferable to use one or two or more selected from these.

本発明の導電性インク組成物において、表面張力調整剤としては、特に制限するものではないが、例えば、導電性インク組成物の各成分と反応しない有機溶媒が挙げられ、所望の表面張力となるように適宜添加すればよい。このような有機溶媒としては、例えば、アルコール類、グリコール類、エーテル類、エステル類、炭化水素類及び芳香族炭化水素類からなる群より選ばれる一種、又は相溶性のある二種以上の混合物が挙げられる。   In the conductive ink composition of the present invention, the surface tension adjusting agent is not particularly limited, and examples thereof include an organic solvent that does not react with each component of the conductive ink composition, resulting in a desired surface tension. It may be added as appropriate. Examples of such an organic solvent include one selected from the group consisting of alcohols, glycols, ethers, esters, hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons, or a mixture of two or more compatible types. Can be mentioned.

具体的には、アルコール類としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ターピネオール等が挙げられ、グリコール類としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール等が挙げられ、エーテル類としては、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4−ジオキサン等が挙げられ、エステル類としては、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられ、炭化水素類としては、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ウンデカン、n−ドデカン、シクロヘキサン、デカリン等が挙げられ、芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、i−プロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。   Specifically, as alcohols, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, i-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, pentanol, hexanol, heptanol, octanol, cyclohexanol , Benzyl alcohol, terpineol, etc., and glycols include ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, pentanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, tripropylene glycol, etc., and ethers include Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol Examples thereof include diethyl ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, and the esters include methyl formate, ethyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, propion Examples of hydrocarbons include n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, n-undecane, n-dodecane, and cyclohexane. Decalin and the like, and examples of the aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, n-propylbenzene, i-propylbenzene, n-butylbenzene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene and the like.

本発明の導電性インク組成物における、上記した添加剤の濃度は特に制限はないが、導電性インク組成物全量に対し、添加剤の濃度が0〜50重量%の範囲であることが好ましく、0〜20重量%の範囲とするのがさらに好ましい[ただし、銅塩の微粒子(A)、配位性化合物(B)、金属触媒(C)、分散媒(D)、及び添加剤(E)の合計量が100重量%を超えることはない。]。   The concentration of the additive described above in the conductive ink composition of the present invention is not particularly limited, but the concentration of the additive is preferably in the range of 0 to 50% by weight with respect to the total amount of the conductive ink composition. More preferably, the content is in the range of 0 to 20% by weight [provided that the copper salt fine particles (A), the coordination compound (B), the metal catalyst (C), the dispersion medium (D), and the additive (E) The total amount does not exceed 100% by weight. ].

添加剤(E)の濃度が50重量%を超えて使用しても、入れただけの向上効果は得られないだけでなく、導電性インク組成物の単位重量当たりの金属銅の含有量が低下し、工業的に不利となるおそれがある。   Even if the concentration of the additive (E) exceeds 50% by weight, not only the improvement effect is not obtained, but also the content of metallic copper per unit weight of the conductive ink composition is reduced. However, it may be industrially disadvantageous.

次に本発明の導電性インク組成物を用いた電気的導通部位の製造方法[以下、表記を簡潔にするため、これを「本発明の製造方法」と称する。]について説明する。   Next, a method for producing an electrically conductive portion using the conductive ink composition of the present invention [hereinafter, for the sake of brevity, this is referred to as “the production method of the present invention”. ] Will be described.

本発明において、「電気的導通部位」とは、本発明の電気的導通部位の製造方法によって形成された電気的導通を有する部位を意味する。例えば、導電性薄膜、配線、電極、スルーホールを介した両面及び/又は多層間の電気的導通部位、基板と被接合物との電気的導通を有する接合部位等が挙げられる。   In the present invention, the “electrical conduction part” means a part having electrical conduction formed by the method for producing an electrical conduction part of the present invention. For example, a conductive thin film, a wiring, an electrode, an electrical conduction part between both surfaces and / or multilayers through a through hole, a joint part having electrical conduction between a substrate and an object to be joined, and the like can be given.

本発明の製造方法は、本発明の導電性インク組成物を、基材中の電気的導通を得たいと所望する部位に塗布又は充填し、当該基材を加熱処理することで行われる。例えば、本発明の導電性インク組成物を基材上に塗布した後に、加熱処理することによって、銅塩の微粒子(A)中に含まれる銅イオンを還元させると共に、配位性化合物(B)が揮発し除去され、当該基材上に電気的導通部位を容易に形成することができる。   The production method of the present invention is carried out by applying or filling the conductive ink composition of the present invention to a site where it is desired to obtain electrical continuity in the substrate, and subjecting the substrate to heat treatment. For example, after applying the conductive ink composition of the present invention on a substrate, the copper ion contained in the fine particles (A) of the copper salt is reduced by heat treatment, and the coordination compound (B). Is volatilized and removed, and an electrically conductive portion can be easily formed on the substrate.

具体的な製造方法としては、特に限定するものではないが、例えば、
(a)本発明の導電性インク組成物を基材上に塗布し、非酸化性雰囲気下で加熱処理して、導電性薄膜を形成する方法、
(b)本発明の導電性インク組成物を基材上にパターン塗布し、非酸化性雰囲気下で加熱処理して、配線及び/又は電極を形成する方法、
(c)本発明の導電性インク組成物を、基材に設けたスルーホールに充填し、非酸化性雰囲気下で加熱処理して、当該スルーホールを介した両面及び/又は多層間の電気的導通部位を形成する方法、
(d)本発明の導電性インク組成物を基材上に塗布した後、当該基材と被接合物とを密着させ、非酸化性雰囲気下で加熱処理して、当該基材と被接合物を接合させ、電気的導通部位を形成する方法、
等を挙げることができる。
The specific production method is not particularly limited, but for example,
(A) A method of forming a conductive thin film by applying the conductive ink composition of the present invention on a substrate and heat-treating it in a non-oxidizing atmosphere,
(B) A method in which the conductive ink composition of the present invention is applied onto a substrate in a pattern and heat-treated in a non-oxidizing atmosphere to form wiring and / or electrodes,
(C) The conductive ink composition of the present invention is filled in a through hole provided in a base material, and is heat-treated in a non-oxidizing atmosphere, so that electrical properties between both sides and / or multilayers through the through hole are obtained. A method of forming a conduction site;
(D) After applying the conductive ink composition of the present invention on a base material, the base material and the article to be joined are brought into close contact with each other, and heat-treated in a non-oxidizing atmosphere, thereby the base material and the article to be joined A method of forming an electrically conductive portion by bonding
Etc.

また、上記した以外の方法により電気的導通部位を形成しても一向に差し支えない。例えば、表面処理、洗浄、加熱、冷却、焼成、精製、濾過、分級、乾燥、及びその他薬液での処理等の工程を適宜実施することができる。   Moreover, even if the electrically conductive portion is formed by a method other than that described above, there is no problem. For example, steps such as surface treatment, washing, heating, cooling, baking, purification, filtration, classification, drying, and other treatment with a chemical solution can be appropriately performed.

本発明の製造方法において、基材としては、公知のものを用いることができ、特に限定するものではないが、例えば、樹脂、紙、ガラス、シリコン系半導体、化合物半導体、金属酸化物、金属窒化物、木材等からなる一種又は二種以上、若しくは二種以上の複合基材が挙げられる。   In the production method of the present invention, a known substrate can be used as the substrate, and is not particularly limited. For example, resin, paper, glass, silicon-based semiconductor, compound semiconductor, metal oxide, metal nitriding 1 type, 2 types or more, or 2 types or more composite base materials which consist of a thing, wood, etc. are mentioned.

具体的には、低密度ポリエチレン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、ABS樹脂(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合合成樹脂)、アクリル樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂(ポリエチレンテレフタレート)、ポリアセタール樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、セルロース誘導体等の樹脂基材;非塗工印刷用紙、微塗工印刷用紙、塗工印刷用紙(アート紙、コート紙)、特殊印刷用紙、コピー用紙(PPC用紙)、未晒包装紙(重袋用両更クラフト紙、両更クラフト紙)、晒包装紙(晒クラフト紙、純白ロール紙)、コートボール、チップボール、段ボール等の紙基材;ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、シリカガラス、石英ガラス等のガラス基材;アモルファスシリコン、ポリシリコン等のシリコン系半導体;CdS、CdTe、GaAs等の化合物半導体;銅板、鉄板、アルミ板等の金属基材;アルミナ、サファイア、ジルコニア、チタニア、酸化イットリウム、酸化インジウム、ITO(インジウム錫酸化物)、IZO(インジウム亜鉛酸化物)、ネサ(酸化錫)、ATO(アンチモンドープ酸化錫)、フッ素ドープ酸化錫、酸化亜鉛、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、ガリウムドープ酸化亜鉛、窒化アルミニウム基板、炭化ケイ素等のその他無機基材;紙−フェノール樹脂、紙−エポキシ樹脂、紙−ポリエステル樹脂等の紙−樹脂複合物、ガラス布−エポキシ樹脂、ガラス布−ポリイミド系樹脂、ガラス布−フッ素樹脂等のガラス−樹脂複合物等の複合基材等が挙げられる。   Specifically, low density polyethylene resin, high density polyethylene resin, ABS resin (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer synthetic resin), acrylic resin, styrene resin, vinyl chloride resin, polyester resin (polyethylene terephthalate), polyacetal resin, polysulfone Resin, polyetherimide resin, polyetherketone resin, cellulose derivatives and other resin base materials; uncoated printing paper, finely coated printing paper, coated printing paper (art paper, coated paper), special printing paper, copy paper (PPC paper), unbleached wrapping paper (both kraft paper for heavy bags, both kraft paper), bleached wrapping paper (bleached kraft paper, pure white roll paper), coated paper, chip ball, corrugated cardboard and other paper base materials; Glass substrates such as soda glass, borosilicate glass, silica glass, and quartz glass; Amorph Silicon-based semiconductors such as silicon and polysilicon; compound semiconductors such as CdS, CdTe, and GaAs; metal substrates such as copper plates, iron plates, and aluminum plates; alumina, sapphire, zirconia, titania, yttrium oxide, indium oxide, ITO (indium) Tin oxide), IZO (indium zinc oxide), Nesa (tin oxide), ATO (antimony-doped tin oxide), fluorine-doped tin oxide, zinc oxide, AZO (aluminum-doped zinc oxide), gallium-doped zinc oxide, aluminum nitride Substrate, other inorganic base materials such as silicon carbide; paper-phenol resin, paper-epoxy resin, paper-resin composite such as paper-polyester resin, glass cloth-epoxy resin, glass cloth-polyimide resin, glass cloth-fluorine Examples thereof include composite base materials such as glass-resin composites such as resins.

本発明の製造方法において、加熱処理は、非酸化性雰囲気下で行うことが好ましい。非酸化性雰囲気としては、例えば、ヘリウム、窒素、アルゴン等が挙げられる。これらの中でも安価なことから、窒素を用いることが好ましい。また、非酸化性雰囲気中には、形成された電気的導通部位の酸化に大きな影響を与えない程度ならば酸素を含んでいても良く、その濃度は、通常5000ppm以下であり、500ppm以下がさらに好ましい。   In the production method of the present invention, the heat treatment is preferably performed in a non-oxidizing atmosphere. Examples of the non-oxidizing atmosphere include helium, nitrogen, and argon. Among these, it is preferable to use nitrogen because it is inexpensive. In addition, the non-oxidizing atmosphere may contain oxygen as long as it does not significantly affect the oxidation of the formed electrical conduction site, and its concentration is usually 5000 ppm or less, and 500 ppm or less is further added. preferable.

本発明の製造方法において、加熱処理の温度は、導塩の微粒子(A)中の銅イオンが還元され、配位性化合物(B)が揮発し除去される温度であればよく、特に限定するものではないが、通常60〜300℃の範囲であり、80〜200℃の範囲がさらに好ましい。加熱処理の温度が60℃未満であると、銅塩の微粒子(A)中の銅イオンの還元が完全には進行しなかったり、また配位性化合物(B)の残存が顕著になるおそれがある。一方、300℃を超えると有機基材を利用できなくなるおそれがある。   In the production method of the present invention, the temperature of the heat treatment is not particularly limited as long as it is a temperature at which the copper ions in the fine particles (A) of the conductive salt are reduced and the coordination compound (B) is volatilized and removed. Although it is not a thing, it is the range of 60-300 degreeC normally, and the range of 80-200 degreeC is still more preferable. If the temperature of the heat treatment is less than 60 ° C., the reduction of the copper ions in the copper salt fine particles (A) may not proceed completely, or the remaining coordinating compound (B) may become prominent. is there. On the other hand, when it exceeds 300 ° C., the organic base material may not be used.

また、加熱処理の時間は、温度や所望する導電性により適宜選択すればよいが、200℃程度の加熱温度を設定した場合には、通常10〜60分程度である。   The heat treatment time may be appropriately selected depending on the temperature and desired conductivity, but is usually about 10 to 60 minutes when a heating temperature of about 200 ° C. is set.

本発明の製造方法において、本発明の導電性インク組成物を基材に塗布する方法としては、公知の方法によって行うことができ、特に限定するものではないが、例えば、スクリーン印刷法、ディップコーティング法、スプレー塗布法、スピンコーティング法、インクジェット法、ディスペンサーでの塗布法等が挙げられる。塗布の形状としては面状であっても、ドット状であっても、問題は無く、特に限定されない。導電性インク組成物を基材に塗布する塗布量としては、所望する電気的導通部位の膜厚に応じて適宜調整すればよいが、通常、乾燥後の導電性インク組成物の膜厚が0.01〜5000μmの範囲、好ましくは0.1〜1000μmの範囲となるよう塗布すれば良い。   In the production method of the present invention, the method for applying the conductive ink composition of the present invention to a substrate can be carried out by a known method, and is not particularly limited. For example, screen printing, dip coating, etc. Method, spray coating method, spin coating method, ink jet method, dispenser coating method and the like. There is no problem even if the shape of application is planar or dot-like, and there is no particular limitation. The coating amount for applying the conductive ink composition to the substrate may be appropriately adjusted according to the desired film thickness of the electrically conductive portion, but the film thickness of the conductive ink composition after drying is usually 0. The coating may be performed in the range of 0.01 to 5000 μm, preferably in the range of 0.1 to 1000 μm.

本発明の製造方法において、本発明の導電性インク組成物を基材に設けたスルーホールに充填する方法としては、公知の方法によって行うことができ、特に限定するものではないが、例えば、スクリーン印刷法、インクジェット法、ディスペンサーで注入する方法等が挙げられ、適宜選択して使用すればよい。   In the production method of the present invention, the method of filling the through hole provided in the substrate with the conductive ink composition of the present invention can be performed by a known method, and is not particularly limited. Examples thereof include a printing method, an ink jet method, a method of injecting with a dispenser, and the like.

本発明の製造方法は、様々な工業製品を製造する工程の一部として利用することができ、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有する工業製品を得ることができる。   The production method of the present invention can be used as a part of a process for producing various industrial products, and an industrial product having an electrically conductive portion partially or wholly produced by the production method of the present invention can be obtained. it can.

本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有する工業製品としては、特に限定するものではないが、例えば、有機エレクトロルミネッセンスパネル、プラズマディスプレイパネル、液晶パネル等の画像表示装置;LED(Light Emitting Diode)発光装置、及び有機エレクトロルミネッセンス発光装置等の発光装置;1層(片面)プリント配線基板、2層(両面)プリント配線基板、多層プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板等の回路基板;積層コンデンサ、固体電解コンデンサ等のコンデンサ;シリコン系太陽電池、化合物半導体系太陽電池、色素増感型太陽電池、有機半導体型太陽電池等の太陽電池;リチウム二次電池、ニッケル−水素二次電池等の二次電池;電波方式認識タグ;電磁波遮蔽シールド等が挙げられる。   The industrial product having an electrically conductive portion partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention is not particularly limited. For example, an image display device such as an organic electroluminescence panel, a plasma display panel, a liquid crystal panel, etc. Light emitting devices such as LED (Light Emitting Diode) light emitting devices and organic electroluminescence light emitting devices; 1 layer (single side) printed wiring boards, 2 layer (double sided) printed wiring boards, multilayer printed wiring boards, flexible printed wiring boards, etc. Circuit boards; capacitors such as multilayer capacitors and solid electrolytic capacitors; solar cells such as silicon solar cells, compound semiconductor solar cells, dye-sensitized solar cells, and organic semiconductor solar cells; lithium secondary batteries, nickel-hydrogen secondary Secondary batteries such as secondary batteries; Radio wave recognition tags An electromagnetic shielding shield or the like.

例えば、有機エレクトロルミネッセンスパネルとしては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、カソード電極及び/又はカソード電極の取出部を有する有機エレクトロルミネッセンスパネル;本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、スルーホールを介した電気的導通部位及び/又はスルーホールに接続する取出電極を有する有機エレクトロルミネッセンスパネル等が例示される。   For example, the organic electroluminescence panel is not particularly limited. Specifically, the organic electroluminescence panel having a cathode electrode and / or a cathode electrode extraction portion, which is partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention. Luminescence panel; organic electroluminescence panel having an extraction part connected to the through hole and / or an electrically conducting portion through the through hole, partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention.

また、プラズマディスプレイパネルとしては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、バス電極及び/又はアドレス電極を有するプラズマディスプレイパネル等が例示される。   Further, the plasma display panel is not particularly limited, but specifically, a plasma display panel having bus electrodes and / or address electrodes, which is partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention, is exemplified. Is done.

また、液晶パネルとしては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、対向電極及び/又は対向電極に接続する端子電極を有する液晶パネル等が例示される。   Further, the liquid crystal panel is not particularly limited, but specifically, a liquid crystal panel having a counter electrode and / or a terminal electrode connected to the counter electrode, partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention. Etc. are exemplified.

また、LED発光装置としては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、スルーホールを介した電気的導通部位、スルーホールに接続する電極、及び基板と発光ダイオード素子を接合させた電気的導通部位からなる群より選ばれる一種又は二種以上を有するLED発光装置等が例示される。   Further, the LED light emitting device is not particularly limited. Specifically, the LED light emitting device is connected to an electrically conductive portion or a through hole through a through hole, which is partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention. Examples of the LED light emitting device and the like include one or two or more selected from the group consisting of an electrode and an electrically conductive portion where a substrate and a light emitting diode element are joined.

また、有機エレクトロルミネッセンス発光装置としては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、カソード電極及び/又はカソード電極の取出部を有する有機エレクトロルミネッセンス発光装置;本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、スルーホールを介した電気的導通部位及び/又はスルーホールに接続する取出電極を有する有機エレクトロルミネッセンス発光装置等が例示される。   Further, the organic electroluminescence light emitting device is not particularly limited. Specifically, the organic electroluminescence light emitting device, which is partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention, has a cathode electrode and / or an extraction portion of the cathode electrode. An electroluminescence light emitting device; an organic electroluminescence light emitting device having an extraction part connected to the through hole and / or an electrically conducting portion through the through hole, partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention, and the like are exemplified. .

また、回路基板としては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、スルーホールを介した両面及び/又は多層間の電気的導通部位を有する、1層(片面)プリント配線基板、2層(両面)プリント配線基板、多層プリント配線基板、又はフレキシブルプリント配線基板;本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、基板と電子部品が接合した電気的導通部位を有する、1層(片面)プリント配線基板、2層(両面)プリント配線基板、多層プリント配線基板、又はフレキシブルプリント配線基板等が例示される。   In addition, the circuit board is not particularly limited, but specifically, a part or the whole manufactured by the manufacturing method of the present invention, the electrically conductive portion between both surfaces and / or multilayers through a through hole. A one-layer (single-sided) printed wiring board, a two-layer (double-sided) printed wiring board, a multilayer printed wiring board, or a flexible printed wiring board; a substrate and an electronic component that are partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention Examples include a one-layer (single-sided) printed wiring board, a two-layer (double-sided) printed wiring board, a multilayer printed wiring board, a flexible printed wiring board, and the like having an electrically conductive portion bonded to each other.

また、積層コンデンサとしては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、内部電極及び/又は外部電極を有する積層コンデンサ等が例示される。   In addition, the multilayer capacitor is not particularly limited, and specifically, a multilayer capacitor having an internal electrode and / or an external electrode, which is partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention, is exemplified. .

また、固体電解コンデンサとしては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した導電性薄膜層を陰極電極層に有する固体電解コンデンサ等が例示される。   In addition, the solid electrolytic capacitor is not particularly limited, and specific examples thereof include a solid electrolytic capacitor having a conductive thin film layer partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention as a cathode electrode layer. Is done.

また、太陽電池としては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、光入射側電極及び/又は裏面側電極を有する、シリコン系太陽電池、化合物半導体系太陽電池、色素増感型太陽電池、有機半導体型太陽電池等が例示される。   Further, the solar cell is not particularly limited, but specifically, a silicon-based solar cell having a light incident side electrode and / or a back side electrode manufactured partially or entirely by the manufacturing method of the present invention. Examples include batteries, compound semiconductor solar cells, dye-sensitized solar cells, and organic semiconductor solar cells.

また、二次電池としては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、電極タブと電極リードが接合した電気的導通部位を有する、リチウム二次電池、ニッケル−水素二次電池等が例示される。   In addition, the secondary battery is not particularly limited, and specifically, a part or the whole manufactured by the manufacturing method of the present invention has an electrically conductive portion where the electrode tab and the electrode lead are joined. Examples include lithium secondary batteries and nickel-hydrogen secondary batteries.

また、電波方式認識タグとしては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明のの製造方法により一部乃至全体を製造した、導電性薄膜、配線、及び電極からなる群より選ばれる一種又は二種以上からなるアンテナ及び/又は電子部品が接合した電気的導通部位を有する電波方式認識タグ等が例示される。   Further, the radio wave system recognition tag is not particularly limited, but specifically, it is selected from the group consisting of a conductive thin film, a wiring, and an electrode partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention. For example, a radio wave type recognition tag having an electrically conductive portion joined by one or two or more antennas and / or electronic components.

また、電磁波遮蔽シールドとしては、特に限定するものではないが、具体的には、本発明の製造方法により一部乃至全体を製造した、導電性薄膜、配線、及び電極からなる群より選ばれる一種又は二種以上からなる電気的導通部位を有する電磁波遮蔽シールド等が例示される。   Further, the electromagnetic wave shielding shield is not particularly limited, but specifically, a kind selected from the group consisting of a conductive thin film, a wiring, and an electrode partially or wholly manufactured by the manufacturing method of the present invention. Or the electromagnetic shielding shield etc. which have the electrical conduction | electrical_connection part which consists of 2 or more types are illustrated.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定して解釈されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not construed as being limited to these examples.

なお、以下の参考例において、微粒子の平均粒子径は、粒子サイズに応じて、透過型電子顕微鏡(TEM)又は走査型電子顕微鏡(SEM)を用い、観測した視野の中から、ランダムに3箇所選択し、50,000〜1,000,000倍の範囲における任意の倍率で撮影を行い、それぞれの写真から、粒子を計100個選択し、その直径をものさしで測り、測定倍率を除して粒子径を算出し、これらの値を算術平均することにより求めた。TEMは日本電子社製、商品名:JEM−2000FX、SEMは、日本電子社製、商品名:JSM T220Aを使用した。   In addition, in the following reference examples, the average particle diameter of the fine particles is randomly selected from three points in the field of view using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM) depending on the particle size. Select and shoot at an arbitrary magnification in the range of 50,000 to 1,000,000 times, select 100 particles in total from each photo, measure the diameter with a ruler, and divide the measurement magnification The particle diameter was calculated and obtained by arithmetically averaging these values. TEM manufactured by JEOL Ltd., trade name: JEM-2000FX, and SEM used by JEOL Ltd., trade name: JSM T220A.

また、元素分析はパーキンエルマー社製、全自動元素分析装置、商品名:2400IIにより測定し、H−NMRはVarian社製、商品名:Gemini−200により測定した。 Elemental analysis was measured by Perkin Elmer, fully automatic elemental analyzer, trade name: 2400II, and 1 H-NMR was measured by Varian, trade name: Gemini-200.

さらに、導電性インク組成物の粘度は、別途記載が無い限り、レオメーター(ティー・エイ・インスツルメント社製、商品名:ARレオメーター AR2000ex)を用い、測定温度30℃で測定した。   Furthermore, the viscosity of the conductive ink composition was measured at a measurement temperature of 30 ° C. using a rheometer (trade name: AR Rheometer AR2000ex, manufactured by TA Instruments Inc.) unless otherwise specified.

[参考例1] ギ酸銅微粒子の調製.
エタノール40gにギ酸銅粉末(一次平均粒子径21μm)2.24g、及びジルコニア製ビーズ(ニッカトー社製、商品名:YZT ボール、サイズ:Φ0.1mm)150gを添加し、攪拌用モーターに連結した攪拌羽を用い、周速10m/秒で、12時間攪拌し粉砕を行った。
[Reference Example 1] Preparation of copper formate fine particles.
To 40 g of ethanol, 2.24 g of copper formate powder (primary average particle size 21 μm) and 150 g of zirconia beads (made by Nikkato Co., Ltd., trade name: YZT ball, size: Φ0.1 mm) were added, and the stirring connected to a stirring motor. Using wings, the mixture was stirred for 12 hours at a peripheral speed of 10 m / sec and pulverized.

次にこのスラリー状の混合物を、目開き0.075mmの篩に通し、さらにエタノール160gで洗浄し、ジルコニア製ビーズを分離し、ギ酸銅微粒子分散体を得た。   Next, this slurry-like mixture was passed through a sieve having an opening of 0.075 mm and further washed with 160 g of ethanol to separate beads made of zirconia to obtain a copper formate fine particle dispersion.

このギ酸銅微粒子分散体をSEMで観測し、一次平均粒子径を求めたところ、210nmであった。次に、このギ酸銅微粒子分散体を、減圧条件で60℃を超えない温度で、エタノールと余分な水分を留去することで、ギ酸銅微粒子の粉末を1.68g得た。   This copper formate fine particle dispersion was observed with an SEM, and the primary average particle diameter was determined to be 210 nm. Next, 1.68 g of copper formate fine particle powder was obtained by distilling off ethanol and excess water from the copper formate fine particle dispersion at a temperature not exceeding 60 ° C. under reduced pressure conditions.

[参考例2] 銀微粒子分散液の調製.
アニリン10gに酢酸銀1.67gを加え、固形物が完全に溶解し、均一溶液となるまで約10分間40℃で攪拌した。続いて、水素化ホウ素ナトリウム0.37gを水1.63gに溶解させた溶液を、室温で30分間かけて滴下した。さらに室温で30分間攪拌し、窒素気流下分液ロートに移液した。相分離した下部の無色透明な水相を除去した後、10gのイオン交換水で洗浄し再び相分離した下部の水相を除去することで、黒色の銀微粒子分散体を得た。
[Reference Example 2] Preparation of silver fine particle dispersion.
To 10 g of aniline, 1.67 g of silver acetate was added and stirred at 40 ° C. for about 10 minutes until the solid was completely dissolved and became a homogeneous solution. Subsequently, a solution prepared by dissolving 0.37 g of sodium borohydride in 1.63 g of water was added dropwise at room temperature over 30 minutes. The mixture was further stirred at room temperature for 30 minutes and transferred to a separatory funnel under a nitrogen stream. After the phase-separated lower colorless and transparent aqueous phase was removed, washing with 10 g of ion-exchanged water and again removing the lower aqueous phase after phase separation yielded a black silver fine particle dispersion.

この銀微粒子分散体をTEMで観測し平均粒子径を求めたところ、9.2nm(標準偏差4.2、変動係数46%)であった。銀微粒子分散体を減圧下(120Pa)、80℃に加熱し留出物を除くことにより、銀微粒子を2.19g得た。元素分析の結果、得られた銀微粒子は46重量%の銀と、54重量%の有機成分から構成され、H−NMRによる解析結果より有機物の主成分はアニリンであった。 When this silver fine particle dispersion was observed with TEM and the average particle diameter was determined, it was 9.2 nm (standard deviation 4.2, coefficient of variation 46%). The silver fine particle dispersion was heated to 80 ° C. under reduced pressure (120 Pa) to remove distillate, thereby obtaining 2.19 g of silver fine particles. As a result of elemental analysis, the obtained silver fine particles were composed of 46% by weight of silver and 54% by weight of organic components, and the main component of the organic matter was aniline from the analysis result by 1 H-NMR.

[実施例1] ギ酸銅微粒子、及びn−オクチルアミンを含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gに、参考例1で得たギ酸銅微粒子(一次平均粒子径210nm)1.68g、及びn−オクチルアミンを0.65g添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧条件で60℃を超えない温度で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
[Example 1] Preparation of conductive ink composition containing copper formate fine particles and n-octylamine.
To 68 g of tetrahydrofuran, 1.68 g of the copper formate fine particles (primary average particle size 210 nm) obtained in Reference Example 1 and 0.65 g of n-octylamine were added, and kneaded sufficiently until the dispersion was completely dispersed in a mortar. From this slurry-like mixture, tetrahydrofuran and excess water were distilled off at a temperature not exceeding 60 ° C. under reduced pressure conditions to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は168Pa・sであり、元素分析の結果、25.6重量%の銅、36.8重量%のギ酸、37.4重量%のn−オクチルアミンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「ペーストA」と称する)。   The viscosity of the obtained conductive ink composition was 168 Pa · s, and as a result of elemental analysis, it contained 25.6 wt% copper, 36.8 wt% formic acid, 37.4 wt% n-octylamine. (Hereinafter, for the sake of brevity, this is referred to as “Paste A”).

[実施例2] ギ酸銅微粒子、2−エチルヘキシルアミン、及びターピネオールを含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gに、参考例1で得たギ酸銅微粒子(一次平均粒子径210nm)1.68g、2−エチルヘキシルアミン 0.65g、及びターピネオール 0.75gを添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧条件で60℃を超えない温度で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
[Example 2] Preparation of conductive ink composition containing copper formate fine particles, 2-ethylhexylamine, and terpineol.
Add 1.68 g of copper formate fine particles (primary average particle size 210 nm) obtained in Reference Example 1 to 0.6 g of tetrahydrofuran, 0.65 g of 2-ethylhexylamine, and 0.75 g of terpineol until 10 g of tetrahydrofuran is completely dispersed in the mortar. Kneaded thoroughly. From this slurry-like mixture, tetrahydrofuran and excess water were distilled off at a temperature not exceeding 60 ° C. under reduced pressure conditions to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は72Pa・sであり、元素分析の結果、20.8重量%の銅、29.9重量%のギ酸、23.1重量%の2−エチルヘキシルアミン、26.1重量%のターピネオールを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「ペーストB」と称する)。   The viscosity of the obtained conductive ink composition was 72 Pa · s. As a result of elemental analysis, 20.8 wt% copper, 29.9 wt% formic acid, 23.1 wt% 2-ethylhexylamine, 26 Contained 1% by weight of terpineol (hereinafter referred to as "Paste B" for the sake of brevity).

[実施例3] ギ酸銅微粒子、ヘキサメチレンイミン、及び銀微粒子を含有する導電性インク組成物の調製.
n−ヘキサン10gに、参考例1で得たギ酸銅微粒子(一次平均粒子径210nm)1.68g、参考例2で得た銀微粒子を0.15g、及びヘキサメチレンイミンを0.90g添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧条件で60℃を超えない温度で、ヘキサンと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
Example 3 Preparation of a conductive ink composition containing copper formate fine particles, hexamethyleneimine, and silver fine particles.
To 10 g of n-hexane, 1.68 g of copper formate fine particles (primary average particle diameter 210 nm) obtained in Reference Example 1, 0.15 g of silver fine particles obtained in Reference Example 2, and 0.90 g of hexamethyleneimine were added, The mixture was sufficiently kneaded until it was completely dispersed in a mortar. The slurry-like mixture was distilled off hexane and excess water at a temperature not exceeding 60 ° C. under reduced pressure conditions to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は144Pa・sであり、元素分析の結果、22.8重量%の銅、32.8重量%のギ酸、37.3重量%のヘキサメチレンイミン、4.2重量%の銀を含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「ペーストC」と称する)。   The resulting conductive ink composition had a viscosity of 144 Pa · s. As a result of elemental analysis, 22.8 wt% copper, 32.8 wt% formic acid, 37.3 wt% hexamethyleneimine, 4. It contained 2 wt% silver (hereinafter referred to as “Paste C” for the sake of brevity).

[実施例4] ギ酸銅微粒子、n−ヘキサンチオール、及び酢酸パラジウムを含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gに、参考例1で得たギ酸銅微粒子(一次平均粒子径210nm)1.68g、酢酸パラジウムを0.15g、及びn−ヘキサンチオールを0.98g添加し、乳鉢で完全に分散状態になるまで十分に混練した。このスラリー状の混合物を、減圧条件で60℃を超えない温度で、テトラヒドロフランと余分な水分を留去することで、ペースト状の導電性インク組成物を調製した。
[Example 4] Preparation of conductive ink composition containing copper formate fine particles, n-hexanethiol, and palladium acetate.
To 10 g of tetrahydrofuran, 1.68 g of the copper formate fine particles (primary average particle size 210 nm) obtained in Reference Example 1, 0.15 g of palladium acetate, and 0.98 g of n-hexanethiol were added, and the mixture was completely dispersed in a mortar. It knead | mixed fully until it became. From this slurry-like mixture, tetrahydrofuran and excess water were distilled off at a temperature not exceeding 60 ° C. under reduced pressure conditions to prepare a paste-like conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度は189Pa・sであり、元素分析の結果、21.6重量%の銅、31.1重量%のギ酸、42.0重量%のn−ヘキサンチオール、2.7重量%の酢酸、3.0重量%のパラジウムを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「ペーストD」と称する)。   The resulting conductive ink composition had a viscosity of 189 Pa · s. As a result of elemental analysis, 21.6 wt% copper, 31.1 wt% formic acid, 42.0 wt% n-hexanethiol, 2 It contained 0.7 wt% acetic acid and 3.0 wt% palladium (hereinafter referred to as "Paste D" for the sake of brevity).

[比較例1] ギ酸銅、及びn−ヘキシルアミンを含有する導電性インク組成物の調製.
テトラヒドロフラン10gにギ酸銅を2.24g、n−ヘキシルアミンを2.1g順次添加した。室温で、完全に溶解するまで10分間攪拌し、均一な溶液とした。この溶液を、0.5μmメンブランフィルターで濾過した後、得られた濾液中のテトラヒドロフランを、減圧濃縮により脱溶剤して、導電性インク組成物を調製した。
Comparative Example 1 Preparation of a conductive ink composition containing copper formate and n-hexylamine.
To 10 g of tetrahydrofuran, 2.24 g of copper formate and 2.1 g of n-hexylamine were sequentially added. The mixture was stirred at room temperature for 10 minutes until it was completely dissolved to obtain a uniform solution. This solution was filtered through a 0.5 μm membrane filter, and then the tetrahydrofuran in the obtained filtrate was desolvated by concentration under reduced pressure to prepare a conductive ink composition.

得られた導電性インク組成物の粘度をB型粘度計(東機産業社製、商品名:BL II)で測定した結果、4.9mPa・sであった。また、元素分析の結果、17.6重量%の銅、25.3重量%のギ酸、56.1重量%のn−ヘキシルアミンを含有していた(以下、表記を簡潔にするため、これを「ペーストE」と称する)。   It was 4.9 mPa * s as a result of measuring the viscosity of the obtained electroconductive ink composition with the B-type viscosity meter (The Toki Sangyo company make, brand name: BL II). In addition, as a result of elemental analysis, it contained 17.6% by weight of copper, 25.3% by weight of formic acid, and 56.1% by weight of n-hexylamine. Referred to as "Paste E").

[実施例5〜8、比較例2] 印刷性評価、導電性評価、及び形状安定性評価.
ガラス基材上に、ペーストA〜Dを、スクリーン印刷法(スクリーン仕様 メッシュ数:200、線径:40μm、織厚:115μm、目開き:87μm、空間率:46.9%、ペースト透過体積:53.94mg/cm)を用いてガラス基板に塗布し、幅2mm×長さ30mm、膜厚54μmの均一な塗布膜とした。
[Examples 5 to 8, Comparative Example 2] Printability evaluation, conductivity evaluation, and shape stability evaluation.
On a glass substrate, pastes A to D were subjected to a screen printing method (screen specification mesh number: 200, wire diameter: 40 μm, weave thickness: 115 μm, mesh opening: 87 μm, space ratio: 46.9%, paste permeation volume: 53.94 mg / cm 3 ) was applied to a glass substrate to form a uniform coating film having a width of 2 mm × a length of 30 mm and a film thickness of 54 μm.

次に、窒素ガスを6L/分の流量で流通した加熱炉で、これらペーストを塗布したガラス基材を30分間、加熱処理を行い、電気的導通部位を得た。各加熱温度を表1に示す。   Next, the glass substrate on which these pastes were applied was subjected to heat treatment for 30 minutes in a heating furnace in which nitrogen gas was circulated at a flow rate of 6 L / min to obtain an electrically conductive portion. Each heating temperature is shown in Table 1.

Figure 0005983805
形成された各電気的導通部位について、表面抵抗率を四探針抵抗測定機(三菱化学社製、商品名:ロレスタGP)にて測定した。
Figure 0005983805
About each formed electrical conduction site | part, the surface resistivity was measured with the four-point probe resistance measuring device (the Mitsubishi Chemical Corporation make, brand name: Loresta GP).

また、形成された各電気的導通部位を切断し、断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、各電気的導通部位の平均膜厚を評価した。すなわち、各電気的導通部位について、走査型電子顕微鏡(SEM)で観測した視野の中から、ランダムに3箇所選択し、5000倍の倍率で撮影を行い、それぞれの写真において、電気的導通部位の膜厚を計測し、これらの値を撮影倍率で除し、3箇所の膜厚を算術平均して得られた値を各電気的導通部位の平均膜厚とした。   Moreover, each formed electrical conduction site | part was cut | disconnected, the cross section was observed with the scanning electron microscope (SEM), and the average film thickness of each electrical conduction site | part was evaluated. That is, for each electrical conduction site, three locations were selected at random from the field of view observed with a scanning electron microscope (SEM) and photographed at a magnification of 5000 times. The film thickness was measured, and these values were divided by the photographing magnification, and the value obtained by arithmetically averaging the film thickness at the three locations was taken as the average film thickness at each electrically conducting portion.

印刷性の評価は、印刷したパターンの形状を目視で確認し、
断裂、欠け、にじみが無い場合:○,
断裂、欠け、にじみがある場合:×,
と評価した。
The printability is evaluated by visually checking the shape of the printed pattern.
If there is no tearing, chipping or bleeding: ○,
If there is tear, chipping, or bleeding: ×,
It was evaluated.

また、導電性の評価は、各電気的導通部位において、測定した表面抵抗率と、走査型電子顕微鏡(SEM)の観察結果から得られた平均膜厚から算出した体積抵抗率の比較により行った。   In addition, the electrical conductivity was evaluated by comparing the measured surface resistivity and the volume resistivity calculated from the average film thickness obtained from the observation result of the scanning electron microscope (SEM) at each electrically conductive portion. .

また、形状安定性については、各ペースト塗布時の塗布サイズからの加熱処理後の面積変化率で評価した。   Further, the shape stability was evaluated by the area change rate after the heat treatment from the application size at the time of applying each paste.

面積変化率(%)=[(加熱処理後面積/塗布時面積)−1]×100。     Area change rate (%) = [(area after heat treatment / area during application) −1] × 100.

導電性の評価は、各電気的導通部位において、表面抵抗率と走査型電子顕微鏡(SEM)の観察結果から得られた平均膜厚から算出した、体積抵抗率の比較により行った。   The electrical conductivity was evaluated by comparing the volume resistivity calculated from the surface resistivity and the average film thickness obtained from the observation result of the scanning electron microscope (SEM) in each electrically conductive portion.

これら評価の結果を表1に併せて示す。   The results of these evaluations are also shown in Table 1.

表1から明らかなとおり、実施例5〜8において、本発明の導電性インク組成物は、いずれも良好な印刷性を示し、断裂、欠け、にじみは全く見られなかった。また導電性に関しても、良好な導電性を示し、加熱処理前後の形状安定性も優れていた。   As is clear from Table 1, in Examples 5 to 8, all of the conductive ink compositions of the present invention exhibited good printability, and no tearing, chipping or bleeding was observed. Moreover, regarding electroconductivity, favorable electroconductivity was shown and the shape stability before and behind heat processing was also excellent.

これに対し、比較例2において、ギ酸銅が完全に溶解した溶液である導電性インク組成物は、粘度が低いため、断裂、欠け、にじみ等の印刷不良により、配線を均一に塗布できなかった。また導電性に関しては、導電性は大差ないものの、加熱処理前後の形状変化が大きかった。   On the other hand, in Comparative Example 2, the conductive ink composition, which was a solution in which copper formate was completely dissolved, had a low viscosity, so that the wiring could not be applied uniformly due to printing defects such as tearing, chipping, and bleeding. . Regarding conductivity, although the conductivity was not much different, the shape change before and after the heat treatment was large.

Claims (16)

還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩の微粒子(A)、アルカンチオール、脂肪族アミン、芳香族アミン、及び環状アミンからなる群より選ばれる一種又は二種以上の配位性化合物(B)及びヘキサノール、ターピネオール、メチル−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、n−ヘキサン、及びγ−ブチロラクトンからなる群より選ばれる一種又は二種以上の分散媒(D)を含有し、粘度が10〜300Pa・sの範囲である導電性インク組成物。 One or more coordination compounds selected from the group consisting of copper salt fine particles (A) comprising a carboxylic acid having reducing power and copper ions, alkanethiols, aliphatic amines, aromatic amines, and cyclic amines (B) and one or two or more types of dispersion medium (D) selected from the group consisting of hexanol, terpineol, methyl-t-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, n-hexane, and γ-butyrolactone, and having a viscosity. A conductive ink composition having a range of 10 to 300 Pa · s. 還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩が、ギ酸銅、ヒドロキシ酢酸銅、グリオキシル酸銅、乳酸銅、シュウ酸銅、酒石酸銅、リンゴ酸銅、及びクエン酸銅からなる群より選ばれる一種又は二種以上であることを特徴とする請求項1に記載の導電性インク組成物。 A copper salt composed of a carboxylic acid having a reducing power and a copper ion is selected from the group consisting of copper formate, copper hydroxyacetate, copper glyoxylate, copper lactate, copper oxalate, copper tartrate, copper malate, and copper citrate. The conductive ink composition according to claim 1, wherein the conductive ink composition is one kind or two or more kinds. 銅塩の微粒子(A)の一次平均粒子径が、1nm〜5μmの範囲であることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれかに記載の導電性インク組成物。 3. The conductive ink composition according to claim 1, wherein the primary average particle diameter of the copper salt fine particles (A) is in the range of 1 nm to 5 μm. 請求項1乃至請求項のいずれかに記載の導電性インク組成物を、基材中の電気的導通を得たいと所望する部位に塗布又は充填し、当該基材を加熱処理することを特徴とする電気的導通部位の製造方法。 A conductive ink composition according to any one of claims 1 to 3 is applied or filled in a desired portion of the base material to obtain electrical conduction, and the base material is heat-treated. The manufacturing method of the electrical conduction site. 基材が、樹脂、紙、ガラス、シリコン系半導体、化合物半導体、金属酸化物、金属窒化物、及び木材からなる群より選ばれる一種、又は二種以上の複合基材であることを特徴とする請求項に記載の電気的導通部位の製造方法。 The substrate is one or two or more composite substrates selected from the group consisting of resin, paper, glass, silicon-based semiconductor, compound semiconductor, metal oxide, metal nitride, and wood The manufacturing method of the electrically-conductive part of Claim 4 . 加熱処理の温度が60℃〜300℃の範囲であることを特徴とする請求項又は請求項に記載の電気的導通部位の製造方法。 The method for producing an electrically conductive portion according to claim 4 or 5 , wherein the temperature of the heat treatment is in the range of 60C to 300C. 非酸化性雰囲気で加熱処理を行うことを特徴とする請求項乃至請求項のいずれかに記載の電気的導通部位の製造方法。 The method for manufacturing an electrically conductive portion according to any one of claims 4 to 6 , wherein heat treatment is performed in a non-oxidizing atmosphere. 請求項乃至請求項のいずれかに記載の製造方法により形成された電気的導通部位。 Electrical conduction site formed by the manufacturing method according to any one of claims 4 to 7. 請求項乃至請求項のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする画像表示装置。 The process according to any one of claims 4 to 7, the image display device characterized by having a manufactured part or whole electrical conduction site. 請求項乃至請求項のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする発光装置。 The process according to any one of claims 4 to 7, the light emitting device characterized by having a manufactured part or whole electrical conduction site. 請求項乃至請求項のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする回路基板。 The process according to any one of claims 4 to 7, the circuit board characterized by having a manufactured part or whole electrical conduction site. 請求項乃至請求項のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とするコンデンサ。 The process according to any one of claims 4 to 7, a capacitor characterized in that it comprises a manufactured part or whole electrical conduction site. 請求項乃至請求項のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする太陽電池。 The process according to any one of claims 4 to 7, the solar cell characterized by having a manufactured part or whole electrical conduction site. 請求項乃至請求項のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする二次電池。 The process according to any one of claims 4 to 7, a secondary battery characterized by having a manufactured part or whole electrical conduction site. 請求項乃至請求項のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする電波方式認識タグ。 The process according to any one of claims 4 to 7, Radio Frequency Identification tags, characterized in that it comprises a manufactured part or whole electrical conduction site. 請求項乃至請求項のいずれかに記載の製造方法により、一部乃至全体を製造した電気的導通部位を有することを特徴とする電磁波遮蔽シールド。 The process according to any one of claims 4 to 7, the electromagnetic wave shielding shielding, characterized in that it comprises a manufactured part or whole electrical conduction site.
JP2015045012A 2015-03-06 2015-03-06 Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof Active JP5983805B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015045012A JP5983805B2 (en) 2015-03-06 2015-03-06 Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015045012A JP5983805B2 (en) 2015-03-06 2015-03-06 Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010115120A Division JP5866749B2 (en) 2010-05-19 2010-05-19 Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015147929A JP2015147929A (en) 2015-08-20
JP5983805B2 true JP5983805B2 (en) 2016-09-06

Family

ID=53891553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015045012A Active JP5983805B2 (en) 2015-03-06 2015-03-06 Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5983805B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111032912A (en) * 2017-07-25 2020-04-17 千住金属工业株式会社 Method for synthesizing copper-silver alloy, method for forming conductive part, copper-silver alloy, and conductive part
EP4086227A4 (en) * 2020-02-28 2024-01-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. Metal double salt liquid dispersion, method for producing metal double salt liquid dispersion, metal oxide nanoparticle liquid dispersion, and method for producing metal oxide nanoparticle liquid dispersion

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5980998A (en) * 1997-09-16 1999-11-09 Sri International Deposition of substances on a surface
EP1448725A4 (en) * 2001-10-05 2008-07-23 Cabot Corp Low viscosity precursor compositions and methods for the deposition of conductive electronic features
DE10325243A1 (en) * 2003-06-03 2004-12-23 Basf Ag Deposition of copper layers on substrates
WO2005101427A1 (en) * 2004-04-14 2005-10-27 Sukgyung A.T Co., Ltd Conducting metal nano particle and nano-metal ink containing it
JP2010047716A (en) * 2008-08-22 2010-03-04 Toyo Ink Mfg Co Ltd Electroconductive ink composition for screen printing and electroconductive coated film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111032912A (en) * 2017-07-25 2020-04-17 千住金属工业株式会社 Method for synthesizing copper-silver alloy, method for forming conductive part, copper-silver alloy, and conductive part
CN111032912B (en) * 2017-07-25 2021-03-09 千住金属工业株式会社 Method for synthesizing copper-silver alloy, method for forming conductive part, copper-silver alloy, and conductive part
US11217359B2 (en) 2017-07-25 2022-01-04 Senju Metal Industry Co., Ltd. Method for synthesizing copper-silver alloy, method for forming conduction part, copper-silver alloy, and conduction part
EP4086227A4 (en) * 2020-02-28 2024-01-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. Metal double salt liquid dispersion, method for producing metal double salt liquid dispersion, metal oxide nanoparticle liquid dispersion, and method for producing metal oxide nanoparticle liquid dispersion

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015147929A (en) 2015-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5866749B2 (en) Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof
JP5504734B2 (en) Conductive film forming composition and conductive film forming method
KR101207363B1 (en) Composition for Conductive Paste Containing Nanometer-Thick Metal Microplates
Lee et al. A low-cure-temperature copper nano ink for highly conductive printed electrodes
JP5632852B2 (en) Low temperature sinterable silver nanoparticle composition and electronic article formed using the composition
US8017044B2 (en) Bimodal metal nanoparticle ink and applications therefor
JP2012131894A (en) Electrically conductive ink composition and electric conduction part produced using the same
JP5441550B2 (en) Metal nanoparticle dispersion
JP2011122177A (en) Complex particulate, method for manufacturing the same, composition for forming conductive film using the same, and method for forming the conductive film
KR20070086915A (en) Method for forming metal thin film, and metal thin film
JP2011034750A (en) Composition for conductive film formation and conductive film formation method
WO2014112683A1 (en) Conductive ink composition and method for forming electrode using the same
WO2013099818A1 (en) Silver fine particles, production process therefor, and conductive paste, conductive membrane and electronic device, containing said silver fine particles
JP5439827B2 (en) Copper fine particle dispersion and method for producing the same
WO2013145953A1 (en) Liquid composition, metal film, conductive wiring line, and method for producing metal film
JP5924481B2 (en) Method for producing silver fine particles, silver fine particles obtained by the method for producing silver fine particles, and conductive paste containing the silver fine particles
TW201402252A (en) Silver microparticles, method for producing same, and electronic device, conductive film, and conductive paste containing said silver microparticles
JP5983805B2 (en) Conductive ink composition, method for producing electrically conductive portion, and use thereof
JP2012126814A (en) Conductive ink composition, and method for producing electrically conductive site
JP5776180B2 (en) Conductive ink composition and electrically conducting portion produced using the same
JP2012031478A (en) Silver fine particle and method of manufacturing the same, conductive paste containing the silver fine particle, conductive film, and electronic device
JP2012126815A (en) Conductive ink composition, and method for producing the same
CN103702786A (en) Fine silver particles, conductive paste containing fine silver particles, conductive film and electronic device
JP5876749B2 (en) Conductive substance precursor composition and method for producing conductive substance using the same
JP2016145397A (en) Producing method of copper membrane and conductor obtained thereby

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20151221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160105

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160303

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160705

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160718

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5983805

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151