JP5394729B2 - 磁気記憶媒体製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 - Google Patents
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Description
基板上に、キュリー温度が600K以下となるように磁性膜を形成する磁性膜形成過程と、
前記磁性膜に対し、所定の保護領域を除いた他の領域に対して局所的にイオンを注入するイオン注入過程とを有することを特徴とする磁気記憶媒体製造方法。
前記磁性膜形成過程が、前記磁性膜を、該磁性膜のキュリー温度が600K以下となる膜厚で形成する過程であることを特徴とする付記1記載の磁気記憶媒体製造方法。
前記イオン注入過程が、前記保護領域として、前記磁性膜が広がる方向に規則的に配列した複数箇所を用いて、該複数箇所の相互間に対して局所的にイオンを注入する過程であることを特徴とする付記1又は2記載の磁気記憶媒体製造方法。
前記イオン注入過程が、前記イオンとして、酸素イオン及び窒素イオンのうちいずれか一方のイオンを用いる過程であることを特徴とする付記1から3のうちいずれか1項記載の磁気記憶媒体製造方法。
前記磁性膜上に、前記保護領域へのイオンの注入を阻害するマスクを形成するマスク形成過程を有し、
前記イオン注入過程が、前記マスクが形成された磁性膜の上からイオンを当てることで、該マスクで保護された保護領域を除いた他の領域に対して局所的に該イオンを注入する過程であることを特徴とする付記1から4のうちいずれか1項記載の磁気記憶媒体製造方法。
前記マスク形成過程が、前記マスクをレジストで形成する過程であることを特徴とする付記5記載の磁気記憶媒体製造方法。
前記マスク形成過程が、前記マスクをレジストで、ナノインプリントプロセスによって形成する過程であることを特徴とする付記5又は6記載の磁気記憶媒体製造方法。
基板と、
前記基板上に、キュリー温度が600K以下となるように形成された磁性膜を有し情報が磁気的に記録される磁性部と、
前記磁性部の磁性膜と連続した磁性膜にイオンが注入されてなる被注入膜を有し該磁性部の飽和磁化よりも小さい飽和磁化を有する低磁性部とを備えたことを特徴とする磁気記憶媒体。
前記磁性部が、前記基板上に規則的に複数配列された、各々に情報が磁気的に記録される磁性ドットであり、
前記低磁性部が、前記磁性ドットの相互間に設けられた、該磁性ドット相互の磁気的結合を阻害するドット間分断帯であることを特徴とする付記8記載の磁気記憶媒体。
基板と、該基板上に、キュリー温度が600K以下となるように形成された磁性膜を有し情報が磁気的に記録される磁性部と、該磁性部の磁性膜と連続した磁性膜にイオンが注入されてなる被注入膜を有し該磁性部の飽和磁化よりも小さい飽和磁化を有する低磁性部とを備えた磁気記憶媒体と、
前記磁気記憶媒体に近接あるいは接触して磁性部に磁気的に情報の記録及び/又は再生を行う磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記磁気記憶媒体表面に対して相対的に移動させて、該磁気ヘッドによる情報の記録及び/又は再生となる磁性部上に該磁気ヘッドを位置決めするヘッド位置制御機構とを備えたことを特徴とする情報記憶装置。
前記磁気記憶媒体の磁性部が、前記基板上に規則的に複数配列された、各々に情報が磁気的に記録される磁性ドットであり、
前記低磁性部が、前記磁性ドットの相互間に設けられた、該磁性ドット相互の磁気的結合を阻害するドット間分断帯であることを特徴とする付記10記載の情報記憶装置。
10 磁気ディスク
61 ガラス基板
62 磁性膜
62a Coの原子層
62b Pdの原子層
Claims (9)
- 基板上に、キュリー温度が600K以下となるように、Co/Pd人工格子構造の磁性膜およびCo−Cr−Pt合金製の磁性膜のうち少なくとも一方を形成する磁性膜形成過程と、
前記磁性膜に対し、所定の保護領域を除いた他の領域に対して局所的にイオンを注入するイオン注入過程とを有することを特徴とする磁気記憶媒体製造方法。 - 前記磁性膜形成過程が、前記磁性膜を、該磁性膜のキュリー温度が600K以下となる膜厚で形成する過程であることを特徴とする請求項1記載の磁気記憶媒体製造方法。
- 前記イオン注入過程が、前記保護領域として、前記磁性膜が広がる方向に規則的に配列した複数箇所を用いて、該複数箇所の相互間に対して局所的にイオンを注入する過程であることを特徴とする請求項1又は2記載の磁気記憶媒体製造方法。
- 前記イオン注入過程が、前記イオンとして、酸素イオン及び窒素イオンのうちいずれか一方のイオンを用いる過程であることを特徴とする請求項1から3のうちいずれか1項記載の磁気記憶媒体製造方法。
- 前記磁性膜上に、前記保護領域へのイオンの注入を阻害するマスクを形成するマスク形成過程を有し、
前記イオン注入過程が、前記マスクが形成された磁性膜の上からイオンを当てることで、該マスクで保護された保護領域を除いた他の領域に対して局所的に該イオンを注入する過程であることを特徴とする請求項1から4のうちいずれか1項記載の磁気記憶媒体製造方法。 - 前記マスク形成過程が、前記マスクをレジストで形成する過程であることを特徴とする請求項5記載の磁気記憶媒体製造方法。
- 前記マスク形成過程が、前記マスクをレジストで、ナノインプリントプロセスによって形成する過程であることを特徴とする請求項5又は6記載の磁気記憶媒体製造方法。
- 基板と、
前記基板上に、キュリー温度が600K以下となるように形成された、Co/Pd人工格子構造の磁性膜およびCo−Cr−Pt合金製の磁性膜のうち少なくとも一方を有し情報が磁気的に記録される磁性部と、
前記磁性部の磁性膜と連続した磁性膜にイオンが注入されてなる被注入膜を有し該磁性部の飽和磁化よりも小さい飽和磁化を有する低磁性部とを備え、
前記低磁性部には1×10 16 atoms/cm 2 以上1×10 17 atoms/cm 2 以下の酸素イオンおよび窒素イオンのいずれかが注入され、該低磁性部のキュリー温度は400K以上420K以下である
ことを特徴とする磁気記憶媒体。 - 基板と、該基板上に、キュリー温度が600K以下となるように形成された、Co/Pd人工格子構造の磁性膜およびCo−Cr−Pt合金製の磁性膜のうち少なくとも一方を有し情報が磁気的に記録される磁性部と、該磁性部の磁性膜と連続した磁性膜にイオンが注入されてなる被注入膜を有し該磁性部の飽和磁化よりも小さい飽和磁化を有する低磁性部とを備え、該低磁性部には1×10 16 atoms/cm 2 以上1×10 17 atoms/cm 2 以下の酸素イオンおよび窒素イオンのいずれかが注入され、該低磁性部のキュリー温度は400K以上420K以下である磁気記憶媒体と、
前記磁気記憶媒体に近接あるいは接触して磁性部に磁気的に情報の記録及び/又は再生を行う磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記磁気記憶媒体表面に対して相対的に移動させて、該磁気ヘッドによる情報の記録及び/又は再生となる磁性部上に該磁気ヘッドを位置決めするヘッド位置制御機構とを備えたことを特徴とする情報記憶装置。
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