JP5386480B2 - 光検出器を非線形領域へ強制することにより検査システムの検出範囲を拡張する検査システムと方法 - Google Patents
光検出器を非線形領域へ強制することにより検査システムの検出範囲を拡張する検査システムと方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5386480B2 JP5386480B2 JP2010509444A JP2010509444A JP5386480B2 JP 5386480 B2 JP5386480 B2 JP 5386480B2 JP 2010509444 A JP2010509444 A JP 2010509444A JP 2010509444 A JP2010509444 A JP 2010509444A JP 5386480 B2 JP5386480 B2 JP 5386480B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stages
- photodetector
- inspection system
- potential difference
- output signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9501—Semiconductor wafers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J43/00—Secondary-emission tubes; Electron-multiplier tubes
- H01J43/04—Electron multipliers
- H01J43/06—Electrode arrangements
- H01J43/18—Electrode arrangements using essentially more than one dynode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J43/00—Secondary-emission tubes; Electron-multiplier tubes
- H01J43/04—Electron multipliers
- H01J43/30—Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/12—Circuits of general importance; Signal processing
- G01N2201/124—Sensitivity
- G01N2201/1241—Multirange
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/12—Circuits of general importance; Signal processing
- G01N2201/127—Calibration; base line adjustment; drift compensation
- G01N2201/12746—Calibration values determination
- G01N2201/12769—Calibration values determination and adjusting controls, e.g. zero and 100 %
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
本発明の第1の形態は、検査システムであって、
試料へ光を指向するように設定された照明サブシステムと、
前記試料から散乱される光を検出するように設定された検出サブシステムと、
を備え、
該検出サブシステムが、
前記散乱光を受け取り、出力信号に変換するように結合された複数のステージを有する光検出器と、
前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージを意図的に飽和させることで前記光検出器の検出範囲を拡張するように接続された電圧分割ネットワークと、
を備え、
前記光検出器の前記出力信号は、前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージが飽和した場合にも前記光検出器のアノードから出力される、
検査システムである。
本発明は以下の適用例としても実現可能である。
[適用例1]
検査システムであって、
試料へ光を指向するように設定された照明サブシステムと、
前記試料から散乱される光を検出するように設定された検出サブシステムと、
を備え、
該検出サブシステムが、
前記散乱光を受け取り、出力信号に変換するように結合された複数のステージを有する光検出器と、
前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージを飽和させることで前記光検出器の検出範囲を拡張するように接続された電圧分割ネットワークと、
を備えることを特徴とする検査システム。
[適用例2]
適用例1に記載の検査システムであって、
前記電圧分割ネットワークが、
前記光検出器の入力に最近接の第一のセットのステージの個々のステージ間の第一の電位差と、
前記第一の電位差に対し実質的に高いか、実質的に低い、前記光検出器の出力に最近接の第二のセットのステージの個々のステージ間の第二の電位差と、
前記第一の電位差に対し実質的に低い、前記第一と第二のセットの間において近接する二つのステージ間の第三の電位差と、
を生成するように設定されたことを特徴とする検査システム。
[適用例3]
適用例2に記載の検査システムであって、
前記第二の電位差が、前記第一の電位差の凡そ50〜400%である範囲から選択されることを特徴とする検査システム。
[適用例4]
適用例2に記載の検査システムであって、
前記第三の電位差が、前記第一の電位差の凡そ5〜50%である範囲から選択されることを特徴とする検査システム。
[適用例5]
適用例2に記載の検査システムであって、
前記第一と第二のセットのステージが、所望の検出範囲と所望の検出解像度をもたらすように設定されたことを特徴とする検査システム。
[適用例6]
適用例5に記載の検査システムであって、
最大の検出範囲が、大部分のステージを前記第一のセット内に含め、より少ないステージを前記第二のセット内に含めることで、提供されることを特徴とする検査システム。
[適用例7]
適用例6に記載の検査システムであって、
前記第二のセット内のステージ数を増やし、そして前記第一セット内のステージ数を減らすことにより検出範囲を犠牲にすることで検出解像度が増加されることを特徴とする検査システム。
[適用例8]
適用例1に記載の検査システムであって、さらに、
前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージを飽和させることにより生成される非線形効果を除去するために出力信号を較正し、
前記較正された出力信号を用いて、前記試料の特徴、欠陥、または光散乱特性を検出する、
ように設定されたプロセッサを備えることを特徴とする検査システム。
[適用例9]
適用例8に記載の検査システムであって、
前記光検出器により生成された出力信号を散乱光の実際量に相関づけるように設定された予め計算された値表を用いることにより、前記出力信号が較正されることを特徴とする検査システム。
[適用例10]
適用例9に記載の検査システムであって、
前記試料の検出された特徴、欠陥、または光散乱特性のサイズを決定するために、散乱光の実際量が、前記プロセッサにより使用されることを特徴とする検査システム。
[適用例11]
試料からの散乱光を出力に変換するように設定された複数のステージを有する光検出器を備える検査システムの検出範囲を増加する方法であって、
前記光検出器へ供給された場合に、前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージを意図的に飽和させる電圧配分を選択すること、
前記少なくとも一つのステージを意図的に飽和させることにより生成される非線形効果を除去するために、前記光検出器の出力信号の範囲を散乱光の実際量に相関づける値表を生成すること、
前記光検出器により生成される次の出力信号を較正するために前記値表を使用すること、
を含む方法。
[適用例12]
適用例11に記載の方法であって、
前記選択ステップが、
前記光検出器の入力に最近接の第一のセットのステージの個々のステージ間の第一の電位差を選択し、
前記第一の電位差に対し実質的に高いか、実質的に低い、前記光検出器の出力に最近接の第二のセットのステージの個々のステージ間の第二の電位差を選択し、
前記第一の電位差に対し実質的に低い、前記第一と第二のセットの間において近接する二つのステージ間の第三の電位差を選択すること、
を含むことを特徴とする方法。
[適用例13]
適用例12に記載の方法であって、
前記第二の電位差が、前記第一の電位差の凡そ50〜400%である範囲から選択されることを特徴とする方法。
[適用例14]
適用例12に記載の方法であって、
前記第三の電位差が、前記第一の電位差の凡そ5−50%である範囲から選択されることを特徴とする方法。
[適用例15]
適用例12に記載の方法であって、
前記選択ステップが、更に、前記第一セット内に含まれるべき幾つかのステージを選択し、前記第二セット内に含まれるべき幾つかのステージを選択することを含むことを特徴とする方法。
[適用例16]
適用例15に記載の方法であって、
大部分のステージを前記第一のセット内に含め、より少ないステージを前記第二のセット内に含めることで、最大の検出範囲が提供されることを特徴とする方法。
[適用例17]
適用例16に記載の方法であって、
前記第二のセット内のステージ数を増やし、そして前記第一セット内のステージ数を減らすことにより検出範囲を犠牲にすることで検出解像度が増加されることを特徴とする方法。
[適用例18]
適用例11に記載の方法であって、
前記値表を生成するステップが、
既知の光散乱特性を有するパーティクルの既知のセットが形成された試験ウエハーに光を指向すること、
前記光検出器と選択された電位配分を用いて既知のパーティクル・セットからの散乱光を検出するとともに、光検出器出力信号の範囲を取得すること、
前記試験ウエハーからの既知の光散乱特性を用いて、前記光検出器出力信号の範囲を散乱光の実際量に変換するように算術的フィッティングと補間アルゴリズムを適用すること、
個々の光検出器出力信号を対応する実際の光の量に相関づけることで前記値表を生成すること、
を含むことを特徴とする方法。
[適用例19]
適用例18に記載の方法であって、
前記値表を生成するステップが、更に、個々の光検出器出力信号を対応する既知の光の散乱特性に相関づけることを特徴とする方法。
[適用例20]
適用例18に記載の方法であって、
前記既知の光の散乱特性が、パーティクルの既知のセットの個々のパーティクル・サイズを含むことを特徴とする方法。
[適用例21]
適用例18に記載の方法であって、
前記算術的フィッティングと補間アルゴリズムが、線形フィッティングと補間アルゴリズム、及び、多項式フィッティングと補間アルゴリズム、を含むグループより選択されるものであることを特徴とする方法。
[適用例22]
試料の検査方法であって、
前記試料へ光を指向することと、
前記試料からの散乱光を検出することを含み、
ここで、該検出が、
複数のステージを有し、前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージを意図的に飽和させるために印加される電位配分を有する光検出器からの出力信号を受信すること、
前記少なくとも一つのステージを意図的に飽和させることにより生じる非線形効果を意図的に除去するために出力信号を較正すること、
前記較正された出力信号を使用して、前記試料の特徴、欠陥、または光散乱特性を検出すること、
を含むことを特徴とする試料の検査方法。
[適用例23]
適用例22に記載の方法であって、
前記出力信号を較正するステップは、出力信号の範囲を散乱光の実際量に相関づける値表に前記出力信号を比較することを特徴とする方法。
[適用例24]
適用例23に記載の方法であって、
前記値表は、前記光検出器と一つの特定の電位配分とに関して予め計算されているものであることを特徴とする方法。
[適用例25]
適用例23に記載の方法であって、
前記値表は、前記光検出器と幾つかの異なる電位配分とに関して予め計算されているものであることを特徴とする方法。
[適用例26]
適用例23に記載の方法であって、
前記較正された出力信号を使用するステップは、前記出力信号に対応する散乱光の実際量を用いて、前記試料の特徴、欠陥、または光散乱特性のサイズを決定することを含むことを特徴とする方法。
散乱光を検出するために光電子増倍管が使用される。
Claims (26)
- 検査システムであって、
試料へ光を指向するように設定された照明サブシステムと、
前記試料から散乱される光を検出するように設定された検出サブシステムと、
を備え、
該検出サブシステムが、
前記散乱光を受け取り、出力信号に変換するように結合された複数のステージを有する光検出器と、
前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージを意図的に飽和させることで前記光検出器の検出範囲を拡張するように接続された電圧分割ネットワークと、
を備え、
前記光検出器の前記出力信号は、前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージが飽和した場合にも前記光検出器のアノードから出力される、
検査システム。 - 請求項1に記載の検査システムであって、
前記電圧分割ネットワークが、
前記光検出器の入力に最近接の第一のセットのステージの個々のステージ間の第一の電位差と、
前記第一の電位差に対し実質的に高いか、実質的に低い、前記光検出器の出力に最近接の第二のセットのステージの個々のステージ間の第二の電位差と、
前記第一の電位差に対し実質的に低い、前記第一と第二のセットの間において近接する二つのステージ間の第三の電位差と、
を生成するように設定されたことを特徴とする検査システム。 - 請求項2に記載の検査システムであって、
前記第二の電位差が、前記第一の電位差の凡そ50〜400%である範囲から選択されることを特徴とする検査システム。 - 請求項2に記載の検査システムであって、
前記第三の電位差が、前記第一の電位差の凡そ5〜50%である範囲から選択されることを特徴とする検査システム。 - 請求項2に記載の検査システムであって、
前記第一と第二のセットのステージが、所望の検出範囲と所望の検出解像度をもたらすように設定されたことを特徴とする検査システム。 - 請求項5に記載の検査システムであって、
最大の検出範囲が、大部分のステージを前記第一のセット内に含め、より少ないステージを前記第二のセット内に含めることで、提供されることを特徴とする検査システム。 - 請求項6に記載の検査システムであって、
前記第二のセット内のステージ数を増やし、そして前記第一セット内のステージ数を減らすことにより検出範囲を犠牲にすることで検出解像度が増加されることを特徴とする検査システム。 - 請求項1に記載の検査システムであって、さらに、
前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージを飽和させることにより生成される非線形効果を除去するために出力信号を較正し、
前記較正された出力信号を用いて、前記試料の特徴、欠陥、または光散乱特性を検出する、
ように設定されたプロセッサを備えることを特徴とする検査システム。 - 請求項8に記載の検査システムであって、
前記光検出器により生成された出力信号を散乱光の実際量に相関づけるように設定された予め計算された値表を用いることにより、前記出力信号が較正されることを特徴とする検査システム。 - 請求項9に記載の検査システムであって、
前記試料の検出された特徴、欠陥、または光散乱特性のサイズを決定するために、散乱光の実際量が、前記プロセッサにより使用されることを特徴とする検査システム。 - 試料からの散乱光を出力に変換するように設定された複数のステージを有する光検出器を備える検査システムの検出範囲を増加する方法であって、
前記光検出器へ供給された場合に、前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージを意図的に飽和させる電圧配分を選択すること、
前記少なくとも一つのステージを意図的に飽和させることにより生成される非線形効果を除去するために、前記光検出器の出力信号の範囲を散乱光の実際量に相関づける値表を生成すること、
前記光検出器により生成される次の出力信号を較正するために前記値表を使用すること、
を含み、
前記光検出器の前記出力信号は、前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージが飽和した場合にも前記光検出器のアノードから出力される、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記選択ステップが、
前記光検出器の入力に最近接の第一のセットのステージの個々のステージ間の第一の電位差を選択し、
前記第一の電位差に対し実質的に高いか、実質的に低い、前記光検出器の出力に最近接の第二のセットのステージの個々のステージ間の第二の電位差を選択し、
前記第一の電位差に対し実質的に低い、前記第一と第二のセットの間において近接する二つのステージ間の第三の電位差を選択すること、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項12に記載の方法であって、
前記第二の電位差が、前記第一の電位差の凡そ50〜400%である範囲から選択されることを特徴とする方法。 - 請求項12に記載の方法であって、
前記第三の電位差が、前記第一の電位差の凡そ5−50%である範囲から選択されることを特徴とする方法。 - 請求項12に記載の方法であって、
前記選択ステップが、更に、前記第一セット内に含まれるべき幾つかのステージを選択し、前記第二セット内に含まれるべき幾つかのステージを選択することを含むことを特徴とする方法。 - 請求項15に記載の方法であって、
大部分のステージを前記第一のセット内に含め、より少ないステージを前記第二のセット内に含めることで、最大の検出範囲が提供されることを特徴とする方法。 - 請求項16に記載の方法であって、
前記第二のセット内のステージ数を増やし、そして前記第一セット内のステージ数を減らすことにより検出範囲を犠牲にすることで検出解像度が増加されることを特徴とする方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記値表を生成するステップが、
既知の光散乱特性を有するパーティクルの既知のセットが形成された試験ウエハーに光を指向すること、
前記光検出器と選択された電位配分を用いて既知のパーティクル・セットからの散乱光を検出するとともに、光検出器出力信号の範囲を取得すること、
前記試験ウエハーからの既知の光散乱特性を用いて、前記光検出器出力信号の範囲を散乱光の実際量に変換するように算術的フィッティングと補間アルゴリズムを適用すること、
個々の光検出器出力信号を対応する実際の光の量に相関づけることで前記値表を生成すること、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項18に記載の方法であって、
前記値表を生成するステップが、更に、個々の光検出器出力信号を対応する既知の光の散乱特性に相関づけることを特徴とする方法。 - 請求項18に記載の方法であって、
前記既知の光の散乱特性が、パーティクルの既知のセットの個々のパーティクル・サイズを含むことを特徴とする方法。 - 請求項18に記載の方法であって、
前記算術的フィッティングと補間アルゴリズムが、線形フィッティングと補間アルゴリズム、及び、多項式フィッティングと補間アルゴリズム、を含むグループより選択されるものであることを特徴とする方法。 - 試料の検査方法であって、
前記試料へ光を指向することと、
前記試料からの散乱光を検出することを含み、
ここで、該検出が、
複数のステージを有し、前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージを意図的に飽和させるために印加される電位配分を有する光検出器からの出力信号を受信すること、
前記少なくとも一つのステージを意図的に飽和させることにより生じる非線形効果を意図的に除去するために出力信号を較正すること、
前記較正された出力信号を使用して、前記試料の特徴、欠陥、または光散乱特性を検出すること、
を含み、
前記光検出器の前記出力信号は、前記複数のステージのうちの少なくとも一つのステージが飽和した場合にも前記光検出器のアノードから出力される、試料の検査方法。 - 請求項22に記載の方法であって、
前記出力信号を較正するステップは、出力信号の範囲を散乱光の実際量に相関づける値表に前記出力信号を比較することを特徴とする方法。 - 請求項23に記載の方法であって、
前記値表は、前記光検出器と一つの特定の電位配分とに関して予め計算されているものであることを特徴とする方法。 - 請求項23に記載の方法であって、
前記値表は、前記光検出器と幾つかの異なる電位配分とに関して予め計算されているものであることを特徴とする方法。 - 請求項23に記載の方法であって、
前記較正された出力信号を使用するステップは、前記出力信号に対応する散乱光の実際量を用いて、前記試料の特徴、欠陥、または光散乱特性のサイズを決定することを含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/751,293 | 2007-05-21 | ||
US11/751,293 US7746462B2 (en) | 2007-05-21 | 2007-05-21 | Inspection systems and methods for extending the detection range of an inspection system by forcing the photodetector into the non-linear range |
PCT/US2008/063541 WO2008144318A1 (en) | 2007-05-21 | 2008-05-13 | Inspection systems and methods for extending the detection range of an inspection system by forcing the photodetector into the non-linear range |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010528287A JP2010528287A (ja) | 2010-08-19 |
JP5386480B2 true JP5386480B2 (ja) | 2014-01-15 |
Family
ID=39684107
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010509444A Active JP5386480B2 (ja) | 2007-05-21 | 2008-05-13 | 光検出器を非線形領域へ強制することにより検査システムの検出範囲を拡張する検査システムと方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7746462B2 (ja) |
JP (1) | JP5386480B2 (ja) |
WO (1) | WO2008144318A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013036576A1 (en) * | 2011-09-07 | 2013-03-14 | Kla-Tencor Corporation | Transmissive-reflective photocathode |
US9091666B2 (en) * | 2012-02-09 | 2015-07-28 | Kla-Tencor Corp. | Extended defect sizing range for wafer inspection |
JP6151505B2 (ja) * | 2012-10-30 | 2017-06-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光検出ユニットおよびその製造方法 |
US10438339B1 (en) | 2016-09-12 | 2019-10-08 | Apple Inc. | Optical verification system and methods of verifying micro device transfer |
JP7360687B2 (ja) * | 2019-05-21 | 2023-10-13 | 株式会社昭和電気研究所 | ウエハ検査装置 |
US20230314336A1 (en) | 2022-03-31 | 2023-10-05 | Kla Corporation | Multi-mode optical inspection |
US11922619B2 (en) | 2022-03-31 | 2024-03-05 | Kla Corporation | Context-based defect inspection |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2353573C2 (de) * | 1973-10-25 | 1975-10-09 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen | Schaltungsanordnung für Sekundärelektronenvervielfacher |
JPH09243546A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 異物検査装置 |
US6002122A (en) * | 1998-01-23 | 1999-12-14 | Transient Dynamics | High-speed logarithmic photo-detector |
US6657714B2 (en) * | 2001-09-24 | 2003-12-02 | Applied Materials, Inc. | Defect detection with enhanced dynamic range |
US6833913B1 (en) * | 2002-02-26 | 2004-12-21 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Apparatus and methods for optically inspecting a sample for anomalies |
US7109463B2 (en) * | 2002-07-29 | 2006-09-19 | Applied Materials, Inc. | Amplifier circuit with a switching device to provide a wide dynamic output range |
US6841936B2 (en) * | 2003-05-19 | 2005-01-11 | Ciphergen Biosystems, Inc. | Fast recovery electron multiplier |
JP2005091815A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線画像読取装置 |
JP3926362B2 (ja) | 2003-10-24 | 2007-06-06 | エーディーイー コーポレーション | 半導体ウエーハ検査システムにおける半導体ウエーハ表面上の欠陥のサイズを判定する方法 |
US20070242269A1 (en) * | 2004-03-06 | 2007-10-18 | Michael Trainer | Methods and apparatus for determining characteristics of particles |
JP2005276488A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Chube Univ | 光電子増倍管信号処理装置及びそれを用いたイメージングプレート信号処理装置 |
WO2007011630A2 (en) | 2005-07-14 | 2007-01-25 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Systems, circuits and methods for reducing thermal damage and extending the detection range of an inspection system by avoiding detector and circuit saturation |
US7436508B2 (en) * | 2005-07-14 | 2008-10-14 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Systems, circuits and methods for reducing thermal damage and extending the detection range of an inspection system |
US7423250B2 (en) * | 2005-07-14 | 2008-09-09 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Systems, circuits and methods for extending the detection range of an inspection system by avoiding circuit saturation |
-
2007
- 2007-05-21 US US11/751,293 patent/US7746462B2/en active Active
-
2008
- 2008-05-13 JP JP2010509444A patent/JP5386480B2/ja active Active
- 2008-05-13 WO PCT/US2008/063541 patent/WO2008144318A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010528287A (ja) | 2010-08-19 |
US7746462B2 (en) | 2010-06-29 |
US20080291454A1 (en) | 2008-11-27 |
WO2008144318A1 (en) | 2008-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7436508B2 (en) | Systems, circuits and methods for reducing thermal damage and extending the detection range of an inspection system | |
JP5722824B2 (ja) | 検出器と回路の飽和を避けることにより検査システムの熱破損を削減して、検出範囲を拡張するためのシステム、回路、方法 | |
US7777875B2 (en) | Systems, circuits and methods for extending the detection range of an inspection system by avoiding detector saturation | |
JP5386480B2 (ja) | 光検出器を非線形領域へ強制することにより検査システムの検出範囲を拡張する検査システムと方法 | |
US7423250B2 (en) | Systems, circuits and methods for extending the detection range of an inspection system by avoiding circuit saturation | |
WO2019159334A1 (ja) | 欠陥検査装置 | |
US8294887B1 (en) | Fast laser power control with improved reliability for surface inspection | |
US8134698B1 (en) | Dynamic range extension in surface inspection systems | |
TWI798270B (zh) | 產生及測量電子束之系統及方法 | |
US9157866B2 (en) | Light source device, surface inspecting apparatus using the device, and method for calibrating surface inspecting apparatus using the device | |
US9941103B2 (en) | Bias-variant photomultiplier tube | |
KR20040107950A (ko) | 웨이퍼 휨 측정 방법 | |
TWI842960B (zh) | 用於光電倍增管影像校正之系統及方法 | |
US20230351553A1 (en) | Shot noise reduction using frame averaging | |
TW202420368A (zh) | 用於在檢測期間對偵測器上之粒子進行計數之系統及方法 | |
KR20100038014A (ko) | 반도체 기판 검사장치 및 그 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110421 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120528 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130809 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130910 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131007 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5386480 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |