TWI842960B

TWI842960B - 用於光電倍增管影像校正之系統及方法

Info

Publication number: TWI842960B
Application number: TW109134347A
Authority: TW
Inventors: 德瑞克麥凱
Original assignee: 美商科磊股份有限公司
Priority date: 2019-10-03
Filing date: 2020-10-05
Publication date: 2024-05-21

Abstract

本發明揭示一種光電倍增管(PMT)偵測器總成，其包含一PMT及一類比PMT偵測器電路。該PMT包含經組態以回應於吸收光子而發射一組初始光電子之一光電陰極。該PMT包含具有複數個二次射極之一二次射極鏈。該二次射極鏈經組態以接收該組初始光電子、產生至少一組放大光電子及導引該至少一組放大光電子。該PMT包含經組態以接收該至少一組放大光電子之一陽極，其中基於該組最後放大光電子之一量測產生一數位化影像。藉由將由該類比PMT偵測器電路量測之信號之一輸出應用於該數位化影像來校正該數位化影像。

Description

用於光電倍增管影像校正之系統及方法

本發明大體上係關於光電倍增管偵測器，且更特定言之，本發明係關於一種用於光電倍增器影像校正之系統及方法。

隨著半導體裝置之需求增加，改良裝置特徵化能力之需要亦將不斷增加。常用於光學特徵化方法中之一技術包含實施一光電倍增管(PMT)偵測器。一般而言，光電倍增管偵測器係電磁光譜之UV、可見及近紅外範圍內之光之敏感偵測器。因此，PMT廣泛用於半導體裝置特徵化程序。

PMT放大非常小光信號。當光撞擊一PMT之一陰極時，產生一光電子且使光電子朝向一接收二次射極加速。接著，接收二次射極放大光電子且導引其朝向一第二二次射極。此程序透過一系列二次射極持續，直至在一陽極處收集放大光電子信號。

PMT之頻寬由一橫過時間伸展(tts)管控。若光之一δ函數入射於PMT之陰極上，則陽極處所收集之電荷之時間伸展與PMT之頻寬成比例。在陽極處收集意謂頻寬由陽極處所收集之電荷之伸展限制。

因而，提供一種彌補上文所識別之方法之缺點之系統及方法將係有利的。

根據本發明之一或多個實施例，揭示一種偵測器總成。在一實施例中，該偵測器總成包含一光電倍增管。在另一實施例中，該光電倍增管包含經組態以吸收光子之一光電陰極。在另一實施例中，該光電陰極經進一步組態以回應於吸收該等光子而發射一組初始光電子。在另一實施例中，該光電倍增管包含一二次射極鏈。在另一實施例中，該二次射極鏈包含複數個二次射極。在另一實施例中，該二次射極鏈經組態以接收該組初始光電子。在另一實施例中，該二次射極鏈經組態以自該組初始光電子產生至少一組放大光電子。在另一實施例中，該至少一組放大光電子包含大於該組初始光電子之光電子數目。在另一實施例中，該二次射極鏈經組態以導引該至少一組放大光電子。在另一實施例中，該光電倍增管包含經組態以接收由該二次射極鏈導引之該至少一組放大光電子之一陽極。在另一實施例中，在該陽極處量測該所接收之至少一組放大光電子。在另一實施例中，基於該經量測之至少一組放大光電子產生數位化影像。在另一實施例中，該偵測器總成包含經組態以量測該二次射極鏈之一信號之一類比光電倍增管偵測器電路。在另一實施例中，該類比光電倍增管偵測器電路包含可操作地耦合至該複數個二次射極之至少一二次射極之一電容器。在另一實施例中，該類比光電倍增管偵測器電路包含可操作地耦合至該電容器之一交流電(AC)耦合類比轉數位轉換器(ADC)。在另一實施例中，藉由將由該類比光電倍增管偵測器電路量測之該信號之一輸出應用於該數位化影像來校正該數位化影像。

根據本發明之一或多個實施例，揭示一種特徵化系統。在一實施例中，該特徵化系統包含經組態以照射一樣本表面之一部分之一照明源。在另一實施例中，該特徵化系統包含一偵測器總成。在另一實施例中，該偵測器總成包含一光電倍增管。在另一實施例中，該光電倍增管包含經組態以吸收光子之一光電陰極。在另一實施例中，該光電陰極經進一步組態以回應於吸收該等光子而發射一組初始光電子。在另一實施例中，該光電倍增管包含一二次射極鏈。在另一實施例中，該二次射極鏈包含複數個二次射極。在另一實施例中，該二次射極鏈經組態以接收該組初始光電子。在另一實施例中，該二次射極鏈經組態以自該組初始光電子產生至少一組放大光電子。在另一實施例中，該至少一組放大光電子包含大於該組初始光電子之光電子數目。在另一實施例中，該二次射極鏈經組態以導引該至少一組放大光電子。在另一實施例中，該光電倍增管包含經組態以接收由該二次射極鏈導引之該至少一組放大光電子之一陽極。在另一實施例中，在該陽極處量測該所接收之至少一組放大光電子。在另一實施例中，基於該經量測之至少一組放大光電子產生一數位化影像。在另一實施例中，該偵測器總成包含經組態以量測該二次射極鏈之一信號之一類比光電倍增管偵測器電路。在另一實施例中，該類比光電倍增管偵測器電路包含可操作地耦合至該複數個二次射極之至少一二次射極之一電容器。在另一實施例中，該類比光電倍增管偵測器電路包含可操作地耦合至該電容器之一交流電(AC)耦合類比轉數位轉換器(ADC)。在另一實施例中，藉由將由該類比光電倍增管偵測器電路量測之該信號之一輸出應用於該數位化影像來校正該數位化影像。

根據本發明之一或多個實施例，揭示一種偵測器總成。在一實施例中，該偵測器總成包含一光電倍增管。在另一實施例中，該光電倍增管包含經組態以吸收光子之一光電陰極。在另一實施例中，該光電陰極經進一步組態以回應於吸收該等光子而發射一組初始光電子。在另一實施例中，該光電倍增管包含經組態以接收該組初始光電子之一二次射極鏈。在另一實施例中，該二次射極鏈包含複數個二次射極。在另一實施例中，該複數個二次射極包含一初始二次射極。在另一實施例中，該初始二次射極經組態以接收該組初始光電子。在另一實施例中，該初始二次射極經組態以放大該組初始光電子以產生一第一組放大光電子。在另一實施例中，該第一組放大光電子包含大於該組初始光電子之光電子數目。在另一實施例中，該複數個二次射極包含至少一中間二次射極。在另一實施例中，該至少一中間二次射極經組態以接收該第一組放大光電子。在另一實施例中，該至少一中間二次射極經組態以進一步放大該第一組放大光電子以產生至少一組中間放大光電子。在另一實施例中，該至少一組中間放大光電子包含大於該第一組放大光電子之光電子數目。在另一實施例中，該複數個二次射極包含一最後二次射極。在另一實施例中，該最後二次射極經組態以接收該至少一組中間放大光電子。在另一實施例中，該最後二次射極經組態以進一步放大該至少一組中間放大光電子以產生一組最後放大光電子。在另一實施例中，該組最後光電子包含大於該至少一組中間放大光電子之光電子數目。在另一實施例中，該光電倍增管包含經組態以自該二次射極鏈接收由該最後二次射極導引之該組最後放大光電子之一陽極。在另一實施例中，在該陽極處量測該所接收之最後放大光電子組。在另一實施例中，基於該經量測之最後放大光電子組產生一數位化影像。在另一實施例中，該偵測器總成包含經組態以量測該二次射極鏈之一信號之一類比光電倍增管偵測器電路。在另一實施例中，該類比光電倍增管偵測器電路包含可操作地耦合至該至少一中間二次射極之一電容器。在另一實施例中，該類比光電倍增管偵測器電路包含可操作地耦合至該電容器之一交流電(AC)耦合類比轉數位轉換器(ADC)。在另一實施例中，藉由將由該類比光電倍增管偵測器電路量測之該信號之一輸出應用於該數位化影像來校正該數位化影像。

應瞭解，以上一般描述及以下詳細描述兩者僅供例示及說明且未必限制本發明。併入本說明書中且構成本說明書之一部分之附圖繪示本發明之實施例且與一般描述一起用於闡釋本發明之原理。

100:曲線圖

102:信號

110:曲線圖

120:曲線圖

200:光電倍增管(PMT)偵測器總成

202:PMT

204:光電陰極

206:光子

208:光電子

208a:光電子

208b:光電子

208c:光電子

210:二次射極鏈

212a:二次射極

212b:二次射極

212c:二次射極

214:陽極

216:數位PMT偵測器電路

218:對數放大器(log amp)

220:類比轉數位轉換器(ADC)

222:類比PMT偵測器電路

224:交流電(AC)耦合ADC

226:電容器

300:曲線圖

302:陽極信號

304:類比空間二次射極信號

310:曲線圖

312:類比空間二次射極信號

320:曲線圖

322:補償信號

400:方法/程序

402:步驟

404:步驟

406:步驟

408:步驟

500:方法/程序

502:步驟

504:步驟

506:步驟

508:步驟

510:步驟

600:特徵化系統/檢測系統

602:照明源

604:樣本

606:樣本載台

608:照明光學器件

610:收集光學器件

612:控制器

熟習技術者可藉由參考附圖來較佳理解本發明之諸多優點，其中：圖1A係繪示根據本發明之一或多個實施例之以電壓對時間為函數之一陽極處所量測之一信號的一曲線圖；圖1B係繪示根據本發明之一或多個實施例之以電壓對時間為函數之一陽極處所量測之一信號的一曲線圖；圖1C係繪示根據本發明之一或多個實施例之以電壓對時間為函數之一陽極處所量測之一信號的一曲線圖；圖2A繪示根據本發明之一或多個實施例之包含類比空間中之一拉普拉斯(Laplacian)算子之一光電倍增管偵測器總成之一簡化示意圖；圖2B繪示根據本發明之一或多個實施例之包含類比空間中之一拉普拉斯算子之一光電倍增管偵測器總成之一簡化示意圖；圖2C繪示根據本發明之一或多個實施例之包含類比空間中之一拉普拉斯算子之一光電倍增管偵測器總成之一簡化示意圖；圖3A係繪示根據本發明之一或多個實施例之以電壓對時間為函數之一陽極處所量測之一信號及經由類比空間中之一拉普拉斯算子所量測之一信號的一曲線圖；圖3B係繪示根據本發明之一或多個實施例之以電壓對時間為函數之一陽極處所量測之一信號及經由類比空間中之一拉普拉斯算子所量測之一信號的一曲線圖；圖3C係繪示根據本發明之一或多個實施例之以電壓對時間為函數之一陽極處所量測之一信號及經由類比空間中之一拉普拉斯算子所量測之一信號的一曲線圖；圖4係根據本發明之一或多個實施例之用於使用包含類比空間中之一拉普拉斯算子之一光電倍增管偵測器總成之一方法或程序；圖5係根據本發明之一或多個實施例之用於使用包含類比空間中之一拉普拉斯算子之一光電倍增管偵測器總成之一方法或程序；及圖6繪示根據本發明之一或多個實施例之配備包含類比空間中之一拉普拉斯算子之一光電倍增管偵測器總成之一特徵化系統之一方塊圖。

相關申請案之交叉參考

本申請案根據35 U.S.C.§ 119(e)規定主張名叫Derek Mackay之發明者於2019年10月3日申請之名稱為「PHOTOMULTIPLIER IMAGE SHARPENING USING A LAPLACIAN OPERATOR IN ANALOG SPACE」之美國臨時專利申請案之權利，該案之全部內容以引用的方式併入本文中。

已相對於本發明之特定實施例及具體特徵特別展示及描述本發明。本文所闡述之實施例應被視為具繪示性而非限制性。一般技術者應易於明白，可在不背離本發明之精神及範疇之情況下對形式及細節進行各種改變及修改。現將詳細參考附圖中所繪示之揭示標的。

大體上參考圖1A至圖6，描述根據本發明之一或多個實施例之用於光電倍增管影像校正之一系統及方法。

數位影像處理技術可用於由包含一光電倍增管(PMT)偵測器之一特徵化系統取得之一最終數位化影像上。PMT之頻寬由一橫過時間伸展(tts)管控。若光之一δ函數入射於PMT之陰極上，則陽極處所收集之電荷之時間伸展與PMT之頻寬成比例。在陽極處收集意謂頻寬由陽極處所收集之電荷之伸展限制。例如，透過PMT提高一處理速度會沖掉陽極處所取得之數位化影像。

一數位影像處理技術包含將一拉普拉斯算子應用於最終數位化影像以顯現數位化影像之額外細節。方程式1繪示一函數f之拉普拉斯算子：

可藉由自原始影像減去拉普拉斯算子來產生數位化影像之一更清晰版本，如方程式2中所繪示：f _sharpened=f _original-β△f 方程式2

然而，在此應注意，可藉由包含(但不限於)乘法之任何數目或類型之數學運算產生數位化影像之一校正版本。

獲得數位化影像之額外細節及/或校正(例如包含(但不限於)清晰化)數位化影像之一權衡包含將雜訊添加或增加至經處理數位化影像中。圖1A至圖1C繪示使用拉普拉斯算子處理數位化影像之結果。例如，圖1A係繪示以電壓(V)對時間(以奈秒(ns)為單位)為函數之一陽極處所量測之一信號102(例如原始信號)的一曲線圖100。另外，圖1B係繪示以電壓(V)對時間(ns)為函數之信號102之一階導數的一曲線圖110。此外，圖1C係繪示以電壓(V)對時間(ns)為函數之信號102之二階導數的一曲線圖120。如基於圖1A至圖1C之一比較所理解，各採用信號102之導數將額外雜訊引入至信號102及因此數位化影像中。據此而言，採用數位化影像之拉普拉斯算子本身不足以在不添加一難以控制之雜訊量之情況下提高PMT之頻寬。

本發明之實施例係針對一PMT偵測器總成，其具有一較高頻寬以在不使解析度降級之情況下導致一特徵化系統之一增加處理量。本發明之實施例亦係針對在PMT偵測器之一二次射極處進行量測。本發明之實施例亦係針對在PMT偵測器之二次射極處量測以允許經由類比空間中之一拉普拉斯算子進行影像校正。

圖2A至圖2C繪示根據本發明之一或多個實施例之一PMT偵測器總成200之一簡化示意圖。在此應注意，為了本發明，「PMT偵測器總成」及包含(但不限於)「偵測器總成」、「總成」或其類似者之術語之變體可被視為等效的。

在一實施例中，總成200包含一PMT 202。在另一實施例中，PMT 202包含一光電陰極204。在一實施例中，光電陰極204吸收光子206之一或多個部分且接著回應於吸收光子206之一或多個部分而發射光電子208之一或多個部分。例如，光電陰極204可包含適合於在光電陰極204之一表面處吸收光子206及自光電陰極204之對置表面發射光電子 208之一透射型光電陰極。舉另一實例而言，光電陰極204可包含適合於在一表面處吸收光子206及自光電陰極204之相同表面發射光電子208之一反射型光電陰極。在此應注意，光電陰極204可經組態以自傾斜入射角及/或法向入射角吸收光子206。

在另一實施例中，PMT 202包含一二次射極鏈210中之一或多個二次射極。例如，二次射極鏈210可包含經組態以接收自光電陰極204發出之光電子208a之一二次射極212a。例如，二次射極212a可經組態以接收自光電陰極204發出之一單一光電子208a。在另一實施例中，二次射極鏈210包含一或多個二次射極212b。例如，一第一二次射極212b可經組態以放大光電子208a之電流(例如經由二次發射)，使得自第一二次射極212b發出之光電子208b之電流大於光電子208a之電流(例如包含更大或更多光電子208b)。舉另一實例而言，隨著電流通過PMT 202之二次射極鏈210且撞擊至少一額外二次射極212b，至少一額外二次射極212b可進一步放大光電子208b之電流。一般而言，二次射極鏈210可包含1個、2個至多達N個二次射極212b以將光電子208b之電流放大至所要位準。在另一實施例中，二次射極鏈可包含一二次射極212c，其中二次射極212c可經配置以將一光電子208c之放大電流輸出導引出二次射極鏈210。在此應注意，為了本發明，「二次射極鏈」、「二次射極通道」及/或「偏壓鏈」可被視為等效的。

在此應注意，二次射極鏈210可包含二次射極之一線性(或對正)配置(例如使得PMT 202係一對正PMT)、二次射極之一圓形(或側向)配置(例如使得PMT 202係一側向PMT)或二次射極之任何其他配置。另外，在此應注意，二次射極212a、212b、212c之一或多者可包含一平面，可包含在一凸或凹方向上彎曲之一表面，或可包含具有平面及曲面之一組合之多個區段。

在此應注意，二次射極鏈210之二次射極212a、212b、212c之一或多者可經由輸送至二次射極鏈210之各二次射極之電壓之一或多者、經由二次射極鏈210之二次射極之間的電阻位準及/或經由二次射極鏈210之二次射極之間的電容位準控制。

在此應注意，為了本發明，二次射極鏈210可被視為包含光電子可在由二次射極212a、212b、212c導引時通過之一光電子路徑。

儘管本發明之實施例將至少一些二次射極212a、212b、212c繪示為經組態以放大光電子208a、208b、208c之電流，但在此應注意，至少一些二次射極212a、212b、212c可經組態以維持光電子208a、208b、208c之電流。然而，在此應注意，二次射極鏈210可僅包含經組態以放大通過二次射極鏈210之光電子之二次射極212a、212b、212c。因此，以上描述不應被解譯為限制本發明之範疇，而是僅為一說明。

在另一實施例中，PMT 202包含一陽極214。例如，陽極214可經磷光體塗佈。在另一實施例中，二次射極212c經配置以將一光電子208c之放大電流輸出導引出二次射極鏈210以撞擊陽極214，使得陽極214充當一收集器。

在另一實施例中，陽極214經組態以量測一或多個二次射極212a、212b、212c下游及/或一或多個二次射極212a、212b、212c之後的二次射極鏈210之一信號。在另一實施例中，由陽極214基於二次射極鏈210之量測信號產生一數位化影像。

在此應注意，陽極214可適合於將光電子208c之電流轉換為一或多個光信號。例如，陽極214可由一或多個放大光電子電流通電。另外，在此應注意，陽極214可耦合至一或多個偵測器。例如，一或多個偵測器可包含本技術中已知之任何偵測器，諸如(但不限於)一電荷耦合裝置(CCD)偵測器或一互補金屬氧化物半導體(CMOS)偵測器。

儘管PMT 202在圖2A至圖2C中繪示為包含一單一二次射極鏈210，但在此應注意，PMT 202可包含任何數目個二次射極鏈210，其包含1個、2個至多達N個二次射極鏈210，其中各二次射極鏈210包含一或多個二次射極。另外，在此應注意，二次射極鏈210及所包含之二次射極可完全分離(例如獨立)，可分離但交織，或可操作地耦合在一起(例如短接在一起)。

另外，儘管PMT 202在圖2A至圖2C中繪示為包含一單一光電陰極204，但在此應注意，PMT 202可包含任何數目個光電陰極204，其包含1個、2個至多達N個光電陰極204。一般而言，任何數目個光電陰極204可導致任何數目個二次射極鏈210。因此，以上描述不應被解譯為限制本發明之範疇，而是僅為一說明。

此外，儘管PMT 202在圖2A至圖2C中繪示為包含一單一陽極214，但在此應注意，PMT 202包含任何數目個陽極214，其包含1個、2個至多達N個陽極214。一般而言，任何數目個二次射極鏈210可導致任何數目個陽極214。因此，以上描述不應被解譯為限制本發明之範疇，而是僅為一說明。

在此應注意，為了本發明，「可操作地耦合」可包含(但不限於)實體耦合、電耦合、光學耦合、通信地耦合或其類似者。

在另一實施例中，總成200包含一數位PMT偵測器電路 216。例如，數位PMT偵測器電路216可操作地耦合至陽極214且經組態以自陽極214處所取得之原始數位化影像產生一最終數位化影像。在另一實施例中，數位PMT偵測器電路216可包含可操作地耦合至陽極214之一對數放大器(log amp)218及可操作地耦合至對數放大器218之一類比轉數位轉換器(ADC)220。例如，陽極214可將一量測信號傳輸至對數放大器218，對數放大器218接著將信號傳遞至ADC 220以產生最終數位化影像。在一實例中，可將拉普拉斯算子應用於此最終數位化影像以導致分別如圖1A至圖1C中所繪示之曲線圖100、110、120。在此應注意，數位PMT偵測器電路216可內建至PMT 202中或可為在PMT 202就位時經由PMT 202之一或多個桿銷可操作地耦合之一單獨電路。

在另一實施例中，總成200包含一類比PMT偵測器電路222。在另一實施例中，類比PMT偵測器電路222包含一ADC 224。例如，ADC 224可包含一交流電(AC)耦合ADC 224。在另一實施例中，類比PMT偵測器電路222包含可操作地耦合至ADC 224(例如使其成為AC耦合ADC 224)之一或多個電容器226，其中一或多個電容器226可濾除DC分量。

在一實例中，當二次射極鏈210中存在10個二次射極(例如二次射極212a、8個二次射極212b及二次射極212c)時，類比PMT偵測器電路222可操作地耦合至第八二次射極D8(例如在二次射極鏈210中與二次射極212c相距兩個位置之二次射極212b)。此處，光電子208b之電流可在第八二次射極D8處離開二次射極鏈210，且通過電容器226而到達AC耦合ADC 224。

在此應注意，二次射極鏈210不受限於圖2A至圖2C中所繪示之二次射極212a、212b、212c，而是可視需要包含任何數目個二次射極來放大光電子208a、208b及/或208c。因此，以上描述不應被解譯為限制本發明之範疇，而是僅為一說明。

在另一實施例中，類比PMT偵測器電路222可操作地耦合至二次射極鏈210之一二次射極。例如，定位於陽極214之前的二次射極鏈210中之一二次射極212a、212b、212c處所量測之一電壓信號可為二次射極212b處之光電子208b之電流之信號之一導數。例如，一電容器226可操作為二次射極鏈210之信號(例如包含光電子208a、208b、208c)之一類比空間一階導數。另外，AC耦合ADC 224可操作為二次射極鏈210之信號(例如包含光電子208a、208b、208c)之一類比空間二階導數或拉普拉斯算子。

返回至十二次射極實例，類比PMT偵測器電路222可操作地耦合至第八二次射極D8。若在第八二次射極D8處量測而非在陽極214處量測，則二次射極D8處之信號可具有高於陽極214處所量測之信號之一頻寬，因為光電子208b之電流具有小於陽極214處之光電子208c之電流之伸展。一般而言，此可被視為適用於類比PMT偵測器電路222可操作地耦合之任何二次射極處之一信號之任何量測。

然而，在此應注意，所得信號之強度可取決於類比PMT偵測器電路222可操作地耦合之二次射極鏈210之二次射極。例如，將類比PMT偵測器電路222耦合至二次射極鏈210上之一太遠二次射極(例如太靠近光電陰極204)可要求量測信號需要一額外增強(例如經由一或多個放大組件)，因為光電子208a或208b之電流本身可能不夠強且信號將太小。

在另一實施例中，藉由將由類比PMT偵測器電路222量測之信號之輸出應用於數位化影像來校正(例如包含(但不限於)清晰化)陽極214處所取得之數位化影像。

可藉由自數位化影像減去由類比PMT偵測器電路222量測之信號之輸出來校正數位化影像。例如，可藉由自數位化影像減去AC耦合ADC 224處所量測之二階導數或拉普拉斯算子來校正數位化影像。例如，可藉由自數位化影像減去AC耦合ADC 224處所量測之二階導數或拉普拉斯算子來清晰化數位化影像。在此應注意，AC耦合ADC 224處所量測之二階導數或拉普拉斯算子可在自數位化影像減去之前進行按比例調整或移位之至少一者。

可藉由使由類比PMT偵測器電路222量測之信號之輸出與數位化影像相乘來校正數位化影像。舉另一實例而言，可藉由使AC耦合ADC 224處所量測之二階導數或拉普拉斯算子與數位化影像相乘來校正數位化影像。例如，可藉由使AC耦合ADC 224處所量測之二階導數或拉普拉斯算子與數位化影像相乘來清晰化數位化影像。在此應注意，AC耦合ADC 224處所量測之二階導數或拉普拉斯算子可在與數位化影像相乘之前進行按比例調整或移位之至少一者。

一般而言，校正數位化影像可涉及經由任何數目或類型之數學運算組合數位化影像與AC耦合ADC 224處所量測之二階導數或拉普拉斯算子。

圖3A至圖3C繪示一類比空間拉普拉斯算子對一二次射極212b處所量測之一光電子208b之電流之一實例性應用之結果。例如，圖3A係繪示以電壓(V)對時間(以奈秒(ns)為單位)為函數之一陽極信號302及二次射極鏈210之一特定二次射極處所取得之AC耦合電壓之一類比空間二次射極信號304的一曲線圖300。另外，圖3B係繪示以電壓(V)對時間(ns)為函數之陽極信號302及類比空間二次射極信號312之一經處理(例如垂直按比例調整及對準)版本的一曲線圖310。此外，圖3C係繪示以電壓(V)對時間(ns)為函數之陽極信號302及一補償信號322的一曲線圖320，其中補償信號322藉由自陽極信號302減去垂直按比例調整及對準之類比空間二次射極信號312(例如依據上述方程式2)來產生。

特定言之，補償信號322可表示來自PMT 202之一較高頻寬之信號。另外，補償信號322可比陽極信號302清晰地作為一影像。此等部分歸因於AC耦合電壓之類比空間二次射極信號304中無雜訊，其歸因於直接量測拉普拉斯算子而非將上述方程式1應用於來自陽極214之數位化影像。

圖4繪示根據本發明之一或多個實施例之一方法或程序400。

在一步驟402中，可經由一光電倍增管(PMT)偵測器總成之一類比PMT之一光電陰極產生一組初始光電子。光子206可由光電陰極204吸收以產生初始光電子組208a。例如，光子206可由光電陰極204吸收，光電陰極204接著可發射初始光電子組208a。

在一步驟404中，可經由包含PMT之至少一二次射極之一二次射極鏈導引初始光電子組。二次射極鏈210可包含經組態以接收初始光電子組208a且經由二次射極鏈210將初始光電子組208a導引至陽極214之二次射極212a、212b及/或212c。在此應注意，經導引之初始光電子組208b可直接撞擊陽極214或可在到達陽極214之前由至少一二次射極212b及/或一二次射極212c放大以分別產生一或多個至少一組光電子208b或一組光電子208c。在另一實施例中，陽極214基於二次射極鏈210之量測信號取得一數位化影像。在另一實施例中，數位PMT偵測器電路216可自來自陽極214處所取得之原始數位化影像之原始數位化影像產生一最終數位化影像。

在一步驟406中，可經由PMT偵測器總成之一類比PMT偵測器電路量測至少一二次射極處之光電子之一信號。包含電容器226及AC耦合ADC 224之類比PMT偵測器電路222可操作地耦合至二次射極鏈210之二次射極212a、212b及/或212c。在此應注意，類比PMT偵測器電路222可操作地耦合至二次射極鏈210之任何二次射極。

在一步驟408中，可經由類比PMT偵測器電路判定光電子之量測信號之一拉普拉斯算子。電容器226可操作為等效於數位空間中所執行之一階導數之一類比空間。AC耦合ADC 224可操作為等效於數位空間中所執行之拉普拉斯算子之一類比空間。在另一實施例中，藉由將由類比PMT偵測器電路222量測之信號之輸出應用於數位化影像來校正(例如包含(但不限於)清晰化)陽極214處所取得之數位化影像。

圖5繪示根據本發明之一或多個實施例之一方法或程序500。

在一步驟502中，可經由一光電倍增管(PMT)偵測器總成之一類比PMT之一光電陰極產生一組初始光電子。光子206可由光電陰極204吸收以產生初始光電子組208a。例如，光子206可由光電陰極204吸收，光電陰極204接著可發射初始光電子組208a。

在一步驟504中，可經由包含PMT之至少兩個二次射極之一二次射極鏈210導引初始光電子組。二次射極鏈210可包含一二次射極212a及至少一二次射極212b。二次射極212a可經組態以接收初始光電子組208a且放大光電子208a以產生至少一第二組光電子208b，其中至少第二組光電子208b包含大於初始光電子組208a之光電子數目。

在一步驟506中，可使用至少兩個二次射極之一第一二次射極放大初始光電子組以形成一第二組光電子208b。二次射極212a可經組態以接收初始光電子組208a且放大光電子208a以產生至少一第二組光電子208b，其中至少第二組光電子208b包含大於初始光電子組208a之光電子數目。至少一二次射極212b可經組態以接收第二組光電子208b且經由二次射極鏈210將第二組光電子208b導引至陽極214。在此應注意，經導引之第二組光電子208b可直接撞擊陽極214，或可在到達陽極214之前由一或多個額外二次射極212b及/或一二次射極212c進一步放大以分別產生一或多組額外光電子208b或一組光電子208c。在另一實施例中，陽極214基於二次射極鏈210之量測信號取得一數位化影像。在另一實施例中，數位PMT偵測器電路216可自來自陽極214處所取得之原始數位化影像之原始數位化影像產生一最終數位化影像。

在一步驟508中，可經由PMT偵測器總成200之一類比PMT偵測器電路222量測至少一二次射極之一第二二次射極212b處之第二組光電子208b之一信號。包含電容器226及AC耦合ADC 224之類比PMT偵測器電路222可操作地耦合至二次射極鏈210之一二次射極212b。在此應注意，類比PMT偵測器電路222可操作地耦合至二次射極鏈210之任何二次射極。

在一步驟510中，可經由類比PMT偵測器電路222判定第二組光電子208b之量測信號之一拉普拉斯算子。電容器226可操作為等效於數位空間中所執行之一階導數之一類比空間。AC耦合ADC 224可操作為等效於數位空間中所執行之拉普拉斯算子之一類比空間。在另一實施例中，藉由將由類比PMT偵測器電路222量測之信號之輸出應用於數位化影像來校正(例如包含(但不限於)清晰化)陽極214處所取得之數位化影像。

在此應注意，方法或程序400、500不受限於所提供之步驟及/或子步驟。方法或程序400、500可包含更多或更少步驟及/或子步驟。另外，方法或程序400、500可同時執行步驟及/或子步驟。此外，方法或程序400、500可依序執行步驟及/或子步驟，其包含依所提供之順序或除所提供之順序之外的一順序。因此，以上描述不應被解譯為限制本發明之範疇，而是僅為一說明。

圖6繪示根據本發明之一或多個實施例之一特徵化系統600。

在一實施例中，特徵化系統600包含PMT偵測器總成200。例如，PMT偵測器總成200可包含PMT 202或PMT 202之一或多個組件、數位PMT偵測器電路216或數位PMT偵測器電路216之一或多個組件及/或類比PMT偵測器電路222或類比PMT偵測器電路222之一或多個組件。

在另一實施例中，特徵化系統600包含經組態以照射安置於一樣本載台606上之一樣本604(例如半導體晶圓)之一表面之一部分之一照明源602。如本發明中所使用，術語「樣本」一般係指由一半導體或非半導體材料(例如一晶圓或其類似者)形成之一基板。例如，一半導體或非半導體材料可包含(但不限於)單晶矽、砷化鎵及磷化銦。一樣本可包含一或多個層。例如，此等層可包含(但不限於)一抗蝕劑(包含一光阻劑)、一介電材料、一導電材料及一半導電材料。諸多不同類型之此等層在本技術中已知，且本文所使用之術語「樣本」意欲涵蓋所有類型之此等層可形成於其上之一樣本。形成於一樣本上之一或多個層可經圖案化或未圖案化。例如，一樣本可包含各具有可重複圖案化特徵之複數個晶粒。此等材料層之形成及處理可最終導致完成裝置。諸多不同類型之裝置可形成於一樣本上，且本文所使用之術語「樣本」意欲涵蓋本技術中已知之任何類型之裝置製造於其上之一樣本。此外，為了本發明，術語「樣本」及「晶圓」應被解譯為可互換。另外，為了本發明，術語「圖案化裝置」、「遮罩」及「倍縮光罩」應被解譯為可互換。

一般而言，特徵化系統600可經組態以結合本技術中已知之任何照明源602操作。例如，用於照射樣本之表面之照明源602可包含(但不限於)一寬頻光源(例如氙氣燈、雷射持續電漿燈及其類似者)。例如，用於照射樣本之表面之照明源602可包含(但不限於)一窄頻光源(例如一或多個雷射)。

在另一實施例中，特徵化系統600包含安置於照明源602與樣本604之間的一照明路徑內之一或多個照明光學器件608。照明光學器件608可經組態以將照明導引及聚焦至樣本表面上。一般而言，檢測系統600之照明光學器件608可包含適合於將自照明源602發出之照明導引、處理及/或聚焦至樣本604之表面之一部分上之本技術中已知之任何照明光學器件608。例如，照明光學器件組608可包含(但不限於)一或多個透鏡、一或多個反射鏡、一或多個分束器、一或多個偏光器元件及其類似者。

在另一實施例中，特徵化系統600包含安置於樣本604與PMT偵測器總成200之間的一收集路徑內之一或多個收集光學器件610。一或多個收集光學器件610可經組態以將自樣本604之表面散射之光之至少一部分導引及聚焦至PMT偵測器總成200之PMT光電陰極204(例如PMT偵測器總成200之一輸入)上。特徵化系統600之收集光學器件610可包含適合於將自樣本604之表面散射之光導引、處理及/或聚焦至多通道PMT偵測器總成200上之本技術中已知之任何收集光學器件。例如，收集光學器件組610可包含(但不限於)一或多個透鏡、一或多個反射鏡、一或多個分束器、一或多個偏光器元件及其類似者。

在另一實施例中，PMT偵測器總成200經組態以在來自照明源602之照明經由照明光學器件608撞擊樣本604之後偵測自樣本604之一表面透過收集光學器件610之光子206。

在此應注意，照明源602、照明光學器件608、收集光學器件610及多通道PMT偵測器總成200之一或多者可配置於一暗場組態中，使得檢測系統600操作為一暗場檢測系統。另外，在此應注意，檢測系統 600可經組態以操作為一明場檢測系統。

在另一實施例中，特徵化系統600包含可操作地耦合至特徵化系統600之一控制器612。在另一實施例中，控制器612可操作地耦合至特徵化系統600之一或多個組件。例如，控制器612可操作地耦合至照明源602、樣本載台606、PMT偵測器總成200及/或一或多個額外組件。據此而言，控制器612可指導特徵化系統600之任何組件及/或照明源602、樣本載台606、PMT偵測器總成200及/或一或多個額外組件之任何組件實施本發明中所描述之各種功能之任一或多者。

在另一實施例中，特徵化系統600可包含經由一網路可操作地耦合至一伺服器之控制器612。在另一實施例中，控制器612包含一或多個處理器及記憶體。在另一實施例中，一或多個處理器可經組態以執行儲存於記憶體中之一組程式指令，其中程式指令組經組態以引起一或多個處理器實施本發明之步驟。在此應注意，除非本文另有說明，否則本文關於伺服器、一或多個處理器及記憶體之討論亦可被視為適用於控制器612、一或多個處理器及記憶體。

在此應注意，特徵化系統600之一或多個組件可依本技術中已知之任何方式可操作地耦合至特徵化系統600之各種其他組件。例如，一或多個處理器可經由一有線連接(例如銅線、光纖電纜及其類似者)或無線連接(例如RF耦合、IR耦合、資料網路通信(例如WiFi、WiMax、Bluetooth及其類似者)通信地彼此耦合及耦合至其他組件。

在一實施例中，一或多個處理器可包含本技術中已知之任一或多個處理元件。就此而言，一或多個處理器可包含經組態以執行軟體演算法及/或指令之任何微處理器型裝置。在一實施例中，一或多個處理器可由以下各者組成：一桌上型電腦、主機電腦系統、工作站、影像電腦、並行處理器或經組態以執行經組態以操作特徵化系統600之一程式之其他電腦系統(例如網路電腦)，如本發明中所描述。應認識到，本發明中所描述之步驟可由一單一電腦系統或替代地多個電腦系統實施。另外，應認識到，本發明中所描述之步驟可在一或多個處理器之任一或多者上實施。一般而言，術語「處理器」可經廣義界定以涵蓋具有執行來自記憶體之程式指令之一或多個處理元件之任何裝置。再者，特徵化系統600之不同子系統可包含適合於實施本發明中所描述之步驟之至少一部分之處理器或邏輯元件。因此，以上描述不應被解譯為限制本發明，而是僅為一說明。

記憶體可包含適合於儲存可由相關聯之一或多個處理器執行之程式指令及自傳輸裝置接收之資料之本技術中已知之任何儲存媒體。例如，記憶體可包含一非暫時性記憶體媒體。例如，記憶體可包含(但不限於)一唯讀記憶體(ROM)、一隨機存取記憶體(RAM)、一磁性或光學記憶體裝置(例如磁碟)、一磁帶、一固態硬碟及其類似者。在另一實施例中，記憶體經組態以儲存自傳輸裝置接收之資料，其包含(但不限於)實體資料、相關聯資料(例如空間關係資料)、操作資料、GPS資料、時間戳記資料、領域範圍資料及其類似者。應進一步注意，記憶體可與一或多個處理器收容於一共同控制器外殼中。在一替代實施例中，記憶體可相對於處理器、伺服器、控制器及其類似者之實體位置遠端定位。在另一實施例中，記憶體保存用於引起一或多個處理器實施本發明中所描述之各種步驟之程式指令。

本文所描述之所有方法或程序可包含將方法或程序實施例之一或多個步驟之結果儲存於記憶體中。結果可包含本文所描述之結果之任何者且可依本技術中已知之任何方式儲存。記憶體可包含本文所描述之任何記憶體或本技術中已知之任何其他適合儲存媒體。在儲存結果之後，結果可存取於記憶體中且由本文所描述之方法或系統實施例之任何者使用、格式化以顯示給一使用者、由另一軟體模組、方法或系統使用及其類似者。另外，結果可「永久」、「半永久」、「暫時」或在某一時間週期內儲存。例如，記憶體可為隨機存取記憶體(RAM)，且結果可能未必無限期存留於記憶體中。

可進一步預期，上述方法之實施例之各者可包含本文所描述之任何其他方法之任何其他步驟。另外，上述方法之實施例之各者可由本文所描述之系統之任何者執行。

據此而言，特徵化系統600使用來自二次射極鏈210中之一二次射極之ADC耦合信號，而非陽極214處取得之信號。量測來自二次射極鏈210中之二次射極之ADC耦合信號可允許避免一組已知問題(諸如最終信號中之雜訊)，因為在判定來自數位化影像之拉普拉斯算子時增強最終信號；而是使用ADC耦合信號直接量測拉普拉斯算子。PMT偵測器總成200可歸因於比陽極214少之伸展發生於二次射極鏈210中之二次射極處而具有一更高頻寬以導致在不降級解析度之情況下增加特徵化系統600之處理量，使得所得影像可更清晰。

熟習技術者應認識到，本文所描述之組件、操作、裝置、物件及其伴隨討論用作為使概念清楚之實例且可考量各種組態修改。因此，如本文所使用，所闡述之特定範例及伴隨討論意欲表示其更一般類別。一般而言，使用任何特定範例意欲表示其類別，且不包含特定組件、操作、裝置及物件不應被視為限制。

如本文所使用，諸如「頂部」、「底部」、「上面」、「下面」、「上」、「向上」、「下」、「下方」及「向下」之方向術語意欲為了描述而提供相對位置，且不意欲指定一絕對參考系。熟習技術者將明白所描述之實施例之各種修改，且本文所界定之一般原理可應用於其他實施例。

關於在本文中使用實質上任何複數及/或單數術語，熟習技術者可視內文及/或應用需要將複數轉化為單數及/或將單數轉化為複數。為清楚起見，本文明確闡述各種單數/複數排列。

本文所描述之標的有時繪示含於其他組件內或與其他組件連接之不同組件。應瞭解，此等描繪架構僅供例示，且事實上可實施達成相同功能性之諸多其他架構。就概念而言，達成相同功能性之組件之任何配置經有效「相關聯」使得達成所要功能性。因此，本文中經組合以達成一特定功能性之任何兩個組件可被視為彼此「相關聯」使得達成所要功能性，不管架構或中間組件如何。同樣地，如此相關聯之任何兩個組件亦可被視為彼此「連接」或「耦合」以達成所要功能性，且能夠如此相關聯之任何兩個組件亦可被視為可彼此「耦合」以達成所要功能性。「可耦合」之特定實例包含(但不限於)可實體配合及/或實體交互組件及/或可無線交互及/或無線交互組件及/或邏輯交互及/或可邏輯交互組件。

另外，應瞭解，本發明由隨附申請專利範圍界定。熟習技術者應瞭解，一般而言，本文及尤其隨附申請專利範圍(例如隨附申請專利範圍之主體)中所使用之術語一般意欲為「開放」術語(例如，術語「包含」應被解譯為「包含(但不限於)」，術語「具有」應被解譯為「至少具有」，等等)。熟習技術者應進一步瞭解，若想要一引入請求項敘述之一特定數目，則此一意圖將在請求項中明確敘述，且若無此敘述，則無此意圖存在。例如，為有助於理解，以下隨附申請專利範圍可含有使用引入片語「至少一」及「一或多個」以引入請求項敘述。然而，使用此等片語不應被解釋為隱含由不定冠詞「一」引入一請求項敘述使含有此引入請求項敘述之任何特定請求項受限於僅含有一個此敘述之發明，即使相同請求項包含引入片語「一或多個」或「至少一」及諸如「一」之不定冠詞(例如，「一」通常應被解譯為意謂「至少一」或「一或多個」)；相同情況適用於用於引入請求項敘述之定冠詞之使用。另外，即使明確敘述一引入請求項敘述之一特定數目，但熟習技術者應認識到，此敘述通常應被解譯為意謂至少敘述數目(例如，無其他修飾詞之「兩個敘述」之裸敘述通常意謂至少兩個敘述或兩個或更多個敘述)。另外，在其中使用類似於「A、B及C之至少一者及其類似者」之一慣例之例項中，此一構造一般意指熟習技術者通常所理解之意義(例如，「具有A、B及C之至少一者之一系統」將包含(但不限於)僅具有A、僅具有B、僅具有C、同時具有A及B、同時具有A及C、同時具有B及C及/或同時具有A、B及C之系統，等等)。在其中使用類似於「A、B或C之至少一者及其類似者」之一慣例之例項中，此一構造一般意指熟習技術者通常所理解之意義(例如，「具有A、B或C之至少一者之一系統」將包含(但不限於)僅具有A、僅具有B、僅具有C、同時具有A及B、同時具有A及C、同時具有B及C及/或同時具有A、B及C之系統，等等)。熟習技術者應進一步瞭解，無論在[實施方式]、申請專利範圍或圖式中，呈現兩個或更多個替代項之幾乎任何析取用語及/或片語應被理解為考量包含項之一者、兩個項之任一者或兩個項之可能性。例如，片語「A或B」將被理解為包含「A」或「B」或「A及B」之可能性。

據信，本發明及其諸多伴隨優點將藉由以上描述理解，且應明白，可在不背離本發明或不犧牲其所有材料優點之情況下對組件之形式、構造及配置進行各種改變。所描述之形式僅供說明，且以下申請專利範圍意欲涵蓋及包含此等改變。另外，應瞭解，本發明由隨附申請專利範圍界定。