JP5383979B2 - 処理システム - Google Patents
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- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
Description
W ウェハ
1 処理システム
2 処理部
3 搬入出部
4 イン・アウトポート
5 ウェハ搬送部
6 載置台
7 ウェハ搬送装置
11 取出収納アーム
12、13、14、15 洗浄ユニット
16、17 ウェハ受け渡しユニット
18 主ウェハ搬送装置
19 制御コンピュータ
23a〜23f 処理ユニット
24 処理ガス発生ユニット
25 薬液貯蔵ユニット
30 処理容器
40 オゾンガス発生部
41 水蒸気発生部
45 オゾン元流路
46 オゾン主流路
47 ニードル弁
48 流量計
50 切替弁
51 処理側オゾンガス流路
52 バイパス側オゾンガス流路
55 水蒸気元流路
56 水蒸気主流路
57 圧力スイッチ
58 リリーフ弁
59 逃がし流路
60 配管保温ヒータ
65 オリフィス
66 ニードル弁
70 切替弁
71 処理側水蒸気流路
72 バイパス側水蒸気流路
80 容器本体
81 蓋体
83 処理空間
85 載置台
86 給気口
87 排気口
95 主排出流路
96 切替弁
97 圧力スイッチ
99 エアオペ弁
100 リリーフ弁
105 N2ガス供給流路
106 N2ガス元流路
107 エアオペ弁
108 N2ガス排出流路
Claims (5)
- 被処理体を収納する処理容器と、処理流体を発生させる処理流体発生部と、前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記処理容器内に供給する処理側流路と、前記処理容器内から処理流体を排出させる排出流路とを備えた処理システムであって、
前記排出流路に圧力制御機構を設け、
前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記処理容器内に供給せずに排出させるバイパス側流路を設け、
前記バイパス側流路の下流端を、前記圧力制御機構よりも上流側において、前記排出流路に接続し、
前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記処理側流路と前記バイパス側流路とに選択的に流す切替弁を有し、
前記処理容器内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給流路と、前記処理容器内から不活性ガスを排出させる不活性ガス排出流路を備え、
前記不活性ガス供給流路の下流端を、前記切替弁よりも下流側において、前記処理側流路に接続し、
前記不活性ガス排出流路の上流端を、前記バイパス側流路の下流端の接続位置よりも上流側において、前記排出流路に接続し、
前記処理容器内から排出される処理流体又は不活性ガスを前記排出流路と前記不活性ガス排出流路とに選択的に流す排出側切替弁を有し、
前記処理容器内に処理流体を供給する際には、前記切替弁を切り替えて、前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記処理側流路に通し、かつ、前記処理容器内から排出される処理流体を前記排出流路から前記圧力制御機構を通して排出する状態にし、
前記不活性ガス供給流路から前記処理容器内に不活性ガスを供給する際には、前記切替弁を切り替えて、前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記バイパス側流路に通し、かつ、前記バイパス側流路に通した処理流体を前記排出流路から前記圧力制御機構を通して排出する状態にし、かつ、前記排出側切替弁を切り替えて、前記処理容器内から排出される不活性ガスを前記不活性ガス排出流路から排出する状態にすることを特徴とする、処理システム。 - 前記処理流体がオゾンガスであることを特徴とする、請求項1に記載の処理システム。
- 前記処理流体とは異なる第2の処理流体を発生させる第2処理流体発生部を備え、
前記第2処理流体発生部で発生させた第2の処理流体を前記処理容器内に供給する第2処理側流路と、前記第2処理流体発生部で発生させた第2の処理流体を前記処理容器内に供給せずに排出させる第2バイパス側流路を設け、
前記第2バイパス側流路の下流端を、前記圧力制御機構よりも上流側において、前記排出流路に接続したことを特徴とする、請求項1又は2に記載の処理システム。 - 前記第2の処理流体が水蒸気であることを特徴とする、請求項3に記載の処理システム。
- 被処理体を収納する複数の処理容器と、処理流体を発生させる処理流体発生部と、前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記処理容器に供給する、前記処理容器毎に設けられた複数の処理側流路と、前記処理容器から処理流体を排出させる、前記処理容器毎に設けられた複数の排出流路とを備えた処理システムであって、
前記複数の排出流路に圧力制御機構をそれぞれ設け、
前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記処理容器に供給せずに、前記排出流路を介して排出させる、前記処理容器毎に設けられた複数のバイパス側流路を設け、
前記バイパス側流路の下流端を、前記圧力制御機構よりも上流側において、前記複数の排出流路にそれぞれ接続し、
前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記処理側流路と前記バイパス側流路とに選択的に流す切替弁を有し、
前記処理容器に不活性ガスを供給する、前記処理容器毎に設けられた複数の不活性ガス供給流路と、前記処理容器内から不活性ガスを排出させる、前記処理容器毎に設けられた複数の不活性ガス排出流路を備え、
前記複数の不活性ガス供給流路の下流端を、前記切替弁よりも下流側において、前記複数の処理側流路にそれぞれ接続し、
前記複数の不活性ガス排出流路の上流端を、前記複数のバイパス側流路の下流端の接続位置よりも上流側において、前記複数の排出流路に接続し、
前記処理容器から排出される処理流体又は不活性ガスを前記複数の排出流路と前記複数の不活性ガス排出流路とに選択的に流す排出側切替弁を有し、
前記処理容器に処理流体を供給する際には、前記切替弁を切り替えて、前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記複数の処理側流路に通し、かつ、前記処理容器内から排出される処理流体を前記複数の排出流路から前記圧力制御機構を通して排出する状態にし、
前記複数の不活性ガス供給流路から前記処理容器内に不活性ガスを供給する際には、前記切替弁を切り替えて、前記処理流体発生部で発生させた処理流体を前記複数のバイパス側流路に通し、かつ、前記複数のバイパス側流路に通した処理流体を前記複数の排出流路から前記圧力制御機構を通して排出する状態にし、かつ、前記排出側切替弁を切り替えて、前記処理容器内から排出される不活性ガスを前記不活性ガス排出流路から排出する状態にすることを特徴とする、処理システム。
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