JP5382820B2 - Optical adjustment film, transparent conductive film obtained using the same, transparent conductive laminate, and touch panel - Google Patents
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Description
本発明は、表面に透明導電層が形成された透明導電フィルムの透明導電層の一部をエッチングにより除去した場合、透明導電層が除去されずに残存している部分（電極部）と、透明導電層が除去され残存していない部分（非電極部）とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できない（視認できない）透明導電フィルムとそれに使用する光学調整フィルム、並びに当該透明導電フィルムを使用した透明導電積層体、及びタッチパネルに関する。 In the present invention, when a part of the transparent conductive layer of the transparent conductive film having a transparent conductive layer formed on the surface is removed by etching, the transparent conductive layer remains without being removed (electrode part), and transparent Since the difference in color and transparency can hardly be visually recognized by the part where the conductive layer is removed and not left (non-electrode part), the presence of the electrode part can hardly be visually recognized (not visually recognized) and It is related with the optical adjustment film used for it, the transparent conductive laminated body using the said transparent conductive film, and a touch panel.
従来から、透明フィルム基材上に、複数の透明な層（最表層が透明導電層）が形成された透明導電フィルムが広く普及している。
特に最近では、静電容量方式のタッチパネルに使用する透明導電フィルムであって、パターン状の電極部が形成された透明導電フィルム、及びそれを使用して得るタッチパネルの開発が進んでいる。
尚、本発明において、パターン状の電極部とは、少なくとも最表面に形成されている透明導電層をエッチングにより一部除去して、透明導電層が格子状や市松模様状等の所望の模様状に形成されている部分をいい、また、少なくとも透明導電層がエッチングにより除去された部分を非電極部として、以下説明する。
特許文献１には、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のプラスチックフィルムである第１基体（透明フィルム基材）の表面に、少なくともシロキサン系樹脂等の有機物質による有機誘電体層と、無機物質による無機誘電体層と、導電層（透明導電層）とをこの順に積層してなる積層体の導電層の一部をエッチングしてなる透明導電積層体（電極部が形成された透明導電フィルム）、及びそれを使用して得るタッチパネルが記載されている。
Conventionally, a transparent conductive film in which a plurality of transparent layers (the outermost layer is a transparent conductive layer) is formed on a transparent film substrate has been widely used.
In particular, development of a transparent conductive film used for a capacitive touch panel, a transparent conductive film having a patterned electrode portion formed thereon, and a touch panel obtained using the transparent conductive film has been progressing.
In the present invention, the patterned electrode portion means that a part of the transparent conductive layer formed on at least the outermost surface is removed by etching so that the transparent conductive layer has a desired pattern shape such as a lattice shape or a checkered pattern. In the following description, a portion where at least the transparent conductive layer has been removed by etching is a non-electrode portion.
In Patent Document 1, an organic dielectric layer made of at least an organic substance such as a siloxane resin and an inorganic dielectric layer made of an inorganic substance are formed on the surface of a first substrate (transparent film substrate) that is a plastic film such as a polyethylene terephthalate film. And a conductive layer (transparent conductive layer) laminated in this order, a transparent conductive layered body (transparent conductive film with an electrode part) formed by etching a part of the conductive layer of the layered body, and using the same A touch panel obtained is described.
そして、エッチングにより、透明導電層を除去した箇所である除去部（非電極部）と、透明導電層が残留している箇所である残留部（電極部）とが形成される旨の記載がある。
また、有機誘電体層について、第１基体表面をより平滑なものとすることにより無機誘電体層を積層し易くし、また、第１基体から析出するオリゴマーが無機誘電体層や導電層まで浸透することを防ぐことにより第１基体と無機誘電体層との密着性を向上させることを目的に形成される旨、さらには、光線屈折率（屈折率）ｎが１．４〜１．６であり、厚さが３〜７８ｎｍである旨が記載されている。
さらに、無機誘電体層については、酸化珪素からなる層であり、厚さが２〜７７ｎｍである旨、無機誘電体層と有機誘電体層の厚さの合計が５〜８０ｎｍである旨が記載されている。
And there exists a description that the removal part (non-electrode part) which is a location which removed the transparent conductive layer, and the residual part (electrode part) which is a location where the transparent conductive layer remains are formed by etching. .
In addition, the organic dielectric layer can be easily laminated by making the surface of the first substrate smoother, and the oligomer deposited from the first substrate can penetrate into the inorganic dielectric layer and the conductive layer. It is formed for the purpose of improving the adhesiveness between the first base and the inorganic dielectric layer by preventing the occurrence of light, and the light refractive index (refractive index) n is 1.4 to 1.6. It is described that the thickness is 3 to 78 nm.
Furthermore, the inorganic dielectric layer is a layer made of silicon oxide and has a thickness of 2 to 77 nm, and the total thickness of the inorganic dielectric layer and the organic dielectric layer is 5 to 80 nm. Has been.
透明導電フィルムは、従来から当該透明導電フィルムを使用したタッチパネルとして、銀行のＡＴＭ、鉄道の券売機、カーナビゲーション、コピー機等のオフィス機器等のディスプレィ部分に使用されている。
上記タッチパネルは、抵抗膜方式のタッチパネルとする場合、例えば、ガラス表面に形成した透明導電層と、透明導電フィルムの透明導電層とを対向させたものの間に、あるいは透明導電フィルム２枚を、透明導電層面同士が対向するように配置したものの間に、ドットスペーサーを介在させ、端部に電極を形成した構成が一般的である。
この時使用される透明導電フィルムはパターン状の電極部を形成したもの、形成していないものの何れかが使用される。
The transparent conductive film is conventionally used as a touch panel using the transparent conductive film in a display portion of office equipment such as a bank ATM, a railway ticket vending machine, a car navigation system, and a copy machine.
When the touch panel is a resistive film type touch panel, for example, between the transparent conductive layer formed on the glass surface and the transparent conductive layer of the transparent conductive film facing each other, or two transparent conductive films are transparent. In general, a configuration in which a dot spacer is interposed between the conductive layer surfaces arranged so as to face each other and an electrode is formed at an end portion.
As the transparent conductive film used at this time, either a patterned electrode portion formed or not formed is used.
次に、スマートフォンに代表される携帯電話や、携帯情報端末等に使用される静電容量方式のタッチパネルについて、本発明に係る透明導電フィルム及び透明導電積層体を図示した図１及び図２を使用して説明する。
まず、図１Ｃに示す通り、Ｘ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部（４Ｐｘ）を有する透明導電フィルム（左側）と、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部（４Ｐｙ）を有する透明導電フィルム（右側）とを製造し、これらを透明粘着剤層で貼り合わせて透明導電積層体を製造する（図２Ａ、Ｂ参照）。
このとき、上記透明導電積層体は、上層の透明導電フィルムの非導電処理面（すなわち、透明フィルム基材側の面）と、下層の透明導電フィルムの導電処理面（すなわち、透明導電層側の面）とが対向するように積層し、透明粘着剤層で貼り合わせる。
また、Ｘ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルムと、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルムとを重ねる際、基本的に、それぞれの透明導電フィルムに形成された電極部同士（すなわち、４Ｐｘと４Ｐｙ）が重ならないように積層される。しかし、実際には、透明導電積層体の構造上、上層の透明導電フィルムと下層の透明導電フィルムに形成された電極部同士（４Ｐｘと４Ｐｙ）が、透明導電積層体の面を正面から目視した際に、上下に重なる部分（Ｏ）がわずかに生じてしまう場合がある（図２Ｃ参照）。
尚、図２中、Ａは透明導電積層体の平面図であり、Ｂは、Ａ中の線Ｂ−Ｂにおける断面図であり、Ｃは、Ａ中の円Ｃで囲まれた部分の拡大図である。
Next, for a capacitive touch panel used for a mobile phone typified by a smartphone, a portable information terminal, etc., FIG. 1 and FIG. 2 illustrating the transparent conductive film and the transparent conductive laminate according to the present invention are used. To explain.
First, as shown in FIG. 1C, a transparent conductive film (left side) having a patterned electrode portion (4Px) electrically connected in the X direction, and a patterned electrode portion (left side) electrically connected in the Y direction ( 4Py) is manufactured, and a transparent conductive laminate is manufactured by bonding them together with a transparent adhesive layer (see FIGS. 2A and 2B).
At this time, the transparent conductive laminate has a non-conductive treatment surface of the upper transparent conductive film (ie, a surface on the transparent film substrate side) and a conductive treatment surface of the lower transparent conductive film (ie, on the transparent conductive layer side). Are laminated so as to face each other, and are bonded together with a transparent adhesive layer.
In addition, when a transparent conductive film having a patterned electrode portion electrically connected in the X direction and a transparent conductive film having a patterned electrode portion electrically connected in the Y direction are basically stacked. The electrode portions (that is, 4Px and 4Py) formed on each transparent conductive film are laminated so as not to overlap each other. However, in actuality, due to the structure of the transparent conductive laminate, the electrode portions (4Px and 4Py) formed on the upper transparent conductive film and the lower transparent conductive film visually observed the surface of the transparent conductive laminate from the front. In some cases, there may be a slight overlap (O) that overlaps vertically (see FIG. 2C).
In FIG. 2, A is a plan view of the transparent conductive laminate, B is a cross-sectional view taken along line BB in A, and C is an enlarged view of a portion surrounded by a circle C in A. It is.
そして、静電容量方式のタッチパネルにおいては、使用される透明導電フィルムの電極部と非電極部とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できない（視認できない）こと、すなわち優れた視認性が求められている。
言い換えると、パターン状の電極部の存在を視認できない程度に、透明導電フィルム全体が均一な色目や透明性を有していることが求められており、その要望は益々強くなってきている。
しかし、特許文献１記載の透明導電積層体（透明導電フィルム）、及びタッチパネルには、下記に示す欠点があった。
And in capacitive touch panels, the difference in color and transparency is almost invisible between the electrode part and non-electrode part of the transparent conductive film used, so the presence of the electrode part is almost visually recognized. It is impossible (not visible), that is, excellent visibility is required.
In other words, it is required that the entire transparent conductive film has a uniform color and transparency to such an extent that the presence of the patterned electrode portion cannot be visually recognized, and the demand is getting stronger.
However, the transparent conductive laminate (transparent conductive film) and the touch panel described in Patent Document 1 have the following drawbacks.
１．特許文献１記載の透明導電積層体（透明導電フィルム）は、第１基体（透明フィルム基材）と、透明導電層との間に形成されている層は、無機誘電体層と有機誘電体層のみであり、しかも、無機誘電体層と有機誘電体層の屈折率や厚さが上記範囲であったため、透明導電層の一部をエッチングにより除去した場合、透明導電層が除去されずに残存している部分（電極部）と、透明導電層が除去され残存していない部分（非電極部）とで、色目や透明性の違いが目視で区別できてしまうことから、パターン状の電極部の存在が視認され、透明導電フィルム全体が均一な色目や透明性を有しておらず、現在求められている視認性を満足できないという問題がある。特に、パターン状の電極部が形成された透明導電フィルムを２枚貼り合わせたもの（透明導電積層体）の面を正面から目視した際に、電極部同士が上下に重なる部分は上記問題が顕著であった。
２．従って、上記透明導電フィルムを使用したタッチパネル、特に静電容量方式のタッチパネルも同様に、視認性が問題とされている。
1. In the transparent conductive laminate (transparent conductive film) described in Patent Document 1, the layers formed between the first substrate (transparent film substrate) and the transparent conductive layer are an inorganic dielectric layer and an organic dielectric layer. In addition, since the refractive index and thickness of the inorganic dielectric layer and the organic dielectric layer are in the above range, when a part of the transparent conductive layer is removed by etching, the transparent conductive layer remains without being removed. Since the difference in color and transparency can be visually discerned between the portion where the transparent conductive layer is removed and the portion where the transparent conductive layer is not left (non-electrode portion), the patterned electrode portion Is present, and the entire transparent conductive film does not have a uniform color or transparency, so that there is a problem that the currently required visibility cannot be satisfied. In particular, when the two transparent conductive films on which the patterned electrode portions are formed are bonded together (transparent conductive laminate) when the surface is observed from the front, the portions where the electrode portions overlap each other are notable. Met.
2. Therefore, the touch panel using the transparent conductive film, particularly the capacitive touch panel, has a problem of visibility.
本発明は、上記欠点を除去したものであり、視認性に優れた透明導電フィルムとそれに使用する光学調整フィルム、並びに当該透明導電フィルムを使用した透明導電積層体、及びタッチパネルを提供するものである。 This invention removes the said fault, and provides the transparent conductive film excellent in visibility, the optical adjustment film used for it, the transparent conductive laminated body using the said transparent conductive film, and a touch panel. .
［１］本発明は、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含む光学調整層が形成されている光学調整フィルムであって、光学調整層が、透明フィルム基材側から、第１光学調整層、及び第２光学調整層が順次形成されたものであり、かつ下記条件（Ａ）〜（Ｄ）を満足することを特徴とする光学調整フィルムである。
（Ａ）第１光学調整層の屈折率ｎ１が、１．５〜１．７８である
（Ｂ）第２光学調整層の屈折率ｎ２が、１．６〜１．８である
（Ｃ）ｎ１＜ｎ２の関係を有する
（Ｄ）第１光学調整層の厚さが３０〜１５０ｎｍであり、第２光学調整層の厚さが３０〜２００ｎｍである
［２］本発明は、光学調整層上に、光学機能層が形成されている上記［１］記載の光学調整フィルムである。
［３］本発明は、上記［１］記載の光学調整フィルムの光学調整層上に、透明導電層が形成されていることを特徴とする透明導電フィルムである。
［４］本発明は、上記［２］記載の光学調整フィルムの光学機能層上に、透明導電層が形成されていることを特徴とする透明導電フィルムである。
［５］本発明は、パターン状の電極部が形成されている上記［３］、又は［４］記載の透明導電フィルムである。
［６］本発明は、上記［５］記載の透明導電フィルム同士を２枚、一方の透明導電フィルムの透明フィルム基材面側と、他方の透明導電フィルムの透明導電層面側とを、透明粘着剤層で貼り合わせたことを特徴とする透明導電積層体である。
［７］本発明は、上記［３］〜［５］何れかに記載の透明導電フィルムを備えたタッチパネルである。
［８］本発明は、上記［６］記載の透明導電積層体を備えた静電容量方式のタッチパネルである。
[1] The present invention is an optical adjustment film in which an optical adjustment layer containing at least a resin is formed on one side of a transparent film substrate, and the optical adjustment layer is a first optical adjustment from the transparent film substrate side. The optical adjustment film is characterized in that a layer and a second optical adjustment layer are sequentially formed and satisfy the following conditions (A) to (D) .
(A) Refractive index n1 of the first optical adjustment layer is 1.5 to 1.78 (B) Refractive index n2 of the second optical adjustment layer is 1.6 to 1.8 (C) n1 <Having a relationship of n2
(D) The thickness of the first optical adjustment layer is 30 to 150 nm, and the thickness of the second optical adjustment layer is 30 to 200 nm. [2] In the present invention , an optical functional layer is formed on the optical adjustment layer. an optical adjustment film of [1] wherein is.
[3] The present invention is a transparent conductive film characterized in that a transparent conductive layer is formed on the optical adjustment layer of the optical adjustment film described in [1] .
[4] The present invention is a transparent conductive film in which a transparent conductive layer is formed on the optical functional layer of the optical adjustment film described in [2] .
[5] The present invention is the transparent conductive film according to the above [3] or [4] , wherein a patterned electrode portion is formed .
[6] The present invention provides two transparent conductive films according to the above [5], the transparent film substrate surface side of one transparent conductive film, and the transparent conductive layer surface side of the other transparent conductive film. It is a transparent conductive laminate characterized by being bonded with an agent layer .
[7] The present invention is a touch panel including the transparent conductive film according to any one of [3] to [5] .
[8] The present invention is a capacitive touch panel including the transparent conductive laminate according to [6] .
（１）本発明の透明導電フィルムは、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含み上記特定の条件を満足する光学調整層、必要により光学機能層、及び透明導電層が順次形成された特徴ある構成を有しているので、少なくとも透明導電層の一部をエッチングにより除去した場合、透明導電層が除去されずに残存している部分（電極部）と、透明導電層が除去され残存していない部分（非電極部）とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できない（視認できない）。従ってパターン状の電極部の存在を視認できない程度に、透明導電フィルム全体が均一な色目や透明性を有しており、視認性に非常に優れている。
（２）従って、上記透明導電フィルムを使用したタッチパネルはもちろん、上記透明導電フィルムを使用した透明導電積層体と、それを使用した静電容量方式のタッチパネルも同様に、視認性に非常に優れている。
（３）本発明の視認性に優れた透明導電フィルムを得るには、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含み上記特定の条件を満足する光学調整層、及び必要により光学機能層が順次形成された、本発明の光学調整フィルムを使用すれば万全である。
(1) The transparent conductive film of the present invention is characterized in that an optical adjustment layer containing at least a resin and satisfying the above specific conditions, if necessary, an optical functional layer and a transparent conductive layer are sequentially formed on one side of a transparent film substrate. Since it has a certain configuration, when at least part of the transparent conductive layer is removed by etching, the transparent conductive layer remains without being removed (electrode part), and the transparent conductive layer is removed and remains. Since the difference in color and transparency cannot be visually discerned by the unexposed portion (non-electrode portion), the presence of the electrode portion is hardly recognizable by visual observation (not visible). Therefore, the entire transparent conductive film has a uniform color and transparency to the extent that the presence of the patterned electrode portion cannot be visually recognized, and is very excellent in visibility.
(2) Accordingly, not only the touch panel using the transparent conductive film but also the transparent conductive laminate using the transparent conductive film and the capacitive touch panel using the transparent conductive film are also excellent in visibility. Yes.
(3) In order to obtain a transparent conductive film having excellent visibility according to the present invention, an optical adjustment layer containing at least a resin and satisfying the above specific conditions on one side of the transparent film substrate, and an optical functional layer as necessary are sequentially provided. If the formed optical adjustment film of the present invention is used, it is safe.
まず、本発明の透明導電フィルムについて説明する。
本発明の透明導電フィルムは、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含み前記特定の条件を満足する光学調整層、必要により光学機能層、及び透明導電層が順次形成された特徴ある構成を有している。
First, the transparent conductive film of this invention is demonstrated.
The transparent conductive film of the present invention has a characteristic configuration in which an optical adjustment layer containing at least a resin and satisfying the specific condition, an optical functional layer, and if necessary, a transparent conductive layer are sequentially formed on one side of a transparent film substrate. Have.
本発明の透明導電フィルムに使用する透明フィルム基材は、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、フッ素フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム等の透明プラスチックフィルムが使用できるが、中でも耐熱性等の点からポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
透明プラスチックフィルムの屈折率は、大よそ１．５〜１．７程度が好ましい。
The transparent film substrate used for the transparent conductive film of the present invention can be a transparent plastic film such as a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a polypropylene film, an acrylic film, a polycarbonate film, a fluorine film, a cycloolefin polymer film, Among these, a polyethylene terephthalate film is preferable from the viewpoint of heat resistance.
The refractive index of the transparent plastic film is preferably about 1.5 to 1.7.
また、前記透明プラスチックフィルムの片面又は両面に、樹脂からなる透明ハードコート層を形成してもよい。このように、片面又は両面にハードコート層を形成したものも、本発明に係る透明フィルム基材に含まれる。
ハードコード層を透明プラスチックフィルム表面に形成することにより、透明プラスチックフィルムにもともとあったキズを埋めることができるとともに、ハードコート層が形成された透明フィルム基材表面のスベリ性や表面強度が向上するため、後加工の際に透明フィルム基材にキズが発生することを防止できる。特に、ハードコート層を、透明導電層側の透明プラスチックフィルム表面に形成した場合は、上記の点に加え、さらに本発明の透明導電フィルムの導電性をも安定させることができる。
ハードコート層に使用する樹脂は、該ハードコート層が鉛筆硬度２Ｈ以上になるものが好ましく、メラミン系樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂等の透明樹脂が使用でき、厚さは、１〜７μｍが好ましい。
また、透明プラスチックフィルムとハードコート層との間に、透明プラスチックフィルムとハードコート層との密着性を向上する目的で、樹脂からなる易接着樹脂層を形成しておいても構わない。
Moreover, you may form the transparent hard-coat layer which consists of resin in the single side | surface or both surfaces of the said transparent plastic film. Thus, what formed the hard-coat layer in the single side | surface or both surfaces is also contained in the transparent film base material which concerns on this invention.
By forming the hard cord layer on the surface of the transparent plastic film, it is possible to fill the scratches inherent in the transparent plastic film and improve the smoothness and surface strength of the surface of the transparent film substrate on which the hard coat layer is formed. Therefore, it is possible to prevent the transparent film base material from being damaged during post-processing. In particular, when the hard coat layer is formed on the surface of the transparent plastic film on the transparent conductive layer side, in addition to the above points, the conductivity of the transparent conductive film of the present invention can be further stabilized.
The resin used for the hard coat layer is preferably such that the hard coat layer has a pencil hardness of 2H or more, and a transparent resin such as a melamine resin or an ultraviolet curable acrylic resin can be used, and the thickness is 1 to 7 μm. preferable.
Moreover, you may form the easily bonding resin layer which consists of resin in order to improve the adhesiveness of a transparent plastic film and a hard-coat layer between a transparent plastic film and a hard-coat layer.
透明フィルム基材の厚さは、１０〜３００μｍが好ましく、５０〜２６０μｍがより好ましく、５０μｍ〜２００μｍが特に好ましい。
厚さが、１０μｍより薄いと、特にタッチパネルに使用した場合に、指やペン等で入力する際にプラスチックフィルムの強度が十分ではないため、透明導電フィルムの変形が大きくなりすぎて透明導電層にクラックが生じ、その結果表面抵抗率が不安定となる場合があるので好ましくない。また、透明導電フィルムがカールしてしまい、その結果、透明導電フィルムをタッチパネルに組み込むなどの後作業で、作業性が悪くなる場合があるので好ましくない。
他方、厚さが、３００μｍより厚いと、特に抵抗膜方式タッチパネルに使用した場合に、指やペン等で入力する際、透明導電フィルムに荷重をかけて相対する透明導電フィルムに接触させるために必要以上に荷重をかけなければならない問題が生じたり、また透明導電フィルムのコストも上がるため好ましくない。
10-300 micrometers is preferable, as for the thickness of a transparent film base material, 50-260 micrometers is more preferable, and 50 micrometers-200 micrometers are especially preferable.
If the thickness is less than 10 μm, especially when used for a touch panel, the strength of the plastic film is not sufficient when inputting with a finger or pen, etc. Cracks are generated, and as a result, the surface resistivity may become unstable. Further, the transparent conductive film is curled, and as a result, workability may be deteriorated in subsequent work such as incorporating the transparent conductive film into the touch panel, which is not preferable.
On the other hand, if the thickness is greater than 300 μm, it is necessary to apply a load to the transparent conductive film and make contact with the transparent conductive film when inputting with a finger or pen, especially when used for a resistive touch panel. This is not preferable because a problem that a load must be applied arises and the cost of the transparent conductive film increases.
本発明の透明導電フィルムに形成される、少なくとも樹脂を含む光学調整層は、透明フィルム基材側から、第１光学調整層、及び第２光学調整層が順次形成されたものである。
また、視認性の点から両層は接して形成されるのが好ましい。
そして、光学調整層は下記条件を満足するものである。
（Ａ）第１光学調整層の屈折率ｎ１が、１．５〜１．７８である
（Ｂ）第２光学調整層の屈折率ｎ２が、１．６〜１．８である
（Ｃ）ｎ１＜ｎ２の関係を有する
なお、本発明の透明導電フィルムにおいて、屈折率とは、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率を意味し、分光反射スペクトル測定により測定することができる。また、各層の厚さは物理的な厚さを意味し、蛍光Ｘ線分析装置により測定することができる。
The optical adjustment layer containing at least the resin formed on the transparent conductive film of the present invention is obtained by sequentially forming the first optical adjustment layer and the second optical adjustment layer from the transparent film substrate side.
Moreover, it is preferable that both layers are formed in contact from the viewpoint of visibility.
The optical adjustment layer satisfies the following conditions.
(A) Refractive index n1 of the first optical adjustment layer is 1.5 to 1.78 (B) Refractive index n2 of the second optical adjustment layer is 1.6 to 1.8 (C) n1 In addition, in the transparent conductive film of this invention which has the relationship of <n2, a refractive index means the refractive index with respect to the light of wavelength 550nm, and can be measured by spectral reflection spectrum measurement. The thickness of each layer means a physical thickness and can be measured by a fluorescent X-ray analyzer.
光学調整層は、上記の通り、屈折率の異なる、しかもそれぞれ特定の範囲の屈折率を有する第１光学調整層と第２光学調整層とを積層して形成することで、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を有するものとなるのである。 As described above, the optical adjustment layer is formed by laminating the first optical adjustment layer and the second optical adjustment layer, which have different refractive indexes and each have a specific range of refractive index. This is because the film has excellent visibility.
光学調整層は、少なくとも樹脂を含む薄膜層であり、樹脂のみからなる薄膜層でももちろんよいが、分散剤や光重合開始剤等の添加剤のほか、光学調整層の屈折率を所望の屈折率とする目的で、樹脂に高屈折率微粒子を混入した薄膜層としても構わない。 The optical adjustment layer is a thin film layer containing at least a resin, and may be a thin film layer made only of a resin. Of course, in addition to additives such as a dispersant and a photopolymerization initiator, the refractive index of the optical adjustment layer is set to a desired refractive index. For this purpose, a thin film layer in which high refractive index fine particles are mixed in a resin may be used.
第１光学調整層は、少なくとも樹脂を含む薄膜層であり、屈折率ｎ１は、１．５〜１．７８であり、より好ましくは、１．６１〜１．６８である。
屈折率ｎ１が上記範囲でないと、例え、後で詳述する第１光学調整層の厚さ、及び第２光学調整層の屈折率ｎ２や厚さを調整しても、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができない場合があるので好ましくない。
The first optical adjustment layer is a thin film layer containing at least a resin, and the refractive index n1 is 1.5 to 1.78, and more preferably 1.61 to 1.68.
If the refractive index n1 is not in the above range, even if the thickness of the first optical adjustment layer and the refractive index n2 and thickness of the second optical adjustment layer, which will be described in detail later, are adjusted, the transparent conductive film of the present invention Is not preferable because it may not be able to exhibit excellent visibility.
第１光学調整層に使用する樹脂、及び高屈折率微粒子は、第１光学調整層が上記屈折率ｎ１の範囲を満足することができれば、特に制限はなく、樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等が使用できるが、中でもポリエステル系樹脂が特に好ましい。
また、屈折率ｎ１を調整するための高屈折率微粒子としては、酸化ジルコニウム微粒子、酸化チタン微粒子等が使用でき、混入量は、樹脂に対して３５〜１７０重量％が好ましい。
The resin used for the first optical adjustment layer and the high refractive index fine particles are not particularly limited as long as the first optical adjustment layer can satisfy the range of the refractive index n1, and examples of the resin include acrylic resins and polyesters. Resin, urethane resin, etc. can be used, and polyester resin is particularly preferable among them.
Further, as the high refractive index fine particles for adjusting the refractive index n1, zirconium oxide fine particles, titanium oxide fine particles and the like can be used, and the mixing amount is preferably 35 to 170% by weight with respect to the resin.
第１光学調整層の厚さは、３０〜１５０ｎｍが好ましく、より好ましくは６０〜１１０ｎｍである。
厚さが、上記範囲でないと、例え、第１光学調整層の屈折率ｎ１、及び第２光学調整層の屈折率ｎ２や厚さを調整しても、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができない場合があるので好ましくない。
The thickness of the first optical adjustment layer is preferably 30 to 150 nm, more preferably 60 to 110 nm.
If the thickness is not in the above range, the transparent conductive film of the present invention has excellent visual recognition even if the refractive index n1 of the first optical adjustment layer and the refractive index n2 and thickness of the second optical adjustment layer are adjusted. This is not preferable because the properties may not be exhibited.
第１光学調整層に使用する樹脂の種類や高屈折率微粒子の種類、屈折率ｎ１は、第１光学調整層の所望の屈折率や厚さにより、適宜決定すればよい。 The type of resin used in the first optical adjustment layer, the type of high refractive index fine particles, and the refractive index n1 may be appropriately determined depending on the desired refractive index and thickness of the first optical adjustment layer.
第２光学調整層は、少なくとも樹脂を含む薄膜層であり、屈折率ｎ２は、１．６〜１．８であり、より好ましくは、１．６９〜１．７５である。
屈折率ｎ２が上記範囲でないと、例え、第２光学調整層の厚さ、及び第１光学調整層の屈折率ｎ１や厚さを調整しても、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができない場合があるので好ましくない。
A 2nd optical adjustment layer is a thin film layer containing resin at least, and refractive index n2 is 1.6-1.8, More preferably, it is 1.69-1.75.
If the refractive index n2 is not in the above range, the transparent conductive film of the present invention has excellent visibility even if the thickness of the second optical adjustment layer and the refractive index n1 and thickness of the first optical adjustment layer are adjusted. This is not preferable because it may not be possible to exhibit.
第２光学調整層に使用する樹脂、及び高屈折率微粒子は、第２光学調整層が上記屈折率ｎ２の範囲を満足することができれば、特に制限はなく、樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等が使用できるが、中でもアクリル系樹脂が特に好ましい。
また、屈折率ｎ２を調整するための高屈折率微粒子としては、酸化ジルコニウム微粒子、酸化チタン微粒子等が使用でき、混入量は、樹脂に対して６０〜２４０重量％が好ましい。
The resin and the high refractive index fine particles used for the second optical adjustment layer are not particularly limited as long as the second optical adjustment layer can satisfy the range of the above refractive index n2. Examples of the resin include acrylic resins and polyesters. Of these, acrylic resins and urethane resins can be used, and among them, acrylic resins are particularly preferable.
Further, as the high refractive index fine particles for adjusting the refractive index n2, zirconium oxide fine particles, titanium oxide fine particles and the like can be used, and the mixing amount is preferably 60 to 240% by weight with respect to the resin.
第２光学調整層の厚さは、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは７０〜１５０ｎｍである。
厚さが、上記範囲でないと、例え、第２光学調整層の屈折率ｎ２、及び第１光学調整層の屈折率ｎ１や厚さを調整しても、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができない場合があるので好ましくない。
The thickness of the second optical adjustment layer is preferably 30 to 200 nm, more preferably 70 to 150 nm.
If the thickness is not in the above range, even if the refractive index n2 of the second optical adjustment layer and the refractive index n1 and the thickness of the first optical adjustment layer are adjusted, the transparent conductive film of the present invention has excellent visual recognition. This is not preferable because the properties may not be exhibited.
第２光学調整層に使用する樹脂の種類や高屈折率微粒子の種類、屈折率ｎ２は、第２光学調整層の所望の屈折率や厚さにより、適宜決定すればよい。 The type of resin used in the second optical adjustment layer, the type of high refractive index fine particles, and the refractive index n2 may be appropriately determined depending on the desired refractive index and thickness of the second optical adjustment layer.
また、第１光学調整層の屈折率ｎ１の範囲と第２光学調整層の屈折率ｎ２の範囲は相当程度重なるが、前記の通り、ｎ１＜ｎ２の関係を満足するものである。
ｎ１＜ｎ２の関係を満足することで、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮することができるのである。
さらに、ｎ１とｎ２の差が、０．０４〜０．１４であれば、視認性の点から万全である。
In addition, the range of the refractive index n1 of the first optical adjustment layer and the range of the refractive index n2 of the second optical adjustment layer substantially overlap, but as described above, the relationship of n1 <n2 is satisfied.
By satisfying the relationship of n1 <n2, the transparent conductive film of the present invention can exhibit excellent visibility.
Furthermore, if the difference between n1 and n2 is 0.04 to 0.14, it is perfect from the viewpoint of visibility.
第１光学調整層、及び第２光学調整層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。 As a method for forming the first optical adjustment layer and the second optical adjustment layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
本発明の透明導電フィルムは、上記光学調整層上に、直接、あるいは後述する光学機能層を介して、透明導電層が形成される。
本発明の透明導電フィルムに形成される透明導電層は、透明導電フィルムの最表層に形成される層であり、透明な導電性金属酸化物の薄膜層からなり、本発明の透明導電フィルムに導電性を付与する役割を果たすものである。
透明導電層に使用する透明な導電性金属酸化物薄膜層としては、酸化インジウム薄膜層、酸化スズ薄膜層、酸化亜鉛薄膜層、酸化カドミウム薄膜層、酸化インジウムに酸化スズをドープした薄膜層（ＩＴＯ薄膜層）等、従来透明導電フィルムの透明導電層として使用されている導電性金属酸化物薄膜層が使用できる。
中でも、導電性に優れたＩＴＯ薄膜層が特に好ましい。
In the transparent conductive film of the present invention, a transparent conductive layer is formed on the optical adjustment layer directly or via an optical functional layer described later.
The transparent conductive layer formed on the transparent conductive film of the present invention is a layer formed on the outermost layer of the transparent conductive film, and consists of a thin film layer of a transparent conductive metal oxide. It plays a role of imparting sex.
The transparent conductive metal oxide thin film layer used for the transparent conductive layer includes an indium oxide thin film layer, a tin oxide thin film layer, a zinc oxide thin film layer, a cadmium oxide thin film layer, a thin film layer in which indium oxide is doped with tin oxide (ITO A conductive metal oxide thin film layer conventionally used as a transparent conductive layer of a transparent conductive film such as a thin film layer) can be used.
Among these, an ITO thin film layer excellent in conductivity is particularly preferable.
透明導電層は、本発明の透明導電フィルムが有する表面抵抗率の大部分を決定する役割を果たすものであり、その表面抵抗率は大よそ５〜１０００Ω／□が好ましく、５〜３００Ω／□であればより好ましい。
また、透明導電層の厚さは、上記表面抵抗率を有する程度の厚さであればよく、使用する透明な導電性金属酸化物薄膜層の種類にもよるが大よそ１０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましい。
厚さが１０ｎｍより薄いと、表面抵抗率が安定しにくくなる傾向が見られ、所望の導電性を安定して得られない場合があるので好ましくない。
他方、厚さが５００ｎｍより厚いと、膜応力により、透明導電層にクラックが生じて導電性が悪くなる場合があるので好ましくない。
より好ましい透明導電層の厚さは、１５ｎｍ〜１００ｎｍである。
The transparent conductive layer plays a role of determining most of the surface resistivity of the transparent conductive film of the present invention, and the surface resistivity is preferably about 5 to 1000Ω / □, preferably 5 to 300Ω / □. More preferably.
Moreover, the thickness of a transparent conductive layer should just be the thickness which has the said surface resistivity, and although it depends on the kind of transparent conductive metal oxide thin film layer to be used, about 10 nm-500 nm are preferable.
If the thickness is less than 10 nm, the surface resistivity tends to be difficult to stabilize, and the desired conductivity may not be stably obtained.
On the other hand, if the thickness is larger than 500 nm, the transparent conductive layer may be cracked due to film stress and the conductivity may be deteriorated.
A more preferable thickness of the transparent conductive layer is 15 nm to 100 nm.
透明導電層の形成方法は、従来公知の形成方法が使用でき、真空蒸着法、スパッタリング蒸着法、電子ビーム蒸着法、ＣＶＤ法等の蒸着法や、ゾル−ゲル法などのコーティング法等が使用できる。 As a method for forming the transparent conductive layer, a conventionally known formation method can be used, such as a vacuum deposition method, a sputtering deposition method, an electron beam deposition method, a CVD method, or a coating method such as a sol-gel method. .
本発明の透明導電フィルムに形成される光学機能層は、光学調整層上に形成され、本発明の透明導電フィルムの透明性を向上する役割、及び光学調整層とともに、視認性を向上する役割も果たす。
また、透明フィルム基材や光学調整層からはオリゴマー等が析出する場合があり、該オリゴマー等が透明導電層まで達すると本発明の透明導電フィルムの導電性に影響を与えることがある。
光学機能層は、オリゴマー等が透明導電層に達することを防止する役割、すなわちバリア層としての役割も果たすものである。
The optical functional layer formed on the transparent conductive film of the present invention is formed on the optical adjustment layer, and improves the transparency of the transparent conductive film of the present invention and also improves the visibility along with the optical adjustment layer. Fulfill.
Moreover, an oligomer etc. may precipitate from a transparent film base material or an optical adjustment layer, and when this oligomer etc. reach a transparent conductive layer, it may affect the electroconductivity of the transparent conductive film of this invention.
The optical functional layer also serves to prevent oligomers and the like from reaching the transparent conductive layer, i.e., as a barrier layer.
光学機能層は、上記役割を果たせるものであれば特に制限はなく、金属酸化物薄膜層、金属化合物薄膜層、樹脂薄膜層等が使用できる。
金属酸化物薄膜層としては、例えば、ケイ素酸化物薄膜層、アルミニウム酸化物薄膜層、マグネシウム酸化物薄膜層等が使用できる。
金属化合物薄膜層としては、例えば、フッ化マグネシウム薄膜層、フッ化カルシウム薄膜層等が使用できる。
樹脂薄膜層としては、ポリエステル系樹脂薄膜層、アクリル系樹脂薄膜層、メラミン系樹脂薄膜層、フッ素系樹脂薄膜層、シロキサン系樹脂薄膜層、シリコーン系樹脂薄膜層等が使用できる。
The optical functional layer is not particularly limited as long as it can fulfill the above role, and a metal oxide thin film layer, a metal compound thin film layer, a resin thin film layer, and the like can be used.
As the metal oxide thin film layer, for example, a silicon oxide thin film layer, an aluminum oxide thin film layer, a magnesium oxide thin film layer, or the like can be used.
As a metal compound thin film layer, a magnesium fluoride thin film layer, a calcium fluoride thin film layer, etc. can be used, for example.
As the resin thin film layer, a polyester resin thin film layer, an acrylic resin thin film layer, a melamine resin thin film layer, a fluorine resin thin film layer, a siloxane resin thin film layer, a silicone resin thin film layer, or the like can be used.
また、光学機能層は、金属酸化物薄膜層、金属化合物薄膜層、樹脂薄膜層の何れかを１層のみ形成してもよく、これらの薄膜層を２層以上組み合わせて形成しても構わない。
光学機能層を２層以上の積層とする場合は、光学機能層を構成する各層が上記役割を果たす必要はなく、光学機能層全体として上記役割を果たせればよい。
例えば、光学機能層をＡ層、及びＢ層の２層とした場合、透明性を向上する役割と視認性を向上する役割はＡ層及びＢ層からなる光学機能層全体が担い、バリア層としての役割はＢ層のみに担わせることができる。
従って、光学機能層を２層以上の積層とする場合は、光学機能層全体として上記役割を果たすことができればよく、必ずしも光学機能層を構成する各層全てが上記の薄膜層に限定されるわけではない。
但し、光学機能層を２層以上の積層とする場合において、バリア層としての役割を担う層は、透明導電層と接して形成しておくことが好ましい。
Further, the optical functional layer may be formed of only one metal oxide thin film layer, metal compound thin film layer, or resin thin film layer, or may be formed by combining two or more of these thin film layers. .
When the optical functional layer is a laminate of two or more layers, each layer constituting the optical functional layer does not need to play the above role, and the optical functional layer only has to play the above role.
For example, when the optical functional layer is composed of two layers, an A layer and a B layer, the role of improving the transparency and the role of improving the visibility are played by the entire optical functional layer composed of the A layer and the B layer. The role of can be played only by the B layer.
Therefore, in the case where two or more optical function layers are laminated, it is sufficient that the optical function layer as a whole can play the above role, and not all the layers constituting the optical function layer are necessarily limited to the thin film layer. Absent.
However, when the optical functional layer is a laminate of two or more layers, the layer serving as the barrier layer is preferably formed in contact with the transparent conductive layer.
また、光学機能層を１層とする場合、前記の金属酸化物薄膜層、金属化合物薄膜層、樹脂薄膜層等の何れかの薄膜層が使用できるが、光学機能層として上記全ての役割を果たすためには、屈折率が１．４以上１．７未満（より好ましくは１．４〜１．５）であることが好ましく、また、厚さが５〜２００ｎｍであるのが好ましい。
厚さが５ｎｍ未満では、光学機能層としての特性が十分に発揮されず、光学調整層との屈折率の差が小さくなり、光学機能層としての役割（透明性を向上する役割、及び光学調整層との併用により視認性を向上する役割）が十分に果たせなくなる場合があるため、好ましくない。
他方、２００ｎｍを超えると、膜応力によりクラックが入りやすくなるで、好ましくない。より好ましい光学機能層の厚さは、１０ｎｍ〜５０ｎｍである。
When the optical functional layer is a single layer, any one of the above-described thin film layers such as the metal oxide thin film layer, the metal compound thin film layer, and the resin thin film layer can be used. Therefore, the refractive index is preferably 1.4 or more and less than 1.7 (more preferably 1.4 to 1.5), and the thickness is preferably 5 to 200 nm.
When the thickness is less than 5 nm, the characteristics as the optical function layer are not sufficiently exhibited, the difference in refractive index from the optical adjustment layer becomes small, and the role as the optical function layer (the role of improving transparency and optical adjustment). The role of improving the visibility by the combined use with the layer) may not be sufficiently achieved, which is not preferable.
On the other hand, if it exceeds 200 nm, cracks are likely to occur due to film stress, which is not preferable. A more preferable thickness of the optical functional layer is 10 nm to 50 nm.
光学機能層を１層とする場合、光学機能層を、ケイ素酸化物薄膜層としておくのが好ましい。
光学機能層をケイ素酸化物薄膜層とした場合は、ケイ素酸化物は理論上の組成式ではＳｉＯ２と表されるが、必ずしもＳｉとＯの元素比が厳密に１：２である必要はなく、上記屈折率を満足する範囲で、ＳｉとＯの元素比が多少大きくなったり小さくなったりしているもの（具体的には組成式ＳｉＯｘにおいて、ｘが１．６〜２．１の範囲内にあるもの）も、本発明の透明導電フィルムにて使用されるケイ素酸化物に含まれる。なお、本明細書では、上記ＳｉＯｘ（１．６≦ｘ≦２．１）を代表して、ＳｉＯ２と表記する。
When the optical functional layer is a single layer, the optical functional layer is preferably a silicon oxide thin film layer.
When the optical functional layer is a silicon oxide thin film layer, the silicon oxide is expressed as SiO 2 in the theoretical composition formula, but the element ratio of Si and O is not necessarily strictly 1: 2. In the range satisfying the above refractive index, the element ratio of Si and O is somewhat larger or smaller (specifically, in the composition formula SiOx, x is in the range of 1.6 to 2.1) Are also included in the silicon oxide used in the transparent conductive film of the present invention. In this specification, the above SiOx (1.6 ≦ x ≦ 2.1) is represented as SiO 2 .
また、本発明の透明導電フィルムを、静電容量方式のタッチパネルに用いるために、少なくとも透明導電層を、Ｘ方向又はＹ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部として形成しておいてもよい。
また、タッチパネルだけでなく、太陽電池や有機ＥＬ等の透明電極用に使用可能とするために、少なくとも、透明導電層を回路状にした回路を形成しておいても構わない。
パターン状の電極部や回路を形成する方法として、薬品やレーザーを利用したエッチングや、水溶性樹脂層を利用する方法が挙げられる。
Further, in order to use the transparent conductive film of the present invention for a capacitive touch panel, at least the transparent conductive layer is formed as a patterned electrode portion electrically connected in the X direction or the Y direction. Also good.
Moreover, in order to be usable not only for a touch panel but also for a transparent electrode such as a solar battery or an organic EL, at least a circuit having a transparent conductive layer in a circuit shape may be formed.
Examples of methods for forming patterned electrode portions and circuits include etching using chemicals and lasers, and methods using a water-soluble resin layer.
例えば、エッチングによりパターン状の電極部を形成する方法では、透明フィルム基材上に、光学調整層、必要により光学機能層、及び透明導電層を順次全面に形成した後、透明導電層上に、レジスト材料をパターン状の電極部の形状に塗布し、エッチング溶液（塩化第二鉄水溶液、よう素酸水溶液、塩酸、王水、シュウ酸水溶液などの溶液）で処理して、レジスト材料が塗布されていない部分（非電極部となる部分）については、少なくとも透明導電層を除去し（すなわち、光学調整層と光学機能層は残存させる）、レジスト材料が塗布された部分（電極部となる部分）については、光学調整層、必要により光学機能層、及び透明導電層）を残存させる。その後、レジスト材料を除去することによって、透明フィルム基材上に、光学調整層、及び必要により光学機能層が全面に形成され、その上に、透明導電層からなるパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムを製造することができる。 For example, in the method of forming a patterned electrode portion by etching, an optical adjustment layer, if necessary, an optical functional layer, and a transparent conductive layer are sequentially formed on the entire surface on a transparent film substrate, and then on the transparent conductive layer. The resist material is applied in the shape of a patterned electrode part, treated with an etching solution (solution of ferric chloride aqueous solution, iodic acid aqueous solution, hydrochloric acid, aqua regia, oxalic acid aqueous solution, etc.) to apply the resist material. At least the transparent conductive layer is removed (that is, the optical adjustment layer and the optical functional layer are left), and the resist material is applied (the portion that becomes the electrode portion). , The optical adjustment layer, and optionally the optical functional layer and the transparent conductive layer) are left. Thereafter, by removing the resist material, an optical adjustment layer and, if necessary, an optical functional layer are formed on the entire surface of the transparent film substrate, and a patterned electrode portion comprising a transparent conductive layer is formed thereon. In addition, the transparent conductive film of the present invention can be produced.
また、水溶性樹脂層を利用して、パターン状の電極部を形成する方法として、例えば、透明フィルム基材の片面に、光学調整層、及び必要により光学機能層を全面に形成し、その上に、電極部を形成する部分以外の部分（非電極部となる部分）に水溶性樹脂層を形成し、さらに、透明導電層を全面に形成した後、水に浸漬するなどして、水溶性樹脂層と該水溶性樹脂層上の透明導電層を除去するとともに、水溶性樹脂層が形成されていない部分（電極部となる部分）の透明導電層を残存させる方法が挙げられる。この方法によっても、透明フィルム基材上に、光学調整層、及び必要により光学機能層が全面に形成され、その上に、透明導電層からなるパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムを製造することができる。 Further, as a method of forming a patterned electrode portion using a water-soluble resin layer, for example, an optical adjustment layer and, if necessary, an optical functional layer are formed on the entire surface on one side of a transparent film base material, In addition, a water-soluble resin layer is formed on a portion other than a portion where the electrode portion is formed (portion that becomes a non-electrode portion), and further, a transparent conductive layer is formed on the entire surface, and then immersed in water. There is a method of removing the resin layer and the transparent conductive layer on the water-soluble resin layer and leaving the transparent conductive layer in a portion where the water-soluble resin layer is not formed (portion serving as an electrode portion). Also by this method, the optical adjustment layer and, if necessary, the optical functional layer are formed on the entire surface of the transparent film substrate, and the patterned electrode portion formed of the transparent conductive layer is formed thereon. A conductive film can be manufactured.
尚、パターン状の電極部を形成する上記例は何れも、透明導電層のみをエッチングにより除去することにより、透明フィルム基材上に、光学調整層、必要により光学機能層、透明導電層からなるパターン状の電極部と、透明導電層のみが残存していない（透明フィルム基材上に、光学調整層、必要により光学機能層が形成された）非電極部を形成するものであるが、光学機能層を形成した場合には、光学機能層、及び透明導電層の両方をエッチングにより除去することにより、透明フィルム基材上に、光学調整層、光学機能層、透明導電層からなるパターン状の電極部と、光学機能層、及び透明導電層の両層が残存していない（透明フィルム基材上に、光学調整層のみが形成された）非電極部を形成したものとしてももちろん構わない。 Each of the above examples for forming the patterned electrode portion comprises an optical adjustment layer, if necessary, an optical functional layer, and a transparent conductive layer on the transparent film substrate by removing only the transparent conductive layer by etching. The pattern-shaped electrode part and the non-electrode part in which only the transparent conductive layer does not remain (an optical adjustment layer and, if necessary, an optical functional layer is formed on the transparent film base) are formed. When the functional layer is formed, by removing both the optical functional layer and the transparent conductive layer by etching, the pattern of the optical adjustment layer, the optical functional layer, and the transparent conductive layer is formed on the transparent film substrate. Of course, the electrode part, the optical functional layer, and the transparent conductive layer may be left as a non-electrode part in which only the optical adjustment layer is formed on the transparent film substrate.
パターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムは、透明導電層が形成されている電極部と、少なくとも透明導電層が形成されていない非電極部が形成されているが、前記の通り、本発明の透明導電フィルムは、少なくとも透明導電層の一部をエッチングにより除去した場合、透明導電層が除去されずに残存している部分（電極部）と、透明導電層が除去され残存していない部分（非電極部）とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できない（視認できない）。従ってパターン状の電極部の存在を視認できない程度に、透明導電フィルム全体が均一な色目や透明性を有しており、視認性に非常に優れている。 The transparent conductive film of the present invention in which a patterned electrode portion is formed includes an electrode portion in which a transparent conductive layer is formed and a non-electrode portion in which at least a transparent conductive layer is not formed. As described above, in the transparent conductive film of the present invention, when at least a part of the transparent conductive layer is removed by etching, the transparent conductive layer remains without being removed (electrode part) and the transparent conductive layer is removed and remains. Since the difference in color and transparency can hardly be visually discerned from the part that is not (non-electrode part), the presence of the electrode part is hardly recognizable by visual observation (not visible). Therefore, the entire transparent conductive film has a uniform color and transparency to the extent that the presence of the patterned electrode portion cannot be visually recognized, and is very excellent in visibility.
ここで、視認性について詳細に説明する。
上記の通り、視認性は、電極部と非電極部とで、色目や透明性の違いが目視ではほとんど区別できないため、電極部の存在が目視によりほとんど認識できないことである。
より具体的には、色目や透明性の指標となる、全光線透過率（平行光線透過率と拡散光線透過率との合計透過率 波長は紫外線、可視光線、近赤外線の領域）、可視光反射率（特定角度における可視光線の正反射率）、ヘイズ（拡散光線透過率／全光線透過率）、色調（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）等の値が、電極部と非電極部との間で、ほとんど差がない（近似の値を示す）ほど、すなわち、電極部と非電極部で、これらの値が近いほど、視認性に優れていると考えられる。
ところが、発明者が鋭意研究した結果、必ずしもこれらの値が視認性の指標として適切ではない場合があることを見出した。
すなわち、例え、色目や透明性の指標となるべき上記値が電極部と非電極部とで近似していない場合でも、下記（イ）、及び（ロ）の条件を満足するものであれば、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を発揮できることがわかった。
（イ）
波長５５０〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線透過率の値から非電極部の光線透過率の値を引いた値（ΔＴ）の絶対値が、０．５以下である。
（ロ）
波長５００〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線反射率の値から非電極部の光線反射率の値を引いた値（ΔＲ）が、−１．５〜０である。
尚、上記条件（イ）については、波長５５０〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線透過率の値から非電極部の光線透過率の値を引いた値（ΔＴ）の絶対値が、０．２以下としておけば万全である。
言い換えると、パターン状の電極部を形成した場合の本発明の透明導電フィルムが、上記条件（イ）、及び（ロ）を満足するように、透明導電フィルムの構成（光学機能層の有無、透明導電層の厚さ（所望の導電性））、透明フィルム基材、第１光学調整層、第２光学調整層、及び光学機能層の種類、屈折率、厚さ等を適宜調整することにより、本発明の透明導電フィルムが優れた視認性を有するものとなる。
Here, the visibility will be described in detail.
As described above, the visibility is that the difference in color and transparency between the electrode portion and the non-electrode portion is hardly distinguishable by visual observation, so that the presence of the electrode portion is hardly recognized by visual observation.
More specifically, the total light transmittance (the total transmittance of the parallel light transmittance and the diffuse light transmittance, the wavelength is in the ultraviolet, visible light, and near infrared region), visible light reflection, which is an indicator of color and transparency The values of the ratio (regular reflectance of visible light at a specific angle), haze (diffuse light transmittance / total light transmittance), color tone (L * a * b * ), etc. are between the electrode part and the non-electrode part. It is considered that the visibility is better as there is almost no difference (indicating an approximate value), that is, the closer these values are between the electrode part and the non-electrode part.
However, as a result of extensive research by the inventor, it has been found that these values may not always be appropriate as visibility indicators.
That is, for example, even if the above values that should be used as an index of color and transparency are not approximated by the electrode part and the non-electrode part, if the following conditions (a) and (b) are satisfied, It turned out that the transparent conductive film of this invention can exhibit the outstanding visibility.
(I)
The absolute value of the value (ΔT) obtained by subtracting the value of the light transmittance of the non-electrode portion from the value of the light transmittance of the electrode portion at each wavelength in the wavelength range of 550 to 700 nm is 0.5 or less.
(B)
The value (ΔR) obtained by subtracting the value of the light reflectance of the non-electrode portion from the value of the light reflectance of the electrode portion at each wavelength in the wavelength range of 500 to 700 nm is −1.5 to 0.
In addition, about the said condition (I), the absolute value of the value ((DELTA) T) which subtracted the value of the light transmittance of a non-electrode part from the value of the light transmittance of an electrode part in each wavelength in the wavelength range of 550-700 nm. However, if it is set to 0.2 or less, it is satisfactory.
In other words, the transparent conductive film of the present invention when the patterned electrode portion is formed satisfies the above conditions (A) and (B). By appropriately adjusting the thickness of the conductive layer (desired conductivity), the transparent film substrate, the first optical adjustment layer, the second optical adjustment layer, and the optical function layer, the refractive index, the thickness, etc. The transparent conductive film of the present invention has excellent visibility.
次に、本発明の透明導電積層体について説明する。
パターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムは、２枚重ねて透明導電積層体として使用する場合に特に好適である。このような透明導電積層体は、上層の透明導電フィルムの非導電処理面（すなわち、透明フィルム基材側の面）と、下層の透明導電フィルムの導電処理面（すなわち、透明導電層側の面）とが対向するように積層し、透明粘着剤層で貼り合わせることによって製造することができる。
透明粘着剤層に使用する透明粘着剤としては、当該分野において透明導電フィルムを貼り合わせるために使用されている通常の透明粘着剤を使用することができる。例えば、アクリル系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤等の透明粘着剤である。透明粘着剤層は、２枚の透明導電フィルムの間に介在する均一な層となるように形成されることが好ましい。均一な層とするには、２枚のプラスチックシート間に均一に塗布された透明粘着剤層が形成されている市販の光学用の高透明性粘着剤（ＯＣＡ）転写シートを使用して、透明導電フィルムに当該透明粘着剤層を転写することが好ましい。
本発明の透明導電積層体も、透明導電フィルム同様、優れた視認性を有する。
Next, the transparent conductive laminate of the present invention will be described.
The transparent conductive film of the present invention in which a patterned electrode portion is formed is particularly suitable when two sheets are used as a transparent conductive laminate. Such a transparent conductive laminate includes a non-conductive treatment surface of the upper transparent conductive film (that is, a surface on the transparent film substrate side) and a conductive treatment surface of the lower transparent conductive film (that is, the surface on the transparent conductive layer side). Are laminated so as to face each other and are bonded together with a transparent adhesive layer.
As a transparent adhesive used for a transparent adhesive layer, the normal transparent adhesive currently used in order to stick a transparent conductive film in the said field | area can be used. For example, transparent adhesives such as acrylic adhesives and polyether adhesives. The transparent pressure-sensitive adhesive layer is preferably formed to be a uniform layer interposed between two transparent conductive films. In order to obtain a uniform layer, a transparent optical adhesive (OCA) transfer sheet for optical use in which a transparent adhesive layer uniformly applied between two plastic sheets is formed and transparent is used. It is preferable to transfer the transparent adhesive layer to a conductive film.
The transparent conductive laminate of the present invention also has excellent visibility like the transparent conductive film.
次に、本発明のタッチパネルについて説明する。
本発明のタッチパネルとしては、上記透明導電積層体を利用する静電容量方式のタッチパネルが特に好ましく、このような静電容量方式のタッチパネルは、ガラス基板上に積層した上記透明導電積層体の端部に電極を形成することによって製造することができる。また、本発明の透明導電フィルムは、静電容量方式以外のタッチパネルに使用することもでき、例えば、抵抗膜方式のタッチパネルとする場合、ガラス表面に形成した透明導電層と、本発明の透明導電フィルムの透明導電層とを対向させたものの間に、あるいは本発明の透明導電フィルム２枚を、透明導電層面同士が対向するように配置したものの間に、ドットスペーサーを介在させ、端部に電極を形成することによって製造することができる。この時使用する透明導電フィルムはパターン状の電極部を形成したものでも、形成していないものでも構わない。
Next, the touch panel of the present invention will be described.
As the touch panel of the present invention, a capacitive touch panel using the transparent conductive laminate is particularly preferable, and such a capacitive touch panel is an end of the transparent conductive laminate laminated on a glass substrate. It can manufacture by forming an electrode in this. Moreover, the transparent conductive film of this invention can also be used for touch panels other than an electrostatic capacitance type, for example, when setting it as a resistive film type touch panel, the transparent conductive layer formed in the glass surface, and the transparent conductive film of this invention Between the transparent conductive layer of the film facing each other, or between the two transparent conductive films of the present invention arranged so that the transparent conductive layer surfaces face each other, a dot spacer is interposed, and an electrode is formed at the end. Can be manufactured. The transparent conductive film used at this time may be formed with or without a patterned electrode portion.
本発明の透明導電フィルムは、２枚重ねて透明導電積層体とした場合だけでなく、実際の静電容量方式タッチパネルのように、ガラス基板上に透明導電積層体を配置した構成とした際にも、優れた視認性を有する。 The transparent conductive film of the present invention is not only a case where two sheets are stacked to form a transparent conductive laminate, but also when the transparent conductive laminate is arranged on a glass substrate as in an actual capacitive touch panel. Also has excellent visibility.
本発明の光線調整フィルムは、透明フィルム基材の片面に、少なくとも樹脂を含む光学調整層が形成されており、光学調整層が、透明フィルム基材側から、第１光学調整層、及び第２光学調整層が順次形成されたものである。
また、必要により、光学調整層上に光学機能層を形成しても構わない。
透明フィルム基材、光学調整層、及び光学機能層の詳細は、前記の通りである。
本発明の光学調整フィルムの光学調整層上、又は光学機能層上に、透明導電層を形成することにより、本発明の透明導電フィルムを得ることができる。
もちろん、当該本発明の透明導電フィルムを使用して本発明の透明導電積層体やタッチパネルを得ることもできる。
従って、本発明の透明導電フィルム、透明導電積層体、及びタッチパネルを製造するために、本発明の光線調整フィルムを使用すれば最適である。
In the light adjustment film of the present invention, an optical adjustment layer containing at least a resin is formed on one side of a transparent film substrate, and the optical adjustment layer includes a first optical adjustment layer and a second optical adjustment layer from the transparent film substrate side. An optical adjustment layer is sequentially formed.
If necessary, an optical functional layer may be formed on the optical adjustment layer.
The details of the transparent film substrate, the optical adjustment layer, and the optical function layer are as described above.
The transparent conductive film of the present invention can be obtained by forming a transparent conductive layer on the optical adjustment layer or the optical functional layer of the optical adjustment film of the present invention.
Of course, the transparent conductive laminate of the present invention and the touch panel can be obtained using the transparent conductive film of the present invention.
Therefore, in order to manufacture the transparent conductive film, transparent conductive laminate, and touch panel of the present invention, it is optimal to use the light adjustment film of the present invention.
以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明は、実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to an Example.
＜光学調整フィルムの製造＞
［実施例１］
厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明プラスチックフィルム）の片面に、ポリエステル系樹脂からなる屈折率１．６３、厚さ８４ｎｍの第１光学調整層を全面形成し、次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムの他の片面に、ポリエステル系樹脂からなる屈折率１．６３、厚さ８４ｎｍの易接着樹脂層を形成した後、その上に、リバースコート法により、アクリル系樹脂からなる屈折率１．５３、厚さ２μｍの透明ハードコート層を形成した。
次に、第１光学調整層の上に、アクリル系樹脂と酸化ジルコニウム微粒子からなる屈折率１．６９、厚さ１０４ｎｍの第２光学調整層（アクリル系樹脂に対する酸化ジルコニウムの含有量：１１５重量％）を形成し、その上に、原料にＳｉ、プロセスガスにアルゴンガス、反応ガスに酸素ガスを用いてスパッタリング蒸着法により、屈折率１．４６、厚さ１３ｎｍのＳｉＯ２薄膜層（光学機能層）を形成し、ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる透明フィルム基材のポリエチレンテレフタレートフィルム面上に、第１光学調整層、第２光学調整層、及び光学機能層を順次形成した、本発明の光学調整フィルムを製造した。
尚、上記各層は透明プラスチックフィルム上に全面に形成した。
また、上記プロセスガスとは、スパッタリング（原料を叩き出す）に使用するプラズマを作る為のガスであり、反応ガスとは、スパッタリングされた原料と反応させる為のガスである。
<Manufacture of optical adjustment film>
[Example 1]
A first optical adjustment layer made of polyester resin having a refractive index of 1.63 and a thickness of 84 nm is formed on one side of a 125 μm thick polyethylene terephthalate film (transparent plastic film). An easy-adhesive resin layer having a refractive index of 1.63 and a thickness of 84 nm made of polyester resin is formed on one surface, and then a refractive index of 1.53 made of acrylic resin and a thickness of 2 μm is formed thereon by reverse coating. A transparent hard coat layer was formed.
Next, on the first optical adjustment layer, a second optical adjustment layer having a refractive index of 1.69 consisting of acrylic resin and zirconium oxide fine particles and a thickness of 104 nm (content of zirconium oxide with respect to acrylic resin: 115 wt%). And a SiO 2 thin film layer (optical functional layer) having a refractive index of 1.46 and a thickness of 13 nm by sputtering deposition using Si as a raw material, argon gas as a process gas, and oxygen gas as a reaction gas. And a first optical adjustment layer, a second optical adjustment layer, and an optical functional layer are sequentially formed on the surface of the polyethylene terephthalate film of the transparent film substrate comprising a hard coat layer / an easily adhesive resin layer / polyethylene terephthalate film. The optical adjustment film of the present invention was manufactured.
Each layer was formed on the entire surface of a transparent plastic film.
The process gas is a gas for generating plasma used for sputtering (striking out the raw material), and the reaction gas is a gas for reacting with the sputtered raw material.
＜透明導電フィルムの製造＞
［実施例２］
実施例１で製造した本発明の透明導電フィルムのＳｉＯ２薄膜層（光学機能層）上に、原料にＩＴＯを用いてスパッタリング蒸着法にて、厚さ１９ｎｍのＩＴＯ薄膜層（透明導電層）を全面に形成し、ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルム／第１光学調整層／第２光学調整層／ＳｉＯ２薄膜層／ＩＴＯ薄膜層（透明導電層）からなる本発明の透明導電フィルムを製造した。
尚、三菱化学社製のLoresta-GP MCP-T600を用いて測定した表面抵抗率は、２５８Ω／□であった。
<Manufacture of transparent conductive film>
[Example 2]
On the SiO 2 thin film layer (optical functional layer) of the transparent conductive film of the present invention produced in Example 1, an ITO thin film layer (transparent conductive layer) having a thickness of 19 nm was formed by sputtering deposition using ITO as a raw material. The transparent conductive material of the present invention formed on the entire surface and comprising a hard coat layer / adhesive resin layer / polyethylene terephthalate film / first optical adjustment layer / second optical adjustment layer / SiO 2 thin film layer / ITO thin film layer (transparent conductive layer) A film was produced.
In addition, the surface resistivity measured using Mitsubishi Chemical Corporation Loresta-GP MCP-T600 was 258Ω / □.
［比較例１］
特許文献１に開示された透明導電フィルムと同様の構成を有する透明導電フィルムを製造した。
具体的には、
厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明プラスチックフィルム）の片面に、ポリエステル系樹脂からなる屈折率１．６３、厚さ８４ｎｍの易接着樹脂層を形成し、その上に、リバースコート法により、アクリル系樹脂からなる屈折率１．５３、厚さ２μｍの透明ハードコート層を形成した。
次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムの他の片面に、アクリル系樹脂からなる屈折率１．５８、厚さ８ｎｍの樹脂層（有機誘電体層）を形成し、その上に、原料にＳｉ、プロセスガスにアルゴンガス、反応ガスに酸素ガスを用いてスパッタリング蒸着法により、屈折率１．４６、厚さ４０ｎｍのＳｉＯ２薄膜層（無機誘電体層）を形成し、さらに原料にＩＴＯを用いてスパッタリング蒸着法にて、厚さ２３ｎｍのＩＴＯ薄膜層（透明導電層）を形成し、ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルム／樹脂層／ＳｉＯ２薄膜層／ＩＴＯ薄膜層（透明導電層）からなる透明導電フィルムを製造した。
尚、上記各層は透明プラスチックフィルム上に全面に形成した。
また、実施例２と同様に測定した表面抵抗率は、２７０Ω／□であった。
[Comparative Example 1]
A transparent conductive film having the same configuration as the transparent conductive film disclosed in Patent Document 1 was produced.
In particular,
An easy-adhesive resin layer having a refractive index of 1.63 and a thickness of 84 nm made of a polyester resin is formed on one side of a 125 μm thick polyethylene terephthalate film (transparent plastic film), and an acrylic film is formed thereon by reverse coating. A transparent hard coat layer made of a resin having a refractive index of 1.53 and a thickness of 2 μm was formed.
Next, a resin layer (organic dielectric layer) made of acrylic resin having a refractive index of 1.58 and a thickness of 8 nm is formed on the other surface of the polyethylene terephthalate film. A SiO 2 thin film layer (inorganic dielectric layer) having a refractive index of 1.46 and a thickness of 40 nm is formed by sputtering vapor deposition using argon gas and oxygen gas as a reactive gas, and sputtering vapor deposition using ITO as a raw material. Then, an ITO thin film layer (transparent conductive layer) having a thickness of 23 nm is formed, and consists of a hard coat layer / adhesive resin layer / polyethylene terephthalate film / resin layer / SiO 2 thin film layer / ITO thin film layer (transparent conductive layer). A transparent conductive film was produced.
Each layer was formed on the entire surface of a transparent plastic film.
Further, the surface resistivity measured in the same manner as in Example 2 was 270Ω / □.
＜パターン状の電極部の形成＞
実施例２及び比較例１で製造した透明導電フィルムについて、Ｘ又はＹ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を、エッチング法により形成した。
<Formation of patterned electrode part>
About the transparent conductive film manufactured in Example 2 and Comparative Example 1, the pattern-shaped electrode part electrically connected to the X or Y direction was formed by the etching method.
［実施例３］
まず、実施例１で製造した本発明の透明導電フィルム（ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルム／第１光学調整層／第２光学調整層／ＳｉＯ２薄膜層／ＩＴＯ薄膜層）上に、レジスト材料（関西ペイント社製アレスSPR）をパターン状の電極部の形状に塗布し、エッチング液として２％塩酸水溶液を使用して、４０℃で７０秒間ウエットエッチング処理し、レジスト材料が塗布されていない部分についてはＩＴＯ薄膜層を除去するとともに、レジスト材料が塗布されている部分については、ＩＴＯ薄膜層を残存させた。その後、２％水酸化ナトリウム水溶液でレジスト材料を除去することにより、透明フィルム基材上に、第１光学調整層／第２光学調整層／ＳｉＯ２薄膜層が全面に形成され、その上に、Ｘ方向に電気的に接続されたＩＴＯ薄膜層からなるパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムを製造した。
尚、パターン状の電極部以外の部分は、ＩＴＯ薄膜層が残存しない、透明フィルム基材／第１光学調整層／第２光学調整層／ＳｉＯ２薄膜層からなる非電極部である。
さらに、上記と同様にして、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムも製造した。
[Example 3]
First, on the transparent conductive film of the present invention produced in Example 1 (hard coat layer / adhesive resin layer / polyethylene terephthalate film / first optical adjustment layer / second optical adjustment layer / SiO 2 thin film layer / ITO thin film layer) Next, apply a resist material (Ares SPR, manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) to the shape of the patterned electrode, and apply a 2% hydrochloric acid aqueous solution as an etching solution at 40 ° C. for 70 seconds to apply the resist material. The ITO thin film layer was removed from the unapplied portion, and the ITO thin film layer was left in the portion to which the resist material was applied. Thereafter, by removing the resist material with a 2% aqueous sodium hydroxide solution, a first optical adjustment layer / second optical adjustment layer / SiO 2 thin film layer is formed on the entire surface of the transparent film substrate. A transparent conductive film of the present invention in which a patterned electrode portion composed of an ITO thin film layer electrically connected in the X direction was formed was produced.
The portions other than the patterned electrode portions are non-electrode portions made of a transparent film substrate / first optical adjustment layer / second optical adjustment layer / SiO 2 thin film layer in which no ITO thin film layer remains.
Further, in the same manner as described above, a transparent conductive film of the present invention in which a patterned electrode portion electrically connected in the Y direction was formed was also produced.
［比較例２］
実施例１で製造した本発明の透明導電フィルムに代えて、比較例１で製造した透明導電フィルム（ハードコート層／易接着樹脂層／ポリエチレンテレフタレートフィルム／樹脂層／ＳｉＯ２薄膜層／ＩＴＯ薄膜層）を使用したこと以外は、実施例３と同様にして、透明フィルム基材上に、樹脂層／ＳｉＯ２薄膜層が全面に形成され、その上に、Ｘ方向に電気的に接続されたＩＴＯ薄膜層からなるパターン状の電極部が形成された比較例２の透明導電フィルムを製造した。
尚、パターン状の電極部以外の部分は、ＩＴＯ薄膜層が残存しない透明フィルム基材／樹脂層／ＳｉＯ２薄膜層／からなる非電極部である。
さらに、上記と同様にして、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を形成した比較例２の透明導電フィルムも製造した。
[Comparative Example 2]
Instead of the transparent conductive film of the present invention produced in Example 1, the transparent conductive film produced in Comparative Example 1 (hard coat layer / adhesive resin layer / polyethylene terephthalate film / resin layer / SiO 2 thin film layer / ITO thin film layer) In the same manner as in Example 3, except that a resin layer / SiO 2 thin film layer is formed on the entire surface of the transparent film substrate and electrically connected in the X direction. The transparent conductive film of the comparative example 2 in which the pattern-shaped electrode part which consists of a thin film layer was formed was manufactured.
The portions other than the patterned electrode portions are non-electrode portions formed of a transparent film substrate / resin layer / SiO 2 thin film layer / in which the ITO thin film layer does not remain.
Furthermore, the transparent conductive film of the comparative example 2 which formed the electrode part of the pattern shape electrically connected to the Y direction similarly to the above was also manufactured.
実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムと、比較例２で製造した透明導電フィルムを目視にて比較したところ、比較例２で製造した透明導電フィルムは、電極部の存在がはっきり視認でき、さらに電極部同士が重なる部分の存在はよりはっきりと視認でき、視認性に劣っていた。
一方、実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムは、電極部の存在はほとんど視認することができず、さらに電極部同士が重なる部分の存在についてもほとんど視認することができず視認性に非常に優れていた。
When the transparent conductive film of the present invention produced in Example 3 and the transparent conductive film produced in Comparative Example 2 were compared visually, the transparent conductive film produced in Comparative Example 2 clearly showed the presence of the electrode part. In addition, the presence of a portion where the electrode portions overlap each other can be clearly recognized, and the visibility is poor.
On the other hand, in the transparent conductive film of the present invention produced in Example 3, the presence of the electrode portion can hardly be visually recognized, and the presence of the portion where the electrode portions overlap can be hardly visually recognized. It was very good.
尚、図４、及び図５に下記のスペクトルを示す。
＜図４＞
実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムと、比較例２で製造した透明導電フィルムそれぞれについて、波長４００〜８００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線透過率の値から非電極部の光線透過率の値を引いた値（ΔＴ）をプロットしたスペクトルを示す図。
＜図５＞
実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムと、比較例２で製造した透明導電フィルムそれぞれについて、波長４００〜８００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線反射率の値から非電極部の光線反射率の値を引いた値（ΔＲ）をプロットしたスペクトルを示す図。
図４から明らかな通り、実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムは、波長５５０〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線透過率の値から非電極部の光線透過率の値を引いた値（ΔＴ）の絶対値が、０．２以下であり、前記条件（イ）を満足していることがわかるが、比較例２で製造した透明導電フィルムは、ΔＴの絶対値はほとんどの波長で０．５を超えており、条件（イ）を満足するものではないことがわかる。
また、図５から明らかな通り、実施例３で製造した本発明の透明導電フィルムは、波長５００〜７００ｎｍの範囲での各波長における、電極部の光線反射率の値から非電極部の光線反射率の値を引いた値（ΔＲ）が、−１．５〜０であり、前記条件（ロ）を満足していることがわかるが、比較例２で製造した透明導電フィルムは、ΔＲの値が、各波長において、＋側に振れ、０以下とはならず、条件（ロ）を満足するものではないことがわかる。
4 and 5 show the following spectra.
<Figure 4>
For each of the transparent conductive film of the present invention produced in Example 3 and the transparent conductive film produced in Comparative Example 2, the non-electrode part from the light transmittance value of the electrode part at each wavelength in the wavelength range of 400 to 800 nm. The figure which shows the spectrum which plotted the value ((DELTA) T) which subtracted the value of the light transmittance of.
<Figure 5>
About each of the transparent conductive film of the present invention manufactured in Example 3 and the transparent conductive film manufactured in Comparative Example 2, the non-electrode part from the value of the light reflectance of the electrode part at each wavelength in the wavelength range of 400 to 800 nm. The figure which shows the spectrum which plotted the value ((DELTA) R) which subtracted the value of the light beam reflectance.
As is clear from FIG. 4, the transparent conductive film of the present invention produced in Example 3 has the light transmittance of the non-electrode part from the value of the light transmittance of the electrode part at each wavelength in the wavelength range of 550 to 700 nm. The absolute value of the value obtained by subtracting the value (ΔT) is 0.2 or less, and it can be seen that the condition (A) is satisfied. However, the transparent conductive film produced in Comparative Example 2 has an absolute value of ΔT. Is over 0.5 at most wavelengths, which indicates that the condition (A) is not satisfied.
In addition, as is clear from FIG. 5, the transparent conductive film of the present invention produced in Example 3 has the light reflection of the non-electrode portion from the value of the light reflectance of the electrode portion at each wavelength in the wavelength range of 500 to 700 nm. The value (ΔR) obtained by subtracting the rate value is −1.5 to 0, and it can be seen that the above condition (b) is satisfied. However, the transparent conductive film produced in Comparative Example 2 has a value of ΔR. However, in each wavelength, it swings to the + side and does not become 0 or less, which indicates that the condition (b) is not satisfied.
＜透明導電積層体の製造＞
［実施例４］
実施例３で製造した、Ｘ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムと、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムとを、前記高透明性粘着剤転写テープを使用して転写、形成した透明粘着剤層で貼り合わせることにより、本発明の透明導電積層体を製造した（図２参照）。各透明導電フィルムに形成された電極部同士ができるだけ重ならないように積層したが、透明導電積層体の構造上、電極部がわずかに重なる部分が生じた（図２Ｃ参照）。なお、この透明導電積層体は、光学機能層が形成されていない図２Ｂに示す透明導電積層体と同様に、上層の透明導電フィルムの非導電処理面（透明フィルム基材側の面）と下層の透明導電フィルムの導電処理面（ＩＴＯ薄膜層側の面）が面するように貼り合わせられている。
<Manufacture of transparent conductive laminate>
[Example 4]
The transparent conductive film of the present invention formed with the pattern-like electrode part electrically connected in the X direction, manufactured in Example 3, and the pattern-like electrode part electrically connected in the Y direction are formed. The transparent conductive film of the present invention was manufactured by pasting the transparent conductive film of the present invention with the transparent adhesive layer formed by transfer using the highly transparent pressure-sensitive adhesive transfer tape (see FIG. 2). ). Although it laminated | stacked so that the electrode parts formed in each transparent conductive film might not overlap as much as possible, the part which an electrode part overlaps slightly occurred on the structure of a transparent conductive laminated body (refer FIG. 2C). In addition, this transparent conductive laminated body is the same as the transparent conductive laminated body shown in FIG. 2B in which the optical functional layer is not formed, the non-conductive treatment surface (transparent film substrate side surface) and the lower layer of the upper transparent conductive film. The transparent conductive film is bonded so that the conductive treatment surface (surface on the ITO thin film layer side) faces.
［比較例３］
実施例３で製造したパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムに代えて、比較例２で製造したパターン状の電極部が形成された透明導電フィルムを使用したこと以外は、実施例４と同様にして、比較例３の透明導電積層体を製造した。
[Comparative Example 3]
Instead of using the transparent conductive film in which the patterned electrode portion manufactured in Comparative Example 2 was used instead of the transparent conductive film of the present invention in which the patterned electrode portion manufactured in Example 3 was formed, In the same manner as in Example 4, a transparent conductive laminate of Comparative Example 3 was produced.
実施例４で製造した本発明の透明導電積層体と、比較例３で製造した透明導電積層体を目視にて比較したところ、比較例３で製造した透明導電積層体は、電極部の存在がはっきり視認でき、さらに電極部同士が重なる部分の存在はよりはっきりと視認でき、視認性に劣っていた。
一方、実施例４で製造した本発明の透明導電積層体は、電極部の存在はほとんど視認することができず、さらに電極部同士が重なる部分の存在についてもほとんど視認することができず視認性に非常に優れていた。
When the transparent conductive laminate of the present invention produced in Example 4 and the transparent conductive laminate produced in Comparative Example 3 were visually compared, the transparent conductive laminate produced in Comparative Example 3 had the presence of an electrode part. The presence of the portion where the electrode portions can be clearly seen and the electrode portions overlap each other can be clearly seen, and the visibility is poor.
On the other hand, in the transparent conductive laminate of the present invention produced in Example 4, the presence of the electrode part can hardly be visually recognized, and the presence of the part where the electrode parts overlap can hardly be visually recognized. It was very good.
＜静電容量方式のタッチパネルの製造＞
［実施例５］
厚さ２ｍｍの無色透明の板状ガラスと、実施例４で製造した本発明の透明導電積層体の透明導電層面（導電処理面）とを、前記高透明性粘着剤転写テープを使用して転写、形成した透明粘着剤層で貼り合わせるとともに、透明導電積層体の端部に電極を形成して、本発明の静電容量方式のタッチパネルを製造した。
<Manufacture of capacitive touch panel>
[Example 5]
Transfer the colorless and transparent plate-like glass having a thickness of 2 mm and the transparent conductive layer surface (conductive treatment surface) of the transparent conductive laminate of the present invention produced in Example 4 using the highly transparent pressure-sensitive adhesive transfer tape. In addition to bonding with the formed transparent pressure-sensitive adhesive layer, electrodes were formed at the end of the transparent conductive laminate to produce the capacitive touch panel of the present invention.
［比較例４］
実施例４で製造した本発明の透明導電積層体に代えて、比較例３で製造した透明導電積層体を使用したこと以外は、実施例４と同様にして、比較例４の静電容量方式のタッチパネルを製造した。
[Comparative Example 4]
The capacitance method of Comparative Example 4 is the same as Example 4 except that the transparent conductive laminate of Comparative Example 3 is used instead of the transparent conductive laminate of the present invention manufactured in Example 4. The touch panel was manufactured.
実施例５で製造した本発明の静電容量方式のタッチパネルと、比較例４で製造した静電容量方式のタッチパネルを目視にて比較したところ、比較例４で製造した静電容量方式のタッチパネルは、電極部の存在がはっきり視認でき、さらに電極部同士が重なる部分の存在はよりはっきりと視認でき、視認性に劣っていた。
一方、実施例５で製造した本発明の静電容量方式のタッチパネルは、電極部の存在はほとんど視認することができず、さらに電極部同士が重なる部分の存在についてもほとんど視認することができず視認性に非常に優れていた。
When the capacitive touch panel of the present invention manufactured in Example 5 and the capacitive touch panel manufactured in Comparative Example 4 were visually compared, the capacitive touch panel manufactured in Comparative Example 4 was The presence of the electrode portion was clearly visible, and the presence of the overlapping portion of the electrode portions was more clearly visible, resulting in poor visibility.
On the other hand, in the capacitive touch panel of the present invention manufactured in Example 5, the presence of the electrode portion can hardly be visually recognized, and the presence of the portion where the electrode portions overlap can hardly be visually recognized. The visibility was very good.
１ 透明フィルム基材
２ 第１光学調整層
３ 第２光学調整層
４ 透明導電層
４Ｐ 透明導電層からなるパターン状の電極部
４Ｐｘ 透明導電層からなる、Ｘ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部
４Ｐｙ 透明導電層からなる、Ｙ方向に電気的に接続されたパターン状の電極部
５ 透明導電フィルム
６ 透明粘着剤層
７ ガラス
８ 電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent film base material 2 1st optical adjustment layer 3 2nd optical adjustment layer 4 Transparent conductive layer 4P Patterned electrode part which consists of a transparent conductive layer 4Px Pattern shape which consists of a transparent conductive layer and was electrically connected to the X direction The electrode part of 4Py which consists of a transparent conductive layer, and is electrically connected in the Y direction The pattern-like electrode part 5 Transparent conductive film 6 Transparent adhesive layer 7 Glass 8 Electrode
Claims (8)
（Ａ）第１光学調整層の屈折率ｎ１が、１．５〜１．７８である
（Ｂ）第２光学調整層の屈折率ｎ２が、１．６〜１．８である
（Ｃ）ｎ１＜ｎ２の関係を有する
（Ｄ）第１光学調整層の厚さが３０〜１５０ｎｍであり、第２光学調整層の厚さが３０〜２００ｎｍである An optical adjustment film in which an optical adjustment layer containing at least a resin is formed on one side of a transparent film substrate, the optical adjustment layer from the transparent film substrate side, the first optical adjustment layer and the second optical adjustment An optical adjustment film in which layers are sequentially formed and satisfy the following conditions (A) to (D) .
(A) Refractive index n1 of the first optical adjustment layer is 1.5 to 1.78 (B) Refractive index n2 of the second optical adjustment layer is 1.6 to 1.8 (C) n1 <Having a relationship of n2
(D) The thickness of the first optical adjustment layer is 30 to 150 nm, and the thickness of the second optical adjustment layer is 30 to 200 nm.
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