JP5373686B2 - 電磁波発生装置 - Google Patents
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- ポンプ光パルスを出力する光源と、
前記光源から出力されたポンプ光パルスのビーム径を変更するビーム径変更光学系と、
前記ビーム径変更光学系から出力されたポンプ光パルスのパルス面を傾斜させるパルス面傾斜部と、
前記パルス面傾斜部から出力されたポンプ光パルスのビーム径を調整するビーム径調整光学系と、
前記ビーム径調整光学系から出力されたポンプ光パルスが入力されることで電磁波を発生する光学的作用部と、
を備えることを特徴とする電磁波発生装置。 - 前記ビーム径変更光学系による像が前記パルス面傾斜部に位置する、
ことを特徴とする請求項1に記載の電磁波発生装置。 - 前記ビーム径調整光学系が前記パルス面傾斜部と前記光学的作用部との間に結像関係を有する、
ことを特徴とする請求項1に記載の電磁波発生装置。 - 前記ビーム径変更光学系および前記ビーム径調整光学系それぞれによるポンプ光パルスのビーム径の拡大・縮小ならびに前記パルス面傾斜部によるポンプ光パルスのパルス面の傾斜により、前記光学的作用部における位相整合条件および単位面積当りのポンプ光パルスのエネルギーそれぞれを調整する、
ことを特徴とする請求項1に記載の電磁波発生装置。 - 前記光学的作用部が、前記ビーム径調整光学系から出力されたポンプ光パルスを入力して、テラヘルツ波を発生する、
ことを特徴とする請求項1に記載の電磁波発生装置。 - 前記光学的作用部が、前記ビーム径調整光学系から出力されたポンプ光パルスと被増幅光とを互いに非同軸として入力し、入力したポンプ光パルスにより励起され、入力した被増幅光を光パラメトリック増幅して出力する、
ことを特徴とする請求項1に記載の電磁波発生装置。
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JP2010083772A JP5373686B2 (ja) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | 電磁波発生装置 |
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JP2010083772A JP5373686B2 (ja) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | 電磁波発生装置 |
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JP2011215382A JP2011215382A (ja) | 2011-10-27 |
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