JP5367664B2 - Method for producing functional film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of producing a functional film, which subjects a base material to film formation process or the like by: using a laminate configured by applying a protective film to the base material; and peeling the protective film off in vacuum, wherein the protective film is prevented from being peeled off from the base material due to a gas remaining between the base material and the protective film, and the peeling electrification that obstructs a process for the base material is prevented. <P>SOLUTION: The protective film 14 on which through-holes are formed while scattered all over the surface of the protective film. Moreover the application area of the protective film 14 and base material 12 is reduced. <P>COPYRIGHT: (C)2012,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、真空中において、基材と保護フィルムとを積層してなる積層体から保護フィルムを剥離して、基材の表面に処理を行う、機能性フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a functional film in which a protective film is peeled off from a laminate formed by laminating a base material and a protective film in vacuum, and the surface of the base material is processed.

基材の表面に、ガスバリア膜、光反射膜、光反射防止膜、表面保護など、目的とする機能を発現する膜(以下、便宜的に『機能膜』とする)を成膜してなる機能性フィルムが、各種の用途に利用されている。
さらに、機能性フィルムの製造においては、基材の表面に、平滑化、活性化、清浄化、粗面化、表面改質、貼着性付与などの各種の表面処理を施すことも、行われている。
A function in which a film that expresses a desired function (hereinafter referred to as a “functional film” for convenience) such as a gas barrier film, a light reflection film, a light reflection prevention film, and a surface protection film is formed on the surface of the substrate. The adhesive film is used for various applications.
Furthermore, in the production of a functional film, various surface treatments such as smoothing, activation, cleaning, roughening, surface modification, and adhesion imparting may be performed on the surface of the substrate. ing.

また、機能性フィルムを、高い生産性や生産効率での製造を可能とする方法として、長尺な基材を、ロール状に巻回してなる基材ロールから送り出し、長手方向に搬送しつつガスバリア膜の成膜等を行って、成膜済みの基材をロール状に巻き取る、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll 以下、RtoRともいう)による成膜を行なう装置が知られている。   In addition, as a method for enabling the production of functional films with high productivity and production efficiency, a gas barrier is formed by feeding a long base material from a base material roll that is wound in a roll shape and conveying it in the longitudinal direction. 2. Description of the Related Art An apparatus for forming a film by so-called roll-to-roll (hereinafter also referred to as RtoR) is known, in which a film is formed and the film-formed base material is wound into a roll.

このような機能性フィルムの製造において、搬送ローラ対による搬送や、他の部材との接触等に起因して基材の表面(被処理面)が損傷すると、目的とする性能を有する機能性フィルムが製造できなくなってしまう可能性が生じる。
特に、前述のRtoRによる装置では、基材の巻回によって、基材の表面と裏面とが摺接するので、基材の損傷が生じ易い。さらに、成膜等のために基材ロールの装填空間を真空にすると、基材間の空気が抜けて、いわゆる巻き締まりが生じ、巻回された基材の表面と裏面とが強く摺接して、基材表面を損傷してしまい、目的とする性能を有する機能性フィルムが製造できなくなってしまう可能性が高くなる。
また、高品質な製品を製造するためには、基材の表面は、清浄に保つのが好ましい。
In the production of such a functional film, if the surface of the substrate (surface to be treated) is damaged due to conveyance by a pair of conveyance rollers, contact with other members, or the like, the functional film having the intended performance May become impossible to manufacture.
In particular, in the RtoR apparatus described above, since the front surface and the back surface of the base material are in sliding contact with each other by winding the base material, the base material is easily damaged. Furthermore, if the loading space of the base material roll is evacuated for film formation or the like, the air between the base materials escapes, so-called winding tightening occurs, and the front and back surfaces of the wound base material are in strong sliding contact. The possibility of damaging the substrate surface and making it impossible to produce a functional film having the intended performance increases.
In order to produce a high quality product, it is preferable to keep the surface of the substrate clean.

そのため、ガスバリアフィルム等の機能性フィルムの製造においては、基材の表面を保護するために、基材の表面に保護フィルム(ラミネートフィルム)を貼着して、基材の表面を保護することが行われている。
このような積層体を用いる機能性フィルムの製造においては、通常、この基材と保護フィルムとの積層体のまま、成膜装置や表面処理装置等の基材の処理装置に装填し、処理装置中において、保護フィルムを剥離して、基材表面に処理を施す。
Therefore, in the production of a functional film such as a gas barrier film, in order to protect the surface of the substrate, a protective film (laminate film) may be adhered to the surface of the substrate to protect the surface of the substrate. Has been done.
In the production of a functional film using such a laminate, the laminate of the substrate and the protective film is usually loaded in a substrate processing apparatus such as a film forming apparatus or a surface treatment apparatus. Inside, the protective film is peeled off and the substrate surface is treated.

ところで、ガスバリア膜等の各種の機能膜の成膜は、プラズマCVDや真空蒸着など、真空中で行われる場合が多い。また、活性化処理や清浄化処理等の基材の表面処理も、真空中でのプラズマ照射やイオン照射などによって行われる場合が多い。
ここで、基材と保護フィルムとの間に間隙(隙間)が有ると、真空中において、この間隙に存在する空気(気体)が膨張して、剥離前に基材と保護フィルムとが自然剥離してしまい、基材の表面を適正保護できなくなってしまう場合が有る。
By the way, film formation of various functional films such as a gas barrier film is often performed in a vacuum such as plasma CVD or vacuum deposition. Further, surface treatment of the substrate such as activation treatment and cleaning treatment is often performed by plasma irradiation or ion irradiation in a vacuum.
Here, if there is a gap (gap) between the base material and the protective film, the air (gas) present in the gap expands in vacuum, and the base material and the protective film are naturally peeled before peeling. As a result, the surface of the base material may not be properly protected.

このような問題を防止する方法として、特許文献1には、基材と保護フィルムとの積層を、真空中で行うことにより、基材と保護フィルムとの間の残存空気を完全に排除して、両者の間に間隙が無い状態で全面的に貼着して、積層を行うことが記載されている。   As a method for preventing such a problem, Patent Literature 1 discloses that the residual air between the base material and the protective film is completely eliminated by performing lamination of the base material and the protective film in a vacuum. In addition, it is described that lamination is performed by sticking the entire surface with no gap between them.

特開2005−47244号公報JP-A-2005-47244

特許文献1に記載されるように、真空中において基材と保護フィルムとの積層を行うことにより、両者の間に間隙を形成せずに(空気を存在させず)、基材と保護フィルムとの積層体を得ることができる。その結果、積層体を真空中に配置した際の空気の膨張に起因する自然剥離は、防止することができる。   As described in Patent Document 1, by laminating the base material and the protective film in a vacuum, without forming a gap between them (without the presence of air), the base material and the protective film Can be obtained. As a result, natural peeling due to the expansion of air when the laminate is placed in a vacuum can be prevented.

ところが、このように、基材と保護フィルムとを、全面的に完全に密着した状態で積層して、貼着すると、基材と保護フィルムとを剥離した際における、剥離帯電が大きくなってしまう。
その結果、この剥離帯電によって、剥離後の基材の搬送不良が生じたり、成膜や表面処理等に悪影響を与えてしまい、これに起因して、目的とする性能を有する機能性フィルムが製造できなくなってしまう可能性が有る。
However, when the base material and the protective film are laminated and adhered in a state where they are completely adhered to each other as described above, the peeling charge when the base material and the protective film are peeled off becomes large. .
As a result, this peeling electrification may cause poor transport of the substrate after peeling or adversely affect film formation, surface treatment, etc., resulting in the production of a functional film with the desired performance. There is a possibility of becoming impossible.

本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、基材と保護フィルムを貼着した積層体を用いる機能性フィルムの製造において、基材と保護フィルムとの間隙に起因する、基材と保護フィルムとの自然剥離を防止でき、また、基材と保護フィルムとの剥離の際に生じる剥離帯電も、大幅に抑制できる、機能性フィルムの製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to solve the above-described problems of the prior art, and is caused by a gap between the base material and the protective film in the production of a functional film using a laminate on which the base material and the protective film are attached. An object of the present invention is to provide a method for producing a functional film, which can prevent natural peeling between a substrate and a protective film, and can greatly suppress peeling electrification that occurs during peeling between the substrate and the protective film.

前記目的を達成するために、本発明の機能性フィルムの製造方法は、真空中において、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記積層体から保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に処理を行うに際し、前記保護フィルムとして、複数の貫通孔を有し、この貫通孔の総面積が、貫通孔を有さないと見なした場合における前記保護フィルムの表面積の5%以上であり、かつ、粘着力が0.1N/25mmよりも小さい保護フィルムを用いることを特徴とする機能性フィルムの製造方法を提供する。   In order to achieve the above object, the method for producing a functional film of the present invention comprises a laminate formed by laminating a protective film having adhesive properties on a surface to be treated of a base material in a vacuum. When the laminate is pulled out from a laminate roll wound in a roll and transported in the longitudinal direction, the protective film is peeled off from the laminate, and the treatment is performed on the surface to be treated of the substrate. The film has a plurality of through-holes, and the total area of the through-holes is 5% or more of the surface area of the protective film when it is assumed that there are no through-holes. Provided is a method for producing a functional film, which uses a protective film smaller than 1 N / 25 mm.

このような本発明の機能性フィルムの製造方法において、前記保護フィルムと基材との貼着面積が、貫通孔を有さないと見なした場合における前記保護フィルムの表面積の70%以下であるのが好ましく、また、前記保護フィルムと基材との貼着面積が、前記保護フィルムと基材との接触面積の50%以上であるのが好ましく、さらに、前記保護フィルムと基材との貼着面積が、前記保護フィルムと基材との接触面積以下であるのが好ましい。   In such a method for producing a functional film of the present invention, the bonding area between the protective film and the substrate is 70% or less of the surface area of the protective film when it is considered that there are no through holes. It is preferable that the adhesion area between the protective film and the base material is 50% or more of the contact area between the protective film and the base material. It is preferable that the contact area is not more than the contact area between the protective film and the substrate.

また、前記保護フィルムの貫通孔が、前記保護フィルムの非貼着部に形成されるのが好ましい。
また、長尺な前記積層体をロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ前記保護フィルムの剥離および前記基材の被処理面の処理を行うのが好ましく、また、前記基材の被処理面の処理が、成膜であるのが好ましい。
また、前記保護フィルムは、基材との当接面に凹凸が形成され、この凸部が貼着部となっているのが好ましく、また、前記保護フィルムの連続する非貼着部に、1以上の前記貫通孔が形成されるのが好ましく、さらに、前記保護フィルムの貼着部が、島状に点在するのが好ましい。
Moreover, it is preferable that the through-hole of the said protective film is formed in the non-sticking part of the said protective film.
Further, the laminate is pulled out from a laminate roll formed by winding the long laminate in a roll shape, and the protective film is peeled off and the surface to be treated of the substrate is processed while being conveyed in the longitudinal direction. In addition, it is preferable that the treatment of the surface to be treated of the base material is film formation.
Further, the protective film is preferably formed with irregularities on the contact surface with the base material, and this convex part is an adhesive part, and the protective film has a continuous non-adhesive part. The above through-holes are preferably formed, and the protective film sticking portions are preferably scattered in an island shape.

前述のように、本発明の機能性フィルムの製造方法は、基材の表面に保護フィルム(ラミネートフィルム)を積層/貼着して、基材を保護した積層体を用い、真空中において、保護フィルムを剥離して、さらに、基材の処理を行う機能性フィルムの製造において、貫通孔を有し、かつ粘着力が所定値以下の保護フィルムを用いる。   As described above, the method for producing a functional film of the present invention uses a laminate in which a protective film (laminate film) is laminated / adhered on the surface of a base material to protect the base material, and is protected in a vacuum. In the production of a functional film that peels the film and further processes the substrate, a protective film having a through-hole and having an adhesive strength of a predetermined value or less is used.

そのため、基材と保護フィルムとの間に、間隙を有する(空気(気体)が存在する)場合に、真空中で、この間隙の空気が膨張しても、貫通孔から、この空気が抜けるため、基材と保護フィルムとの間の空気の膨張に起因する、両者の自然剥離を防止できる。
また、保護フィルムと基材とが全面的に密着して、積層/貼着されていても、貫通孔を有することにより、剥離帯電を大幅に抑制できる。
Therefore, when there is a gap between the substrate and the protective film (air (gas) exists), even if the air in the gap expands in a vacuum, this air will escape from the through hole. The natural separation of the two due to the expansion of air between the substrate and the protective film can be prevented.
Moreover, even if the protective film and the substrate are in close contact with each other and are laminated / adhered, the peeling charge can be significantly suppressed by having the through holes.

従って、本発明の製造方法によれば、真空中における基材と保護フィルムとの自然剥離による基材の損傷や、剥離帯電に起因する成膜や表面処理の不良等を防止して、目的とする性能を有する機能性フィルムを、安定して製造できる。
また、前述のようなロール・ツー・ロールによる装置では、基材(積層体)の搬送速度が速いほど、搬送を安定化するために基材に高い張力(テンション)を掛ける必要があるので積層体に係る力が大きくなって自然剥離が生じ易くなり、また、剥離速度が大きくなって剥離帯電も生じ易くなるが、本発明によれば、このような自然剥離や剥離帯電を、好適に抑制できるので、基材の搬送速度を向上することができ、生産性や生産効率を、高くすることができる。
Therefore, according to the production method of the present invention, it is possible to prevent damage to the base material due to natural peeling between the base material and the protective film in vacuum, film formation or surface treatment defects due to peeling charging, and the like. Thus, a functional film having the performance to perform can be stably produced.
Moreover, in the roll-to-roll apparatus as described above, the higher the conveyance speed of the base material (laminated body), the higher the tension (tension) needs to be applied to the base material in order to stabilize the conveyance. The force on the body is increased and natural peeling is likely to occur, and the peeling speed is increased and peeling electrification is likely to occur. However, according to the present invention, such natural peeling and peeling electrification are suitably suppressed. Since it can do, the conveyance speed of a base material can be improved and productivity and production efficiency can be made high.

本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する装置の一例を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally an example of the apparatus which enforces the manufacturing method of the functional film of this invention. 本発明の機能性フィルムの製造方法に用いられる基材と保護フィルムとの積層体を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally the laminated body of the base material used for the manufacturing method of the functional film of this invention, and a protective film. (A)〜(C)は、本発明の機能性フィルムの製造方法に用いられる保護フィルムの一例の概念図である。(A)-(C) are the conceptual diagrams of an example of the protective film used for the manufacturing method of the functional film of this invention.

以下、本発明の機能性フィルムの製造方法について、添付の図面に示される好適例を基に、詳細に説明する。   Hereinafter, the method for producing a functional film of the present invention will be described in detail based on preferred examples shown in the accompanying drawings.

図1に、本発明の機能性フィルムの製造方法の一例を実施する基材表面の処理装置の一例の概念図を示す。
図1に示す処理装置10は、図2に概念的に示すような、基材12の表面12aに当接して、保護フィルム14を積層して貼着してなる積層体16を用い、真空中において、基材12から保護フィルム14を剥離して、基材12の表面12aを処理して、機能性フィルム(機能性フィルムの中間体も含む)20を製造するものである。
なお、基板12の表面12aとは、被処理面であり、すなわち、後述する成膜や各種の表面処理等の処理を施される面である。
In FIG. 1, the conceptual diagram of an example of the processing apparatus of the base-material surface which implements an example of the manufacturing method of the functional film of this invention is shown.
The processing apparatus 10 shown in FIG. 1 uses the laminated body 16 which contact | abuts to the surface 12a of the base material 12, and laminates | stacks and adheres the protective film 14 as conceptually shown in FIG. 1, the protective film 14 is peeled from the base material 12, and the surface 12 a of the base material 12 is processed to produce a functional film (including an intermediate of the functional film) 20.
The surface 12a of the substrate 12 is a surface to be processed, that is, a surface to be subjected to processing such as film formation and various surface treatments described later.

図示例の処理装置10は、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll 以下、RtoRともいう)によって、基材12の処理を行うもので、長尺な基材12(ウエブ状の基材)と長尺な保護フィルム14とを積層してなる長尺な積層体16を、ロール状に巻回してなる基材ロール24から、積層体16を引き出して、長手方向に搬送しつつ、積層体16から保護フィルム14を剥離して、基材12の表面12aを処理して、処理済の基材12すなわち本発明の製造方法による機能性フィルム20を、再度、ロール状に巻回する。   The processing apparatus 10 in the illustrated example performs processing of the base material 12 by so-called roll-to-roll (hereinafter also referred to as RtoR), and a long base material 12 (web-shaped base material) The laminate 16 is pulled out from the base roll 24 formed by laminating the long laminate 16 formed by laminating the long protective film 14 in a roll shape, and conveyed in the longitudinal direction. Then, the protective film 14 is peeled off, the surface 12a of the substrate 12 is treated, and the treated substrate 12, that is, the functional film 20 according to the production method of the present invention is again wound into a roll.

図示例の処理装置10は、一例として、真空チャンバ26と、この真空チャンバ26内に配置される、回転軸28、剥離ロール30、ドラム32、処理手段34、巻取り軸36、ガイドローラ38、および、第2巻取り軸40と、真空チャンバ26内を排気する真空排気手段42とを有して構成される。
なお、本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する処理装置10には、これらの部材以外にも、積層体16や基材12の搬送ガイド、各種のセンサなど、真空中において、積層体16および基材12を長手方向に搬送しつつ、保護フィルム14を剥離して、基材12の表面12aを処理する装置に配置される、各種の部材を有してもよい。
The processing apparatus 10 in the illustrated example includes, as an example, a vacuum chamber 26, a rotating shaft 28, a peeling roll 30, a drum 32, a processing unit 34, a winding shaft 36, a guide roller 38, and the like disposed in the vacuum chamber 26. And it has the 2nd winding shaft 40, and the vacuum exhaust means 42 which exhausts the inside of the vacuum chamber 26, and is comprised.
In addition, in the processing apparatus 10 which implements the manufacturing method of the functional film of this invention, in addition to these members, the laminated body 16 and the conveyance guide of the base material 12, various sensors, etc. are used in vacuum. And while conveying the base material 12 to a longitudinal direction, you may have various members arrange | positioned at the apparatus which peels the protective film 14 and processes the surface 12a of the base material 12. FIG.

本発明において、基材(基板)12には、特に限定はなく、真空中での成膜や表面処理を行うことが可能でものあれば、各種のシート状物が利用可能である。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレートなどの有機物からなるプラスチック(樹脂)フィルムや、アルミニウム、ステンレスなどの金属シート状物等が、基材12として、好適に利用可能である。
In the present invention, the base material (substrate) 12 is not particularly limited, and various sheet-like materials can be used as long as film formation and surface treatment in vacuum can be performed.
Specifically, plastic (resin) films made of organic substances such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyamide, polyvinyl chloride, polycarbonate, polyacrylonitrile, polyimide, polyacrylate, polymethacrylate, Metal sheets such as aluminum and stainless steel can be suitably used as the substrate 12.

また、本発明においては、このようなプラスチックフィルム等を支持体として、その上に、保護層、貼着層、光反射層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層、ガスバリア膜等の、各種の機能を得るための膜(層)が成膜されているものを、基材12として用いてもよい。この場合には、通常、これらの膜の表面が、基材12の表面12aとなる。
この際においては、支持体の上に1層のみが成膜されたものを基材12として用いてもよく、あるいは、支持体の複数層が成膜されたものを基材12として用いてもよい。また、基材12が、支持体の上に複数層の膜が成膜されたものである場合には、同じ層を複数層有してもよく、例えば、平坦化層とガスバリア膜との組み合わせを複数回繰り返し積層した構成のように、2層以上を組み合わせてなる膜を、複数回、繰り返し積層したものであってもよい。
In the present invention, such a plastic film is used as a support, and a protective layer, an adhesive layer, a light reflection layer, a light shielding layer, a planarization layer, a buffer layer, a stress relaxation layer, a gas barrier film, etc. Those having films (layers) for obtaining various functions may be used as the substrate 12. In this case, the surface of these films is usually the surface 12a of the substrate 12.
In this case, a substrate in which only one layer is formed on the support may be used as the substrate 12, or a substrate in which a plurality of layers of the support is formed may be used as the substrate 12. Good. Further, in the case where the substrate 12 is a film in which a plurality of layers are formed on a support, it may have a plurality of the same layers. For example, a combination of a planarization layer and a gas barrier film A film formed by repeatedly stacking a plurality of layers may be repeatedly stacked a plurality of times.

保護フィルム(ラミネートフィルム)14は、このような基材12の表面12aを保護するためのものであり、表面12aに当接して、基材12に積層/貼着される。
本発明の製造方法において、保護フィルム14は、図2に示すように、複数の貫通孔50を有し、かつ、貼着力に特徴を有する以外には、特に限定はなく、機能性フィルムの製造において利用されている、粘着性を有する保護フィルムが、各種、利用可能である。貫通孔50および貼着力に関しては、後に詳述する。
従って、保護フィルム14は、基材12の表面12aとの当接面に貼着剤層(粘着剤層/接着剤層)が形成されたものであっても、保護フィルム14自身が粘着性を有するものであってもよい。
The protective film (laminate film) 14 is for protecting the surface 12a of such a base material 12, and is contact | abutted to the surface 12a and is laminated | stacked on the base material 12.
In the production method of the present invention, as shown in FIG. 2, the protective film 14 has a plurality of through holes 50 and is not particularly limited except that it has a characteristic of sticking force. Various protective films having adhesiveness that are used in the above are available. The through hole 50 and the sticking force will be described in detail later.
Therefore, even if the protective film 14 has an adhesive layer (adhesive layer / adhesive layer) formed on the contact surface with the surface 12a of the substrate 12, the protective film 14 itself has adhesiveness. You may have.

なお、基材12の表面12aの保護や、保護フィルム14が有する凹凸の基材12への転写の防止等を考慮すると、保護フィルム14は、基材12(表面12a)よりも剛性や硬さの低い物を用いるのが、一般的である。   In consideration of protection of the surface 12a of the base material 12 and prevention of transfer of the unevenness of the protective film 14 to the base material 12, the protection film 14 is more rigid and harder than the base material 12 (surface 12a). It is common to use a low product.

ここで、剥離帯電の防止効果を、より向上するためには、基材12や表面12aの素材(形成材料)に応じて、少なくとも表面が基材12との間で剥離帯電が生じ難い素材(帯電列の近い素材)で形成される保護フィルム14を用いるのが好ましい。
例えば、基材12がPETフィルムである場合には、保護フィルム14の素材はポリエチレン系やポリエステル系の素材が好ましく、基材12(その表面)がアクリル系の樹脂である場合には、保護フィルム14の素材もアクリル系の樹脂であるのが好ましく、さらに、基材12の表面が窒化ケイ素や酸化アルミである場合には、保護フィルム14の素材はナイロン系の樹脂であるのが好ましい。
Here, in order to further improve the effect of preventing the peeling electrification, a material (at least the surface of which is less likely to cause peeling electrification between the base 12 and the base 12 or the material of the surface 12a (formation material)). It is preferable to use a protective film 14 formed of a material close to the charged column.
For example, when the substrate 12 is a PET film, the material of the protective film 14 is preferably a polyethylene or polyester material, and when the substrate 12 (the surface) is an acrylic resin, the protective film The material 14 is also preferably an acrylic resin. Further, when the surface of the substrate 12 is silicon nitride or aluminum oxide, the material of the protective film 14 is preferably a nylon resin.

図示例の処理装置10において、このような積層体24を巻回してなる基材ロール24は、回転軸28に装填される。
積層体24は、この回転軸28に装填された基材ロール24から引き出されて、長手方向に搬送されつつ、剥離ローラ30によって、基材12から保護フィルム14が剥離される。基材12は、剥離ローラ30からドラム32に搬送され、処理装置34によって、成膜や表面処理等の処理が行われる。
他方、剥離ローラ30によって基材12と剥離された保護フィルム14は、第2巻取り軸40によって巻き取られる。
In the processing apparatus 10 of the illustrated example, the base roll 24 formed by winding such a laminate 24 is loaded on the rotary shaft 28.
The laminated body 24 is pulled out from the base roll 24 loaded on the rotary shaft 28 and conveyed in the longitudinal direction, and the protective film 14 is peeled from the base 12 by the peeling roller 30. The base material 12 is conveyed from the peeling roller 30 to the drum 32, and processing such as film formation and surface treatment is performed by the processing device 34.
On the other hand, the protective film 14 peeled off from the base material 12 by the peeling roller 30 is wound up by the second winding shaft 40.

図3(A)に、保護フィルム14の基材12の表面12aとの当接面を概念的に示す。
図3(A)に示すように、保護フィルム14には、一例として、千鳥状に均一に点在して、全面的に、複数の貫通孔50が形成されている。
また、図示例の保護フィルム14は、一例として、表面12aとの当接面に、図3中に斜線で示す貼着剤層(接着剤層/粘着剤層)54を形成してなるものである。また、この保護フィルム14は、好ましい態様として、貫通孔50を囲む所定の領域52には、貼着剤層54を形成していない。すなわち、この例においては、好ましい態様として、表面12aと保護フィルム14との接触面積に比して、表面12aと保護フィルム14との貼着面積が狭い。
FIG. 3A conceptually shows a contact surface of the protective film 14 with the surface 12a of the base 12.
As shown in FIG. 3A, as an example, the protective film 14 has a plurality of through-holes 50 that are uniformly scattered in a zigzag pattern.
Further, the protective film 14 in the illustrated example is formed, for example, by forming an adhesive layer (adhesive layer / adhesive layer) 54 indicated by hatching in FIG. 3 on the contact surface with the surface 12a. is there. Moreover, as for this protective film 14, the adhesive layer 54 is not formed in the predetermined area | region 52 surrounding the through-hole 50 as a preferable aspect. That is, in this example, as a preferred embodiment, the bonding area between the surface 12 a and the protective film 14 is narrower than the contact area between the surface 12 a and the protective film 14.

本発明の製造方法は、このように、保護フィルム14に貫通孔を設け、保護フィルム14の粘着力を所定値未満とし、好ましくはさらに、基材12と保護フィルム14との貼着面積を、両者の接触面積以下とすることにより、真空中において、剥離前の基材12と保護フィルム14とが自然剥離することを防止し、かつ、基材12と保護フィルム14との剥離の際に生じる剥離帯電を、大幅に抑制することを可能にしている。   As described above, the production method of the present invention provides a through hole in the protective film 14, and the adhesive strength of the protective film 14 is less than a predetermined value. Preferably, the bonding area between the substrate 12 and the protective film 14 is By setting the contact area to be equal to or smaller than both, the base material 12 and the protective film 14 before peeling are prevented from being spontaneously peeled in vacuum, and the base material 12 and the protective film 14 are peeled off. Peeling electrification can be greatly suppressed.

成膜や表面処理等に供される基材12の表面12aを保護するために、基材12に保護フィルムを積層/貼着することが行われているのは、前述のとおりである。
しかしながら、基材12と保護フィルムとの貼着は、当接面の全面で完全に行うのは困難であり、どうしても、両者の間に間隙すなわち空気が残存する部分が残ってしまう。このような間隙を有する基材12と保護フィルムとの積層体(積層体のロール)を、成膜装置等の処理装置に装填し、装置内を真空にすると、両者の間隙に残存する空気が膨張して、この空気の膨張により、剥離工程の前に、基材12と保護フィルムとが自然に剥離してしまう。
これに対し、特許文献1に記載されるように、基材12と保護フィルムとの積層/貼着を真空中で行うことにより、両者の間隙(すなわち、両者の間の残存空気)を無くし、全面を貼着することができる。ところが、基材12と保護フィルムとを、全面を隙間無く貼着すると、基材12と保護フィルムとを剥離する際の剥離帯電が大きくなってしまう。その結果、帯電に起因して、基材12や保護フィルムの搬送不良が生じ、さらに、その後の基材12の成膜等の処理にも悪影響が生じる可能性が有る。
In order to protect the surface 12a of the base material 12 used for film formation, surface treatment, etc., the protective film is laminated / attached to the base material 12 as described above.
However, it is difficult to completely adhere the base material 12 and the protective film over the entire contact surface, and a gap, that is, a portion where air remains remains between them. When the laminated body (roll of laminated body) of the base material 12 and the protective film having such a gap is loaded into a processing apparatus such as a film forming apparatus and the inside of the apparatus is evacuated, the air remaining in the gap between the two is It expand | swells and the base material 12 and a protective film will peel naturally before a peeling process by expansion | swelling of this air.
On the other hand, as described in Patent Document 1, by laminating / sticking the substrate 12 and the protective film in a vacuum, the gap between the two (that is, residual air between the two) is eliminated, The entire surface can be attached. However, if the base material 12 and the protective film are stuck on the entire surface without any gap, the peeling charge at the time of peeling the base material 12 and the protective film will increase. As a result, due to electrification, the conveyance failure of the base material 12 and the protective film occurs, and there is a possibility that the subsequent processing such as film formation of the base material 12 may be adversely affected.

これに対し、本発明の製造方法によれば、保護フィルム14が、多数の貫通孔50を有するので、貼着された基材12と保護フィルム14との間に間隙(空気)を有した状態で、真空中で間隙の空気が膨張しても、この空気が貫通孔50から排出される。そのため、基材12と保護フィルム14との剥離工程の前に、両者の間隙に存在する空気に起因する自然剥離が生じるのを、好適に防止することができる。
しかも、保護フィルム14に貫通孔50を開け、さらに、保護フィルム14の粘着力を0.1N/25mm未満とすることにより、仮に基材12と保護フィルム14との間に間隙を有さず、貼着部の全面が貼着されていても、剥離帯電を大幅に抑制することができ、安定して、剥離帯電を一般的に好ましいとされる3kV以下に押さえることができる。
On the other hand, according to the manufacturing method of the present invention, since the protective film 14 has a large number of through-holes 50, there is a gap (air) between the adhered base 12 and the protective film 14. Thus, even if the air in the gap expands in a vacuum, this air is discharged from the through hole 50. Therefore, before the peeling process of the base material 12 and the protective film 14, it can prevent suitably that natural peeling resulting from the air which exists in both gaps arises.
Moreover, by opening the through-hole 50 in the protective film 14 and further making the adhesive force of the protective film 14 less than 0.1 N / 25 mm, there is no gap between the substrate 12 and the protective film 14, Even if the entire surface of the sticking part is stuck, the peeling charge can be greatly suppressed, and the peeling charge can be stably suppressed to 3 kV or less which is generally preferred.

本発明の製造方法において、保護フィルム14の貫通孔は、保護フィルム14の全面に点在していればよく、特に、均一あるいは略均一に点在するのが好ましい。
中でも特に、保護フィルム14の貫通孔は、図3(A)に示される貫通孔50(後述する図3(B)の貫通孔58)や、いわゆるパンチングメタルに形成される貫通孔のように、全面に均一に形成されるのが好ましい。なお、貫通孔50の配列は、千鳥状に限定はされず、正方並列など、各種の配列が利用可能である。
In the production method of the present invention, the through holes of the protective film 14 may be scattered over the entire surface of the protective film 14, and it is particularly preferable that the through holes are scattered uniformly or substantially uniformly.
In particular, the through hole of the protective film 14 is a through hole 50 shown in FIG. 3A (a through hole 58 in FIG. 3B described later) or a so-called punching metal. It is preferable to form it uniformly on the entire surface. In addition, the arrangement | sequence of the through-hole 50 is not limited to zigzag form, Various arrangement | sequences, such as square parallel, can be utilized.

なお、本発明の製造方法において、貫通孔の形状は、図3(A)に示されるような円形の貫通孔50に限定はされず、矩形状や多角形状など、各種の形状が利用可能である。
例えば、図3(B)に示す保護フィルム14bのような、長手方向(あるいは、長手方向と直交する方向=保護フィルムの幅方向)に延在する長尺な貫通孔58も好適である。なお、図3(B)に示す例においても、好ましい態様として、貫通孔58を囲む所定の領域60には、貼着剤層54を形成していない。
さらに、保護フィルムの貫通孔は、図示例のように、明らかな孔(穴)であるのに限定はされず、メッシュ状のシート状物を保護フィルム14として用いてもよく、また、不織布のような多孔質材を保護フィルム14として用いてもよい。
In the manufacturing method of the present invention, the shape of the through hole is not limited to the circular through hole 50 as shown in FIG. 3A, and various shapes such as a rectangular shape and a polygonal shape can be used. is there.
For example, a long through hole 58 extending in the longitudinal direction (or the direction perpendicular to the longitudinal direction = the width direction of the protective film), such as the protective film 14b shown in FIG. In the example shown in FIG. 3B as well, as a preferred embodiment, the adhesive layer 54 is not formed in the predetermined region 60 surrounding the through hole 58.
Furthermore, the through-holes of the protective film are not limited to the obvious holes (holes) as shown in the illustrated example, and a mesh-like sheet-like material may be used as the protective film 14. Such a porous material may be used as the protective film 14.

また、貫通孔50のサイズにも、特に限定はなく、保護フィルム14の厚さ等に応じて、保護フィルム14が、十分な強度を保ち、基材12の表面12aを適正に保護でき、かつ、基材12と保護フィルム14と間の空気抜きとして作用できるサイズを、適宜、設定すればよい。ここで、本発明者の検討によれば、膨張した空気を、素早く、かつ、十分に除去するためには、貫通孔50のサイズは、4mm2以上とするのが好ましい。
さらに、各貫通孔50のサイズ(さらには形状)は、互いに異なってもよいが、全ての貫通孔50で均一(略均一)であるのが、好ましい。
Further, the size of the through-hole 50 is not particularly limited, and the protective film 14 can maintain sufficient strength and appropriately protect the surface 12a of the substrate 12 according to the thickness of the protective film 14, and the like. What is necessary is just to set suitably the size which can act as an air vent between the base material 12 and the protective film 14. FIG. Here, according to the study of the present inventor, in order to remove the expanded air quickly and sufficiently, the size of the through hole 50 is preferably 4 mm 2 or more.
Further, the sizes (and shapes) of the through holes 50 may be different from each other, but are preferably uniform (substantially uniform) in all the through holes 50.

ここで、本発明において、貫通孔50の総面積(全ての貫通孔50の面積を合計した面積)は、貫通孔50を有さないと見なした場合における保護フィルム14の表面積の5%以上とする必要があり、特に、10%以上であるのが好ましい。すなわち、言い換えれば、貫通孔50の総面積を、貫通孔50を閉塞した保護フィルム14の投影面積の5%以上とし、特に、10%以上とするのが好ましい。
貫通孔50の総面積を、上記範囲とすることにより、十分な数の貫通孔50を保護フィルム14の全面に点在させて、基材12と保護フィルム14との自然剥離を、より確実に防止できる。また、基材12と保護フィルム14との接触面積を低減して、剥離帯電も、より好適に低減できる。
Here, in the present invention, the total area of the through holes 50 (the total area of all the through holes 50) is 5% or more of the surface area of the protective film 14 when the through holes 50 are considered not to be present. In particular, it is preferably 10% or more. That is, in other words, the total area of the through holes 50 is set to 5% or more, particularly preferably 10% or more, of the projected area of the protective film 14 closing the through holes 50.
By setting the total area of the through-holes 50 within the above range, a sufficient number of through-holes 50 are interspersed on the entire surface of the protective film 14, and natural peeling between the base material 12 and the protective film 14 is more reliably performed. Can be prevented. Moreover, the contact area of the base material 12 and the protective film 14 can be reduced, and peeling electrification can also be reduced more suitably.

また、貫通孔50の総面積は、貫通孔50を有さないと見なさした場合における保護フィルム14の表面積(以下、単に、『保護フィルム14のみなし面積』とする)の50%以下、特に、30%以下とするのが好ましい。
貫通孔50の総面積が50%を超えると、基材と保護フィルムとの剥離防止効果や、剥離帯電の抑制効果は大きくなるが、保護フィルム14による基材の保護面積が半分以下となってしまい、保護フィルム14の厚さや基材Zの強度等によっては、保護フィルム14が基材12の保護機能を十分に発現できなくなってしまう可能性が高く、好ましくない。
Further, the total area of the through holes 50 is 50% or less of the surface area of the protective film 14 (hereinafter, simply referred to as “the area without the protective film 14”), It is preferably 30% or less.
If the total area of the through holes 50 exceeds 50%, the effect of preventing the peeling between the base material and the protective film and the effect of suppressing the peeling charge increase, but the protective area of the base material by the protective film 14 becomes less than half. Therefore, depending on the thickness of the protective film 14, the strength of the base material Z, and the like, there is a high possibility that the protective film 14 cannot sufficiently express the protective function of the base material 12, which is not preferable.

また、基材12と保護フィルム14との貼着面積は、基材12と保護フィルム14との接触面積(保護フィルム14の実際の表面積 以下、実効面積とも言う)以下が好ましく、特に、保護フィルム14のみなし面積の70%以下であるのが好ましく、さらに、60%以下であるのが好ましい。また、基材12と保護フィルム14との貼着面積は、実効面積の50%以上であるのが好ましい。
基材12と保護フィルム14との貼着面積を、この範囲とすることにより、基材12と保護フィルム14との十分な貼着を確保した上で、より好適に剥離帯電を抑制することができる等の点で好ましい結果を得ることができる。
Moreover, the adhesion area of the base material 12 and the protective film 14 is preferably equal to or less than the contact area of the base material 12 and the protective film 14 (the actual surface area of the protective film 14 or less, also referred to as the effective area). It is preferably 70% or less, and more preferably 60% or less of the area of only 14. Moreover, it is preferable that the sticking area of the base material 12 and the protective film 14 is 50% or more of an effective area.
By making the adhesion area of the base material 12 and the protective film 14 within this range, it is possible to more suitably suppress peeling electrification after ensuring sufficient adhesion between the base material 12 and the protective film 14. A favorable result can be obtained in terms of being able to do so.

上記基材12と保護フィルム14との貼着面積は、図3(A)に示す例のような、支持体の表面に貼着剤層を形成してなる保護フィルム14であれば、一例として、貼着剤層を、保護フィルム14の見なし面積の70%以下で、実効面積の50%以上となるようにパターンニングして形成すれば、容易に実現できる。
また、図3(C)に概念的に示す保護フィルム14cように、表面(基材表面との当接面)に凹凸を形成し、この凸部を貼着部とすることにより、基材12と保護フィルム14cとの接触面積自体を低減することで、基材12と保護フィルム14cとの貼着面積を、保護フィルム14の見なし面積の70%以下で、実効面積の50%以上となるようにしてもよい。なお、凸部を全て貼着部にするのではなく、その一部を貼着部にしてもよい。
さらに、貼着剤層のパターンニングと、保護フィルム表面の凹凸とを併用してもよい。
If the adhesive area of the said base material 12 and the protective film 14 is the protective film 14 which forms an adhesive agent layer on the surface of a support body like the example shown to FIG. 3 (A), as an example It can be easily realized if the adhesive layer is formed by patterning so that it is 70% or less of the assumed area of the protective film 14 and 50% or more of the effective area.
Moreover, as shown in the protective film 14c conceptually shown in FIG. 3C, irregularities are formed on the surface (a contact surface with the substrate surface), and this convex portion is used as a sticking portion. By reducing the contact area itself between the protective film 14c and the protective film 14c, the bonding area of the base material 12 and the protective film 14c is 70% or less of the assumed area of the protective film 14 and 50% or more of the effective area. It may be. In addition, you may make the one part into an adhesion part instead of making all the convex parts into an adhesion part.
Furthermore, you may use together the patterning of an adhesive agent layer, and the unevenness | corrugation on the surface of a protective film.

ここで、図示例においては、好ましい態様として、貫通孔50を囲む所定の領域52には(貫通孔50の周辺には)、貼着剤層54を形成していない。言い換えれば、図示例の保護フィルム14は、好ましい態様として、貫通孔50を、基材12と保護フィルム14との非貼着部に形成している。
本発明の製造方法においては、このような構成を有することにより、真空中で膨張した基材12と保護フィルム14との間に残存して、真空中で膨張した空気を、より、確実に貫通孔50から排出することが可能になる。
また、同様の理由により、本発明においては、基材12と保護フィルム14との当接面の面方向に連続する非貼着部には、少なくとも1つの貫通孔を有するのが好ましい。
Here, in the illustrated example, as a preferred embodiment, the adhesive layer 54 is not formed in a predetermined region 52 surrounding the through hole 50 (in the vicinity of the through hole 50). In other words, the protective film 14 of the example of illustration has the through-hole 50 formed in the non-sticking part of the base material 12 and the protective film 14 as a preferable aspect.
In the manufacturing method of the present invention, by having such a configuration, it remains between the base material 12 expanded in vacuum and the protective film 14 and more reliably penetrates the air expanded in vacuum. It becomes possible to discharge from the hole 50.
For the same reason, in the present invention, it is preferable that the non-adhering portion continuous in the surface direction of the contact surface between the substrate 12 and the protective film 14 has at least one through hole.

さらに、基材12と保護フィルム14とを、全面的に、十分な貼着力で貼着できるのであれば、図3(A)等に示すように、貼着剤層を領域52を除く全面に塗布するのではなく、貼着部が、島状に、全面的に点在するようにしてもよい。
この構成によれば、基材12と保護フィルム14との非貼着部が、当接面の面方向に、ほぼ全面的に連続するような状態となるので、真空中で膨張した基材12と保護フィルム14との間の空気を、より、確実に貫通孔50から排出できる。
Furthermore, if the base material 12 and the protective film 14 can be adhered to the entire surface with sufficient adhesive force, the adhesive layer is applied to the entire surface excluding the region 52 as shown in FIG. Instead of coating, the sticking portions may be scattered in an island shape over the entire surface.
According to this structure, since the non-sticking part of the base material 12 and the protective film 14 becomes a state which continues substantially entirely in the surface direction of the contact surface, the base material 12 expanded in vacuum. And the air between the protective film 14 can be more reliably discharged from the through hole 50.

本発明の製造方法において、保護フィルム14が有する粘着力は、0.1N/25mm未満である。
保護フィルム14の粘着力を0.1N/25mm未満とすることにより、基材12と保護フィルム14との剥離帯電を、より確実に防止できる。
In the production method of the present invention, the adhesive strength of the protective film 14 is less than 0.1 N / 25 mm.
By setting the adhesive strength of the protective film 14 to less than 0.1 N / 25 mm, the peeling charging between the substrate 12 and the protective film 14 can be more reliably prevented.

粘着力の下限には、特に限定はなく、十分な基材12と保護フィルム14との貼着力が得られればよいが、確実な両者の貼着力が確保できる等の点で、0.01N/25mm以上であるのが好ましい。   There is no particular limitation on the lower limit of the adhesive strength, and it is sufficient that sufficient adhesive strength between the base material 12 and the protective film 14 is obtained. However, in terms of ensuring reliable adhesive strength between the two, 0.01 N / It is preferably 25 mm or more.

前述のように、処理装置10において、基材12と保護フィルム14との積層体16は、回転軸に軸支された基材ロール24から引き出されて、長手方向に搬送されつつ、剥離ローラ30によって、基材12から保護フィルム14が剥離される。保護フィルム14が剥離された基材12は、ドラム32に巻き掛けられ、保護フィルム14は、第2巻取り軸40によってロール状に巻き取られる。
処理装置10において、剥離ローラ30は、貼着されている積層体を剥離する、公知の剥離ローラである。すなわち、本発明の製造方法において、基材12と保護フィルム14との剥離方法(剥離手段)には、特に限定はなく、公知の貼着された積層体の剥離方法が、各種、利用可能である。
As described above, in the processing apparatus 10, the laminated body 16 of the base material 12 and the protective film 14 is pulled out from the base material roll 24 that is pivotally supported by the rotation shaft and is transported in the longitudinal direction, while the peeling roller 30. As a result, the protective film 14 is peeled off from the substrate 12. The base material 12 from which the protective film 14 has been peeled is wound around the drum 32, and the protective film 14 is wound up in a roll shape by the second winding shaft 40.
In the processing apparatus 10, the peeling roller 30 is a known peeling roller that peels off the stuck laminate. That is, in the production method of the present invention, the peeling method (peeling means) between the substrate 12 and the protective film 14 is not particularly limited, and various known peeling methods for the laminated body can be used. is there.

本発明の製造方法においては、前述のように、基材12と保護フィルム14との剥離帯電を大幅に抑制できるので、基材12と保護フィルム14との剥離速度、すなわち、基材12の搬送速度を向上して、機能性フィルムの生産性を、より向上できる。
ここで、基材12と保護フィルム14との剥離速度には、特に限定はないが、0.1〜10m/min程度とするのが好ましい。
基材12と保護フィルム14との剥離速度(すなわち、基材12の搬送速度)が早いほど、剥離帯電は生じ易くなるが、剥離速度を上記範囲とすることにより、十分な剥離帯電の抑制効果を発現しつつ、良好な生産性を確保できる等の点で、好ましい結果を得ることができる。
In the manufacturing method of the present invention, as described above, the peeling charge between the base material 12 and the protective film 14 can be greatly suppressed, so the peeling speed between the base material 12 and the protective film 14, that is, the conveyance of the base material 12. The speed can be improved and the productivity of the functional film can be further improved.
Here, the peeling rate between the base material 12 and the protective film 14 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 10 m / min.
The faster the peeling speed between the base material 12 and the protective film 14 (that is, the transport speed of the base material 12) is, the more easily the peeling electrification occurs. A favorable result can be obtained in terms of ensuring good productivity and the like.

前述のように、処理装置10において、剥離ローラ30で剥離された保護フィルム14は、第2巻取り軸40に巻き取られ、基材12は、ドラム32に搬送される。
ドラム32は、基材12を所定の処理位置に位置しつつ、長手方向に搬送する円筒状の物である。基材12は、ドラム32の所定領域に巻き掛けられて、長手方向に搬送されつつ、処理手段34によって、成膜や表面処理等の処理に供される。
As described above, in the processing apparatus 10, the protective film 14 peeled off by the peeling roller 30 is wound around the second winding shaft 40, and the substrate 12 is conveyed to the drum 32.
The drum 32 is a cylindrical object that conveys the base material 12 in the longitudinal direction while being positioned at a predetermined processing position. The base material 12 is wound around a predetermined region of the drum 32 and is subjected to processing such as film formation and surface treatment by the processing means 34 while being conveyed in the longitudinal direction.

本発明の機能性フィルムの製造方法において、基材12の表面12aに施す処理には、特に限定はなく、真空中で行う各種の成膜や表面処理が、いずれも利用可能である。また、これらの処理は、公知の方法で行えばよい。
従って、処理手段34は、処理装置10で基材12の表面に施す処理に応じた、公知の構成を有する。
In the method for producing a functional film of the present invention, the treatment applied to the surface 12a of the substrate 12 is not particularly limited, and various film formations and surface treatments performed in a vacuum can be used. These processes may be performed by a known method.
Therefore, the processing means 34 has a known configuration corresponding to the processing applied to the surface of the base material 12 by the processing apparatus 10.

一例として、処理装置10が、ICP−CVD法(誘導結合型プラズマCVD)によって成膜を行なう装置であれば、処理手段34、誘導磁場を形成するための誘導コイルや、成膜領域に原料ガスを供給するためのガス供給手段等を有して構成される。
処理装置10が、CCP−CVD法(容量結合型プラズマCVD)によって成膜を行なう装置であれば、処理手段34は、中空状で多数の小孔を有し電極および原料ガス供給部として作用するシャワー電極、プラズマ励起電力を供給する高周波電源(13.56MHz等)、原料ガスの供給手段等を有して構成される。
処理装置10が、スパッタリングによって成膜を行なう装置であれば、処理手段34は、ターゲットの保持手段や高周波電極、スパッタガスの供給手段等を有して構成される。処理手段34が、反応性スパッタリングによって成膜を行うものであれば、さらに、反応ガスの供給手段を有して構成される。
処理装置10が、成膜室が真空蒸着によって成膜を行う装置であれば、処理手段34は、蒸発源(ルツボ)、電子銃や抵抗加熱電源などの成膜材料の加熱手段、蒸発源のシャッタ等を有して構成される。
As an example, if the processing apparatus 10 is an apparatus that performs film formation by ICP-CVD (inductively coupled plasma CVD), the processing means 34, an induction coil for forming an induction magnetic field, and a source gas in the film formation region It has a gas supply means and the like for supplying the gas.
If the processing apparatus 10 is an apparatus that forms a film by the CCP-CVD method (capacitive coupling type plasma CVD), the processing means 34 has a hollow shape with a large number of small holes and functions as an electrode and a source gas supply unit. It has a shower electrode, a high-frequency power supply (13.56 MHz, etc.) for supplying plasma excitation power, a source gas supply means, and the like.
If the processing apparatus 10 is an apparatus that forms a film by sputtering, the processing means 34 includes a target holding means, a high-frequency electrode, a sputtering gas supply means, and the like. If the processing means 34 forms a film by reactive sputtering, the processing means 34 is further configured to have a reaction gas supply means.
If the processing apparatus 10 is an apparatus in which the film forming chamber performs film formation by vacuum deposition, the processing means 34 includes an evaporation source (crucible), a heating means for film forming materials such as an electron gun and a resistance heating power source, and an evaporation source. It has a shutter and the like.

また、基材12の表面12aの処理は、成膜に限定はされず、真空中で行う処理であれば、活性化、清浄化、粗面化、平坦化等の公知の表面処理も、好適に利用可能であり、また、基材12の脱ガス処理も好適に利用可能である。
一例として、処理装置10が、プラズマによる表面12aの活性化や清浄化等を行う装置である場合には、前記シャワー電極、プラズマ励起電力を供給する高周波電源(13.56MHz等)、プロセスガスの供給手段等を有して構成される。
また、処理像値10が、熱アニールによる表面12aの平坦化や、基材12からの脱ガスを行なう装置である場合には、シースヒータや温度を測定する熱電対等を有して構成される。
Further, the treatment of the surface 12a of the substrate 12 is not limited to film formation, and known surface treatments such as activation, cleaning, roughening, and flattening are also suitable if the treatment is performed in a vacuum. Moreover, the degassing process of the base material 12 can also be suitably used.
As an example, when the processing apparatus 10 is an apparatus that activates or cleans the surface 12a by plasma, the shower electrode, a high-frequency power source (such as 13.56 MHz) that supplies plasma excitation power, and a process gas It has a supply means and the like.
Further, when the processed image value 10 is a device for flattening the surface 12a by thermal annealing or degassing from the base material 12, it has a sheath heater, a thermocouple for measuring temperature, and the like.

ここで、本発明の製造方法によれば、所定の剥離工程によって剥離されるまで、基材12の表面12aを保護フィルム14で保護できる。
従って、ガスバリア膜の成膜によるガスバリアフィルムの製造のように、基材表面に高い平滑性等を要求される用途には、好適である。
Here, according to the manufacturing method of this invention, the surface 12a of the base material 12 can be protected with the protective film 14 until it peels by a predetermined peeling process.
Therefore, it is suitable for applications that require high smoothness on the substrate surface, such as the production of a gas barrier film by forming a gas barrier film.

真空排気手段42は、真空チャンバ26内を排気して、実施する処理に応じた所定の圧力にするものである。
真空排気手段42には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ、ロータリーポンプなどの真空ポンプ、さらには、クライオコイル等の補助手段、到達真空度や排気量の調整手段等を利用する、真空成膜装置に用いられている公知の(真空)排気手段が、各種、利用可能である。
The vacuum exhaust means 42 exhausts the inside of the vacuum chamber 26 to a predetermined pressure corresponding to the processing to be performed.
The vacuum evacuation means 42 is not particularly limited, and a vacuum pump such as a turbo pump, a mechanical booster pump, a dry pump, and a rotary pump, an auxiliary means such as a cryocoil, a means for adjusting the ultimate vacuum and the exhaust amount, etc. Various known (vacuum) evacuation means used in the vacuum film forming apparatus can be used.

ドラム32に巻き掛けられて長手方向に搬送されつつ、処理手段34によって成膜等の処理を行われた基材12、すなわち本発明の製造方法による機能性フィルム20は、ガイドローラ38に案内されて、巻取り軸36によって巻回され、再度、ロール状にされる。   The base material 12 that has been subjected to processing such as film formation by the processing means 34 while being wound around the drum 32 and conveyed in the longitudinal direction, that is, the functional film 20 according to the manufacturing method of the present invention is guided by the guide roller 38. Then, it is wound around the winding shaft 36 and is again rolled.

以下、図1に示す処理装置10の作用を説明する。
前述のように、長尺な積層体16は、ロール状に巻回されて基材ロール24として供給される。
基材ロール24は、処理装置10の回転軸28に回転可能に装填される。基材ロール24を回転軸28に装填したら、積層体16を引き出し、剥離ローラ30において基材12と保護フィルム14とが剥離される。基材12から剥離された保護フィルム14は、剥離ローラ30から第2巻取り軸40に送られ、巻き掛けられる、所定の搬送経路で通紙(挿通)される。一方、基材12は、剥離ローラ30から、ドラム32の所定領域に巻き掛けられ、ガイドローラ38によって案内され、巻取り軸36に巻き掛けられる、所定の搬送経路で通紙される。
Hereinafter, the operation of the processing apparatus 10 shown in FIG. 1 will be described.
As described above, the long laminate 16 is wound into a roll and supplied as the base roll 24.
The substrate roll 24 is rotatably loaded on the rotation shaft 28 of the processing apparatus 10. When the base material roll 24 is loaded on the rotary shaft 28, the laminate 16 is pulled out, and the base material 12 and the protective film 14 are peeled off by the peeling roller 30. The protective film 14 peeled off from the substrate 12 is fed (inserted) through a predetermined transport path that is sent from the peeling roller 30 to the second winding shaft 40 and wound around. On the other hand, the base material 12 is wound around a predetermined region of the drum 32 from the peeling roller 30, guided by the guide roller 38, and passed through a predetermined conveyance path wound around the winding shaft 36.

積層体16、基材12および保護フィルム14の通紙を終了したら、真空チャンバ26を閉塞して、真空排気手段42を駆動して、真空チャンバ26内の排気を開始する。並行して、処理手段34において、基板12の表面12aに施す処理の準備を開始する。
真空チャンバ26内が所定の圧力で安定し、また、処理手段34が処理を実施できる状態となったら、巻取り軸36および第2巻取り軸40による巻取り、ドラム32による基材12の搬送、ならびに、回転軸28による基材ロール24からの積層体16の送り出しを同期して行って、基材12等の搬送を開始する。
When the passing of the laminate 16, the base material 12, and the protective film 14 is finished, the vacuum chamber 26 is closed, and the vacuum exhaust means 42 is driven to start exhausting the vacuum chamber 26. In parallel, in the processing means 34, preparation for processing to be performed on the surface 12a of the substrate 12 is started.
When the inside of the vacuum chamber 26 is stabilized at a predetermined pressure and the processing means 34 is ready to perform processing, winding by the winding shaft 36 and the second winding shaft 40 and transport of the substrate 12 by the drum 32 are performed. In addition, the feeding of the laminated body 16 from the base material roll 24 by the rotating shaft 28 is performed in synchronization, and the transport of the base material 12 and the like is started.

基材12等の搬送が安定したら、基材12の表面12aの処理を開始する。
これにより、積層体16を長手方向に搬送しつつ、基材12と保護フィルム14との剥離を行い、保護フィルム14を第2巻取り軸40に巻取り、基材12を長手方向に搬送しつつ、処理手段34によって成膜等の基材12の処理を行う。また、処理済の基材12すなわち本発明の製造方法による機能性フィルム20は、巻取り軸36に巻き取られ、機能性フィルム20のロールとされる。
If conveyance of the base material 12 etc. is stabilized, the process of the surface 12a of the base material 12 will be started.
Thereby, peeling the base material 12 and the protective film 14 while transporting the laminate 16 in the longitudinal direction, winding the protective film 14 around the second winding shaft 40, and transporting the base material 12 in the longitudinal direction. However, the processing means 34 processes the substrate 12 such as film formation. In addition, the processed base material 12, that is, the functional film 20 by the manufacturing method of the present invention is wound around the winding shaft 36 to be a roll of the functional film 20.

ここで、本発明の製造方法を実施する処理装置10では、保護フィルム14が貫通孔50を有するので、真空チャンバ26内の減圧によって、積層体16の基材12と保護フィルム14との間の空気が膨張しても、貫通孔50から好適に排除される。そのため、剥離ローラ30によって基材12と保護フィルム14とが剥離される前に、基材12と保護フィルム14とが自然剥離することがなく、剥離まで、基材12を保護フィルム14で安定かつ適正に保護できる。
また、貫通孔50を有し、かつ、貼着面積が、基材12と保護フィルム14との接触面積以下であるので、剥離ローラ30による剥離の際に生じる剥離帯電を大幅に抑制することができる。そのため、帯電によって基材12や保護フィルム14の搬送が不安定になることがなく、また、処理手段34による基材12の処理も、帯電による悪影響なく、安定して行うことができる。
Here, in the processing apparatus 10 that implements the manufacturing method of the present invention, since the protective film 14 has the through hole 50, the pressure between the substrate 12 and the protective film 14 of the laminate 16 is reduced by the reduced pressure in the vacuum chamber 26. Even if air expands, it is suitably excluded from the through hole 50. Therefore, before the base material 12 and the protective film 14 are peeled off by the peeling roller 30, the base material 12 and the protective film 14 are not naturally peeled off. Can protect properly.
Moreover, since it has the through-hole 50 and the sticking area is equal to or smaller than the contact area between the base material 12 and the protective film 14, it is possible to greatly suppress peeling charging that occurs when peeling by the peeling roller 30. it can. Therefore, the conveyance of the base material 12 and the protective film 14 does not become unstable due to charging, and the processing of the base material 12 by the processing means 34 can be stably performed without adverse effects due to the charging.

以上、本発明の機能性フィルムの製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。   As mentioned above, although the manufacturing method of the functional film of this invention was demonstrated in detail, this invention is not limited to the said Example, Even if various improvement and a change are performed in the range which does not deviate from the summary of this invention. Of course it is good.

例えば、図1に示す例は、本発明の製造方法を、ドラム32に基材を巻き掛けて長手方向に搬送しつつ、処理を行う装置に利用した例であるが、本発明は、これに限定はされない。例えば、本発明は、搬送ローラ対等を用いて、長尺な積層体を長手方向に直線状に搬送しながら、保護フィルムの剥離や、基材表面の処理を行う装置にも、好適に利用可能である。   For example, the example shown in FIG. 1 is an example in which the manufacturing method of the present invention is applied to an apparatus that performs processing while winding a substrate around a drum 32 and transporting it in the longitudinal direction. There is no limitation. For example, the present invention can be suitably used for an apparatus that peels off a protective film and processes the surface of a substrate while conveying a long laminate linearly in the longitudinal direction using a pair of conveying rollers or the like. It is.

以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。
[実施例1]
基材12として、厚さ100μm、幅700mmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
また、保護フィルム14用の粘着性シートとして、幅700mmのサンエー化研社製のPAC−3−50THKを用意した。この粘着性シートの粘着力は、0.05N/25mmである。
この粘着性シートに、図3(A)に示すように千鳥状に貫通孔50を形成した。貫通孔50の総面積は、貫通孔50を形成する前の保護フィルム14(粘着性シート)のみなし面積の5%とした。さらに、図3(A)に示すように貫通孔50の周囲の貼着剤層を除去して、保護シート14と基材12との貼着面積を調整した。本例において、貼着面積は、保護フィルム14のみなし面積の75%で、かつ、保護フィルム14の実効面積の79%とした。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.
[Example 1]
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm and a width of 700 mm was prepared as the substrate 12.
Moreover, as a pressure-sensitive adhesive sheet for the protective film 14, PAC-3-50THK manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd. having a width of 700 mm was prepared. The adhesive strength of this adhesive sheet is 0.05 N / 25 mm.
In this adhesive sheet, through holes 50 were formed in a staggered manner as shown in FIG. The total area of the through holes 50 was 5% of the area where only the protective film 14 (adhesive sheet) before the through holes 50 were formed. Furthermore, as shown in FIG. 3A, the adhesive layer around the through hole 50 was removed, and the adhesive area between the protective sheet 14 and the substrate 12 was adjusted. In this example, the sticking area was 75% of the non-existing area of the protective film 14 and 79% of the effective area of the protective film 14.

基材12の表面12aに、この保護フィルム14の貼着剤層を当接して積層し、ローラで押圧して、積層体16を作成した。
また、この積層体16をロール状に巻回して、基材ロール24とした。
The adhesive layer of the protective film 14 was brought into contact with the surface 12a of the substrate 12 and laminated, and pressed with a roller to form a laminate 16.
Moreover, this laminated body 16 was wound in roll shape, and it was set as the base material roll 24. FIG.

この基材ロール24を、図1に示す処理装置10の回転軸28に装着して、前述のように、基材ロール24から剥離ローラ30まで積層体16を引き出し、剥離ローラ30で基材12と保護フィルム14とを剥離し、剥離ローラ30から第2巻取り軸40まで保護フィルム14を通紙し、また、剥離ローラ30からドラム32およびガイドローラ38を経て巻取り軸36まで基材12を通紙した。
また、剥離ローラ30からドラム32に至る基材12の搬送経路の近傍に、帯電量測定手段64を配置した。なお、帯電量測定手段64は、シシド静電気社製の精密静電気測定機『STATIRON DS3』を用いた。
The substrate roll 24 is attached to the rotating shaft 28 of the processing apparatus 10 shown in FIG. 1, and the laminate 16 is pulled out from the substrate roll 24 to the peeling roller 30 as described above. And the protective film 14 are peeled off, the protective film 14 is passed from the peeling roller 30 to the second winding shaft 40, and the substrate 12 is passed from the peeling roller 30 through the drum 32 and the guide roller 38 to the winding shaft 36. I passed the paper.
In addition, a charge amount measuring unit 64 is disposed in the vicinity of the conveyance path of the base material 12 from the peeling roller 30 to the drum 32. The charge amount measuring means 64 used was a precision static electricity measuring device “STATIRON DS3” manufactured by Sicid Static.

通紙を完了した後、真空チャンバ26を閉塞して、真空排気手段42を駆動した。
真空チャンバ26内の圧力が5×10-4Paで安定したら、積層体16、基材12および保護フィルム14の搬送を開始した。
気泡の有無、接着強度、および、剥離帯電量を評価した。また、これらの評価結果から、総合評価も行なった。
評価は、以下のとおりである。なお、気泡の有無および接着強度は、真空チャンバ26に形成された除き窓から、基材ロール24から剥離ロール30に至る経路での積層体16を目視して評価したものであり、また、帯電量は、帯電量測定手段64によって測定した基材12の帯電量から評価したものである。
After completing the sheet passing, the vacuum chamber 26 was closed and the vacuum exhaust means 42 was driven.
When the pressure in the vacuum chamber 26 was stabilized at 5 × 10 −4 Pa, conveyance of the laminate 16, the base material 12, and the protective film 14 was started.
The presence / absence of bubbles, adhesive strength, and peel charge amount were evaluated. Moreover, comprehensive evaluation was also performed from these evaluation results.
The evaluation is as follows. The presence / absence of air bubbles and the adhesive strength were evaluated by visually observing the laminate 16 in the path from the removal window formed in the vacuum chamber 26 to the base roll 24 to the peeling roll 30. The amount is evaluated from the charge amount of the substrate 12 measured by the charge amount measuring means 64.

気泡: 基材12と保護フィルム14との間に、気泡の発生が無い場合を『○』、気泡の発生が有る場合を『×』、と評価した。
接着強度: 端部に気泡に起因しない基材12と保護フィルム14と剥離が無い場合を『○』、剥離が有る場合を『×』、と評価した。
剥離帯電量: 2kV未満を『○』、2〜3kVを『△』、3kV超を『×』、と評価した。
総合評価: 上記3つの評価が全て○の物を『○』、1つでも△が有る物を『△』、1つでも×が有るものを『×』、と評価した。
保護フィルム14のみなし面積に対する貫通孔の面積、同みなし面積に対する貼着面積、および、同実効面積に対する貼着面積、ならびに、上記評価結果を、下記表1に示す。
Air bubbles: A case where no air bubbles were generated between the substrate 12 and the protective film 14 was evaluated as “◯”, and a case where air bubbles were generated was evaluated as “X”.
Adhesive strength: The case where there was no peeling between the substrate 12 and the protective film 14 not caused by bubbles at the end was evaluated as “◯”, and the case where there was peeling was evaluated as “X”.
Release charge amount: Less than 2 kV was evaluated as “◯”, 2-3 kV as “Δ”, and over 3 kV as “×”.
Comprehensive evaluation: All the above three evaluations were evaluated as “◯” for those with “◯”, “△” for those with at least one “△”, and “×” with at least one “×”.
Table 1 below shows the area of the through holes with respect to the area where only the protective film 14 is present, the adhesion area with respect to the deemed area, the adhesion area with respect to the effective area, and the evaluation results.

[実施例2〜実施例15、比較例1〜3]
貫通孔50の大きさを調節して、保護フィルム14のみなし面積に対する貫通孔50の総面積を調整し、また、保護フィルム14の貼着剤層の除去量を調整して、保護フィルム14のみなし面積および実効面積に対する貼着面積を調整した以外は、実施例1と同様にして基材ロール24を作製した。
この基材ロール24を、実施例1と同様に処理装置10に通紙/搬送して、実施例と同様に気泡、接着強度、帯電量の評価を行い、総合評価を行なった。
保護フィルム14のみなし面積に対する貫通孔の面積、同みなし面積に対する貼着面積、および、同実効面積に対する貼着面積、ならびに、上記評価結果を、下記表1に併記する。
[Examples 2 to 15 and Comparative Examples 1 to 3]
The size of the through-hole 50 is adjusted to adjust the total area of the through-hole 50 relative to the area where only the protective film 14 is present, and the removal amount of the adhesive layer of the protective film 14 is adjusted to A substrate roll 24 was produced in the same manner as in Example 1 except that the sticking area with respect to the deemed area and the effective area was adjusted.
The base material roll 24 was passed through / conveyed to the processing apparatus 10 in the same manner as in Example 1, and bubbles, adhesive strength, and charge amount were evaluated in the same manner as in Example, and overall evaluation was performed.
The area of the through-hole with respect to the area where only the protective film 14 is present, the adhesion area with respect to the deemed area, the adhesion area with respect to the effective area, and the evaluation results are also shown in Table 1 below.

[比較例4および比較例5]
保護フィルム14を、サンエー化研社製のPAC−4−50(粘着力 0.1N/25mm)に変更し、かつ、貫通孔50の大きさを調節して、貫通孔の総面積を保護フィルム14のみなし面積の10%とし、さらに、貼着剤層の除去量を調整して、貼着面積を、粘着性シートのみなし面積の60%で、かつ、実効面積の67%とした以外(比較例4)、保護フィルム14を、サンエー化研社製のPAC−4K−50(粘着力 0.19N/25mm)に変更し、かつ、貫通孔50の大きさを調節して、貫通孔の総面積を保護フィルム14のみなし面積の30%とし、さらに、貼着剤層の除去量を調整して、貼着面積を、粘着性シートのみなし面積の70%で、かつ、実効面積の100%とした以外(比較例4)は、実施例1と同様にして基材ロール24を作製した。
この基材ロール24を、実施例1と同様に処理装置10に通紙/搬送して、実施例と同様に気泡、接着強度、帯電量の評価を行い、総合評価を行なった。
保護フィルム14のみなし面積に対する貫通孔の面積、同みなし面積に対する貼着面積、および、同実効面積に対する貼着面積、ならびに、上記評価結果を、下記表1に併記する。
[Comparative Example 4 and Comparative Example 5]
The protective film 14 is changed to PAC-4-50 (adhesive strength 0.1 N / 25 mm) manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd., and the size of the through-hole 50 is adjusted, so that the total area of the through-hole is protected. 14 and 10% of the area where only the adhesive layer is removed, and the removal amount of the adhesive layer is adjusted so that the adhesive area is 60% of the area where only the adhesive sheet is present and 67% of the effective area ( In Comparative Example 4), the protective film 14 was changed to PAC-4K-50 (adhesive strength 0.19 N / 25 mm) manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd. The total area is set to 30% of the area where only the protective film 14 is present, and the removal amount of the adhesive layer is adjusted, so that the adhesive area is 70% of the area where only the adhesive sheet is present and 100% of the effective area. % (Comparative Example 4) was the same as in Example 1 except that It was produced Lumpur 24.
The base material roll 24 was passed through / conveyed to the processing apparatus 10 in the same manner as in Example 1, and bubbles, adhesive strength, and charge amount were evaluated in the same manner as in Example, and overall evaluation was performed.
The area of the through-hole with respect to the area where only the protective film 14 is present, the adhesion area with respect to the deemed area, the adhesion area with respect to the effective area, and the evaluation results are also shown in Table 1 below.

上記表1に示されるように、貫通孔50の面積が保護フィルムのみなし面積に対して5%以上で、かつ、粘着力が0.1N/25mm未満である本発明の機能性フィルムの製造方法によれば、基材12と保護フィルム14との間の気泡の発生や、両者の剥離等を好適に防止して、かつ、剥離帯電も抑制できる。
特に、貼着面積が保護フィルム14の見なし面積の70%以下で、かつ、実効面積の50%以上である実施例2、3、6、7、10、11、13および14は、気泡、接着強度、および、剥離帯電共に、良好な結果が得られている。
これに対し、貫通孔50の面積が保護フィルムのみなし面積に対して5%未満である比較例1〜3は、基材12と保護フィルム14との間に気泡が発生しており、また、保護フィルム14の粘着力が強すぎる比較例4および5は、剥離帯電が大きい。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
As shown in Table 1 above, the method for producing the functional film of the present invention in which the area of the through-hole 50 is 5% or more with respect to the area of the protective film and the adhesive strength is less than 0.1 N / 25 mm. According to the above, generation of bubbles between the base material 12 and the protective film 14, separation of the two can be suitably prevented, and peeling charging can be suppressed.
In particular, Examples 2, 3, 6, 7, 10, 11, 13, and 14 in which the sticking area is 70% or less of the assumed area of the protective film 14 and 50% or more of the effective area are bubbles, adhesion Good results have been obtained for both strength and peel charge.
On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3 in which the area of the through-hole 50 is less than 5% with respect to the area without the protective film, bubbles are generated between the base material 12 and the protective film 14, Comparative Examples 4 and 5 in which the adhesive strength of the protective film 14 is too strong have a large peel charge.
From the above results, the effects of the present invention are clear.

基材の表面にガスバリア膜を成膜するガスバリアフィルムの製造など、基材の表面に所定の機能を発現する成膜する機能性フィルムの製造等に、好適に利用可能である。   The present invention can be suitably used for the production of a functional film for forming a film that exhibits a predetermined function on the surface of the substrate, such as the production of a gas barrier film for forming a gas barrier film on the surface of the substrate.

10 処理装置
12 基材
14 保護フィルム
16 積層体
20 機能性フィルム
24 基材ロール
26 真空チャンバ
28 回転軸
30 剥離ローラ
32 ドラム
36 巻取り軸
38 ガイドローラ
40 第2巻取り軸
42 真空排気手段
50,58 貫通孔
52,60 領域
54 貼着剤層
64 帯電量測定手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Processing apparatus 12 Base material 14 Protective film 16 Laminated body 20 Functional film 24 Base material roll 26 Vacuum chamber 28 Rotating shaft 30 Peeling roller 32 Drum 36 Winding shaft 38 Guide roller 40 2nd winding shaft 42 Vacuum exhaust means 50, 58 Through-hole 52, 60 area 54 Adhesive layer 64 Charge amount measuring means

Claims (9)

真空中において、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記積層体から保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に処理を行うに際し、
前記保護フィルムとして、複数の貫通孔を有し、この貫通孔の総面積が、貫通孔を有さないと見なした場合における前記保護フィルムの表面積の5%以上であり、かつ、粘着力が0.1N/25mmよりも小さい保護フィルムを用いることを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
In a vacuum, a laminate formed by laminating a protective film having adhesive properties on the surface to be treated of the substrate is drawn out from a laminate roll obtained by winding the laminate into a roll shape, and the length While transporting in the direction, peeling the protective film from the laminate, and when processing the surface to be processed of the substrate,
The protective film has a plurality of through-holes, and the total area of the through-holes is 5% or more of the surface area of the protective film when it is considered that there are no through-holes. The manufacturing method of the functional film characterized by using the protective film smaller than 0.1 N / 25mm.
前記保護フィルムと基材との貼着面積が、貫通孔を有さないと見なした場合における前記保護フィルムの表面積の70%以下である請求項1に記載の機能性フィルムの製造方法。   2. The method for producing a functional film according to claim 1, wherein an adhesion area between the protective film and the substrate is 70% or less of a surface area of the protective film when it is considered that there is no through hole. 前記保護フィルムと基材との貼着面積が、前記保護フィルムと基材との接触面積の50%以上である請求項1または2に記載の機能性フィルムの製造方法。   The method for producing a functional film according to claim 1 or 2, wherein an adhesion area between the protective film and the substrate is 50% or more of a contact area between the protective film and the substrate. 前記保護フィルムと基材との貼着面積が、前記保護フィルムと基材との接触面積以下である請求項1〜3のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。   The method for producing a functional film according to any one of claims 1 to 3, wherein an adhesion area between the protective film and the substrate is equal to or less than a contact area between the protective film and the substrate. 前記保護フィルムの貫通孔が、前記保護フィルムの非貼着部に形成される請求項1〜4のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the functional film in any one of Claims 1-4 in which the through-hole of the said protective film is formed in the non-sticking part of the said protective film. 前記基材の被処理面の処理が、成膜である請求項1〜5のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。   The method for producing a functional film according to claim 1, wherein the treatment of the surface to be treated of the substrate is film formation. 前記保護フィルムは、基材との当接面に凹凸が形成され、この凸部が貼着部となっている請求項1〜6のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。   The said protective film is a manufacturing method of the functional film in any one of Claims 1-6 in which an unevenness | corrugation is formed in the contact surface with a base material, and this convex part is a sticking part. 前記保護フィルムの連続する非貼着部に、1以上の前記貫通孔が形成される請求項1〜7のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。   The method for producing a functional film according to claim 1, wherein one or more through-holes are formed in a continuous non-sticking portion of the protective film. 前記保護フィルムの貼着部が、島状に点在する請求項1〜8のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the functional film in any one of Claims 1-8 to which the sticking part of the said protective film is dotted in island shape.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP6018960B2 (en) * 2013-03-15 2016-11-02 リンテック株式会社 LAMINATED SHEET AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATED MOLDING USING THE SAME
JP2016097812A (en) * 2014-11-21 2016-05-30 トヨタ自動車株式会社 Vehicle control apparatus
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11268122A (en) * 1998-03-23 1999-10-05 Yamaha Corp Laminator and lamination method
WO2004061031A1 (en) * 2002-12-27 2004-07-22 Lintec Corporation Pressure sensitive adhesive sheet and method of manufacturing the adhesive sheet
JP4397790B2 (en) * 2004-11-02 2010-01-13 日東電工株式会社 Surface protective film or sheet
CN101268161A (en) * 2005-08-01 2008-09-17 琳得科株式会社 Adhesive sheet
JP5371206B2 (en) * 2007-05-30 2013-12-18 アキレス株式会社 Protective film
JP2010079089A (en) * 2008-09-26 2010-04-08 Fujifilm Corp Pattern forming method
JPWO2010084832A1 (en) * 2009-01-21 2012-07-19 Dic株式会社 Surface protection film

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