JP5364235B2 - Display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device in which by making a bias current, ample for insulating a short-circuited point, to flow in the reverse direction and applying a transistor with the use of amorphous silicon. <P>SOLUTION: The display device includes a switching transistor for controlling the input of a video signal; a drive transistor for controlling the current flowing in the forward direction to that of a light-emitting device; and an AC transistor for controlling the current flowing in the direction reverse to that of the light-emitting device, and a reverse bias current can be made to flow in the light-emitting device. Also, the transistor is constituted of an N-channel transistor. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、発光素子を用いた表示装置に関する。また、その表示装置を表示部に有する電子機器に関する。   The present invention relates to a display device using a light emitting element. The present invention also relates to an electronic device having the display device in a display portion.

近年、基板上にトランジスタ、たとえばTFT(Thin Film Transistor : 薄膜トランジスタ)を形成する技術が大幅に進歩し、アクティブマトリクス型の表示装置の開発が進められている。   In recent years, a technology for forming a transistor, for example, a TFT (Thin Film Transistor) on a substrate has greatly advanced, and an active matrix display device has been developed.

また、画素を発光ダイオード(LED)などの発光素子で形成した、いわゆる自発光型の表示装置が注目を浴びている。このような自発光型の表示装置に用いられる発光素子としては、有機発光ダイオード(OLED(Organic Light Emitting Diode)、有機EL素子、エレクトロルミネッセンス(Electro Luminescence:EL)素子などとも言う)が注目を集めており、有機ELディスプレイなどに用いられるようになってきている。発光素子は自発光型であるため、液晶表示装置と違いバックライト等の光源を必要としない。このため表示装置の軽量化や薄型化を実現する手段として有望視され、近年液晶テレビに追随して大画面ELディスプレイの開発も行われている。   In addition, a so-called self-luminous display device in which a pixel is formed of a light emitting element such as a light emitting diode (LED) has attracted attention. As a light-emitting element used in such a self-luminous display device, an organic light-emitting diode (also referred to as an OLED (Organic Light Emitting Diode), an organic EL element, or an electroluminescence (EL) element) attracts attention. It has been used for organic EL displays and the like. Since the light emitting element is a self-luminous type, a light source such as a backlight is not required unlike a liquid crystal display device. For this reason, it is considered promising as a means for realizing a lighter and thinner display device, and in recent years, a large screen EL display has been developed following the liquid crystal television.

ELディスプレイを実用化する上で問題となっているのが、EL層の劣化による発光素子の寿命の短さであった。EL層の寿命の長さを左右する要因として、ELディスプレイを駆動するデバイスの構造、EL層を構成する有機EL材料の特性、電極の材料、作成行程における条件等が挙げられる。   A problem in putting an EL display into practical use is a short lifetime of a light emitting element due to deterioration of an EL layer. Factors that influence the length of the life of the EL layer include the structure of the device that drives the EL display, the characteristics of the organic EL material that constitutes the EL layer, the material of the electrode, the conditions in the production process, and the like.

そして上述した要因の他に、EL層の寿命の長さを左右する要因として最近注目されているのが、ELディスプレイの駆動方法である。EL素子を発光させるために、EL層を挟んだ陽極と陰極の2つの電極に、直流の電流をかける方法が、従来一般的に用いられてきた。つまり、ELディスプレイは直流駆動されており、EL層に加えられるEL駆動電圧は常に同じ極性を有していた。   In addition to the above-described factors, the EL display driving method has recently attracted attention as a factor that affects the length of the EL layer lifetime. In order to emit light from an EL element, a method of applying a direct current to two electrodes, an anode and a cathode, sandwiching an EL layer has been conventionally used. That is, the EL display is DC driven, and the EL drive voltage applied to the EL layer always has the same polarity.

しかしながら、発光素子に順方向、及び逆方向の駆動電圧を印加し、発光素子に逆方向の駆動電圧を印加する際には、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を短絡箇所に流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能な駆動方法が提案されている(特許文献1参照)。
特開2005−202371
However, when a forward drive voltage and a reverse drive voltage are applied to the light-emitting element and a reverse drive voltage is applied to the light-emitting element, a current sufficient to insulate the short-circuited part is passed through the short-circuited part. Therefore, there has been proposed a driving method capable of extending the lifetime of the light emitting element (see Patent Document 1).
JP-A-2005-202371

また画素電極と対向電極が短絡してしまい、画素領域に発光しない領域が形成されてしまう初期不良がある。短絡は、発光素子の形成前に異物(ゴミ)が付着することによって起こる場合と、陽極の形成時に、該陽極に微細な突起が生じてしまったために電界発光層にピンホールが生じて起こる場合と、電界発光層の膜厚が薄いために電界発光層が均一に成膜されずにピンホールが生じて起きる場合などがある。このような初期不良が発生した画素では、信号に応じた点灯及び非点灯が行われず、電流のほとんどすべてが短絡部を流れて素子全体が消光する現象が生じたり、特定の画素が点灯又は非点灯しない現象が生じたりして、画像の表示が良好に行われない。   In addition, there is an initial failure in which a pixel electrode and a counter electrode are short-circuited and a region that does not emit light is formed in the pixel region. A short circuit occurs when foreign matter (dust) adheres before the light emitting element is formed, or when a pinhole is generated in the electroluminescent layer because a fine protrusion is formed on the anode when forming the anode. In addition, since the electroluminescent layer is thin, the electroluminescent layer may not be uniformly formed and pinholes may occur. In a pixel in which such an initial failure has occurred, lighting and non-lighting according to the signal are not performed, and almost all of the current flows through the short-circuited part, causing a phenomenon that the entire element is extinguished, or a specific pixel is turned on or off. A phenomenon that does not light up occurs, and the image is not displayed well.

また上述の初期不良とは別に、時間の経過に伴って、新たに発生した陽極と陰極の短絡に起因する進行性不良(経時劣化ともいう)が生じることがある。時間の経過に伴って新たに発生した陽極と陰極の短絡は、陽極の形成時に生じた微細な突起により発生する。つまり、一対の電極間に電界発光層が挟まれた積層体には、潜在的な短絡箇所が存在しており、時間の経過に伴って短絡箇所が露顕する。また進行性不良は、陽極と陰極の短絡の他に、電界発光層と陰極の間の微少な空隙が、時間と共に広がることで、電界発光層と陰極の間の接触不良を引き起こすことにより生じるとも言われている。   In addition to the initial failure described above, progressive failure (also referred to as deterioration with time) may occur with the passage of time due to a newly generated anode-cathode short circuit. The short circuit between the anode and the cathode newly generated with the passage of time is caused by fine protrusions generated when the anode is formed. That is, in the laminate in which the electroluminescent layer is sandwiched between the pair of electrodes, there is a potential short-circuit portion, and the short-circuit portion is exposed as time passes. In addition to the short circuit between the anode and the cathode, the progressive defect may also be caused by causing a minute gap between the electroluminescent layer and the cathode to spread over time, thereby causing poor contact between the electroluminescent layer and the cathode. It is said.

逆方向の駆動電圧を印加することで、初期不良については、短絡箇所を炭化または酸化することで絶縁化し、更に進行するのを抑えることができる。進行性不良についても、短絡箇所を炭化または酸化することで絶縁化させたり、電界発光層と陰極の間の空隙の広がりを抑制させたりすることで、その発生及び進行を抑えることが可能である。   By applying a drive voltage in the reverse direction, the initial failure can be insulated by carbonizing or oxidizing the short-circuited portion, and further progress can be suppressed. With regard to progressive defects, it is possible to suppress the generation and progression by insulating the short-circuited portion by carbonizing or oxidizing, or suppressing the spread of the gap between the electroluminescent layer and the cathode. .

不良の進行を抑えるためには、発光素子を交流で駆動する必要がある。発光素子を交流で駆動するとは、発光素子に極性の異なる電圧を交互に加えることをいう。すなわち、発光に必要な順方向の電圧の他に、逆方向の電圧を加えることをいう。順方向の電圧と逆方向の電圧とは、強さや印加時間が必ずしも等しくなくてもよい。ごくわずかな逆方向の電圧しか印加しない場合であっても、交流と称することにする。本発明は発光素子に逆方向の電圧を印加し、逆方向バイアスの電流を流すことで交流駆動を行い、発光素子の不良を抑制する。   In order to suppress the progress of defects, it is necessary to drive the light emitting element with an alternating current. Driving the light emitting element with an alternating current means that voltages having different polarities are alternately applied to the light emitting element. In other words, in addition to the forward voltage necessary for light emission, the reverse voltage is applied. The forward voltage and the reverse voltage may not necessarily be equal in strength and application time. Even if only a slight reverse voltage is applied, it will be referred to as alternating current. In the present invention, a reverse voltage is applied to the light emitting element and a reverse bias current is supplied to perform AC driving, thereby suppressing defects in the light emitting element.

なお、短絡箇所を絶縁化するためには、短絡箇所を絶縁化するのに十分な大電流を流す必要がある。通常短絡箇所に絶縁化するのに十分な電流の値は、発光素子を発光させるために順方向に流れる電流値よりもはるかに大きいことが望ましいとされる。   In order to insulate the short-circuited part, it is necessary to pass a large current sufficient to insulate the short-circuited part. Usually, it is desirable that the current value sufficient to insulate the short-circuited portion is much larger than the current value flowing in the forward direction in order to cause the light emitting element to emit light.

一方、既に確立された安価な製造技術として、アモルファスシリコンを用いた表示装置及び駆動方法が課題となっている。例えば、半導体膜にポリシリコンを用いた場合、結晶化のプロセスが必要となるが、大面積基板に均一なレーザー光を照射することは難しいため、広い面積に渡って一様な結晶を得ることが困難となる。そこで、大面積化を可能とし、製造工程が簡略で結晶化を必要としない、アモルファスシリコンを用いた高品質な表示装置の作製及び駆動方法の開発が進められている。しかし、アモルファスシリコンを用いる場合、Pチャネル型トランジスタでは十分な動作特性や機能を実現することができないため、表示装置にはNチャネル型トランジスタで構成する必要があった。   On the other hand, a display device and a driving method using amorphous silicon have been problems as an inexpensive manufacturing technique that has already been established. For example, when polysilicon is used for the semiconductor film, a crystallization process is required, but it is difficult to irradiate a large area substrate with a uniform laser beam, so a uniform crystal can be obtained over a wide area. It becomes difficult. In view of this, development of a high-quality display device using amorphous silicon and development of a driving method, which can increase the area, simplify the manufacturing process, and do not require crystallization, are in progress. However, when amorphous silicon is used, a P-channel transistor cannot realize sufficient operation characteristics and functions, and thus the display device needs to be configured with an N-channel transistor.

そこで、本発明は、Nチャネル型トランジスタで構成される画素を表示装置及びその駆動方法に適用することを目的とする。さらに、良好な発光特性を提供するとともに、発光素子の寿命を延ばすため、発光素子に逆方向の電圧を印加することが可能な表示装置を提供することを課題とする。   Accordingly, an object of the present invention is to apply a pixel including an N-channel transistor to a display device and a driving method thereof. It is another object of the present invention to provide a display device capable of applying a reverse voltage to a light emitting element in order to provide good light emission characteristics and extend the life of the light emitting element.

本発明の構成の一つは、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、映像信号の入力を制御する第1のトランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する第2のトランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する第3のトランジスタとを画素に有する。そして、第1のトランジスタのゲート電極は第1の配線と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる第2の配線と電気的に接続され、他方は第2のトランジスタのゲート電極と電気的に接続される。第2のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第3の配線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。第3のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は画素電極、及び第3のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、他方は第4の配線と電気的に接続される。また、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及び第3のトランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタは線形領域で動作するとよい。   One of the structures of the present invention includes a first wiring, a second wiring, a third wiring, a fourth wiring, a light emitting element having a pixel electrode and a counter electrode, and an input of a video signal. The pixel includes a first transistor to be controlled, a second transistor for controlling a current flowing in the forward direction in the light emitting element, and a third transistor for controlling a current flowing in the reverse direction in the light emitting element. The gate electrode of the first transistor is electrically connected to the first wiring, one of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the second wiring through which the video signal flows, and the other Are electrically connected to the gate electrode of the second transistor. One of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the third transistor is electrically connected to the pixel electrode and the gate electrode of the third transistor, and the other is electrically connected to the fourth wiring. Further, the first transistor, the second transistor, and the third transistor are N-channel transistors. Note that the first transistor, the second transistor, and the third transistor are preferably operated in a linear region.

また上記構成を言い換えると、走査線と、信号線と、電源線と、電位制御線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、映像信号の入力を制御するスイッチング用トランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する駆動用トランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する交流用トランジスタとを画素に有する。そして、スイッチング用トランジスタのゲート電極は走査線と電気的に接続され、スイッチング用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる信号線と電気的に接続され、他方は駆動用トランジスタのゲート電極と電気的に接続される。駆動用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は電源線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。交流用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は画素電極、及び交流用トランジスタのゲート電極と電気的に接続され、他方は電位制御線と電気的に接続される。また、スイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、及び交流用トランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、スイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、交流用トランジスタは線形領域で動作してもよい。   In other words, in other words, the light-emitting element having a scanning line, a signal line, a power supply line, a potential control line, a pixel electrode and a counter electrode, a switching transistor for controlling input of a video signal, and the light-emitting element The pixel has a driving transistor for controlling the current flowing in the forward direction and an AC transistor for controlling the current flowing in the reverse direction in the light emitting element. The gate electrode of the switching transistor is electrically connected to the scanning line, one of the source electrode and the drain electrode of the switching transistor is electrically connected to the signal line through which the video signal flows, and the other is the gate of the driving transistor. It is electrically connected to the electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor is electrically connected to the power supply line, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor is electrically connected to the pixel electrode and the gate electrode of the AC transistor, and the other is electrically connected to the potential control line. The switching transistor, the driving transistor, and the AC transistor are N-channel transistors. Note that the switching transistor, the driving transistor, and the AC transistor may operate in a linear region.

本発明の構成の一つは、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、映像信号の入力を制御する第1のトランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する第2のトランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する第3のトランジスタとを画素に有する。そして、第1のトランジスタのゲート電極は第1の配線と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる第2の配線と電気的に接続され、他方は第2のトランジスタのゲート電極と電気的に接続される。第2のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第3の配線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。第3のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は画素電極と電気的に接続され、他方は第3の配線と電気的に接続され、第3のトランジスタのゲート電極は第4の配線と接続される。また、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及び第3のトランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタは線形領域で動作してもよい。また、第4の配線と対向電極は接続されていてもよい。   One of the structures of the present invention includes a first wiring, a second wiring, a third wiring, a fourth wiring, a light emitting element having a pixel electrode and a counter electrode, and an input of a video signal. The pixel includes a first transistor to be controlled, a second transistor for controlling a current flowing in the forward direction in the light emitting element, and a third transistor for controlling a current flowing in the reverse direction in the light emitting element. The gate electrode of the first transistor is electrically connected to the first wiring, one of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the second wiring through which the video signal flows, and the other Are electrically connected to the gate electrode of the second transistor. One of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the third transistor is electrically connected to the pixel electrode, the other is electrically connected to the third wiring, and the gate electrode of the third transistor is connected to the fourth wiring. The Further, the first transistor, the second transistor, and the third transistor are N-channel transistors. Note that the first transistor, the second transistor, and the third transistor may operate in a linear region. Further, the fourth wiring and the counter electrode may be connected.

また上記構成を言い換えると、走査線と、信号線と、電源線と、配線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、映像信号の入力を制御するスイッチング用トランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する駆動用トランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する交流用トランジスタとを画素に有する。そして、スイッチング用トランジスタのゲート電極は走査線と電気的に接続され、スイッチング用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる信号線と電気的に接続され、他方は駆動用トランジスタのゲート電極と電気的に接続される。駆動用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は電源線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。交流用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は画素電極と電気的に接続され、他方は電源線と電気的に接続され、交流用トランジスタのゲート電極は配線と接続される。また、スイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、及び交流用トランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、スイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、交流用トランジスタは線形領域で動作するとよい。また、配線と対向電極は接続されていてもよい。   In other words, the above structure is applied in the order of a scanning line, a signal line, a power line, a wiring, a pixel electrode and a counter electrode, a switching transistor for controlling input of a video signal, and a light emitting element. The pixel includes a driving transistor that controls current flowing in the direction and an AC transistor that controls current flowing in the reverse direction in the light emitting element. The gate electrode of the switching transistor is electrically connected to the scanning line, one of the source electrode and the drain electrode of the switching transistor is electrically connected to the signal line through which the video signal flows, and the other is the gate of the driving transistor. It is electrically connected to the electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor is electrically connected to the power supply line, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor is electrically connected to the pixel electrode, the other is electrically connected to the power supply line, and the gate electrode of the AC transistor is connected to the wiring. The switching transistor, the driving transistor, and the AC transistor are N-channel transistors. Note that the switching transistor, the driving transistor, and the AC transistor are preferably operated in a linear region. Further, the wiring and the counter electrode may be connected.

また上記構成において、第2のトランジスタのチャネル長L1とチャネル幅W1の比(L1/W1)は、第3のトランジスタのチャネル長L2とチャネル幅W2の比(L2/W2)よりも大きいことが好ましい。より具体的には、第3のトランジスタはそのチャネル長がチャネル幅と同じかそれより短いとよい。   In the above structure, the ratio (L1 / W1) between the channel length L1 and the channel width W1 of the second transistor is larger than the ratio (L2 / W2) between the channel length L2 and the channel width W2 of the third transistor. preferable. More specifically, the channel length of the third transistor is preferably equal to or shorter than the channel width.

本発明の構成の一つは、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、第5の配線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、映像信号の入力を制御する第1のトランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する第2のトランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する第3のトランジスタと第4のトランジスタを画素に有する。第1のトランジスタのゲート電極は第1の配線と電気的に接続され、第1のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる第2の配線と電気的に接続され、他方は第2のトランジスタのゲート電極と電気的に接続される。第2のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第3の配線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。第3のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第2のトランジスタのゲート電極と接続され、他方の電極は画素電極に接続され、第3のトランジスタのゲート電極は第4の配線と接続される。第4のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は画素電極、及び第4のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、他方は第5の配線と電気的に接続される。また、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタ、及び第4のトランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタ、第4のトランジスタは線形領域で動作するとよい。   One of the structures of the present invention is a light-emitting element including a first wiring, a second wiring, a third wiring, a fourth wiring, a fifth wiring, a pixel electrode, and a counter electrode. A first transistor that controls input of a video signal, a second transistor that controls a forward current flowing through the light emitting element, a third transistor that controls a current flowing backward through the light emitting element, and a fourth transistor A pixel includes a transistor. The gate electrode of the first transistor is electrically connected to the first wiring, one of the source electrode or the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the second wiring through which the video signal flows, and the other is connected to the first wiring. It is electrically connected to the gate electrodes of the two transistors. One of the source electrode and the drain electrode of the second transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the third transistor is connected to the gate electrode of the second transistor, the other electrode is connected to the pixel electrode, and the gate electrode of the third transistor is connected to the fourth wiring. . One of the source electrode and the drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the pixel electrode and the gate electrode of the fourth transistor, and the other is electrically connected to the fifth wiring. Further, the first transistor, the second transistor, the third transistor, and the fourth transistor are N-channel transistors. Note that the first transistor, the second transistor, the third transistor, and the fourth transistor are preferably operated in a linear region.

また上記構成を言い換えると、走査線と、信号線と、電源線と、第1の電位制御線と、第2の電位制御線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、映像信号の入力を制御するスイッチング用トランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する駆動用トランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する第1の交流用トランジスタと第2の交流用トランジスタを画素に有する。スイッチング用トランジスタのゲート電極は走査線と電気的に接続され、スイッチング用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる信号線と電気的に接続され、他方は駆動用トランジスタのゲート電極と電気的に接続される。駆動用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は電源線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。第1の交流用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は駆動用トランジスタのゲート電極と接続され、他方の電極は画素電極に接続され、第1の交流用トランジスタのゲート電極は第1の電位制御線と接続される。第2の交流用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は画素電極、及び第2の交流用トランジスタのゲート電極と電気的に接続され、他方は第2の電位制御線と電気的に接続される。また、スイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、第1の交流用トランジスタ、及び第2の交流用トランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、スイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、第1の交流用トランジスタ、第2の交流用トランジスタは線形領域で動作するとよい。   In other words, in other words, the scan line, the signal line, the power supply line, the first potential control line, the second potential control line, the light-emitting element including the pixel electrode and the counter electrode, and the video signal A switching transistor for controlling an input; a driving transistor for controlling a current flowing in a forward direction in the light emitting element; a first AC transistor and a second AC transistor for controlling a current flowing in a reverse direction in the light emitting element; It has in the pixel. The gate electrode of the switching transistor is electrically connected to the scanning line, one of the source electrode or drain electrode of the switching transistor is electrically connected to the signal line through which the video signal flows, and the other is connected to the gate electrode of the driving transistor. Electrically connected. One of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor is electrically connected to the power supply line, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the first AC transistor is connected to the gate electrode of the driving transistor, the other electrode is connected to the pixel electrode, and the gate electrode of the first AC transistor has the first potential control. Connected with the line. One of the source electrode and the drain electrode of the second AC transistor is electrically connected to the pixel electrode and the gate electrode of the second AC transistor, and the other is electrically connected to the second potential control line. . The switching transistor, the driving transistor, the first AC transistor, and the second AC transistor are N-channel transistors. Note that the switching transistor, the driving transistor, the first AC transistor, and the second AC transistor are preferably operated in a linear region.

また上記構成において、第2のトランジスタのチャネル長L1とチャネル幅W1の比(L1/W1)は、第4のトランジスタのチャネル長L2とチャネル幅W2の比(L2/W2)よりも大きいことが好ましい。より具体的には、第4のトランジスタはそのチャネル長がチャネル幅と同じかそれより短いとよい。   In the above structure, the ratio (L1 / W1) between the channel length L1 and the channel width W1 of the second transistor is larger than the ratio (L2 / W2) between the channel length L2 and the channel width W2 of the fourth transistor. preferable. More specifically, the channel length of the fourth transistor is preferably equal to or shorter than the channel width.

また上記構成において、第2のトランジスタはそのチャネル幅に対するチャネル長の比が5以上であるとよい。   In the above structure, the ratio of the channel length to the channel width of the second transistor is preferably 5 or more.

本発明の構成の一つは、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、二つの電極を有する容量素子と、映像信号の入力を制御する第1のトランジスタと第2のトランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する第3のトランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する第4のトランジスタとを画素に有する。第1のトランジスタ及び第2のトランジスタのゲート電極は第1の配線と電気的に接続される。第1のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる第2の配線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。第2のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第3の配線と電気的に接続され、他方は第3のトランジスタのゲート電極及び容量素子の一方の電極と電気的に接続される。第3のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第3の配線と電気的に接続され、他方は画素電極及び容量素子の他方の電極と電気的に接続される。第4のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第3の配線と電気的に接続され、他方は画素電極及び第4のトランジスタのゲート電極と電気的に接続される。また、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタ、及び第4のトランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、第3のトランジスタは飽和領域で動作するとよく、第1の用トランジスタ、第2の用トランジスタ、第4のトランジスタは線形領域で動作するとよい。   One of the structures of the present invention includes a first wiring, a second wiring, a third wiring, a light-emitting element having a pixel electrode and a counter electrode, a capacitor having two electrodes, and a video signal. A first transistor and a second transistor for controlling the input, a third transistor for controlling a current flowing in the forward direction in the light emitting element, and a fourth transistor for controlling a current flowing in the reverse direction in the light emitting element. It has in the pixel. Gate electrodes of the first transistor and the second transistor are electrically connected to the first wiring. One of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the second wiring through which the video signal flows, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of a source electrode and a drain electrode of the second transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to a gate electrode of the third transistor and one electrode of the capacitor. One of a source electrode and a drain electrode of the third transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to the pixel electrode and the other electrode of the capacitor. One of a source electrode and a drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to the pixel electrode and the gate electrode of the fourth transistor. Further, the first transistor, the second transistor, the third transistor, and the fourth transistor are N-channel transistors. Note that the third transistor preferably operates in a saturation region, and the first transistor, the second transistor, and the fourth transistor preferably operate in a linear region.

また上記構成を言い換えると、走査線と、信号線と、電源線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、二つの電極を有する容量素子と、映像信号の入力を制御する第1のスイッチング用トランジスタと第2のスイッチング用トランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する駆動用トランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する交流用トランジスタとを画素に有する。第1のスイッチング用トランジスタ及び第2のスイッチング用トランジスタのゲート電極は走査線と電気的に接続される。第1のスイッチング用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる信号線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。第2のスイッチング用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は電源線と電気的に接続され、他方は駆動用トランジスタのゲート電極及び容量素子の一方の電極と電気的に接続される。駆動用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は電源線と電気的に接続され、他方は画素電極及び容量素子の他方の電極と電気的に接続される。交流用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は電源線と電気的に接続され、他方は画素電極及び交流用トランジスタのゲート電極と電気的に接続される。また、第1のスイッチング用トランジスタ、第2のスイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、及び交流用トランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、駆動用トランジスタは飽和領域で動作するとよく、第1のスイッチング用トランジスタ、第2のスイッチング用トランジスタ、交流用トランジスタは線形領域で動作するとよい。   In other words, in other words, the scanning line, the signal line, the power supply line, the light emitting element having the pixel electrode and the counter electrode, the capacitive element having two electrodes, and the first that controls the input of the video signal. The pixel includes a switching transistor, a second switching transistor, a driving transistor for controlling a current flowing in the forward direction in the light emitting element, and an AC transistor for controlling a current flowing in the reverse direction in the light emitting element. Gate electrodes of the first switching transistor and the second switching transistor are electrically connected to the scan line. One of the source electrode and the drain electrode of the first switching transistor is electrically connected to a signal line through which a video signal flows, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the second switching transistor is electrically connected to the power supply line, and the other is electrically connected to the gate electrode of the driving transistor and one electrode of the capacitor. One of a source electrode and a drain electrode of the driving transistor is electrically connected to the power supply line, and the other is electrically connected to the pixel electrode and the other electrode of the capacitor. One of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor is electrically connected to the power supply line, and the other is electrically connected to the pixel electrode and the gate electrode of the AC transistor. Further, the first switching transistor, the second switching transistor, the driving transistor, and the AC transistor are N-channel transistors. Note that the driving transistor is preferably operated in a saturation region, and the first switching transistor, the second switching transistor, and the AC transistor are preferably operated in a linear region.

本発明の構成の一つは、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、二つの電極を有する容量素子と、映像信号の入力を制御する第1のトランジスタと第2のトランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する第3のトランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する第4のトランジスタとを画素に有する。第1のトランジスタ及び第2のトランジスタのゲート電極は第1の配線と電気的に接続される。第1のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる第2の配線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。第2のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第3の配線と電気的に接続され、他方は第3のトランジスタのゲート電極及び容量素子の一方の電極と電気的に接続される。第3のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第3の配線と電気的に接続され、他方は画素電極及び容量素子の他方の電極と電気的に接続される。第4のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は第4の配線と電気的に接続され、他方は画素電極及び第4のトランジスタのゲート電極と電気的に接続される。また、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタ、及び第4のトランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、第3のトランジスタは飽和領域で動作するとよく、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第4のトランジスタは線形領域で動作するとよい。   One structure of the present invention includes a first wiring, a second wiring, a third wiring, a fourth wiring, a light-emitting element having a pixel electrode and a counter electrode, and two electrodes. A capacitor element, a first transistor and a second transistor that control input of a video signal, a third transistor that controls a forward current flowing through the light emitting element, and a current that flows backward through the light emitting element The pixel includes a fourth transistor. Gate electrodes of the first transistor and the second transistor are electrically connected to the first wiring. One of the source electrode and the drain electrode of the first transistor is electrically connected to the second wiring through which the video signal flows, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of a source electrode and a drain electrode of the second transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to a gate electrode of the third transistor and one electrode of the capacitor. One of a source electrode and a drain electrode of the third transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to the pixel electrode and the other electrode of the capacitor. One of a source electrode and a drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the fourth wiring, and the other is electrically connected to the pixel electrode and the gate electrode of the fourth transistor. Further, the first transistor, the second transistor, the third transistor, and the fourth transistor are N-channel transistors. Note that the third transistor preferably operates in a saturation region, and the first transistor, the second transistor, and the fourth transistor preferably operate in a linear region.

また上記構成を言い換えると、走査線と、信号線と、電源線と、電位制御線と、画素電極と対向電極とを有する発光素子と、二つの電極を有する容量素子と、映像信号の入力を制御する第1のスイッチング用トランジスタと第2のスイッチング用トランジスタと、発光素子に順方向に流れる電流を制御する駆動用トランジスタと、発光素子に逆方向に流れる電流を制御する交流用トランジスタとを画素に有する。第1のスイッチング用トランジスタ及び第2のスイッチング用トランジスタのゲート電極は走査線と電気的に接続される。第1のスイッチング用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は映像信号が流れる信号線と電気的に接続され、他方は画素電極と電気的に接続される。第2のスイッチング用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は電源線と電気的に接続され、他方は駆動用トランジスタのゲート電極及び容量素子の一方の電極と電気的に接続される。駆動用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は電源線と電気的に接続され、他方は画素電極及び容量素子の他方の電極と電気的に接続される。交流用トランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は電位制御線と電気的に接続され、他方は画素電極及び交流用トランジスタのゲート電極と電気的に接続される。また、第1のスイッチング用トランジスタ、第2のスイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、及び交流用トランジスタはNチャネル型トランジスタであることを特徴としている。なお、駆動用トランジスタは飽和領域で動作するとよく、第1のスイッチング用トランジスタ、第2のスイッチング用トランジスタ、交流用トランジスタは線形領域で動作するとよい。   In other words, in other words, a scanning line, a signal line, a power supply line, a potential control line, a light emitting element having a pixel electrode and a counter electrode, a capacitive element having two electrodes, and an input of a video signal are input. A first switching transistor and a second switching transistor to be controlled, a driving transistor for controlling a current flowing in the forward direction in the light emitting element, and an AC transistor for controlling a current flowing in the reverse direction in the light emitting element Have. Gate electrodes of the first switching transistor and the second switching transistor are electrically connected to the scan line. One of the source electrode and the drain electrode of the first switching transistor is electrically connected to a signal line through which a video signal flows, and the other is electrically connected to the pixel electrode. One of the source electrode and the drain electrode of the second switching transistor is electrically connected to the power supply line, and the other is electrically connected to the gate electrode of the driving transistor and one electrode of the capacitor. One of a source electrode and a drain electrode of the driving transistor is electrically connected to the power supply line, and the other is electrically connected to the pixel electrode and the other electrode of the capacitor. One of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor is electrically connected to the potential control line, and the other is electrically connected to the pixel electrode and the gate electrode of the AC transistor. Further, the first switching transistor, the second switching transistor, the driving transistor, and the AC transistor are N-channel transistors. Note that the driving transistor is preferably operated in a saturation region, and the first switching transistor, the second switching transistor, and the AC transistor are preferably operated in a linear region.

また上記構成において、第3のトランジスタのチャネル長L1とチャネル幅W1の比(L1/W1)は、第4のトランジスタのチャネル長L2とチャネル幅W2の比(L2/W2)よりも大きいことが好ましく。より具体的には、第4のトランジスタはそのチャネル長がチャネル幅と同じかそれより短いとよく、また第3のトランジスタはそのチャネル幅に対するチャネル長の比が5以上であるとよい。   In the above structure, the ratio (L1 / W1) between the channel length L1 and the channel width W1 of the third transistor is larger than the ratio (L2 / W2) between the channel length L2 and the channel width W2 of the fourth transistor. Preferably. More specifically, the channel length of the fourth transistor is preferably equal to or shorter than the channel width, and the ratio of the channel length to the channel width of the third transistor is preferably 5 or more.

また上記構成において、発光素子に逆方向に流れる電流は発光素子に順方向に流れる電流よりも大きい電流であることが好ましく、対向電極の電位を固定電位とし、第3の配線の電位を発光素子に流す電流の向きに応じて変化させてもよい。   In the above structure, the current that flows in the reverse direction to the light emitting element is preferably larger than the current that flows in the forward direction to the light emitting element, the potential of the counter electrode is a fixed potential, and the potential of the third wiring is the light emitting element. You may change according to the direction of the electric current sent through.

また上記構成において、Nチャネル型トランジスタはアモルファスシリコンを用いたトランジスタであってもよい。   In the above structure, the N-channel transistor may be a transistor using amorphous silicon.

また上記構成において、表示装置を用いた電子機器に適用されてもよい。   The above structure may be applied to an electronic device using a display device.

本発明は、アモルファスシリコンを活性層とするNチャネル型TFTを備えた画素部(または駆動回路)が設けられた大面積基板に発光素子を設けることを特徴としている。   The present invention is characterized in that a light-emitting element is provided on a large-area substrate provided with a pixel portion (or a drive circuit) including an N-channel TFT having an active layer of amorphous silicon.

上記構成によって、発光素子に順方向の電圧を印加する際には、発光素子に一定の電流を流すことが可能であるとともに、発光素子に逆方向の電圧を印加する際には、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を短絡箇所に流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。つまり、発光素子に逆方向の電圧を印加することで、該発光素子の初期不良や進行性不良を抑制し、電界発光層の劣化による輝度の低下を防ぐことができる。   With the above configuration, when a forward voltage is applied to the light emitting element, a constant current can be supplied to the light emitting element, and when a reverse voltage is applied to the light emitting element, a short-circuited portion is provided. A current sufficient to insulate can be supplied to the short-circuit portion, and the lifetime of the light-emitting element can be extended. That is, by applying a voltage in the reverse direction to the light emitting element, initial failure and progressive failure of the light emitting element can be suppressed, and a reduction in luminance due to deterioration of the electroluminescent layer can be prevented.

また、本発明は、Nチャネル型トランジスタで構成した駆動方法を用いているため、アモルファスシリコンで構成することが可能である。そして、量産工程に適したアモルファスシリコンをトランジスタの活性層に用いることで、大面積基板上にトランジスタを形成することができ、成膜後における半導体膜の結晶化の工程を省略することができるため、製造コストを抑えることができる。さらに、アモルファスシリコンをトランジスタの活性層に用いれば、従来ある既存の製造ラインを使用してアモルファスシリコンのトランジスタ基板を作製することができ、設備コストも抑えることができる。   In addition, since the present invention uses a driving method composed of N-channel transistors, it can be composed of amorphous silicon. Since amorphous silicon suitable for a mass production process is used for an active layer of a transistor, a transistor can be formed over a large-area substrate, and a semiconductor film crystallization step after film formation can be omitted. Manufacturing costs can be reduced. Furthermore, if amorphous silicon is used for the active layer of the transistor, an amorphous silicon transistor substrate can be manufactured using a conventional existing production line, and the equipment cost can be reduced.

さらに、Nチャネル型トランジスタで構成することで、回路構成を単極性のトランジスタで構成することが可能となる。これにより、製造工程の簡略化、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。   Furthermore, by configuring with an N-channel transistor, the circuit configuration can be configured with a unipolar transistor. Thereby, the manufacturing process can be simplified, the manufacturing cost can be reduced, and the yield can be improved.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施されることが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば用意に理解される。従って、本発明は、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する本発明の構成において、同じ要素を指す符号は異なる図面で共通して用い、その場合における繰り返しの説明は省略する場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, it should be understood by those skilled in the art that the present invention can be implemented in many different modes, and that various changes in form and details can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. Understood. Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiment modes. Note that in the structures of the present invention described below, reference numerals indicating the same elements are used in common in different drawings, and repetitive description in that case may be omitted.

(実施の形態1)
(回路構成1)
図1に、本発明に係る回路構成(画素構成ともいう)図として画素を構成する回路の一実施形態を示す。
(Embodiment 1)
(Circuit configuration 1)
FIG. 1 shows an embodiment of a circuit constituting a pixel as a circuit configuration (also referred to as a pixel configuration) diagram according to the present invention.

図1に示す画素を構成する回路は、発光素子104と、映像信号の画素への入力を制御するためのスイッチング素子として用いるトランジスタ(スイッチング用トランジスタ101)と、発光素子104に流れる電流値を制御するトランジスタ(駆動用トランジスタ102)と、発光素子104に逆方向の電圧を印加する際、発光素子104に逆方向のバイアス電流を流すトランジスタ(交流用トランジスタ103)とを有している。スイッチング用トランジスタ101、駆動用トランジスタ102及び交流用トランジスタ103は同じ極性を有し、本発明の特徴として、それらのトランジスタにN型のトランジスタを用いるものとする。さらに本実施の形態には容量素子を設けていないが、映像信号の電位を保持するための容量素子として設けても良い。   1 controls a light-emitting element 104, a transistor used as a switching element for controlling input of a video signal to the pixel (switching transistor 101), and a current value flowing through the light-emitting element 104. And a transistor (alternating current transistor 103) that applies a reverse bias current to the light emitting element 104 when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104. The switching transistor 101, the driving transistor 102, and the AC transistor 103 have the same polarity. As a feature of the present invention, N-type transistors are used as these transistors. Further, although a capacitor is not provided in this embodiment, it may be provided as a capacitor for holding the potential of a video signal.

図1に示すように、スイッチング用トランジスタ101のゲート電極は、走査線Gに接続されている。また、スイッチング用トランジスタ101のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が信号線Sに、もう一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極に接続されている。そして、駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続されている。   As shown in FIG. 1, the gate electrode of the switching transistor 101 is connected to the scanning line G. One of the source electrode and the drain electrode of the switching transistor 101 is connected to the signal line S, and the other is connected to the gate electrode of the driving transistor 102. One of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor 102 is connected to the power supply line V, and the other is connected to the pixel electrode of the light emitting element 104.

また、本実施の形態では、交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極の一方が電位制御線Wに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続される。また、交流用トランジスタ103のゲート電極は、発光素子104の画素電極と接続される交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極と接続される。   In this embodiment mode, one of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor 103 is connected to the potential control line W, and the other is connected to the pixel electrode of the light-emitting element 104. The gate electrode of the AC transistor 103 is connected to the source electrode or the drain electrode of the AC transistor 103 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104.

なお、本明細書中において、接続されているとは、特に限定がない場合、電気的な接続のことをいう。   Note that in this specification, “connected” means electrical connection unless there is a particular limitation.

また、本明細書中において、電位制御線とは、交流用トランジスタを制御するため、電位を変化させる配線のことである。   In this specification, a potential control line is a wiring that changes a potential in order to control an AC transistor.

また、スイッチング用トランジスタ101が非選択状態(オフの状態)にある時、駆動用トランジスタ102のゲート容量によって、駆動用トランジスタ102のゲート電位が保持される。なお、図1では容量素子を設けず、駆動用トランジスタ102のゲート容量によってゲート電位を保持させる構成を示したが、本発明はこの構成に限定されず、容量素子を設けた構成にしても良い。   Further, when the switching transistor 101 is in a non-selected state (off state), the gate potential of the driving transistor 102 is held by the gate capacitance of the driving transistor 102. Note that FIG. 1 illustrates a structure in which the gate potential is held by the gate capacitance of the driving transistor 102 without providing the capacitor element; however, the present invention is not limited to this structure, and a capacitor element may be provided. .

さらに本実施の形態では、駆動用トランジスタ102のチャネル長Lとチャネル幅Wの比L/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくする。具体的に駆動用トランジスタ102では、LをWより大きくし、より望ましくは5/1以上とする。また交流用トランジスタ103では、LがWと同じかそれよりLが短くなるようにする。これにより、画素内の発光素子104に順方向の電圧を印加した際に順方向に流れる電流値より、発光素子104に逆方向の電圧を印加した際に逆方向に流れる電流値を大きくすることができる。   Further, in this embodiment, the ratio L / W between the channel length L and the channel width W of the driving transistor 102 is set larger than that of the AC transistor 103. Specifically, in the driving transistor 102, L is set larger than W, and more desirably 5/1 or more. Further, in the AC transistor 103, L is equal to or shorter than W. Accordingly, the current value flowing in the reverse direction when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104 is made larger than the current value flowing in the forward direction when a forward voltage is applied to the light emitting element 104 in the pixel. Can do.

また、発光素子104は陽極と陰極を有しており、本明細書では、陽極を画素電極として用いる場合は陰極を対向電極と呼び、陰極を画素電極として用いる場合は陽極を対向電極と呼ぶ。   The light-emitting element 104 has an anode and a cathode. In this specification, when the anode is used as a pixel electrode, the cathode is called a counter electrode, and when the cathode is used as a pixel electrode, the anode is called a counter electrode.

ここで、スイッチング用トランジスタはリーク電流(オフ電流及びゲートリーク電流)の少ない構成とすることが望ましいといえる。なお、オフ電流とは、トランジスタがオフしているときにソースドレイン間に流れてしまう電流であり、ゲートリーク電流とは、ゲート絶縁膜を介してゲートとソースまたはドレイン間に電流が流れてしまう電流である。   Here, it can be said that the switching transistor preferably has a configuration with little leakage current (off-state current and gate leakage current). Note that the off-current is a current that flows between the source and the drain when the transistor is off, and the gate leakage current is a current that flows between the gate and the source or drain via the gate insulating film. Current.

よって、スイッチング用トランジスタ101に用いられるNチャネル型のトランジスタは、低濃度不純物領域(Lightly Doped Drain:LDD領域ともいう)を設けた構成とするのが好ましい。なぜなら、LDD領域を設けた構成のトランジスタはオフ電流を低減することができるからである。また、スイッチング用トランジスタ101は発光素子104に電流を流すときにオン電流を大きくする必要があるからである。   Therefore, the N-channel transistor used for the switching transistor 101 is preferably provided with a low concentration impurity region (also referred to as a lightly doped drain (LDD region)). This is because a transistor having a structure provided with an LDD region can reduce off-state current. In addition, the switching transistor 101 needs to have a large on-current when a current flows through the light-emitting element 104.

さらに好ましい形態としては、スイッチング用トランジスタ101にLDD領域を設け、LDD領域はゲート電極と重なる領域を設ける。すると、スイッチング用トランジスタ101はオン電流を大きくし、さらにホットエレクトロンの発生を低減することができる。よって、スイッチング用トランジスタ101は信頼性が向上する。   In a more preferable mode, the switching transistor 101 is provided with an LDD region, and the LDD region is provided with a region overlapping with the gate electrode. Then, the switching transistor 101 can increase the on-current and further reduce the generation of hot electrons. Therefore, the reliability of the switching transistor 101 is improved.

また、駆動用トランジスタ102もLDD領域を設け、LDD領域がゲート電極と重なる構造とすることで信頼性が向上する。   Further, the driving transistor 102 is also provided with an LDD region, and the LDD region overlaps with the gate electrode, whereby reliability is improved.

また、ゲート絶縁膜の膜厚を薄くすることでもオフ電流は低減することができる。よって、駆動用トランジスタ102の膜厚よりもスイッチング用トランジスタ101の膜厚を薄くする良い。   The off-state current can also be reduced by reducing the thickness of the gate insulating film. Therefore, the thickness of the switching transistor 101 is preferably smaller than the thickness of the driving transistor 102.

また、スイッチング用トランジスタ101をダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造のトランジスタとすることでゲートリーク電流を低減することができる。さらに、駆動用トランジスタ102においても、ダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造を採用することで、ゲートリーク電流を低減し、信頼性を向上させることができる。   Further, when the switching transistor 101 has a double gate structure or other multi-gate structure, gate leakage current can be reduced. Further, by adopting a double gate structure or other multi-gate structure in the driving transistor 102, the gate leakage current can be reduced and the reliability can be improved.

特にスイッチング用トランジスタ101にオフ電流が流れてしまうと、駆動用トランジスタ102のゲート容量は、書き込み期間に書き込まれた電圧を保持できなくなってしまう。従って、スイッチング用トランジスタ101において、LDD領域を設けたり、ゲート絶縁膜を薄くさせたり、マルチゲート構造とすることでオフ電流を低減すると良い。   In particular, when an off-state current flows through the switching transistor 101, the gate capacitance of the driving transistor 102 cannot hold the voltage written during the writing period. Therefore, the switching transistor 101 is preferably provided with an LDD region, a thin gate insulating film, or a multi-gate structure to reduce off-state current.

なお、本明細書中では、発光素子(EL素子)は、電界が生じると発光する電界発光層(EL層)を、陽極及び陰極で挟んだ構造を有する素子を示すものとして説明するが、これに限定されない。   Note that in this specification, a light-emitting element (EL element) is described as an element having a structure in which an electroluminescent layer (EL layer) that emits light when an electric field is generated is sandwiched between an anode and a cathode. It is not limited to.

また、本明細書中において、発光素子とは、一重項励起子から基底状態に遷移する際の発光(蛍光)を利用するものと、三重項励起子から基底状態に遷移する際の発光(燐光)を利用するものの両方を示すものとして説明する。   In this specification, a light-emitting element means light emission (fluorescence) at the time of transition from a singlet exciton to a ground state and light emission (phosphorescence at the time of transition from a triplet exciton to a ground state). ) Will be described as indicating both.

電界発光層としては、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。発光素子は、基本的に、陽極、発光層、陰極の順に積み重ねた構造で示されるが、この他に、陽極、正孔注入層、発光層、電子注入層、陰極の順に積み重ねた構造や、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極の順に積み重ねた構造などがある。   Examples of the electroluminescent layer include a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. The light emitting element is basically shown in a structure in which an anode, a light emitting layer, and a cathode are stacked in this order. In addition to this, a structure in which an anode, a hole injection layer, a light emitting layer, an electron injection layer, and a cathode are stacked in this order, Examples include a structure in which an anode, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode are stacked in this order.

なお、電界発光層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等が、明確に区別された積層構造を有するものに限定されない。つまり、電界発光層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等を構成する材料が、混合した層を有する構造であってもよい。また、無機物が混合されていてもよい。   Note that the electroluminescent layer is not limited to a layer in which a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like are clearly distinguished. In other words, the electroluminescent layer may have a structure in which materials constituting the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, the electron transport layer, the electron injection layer, and the like are mixed. Moreover, the inorganic substance may be mixed.

また、発光素子の電界発光層としては、低分子材料、高分子材料、中分子材料のいずれの材料であってもよい。   Further, the electroluminescent layer of the light emitting element may be any material of a low molecular material, a high molecular material, and a medium molecular material.

なお、本明細書中において、中分子材料とは、分子数が20以下または連鎖する分子の長さが10μm以下で、昇華性を有さないものとする。   Note that in this specification, the term “middle molecular material” means that the number of molecules is 20 or less or the length of a chained molecule is 10 μm or less and has no sublimation property.

次に、図1の回路構成における動作について、図2を用いて説明する。   Next, the operation in the circuit configuration of FIG. 1 will be described with reference to FIG.

まず図2(A)の書き込み期間において、走査線Gが選択されると、走査線Gにゲート電極が接続されているスイッチング用トランジスタ101がオンの状態になる。そして、信号線Sに入力された映像信号の電位Vsigが、スイッチング用トランジスタ101を介して駆動用トランジスタ102のゲート電極に入力され、駆動用トランジスタ102のゲート容量によって、駆動用トランジスタ102のゲート電位が保持される。また、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102はオンの状態となるため、発光素子104に順方向のバイアス電流が流れて発光素子104は発光する。   First, in the writing period of FIG. 2A, when the scanning line G is selected, the switching transistor 101 whose gate electrode is connected to the scanning line G is turned on. Then, the potential Vsig of the video signal input to the signal line S is input to the gate electrode of the driving transistor 102 via the switching transistor 101, and the gate potential of the driving transistor 102 is driven by the gate capacitance of the driving transistor 102. Is retained. In addition, since the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal, a forward bias current flows through the light emitting element 104 and the light emitting element 104 emits light.

具体的には、電源線Vに電位Vddが供給され、発光素子104の対向電極に電位Vssが供給されて、発光素子104は発光する。このとき、電位Vssと、電源線Vに印加される電位Vddは、Vss<Vddを満たす電位であり、電位Vssとしては例えばGND(グラウンド電位)、0Vなどが印加されていても良い。   Specifically, the potential Vdd is supplied to the power supply line V and the potential Vss is supplied to the counter electrode of the light emitting element 104, so that the light emitting element 104 emits light. At this time, the potential Vss and the potential Vdd applied to the power supply line V are potentials that satisfy Vss <Vdd. For example, GND (ground potential), 0 V, or the like may be applied as the potential Vss.

一方、この書き込み期間において、電位制御線Wの電位Vdd2は、発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(つまり、Vdd2>Vssを満たす)電位に設定されるため、電位制御線Wと接続される交流用トランジスタ103の電極はドレイン電極となり、発光素子104の画素電極と接続される交流用トランジスタ103の電極はソース電極となる。さらに、該ソース電極と、交流用トランジスタ103のゲート電極とが接続されるため、交流用トランジスタ103はオフの状態となる。   On the other hand, in this writing period, the potential Vdd2 of the potential control line W is set higher than the potential Vss of the counter electrode of the light-emitting element 104 (that is, Vdd2> Vss is satisfied). The electrode of the AC transistor 103 to be connected serves as a drain electrode, and the electrode of the AC transistor 103 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104 serves as a source electrode. Further, since the source electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned off.

なお、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフになる場合には、発光素子104への電流の供給は行なわれないため、発光素子104は発光されない。   Note that the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period has been described; however, when the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal, the current to the light-emitting element 104 is Therefore, the light emitting element 104 does not emit light.

また本明細書中では、トランジスタがオンの状態とは、そのゲート電圧によって、ソース電極とドレイン電極間が導通状態であることを示すとする。また、トランジスタがオフの状態とは、そのゲート電圧によって、ソース電極とドレイン電極間が、非導通状態であることを示すとする。   In this specification, a transistor in an on state indicates that a gate voltage causes a conductive state between a source electrode and a drain electrode. In addition, the transistor is in an off state indicates that the gate voltage causes a non-conduction state between the source electrode and the drain electrode.

また本明細書中では、発光素子に逆方向の電圧を印加するとは、順方向の電圧に対して逆方向の電圧を印加にすることをいい、発光素子には逆方向のバイアス電流が流れ、発光はしない。   In the present specification, applying a reverse voltage to the light emitting element means applying a reverse voltage to the forward voltage, and a reverse bias current flows through the light emitting element, Does not emit light.

次に図2(B)の表示期間では、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態する。また、書き込み期間において書き込まれた映像信号の電位Vsigを駆動用トランジスタ102のゲート容量によって保持しているため、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。それにより、発光素子104へ順方向のバイアス電流が流れ、発光素子104は発光する。   Next, in the display period of FIG. 2B, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G. In addition, since the potential Vsig of the video signal written in the writing period is held by the gate capacitance of the driving transistor 102, the driving transistor 102 is turned on. Accordingly, a forward bias current flows to the light emitting element 104, and the light emitting element 104 emits light.

具体的には、書き込み期間と同様に、電源線Vに電位Vddが供給され、発光素子104の対向電極に電位Vssが供給されて、発光素子104は発光する。このとき、電位Vssと、電源線Vに印加される電位Vddは、Vss<Vddを満たす電位であり、電位Vssとしては例えばGND(グラウンド電位)、0Vなどが印加されていても良い。   Specifically, as in the writing period, the potential Vdd is supplied to the power supply line V, the potential Vss is supplied to the counter electrode of the light-emitting element 104, and the light-emitting element 104 emits light. At this time, the potential Vss and the potential Vdd applied to the power supply line V are potentials that satisfy Vss <Vdd. For example, GND (ground potential), 0 V, or the like may be applied as the potential Vss.

一方、書き込み期間と同様に、電位制御線Wの電位Vdd2は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(つまり、Vdd2>Vssを満たす)電位に設定されているため、交流用トランジスタ103はオフの状態となる。   On the other hand, as in the writing period, the potential Vdd2 of the potential control line W is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd2> Vss is satisfied). It is turned off.

また、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフの状態になる場合、発光素子104への電流の供給は行なわれないため、表示期間においても、発光素子104への電流の供給は行われない。   In the writing period, the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal has been described; however, when the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal, the current to the light-emitting element 104 is Therefore, no current is supplied to the light-emitting element 104 even during the display period.

次いで、図2(C)の逆方向バイアス期間(非点灯期間)において、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態にする。   Next, in the reverse bias period (non-lighting period) in FIG. 2C, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G.

一方、電位制御線Wの電位Vss2を発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低い(つまり、Vss>Vss2を満たす)電位に設定することにより、電位制御線Wと接続される交流用トランジスタ103の電極はソース電極となり、発光素子104の画素電極と接続される電極はドレイン電極となる。さらに、該ドレイン電極と交流用トランジスタ103のゲート電極とが接続されるため、交流用トランジスタ103はオンの状態となる。これにより、発光素子104に逆方向の電圧が印加され、発光素子104、及び交流用トランジスタ103において、逆方向のバイアス電流が流れる。   On the other hand, the AC transistor 103 connected to the potential control line W is set by setting the potential Vss2 of the potential control line W to a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, satisfying Vss> Vss2). The electrode is a source electrode, and the electrode connected to the pixel electrode of the light-emitting element 104 is a drain electrode. Further, since the drain electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned on. Thus, a reverse voltage is applied to the light emitting element 104, and a reverse bias current flows in the light emitting element 104 and the AC transistor 103.

なお、書き込み期間及び表示期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンの状態となる場合、逆バイアス期間においても、映像信号の電位をゲート容量が保持しているため、駆動用トランジスタはオンの状態となる。それにより、駆動用トランジスタ102に順方向のバイアス電流が流れる(図示しない)が、ほとんどの電流は交流用トランジスタ103へ流れ込むため、特に動作には影響がない。加えて、前述したように駆動用トランジスタ102のL/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくした場合、交流用トランジスタ103のチャネル幅Wが大きくなるため、駆動用トランジスタ102に順方向に流れるバイアス電流は交流用トランジスタ103に流れやすくなる。勿論、書き込み期間及び表示期間において、駆動用トランジスタ102がオフの状態となる場合は、駆動用トランジスタ102に電流は供給されない。   Note that in the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period and the display period, the gate transistor holds the potential of the video signal even in the reverse bias period. Is turned on. As a result, a forward bias current flows through the driving transistor 102 (not shown), but most of the current flows into the AC transistor 103, so that the operation is not particularly affected. In addition, as described above, when the L / W of the driving transistor 102 is made larger than the L / W of the AC transistor 103, the channel width W of the AC transistor 103 is increased. The bias current flowing in the direction tends to flow to the AC transistor 103. Needless to say, current is not supplied to the driving transistor 102 when the driving transistor 102 is turned off in the writing period and the display period.

なお、前述したように駆動用トランジスタ102のL/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくすることで、交流用トランジスタ103に流れる電流を駆動用トランジスタ102に流れる電流に比べて大きくすることができる。つまり、順方向のバイアス電流の電流値より、逆方向のバイアス電流の電流値が大きくなり、逆方向バイアス期間において発光素子104に大きな電流を流すことができる。   As described above, by making the L / W of the driving transistor 102 larger than the L / W of the AC transistor 103, the current flowing through the AC transistor 103 is made larger than the current flowing through the driving transistor 102. can do. That is, the current value of the reverse bias current is larger than the current value of the forward bias current, and a large current can flow through the light emitting element 104 during the reverse bias period.

また、逆方向バイアス期間におけるVss2とVssの電位差を、表示期間におけるVddとVssの電位差よりも大きくしてもよい。これにより、順方向のバイアス電流の電流値より逆方向のバイアス電流の電流値が大きくなり、逆方向バイアス期間においてさらに発光素子104に大電流を流すことができる。   Further, the potential difference between Vss2 and Vss in the reverse bias period may be larger than the potential difference between Vdd and Vss in the display period. As a result, the current value of the reverse bias current becomes larger than the current value of the forward bias current, and a larger current can further flow through the light emitting element 104 during the reverse bias period.

なお、本実施の形態では、発光素子104の対向電極の電位及び電源線Vの電位を固定電位としたが、これに限らない。例えば、発光素子104の対向電極の電位を変動させてもよいし、電源線Vの電位と発光素子104の対向電極の電位両方を変動させてもよい。   Note that although the potential of the counter electrode of the light-emitting element 104 and the potential of the power supply line V are fixed potentials in this embodiment mode, the present invention is not limited to this. For example, the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 may be changed, or both the potential of the power supply line V and the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 may be changed.

次にこのような構成の画素において、階調を表現する手法について説明する。   Next, a method for expressing gradation in a pixel having such a configuration will be described.

階調の表現の方法には、大きくわけて、アナログ方式とデジタル方式とがある。アナログ方式と比べて、デジタル方式は、トランジスタのばらつきに強く、多階調化に向くなどの利点がある。アナログ方式がトランジスタのばらつきによって制約されていたのに対し、デジタル方式は、TFTのばらつきが少々あっても、極めて均質な階調表示が可能である。   Gradation expression methods can be broadly divided into analog methods and digital methods. Compared with the analog method, the digital method has advantages such as being resistant to variations in transistors and suitable for multi-gradation. Whereas the analog method is limited by the variation of transistors, the digital method can display very uniform gradation even if there is a slight variation in TFT.

デジタル方式の階調表現方法の一例として、時間階調方式が知られている。この方式の駆動方法は、表示装置の各画素が発光する期間を制御することによって、階調を表現する手法である。   As an example of a digital gradation expression method, a time gradation method is known. This type of driving method is a method of expressing gradation by controlling a period during which each pixel of a display device emits light.

1画像を表示する期間を1フレーム期間とすると、1フレーム期間は、複数のサブフレーム期間に分割される。   When a period for displaying one image is one frame period, one frame period is divided into a plurality of subframe periods.

サブフレーム期間毎に、点灯もしくは非点灯とし、つまり、各画素の発光素子を発光させるか、させないかして、1フレーム期間あたりに発光素子が発光する期間を制御し、各画素の階調が表現される。   Each subframe period is turned on or off, that is, the light emitting element of each pixel is turned on or off to control the period during which the light emitting element emits light per frame period. Expressed.

図1に示した画素を用いてデジタル時間階調方式で駆動する方法について、図3のタイミングチャートを用いて説明する。図3では、4ビット目で発光素子104に、逆方向バイアス期間(非点灯期間)BFとして逆方向の電圧を印加する。   A method of driving by the digital time gray scale method using the pixel shown in FIG. 1 will be described with reference to a timing chart of FIG. In FIG. 3, a reverse voltage is applied to the light emitting element 104 as the reverse bias period (non-lighting period) BF at the fourth bit.

なお、本発明の表示装置を用いて画像表示を行うとき、表示期間においては、画面の書き換え動作と表示動作とが繰り返し行われる。この書き換え回数について特に限定はないが、画像をみる人がちらつき(フリッカ)を感じないように少なくとも1秒間に60回程度とすることが好ましい。ここで、一画面(1フレーム)の書き換え動作と表示動作を行う期間、及び逆方向のバイアス期間を含めて1フレーム期間F1という。   When an image is displayed using the display device of the present invention, the screen rewriting operation and the display operation are repeatedly performed during the display period. The number of rewrites is not particularly limited, but is preferably at least about 60 times per second so that a person viewing the image does not feel flicker. Here, a period for performing a rewriting operation and a display operation for one screen (one frame) and a reverse bias period are referred to as one frame period F1.

1フレーム期間F1は、図3に示すように、書き込み期間Ta1、Ta2、Ta3、Ta4と表示期間Ts1、Ts2、Ts3、Ts4、及び逆方向バイアス期間BFを含む4つのサブフレーム期間SF1、SF2、SF3、及びSF4に時分割されている。発光するための信号を与えられた発光素子は、表示期間において発光状態となっている。各々のサブフレーム期間における表示期間の長さの比は、第1のサブフレーム期間Ta1:第2のサブフレーム期間Ta2:第3のサブフレーム期間Ta3:第4のサブフレーム期間Ta4=2:2:2:2=8:4:2:1となっている。これによって4ビット階調を表現することができる。但し、ビット数及び階調数はここに記すものに限定されず、例えば8つのサブフレーム期間を設け8ビット階調を行えるようにしてもよい。 As shown in FIG. 3, one frame period F1 includes four subframe periods SF1, SF2, including a writing period Ta1, Ta2, Ta3, Ta4, a display period Ts1, Ts2, Ts3, Ts4, and a reverse bias period BF. Time-divided into SF3 and SF4. A light emitting element to which a signal for emitting light is given is in a light emitting state during a display period. The ratio of the length of the display period in each subframe period is as follows: first subframe period Ta1: second subframe period Ta2: third subframe period Ta3: fourth subframe period Ta4 = 2 3 : 2 2 : 2 1 : 2 0 = 8: 4: 2: 1 As a result, 4-bit gradation can be expressed. However, the number of bits and the number of gradations are not limited to those described here. For example, eight subframe periods may be provided to enable 8-bit gradation.

上記動作の書き込み期間、及び表示期間について、全てのサブフレーム期間SF1〜SF4について繰り返し、SF4においては逆方向バイアス期間BFを加わえて1フレーム期間F1が終了する。ここで、サブフレーム期間SF1〜SF4の表示期間Ts1〜Ts4の長さを適宜設定し、1フレーム期間F1あたりで、発光素子104が発光したサブフレーム期間SF1〜SF4の表示期間の累計によって階調を表現する。つまり、1フレーム期間F1中の点灯時間の総和をもって階調を表現する。   The writing period and the display period of the above operation are repeated for all the subframe periods SF1 to SF4. In SF4, the reverse bias period BF is added to complete one frame period F1. Here, the lengths of the display periods Ts1 to Ts4 of the subframe periods SF1 to SF4 are set as appropriate, and the gray scale is determined by the total display period of the subframe periods SF1 to SF4 in which the light emitting element 104 emits light per frame period F1. Express. That is, the gradation is expressed by the total lighting time in one frame period F1.

なお、サブフレーム期間SF1〜SF4をそれぞれ1フレーム内に連続させずに配置してもよい。また、ひとつのサブフレーム期間をさらに複数のサブフレーム期間で構成してもよいし、さらにその複数のサブフレーム期間をそれぞれ1フレーム内に連続させずに配置してもよい。なお、時間階調方式を用いて階調を表現する場合、サブフレームの個数については、特に限定されない。また、各サブフレーム期間の点灯期間の長さや、どのサブフレームを点灯させるか、すなわち、サブフレームの選択方法についても、特に限定されない。   Note that the subframe periods SF1 to SF4 may be arranged without being consecutive in one frame. Further, one subframe period may be composed of a plurality of subframe periods, or the plurality of subframe periods may be arranged without being consecutive in one frame. Note that in the case of expressing gradation using the time gradation method, the number of subframes is not particularly limited. Further, the length of the lighting period of each subframe period and which subframe is lit, that is, the selection method of the subframe is not particularly limited.

また図1の画素をアナログ方式で駆動させる場合、図4のように、1フレーム期間F1の中に発光素子に順方向の極性の電圧を印加する期間、すなわち順方向バイアス期間FFと、逆方向の極性の電圧を印加する期間、すなわち逆方向バイアス期間BFを設ければよい。なお、順方向バイアス期間FFにおいて各画素にアナログ映像信号を書き込み(Ta:書き込み期間)、発光素子104を発光または非発光(Ts:表示期間)させればよい。   When the pixel of FIG. 1 is driven in an analog manner, as shown in FIG. 4, a period in which a forward polarity voltage is applied to the light emitting element in one frame period F1, that is, a forward bias period FF and a reverse direction. It is sufficient to provide a period for applying a voltage having the polarity, that is, a reverse bias period BF. Note that an analog video signal may be written to each pixel in the forward bias period FF (Ta: writing period) and the light-emitting element 104 may emit light or not emit light (Ts: display period).

以上により、本発明の構成では、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   As described above, in the structure of the present invention, when a reverse voltage is applied, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be passed, and the lifetime of the light-emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

また、回路構成にあるトランジスタをN型トランジスタで作製することで、アモルファスシリコンのトランジスタを適用することができる。従って、既に確立されたアモルファスシリコンを用いたトランジスタの製造技術を適用することができるため、簡易かつ安価な製造プロセスで、動作特性が良好で安定した表示装置を得ることができる。   In addition, an amorphous silicon transistor can be used by manufacturing a transistor having a circuit structure as an N-type transistor. Therefore, since a transistor manufacturing technique using amorphous silicon that has already been established can be applied, a display device with favorable and stable operation characteristics can be obtained with a simple and inexpensive manufacturing process.

(実施の形態2)
本実施の形態では、上記実施の形態1を用いて作製された表示装置について、表示装置を構成するディスプレイの構成について説明する。
(Embodiment 2)
In this embodiment, a structure of a display included in the display device will be described with respect to the display device manufactured using Embodiment 1.

表示装置は、ディスプレイと、ディスプレイに信号を入力する周辺回路によって構成されている。   The display device includes a display and a peripheral circuit that inputs a signal to the display.

ディスプレイの構成について、図5にブロック図を示す。図5において、ディスプレイ300は、信号線駆動回路301と、走査線駆動回路302と、画素部303とによって構成されている。画素部303は、マトリクス状に画素が配置された構成となっている。   FIG. 5 is a block diagram showing the configuration of the display. In FIG. 5, the display 300 includes a signal line driver circuit 301, a scanning line driver circuit 302, and a pixel portion 303. The pixel portion 303 has a configuration in which pixels are arranged in a matrix.

画素部303の各画素に、薄膜トランジスタ(以下、TFTと表記する)が配置されている。ここでは、上記実施の形態1で示した回路構成を用いて画素毎に3つのTFTを配置し、各画素に発光素子設けたディスプレイについて説明する。   A thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) is arranged in each pixel of the pixel portion 303. Here, a display in which three TFTs are arranged for each pixel using the circuit configuration shown in Embodiment Mode 1 and a light emitting element is provided for each pixel will be described.

図6に、ディスプレイの画素部の構成を示す。画素部310には、信号線S1〜Sx、走査線G1〜Gy、電源線V1〜Vx、及び電位制御線W1〜Wyが配置され、x(xは自然数)列y(yは自然数)行の画素が配置されている。各画素311は、スイッチング用トランジスタ101と、駆動用トランジスタ102と、交流用トランジスタ103と、発光素子104をそれぞれ有している。   FIG. 6 shows a configuration of a pixel portion of the display. In the pixel portion 310, signal lines S1 to Sx, scanning lines G1 to Gy, power supply lines V1 to Vx, and potential control lines W1 to Wy are arranged, and x (x is a natural number) columns y (y is a natural number) rows. Pixels are arranged. Each pixel 311 includes a switching transistor 101, a driving transistor 102, an AC transistor 103, and a light emitting element 104.

なお、図6で示した画素311は図1と対応し、信号線S1〜Sxのうちの1本S1と、走査線G1〜Gyのうちの1本G1と、電源線V1〜Vxのうちの1本V1と、電位制御線W1〜Wxのうちの1本W1と、スイッチング用トランジスタ101と、駆動用トランジスタ102と、交流用トランジスタ103と、発光素子104とによって構成されている。   The pixel 311 shown in FIG. 6 corresponds to FIG. 1, and one of the signal lines S1 to Sx, one of the scanning lines G1 to Gy, and one of the power supply lines V1 to Vx. One line V1, one line W1 among potential control lines W1 to Wx, a switching transistor 101, a driving transistor 102, an AC transistor 103, and a light emitting element 104 are included.

以上の構成と本発明を組み合わせることにより、発光素子の寿命を延ばすことを可能とし、N型トランジスタで構成された画素を用いることにより、安価な表示装置及びディスプレイを製造することが可能となる。   By combining the above structure and the present invention, the lifetime of the light emitting element can be extended, and by using a pixel formed of an N-type transistor, an inexpensive display device and display can be manufactured.

なお、本実施の形態では、実施の形態1で示した図1の回路構成を用いているが、これに限定されず、他の実施の形態及び実施例と組み合わせて実施することができる。   Note that although the circuit configuration in FIG. 1 described in Embodiment 1 is used in this embodiment, the present invention is not limited to this and can be implemented in combination with other embodiments and examples.

(実施の形態3)
(回路構成2)
本実施の形態においては、実施の形態1で述べた図1の回路構成とは別の構成について述べる。
(Embodiment 3)
(Circuit configuration 2)
In this embodiment mode, a configuration different from the circuit configuration in FIG. 1 described in Embodiment Mode 1 will be described.

図7に示す画素を構成する回路は、発光素子104と、映像信号の画素への入力を制御するためのスイッチング素子として用いるトランジスタ(スイッチング用トランジスタ101)と、発光素子104に流れる電流値を制御するトランジスタ(駆動用トランジスタ102)と、発光素子104に逆方向の電圧を印加する際、発光素子104に逆方向のバイアス電流を流すトランジスタ(交流用トランジスタ103)とを有している。スイッチング用トランジスタ101、駆動用トランジスタ102及び交流用トランジスタ103は同じ極性を有し、本発明の特徴として、それらのトランジスタにN型のトランジスタを用いるものとする。さらに本実施の形態には容量素子を設けていないが、映像信号の電位を保持するための容量素子として設けても良い。   7 controls the light emitting element 104, a transistor used as a switching element for controlling input of a video signal to the pixel (switching transistor 101), and a current value flowing through the light emitting element 104. And a transistor (alternating current transistor 103) that applies a reverse bias current to the light emitting element 104 when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104. The switching transistor 101, the driving transistor 102, and the AC transistor 103 have the same polarity. As a feature of the present invention, N-type transistors are used as these transistors. Further, although a capacitor is not provided in this embodiment, it may be provided as a capacitor for holding the potential of a video signal.

図7に示すように、スイッチング用トランジスタ101のゲート電極は、走査線Gに接続されている。また、スイッチング用トランジスタ101のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が信号線Sに、もう一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極に接続されている。そして、駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続されている。   As shown in FIG. 7, the gate electrode of the switching transistor 101 is connected to the scanning line G. One of the source electrode and the drain electrode of the switching transistor 101 is connected to the signal line S, and the other is connected to the gate electrode of the driving transistor 102. One of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor 102 is connected to the power supply line V, and the other is connected to the pixel electrode of the light emitting element 104.

また、本実施の形態では、交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極において、一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極に接続され、もう一方が発光素子104の画素電極、及び駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極に接続される。また、交流用トランジスタ103のゲート電極は電位制御線Wに接続される。   In this embodiment mode, one of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor 103 is connected to the gate electrode of the driving transistor 102, and the other is connected to the pixel electrode of the light-emitting element 104 and the source of the driving transistor 102. Connected to electrode or drain electrode. The gate electrode of the AC transistor 103 is connected to the potential control line W.

また、スイッチング用トランジスタ101が非選択状態(オフの状態)にある時、駆動用トランジスタ102のゲート容量によって駆動用トランジスタ102のゲート電位が保持される。なお、図7では容量素子を設けず、駆動用トランジスタ102のゲート容量によってゲート電位を保持させる構成を示したが、本発明はこの構成に限定されず、容量素子を設けた構成にしても良い。   Further, when the switching transistor 101 is in a non-selected state (off state), the gate potential of the driving transistor 102 is held by the gate capacitance of the driving transistor 102. Note that FIG. 7 illustrates a structure in which a gate potential is held by the gate capacitance of the driving transistor 102 without providing a capacitor element; however, the present invention is not limited to this structure, and a capacitor element may be provided. .

ここで、スイッチング用トランジスタはリーク電流(オフ電流及びゲートリーク電流)の少ない構成とすることが望ましいといえる。なお、オフ電流とは、トランジスタがオフしているときにソースドレイン間に流れてしまう電流であり、ゲートリーク電流とは、ゲート絶縁膜を介してゲートとソースまたはドレイン間に電流が流れてしまう電流である。   Here, it can be said that the switching transistor preferably has a configuration with little leakage current (off-state current and gate leakage current). Note that the off-current is a current that flows between the source and the drain when the transistor is off, and the gate leakage current is a current that flows between the gate and the source or drain via the gate insulating film. Current.

よって、スイッチング用トランジスタ101に用いられるNチャネル型のトランジスタは、低濃度不純物領域(Lightly Doped Drain:LDD領域ともいう)を設けた構成とするのが好ましい。なぜなら、LDD領域を設けた構成のトランジスタはオフ電流を低減することができるからである。また、スイッチング用トランジスタ101は発光素子104に電流を流すときにオン電流を大きくする必要があるからである。   Therefore, the N-channel transistor used for the switching transistor 101 is preferably provided with a low concentration impurity region (also referred to as a lightly doped drain (LDD region)). This is because a transistor having a structure provided with an LDD region can reduce off-state current. In addition, the switching transistor 101 needs to have a large on-current when a current flows through the light-emitting element 104.

さらに好ましい形態としては、スイッチング用トランジスタ101にLDD領域を設け、LDD領域はゲート電極と重なる領域を設ける。すると、スイッチング用トランジスタ101はオン電流を大きくし、さらにホットエレクトロンの発生を低減することができる。よって、スイッチング用トランジスタ101は信頼性が向上する。   In a more preferable mode, the switching transistor 101 is provided with an LDD region, and the LDD region is provided with a region overlapping with the gate electrode. Then, the switching transistor 101 can increase the on-current and further reduce the generation of hot electrons. Therefore, the reliability of the switching transistor 101 is improved.

また、駆動用トランジスタ102もLDD領域を設け、LDD領域がゲート電極と重なる構造とすることで信頼性が向上する。   Further, the driving transistor 102 is also provided with an LDD region, and the LDD region overlaps with the gate electrode, whereby reliability is improved.

また、ゲート絶縁膜の膜厚を薄くすることでもオフ電流は低減することができる。よって、駆動用トランジスタ102の膜厚よりもスイッチング用トランジスタ101の膜厚を薄くする良い。   The off-state current can also be reduced by reducing the thickness of the gate insulating film. Therefore, the thickness of the switching transistor 101 is preferably smaller than the thickness of the driving transistor 102.

また、スイッチング用トランジスタ101をダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造のトランジスタとすることでゲートリーク電流を低減することができる。さらに、駆動用トランジスタ102においても、ダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造を採用することで、ゲートリーク電流を低減し、信頼性を向上させることができる。   Further, when the switching transistor 101 has a double gate structure or other multi-gate structure, gate leakage current can be reduced. Further, by adopting a double gate structure or other multi-gate structure in the driving transistor 102, the gate leakage current can be reduced and the reliability can be improved.

特にスイッチング用トランジスタ101にオフ電流が流れてしまうと、駆動用トランジスタ102のゲート容量は、書き込み期間に書き込まれた電圧を保持できなくなってしまう。従って、スイッチング用トランジスタ101において、LDD領域を設けたり、ゲート絶縁膜を薄くさせたり、マルチゲート構造とすることでオフ電流を低減すると良い。   In particular, when an off-state current flows through the switching transistor 101, the gate capacitance of the driving transistor 102 cannot hold the voltage written during the writing period. Therefore, the switching transistor 101 is preferably provided with an LDD region, a thin gate insulating film, or a multi-gate structure to reduce off-state current.

次に、図7の回路構成における動作について、図8を用いて説明する。   Next, the operation in the circuit configuration of FIG. 7 will be described with reference to FIG.

まず図8(A)の書き込み期間において、走査線Gが選択されると、走査線Gにゲート電極が接続されているスイッチング用トランジスタ101がオンの状態になる。そして、信号線Sに入力された映像信号の電位Vsigが、スイッチング用トランジスタ101を介して駆動用トランジスタ102のゲート電極に入力され、駆動用トランジスタ102のゲート容量によって、ゲート電位が保持される。   First, in the writing period in FIG. 8A, when the scanning line G is selected, the switching transistor 101 whose gate electrode is connected to the scanning line G is turned on. Then, the potential Vsig of the video signal input to the signal line S is input to the gate electrode of the driving transistor 102 via the switching transistor 101, and the gate potential is held by the gate capacitance of the driving transistor 102.

また、電源線Vの電位Vss1は発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、もしくはそれよりも低い(つまり、Vss≧Vss1を満たす)電位に設定されるため、発光素子104は発光されない。なお、電位Vssとしては、例えばGND(グラウンド電位)、0Vなどが印加されていても良い。また、設定されるVss1及びVssの電位差よって発光素子104に逆方向のバイアス電流が流れる。(ただし、Vss1とVssが同電位のときは流れない。)   Further, since the potential Vss1 of the power supply line V is set to a potential that is the same as or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss1 is satisfied), the light emitting element 104 does not emit light. As the potential Vss, for example, GND (ground potential), 0 V, or the like may be applied. Further, a reverse bias current flows through the light emitting element 104 due to the potential difference between Vss1 and Vss that is set. (However, it does not flow when Vss1 and Vss are at the same potential.)

一方、この書き込み期間において、電位制御線Wの電位Vss2は、交流用トランジスタ103がオフの状態となるように低く設定される。   On the other hand, in this writing period, the potential Vss2 of the potential control line W is set low so that the AC transistor 103 is turned off.

なお、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフになる場合についても、発光素子104への電流の供給は行なわれないため、発光素子104は発光されない。   Note that the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period has been described; however, the current to the light-emitting element 104 is also applied when the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal. Therefore, the light emitting element 104 does not emit light.

次に図8(B)の表示期間では、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態にする。また、書き込み期間において書き込まれた映像信号の電位Vsigを駆動用トランジスタ102のゲート容量によって保持しているため、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。   Next, in the display period of FIG. 8B, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G. In addition, since the potential Vsig of the video signal written in the writing period is held by the gate capacitance of the driving transistor 102, the driving transistor 102 is turned on.

また、電源線Vの電位Vdd1は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(つまり、Vdd1>Vssを満たす)電位に設定されるため、発光素子104へ順方向のバイアス電流が流れ、発光素子104は発光する。   In addition, since the potential Vdd1 of the power supply line V is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd1> Vss is satisfied), a forward bias current flows to the light emitting element 104 and light emission occurs. The element 104 emits light.

一方、書き込み期間と同様に、電位制御線Wの電位Vss2は、交流用トランジスタ103がオフの状態となるように低く設定される。   On the other hand, as in the writing period, the potential Vss2 of the potential control line W is set low so that the AC transistor 103 is turned off.

また、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフの状態になる場合、発光素子104への電流の供給は行なわれないため、表示期間においても、発光素子104への電流の供給は行われない。   In the writing period, the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal has been described; however, when the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal, the current to the light-emitting element 104 is Therefore, no current is supplied to the light-emitting element 104 even during the display period.

次いで、図8(C)の逆方向バイアス期間(非点灯期間)において、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態にする。   Next, in the reverse bias period (non-lighting period) in FIG. 8C, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G.

また、電源線Vの電位Vss3を発光素子104の対向電極の電位Vssより低く設定する。つまり、Vss>Vss3を満たすように電位を設定することにより、駆動用トランジスタ102がオンとなる場合において、電源線Vと接続される駆動用トランジスタ102の電極はソース電極となり、発光素子104の画素電極と接続される駆動用トランジスタ102の電極はドレイン電極となる。   Further, the potential Vss3 of the power supply line V is set lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104. That is, by setting the potential to satisfy Vss> Vss3, when the driving transistor 102 is turned on, the electrode of the driving transistor 102 connected to the power supply line V becomes a source electrode, and the pixel of the light emitting element 104 The electrode of the driving transistor 102 connected to the electrode serves as a drain electrode.

なお、表示期間における順方向のバイアス電流の電流値より、逆方向バイアス期間における逆方向のバイアス電流の電流値を大きくするため、Vss3とVssの電位差は、表示期間におけるVdd1とVssの電位差よりも大きくするとよい。これにより、逆方向のバイアス電流の電流値を大きくし、逆方向バイアス期間において発光素子104に大電流を流すことができる。   Note that in order to make the current value of the reverse bias current in the reverse bias period larger than the current value of the forward bias current in the display period, the potential difference between Vss3 and Vss is larger than the potential difference between Vdd1 and Vss in the display period. It should be larger. Accordingly, the current value of the reverse bias current can be increased, and a large current can flow through the light emitting element 104 during the reverse bias period.

さらに、電位制御線Wの電位Vdd2を交流用トランジスタ103がオンの状態となるように高く設定する。それにより、駆動用トランジスタ102のゲート電極とドレイン電極とが同電位となり、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。よって、駆動用トランジスタ102に逆方向のバイアス電流が流れ、発光素子104にも逆方向のバイアス電流が流れる。つまり、発光素子104に逆方向の電圧が印加される。   Further, the potential Vdd2 of the potential control line W is set high so that the AC transistor 103 is turned on. Accordingly, the gate electrode and the drain electrode of the driving transistor 102 have the same potential, and the driving transistor 102 is turned on. Therefore, a reverse bias current flows through the driving transistor 102, and a reverse bias current also flows through the light emitting element 104. That is, a reverse voltage is applied to the light emitting element 104.

なお、本実施の形態では、発光素子104の対向電極の電位を固定電位としたが、これに限らない。例えば、発光素子104の対向電極の電位を変動させてもよいし、電源線Vの電位と発光素子104の対向電極の電位両方を変動させてもよい。   Note that although the potential of the counter electrode of the light-emitting element 104 is a fixed potential in this embodiment mode, the present invention is not limited to this. For example, the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 may be changed, or both the potential of the power supply line V and the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 may be changed.

次に、図7に示した画素を用いてデジタル時間階調方式で駆動する方法について、図9のタイミングチャートを用いて説明する。   Next, a method of driving by the digital time gray scale method using the pixel shown in FIG. 7 will be described with reference to a timing chart of FIG.

1フレーム期間F1は、図9に示すように、書き込み期間Ta1、Ta2、Ta3、Ta4と表示期間Ts1、Ts2、Ts3、Ts4を含む4つのサブフレーム期間SF1、SF2、SF3、SF4、及び逆方向バイアス期間(非点灯期間)BFに時分割されている。発光するための信号を与えられた発光素子は、表示期間において発光状態となっている。各々のサブフレーム期間における表示期間の長さの比は、第1のサブフレーム期間Ta1:第2のサブフレーム期間Ta2:第3のサブフレーム期間Ta3:第4のサブフレーム期間Ta4=2:2:2:2=8:4:2:1となっている。これによって4ビット階調を表現することができる。但し、ビット数及び階調数はここに記すものに限定されず、例えば8つのサブフレーム期間を設け8ビット階調を行えるようにしてもよい。 As shown in FIG. 9, one frame period F1 includes four subframe periods SF1, SF2, SF3, SF4 including a writing period Ta1, Ta2, Ta3, Ta4 and a display period Ts1, Ts2, Ts3, Ts4, and a reverse direction. It is time-divided into a bias period (non-lighting period) BF. A light emitting element to which a signal for emitting light is given is in a light emitting state during a display period. The ratio of the length of the display period in each subframe period is as follows: first subframe period Ta1: second subframe period Ta2: third subframe period Ta3: fourth subframe period Ta4 = 2 3 : 2 2 : 2 1 : 2 0 = 8: 4: 2: 1 As a result, 4-bit gradation can be expressed. However, the number of bits and the number of gradations are not limited to those described here. For example, eight subframe periods may be provided to enable 8-bit gradation.

上記動作の書き込み期間、及び表示期間について、全てのサブフレーム期間SF1〜SF4について繰り返し、逆方向の電圧を印加する期間(逆方向バイアス期間BF)を設け、1フレーム期間F1が終了する。ここで、サブフレーム期間SF1〜SF4の表示期間Ts1〜Ts4の長さを適宜設定し、1フレーム期間F1あたりで、発光素子104が発光したサブフレーム期間SF1〜SF4の表示期間の累計によって階調を表現する。つまり、1フレーム期間F1中の点灯時間の総和をもって階調を表現する。   The writing period and the display period of the above operation are repeated for all the subframe periods SF1 to SF4, and a period for applying a reverse voltage (reverse bias period BF) is provided to complete one frame period F1. Here, the lengths of the display periods Ts1 to Ts4 of the subframe periods SF1 to SF4 are set as appropriate, and the gray scale is determined by the total display period of the subframe periods SF1 to SF4 in which the light emitting element 104 emits light per frame period F1. Express. That is, the gradation is expressed by the total lighting time in one frame period F1.

なお、サブフレーム期間SF1〜SF4をそれぞれ1フレーム内に連続させずに配置してもよい。また、ひとつのサブフレーム期間をさらに複数のサブフレーム期間で構成してもよいし、さらにその複数のサブフレーム期間をそれぞれ1フレーム内に連続させずに配置してもよい。なお、時間階調方式を用いて階調を表現する場合、サブフレームの個数については、特に限定されない。また、各サブフレーム期間の点灯期間の長さや、どのサブフレームを点灯させるか、すなわち、サブフレームの選択方法についても、特に限定されない。   Note that the subframe periods SF1 to SF4 may be arranged without being consecutive in one frame. Further, one subframe period may be composed of a plurality of subframe periods, or the plurality of subframe periods may be arranged without being consecutive in one frame. Note that in the case of expressing gradation using the time gradation method, the number of subframes is not particularly limited. Further, the length of the lighting period of each subframe period and which subframe is lit, that is, the selection method of the subframe is not particularly limited.

また、図23のように、1フレーム期間F1の中の各サブフレーム期間SF1〜SF4において、それぞれの書き込み期間Ta1〜Ta4と同時に逆方向の電圧を印加させる動作を行ってもよい。すなわち図23において、書き込み期間Ta1〜Ta4は、書き込み動作を行うと同時に逆方向の電圧を印加する動作を行う逆方向バイアス期間でもある。なお、図23においては、4ビットのデジタル映像信号を用いて階調を表現する場合の例を示している。   Further, as shown in FIG. 23, in each subframe period SF1 to SF4 in one frame period F1, an operation of applying a reverse voltage simultaneously with each writing period Ta1 to Ta4 may be performed. That is, in FIG. 23, the writing periods Ta1 to Ta4 are also reverse bias periods in which an operation of applying a reverse voltage is performed simultaneously with the writing operation. FIG. 23 shows an example in which gradation is expressed using a 4-bit digital video signal.

また図7の画素をアナログ方式で駆動させる場合、図10のように、1フレーム期間F1の中に発光素子に順方向の極性の電圧を印加する期間、すなわち順方向バイアス期間FFと、逆方向の極性の電圧を印加する期間、すなわち逆方向バイアス期間BFを設ければよい。なお、順方向バイアス期間FFは書き込み期間Ta、表示期間Tsに時分割され、順方向バイアス期間FFにおいて各画素にアナログ映像信号を書き込み、発光素子104を発光または非発光させればよい。   When the pixel of FIG. 7 is driven in an analog manner, as shown in FIG. 10, a period in which a voltage having a forward polarity is applied to the light emitting element in one frame period F1, that is, a forward bias period FF and a reverse direction. It is sufficient to provide a period for applying a voltage having the polarity, that is, a reverse bias period BF. Note that the forward bias period FF is time-divided into a writing period Ta and a display period Ts, and an analog video signal may be written to each pixel in the forward bias period FF so that the light emitting element 104 emits light or does not emit light.

以上により、本発明の構成では、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   As described above, in the structure of the present invention, when a reverse voltage is applied, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be passed, and the lifetime of the light-emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

また、回路構成にあるトランジスタをN型トランジスタで作製することで、アモルファスシリコンのトランジスタを適用することができる。従って、既に確立されたアモルファスシリコンを用いたトランジスタの製造技術を適用することができるため、簡易かつ安価な製造プロセスで、動作特性が良好で安定した表示装置を得ることができる。   In addition, an amorphous silicon transistor can be used by manufacturing a transistor having a circuit structure as an N-type transistor. Therefore, since a transistor manufacturing technique using amorphous silicon that has already been established can be applied, a display device with favorable and stable operation characteristics can be obtained with a simple and inexpensive manufacturing process.

(実施の形態4)
(回路構成3)
本実施の形態においては、実施の形態1で述べた図1の回路構成とは別の構成について述べる。
(Embodiment 4)
(Circuit configuration 3)
In this embodiment mode, a configuration different from the circuit configuration in FIG. 1 described in Embodiment Mode 1 will be described.

図11に示す画素を構成する回路は、発光素子104と、映像信号の画素への入力を制御するためのスイッチング素子として用いるトランジスタ(第1のスイッチング用トランジスタ105、第2のスイッチング用トランジスタ106)と、発光素子104に流れる電流値を制御するトランジスタ(駆動用トランジスタ102)と、発光素子104に逆方向の電圧を印加する際、発光素子104に逆方向のバイアス電流を流すトランジスタ(交流用トランジスタ103)とを有している。また、本実施の形態では、映像信号の電位を保持するため二つの電極を持つ容量素子112を設けているが、駆動用トランジスタ102のゲート容量などを用いて、駆動用トランジスタ102のゲート電位を保持できる場合は、容量素子112を省いても良い。第1のスイッチング用トランジスタ105、第2のスイッチング用トランジスタ106、駆動用トランジスタ102及び交流用トランジスタ103は同じ極性を有し、本発明の特徴として、それらのトランジスタにN型のトランジスタを用いるものとする。   A circuit included in the pixel illustrated in FIG. 11 includes a light-emitting element 104 and a transistor used as a switching element for controlling input of a video signal to the pixel (a first switching transistor 105 and a second switching transistor 106). A transistor for controlling the current value flowing through the light emitting element 104 (driving transistor 102), and a transistor for supplying a reverse bias current to the light emitting element 104 when applying a reverse voltage to the light emitting element 104 (AC transistor) 103). In this embodiment, the capacitor 112 having two electrodes is provided to hold the potential of the video signal. However, the gate potential of the driving transistor 102 is set using the gate capacitance of the driving transistor 102 or the like. If it can be held, the capacitor 112 may be omitted. The first switching transistor 105, the second switching transistor 106, the driving transistor 102, and the AC transistor 103 have the same polarity. As a feature of the present invention, N-type transistors are used as these transistors. To do.

図11に示すように、第1のスイッチング用トランジスタ105のゲート電極は第2の走査線GL2に接続され、第1のスイッチング用トランジスタ105のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が信号線Sに、もう一方が駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極に接続されている。また、第2のスイッチング用トランジスタ106のゲート電極は第1の走査線GL1に接続され、第2のスイッチング用トランジスタ106のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極と容量素子112に接続されている。なお、信号線Sは電流源113と接続される。   As shown in FIG. 11, the gate electrode of the first switching transistor 105 is connected to the second scanning line GL2, and one of the source electrode and the drain electrode of the first switching transistor 105 is connected to the signal line S. The other is connected to the source electrode or drain electrode of the driving transistor 102. The gate electrode of the second switching transistor 106 is connected to the first scanning line GL1, and one of the source electrode and the drain electrode of the second switching transistor 106 is for the power supply line V and the other is for driving. The gate electrode of the transistor 102 and the capacitor 112 are connected. The signal line S is connected to the current source 113.

さらに、駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極と容量素子112に接続されている。また、容量素子112の二つの電極は、一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極と、もう一方が発光素子104の画素電極と接続される駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極と接続されている。なお、駆動用トランジスタ102は飽和領域で動作するように設定されている。   Further, one of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor 102 is connected to the power supply line V, and the other is connected to the pixel electrode of the light emitting element 104 and the capacitor 112. One of the two electrodes of the capacitor 112 is connected to the gate electrode of the driving transistor 102 and the other is connected to the source electrode or the drain electrode of the driving transistor 102 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104. . Note that the driving transistor 102 is set to operate in a saturation region.

また、本実施の形態では、交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続されている。また、交流用トランジスタ103のゲート電極は発光素子104の画素電極と接続される交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極と接続される。   In this embodiment mode, one of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor 103 is connected to the power supply line V and the other is connected to the pixel electrode of the light-emitting element 104. The gate electrode of the AC transistor 103 is connected to the source electrode or the drain electrode of the AC transistor 103 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104.

また、第1のスイッチング用トランジスタ105、及び第2のスイッチング用トランジスタ106が非選択状態(オフの状態)にある時、容量素子112は容量素子112の電極間の電位差を保持するため設けられている。なお、図11では容量素子112を設ける構成としたが、駆動用トランジスタ102のゲート容量によってゲート電位を保持できる場合は、本発明はこの構成に限定されず、容量素子112を省いた構成にしても良い。   In addition, when the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 are in a non-selected state (off state), the capacitor 112 is provided to hold a potential difference between the electrodes of the capacitor 112. Yes. Note that although the capacitor 112 is provided in FIG. 11, the present invention is not limited to this structure when the gate potential can be held by the gate capacitance of the driving transistor 102, and the capacitor 112 is omitted. Also good.

さらに本実施の形態では、駆動用トランジスタ102のチャネル長Lとチャネル幅Wの比L/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくする。具体的に駆動用トランジスタ102では、LをWより大きくし、より望ましくは5/1以上とする。また交流用トランジスタ103では、LがWと同じかそれよりLが短くなるようにする。これにより、画素内の発光素子104に順方向の電圧を印加した際に順方向に流れる電流値より、発光素子104に逆方向の電圧を印加した際に逆方向に流れる電流値を大きくすることができる。   Further, in this embodiment, the ratio L / W between the channel length L and the channel width W of the driving transistor 102 is set larger than that of the AC transistor 103. Specifically, in the driving transistor 102, L is set larger than W, and more desirably 5/1 or more. Further, in the AC transistor 103, L is equal to or shorter than W. Accordingly, the current value flowing in the reverse direction when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104 is made larger than the current value flowing in the forward direction when a forward voltage is applied to the light emitting element 104 in the pixel. Can do.

ここで、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106はリーク電流(オフ電流及びゲートリーク電流)の少ない構成とすることが望ましいといえる。なお、オフ電流とは、トランジスタがオフしているときにソースドレイン間に流れてしまう電流であり、ゲートリーク電流とは、ゲート絶縁膜を介してゲートとソースまたはドレイン間に電流が流れてしまう電流である。   Here, it can be said that the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 are preferably configured to have a small leakage current (off-state current and gate leakage current). Note that the off-current is a current that flows between the source and the drain when the transistor is off, and the gate leakage current is a current that flows between the gate and the source or drain via the gate insulating film. Current.

よって、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106に用いられるNチャネル型のトランジスタは、低濃度不純物領域(Lightly Doped Drain:LDD領域ともいう)を設けた構成とするのが好ましい。なぜなら、LDD領域を設けた構成のトランジスタはオフ電流を低減することができるからである。また、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106は発光素子104に電流を流すときにオン電流を大きくする必要があるからである。   Therefore, the n-channel transistor used for the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 is preferably provided with a low-concentration impurity region (also referred to as a lightly doped drain (LDD region)). . This is because a transistor having a structure provided with an LDD region can reduce off-state current. In addition, the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 need to increase the on-state current when a current flows through the light-emitting element 104.

さらに好ましい形態としては、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106にLDD領域を設け、LDD領域はゲート電極と重なる領域を設ける。すると、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106はオン電流を大きくし、さらにホットエレクトロンの発生を低減することができる。よって、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106は信頼性が向上する。   In a more preferable mode, LDD regions are provided in the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106, and the LDD region is provided with a region overlapping with the gate electrode. Then, the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 can increase the on-current and further reduce the generation of hot electrons. Therefore, the reliability of the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 is improved.

また、駆動用トランジスタ102もLDD領域を設け、LDD領域がゲート電極と重なる構造とすることで信頼性が向上する。   Further, the driving transistor 102 is also provided with an LDD region, and the LDD region overlaps with the gate electrode, whereby reliability is improved.

また、ゲート絶縁膜の膜厚を薄くすることでもオフ電流は低減することができる。よって、駆動用トランジスタ102の膜厚よりも第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106の膜厚を薄くする良い。   The off-state current can also be reduced by reducing the thickness of the gate insulating film. Therefore, the film thickness of the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 may be smaller than the film thickness of the driving transistor 102.

また、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106をダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造のトランジスタとすることでゲートリーク電流を低減することができる。さらに、駆動用トランジスタ102においても、ダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造を採用することで、ゲートリーク電流を低減し、信頼性を向上させることができる。   Further, gate leakage current can be reduced by using the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 as transistors having a double gate structure or other multi-gate structures. Further, by adopting a double gate structure or other multi-gate structure in the driving transistor 102, the gate leakage current can be reduced and the reliability can be improved.

特に第2のスイッチング用トランジスタ106にオフ電流が流れてしまうと、容量素子112は、書き込み期間に書き込まれた電圧を保持できなくなってしまう。従って、第2のスイッチング用トランジスタ106において、LDD領域を設けたり、ゲート絶縁膜を薄くさせたり、マルチゲート構造とすることでオフ電流を低減すると良い。   In particular, when an off-state current flows through the second switching transistor 106, the capacitor 112 cannot hold the voltage written in the writing period. Therefore, the off-state current can be reduced by providing the second switching transistor 106 with an LDD region, a thin gate insulating film, or a multi-gate structure.

次に、図11の回路構成における動作について、図12を用いて説明する。   Next, the operation in the circuit configuration of FIG. 11 will be described with reference to FIG.

まず図12(A)の書き込み期間において、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2が選択されると、第2の走査線GL2にゲート電極が接続されている第1のスイッチング用トランジスタ105と、第1の走査線GL1にゲート電極が接続される第2のスイッチング用トランジスタ106がオンの状態になる。また、このとき発光素子104を所定の輝度階調で発光動作させるために必要な所定の階調電流Idataを電流源113から信号線Sに供給する。ここで、電流源113は信号線Sに階調電流Idataを供給するための階調電位Vdataとして、発光素子104の対向電極の電位Vss及び電源線Vの電位Vss1よりも低い電位(つまり、Vss、Vss1>Vdata)を有するように設定する。なお、電位Vssとしては例えばGND(グラウンド電位)、0Vなどが印加されていても良い。   First, in the writing period of FIG. 12A, when the first scanning line GL1 and the second scanning line GL2 are selected, the first switching transistor whose gate electrode is connected to the second scanning line GL2. 105, and the second switching transistor 106 whose gate electrode is connected to the first scanning line GL1 is turned on. At this time, a predetermined gradation current Idata necessary for causing the light emitting element 104 to emit light with a predetermined luminance gradation is supplied from the current source 113 to the signal line S. Here, the current source 113 has a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 and the potential Vss1 of the power supply line V as the gradation potential Vdata for supplying the gradation current Idata to the signal line S (that is, Vss). , Vss1> Vdata). For example, GND (ground potential), 0 V, or the like may be applied as the potential Vss.

また、電源線Vの電位Vss1は、発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、それよりも低い(つまり、Vss≧Vss1)電位に設定され、第2のスイッチング用トランジスタ106を介して、電源線Vの電位Vss1が容量素子112及び駆動用トランジスタ102のゲート電極に入力される。それにより、容量素子112には電荷が蓄積され、容量素子112に電荷が充電されると電圧成分(保持電圧)が保持され、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。また、電源線Vと接続される駆動用トランジスタ102の電極はドレイン電極となり、もう一方の電極はソース電極となる。従って、駆動用トランジスタ102を介して階調電流Idataに基づいた書き込み電流Idtが供給される。   In addition, the potential Vss1 of the power supply line V is set to be equal to or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss1), and the second switching transistor 106 is used. The potential Vss1 of the power supply line V is input to the capacitor 112 and the gate electrode of the driving transistor 102. Accordingly, electric charge is accumulated in the capacitor 112, and when the capacitor 112 is charged, a voltage component (holding voltage) is held, and the driving transistor 102 is turned on. Further, the electrode of the driving transistor 102 connected to the power supply line V serves as a drain electrode, and the other electrode serves as a source electrode. Accordingly, the write current Idt based on the gradation current Idata is supplied through the driving transistor 102.

以上により、電流源113によって設定された階調電流Idataに基づいて、駆動用トランジスタ102及び第1のスイッチング用トランジスタ105のドレイン電流として、Idtが流れ、容量素子112に両電極間の電位差に対応する電荷が蓄積され、電圧成分(保持電圧)が保持される。なお、このとき発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低電位の階調電位Vdataに基づいて書き込み電流Idtが流れることにより、ノードN1の電位は低くなるため、発光素子104には逆方向のバイアス電流が流れる。よって、書き込み期間において、発光素子104は発光されない。   As described above, Idt flows as the drain currents of the driving transistor 102 and the first switching transistor 105 based on the gradation current Idata set by the current source 113, and corresponds to the potential difference between the two electrodes in the capacitor 112. Charge is accumulated, and the voltage component (holding voltage) is held. Note that at this time, the write current Idt flows based on the grayscale potential Vdata lower than the potential Vss of the counter electrode of the light-emitting element 104, so that the potential of the node N1 is lowered. Bias current flows. Therefore, the light-emitting element 104 does not emit light during the writing period.

また、この書き込み期間において、上記書き込み電流IdtによりノードN1の電位は低くなるため、電源線Vの電位Vss1はノードN1に印加される電位より高くなる。よって、電源線Vと接続される交流用トランジスタ103の電極はドレイン電極となり、もう一方の電極はソース電極となる。従って、該ソース電極と交流用トランジスタ103のゲート電極が接続されるため、交流用トランジスタ103はオフの状態となる。   Further, in this writing period, the potential of the node N1 is lowered by the writing current Idt, so that the potential Vss1 of the power supply line V becomes higher than the potential applied to the node N1. Therefore, the electrode of the AC transistor 103 connected to the power supply line V is a drain electrode, and the other electrode is a source electrode. Therefore, since the source electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned off.

なお、書き込み期間において、階調電位Vdataにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、階調電位Vdataにより駆動用トランジスタ102がオフになる場合についても、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行なわれないため、発光素子104は発光されない。   Note that the case where the driving transistor 102 is turned on by the grayscale potential Vdata in the writing period has been described; however, the case where the driving transistor 102 is turned off by the grayscale potential Vdata is also a forward direction to the light-emitting element 104. Since the bias current is not supplied, the light emitting element 104 does not emit light.

次に図12(B)の表示期間では、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2の電位を制御することで第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106をオフの状態にし、書き込み期間において蓄積された電荷(保持電圧)、すなわち容量素子112の両電極間の電位差を保持しているため、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。また、電源線Vの電位Vdd1は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(Vdd1>Vss)電位に設定されるため、発光素子104へ順方向のバイアス電流が流れ、発光素子104は発光する。   Next, in the display period in FIG. 12B, the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 are turned off by controlling the potentials of the first scan line GL1 and the second scan line GL2. Since the charge (holding voltage) accumulated in the writing period, that is, the potential difference between both electrodes of the capacitor 112 is held, the driving transistor 102 is turned on. Further, since the potential Vdd1 of the power supply line V is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (Vdd1> Vss), a forward bias current flows to the light emitting element 104, and the light emitting element 104 emits light. To do.

一方、電源線Vの電位Vdd1は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高く設定されるため、電源線Vと接続される交流用トランジスタ103の電極はドレイン電極となり、もう一方の電極はソース電極となる。従って、該ソース電極と交流用トランジスタ103のゲート電極が接続されるため、交流用トランジスタ103はオフの状態となる。   On the other hand, since the potential Vdd1 of the power supply line V is set higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104, the electrode of the AC transistor 103 connected to the power supply line V serves as a drain electrode, and the other electrode serves as a source. It becomes an electrode. Therefore, since the source electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned off.

また、書き込み期間において、階調電位Vdataにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、階調電位Vdataにより駆動用トランジスタ102がオフの状態になる場合、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行なわれないため、表示期間においても、発光素子104への電流の供給は行われない。   Although the case where the driving transistor 102 is turned on by the grayscale potential Vdata in the writing period has been described, when the driving transistor 102 is turned off by the grayscale potential Vdata, the forward direction to the light emitting element 104 is increased. Since no bias current is supplied, no current is supplied to the light-emitting element 104 even during the display period.

次いで、図12(C)の逆方向バイアス期間(非点灯期間)において、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2の電位を制御することで第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106をオフの状態にする。   Next, in the reverse bias period (non-lighting period) in FIG. 12C, the first switching transistor 105 and the second switching transistor 105 are controlled by controlling the potentials of the first scanning line GL1 and the second scanning line GL2. The switching transistor 106 is turned off.

また、電源線Vの電位Vss2を発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低い(つまり、Vss>Vss2)電位に設定することにより、電源線Vと接続される交流用トランジスタ103の電極はソース電極となり、もう一方の電極はドレイン電極となる。従って、該ドレイン電極と交流用トランジスタ103のゲート電極が接続されるため、交流用トランジスタ103はオンの状態となる。よって、発光素子104に逆方向の電圧が印加され、発光素子104、及び交流用トランジスタ103において、逆方向のバイアス電流が流れる。   Further, by setting the potential Vss2 of the power supply line V to a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss> Vss2), the electrode of the AC transistor 103 connected to the power supply line V is the source. The other electrode is the drain electrode. Accordingly, since the drain electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned on. Accordingly, a reverse voltage is applied to the light emitting element 104, and a reverse bias current flows in the light emitting element 104 and the AC transistor 103.

なお、書き込み期間及び表示期間において、駆動用トランジスタ102がオンの状態となる場合、逆バイアス期間においても、書き込み電流Idtに基づいて容量素子112の両電極間の電位差が保持されているため、駆動用トランジスタはオンの状態となる。それにより、駆動用トランジスタ102に逆方向のバイアス電流が流れる。しかし、前述したように駆動用トランジスタ102のL/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくすることで、交流用トランジスタ103に流れる電流値に比べて、駆動用トランジスタ102に流れる電流値は小さくなる。勿論、書き込み期間及び表示期間において、駆動用トランジスタ102がオフの状態となる場合は、駆動用トランジスタ102に電流は供給されない。   Note that in the case where the driving transistor 102 is turned on in the writing period and the display period, the potential difference between both electrodes of the capacitor 112 is held based on the writing current Idt even in the reverse bias period, so that driving is performed. The transistor is turned on. As a result, a reverse bias current flows through the driving transistor 102. However, as described above, the current flowing in the driving transistor 102 is made larger than the current value flowing in the AC transistor 103 by making the L / W of the driving transistor 102 larger than the L / W of the AC transistor 103. The value becomes smaller. Needless to say, current is not supplied to the driving transistor 102 when the driving transistor 102 is turned off in the writing period and the display period.

また、逆方向バイアス期間におけるVss2とVssの電位差を、表示期間におけるVdd1とVssの電位差よりも大きくしてもよい。これにより、順方向のバイアス電流の電流値より逆方向のバイアス電流の電流値が大きくなり、逆方向バイアス期間においてさらに発光素子104に大電流を流すことができる。   Further, the potential difference between Vss2 and Vss in the reverse bias period may be larger than the potential difference between Vdd1 and Vss in the display period. As a result, the current value of the reverse bias current becomes larger than the current value of the forward bias current, and a larger current can further flow through the light emitting element 104 during the reverse bias period.

また、上記回路構成の他に、第2の走査線GL2を設けず、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106のゲート電極を走査線Gに接続する構成としてもよい。図13にその構成を示す。走査線Gを一つで構成することで、配線の本数を減らすことができ、画素の開口率を上げることができる。また動作については、上記回路構成の動作における第1の走査線GL1と第2の走査線GL2との動作を走査線Gで行う他は同じ動作であるため、ここでは省略する。   In addition to the above circuit configuration, the second scanning line GL2 may not be provided, and the gate electrodes of the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 may be connected to the scanning line G. FIG. 13 shows the configuration. By configuring the single scanning line G, the number of wirings can be reduced and the aperture ratio of the pixel can be increased. The operation is the same as the operation of the first scanning line GL1 and the second scanning line GL2 in the operation of the above-described circuit configuration except that the operation is performed on the scanning line G, and is therefore omitted here.

次に、図11に示した画素を用いてアナログ時間階調方式で駆動する階調方法について、図14のタイミングチャートを用いて説明する。   Next, a gray scale method of driving by an analog time gray scale method using the pixel shown in FIG. 11 will be described with reference to a timing chart of FIG.

図14(A)のように、1フレーム期間F1の中に発光素子に順方向の極性の電圧を印加する期間、すなわち順方向バイアス期間FFと、逆方向の極性の電圧を印加する期間、すなわち逆方向バイアス期間BFを設ける。なお、順方向バイアス期間FFは書き込み期間Ta、表示期間Tsに時分割され、順方向バイアス期間FFにおいて各画素にアナログ映像信号を書き込み、発光素子104を発光または非発光させればよい。   As shown in FIG. 14A, during one frame period F1, a period in which a forward polarity voltage is applied to the light emitting element, that is, a forward bias period FF, and a period in which a reverse polarity voltage is applied, A reverse bias period BF is provided. Note that the forward bias period FF is time-divided into a writing period Ta and a display period Ts, and an analog video signal may be written to each pixel in the forward bias period FF so that the light emitting element 104 emits light or does not emit light.

図14(B)に示すのは、任意の行(i行目)におけるタイミングチャートである。   FIG. 14B shows a timing chart in an arbitrary row (i-th row).

画素への信号書き込み期間Ta(i)には、信号線Sと接続される電流源113にアナログ信号の電位、つまり階調電位Vdataが設定される。この階調電位Vdataが映像信号に相当する。そして、画素へ映像信号を書き込む際には、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2にハイレベルの電位が印加され、第2のスイッチング用トランジスタ106及び第1のスイッチング用トランジスタ105をオンさせる。また、電源線Vの電位にローレベルの電位Vss1が印加される。ここで、電源線Vの電位Vss1は、発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、それよりも低い(つまり、Vss≧Vss1)電位に設定される。   In the signal writing period Ta (i) to the pixel, the potential of the analog signal, that is, the gradation potential Vdata is set in the current source 113 connected to the signal line S. This gradation potential Vdata corresponds to a video signal. When a video signal is written to the pixel, a high-level potential is applied to the first scan line GL1 and the second scan line GL2, and the second switching transistor 106 and the first switching transistor 105 are connected. Turn it on. Further, the low-level potential Vss1 is applied to the potential of the power supply line V. Here, the potential Vss1 of the power supply line V is set to be equal to or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss1).

次に、表示期間Ts(i)では、、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2にローレベルの電位が印加され、電源線Vの電位にはハイレベルの電位Vdd1が印加される。ここで、電源線Vの電位Vdd1は、発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(つまり、Vdd1>Vss)電位に設定され、発光素子104は発光する。   Next, in the display period Ts (i), a low-level potential is applied to the first scanning line GL1 and the second scanning line GL2, and a high-level potential Vdd1 is applied to the potential of the power supply line V. . Here, the potential Vdd1 of the power supply line V is set to be higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd1> Vss), and the light emitting element 104 emits light.

逆方向バイアス期間BFでは、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2にローレベルの電位が維持され、電源線Vの電位にはローレベルの電位Vss2が印加される。ここで、電源線Vの電位Vss2は、発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低い(つまり、Vss>Vss2)電位に設定される。このような逆方向バイアス期間を設けることで、発光素子に逆方向の電圧を印加し、該発光素子の初期不良や進行性不良を抑制して電界発光層の劣化による輝度の低下を防ぐことができる。   In the reverse bias period BF, the low-level potential is maintained in the first scanning line GL1 and the second scanning line GL2, and the low-level potential Vss2 is applied to the power supply line V. Here, the potential Vss2 of the power supply line V is set to a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss> Vss2). By providing such a reverse bias period, a voltage in the reverse direction is applied to the light emitting element, thereby suppressing initial failure and progressive failure of the light emitting element and preventing reduction in luminance due to degradation of the electroluminescent layer. it can.

また図11の画素をデジタル時間階調方式で駆動させる場合、図15に示すように、1フレーム期間F1は、書き込み期間Ta1、Ta2、Ta3、Ta4と表示期間Ts1、Ts2、Ts3、Ts4を含む4つのサブフレーム期間SF1、SF2、SF3、SF4、及び逆方向バイアス期間(非点灯期間)BFに時分割される。書き込み期間において、発光するための信号を与えられた発光素子は、表示期間において発光状態となる。書き込み期間、表示期間が交互に行われた後、逆方向バイアス期間が行われる。   When the pixel of FIG. 11 is driven by the digital time gray scale method, as shown in FIG. 15, one frame period F1 includes writing periods Ta1, Ta2, Ta3, Ta4 and display periods Ts1, Ts2, Ts3, Ts4. It is time-divided into four subframe periods SF1, SF2, SF3, SF4 and a reverse bias period (non-lighting period) BF. In the writing period, the light-emitting element to which a signal for emitting light is given is in a light-emitting state in the display period. After the writing period and the display period are alternately performed, the reverse bias period is performed.

また、本実施の形態では、4ビット階調を表現されるが、ビット数及び階調数はここに記すものに限定されず、例えば8つのサブフレーム期間を設け8ビット階調を行えるようにしてもよい。さらに、ひとつのサブフレーム期間をさらに複数のサブフレーム期間で構成し、1フレーム内に連続させずに配置してもよい。なお、時間階調方式を用いて階調を表現する場合、サブフレームの個数については、特に限定されない。また、各サブフレーム期間の点灯期間の長さや、どのサブフレームを点灯させるか、すなわち、サブフレームの選択方法についても、特に限定されない。   In this embodiment, 4-bit gradation is expressed, but the number of bits and the number of gradations are not limited to those described here. For example, eight subframe periods are provided so that 8-bit gradation can be performed. May be. Furthermore, one subframe period may be further composed of a plurality of subframe periods, and they may be arranged without being continuous in one frame. Note that in the case of expressing gradation using the time gradation method, the number of subframes is not particularly limited. Further, the length of the lighting period of each subframe period and which subframe is lit, that is, the selection method of the subframe is not particularly limited.

以上により、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   As described above, when a reverse voltage is applied, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be supplied, and the life of the light-emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

また、回路構成にあるトランジスタをN型トランジスタで作製することで、アモルファスシリコンのトランジスタを適用することができる。従って、既に確立されたアモルファスシリコンを用いたトランジスタの製造技術を適用することができるため、簡易かつ安価な製造プロセスで、動作特性が良好で安定した表示装置を得ることができる。   In addition, an amorphous silicon transistor can be used by manufacturing a transistor having a circuit structure as an N-type transistor. Therefore, since a transistor manufacturing technique using amorphous silicon that has already been established can be applied, a display device with favorable and stable operation characteristics can be obtained with a simple and inexpensive manufacturing process.

(実施の形態5)
(回路構成4)
本実施の形態においては、実施の形態1で述べた図1の回路構成とは別の構成について述べる。
(Embodiment 5)
(Circuit configuration 4)
In this embodiment mode, a configuration different from the circuit configuration in FIG. 1 described in Embodiment Mode 1 will be described.

図16に示す画素を構成する回路は、発光素子104と、映像信号の画素への入力を制御するためのスイッチング素子として用いるトランジスタ(第1のスイッチング用トランジスタ105、第2のスイッチング用トランジスタ106)と、発光素子104に流れる電流値を制御するトランジスタ(駆動用トランジスタ102)と、発光素子104に逆方向の電圧を印加する際、発光素子104に逆方向のバイアス電流を流すトランジスタ(交流用トランジスタ103)とを有している。また、本実施の形態では、映像信号の電位を保持するため二つの電極を持つ容量素子112を設けているが、駆動用トランジスタ102のゲート容量などを用いて、駆動用トランジスタ102のゲート電位を保持できる場合は、容量素子112を省いても良い。第1のスイッチング用トランジスタ105、第2のスイッチング用トランジスタ106、駆動用トランジスタ102及び交流用トランジスタ103は同じ極性を有し、本発明の特徴として、それらのトランジスタにN型のトランジスタを用いるものとする。   16 includes a light-emitting element 104 and transistors used as switching elements for controlling input of video signals to the pixel (first switching transistor 105 and second switching transistor 106). A transistor for controlling the current value flowing through the light emitting element 104 (driving transistor 102), and a transistor for supplying a reverse bias current to the light emitting element 104 when applying a reverse voltage to the light emitting element 104 (AC transistor) 103). In this embodiment, the capacitor 112 having two electrodes is provided to hold the potential of the video signal. However, the gate potential of the driving transistor 102 is set using the gate capacitance of the driving transistor 102 or the like. If it can be held, the capacitor 112 may be omitted. The first switching transistor 105, the second switching transistor 106, the driving transistor 102, and the AC transistor 103 have the same polarity. As a feature of the present invention, N-type transistors are used as these transistors. To do.

図16に示すように、第1のスイッチング用トランジスタ105のゲート電極は第2の走査線GL2に接続され、第1のスイッチング用トランジスタ105のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が信号線Sに、もう一方が駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極に接続されている。また、第2のスイッチング用トランジスタ106のゲート電極は第1の走査線GL1に接続され、第2のスイッチング用トランジスタ106のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極と容量素子112に接続されている。なお、信号線Sは電流源113と接続される。   As shown in FIG. 16, the gate electrode of the first switching transistor 105 is connected to the second scanning line GL2, and one of the source electrode or the drain electrode of the first switching transistor 105 is connected to the signal line S, The other is connected to the source electrode or drain electrode of the driving transistor 102. The gate electrode of the second switching transistor 106 is connected to the first scanning line GL1, and one of the source electrode and the drain electrode of the second switching transistor 106 is for the power supply line V and the other is for driving. The gate electrode of the transistor 102 and the capacitor 112 are connected. The signal line S is connected to the current source 113.

さらに、駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極と容量素子112に接続されている。また、容量素子112の二つの電極は、一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極と、もう一方が発光素子104の画素電極と接続される駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極と接続されている。なお、駆動用トランジスタ102は飽和領域で動作するように設定されている。   Further, one of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor 102 is connected to the power supply line V, and the other is connected to the pixel electrode of the light emitting element 104 and the capacitor 112. One of the two electrodes of the capacitor 112 is connected to the gate electrode of the driving transistor 102 and the other is connected to the source electrode or the drain electrode of the driving transistor 102 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104. . Note that the driving transistor 102 is set to operate in a saturation region.

また、本実施の形態では、交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が発光素子104の画素電極に、もう一方が電位制御線Wに接続されている。また、交流用トランジスタ103のゲート電極は電位制御線Wと接続される交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極と接続される。   In this embodiment mode, one of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor 103 is connected to the pixel electrode of the light-emitting element 104 and the other is connected to the potential control line W. The gate electrode of the AC transistor 103 is connected to the source electrode or drain electrode of the AC transistor 103 connected to the potential control line W.

また、第1のスイッチング用トランジスタ105、及び第2のスイッチング用トランジスタ106が非選択状態(オフの状態)にある時、容量素子112は容量素子112の電極間の電位差を保持するため設けられている。なお、図16では容量素子112を設ける構成としたが、駆動用トランジスタ102のゲート容量によってゲート電位を保持できる場合は、本発明はこの構成に限定されず、容量素子を省いた構成にしても良い。   In addition, when the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 are in a non-selected state (off state), the capacitor 112 is provided to hold a potential difference between the electrodes of the capacitor 112. Yes. 16A and 16B, the capacitor 112 is provided; however, in the case where the gate potential can be held by the gate capacitance of the driving transistor 102, the present invention is not limited to this structure, and the capacitor is omitted. good.

さらに本実施の形態では、駆動用トランジスタ102のチャネル長Lとチャネル幅Wの比L/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくする。具体的に駆動用トランジスタ102では、LをWより大きくし、より望ましくは5/1以上とする。また交流用トランジスタ103では、LがWと同じかそれよりLが短くなるようにする。これにより、画素内の発光素子104に順方向の電圧を印加した際に順方向に流れる電流値より、発光素子104に逆方向の電圧を印加した際に逆方向に流れる電流値を大きくすることができる。   Further, in this embodiment, the ratio L / W between the channel length L and the channel width W of the driving transistor 102 is set larger than that of the AC transistor 103. Specifically, in the driving transistor 102, L is set larger than W, and more desirably 5/1 or more. Further, in the AC transistor 103, L is equal to or shorter than W. Accordingly, the current value flowing in the reverse direction when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104 is made larger than the current value flowing in the forward direction when a forward voltage is applied to the light emitting element 104 in the pixel. Can do.

ここで、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106はリーク電流(オフ電流及びゲートリーク電流)の少ない構成とすることが望ましいといえる。なお、オフ電流とは、トランジスタがオフしているときにソースドレイン間に流れてしまう電流であり、ゲートリーク電流とは、ゲート絶縁膜を介してゲートとソースまたはドレイン間に電流が流れてしまう電流である。   Here, it can be said that the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 are preferably configured to have a small leakage current (off-state current and gate leakage current). Note that the off-current is a current that flows between the source and the drain when the transistor is off, and the gate leakage current is a current that flows between the gate and the source or drain via the gate insulating film. Current.

よって、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106に用いられるNチャネル型のトランジスタは、低濃度不純物領域(Lightly Doped Drain:LDD領域ともいう)を設けた構成とするのが好ましい。なぜなら、LDD領域を設けた構成のトランジスタはオフ電流を低減することができるからである。また、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106は発光素子104に電流を流すときにオン電流を大きくする必要があるからである。   Therefore, the n-channel transistor used for the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 is preferably provided with a low-concentration impurity region (also referred to as a lightly doped drain (LDD region)). . This is because a transistor having a structure provided with an LDD region can reduce off-state current. In addition, the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 need to increase the on-state current when a current flows through the light-emitting element 104.

さらに好ましい形態としては、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106にLDD領域を設け、LDD領域はゲート電極と重なる領域を設ける。すると、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106はオン電流を大きくし、さらにホットエレクトロンの発生を低減することができる。よって、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106は信頼性が向上する。   In a more preferable mode, LDD regions are provided in the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106, and the LDD region is provided with a region overlapping with the gate electrode. Then, the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 can increase the on-current and further reduce the generation of hot electrons. Therefore, the reliability of the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 is improved.

また、駆動用トランジスタ102もLDD領域を設け、LDD領域がゲート電極と重なる構造とすることで信頼性が向上する。   Further, the driving transistor 102 is also provided with an LDD region, and the LDD region overlaps with the gate electrode, whereby reliability is improved.

また、ゲート絶縁膜の膜厚を薄くすることでもオフ電流は低減することができる。よって、駆動用トランジスタ102の膜厚よりも第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106の膜厚を薄くする良い。   The off-state current can also be reduced by reducing the thickness of the gate insulating film. Therefore, the film thickness of the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 may be smaller than the film thickness of the driving transistor 102.

また、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106をダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造のトランジスタとすることでゲートリーク電流を低減することができる。さらに、駆動用トランジスタ102においても、ダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造を採用することで、ゲートリーク電流を低減し、信頼性を向上させることができる。   Further, gate leakage current can be reduced by using the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 as transistors having a double gate structure or other multi-gate structures. Further, by adopting a double gate structure or other multi-gate structure in the driving transistor 102, the gate leakage current can be reduced and the reliability can be improved.

特に第2のスイッチング用トランジスタ106にオフ電流が流れてしまうと、容量素子112は、書き込み期間に書き込まれた電圧を保持できなくなってしまう。従って、第2のスイッチング用トランジスタ106において、LDD領域を設けたり、ゲート絶縁膜を薄くさせたり、マルチゲート構造とすることでオフ電流を低減すると良い。   In particular, when an off-state current flows through the second switching transistor 106, the capacitor 112 cannot hold the voltage written in the writing period. Therefore, the off-state current can be reduced by providing the second switching transistor 106 with an LDD region, a thin gate insulating film, or a multi-gate structure.

次に、図16の回路構成における動作について、図17を用いて説明する。   Next, the operation in the circuit configuration of FIG. 16 will be described with reference to FIG.

まず図17(A)の書き込み期間において、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2が選択されると、第2の走査線GL2にゲート電極が接続されている第1のスイッチング用トランジスタ105、及び第1の走査線GL1にゲート電極が接続される第2のスイッチング用トランジスタ106がオンの状態になる。また、このとき発光素子104を所定の輝度階調で発光動作させるために必要な所定の階調電流Idataを電流源113から信号線Sに供給する。ここで、電流源113は信号線Sに階調電流Idataを供給するための階調電位Vdataとして、発光素子104の対向電極の電位Vss及び電源線Vの電位Vss1よりも低い電位(つまり、Vss、Vss1>Vdata)を有するように設定する。なお、電位Vssとしては例えばGND(グラウンド電位)、0Vなどが印加されていても良い。   First, in the writing period of FIG. 17A, when the first scan line GL1 and the second scan line GL2 are selected, the first switching transistor whose gate electrode is connected to the second scan line GL2. 105 and the second switching transistor 106 whose gate electrode is connected to the first scanning line GL1 are turned on. At this time, a predetermined gradation current Idata necessary for causing the light emitting element 104 to emit light with a predetermined luminance gradation is supplied from the current source 113 to the signal line S. Here, the current source 113 has a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 and the potential Vss1 of the power supply line V as the gradation potential Vdata for supplying the gradation current Idata to the signal line S (that is, Vss). , Vss1> Vdata). For example, GND (ground potential), 0 V, or the like may be applied as the potential Vss.

また、電源線Vの電位Vss1は、発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、それよりも低い(つまり、Vss≧Vss1)電位に設定され、第2のスイッチング用トランジスタ106を介して、電源線Vの電位Vss1が容量素子112及び駆動用トランジスタ102のゲート電極に入力される。それにより、容量素子112には電荷が蓄積され、容量素子112に電荷が充電されると電圧成分(保持電圧)が保持され、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。また、電源線Vと接続される駆動用トランジスタ102の電極はドレイン電極となり、もう一方の電極はソース電極となる。従って、駆動用トランジスタ102を介して階調電流Idataに基づいた書き込み電流Idtが供給される。   In addition, the potential Vss1 of the power supply line V is set to be equal to or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss1), and the second switching transistor 106 is used. The potential Vss1 of the power supply line V is input to the capacitor 112 and the gate electrode of the driving transistor 102. Accordingly, electric charge is accumulated in the capacitor 112, and when the capacitor 112 is charged, a voltage component (holding voltage) is held, and the driving transistor 102 is turned on. Further, the electrode of the driving transistor 102 connected to the power supply line V serves as a drain electrode, and the other electrode serves as a source electrode. Accordingly, the write current Idt based on the gradation current Idata is supplied through the driving transistor 102.

以上により、電流源113によって設定された階調電流Idataにより、駆動用トランジスタ102及び第1のスイッチング用トランジスタ105のドレイン電流として、Idtが流れ、容量素子112に両電極間の電位差に対応する電荷が蓄積され、電圧成分(保持電圧)が保持される。なお、このとき発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低電位の階調電位Vdataに基づいて書き込み電流Idtが流れることにより、ノードN1の電位は低くなるため、発光素子104には逆方向のバイアス電流が流れる。よって、書き込み期間において、発光素子104は発光されない。   Thus, Idt flows as the drain current of the driving transistor 102 and the first switching transistor 105 due to the gradation current Idata set by the current source 113, and the charge corresponding to the potential difference between the two electrodes is passed through the capacitor 112. Are stored, and the voltage component (holding voltage) is held. Note that at this time, the write current Idt flows based on the grayscale potential Vdata lower than the potential Vss of the counter electrode of the light-emitting element 104, so that the potential of the node N1 is lowered. Bias current flows. Therefore, the light-emitting element 104 does not emit light during the writing period.

一方、この書き込み期間において、電位制御線Wの電位Vdd3は発光素子104の対向電極の電位Vssより高い(つまり、Vdd3>Vss)電位に設定される。よって、電位制御線Wと接続される交流用トランジスタ103の電極はドレイン電極となり、もう一方の電極はソース電極となる。従って、該ソース電極と交流用トランジスタ103のゲート電極が接続されるため、交流用トランジスタ103はオフの状態となる。   On the other hand, in this writing period, the potential Vdd3 of the potential control line W is set to be higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd3> Vss). Therefore, the electrode of the AC transistor 103 connected to the potential control line W is a drain electrode, and the other electrode is a source electrode. Therefore, since the source electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned off.

なお、書き込み期間において、階調電位Vdataにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、階調電位Vdataにより駆動用トランジスタ102がオフになる場合についても、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行なわれないため、発光素子104は発光されない。 Note that the case where the driving transistor 102 is turned on by the grayscale potential Vdata in the writing period has been described; however, the case where the driving transistor 102 is turned off by the grayscale potential Vdata is also a forward direction to the light-emitting element 104. Since the bias current is not supplied, the light emitting element 104 does not emit light.

次に図17(B)の表示期間では、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2の電位を制御することで第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106をオフの状態にし、書き込み期間において蓄積された電荷(保持電圧)、すなわち容量素子112の両電極間の電位差を保持しているため、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。また、電源線Vの電位Vdd1は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(Vdd1>Vss)電位に設定されるため、発光素子104へ順方向のバイアス電流が流れ、発光素子104は発光する。   Next, in the display period in FIG. 17B, the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 are turned off by controlling the potentials of the first scan line GL1 and the second scan line GL2. Since the charge (holding voltage) accumulated in the writing period, that is, the potential difference between both electrodes of the capacitor 112 is held, the driving transistor 102 is turned on. Further, since the potential Vdd1 of the power supply line V is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (Vdd1> Vss), a forward bias current flows to the light emitting element 104, and the light emitting element 104 emits light. To do.

一方、書き込み期間と同様に、電位制御線Wの電位Vdd3は発光素子104の対向電極の電位Vssより高い電位に設定されている。よって、電位制御線Wと接続される交流用トランジスタ103の電極はドレイン電極となり、もう一方の電極はソース電極となる。従って、該ソース電極と交流用トランジスタ103のゲート電極が接続されるため、交流用トランジスタ103はオフの状態となる。   On the other hand, as in the writing period, the potential Vdd3 of the potential control line W is set to be higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104. Therefore, the electrode of the AC transistor 103 connected to the potential control line W is a drain electrode, and the other electrode is a source electrode. Therefore, since the source electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned off.

また、書き込み期間において、階調電位Vdataにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、階調電位Vdataにより駆動用トランジスタ102がオフの状態になる場合、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行なわれないため、表示期間においても、発光素子104への電流の供給は行われない。   Although the case where the driving transistor 102 is turned on by the grayscale potential Vdata in the writing period has been described, when the driving transistor 102 is turned off by the grayscale potential Vdata, the forward direction to the light emitting element 104 is increased. Since no bias current is supplied, no current is supplied to the light-emitting element 104 even during the display period.

次いで、図17(C)の逆方向バイアス期間(非点灯期間)において、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2の電位を制御することで第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106をオフの状態にする。   Next, in the reverse bias period (non-lighting period) in FIG. 17C, the first switching transistor 105 and the second switching transistor 105 are controlled by controlling the potentials of the first scanning line GL1 and the second scanning line GL2. The switching transistor 106 is turned off.

また、電位制御線Wの電位Vss3を発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低い(つまり、Vss>Vss3)電位に設定することにより、電位制御線Wと接続される交流用トランジスタ103の電極はソース電極となり、もう一方の電極はドレイン電極となる。従って、該ドレイン電極と交流用トランジスタ103のゲート電極が接続されるため、交流用トランジスタ103はオンの状態となる。よって、発光素子104に逆方向の電圧が印加され、発光素子104、及び交流用トランジスタ103において、逆方向のバイアス電流が流れる。   Further, by setting the potential Vss3 of the potential control line W to a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss> Vss3), the electrode of the AC transistor 103 connected to the potential control line W Becomes a source electrode, and the other electrode becomes a drain electrode. Accordingly, since the drain electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned on. Accordingly, a reverse voltage is applied to the light emitting element 104, and a reverse bias current flows in the light emitting element 104 and the AC transistor 103.

一方、電源線Vの電位Vss2は発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、それよりも低い(つまり、Vss≧Vss2)電位に設定する。また、書き込み期間及び表示期間において、駆動用トランジスタ102がオンの状態となる場合、逆バイアス期間においても、書き込み電流Idtに基づいて容量素子112の両電極間の電位差が保持されているため、駆動用トランジスタはオンの状態となる。   On the other hand, the potential Vss2 of the power supply line V is set to be equal to or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss2). In addition, when the driving transistor 102 is turned on in the writing period and the display period, the potential difference between both electrodes of the capacitor 112 is held based on the writing current Idt even in the reverse bias period. The transistor is turned on.

それにより、電源線Vの電位Vss2に設定する電位によって駆動用トランジスタ102に逆方向のバイアス電流が流れる。(なお、設定する電位Vss2がVssと同電位のときは流れない)。しかし、前述したように駆動用トランジスタ102のL/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくすることで、交流用トランジスタ103に流れる電流値に比べて、駆動用トランジスタ102に流れる電流値は小さくなる。勿論、書き込み期間及び表示期間において、駆動用トランジスタ102がオフの状態となる場合は、駆動用トランジスタ102に電流は供給されない。   As a result, a reverse bias current flows through the driving transistor 102 by the potential set to the potential Vss2 of the power supply line V. (It does not flow when the potential Vss2 to be set is the same as Vss). However, as described above, the current flowing in the driving transistor 102 is made larger than the current value flowing in the AC transistor 103 by making the L / W of the driving transistor 102 larger than the L / W of the AC transistor 103. The value becomes smaller. Needless to say, current is not supplied to the driving transistor 102 when the driving transistor 102 is turned off in the writing period and the display period.

また、逆方向バイアス期間における電位制御線Wの電位Vss3と発光素子104の対向電極の電位Vssとの電位差を、表示期間における電源線Vの電位Vdd1と発光素子104の対向電極の電位Vssとの電位差よりも大きくしてもよい。これにより、順方向のバイアス電流の電流値より逆方向のバイアス電流の電流値が大きくなり、逆方向バイアス期間においてさらに発光素子104に大電流を流すことができる。   In addition, the potential difference between the potential Vss3 of the potential control line W and the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 in the reverse bias period is expressed as the potential Vdd1 of the power supply line V and the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 in the display period. It may be larger than the potential difference. As a result, the current value of the reverse bias current becomes larger than the current value of the forward bias current, and a larger current can further flow through the light emitting element 104 during the reverse bias period.

また、上記回路構成の他に、第2の走査線GL2を設けず、第1のスイッチング用トランジスタ105及び第2のスイッチング用トランジスタ106のゲート電極を走査線Gに接続する構成としてもよい。図18にその構成を示す。走査線Gを一つで構成することで、配線の本数を減らすことができ、画素の開口率を上げることができる。また動作については、上記回路構成の動作における第1の走査線GL1と第2の走査線GL2との動作を走査線Gで行う他は同じ動作であるため、ここでは省略する。   In addition to the above circuit configuration, the second scanning line GL2 may not be provided, and the gate electrodes of the first switching transistor 105 and the second switching transistor 106 may be connected to the scanning line G. FIG. 18 shows the configuration. By configuring the single scanning line G, the number of wirings can be reduced and the aperture ratio of the pixel can be increased. The operation is the same as the operation of the first scanning line GL1 and the second scanning line GL2 in the operation of the above-described circuit configuration except that the operation is performed on the scanning line G, and is therefore omitted here.

次に、図16に示した画素を用いてアナログ時間階調方式で駆動する階調方法について、図19のタイミングチャートを用いて説明する。   Next, a gray scale method of driving by the analog time gray scale method using the pixel shown in FIG. 16 will be described with reference to a timing chart of FIG.

図19(A)のように、1フレーム期間F1の中に発光素子に順方向の極性の電圧を印加する期間、すなわち順方向バイアス期間FFと、逆方向の極性の電圧を印加する期間、すなわち逆方向バイアス期間BFを設ける。なお、順方向バイアス期間FFは書き込み期間Ta、表示期間Tsに時分割され、順方向バイアス期間FFにおいて各画素にアナログ映像信号を書き込み、発光素子104を発光または非発光させればよい。   As shown in FIG. 19A, a period in which a forward polarity voltage is applied to the light emitting element in one frame period F1, that is, a forward bias period FF, and a period in which a reverse polarity voltage is applied, A reverse bias period BF is provided. Note that the forward bias period FF is time-divided into a writing period Ta and a display period Ts, and an analog video signal may be written to each pixel in the forward bias period FF so that the light emitting element 104 emits light or does not emit light.

図19(B)に示すのは、任意の行(i行目)におけるタイミングチャートである。   FIG. 19B shows a timing chart in an arbitrary row (i-th row).

画素への信号書き込み期間Ta(i)には、信号線Sと接続される電流源113にアナログ信号の電位、つまり階調電位Vdataが設定される。この階調電位Vdataが映像信号に相当する。そして、画素へ映像信号を書き込む際には、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2にハイレベルの電位が印加され、第2のスイッチング用トランジスタ106及び第1のスイッチング用トランジスタ105をオンさせる。また、電源線Vの電位にローレベルの電位Vss1が印加され、電位制御線Wの電位にハイレベルの電位Vdd3が印加される。ここで、電源線Vの電位Vss1は、発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、それよりも低い(つまり、Vss≧Vss1)電位に設定される。また、電位制御線Wの電位Vdd3は、発光素子104の対向電極の電位Vssより高い(つまり、Vdd3>Vss)電位に設定される。   In the signal writing period Ta (i) to the pixel, the potential of the analog signal, that is, the gradation potential Vdata is set in the current source 113 connected to the signal line S. This gradation potential Vdata corresponds to a video signal. When a video signal is written to the pixel, a high-level potential is applied to the first scan line GL1 and the second scan line GL2, and the second switching transistor 106 and the first switching transistor 105 are connected. Turn it on. Further, the low-level potential Vss1 is applied to the potential of the power supply line V, and the high-level potential Vdd3 is applied to the potential of the potential control line W. Here, the potential Vss1 of the power supply line V is set to be equal to or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss1). Further, the potential Vdd3 of the potential control line W is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd3> Vss).

次に、表示期間Ts(i)では、、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2にローレベルの電位が印加され、電源線Vの電位にはハイレベルの電位Vdd1が印加される。また、電位制御線Wの電位はハイレベルの電位Vdd3に維持される。ここで、電源線Vの電位Vdd1は、発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(つまり、Vdd1>Vss)電位に設定され、発光素子104は発光する。また、電位制御線Wの電位Vdd3は、発光素子104の対向電極の電位Vssより高い(つまり、Vdd3>Vss)電位に設定される。   Next, in the display period Ts (i), a low-level potential is applied to the first scanning line GL1 and the second scanning line GL2, and a high-level potential Vdd1 is applied to the potential of the power supply line V. . Further, the potential of the potential control line W is maintained at the high level potential Vdd3. Here, the potential Vdd1 of the power supply line V is set to be higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd1> Vss), and the light emitting element 104 emits light. Further, the potential Vdd3 of the potential control line W is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd3> Vss).

逆方向バイアス期間BFでは、第1の走査線GL1及び第2の走査線GL2にローレベルの電位が維持され、電源線Vの電位にはローレベルの電位Vss2が印加され、電位制御線Wの電位にはローレベルの電位Vss3が印加される。ここで、電源線Vの電位Vss2は、発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、それよりも低い(つまり、Vss≧Vss2)電位に設定される。また、電位制御線Wの電位Vss3は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低い(つまり、Vss>Vss3)電位に設定される。このような逆方向バイアス期間を設けることで、発光素子に逆方向の電圧を印加し、該発光素子の初期不良や進行性不良を抑制して電界発光層の劣化による輝度の低下を防ぐことができる。   In the reverse bias period BF, the low-level potential is maintained in the first scanning line GL1 and the second scanning line GL2, the low-level potential Vss2 is applied to the power supply line V, and the potential control line W A low level potential Vss3 is applied to the potential. Here, the potential Vss2 of the power supply line V is set to be equal to or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss2). The potential Vss3 of the potential control line W is set to a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss> Vss3). By providing such a reverse bias period, a voltage in the reverse direction is applied to the light emitting element, thereby suppressing initial failure and progressive failure of the light emitting element and preventing reduction in luminance due to degradation of the electroluminescent layer. it can.

なお、電源線Vの電位において、書き込み期間の電位Vss1と逆方向バイアス期間の電位Vss2は、発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、それよりも低ければ同電位でもよいし、異なる電位としてもよい。   Note that in the potential of the power supply line V, the potential Vss1 in the writing period and the potential Vss2 in the reverse bias period are the same as or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light-emitting element 104, or different potentials. It is good.

また図16の画素をデジタル時間階調方式で駆動させる場合、図20に示すように、1フレーム期間F1は、書き込み期間Ta1、Ta2、Ta3、Ta4と表示期間Ts1、Ts2、Ts3、Ts4を含む4つのサブフレーム期間SF1、SF2、SF3、SF4、及び逆方向バイアス期間(非点灯期間)BFに時分割される。書き込み期間において、発光するための信号を与えられた発光素子は、表示期間において発光状態となる。書き込み期間、表示期間が交互に行われた後、逆方向バイアス期間が行われる。   When the pixel of FIG. 16 is driven by the digital time gray scale method, as shown in FIG. 20, one frame period F1 includes writing periods Ta1, Ta2, Ta3, Ta4 and display periods Ts1, Ts2, Ts3, Ts4. It is time-divided into four subframe periods SF1, SF2, SF3, SF4 and a reverse bias period (non-lighting period) BF. In the writing period, the light-emitting element to which a signal for emitting light is given is in a light-emitting state in the display period. After the writing period and the display period are alternately performed, the reverse bias period is performed.

また、本実施の形態では、4ビット階調を表現されるが、ビット数及び階調数はここに記すものに限定されず、例えば8つのサブフレーム期間を設け8ビット階調を行えるようにしてもよい。さらに、ひとつのサブフレーム期間をさらに複数のサブフレーム期間で構成し、1フレーム内に連続させずに配置してもよい。なお、時間階調方式を用いて階調を表現する場合、サブフレームの個数については、特に限定されない。また、各サブフレーム期間の点灯期間の長さや、どのサブフレームを点灯させるか、すなわち、サブフレームの選択方法についても、特に限定されない。   In this embodiment, 4-bit gradation is expressed, but the number of bits and the number of gradations are not limited to those described here. For example, eight subframe periods are provided so that 8-bit gradation can be performed. May be. Furthermore, one subframe period may be further composed of a plurality of subframe periods, and they may be arranged without being continuous in one frame. Note that in the case of expressing gradation using the time gradation method, the number of subframes is not particularly limited. Further, the length of the lighting period of each subframe period and which subframe is lit, that is, the selection method of the subframe is not particularly limited.

以上により、本発明の構成では、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   As described above, in the structure of the present invention, when a reverse voltage is applied, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be passed, and the lifetime of the light-emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

また、回路構成にあるトランジスタをN型トランジスタで作製することで、アモルファスシリコンのトランジスタを適用することができる。従って、既に確立されたアモルファスシリコンを用いたトランジスタの製造技術を適用することができるため、簡易かつ安価な製造プロセスで、動作特性が良好で安定した表示装置を得ることができる。   In addition, an amorphous silicon transistor can be used by manufacturing a transistor having a circuit structure as an N-type transistor. Therefore, since a transistor manufacturing technique using amorphous silicon that has already been established can be applied, a display device with favorable and stable operation characteristics can be obtained with a simple and inexpensive manufacturing process.

(実施の形態6)
(回路構成5)
本実施の形態においては、実施の形態1で述べた図1の回路構成とは別の構成について述べる。
(Embodiment 6)
(Circuit configuration 5)
In this embodiment mode, a configuration different from the circuit configuration in FIG. 1 described in Embodiment Mode 1 will be described.

図21に示す画素を構成する回路は、発光素子104と、映像信号の画素への入力を制御するためのスイッチング素子として用いるトランジスタ(スイッチング用トランジスタ101)と、発光素子104に流れる電流値を制御するトランジスタ(駆動用トランジスタ102)と、発光素子104に逆方向の電圧を印加する際、発光素子104に逆方向のバイアス電流を流すトランジスタ(交流用トランジスタ103)とを有している。スイッチング用トランジスタ101、駆動用トランジスタ102及び交流用トランジスタ103は同じ極性を有し、本発明の特徴として、それらのトランジスタにN型のトランジスタを用いるものとする。さらに本実施の形態には容量素子を設けていないが、映像信号の電位を保持するための容量素子として設けても良い。   A circuit included in the pixel illustrated in FIG. 21 controls the light-emitting element 104, a transistor used as a switching element for controlling input of a video signal to the pixel (switching transistor 101), and a current value flowing through the light-emitting element 104. And a transistor (alternating current transistor 103) that applies a reverse bias current to the light emitting element 104 when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104. The switching transistor 101, the driving transistor 102, and the AC transistor 103 have the same polarity. As a feature of the present invention, N-type transistors are used as these transistors. Further, although a capacitor is not provided in this embodiment, it may be provided as a capacitor for holding the potential of a video signal.

図21に示すように、スイッチング用トランジスタ101のゲート電極は、走査線Gに接続されている。また、スイッチング用トランジスタ101のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が信号線Sに、もう一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極に接続されている。そして、駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続されている。   As shown in FIG. 21, the gate electrode of the switching transistor 101 is connected to the scanning line G. One of the source electrode and the drain electrode of the switching transistor 101 is connected to the signal line S, and the other is connected to the gate electrode of the driving transistor 102. One of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor 102 is connected to the power supply line V, and the other is connected to the pixel electrode of the light emitting element 104.

また、本実施の形態では、交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続されている。また、交流用トランジスタ103のゲート電極は配線110と接続される。   In this embodiment mode, one of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor 103 is connected to the power supply line V and the other is connected to the pixel electrode of the light-emitting element 104. The gate electrode of the AC transistor 103 is connected to the wiring 110.

なお、本実施の形態では、配線110と発光素子104の対向電極とを接続した場合の動作について説明する。配線110と発光素子104の対向電極とを接続することにより、消費電力の低減を図ることができる。また、発光素子104の対向電極と配線110とが接することにより、配線110が発光素子104の対向電極の補助電極として機能し、発光素子104の対向電極を低抵抗化する。そして、発光素子104の対向電極の膜厚を薄くすることができ、発光素子104の対向電極および配線110の透過率を高くすることができる。したがって、発光素子104から得られる光を上面から取り出す上面射出構造において、より高い輝度を得ることができる。なお、場合によっては、配線110と発光素子104と接続しない構成としてもよい。   Note that in this embodiment, operation in the case where the wiring 110 and the counter electrode of the light-emitting element 104 are connected is described. By connecting the wiring 110 and the counter electrode of the light-emitting element 104, power consumption can be reduced. In addition, when the counter electrode of the light-emitting element 104 and the wiring 110 are in contact with each other, the wiring 110 functions as an auxiliary electrode of the counter electrode of the light-emitting element 104, and the resistance of the counter electrode of the light-emitting element 104 is reduced. In addition, the thickness of the counter electrode of the light emitting element 104 can be reduced, and the transmittance of the counter electrode of the light emitting element 104 and the wiring 110 can be increased. Therefore, higher luminance can be obtained in the top emission structure in which light obtained from the light-emitting element 104 is extracted from the top surface. Note that in some cases, the wiring 110 and the light-emitting element 104 may not be connected.

また、スイッチング用トランジスタ101が非選択状態(オフの状態)にある時、駆動用トランジスタ102のゲート容量によって、駆動用トランジスタ102のゲート電位を保持させる。なお、図21では容量素子を設けず、駆動用トランジスタのゲート容量によってゲート電位を保持させる構成を示したが、本発明はこの構成に限定されず、容量素子を設けた構成にしても良い。   Further, when the switching transistor 101 is in a non-selected state (off state), the gate potential of the driving transistor 102 is held by the gate capacitance of the driving transistor 102. Note that FIG. 21 illustrates a configuration in which the gate potential is held by the gate capacitance of the driving transistor without providing a capacitor, but the present invention is not limited to this configuration, and a configuration in which a capacitor is provided may be employed.

さらに本実施の形態では、駆動用トランジスタ102のチャネル長Lとチャネル幅Wの比L/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくする。具体的に駆動用トランジスタ102では、LをWより大きくし、より望ましくは5/1以上とする。また交流用トランジスタ103では、LがWと同じかそれよりLが短くなるようにする。これにより、画素内の発光素子104に順方向の電圧を印加した際に順方向に流れる電流値より、発光素子104に逆方向の電圧を印加した際に逆方向に流れる電流値を大きくすることができる。   Further, in this embodiment, the ratio L / W between the channel length L and the channel width W of the driving transistor 102 is set larger than that of the AC transistor 103. Specifically, in the driving transistor 102, L is set larger than W, and more desirably 5/1 or more. Further, in the AC transistor 103, L is equal to or shorter than W. Accordingly, the current value flowing in the reverse direction when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104 is made larger than the current value flowing in the forward direction when a forward voltage is applied to the light emitting element 104 in the pixel. Can do.

ここで、スイッチング用トランジスタはリーク電流(オフ電流及びゲートリーク電流)の少ない構成とすることが望ましいといえる。なお、オフ電流とは、トランジスタがオフしているときにソースドレイン間に流れてしまう電流であり、ゲートリーク電流とは、ゲート絶縁膜を介してゲートとソースまたはドレイン間に電流が流れてしまう電流である。   Here, it can be said that the switching transistor preferably has a configuration with little leakage current (off-state current and gate leakage current). Note that the off-current is a current that flows between the source and the drain when the transistor is off, and the gate leakage current is a current that flows between the gate and the source or drain via the gate insulating film. Current.

よって、スイッチング用トランジスタ101に用いられるNチャネル型のトランジスタは、低濃度不純物領域(Lightly Doped Drain:LDD領域ともいう)を設けた構成とするのが好ましい。なぜなら、LDD領域を設けた構成のトランジスタはオフ電流を低減することができるからである。また、スイッチング用トランジスタ101は発光素子104に電流を流すときにオン電流を大きくする必要があるからである。   Therefore, the N-channel transistor used for the switching transistor 101 is preferably provided with a low concentration impurity region (also referred to as a lightly doped drain (LDD region)). This is because a transistor having a structure provided with an LDD region can reduce off-state current. In addition, the switching transistor 101 needs to have a large on-current when a current flows through the light-emitting element 104.

さらに好ましい形態としては、スイッチング用トランジスタ101にLDD領域を設け、LDD領域はゲート電極と重なる領域を設ける。すると、スイッチング用トランジスタ101はオン電流を大きくし、さらにホットエレクトロンの発生を低減することができる。よって、スイッチング用トランジスタ101は信頼性が向上する。   In a more preferable mode, the switching transistor 101 is provided with an LDD region, and the LDD region is provided with a region overlapping with the gate electrode. Then, the switching transistor 101 can increase the on-current and further reduce the generation of hot electrons. Therefore, the reliability of the switching transistor 101 is improved.

また、駆動用トランジスタ102もLDD領域を設け、LDD領域がゲート電極と重なる構造とすることで信頼性が向上する。   Further, the driving transistor 102 is also provided with an LDD region, and the LDD region overlaps with the gate electrode, whereby reliability is improved.

また、ゲート絶縁膜の膜厚を薄くすることでもオフ電流は低減することができる。よって、駆動用トランジスタ102の膜厚よりもスイッチング用トランジスタ101の膜厚を薄くする良い。   The off-state current can also be reduced by reducing the thickness of the gate insulating film. Therefore, the thickness of the switching transistor 101 is preferably smaller than the thickness of the driving transistor 102.

また、スイッチング用トランジスタ101をダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造のトランジスタとすることでゲートリーク電流を低減することができる。さらに、駆動用トランジスタ102においても、ダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造を採用することで、ゲートリーク電流を低減し、信頼性を向上させることができる。   Further, when the switching transistor 101 has a double gate structure or other multi-gate structure, gate leakage current can be reduced. Further, by adopting a double gate structure or other multi-gate structure in the driving transistor 102, the gate leakage current can be reduced and the reliability can be improved.

特にスイッチング用トランジスタ101にオフ電流が流れてしまうと、駆動用トランジスタ102のゲート容量は、書き込み期間に書き込まれた電圧を保持できなくなってしまう。従って、スイッチング用トランジスタ101において、LDD領域を設けたり、ゲート絶縁膜を薄くさせたり、マルチゲート構造とすることでオフ電流を低減すると良い。   In particular, when an off-state current flows through the switching transistor 101, the gate capacitance of the driving transistor 102 cannot hold the voltage written during the writing period. Therefore, the switching transistor 101 is preferably provided with an LDD region, a thin gate insulating film, or a multi-gate structure to reduce off-state current.

次に、図21の回路構成における動作について、図22を用いて説明する。   Next, the operation in the circuit configuration of FIG. 21 will be described with reference to FIG.

まず図22(A)の書き込み期間において、走査線Gが選択されると、走査線Gにゲート電極が接続されているスイッチング用トランジスタ101がオンの状態になる。そして、信号線Sに入力された映像信号の電位Vsigが、スイッチング用トランジスタ101を介して駆動用トランジスタ102のゲート電極に入力され、駆動用トランジスタ102のゲート容量によって、駆動用トランジスタ102のゲート電位が保持される。   First, in the writing period of FIG. 22A, when the scanning line G is selected, the switching transistor 101 whose gate electrode is connected to the scanning line G is turned on. Then, the potential Vsig of the video signal input to the signal line S is input to the gate electrode of the driving transistor 102 via the switching transistor 101, and the gate potential of the driving transistor 102 is driven by the gate capacitance of the driving transistor 102. Is retained.

また、電源線Vの電位Vss1は発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、それよりも低い(つまり、Vss≧Vss1を満たす)電位に設定されるため、発光素子104は発光されない。なお、電位Vssとしては、例えばGND(グラウンド電位)、0Vなどが印加されていても良い。また、設定されるVss1及びVssの電位差よって発光素子104に逆方向のバイアス電流が流れる。(ただし、Vss1とVssが同電位のときは流れない。)   In addition, since the potential Vss1 of the power supply line V is set to be equal to or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss1 is satisfied), the light emitting element 104 does not emit light. As the potential Vss, for example, GND (ground potential), 0 V, or the like may be applied. Further, a reverse bias current flows through the light emitting element 104 due to the potential difference between Vss1 and Vss that is set. (However, it does not flow when Vss1 and Vss are at the same potential.)

また、交流用トランジスタ103のゲート電極と接続される配線110の電位は、発光素子104の対向電極と接続されることにより、発光素子104の対向電極の電位Vssと同電位となるため、配線110の電位はVssとなり、電源線Vの電位Vss1と同じか、それよりも高い電位となる。   Further, the potential of the wiring 110 connected to the gate electrode of the AC transistor 103 becomes the same potential as the potential Vss of the counter electrode of the light-emitting element 104 by being connected to the counter electrode of the light-emitting element 104; Becomes Vss, which is equal to or higher than the potential Vss1 of the power supply line V.

よって、Vss1がVssよりも低い電位となる場合は、電源線Vと接続される交流用トランジスタ103の電極はソース電極となり、交流用トランジスタ103のソース電極の電位はゲート電極の電位よりも低い電位となるため、交流用トランジスタ103はオンの状態となり、発光素子104に逆方向のバイアス電流が流れる。また、Vss1とVssが同電位の場合、交流用トランジスタはオフの状態となり、発光素子104には電流は流れない。よって、Vss1はVssよりも低い電位であっても、またVssと同じ電位であっても、書き込み期間において、発光素子104は発光されない。   Therefore, when Vss1 is lower than Vss, the electrode of the AC transistor 103 connected to the power supply line V becomes a source electrode, and the potential of the source electrode of the AC transistor 103 is lower than the potential of the gate electrode. Therefore, the AC transistor 103 is turned on, and a reverse bias current flows through the light-emitting element 104. When Vss1 and Vss are at the same potential, the AC transistor is turned off and no current flows through the light-emitting element 104. Therefore, even if Vss1 is lower than Vss or the same potential as Vss, the light-emitting element 104 does not emit light in the writing period.

なお、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフになる場合についても、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行なわれないため、発光素子104は発光されない。   Note that although the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period has been described, the case where the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal is also in order of the light emitting element 104. Since the direction bias current is not supplied, the light emitting element 104 does not emit light.

次に図22(B)の表示期間では、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態にし、書き込み期間において書き込まれた映像信号の電位Vsigを駆動用トランジスタ102のゲート容量によって保持しているため、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。   Next, in the display period in FIG. 22B, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G, and the potential Vsig of the video signal written in the writing period is changed to the gate of the driving transistor 102. Since it is held by the capacitor, the driving transistor 102 is turned on.

また、電源線Vの電位Vdd1は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(つまり、Vdd1>Vssを満たす)電位に設定されるため、発光素子104へ順方向のバイアス電流が流れ、発光素子104は発光する。   In addition, since the potential Vdd1 of the power supply line V is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd1> Vss is satisfied), a forward bias current flows to the light emitting element 104 and light emission occurs. The element 104 emits light.

一方、電源線Vの電位Vdd1は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高く電位に設定されるため、交流用トランジスタ103のゲート電極と接続される配線110の電位Vssは、電源線Vの電位Vdd1よりも低い電位となる。また、電源線Vと接続される交流用トランジスタ103の電極はドレイン電極となり、交流用トランジスタ103のドレイン電極はゲート電極の電位よりも高い電位となるため、交流用トランジスタ103はオフの状態となる。   On the other hand, since the potential Vdd1 of the power supply line V is set higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104, the potential Vss of the wiring 110 connected to the gate electrode of the AC transistor 103 is The potential is lower than the potential Vdd1. Further, the electrode of the AC transistor 103 connected to the power supply line V becomes a drain electrode, and the drain electrode of the AC transistor 103 is higher in potential than the gate electrode, so that the AC transistor 103 is turned off. .

また、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフの状態になる場合、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行なわれないため、表示期間においても、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行われない。   Although the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period has been described, in the case where the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal, the order toward the light emitting element 104 is increased. Since the bias current in the direction is not supplied, the forward bias current is not supplied to the light emitting element 104 even in the display period.

次いで、図22(C)の逆方向バイアス期間(非点灯期間)において、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態する。   Next, in the reverse bias period (non-lighting period) in FIG. 22C, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G.

また、電源線Vの電位Vss1’を発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低い(つまり、Vss>Vss1’を満たす)電位に設定する。それにより、電源線Vと接続される交流用トランジスタ103の電極はソース電極となり、交流用トランジスタのゲート電極の電位はソース電極よりも高い電位となるため、交流用トランジスタ103はオンの状態となる。よって、発光素子104に逆方向の電圧が印加され、発光素子104、及び交流用トランジスタ103において、逆方向のバイアス電流が流れる。   Further, the potential Vss1 ′ of the power supply line V is set to a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss> Vss1 ′ is satisfied). Accordingly, the electrode of the AC transistor 103 connected to the power supply line V becomes a source electrode, and the potential of the gate electrode of the AC transistor is higher than that of the source electrode, so that the AC transistor 103 is turned on. . Accordingly, a reverse voltage is applied to the light emitting element 104, and a reverse bias current flows in the light emitting element 104 and the AC transistor 103.

なお、書き込み期間及び表示期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンの状態となる場合、逆バイアス期間においても、映像信号の電位Vsigをゲート容量が保持しているため、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。それにより、駆動用トランジスタ102に逆方向のバイアス電流が流れる。しかし、前述したように駆動用トランジスタ102のL/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくすることで、交流用トランジスタ103に流れる電流値に比べて、駆動用トランジスタ102に流れる電流値は小さくなる。勿論、書き込み期間及び表示期間において、駆動用トランジスタ102がオフの状態となる場合は、駆動用トランジスタ102に電流は供給されない。   Note that when the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period and the display period, the gate capacitance holds the potential Vsig of the video signal even in the reverse bias period. The transistor 102 is turned on. As a result, a reverse bias current flows through the driving transistor 102. However, as described above, the current flowing in the driving transistor 102 is made larger than the current value flowing in the AC transistor 103 by making the L / W of the driving transistor 102 larger than the L / W of the AC transistor 103. The value becomes smaller. Needless to say, current is not supplied to the driving transistor 102 when the driving transistor 102 is turned off in the writing period and the display period.

また、逆方向バイアス期間におけるVss1’とVssの電位差を、表示期間におけるVdd1とVssの電位差よりも大きくしてもよい。これにより、順方向のバイアス電流の電流値より、逆方向のバイアス電流の電流値を大きくし、逆方向バイアス期間においてさらに発光素子104に大電流を流すことができる。   Further, the potential difference between Vss1 'and Vss in the reverse bias period may be larger than the potential difference between Vdd1 and Vss in the display period. As a result, the current value of the reverse bias current can be made larger than the current value of the forward bias current, and a larger current can further flow through the light emitting element 104 during the reverse bias period.

また、本実施の形態では、電源線Vの電位を変動させて動作の説明を行ったが、これに限らない。例えば、発光素子104の対向電極の電位(つまり、交流用トランジスタ103のゲート電極と接続される配線110の電位)を変動させてもよいし、電源線Vの電位と発光素子104の対向電極の電位両方を変動させてもよい。   In this embodiment, the operation is described by changing the potential of the power supply line V. However, the present invention is not limited to this. For example, the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, the potential of the wiring 110 connected to the gate electrode of the AC transistor 103) may be changed, or the potential of the power supply line V and the counter electrode of the light emitting element 104 may be changed. Both potentials may be varied.

次に、図21に示した画素を用いてデジタル時間階調方式で駆動する方法は、図9、図10及び図23のタイミングチャートに従う。なお、実施の形態3で図9、図10及び図23の説明した内容と同様になるのでここでは説明を省略する。   Next, a method of driving by the digital time gray scale method using the pixel shown in FIG. 21 follows the timing charts of FIG. 9, FIG. 10, and FIG. In addition, since it becomes the same as the content demonstrated in FIG. 9, FIG.10 and FIG.23 in Embodiment 3, description is abbreviate | omitted here.

以上により、本発明の構成では、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   As described above, in the structure of the present invention, when a reverse voltage is applied, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be passed, and the lifetime of the light-emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

また、回路構成にあるトランジスタをN型トランジスタで作製することで、アモルファスシリコンのトランジスタを適用することができる。従って、既に確立されたアモルファスシリコンを用いたトランジスタの製造技術を適用することができるため、簡易かつ安価な製造プロセスで、動作特性が良好で安定した表示装置を得ることができる。   In addition, an amorphous silicon transistor can be used by manufacturing a transistor having a circuit structure as an N-type transistor. Therefore, since a transistor manufacturing technique using amorphous silicon that has already been established can be applied, a display device with favorable and stable operation characteristics can be obtained with a simple and inexpensive manufacturing process.

(実施の形態7)
(回路構成6)
本実施の形態においては、実施の形態1で述べた図1の回路構成とは別の構成について述べる。
(Embodiment 7)
(Circuit configuration 6)
In this embodiment mode, a configuration different from the circuit configuration in FIG. 1 described in Embodiment Mode 1 will be described.

図24に示す画素を構成する回路は、発光素子104と、映像信号の画素への入力を制御するためのスイッチング素子として用いるトランジスタ(スイッチング用トランジスタ101)と、発光素子104に流れる電流値を制御するトランジスタ(駆動用トランジスタ102)と、発光素子104に逆方向の電圧を印加する際、発光素子104に逆方向のバイアス電流を流すトランジスタ(第1の交流用トランジスタ107、第2の交流用トランジスタ108)とを有している。スイッチング用トランジスタ101、駆動用トランジスタ102、第1の交流用トランジスタ107、及び第2の交流用トランジスタ108は同じ極性を有し、本発明の特徴として、それらのトランジスタにN型のトランジスタを用いるものとする。さらに本実施の形態には容量素子を設けていないが、映像信号の電位を保持するための容量素子として設けても良い。   24 controls the light emitting element 104, a transistor used as a switching element for controlling input of a video signal to the pixel (switching transistor 101), and a current value flowing through the light emitting element 104. Transistor (driving transistor 102) and a transistor that applies a reverse bias current to the light emitting element 104 when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104 (first AC transistor 107, second AC transistor) 108). The switching transistor 101, the driving transistor 102, the first AC transistor 107, and the second AC transistor 108 have the same polarity, and as a feature of the present invention, N-type transistors are used as these transistors. And Further, although a capacitor is not provided in this embodiment, it may be provided as a capacitor for holding the potential of a video signal.

図24に示すように、スイッチング用トランジスタ101のゲート電極は、走査線Gに接続されている。また、スイッチング用トランジスタ101のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が信号線Sに、もう一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極に接続されている。そして、駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極の一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続されている。   As shown in FIG. 24, the gate electrode of the switching transistor 101 is connected to the scanning line G. One of the source electrode and the drain electrode of the switching transistor 101 is connected to the signal line S, and the other is connected to the gate electrode of the driving transistor 102. One of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor 102 is connected to the power supply line V, and the other is connected to the pixel electrode of the light emitting element 104.

また、本実施の形態では、第1の交流用トランジスタ107のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極に、もう一方が発光素子104の画素電極、及び駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極と接続されている。また、第1の交流用トランジスタ107のゲート電極は第2の電位制御線XLに接続される。さらに、第2の交流用トランジスタ108のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が第1の電位制御線WLに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続される。また、第2の交流用トランジスタ108のゲート電極は、発光素子104の画素電極と接続される第2の交流用トランジスタ108のソース電極もしくはドレイン電極に接続される。   In this embodiment mode, one of the source electrode and the drain electrode of the first AC transistor 107 is the gate electrode of the driving transistor 102, the other is the pixel electrode of the light-emitting element 104, and the driving transistor 102. It is connected to the source electrode or the drain electrode. The gate electrode of the first AC transistor 107 is connected to the second potential control line XL. Further, one of the source electrode and the drain electrode of the second AC transistor 108 is connected to the first potential control line WL and the other is connected to the pixel electrode of the light emitting element 104. The gate electrode of the second AC transistor 108 is connected to the source electrode or the drain electrode of the second AC transistor 108 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104.

また、スイッチング用トランジスタ101が非選択状態(オフの状態)にある時、駆動用トランジスタ102のゲート容量によって駆動用トランジスタ102のゲート電位が保持される。なお、図24では容量素子を設けず、駆動用トランジスタのゲート容量によってゲート電位を保持させる構成を示したが、本発明はこの構成に限定されず、容量素子を設けた構成にしても良い。   Further, when the switching transistor 101 is in a non-selected state (off state), the gate potential of the driving transistor 102 is held by the gate capacitance of the driving transistor 102. Note that although FIG. 24 illustrates a structure in which the gate potential is held by the gate capacitance of the driving transistor without providing the capacitor element, the present invention is not limited to this structure, and a capacitor element may be provided.

さらに、駆動用トランジスタ102のチャネル長Lとチャネル幅Wの比L/Wを、第2の交流用トランジスタ108のL/Wよりも大きしてもよい。具体的に駆動用トランジスタ102では、LをWより大きくし、より望ましくは5/1以上とする。また第2の交流用トランジスタ108では、LがWと同じかそれよりLが短くなるようにする。これにより、画素内の発光素子104に順方向の電圧を印加した際に順方向に流れる電流値より、発光素子104に逆方向の電圧を印加した際に逆方向に流れる電流値を大きくすることができる。   Further, the ratio L / W between the channel length L and the channel width W of the driving transistor 102 may be larger than L / W of the second AC transistor 108. Specifically, in the driving transistor 102, L is set larger than W, and more desirably 5/1 or more. Further, in the second AC transistor 108, L is equal to or shorter than W. Accordingly, the current value flowing in the reverse direction when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104 is made larger than the current value flowing in the forward direction when a forward voltage is applied to the light emitting element 104 in the pixel. Can do.

ここで、スイッチング用トランジスタはリーク電流(オフ電流及びゲートリーク電流)の少ない構成とすることが望ましいといえる。なお、オフ電流とは、トランジスタがオフしているときにソースドレイン間に流れてしまう電流であり、ゲートリーク電流とは、ゲート絶縁膜を介してゲートとソースまたはドレイン間に電流が流れてしまう電流である。   Here, it can be said that the switching transistor preferably has a configuration with little leakage current (off-state current and gate leakage current). Note that the off-current is a current that flows between the source and the drain when the transistor is off, and the gate leakage current is a current that flows between the gate and the source or drain via the gate insulating film. Current.

よって、スイッチング用トランジスタ101に用いられるNチャネル型のトランジスタは、低濃度不純物領域(Lightly Doped Drain:LDD領域ともいう)を設けた構成とするのが好ましい。なぜなら、LDD領域を設けた構成のトランジスタはオフ電流を低減することができるからである。また、スイッチング用トランジスタ101は発光素子104に電流を流すときにオン電流を大きくする必要があるからである。   Therefore, the N-channel transistor used for the switching transistor 101 is preferably provided with a low concentration impurity region (also referred to as a lightly doped drain (LDD region)). This is because a transistor having a structure provided with an LDD region can reduce off-state current. In addition, the switching transistor 101 needs to have a large on-current when a current flows through the light-emitting element 104.

さらに好ましい形態としては、スイッチング用トランジスタ101にLDD領域を設け、LDD領域はゲート電極と重なる領域を設ける。すると、スイッチング用トランジスタ101はオン電流を大きくし、さらにホットエレクトロンの発生を低減することができる。よって、スイッチング用トランジスタ101は信頼性が向上する。   In a more preferable mode, the switching transistor 101 is provided with an LDD region, and the LDD region is provided with a region overlapping with the gate electrode. Then, the switching transistor 101 can increase the on-current and further reduce the generation of hot electrons. Therefore, the reliability of the switching transistor 101 is improved.

また、駆動用トランジスタ102もLDD領域を設け、LDD領域がゲート電極と重なる構造とすることで信頼性が向上する。   Further, the driving transistor 102 is also provided with an LDD region, and the LDD region overlaps with the gate electrode, whereby reliability is improved.

また、ゲート絶縁膜の膜厚を薄くすることでもオフ電流は低減することができる。よって、駆動用トランジスタ102の膜厚よりもスイッチング用トランジスタ101の膜厚を薄くする良い。   The off-state current can also be reduced by reducing the thickness of the gate insulating film. Therefore, the thickness of the switching transistor 101 is preferably smaller than the thickness of the driving transistor 102.

また、スイッチング用トランジスタ101をダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造のトランジスタとすることでゲートリーク電流を低減することができる。さらに、駆動用トランジスタ102においても、ダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造を採用することで、ゲートリーク電流を低減し、信頼性を向上させることができる。   Further, when the switching transistor 101 has a double gate structure or other multi-gate structure, gate leakage current can be reduced. Further, by adopting a double gate structure or other multi-gate structure in the driving transistor 102, the gate leakage current can be reduced and the reliability can be improved.

特にスイッチング用トランジスタ101にオフ電流が流れてしまうと、駆動用トランジスタ102のゲート容量は、書き込み期間に書き込まれた電圧を保持できなくなってしまう。従って、スイッチング用トランジスタ101において、LDD領域を設けたり、ゲート絶縁膜を薄くさせたり、マルチゲート構造とすることでオフ電流を低減すると良い。   In particular, when an off-state current flows through the switching transistor 101, the gate capacitance of the driving transistor 102 cannot hold the voltage written during the writing period. Therefore, the switching transistor 101 is preferably provided with an LDD region, a thin gate insulating film, or a multi-gate structure to reduce off-state current.

次に、図24の回路構成における動作について、図25を用いて説明する。   Next, the operation in the circuit configuration of FIG. 24 will be described with reference to FIG.

まず図25(A)の書き込み期間において、走査線Gが選択されると、走査線Gにゲート電極が接続されているスイッチング用トランジスタ101がオンの状態になる。そして、信号線Sに入力された映像信号の電位Vsigが、スイッチング用トランジスタ101を介して駆動用トランジスタ102のゲート電極に入力され、駆動用トランジスタ102のゲート容量によってゲート電位が保持される。   First, in the writing period in FIG. 25A, when the scanning line G is selected, the switching transistor 101 whose gate electrode is connected to the scanning line G is turned on. Then, the potential Vsig of the video signal input to the signal line S is input to the gate electrode of the driving transistor 102 via the switching transistor 101, and the gate potential is held by the gate capacitance of the driving transistor 102.

また、電源線Vの電位Vss1は発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、それよりも低い(つまり、Vss≧Vss1を満たす)電位に設定されるため、発光素子104は発光されない。なお、電位Vssとしては、例えばGND(グラウンド電位)、0Vなどが印加されていても良い。また、設定されるVss1及びVssの電位差よって発光素子104に逆方向のバイアス電流が流れる。(ただし、Vss1とVssが同電位のときは流れない。)   In addition, since the potential Vss1 of the power supply line V is set to be equal to or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss1 is satisfied), the light emitting element 104 does not emit light. As the potential Vss, for example, GND (ground potential), 0 V, or the like may be applied. Further, a reverse bias current flows through the light emitting element 104 due to the potential difference between Vss1 and Vss that is set. (However, it does not flow when Vss1 and Vss are at the same potential.)

一方、この書き込み期間において、第2の電位制御線XLの電位Vss3は、第1の交流用トランジスタ107がオフの状態となるように低く設定される。また、第1の電位制御線WLの電位Vdd2は、発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(つまり、Vdd2>Vssを満たす)電位に設定されるため、第1の電位制御線WLと接続される第2の交流用トランジスタ108の電極はドレイン電極となり、発光素子104の画素電極と接続される第2の交流用トランジスタ108の電極はソース電極となる。さらに、該ソース電極と、第2の交流用トランジスタ108のゲート電極とが接続されるため、第2の交流用トランジスタ108はオフの状態となる。   On the other hand, in this writing period, the potential Vss3 of the second potential control line XL is set low so that the first AC transistor 107 is turned off. Further, since the potential Vdd2 of the first potential control line WL is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd2> Vss is satisfied), the first potential control line WL The electrode of the second AC transistor 108 connected is a drain electrode, and the electrode of the second AC transistor 108 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104 is a source electrode. Further, since the source electrode and the gate electrode of the second AC transistor 108 are connected, the second AC transistor 108 is turned off.

なお、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフになる場合についても、発光素子104への電流の供給は行なわれないため、発光素子104は発光されない。   Note that the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period has been described; however, the current to the light-emitting element 104 is also applied when the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal. Therefore, the light emitting element 104 does not emit light.

次に図25(B)の表示期間では、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態にする。また、書き込み期間において書き込まれた映像信号の電位Vsigを駆動用トランジスタ102のゲート容量によって保持しているため、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。また、電源線Vの電位Vdd1は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(つまり、Vdd1>Vssを満たす)電位に設定されるため、発光素子104へ順方向のバイアス電流が流れ、発光素子104は発光する。   Next, in the display period of FIG. 25B, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G. In addition, since the potential Vsig of the video signal written in the writing period is held by the gate capacitance of the driving transistor 102, the driving transistor 102 is turned on. In addition, since the potential Vdd1 of the power supply line V is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd1> Vss is satisfied), a forward bias current flows to the light emitting element 104 and light emission occurs. The element 104 emits light.

一方、書き込み期間と同様に、第2の電位制御線XLの電位Vss3は、第1の交流用トランジスタ107がオフの状態となるように低く設定される。また、第1の電位制御線WLの電位Vdd2は、発光素子104の対向電極の電位よりも高い(つまり、Vdd2>Vssを満たす)電位に設定されるため、第1の電位制御線WLと接続される第2の交流用トランジスタ108の電極はドレイン電極となり、発光素子104の画素電極と接続される第2の交流用トランジスタ108の電極はソース電極となる。さらに、該ソース電極と、第2の交流用トランジスタ108のゲート電極とが接続されるため、表示期間においても、第2の交流用トランジスタ108はオフの状態となる。   On the other hand, as in the writing period, the potential Vss3 of the second potential control line XL is set low so that the first AC transistor 107 is turned off. In addition, the potential Vdd2 of the first potential control line WL is set to a potential higher than the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd2> Vss is satisfied), and thus connected to the first potential control line WL. The electrode of the second AC transistor 108 is a drain electrode, and the electrode of the second AC transistor 108 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104 is a source electrode. Further, since the source electrode and the gate electrode of the second AC transistor 108 are connected to each other, the second AC transistor 108 is turned off even in the display period.

また、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフの状態になる場合、発光素子104への電流の供給は行なわれないため、表示期間においても、発光素子104への電流の供給は行われない。   In the writing period, the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal has been described; however, when the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal, the current to the light-emitting element 104 is Therefore, no current is supplied to the light-emitting element 104 even during the display period.

次いで、図25(C)の逆方向バイアス期間(非点灯期間)において、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態にする。   Next, in the reverse bias period (non-lighting period) in FIG. 25C, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G.

また、電源線Vの電位Vss1’を発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低い(つまり、Vss>Vss1’を満たすように)電位に設定する。その状態で、駆動用トランジスタ102がオンとなる場合において、電源線Vと接続される駆動用トランジスタ102の電極はソース電極となり、発光素子104の画素電極と接続される駆動用トランジスタ102の電極はドレイン電極となる。   Further, the potential Vss1 'of the power supply line V is set to a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, so as to satisfy Vss> Vss1'). In that state, when the driving transistor 102 is turned on, the electrode of the driving transistor 102 connected to the power supply line V becomes a source electrode, and the electrode of the driving transistor 102 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104 becomes It becomes a drain electrode.

さらに、第2の電位制御線XLの電位Vdd3を第1の交流用トランジスタ107がオンの状態となるように高く設定する。それにより、駆動用トランジスタ102のゲート電極とドレイン電極とが同電位となり、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。   Further, the potential Vdd3 of the second potential control line XL is set high so that the first AC transistor 107 is turned on. Accordingly, the gate electrode and the drain electrode of the driving transistor 102 have the same potential, and the driving transistor 102 is turned on.

また、第1の電位制御線WLの電位Vss2を発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低い(つまり、Vss>Vss2を満たすように)電位に設定することにより、第1の電位制御線WLと接続される第2の交流用トランジスタ108の電極はソース電極となり、発光素子104の画素電極と接続される電極はドレイン電極となる。さらに、該ドレイン電極と第2の交流用トランジスタ108のゲート電極とが接続されるため、第2の交流用トランジスタ108はオンの状態となる。   Further, by setting the potential Vss2 of the first potential control line WL to a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, so as to satisfy Vss> Vss2), the first potential control line WL is set. The electrode of the second AC transistor 108 connected to is a source electrode, and the electrode connected to the pixel electrode of the light-emitting element 104 is a drain electrode. Further, since the drain electrode and the gate electrode of the second AC transistor 108 are connected, the second AC transistor 108 is turned on.

よって、二つの交流用トランジスタにより、発光素子104に逆方向の電圧が印加され、発光素子104、駆動用トランジスタ102及び第2の交流用トランジスタ108において、逆方向のバイアス電流が流れる。   Therefore, a reverse voltage is applied to the light emitting element 104 by the two AC transistors, and a reverse bias current flows in the light emitting element 104, the driving transistor 102, and the second AC transistor 108.

なお、前述したように駆動用トランジスタ102のL/Wを、第2の交流用トランジスタ108のL/Wよりも大きくすることで、第2の交流用トランジスタ108に流れる電流を駆動用トランジスタ102に流れる電流に比べて大きくすることができる。つまり、順方向のバイアス電流の電流値より、逆方向のバイアス電流の電流値が大きくなり、逆方向バイアス期間において発光素子104に大きな電流を流すことができる。   Note that, as described above, the current flowing through the second AC transistor 108 is supplied to the driving transistor 102 by making the L / W of the driving transistor 102 larger than the L / W of the second AC transistor 108. It can be made larger than the flowing current. That is, the current value of the reverse bias current is larger than the current value of the forward bias current, and a large current can flow through the light emitting element 104 during the reverse bias period.

また、逆方向バイアス期間におけるVss1’とVssの電位差を、表示期間におけるVdd1とVssの電位差よりも大きくしてもよい。これにより、順方向のバイアス電流の電流値より逆方向のバイアス電流の電流値が大きくなり、逆方向バイアス期間において発光素子104に大電流を流すことができる。   Further, the potential difference between Vss1 'and Vss in the reverse bias period may be larger than the potential difference between Vdd1 and Vss in the display period. Accordingly, the current value of the reverse bias current becomes larger than the current value of the forward bias current, and a large current can be passed through the light emitting element 104 during the reverse bias period.

なお、本実施の形態では、発光素子104の対向電極の電位を固定電位としたが、これに限らない。例えば、発光素子104の対向電極の電位を変動させてもよいし、電源線Vの電位と発光素子104の対向電極の電位両方を変動させてもよい。   Note that although the potential of the counter electrode of the light-emitting element 104 is a fixed potential in this embodiment mode, the present invention is not limited to this. For example, the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 may be changed, or both the potential of the power supply line V and the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 may be changed.

次に、図24に示した画素を用いてデジタル時間階調方式で駆動する方法は、図9、図10及び図23のタイミングチャートに従う。なお、実施の形態3で図9、図10及び図23の説明した内容と同様になるのでここでは説明を省略する。   Next, the method of driving in the digital time gray scale method using the pixels shown in FIG. 24 follows the timing charts of FIGS. In addition, since it becomes the same as the content demonstrated in FIG. 9, FIG.10 and FIG.23 in Embodiment 3, description is abbreviate | omitted here.

以上により、本発明の構成では、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   As described above, in the structure of the present invention, when a reverse voltage is applied, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be passed, and the lifetime of the light-emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

また、回路構成にあるトランジスタをN型トランジスタで作製することで、アモルファスシリコンのトランジスタを適用することができる。従って、既に確立されたアモルファスシリコンを用いたトランジスタの製造技術を適用することができるため、簡易かつ安価な製造プロセスで、動作特性が良好で安定した表示装置を得ることができる。   In addition, an amorphous silicon transistor can be used by manufacturing a transistor having a circuit structure as an N-type transistor. Therefore, since a transistor manufacturing technique using amorphous silicon that has already been established can be applied, a display device with favorable and stable operation characteristics can be obtained with a simple and inexpensive manufacturing process.

(実施の形態8)
(回路構成7)
本実施の形態においては、実施の形態1で述べた図1の回路構成とは別の構成について述べる。
(Embodiment 8)
(Circuit configuration 7)
In this embodiment mode, a configuration different from the circuit configuration in FIG. 1 described in Embodiment Mode 1 will be described.

図26に示す画素を構成する回路は、発光素子104と、映像信号の画素への入力を制御するためのスイッチング素子として用いるトランジスタ(スイッチング用トランジスタ101)と、発光素子104に流れる電流値を制御するトランジスタ(駆動用トランジスタ102)と、発光素子104に逆方向の電圧を印加する際、発光素子104に逆方向のバイアス電流を流すトランジスタ(交流用トランジスタ103)とを有している。スイッチング用トランジスタ101、駆動用トランジスタ102及び交流用トランジスタ103は同じ極性を有し、本発明の特徴として、それらのトランジスタにN型のトランジスタを用いるものとする。さらに本実施の形態には容量素子を設けていないが、映像信号の電位を保持するための容量素子として設けても良い。   26 controls the light-emitting element 104, a transistor used as a switching element for controlling input of a video signal to the pixel (switching transistor 101), and a current value flowing through the light-emitting element 104. And a transistor (alternating current transistor 103) that applies a reverse bias current to the light emitting element 104 when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104. The switching transistor 101, the driving transistor 102, and the AC transistor 103 have the same polarity. As a feature of the present invention, N-type transistors are used as these transistors. Further, although a capacitor is not provided in this embodiment, it may be provided as a capacitor for holding the potential of a video signal.

図26に示すように、スイッチング用トランジスタ101のゲート電極は、走査線Gに接続されている。また、スイッチング用トランジスタ101のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が信号線Sに、もう一方が駆動用トランジスタ102のゲート電極に接続されている。そして、駆動用トランジスタ102のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続されている。   As shown in FIG. 26, the gate electrode of the switching transistor 101 is connected to the scanning line G. One of the source electrode and the drain electrode of the switching transistor 101 is connected to the signal line S, and the other is connected to the gate electrode of the driving transistor 102. One of the source electrode and the drain electrode of the driving transistor 102 is connected to the power supply line V, and the other is connected to the pixel electrode of the light emitting element 104.

また、本実施の形態では、交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極は、一方が電源線Vに、もう一方が発光素子104の画素電極に接続される。また、交流用トランジスタ103のゲート電極は、発光素子104の画素電極と接続される交流用トランジスタ103のソース電極もしくはドレイン電極と接続される。   In this embodiment mode, one of the source electrode and the drain electrode of the AC transistor 103 is connected to the power supply line V and the other is connected to the pixel electrode of the light-emitting element 104. The gate electrode of the AC transistor 103 is connected to the source electrode or the drain electrode of the AC transistor 103 connected to the pixel electrode of the light emitting element 104.

また、スイッチング用トランジスタ101が非選択状態(オフの状態)にある時、駆動用トランジスタ102のゲート容量によって駆動用トランジスタ102のゲート電位が保持される。なお、図26では容量素子を設けず、駆動用トランジスタのゲート容量によってゲート電位を保持させる構成を示したが、本発明はこの構成に限定されず、容量素子を設けた構成にしても良い。   Further, when the switching transistor 101 is in a non-selected state (off state), the gate potential of the driving transistor 102 is held by the gate capacitance of the driving transistor 102. Note that FIG. 26 illustrates a structure in which the gate potential is held by the gate capacitance of the driving transistor without providing a capacitor, but the present invention is not limited to this structure, and a capacitor may be provided.

さらに本実施の形態では、駆動用トランジスタ102のチャネル長Lとチャネル幅Wの比L/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくする。具体的に駆動用トランジスタ102では、LをWより大きくし、より望ましくは5/1以上とする。また交流用トランジスタ103では、LがWと同じかそれよりLが短くなるようにする。これにより、画素内の発光素子104に順方向の電圧を印加した際に順方向に流れる電流値より、発光素子104に逆方向の電圧を印加した際に逆方向に流れる電流値を大きくすることができる。   Further, in this embodiment, the ratio L / W between the channel length L and the channel width W of the driving transistor 102 is set larger than that of the AC transistor 103. Specifically, in the driving transistor 102, L is set larger than W, and more desirably 5/1 or more. Further, in the AC transistor 103, L is equal to or shorter than W. Accordingly, the current value flowing in the reverse direction when a reverse voltage is applied to the light emitting element 104 is made larger than the current value flowing in the forward direction when a forward voltage is applied to the light emitting element 104 in the pixel. Can do.

ここで、スイッチング用トランジスタはリーク電流(オフ電流及びゲートリーク電流)の少ない構成とすることが望ましいといえる。なお、オフ電流とは、トランジスタがオフしているときにソースドレイン間に流れてしまう電流であり、ゲートリーク電流とは、ゲート絶縁膜を介してゲートとソースまたはドレイン間に電流が流れてしまう電流である。   Here, it can be said that the switching transistor preferably has a configuration with little leakage current (off-state current and gate leakage current). Note that the off-current is a current that flows between the source and the drain when the transistor is off, and the gate leakage current is a current that flows between the gate and the source or drain via the gate insulating film. Current.

よって、スイッチング用トランジスタ101に用いられるNチャネル型のトランジスタは、低濃度不純物領域(Lightly Doped Drain:LDD領域ともいう)を設けた構成とするのが好ましい。なぜなら、LDD領域を設けた構成のトランジスタはオフ電流を低減することができるからである。また、スイッチング用トランジスタ101は発光素子104に電流を流すときにオン電流を大きくする必要があるからである。   Therefore, the N-channel transistor used for the switching transistor 101 is preferably provided with a low concentration impurity region (also referred to as a lightly doped drain (LDD region)). This is because a transistor having a structure provided with an LDD region can reduce off-state current. In addition, the switching transistor 101 needs to have a large on-current when a current flows through the light-emitting element 104.

さらに好ましい形態としては、スイッチング用トランジスタ101にLDD領域を設け、LDD領域はゲート電極と重なる領域を設ける。すると、スイッチング用トランジスタ101はオン電流を大きくし、さらにホットエレクトロンの発生を低減することができる。よって、スイッチング用トランジスタ101は信頼性が向上する。   In a more preferable mode, the switching transistor 101 is provided with an LDD region, and the LDD region is provided with a region overlapping with the gate electrode. Then, the switching transistor 101 can increase the on-current and further reduce the generation of hot electrons. Therefore, the reliability of the switching transistor 101 is improved.

また、駆動用トランジスタ102もLDD領域を設け、LDD領域がゲート電極と重なる構造とすることで信頼性が向上する。   Further, the driving transistor 102 is also provided with an LDD region, and the LDD region overlaps with the gate electrode, whereby reliability is improved.

また、ゲート絶縁膜の膜厚を薄くすることでもオフ電流は低減することができる。よって、駆動用トランジスタ102の膜厚よりもスイッチング用トランジスタ101の膜厚を薄くする良い。   The off-state current can also be reduced by reducing the thickness of the gate insulating film. Therefore, the thickness of the switching transistor 101 is preferably smaller than the thickness of the driving transistor 102.

また、スイッチング用トランジスタ101をダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造のトランジスタとすることでゲートリーク電流を低減することができる。さらに、駆動用トランジスタ102においても、ダブルゲート構造やその他のマルチゲート構造を採用することで、ゲートリーク電流を低減し、信頼性を向上させることができる。   Further, when the switching transistor 101 has a double gate structure or other multi-gate structure, gate leakage current can be reduced. Further, by adopting a double gate structure or other multi-gate structure in the driving transistor 102, the gate leakage current can be reduced and the reliability can be improved.

特にスイッチング用トランジスタ101にオフ電流が流れてしまうと、駆動用トランジスタ102のゲート容量は、書き込み期間に書き込まれた電圧を保持できなくなってしまう。従って、スイッチング用トランジスタ101において、LDD領域を設けたり、ゲート絶縁膜を薄くさせたり、マルチゲート構造とすることでオフ電流を低減すると良い。   In particular, when an off-state current flows through the switching transistor 101, the gate capacitance of the driving transistor 102 cannot hold the voltage written during the writing period. Therefore, the switching transistor 101 is preferably provided with an LDD region, a thin gate insulating film, or a multi-gate structure to reduce off-state current.

次に、図26の回路構成における動作について、図27を用いて説明する。   Next, the operation in the circuit configuration of FIG. 26 will be described with reference to FIG.

まず図27(A)の書き込み期間において、走査線Gが選択されると、走査線Gにゲート電極が接続されているスイッチング用トランジスタ101がオンの状態になる。そして、信号線Sに入力された映像信号の電位Vsigが、スイッチング用トランジスタ101を介して駆動用トランジスタ102のゲート電極に入力され、駆動用トランジスタ102のゲート容量によってゲート電位が保持される。   First, in the writing period in FIG. 27A, when the scanning line G is selected, the switching transistor 101 whose gate electrode is connected to the scanning line G is turned on. Then, the potential Vsig of the video signal input to the signal line S is input to the gate electrode of the driving transistor 102 via the switching transistor 101, and the gate potential is held by the gate capacitance of the driving transistor 102.

また、電源線Vの電位Vss1は発光素子104の対向電極の電位Vssと同じか、もしくはそれよりも低い(つまり、Vss≧Vss1を満たす)電位に設定されるため、発光素子104は発光されない。なお、電位Vssとしては、例えばGND(グラウンド電位)、0Vなどが印加されていても良い。また、設定されるVss1及びVssの電位差よって発光素子104に逆方向のバイアス電流が流れる。(ただし、Vss1とVssが同電位のときは流れない。)   Further, since the potential Vss1 of the power supply line V is set to a potential that is the same as or lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss ≧ Vss1 is satisfied), the light emitting element 104 does not emit light. As the potential Vss, for example, GND (ground potential), 0 V, or the like may be applied. Further, a reverse bias current flows through the light emitting element 104 due to the potential difference between Vss1 and Vss that is set. (However, it does not flow when Vss1 and Vss are at the same potential.)

一方、この書き込み期間において、電源線Vの電位Vss1は、発光素子104の対向電極の電位と同じか、それよりも低く設定されるため、Vss1とVssが同電位の場合、交流用トランジスタ103はオフの状態となり、発光素子104には電流は流れない。また、Vss1がVssよりも低い電位となる場合は、電源線Vと接続される交流用トランジスタ103の電極はソース電極となり、発光素子104の画素電極と接続される電極はドレイン電極となる。さらに、該ソース電極と、交流用トランジスタ103のゲート電極とが接続されるため、交流用トランジスタ103はオンの状態となり、発光素子104に逆方向のバイアス電流が流れる。よって、Vss1はVssと同じ電位であっても、またVssよりも低い電位であっても、逆方向バイアス期間において、発光素子104は発光されない。   On the other hand, in this writing period, the potential Vss1 of the power supply line V is set to be the same as or lower than the potential of the counter electrode of the light emitting element 104. Therefore, when Vss1 and Vss are the same potential, the AC transistor 103 is The light-emitting element 104 is turned off and no current flows. When Vss1 is lower than Vss, the electrode of the AC transistor 103 connected to the power supply line V is a source electrode, and the electrode connected to the pixel electrode of the light-emitting element 104 is a drain electrode. Further, since the source electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned on, and a reverse bias current flows through the light-emitting element 104. Therefore, even if Vss1 is the same potential as Vss or lower than Vss, the light-emitting element 104 does not emit light in the reverse bias period.

なお、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフになる場合についても、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行なわれないため、発光素子104は発光されない。   Note that although the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period has been described, the case where the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal is also in order of the light emitting element 104. Since the direction bias current is not supplied, the light emitting element 104 does not emit light.

次に図27(B)の表示期間では、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態する。そして、書き込み期間において書き込まれた映像信号の電位Vsigを駆動用トランジスタ102のゲート容量によって保持しているため、駆動用トランジスタ102はオンの状態となる。   Next, in the display period of FIG. 27B, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G. Then, since the potential Vsig of the video signal written in the writing period is held by the gate capacitance of the driving transistor 102, the driving transistor 102 is turned on.

また、電源線Vの電位Vdd1は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高い(つまり、Vdd1>Vssを満たす)電位に設定されるため、発光素子104へ順方向のバイアス電流が流れ、発光素子104は発光する。   In addition, since the potential Vdd1 of the power supply line V is set to a potential higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vdd1> Vss is satisfied), a forward bias current flows to the light emitting element 104 and light emission occurs. The element 104 emits light.

一方、電源線Vの電位Vdd1は発光素子104の対向電極の電位Vssよりも高く設定されるため、電源線Vと接続される交流用トランジスタ103の電極はドレイン電極となり、発光素子104の画素電極と接続される電極はソース電極となる。さらに、該ソース電極と交流用トランジスタ103のゲート電極とが接続されるため、交流用トランジスタ103はオフの状態となる。   On the other hand, since the potential Vdd1 of the power supply line V is set higher than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104, the electrode of the AC transistor 103 connected to the power supply line V becomes a drain electrode, and the pixel electrode of the light emitting element 104 The electrode connected to becomes a source electrode. Further, since the source electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned off.

なお、書き込み期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンになる場合について説明したが、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオフの状態になる場合、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行なわれないため、表示期間においても、発光素子104への順方向のバイアス電流の供給は行われない。   Note that the case where the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period has been described; however, when the driving transistor 102 is turned off by the potential Vsig of the video signal, the order toward the light-emitting element 104 is increased. Since the bias current in the direction is not supplied, the forward bias current is not supplied to the light emitting element 104 even in the display period.

次いで、図27(C)の逆方向バイアス期間(非点灯期間)において、走査線Gの電位を制御することでスイッチング用トランジスタ101をオフの状態する。   Next, in the reverse bias period (non-lighting period) in FIG. 27C, the switching transistor 101 is turned off by controlling the potential of the scanning line G.

また、電源線Vの電位Vss1’を発光素子104の対向電極の電位Vssよりも低い(つまり、Vss>Vss1’を満たす)電位に設定する。それにより、電源線Vと接続される交流用トランジスタ103の電極はソース電極となり、発光素子104の画素電極と接続される電極はドレイン電極となる。さらに、該ドレイン電極と交流用トランジスタ103のゲート電極とが接続されるため、交流用トランジスタ103はオンの状態となる。これにより、発光素子104に逆方向の電圧が印加され、発光素子104、及び交流用トランジスタ103において、逆方向のバイアス電流が流れる。   Further, the potential Vss1 ′ of the power supply line V is set to a potential lower than the potential Vss of the counter electrode of the light emitting element 104 (that is, Vss> Vss1 ′ is satisfied). Accordingly, the electrode of the AC transistor 103 connected to the power supply line V becomes a source electrode, and the electrode connected to the pixel electrode of the light emitting element 104 becomes a drain electrode. Further, since the drain electrode and the gate electrode of the AC transistor 103 are connected, the AC transistor 103 is turned on. Thus, a reverse voltage is applied to the light emitting element 104, and a reverse bias current flows in the light emitting element 104 and the AC transistor 103.

なお、書き込み期間及び表示期間において、映像信号の電位Vsigにより駆動用トランジスタ102がオンの状態となる場合、逆バイアス期間においても、映像信号の電位Vsigをゲート容量が保持しているため、駆動用トランジスタはオンの状態となる。それにより、駆動用トランジスタ102に逆方向のバイアス電流が流れる。しかし、前述したように駆動用トランジスタ102のL/Wを、交流用トランジスタ103のL/Wよりも大きくすることで、交流用トランジスタ103に流れる電流値に比べて、駆動用トランジスタ102に流れる電流値は小さくなる。勿論、書き込み期間及び表示期間において、駆動用トランジスタ102がオフの状態となる場合は、駆動用トランジスタ102に電流は供給されない。   Note that when the driving transistor 102 is turned on by the potential Vsig of the video signal in the writing period and the display period, the gate capacitance holds the potential Vsig of the video signal even in the reverse bias period. The transistor is turned on. As a result, a reverse bias current flows through the driving transistor 102. However, as described above, the current flowing in the driving transistor 102 is made larger than the current value flowing in the AC transistor 103 by making the L / W of the driving transistor 102 larger than the L / W of the AC transistor 103. The value becomes smaller. Needless to say, current is not supplied to the driving transistor 102 when the driving transistor 102 is turned off in the writing period and the display period.

また、逆方向バイアス期間におけるVss1’とVssの電位差を、表示期間におけるVdd1とVssの電位差よりも大きくしてもよい。これにより、順方向のバイアス電流の電流値より、逆方向のバイアス電流の電流値を大きくし、逆方向バイアス期間においてさらに発光素子104に大電流を流すことができる。   Further, the potential difference between Vss1 'and Vss in the reverse bias period may be larger than the potential difference between Vdd1 and Vss in the display period. As a result, the current value of the reverse bias current can be made larger than the current value of the forward bias current, and a larger current can further flow through the light emitting element 104 during the reverse bias period.

なお、本実施の形態では、発光素子104の対向電極の電位を固定電位としたが、これに限らない。例えば、発光素子104の対向電極の電位を変動させてもよいし、電源線Vの電位と発光素子104の対向電極の電位両方を変動させてもよい。   Note that although the potential of the counter electrode of the light-emitting element 104 is a fixed potential in this embodiment mode, the present invention is not limited to this. For example, the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 may be changed, or both the potential of the power supply line V and the potential of the counter electrode of the light emitting element 104 may be changed.

次に、図26に示した画素を用いてデジタル時間階調方式で駆動する方法は、図9、図10及び図23のタイミングチャートに従う。なお、実施の形態3で図9、図10及び図23の説明した内容と同様になるのでここでは説明を省略する。   Next, the method of driving in the digital time gray scale method using the pixels shown in FIG. 26 follows the timing charts of FIGS. In addition, since it becomes the same as the content demonstrated in FIG. 9, FIG.10 and FIG.23 in Embodiment 3, description is abbreviate | omitted here.

以上により、本発明の構成では、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   As described above, in the structure of the present invention, when a reverse voltage is applied, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be passed, and the lifetime of the light-emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

また、回路構成にあるトランジスタをN型トランジスタで作製することで、アモルファスシリコンのトランジスタを適用することができる。従って、既に確立されたアモルファスシリコンを用いたトランジスタの製造技術を適用することができるため、簡易かつ安価な製造プロセスで、動作特性が良好で安定した表示装置を得ることができる。   In addition, an amorphous silicon transistor can be used by manufacturing a transistor having a circuit structure as an N-type transistor. Therefore, since a transistor manufacturing technique using amorphous silicon that has already been established can be applied, a display device with favorable and stable operation characteristics can be obtained with a simple and inexpensive manufacturing process.

以下に、本発明の実施例について説明する。   Examples of the present invention will be described below.

デジタル時間階調方式でディスプレイを駆動するための信号を、ディスプレイの信号線駆動回路及び走査線駆動回路に入力する回路について、図37を用いて説明する。   A circuit for inputting a signal for driving the display in the digital time gray scale method to the signal line driver circuit and the scanning line driver circuit of the display will be described with reference to FIG.

本実施例では、4ビットのデジタル映像信号を表示装置に入力して、画像を表示する表示装置を例に説明する。ただし、本発明は4ビットに限定されるものではない。   In this embodiment, a display device that displays an image by inputting a 4-bit digital video signal to the display device will be described as an example. However, the present invention is not limited to 4 bits.

信号制御回路601にデジタル映像信号が読み込まれ、ディスプレイ600にデジタル映像信号VDを出力する。   The digital video signal is read into the signal control circuit 601 and the digital video signal VD is output to the display 600.

また、本実施例では、信号制御回路601においてデジタル映像信号を編集し、ディスプレイに入力する信号に変換したものを、デジタル映像信号VDと呼ぶ。   In the present embodiment, the digital video signal edited by the signal control circuit 601 and converted into a signal input to the display is called a digital video signal VD.

ディスプレイ600の、信号線駆動回路607及び走査線駆動回路608を駆動するための信号および駆動電圧は、ディスプレイコントローラ602によって入力されている。   Signals and driving voltages for driving the signal line driving circuit 607 and the scanning line driving circuit 608 of the display 600 are input by the display controller 602.

信号制御回路601及びディスプレイコントローラ602の構成について説明する。   The configurations of the signal control circuit 601 and the display controller 602 will be described.

なお、ディスプレイ600の信号線駆動回路607は、シフトレジスタ610、LAT(A)611、LAT(B)612によって構成される。他に、図示していないが、レベルシフタやバッファ等を設けてもよい。また、本発明はこのような構成に限定するものではない。なお、609は画素部である。   Note that the signal line driver circuit 607 of the display 600 includes a shift register 610, a LAT (A) 611, and a LAT (B) 612. In addition, although not shown, a level shifter, a buffer, or the like may be provided. The present invention is not limited to such a configuration. Reference numeral 609 denotes a pixel portion.

信号制御回路601は、CPU604、メモリA605、メモリB606及びメモリコントローラ603によって構成されている。   The signal control circuit 601 includes a CPU 604, a memory A 605, a memory B 606, and a memory controller 603.

信号制御回路601に入力されたデジタル映像信号は、メモリコントローラ603によって制御され、スイッチを介してメモリA605に入力される。ここで、メモリA605は、ディスプレイ600の全画素分のデジタル映像信号を、記憶可能な容量を有する。メモリA605に1フレーム期間分の信号が記憶されると、メモリコントローラ603によって、各ビットの信号が順に読み出され、デジタル映像信号VDとして、信号線駆動回路607に入力される。   The digital video signal input to the signal control circuit 601 is controlled by the memory controller 603 and input to the memory A 605 via a switch. Here, the memory A 605 has a capacity capable of storing digital video signals for all the pixels of the display 600. When a signal for one frame period is stored in the memory A605, the signal of each bit is sequentially read out by the memory controller 603 and input to the signal line driver circuit 607 as a digital video signal VD.

メモリA605に記憶された信号の読み出しが始まると、今度は、メモリB606にメモリコントローラ603を介して次のフレーム期間に対応するデジタル映像信号が入力され、記憶され始める。メモリB606もメモリA605と同様に、表示装置の全画素分のデジタル映像信号を記憶可能な容量を有するとする。   When reading of the signal stored in the memory A 605 starts, a digital video signal corresponding to the next frame period is input to the memory B 606 via the memory controller 603 and stored. Similarly to the memory A605, the memory B606 has a capacity capable of storing digital video signals for all the pixels of the display device.

このように、信号制御回路601は、それぞれ1フレーム期間分ずつのデジタル映像信号を記憶することができるメモリA605及びメモリB606を有し、このメモリA605とメモリB606とを交互に用いて、デジタル映像信号VDをサンプリングする。   As described above, the signal control circuit 601 includes the memory A 605 and the memory B 606 capable of storing digital video signals for one frame period, and uses the memory A 605 and the memory B 606 alternately to generate digital video signals. The signal VD is sampled.

ここでは、2つのメモリA605及びメモリB606を、交互に用いて信号を記憶する信号制御回路601について示したが、一般に、表示装置は複数フレーム分の情報を記憶することができるメモリを複数有し、これらのメモリを交互に用いることができる。   Here, the signal control circuit 601 that stores signals by alternately using the two memories A605 and B606 is shown, but in general, the display device has a plurality of memories that can store information for a plurality of frames. These memories can be used alternately.

上記構成の表示装置のブロック図を図38に示す。   A block diagram of the display device having the above structure is shown in FIG.

表示装置は、信号制御回路601と、ディスプレイコントローラ602と、ディスプレイ600とによって構成されている。   The display device includes a signal control circuit 601, a display controller 602, and a display 600.

ディスプレイコントローラ602は、ディスプレイ600に、スタートパルスSPやクロックパルスCLK、駆動電圧等を供給している。   The display controller 602 supplies the display 600 with a start pulse SP, a clock pulse CLK, a driving voltage, and the like.

信号制御回路601は、CPU604と、メモリA605と、メモリB606と、メモリコントローラ603によって構成されている。   The signal control circuit 601 includes a CPU 604, a memory A 605, a memory B 606, and a memory controller 603.

メモリA605は、デジタル映像信号の第1のビット〜第4のビットの情報をそれぞれ記憶するメモリ605_1〜605_4によって構成されている。同様にメモリB606も、デジタル映像信号の第1のビット〜第4のビットの情報をそれぞれ記憶するメモリ606_1〜606_4によって構成されている。これらの各ビットに対応するメモリはそれぞれ、1ビット分の信号を、1画面を構成する画素数分記憶可能な数の記憶素子を有している。   The memory A 605 includes memories 605_1 to 605_4 that store information on the first bit to the fourth bit of the digital video signal, respectively. Similarly, the memory B 606 is also composed of memories 606_1 to 606_4 that store information of the first bit to the fourth bit of the digital video signal, respectively. Each of the memories corresponding to these bits has a number of storage elements that can store a signal for one bit by the number of pixels constituting one screen.

一般に、nビットのデジタル映像信号を用いて階調を表現することが可能な表示装置において、メモリA605は、第1のビット〜第nのビットの情報をそれぞれ記憶するメモリ605_1〜605_nによって構成される。同様に、メモリB606も、第1のビット〜第nのビットの情報をそれぞれ記憶するメモリ606_1〜606_nのよって構成される。これらの各ビットに対応するメモリは、それぞれ1ビット分の信号を、1画面を構成する画素数分記憶可能な容量を有している。   In general, in a display device capable of expressing gradation using an n-bit digital video signal, the memory A 605 includes memories 605_1 to 605_n that store information on first to nth bits, respectively. The Similarly, the memory B 606 includes the memories 606_1 to 606_n that store information of the first bit to the n-th bit, respectively. A memory corresponding to each of these bits has a capacity capable of storing a signal for one bit for each pixel constituting one screen.

ディスプレイコントローラ602の構成について、以下に説明する。   The configuration of the display controller 602 will be described below.

図39は、本発明のディスプレイコントローラの構成を示した図である。   FIG. 39 is a diagram showing the configuration of the display controller of the present invention.

ディスプレイコントローラ602は、基準クロック発生回路801、水平クロック発生回路803、垂直クロック発生回路804、発光素子用電源制御回路805、駆動回路用電源制御回路806によって構成されている。   The display controller 602 includes a reference clock generation circuit 801, a horizontal clock generation circuit 803, a vertical clock generation circuit 804, a light emitting element power supply control circuit 805, and a drive circuit power supply control circuit 806.

CPU604から入力されるクロック信号31は、基準クロック発生回路801に入力され、基準クロックを発生する。この基準クロックは、水平クロック発生回路803及び垂直クロック発生回路804に入力される。   The clock signal 31 input from the CPU 604 is input to the reference clock generation circuit 801 and generates a reference clock. This reference clock is input to the horizontal clock generation circuit 803 and the vertical clock generation circuit 804.

また、水平クロック発生回路803には、CPU604から水平周期を定める、水平周期信号32が入力され、信号線駆動回路用のクロックパルスS_CLK及び、スタートパルスS_SPが出力されている。同様に、垂直クロック発生回路804には、CPU604から垂直周期を定める垂直周期信号33が入力され、走査線駆動回路用のクロックパルスG_CLK及びスタートパルスG_SPが出力されている。   The horizontal clock generation circuit 803 receives a horizontal cycle signal 32 that determines a horizontal cycle from the CPU 604, and outputs a clock pulse S_CLK and a start pulse S_SP for the signal line driver circuit. Similarly, a vertical cycle signal 33 for determining a vertical cycle is input from the CPU 604 to the vertical clock generation circuit 804, and a clock pulse G_CLK and a start pulse G_SP for the scanning line driver circuit are output.

発光素子用電源制御回路805は、発光素子用電源制御信号34によって制御される。例えば図9のタイミングチャートを用いる場合、電源線の電位を、書き込み期間Taにおいては電源線に0Vの電圧を印加するようにして、表示期間Tsにおいては発光素子に順方向の電圧を印加するようにし、逆方向バイアス期間BFにおいては逆方向の電圧を印加するように制御している。   The light emitting element power control circuit 805 is controlled by the light emitting element power control signal 34. For example, when the timing chart of FIG. 9 is used, the potential of the power supply line is set such that a voltage of 0 V is applied to the power supply line in the writing period Ta and a forward voltage is applied to the light emitting element in the display period Ts. In the reverse bias period BF, control is performed such that a reverse voltage is applied.

また、図23のタイミングチャートを用いる場合、発光素子用電源制御回路805は電源線の電位を、書き込み期間Taにおいては発光素子に逆方向の電圧を印加するようにし、表示期間Tsにおいては発光素子に順方向の電圧を印加するように、制御している。   In the case of using the timing chart of FIG. 23, the light-emitting element power supply control circuit 805 applies the potential of the power supply line to the light-emitting element in the writing period Ta, and the light-emitting element in the display period Ts. Is controlled to apply a forward voltage.

また、駆動回路用電源制御回路806は、各駆動回路に入力される電源電圧を制御する。   The drive circuit power supply control circuit 806 controls the power supply voltage input to each drive circuit.

なお、駆動回路用電源制御回路806には、公知の構成のものを用いてもよい。   Note that a driver circuit power supply control circuit 806 having a known configuration may be used.

前述した信号制御回路601、メモリコントローラ603、CPU604、メモリA605、メモリB606、ディスプレイコントローラ602は、ディスプレイ600と同時に形成するために画素と同一基板上に形成してもよいし、LSIチップで形成しディスプレイ600の基板上にCOGで貼り付けても良いし、基板上にTABをもちいて貼り付けてもよいし、ディスプレイ600とは別の基板上に形成し、電気配線にて接続しても良い。   The signal control circuit 601, the memory controller 603, the CPU 604, the memory A 605, the memory B 606, and the display controller 602 described above may be formed on the same substrate as the pixels to be formed simultaneously with the display 600, or may be formed by an LSI chip. It may be attached to the substrate of the display 600 with COG, may be attached to the substrate using TAB, or may be formed on a substrate different from the display 600 and connected by electric wiring. .

本発明とディスプレイの信号線駆動回路及び走査線駆動回路に入力する回路とを用いることにより、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   By using the present invention and a circuit that inputs to the signal line driving circuit and the scanning line driving circuit of the display, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be supplied when a reverse voltage is applied. The life of the light emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

本実施例は、上記の実施の形態と組み合わせることができる。   This embodiment can be combined with the above embodiment mode.

本実施例では、本発明の表示装置で用いるデジタル時間階調方式用の信号線駆動回路の構成例について説明する。   In this embodiment, a configuration example of a signal line driver circuit for a digital time gray scale method used in the display device of the present invention will be described.

信号線駆動回路の構成例を図40に示す。   An example of the structure of the signal line driver circuit is shown in FIG.

信号線駆動回路は、シフトレジスタ901と、走査方向切り換え回路、LAT(A)902及びLAT(B)903によって構成されている。なお、図40では、シフトレジスタ901からの出力の1つに対応する、LAT(A)902の一部とLAT(B)903の一部のみを図示するが、シフトレジスタ901からの全ての出力に対して、同様の構成のLAT(A)902及びLAT(B)903が対応する。   The signal line driver circuit includes a shift register 901, a scanning direction switching circuit, LAT (A) 902, and LAT (B) 903. In FIG. 40, only a part of the LAT (A) 902 and a part of the LAT (B) 903 corresponding to one of the outputs from the shift register 901 are illustrated, but all the outputs from the shift register 901 are illustrated. In contrast, LAT (A) 902 and LAT (B) 903 having the same configuration correspond to each other.

シフトレジスタ901は、クロックドインバータ、インバータ、NANDによって構成されている。シフトレジスタ901には、信号線駆動回路用スタートパルスS_SPが入力され、信号線駆動回路用クロックパルスS_CLKとその極性が反転した信号である信号線駆動回路用反転クロックパルスS_CLKBによって、クロックドインバータが導通状態、非導通状態と変化することによって、NANDから順に、LAT(A)902にサンプリングパルスを出力する。   The shift register 901 includes a clocked inverter, an inverter, and a NAND. The shift register 901 receives the signal line driver circuit start pulse S_SP, and the signal line driver circuit clock pulse S_CLK and the signal line driver circuit inverted clock pulse S_CLKB, which is a signal whose polarity is inverted, cause the clocked inverter to operate. By changing between the conductive state and the non-conductive state, sampling pulses are output to the LAT (A) 902 in order from the NAND.

また、走査方向切り換え回路は、スイッチによって構成され、シフトレジスタ901の走査方向を、図面向かって左右に切り換える働きをする。図40では、左右切り換え信号L/Rがローの信号に対応する場合、シフトレジスタ901は、図面向かって左から右に順にサンプリングパルスを出力する。一方、左右切り換え信号L/Rがハイの信号に対応する場合、図面向かって右から左に順にサンプリングパルスを出力する。   The scanning direction switching circuit is constituted by a switch and functions to switch the scanning direction of the shift register 901 left and right as viewed in the drawing. In FIG. 40, when the left / right switching signal L / R corresponds to a low signal, the shift register 901 outputs sampling pulses sequentially from left to right as viewed in the drawing. On the other hand, when the left / right switching signal L / R corresponds to a high signal, sampling pulses are output sequentially from right to left in the drawing.

ここで、各ステージのLAT(A)902とは、1本の信号線に入力する映像信号を取り込むLAT(A)904を示すものとする。   Here, the LAT (A) 902 in each stage indicates the LAT (A) 904 that captures a video signal input to one signal line.

LAT(A)904は、クロックドインバータと、インバータによって構成されている。   The LAT (A) 904 includes a clocked inverter and an inverter.

ここでは、実施例1において説明した信号制御回路より出力されたデジタル映像信号VDは、p分割(pは自然数)されて入力される。つまり、p本の信号線への出力に対応する信号が並列に入力される。サンプリングパルスが、バッファを介して、p個のLAT(A)902のクロックドインバータに同時に入力されると、p分割された入力信号はp個のLAT(A)904において、それぞれ同時にサンプリングされる。   Here, the digital video signal VD output from the signal control circuit described in the first embodiment is input after being divided into p (p is a natural number). That is, signals corresponding to outputs to the p signal lines are input in parallel. When the sampling pulse is simultaneously input to the p LAT (A) 902 clocked inverters through the buffer, the p-divided input signals are respectively sampled simultaneously in the p LAT (A) 904. .

ここでは、x本の信号線に信号電圧を出力する信号線駆動回路を例に説明しているので、1水平期間あたり、x/p個のサンプリングパルスが順にシフトレジスタより出力される。各サンプリングパルスに応じて、p個のLAT(A)904は、同時にp本の信号線への出力に対応するデジタル映像信号をサンプリングする。   Here, a signal line driver circuit that outputs a signal voltage to x signal lines is described as an example, so x / p sampling pulses are sequentially output from the shift register per horizontal period. In response to each sampling pulse, p LAT (A) 904 simultaneously samples a digital video signal corresponding to an output to p signal lines.

本実施例では、このように信号線駆動回路に入力するデジタル映像信号を、p相の並列信号に分割し、p個のデジタル映像信号を1つのサンプリングパルスによって同時に取り込む手法を、p分割駆動と呼ぶことにする。図40は4分割駆動である。   In this embodiment, the method of dividing the digital video signal input to the signal line driving circuit into p-phase parallel signals and simultaneously capturing p digital video signals with one sampling pulse is referred to as p-division driving. I will call it. FIG. 40 shows four-division driving.

上記分割駆動によって、信号線駆動回路のシフトレジスタのサンプリングにマージンを持たせることができる。こうして表示装置の信頼性を向上させることができる。   By the divided driving, a margin can be given to sampling of the shift register of the signal line driver circuit. Thus, the reliability of the display device can be improved.

各LAT(A)904に1水平期間の信号がすべて入力されると、ラッチパルスS_LAT及びその極性が反転した、反転ラッチパルスS_LATBが入力されて、各LAT(A)904に入力された信号を各ステージのLAT(B)903へ一斉に出力する。   When all signals in one horizontal period are input to each LAT (A) 904, the latch pulse S_LAT and the inverted latch pulse S_LATB whose polarity is inverted are input, and the signal input to each LAT (A) 904 is Output to LAT (B) 903 of each stage simultaneously.

なお、ここで各ステージのLAT(B)903とは、各ステージのLAT(A)902からの信号をそれぞれ入力する、LAT(B)905のことを示すとする。   Here, the LAT (B) 903 of each stage indicates the LAT (B) 905 to which the signal from the LAT (A) 902 of each stage is input.

各LAT(B)905は、クロックドインバータ及び、インバータによって構成されている。各LAT(A)904より出力された信号は、LAT(B)905に保持されると同時に、各信号線S1〜Sxに出力される。   Each LAT (B) 905 includes a clocked inverter and an inverter. The signal output from each LAT (A) 904 is held in the LAT (B) 905 and simultaneously output to each signal line S1 to Sx.

なお、ここでは図示しなかったが、レベルシフタやバッファ等を適宜設けても良い。 Although not shown here, a level shifter, a buffer, or the like may be provided as appropriate.

シフトレジスタ901及びLAT(A)902、LAT(B)903に入力されるスタートパルスS_SP、クロックパルスS_CLK等は、本発明の実施例1で示したディスプレイコントローラから入力されている。   The start pulse S_SP, the clock pulse S_CLK, and the like input to the shift register 901, LAT (A) 902, and LAT (B) 903 are input from the display controller shown in the first embodiment of the present invention.

本実施例では、デジタル映像信号を信号線駆動回路のLAT(A)に入力する動作を信号制御回路によって制御し、同時に、信号線駆動回路のシフトレジスタにクロックパルスS_CLKやスタートパルスS_SPを入力する動作や、信号線駆動回路を動作させる駆動電圧を入力する動作を、ディスプレイコントローラによって制御する。   In this embodiment, the operation of inputting the digital video signal to the LAT (A) of the signal line driver circuit is controlled by the signal control circuit, and at the same time, the clock pulse S_CLK and the start pulse S_SP are input to the shift register of the signal line driver circuit. The display controller controls the operation and the operation of inputting a driving voltage for operating the signal line driving circuit.

なお、本発明の表示装置は、本実施例の信号線駆動回路の構成に限らず、公知の構成の信号線駆動回路を用いることができる。   Note that the display device of the present invention is not limited to the configuration of the signal line driver circuit of this embodiment, and a signal line driver circuit having a known configuration can be used.

また、信号線駆動回路の構成により、ディスプレイコントローラから信号線駆動回路に入力される信号線の数や、駆動電圧の電源線の本数も異なった構成になる。   Further, depending on the configuration of the signal line driving circuit, the number of signal lines input from the display controller to the signal line driving circuit and the number of power supply lines for driving voltage are different.

本発明と上記構成を用いることにより、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   By using the present invention and the above structure, when a reverse voltage is applied, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be passed, and the lifetime of the light-emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

本実施例は、上記の実施の形態、実施例と組み合わせることができる。   This embodiment can be combined with the above embodiment modes and embodiments.

本実施例では、本発明の表示装置で用いる走査線駆動回路の構成例について図41を用いて説明する。   In this embodiment, a structural example of a scan line driver circuit used in the display device of the present invention will be described with reference to FIG.

走査線駆動回路は、シフトレジスタ、走査方向切り換え回路等によって構成されている。なお、ここでは図示しなかったが、レベルシフタやバッファ等を適宜設けても良い。   The scanning line driving circuit includes a shift register, a scanning direction switching circuit, and the like. Although not shown here, a level shifter, a buffer, or the like may be provided as appropriate.

シフトレジスタには、スタートパルスG_SP、クロックパルスG_CLK、駆動電圧等が入力されて、走査線選択信号を出力している。   The shift register receives a start pulse G_SP, a clock pulse G_CLK, a driving voltage, and the like, and outputs a scanning line selection signal.

シフトレジスタ3601は、クロックドインバータ3602と3603、インバータ3604、NAND回路3607によって構成されている。シフトレジスタ3601には、スタートパルスG_SPが入力され、クロックパルスG_CLKとその極性が反転した信号である反転クロックパルスG_CLKBによって、クロックドインバータ3602及び3603が導通状態、非導通状態と変化することによって、NAND回路3607から順に、サンプリングパルスを出力する。   The shift register 3601 includes clocked inverters 3602 and 3603, an inverter 3604, and a NAND circuit 3607. The shift register 3601 receives the start pulse G_SP, and the clocked inverters 3602 and 3603 change between a conductive state and a non-conductive state by an inverted clock pulse G_CLKB which is a signal whose polarity is inverted with respect to the clock pulse G_CLK. Sampling pulses are output in order from the NAND circuit 3607.

また、走査方向切り換え回路は、スイッチ3605及びスイッチ3606によって構成され、シフトレジスタ3601の走査方向を、図面向かって左右に切り換える働きをする。図41では、走査方向切り換え信号U/Dがローの信号に対応する場合、シフトレジスタ3601は、図面向かって左から右に順に、サンプリングパルスを出力する。一方、走査方向切り換え信号U/Dがハイの信号に対応する場合、図面向かって右から左に順にサンプリングパルスを出力する。   The scanning direction switching circuit includes a switch 3605 and a switch 3606, and functions to switch the scanning direction of the shift register 3601 left and right as viewed in the drawing. In FIG. 41, when the scanning direction switching signal U / D corresponds to a low signal, the shift register 3601 outputs sampling pulses in order from the left to the right in the drawing. On the other hand, when the scanning direction switching signal U / D corresponds to a high signal, sampling pulses are output sequentially from right to left in the drawing.

シフトレジスタ3601から出力されたサンプリングパルスは、NOR回路3608に入力され、イネーブル信号ENBと演算される。この演算は、サンプリングパルスのなまりによって、となり合う走査線が同時に選択される状況を防ぐために行われる。NOR回路3608から出力された信号は、バッファ3609、3610を介して、走査線G1〜Gyに出力される。   The sampling pulse output from the shift register 3601 is input to the NOR circuit 3608 and calculated as the enable signal ENB. This calculation is performed in order to prevent a situation in which adjacent scanning lines are simultaneously selected due to the rounding of sampling pulses. The signal output from the NOR circuit 3608 is output to the scanning lines G1 to Gy via the buffers 3609 and 3610.

なお、ここでは図示しなかったが、レベルシフタやバッファ等を適宜設けても良い。 Although not shown here, a level shifter, a buffer, or the like may be provided as appropriate.

シフトレジスタ3601に入力されるスタートパルスG_SP、クロックパルスG_CLK、駆動電圧等は、本明細書の実施例1で示したディスプレイコントローラから入力されている。   A start pulse G_SP, a clock pulse G_CLK, a driving voltage, and the like input to the shift register 3601 are input from the display controller shown in Embodiment 1 of this specification.

なお、本発明の表示装置は、本実施例の走査線駆動回路の構成に限らず、公知の構成の走査線駆動回路を用いることができる。   Note that the display device of the present invention is not limited to the configuration of the scanning line driving circuit of this embodiment, and a scanning line driving circuit having a known configuration can be used.

また、走査線駆動回路の構成により、ディスプレイコントローラから走査線駆動回路に入力される信号線の数や、駆動電圧の電源線の本数も異なった構成になる。   Further, depending on the configuration of the scanning line driving circuit, the number of signal lines input from the display controller to the scanning line driving circuit and the number of power supply lines for driving voltage are different.

本発明の表示装置に上記構成を用いることにより、逆方向の電圧を印加する際に、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を流すことができ、発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   By using the above structure for the display device of the present invention, when a reverse voltage is applied, a current sufficient to insulate a short-circuited portion can be passed, and the lifetime of the light-emitting element can be extended. is there. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

本実施例は、上記の実施の形態、実施例と組み合わせることができる。   This embodiment can be combined with the above embodiment modes and embodiments.

本実施例では、上記実施の形態で示した画素構成を有する表示パネルの構成について図を用いて説明する。   In this example, a structure of a display panel having the pixel structure described in the above embodiment mode is described with reference to drawings.

なお、図28(a)は、表示パネルを示す上面図、図28(b)は図28(a)をA−A’で切断した断面図である。点線で示された信号線駆動回路6701、画素部6702、第1の走査線駆動回路6703、第2の走査線駆動回路6706を有する。また、封止基板6704、シール材6705を有し、シール材6705で囲まれた内側は、空間6707になっている。   FIG. 28A is a top view showing the display panel, and FIG. 28B is a cross-sectional view of FIG. 28A taken along A-A ′. A signal line driver circuit 6701, a pixel portion 6702, a first scan line driver circuit 6703, and a second scan line driver circuit 6706 indicated by dotted lines are included. Further, a sealing substrate 6704 and a sealing material 6705 are provided, and an inner side surrounded by the sealing material 6705 is a space 6707.

なお、配線6708は第1の走査線駆動回路6703、第2の走査線駆動回路6706及び信号線駆動回路6701に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)6709からビデオ信号、クロック信号、スタート信号等を受け取る。FPC6709と表示パネルとの接続部上にはICチップ(メモリ回路や、バッファ回路などが形成された半導体チップ)6718とICチップ6719がCOG(Chip On Glass)等で実装されている。なお、ここではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基盤(PWB)が取り付けられていても良い。本明細書における表示装置とは、表示パネル本体だけでなく、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。また、ICチップなどが実装されたものを含むものとする。   Note that the wiring 6708 is a wiring for transmitting a signal input to the first scan line driver circuit 6703, the second scan line driver circuit 6706, and the signal line driver circuit 6701, and is an FPC (flexible) that serves as an external input terminal. Print circuit) 6709 receives a video signal, a clock signal, a start signal, and the like. An IC chip (a semiconductor chip on which a memory circuit, a buffer circuit, or the like is formed) 6718 and an IC chip 6719 are mounted with COG (Chip On Glass) or the like on a connection portion between the FPC 6709 and the display panel. Although only the FPC is shown here, a printed wiring board (PWB) may be attached to the FPC. The display device in this specification includes not only a display panel body but also a state in which an FPC or a PWB is attached thereto. In addition, it is assumed that an IC chip or the like is mounted.

次に、断面構造について図28(b)を用いて説明する。基板6710上には画素部6702とその周辺駆動回路(第1の走査線駆動回路6703、第2の走査線駆動回路6706及び信号線駆動回路6701)が形成されているが、ここでは、信号線駆動回路6701と、画素部6702が示されている。   Next, a cross-sectional structure will be described with reference to FIG. A pixel portion 6702 and its peripheral driver circuits (a first scan line driver circuit 6703, a second scan line driver circuit 6706, and a signal line driver circuit 6701) are formed over a substrate 6710. Here, signal lines A driver circuit 6701 and a pixel portion 6702 are shown.

なお、信号線駆動回路6701はTFT6720、TFT6721を有し、TFT6720、TFT6721はNチャネル型トランジスタとして単極性のトランジスタで構成されている。なお、画素構成には上記実施の形態で示したいずれかの画素構成を適用することにより単極性のトランジスタで画素を構成することができる。よって、周辺駆動回路をNチャネル型トランジスタで構成すれば単極性表示パネルを作製することができる。また、Nチャネル型トランジスタで構成されたNMOS回路を用いて、周辺駆動回路を形成することができる。もちろん、周辺駆動回路にはNチャネル型トランジスタを用いた単極性のトランジスタだけでなく、Pチャネル型トランジスタも用いてPMOS回路、CMOS回路を形成しても良い。また、本実施例では、基板上に周辺駆動回路を一体形成した表示パネルを示すが、必ずしもその必要はなく、周辺駆動回路の全部若しくは一部をICチップなどに形成し、COGなどで実装しても良い。その場合には駆動回路は単極性にする必要がなくPチャネル型トランジスタを組み合わせて用いる等、自由に設計することができる。   Note that the signal line driver circuit 6701 includes TFTs 6720 and 6721, and the TFTs 6720 and 6721 are formed of unipolar transistors as N-channel transistors. Note that a pixel can be formed using a unipolar transistor by applying any of the pixel structures described in the above embodiments to the pixel structure. Therefore, a unipolar display panel can be manufactured if the peripheral driver circuit is formed using N-channel transistors. In addition, a peripheral driver circuit can be formed using an NMOS circuit including N-channel transistors. Of course, in the peripheral driver circuit, not only a unipolar transistor using an N-channel transistor but also a P-channel transistor may be used to form a PMOS circuit or a CMOS circuit. In this embodiment, a display panel in which peripheral drive circuits are integrally formed on a substrate is shown. However, this is not always necessary, and all or part of the peripheral drive circuits are formed on an IC chip and mounted by COG or the like. May be. In that case, the driver circuit does not need to be unipolar and can be freely designed such as a combination of P-channel transistors.

また、画素部6702はTFT6711と、TFT6712とを有している。なお、TFT6712のソース電極は第1の電極(画素電極)6713と接続されている。また、第1の電極6713の端部を覆って絶縁物6714が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成する。   In addition, the pixel portion 6702 includes a TFT 6711 and a TFT 6712. Note that a source electrode of the TFT 6712 is connected to a first electrode (pixel electrode) 6713. An insulator 6714 is formed so as to cover an end portion of the first electrode 6713. Here, a positive photosensitive acrylic resin film is used.

また、カバレッジを良好なものとするため、絶縁物6714の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物6714の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合、絶縁物6714の上端部のみに曲率半径(0.2μm〜3μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物6714として、感光性の光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、或いは光によってエッチャントに溶解性となるポジ型のいずれも使用することができる。   In order to improve the coverage, a curved surface having a curvature is formed at the upper end portion or the lower end portion of the insulator 6714. For example, in the case where positive photosensitive acrylic is used as a material for the insulator 6714, it is preferable that only the upper end portion of the insulator 6714 has a curved surface with a curvature radius (0.2 μm to 3 μm). As the insulator 6714, either a negative type that becomes insoluble in an etchant by photosensitive light or a positive type that becomes soluble in an etchant by light can be used.

第1の電極6713上には、有機化合物を含む層6716、および第2の電極(対向電極)6717がそれぞれ形成されている。ここで、陽極として機能する第1の電極6713に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、インジウム錫酸化物(ITO、Indium Tin Oxide)膜、酸化インジウム酸化亜鉛(IZO、Indium Zinc Oxide)膜、窒化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。   Over the first electrode 6713, a layer 6716 containing an organic compound and a second electrode (counter electrode) 6717 are formed. Here, as a material used for the first electrode 6713 which functions as an anode, a material having a high work function is preferably used. For example, in addition to a single layer film such as an indium tin oxide (ITO) film, an indium zinc oxide (IZO) film, a titanium nitride film, a chromium film, a tungsten film, a Zn film, or a Pt film Alternatively, a stacked layer of a titanium nitride film and a film containing aluminum as a main component, a three-layer structure of a titanium nitride film, a film containing aluminum as a main component, and a titanium nitride film can be used. Note that with a stacked structure, resistance as a wiring is low, good ohmic contact can be obtained, and a function as an anode can be obtained.

また、有機化合物を含む層6716は、蒸着マスクを用いた蒸着法、またはインクジェット法によって形成される。有機化合物を含む層6716には、元素周期表第4族金属錯体をその一部に用いることとし、その他、組み合わせて用いることのできる材料としては、低分子系材料であっても高分子系材料であっても良い。また、有機化合物を含む層に用いる材料としては、通常、有機化合物を単層もしくは積層で用いる場合が多いが、本実施例においては、有機化合物からなる膜の一部に無機化合物を用いる構成も含めることとする。さらに、公知の三重項材料を用いることも可能である。   The layer 6716 containing an organic compound is formed by an evaporation method using an evaporation mask or an inkjet method. For the layer 6716 containing an organic compound, a Group 4 metal complex of the periodic table of elements is used as a part thereof, and other materials that can be used in combination include high molecular weight materials even if they are low molecular weight materials. It may be. In addition, as a material used for a layer containing an organic compound, an organic compound is usually used in a single layer or a stacked layer. However, in this embodiment, an inorganic compound is used for a part of a film made of an organic compound. Include. Further, a known triplet material can be used.

さらに、有機化合物を含む層6716上に形成される第2の電極6717に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、CaF、または窒化カルシウム)を用いればよい。なお、有機化合物を含む層6716で生じた光が第2の電極6717を透過させる場合には、第2の電極6717として、膜厚を薄くした金属薄膜と、透明導電膜(インジウム錫酸化物(ITO、Indium Tin Oxide)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In−ZnO)、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのが良い。 Further, as a material used for the second electrode 6717 formed over the layer 6716 containing an organic compound, a material having a low work function (Al, Ag, Li, Ca, or an alloy thereof MgAg, MgIn, AlLi, CaF 2). Or calcium nitride). Note that in the case where light generated in the layer 6716 containing an organic compound transmits the second electrode 6717, the second electrode 6717 includes a thin metal film and a transparent conductive film (indium tin oxide ( A stack of ITO, Indium Tin Oxide), indium oxide-zinc oxide alloy (In 2 O 3 —ZnO), zinc oxide (ZnO), or the like) is preferably used.

また、発光素子6725を封止するために保護積層6726を形成してもよい。なお、保護積層6726は、第1の無機絶縁膜と、応力緩和膜と、第2の無機絶縁膜との積層からなる。   Further, a protective stack 6726 may be formed in order to seal the light emitting element 6725. Note that the protective stack 6726 is formed of a stack of a first inorganic insulating film, a stress relaxation film, and a second inorganic insulating film.

さらにシール材6705で封止基板6704を保護積層6726、基板6710と貼り合わせることにより、保護積層6726、基板6710、封止基板6704、およびシール材6705で囲まれた空間6707に発光素子6725が備えられた構造になっている。なお、空間6707には、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材6705で充填される構成も含むものとする。   Further, the light-emitting element 6725 is provided in the space 6707 surrounded by the protective laminate 6726, the substrate 6710, the sealing substrate 6704, and the sealant 6705 by attaching the sealing substrate 6704 to the protective laminate 6726 and the substrate 6710 with the sealant 6705. It has a structured. Note that the space 6707 includes a structure filled with a sealing material 6705 in addition to a case where the space 6707 is filled with an inert gas (nitrogen, argon, or the like).

なお、シール材6705にはエポキシ系樹脂を用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板6704に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiberglass−Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、マイラー、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。   Note that an epoxy-based resin is preferably used for the sealant 6705. Moreover, it is desirable that these materials are materials that do not transmit moisture and oxygen as much as possible. In addition to a glass substrate and a quartz substrate, a plastic substrate made of FRP (Fiberglass-Reinforced Plastics), PVF (polyvinyl fluoride), Mylar, polyester, acrylic, or the like can be used as a material used for the sealing substrate 6704.

以上のようにして、本発明の画素構成を有する表示パネルを得ることができる。なお、上述した構成は一例であって本発明の表示パネルの構成はこれに限定されない。   As described above, a display panel having the pixel configuration of the present invention can be obtained. Note that the above-described configuration is an example, and the configuration of the display panel of the present invention is not limited to this.

図28に示すように、信号線駆動回路6701、画素部6702、第1の走査線駆動回路6703及び第2の走査線駆動回路6706を一体形成することで、表示装置の低コスト化が図れる。また、この場合において、信号線駆動回路6701、画素部6702、第1の走査線駆動回路6703及び第2の走査線駆動回路6706に用いられるトランジスタを単極性とすることで作製工程の簡略化が図れるためさらなる低コスト化が図れる。   As shown in FIG. 28, the signal line driver circuit 6701, the pixel portion 6702, the first scan line driver circuit 6703, and the second scan line driver circuit 6706 are integrally formed, whereby the cost of the display device can be reduced. In this case, the manufacturing process can be simplified by making the transistors used in the signal line driver circuit 6701, the pixel portion 6702, the first scan line driver circuit 6703, and the second scan line driver circuit 6706 unipolar. Therefore, further cost reduction can be achieved.

なお、表示パネルの構成としては、図28(a)に示したように信号線駆動回路6701、画素部6702、第1の走査線駆動回路6703及び第2の走査線駆動回路6706を一体形成した構成に限られず、信号線駆動回路6701に相当する図29(a)に示す信号線駆動回路6801をICチップ上に形成して、COG等で表示パネルに実装した構成としても良い。なお、図29(a)の基板6800、画素部6802、第1の走査線駆動回路6803、第2の走査線駆動回路6804、FPC6805、ICチップ6806、ICチップ6807、封止基板6808、シール材6809は図28(a)の基板6710、画素部6702、第1の走査線駆動回路6703、第2の走査線駆動回路6706、FPC6709、ICチップ6718、ICチップ6719、封止基板6704、シール材6705に相当する。   Note that as a structure of the display panel, a signal line driver circuit 6701, a pixel portion 6702, a first scanning line driver circuit 6703, and a second scanning line driver circuit 6706 are integrally formed as shown in FIG. The configuration is not limited, and the signal line driver circuit 6801 shown in FIG. 29A corresponding to the signal line driver circuit 6701 may be formed over the IC chip and mounted on the display panel with COG or the like. Note that the substrate 6800, the pixel portion 6802, the first scan line driver circuit 6803, the second scan line driver circuit 6804, the FPC 6805, the IC chip 6806, the IC chip 6807, the sealing substrate 6808, and the sealing material in FIG. Reference numeral 6809 denotes a substrate 6710, a pixel portion 6702, a first scan line driver circuit 6703, a second scan line driver circuit 6706, an FPC 6709, an IC chip 6718, an IC chip 6719, a sealing substrate 6704, and a sealing material in FIG. This corresponds to 6705.

つまり、駆動回路の高速動作が要求される信号線駆動回路のみを、CMOS等を用いてICチップに形成し、低消費電力化を図る。また、ICチップはシリコンウエハ等の半導体チップとすることで、より高速動作且つ低消費電力化を図れる。   That is, only the signal line driver circuit that requires high-speed operation of the driver circuit is formed on the IC chip using a CMOS or the like to reduce power consumption. Further, by using a semiconductor chip such as a silicon wafer as the IC chip, higher speed operation and lower power consumption can be achieved.

そして、第1の走査線駆動回路6803や第2の走査線駆動回路6804を画素部6802と一体形成することで、低コスト化が図れる。また、この第1の走査線駆動回路6803、第2の走査線駆動回路6804及び画素部6802は単極性のトランジスタで構成することでさらなる低コスト化が図れる。画素部6802の有する画素の構成としては上記実施の形態で示した画素を適用することができる。   By forming the first scan line driver circuit 6803 and the second scan line driver circuit 6804 integrally with the pixel portion 6802, cost reduction can be achieved. Further, the first scan line driver circuit 6803, the second scan line driver circuit 6804, and the pixel portion 6802 are formed of unipolar transistors, so that cost can be further reduced. As the structure of the pixel included in the pixel portion 6802, the pixel described in the above embodiment can be used.

こうして、高精細な表示装置の低コスト化が図れる。また、FPC6805と基板6800との接続部において機能回路(メモリやバッファ)が形成されたICチップを実装することで基板面積を有効利用することができる。   Thus, the cost of a high-definition display device can be reduced. Further, by mounting an IC chip on which a functional circuit (memory or buffer) is formed at a connection portion between the FPC 6805 and the substrate 6800, the substrate area can be effectively used.

また、図28(a)の信号線駆動回路6701、第1の走査線駆動回路6703及び第2の走査線駆動回路6706に相当する図29(b)の信号線駆動回路6811、第1の走査線駆動回路6814及び第2の走査線駆動回路6813をICチップ上に形成して、COG等で表示パネルに実装した構成としても良い。この場合には高精細な表示装置をより低消費電力にすることが可能である。なお、図29(b)の基板6810、画素部6812、FPC6815、ICチップ6816、ICチップ6817、封止基板6818、シール材6819は図28(a)の基板6710、画素部6702、FPC6709、ICチップ6718、ICチップ6719、封止基板6704、シール材6705に相当する。   Further, the signal line driver circuit 6811 in FIG. 29B corresponding to the signal line driver circuit 6701, the first scanning line driver circuit 6703, and the second scanning line driver circuit 6706 in FIG. The line driver circuit 6814 and the second scan line driver circuit 6813 may be formed over an IC chip and mounted on the display panel with COG or the like. In this case, a high-definition display device can have lower power consumption. Note that the substrate 6810, the pixel portion 6812, the FPC 6815, the IC chip 6816, the IC chip 6817, the sealing substrate 6818, and the sealant 6819 in FIG. 29B are the substrate 6710, the pixel portion 6702, the FPC 6709, and the IC in FIG. It corresponds to a chip 6718, an IC chip 6719, a sealing substrate 6704, and a sealing material 6705.

また、画素部6812のトランジスタの半導体層にアモルファスシリコンを用いることにより低コスト化を図ることができる。さらに、大型の表示パネルを作製することも可能となる。   In addition, cost can be reduced by using amorphous silicon for the semiconductor layer of the transistor in the pixel portion 6812. Further, a large display panel can be manufactured.

また、画素の行方向及び列方向に第2の走査線駆動回路、第1の走査線駆動回路及び信号線駆動回路を設けなくても良い。例えば、図30(a)に示すようにICチップ上に形成された周辺駆動回路6901が、図29(b)に示す第1の走査線駆動回路6814、第2の走査線駆動回路6813及び信号線駆動回路6811の機能を有するようにしても良い。なお、図30(a)の基板6900、画素部6902、FPC6904、ICチップ6905、ICチップ6906、封止基板6907、シール材6908は図28(a)の基板6710、画素部6702、FPC6709、ICチップ6718、ICチップ6719、封止基板6704、シール材6705に相当する。   Further, the second scan line driver circuit, the first scan line driver circuit, and the signal line driver circuit are not necessarily provided in the row direction and the column direction of the pixels. For example, the peripheral drive circuit 6901 formed on the IC chip as shown in FIG. 30A is replaced with the first scan line drive circuit 6814, the second scan line drive circuit 6813, and the signal shown in FIG. The function of the line driver circuit 6811 may be provided. Note that the substrate 6900, the pixel portion 6902, the FPC 6904, the IC chip 6905, the IC chip 6906, the sealing substrate 6907, and the sealant 6908 in FIG. 30A are the substrate 6710, the pixel portion 6702, the FPC 6709, and the IC in FIG. It corresponds to a chip 6718, an IC chip 6719, a sealing substrate 6704, and a sealing material 6705.

なお、図30(a)の表示装置の配線の接続を説明する模式図を図30(b)に示す。基板6910、周辺駆動回路6911、画素部6912、FPC6913、FPC6914有する。FPC6913より周辺駆動回路6911に外部からの信号及び電源電位が入力される。そして、周辺駆動回路6911からの出力は、画素部6912の有する画素に接続された行方向及び列方向の配線に入力される。   FIG. 30B is a schematic diagram for explaining the wiring connection of the display device in FIG. A substrate 6910, a peripheral driver circuit 6911, a pixel portion 6912, an FPC 6913, and an FPC 6914 are provided. An external signal and a power supply potential are input from the FPC 6913 to the peripheral driver circuit 6911. The output from the peripheral driver circuit 6911 is input to wirings in the row and column directions connected to the pixels included in the pixel portion 6912.

さらに、発光素子6725に適用可能な発光素子の例を図31(a)、(b)に示す。つまり、上記実施の形態で示した画素に適用可能な発光素子の構成について図31(a)、(b)を用いて説明する。   Further, examples of light-emitting elements applicable to the light-emitting element 6725 are illustrated in FIGS. That is, a structure of a light-emitting element applicable to the pixel described in the above embodiment mode is described with reference to FIGS.

図31(a)の発光素子は、基板7001の上に陽極7002、正孔注入材料からなる正孔注入層7003、その上に正孔輸送材料からなる正孔輸送層7004、発光層7005、電子輸送材料からなる電子輸送層7006、電子注入材料からなる電子注入層7007、そして陰極7008を積層させた素子構造である。ここで、発光層7005は、一種類の発光材料のみから形成されることもあるが、2種類以上の材料から形成されてもよい。また本発明の素子の構造は、この構造に限定されない。   A light emitting element in FIG. 31A includes an anode 7002 on a substrate 7001, a hole injection layer 7003 made of a hole injection material, a hole transport layer 7004 made of a hole transport material, a light emitting layer 7005, and an electron. In this element structure, an electron transport layer 7006 made of a transport material, an electron injection layer 7007 made of an electron injection material, and a cathode 7008 are stacked. Here, the light emitting layer 7005 may be formed of only one kind of light emitting material, but may be formed of two or more kinds of materials. Further, the structure of the element of the present invention is not limited to this structure.

また、図31(a)で示した各機能層を積層した積層構造の他、高分子化合物を用いた素子、発光層に三重項励起状態から発光する三重項発光材料を利用した高効率素子など、バリエーションは多岐にわたる。ホールブロック層によってキャリヤの再結合領域を制御し、発光領域を二つの領域にわけることによって得られる白色発光素子などにも応用可能である。   In addition to the layered structure in which the functional layers shown in FIG. 31A are stacked, an element using a polymer compound, a high-efficiency element using a triplet light emitting material that emits light from a triplet excited state in the light emitting layer, and the like. There are a wide variety of variations. The present invention can also be applied to a white light emitting element obtained by controlling the carrier recombination region by the hole blocking layer and dividing the light emitting region into two regions.

図31(a)に示す本発明の素子作製方法は、まず、陽極7002(インジウム錫酸化物(ITO、Indium Tin Oxide))を有する基板7001に正孔注入材料、正孔輸送材料、発光材料を順に蒸着する。次に電子輸送材料、電子注入材料を蒸着し、最後に陰極7008を蒸着で形成する。   In the element manufacturing method of the present invention shown in FIG. 31A, first, a hole injecting material, a hole transporting material, and a light emitting material are applied to a substrate 7001 having an anode 7002 (indium tin oxide (ITO)). Evaporate sequentially. Next, an electron transport material and an electron injection material are vapor-deposited, and finally a cathode 7008 is formed by vapor deposition.

次に、正孔注入材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料の材料に好適な材料を以下に列挙する。   Next, materials suitable for the hole injection material, the hole transport material, the electron transport material, the electron injection material, and the light emitting material are listed below.

正孔注入材料としては、有機化合物でればポルフィリン系の化合物や、フタロシアニン以下「HPc」と記す)、銅フタロシアニン(以下「CuPc」と記す)などが有効である。また、使用する正孔輸送材料よりもイオン化ポテンシャルの値が小さく、かつ、正孔輸送機能をもつ材料であれば、これも正孔注入材料として使用できる。導電性高分子化合物に化学ドーピングを施した材料もあり、ポリスチレンスルホン酸(以下「PSS」と記す)をドープしたポリエチレンジオキシチオフェン(以下「PEDOT」と記す)や、ポリアニリンなどが挙げられる。また、絶縁体の高分子化合物も陽極の平坦化の点で有効であり、ポリイミド(以下「PI」と記す)がよく用いられる。さらに、無機化合物も用いられ、金や白金などの金属薄膜の他、酸化アルミニウム(以下「アルミナ」と記す)の超薄膜などがある。 As the hole injection material, porphyrin compounds, phthalocyanine (hereinafter referred to as “H 2 Pc”), copper phthalocyanine (hereinafter referred to as “CuPc”), and the like are effective as organic compounds. In addition, any material that has a smaller ionization potential than the hole transport material used and has a hole transport function can also be used as the hole injection material. There is also a material obtained by chemically doping a conductive polymer compound, and examples thereof include polyethylenedioxythiophene (hereinafter referred to as “PEDOT”) doped with polystyrene sulfonic acid (hereinafter referred to as “PSS”), polyaniline, and the like. An insulating polymer compound is also effective in terms of planarization of the anode, and polyimide (hereinafter referred to as “PI”) is often used. In addition, inorganic compounds are also used. In addition to metal thin films such as gold and platinum, there are ultra thin films of aluminum oxide (hereinafter referred to as “alumina”).

正孔輸送材料として最も広く用いられているのは、芳香族アミン系(すなわち、ベンゼン環−窒素の結合を有するもの)の化合物である。広く用いられている材料として、4,4’−ビス(ジフェニルアミノ)−ビフェニル(以下、「TAD」と記す)や、その誘導体である4,4’−ビス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(以下、「TPD」と記す)、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(以下、「α−NPD」と記す)がある。4,4’,4”−トリス(N,N− ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(以下、「TDATA」と記す)、4,4’,4”−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N− フェニル−アミノ]−トリフェニルアミン(以下、「MTDATA」と記す)などのスターバースト型芳香族アミン化合物が挙げられる。   The most widely used hole transport material is an aromatic amine-based compound (that is, a compound having a benzene ring-nitrogen bond). As widely used materials, 4,4′-bis (diphenylamino) -biphenyl (hereinafter referred to as “TAD”) and its derivative 4,4′-bis [N- (3-methylphenyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl (hereinafter referred to as “TPD”), 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl (hereinafter referred to as “α-NPD”) ). 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine (hereinafter referred to as “TDATA”), 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) And starburst aromatic amine compounds such as —N-phenyl-amino] -triphenylamine (hereinafter referred to as “MTDATA”).

電子輸送材料としては、金属錯体がよく用いられ、先に述べたAlq、BAlq、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(以下、「Almq」と記す)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(以下、「Bebq」と記す)などのキノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体などがある。また、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト]亜鉛(以下、「Zn(BOX)」と記す)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト]亜鉛(以下、「Zn(BTZ)」と記す)などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体もある。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(以下、「PBD」と記す)、OXD−7などのオキサジアゾール誘導体、TAZ、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−2、3、4−トリアゾール(以下、「p−EtTAZ」と記す)などのトリアゾール誘導体、バソフェナントロリン(以下、「BPhen」と記す)、BCPなどのフェナントロリン誘導体が電子輸送性を有する。 As an electron transport material, a metal complex is often used, and Alq 3 , BAlq, tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (hereinafter referred to as “Almq”), bis (10-hydroxybenzo [ h] -quinolinato) beryllium (hereinafter referred to as “Bebq”) and the like, and metal complexes having a quinoline skeleton or a benzoquinoline skeleton. Further, bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzoxazolate] zinc (hereinafter referred to as “Zn (BOX) 2 ”), bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzothiazolate] zinc (hereinafter referred to as “Zn (BOX) 2 ”) There is also a metal complex having an oxazole-based or thiazole-based ligand such as “Zn (BTZ) 2 ”). In addition to metal complexes, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (hereinafter referred to as “PBD”), OXD-7, and the like Oxadiazole derivative of TAZ, 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -2,3,4-triazole (hereinafter referred to as “p-EtTAZ”) ) And other phenanthroline derivatives such as bathophenanthroline (hereinafter referred to as “BPhen”) and BCP have electron transport properties.

電子注入材料としては、上で述べた電子輸送材料を用いることができる。その他に、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化セシウムなどの金属ハロゲン化物や、酸化リチウムなどのアルカリ金属酸化物のような絶縁体の、超薄膜がよく用いられる。また、リチウムアセチルアセトネート(以下、「Li(acac)」と記す)や8−キノリノラト−リチウム(以下、「Liq」と記す)などのアルカリ金属錯体も有効である。   The electron transport material described above can be used as the electron injection material. In addition, an ultra-thin film of an insulator such as a metal halide such as calcium fluoride, lithium fluoride, or cesium fluoride, or an alkali metal oxide such as lithium oxide is often used. In addition, alkali metal complexes such as lithium acetylacetonate (hereinafter referred to as “Li (acac)”) and 8-quinolinolato-lithium (hereinafter referred to as “Liq”) are also effective.

発光材料としては、先に述べたAlq、Almq、BeBq、BAlq、Zn(BOX)、Zn(BTZ)などの金属錯体の他、各種蛍光色素が有効である。蛍光色素としては、青色の4,4’−ビス(2,2 − ジフェニル−ビニル)−ビフェニルや、赤橙色の4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピランなどがある。また、三重項発光材料も可能であり、白金ないしはイリジウムを中心金属とする錯体が主体である。三重項発光材料として、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム、ビス(2−(4’−トリル)ピリジナト−N,C2’)アセチルアセトナトイリジウム(以下「acacIr(tpy)」と記す)、 2,3,7,8,23,13,17,18−オクタエチル−21H,23Hポルフィリン−白金などが知られている。 As the luminescent material, various fluorescent dyes are effective in addition to the metal complexes such as Alq 3 , Almq, BeBq, BAlq, Zn (BOX) 2 , Zn (BTZ) 2 described above. As fluorescent dyes, blue 4,4′-bis (2,2-diphenyl-vinyl) -biphenyl and red-orange 4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl)- 4H-pyran. A triplet light emitting material is also possible, and is mainly a complex having platinum or iridium as a central metal. As the triplet light emitting material, tris (2-phenylpyridine) iridium, bis (2- (4′-tolyl) pyridinato-N, C 2 ′ ) acetylacetonatoiridium (hereinafter referred to as “acacIr (tpy) 2 ”), 2,3,7,8,23,13,17,18-octaethyl-21H, 23H porphyrin-platinum and the like are known.

以上で述べたような各機能を有する材料を、各々組み合わせ、高信頼性の発光素子を作製することができる。   A highly reliable light-emitting element can be manufactured by combining the materials having the functions described above.

また、上記実施の形態の画素構成で可能であれば、図31(b)に示すように図31(a)とは逆の順番に層を形成した発光素子を用いてもよい。つまり、基板7011の上に陰極7018、電子注入材料からなる電子注入層7017、その上に電子輸送材料からなる電子輸送層7016、発光層7015、正孔輸送材料からなる正孔輸送層7014、正孔注入材料からなる正孔注入層7013、そして陽極7012を積層させた素子構造である。   If possible with the pixel structure of the above embodiment mode, a light-emitting element in which layers are formed in the reverse order of FIG. 31A may be used as shown in FIG. That is, a cathode 7018 on the substrate 7011, an electron injection layer 7017 made of an electron injection material, an electron transport layer 7016 made of an electron transport material, a light emitting layer 7015, a hole transport layer 7014 made of a hole transport material, and a positive electrode. This is an element structure in which a hole injection layer 7013 made of a hole injection material and an anode 7012 are laminated.

また、発光素子は発光を取り出すために少なくとも陽極又は陰極の一方が透明であればよい。そして、基板上にTFT及び発光素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取り出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対側の面から発光を取り出す両面射出構造の発光素子があり、本発明の画素構成はどの射出構造の発光素子にも適用することができる。   In addition, in order to extract light emitted from the light emitting element, at least one of the anode and the cathode may be transparent. Then, a TFT and a light emitting element are formed on the substrate, and a top emission that extracts light emission from a surface opposite to the substrate, a bottom emission that extracts light emission from the surface on the substrate side, and a surface opposite to the substrate side and the substrate. The pixel structure of the present invention can be applied to a light emitting element having any emission structure.

上面射出構造の発光素子について図32(a)を用いて説明する。   A light-emitting element having a top emission structure will be described with reference to FIG.

基板7100上に駆動用TFT7101が形成され、駆動用TFT7101のソース電極に接して第1の電極7102が形成され、その上に有機化合物を含む層7103と第2の電極7104が形成されている。   A driving TFT 7101 is formed over a substrate 7100, a first electrode 7102 is formed in contact with a source electrode of the driving TFT 7101, and a layer 7103 containing an organic compound and a second electrode 7104 are formed thereover.

また、第1の電極7102は発光素子の陽極である。そして第2の電極7104は発光素子の陰極である。つまり、第1の電極7102と第2の電極7104とで有機化合物を含む層7103が挟まれているところが発光素子となる。   The first electrode 7102 is an anode of the light emitting element. The second electrode 7104 is a cathode of the light emitting element. That is, a region where the layer 7103 containing an organic compound is sandwiched between the first electrode 7102 and the second electrode 7104 is a light-emitting element.

また、ここで、陽極として機能する第1の電極7102に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、窒化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。光を反射する金属膜を用いることで光を透過させない陽極を形成することができる。   Here, as a material used for the first electrode 7102 which functions as an anode, a material having a high work function is preferably used. For example, in addition to a single layer film such as a titanium nitride film, a chromium film, a tungsten film, a Zn film, or a Pt film, a stack of a titanium nitride film and a film containing aluminum as a main component, a titanium nitride film and aluminum as a main component A three-layer structure of a film and a titanium nitride film can be used. Note that with a stacked structure, resistance as a wiring is low, good ohmic contact can be obtained, and a function as an anode can be obtained. By using a metal film that reflects light, an anode that does not transmit light can be formed.

また、陰極として機能する第2の電極7104に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、CaF、または窒化カルシウム)からなる金属薄膜と、透明導電膜(インジウム錫酸化物(ITO、Indium Tin Oxide)、酸化インジウム酸化亜鉛(IZO、Indium Zinc Oxide)、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのが良い。こうして薄い金属薄膜と、透明性を有する透明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陰極を形成することができる。 The material used for the second electrode 7104 functioning as a cathode is made of a material having a low work function (Al, Ag, Li, Ca, or an alloy thereof such as MgAg, MgIn, AlLi, CaF 2 , or calcium nitride). A stack of a metal thin film and a transparent conductive film (indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), or the like) is preferably used. Thus, a cathode capable of transmitting light can be formed by using a thin metal thin film and a transparent conductive film having transparency.

こうして、図32(a)の矢印に示すように発光素子からの光を上面に取り出すことが可能になる。つまり、図28の表示パネルに適用した場合には、封止基板6704側に光が射出することになる。従って上面射出構造の発光素子を表示装置に用いる場合には封止基板6704は光透過性を有する基板を用いる。   In this manner, light from the light emitting element can be extracted to the upper surface as indicated by an arrow in FIG. That is, when applied to the display panel of FIG. 28, light is emitted to the sealing substrate 6704 side. Therefore, in the case where a light-emitting element having a top emission structure is used for a display device, the sealing substrate 6704 is a light-transmitting substrate.

また、光学フィルムを設ける場合には、封止基板6704に光学フィルムを設ければよい。   In the case where an optical film is provided, an optical film may be provided over the sealing substrate 6704.

また、下面射出構造の発光素子について図32(b)を用いて説明する。射出構造以外は図32(a)と同じ構造の発光素子であるため同じ符号を用いて説明する。   A light-emitting element having a bottom emission structure will be described with reference to FIG. Since the light-emitting element has the same structure as that shown in FIG.

ここで、陽極として機能する第1の電極7102に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、インジウム錫酸化物(ITO、Indium Tin Oxide)、酸化インジウム酸化亜鉛(IZO、Indium Zinc Oxide)膜などの透明導電膜を用いることができる。透明性を有する透明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陽極を形成することができる。   Here, as a material used for the first electrode 7102 functioning as an anode, a material having a high work function is preferably used. For example, a transparent conductive film such as an indium tin oxide (ITO) film or an indium zinc oxide (IZO) film can be used. By using a transparent conductive film having transparency, an anode capable of transmitting light can be formed.

また、陰極として機能する第2の電極7104に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、CaF、またはCa)からなる金属膜を用いることができる。こうして、光を反射する金属膜を用いることで光が透過しない陰極を形成することができる。 As a material used for the second electrode 7104 functioning as a cathode, a material having a low work function (Al, Ag, Li, Ca, or an alloy thereof such as MgAg, MgIn, AlLi, CaF 2 , or Ca 3 N 2 ) is used. A metal film made of can be used. Thus, by using a metal film that reflects light, a cathode that does not transmit light can be formed.

以上により、図32(b)の矢印に示すように発光素子からの光を下面に取り出すことが可能になる。つまり、図28の表示パネルに適用した場合には、基板6710側に光が射出することになる。従って下面射出構造の発光素子を表示装置に用いる場合には基板6710は光透過性を有する基板を用いる。   As described above, light from the light emitting element can be extracted to the lower surface as indicated by an arrow in FIG. That is, when applied to the display panel of FIG. 28, light is emitted to the substrate 6710 side. Therefore, in the case where a light-emitting element having a bottom emission structure is used for a display device, the substrate 6710 is a light-transmitting substrate.

また、光学フィルムを設ける場合には、基板6710に光学フィルムを設ければよい。   In the case of providing an optical film, the substrate 6710 may be provided with an optical film.

両面射出構造の発光素子について図32(c)を用いて説明する。射出構造以外は図32(a)と同じ構造の発光素子であるため同じ符号を用いて説明する。   A light-emitting element having a dual emission structure will be described with reference to FIG. Since the light-emitting element has the same structure as that shown in FIG.

ここで、陽極として機能する第1の電極7102に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、インジウム錫酸化物(ITO、Indium Tin Oxide)、酸化インジウム酸化亜鉛(IZO、Indium Zinc Oxide)膜などの透明導電膜を用いることができる。透明性を有する透明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陽極を形成することができる。   Here, as a material used for the first electrode 7102 functioning as an anode, a material having a high work function is preferably used. For example, a transparent conductive film such as an indium tin oxide (ITO) film or an indium zinc oxide (IZO) film can be used. By using a transparent conductive film having transparency, an anode capable of transmitting light can be formed.

また、陰極として機能する第2の電極7104に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、CaF、または窒化カルシウム)からなる金属薄膜と、透明導電膜(インジウム錫酸化物(ITO、Indium Tin Oxide)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In―ZnO)、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのが良い。こうして薄い金属薄膜と、透明性を有する透明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陰極を形成することができる。 The material used for the second electrode 7104 functioning as a cathode is made of a material having a low work function (Al, Ag, Li, Ca, or an alloy thereof such as MgAg, MgIn, AlLi, CaF 2 , or calcium nitride). A stack of a metal thin film and a transparent conductive film (such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide alloy (In 2 O 3 —ZnO), zinc oxide (ZnO)) is preferably used. Thus, a cathode capable of transmitting light can be formed by using a thin metal thin film and a transparent conductive film having transparency.

こうして、図32(c)の矢印に示すように発光素子からの光を両面に取り出すことが可能になる。つまり、図28の表示パネルに適用した場合には、基板6710側と封止基板6704側に光が射出することになる。従って両面射出構造の発光素子を表示装置に用いる場合には基板6710および封止基板6704は、ともに光透過性を有する基板を用いる。   In this manner, light from the light emitting element can be extracted on both sides as indicated by arrows in FIG. That is, when applied to the display panel in FIG. 28, light is emitted to the substrate 6710 side and the sealing substrate 6704 side. Therefore, when a light-emitting element having a dual emission structure is used for a display device, both the substrate 6710 and the sealing substrate 6704 are light-transmitting substrates.

また、光学フィルムを設ける場合には、基板6710および封止基板6704の両方に光学フィルムを設ければよい。   In the case where an optical film is provided, the optical film may be provided on both the substrate 6710 and the sealing substrate 6704.

また、白色の発光素子とカラーフィルターを用いてフルカラー表示を実現する表示装置にも本発明を適用することが可能である。   In addition, the present invention can be applied to a display device that realizes full color display using a white light emitting element and a color filter.

図33に示すように、基板7200上に下地膜7202が形成され、その上に駆動用TFT7201が形成され、駆動用TFT7201のソース電極に接して第1の電極7203が形成され、その上に有機化合物を含む層7204と第2の電極7205が形成されている。   As shown in FIG. 33, a base film 7202 is formed over a substrate 7200, a driving TFT 7201 is formed thereon, a first electrode 7203 is formed in contact with the source electrode of the driving TFT 7201, and an organic film is formed thereon. A layer 7204 containing a compound and a second electrode 7205 are formed.

また、第1の電極7203は発光素子の陽極である。そして第2の電極7205は発光素子の陰極である。つまり、第1の電極7203と第2の電極7205とで有機化合物を含む層7204が挟まれているところが発光素子となる。図33の構成では白色光を発光する。そして、発光素子の上部に赤色のカラーフィルター7206R、緑色のカラーフィルター7206G、青色のカラーフィルター7206Bを設けられており、フルカラー表示を行うことができる。また、これらのカラーフィルターを隔離するブラックマトリクス(BMともいう)7207が設けられている。   The first electrode 7203 is an anode of the light emitting element. The second electrode 7205 is a cathode of the light emitting element. That is, a region where the layer 7204 containing an organic compound is sandwiched between the first electrode 7203 and the second electrode 7205 is a light-emitting element. In the configuration of FIG. 33, white light is emitted. A red color filter 7206R, a green color filter 7206G, and a blue color filter 7206B are provided above the light-emitting element, so that full color display can be performed. In addition, a black matrix (also referred to as BM) 7207 for separating these color filters is provided.

上述した発光素子の構成は組み合わせて用いることができ、本発明の画素構成を有する表示装置に適宜用いることができる。また、本明細書中の表示パネルの構成や、発光素子は例示であり、もちろん本発明の画素構成は他の構成の表示装置に適用することもできる。   The above-described structures of the light-emitting elements can be used in combination and can be used as appropriate for a display device having the pixel structure of the present invention. Further, the structure of the display panel and the light emitting element in this specification are examples, and the pixel structure of the present invention can be applied to display devices having other structures.

次に、表示パネルの画素部の部分断面図を示す。   Next, a partial cross-sectional view of a pixel portion of the display panel is shown.

まず、トランジスタの半導体層にアモルファスシリコン(a−Si:H)膜を用いた場合について説明する。図34にはトップゲートのトランジスタ、図35及び図36にはボトムゲートのトランジスタの場合について示す。   First, the case where an amorphous silicon (a-Si: H) film is used for a semiconductor layer of a transistor will be described. FIG. 34 shows a case of a top gate transistor, and FIGS. 35 and 36 show a case of a bottom gate transistor.

アモルファスシリコンを半導体層に用いた順スタガ構造のトランジスタの断面を図34(a)に示す。図34(a)に示すように、基板7601上に下地膜7602が形成されている。さらに下地膜7602上に画素電極7603が形成されている。また、画素電極7603と同層に同じ材料からなる第1の電極7604が形成されている。   FIG. 34A shows a cross section of a transistor having a forward stagger structure using amorphous silicon as a semiconductor layer. As shown in FIG. 34A, a base film 7602 is formed on a substrate 7601. Further, a pixel electrode 7603 is formed over the base film 7602. In addition, a first electrode 7604 made of the same material is formed in the same layer as the pixel electrode 7603.

基板はガラス基板、石英基板、セラミック基板、プラスチック基板などを用いることができる。また、下地膜7602としては、窒化アルミ(AlN)や酸化珪素(SiO)、酸化窒化珪素(SiO)などの単層やこれらの積層を用いることができる。 As the substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, a plastic substrate, or the like can be used. The base film 7602 can be formed using a single layer such as aluminum nitride (AlN), silicon oxide (SiO 2 ), or silicon oxynitride (SiO x N y ), or a stacked layer thereof.

また、下地膜7602上に配線7605及び配線7606が形成され、画素電極7603の端部が配線7605で覆われている。配線7605及び配線7606の上部にN型の導電型を有するN型半導体層7607及びN型半導体層7608が形成されている。また、配線7605と配線7606の間であって、下地膜7602上に半導体層7609が形成されている。そして、半導体層7609の一部はN型半導体層7607及びN型半導体層7608上にまで延長されている。なお、この半導体層はアモルファスシリコン(a−Si:H)、微結晶半導体(μ−Si:H)等の非結晶性を有する半導体膜で形成されている。また、半導体層7609上にゲート絶縁膜7610が形成されている。また、ゲート絶縁膜7610と同じ材料からなる絶縁膜7611が第1の電極7604上にも形成されている。なお、ゲート絶縁膜7610としては酸化珪素膜や窒化珪素膜などが用いられる。   Further, a wiring 7605 and a wiring 7606 are formed over the base film 7602, and an end portion of the pixel electrode 7603 is covered with the wiring 7605. An N-type semiconductor layer 7607 and an N-type semiconductor layer 7608 having an N-type conductivity are formed over the wirings 7605 and 7606. A semiconductor layer 7609 is formed between the wiring 7605 and the wiring 7606 and over the base film 7602. A part of the semiconductor layer 7609 extends to the N-type semiconductor layer 7607 and the N-type semiconductor layer 7608. Note that this semiconductor layer is formed of an amorphous semiconductor film such as amorphous silicon (a-Si: H) or microcrystalline semiconductor (μ-Si: H). In addition, a gate insulating film 7610 is formed over the semiconductor layer 7609. In addition, an insulating film 7611 made of the same material as the gate insulating film 7610 is formed over the first electrode 7604. Note that a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like is used as the gate insulating film 7610.

また、ゲート絶縁膜7610上に、ゲート電極7612が形成されている。また、ゲート電極と同層に同じ材料でなる第2の電極7613が第1の電極7604上に絶縁膜7611を介して形成されている。第1の電極7604及び第2の電極7613で絶縁膜7611を挟まれた容量素子7619が形成されている。また、画素電極7603の端部、駆動用トランジスタ7618及び容量素子7619を覆い、層間絶縁物7614が形成されている。   A gate electrode 7612 is formed over the gate insulating film 7610. A second electrode 7613 made of the same material and in the same layer as the gate electrode is formed over the first electrode 7604 with an insulating film 7611 interposed therebetween. A capacitor element 7619 in which an insulating film 7611 is sandwiched between the first electrode 7604 and the second electrode 7613 is formed. Further, an interlayer insulator 7614 is formed so as to cover an end portion of the pixel electrode 7603, the driving transistor 7618, and the capacitor 7619.

層間絶縁物7614及びその開口部に位置する画素電極7603上に有機化合物を含む層7615及び対向電極7616が形成され、画素電極7603と対向電極7616とで有機化合物を含む層7615が挟まれた領域では発光素子7617が形成されている。   A region 7615 containing an organic compound and a counter electrode 7616 are formed over the interlayer insulator 7614 and the pixel electrode 7603 located in the opening, and the layer 7615 containing an organic compound is sandwiched between the pixel electrode 7603 and the counter electrode 7616 Then, a light emitting element 7617 is formed.

また、図34(a)に示す第1の電極7604を図34(b)に示すように第1の電極7620で形成してもよい。第1の電極7620は配線7605及び7606と同一材料で形成されている。   Alternatively, the first electrode 7604 illustrated in FIG. 34A may be formed using the first electrode 7620 as illustrated in FIG. The first electrode 7620 is formed using the same material as the wirings 7605 and 7606.

また、アモルファスシリコンを半導体層に用いたボトムゲート構造のトランジスタを用いた表示パネルの部分断面を図35に示す。   FIG. 35 shows a partial cross section of a display panel using a bottom-gate transistor using amorphous silicon as a semiconductor layer.

基板7701上に下地膜7702が形成されている。さらに下地膜7702上にゲート電極7703が形成されている。また、ゲート電極7703と同層に同じ材料からなる第1の電極7704が形成されている。ゲート電極7703の材料にはリンが添加された多結晶シリコンを用いることができる。多結晶シリコンの他に、金属とシリコンの化合物であるシリサイドでもよい。   A base film 7702 is formed over the substrate 7701. Further, a gate electrode 7703 is formed over the base film 7702. In addition, a first electrode 7704 made of the same material is formed in the same layer as the gate electrode 7703. As a material for the gate electrode 7703, polycrystalline silicon to which phosphorus is added can be used. In addition to polycrystalline silicon, silicide which is a compound of metal and silicon may be used.

また、ゲート電極7703及び第1の電極7704を覆うようにゲート絶縁膜7705が形成されている。ゲート絶縁膜7705としては酸化珪素膜や窒化珪素膜などが用いられる。   A gate insulating film 7705 is formed so as to cover the gate electrode 7703 and the first electrode 7704. As the gate insulating film 7705, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like is used.

また、ゲート絶縁膜7705上に、半導体層7706が形成されている。また、半導体層7706と同層に同じ材料からなる半導体層7707が形成されている。   In addition, a semiconductor layer 7706 is formed over the gate insulating film 7705. In addition, a semiconductor layer 7707 made of the same material is formed in the same layer as the semiconductor layer 7706.

基板はガラス基板、石英基板、セラミック基板、プラスチック基板などを用いることができる。また、下地膜7602としては、窒化アルミ(AlN)や酸化珪素(SiO)、酸化窒化珪素(SiO)などの単層やこれらの積層を用いることができる。 As the substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, a plastic substrate, or the like can be used. The base film 7602 can be formed using a single layer such as aluminum nitride (AlN), silicon oxide (SiO 2 ), or silicon oxynitride (SiO x N y ), or a stacked layer thereof.

半導体層7706上にはN型の導電性を有するN型半導体層7708、7709が形成され、半導体層7707上にはN型半導体層7710が形成されている。   N-type semiconductor layers 7708 and 7709 having N-type conductivity are formed over the semiconductor layer 7706, and an N-type semiconductor layer 7710 is formed over the semiconductor layer 7707.

N型半導体層7708、7709上にはそれぞれ配線7711、7712が形成され、N型半導体層7710上には配線7711及び7712と同一材料からなる導電層7713が形成されている。   Wirings 7711 and 7712 are formed over the N-type semiconductor layers 7708 and 7709, respectively, and a conductive layer 7713 made of the same material as the wirings 7711 and 7712 is formed over the N-type semiconductor layer 7710.

半導体層7707、N型半導体層7710及び導電層7713からなる第2の電極が構成される。なお、この第2の電極と第1の電極7704でゲート絶縁膜7705を挟み込んだ構造の容量素子7720が形成されている。   A second electrode including the semiconductor layer 7707, the N-type semiconductor layer 7710, and the conductive layer 7713 is formed. Note that a capacitor 7720 having a structure in which the gate insulating film 7705 is sandwiched between the second electrode and the first electrode 7704 is formed.

また、配線7711の一方の端部は延在し、その延在した配線7711上部に接して画素電極7714が形成されている。   In addition, one end portion of the wiring 7711 extends, and a pixel electrode 7714 is formed in contact with the upper portion of the extended wiring 7711.

また、画素電極7714の端部、駆動用トランジスタ7719及び容量素子7720を覆うように絶縁物7715が形成されている。   In addition, an insulator 7715 is formed so as to cover an end portion of the pixel electrode 7714, the driving transistor 7719, and the capacitor 7720.

画素電極7714及び絶縁物7715上には有機化合物を含む層7716及び対向電極7717が形成され、画素電極7714と対向電極7717とで有機化合物を含む層7716が挟まれた領域では発光素子7718が形成されている。   A layer 7716 containing an organic compound and a counter electrode 7717 are formed over the pixel electrode 7714 and the insulator 7715, and a light-emitting element 7718 is formed in a region where the layer 7716 containing an organic compound is interposed between the pixel electrode 7714 and the counter electrode 7717. Has been.

容量素子7720の第2の電極の一部となる半導体層7707及びN型半導体層7710は設けなくても良い。つまり第2の電極は導電層7713とし、第1の電極7704と導電層7713でゲート絶縁膜が挟まれた構造の容量素子としてもよい。   The semiconductor layer 7707 and the N-type semiconductor layer 7710 which are part of the second electrode of the capacitor 7720 are not necessarily provided. That is, the capacitor may have a structure in which the second electrode is the conductive layer 7713 and the gate insulating film is sandwiched between the first electrode 7704 and the conductive layer 7713.

なお、図35(a)において、配線7711を形成する前に画素電極7714を形成することで、図35(b)に示すような、画素電極7714からなる第2の電極7721と第1の電極7704でゲート絶縁膜7705が挟まれた構造の容量素子7720を形成することができる。   Note that in FIG. 35A, the pixel electrode 7714 is formed before the wiring 7711 is formed, so that the second electrode 7721 and the first electrode including the pixel electrode 7714 as illustrated in FIG. A capacitor 7720 having a structure in which the gate insulating film 7705 is sandwiched between 7704 can be formed.

なお、図35では、逆スタガ型のチャネルエッチ構造のトランジスタについて示したが、もちろんチャネル保護構造のトランジスタでも良い。チャネル保護構造のトランジスタの場合について、図36(a)、(b)を用いて説明する。   Note that although an inverted staggered channel-etched transistor is shown in FIG. 35, a channel protective transistor may be used as a matter of course. The case of a transistor with a channel protective structure will be described with reference to FIGS.

図36(a)に示すチャネル保護型構造のトランジスタは図35(a)に示したチャネルエッチ構造の駆動用トランジスタ7719の半導体層7706のチャネルが形成される領域上にエッチングのマスクとなる絶縁物7801が設けられている点が異なり、他の共通しているところは共通の符号を用いている。   The transistor having the channel protective structure shown in FIG. 36A is an insulator serving as an etching mask over the region where the channel of the semiconductor layer 7706 of the driving transistor 7719 having the channel etch structure shown in FIG. The difference is that 7801 is provided, and other common parts use common reference numerals.

また、同様に、図36(b)に示すチャネル保護型構造のトランジスタは図35(b)に示したチャネルエッチ構造の駆動用トランジスタ7719の半導体層7706のチャネルが形成される領域上にエッチングのマスクとなる絶縁物7802が設けられている点が異なり、他の共通しているところは共通の符号を用いている。   Similarly, the transistor having the channel protection structure shown in FIG. 36B is etched on the region where the channel of the semiconductor layer 7706 of the driving transistor 7719 having the channel etch structure shown in FIG. A difference is that an insulator 7802 serving as a mask is provided, and common points are used for other common points.

なお、本発明の画素構成の適用することができるトランジスタの構造や、容量素子の構造は上述した構成に限られず、さまざまな構成のトランジスタの構造や、容量素子の構造を用いることができる。   Note that the structure of the transistor and the structure of the capacitor which can be applied to the pixel structure of the present invention are not limited to the above structures, and various structures of transistors and structures of the capacitor can be used.

本発明の画素構成を用いることで、発光素子の初期不良や進行性不良を抑制し、電界発光層の劣化による輝度の低下を防ぐことができる。さらに、本発明の画素を構成するトランジスタの半導体層(チャネル形成領域やソース領域やドレイン領域など)に非晶質半導体膜を用いることで、製造コストを削減することができる。   By using the pixel configuration of the present invention, it is possible to suppress an initial failure and a progressive failure of a light emitting element, and to prevent a decrease in luminance due to deterioration of an electroluminescent layer. Further, by using an amorphous semiconductor film for a semiconductor layer (a channel formation region, a source region, a drain region, or the like) of a transistor included in the pixel of the present invention, manufacturing cost can be reduced.

なお、本実施の形態は、本明細書中の実施の形態、他の実施例とも組み合わせて実施することが可能である。   Note that this embodiment can be implemented in combination with the embodiment in this specification and other examples.

実施の形態1である図1の画素構成のレイアウト図面を図42に示す。   FIG. 42 shows a layout diagram of the pixel configuration of FIG.

図42は信号線10001、電源線10002、走査線10003、スイッチング用トランジスタ10004、駆動用トランジスタ10005、画素電極10006、交流用トランジスタ10007、電位制御線10008から構成され、図1と同一名称のものはそれぞれに対応する。   42 includes a signal line 10001, a power supply line 10002, a scanning line 10003, a switching transistor 10004, a driving transistor 10005, a pixel electrode 10006, an alternating current transistor 10007, and a potential control line 10008. Corresponds to each.

なお、本発明の表示装置は、本実施例のレイアウトの構成に限定されない。   Note that the display device of the present invention is not limited to the layout configuration of this embodiment.

本発明の画素構成を用いることにより、発光素子に順方向の発光素子駆動電圧を印加する際には、発光素子に一定の電流を流すことが可能であり、発光素子に逆方向の発光素子駆動電圧を印加する際には、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を短絡箇所に流すことができ、かつ発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   By using the pixel configuration of the present invention, when a forward light emitting element driving voltage is applied to the light emitting element, a constant current can flow through the light emitting element, and the light emitting element is driven in the reverse direction. When a voltage is applied, a current sufficient to insulate the short-circuited portion can be supplied to the short-circuited portion, and the life of the light emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

本実施例は、上記の実施の形態1の図1の回路構成を用いているが、これに限らず、他の実施の形態、及び他の実施例と組み合わせることができる。   Although this embodiment uses the circuit configuration of FIG. 1 of the first embodiment described above, the present invention is not limited to this and can be combined with other embodiments and other examples.

本発明の表示装置は様々な電子機器に適用することができる。具体的には電子機器の表示部に適用することができる。そのような電子機器として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオ、オーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機又は電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置)などが挙げられる。   The display device of the present invention can be applied to various electronic devices. Specifically, it can be applied to a display portion of an electronic device. Such electronic devices include video cameras, digital cameras, goggles-type displays, navigation systems, sound playback devices (car audio, audio components, etc.), computers, game devices, portable information terminals (mobile computers, mobile phones, portable games) Or an image reproducing apparatus (specifically, an apparatus having a display capable of reproducing a recording medium such as a digital versatile disc (DVD) and displaying the image). .

図43(A)はディスプレイであり、筐体84101、支持台84102、表示部84103等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84103に用いることができる。なお、ディスプレイは、パーソナルコンピュータ用、テレビジョン放送受信用、広告表示用などの全ての情報表示用表示装置が含まれる。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84103に用いたディスプレイは、表示不良を防止し、発光素子の寿命を延ばすことができる。また、低コスト化を図ることも可能である。   FIG. 43A illustrates a display, which includes a housing 84101, a support base 84102, a display portion 84103, and the like. A display device having the pixel structure of the present invention can be used for the display portion 84103. The display includes all display devices for displaying information such as for personal computers, for receiving television broadcasts, and for displaying advertisements. A display using the display device having the pixel structure of the invention for the display portion 84103 can prevent display failure and extend the lifetime of the light-emitting element. In addition, cost reduction can be achieved.

近年、ディスプレイの大型化のニーズが強くなっている。そして、ディスプレイの大型化に伴い価格の上昇が問題となっている、よって、いかに製造コストの削減を図り、高品質な製品を少しでも低価格に抑えるかが課題となる。   In recent years, there is an increasing need for larger displays. As the display becomes larger, the price increases, so the problem is how to reduce the manufacturing cost and keep high-quality products at a low price.

例えば、上記実施の形態で示した画素構成を表示パネルの画素部に用いることで、単極性のトランジスタからなる表示パネルを提供することができる。よって、工程数を減らし製造コストを削減することができる。   For example, by using the pixel structure described in the above embodiment for a pixel portion of the display panel, a display panel including a unipolar transistor can be provided. Therefore, the number of steps can be reduced and the manufacturing cost can be reduced.

また、図28(a)に示すように画素部と周辺の駆動回路を一体形成することにより、単極性のトランジスタからなる回路で構成された表示パネルを形成することができる。   Further, as shown in FIG. 28A, a pixel panel and a peripheral driver circuit are integrally formed, whereby a display panel including a circuit formed of a unipolar transistor can be formed.

また、画素部を構成する回路のトランジスタの半導体層に非晶質半導体(例えばアモルファスシリコン(a−Si:H))を用いることで、工程を簡略化し、さらなるコストダウンが図れる。この場合には図29(b)や図30(a)に示したように、画素部の周辺の駆動回路をICチップ上に形成し、COG等で表示パネルに実装する良い。このように、非晶質半導体を用いることでディスプレイの大型化が容易になる。   Further, by using an amorphous semiconductor (eg, amorphous silicon (a-Si: H)) for a semiconductor layer of a transistor in a circuit included in the pixel portion, the process can be simplified and further cost reduction can be achieved. In this case, as shown in FIGS. 29B and 30A, a driver circuit around the pixel portion may be formed on the IC chip and mounted on the display panel by COG or the like. Thus, the use of an amorphous semiconductor makes it easy to increase the size of the display.

図43(B)はカメラであり、本体84201、表示部84202、受像部84203、操作キー84204、外部接続ポート84205、シャッター84206等を含む。 FIG. 43B shows a camera, which includes a main body 84201, a display portion 84202, an image receiving portion 84203, operation keys 84204, an external connection port 84205, a shutter 84206, and the like.

近年、デジタルカメラなどの高性能化に伴い、生産競争は激化している。そして、いかに高性能なものを低価格に抑えるかが重要となる。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84202に用いたデジタルカメラは、表示不良を防止し、発光素子の寿命を延ばすことができる。また、低コスト化を図ることも可能である。   In recent years, production competition has intensified along with the improvement in performance of digital cameras and the like. And how to keep high-performance products at low prices is important. A digital camera using the display device having the pixel structure of the invention for the display portion 84202 can prevent a display defect and extend the lifetime of the light-emitting element. In addition, cost reduction can be achieved.

例えば、上記実施の形態の画素構成を画素部に用いることで、単極性のトランジスタからなる画素部を形成することができる。また、図29(a)に示すように、動作速度の高い信号線駆動回路はICチップ上に形成し、比較的動作速度の低い走査線駆動回路を画素部と共に単極性のトランジスタで構成される回路で一体形成することで、高性能化を実現し、低コスト化を図ることができる。また、画素部と、画素部と共に一体形成する走査線駆動回路に用いられるトランジスタの半導体層に非晶質半導体、例えばアモルファスシリコンを適用することでさらなる低コスト化が図れる。   For example, by using the pixel structure of the above embodiment for a pixel portion, a pixel portion formed of a unipolar transistor can be formed. In addition, as shown in FIG. 29A, a signal line driver circuit with a high operating speed is formed on an IC chip, and a scanning line driver circuit with a relatively low operating speed is formed of a unipolar transistor together with a pixel portion. By integrally forming the circuit, high performance can be realized and cost can be reduced. Further, by applying an amorphous semiconductor, for example, amorphous silicon, to a semiconductor portion of a transistor used in a pixel portion and a scan line driver circuit which is integrally formed with the pixel portion, cost can be further reduced.

図43(C)はコンピュータであり、本体84301、筐体84302、表示部84303、キーボード84304、外部接続ポート84305、ポインティングマウス84306等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84303に用いたコンピュータは、表示不良を防止し、発光素子の寿命を延ばすことができる。また、低コスト化を図ることも可能である。   FIG. 43C illustrates a computer, which includes a main body 84301, a housing 84302, a display portion 84303, a keyboard 84304, an external connection port 84305, a pointing mouse 84306, and the like. A computer using the display device having the pixel structure of the invention for the display portion 84303 can prevent a display defect and extend the lifetime of the light-emitting element. In addition, cost reduction can be achieved.

図43(D)はモバイルコンピュータであり、本体84401、表示部84402、スイッチ84403、操作キー84404、赤外線ポート84405等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84402に用いたモバイルコンピュータは、表示不良を防止し、発光素子の寿命を延ばすことができる。また、低コスト化を図ることも可能である。   FIG. 43D illustrates a mobile computer, which includes a main body 84401, a display portion 84402, a switch 84403, operation keys 84404, an infrared port 84405, and the like. A mobile computer using the display device having the pixel structure of the invention for the display portion 84402 can prevent a display defect and extend the lifetime of the light-emitting element. In addition, cost reduction can be achieved.

図43(E)は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置(具体的にはDVD再生装置)であり、本体84501、筐体84502、表示部A84503、表示部B84504、記録媒体(DVD等)読み込み部84505、操作キー84506、スピーカー部84507等を含む。表示部A84503は主として画像情報を表示し、表示部B84504は主として文字情報を表示することができる。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部A84503や表示部B84504に用いた画像再生装置は、表示不良を防止し、発光素子の寿命を延ばすことができる。また、低コスト化を図ることも可能である。   FIG. 43E shows a portable image reproducing device (specifically, a DVD reproducing device) provided with a recording medium, which includes a main body 84501, a housing 84502, a display portion A 84503, a display portion B 84504, and a recording medium (DVD or the like). A reading portion 84505, an operation key 84506, a speaker portion 84507, and the like are included. The display portion A 84503 can mainly display image information, and the display portion B 84504 can mainly display character information. An image reproducing device using the display device having the pixel structure of the present invention for the display portion A 84503 or the display portion B 84504 can prevent display defects and extend the lifetime of the light-emitting element. In addition, cost reduction can be achieved.

図43(F)はゴーグル型ディスプレイであり、本体84601、表示部84602、イヤホン84603、支持部84604を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84602に用いたゴーグル型ディスプレイは、表示不良を防止し、発光素子の寿命を延ばすことができる。また、低コスト化を図ることも可能である。   FIG. 43F illustrates a goggle type display which includes a main body 84601, a display portion 84602, earphones 84603, and a support portion 84604. A goggle type display using the display device having the pixel structure of the present invention for the display portion 84602 can prevent a display defect and extend the lifetime of the light-emitting element. In addition, cost reduction can be achieved.

図43(G)は携帯型遊技機であり、筐体84701、表示部84702、スピーカー部84703、操作キー84704、記憶媒体挿入部84705等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84702に用いた携帯型遊技機は、表示不良を防止し、発光素子の寿命を延ばすことができる。また、低コスト化を図ることも可能である。   FIG. 43G illustrates a portable game machine including a housing 84701, a display portion 84702, speaker portions 84703, operation keys 84704, a storage medium insert portion 84705, and the like. A portable game machine using the display device having the pixel structure of the invention for the display portion 84702 can prevent a display defect and extend the lifetime of the light-emitting element. In addition, cost reduction can be achieved.

図43(H)はテレビ受像機能付きデジタルカメラであり、本体84801、表示部84802、操作キー84803、スピーカー84804、シャッター84805、受像部84806、アンテナ84807等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84802に用いたテレビ受像機能付きデジタルカメラは、表示不良を防止し、発光素子の寿命を延ばすことができる。また、画素の開口率が高く高詳細な表示が可能となる。また、低コスト化を図ることも可能である。   FIG. 43H illustrates a digital camera with a television receiving function, which includes a main body 84801, a display portion 84802, operation keys 84803, speakers 84804, a shutter 84805, an image receiving portion 84806, an antenna 84807, and the like. A digital camera with a television receiver function using the display device having the pixel structure of the present invention for the display portion 84802 can prevent a display defect and extend the lifetime of the light-emitting element. In addition, the pixel aperture ratio is high, and high-detail display is possible. In addition, cost reduction can be achieved.

例えば、上記実施の形態の画素構成を画素部に用いることで、画素の開口率を向上させることができる。具体的には、発光素子を駆動する駆動用トランジスタにNチャネル型のトランジスタを用いることで開口率が向上する。よって、高精細な表示部を有するテレビ受像機能付きデジタルカメラを提供することができる。   For example, by using the pixel configuration in the above embodiment for a pixel portion, the aperture ratio of the pixel can be improved. Specifically, the aperture ratio is improved by using an N-channel transistor as a driving transistor for driving the light-emitting element. Therefore, a digital camera with a television receiving function having a high-definition display portion can be provided.

このように多機能化し、テレビ受像機能付きデジタルカメラはテレビの視聴等に使用頻度が高まる一方で、一回の充電により長時間使用できることが要求される。   As described above, a digital camera with a multi-function television receiving function is required to be usable for a long time by one charge while being frequently used for viewing a television.

例えば、図29(b)や図30(a)に示すように周辺駆動回路をICチップ上に形成し、CMOS等を用いることにより低消費電力化を図ることが可能である。   For example, as shown in FIGS. 29B and 30A, it is possible to reduce power consumption by forming a peripheral drive circuit on an IC chip and using a CMOS or the like.

このように本発明は、あらゆる電子機器に適用することが可能である。   Thus, the present invention can be applied to all electronic devices.

なお、本実施例は、本明細書中の他の実施の形態、実施例とも組み合わせて実施することが可能である。   Note that this example can be implemented in combination with any of the other embodiments and examples in this specification.

本実施例において、本発明の画素構成を用いた表示装置を表示部に有する携帯電話の構成例について図44を用いて説明する。 In this embodiment, a structure example of a mobile phone having a display device using the pixel structure of the present invention in a display portion will be described with reference to FIG.

表示パネル8301はハウジング8330に脱着自在に組み込まれる。ハウジング8330は表示パネル8301のサイズに合わせて、形状や寸法を適宜変更することができる。表示パネル8301を固定したハウジング8330はプリント基板8331に嵌入されモジュールとして組み立てられる。   The display panel 8301 is incorporated in a housing 8330 so as to be detachable. The shape and size of the housing 8330 can be changed as appropriate in accordance with the size of the display panel 8301. A housing 8330 to which the display panel 8301 is fixed is fitted into a printed board 8331 and assembled as a module.

表示パネル8301はFPC8313を介してプリント基板8331に接続される。プリント基板8331には、スピーカー8332、マイクロフォン8333、送受信回路8334、CPU及びコントローラなどを含む信号処理回路8335が形成されている。このようなモジュールと、入力手段8336、バッテリー8337を組み合わせ、筐体8339に収納する。表示パネル8301の画素部は筐体8339に形成された開口窓から視認できように配置する。   The display panel 8301 is connected to the printed board 8331 through the FPC 8313. A signal processing circuit 8335 including a speaker 8332, a microphone 8333, a transmission / reception circuit 8334, a CPU, a controller, and the like is formed over the printed board 8331. Such a module is combined with the input means 8336 and the battery 8337 and stored in the housing 8339. The pixel portion of the display panel 8301 is arranged so that it can be seen from an opening window formed in the housing 8339.

表示パネル8301は、画素部と一部の周辺駆動回路(複数の駆動回路のうち動作周波数の低い駆動回路)を基板上にTFTを用いて一体形成し、一部の周辺駆動回路(複数の駆動回路のうち動作周波数の高い駆動回路)をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(Chip On Glass)で表示パネル8301に実装しても良い。あるいは、そのICチップをTAB(Tape Auto Bonding)やプリント基板を用いてガラス基板と接続してもよい。なお、一部の周辺駆動回路を基板上に画素部と一体形成し、他の周辺駆動回路を形成したICチップをCOG等で実装した表示パネルの構成は図28(a)に一例を示してある。このような構成とすることで、表示装置の低消費電力化を図り、携帯電話機の一回の充電による使用時間を長くすることができる。また、携帯電話機の低コスト化を図ることができる。   In the display panel 8301, a pixel portion and some peripheral driver circuits (a driver circuit having a low operating frequency among a plurality of driver circuits) are integrally formed using a TFT over a substrate, and some peripheral driver circuits (a plurality of driver circuits) are formed. A driving circuit having a high operating frequency among the circuits) may be formed over the IC chip, and the IC chip may be mounted on the display panel 8301 by COG (Chip On Glass). Alternatively, the IC chip may be connected to the glass substrate using TAB (Tape Auto Bonding) or a printed board. Note that FIG. 28A shows an example of the configuration of a display panel in which some peripheral drive circuits are formed integrally with a pixel portion on a substrate and an IC chip on which other peripheral drive circuits are formed is mounted by COG or the like. is there. With such a structure, the power consumption of the display device can be reduced, and the usage time by one charge of the mobile phone can be extended. In addition, the cost of the mobile phone can be reduced.

また、画素部には上記実施の形態で示した画素構成を適宜適用することができる。   The pixel structure described in the above embodiment can be applied as appropriate to the pixel portion.

例えば、上記実施の形態で示した画素構成等を適用することで低コスト化を実現するため、画素部及び画素部と一体形成する周辺駆動回路を単極性のトランジスタで構成して製造工程の削減を図ることができる。   For example, in order to realize cost reduction by applying the pixel configuration shown in the above embodiment mode, the peripheral driving circuit formed integrally with the pixel portion and the pixel portion is configured with a unipolar transistor, thereby reducing the manufacturing process. Can be achieved.

また、さらに消費電力の低減を図るため、図29(b)や図30(a)に示すように、基板上にTFTを用いて画素部を形成し、全ての周辺駆動回路をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(Chip On Glass)などで表示パネルに実装しても良い。そして、画素部には、上記実施の形態の画素構成を用い、非晶質半導体膜をトランジスタの半導体層に用いることで製造コストの削減を図ることができる。   In order to further reduce power consumption, as shown in FIGS. 29B and 30A, a pixel portion is formed on a substrate using TFTs, and all peripheral drive circuits are formed on an IC chip. Then, the IC chip may be mounted on the display panel by COG (Chip On Glass) or the like. In the pixel portion, the pixel structure of the above embodiment mode is used, and an amorphous semiconductor film is used for a semiconductor layer of the transistor, so that manufacturing cost can be reduced.

また、本実施例に示した構成は携帯電話の一例であって、本発明の画素構成はこのような構成の携帯電話に限られず様々な構成の携帯電話に適用することができる。   Further, the configuration shown in this embodiment is an example of a mobile phone, and the pixel configuration of the present invention is not limited to the mobile phone having such a configuration, and can be applied to mobile phones having various configurations.

なお、本実施例は、本明細書中の実施の形態、他の実施例とも組み合わせて実施することが可能である。   Note that this embodiment can be implemented in combination with the embodiment mode and other embodiments in this specification.

本実施例においては、本発明の画素構成を用いた表示装置を表示部に有する電子機器、特にELモジュールを具備するテレビ受像器の構成例について説明する。   In this embodiment, an example of a structure of an electronic device having a display device using the pixel structure of the present invention in a display portion, particularly a television receiver including an EL module will be described.

図45は表示パネル7901と、回路基板7911を組み合わせたELモジュールを示している。表示パネル7901は画素部7902、走査線駆動回路7903及び信号線駆動回路7904を有している。回路基板7911には、例えば、コントロール回路7912や信号分割回路7913などが形成されている。表示パネル7901と回路基板7911は接続配線7914によって接続されている。接続配線にはFPC等を用いることができる。   FIG. 45 shows an EL module in which a display panel 7901 and a circuit board 7911 are combined. A display panel 7901 includes a pixel portion 7902, a scan line driver circuit 7903, and a signal line driver circuit 7904. On the circuit board 7911, for example, a control circuit 7912, a signal dividing circuit 7913, and the like are formed. The display panel 7901 and the circuit board 7911 are connected by a connection wiring 7914. An FPC or the like can be used for the connection wiring.

表示パネル7901は、画素部と一部の周辺駆動回路(複数の駆動回路のうち動作周波数の低い駆動回路)を基板上にTFTを用いて一体形成し、一部の周辺駆動回路(複数の駆動回路のうち動作周波数の高い駆動回路)をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(Chip On Glass)などで表示パネル7901に実装するとよい。あるいは、そのICチップをTAB(Tape Auto Bonding)やプリント基板を用いて表示パネル7901に実装しても良い。なお、一部の周辺駆動回路を基板上に画素部と一体形成し、他の周辺駆動回路を形成したICチップをCOG等で実装した構成は図28(a)に一例を示してある。   In the display panel 7901, a pixel portion and some peripheral driver circuits (a driver circuit having a low operating frequency among a plurality of driver circuits) are integrally formed using a TFT over a substrate, and some peripheral driver circuits (a plurality of driver circuits) are formed. A driver circuit having a high operating frequency among the circuits) is formed over the IC chip, and the IC chip is preferably mounted on the display panel 7901 with COG (Chip On Glass) or the like. Alternatively, the IC chip may be mounted on the display panel 7901 using TAB (Tape Auto Bonding) or a printed board. FIG. 28A shows an example of a configuration in which a part of the peripheral drive circuit is formed integrally with the pixel portion on the substrate and the IC chip on which the other peripheral drive circuit is formed is mounted by COG or the like.

また、画素部には上記実施の形態で示した画素構成を適宜適用することができる。   The pixel structure described in the above embodiment can be applied as appropriate to the pixel portion.

例えば、上記実施の形態で示した画素構成等を適用することで、低コスト化を実現するため画素部及び画素部と一体基板上に形成する周辺駆動回路を単極性のトランジスタで構成して製造工程の削減を図ることができる。 For example, by applying the pixel configuration or the like shown in the above embodiment mode, the pixel portion and the peripheral driver circuit formed on the substrate integrated with the pixel portion are configured with a unipolar transistor in order to realize cost reduction. The number of processes can be reduced.

また、さらに消費電力の低減を図るため、ガラス基板上にTFTを用いて画素部を形成し、全ての周辺駆動回路をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(Chip On Glass)表示パネルに実装してもよい。   In order to further reduce power consumption, a pixel portion is formed using a TFT on a glass substrate, all peripheral driving circuits are formed on an IC chip, and the IC chip is a COG (Chip On Glass) display panel. May be implemented.

また、上記実施の形態で示した画素構成を適用することで、Nチャネル型のトランジスタのみで画素を構成することができるため、非晶質半導体(例えば、アモルファスシリコン)をトランジスタの半導体層に適用することが可能となる。つまり、均一な結晶性半導体膜を作製することが困難な大型の表示装置の作製が可能となる。また、画素を構成するトランジスタの半導体層に非晶質半導体膜を用いることにより、製造工程を削減することができ、製造コストの削減も図ることができる。   In addition, since the pixel can be formed using only the N-channel transistor by applying the pixel structure described in the above embodiment mode, an amorphous semiconductor (eg, amorphous silicon) is used for the semiconductor layer of the transistor. It becomes possible to do. That is, a large display device in which it is difficult to manufacture a uniform crystalline semiconductor film can be manufactured. In addition, by using an amorphous semiconductor film for a semiconductor layer of a transistor included in a pixel, a manufacturing process can be reduced and a manufacturing cost can be reduced.

なお、非晶質半導体膜を、画素を構成するトランジスタの半導体層に適用する場合には、基板上にTFTを用いて画素部を形成し、全ての周辺駆動回路をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(Chip On Glass)で表示パネルに実装するとよい。なお、基板上に画素部を形成し、その基板上に周辺駆動回路を形成したICチップをCOG等で実装した構成は図29(b)に一例を示してある。 Note that when an amorphous semiconductor film is applied to a semiconductor layer of a transistor included in a pixel, a pixel portion is formed using a TFT over a substrate, and all peripheral driver circuits are formed over an IC chip. The IC chip may be mounted on the display panel by COG (Chip On Glass). FIG. 29B shows an example of a configuration in which an IC chip in which a pixel portion is formed on a substrate and a peripheral driver circuit is formed on the substrate is mounted by COG or the like.

このELモジュールによりELテレビ受像機を完成させることができる。図46は、ELテレビ受像機の主要な構成を示すブロック図である。チューナ8001は映像信号と音声信号を受信する。映像信号は、映像信号増幅回路8002と、そこから出力される信号を赤、緑、青の各色に対応した色信号に変換する映像信号処理回路8003と、その映像信号を駆動回路の入力仕様に変換するためのコントロール回路8012により処理される。   With this EL module, an EL television receiver can be completed. FIG. 46 is a block diagram showing the main configuration of an EL television receiver. A tuner 8001 receives a video signal and an audio signal. The video signal includes a video signal amplifying circuit 8002, a video signal processing circuit 8003 that converts a signal output from the video signal into a color signal corresponding to each color of red, green, and blue, and uses the video signal as input specifications of the drive circuit. Processing is performed by a control circuit 8012 for conversion.

コントロール回路8012は、走査線側(走査線駆動回路8021)と信号線側(信号線駆動回路8004)にそれぞれ信号が出力する。デジタル駆動する場合には、信号線側に信号分割回路8013を設け、入力デジタル信号をm個に分割して供給する構成としても良い。なお、表示パネル8020は、走査線駆動回路8021及び信号線駆動回路8004それぞれから信号が入力される。   The control circuit 8012 outputs a signal to each of the scan line side (scan line drive circuit 8021) and the signal line side (signal line drive circuit 8004). In the case of digital driving, a signal dividing circuit 8013 may be provided on the signal line side so that an input digital signal is divided into m pieces and supplied. Note that the display panel 8020 receives signals from the scan line driver circuit 8021 and the signal line driver circuit 8004.

チューナ8001で受信した信号のうち、音声信号は音声信号増幅回路8005に送られ、その出力は音声信号処理回路8006を経てスピーカー8007に供給される。制御回路8008は受信局(受信周波数)や音量の制御情報を入力部8009から受け、チューナ8001や音声信号処理回路8006に信号を送出する。   Of the signals received by the tuner 8001, the audio signal is sent to the audio signal amplifier circuit 8005, and the output is supplied to the speaker 8007 via the audio signal processing circuit 8006. The control circuit 8008 receives control information on the receiving station (reception frequency) and volume from the input unit 8009 and sends a signal to the tuner 8001 and the audio signal processing circuit 8006.

また、図46とは別の形態のELモジュールを組み込んだテレビ受像器について図47(A)に示す。図47(A)において、表示画面8102はELモジュールで形成される。また、筐体8101には、スピーカー8103、操作スイッチ8104などが適宜備えられている。   FIG. 47A shows a television receiver in which an EL module of a different form from that in FIG. 46 is incorporated. In FIG. 47A, a display screen 8102 is formed of an EL module. The housing 8101 is appropriately provided with a speaker 8103, an operation switch 8104, and the like.

また図47(B)に、ワイヤレスでディスプレイのみを持ち運び可能なテレビ受像器を示す。筐体8112にはバッテリー及び信号受信器が内蔵されており、そのバッテリーで表示部8113やスピーカー部8117を駆動させる。バッテリーは充電器8110で繰り返し充電が可能となっている。また、充電器8110は映像信号を送受信することが可能で、その映像信号をディスプレイの信号受信器に送信することができる。筐体8112は操作キー8116によって制御する。また、図47(B)に示す装置は、操作キー8116を操作することによって、筐体8112から充電器8110に信号を送ることも可能であるため映像音声双方向通信装置とも言える。また、操作キー8116を操作することによって、筐体8112から充電器8110に信号を送り、さらに充電器8110が送信できる信号を他の電子機器に受信させることによって、他の電子機器の通信制御も可能であり、汎用遠隔制御装置とも言える。本発明は表示部8113に適用することができる。   FIG. 47B shows a television receiver that can carry only a display wirelessly. A housing and a signal receiver are incorporated in the housing 8112, and the display portion 8113 and the speaker portion 8117 are driven by the battery. The battery can be repeatedly charged by a charger 8110. The charger 8110 can transmit and receive a video signal, and can transmit the video signal to a signal receiver of the display. The housing 8112 is controlled by operation keys 8116. The device illustrated in FIG. 47B can also be referred to as a video / audio two-way communication device because a signal can be transmitted from the housing 8112 to the charger 8110 by operating the operation key 8116. Further, by operating the operation key 8116, a signal is transmitted from the housing 8112 to the charger 8110, and a signal that can be transmitted by the charger 8110 is received by another electronic device, so that communication control of the other electronic device can be performed. It can be said to be a general-purpose remote control device. The present invention can be applied to the display portion 8113.

図48(A)は表示パネル8201とプリント配線基板8202を組み合わせたモジュールを示している。表示パネル8201は、複数の画素が設けられた画素部8203と、第1の走査線駆動回路8204、第2の走査線駆動回路8205と、選択された画素にビデオ信号を供給する信号線駆動回路8206を備えている。   FIG. 48A shows a module in which a display panel 8201 and a printed wiring board 8202 are combined. The display panel 8201 includes a pixel portion 8203 provided with a plurality of pixels, a first scan line driver circuit 8204, a second scan line driver circuit 8205, and a signal line driver circuit that supplies a video signal to the selected pixel. 8206 is provided.

プリント配線基板8202には、コントローラ8207、中央処理装置(CPU8208)、メモリ8209、電源回路8210、音声処理回路8211及び送受信回路8212などが備えられている。プリント配線基板8202と表示パネル8201は、FPC8213により接続されている。プリント配線基板8202には、容量素子、バッファ回路などを設け、電源電圧や信号にノイズがのったり、信号の立ち上がりが鈍ったりすることを防ぐ構成としても良い。また、コントローラ8207、音声処理回路8211、メモリ8209、CPU8208、電源回路8210などは、COG(Chip On Glass)方式を用いて表示パネル8201に実装することもできる。COG方式により、プリント配線基板8202の規模を縮小することができる。   The printed wiring board 8202 is provided with a controller 8207, a central processing unit (CPU 8208), a memory 8209, a power supply circuit 8210, an audio processing circuit 8211, a transmission / reception circuit 8212, and the like. The printed wiring board 8202 and the display panel 8201 are connected by an FPC 8213. The printed wiring board 8202 may be provided with a capacitor, a buffer circuit, or the like so that noise is added to the power supply voltage or the signal or the rise of the signal is not slowed. In addition, the controller 8207, the audio processing circuit 8211, the memory 8209, the CPU 8208, the power supply circuit 8210, and the like can be mounted on the display panel 8201 using a COG (Chip On Glass) method. The scale of the printed wiring board 8202 can be reduced by the COG method.

プリント配線基板8202に備えられたインターフェース(I/F)8214を介して、各種制御信号の入出力が行われる。また、アンテナとの間の信号の送受信を行うためのアンテナ用ポート8215が、プリント配線基板8202に設けられている。   Various control signals are input / output through an interface (I / F) 8214 provided on the printed wiring board 8202. In addition, an antenna port 8215 for transmitting and receiving signals to and from the antenna is provided on the printed wiring board 8202.

図48(B)は、図48(A)に示したモジュールのブロック図を示す。このモジュールは、メモリ8209としてVRAM8216、DRAM8217、フラッシュメモリ8218などが含まれている。VRAM8216にはパネルに表示する画像のデータが、DRAM8217には画像データまたは音声データが、フラッシュメモリには各種プログラムが記憶されている。   FIG. 48B is a block diagram of the module shown in FIG. This module includes a VRAM 8216, DRAM 8217, flash memory 8218, and the like as the memory 8209. The VRAM 8216 stores image data to be displayed on the panel, the DRAM 8217 stores image data or audio data, and the flash memory stores various programs.

電源回路8210は、表示パネル8201、コントローラ8207、CPU8208、音声処理回路8211、メモリ8209、送受信回路8212を動作させる電力を供給する。またパネルの仕様によっては、電源回路8210に電流源が備えられている場合もある。   The power supply circuit 8210 supplies power for operating the display panel 8201, the controller 8207, the CPU 8208, the sound processing circuit 8211, the memory 8209, and the transmission / reception circuit 8212. Depending on the specifications of the panel, the power supply circuit 8210 may be provided with a current source.

CPU8208は、制御信号生成回路8220、デコーダ8221、レジスタ8222、演算回路8223、RAM8224、CPU8208用のインターフェース8219などを有している。インターフェース8219を介してCPU8208に入力された各種信号は、一旦レジスタ8222に保持された後、演算回路8223、デコーダ8221などに入力される。演算回路8223では、入力された信号に基づき演算を行い、各種命令を送る場所を指定する。一方デコーダ8221に入力された信号はデコードされ、制御信号生成回路8220に入力される。制御信号生成回路8220は入力された信号に基づき、各種命令を含む信号を生成し、演算回路8223において指定された場所、具体的にはメモリ8209、送受信回路8212、音声処理回路8211、コントローラ8207などに送る。   The CPU 8208 includes a control signal generation circuit 8220, a decoder 8221, a register 8222, an arithmetic circuit 8223, a RAM 8224, an interface 8219 for the CPU 8208, and the like. Various signals input to the CPU 8208 through the interface 8219 are temporarily stored in the register 8222 and then input to the arithmetic circuit 8223, the decoder 8221, and the like. The arithmetic circuit 8223 performs an operation based on the input signal and designates a place to send various commands. On the other hand, the signal input to the decoder 8221 is decoded and input to the control signal generation circuit 8220. The control signal generation circuit 8220 generates a signal including various commands based on the input signal, and a location specified in the arithmetic circuit 8223, specifically, a memory 8209, a transmission / reception circuit 8212, an audio processing circuit 8211, a controller 8207, and the like. Send to.

メモリ8209、送受信回路8212、音声処理回路8211、コントローラ8207は、それぞれ受けた命令に従って動作する。以下その動作について簡単に説明する。   The memory 8209, the transmission / reception circuit 8212, the audio processing circuit 8211, and the controller 8207 operate according to the received commands. The operation will be briefly described below.

入力手段8225から入力された信号は、I/F8214を介してプリント配線基板8202に実装されたCPU8208に送られる。制御信号生成回路8220は、ポインティングデバイスやキーボードなどの入力手段8225から送られてきた信号に従い、VRAM8216に格納してある画像データを所定のフォーマットに変換し、コントローラ8207に送付する。   A signal input from the input unit 8225 is sent to the CPU 8208 mounted on the printed wiring board 8202 via the I / F 8214. The control signal generation circuit 8220 converts the image data stored in the VRAM 8216 into a predetermined format in accordance with a signal sent from the input device 8225 such as a pointing device or a keyboard, and sends it to the controller 8207.

コントローラ8207は、パネルの仕様に合わせてCPU8208から送られてきた画像データを含む信号にデータ処理を施し、表示パネル8201に供給する。またコントローラ8207は、電源回路8210から入力された電源電圧やCPU8208から入力された各種信号をもとに、Hsync信号、Vsync信号、クロック信号CLK、交流電圧(AC Cont)、切り替え信号L/Rを生成し、表示パネル8201に供給する。   The controller 8207 performs data processing on a signal including image data sent from the CPU 8208 in accordance with the panel specifications, and supplies the processed signal to the display panel 8201. Further, the controller 8207 generates an Hsync signal, a Vsync signal, a clock signal CLK, an AC voltage (AC Cont), and a switching signal L / R based on the power supply voltage input from the power supply circuit 8210 and various signals input from the CPU 8208. Generated and supplied to the display panel 8201.

送受信回路8212では、アンテナ8228において電波として送受信される信号が処理されており、具体的にはアイソレータ、バンドパスフィルタ、VCO(Voltage Controlled Oscillator)、LPF(Low Pass Filter)、カプラ、バランなどの高周波回路を含んでいる。送受信回路8212において送受信される信号のうち音声情報を含む信号が、CPU8208からの命令に従って、音声処理回路8211に送られる。   In the transmission / reception circuit 8212, signals transmitted / received as radio waves in the antenna 8228 are processed. Specifically, high-frequency signals such as isolators, band-pass filters, VCOs (Voltage Controlled Oscillators), LPFs (Low Pass Filters), couplers, and baluns are used. Includes circuitry. A signal including audio information among signals transmitted and received in the transmission / reception circuit 8212 is sent to the audio processing circuit 8211 in accordance with a command from the CPU 8208.

CPU8208の命令に従って送られてきた音声情報を含む信号は、音声処理回路8211において音声信号に復調され、スピーカー8227に送られる。またマイク8226から送られてきた音声信号は、音声処理回路8211において変調され、CPU8208からの命令に従って、送受信回路8212に送られる。   A signal including audio information sent in accordance with a command from the CPU 8208 is demodulated into an audio signal by the audio processing circuit 8211 and sent to the speaker 8227. The audio signal sent from the microphone 8226 is modulated by the audio processing circuit 8211 and sent to the transmission / reception circuit 8212 in accordance with a command from the CPU 8208.

コントローラ8207、CPU8208、電源回路8210、音声処理回路8211、メモリ8209を、本実施例のパッケージとして実装することができる。   The controller 8207, the CPU 8208, the power supply circuit 8210, the sound processing circuit 8211, and the memory 8209 can be mounted as a package of this embodiment.

勿論、本発明はテレビ受像機に限定されず、パーソナルコンピュータのモニタをはじめ、鉄道の駅や空港などにおける情報表示盤や、街頭における広告表示盤など特に大面積の表示媒体として様々な用途に適用することができる。   Of course, the present invention is not limited to a television receiver, and is applied to various uses as a display medium of a particularly large area such as a monitor of a personal computer, an information display board in a railway station or airport, an advertisement display board in a street, etc. can do.

以上により、本発明の画素構成を用いた表示装置は、発光素子に順方向の発光素子駆動電圧を印加する際には、発光素子に一定の電流を流すことが可能であり、発光素子に逆方向の発光素子駆動電圧を印加する際には、短絡箇所を絶縁化するのに十分な電流を短絡箇所に流すことができ、かつ発光素子の寿命を延ばすことが可能である。また、回路構成において単極性のトランジスタで構成することができるため安価に製造することが可能となる。   As described above, the display device using the pixel structure of the present invention can flow a constant current to the light emitting element when a forward light emitting element driving voltage is applied to the light emitting element. When applying the light-emitting element driving voltage in the direction, a current sufficient to insulate the short-circuited portion can be passed through the short-circuited portion, and the life of the light-emitting element can be extended. In addition, since the circuit configuration can be constituted by a unipolar transistor, it can be manufactured at low cost.

また、回路構成にあるトランジスタをN型トランジスタで作製することで、アモルファスシリコンのトランジスタを適用することができる。従って、既に確立されたアモルファスシリコンを用いたトランジスタの製造技術を適用することができるため、簡易かつ安価な製造プロセスで、動作特性が良好で安定した表示装置を得ることができる。   In addition, an amorphous silicon transistor can be used by manufacturing a transistor having a circuit structure as an N-type transistor. Therefore, since a transistor manufacturing technique using amorphous silicon that has already been established can be applied, a display device with favorable and stable operation characteristics can be obtained with a simple and inexpensive manufacturing process.

なお、本実施例は、本明細書中の実施の形態、他の実施例とも組み合わせて実施することが可能である。   Note that this embodiment can be implemented in combination with the embodiment mode and other embodiments in this specification.

本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置でデジタル時間階調方式を行なう場合のタイミングチャートを示す図。FIG. 11 is a diagram showing a timing chart when a digital time gray scale method is performed in the display device of the present invention. 本発明の表示装置においてアナログ方式で階調表示を行なう場合のタイミングチャートを示す図。FIG. 5 is a timing chart when gradation display is performed in an analog manner in the display device of the present invention. 本発明のディスプレイを説明する図。4A and 4B illustrate a display of the present invention. 本発明のディスプレイの画素部の構成を示す図。The figure which shows the structure of the pixel part of the display of this invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置でデジタル時間階調方式を行なう場合のタイミングチャートを示す図。FIG. 11 is a diagram showing a timing chart when a digital time gray scale method is performed in the display device of the present invention. 本発明の表示装置においてアナログ方式で階調表示を行なう場合のタイミングチャートを示す図。FIG. 5 is a timing chart when gradation display is performed in an analog manner in the display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置でデジタル時間階調方式を行なう場合のタイミングチャートを示す図。FIG. 11 is a diagram showing a timing chart when a digital time gray scale method is performed in the display device of the present invention. 本発明の表示装置においてアナログ方式で階調表示を行なう場合のタイミングチャートを示す図。FIG. 5 is a timing chart when gradation display is performed in an analog manner in the display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置でデジタル時間階調方式を行なう場合のタイミングチャートを示す図。FIG. 11 is a diagram showing a timing chart when a digital time gray scale method is performed in the display device of the present invention. 本発明の表示装置においてアナログ方式で階調表示を行なう場合のタイミングチャートを示す図。FIG. 5 is a timing chart when gradation display is performed in an analog manner in the display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置でデジタル時間階調方式を行なう場合のタイミングチャートを示す図。FIG. 11 is a diagram showing a timing chart when a digital time gray scale method is performed in the display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる画素の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる表示パネルを説明する図。4A and 4B each illustrate a display panel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる表示パネルを説明する図。4A and 4B each illustrate a display panel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる表示パネルを説明する図。4A and 4B each illustrate a display panel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる表示パネルを説明する図。4A and 4B each illustrate a display panel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる表示パネルを説明する図。4A and 4B each illustrate a display panel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる表示パネルを説明する図。4A and 4B each illustrate a display panel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる表示パネルを説明する図。4A and 4B each illustrate a display panel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる表示パネルを説明する図。4A and 4B each illustrate a display panel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いる表示パネルを説明する図。4A and 4B each illustrate a display panel used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いるコントローラの構成を示す図。FIG. 6 illustrates a configuration of a controller used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置の構成を示すブロック図。1 is a block diagram illustrating a configuration of a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いるディスプレイコントローラの構成を示す図。The figure which shows the structure of the display controller used with the display apparatus of this invention. 本発明の表示装置で用いるソース信号線駆動回路の構成を示す図。FIG. 14 illustrates a structure of a source signal line driver circuit used in a display device of the present invention. 本発明の表示装置で用いるゲート信号線駆動回路の構成を示す図。FIG. 11 illustrates a structure of a gate signal line driver circuit used in a display device of the present invention. 本発明の画素のレイアウト図面。The layout drawing of the pixel of this invention. 本発明の表示装置が適用可能な電子機器を説明する図。4A and 4B each illustrate an electronic device to which a display device of the present invention can be applied. 本発明の表示装置が適用可能な電子機器を説明する図。4A and 4B each illustrate an electronic device to which a display device of the present invention can be applied. 本発明の表示装置が適用可能な電子機器を説明する図。4A and 4B each illustrate an electronic device to which a display device of the present invention can be applied. 本発明の表示装置が適用可能な電子機器を説明する図。4A and 4B each illustrate an electronic device to which a display device of the present invention can be applied. 本発明の表示装置が適用可能な電子機器を説明する図。4A and 4B each illustrate an electronic device to which a display device of the present invention can be applied. 本発明の表示装置が適用可能な電子機器を説明する図。4A and 4B each illustrate an electronic device to which a display device of the present invention can be applied.

Claims (3)

第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、
画素電極と対向電極とを有する発光素子と、
映像信号の入力を制御する第1のトランジスタと、
前記発光素子の前記画素電極から前記対向電極に流れる電流を制御する第2のトランジスタと、
前記発光素子の前記対向電極から前記画素電極に流れる電流を制御する第3のトランジスタとを有し、
前記第1のトランジスタのゲート電極は前記第1の配線と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は前記映像信号を供給する前記第2の配線と電気的に接続され、他方は前記第2のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は前記第3の配線と電気的に接続され、他方は前記画素電極と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は前記画素電極、及び第3のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、他方は前記第4の配線と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、及び前記第3のトランジスタはNチャネル型トランジスタであり、
前記第3の配線の電位は、前記対向電極より高く、
前記第4の配線の電位は、書き込み期間において前記対向電極の電位より高く、表示期間において前記対向電極の電位より高く、逆方向バイアス期間において前記対向電極よりも低いことを特徴とする表示装置。
A first wiring, a second wiring, a third wiring, a fourth wiring,
A light emitting device having a pixel electrode and a counter electrode;
A first transistor that controls input of a video signal;
A second transistor for controlling a current flowing from the pixel electrode of the light emitting element to the counter electrode;
A third transistor for controlling a current flowing from the counter electrode of the light emitting element to the pixel electrode;
A gate electrode of the first transistor is electrically connected to the first wiring;
One of a source electrode or a drain electrode of the first transistor is electrically connected to the second wiring for supplying the video signal, and the other is electrically connected to a gate electrode of the second transistor,
One of a source electrode and a drain electrode of the second transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to the pixel electrode;
One of a source electrode and a drain electrode of the third transistor is electrically connected to the pixel electrode and a gate electrode of the third transistor, and the other is electrically connected to the fourth wiring.
The first transistor, the second transistor, and the third transistor are N-channel transistors,
The potential of the third wiring is higher than that of the counter electrode,
The display device is characterized in that the potential of the fourth wiring is higher than the potential of the counter electrode in the writing period, higher than the potential of the counter electrode in the display period, and lower than the counter electrode in the reverse bias period .
第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、第5の配線と、
画素電極と対向電極とを有する発光素子と、
映像信号の入力を制御する第1のトランジスタと、
前記発光素子の前記画素電極から前記対向電極に流れる電流を制御する第2のトランジスタと、
前記発光素子の前記対向電極から前記画素電極に流れる電流を制御する第3のトランジスタ及び第4のトランジスタとを有し、
前記第1のトランジスタのゲート電極は前記第1の配線と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は前記映像信号を供給する前記第2の配線と電気的に接続され、他方は前記第2のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は前記第3の配線と電気的に接続され、他方は前記画素電極と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は前記第2のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、他方の電極は前記画素電極と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのゲート電極は前記第4の配線と電気的に接続され、
前記第4のトランジスタのソース電極もしくはドレイン電極の一方は前記画素電極、及び前記第4のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、他方は前記第5の配線と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタ、前記第2のトランジスタ、前記第3のトランジスタ、及び前記第4のトランジスタはNチャネル型トランジスタであり、
前記第3の配線の電位は、前記対向電極の電位より高く、
前記第5の配線の電位は、書き込み期間において前記対向電極の電位より高く、表示期間において前記対向電極の電位より高く、逆方向バイアス期間において前記対向電極の電位より低いことを特徴とする表示装置。
A first wiring, a second wiring, a third wiring, a fourth wiring, and a fifth wiring;
A light emitting device having a pixel electrode and a counter electrode;
A first transistor that controls input of a video signal;
A second transistor for controlling a current flowing from the pixel electrode of the light emitting element to the counter electrode;
A third transistor and a fourth transistor for controlling a current flowing from the counter electrode of the light emitting element to the pixel electrode;
A gate electrode of the first transistor is electrically connected to the first wiring;
One of a source electrode or a drain electrode of the first transistor is electrically connected to the second wiring for supplying the video signal, and the other is electrically connected to a gate electrode of the second transistor,
One of a source electrode and a drain electrode of the second transistor is electrically connected to the third wiring, and the other is electrically connected to the pixel electrode;
One of a source electrode and a drain electrode of the third transistor is electrically connected to a gate electrode of the second transistor, and the other electrode is electrically connected to the pixel electrode;
A gate electrode of the third transistor is electrically connected to the fourth wiring;
One of a source electrode and a drain electrode of the fourth transistor is electrically connected to the pixel electrode and a gate electrode of the fourth transistor, and the other is electrically connected to the fifth wiring.
The first transistor, the second transistor, the third transistor, and the fourth transistor are N-channel transistors,
The potential of the third wiring is higher than the potential of the counter electrode,
The display device characterized in that the potential of the fifth wiring is higher than the potential of the counter electrode in the writing period, higher than the potential of the counter electrode in the display period, and lower than the potential of the counter electrode in the reverse bias period. .
請求項1又は請求項2において、
前記対向電極の電位を固定電位とし、前記第3の配線の電位を前記発光素子に流す電流の向きに応じて変化させることで、
前記対向電極から前記画素電極に流れる電流の大きさを、前記画素電極から前記対向電極に流れる電流の大きさより大きくすることを特徴とする表示装置。
In claim 1 or claim 2 ,
By changing the potential of the counter electrode to a fixed potential and changing the potential of the third wiring according to the direction of the current flowing through the light emitting element,
A display device, wherein a magnitude of a current flowing from the counter electrode to the pixel electrode is larger than a magnitude of a current flowing from the pixel electrode to the counter electrode.
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