JP5363159B2 - 炭素質膜及びその製造方法 - Google Patents
炭素質膜及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5363159B2 JP5363159B2 JP2009078668A JP2009078668A JP5363159B2 JP 5363159 B2 JP5363159 B2 JP 5363159B2 JP 2009078668 A JP2009078668 A JP 2009078668A JP 2009078668 A JP2009078668 A JP 2009078668A JP 5363159 B2 JP5363159 B2 JP 5363159B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon
- carbonaceous film
- bonds
- main body
- carbonaceous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Description
本発明の炭素質膜において、官能基は、アミノ基及びカルボキシル基の少なくとも一方を含む構成とすればよい。
100 炭素質膜
103 炭素質膜本体
103a 官能基導入層
105 官能基
107 第1の層
108 第2の層
Claims (13)
- 基材の表面に形成された炭素質膜本体と、
前記炭素質膜本体の表面に導入された官能基とを備え、
前記炭素質膜本体は、少なくとも表面側の部分において炭素−炭素結合を炭素−水素結合よりも多く含み、
前記官能基はアミノ基を含み、
前記炭素質膜本体の表面における炭素に対する窒素のモル比率は、0.16以上であることを特徴とする炭素質膜。 - 前記官能基はカルボキシル基を含み、
前記炭素質膜本体の表面における炭素に対する酸素のモル比率は、0.18以上であることを特徴とする請求項1に記載の炭素質膜。 - 基材の表面に形成された炭素質膜本体と、
前記炭素質膜本体の表面に導入された官能基とを備え、
前記炭素質膜本体は、少なくとも表面側の部分において炭素−炭素結合を炭素−水素結合よりも多く含み、
前記官能基はカルボキシル基を含み、
前記炭素質膜本体の表面における炭素に対する酸素のモル比率は、0.18以上であることを特徴とする炭素質膜。 - 前記炭素質膜本体は、基材側の部分において表面側の部分よりも炭素−水素結合を多く含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の炭素質膜。
- 前記炭素質膜本体は、基材側に形成され、炭素−水素結合を炭素−炭素結合よりも多く含む第1の層と、表面側に形成され、炭素−炭素結合を炭素−水素結合よりも多く含む第2の層とを有していることを特徴とする請求項4に記載の炭素質膜。
- 少なくとも表面において炭素−炭素結合を炭素−水素結合よりも多く含む炭素質膜本体を基材の表面に成膜する工程(a)と、
前記炭素質膜本体にプラズマを照射することにより前記炭素質膜本体の表面に官能基を導入する工程(b)とを備え、
前記官能基はアミノ基を含み、
前記炭素質膜本体の表面における炭素に対する窒素のモル比率は、0.16以上であることを特徴とする炭素質膜の製造方法。 - 前記官能基はカルボキシル基を含み、
前記炭素質膜本体の表面における炭素に対する酸素のモル比率は、0.18以上であることを特徴とする請求項6に記載の炭素質膜の製造方法。 - 前記工程(b)では、アンモニアプラズマ又はアンモニアを含む混合ガスのプラズマを照射することを特徴とする請求項6又は7に記載の炭素質膜の製造方法。
- 少なくとも表面において炭素−炭素結合を炭素−水素結合よりも多く含む炭素質膜本体を基材の表面に成膜する工程(a)と、
前記炭素質膜本体にプラズマを照射することにより前記炭素質膜本体の表面に官能基を導入する工程(b)とを備え、
前記官能基はカルボキシル基を含み、
前記炭素質膜本体の表面における炭素に対する酸素のモル比率は、0.18以上であることを特徴とする炭素質膜の製造方法。 - 前記工程(b)では、酸素又は酸素を含む混合ガスのプラズマを照射することを特徴とする請求項9に記載の炭素質膜の製造方法。
- 前記工程(a)では、スパッタ法を用いて前記炭素質膜本体を成膜することを特徴とする請求項6〜10のいずれか1項に記載の炭素質膜の製造方法。
- 前記工程(a)では、基材側の部分において炭素−水素結合を炭素−炭素結合よりも多く含み、表面側の部分において炭素−炭素結合を炭素−水素結合よりも多く含むように前記炭素質膜本体を成膜することを特徴とする請求項6〜10のいずれか1項に記載の炭素質膜の製造方法。
- 前記工程(a)では、化学気相堆積法を用いて炭素−水素結合を炭素−炭素結合よりも多く含む第1の層を形成した後、スパッタ法を用いて炭素−炭素結合を炭素−水素結合よりも多く含む第2の層を形成することを特徴とする請求項12に記載の炭素質膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009078668A JP5363159B2 (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 炭素質膜及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009078668A JP5363159B2 (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 炭素質膜及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010228972A JP2010228972A (ja) | 2010-10-14 |
JP5363159B2 true JP5363159B2 (ja) | 2013-12-11 |
Family
ID=43045146
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009078668A Active JP5363159B2 (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 炭素質膜及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5363159B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012081016A (ja) | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Olympus Corp | 生体情報取得装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10326408A (ja) * | 1996-06-04 | 1998-12-08 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2001049433A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-20 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 非晶質炭素膜が被覆された樹脂基体及び成膜方法 |
JP2002312923A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-25 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体 |
US20070207321A1 (en) * | 2004-03-30 | 2007-09-06 | Yoshinori Abe | Method For Treating Surface Of Material, Surface-Treated Material, Medical Material, And Medical Instrument |
JP5066768B2 (ja) * | 2007-09-07 | 2012-11-07 | 学校法人近畿大学 | 修飾炭素質膜 |
-
2009
- 2009-03-27 JP JP2009078668A patent/JP5363159B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010228972A (ja) | 2010-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4838709B2 (ja) | 基材の製造方法 | |
AU2008325948B2 (en) | Carbonaceous thin film and manufacturing method for same | |
JP5172180B2 (ja) | Dlc膜の修飾方法及び、医療用材料、医療用器具の製造方法 | |
Bait et al. | Influence of substrate bias voltage on the properties of TiO2 deposited by radio-frequency magnetron sputtering on 304L for biomaterials applications | |
JP6993004B2 (ja) | 二次元アモルファス炭素被膜並びに幹細胞の成長及び分化方法 | |
JP2009127059A (ja) | ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法 | |
US20060275619A1 (en) | Hard carbon films formed from plasma treated polymer surfaces | |
Pujari et al. | Tribology and stability of organic monolayers on CrN: a comparison among silane, phosphonate, alkene, and alkyne chemistries | |
Ou et al. | Surface properties of nano–structural silicon–doped carbon films for biomedical applications | |
CN113636868B (zh) | 一种氧化锆陶瓷种植体材料的表面涂层方法及其应用 | |
JP5363159B2 (ja) | 炭素質膜及びその製造方法 | |
Ma et al. | Characteristics of DLC containing Ti and Zr films deposited by reactive magnetron sputtering | |
JP5536168B2 (ja) | 超親水性材料、医療用材料及び医療用器具 | |
JP5215653B2 (ja) | 抗血栓性材料及びその製造方法 | |
Devillers et al. | Grafting of bifunctional phosphonic and carboxylic acids on Phynox: Impact of induction heating | |
KR100841779B1 (ko) | 기재의 표면처리방법 및 표면처리 된 기재, 의료용 재료,의료용 기구 | |
Nitta et al. | Development of novel DLC film using plasma technique for medical material | |
Veselivska et al. | Adhesion Strength of TiN Coatings Deposited on VT1-0 Titanium with Different Surface Conditions | |
Reggente | Design and advanced characterization of PMMA-coated Ti surfaces for biomedical applications | |
Sharifahmadian et al. | Materials Today Advances | |
CN116507373A (zh) | 医疗器械用金属材料、医疗器械用金属材料的制造方法以及医疗器械 | |
Sethuraman | Ion beam deposition of nitrogen doped diamond-like carbon thin films for enhanced biological properties | |
JP2012107344A (ja) | ダイヤモンド様薄膜、その製造方法及び製造装置 | |
Lau | Associate Professor, Department of Chemical and Biological Engineering, Drexel University, Philadelphia, Pennsylvania, USA |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110907 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120220 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130212 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130312 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130507 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130520 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130820 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130905 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5363159 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |