JP5337342B2 - Translucent electromagnetic shielding film - Google Patents
Translucent electromagnetic shielding film Download PDFInfo
- Publication number
- JP5337342B2 JP5337342B2 JP2006342829A JP2006342829A JP5337342B2 JP 5337342 B2 JP5337342 B2 JP 5337342B2 JP 2006342829 A JP2006342829 A JP 2006342829A JP 2006342829 A JP2006342829 A JP 2006342829A JP 5337342 B2 JP5337342 B2 JP 5337342B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shielding film
- fine line
- line pattern
- wave shielding
- translucent electromagnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Abstract
Description
本発明は、タッチパネル用透光性電磁波シールドフィルムに関するものである。 The present invention relates to a translucent electromagnetic wave shielding film for a touch panel.
光を透過し、かつ、導電性を有する材料は、様々なものが知られており、また、産業界においても種々のものが利用されている。いわゆる透明導電性膜としては、無機金属酸化物である、酸化スズ（SnO2）、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）などを用いたものがよく知られている。透明性のある導電性高分子もまた、透明導電性膜の一つとしてよく知られている。
特許文献１は、透明導電性膜からなる電磁波シールド膜を有するタッチパネルを開示しているが、導電性は３０Ω/□レベルであった。近年ディスプレイとそれに積層されるタッチパネルの大型化が進み、表示用パネルからの電磁波発生が増大している。従って電磁波シールド材料に対する要求も高まっており、特に航空機に搭載される液晶表示装置および付属するタッチパネルに使用する電磁波シールド材料の導電性や耐久性、強度などに対する要求が厳しくなってきている。
Various materials that transmit light and have conductivity are known, and various materials are also used in the industry. As so-called transparent conductive films, those using inorganic metal oxides such as tin oxide (SnO 2 ), ITO (tin-doped indium oxide), ATO (antimony-doped tin oxide) and the like are well known. A transparent conductive polymer is also well known as one of transparent conductive films.
Patent Document 1 discloses a touch panel having an electromagnetic wave shielding film made of a transparent conductive film, but the conductivity is 30Ω / □ level. In recent years, the display and the touch panel laminated thereon have been increased in size, and the generation of electromagnetic waves from the display panel has increased. Accordingly, there is an increasing demand for electromagnetic shielding materials. In particular, there are increasing demands on the conductivity, durability, strength, and the like of electromagnetic shielding materials used for liquid crystal display devices mounted on aircraft and attached touch panels.
一方、導電性金属材料を細線形状として、光を透過する開口部を設け、光を透過させることのできる材料も知られている。例えば、透明基材上にメッシュ状の金属層を形成させて、金属のない開口部を広くすることで、光を透過させ、かつ、金属メッシュを非常に微細な形状とすれば、目視ではメッシュ形状の存在を認識しがたい透光性導電性基材となる。このようなものの例として、特許文献２などに開示されているプラズマディスプレイパネル用の電磁波シールド用途の銅製のメッシュが知られている。特に銅箔をエッチング加工したものが多用されているが、このようなものは、導電性の点では高いものの、引っ掻き強度が弱い問題があり改善が望まれていた。
前項（背景技術の項）に述べた特許文献は、それぞれの目的に沿った技術を開示したものではあるが、同時に上述したような改善を要する問題をも有している。
本発明はかかる事情に鑑みなされたものであり、本発明の目的は以下の通りである。
第１に、高い導電性を有する、液晶表示装置のタッチパネル用透光性電磁波シールドフィルムを提供すること。
第２に、高い引っ掻き強度を有する液晶表示装置のタッチパネル用透光性電磁波シールドフィルムを提供すること。
第３に、断線の少ない液晶表示装置用タッチパネルの透光性電磁波シールドフィルムを提供すること。
第４に、上述の電磁波シールドフィルムを具備する、タッチパネル、及び、液晶表示装置を提供すること。
The patent document described in the previous section (background art section) discloses a technique that meets each purpose, but also has a problem that requires the above-described improvement.
The present invention has been made in view of such circumstances, and the object of the present invention is as follows.
1stly, providing the translucent electromagnetic wave shielding film for touchscreens of a liquid crystal display device which has high electroconductivity.
Second, to provide a translucent electromagnetic wave shielding film for a touch panel of a liquid crystal display device having high scratch strength.
3rdly, providing the translucent electromagnetic wave shielding film of the touchscreen for liquid crystal display devices with few disconnections.
4thly, providing the touchscreen and liquid crystal display device which comprise the above-mentioned electromagnetic wave shielding film.
上記の本発明の目的は、以下の〔１〕〜〔５〕項によって達せられる。
〔１〕．支持体上に、現像銀を含む導電性金属からなる細線パターンを有し、該支持体と細線パターンとの間に、エポキシ化合物又はカルボジイミド化合物で架橋され、かつ、アクリル樹脂により形成される易接着層が積層され、
前記細線パターンがゼラチンを更に含有し、
前記支持体がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を原料とするプラスチックフィルムであることを特徴とする液晶表示装置のタッチパネル用透光性電磁波シールドフィルム。
〔２〕．前記細線パターンの細線の幅が１μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする上記〔１〕に記載の透光性電磁波シールドフィルム。
〔３〕．前記細線パターンの金属厚みが０.２μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする上記〔１〕又は〔２〕に記載の透光性電磁波シールドフィルム。
〔４〕．前記細線パターンの導電性金属が、黒化層を有することを特徴とする上記〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載の透光性電磁波シールドフィルム。
〔５〕．液晶表示装置が航空機搭載の液晶表示装置であることを特徴とする上記〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の透光性電磁波シールドフィルム。
本発明は、上記〔１〕〜〔５〕項に関するものであるが、その他の事項についても参考のために記載した。
１．支持体上に、現像銀を含む導電性金属からなる細線パターンを有することを特徴とする液晶表示装置のタッチパネル用透光性電磁波シールドフィルム。
２．前記細線パターンの引っ掻き強度がＨＢ以上であることを特徴とする、上記１記載の液晶表示装置のタッチパネル用透光性電磁波シールドフィルム。
３．前記細線パターン面をＨＢ鉛筆で引掻いた後の表面抵抗の変化率が２倍以内であることを特徴とする、上記１又は２に記載の液晶表示装置のタッチパネル用透光性電磁波シールドフィルム。
４．前記細線パターンの断線が１ｍ2あたり５箇所以下であることを特徴とする、上記１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置のタッチパネル用透光性電磁波シールドフィルム。
５．前記細線パターンの断線が１ｍ2あたり２箇所以下であることを特徴とする、上記１〜４のいずれかに記載の液晶表示装置のタッチパネル用透光性電磁波シールドフィルム。
６．前記細線パターンの細線の幅が１μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする上記１〜５のいずれかに記載の透光性電磁波シールドフィルム。
７．前記細線パターンの金属厚みが０.２μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の透光性電磁波シールドフィルム。
８．前記細線パターンの導電性金属が、黒化層を有することを特徴とする上記１〜７のいずれかに記載の透光性電磁波シールドフィルム。
９．液晶表示装置が航空機搭載の液晶表示装置であることを特徴とする上記１〜８のいずれかに記載の透光性電磁波シールドフィルム。
The object of the present invention is achieved by the following items [1] to [ 5 ].
[1]. A support having thereon fine line patterns made of a conductive metal containing developing silver, between the support and the fine line pattern, crosslinked with an epoxy compound or a carbodiimide compound, and is more formed acrylic resins Easy adhesion layer is laminated ,
The fine line pattern further contains gelatin;
A translucent electromagnetic wave shielding film for a touch panel of a liquid crystal display device, wherein the support is a plastic film made of polyethylene terephthalate (PET) as a raw material .
[ 2 ]. The translucent electromagnetic wave shielding film as described in [ 1 ] above, wherein the width of the fine line of the fine line pattern is 1 μm or more and 30 μm or less.
[ 3 ]. The translucent electromagnetic wave shielding film as described in [1] or [2] above, wherein the metal thickness of the fine line pattern is from 0.2 μm to 30 μm.
[ 4 ]. The light-transmitting electromagnetic wave shielding film according to any one of [1] to [ 3 ], wherein the conductive metal of the fine line pattern has a blackened layer.
[ 5 ]. The translucent electromagnetic wave shielding film according to any one of [1] to [ 4 ], wherein the liquid crystal display device is an aircraft-mounted liquid crystal display device .
The present invention relates to the items [1] to [ 5 ] above, but other matters are also described for reference.
1. A translucent electromagnetic wave shielding film for a touch panel of a liquid crystal display device, comprising a thin line pattern made of a conductive metal containing developed silver on a support.
2. 2. The translucent electromagnetic shielding film for a touch panel of the liquid crystal display device according to the above 1, wherein the fine line pattern has a scratch strength of HB or more.
3. 3. The translucent electromagnetic wave shielding film for a touch panel of the liquid crystal display device according to the above 1 or 2, wherein the rate of change in surface resistance after scratching the fine line pattern surface with an HB pencil is within 2 times.
4). 4. The translucent electromagnetic wave shielding film for a touch panel of a liquid crystal display device according to any one of the above 1 to 3, wherein the fine line pattern is disconnected at 5 or less per 1 m 2 .
5. The translucent electromagnetic wave shielding film for a touch panel of a liquid crystal display device according to any one of the above 1 to 4, wherein the fine line pattern is disconnected at 2 or less per 1 m 2 .
6). 6. The translucent electromagnetic wave shielding film as described in any one of 1 to 5 above, wherein the width of the fine line of the fine line pattern is 1 μm or more and 30 μm or less.
7). 7. The translucent electromagnetic wave shielding film as described in any one of 1 to 6 above, wherein the fine wire pattern has a metal thickness of 0.2 μm or more and 30 μm or less.
8). 8. The translucent electromagnetic wave shielding film as described in any one of 1 to 7 above, wherein the conductive metal of the fine line pattern has a blackened layer.
9. 9. The translucent electromagnetic wave shielding film as described in any one of 1 to 8 above, wherein the liquid crystal display device is an aircraft-mounted liquid crystal display device.
本発明によれば、高い導電性を有する、液晶表示装置用タッチパネル用透光性電磁波シールドフィルムを提供することができる。また、高い引っ掻き強度を有する液晶表示装置用タッチパネル用透光性電磁波シールドフィルムを提供することができる。また、断線の少ない液晶表示装置用タッチパネル用透光性電磁波シールドフィルムを提供することができる。更に、上述の電磁波シールドフィルムを具備する、タッチパネル、及び、液晶表示装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the translucent electromagnetic wave shielding film for touchscreens for liquid crystal display devices which has high electroconductivity can be provided. Moreover, the translucent electromagnetic wave shielding film for touchscreens for liquid crystal display devices which has high scratch strength can be provided. Moreover, the translucent electromagnetic wave shielding film for touchscreens for liquid crystal display devices with few disconnections can be provided. Furthermore, the touch panel and liquid crystal display device which comprise the above-mentioned electromagnetic wave shielding film can be provided.
以下に、本発明をさらに詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味として使用される。 The present invention is described in further detail below. In the present specification, “to” is used as a meaning including numerical values described before and after the lower limit value and the upper limit value.
（１）支持体
本発明に用いられる感光材料の支持体としては、プラスチックフィルム、プラスチック板、およびガラス板などを用いることができる。
上記プラスチックフィルムおよびプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）などのポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂；ポリスチレン、ＥＶＡ、その他、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
本発明に用いられる支持体においては、透明性、耐熱性、取り扱いやすさおよび価格の点から、上記プラスチックフィルムの中でもポリエチレンテレフタレートフィルム又はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）であることが好ましい。
(1) Support As the support for the photosensitive material used in the present invention, a plastic film, a plastic plate, a glass plate, or the like can be used.
Examples of raw materials for the plastic film and plastic plate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP); polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride and the like. Vinyl resin: polystyrene, EVA, others, polyetheretherketone (PEEK), polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetylcellulose (TAC) Etc. can be used.
The support used in the present invention is preferably a polyethylene terephthalate film or triacetyl cellulose (TAC) among the plastic films from the viewpoints of transparency, heat resistance, ease of handling and price.
ディスプレイなどの表示装置用の電磁波シールド材料や、タッチパネルでは透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフィルムまたはプラスチック板の全可視光透過率は７０〜１００％が好ましく、さらに好ましくは８５〜１００％であり、特に好ましくは９０〜１００％である。また、本発明では、前記プラスチックフィルムおよびプラスチック板として本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
本発明におけるプラスチックフィルムおよびプラスチック板は、単層で用いることもできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルムとして用いることも可能である。
Since an electromagnetic wave shielding material for a display device such as a display or a touch panel requires transparency, it is desirable that the support has high transparency. In this case, the total visible light transmittance of the plastic film or plastic plate is preferably 70 to 100%, more preferably 85 to 100%, and particularly preferably 90 to 100%. Moreover, in this invention, what was colored to such an extent that the objective of this invention is not disturbed can also be used as the said plastic film and a plastic board.
The plastic film and plastic plate in the present invention can be used as a single layer, but can also be used as a multilayer film in which two or more layers are combined.
本発明における支持体としてガラス板を用いる場合、その種類は特に限定されないが、ディスプレイなどの表示装置用電磁波シールド膜の用途に用いる場合、表面に強化層を設けた強化ガラスを用いることが好ましい。強化ガラスは、強化処理していないガラスに比べて破損を防止できる可能性が高い。さらに、風冷法により得られる強化ガラスは、万一破損してもその破砕破片が小さく、かつ端面も鋭利になることはないため、安全上好ましい。 When a glass plate is used as the support in the present invention, the type thereof is not particularly limited, but when used for an electromagnetic shielding film for a display device such as a display, it is preferable to use tempered glass having a tempered layer on the surface. There is a high possibility that tempered glass can prevent breakage compared to glass that has not been tempered. Furthermore, the tempered glass obtained by the air cooling method is preferable from the viewpoint of safety because even if it is broken, the crushed pieces are small and the end face is not sharp.
（２）現像銀、及び、現像銀を含む導電性金属からなる細線パターン（金属細線パターン）。
本発明に用いられる現像銀とは、銀塩写真法によって、ハロゲン化銀粒子を化学現像することによって得られる金属銀を言う。該現像銀は、化学現像によって得られるものであり、フィラメント状の金属銀の集合体、または、フィラメント状の金属銀が互いに結合・融着した金属銀の集合体である。
現像銀を得る方法は、一般によく知られている銀塩写真の原理・手法を利用できる。例えば、特開２００４-２２１５６４号公報に記載の方法などを利用することができる。
また、現像銀は、電解メッキのカソードとして用いるのに十分な導電性とすることが可能であるため、現像銀を電解メッキすることが可能である。また、現像銀は無電解めっき触媒として利用することも可能であり、現像銀に無電解めっきを施すことも好ましい。従って、本発明における導電性金属からなる細線パターンを構成する金属は、銀のみからなっていてもよく、現像銀に加えて銅やニッケル、亜鉛、スズ、コバルト、金、白金、パラジウムなど、様々な金属から構成されていてもよい。特に銅は導電性が低くかつ安価であり、銀とともに本発明に好ましく用いることができる。
細線パターンの厚みは、用途によって適宜変更することができるが、高い導電性を得るためには、0.2μｍ以上の厚みを有することが好ましく、厚みが厚すぎるものは、製造コストの観点と、細線パターンを目視した場合に認識できてしまい、表示装置の電極材料などの用途には問題があるゆえ、0.5μｍ以上３０μ以下がより好ましく、１μｍ以上２０μ以下であることが更に好ましい。更により好ましくは、１μｍ以上１０μｍ以下である。最も好ましくは、１μｍ以上７μｍ以下である。
細線パターンの線幅もまた、用途によって適宜変更することができるが、太い線のパターンを得ることは、光を透過する材料にとっては問題であり、本発明においては、１μｍ以上３０μｍ以下の線幅の細線パターンであることが好ましい。より好ましくは、２μｍ以上２０μｍ以下であり、更に好ましくは４μｍ以上１８μｍ以下である。
尚、透光性導電性基材としては、金属細線パターンの面積が、面状の透光性導電性基材の面積に占める割合、即ち開口率が大きいことが、光を透過させる上で好ましく、開口率５０％以上が好ましく、７０％以上がさらに好ましく、８０％以上が更により好ましく、９０％以上が最も好ましい。
金属細線パターンの形状としては、目的に応じて様々なパターンを選択することができる。ディスプレイ用の電磁波シールド材料としては、格子状の金属細線パターンを好適に利用できる。
(2) Fine wire pattern (metal fine wire pattern) made of developed silver and a conductive metal containing developed silver.
The developed silver used in the present invention refers to metallic silver obtained by chemically developing silver halide grains by silver salt photography. The developed silver is obtained by chemical development and is an aggregate of filamentous metallic silver or an aggregate of metallic silver in which filamentous metallic silver is bonded and fused together.
As a method for obtaining developed silver, generally well-known principles and methods of silver salt photography can be used. For example, a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-221564 can be used.
Further, since the developed silver can be made sufficiently conductive to be used as a cathode for electrolytic plating, the developed silver can be electrolytically plated. Further, the developed silver can be used as an electroless plating catalyst, and it is also preferable to apply electroless plating to the developed silver. Therefore, the metal constituting the fine line pattern made of the conductive metal in the present invention may be made of only silver, and in addition to developed silver, various metals such as copper, nickel, zinc, tin, cobalt, gold, platinum, palladium, etc. It may be made of any metal. In particular, copper is low in conductivity and inexpensive, and can be preferably used in the present invention together with silver.
The thickness of the fine line pattern can be appropriately changed depending on the use, but in order to obtain high conductivity, it is preferable to have a thickness of 0.2 μm or more. Since the pattern can be recognized when visually observed and there is a problem in the use of the electrode material of the display device, the thickness is more preferably 0.5 μm or more and 30 μm or less, and further preferably 1 μm or more and 20 μm or less. Even more preferably, it is 1 μm or more and 10 μm or less. Most preferably, they are 1 micrometer or more and 7 micrometers or less.
The line width of the fine line pattern can also be appropriately changed depending on the application. However, obtaining a thick line pattern is a problem for a material that transmits light. In the present invention, the line width is 1 μm or more and 30 μm or less. The fine line pattern is preferably. More preferably, they are 2 micrometers or more and 20 micrometers or less, More preferably, they are 4 micrometers or more and 18 micrometers or less.
As the translucent conductive base material, the ratio of the area of the fine metal wire pattern to the area of the planar translucent conductive base material, that is, the large aperture ratio is preferable for transmitting light. The aperture ratio is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and most preferably 90% or more.
As the shape of the fine metal line pattern, various patterns can be selected according to the purpose. As an electromagnetic wave shielding material for display, a lattice-like fine metal wire pattern can be suitably used.
[黒化層]
本発明の金属細線パターンは、黒化処理を施したものであってもよい。
黒化処理については、例えば特開２００３−１８８５７６号公報に開示されている。黒化処理により形成さえた黒化層は、防錆効果に加え、反射防止性を付与することができる。黒化層は、例えば、Ｃｏ−Ｃｕ合金めっきによって形成されるものであり、金属箔の表面の反射を防止することができる。さらにその上に防錆処理としてクロメート処理をしてもよい。クロメート処理は、クロム酸もしくは重クロム酸塩を主成分とする溶液中に浸漬し、乾燥させて防錆被膜を形成するものである。また、黒色系の被膜を与えるめっき法によってもよい。
[Blackening layer]
The fine metal wire pattern of the present invention may be subjected to blackening treatment.
The blackening process is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-188576. The blackened layer formed even by the blackening treatment can impart antireflection properties in addition to the antirust effect. The blackened layer is formed by, for example, Co—Cu alloy plating, and can prevent reflection of the surface of the metal foil. Further, a chromate treatment may be performed thereon as a rust prevention treatment. The chromate treatment is performed by immersing in a solution containing chromic acid or dichromate as a main component and drying to form a rust preventive film. Alternatively, a plating method for providing a black film may be used.
また、黒化処理は、一般に、導電性金属化合物、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、銅（Ｃｕ）等の化合物を使用して、電解めっきによって行うことができ、あるいは、電着性イオン性高分子材料、例えば、電着塗装材料等を使用して形成することができる。 In general, the blackening treatment can be performed by electrolytic plating using a conductive metal compound, for example, a compound such as nickel (Ni), zinc (Zn), copper (Cu), or the like. It can be formed using a cationic ionic polymer material such as an electrodeposition coating material.
本発明において、上記の黒化処理に用いる電解液の浴（黒色めっき浴）は、硫酸ニッケル塩を主成分とする黒色めっき浴を使用することができ、更に、市販の黒色めっき浴も同様に使用することができ、具体的には、例えば、株式会社シミズ製の黒色めっき浴（商品名、ノ−ブロイＳＮＣ、Ｓｎ−Ｎｉ合金系）、日本化学産業株式会社製の黒色めっき浴（商品名、ニッカブラック、Ｓｎ−Ｎｉ合金系）、株式会社金属化学工業製の黒色めっき浴（商品名、エボニ−クロム８５シリ−８５シリ−ズ、Ｃｒ系）等を使用することができる。また、本発明においては、上記とは別の黒色めっき浴としては、Ｚｎ系、Ｃｕ系、その他等の種々の黒色めっき浴を使用することができる。また、金属の黒化処理剤として、硫化物系化合物を用いて容易に製造することもでき、市販品にも多種類の処理剤があり、例えば、商品名・コパ−ブラックＣｕＯ、同ＣｕＳ、セレン系のコパ−ブラックＮｏ．６５等（アイソレ−ト化学研究所製）、商品名・エボノ−ルＣスペシャル（メルテックス株式会社製）等を使用することができる。 In the present invention, the electrolytic solution bath (black plating bath) used for the blackening treatment can be a black plating bath mainly composed of nickel sulfate, and a commercially available black plating bath is similarly used. Specifically, for example, Shimizu Co., Ltd. black plating bath (trade name, Novroi SNC, Sn—Ni alloy system), Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd. black plating bath (trade name) , Nikka Black, Sn-Ni alloy system), black plating bath (trade name, Ebony-Chromium 85 series-85 series, Cr series) manufactured by Metal Chemical Co., Ltd., etc. can be used. Moreover, in this invention, various black plating baths, such as Zn type | system | group, Cu type | system | group, others, can be used as a black plating bath different from the above. Further, as a metal blackening treatment agent, it can be easily produced using a sulfide-based compound, and there are many kinds of treatment agents in commercial products. For example, trade names such as Copa-Black CuO, CuS, Selenium-based Copa Black No. 65 (made by Isolate Chemical Laboratories, Inc.), trade name, Ebonol C Special (made by Meltex Co., Ltd.), etc. can be used.
（３）透明導電性層
本発明においては、金属細線パターンのほかに、透明導電層を有してよく、該透明導電層は、導電性金属酸化物粒子や、導電性ポリマーから成り、バインダーを有していてよい。
導電性金属酸化物としては、酸化スズ、アンチモンがドープされた酸化スズ、インジウムとスズの酸化物（ITO）、酸化亜鉛、フッ素がドープされた酸化スズ、ガリウムがドープされた酸化亜鉛などが用いられる。
また、導電性ポリマーとしては、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、などが用いられる。
透明導電性層を形成する方法としては、スパッタリングなどの各種物理的方法、一般によく知られた塗布方法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法などの各種の塗布法を利用することができる。
塗布される支持体がポリエステル等のプラスチックフィルムである場合は、易接着層の塗布は、プラスチックフィルムの逐次二軸延伸前、同時二軸延伸前、一軸延伸後で再延伸前、あるいは二軸延伸後のいずれの時期に行ってもよい。該プラスチック支持体の表面は、あらかじめ紫外線照射処理、コロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理を施しておくことが好ましい。
(3) Transparent conductive layer In the present invention, in addition to the fine metal wire pattern, a transparent conductive layer may be included. The transparent conductive layer is composed of conductive metal oxide particles or a conductive polymer, and includes a binder. You may have.
As the conductive metal oxide, tin oxide, tin oxide doped with antimony, indium and tin oxide (ITO), zinc oxide, tin oxide doped with fluorine, zinc oxide doped with gallium, etc. are used. It is done.
As the conductive polymer, polythiophenes, polypyrroles, polyanilines, and the like are used.
As a method for forming the transparent conductive layer, various physical methods such as sputtering, generally well-known coating methods such as dip coating, air knife coating, curtain coating, wire bar coating, gravure coating, Various coating methods such as an extrusion coating method can be used.
When the support to be applied is a plastic film such as polyester, the easy-adhesion layer can be applied before sequential biaxial stretching of the plastic film, before simultaneous biaxial stretching, after uniaxial stretching and before re-stretching, or biaxial stretching. It can be done at any later time. The surface of the plastic support is preferably subjected to surface treatment such as ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment, glow discharge treatment and the like in advance.
透明導電性層に用いられるバインダーとしては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチンなどを利用することができる。 As the binder used for the transparent conductive layer, acrylic resin, polyester resin, urethane resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, gelatin and the like can be used.
（４）易接着性層
本発明においては、支持体と金属細線パターン及びまたは透明導電層との間に、易接着層が積層されていることが好ましい。該易接着層は、支持体と金属細線との密着性、支持体と透明導電層との密着性を付与・向上させる機能を有している。
本発明における易接着層は、膨潤率が１００％以下であるが、ここで膨潤率（％）とは、[（２５℃の水で濡らして１０分後の膜厚）-（乾燥時膜厚）]/（乾燥時膜厚）×１００ で表され、膨潤率０％とは、水で濡らしても全く膨潤しない膜であることを意味し、膨潤率１００％とは、水で濡らしたのち、膜厚みが２倍になることを意味する。
(4) Easy adhesion layer In this invention, it is preferable that the easy adhesion layer is laminated | stacked between the support body, the metal fine wire pattern, and / or the transparent conductive layer. The easy adhesion layer has a function of imparting / improving adhesion between the support and the fine metal wire and adhesion between the support and the transparent conductive layer.
The easily adhesive layer in the present invention has a swelling ratio of 100% or less. Here, the swelling ratio (%) is [(film thickness after 10 minutes of wetting with 25 ° C. water) − (film thickness when dried] )] / (Dry film thickness) × 100 The swelling rate of 0% means that the film does not swell at all even when wetted with water. The swelling rate of 100% means that the film is wetted with water. This means that the film thickness is doubled.
本発明における易接着層を形成する材料としては、アクリル樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、スチレンブタジエンゴム、ゼラチンなどが利用される。 As the material for forming the easy adhesion layer in the present invention, acrylic resin, vinyl resin, polyester resin, urethane resin, styrene butadiene rubber, gelatin and the like are used.
上記アクリル樹脂としては、アクリル酸、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類、メタクリルアミド及びメタクリロニトリルのいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー２種以上の重合により得られる共重合体を挙げることができる。これらの中では、アクリル酸アルキル等のアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸アルキル等のメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー２種以上の重合により得られる共重合体が好ましい。例えば、炭素原子数１〜６のアルキル基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類のいずれかのモノマーの単独重合体又はこれらのモノマー２種以上の重合により得られる共重合体を挙げることができる。上記アクリル樹脂は、上記組成を主成分とし、カルボジイミド化合物との架橋反応が可能なように、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用して得られるポリマーであることが好ましい。 Examples of the acrylic resin include acrylic acid esters such as acrylic acid and alkyl acrylate, methacrylic acid esters such as acrylamide, acrylonitrile, methacrylic acid, and alkyl methacrylate, and a single monomer of methacrylamide and methacrylonitrile. Examples thereof include a copolymer or a copolymer obtained by polymerization of two or more of these monomers. Among these, homopolymers of monomers of acrylic acid esters such as alkyl acrylates and methacrylic acid esters such as alkyl methacrylates, or copolymers obtained by polymerization of two or more of these monomers preferable. For example, mention may be made of homopolymers of monomers of acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or copolymers obtained by polymerization of two or more of these monomers. it can. The acrylic resin has the above composition as a main component and, for example, partially uses a monomer having any group of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group so that a crosslinking reaction with a carbodiimide compound is possible. The resulting polymer is preferred.
上記ビニル樹脂としては、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル、ポリオレフィン、エチレン／ブタジエン共重合体、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル／（メタ）アクリル酸エステル共重合体及びエチレン／酢酸ビニル系共重合体（好ましくはエチレン／酢酸ビニル／（メタ）アクリル酸エステル共重合体）を挙げることができる。これらの中で、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリオレフィン、エチレン／ブタジエン共重合体及びエチレン／酢酸ビニル系共重合体（好ましくは、エチレン／酢酸ビニル／アクリル酸エステル共重合体）が好ましい。上記ビニル樹脂は、カルボジイミド化合物との架橋反応が可能なように、ポリビニルアルコール、酸変性ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルメチルエーテル及びポリ酢酸ビニルでは、例えば、ビニルアルコール単位をポリマー中に残すことにより水酸基を有するポリマーとし、他のポリマーについては、例えば、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有するモノマーを一部使用することにより架橋可能なポリマーとすることができる。 Examples of the vinyl resin include polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl methyl ether, polyolefin, ethylene / butadiene copolymer, polyvinyl acetate, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, vinyl chloride / ( A meth) acrylic acid ester copolymer and an ethylene / vinyl acetate copolymer (preferably ethylene / vinyl acetate / (meth) acrylic acid ester copolymer) can be mentioned. Among these, polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyolefin, ethylene / butadiene copolymer and ethylene / vinyl acetate copolymer (preferably ethylene / vinyl acetate / acrylic acid ester copolymer) are used. preferable. The vinyl resin can be crosslinked with a carbodiimide compound so that, for example, polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl methyl ether, and polyvinyl acetate leave a vinyl alcohol unit in the polymer. Thus, a polymer having a hydroxyl group can be obtained, and the other polymer can be a crosslinkable polymer by partially using a monomer having any of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group and an amino group. .
上記ポリウレタン樹脂としては、（ａ）ポリヒドロキシ化合物（例、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン）、ポリヒドロキシ化合物と多塩基酸との反応により得られる脂肪族ポリエステル系ポリオール、ポリエーテルポリオール（例、ポリ（オキシプロピレンエーテル）ポリオール、ポリ（オキシエチレン−プロピレンエーテル）ポリオール）、ポリカーボネート系ポリオール、及びポリエチレンテレフタレートポリオールのいずれか一種、あるいはこれらの混合物と（ｂ）ポリイソシアネートから誘導されるポリウレタンを挙げることができる。上記ポリウレタン樹脂では、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとの反応後、未反応として残った水酸基をカルボジイミド化合物との架橋反応が可能な官能基として利用することができる。 Examples of the polyurethane resin include: (a) polyhydroxy compounds (eg, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane), aliphatic polyester polyols obtained by reaction of polyhydroxy compounds and polybasic acids, polyether polyols (Eg, poly (oxypropylene ether) polyol, poly (oxyethylene-propylene ether) polyol), polycarbonate polyol, and polyethylene terephthalate polyol, or a mixture thereof and (b) polyurethane derived from polyisocyanate Can be mentioned. In the polyurethane resin, for example, the hydroxyl group remaining unreacted after the reaction between polyol and polyisocyanate can be used as a functional group capable of crosslinking reaction with a carbodiimide compound.
上記ポリエステル樹脂としては、一般にポリヒドロキシ化合物（例、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン）と多塩基酸との反応により得られるポリマーが使用される。上記ポリエステル樹脂では、例えば、ポリオールと多塩基酸との反応終了後、未反応として残った水酸基、カルボキシル基をカルボジイミド化合物との架橋反応が可能な官能基として利用することができる。勿論、水酸基等の官能基を有する第三成分を添加してもよい。 As the polyester resin, generally used is a polymer obtained by reacting a polyhydroxy compound (eg, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane) with a polybasic acid. In the above-mentioned polyester resin, for example, the hydroxyl group and carboxyl group remaining unreacted after the reaction between the polyol and the polybasic acid can be used as a functional group capable of crosslinking reaction with the carbodiimide compound. Of course, a third component having a functional group such as a hydroxyl group may be added.
上記ポリマーの中で、アクリル樹脂及びポリウレタン樹脂が好ましく、特にアクリル樹脂が好ましい。 Among the above polymers, acrylic resins and polyurethane resins are preferable, and acrylic resins are particularly preferable.
本発明の易接着層は、架橋剤で架橋されていることが好ましい。該架橋剤としては、エポキシ化合物、カルボジイミド化合物などが挙げられる。
エポキシ化合物としては、１，４−ビス（２’，３’−エポキシプロピルオキシ）ブタン、１，３，５−トリグリシジルイソシアヌレート、１，３−ジクリシジル−５−（γ−アセトキシ−β−オキシプロピル）イソシヌレート、ソルビトールポリグリシジルエーテル類、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル類、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル類、ジグリセロ−ルポリグルシジルエーテル、１，３，５−トリグリシジル（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、グリセロールポリグリセロールエーテル類およびトリメチロ−ルプロパンポリグリシジルエーテル類等のエポキシ化合物が好ましく、その具体的な市販品としては、例えばデナコールＥＸ−５２１やＥＸ−６１４Ｂ（ナガセ化成工業（株）製）などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
また、感光特性に影響を与えない添加量の範囲では、他の架橋性化合物との併用も可能であり、例えばC.E.K.Mees およびT.H.James著「The Theory of the Photographic Processes」第３版（１９６６年）、米国特許第３３１６０９５号、同３２３２７６４号、同３２８８７７５号、同２７３２３０３号、同３６３５７１８号、同３２３２７６３号、同２７３２３１６号、同２５８６１６８号、同３１０３４３７号、同３０１７２８０号、同２９８３６１１号、同２７２５２９４号、同２７２５２９５号、同３１００７０４号、同３０９１５３７号、同３３２１３１３号、同３５４３２９２号及び同３１２５４４９号、並びに英国特許９９４８６９号及び同１１６７２０７号の各明細書等に記載されている硬化剤などがあげられる。
The easy-adhesion layer of the present invention is preferably crosslinked with a crosslinking agent. Examples of the crosslinking agent include epoxy compounds and carbodiimide compounds.
Examples of the epoxy compound include 1,4-bis (2 ′, 3′-epoxypropyloxy) butane, 1,3,5-triglycidyl isocyanurate, 1,3-diglycidyl-5- (γ-acetoxy-β-oxy Propyl) isosinurate, sorbitol polyglycidyl ethers, polyglycerol polyglycidyl ethers, pentaerythritol polyglycidyl ethers, diglycerol polyglycidyl ether, 1,3,5-triglycidyl (2-hydroxyethyl) isocyanurate, glycerol poly Epoxy compounds such as glycerol ethers and trimethylolpropane polyglycidyl ethers are preferable, and specific examples of commercially available products include Denacol EX-521 and EX-614B (manufactured by Nagase Chemical Industries). Although it is not intended to be limited thereto.
In addition, it can be used in combination with other crosslinkable compounds within the range of addition amount that does not affect the photosensitivity. For example, CEKMees and THJames “The Theory of the Photographic Processes” 3rd edition (1966), USA Patent Nos. 3316095, 3232264, 3288775, 2732303, 2732303, 3635718, 3323276, 2732316, 2586168, 3103437, 3017280, 2983611, 2725294, Examples thereof include curing agents described in the specifications of Nos. 2,725,295, 3,100,704, 3,091,537, 3,213,313, 3,543,292 and 3,125,449 and British Patents 994869, 1,167,207.
代表的な例としては、二個以上（好ましくは三個以上）のメチロール基およびアルコキシメチル基の少なくとも一方を含有するメラミン化合物またはそれらの縮重合体であるメラミン樹脂あるいはメラミン・ユリア樹脂、さらにはムコクロル酸、ムコブロム酸、ムコフェノキシクロル酸、ムコフェノキシプロム酸、ホルムアルデヒド、グリオキザール、モノメチルギリオキザール、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン、２，３−ジヒドロキシ−５−メチル−１，４−ジオキサンサクシンアルデヒド、２，５−ジメトキシテトラヒドロフラン及びグルタルアルデヒド等のアルデヒド系化合物およびその誘導体；ジビニルスルホン−Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセトアミド）、１，３−ビス（ビニルスルホニル）−２−プロパノール、メチレンビスマレイミド、５−アセチル−１，３−ジアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリアクリロイル−ヘサヒドロ−ｓ−トリアジン及び１，３，５−トリビニルスルホニル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジンなどの活性ビニル系化合物；２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩、２，４−ジクロロ−６−（４−スルホアニリノ）−ｓ−トリアジンナトリウム塩、２，４−ジクロロ−６−（２−スルホエチルアミノ）−ｓ−トリアジン及びＮ，Ｎ’−ビス（２−クロロエチルカルバミル）ピペラジン等の活性ハロゲン系化合物；ビス（２，３−エポキシプロピル）メチルプロピルアンモニウム・ｐ−トルエンスルホン酸塩、２，４，６−トリエチレン−ｓ−トリアジン、１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素およびビス−β−エチレンイミノエチルチオエーテル等のエチレンイミン系化合物；１，２−ジ（メタンスルホンオキシ）エタン、１，４−ジ（メタンスルホンオキシ）ブタン及び１，５−ジ（メタンスルホンオキシ）ペンタン等のメタンスルホン酸エステル系化合物；ジシクロヘキシルカルボジイミド及び１−ジシクロヘキシル−３−（３−トリメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩等のカルボジイミド化合物；２，５−ジメチルイソオキサゾール等のイソオキサゾール系化合物；クロム明ばん及び酢酸クロム等の無機系化合物；Ｎ−カルボエトキシ−２−イソプロポキシ−１，２−ジヒドロキノリン及びＮ−（１−モルホリノカルボキシ）−４−メチルピリジウムクロリド等の脱水縮合型ペプチド試薬；Ｎ，Ｎ’−アジポイルジオキシジサクシンイミド及びＮ，Ｎ’−テレフタロイルジオキシジサクシンイミド等の活性エステル系化合物：トルエン−２，４−ジイソシアネート及び１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート類；及びポリアミド−ポリアミン−エピクロルヒドリン反応物等のエピクロルヒドリン系化合物を挙げることができるが、これに限定されるものではない。 As a typical example, a melamine compound containing at least one of two or more (preferably three or more) methylol groups and an alkoxymethyl group or a condensation polymer thereof, a melamine resin or a melamine urea resin, Mucochloric acid, mucobromic acid, mucofenoxycycloic acid, mucophenoxypromic acid, formaldehyde, glyoxal, monomethylglioxal, 2,3-dihydroxy-1,4-dioxane, 2,3-dihydroxy-5-methyl-1,4 Aldehyde compounds such as dioxane succinaldehyde, 2,5-dimethoxytetrahydrofuran and glutaraldehyde and derivatives thereof; divinylsulfone-N, N′-ethylenebis (vinylsulfonylacetamide), 1,3-bis (vinylsulfonyl) -2 − Lopanol, methylene bismaleimide, 5-acetyl-1,3-diaacryloyl-hexahydro-s-triazine, 1,3,5-triacryloyl-hesahydro-s-triazine and 1,3,5-trivinylsulfonyl-hexahydro- active vinyl compounds such as s-triazine; 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine sodium salt, 2,4-dichloro-6- (4-sulfoanilino) -s-triazine sodium salt, 2,4- Active halogen compounds such as dichloro-6- (2-sulfoethylamino) -s-triazine and N, N′-bis (2-chloroethylcarbamyl) piperazine; bis (2,3-epoxypropyl) methylpropylammonium P-toluenesulfonate, 2,4,6-triethylene-s-triazine, Ethyleneimine compounds such as 1,6-hexamethylene-N, N′-bisethyleneurea and bis-β-ethyleneiminoethylthioether; 1,2-di (methanesulfoneoxy) ethane, 1,4-di (methanesulfone) Oxy) butane and methanesulfonic acid ester compounds such as 1,5-di (methanesulfoneoxy) pentane; carbodiimide compounds such as dicyclohexylcarbodiimide and 1-dicyclohexyl-3- (3-trimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride; Isoxazole compounds such as 5-dimethylisoxazole; inorganic compounds such as chromium alum and chromium acetate; N-carboethoxy-2-isopropoxy-1,2-dihydroquinoline and N- (1-morpholinocarboxy)- 4-methylpyridinium chloride, etc. Dehydrated condensation type peptide reagents; active ester compounds such as N, N′-adipoyldioxydisuccinimide and N, N′-terephthaloyldioxydisuccinimide: toluene-2,4-diisocyanate and 1,6- Examples thereof include, but are not limited to, isocyanates such as hexamethylene diisocyanate; and epichlorohydrin compounds such as polyamide-polyamine-epichlorohydrin reactant.
本発明で使用されるカルボジイミド化合物としては、分子内にカルボジイミド構造を複数有する化合物を使用することが好ましい。
ポリカルボジイミドは、通常、有機ジイソシアネートの縮合反応により合成される。ここで分子内にカルボジイミド構造を複数有する化合物の合成に用いられる有機ジイソシアネートの有機基は特に限定されず、芳香族系、脂肪族系のいずれか、あるいはそれらの混合系も使用可能であるが、反応性の観点から脂肪族系が特に好ましい。
合成原料としては、有機イソシアネート、有機ジイソシアネート、有機トリイソシアネート等が使用される。
有機イソシアネートの例としては、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、及び、それらの混合物が使用可能である。
具体的には、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート等が用いられ、また、有機モノイソシアネートとしては、イソホロンイソシアネート、フェニルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、ブチルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等が使用される。
また、本発明に用いうるカルボジイミド系化合物は、例えば、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２（商品名：日清紡社製）などの市販品としても入手可能である。
カルボジイミド系化合物はバインダーに対して1〜200質量％、より好ましくは5〜100質量％の範囲で添加することが好ましい。
As the carbodiimide compound used in the present invention, a compound having a plurality of carbodiimide structures in the molecule is preferably used.
Polycarbodiimide is usually synthesized by a condensation reaction of organic diisocyanate. Here, the organic group of the organic diisocyanate used for the synthesis of the compound having a plurality of carbodiimide structures in the molecule is not particularly limited, and either aromatic or aliphatic, or a mixed system thereof can be used. An aliphatic system is particularly preferred from the viewpoint of reactivity.
As the synthetic raw material, organic isocyanate, organic diisocyanate, organic triisocyanate and the like are used.
As examples of organic isocyanates, aromatic isocyanates, aliphatic isocyanates, and mixtures thereof can be used.
Specifically, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, cyclohexane Diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, etc. are used. As organic monoisocyanates, isophorone isocyanate, phenyl isocyanate are used. Cyclohexyl isocyanate, butyl isocyanate, naphthyl isocyanate and the like are used.
Moreover, the carbodiimide type compound that can be used in the present invention is also available as a commercial product such as Carbodilite V-02-L2 (trade name: manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.).
The carbodiimide compound is preferably added in an amount of 1 to 200% by weight, more preferably 5 to 100% by weight, based on the binder.
尚、易接着層を形成するバインダー樹脂は、架橋剤との架橋反応が可能なように、メチロール基、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれかの基を有することが好ましい。水酸基及びカルボキシル基が好ましく、特にカルボキシル基が好ましい。ポリマー中の水酸基又はカルボキシル基の含有量は、０．０００１〜１当量／１ｋｇが好ましく、特に０．００１〜１当量／１ｋｇが好ましい。 In addition, it is preferable that binder resin which forms an easily bonding layer has any group of a methylol group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group so that a crosslinking reaction with a crosslinking agent is possible. A hydroxyl group and a carboxyl group are preferred, and a carboxyl group is particularly preferred. The content of hydroxyl group or carboxyl group in the polymer is preferably 0.0001 to 1 equivalent / 1 kg, particularly preferably 0.001 to 1 equivalent / 1 kg.
本発明における易接着層の層厚は、０．０１〜１μｍの範囲が好ましく、さらに０．０１〜０．２μｍの範囲が好ましい。０．０１μｍ未満では塗布剤を均一に塗布しにくいため製品に塗布むらが生じやすく、１μｍを超える場合は、耐傷性が劣る場合がある。 The layer thickness of the easy adhesion layer in the present invention is preferably in the range of 0.01 to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 to 0.2 μm. If the coating agent is less than 0.01 μm, it is difficult to uniformly apply the coating agent, so that uneven coating tends to occur on the product.
本発明における易接着層には必要に応じて、マット剤、界面活性剤、滑り剤などの添加剤を併用して使用することができる。マット剤としては、０．００１〜１０μｍの粒径をもつ酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの酸化物の粒子や、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等の重合体あるいは共重合体等の粒子をあげることができる。界面活性剤としては公知のアニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性系界面活性剤、非イオン系界面活性剤等があげることができる。滑り剤としては、カルナバワックス等の天然ワックス、炭素数８〜２２の高級アルコールのリン酸エステルもしくはそのアミノ塩；パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸およびそのエステル類；及びシリコーン系化合物等を挙げることができる。 In the easy-adhesion layer in the present invention, additives such as a matting agent, a surfactant and a slipping agent can be used in combination as necessary. Examples of the matting agent include particles of oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, and magnesium oxide having a particle diameter of 0.001 to 10 μm, and particles of a polymer or a copolymer such as polymethyl methacrylate and polystyrene. Can do. Examples of the surfactant include known anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants and nonionic surfactants. Examples of slip agents include natural waxes such as carnauba wax, phosphate esters of higher alcohols having 8 to 22 carbon atoms or amino salts thereof; palmitic acid, stearic acid, behenic acid and esters thereof; and silicone compounds. Can do.
（引っ掻き強度）
本発明において、現像銀を含む導電性金属からなる細線パターンは、引っ掻き強度がHB以上であることが好ましい。ここで、引っ掻き強度がHB以上であるとは、JIS K５４００に準じて、HB以上の硬度の鉛筆で細線パターン面の引っ掻き試験を行い、細線パターン面の断線が、引っ掻いた細線１０箇所あたり、２箇所以下であることを言う。
（細線パターンの断線）
本発明において、現像銀を含む導電性金属からなる細線パターンは、細線パターン部の断線が１ｍ2あたり５箇所以下であることが好ましく、更に好ましくは、２箇所以下である。この断線は、製造工程を経て生じるが、前述の引っ掻き強度が高いほど、断線は生じにくい。この断線は、電磁波シールド能を低下させる原因となる為、好ましくないものであり、特に航空機搭載の液晶表示装置では大問題となり得る。
本発明において、前記細線パターン面をＨＢ鉛筆で引掻いた後の表面抵抗率の変化率が２倍以内であることが好ましい。尚、引掻き方向は互いに直交する２方向に引掻きを行ない、その交点上にプローブを接触させることにより、表面抵抗率を測定する。
(Scratch strength)
In the present invention, the fine line pattern made of a conductive metal containing developed silver preferably has a scratch strength of HB or more. Here, when the scratch strength is HB or higher, a fine line pattern surface is scratched with a pencil having a hardness of HB or higher in accordance with JIS K5400. Say that it is below the point.
(Thin wire pattern break)
In the present invention, the fine line pattern made of a conductive metal containing developed silver preferably has 5 or less, more preferably 2 or less, breaks in the fine line pattern portion per 1 m 2. Although this disconnection occurs through the manufacturing process, the disconnection is less likely to occur as the aforementioned scratch strength is higher. This disconnection is undesirable because it causes a reduction in electromagnetic wave shielding ability, and can be a serious problem especially in an aircraft-mounted liquid crystal display device.
In this invention, it is preferable that the change rate of the surface resistivity after scratching the said fine wire pattern surface with an HB pencil is less than 2 times. The scratch resistance is scratched in two directions orthogonal to each other, and the surface resistivity is measured by bringing the probe into contact with the intersection.
［他の機能層］
本発明では、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁波シールド材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層や、ノングレアー層またはアンチグレア層（共にぎらつき防止機能を有する）、近赤外線を吸収する化合物や金属からなる近赤外線吸収層、特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋などの汚れを除去しやすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。これらの機能層は、金属銀部あるいは導電性金属部と支持体とを挟んで反対側の面に設けてもよく、さらに同一面側に設けてもよい。
[Other functional layers]
In the present invention, a functional layer having functionality may be separately provided as necessary. This functional layer can have various specifications for each application. For example, as an electromagnetic shielding material for displays, an antireflection layer provided with an antireflection function with an adjusted refractive index and film thickness, a non-glare layer or an antiglare layer (both have a glare prevention function), and absorbs near infrared rays. Near-infrared absorbing layer made of compound or metal, layer with a color tone adjustment function that absorbs visible light in a specific wavelength range, antifouling layer with a function that easily removes dirt such as fingerprints, hard coat with little scratches A layer, a layer having an impact absorbing function, a layer having a function of preventing glass scattering when glass is broken, and the like can be provided. These functional layers may be provided on the opposite side of the metal silver part or the conductive metal part and the support, or may be provided on the same side.
以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。 The features of the present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.
[実施例１]
＜支持体＞
三酸化アンチモンを主触媒として重縮合した固有粘度０．６６のポリエチレンテレフタレート樹脂を含水率５０ｐｐｍ（ｍｇ／Ｌ）以下に乾燥させ、ヒーター温度が２８０〜３００℃設定の押し出し機内で溶融させた。
溶融させたＰＥＴ樹脂をダイ部より静電印加されたチルロール上に吐出させ、非結晶ベースを得る。得られた非結晶ベースをベース進行方向に３．３倍に延伸後、巾方向に３．８倍に延伸し、厚さ９６μｍの支持体をロール形態で製造した。
後述するが、この支持体に易接着層を積層した後、ハロゲン化銀粒子を含有する乳剤を塗布して写真感光材料を作製して、本発明に用いる現像銀を含む細線パターンを得る。
[Example 1]
<Support>
A polyethylene terephthalate resin having an intrinsic viscosity of 0.66 polycondensed using antimony trioxide as a main catalyst was dried to a moisture content of 50 ppm (mg / L) or less and melted in an extruder set at a heater temperature of 280 to 300 ° C.
The molten PET resin is discharged from a die part onto a chill roll electrostatically applied to obtain an amorphous base. The obtained amorphous base was stretched 3.3 times in the base traveling direction, and then stretched 3.8 times in the width direction to produce a support having a thickness of 96 μm in the form of a roll.
As will be described later, after laminating an easy-adhesion layer on this support, an emulsion containing silver halide grains is applied to produce a photographic light-sensitive material to obtain a fine line pattern containing developed silver used in the present invention.
＜易接着層＞
支持体上に下記組成の塗布液を下記塗布条件にて、逐次、塗工、乾燥し、易接着層を形成した。
<Easily adhesive layer>
On the support, a coating solution having the following composition was sequentially applied and dried under the following coating conditions to form an easy adhesion layer.
＜易接着層１＞
二軸延伸した上記ポリエチレンテレフタレート支持体を、搬送速度１０５ｍ／分の条件で搬送した状態で、概支持体表面にコロナ放電処理を行ったのち、下記の塗布液を塗布量、７．１ｍＬ／ｍ2でバーコート法により塗布した。続いてエアー浮上乾燥ゾーンで１８０℃１分乾燥させた。
<Easily adhesive layer 1>
After the biaxially stretched polyethylene terephthalate support was transported at a transport speed of 105 m / min, the surface of the general support was subjected to corona discharge treatment, and the following coating solution was applied in an amount of 7.1 mL / m. 2 was applied by the bar coating method. Subsequently, it was dried at 180 ° C. for 1 minute in an air floating drying zone.
（１層目塗布液）
蒸留水 781.7質量部
ポリアクリル樹脂（日本純薬製、固形分30%） 30.9質量部
カルボジイミド化合物(カルボジライトV-02-L2：日清紡製、固形分40%)
6.4質量部
界面活性剤(三洋化成工業製 固形分44.6%) 2.1質量部
(First layer coating solution)
Distilled water 781.7 parts by mass Polyacrylic resin (Nippon Pure Chemicals, solid content 30%) 30.9 parts by mass Carbodiimide compound (Carbodilite V-02-L2: Nisshinbo, solid content 40%)
6.4 parts by mass surfactant (manufactured by Sanyo Chemical Industries, solids 44.6%) 2.1 parts by mass
搬送速度１０５ｍ／分を保ったまま、引き続き、下記組成からなる表面層用塗布液をバーコート法により塗布量５．０５ｍＬ／ｍ2で塗布した。続いてエアー浮上乾燥ゾーンで１６０℃で１分乾燥することで２層構成の易接着層１を得た。 While maintaining the conveying speed of 105 m / min, a surface layer coating solution having the following composition was subsequently applied at a coating amount of 5.05 mL / m 2 by the bar coating method. Subsequently, the easy-adhesion layer 1 having a two-layer structure was obtained by drying at 160 ° C. for 1 minute in an air floating drying zone.
（２層目塗布液）
蒸留水 941.0質量部
ポリアクリル樹脂（日本純薬製、固形分30%） 57.3質量部
エポキシ化合物(デナコールEX-521：ナガセ化成工業製、固形分100%)
1.2質量部
界面活性剤(三洋化成工業製 固形分44.6%) 0.5質量部
(Second layer coating solution)
Distilled water 941.0 parts by mass Polyacrylic resin (Nippon Pure Chemicals, solid content 30%) 57.3 parts by mass epoxy compound (Denacol EX-521: Nagase Chemical Industries, solid content 100%)
1.2 parts by mass surfactant (manufactured by Sanyo Chemical Industries, solids 44.6%) 0.5 parts by mass
＜ハロゲン化銀粒子を含有する乳剤Ａの調整、及び、写真感光材料の作成＞
下記の１液を攪拌しながら、２液と３液の各々９０％に相当する量を同時に２０分間にわたって添加し、０．１５μｍのハロゲン化銀の核粒子を形成した。続いて下記４液、５液を８分間にわたって加え、さらに、２液と３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．１８μｍまで粒子を成長させた。さらに、ヨウ化カリウム０．１５ｇ（0.1％水溶液の形で）を加え５分間熟成しハロゲン化銀の粒子を作成した。
<Preparation of emulsion A containing silver halide grains and preparation of photographic material>
While stirring the following 1 solution, an amount corresponding to 90% of each of the 2 and 3 solutions was added simultaneously over 20 minutes to form 0.15 μm silver halide core particles. Subsequently, the following 4th and 5th liquids were added over 8 minutes, and the remaining 10% of the 2nd and 3rd liquids were further added over 2 minutes to grow particles to 0.18 μm. Further, 0.15 g of potassium iodide (in the form of a 0.1% aqueous solution) was added and ripened for 5 minutes to prepare silver halide grains.
・１液：
水 ７５０ｍｌ
ゼラチン ２０ｇ
塩化ナトリウム １．６ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ
クエン酸 ０．７ｇ
・２液
水 ３００ｍｌ
硝酸銀 １５０ｇ
・３液
水 ３００ｍｌ
塩化ナトリウム ３８ｇ
臭化カリウム ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム(0.005% KCl 20%水溶液) ５ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム(0.001% NaCl 20%水溶液) ７ｍｌ
３液に用いたヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム(0.005% KCl 20%水溶液)およびヘキサクロロロジウム酸アンモニウム(0.001% NaCl20% 水溶液)は、粉末をそれぞれKCl 20%水溶液、NaCl20%水溶液に溶解して調製した。
・４液
水 １００ｍｌ
硝酸銀 ５０ｇ
・５液
水 １００ｍｌ
塩化ナトリウム １３ｇ
臭化カリウム １１ｇ
黄血塩 ５ｍｇ
・ 1 liquid:
750 ml of water
20g gelatin
Sodium chloride 1.6g
1,3-Dimethylimidazolidine-2-thione 20mg
Sodium benzenethiosulfonate 10mg
Citric acid 0.7g
・ Two liquids 300ml
150 g silver nitrate
・ 3 liquid water 300ml
Sodium chloride 38g
Potassium bromide 32g
Hexachloroiridium (III) potassium (0.005% KCl 20% aqueous solution) 5ml
Ammonium hexachlororhodate (0.001% NaCl 20% aqueous solution) 7ml
Potassium hexachloroiridium (III) (0.005% KCl 20% aqueous solution) and ammonium hexachlororhodate (0.001% NaCl 20% aqueous solution) used in the three solutions were prepared by dissolving the powder in KCl 20% aqueous solution and NaCl 20% aqueous solution, respectively. did.
・ 4 liquid water 100ml
Silver nitrate 50g
・ 5 liquid 100ml
Sodium chloride 13g
Potassium bromide 11g
Yellow blood salt 5mg
その後、常法にしたがって脱塩、水洗したのち、分子量２万の低分子量ゼラチン８ｇを加え、ｐＨ５．６、ｐＡｇ７．５に調整し、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え、５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として1,3,3a,7-テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ製）１００ｍｇを加えた。最終的に塩化銀を７０モル％、沃化銀を0.08モル％含む平均粒子径０．１８μｍのヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤を得た。 Then, after desalting and washing with water according to a conventional method, 8 g of low molecular weight gelatin having a molecular weight of 20,000 was added to adjust to pH 5.6, pAg 7.5, 10 mg of sodium benzenethiosulfonate, 3 mg of sodium benzenethiosulfinate, Sodium sulfate 15mg and chloroauric acid 10mg were added, and chemical sensitization was performed to obtain the optimum sensitivity at 55 ° C. 1,3,3a, 7-tetraazaindene 100mg as a stabilizer and Proxel as a preservative (trade name) 100 mg) from ICI. Finally, a silver iodochlorobromide cubic grain emulsion having an average grain size of 0.18 μm and containing 70 mol% of silver chloride and 0.08 mol% of silver iodide was obtained.
上記乳剤Aに分光増感を施し、1,3,3a,7-テトラアザインデン、ハイドロキノン、クエン酸、界面活性剤を添加し、Ａｇ７．６ｇ／m2、ゼラチン１．１ｇ／m2になるようにして、易接着層を積層した前述の支持体に塗布して、本発明に用いる写真感光材料のサンプルを作製した。 Perform spectral sensitization to the emulsion A, 1,3,3a, 7- tetrazaindene, hydroquinone, citric acid, a surfactant is added, Ag7.6g / m 2, made of gelatin 1.1 g / m 2 Thus, the sample of the photosensitive material used for this invention was produced by apply | coating to the above-mentioned support body which laminated | stacked the easily bonding layer.
（ハロゲン化銀写真感光材料の露光・現像処理）
乾燥させた各サンプルのハロピッチが１５μｍ／３００μｍの銅細線パターンを有する電磁波シールドフィルム（サンプルNo.３）を得た。
表面抵抗率を、三菱化学（株）低抵抗率計ロレスターＧＰ／ＡＳＰプローブを用いて、ＪＩＳ７１９４に従って測定した。
(Exposure and development of silver halide photographic materials)
An electromagnetic wave shielding film (sample No. 3) having a copper fine wire pattern in which the halo pitch of each dried sample was 15 μm / 300 μm was obtained.
The surface resistivity was measured in accordance with JIS 7194 using a Mitsubishi Chemical Corporation low resistivity meter Lorester GP / ASP probe.
（引っ掻き強度の評価）
ＪＩＳ Ｋ５４００を参照し、ＨＢの鉛筆でメッシュ面の引っ掻き試験を行った。
尚、互いに直交する２方向に引っ掻きを行った。
レベルＡ：メッシュの断線が、引っ掻いた細線１０箇所あたり、２箇所以下。
レベルＢ：メッシュの断線が、引っ掻いた細線１０箇所あたり、３〜５箇所。
レベルＣ：メッシュの断線が、引っ掻いた細線１０箇所あたり、６箇所以上。
評価結果を表１に示す。
(Evaluation of scratch strength)
With reference to JIS K5400, a scratch test of the mesh surface was performed with an HB pencil.
Scratching was performed in two directions orthogonal to each other.
Level A: Mesh breakage is 2 or less per 10 fine lines scratched.
Level B: Mesh breakage is 3 to 5 places per 10 fine lines scratched.
Level C: There are 6 or more broken meshes per 10 fine scratches.
The evaluation results are shown in Table 1.
表１の結果から、本発明サンプルは、引っ掻き強度が高く、鉛筆で引っ掻いてもメッシュの断線がほとんど起こらないことが判った。
本発明のサンプルは、表面抵抗率が小さく、更に引っ掻き強度に優れ、引っ掻き試験後も、表面抵抗率の変化がほとんどないことが判った。このため、タッチパネル用の電磁波シールドフィルムとして好適に用いることができる。
From the results in Table 1, it was found that the sample of the present invention had high scratch strength, and the mesh disconnection hardly occurred even when scratched with a pencil.
The sample of the present invention was found to have a low surface resistivity, excellent scratch strength, and little change in surface resistivity after the scratch test. For this reason, it can use suitably as an electromagnetic wave shield film for touch panels.
Claims (5)
前記細線パターンがゼラチンを更に含有し、
前記支持体がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を原料とするプラスチックフィルムであることを特徴とする液晶表示装置のタッチパネル用透光性電磁波シールドフィルム。 A support having thereon fine line patterns made of a conductive metal containing developing silver, between the support and the fine line pattern, crosslinked with an epoxy compound or a carbodiimide compound, and is more formed acrylic resins Easy adhesion layer is laminated ,
The fine line pattern further contains gelatin;
A translucent electromagnetic wave shielding film for a touch panel of a liquid crystal display device, wherein the support is a plastic film made of polyethylene terephthalate (PET) as a raw material .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006342829A JP5337342B2 (en) | 2006-12-20 | 2006-12-20 | Translucent electromagnetic shielding film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006342829A JP5337342B2 (en) | 2006-12-20 | 2006-12-20 | Translucent electromagnetic shielding film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008153596A JP2008153596A (en) | 2008-07-03 |
| JP5337342B2 true JP5337342B2 (en) | 2013-11-06 |
Family
ID=39655412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006342829A Expired - Fee Related JP5337342B2 (en) | 2006-12-20 | 2006-12-20 | Translucent electromagnetic shielding film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5337342B2 (en) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012014669A (en) * | 2009-11-20 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | Conductive sheet, method of using conductive sheet and electrostatic capacitive touch panel |
| US8766105B2 (en) | 2009-11-20 | 2014-07-01 | Fujifilm Corporation | Conductive sheet, method for using conductive sheet, and capacitive touch panel |
| JP2011179117A (en) * | 2010-02-04 | 2011-09-15 | Pika Power:Kk | Working method with metal fine particle deposition using microwave irradiation and material having desired part improved in conductivity by using the working method |
| WO2011132346A1 (en) | 2010-04-22 | 2011-10-27 | シャープ株式会社 | Display device |
| KR101689037B1 (en) * | 2010-09-28 | 2016-12-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | Liquid Crystal Display device |
| JP5667938B2 (en) * | 2010-09-30 | 2015-02-12 | 富士フイルム株式会社 | Capacitive touch panel |
| JP5645581B2 (en) * | 2010-10-05 | 2014-12-24 | 富士フイルム株式会社 | Touch panel |
| JP5463315B2 (en) * | 2011-03-17 | 2014-04-09 | 富士フイルム株式会社 | Electrode sheet, electrode sheet manufacturing method, and touch panel |
| CN104246913B (en) * | 2012-04-18 | 2016-08-24 | Lg化学株式会社 | Conductive structure and preparation method thereof |
| JP6183628B2 (en) * | 2012-08-31 | 2017-08-23 | エルジー・ケム・リミテッド | Display substrate bezel and method of manufacturing the same |
| TWI462662B (en) * | 2013-02-06 | 2014-11-21 | Nanya Plastics Corp | Composite double-side blackening foil and manufacturing method thereof |
| JP6447185B2 (en) * | 2015-01-30 | 2019-01-09 | 住友金属鉱山株式会社 | Method for manufacturing conductive substrate, method for manufacturing laminated conductive substrate |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03211798A (en) * | 1990-01-16 | 1991-09-17 | Casio Comput Co Ltd | Electromagnetic shield board |
| JP2001079994A (en) * | 1999-09-10 | 2001-03-27 | Unitika Ltd | Easily adhesive plastic film and its manufacturing method |
| JP2004207001A (en) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Manufacturing method of transparent conductive film |
| JP2004213990A (en) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Toyobo Co Ltd | Transparent conductive film and touch panel |
| JP4571417B2 (en) * | 2004-02-18 | 2010-10-27 | ユニチカ株式会社 | Laminated film with an easy adhesion layer |
| JP2006092031A (en) * | 2004-09-21 | 2006-04-06 | Ishiyama Toshiaki | Touch panel having electromagnetic wave shield and its manufacturing method |
| JP4500715B2 (en) * | 2005-03-16 | 2010-07-14 | 富士フイルム株式会社 | Method for producing translucent conductive film, translucent conductive film, translucent electromagnetic wave shielding film, and optical filter |
-
2006
- 2006-12-20 JP JP2006342829A patent/JP5337342B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008153596A (en) | 2008-07-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5337342B2 (en) | Translucent electromagnetic shielding film | |
| JP2008149681A (en) | Translucent conductive material | |
| US20190155413A1 (en) | Transparent conductive film and touch panel | |
| US10310143B2 (en) | Anti-reflection optical member | |
| JP2008288067A (en) | Translucent conductor | |
| JP2004107627A (en) | Laminated film for optical use, laminated film for preventing reflection, laminated film for touch panel and laminated film for displaying member | |
| EP2833173A1 (en) | Heat-ray-shielding material and laminated structure | |
| US20170028676A1 (en) | Antireflection film and functional glass | |
| TW201740139A (en) | Antireflective film and functional glass | |
| JP2013202987A (en) | Coated film | |
| JP2013094966A (en) | Laminated polyester film | |
| JP2019152898A (en) | Conductive sheet for touch panel, manufacturing method of conductive sheet for touch panel and touch panel | |
| JP2018058234A (en) | Hard coat film for bonding of inorganic compound layer, and transparent conductive film and touch panel prepared with the hard coat film | |
| CN107922655B (en) | Film for metal film lamination | |
| TW201637852A (en) | Double-sided metal laminated film | |
| JP6235993B2 (en) | Film material and method for producing conductive material | |
| JP2016020459A (en) | Manufacturing method of conductive film with adhesive layer and conductive film | |
| JP6467928B2 (en) | Double-sided metal laminated film | |
| JP6467942B2 (en) | Double-sided metal laminated film | |
| WO2016181794A1 (en) | Laminate for plating processing, conductive laminate manufacturing method, touch panel sensor, and touch panel | |
| WO2024043032A1 (en) | Conductive substrate and touch panel | |
| WO2022168436A1 (en) | Laminated glass and laminated glass middle film | |
| JP2017065035A (en) | Film for laminating metal layer | |
| JP6763126B2 (en) | Metal laminated film | |
| JP6613995B2 (en) | Laminate film having substrate with cured layer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090904 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110711 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111004 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20111118 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111201 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120626 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120815 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120914 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121004 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130402 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130603 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130709 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130805 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5337342 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |