JP5331765B2 - 光導波路及びその形成方法 - Google Patents

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Description

本発明は、光伝送素子及びその形成方法に係り、さらに詳細には、光導波路及びその形成方法に関する。
光ファイバを利用した長距離光信号伝送は光通信の一般的な形態として認識されている。しかし、短距離光信号伝送の領域では光ファイバが大きい長所を有することができなくて、平面光波回路(planar lightwave circuit、PLC)技術に基づいた多様な素材の光導波路素子が幅広い応用領域に活用されている。
最近では、数センチメートル乃至数十メートルの信号伝送ラインに光インターコネクション技術を導入することによって、既存の電気技術による限界を克服するための研究開発が活発に進行されている。しかし、既存の光ファイバ技術及びPLC技術は製作と取り扱いの側面において、経済性及び効用性の問題を有しており、幅広い応用領域に適する光伝送路を提供するのに限界がある。
韓国登録特許第10−0394019号公報
本発明の目的は、多様に活用することができる光導波路及びその形成方法を提供することにある。
本発明の実施形態に係る光導波路は、互いに離隔されて配置された誘導薄膜と、前記誘導薄膜を離隔させる間隙を満たし、前記誘導薄膜の少なくとも一部を覆う導波路薄膜とを含み、前記導波路薄膜の屈折率は前記誘導薄膜の屈折率より大きい。
本発明の実施形態に係る前記導波路薄膜は、前記誘導薄膜の上部面及び下部面を覆うことができる。
本発明の実施形態に係る前記間隙を満たす導波路薄膜に伝達された光は前記間隙に沿ってモードを形成して導波されることができる。
本発明の実施形態に係る前記間隙の幅は、前記導波路薄膜の厚さの1/5以上であり得る。
本発明の実施形態に係る前記誘導薄膜は、前記導波路薄膜によって覆われる第1誘導薄膜及び前記導波路薄膜の側面を覆う第2誘導薄膜を含み、前記第2誘導薄膜は前記第1誘導薄膜より厚いこともある。
本発明の実施形態に係る前記誘導薄膜は、同一平面に配置される第1誘導薄膜、第2誘導薄膜、及び第3誘導薄膜を含み、前記間隙は前記第1誘導薄膜と前記第2誘導薄膜とを離隔させる第1間隙及び前記第2誘導薄膜と前記第3誘導薄膜とを離隔させる第2間隙を含むことができる。
本発明の実施形態に係る前記導波路薄膜の前記第1間隙を通じて伝達される第1光成分及び前記第2間隙を通じて伝達される第2光成分は1つの光モードを形成して導波されることができる。
本発明の実施形態に係る前記導波路薄膜の前記第1間隙を通じて伝達される第1光成分及び前記第2間隙を通じて伝達される第2光成分は互いに分離して各々の光モードを形成して導波されることができる。
本発明の実施形態に係る光導波路は、前記第1及び第3誘導薄膜を含む第1領域、及び前記第1、第2、及び第3誘導薄膜を含む第2領域を含み、前記間隙は前記第1領域の前記第1誘導薄膜と前記第3誘導薄膜とを離隔させる第3間隙をさらに含み、前記第1間隙と前記第2間隙は前記第2領域に配置され、前記第3間隙から分岐されて形成されることができる。
本発明の実施形態に係る前記第3間隙、前記第1間隙、及び前記第2間隙は互いにY字形態の連結構造を有することができる。
本発明の実施形態に係る光導波路は、前記第1、第2、及び第3誘導薄膜を各々含む第1領域及び第2領域を含み、前記第1領域に配置された前記第1間隙と前記第2間隙との隔離距離は前記第2領域に配置された前記第1間隙と前記第2間隙との隔離距離より短いこともある。
本発明の実施形態に係る前記第1間隙と前記第2間隙とを通じて伝達される各々の光成分は前記第1領域で1つの光モードを形成して導波され、前記第2領域で各々の光モードに互いに分離して各々導波されることができる。
本発明の実施形態に係る前記誘導薄膜は、同一平面に配置された第1誘導薄膜と、前記第1誘導薄膜上のまた異なる同一平面に配置された第2誘導薄膜とを含むことができる。
本発明の実施形態に係る前記間隙は、前記第1誘導薄膜を離隔させる第1間隙及び前記第2誘導薄膜を離隔させる第2間隙を含み、前記第1間隙と前記第2間隙は互いに重畳されるように配置されることができる。
本発明の実施形態に係る前記間隙は、前記第1誘導薄膜を離隔させる第1間隙及び前記第2誘導薄膜を離隔させる第2間隙を含み、前記第1間隙と前記第2間隙が互いに重畳されるように配置される第1領域と、前記第1間隙と前記第2間隙が互いに分離して配置される第2領域とを含むことができる。
本発明の実施形態に係る光導波路は、前記導波路薄膜を覆い、前記導波路薄膜より屈折率が小さい保護層をさらに含むことができる。
本発明の実施形態に係る光導波路は、前記導波路薄膜を覆う基底層をさらに含むことができる。
本発明の実施形態に係る光導波路の形成方法は、第1導波路薄膜を形成することと、前記第1導波路薄膜上に互いに離隔された誘導薄膜を形成することと、前記誘導薄膜が離隔された間隙を満たし、前記誘導薄膜を覆う第2導波路薄膜を形成することと、を含み、前記第1導波路薄膜、前記誘導薄膜、及び前記第2導波路薄膜は連続工程により形成されることができる。
本発明の実施形態に係る前記連続工程は、ロールツーロール(roll−to−roll)工程または直接印刷(direct printing)工程を含むことができる。
本発明の実施形態によると、光導波路は誘導薄膜を離隔させる間隙を満たす導波路薄膜によって光信号を伝送する。前記導波路薄膜は多様な形態を有することができ、多様な光成分を伝達または結合/分岐させることができる。本発明の実施形態に係る光導波路は連続工程により容易に形成されることができる。
本発明の実施形態に係る光導波路の概念図を概略的に示す図である。 本発明の第1実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図である。 本発明の第1実施形態に係る光導波路を説明するための断面図である。 本発明の第2実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図である。 本発明の第2実施形態に係る光導波路を説明するための断面図である。 本発明の第3実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図である。 本発明の第3実施形態に係る光導波路を説明するための断面図である。 本発明の第4実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図である。 本発明の第4実施形態に係る光導波路を説明するための平面図である。 本発明の第5実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図である。 本発明の第5実施形態に係る光導波路を説明するための平面図である。 本発明の第6実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図である。 本発明の第6実施形態に係る光導波路を説明するための断面図である。 本発明の第7実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図である。 本発明の第7実施形態に係る光導波路を説明するための平面図である。 本発明の第8実施形態に係る光導波路を説明するための断面図である。 本発明の第9実施形態に係る光導波路を説明するための断面図である。 本発明の実施形態に係る光導波路の形成方法を説明するための断面図である。 本発明の実施形態に係る光導波路の形成方法を説明するための断面図である。 本発明の実施形態に係る光導波路の形成方法を説明するための断面図である。 本発明の実施形態に係る光導波路の形成方法を説明するための断面図である。 本発明の連続工程による光導波路の形成方法を説明するための断面図である。
以上の本発明の目的、他の目的、特徴及び利点は添付の図面と係わる以下の望ましい実施形態を通じて容易に理解されることができる。しかし、本発明はここで説明される実施形態に限定されず、他の形態に具体化されることもできる。むしろ、ここで紹介される実施形態は開示された内容が徹底し、完全になれるように、そして当業者に本発明の思想を十分に伝達するために提供されるものである。
本明細書において、どのような構成要素が他の構成要素上にあると言及される場合に、それは他の構成要素上に直接形成されることができるか、またはそれらの間に第3の構成要素が介在されることもできることを意味する。また、図面において、構成要素の厚さは技術的内容の効果的な説明のために誇張されたものである。明細書の全体にかけて同一の参照番号として表示された部分は同一の構成要素を示す。
本明細書で記述する実施形態は本発明の理想的な例示図である断面図及び/または平面図を参考して説明する。図面において、膜及び領域の厚さは技術的内容の効果的な説明のために誇張されたものである。したがって、形成技術及び/または許容誤差などによって例示図の形態が変形されることができる。したがって、本発明の実施形態は示した特定形態に制限されず、形成工程によって生成される形態の変化も含む。例えば、直角として示したエッチング領域はラウンドになるか、または所定の曲率を有する形態であり得る。したがって、図面で例示された領域は概略的な属性を有し、図面で例示された領域の模様は素子の領域の特定形態を例示するためのものであり、発明の範疇を制限するためものではない。本明細書の多様な実施形態において、第1、第2、第3などの用語が多様な構成要素を記述するために使われたが、これら構成要素がこのような用語によって限定されてはいけない。これら用語はただどの構成要素を他の構成要素と区別させるために使われただけである。ここに説明及び例示される実施形態はそれの相補的な実施形態も含む。
本明細書で使われた用語は実施形態を説明するためのものであり、本発明を制限しようとするのではない。本明細書において、単数型は文句で特別に言及しない限り複数型も含む。
図1は、本発明の実施形態に係る光導波路の概念図を概略的に示す図である。
図1を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜120、130が配置される。前記誘導薄膜120、130を離隔させる間隙(gap)125を満たし、前記誘導薄膜120、130の少なくとも一部を覆う導波路薄膜110が配置される。前記導波路薄膜110の屈折率(refractive index)は前記誘導薄膜120、130の屈折率より大きい。前記間隙125を満たす導波路薄膜110に伝達された光は前記間隙125に沿ってモードを形成して導波されることができる。
前記誘導薄膜120、130及び前記導波路薄膜110はシリカ、シリコンまたは化合物半導体のような無機物素材を含むことができる。または、前記誘導薄膜120、130及び前記導波路薄膜110はポリマーなどのような有機物素材または有機無機複合素材を含むことができる。前記誘導薄膜120、130及び導波路薄膜110は同一の物質からなるか、または互いに異なる物質からなることができる。一方、前記誘導薄膜120、130の各々は互いに同一の物質または互いに異なる物質からなることができる。前記誘導薄膜120、130と前記導波路薄膜110は多層構造を有することができる。ただ、一般的な基準として前記誘導薄膜120、130の有効屈折率(effective index)が前記導波路薄膜110の有効屈折率より小さいという条件を満足すれば、十分である。
前記誘導薄膜120、130の厚さt1、前記間隙125の幅W、及び前記導波路薄膜の厚さt2は所望する光導波路の特性によって多様に調節されることができる。前記間隙125の幅Wは前記導波路薄膜110の厚さt2の1/5以上であり得る。単一モード導波条件において、前記間隙125の幅Wは前記導波路薄膜110の厚さt2より大きいか、または同一であることが好ましい。前記間隙125の幅Wに比べて前記導波路薄膜110の厚さt2が薄い場合、前記間隙125を満たす導波路薄膜110に伝達された光は前記間隙125に集中して導波されることができる。一方、前記間隙125の幅Wに比べて前記導波路薄膜110の厚さt2が厚い場合、前記間隙125を満たす導波路薄膜110に伝達された光は前記間隙125に集中せずに前記誘導薄膜120、130を覆う導波路薄膜110の方に広がる特性が示すことができる。
一方、前記誘導薄膜120、130の厚さt1が厚く、且つ前記間隙125の幅Wが広くなるほど、前記間隙125を満たす導波路薄膜110に伝達された光は集中して導波されることができる。一方、前記誘導薄膜120、130の厚さt1が薄く、且つ前記導波路薄膜110の厚さt2が相対的に厚ければ、前記間隙125を満たす導波路薄膜110に伝達された光は集中しないこともできる。
したがって、前記誘導薄膜120、130の厚さt1、前記間隙125の幅W、及び前記導波路薄膜110の厚さt2の組み合わせによって光伝達特性が調節されることができる。前記間隙125の幅Wが広いほど光モードは集中し、前記誘導薄膜120、130の厚さt1は厚いほど、そして前記導波路薄膜110の厚さt2は薄いほど、光モードは集中することができる。このような条件を組み合わせて単一/多重モードの光信号または複数個の光信号を伝送することができる。
例えば、前記誘導薄膜120、130の厚さt1は0.01μm乃至50μmであり得る。前記間隙125の幅Wは1μm乃至200μmであり得る。そして、前記導波路薄膜110の厚さt2は2μm乃至500μmであり得る。
本発明の実施形態に係る光導波路は硬性光導波路(rigid optical waveguide)または必要によって柔軟性光導波路(flexible optical waveguide)として活用されることができる。柔軟性光導波路として使われる場合、前記誘導薄膜120、130及び導波路薄膜110のうちの少なくとも前記導波路薄膜110が高柔軟性を有することが好ましく、曲げられる部分にかけている前記誘導薄膜120、130及び導波路薄膜110が全部高柔軟性を有することがさらに好ましい。
図2及び図3は、本発明の第1実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図及び断面図である。図1を参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図2及び図3を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜220、230が配置される。前記誘導薄膜220、230を離隔させる間隙225を満たし、前記誘導薄膜220、230の少なくとも一部を覆う導波路薄膜210が配置される。前記導波路薄膜210の屈折率は前記誘導薄膜220、230の屈折率より大きい。前記間隙225を満たす導波路薄膜210に伝達された光は前記間隙225に沿ってモードを形成して導波されることができる。前記導波路薄膜210は前記誘導薄膜220、230の上部面及び下部面を全部覆うことができる。前記導波路薄膜210が相対的に薄い場合、光信号は前記間隙225に沿ってモードを形成しながら導波され、前記誘導薄膜220、230を覆う導波路薄膜210の方に広がらないこともできる。
図4及び図5は、本発明の第2実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図及び断面図である。図1を参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図4及び図5を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜320、330が配置される。前記誘導薄膜320、330を離隔させる間隙325を満たし、前記誘導薄膜320、330の少なくとも一部を覆う導波路薄膜310が配置される。前記導波路薄膜310の屈折率は前記誘導薄膜320、330の屈折率より大きい。前記間隙325を満たす導波路薄膜310に伝達された光は前記間隙325に沿ってモードを形成して導波されることができる。
前記誘導薄膜320、330は前記導波路薄膜310によって覆われる第1誘導薄膜320a、330a及び前記導波路薄膜310の側面を覆う第2誘導薄膜320b、330bを含むことができる。前記第2誘導薄膜320b、330bは前記第1誘導薄膜320a、330aより厚いこともある。
上述の第1実施形態と比較すれば、前記第2誘導薄膜320b、330bによって前記第1誘導薄膜320a、330aを覆う前記導波路薄膜310の方に光が過度に広がる特性を減少させることができる。
図6及び図7は、本発明の第3実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図及び断面図である。図1を参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図6及び図7を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜450が配置される。前記誘導薄膜450を離隔させる間隙425を満たし、前記誘導薄膜450の少なくとも一部を覆う導波路薄膜410が配置される。前記導波路薄膜410の屈折率は前記誘導薄膜450の屈折率より大きい。前記間隙425を満たす導波路薄膜410に伝達された光は前記間隙425に沿ってモードを形成して導波されることができる。
前記誘導薄膜450は同一平面に配置される第1誘導薄膜420、第2誘導薄膜430、及び第3誘導薄膜440を含むことができる。前記間隙425は第1誘導薄膜420と第2誘導薄膜430とを離隔させる第1間隙425aと、第2誘導薄膜430と第3誘導薄膜440とを離隔させる第2間隙425bとを含むことができる。前記導波路薄膜410は前記第1誘導薄膜420と前記第2誘導薄膜430とを離隔させる第1間隙425aと、前記第2誘導薄膜430と前記第3誘導薄膜440とを離隔させる第2間隙425bとを満たすことができる。
前記第1間隙425aを満たす導波路薄膜410を通じて伝達される第1光成分(lightwave component)及び前記第2間隙425bを満たす導波路薄膜410を通じて伝達される第2光成分は1つの光モードを形成して導波されることができる。これは前記第2誘導薄膜430の幅を狭くして、前記第1間隙425aと第2間隙425bとの距離を近く維持させることによって可能である。
または、前記第1間隙425aを満たす導波路薄膜410を通じて伝達される第1光成分及び前記第2間隙425bを満たす導波路薄膜410を通じて伝達される第2光成分は互いに分離して各々導波されることができる。これは前記第2誘導薄膜430の幅を広くして、前記第1間隙425aと第2間隙425bとの距離を遠く維持させることによって可能である。
本発明の第3実施形態によると、誘導薄膜450の簡単な調節及び変形によって多様な形態の光信号の伝送が可能である。
図8及び図9は、本発明の第4実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図及び平面図である。図1を参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図8及び図9を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜550が配置される。前記誘導薄膜550を離隔させる間隙525を満たし、前記誘導薄膜550の少なくとも一部を覆う導波路薄膜510が配置される。前記導波路薄膜510の屈折率は前記誘導薄膜550の屈折率より大きい。前記間隙525を満たす導波路薄膜510に伝達された光は前記間隙525に沿ってモードを形成して導波されることができる。
前記誘導薄膜550は同一平面に配置される第1誘導薄膜520、第2誘導薄膜540、及び第3誘導薄膜530を含むことができる。光導波路は前記第1誘導薄膜520及び第2誘導薄膜540で構成された第1領域Aと、前記第1、第2、及び第3誘導薄膜520、540、530で構成された第2領域Cとを含むことができる。前記第1領域Aと第2領域Cとの間に転移領域Bが配置されることができる。
前記間隙525は前記第2領域Cの第1及び第3誘導薄膜520、530を離隔させる第1間隙525aと、第2及び第3誘導薄膜540、530を離隔させる第2間隙525bと、前記第1領域Aの第1誘導薄膜520と第2誘導薄膜540とを離隔させる第3間隙525cとを含むことができる。
前記第1間隙525a及び第2間隙525bは第3間隙525cから分岐されて形成されることができる。前記第1間隙525a及び第2間隙525bは前記転移領域Bから分岐されることができる。前記第1間隙525a、第2間隙525b、及び第3間隙525cはY字形態を有することができる。
前記第1間隙525aを満たす導波路薄膜510を通じて伝達される第1光成分及び前記第2間隙525bを満たす導波路薄膜510を通じて伝達される第2光成分は各々の光モードを形成するため、互いに分離して各々導波されることができる。これは前記第3誘導薄膜530の幅を十分に広くして、前記第1間隙525aと第2間隙525bとの距離を遠く維持させることによって可能である。このような形態の光導波路はY分岐(Y−splitter)素子として活用されることができる。一方、転移領域Bに光伝達特性を調節することができる手段が含まれることができる。この場合、光導波路は光スイッチ(optical switch)の形態として活用されることができる。
図10及び図11は、本発明の第5実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図及び平面図である。図1を参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図10及び図11を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜650が配置される。前記誘導薄膜650を離隔させる間隙625を満たし、前記誘導薄膜650の少なくとも一部を覆う導波路薄膜610が配置される。前記導波路薄膜610の屈折率は前記誘導薄膜650の屈折率より大きい。前記間隙625を満たす導波路薄膜610に伝達された光は前記間隙625に沿ってモードを形成して導波されることができる。
前記誘導薄膜650は同一平面に配置される第1誘導薄膜620、第2誘導薄膜640、及び第3誘導薄膜630を含むことができる。前記間隙625は前記第1及び第3誘導薄膜620、630を離隔させる第1間隙625aと、第2及び第3誘導薄膜640、630を離隔させる第2間隙625bとを含むことができる。
光導波路は前記第1間隙625aと前記第2間隙625bとの隔離距離d1が相対的に短い第1領域A及び前記第1間隙625aと前記第2間隙625bとの隔離距離d2が相対的に長い第2領域Cを含むことができる。前記第1領域Aと第2領域Cとの間に転移領域Bが配置されることができる。
前記第1間隙625aを満たす導波路薄膜610を通じて伝達される第1光成分及び前記第2間隙625bを満たす導波路薄膜610を通じて伝達される第2光成分は第1領域Aで1つの光モードを形成して導波され、第2領域Cで互いに分離して各々導波されることができる。これは前記第3誘導薄膜630の幅を調節して前記第1間隙625aと第2間隙625bとの距離を前記第1領域Aでは近く維持させ、前記第2領域Cでは遠く維持させることによって可能である。
図12及び図13は、本発明の第6実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図及び断面図である。図1を参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図12及び図13を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜740が配置される。前記誘導薄膜740を離隔させる間隙725を満たし、前記誘導薄膜740の少なくとも一部を覆う導波路薄膜710が配置される。前記導波路薄膜710の屈折率は前記誘導薄膜740の屈折率より大きい。前記間隙725を満たす導波路薄膜710に伝達された光は前記間隙725に沿ってモードを形成して導波されることができる。
前記誘導薄膜740は同一平面に配置される第1誘導薄膜720と、前記第1誘導薄膜720上のまた異なる同一平面に配置される第2誘導薄膜730とを含むことができる。前記間隙725は前記第1誘導薄膜720を離隔させる第1間隙725aと、前記第2誘導薄膜730を離隔させる第2間隙725bとを含むことができる。また、前記間隙725は前記第1誘導薄膜720と前記第2誘導薄膜730とを上下に離隔させる第3間隙725cをさらに含むことができる。前記第1間隙725a及び前記第2間隙725bは互いに実質的に重畳されるように配置されることができる。すなわち、前記第1間隙725a及び前記第2間隙725bは垂直方向に重畳されて同一の方向に延長されることができる。
前記第1間隙725a及び第2間隙725bを通じて伝達される各々の光成分は1つの光モードを形成して導波されることができ、互いに分離した各々の光モードを形成して導波されることもできる。これは前記第3間隙725cを狭く、または広く維持することによって調節することができる。
形成技術及び許容誤差などによって、または別途の技術的必要によって、前記第1間隙725a及び第2間隙725bが前記間隙725の幅の数倍、例えば2〜3倍以内の範囲で垂直方向の重畳からはずれた場合でも、これらの間の結合を通じて1つの光モードを形成するか、または互いに分離した各々の光モードを形成しながら、これらの間の距離が近くて互いに相互作用が可能である場合は、実質的な重畳の一例として理解することができるので、本発明の実施形態の技術的範囲に含まれると見なさなければならない。
図14及び図15は、本発明の第7実施形態に係る光導波路を説明するための斜視図及び平面図である。図1を参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図14及び図15を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜840が配置される。前記誘導薄膜840を離隔させる間隙825を満たし、前記誘導薄膜840の少なくとも一部を覆う導波路薄膜810が配置される。前記導波路薄膜810の屈折率は前記誘導薄膜840の屈折率より大きい。前記間隙825を満たす導波路薄膜810に伝達された光は前記間隙825に沿ってモードを形成して導波されることができる。
前記誘導薄膜840は同一平面に配置される第1誘導薄膜820と、前記第1誘導薄膜820上のまた異なる同一平面に配置される第2誘導薄膜830とを含むことができる。前記間隙825は前記第1誘導薄膜820を離隔させる第1間隙825aと、前記第2誘導薄膜830を離隔させる第2間隙825bとを含むことができる。前記間隙825は前記第1誘導薄膜820と前記第2誘導薄膜830とを上下に離隔させる第3間隙825cを含むことができる。光導波路は前記第1間隙825a及び前記第2間隙825bが互いに実質的に重畳されるように配置される第1領域A及び前記第1間隙825aと前記第2間隙825bが互いに分離して配置される第2領域Cを含むことができる。前記第1領域Aと第2領域Cとの間に転移領域Bが配置されることができる。前記転移領域Bで前記第1間隙825a及び前記第2間隙825bが重畳(overlap)されないように互いにはずれながら分離することができる。
すなわち、前記第1領域Aにおいて前記第1間隙825a及び前記第2間隙825bは垂直方向に実質的に重畳されて同一の方向に延長され、前記転移領域Bにおいて前記第1間隙825a及び前記第2間隙825bが重畳(overlap)されないように互いにはずれながら分離し、前記第2領域Cにおいて水平距離に離隔されて分離することができる。
前記第1領域Aにおいて前記第1間隙825a及び第2間隙825bを通じて伝達される各々の光成分は1つの光モードを形成して導波され、前記第2領域Cにおいて前記第1間隙825a及び第2間隙825bに沿って分離して各々導波されることができる。
図16は、本発明の第8実施形態に係る光導波路を説明するための断面図である。図1を参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図16を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜120、130が配置される。前記誘導薄膜120、130を離隔させる間隙125を満たし、前記誘導薄膜120、130の少なくとも一部を覆う導波路薄膜110が配置される。前記導波路薄膜110の屈折率は前記誘導薄膜120、130の屈折率より大きい。前記間隙125を満たす導波路薄膜110に伝達された光は前記間隙125に沿ってモードを形成して導波されることができる。
前記導波路薄膜110を覆い、前記導波路薄膜110より屈折率が小さい保護層141、142が配置されることができる。前記保護層141、142はシリカまたはポリマーを含むことができる。前記保護層141、142は、図16に示したことと異なり、前記導波路薄膜110の上部面と下部面のうちのいずれか1つのみを覆うように配置されることができる。また、前記保護層141、142は前記導波路薄膜110に直接接触するか、前記導波路薄膜110から離隔されて配置されることができる。
前記保護層141、142は外部的影響からモード電波条件を一定に維持するか、取り扱いの便宜のために提供されることができる。
図17は、本発明の第9実施形態に係る光導波路を説明するための断面図である。図1を参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図17を参照すると、互いに離隔されて誘導薄膜120、130が配置される。前記誘導薄膜120、130を離隔させる間隙125を満たし、前記誘導薄膜120、130の少なくとも一部を覆う導波路薄膜110が配置される。前記導波路薄膜110の屈折率は前記誘導薄膜120、130の屈折率より大きい。前記間隙125を満たす導波路薄膜110に伝達された光は前記間隙125に沿ってモードを形成して導波されることができる。
前記導波路薄膜110を覆い、前記導波路薄膜110より屈折率が小さい保護層141が配置されることができる。前記保護層141はシリカまたはポリマーを含むことができる。前記保護層141は前記導波路薄膜110に直接接触するか、または前記導波路薄膜110から離隔されて配置されることができる。前記保護層141は外部的影響からモード電波条件を一定に維持するか、または取り扱いの便宜のために提供されることができる。前記導波路薄膜110を覆う基底層150が配置されることができる。前記基底層150は半導体基板、印刷回路基板、またはポリイミド基板であり得る。前記基底層150は前記保護層141を介在して前記導波路薄膜110を覆うことができる。
図18A乃至18Dは、本発明の実施形態に係る光導波路の形成方法を説明するための断面図である。
図18Aを参照すると、基底層150上に保護層141が形成される。前記基底層150は光導波路を構造的に支持する層であり得る。前記基底層150は半導体基板、印刷回路基板、またはポリイミド基板で形成されることができ、例えばロールツーロール(roll−to−roll)工程の移送板または基底フィルムが利用されることもできる。前記基底層150は光導波路を取り扱い易くし、光送信素子または/及び光受信素子との結合を容易にできる。
図18Bを参照すると、前記保護層141上に第1導波路薄膜112が形成される。前記保護層141は前記第1導波路薄膜112より屈折率が小さいこともある。前記保護層141及び前記第1導波路薄膜112は直接印刷方式(direct printing)またはロールツーロール(roll−to−roll)方法により形成されることができる。具体的に、前記保護層141及び第1導波路薄膜112は、ラミネーティング、ロールプリンティング、インクジェットプリンティング、スクリーンプリンティング、スプレーイングまたはドクターブレード方法などにより形成されることができる。
図18Cを参照すると、前記第1導波路薄膜112上に誘導薄膜130が形成される。前記誘導薄膜130は前記第1導波路薄膜112より屈折率が小さいこともある。また、前記誘導薄膜130は互いに離隔されて形成され、前記誘導薄膜130の離隔された間隙125は光導波路の特性によって決められることができる。
図18Dを参照すると、前記誘導薄膜130が離隔された間隙125を満たし、前記誘導薄膜130を覆う第2導波路薄膜114が形成される。前記第2導波路薄膜114は前記第1導波路薄膜112と同一の物質または異なる物質で形成されることができる。一方、前記第1導波路薄膜112と第2導波路薄膜114の屈折率は前記誘導薄膜130の屈折率より大きいこともある。前記第1導波路薄膜112と前記第2導波路薄膜114は光導波路の導波路薄膜110を構成することができる。
図18A乃至18Dを参照して本発明の実施形態に係る光導波路の一般的な形成方法を説明したが、上述の実施形態で説明したように、前記基底層150及び保護層141が本発明の構成に必ず必要ではない。したがって、前記基底層150及び保護層141に対する準備及び形成過程を含まない場合も本発明の実施形態の技術的範囲に含まれる。例えば、前記第1導波路薄膜112を予め準備し、これをロールツーロール工程の移送板の代わりとして使い、以後の工程を進行することもできる。
前記第1導波路薄膜112、第2導波路薄膜114、及び前記誘導薄膜130は連続工程によって形成されることができる。前記連続工程は直接印刷工程またはロールツーロール工程により形成されることができる。具体的に、前記第1導波路薄膜112、第2導波路薄膜114、及び前記誘導薄膜130は、ラミネーティング、ロールプリンティング、インクジェットプリンティング、スクリーンプリンティング、スプレーイングまたはドクターブレード方法などにより形成されることができる。
本発明の実施形態によると、光導波路の形成方法は連続工程を利用するので、容易に形成されることができる。連続工程を利用した形成方法は多様なボード(board)の間または互いに異なる装備の間で光連結(インターコネクション)を実現するのに適する柔軟性光伝送路を効果的に提供することができる。
図19は、本発明の連続工程による光導波路の形成方法を説明するための断面図である。連続工程の流れに沿って示した各工程段階での導波路構造は表現の便宜上、連続工程装備を横で眺める方向ではなく、導波路の断面を基準として表示した。図18A乃至18Dを参照して説明した本発明の実施形態と実質的に同一の技術的特徴に対する詳細な説明は省略する。
図19を参照すると、光導波路が連続工程、例えばロールツーロール(roll−to−roll)工程によって形成される。また、光導波路は図18に示している同一な原理によって直接印刷工程で形成されることができる。光導波路の形成方法はすべての工程が基底層150が連続的に移送される状態で進行されることができる。前記基底層150は移送ローラ52及び移送板54を含むローラ装置50上に具備されることができ、前記基底層150自体が前記移送板54を取り替えることもできる。前記基底層150上に保護層141が先ず形成され、次に、ローラ装置50によって基底層150が移送されて第1導波路薄膜112が形成される。
前記第1導波路薄膜112が形成された後、ローラ装置50によって基底層が150が移送され、誘導薄膜130が形成される。前記誘導薄膜130が互いに離隔されて間隙125が形成される。前記間隙125を満たし、前記誘導薄膜130を覆う第2導波路薄膜114が形成される。前記第1、第2導波路薄膜112、114によって導波路薄膜110が形成されることができる。本発明の実施形態による連続工程は、具体的にラミネーティング、ロールプリンティング、インクジェットプリンティング、スクリーンプリンティング、スプレーイングまたはドクターブレード方法などを含むことができる。
110 導波路薄膜
120、130 誘導薄膜
125 間隙
141 保護層
150 基底層

Claims (18)

  1. 互いに離隔されて配置された誘導薄膜と、
    前記誘導薄膜を離隔させる間隙を満たし、前記誘導薄膜の少なくとも一部を覆う導波路薄膜と
    を含み、
    前記導波路薄膜の屈折率は前記誘導薄膜の屈折率より大きく、
    前記導波路薄膜は前記誘導薄膜の上部面及び下部面を覆い、
    前記間隙を満たす導波路薄膜に伝達された光は前記間隙に沿ってモードを形成して導波されることを特徴とする光導波路。
  2. 前記間隙の幅は前記導波路薄膜の厚さの1/5以上であることを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
  3. 前記誘導薄膜は前記導波路薄膜によって覆われる第1誘導薄膜及び前記導波路薄膜の側面を覆う第2誘導薄膜を含み、
    前記第2誘導薄膜は前記第1誘導薄膜より厚いことを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
  4. 前記誘導薄膜は同一平面に配置される第1誘導薄膜、第2誘導薄膜、及び第3誘導薄膜を含み、
    前記間隙は前記第1誘導薄膜と前記第2誘導薄膜とを離隔させる第1間隙及び前記第2誘導薄膜と前記第3誘導薄膜とを離隔させる第2間隙を含むことを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
  5. 前記導波路薄膜の前記第1間隙を通じて伝達される第1光成分及び前記第2間隙を通じて伝達される第2光成分は1つの光モードを形成して導波されることを特徴とする請求項に記載の光導波路。
  6. 前記導波路薄膜の前記第1間隙を通じて伝達される第1光成分及び前記第2間隙を通じて伝達される第2光成分は互いに分離して各々の光モードを形成して導波されることを特徴とする請求項に記載の光導波路。
  7. 前記第1及び第3誘導薄膜を含む第1領域と、
    前記第1、第2、及び第3誘導薄膜を含む第2領域と
    を含み、
    前記間隙は前記第1領域の前記第1誘導薄膜と前記第3誘導薄膜とを離隔させる第3間隙をさらに含み、
    前記第1間隙と前記第2間隙は前記第2領域に配置され、前記第3間隙から分岐されて形成されることを特徴とする請求項に記載の光導波路。
  8. 前記第3間隙、前記第1間隙、及び前記第2間隙は互いにY字形態の連結構造を有することを特徴とする請求項に記載の光導波路。
  9. 前記第1、第2、及び第3誘導薄膜を各々含む第1領域及び第2領域を含み、
    前記第1領域に配置された前記第1間隙と前記第2間隙との隔離距離は前記第2領域に配置された前記第1間隙と前記第2間隙との隔離距離より短いことを特徴とする請求項に記載の光導波路。
  10. 前記第1間隙と前記第2間隙とを通じて伝達される各々の光成分は前記第1領域で1つの光モードを形成して導波され、前記第2領域で各々の光モードに互いに分離して各々導波されることを特徴とする請求項に記載の光導波路。
  11. 前記誘導薄膜は、
    同一平面に配置された第1誘導薄膜と、
    前記第1誘導薄膜上のまた異なる同一平面に配置された第2誘導薄膜と
    を含むことを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
  12. 前記間隙は前記第1誘導薄膜を離隔させる第1間隙及び前記第2誘導薄膜を離隔させる第2間隙を含み、
    前記第1間隙と前記第2間隙は互いに重畳されるように配置されることを特徴とする請求項11に記載の光導波路。
  13. 前記間隙は前記第1誘導薄膜を離隔させる第1間隙及び前記第2誘導薄膜を離隔させる第2間隙を含み、
    前記第1間隙と前記第2間隙が互いに重畳されるように配置される第1領域と、
    前記第1間隙と前記第2間隙が互いに分離して配置される第2領域と
    を含むことを特徴とする請求項11に記載の光導波路。
  14. 前記導波路薄膜を覆い、前記導波路薄膜より屈折率が小さい保護層をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
  15. 前記導波路薄膜を覆う基底層をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
  16. 第1導波路薄膜を形成することと、
    前記第1導波路薄膜上に互いに離隔された誘導薄膜を形成することと、
    前記誘導薄膜を離隔させる間隙を満たし、前記誘導薄膜を覆う第2導波路薄膜を形成することと
    を含み、
    前記間隙を満たす第2導波路薄膜に伝達された光は前記間隙に沿ってモードを形成して導波され
    前記第1及び第2導波路薄膜の屈折率は前記誘導薄膜の屈折率より大きいことを特徴とする光導波路の形成方法。
  17. 前記第1導波路薄膜、前記誘導薄膜、及び前記第2導波路薄膜は連続工程により形成されることを特徴とする請求項16に記載の光導波路の形成方法。
  18. 前記連続工程はロールツーロール工程または直接印刷工程を含むことを特徴とする請求項17に記載の光導波路の形成方法。
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