JP5319273B2 - Frc磁場においてイオンおよび電子を駆動するシステムおよび方法 - Google Patents
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Description
本発明は、概して、プラズマ物理学の分野に関し、特に、プラズマを閉じ込めて核融合を可能にし、融合生成物から電力にエネルギーを変換するための方法および装置に関する。
融合とは、2つの軽い核が組み合わさって、より重い核を形成するプロセスである。融合プロセスは、高速移動する粒子の形態で相当なエネルギー量を放出する。原子核は、それに含まれる陽子によって正電気を帯びているので、それらの間には、反発する静電気的な力、すなわちクーロン力が存在する。2つの核を融合させるためには、この反発バリアに打ち勝たなければならないが、これは、クーロン力に打ち勝って核を融合するのに十分強力な核力になるように、2つの核を十分に近づけたときに生じるものである。核がクーロン力に打ち勝つために必要なエネルギーは、それらの熱エネルギーによって与えられるものであるが、非常に高くなければならない。例えば、温度が少なくとも104eV程度(約100万K(ケルビン)相当)であれば、その溶融速度を適用することができる。融合反応の測度は、温度の関数であり、反応度と呼ばれる量によって特徴づけられる。D(重水素)−T(トリチウム)反応の反応度は、例えば、30keV乃至100keVの幅広いピークを有する。
D+D→He3(0.8MeV)+n(2.5MeV)
D+T→α(3.6MeV)+n(14.1MeV)
D+He3→α(3.7MeV)+p(14.7MeV)および
p+B11→3α(8.7MeV)
が挙げられる。ここで、Dは重水素、Tはトリチウム、αはヘリウム核、nは中性子、pは陽子、Heはヘリウム、B11はボロン−11をそれぞれ示す。
各式のカッコ内の数は、融合生成物の運動エネルギーを示す。
本発明は、磁場反転トポロジーを有する磁場における融合制御、および融合生成物エネルギーの電力への直接変換を容易にするシステムに関する。前記システムは、本願明細書ではプラズマ発電(Plasma−Electric power Generation:PEG)システムと称するが、実質的にイオンおよび電子の異常輸送を減じるか、または排除する傾向のある閉じ込めシステムを有する融合反応炉を備えることが好ましい。加えて、PEGシステムは、融合生成物のエネルギーを高効率で直接電力に変換する反応炉に連結されたエネルギー変換システムを含む。
図1は、本発明による封じ込めシステム300の好適な一実施態様を示す。封じ込めシステム300は、チャンバー壁305を備え、その中に閉じ込めチャンバー310を画定する。チャンバー310は、円筒状であり、チャンバー310の中心に沿って主軸315を備えることが好ましい。本封じ込めシステム300の融合反応炉への適用に関しては、チャンバー310の内部に真空または略真空を生じさせる必要がある。ベータトロンフラックスコイル320は、チャンバー310内に位置し、主軸315と同心である。ベータトロンフラックスコイル320は、直流に適応した電流担送媒体を備え、図に示されるように、好ましくは、複数の独立したコイルの平行な巻線を備えて、さらに好ましくは、およそ4つの独立したコイルの平行な巻線を備えて長いコイルを形成する。当業者は、ベータトロンコイル320を介した電流が、実質的に主軸315の方向に、ベータトロンコイル320内部に磁場をもたらすものと理解されよう。
上述のように、CBFRの封じ込めシステムの適用には、チャンバー内部に真空または略真空を生じさせる必要がある。中性燃料とプラズマ燃料との間の相互作用(分散、荷電交換)によって、常にエネルギーの損失経路が現れるので、反応チャンバー内の残留密度を制限することが重要である。さらに、十分に真空にされなかったチャンバーから得られる不純物は、動作中の副反応を汚染し、またこれらの不純物を通してシステムを燃焼させなければならないので、起動中に過剰なエネルギーを消耗させることになりうる。
図3は、FRC70の磁場を示す図である。システムは、その軸78に対して円筒対称性を有する。FRCには、磁力線の2つの領域、開放領域80および閉鎖領域82が存在する。この2つの領域を分割する面は、セパラトリックス84と呼ばれる。FRCは、磁場が零になる円筒状ヌル面86を形成する。FRCの中央部88において、磁場は、軸方向にはそれほど変化しない。端部90において、磁場は、軸方向にかなり変化する。中心軸78に沿った磁場は、FRC内で方向を反転するが、磁場反転配位(FRC)における「反転」という用語の由来である。
プラズマ層106(図5を参照のこと)は、イオンの反磁性方向102に、ヌル面86の周辺部にエネルギーイオンビームを注入することによって、FRC内に形成することができる。(異なるFRCおよびプラズマリングの形成方法は下記に詳述する。)循環プラズマ層106では、ほとんどのイオンは、ベータトロン軌道112(図6を参照のこと)を有し、エネルギーがあり、非断熱である。したがって、それらのイオンは、異常輸送を生じさせる、短波長の変動の影響を受けない。
FRCの形成に使用される従来のプロシージャは、主にシータピンチ領域の反転プロシージャを用いる。この従来の方法では、中性ガス裏込めチャンバーを囲む外部コイルによって、バイアス磁場が印加される。これが生じると、ガスがイオン化され、バイアス磁場はプラズマ内で凍結される。次に、外部コイル内の電流を急速に反転させて、対向させて配向した磁力線を以前に凍結した磁力線と接続して、FRCの閉じたトポロジーを形成する(図3を参照のこと)。この形成プロセスは、ほぼ経験的であり、FRCの形成を制御する手段はほとんど存在しない。この方法は、再現性が不十分であり、調整能力がない。
上述の閉じ込めシステム300内にFRCを形成する好適な方法は、本願明細書において、複合ビーム/ベータトロン技術と呼ばれる。この手法では、プラズマイオンの低エネルギービームと、ベータトロンフラックスコイル320を使用するベータトロン加速とを組み合わせる。
閉じ込めシステム300内でFRCを形成する別の好適な方法を、本願明細書においてベータトロン形成技術と呼ぶ。本技術は、ベータトロン誘導電流の直接駆動に基づいて、ベータトロンフラックスコイル320を使用して循環プラズマビーム335を加速する。本技術の好適な実施態様では、図1に示される閉じ込めシステム300を使用するが、低エネルギーイオンビームの注入は必ずしも必要ではない。
・真空チャンバー寸法:直径約1m、長さ1.5m
・ベータトロンコイル半径:10cm
・プラズマ軌道半径:20cm
・真空チャンバー内で作り出された平均外部磁場は、最高100ガウスであり、ランプアップ期間が150μs、ミラー比が2:1であった(供給源:外部コイルおよびベータトロンコイル)
・背景プラズマ(実質的に水素ガス)は、平均密度約1013cm−3、運動温度10eV未満で特徴付けられた
・この構成の寿命は、実験において貯蔵された総エネルギーによって制限され、概ね約30μsであった。
上述のベータトロンおよびビーム/ベータトロンFRC形成技術は、どちらもフラックスコイル320を介した、エネルギーの背景プラズマへの供与に依存する。変圧器と同様に、フラックスコイルは、変圧器の一次巻線の機能を果たし、プラズマは、二次巻線の機能を果たす。本誘導システムが効率的に機能するためには、プラズマが良好な導電体であることが不可欠である。
荷電電圧:約10乃至25kV、分割供給する
電流:組み合わせた全ての巻線を介して最高約50kAの総電流
パルス/上昇時間:最高約2マイクロ秒
ガス圧力:約−20乃至50psi
プレナムサイズ:バルブにつき約0.5乃至1cm3、すなわち:1ショットにつき約4乃至8cm3の総ガス量
例示的な一実施態様では、入力作動パラメータは、以下の通りであった:
荷電電圧:12乃至17kV 分割供給、すなわち:−12kV乃至+12kV
電流:3ストランドの一群につき2乃至4.5kA、すなわち:組み合わせた全ての巻線を介して16乃至36kAの総電流
パルス/上昇時間:1乃至1.5マイクロ秒
ガス圧力:−15乃至30psi
プレナムサイズ:バルブにつき0.5乃至1cm3、すなわち:1ショットにつき4乃至8cm3の総ガス量
上述のパラメータを使用した誘導プラズマ供給源1010の動作方法によって発生されるプラズマは、以下の好都合な特性を有する:
密度:〜4×1013cm−3
温度:〜10乃至20eV
環状スケール:直径〜40乃至50cm
軸方向のドリフト速度:〜5乃至10eV
供給源1010の形状および配向により、現れるプラズマの形状が環状になり、FRCに形成されるべき回転プラズマの環状部に等しくなる傾向のある直径を有する。本PEGシステムでは、2つの当該の誘導プラズマ供給源1010を、チャンバー310のどちらかの軸方向端部に配置して、同時に発射させることが好ましい。2つの形成プラズマの分布は、チャンバー310の中央の方に軸方向にドリフトし、そこには、次いで上述のようにフラックスコイル320によって加速されるプラズマの環状の層が形成される。
ロトマク(rotomak)と呼ばれるRF電流駆動は、電流が主に電子によって担送されるFRCに用いられている。それは、2つのフェーズドアンテナによって作り出される、回転する半径方向の磁場を伴う。電子は、回転磁力線に対して磁化および凍結される。これにより、イオンの電子とのクーロン衝突によって、そのイオンが加速されて電流が減じられるまで、その電流が保持される。しかし、ロトマクは、無期限に電流を保持するのには適さないが、数ミリ秒であれば良好である。
四重極RF駆動システムを図21Aおよび21Bに示す。RF駆動装置は、チャンバー310内に位置して、それらの間に間隙1114を有する4つの方位角方向に対称な電極1112を有する、四重極サイクロトロン1110を備える。四重極サイクロトロン1110は、イオンの方位角速度と同じ方向だが、それより速く回転する電位波を作り出すことが好ましい。適切な速度のイオンを、この電位波に閉じ込めて、定期的に反射させることができる。このプロセスによって燃料イオンの運動量およびエネルギーが増加し、この増加が衝突によって閉じ込められていない燃料イオンに運ばれる。燃料プラズマ335からの燃料イオンは、あらゆる好都合な速度で中性燃料を注入することによって置き換えることができる。
Φ(r,θ,t)は、周期2πのθにおいて周期的であるので、フーリエ級数において展開することができる:
l=1に対しては、
プラズマの応答は、誘電テンソルによって説明することができる。電場は、電荷保存式による電荷分離を作り出す、プラズマ電流を作り出す。
波
電流駆動に関して、電力Piは、周波数ωiでイオンに運搬されることが好ましく、電力Peは、周波数ωeで電子に運搬されることが好ましい。これは、電子とイオンとの間のクーロン相互作用を補い、イオンの速度を減じて、電子の速度を増加させる(電力運搬の非存在かでは、クーロン衝突によって、電子とイオンに同じ速度がもたらされ、電流はもたらされない)電子およびイオンの平衡を保持する平均電場は、次式で与えられる:
Ne=N1Z1+N2Z2であり、Z1、Z2はイオンの原子番号である;t1eおよびt2eは、イオンから電子への運動量移動時間である。平均電場は、準中性および電荷に対する
重要なことに、上述の閉じ込めシステム300などの内側にFRCを形成するためのこれら2つの技術は、内部で核融合を起こすために好適な特性を有するプラズマを生じさせることができる。より詳しくは、これらの方法によって形成されたFRCは、あらゆる所望のレベルの回転エネルギーおよび磁場強度に加速することができる。これは、融合の適用および古典的な高エネルギー燃料ビームの閉じ込めに重要である。したがって、閉じ込めシステム300では、高エネルギーのプラズマビームを、融合反応を起こすために十分な時間にわたって捕捉して閉じ込めることが可能となる。
平均イオン温度:約30乃至230keV、好ましくは約80乃至230keV
平均電子温度:約30乃至100keV、好ましくは約80乃至100keV
燃料ビーム(注入されるイオンビームおよび循環プラズマビーム)のコヒーレントエネルギー:約100keV乃至3.3MeV、好ましくは約300keV乃至3.3MeV
総磁場:約47.5乃至120kG、好ましくは約95乃至120kG(約2.5乃至15kG、好ましくは約5乃至15kGの磁場を外部から印加する)
古典的閉じ込め時間:燃料の燃焼時間より長く、好ましくは約10乃至100秒
燃料イオン密度:約1014乃至1016cm−3未満、好ましくは約1014乃至1015cm−3
総融合電力:好ましくは約50乃至450kW/cm(チャンバー長1cmあたりの電力)。
融合生成物は、主にヌル面86付近の電力コアにおいて発生するが、このヌル面から、融合生成物が、セパラトリックス84に向かう拡散によって発生する(図3および5を参照のこと)。これは、電子との衝突によるものである(イオンとの衝突は、質量中心を変化させないので、磁力線を変化させないからである)。それらの高い運動エネルギー(融合生成物イオンは、燃料イオンよりはるかに高いエネルギーを有する)により、融合生成物は、セパラトリクッス84を容易に横断することができる。融合生成物がセパラトリクッス84を超えると、これらは、イオン−イオン衝突からの散乱を経るという条件で、開放端磁場80に沿って離れることができる。この衝突プロセスは拡散をもたらさないが、イオン速度ベクトルの方向を変更できるので、このイオン速度ベクトルの方向は、磁場に平行である。これらの開放端磁場80は、コアのFRCトポロジーを、FRCトポロジーの外側に供給される均一な印加磁場と接続する。生成物イオンは、異なる磁力線上に発生し、エネルギーの分布をたどる。好都合に、生成物イオンおよび電荷中和電子は、燃料プラズマの両方の端部から回転環状ビーム状で発生する。例えば、50MWデザインのp−B11反応に関しては、これらのビームは、半径が約50cmで、厚さが約10cmである。セパラトリックス84の外側に見出される強力な磁場(一般的に、約100kG)において、生成物イオンは、大部分のエネルギー生成物イオンについて、最小値約1cmから最大値約3cmまで変化する、ジャイロ半径の関連分布を有する。
本発明の直接エネルギー変換システムは、図22Aおよび23Aに示される、衝突ビーム融合反応炉(CBFR)410の(部分的に示された)電力コア436に連結された逆サイクロトロン変換器(ICC)420を備え、プラズマ発電システム400を形成する。第二ICC(図示せず)は、CBFR410の左に対称的に配置することが可能である。磁力カスプ486は、CBFR410とICC420との間に位置し、CBFR410およびICC420の磁場が合流するときに形成される。
図28は、100MWの反応炉を示す図である。一部切り取った発生器の図は、均一な磁場を印加するための超伝導コイルおよび磁場反転トポロジーを有する磁場を形成するためのフラックスコイルを備えた、融合電力コア領域を示す。融合電力コア領域の隣接する対向端部は、融合生成物の運動エネルギーの電力への直接変換のためのICCエネルギー変換器である。図29に、当該のリアクターのための支援装置を示す。
太陽系の(およびそれを超えた)探査には、最良の利用可能な化学的または電気的推進システムをはるかに凌ぐ推進能力が必要である。高度な推進アプリケーションのために、本発明は、デザインの簡潔さ、高いスラスト、高い特定のインパルス、高い特定の出力密度、低いシステム質量、およびほとんどまたは全く放射能を作り出さない燃料などに最も期待が持てるものである。
特定のインパルス、Isp 1.4x106s
スラスト電力、PT 50.8MW
スラスト電力/合計出力電力、PT/P0 0.51
スラスト、T 28.1N
スラスト/合計出力電力、T/P0 281mN/MW。
合計質量/合計電力、MT/P0 0.33x10−3kg/W
スラスト/質量、T/MT 0.85×10−3N/kg。
Claims (45)
- 磁場反転配位(FRC)磁場においてプラズマイオンおよび電子を駆動するシステムであって、
該システムは、
長手軸を有するチャンバーと、
該チャンバーの該長手軸に実質的に平行な磁束によって、該チャンバーの中央領域内で方位角方向に対称な磁場を発生させるための第一磁場発生器と、
該チャンバーの中央領域に連結されたRF駆動システムと
を備え、該RF駆動システムは、該チャンバーの該長手軸の周りを回転する静電波を生成する、システム。 - 前記チャンバー内に方位角電場を発生させるための、該チャンバーの長手軸と同心の導電コイルをさらに備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記RF駆動システムは、四重極サイクロトロンを備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記四重極サイクロトロンは、円筒状表面を形成する4つの半円筒電極を備える、請求項3に記載のシステム。
- 前記RF駆動システムは、双極子サイクロトロンを備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記双極子サイクロトロンは、円筒状表面を形成する2つの半円筒電極を備える、請求項5に記載のシステム。
- 前記RF駆動システムは、前記チャンバーの周辺部に隣接する軸方向に延在する磁場変調コイルを備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記チャンバー内に電力変換システムをさらに備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記電力変換システムは、前記チャンバーの第一端部領域内に円筒状表面を形成する複数の半円筒電極を備える、請求項8に記載のシステム。
- 前記複数の電極は、隣接する電極間に間隙を形成するように間隔を置いた2つより多い電極を備える、請求項9に記載のシステム。
- 前記チャンバーの前記長手軸に実質的に平行な磁束によって、該チャンバーの前記第一端部領域内で方位角方向に対称な磁場を発生させるための第二磁場発生器と、
前記第一磁場発生器および該第二磁場発生器の間に入り、前記複数の電極の第一端部に隣接した電子コレクターと、
該複数の電極の第二端部に隣接して配置したイオンコレクターと
をさらに備える、請求項9に記載のシステム。 - 前記チャンバーの第二端部領域内に円筒状表面を形成する、第二の複数の半円筒電極であって、該第二の複数の電極は、隣接する電極間に間隙を形成するように間隔を置いた2つより多い電極を備えている、第二の複数の半円筒電極と、
該チャンバーの前記長手軸に実質的に平行な磁束によって、該チャンバーの前記第二端部領域内で方位角方向に対称な磁場を発生させるための第三磁場発生器と、
前記第一磁場発生器および該第三磁場発生器の間に入り、該第二の複数の電極の第一端部に隣接した第二の電子コレクターと、
該第二の複数の電極の第二端部に隣接して配置した第二のイオンコレクターと
をさらに備える、請求項11に記載のシステム。 - 前記チャンバーに連結されたイオンビーム注入器をさらに備える、請求項11に記載のシステム。
- 前記イオンビーム注入器は、該注入器から放射されるイオンビームの電荷を中和するために電子を導入する手段を含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記RF駆動システムは、円筒状表面を形成する2つ以上の長尺状の電極を備える、請求項1に記載のシステム。
- 回転プラズマの周囲にFRC磁場を発生させることにより、FRCプラズマを形成するステップと、
該回転プラズマ内のイオンの方位角速度と同じ方向に回転する静電波を発生させるステップと
を含む、FRC磁場内のイオンおよび電子を駆動する方法。 - 前記静電波を発生させるステップは、円筒状表面を形成する複数の長尺状の電極への電圧の印加を含む、請求項16に記載の方法。
- 前記複数の長尺状の電極は、長尺状のサイクロトロンを形成する、請求項17に記載の方法。
- 前記サイクロトロンは、四重極サイクロトロンである、請求項17に記載の方法。
- 前記サイクロトロンは、双極子サイクロトロンである、請求項17に記載の方法。
- 中和されたイオンビームを前記静電波に注入するステップをさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記中和され注入されたイオンビームを前記静電波内に閉じ込めるステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
- 前記閉じ込められたイオンビームのイオンの運動量およびエネルギーを増加させるステップをさらに含む、請求項22に記載の方法。
- 磁場反転配位(FRC)磁場においてプラズマイオンおよび電子を駆動するシステムであって、
該システムは、
長手軸を有するチャンバーと、
該チャンバーの該長手軸に実質的に平行な磁束によって、該チャンバーの中央領域内で方位角方向に対称な磁場を発生させるための第一磁場発生器と、
イオンおよび電子を含むFRCプラズマであって、該FRCプラズマは、該チャンバーの該長手軸に沿って円筒状チャンバー内で軸方向に延在し、該FRCプラズマは、1014cm−3以上の密度を有し、該FRCプラズマ内のイオンは、該チャンバーの該長手軸に直交するベータトロン軌道を周回する、FRCプラズマと、
該チャンバーの中央領域に連結されたRF駆動システムであって、該RF駆動システムは、静電波を生成し、該静電波は、該FRCプラズマを貫通し、該チャンバーの該長手軸の周りを回転し、該静電波は、該チャンバーの半径よりも少なくとも60倍大きい波長を有する、RF駆動システムと
を備える、システム。 - 前記チャンバー内に方位角電場を発生させるための、該チャンバーの長手軸と同心の導電コイルをさらに備える、請求項24に記載のシステム。
- 前記RF駆動システムは、四重極サイクロトロンを備える、請求項24に記載のシステム。
- 前記四重極サイクロトロンは、円筒状表面を形成する4つの半円筒電極を備える、請求項26に記載のシステム。
- 前記RF駆動システムは、双極子サイクロトロンを備える、請求項24に記載のシステム。
- 前記双極子サイクロトロンは、円筒状表面を形成する2つの半円筒電極を備える、請求項28に記載のシステム。
- 前記RF駆動システムは、前記チャンバーおよび前記導電コイルの周辺部に隣接する軸方向に延在する磁場変調コイルを備える、請求項25に記載のシステム。
- 前記チャンバー内に電力変換システムをさらに備える、請求項24に記載のシステム。
- 前記電力変換システムは、前記チャンバーの第一端部領域内に円筒状表面を形成する複数の半円筒電極を備える、請求項31に記載のシステム。
- 前記複数の電極は、隣接する電極間に間隙を形成するように間隔を置いた2つより多い電極を備える、請求項32に記載のシステム。
- 前記チャンバーの前記長手軸に実質的に平行な磁束によって、該チャンバーの前記第一端部領域内で方位角方向に対称な磁場を発生させるための第二磁場発生器と、
前記第一磁場発生器および該第二磁場発生器の間に入り、前記複数の電極の第一端部に隣接した電子コレクターと、
該複数の電極の第二端部に隣接して配置したイオンコレクターと
をさらに備える、請求項32に記載のシステム。 - 前記チャンバーの第二端部領域内に円筒状表面を形成する、第二の複数の半円筒電極であって、該第二の複数の電極は、隣接する電極間に間隙を形成するように間隔を置いた2つより多い電極を備えている、第二の複数の半円筒電極と、
該チャンバーの前記長手軸に実質的に平行な磁束によって、該チャンバーの前記第二端部領域内で方位角方向に対称な磁場を発生させるための第三磁場発生器と、
前記第一磁場発生器および該第三磁場発生器の間に入り、該第二の複数の電極の第一端部に隣接した第二の電子コレクターと、
該第二の複数の電極の第二端部に隣接して配置した第二のイオンコレクターと
をさらに備える、請求項34に記載のシステム。 - 容器に連結されたイオンビーム注入器をさらに備える、請求項34に記載のシステム。
- 前記イオンビーム注入器は、該注入器から放射されるイオンビームの電荷を中和するために電子を導入する手段を含む、請求項36に記載のシステム。
- 磁場反転配位(FRC)磁場内のイオンおよび電子を駆動する方法であって、
該方法は、
円筒状チャンバーの長手軸に沿って該チャンバー内で軸方向に延在するイオンおよび電子のプラズマの回転細長層の周囲にFRC磁場を発生させることにより、FRCプラズマを形成するステップであって、該FRCプラズマは、1014cm−3以上の密度を有し、該FRCプラズマ内のイオンは、該チャンバーの該長手軸に直交するベータトロン軌道を周回する、ステップと、
静電波を発生させるステップであって、該静電波は、該FRCプラズマを貫通し、該FRCプラズマ内のイオンの方位角速度と同じ方向に回転し、該静電波は、該チャンバーの半径よりも少なくとも60倍大きい波長を有する、ステップと
を含む、方法。 - 前記静電波を発生させるステップは、円筒状表面を形成する複数の長尺状の電極への電圧の印加を含む、請求項38に記載の方法。
- 前記複数の長尺状の電極は、長尺状のサイクロトロンを形成する、請求項39に記載の方法。
- 前記サイクロトロンは、四重極サイクロトロンである、請求項40に記載の方法。
- 前記サイクロトロンは、双極子サイクロトロンである、請求項40に記載の方法。
- 中和されたイオンビームを前記静電波に注入するステップをさらに含む、請求項38に記載の方法。
- 前記中和され注入されたイオンビームを前記静電波内に閉じ込めるステップをさらに含む、請求項43に記載の方法。
- 前記閉じ込められたイオンビームのイオンの運動量およびエネルギーを増加させるステップをさらに含む、請求項44に記載の方法。
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