JP5310545B2 - Conductor paste composition for via hole filling, printed circuit board using the same, and method for producing the same - Google Patents

Conductor paste composition for via hole filling, printed circuit board using the same, and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP5310545B2
JP5310545B2 JP2009511681A JP2009511681A JP5310545B2 JP 5310545 B2 JP5310545 B2 JP 5310545B2 JP 2009511681 A JP2009511681 A JP 2009511681A JP 2009511681 A JP2009511681 A JP 2009511681A JP 5310545 B2 JP5310545 B2 JP 5310545B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
paste composition
epoxy
via hole
filling
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009511681A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2008132832A1 (en
Inventor
雅昭 勝又
勝典 橋口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2009511681A priority Critical patent/JP5310545B2/en
Publication of JPWO2008132832A1 publication Critical patent/JPWO2008132832A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5310545B2 publication Critical patent/JP5310545B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4038Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
    • H05K3/4053Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques
    • H05K3/4069Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques for via connections in organic insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/095Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0355Metal foils
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10227Other objects, e.g. metallic pieces
    • H05K2201/10378Interposers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/14Related to the order of processing steps
    • H05K2203/1461Applying or finishing the circuit pattern after another process, e.g. after filling of vias with conductive paste, after making printed resistors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4614Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the electrical connections between the circuit boards being made during lamination
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4652Adding a circuit layer by laminating a metal foil or a preformed metal foil pattern

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)

Description

本発明はビアホール充填用導電体ペースト組成物と、それを用いた両面プリント基板および多層プリント基板並びにこれらの製造方法に関する。   The present invention relates to a conductor paste composition for filling via holes, a double-sided printed board and a multilayer printed board using the same, and a method for producing them.

近年、電子機器の高性能化、小型化に伴い、回路基板には高多層、高密度化が求められている。IC間や部品間を最短距離で結合できる基板の層間の接続方式としてインナビアホール接続によって、高密度化が図れることが知られている。一般のガラスエポキシ多層基板に用いられるようなスルーホール接続においては、スルーホールにメッキすることで接続を行うため、必要な層間のみの接続は困難であり、また基板最上層に電極のランドを有する構成のため、その部分に表面実装部品の電極ランドを構成することができないことからこれらの制約により実装密度を上げることは難しい。これらを解決する方法としてスルーホールでなく、基板の半分までの孔を開けスルーホールを減らす方法や、スルーホールに導電体ペーストを充填し更にメッキする工程にて基板最上層の孔を塞ぎ、実装密度を向上させる方法などが行われているが、製造工程が複雑になる。   In recent years, with increasing performance and miniaturization of electronic devices, circuit boards are required to have higher multilayers and higher density. It is known that high density can be achieved by inner via hole connection as a connection method between substrate layers that can connect ICs and components at the shortest distance. In the through-hole connection used for a general glass epoxy multilayer substrate, since the connection is made by plating the through-hole, it is difficult to connect only the necessary layers, and an electrode land is provided on the uppermost layer of the substrate. Because of the configuration, it is difficult to increase the mounting density due to these restrictions because the electrode land of the surface mounting component cannot be formed in that portion. In order to solve these problems, instead of through-holes, a hole that reduces the number of through-holes by opening up to half of the board is used, or the hole on the top layer of the board is closed by filling the through-hole with a conductive paste and then plating. A method for improving the density is performed, but the manufacturing process becomes complicated.

これに対して、インナビアホール接続では、必要な各層間のみの接続が可能であり、さらに基板最上層にもスルーホールがなく実装性も優れている。この接続方式を樹脂基板(例えば、ガラスエポキシ基板)に適用した例では、両面基板では低粘度の溶剤型銀ペーストをスルーホールに印刷法を用いて埋め込み、乾燥硬化させ導通をとる基板がある。しかし、その接続抵抗率は10mΩ・cm程度と高く、またヒートサイクル等の耐熱衝撃における信頼性が乏しい。また導電体ペーストのスルーホールへの埋め込み性を高めるためペーストの低粘度化手段としては、導電体粒子量を少なく用いたり、低沸点の溶剤あるいは反応性希釈剤を添加したりする方法が行われていた。   On the other hand, in the inner via hole connection, it is possible to connect only necessary layers, and there is no through hole in the uppermost layer of the substrate, and the mountability is excellent. In an example in which this connection method is applied to a resin substrate (for example, a glass epoxy substrate), a double-sided substrate includes a substrate in which a low-viscosity solvent-type silver paste is embedded in a through hole using a printing method, dried, cured, and conductive. However, the connection resistivity is as high as about 10 mΩ · cm, and the reliability in thermal shock such as heat cycle is poor. In order to improve the embedding property of the conductive paste into the through-hole, as a means for reducing the viscosity of the paste, a method of using a small amount of conductive particles or adding a low boiling point solvent or a reactive diluent is performed. It was.

しかし、導電体粒子の添加量を減らすことは、フィラー同士の接触点が少なくなりビアホール接続抵抗率が大きくなり、またヒートサイクル等の熱応力が発生する試験では信頼性が確保できない。また、低沸点の溶剤または反応性希釈剤を添加する方法では、熱プレスの硬化中にこれら成分の揮発による重量減少が大きく、この揮発成分のために基材に膨れが生じたり、または配線銅箔との接着力が弱くなったりする。そこで、導電体粒子を高濃度で含有しつつリノールダイマー酸グリシジルエステルエポキシ樹脂を主成分とすることにより、無溶剤で低粘度、高導電性、耐熱衝撃導電接続信頼性の導電体ペーストを実現したものがある。   However, reducing the additive amount of the conductor particles reduces the contact points between the fillers, increases the via hole connection resistivity, and cannot ensure reliability in a test in which thermal stress such as a heat cycle occurs. In addition, in the method of adding a low-boiling solvent or reactive diluent, the weight loss due to volatilization of these components is large during the curing of the hot press, and the volatile components cause swelling of the substrate, or wiring copper The adhesive strength with the foil is weakened. Therefore, by using linole dimer acid glycidyl ester epoxy resin as the main component while containing conductive particles at a high concentration, a low-viscosity, high-conductivity, heat-resistant shock conductive connection reliability conductor paste was realized without solvent. There is something.

なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。   As prior art document information related to the invention of this application, for example, Patent Document 1 is known.

しかし、上記従来の例ではリノールダイマー酸グリシジルエステルエポキシ樹脂を主成分としており、樹脂の架橋密度が低くなるため低粘度で熱衝撃には強いものの、吸水率が高く高湿度試験において導電接続信頼性が不足する。また、リノールダイマー酸グリシジルエステルエポキシ樹脂はエポキシ樹脂の中では接着強度も低レベルにあるため、これを主成分に用いた導電体ペーストをビアホールに使用した場合、配線銅箔との接着力が不十分である。   However, in the above conventional example, linole dimer acid glycidyl ester epoxy resin is the main component, and the resin crosslink density is low, so it has low viscosity and is strong against thermal shock, but has high water absorption and high reliability in conductive connection in high humidity tests. Is lacking. In addition, since linole dimer acid glycidyl ester epoxy resin has low adhesion strength among epoxy resins, when a conductor paste using this as a main component is used for a via hole, the adhesive strength to wiring copper foil is not good. It is enough.

一般にエポキシ樹脂の吸水率を低減し接着強度を高めるには、架橋密度がより高められるエポキシ当量が低い、例えばビスフェノール型エポキシ樹脂などを配合する手段が知られている。しかし、吸水率を低減し接着強度を高められるこれら低エポキシ当量の樹脂は、リノールダイマー酸グリシジルエステルエポキシ樹脂などに比較し高粘度である。よって、ビアホール充填ができない導電体ペーストとなる。   In general, in order to reduce the water absorption rate of the epoxy resin and increase the adhesive strength, there is known a means of blending, for example, a bisphenol type epoxy resin having a low epoxy equivalent that can increase the crosslinking density. However, these low epoxy equivalent resins capable of reducing the water absorption rate and increasing the adhesive strength have higher viscosity than linole dimer acid glycidyl ester epoxy resins and the like. Therefore, the conductive paste cannot be filled with via holes.

また、インナビアホール内に導電性を担う導電体粒子の存在比率が大きければ、導体抵抗が低減できる。そのため、導電性ペーストには出来るだけ多くの導電性粒子を含有させることが有効である。しかしながら、固体の導電性粒子と液状のバインダとの混合であるので、ペースト化可能な混合比の限度があり、また粘度が高すぎるとビアへの充填性が損なわれる。特に、インナビアホールの径が小さくなるほど、導電性粒子の密度の影響を受けやすい。よって、インナビアホールの導通性が大きく影響される。   Moreover, if the abundance ratio of the conductive particles bearing conductivity in the inner via hole is large, the conductor resistance can be reduced. Therefore, it is effective to contain as many conductive particles as possible in the conductive paste. However, since it is a mixture of solid conductive particles and a liquid binder, there is a limit of the mixing ratio that can be made into a paste, and if the viscosity is too high, the filling property to the via is impaired. In particular, the smaller the diameter of the inner via hole, the more susceptible to the density of the conductive particles. Therefore, the continuity of the inner via hole is greatly affected.

一方、ビアホール内の導通抵抗を下げるために、導電体ペースト中に塩素を含有することにより、導電体ペースト中に含有される導電性粒子の表面を還元していたが、塩素の含有量が過剰になると、プリント基板の絶縁性が低下する。   On the other hand, in order to reduce the conduction resistance in the via hole, the surface of the conductive particles contained in the conductor paste was reduced by containing chlorine in the conductor paste, but the chlorine content was excessive. If it becomes, the insulation of a printed circuit board will fall.

特に、導電体ペースト中の塩素の含有率がプリプレグ中の塩素の含有率よりも高くなると、ビアホール内の導電体ペーストに含まれる塩素がプリプレグ内に侵入するために、プリント基板の絶縁性がさらに低下しやすくなる。   In particular, when the chlorine content in the conductor paste is higher than the chlorine content in the prepreg, the chlorine contained in the conductor paste in the via hole penetrates into the prepreg. It tends to decrease.

特開平7−176846号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-176846

本発明は、小径のインナビアホール接続による電極層間の電気的接続ならびに高耐熱衝撃性、高耐湿性、高接続強度が得られる導電体ペースト組成物を作製するものである。また、このペーストを用いたインナビアホール接続を含んだ両面プリント基板から多層プリント基板を作製するものである。   The present invention is to produce a conductive paste composition that can provide electrical connection between electrode layers by small diameter inner via hole connection, high thermal shock resistance, high moisture resistance, and high connection strength. Moreover, a multilayer printed board is produced from the double-sided printed board including the inner via hole connection using this paste.

また、本発明の導電体ペースト組成物は、ビアホールに充填する導電体ペースト組成物であって、(a)平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が0.05〜1.5m/gの導電体粒子;30〜70体積%と、(b)一分子中に1つ以上のエポキシ基を有し、かつ水酸基、アミノ基及びカルボキシル基の合計量がエポキシ基の5モル%以下であり、エポキシ当量が100〜350g/eqであるエポキシ化合物を10重量%以上含む樹脂;70〜30体積%と、塩素20〜2000ppmと、を含むものである。 The conductor paste composition of the present invention is a conductor paste composition filled in a via hole, and (a) the average particle diameter is 0.5 to 20 μm and the specific surface area is 0.05 to 1.5 m. 2 / g of conductive particles; 30-70% by volume; (b) one molecule having one or more epoxy groups, and the total amount of hydroxyl groups, amino groups and carboxyl groups is 5 mol% of the epoxy groups A resin containing 10% by weight or more of an epoxy compound having an epoxy equivalent of 100 to 350 g / eq; 70 to 30% by volume and 20 to 2000 ppm of chlorine.

本発明のビアホール充填用導電体ペーストを用いた両面プリント基板とその形成方法およびそれを用いた多層基板によれば、スルーホールメッキ技術を用いることなく簡便に高信頼性の小径インナビアホールを備えた両面プリント基板を実現することができ、その多層化も容易に実現することができる。   According to the double-sided printed board using the via hole filling conductor paste of the present invention, the method of forming the same, and the multilayer board using the same, a highly reliable small-diameter inner via hole is provided without using a through-hole plating technique. A double-sided printed circuit board can be realized, and its multilayering can be easily realized.

本発明の一実施の形態における両面プリント基板を示す構造断面図Sectional drawing which shows the double-sided printed circuit board in one embodiment of this invention 同実施の形態における両面プリント基板の形成方法の工程図Process drawing of formation method of double-sided printed circuit board in the embodiment 同実施の形態における両面プリント基板の形成方法の工程図Process drawing of formation method of double-sided printed circuit board in the embodiment 同実施の形態における両面プリント基板の形成方法の工程図Process drawing of formation method of double-sided printed circuit board in the embodiment 同実施の形態における両面プリント基板の形成方法の工程図Process drawing of formation method of double-sided printed circuit board in the embodiment 同実施の形態における多層プリント基板の形成方法の工程図Process drawing of the method of forming a multilayer printed circuit board in the same embodiment 同実施の形態における多層プリント基板の形成方法の工程図Process drawing of the method of forming a multilayer printed circuit board in the same embodiment 同実施の形態における多層プリント基板の他の形成方法の工程図Process drawing of another forming method of multilayer printed circuit board in the same embodiment 同実施の形態における多層プリント基板の他の形成方法の工程図Process drawing of another forming method of multilayer printed circuit board in the same embodiment 同実施の形態におけるプリント基板に用いた導電性粒子の構造図Structure diagram of conductive particles used for printed circuit board in the same embodiment

(実施の形態1)
以下、本発明のビアホール充填用導電体ペーストを用いた両面プリント基板およびその形成方法ならびにそれを用いた多層プリント基板について図面に基づき詳細に説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, a double-sided printed board using the via hole filling conductor paste of the present invention, a method for forming the same, and a multilayer printed board using the same will be described in detail with reference to the drawings.

図1は本発明の両面プリント基板の一実施の形態の構造断面図である。図1において、両面プリント基板104は積層基材101、銅箔102(配線パターンの銅箔)、導電体ペーストが硬化充填された孔径が150μm以下の小径の導電体ビアホール103とからなっている。本発明のポイントは、導電体ペースト組成物が低粘度であることで充填が容易であり、高含有量の導電体粒子が満たされた接続であることである。すなわち、低抵抗率・低熱膨張率であり、かつ導電体ペースト組成物中の樹脂が低吸水率・高接着強度・無溶剤で低揮発性であることであらゆる環境試験においても高い接続信頼性を有する小径のインナビアホール基板が作製される。なお、インナビアホール接続とは、両面、および多層プリント基板の各層間を任意の位置で接続する方法である。   FIG. 1 is a structural sectional view of an embodiment of a double-sided printed board according to the present invention. In FIG. 1, a double-sided printed circuit board 104 includes a laminated base material 101, a copper foil 102 (a copper foil of a wiring pattern), and a conductor via hole 103 having a small diameter of 150 μm or less filled with a conductor paste. The point of the present invention is that the conductive paste composition has a low viscosity and can be easily filled, and is a connection filled with a high content of conductive particles. In other words, it has a low resistivity and a low coefficient of thermal expansion, and the resin in the conductive paste composition has a low water absorption rate, a high adhesive strength, a solvent-free and a low volatility, and thus has high connection reliability in all environmental tests. An inner via hole substrate having a small diameter is produced. Note that the inner via hole connection is a method of connecting both surfaces and each layer of the multilayer printed board at an arbitrary position.

導電体ビアホール103を形成する導電体ペースト組成物中の導電体粒子は、導電体組成中に高濃度に含有される必要がある。その理由は、前述したように導電体粒子同士の接触確率を高めることによる接続ビアホールの低抵抗率化および熱または機械的応力による基板歪みが加わった際にも接続信頼性を保持する必要があるからである。導電体粒子を高濃度に分散させるためには、導電体粒子の平均粒径が0.2〜20μmの範囲で、その比表面積が小さい程よく、その値は0.05〜1.5m/gが適正である。平均粒径が0.2μm未満であれば比表面積が1.5m/gを超え高濃度の分散は不可能になり、20μmを超えると1つのビアホールに充填される導電体ペースト中の導電体粒子個数が少なすぎて接続信頼性が低下する。また比表面積は0.05m/g未満では平均粒径を20μm以下にすることが困難で、1.5m/gを超えると導電体粒子の高濃度の分散は不可能になるため好ましくない。またこの導電体ペースト組成物は、ビアホールへの充填性を高めるため、その粘度とTI値は低いほどよく、TI値は1.0以下が適正である。なおTI値とは、粘度が剪断速度依存性を持つペーストにおいて、異なる剪断速度における各粘度の相対比を表す。本発明においては、TI値は、温度:25℃、1[1/sec]における粘度(A)と、温度:25℃、2[1/sec]における粘度(B)の比(A/B)である。また、粘度測定は、東機産業(株)製、E型粘度計(DVU−E型)を用いて25℃でR=14mm、3°コーン、0.5rpm(剪断速度1(1/s)に相当)の条件で測定する。 The conductor particles in the conductor paste composition that forms the conductor via hole 103 need to be contained in a high concentration in the conductor composition. The reason for this is that, as described above, it is necessary to maintain the connection reliability even when the resistivity of the connection via hole is lowered by increasing the contact probability between the conductive particles and the substrate distortion due to thermal or mechanical stress is applied. Because. In order to disperse the conductor particles at a high concentration, it is better that the average particle diameter of the conductor particles is in the range of 0.2 to 20 μm and the specific surface area is small, and the value is 0.05 to 1.5 m 2 / g. Is appropriate. If the average particle size is less than 0.2 μm, the specific surface area exceeds 1.5 m 2 / g and high concentration dispersion becomes impossible, and if it exceeds 20 μm, the conductor in the conductor paste filled in one via hole Connection reliability is reduced because the number of particles is too small. The specific surface area is not preferable average particle diameter is difficult to 20μm or less, 1.5 m 2 / high concentration of the dispersion of g by weight, the conductive particles becomes impossible for less than 0.05 m 2 / g . In addition, this conductor paste composition has a lower viscosity and a lower TI value in order to improve the filling property into the via hole, and an appropriate TI value is 1.0 or less. The TI value represents the relative ratio of the respective viscosities at different shear rates in a paste whose viscosity depends on the shear rate. In the present invention, the TI value is a ratio (A / B) of a viscosity (A) at a temperature: 25 ° C. and 1 [1 / sec] and a viscosity (B) at a temperature: 25 ° C. and 2 [1 / sec]. It is. In addition, the viscosity was measured using an E-type viscometer (DVU-E type) manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. at 25 ° C., R = 14 mm, 3 ° cone, 0.5 rpm (shear rate 1 (1 / s)) Measured under the conditions of

本発明において、塩素の含有率は、絶縁性を確保するためプリプレグ中の塩素の含有率よりも低いことが必要であり、20〜2000ppmが適正である。2000ppmを超えると、プリント基板の絶縁性が低下し、また、20ppm未満ならばビアホールの接続抵抗値が大きくなるため、不適正である。   In the present invention, the chlorine content needs to be lower than the chlorine content in the prepreg to ensure insulation, and 20 to 2000 ppm is appropriate. If it exceeds 2000 ppm, the insulating properties of the printed circuit board will decrease, and if it is less than 20 ppm, the connection resistance value of the via hole will increase, which is inappropriate.

2000ppmを超える場合についてさらに詳細に説明する。この場合プリプレグ中の塩素の含有率よりも高くなり、ビアホール内に充填された導電体ペースト中の塩素がプリプレグに侵入してプリプレグ中の塩素濃度が高くなるおそれがあり、これによって基板の絶縁性が低下してマイグレーションが発生しやすくなる。また、ビアホール直上のランド上に半導体装置が実装される場合、ビアホール内の塩素が半導体装置に移行しやすくなり、半導体装置に対しての絶縁性が低下する。   The case of exceeding 2000 ppm will be described in more detail. In this case, the chlorine content in the prepreg is higher than the chlorine content in the conductor paste filled in the via hole, and there is a risk that the chlorine concentration in the prepreg will increase, thereby increasing the insulating properties of the substrate. Decreases and migration tends to occur. In addition, when a semiconductor device is mounted on a land immediately above the via hole, chlorine in the via hole is easily transferred to the semiconductor device, and insulation with respect to the semiconductor device is reduced.

また導電体粒子の種類としては、金、白金、銀、パラジウム等の貴金属のもの、または銅、ニッケル、錫、鉛、インジウム等の卑金属等ほとんどのものが使用可能で、これら2種以上を併用することも出来る。   In addition, as the kind of the conductor particles, most of the precious metals such as gold, platinum, silver and palladium or the base metals such as copper, nickel, tin, lead and indium can be used. You can also

図5は本発明の一実施の形態におけるプリント基板に用いた導電性粒子の構造図である。図5において、核501は球形であり、導電性材料502は核501の表面を覆い導電性フィラーとしての役割を果たす。このように、純粋な金属だけでなく合金や金属または絶縁性の核に導電性の材料で覆ったものも使用可能である。また、導電体粒子の形状については上記平均粒径、比表面積を有するものであれば特に制限はない。   FIG. 5 is a structural diagram of conductive particles used for a printed circuit board in one embodiment of the present invention. In FIG. 5, the core 501 has a spherical shape, and the conductive material 502 covers the surface of the core 501 and serves as a conductive filler. In this way, not only pure metals but also alloys, metals, or insulating cores covered with a conductive material can be used. The shape of the conductor particles is not particularly limited as long as it has the above average particle diameter and specific surface area.

特に銅粉末を導電体粒子として用いることは、マイグレーションの抑制、経済的供給と価格の安定性の面から望ましい。しかし、銅粉末は一般に酸化され易いため、ビアホール充填用として用いる場合には、銅粉末の酸化が導電性を阻害する。よって、銅粉末の酸素濃度は1.0重量%以下であることが好ましい。   In particular, the use of copper powder as the conductor particles is desirable from the viewpoints of migration suppression, economic supply, and price stability. However, since copper powder is generally easily oxidized, when used for filling via holes, the oxidation of copper powder hinders conductivity. Therefore, the oxygen concentration of the copper powder is preferably 1.0% by weight or less.

次に、導電体ビアホール103を形成する導電体ペースト203中の樹脂について説明する。接続信頼性の高いインナビアホール用の導電体組成物を形成するためには、樹脂としては無溶剤で低粘度・低吸水率・高接着強度の樹脂が基本的に必要である。この物性を得るため樹脂の組成としては、一分子中に1つ以上のエポキシ基を有し、かつ水酸基、アミノ基、カルボキシル基がエポキシ基の5モル%以下であり、エポキシ当量が100〜350g/eqであるエポキシ化合物を10重量%以上含む樹脂が用いられる。エポキシ化合物を必須成分とする理由は高接着強度を得るためである。このエポキシ化合物において、水酸基、アミノ基、カルボキシル基をエポキシ基の5モル%以下の低濃度にする理由は、これら水素結合力の高い官能基があるとたとえ樹脂粘度が低くても導電体ペースト粘度が高くなるためである。逆に、これら水素結合力の高い官能基がエポキシ基の5モル%以下の低濃度であれば樹脂粘度が高くても低粘度の導電体ペーストが得られる。なお、水酸基、アミノ基、カルボキシル基とエポキシ基の比は化学定量分析で確認できるが、簡易的に赤外分光分析における3500cm−1近傍の吸光度(水酸基、アミノ基、カルボキシル基に起因)と910cm−1近傍の吸光度(エポキシ基に起因)の比でも確認できる。このエポキシ化合物において、エポキシ当量を100〜350g/eqにする理由は、350g/eq以上だと架橋密度が低すぎて吸水率が高く低接着強度になるためで、100g/eq未満だと架橋密度が高すぎて硬化収縮歪みが大きくなり接着強度低下を招くためである。エポキシ化合物が樹脂中に10重量%以上含まれていれば低粘度・低吸水率・高接着強度の導電体ペースト組成物が得られる。エポキシ化合物以外の樹脂成分については無溶剤であれば特に制限はない。また、必要に応じエポキシ化合物を反応硬化させるためのエポキシ硬化剤も配合される。なお、導電体ペースト粘度は2000Pa・s以下、TI値は1以下が望ましい。粘度が2000Pa・s以上、TI値が1を超えるとビアホール充填作業が出来ないという不具合を生じる。また、本発明において樹脂を無溶剤にする理由は、溶剤が含まれていた場合、本導電体組成物はビアホールに充填された後加熱圧縮される時、揮発成分が揮散してビアホール充填構造物中にボイドが発生したり、またはプリプレグの剥離が生じたりして接続が不安定になるためである。 Next, the resin in the conductor paste 203 for forming the conductor via hole 103 will be described. In order to form a conductor composition for an inner via hole with high connection reliability, a resin having no solvent, low viscosity, low water absorption, and high adhesive strength is basically required. In order to obtain this physical property, the resin composition has one or more epoxy groups in one molecule, and the hydroxyl group, amino group, and carboxyl group are 5 mol% or less of the epoxy group, and the epoxy equivalent is 100 to 350 g. A resin containing 10 wt% or more of an epoxy compound which is / eq is used. The reason for using an epoxy compound as an essential component is to obtain high adhesive strength. In this epoxy compound, the reason why the hydroxyl group, amino group, and carboxyl group have a low concentration of 5 mol% or less of the epoxy group is that the conductive paste viscosity is low even if the resin viscosity is low if there is a functional group having a high hydrogen bonding force. This is because of the increase. On the contrary, if these functional groups having a high hydrogen bonding force have a low concentration of 5 mol% or less of the epoxy group, a conductor paste having a low viscosity can be obtained even if the resin viscosity is high. In addition, although the ratio of a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an epoxy group can be confirmed by chemical quantitative analysis, the absorbance in the vicinity of 3500 cm −1 (due to the hydroxyl group, amino group, carboxyl group) and 910 cm in infrared spectroscopic analysis. It can also be confirmed by the ratio of absorbance in the vicinity of −1 (because of epoxy groups). In this epoxy compound, the reason why the epoxy equivalent is 100 to 350 g / eq is that when 350 g / eq or more, the crosslinking density is too low and the water absorption is high and the adhesive strength is low, and when it is less than 100 g / eq, the crosslinking density. This is because the curing shrinkage distortion becomes large and the adhesive strength is lowered. If the epoxy compound is contained in the resin in an amount of 10% by weight or more, a conductor paste composition having a low viscosity, a low water absorption rate and a high adhesive strength can be obtained. The resin component other than the epoxy compound is not particularly limited as long as it is solvent-free. Moreover, the epoxy hardening | curing agent for making an epoxy compound react and harden | cure as needed is also mix | blended. The conductor paste viscosity is desirably 2000 Pa · s or less, and the TI value is desirably 1 or less. If the viscosity is 2000 Pa · s or more and the TI value exceeds 1, there is a problem that the via hole filling operation cannot be performed. Also, the reason for making the resin solvent-free in the present invention is that, when a solvent is contained, when the conductive composition is heated and compressed after being filled into the via hole, the volatile component is volatilized and the via hole filled structure. This is because voids are generated inside or the prepreg is peeled off, resulting in unstable connection.

使用に適したエポキシ化合物としては、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が使用される。中でも、ビスフェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(化1)、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(化2)、ビスフェノールAD型(化3)、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂(化4)、アルキレンオキシド変性ビスフェノール型エポキシ樹脂(化5)、アルコキシ変性ビスフェノール型エポキシ樹脂(化6)等を使用することにより、低粘度で低吸水率かつ高接着強度が得られる。これらのビスフェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂は単独でも任意の組み合わせで使用しても有効である。   As an epoxy compound suitable for use, a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or the like is used. Among them, bisphenol glycidyl ether type epoxy resins, for example, bisphenol A type epoxy resin (Chemical formula 1), bisphenol F type epoxy resin (Chemical formula 2), bisphenol AD type (Chemical formula 3), hydrogenated bisphenol type epoxy resin (Chemical formula 4), By using an alkylene oxide-modified bisphenol-type epoxy resin (Chemical Formula 5), an alkoxy-modified bisphenol-type epoxy resin (Chemical Formula 6), etc., low viscosity, low water absorption and high adhesive strength can be obtained. These bisphenol glycidyl ether type epoxy resins are effective when used alone or in any combination.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、n≧0である。   However, n ≧ 0.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、n≧0である。   However, n ≧ 0.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、n≧0である。   However, n ≧ 0.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、n≧0である。   However, n ≧ 0.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、R=CpH2p+1(p≧1)、m+n≧2である。   However, R = CpH2p + 1 (p ≧ 1) and m + n ≧ 2.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、R=CpH2p+1(p≧1)である。   However, R = CpH2p + 1 (p ≧ 1).

また、エポキシ化合物が、ビスフェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂90〜20重量%(A群)と、C8以上の長鎖脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂及びC8以上の長鎖脂肪酸グリシジルエステル型エポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一方のエポキシ樹脂10〜80重量%(B群)とで構成される樹脂は、特に低粘度で低吸水率かつ高接着強度が得られ、かつ応力に対する緩和効果が大きいためビアホールの接続信頼性が高くなる。   The epoxy compound is selected from 90 to 20% by weight (group A) of bisphenol glycidyl ether type epoxy resin, C8 or more long chain aliphatic alcohol glycidyl ether type epoxy resin and C8 or more long chain fatty acid glycidyl ester type epoxy resin. The resin composed of at least one epoxy resin of 10 to 80% by weight (Group B) has a particularly low viscosity, a low water absorption and a high adhesive strength, and has a large relaxation effect against stress, so that the connection reliability of via holes is high. Increases nature.

ここで、A群に含まれる樹脂例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(化1)、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(化2)、ビスフェノールAD型(化3)、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂(化4)、アルキレンオキシド変性ビスフェノール型エポキシ樹脂(化5)、アルコキシ変性ビスフェノール型エポキシ樹脂(化6)等が使用できる。また、B群に含まれる樹脂例としては、リノールダイマー酸グリシジルエステル型エポキシ樹脂(化7)、イソプレンカプロン酸ダイマーグリシジルエステル型エポキシ樹脂(化8)、バーサチック酸グリシジルエステル型エポキシ樹脂(化9)、ラウリルグリシジルエーテル型エポキシ樹脂(化10)等を使用することができる。これらA群B群の樹脂は単独でも任意の組み合わせで使用しても有効である。   Here, examples of resins included in Group A include bisphenol A type epoxy resin (Chemical formula 1), bisphenol F type epoxy resin (Chemical formula 2), bisphenol AD type (Chemical formula 3), hydrogenated bisphenol type epoxy resin (Chemical formula 4). ), Alkylene oxide-modified bisphenol-type epoxy resin (Chemical Formula 5), alkoxy-modified bisphenol-type epoxy resin (Chemical Formula 6), and the like. Examples of resins included in Group B include linole dimer acid glycidyl ester type epoxy resin (Chemical Formula 7), isoprene caproic acid dimer glycidyl ester type epoxy resin (Chemical Formula 8), versatic acid glycidyl ester type epoxy resin (Chemical Formula 9). A lauryl glycidyl ether type epoxy resin (Chemical Formula 10) or the like can be used. These resins of Group A and Group B are effective when used alone or in any combination.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

Figure 0005310545
Figure 0005310545

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、R1、R2、R3はいずれもアルキル基であり、その炭素数の合計は8である。   However, R1, R2, and R3 are all alkyl groups, and the total number of carbon atoms is 8.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

また、この他に使用に適したエポキシ化合物としては、平均分子量600〜10000のエポキシオリゴマーがある。エポキシオリゴマーは、水酸基、アミノ基、及びカルボキシル基量がエポキシ基量に対して非常に少ないこと、および導電体ペーストにした場合樹脂分子量の増加に伴い粘度の剪断速度依存性(TI値)が小さくなることから、低粘度の導電体ペーストが得られる効果を有する。さらに、エポキシオリゴマーは、剥離接着強度を向上させる効果もある。   In addition, epoxy compounds suitable for use include epoxy oligomers having an average molecular weight of 600 to 10,000. Epoxy oligomers have very small amounts of hydroxyl groups, amino groups, and carboxyl groups relative to the amount of epoxy groups, and when made into a conductive paste, the viscosity dependence on shear rate (TI value) decreases as the resin molecular weight increases. Therefore, it has the effect of obtaining a low-viscosity conductor paste. Furthermore, the epoxy oligomer also has an effect of improving the peel adhesive strength.

また、エポキシ化合物が、ビスフェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂90〜19重量%(A群)と、C8以上の長鎖脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂及びC8以上の長鎖脂肪酸グリシジルエステル型エポキシ樹脂9〜80重量%(B群)と、平均分子量600〜10000のエポキシオリゴマー1〜30重量%(C群)とで構成される樹脂は、特に低粘度で低吸水率かつ高接着強度が得られ、かつ応力に対する緩和効果が大きいためビアホールの接続信頼性が高くなる。   The epoxy compound is bisphenol glycidyl ether type epoxy resin 90 to 19% by weight (group A), C8 or more long chain aliphatic alcohol glycidyl ether type epoxy resin and C8 or more long chain fatty acid glycidyl ester type epoxy resin 9 to 9%. Resins composed of 80% by weight (group B) and 1 to 30% by weight (group C) of epoxy oligomers having an average molecular weight of 600 to 10000 can have particularly low viscosity, low water absorption and high adhesive strength, and Since the stress relaxation effect is large, the connection reliability of the via hole is increased.

ここで、A群に含まれる樹脂例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(化1)、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(化2)、ビスフェノールAD型(化3)、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂(化4)、アルキレンオキシド変性ビスフェノール型エポキシ樹脂(化5)、アルコキシ変性ビスフェノール型エポキシ樹脂(化6)等が使用できる。また、B群に含まれる樹脂例としては、リノールダイマー酸グリシジルエステル型エポキシ樹脂(化7)、イソプレンカプロン酸ダイマーグリシジルエステル型エポキシ樹脂(化8)、バーサチック酸グリシジルエステル型エポキシ樹脂(化9)、ラウリルグリシジルエーテル型エポキシ樹脂(化10)等を使用することができる。さらに、C群に含まれる樹脂例としては、エポキシ化不飽和脂肪酸変性物(化11)、エポキシ化ポリブタジエン(化12)、エポキシ化ポリスチレンブタジエン共重合体(化13)等を使用することができる。これらA群B群C群の樹脂は単独でも任意の組み合わせで使用しても有効である。   Here, examples of resins included in Group A include bisphenol A type epoxy resin (Chemical formula 1), bisphenol F type epoxy resin (Chemical formula 2), bisphenol AD type (Chemical formula 3), hydrogenated bisphenol type epoxy resin (Chemical formula 4). ), Alkylene oxide-modified bisphenol-type epoxy resin (Chemical Formula 5), alkoxy-modified bisphenol-type epoxy resin (Chemical Formula 6), and the like. Examples of resins included in Group B include linole dimer acid glycidyl ester type epoxy resin (Chemical Formula 7), isoprene caproic acid dimer glycidyl ester type epoxy resin (Chemical Formula 8), versatic acid glycidyl ester type epoxy resin (Chemical Formula 9). A lauryl glycidyl ether type epoxy resin (Chemical Formula 10) or the like can be used. Furthermore, as examples of resins included in Group C, epoxidized unsaturated fatty acid modified products (Chemical Formula 11), epoxidized polybutadiene (Chemical Formula 12), epoxidized polystyrene butadiene copolymer (Chemical Formula 13), and the like can be used. . These resins of Group A, Group B, and Group C are effective when used alone or in any combination.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、R1、R4はいずれも炭素数1〜18のアルキル基であり、R2、R3はいずれも炭素数0〜8のアルキレン基であり、n≧1である。   However, R1 and R4 are all alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, R2 and R3 are both alkylene groups having 0 to 8 carbon atoms, and n ≧ 1.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、R、R´はいずれも炭素数0〜8のアルキル基で、q≧1、r≧1、s≧1、t≧1である。   However, R and R ′ are all alkyl groups having 0 to 8 carbon atoms, and q ≧ 1, r ≧ 1, s ≧ 1, and t ≧ 1.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

但し、R、R´はいずれも炭素数0〜8のアルキル基で、v≧1、w≧1、x≧1、y≧1、z≧1である。   However, R and R ′ are all alkyl groups having 0 to 8 carbon atoms, and v ≧ 1, w ≧ 1, x ≧ 1, y ≧ 1, and z ≧ 1.

また、導電体ペーストに、必要に応じてエポキシ化合物以外の樹脂を加えてもよい。使用に適した樹脂としては、例えば耐熱性向上を目的にイミド樹脂、フェノール樹脂などが挙げられ、銅箔との剥離接着強度向上を目的にポリオレフィン等のビニル重合体、アクリル樹脂、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン等が用いられる。これら樹脂は単独でも任意の組み合わせで使用しても有効である。   Moreover, you may add resin other than an epoxy compound to an electrically conductive paste as needed. Examples of resins suitable for use include imide resins and phenol resins for the purpose of improving heat resistance, and vinyl polymers such as polyolefin, acrylic resins, polyethers, and polyesters for the purpose of improving peel adhesion strength with copper foil. Polyamide, polyurethane and the like are used. These resins are effective when used alone or in any combination.

また、導電体ペーストには必要に応じてエポキシ硬化剤が配合されてもよい。エポキシ硬化剤については、一液性組成物として一般的に使用されている硬化剤が使用可能である。例えばジシアンジアミド、カルボキシルヒドラジド等のアミン系硬化剤、ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール系硬化剤、3−(3,4−ジクロロフェニル)−1、1−ジメチル尿素等の尿素系硬化剤、無水メチルヘキサフタル酸、無水メチルナジック酸等の酸無水物系硬化剤、トリフェニルフォスフィン等のフォスフィン系硬化剤、及びヘキサフルオロアンチモン塩等のルイス酸などが用いられる。これらのうちでも、特に組成物の安定性および作業性の観点より、潜在性硬化剤が望ましい。ここで、潜在性硬化剤とは、室温では反応が停止状態にあり長時間特性が変わることなく保存可能で、所定の温度以上に加熱したときに粒子が溶融、分解または溶解し、封じ込められていた活性基が現れ、一斉に反応が開始され速やかに硬化する機能を有するものをいう。   Moreover, an epoxy hardening | curing agent may be mix | blended with the conductor paste as needed. As the epoxy curing agent, a curing agent generally used as a one-component composition can be used. For example, amine curing agents such as dicyandiamide and carboxyl hydrazide, imidazole curing agents such as heptadecylimidazole, urea curing agents such as 3- (3,4-dichlorophenyl) -1,1-dimethylurea, and methylhexaphthalic anhydride An acid anhydride curing agent such as methyl nadic anhydride, a phosphine curing agent such as triphenylphosphine, and a Lewis acid such as hexafluoroantimony salt are used. Among these, a latent curing agent is particularly desirable from the viewpoint of the stability and workability of the composition. Here, the latent curing agent is a reaction that is stopped at room temperature and can be stored for a long time without changing its characteristics, and when heated above a predetermined temperature, the particles melt, decompose or dissolve and are contained. The active group appears, the reaction is started all at once, and it has a function of curing quickly.

また、導電体ペーストには必要に応じて分散剤が配合されてもよい。分散剤については、一般に使用される分散剤が使用可能である。第一には、高級脂肪酸のエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加エステル化物、ゾルビタンと脂肪酸のエステル化合物、ゾルビタン等の多価アルコールのエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加エーテル化合物、アルキルベンゼンのエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加物等の非イオン性分散剤、第二には、アルキルベンゼンスルフォン酸アルカリ塩、高級アルコール硫酸エステルアルカリ塩、リン酸エステル化合物、高級脂肪酸、高級脂肪酸のエチレンオキシド、プロピレンオキシド付加物のサルファートアルカリ塩等のアニオン系分散剤、第三には4級アンモニウム塩タイプのカチオン系分散剤が代表的に用いられる。ここにいう分散剤とは、ペースト中において金属粒子表面とバインダとして配合される有機樹脂との親和性を増すことによって、ペーストの低粘度化及び低TI値化を促進する効果を持つ。   Moreover, a dispersing agent may be mix | blended with the conductor paste as needed. As the dispersant, commonly used dispersants can be used. First, non-ionics such as higher fatty acid ethylene oxide, propylene oxide addition ester, sorbitan and fatty acid ester compound, polyhydric alcohol ethylene oxide such as sorbitan, propylene oxide addition ether compound, alkylbenzene ethylene oxide, propylene oxide addition product, etc. Anionic dispersants such as alkylbenzene sulfonic acid alkali salts, higher alcohol sulfate ester alkali salts, phosphate ester compounds, higher fatty acids, higher fatty acid ethylene oxides, and propylene oxide adduct sulfate alkaline salts Third, a quaternary ammonium salt type cationic dispersant is typically used. The dispersant referred to here has an effect of promoting lowering of the viscosity and lowering of the TI value of the paste by increasing the affinity between the surface of the metal particles and the organic resin blended as the binder in the paste.

積層基材101としては、プレス時にその厚みがプリプレグより硬化後薄くなるものであれば制限はなく現在知られているほとんどの積層基材が使える。例えば、ガラス織布、ガラス不織布、アラミド織布、アラミド不織布のいずれか一つとエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂との複合材、またはガラス織布、ガラス不織布、アラミド織布、アラミド不織布のいずれか一つとガラス転移温度が180℃以上の熱可塑性樹脂(例えば、全芳香族ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン等)との複合材、あるいはフィルム材料を用いて絶縁材料を形成することができる。   As the laminated base material 101, there is no limitation as long as the thickness becomes thinner after curing than the prepreg at the time of pressing, and most known laminated base materials can be used. For example, any one of glass woven fabric, glass nonwoven fabric, aramid woven fabric, aramid nonwoven fabric and a thermosetting resin such as epoxy resin, or glass woven fabric, glass nonwoven fabric, aramid woven fabric, aramid nonwoven fabric Insulating material using a composite material or film material of one and a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 180 ° C. or higher (for example, wholly aromatic polyester resin, polyether sulfone, polyether ketone, polyether ether ketone, etc.) Can be formed.

図2A〜図2Dは本発明の両面基板の形成方法の工程図である。図2Aにおいて、積層基材201はプリプレグである。このプリプレグに穴径150μm以下のスルーホールを開ける。一般にはドリルがよく使われるが、材料によってはレーザビームなど他の加工法をとることも可能である。そして、スルーホール内に導電体ペースト203が充填されている。図2Bは、図2Aを銅箔202で挟んだ状態を示している。図2Cは、図2Bに加熱加圧を加えた後の状態を示している。また、図2Cは、プリプレグに開けたスルーホールに加熱加圧後に金属充填量が増えている状態を示している。プリプレグは圧縮されて厚みが薄くなり、且つ、樹脂が硬化している。導電体ペースト203は圧縮された状態になっている。この圧縮された状態の導電体ペーストが導電体ビアホール103である。導電体ビアホール103は、上下両面の電気的接続の役割を果たす。図2Dは表面の銅箔202を加工(エッチング等)して配線パターンを形成した後の状態を示している。加工後の銅箔102は回路導電体となる。実用に供せられるプリント基板はこの後、半田レジストを塗布したり、文字や記号を印刷したり、挿入部品用の穴を開けるなどの工程があるが、ここでは本質ではないので省略する。   2A to 2D are process diagrams of the method for forming a double-sided substrate of the present invention. In FIG. 2A, the laminated substrate 201 is a prepreg. A through hole having a hole diameter of 150 μm or less is opened in the prepreg. In general, a drill is often used, but other processing methods such as a laser beam can be used depending on the material. Then, the conductive paste 203 is filled in the through holes. FIG. 2B shows a state where FIG. 2A is sandwiched between copper foils 202. FIG. 2C shows a state after applying heat and pressure to FIG. 2B. FIG. 2C shows a state in which the metal filling amount is increased after heating and pressurizing the through hole opened in the prepreg. The prepreg is compressed to reduce the thickness, and the resin is cured. The conductor paste 203 is in a compressed state. The conductor paste in a compressed state is a conductor via hole 103. The conductor via hole 103 plays a role of electrical connection between the upper and lower surfaces. FIG. 2D shows a state after the surface copper foil 202 is processed (etching or the like) to form a wiring pattern. The processed copper foil 102 becomes a circuit conductor. A printed circuit board that is put to practical use has processes such as applying a solder resist, printing characters and symbols, and making holes for insertion parts, but this is not essential here and is omitted.

図3A、Bは上記に述べた両面プリント基板の形成方法を繰り返し用いて多層プリント基板を作る工程を示している。図3Aは芯になる両面プリント基板104の両側(上下面)に図2Aのスルーホールに導電体ペーストを充填したものを配置し、更に銅箔202をおいた状態を示している。この状態で、上下面から加熱加圧すれば図3Bの多層プリント基板が作製され、すでにインナビアホール接続が出来上がっている。さらに、上下面の銅箔202をパターン状に加工すれば4層の多層プリント基板が完成する。以後、この工程を繰り返し、より層数の多い多層プリント基板を作ることが出来る。   3A and 3B show a process of making a multilayer printed circuit board by repeatedly using the double-sided printed circuit board formation method described above. FIG. 3A shows a state in which the through-hole shown in FIG. 2A is filled with a conductive paste on both sides (upper and lower surfaces) of the double-sided printed circuit board 104 to be a core, and a copper foil 202 is further placed. In this state, if heat and pressure are applied from the upper and lower surfaces, the multilayer printed board of FIG. 3B is produced, and the inner via hole connection has already been completed. Furthermore, if the upper and lower copper foils 202 are processed into a pattern, a four-layer multilayer printed board is completed. Thereafter, this process can be repeated to produce a multilayer printed board having a larger number of layers.

図3A、Bの多層プリント基板の形成方法において、芯の両面プリント基板は本発明の両面プリント基板を用いたが、必ずしもその必要はなく、従来あるスルーホール両面プリント基板が使える。従って、新たに両面プリント基板を作成する設備を準備する必要もなく、コストを削減することができる。この場合、スルーホール(貫通孔)は前もって埋めておいたほうがよい。ここでスルーホール基板とは、樹脂基板のことをいう。なお、スルーホール基板は、樹脂基板ばかりでなくセラミックの基板等が使える。   3A and 3B, the double-sided printed circuit board according to the present invention is used as the double-sided printed circuit board of the core, but this is not always necessary, and a conventional through-hole double-sided printed circuit board can be used. Therefore, it is not necessary to prepare equipment for newly creating a double-sided printed circuit board, and the cost can be reduced. In this case, it is better to fill the through hole (through hole) in advance. Here, the through-hole substrate refers to a resin substrate. As the through-hole substrate, not only a resin substrate but also a ceramic substrate can be used.

図4A、Bは多層プリント基板の他の形成方法を示している。図4Aにおいては、導電体ペースト203を充填した加熱加圧前の積層基材201を2枚の両面プリント基板104で挟んでいる。この状態で加熱加圧し、図4Bの4層の多層プリント基板を得ることが出来る。4層ばかりでなく、複数枚の両面プリント基板を用意し、前記の導電体粒子を充填した加熱加圧前の積層基材を各両面プリント基板の間に挟んで加熱加圧すればより多層の多層プリント基板を作製することが出来る。   4A and 4B show another method for forming a multilayer printed board. In FIG. 4A, the laminated base material 201 before heating and pressing filled with the conductive paste 203 is sandwiched between two double-sided printed boards 104. In this state, heating and pressurization can be performed to obtain the four-layer multilayer printed board shown in FIG. 4B. If not only four layers but also a plurality of double-sided printed boards are prepared, and the laminated base material before heating and pressurizing filled with the conductive particles is sandwiched between the double-sided printed boards and heated and pressed, more multilayers can be obtained. A multilayer printed circuit board can be produced.

図4A、Bの多層プリント基板の形成方法において、両面プリント基板は本発明の両面プリント基板を用いたが、必ずしもその必要はなく、従来あるスルーホール両面プリント基板が使える。また、スルーホール基板は、樹脂基板ばかりでなくセラミックの基板等が使える。   4A and 4B, the double-sided printed board of the present invention is used as the double-sided printed board. However, this is not always necessary, and a conventional through-hole double-sided printed board can be used. As the through-hole substrate, not only a resin substrate but also a ceramic substrate can be used.

次に、本発明の導電体ペースト組成物の塩素含有量に対するプリント配線板の特性について表を用いて説明する。   Next, the characteristic of the printed wiring board with respect to the chlorine content of the conductor paste composition of the present invention will be described using a table.

表1は、ペースト中に含まれる加水分解性塩素量とビアホール径に対するビアホールの接続抵抗値と絶縁抵抗値を示したものである。   Table 1 shows the connection resistance value and the insulation resistance value of the via hole with respect to the amount of hydrolyzable chlorine contained in the paste and the diameter of the via hole.

Figure 0005310545
Figure 0005310545

表1に示すように、本発明におけるプリント配線板のビアホールに充填される導電体ペースト組成物の加水分解性塩素量が20ppm以上であれば、ビアホール径が150μm以下であっても接続抵抗値は10mΩ/ビア以下であり、電気的導通性の良好な結果が得られた。   As shown in Table 1, if the amount of hydrolyzable chlorine in the conductor paste composition filled in the via hole of the printed wiring board in the present invention is 20 ppm or more, the connection resistance value is even if the via hole diameter is 150 μm or less. The result was 10 mΩ / via or less, and good electrical conductivity was obtained.

また、導電体ペースト組成物の加水分解性塩素量がプリプレグ中の塩素の含有率よりも低いとき、すなわち2000ppm以下であれば、絶縁抵抗値においても良好な結果が得られた。   In addition, when the hydrolyzable chlorine content of the conductor paste composition was lower than the chlorine content in the prepreg, that is, 2000 ppm or less, good results were obtained also in the insulation resistance value.

そして、ガラス織布、ガラス不織布、アラミド織布、アラミド不織布のいずれか一つとエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂との複合材、またはガラス織布、ガラス不織布、アラミド織布、アラミド不織布のいずれか一つとガラス転移温度が180℃以上の熱可塑性樹脂(例えば、全芳香族ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン等)との複合材、あるいはフィルム材料を用いて絶縁材料を形成することができる。   And any one of glass woven fabric, glass nonwoven fabric, aramid woven fabric, aramid nonwoven fabric and a thermosetting resin such as epoxy resin, or glass woven fabric, glass nonwoven fabric, aramid woven fabric, aramid nonwoven fabric Insulating material using a composite material or film material of one and a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 180 ° C. or higher (for example, wholly aromatic polyester resin, polyether sulfone, polyether ketone, polyether ether ketone, etc.) Can be formed.

以上のように、本実施の形態1によれば、本発明の導電体ペースト組成物は、(a)平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が0.05〜1.5m/gの導電体粒子;30〜70体積%と、(b)一分子中に1つ以上のエポキシ基を有し、かつ水酸基、アミノ基及びカルボキシル基の合計量がエポキシ基の5モル%以下であり、エポキシ当量が100〜350g/eqであるエポキシ化合物を10重量%以上含む樹脂;70〜30体積%と、塩素20〜2000ppmとを少なくとも含んでいるので、この導電体ペースト組成物を孔径150μm以下のビアホールに充填することにより、高信頼性のインナビアホールを備えた両面または多層のプリント基板を実現することができる。 As described above, according to the first embodiment, the conductor paste composition of the present invention has (a) an average particle diameter of 0.5 to 20 μm and a specific surface area of 0.05 to 1.5 m 2. / G conductive particles; 30-70% by volume; (b) one or more epoxy groups in one molecule, and the total amount of hydroxyl groups, amino groups and carboxyl groups is 5 mol% or less of the epoxy groups A resin containing 10 wt% or more of an epoxy compound having an epoxy equivalent of 100 to 350 g / eq; 70 to 30 vol%, and 20 to 2000 ppm of chlorine. By filling a via hole of 150 μm or less, a double-sided or multilayer printed circuit board having a highly reliable inner via hole can be realized.

なお、本発明の実施の形態1では、ビアホールの孔径を150μm以下としたが、150μmより大きい孔径であってもよい。   In the first embodiment of the present invention, the hole diameter of the via hole is set to 150 μm or less, but the hole diameter may be larger than 150 μm.

本発明の導電体ペースト組成物は、高密度配線基板として高速伝送が可能な高周波回路用途や半導体パッケージなどの微細な配線パターン用途や小型・軽量化を必要とする携帯型電子機器用途などに必要な高い接続信頼性を有し、かつ安価なプリント配線基板の形成に有用である。   The conductor paste composition of the present invention is necessary for high-frequency circuit applications capable of high-speed transmission as a high-density wiring substrate, fine wiring pattern applications such as semiconductor packages, and portable electronic device applications that require miniaturization and weight reduction. It is useful for forming an inexpensive printed wiring board having high connection reliability.

101,201 積層基材
102,202 銅箔
103 導電体ビアホール
104 両面プリント基板
203 導電体ペースト
501 核
502 導電性材料
101, 201 Laminated substrate 102, 202 Copper foil 103 Conductor via hole 104 Double-sided printed board 203 Conductor paste 501 Core 502 Conductive material

Claims (11)

絶縁基材内に開けられたビアホール中に導電体ペースト組成物が充填されることにより前記絶縁基材表面の上下の電極層が電気的に接続され、前記ビアホール直上に半導体装置実装用の電極を有するプリント基板に用いられるビアホール充填用導電体ペースト組成物であって、
平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が0.05〜1.5m2/gの少なくとも銅粉を含む導電体粒子;30〜70体積%と、
一分子中に1つ以上のエポキシ基を有し、水酸基、アミノ基及びカルボキシル基の合計量がエポキシ基の5モル%以下であり、エポキシ当量が100〜350g/eqであるエポキシ化合物を10重量%以上含む樹脂;70〜30体積%と、を備え、
加水分解性塩素の含有量が20〜2000ppmである
ビアホール充填用導電体ペースト組成物。
By filling the conductive paste composition in the via hole opened in the insulating base material, the upper and lower electrode layers on the surface of the insulating base material are electrically connected, and an electrode for mounting a semiconductor device is directly above the via hole. A conductor paste composition for filling via holes used in a printed circuit board having:
Conductor particles containing at least copper powder having an average particle size of 0.5 to 20 μm and a specific surface area of 0.05 to 1.5 m 2 / g;
10 weight of an epoxy compound having one or more epoxy groups in one molecule, the total amount of hydroxyl group, amino group and carboxyl group is 5 mol% or less of the epoxy group, and the epoxy equivalent is 100 to 350 g / eq Resin containing 70% or more; and 70 to 30% by volume,
A conductor paste composition for filling via holes, wherein the content of hydrolyzable chlorine is 20 to 2000 ppm.
前記導電体粒子が、
(1)金、白金、銀、パラジウム、銅、ニッケル、錫、鉛、インジウムから選ばれる少なくとも一つの粒子、
(2)金、白金、銀、パラジウム、銅、ニッケル、錫、鉛、インジウム、亜鉛、クロムから選ばれる任意の組み合わせの合金粒子、
(3)導電性または非導電性粒子を核とし、金、白金、銀、パラジウム、銅、ニッケル、錫、鉛、インジウムから選ばれる少なくとも一つの金属で被覆された粒子、および、
(4)導電性または非導電性粒子を核とし、金、白金、銀、パラジウム、銅、ニッケル、錫、鉛、インジウム、亜鉛、クロムから選ばれる任意の組み合わせの合金で被覆された粒子の
(1)ないし(4)から選ばれる少なくとも一つの粒子である
請求項1に記載のビアホール充填用導電体ペースト組成物。
The conductor particles are
(1) at least one particle selected from gold, platinum, silver, palladium, copper, nickel, tin, lead, and indium;
(2) Alloy particles of any combination selected from gold, platinum, silver, palladium, copper, nickel, tin, lead, indium, zinc, chromium,
(3) Particles coated with at least one metal selected from gold, platinum, silver, palladium, copper, nickel, tin, lead, and indium with conductive or non-conductive particles as nuclei, and
(4) Particles coated with an alloy of any combination selected from gold, platinum, silver, palladium, copper, nickel, tin, lead, indium, zinc, and chromium, with conductive or non-conductive particles as the core ( 2. The via-hole filling conductor paste composition according to claim 1, which is at least one particle selected from 1) to (4).
前記導電体粒子が、表面酸素濃度が1.0重量%以下の銅を含む
請求項1に記載のビアホール充填用導電体ペースト組成物。
The conductor paste composition for via hole filling according to claim 1, wherein the conductor particles contain copper having a surface oxygen concentration of 1.0% by weight or less.
絶縁基材内に開けられたビアホール中に導電体ペースト組成物が充填されることにより前記絶縁基材表面の上下の電極層が電気的に接続され、前記ビアホール直上に半導体装置実装用の電極を有するプリント基板に用いられるビアホール充填用導電体ペースト組成物であって、
平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が0.05〜1.5m 2 /gの少なくとも銅粉を含む導電体粒子;30〜70体積%と、
一分子中に1つ以上のエポキシ基を有し、水酸基、アミノ基及びカルボキシル基の合計量がエポキシ基の5モル%以下であり、エポキシ当量が100〜350g/eqであるエポキシ化合物を10重量%以上含む樹脂;70〜30体積%と、を備え、
前記エポキシ化合物が、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂および脂環式エポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一つのエポキシ樹脂であり、
加水分解性塩素の含有量が500〜2000ppmである
ビアホール充填用導電体ペースト組成物。
By filling the conductive paste composition in the via hole opened in the insulating base material, the upper and lower electrode layers on the surface of the insulating base material are electrically connected, and an electrode for mounting a semiconductor device is directly above the via hole. A conductor paste composition for filling via holes used in a printed circuit board having:
Conductor particles containing at least copper powder having an average particle size of 0.5 to 20 μm and a specific surface area of 0.05 to 1.5 m 2 / g;
10 weight of an epoxy compound having one or more epoxy groups in one molecule, the total amount of hydroxyl group, amino group and carboxyl group is 5 mol% or less of the epoxy group, and the epoxy equivalent is 100 to 350 g / eq Resin containing 70% or more; and 70 to 30% by volume,
The epoxy compound, Ri least one epoxy resin der selected from glycidyl ether type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resins and alicyclic epoxy resins,
A conductive paste composition for filling via holes , wherein the content of hydrolyzable chlorine is 500 to 2000 ppm.
前記エポキシ化合物が、ビスフェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂である
請求項に記載のビアホール充填用導電体ペースト組成物。
The conductor paste composition for via hole filling according to claim 4 , wherein the epoxy compound is a bisphenol glycidyl ether type epoxy resin.
前記エポキシ化合物が、重量平均分子量600〜10000のエポキシオリゴマーを含む請求項に記載のビアホール充填用導電体ペースト組成物。 The conductor paste composition for via-hole filling according to claim 4 , wherein the epoxy compound contains an epoxy oligomer having a weight average molecular weight of 600 to 10,000. 前記エポキシ化合物が、
ビスフェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂90〜20重量%と、
C8以上の長鎖脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂及びC8以上の長鎖脂肪酸グリシジルエステル型エポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一つのエポキシ樹脂10〜80重量%とで構成される樹脂である
請求項に記載のビアホール充填用導電体ペースト組成物。
The epoxy compound is
90-20% by weight of a bisphenol glycidyl ether type epoxy resin,
C8 or more to claim 4 is a resin composed of at least 10 to 80 wt% one epoxy resin selected from a long chain aliphatic alcohol glycidyl ether type epoxy resin and C8 or more long chain fatty acid glycidyl ester type epoxy resin The conductor paste composition for filling via holes as described.
前記エポキシ化合物が、
ビスフェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;90〜19重量%と、
炭素数(C)8以上の長鎖脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂及び炭素数(C)8以上の長鎖脂肪酸グリシジルエステル型エポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一つの樹脂;9〜80重量%と、
重量平均分子量600〜10000のエポキシオリゴマー;1〜30重量%とで構成される樹脂である
請求項に記載のビアホール充填用導電体ペースト組成物。
The epoxy compound is
Bisphenol glycidyl ether type epoxy resin; 90 to 19% by weight;
At least one resin selected from a long-chain aliphatic alcohol glycidyl ether type epoxy resin having 8 or more carbon atoms (C) and a long-chain fatty acid glycidyl ester type epoxy resin having 8 or more carbon atoms; 9 to 80% by weight;
The conductive paste composition for filling via holes according to claim 4 , which is a resin composed of an epoxy oligomer having a weight average molecular weight of 600 to 10000; 1 to 30% by weight.
ペースト組成物の粘度特性において、
温度:25℃、1[1/sec]における粘度(A)と、2[1/sec]における粘度(B)の比(A/B)が、1以下である
請求項に記載のビアホール充填用導電体ペースト組成物。
In the viscosity characteristics of the paste composition,
The via hole filling according to claim 4 , wherein the ratio (A / B) of the temperature (25 ° C), the viscosity (A) at 1 [1 / sec] and the viscosity (B) at 2 [1 / sec] is 1 or less. Conductor paste composition.
絶縁基材内に開けられたビアホール中に導電体ペースト組成物が充填されることにより前記絶縁基材表面の上下の電極層が電気的に接続され、前記ビアホール直上に半導体装置実装用の電極を有するプリント基板であって、
前記導電体ペースト組成物が、
平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が0.05〜1.5m2/gの少なくとも銅粉を含む導電体粒子;30〜70体積%と、
一分子中に1つ以上のエポキシ基を有し、かつ水酸基、アミノ基及びカルボキシル基の合計量がエポキシ基の5モル%以下であり、エポキシ当量が100〜350g/eqであるエポキシ化合物を10重量%以上含む樹脂;70〜30体積%と、
20〜2000ppmかつ前記絶縁基材中の含有量よりも低い加水分解性塩素と、を含み、
前記導電体ペースト組成物が前記ビアホール中において硬化されていることを特徴とする
プリント基板。
By filling the conductive paste composition in the via hole opened in the insulating base material, the upper and lower electrode layers on the surface of the insulating base material are electrically connected, and an electrode for mounting a semiconductor device is directly above the via hole. a printed circuit board that Yusuke,
The conductor paste composition is
Conductor particles containing at least copper powder having an average particle size of 0.5 to 20 μm and a specific surface area of 0.05 to 1.5 m 2 / g;
10 epoxy compounds having one or more epoxy groups in one molecule, the total amount of hydroxyl groups, amino groups and carboxyl groups being 5 mol% or less of the epoxy groups and an epoxy equivalent of 100 to 350 g / eq. Resin containing not less than 70% by weight; 70 to 30% by volume;
Hydrolyzable chlorine having a content of 20 to 2000 ppm and lower than the content in the insulating substrate,
The printed circuit board, wherein the conductor paste composition is cured in the via hole.
絶縁基材内に開けられたビアホール中に導電体ペースト組成物が充填されることにより前記絶縁基材表面の上下の電極層が電気的に接続され、前記ビアホール直上に半導体装置実装用の電極を有するプリント基板の製造方法であって、
プリント基板の製造に用いられるプリプレグにあらかじめビアホールを形成するステップと、
前記ビアホールに、
平均粒径が0.5〜20μmで、その比表面積が0.05〜1.5m2/gの少なくとも銅粉を含む導電体粒子30〜70体積%と、
一分子中に1つ以上のエポキシ基を有し、かつ水酸基、アミノ基及びカルボキシル基の合計量がエポキシ基の5モル%以下であり、エポキシ当量が100〜350g/eqであるエポキシ化合物を10重量%以上含む樹脂70〜30体積%と、
20〜2000ppmかつ前記プリプレグ中の含有量よりも低い加水分解性塩素と、を含む導電体ペースト組成物を充填するステップと、
前記プリプレグの上下層に銅箔を配置して加熱加圧するステップと、
前記銅箔をエッチングすることにより電気回路を形成するステップと、
を備えた
プリント基板の製造方法。
By filling the conductive paste composition in the via hole opened in the insulating base material, the upper and lower electrode layers on the surface of the insulating base material are electrically connected, and an electrode for mounting a semiconductor device is directly above the via hole. A printed circuit board manufacturing method comprising:
Forming a via hole in advance in a prepreg used for manufacturing a printed circuit board;
In the via hole,
30-70% by volume of conductive particles containing at least copper powder having an average particle size of 0.5-20 μm and a specific surface area of 0.05-1.5 m 2 / g;
10 epoxy compounds having one or more epoxy groups in one molecule, the total amount of hydroxyl groups, amino groups and carboxyl groups being 5 mol% or less of the epoxy groups and an epoxy equivalent of 100 to 350 g / eq. 70 to 30% by volume of a resin containing at least wt%,
Filling a conductive paste composition comprising 20-2000 ppm and hydrolyzable chlorine lower than the content in the prepreg;
Placing and heating and pressing copper foil on the upper and lower layers of the prepreg; and
Forming an electrical circuit by etching the copper foil;
A method of manufacturing a printed circuit board comprising:
JP2009511681A 2007-04-23 2008-04-22 Conductor paste composition for via hole filling, printed circuit board using the same, and method for producing the same Expired - Fee Related JP5310545B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009511681A JP5310545B2 (en) 2007-04-23 2008-04-22 Conductor paste composition for via hole filling, printed circuit board using the same, and method for producing the same

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007112546 2007-04-23
JP2007112546 2007-04-23
JP2007112545 2007-04-23
JP2007112545 2007-04-23
PCT/JP2008/001043 WO2008132832A1 (en) 2007-04-23 2008-04-22 Conductive paste composition for via hole filling, printed board using the same, and method for manufacturing the printed board
JP2009511681A JP5310545B2 (en) 2007-04-23 2008-04-22 Conductor paste composition for via hole filling, printed circuit board using the same, and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2008132832A1 JPWO2008132832A1 (en) 2010-07-22
JP5310545B2 true JP5310545B2 (en) 2013-10-09

Family

ID=39925303

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009511681A Expired - Fee Related JP5310545B2 (en) 2007-04-23 2008-04-22 Conductor paste composition for via hole filling, printed circuit board using the same, and method for producing the same

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5310545B2 (en)
CN (1) CN101669410B (en)
TW (1) TWI405519B (en)
WO (1) WO2008132832A1 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5465453B2 (en) 2009-03-26 2014-04-09 パナソニック株式会社 Epoxy resin composition for forming optical waveguide, curable film for forming optical waveguide, flexible printed wiring board for optical transmission, and electronic information device
JP5739631B2 (en) * 2010-09-27 2015-06-24 太陽ホールディングス株式会社 Thermosetting resin filler
CN105304160B (en) * 2014-06-03 2018-09-14 太阳油墨制造株式会社 Conductive adhesive and use its electronic unit
JP6383183B2 (en) * 2014-06-03 2018-08-29 太陽インキ製造株式会社 Conductive adhesive and electronic component using the same
WO2016181936A1 (en) * 2015-05-11 2016-11-17 旭硝子株式会社 Material for printed circuit board, metal laminate, method for manufacturing same, and method for manufacturing printed circuit board
TWI620253B (en) * 2016-04-26 2018-04-01 Method for building conductive substrate
CN112018030A (en) * 2020-08-11 2020-12-01 安徽蓝讯通信技术有限公司 Filling method of substrate through hole

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000030533A (en) * 1998-05-08 2000-01-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Conductive paste composition for filling via hole, double face and multilayer printed circuit board and their manufacture
JP2000169821A (en) * 1998-09-30 2000-06-20 Three Bond Co Ltd Ultraviolet light-curable anisotropic conductive adhesive
JP2001002982A (en) * 1999-06-22 2001-01-09 Noriko Ito Coating agent
WO2005095486A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-13 Asahi Kasei Chemicals Corporation Hardener for epoxy resin and epoxy resin composition

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6139777A (en) * 1998-05-08 2000-10-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Conductive paste for filling via-hole, double-sided and multilayer printed circuit boards using the same, and method for producing the same
DE60017710T2 (en) * 1999-11-10 2005-12-22 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. METHOD FOR PRODUCING A NICKEL POWDER
JP2006348225A (en) * 2005-06-17 2006-12-28 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metallic foil clad laminate and printed wiring substrate using the same, and method for manufacturing printed wiring substrate

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000030533A (en) * 1998-05-08 2000-01-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Conductive paste composition for filling via hole, double face and multilayer printed circuit board and their manufacture
JP2000169821A (en) * 1998-09-30 2000-06-20 Three Bond Co Ltd Ultraviolet light-curable anisotropic conductive adhesive
JP2001002982A (en) * 1999-06-22 2001-01-09 Noriko Ito Coating agent
WO2005095486A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-13 Asahi Kasei Chemicals Corporation Hardener for epoxy resin and epoxy resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
CN101669410B (en) 2011-08-03
TWI405519B (en) 2013-08-11
JPWO2008132832A1 (en) 2010-07-22
CN101669410A (en) 2010-03-10
TW200908847A (en) 2009-02-16
WO2008132832A1 (en) 2008-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5141249B2 (en) Conductive paste and multilayer printed wiring board using the same
EP0651602B1 (en) Conductive paste compound for via hole filling, printed circuit board which uses the conductive paste, and method of manufacturing the same
EP0955795B1 (en) Conductive paste for filing via-hole, double-sided and multilayer printed circuit boards using the same, and method for producing the same
KR101225497B1 (en) Conductive paste and the manufacturing method thereof and the electric device comprising thereof
JP5310545B2 (en) Conductor paste composition for via hole filling, printed circuit board using the same, and method for producing the same
JP2603053B2 (en) Conductor paste composition for filling via holes, double-sided and multilayer printed circuit boards using the same, and method for producing the same
KR101086358B1 (en) conductive paste
JPH10256687A (en) Conductor paste composition for filling it into via hole, and printed circuit board using the same
US8597459B2 (en) Conductive paste and method for manufacturing multilayer printed wiring board using the same
JP3592006B2 (en) Conductive paste for filling via holes and printed wiring board using the same
JP3038210B2 (en) Conductor paste composition for filling via hole, double-sided and multilayer printed circuit board using the same, and method for producing the same
JP4877535B2 (en) Electrode connection structure in printed wiring board, conductive adhesive used for this, and electronic device
JP2009026700A (en) Conductive paste, and multilayer printed wiring board using the same
Kisiel Polymers for electrical connections in printed circuit boards
JP2001351437A (en) Manufacturing method of prepreg for electric insulation and prepreg

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120821

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121018

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20121217

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130604

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130617

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees