JP5309908B2 - 電気光学装置、および電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた電子機器に関する。

専用の眼鏡を使用せずに、裸眼で立体表示を含む指向性表示を可能とした電気光学装置が知られている。
これらの電気光学装置の代表的な構成としては、表示パネルとレンチキュラーレンズとを組合せた構成、または表示パネルと視差バリア（パララックスバリア）とを組合せた構成が知られていた。また、表示パネルとしては、液晶パネルや、有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネルなどが用いられていた。
例えば、特許文献１には、ＥＬパネルとレンチキュラーレンズとを備え、異なる２視点からの指向性表示を可能とした多重映像表示装置に関する記載がある。

図１３は、従来の表示パネルの断面図である。図１４は、従来の電気光学装置の断面図である。
表示パネル７０は、行列をなして配置された複数の画素を備えたアクティブマトリックス方式の有機ＥＬパネルであり、発光層を含むＥＬ層１５が放射する光を、基板１側から出射するボトムエミッション型に分類される。
表示パネル７０は、基板１、素子層５、画素電極１０、ＥＬ層１５、共通電極１９などから構成されている。ＥＬ層１５は、赤色の発光層を含むＥＬ層１５Ｒと、緑色の発光層を含むＥＬ層１５Ｇと、青色の発光層を含むＥＬ層１５Ｂとの３種類に区分けされる。また、表示パネル７０における１つの画素は、画素電極１０と重なる領域に配置された素子層５、ＥＬ層１５、および共通電極１９から構成されており、図１３では、紙面に向って左側から、点線で示された画素３０Ｒ、画素３０Ｇ、画素３０Ｂの３つの画素が、Ｘ軸（＋）方向にこの順番で配置されている。

例えば、画素３０Ｇから出射されるＧ光は、図１３に示すように、当該画素の下側から、基板１を介して矢印で示された方向（Ｚ軸（−）方向）に出射される。Ｇ光は、ＥＬ層１５Ｇから基板１側に放射される光と、共通電極１９側に放射された光のうち、金属などの反射性の材質から構成された共通電極１９によって反射された光とが混じった状態で、基板１側に出射されるが、その出射角度は、略前者の放射角度と一致した角度αにて出射されることになる。
これは、略平面に配置されたＥＬ層１５Ｇから等方的に放射されたＧ光が、略そのままの放射角度で基板１を介して出射されるからである。

特許第３３９８９９９号公報

しかしながら、前述した従来の表示パネル７０と、レンチキュラーレンズとを組合せた従来の電気光学装置では、指向性表示の各視点において明るい表示を得ることが困難であるという課題があった。換言すれば、明るい指向性表示を行うことが困難であるという課題があった。
図１４は、表示パネル７０と、レンチキュラーレンズ８０とから構成された４視点の指向性表示が可能な従来の電気光学装置９０の拡大断面図である。
レンチキュラーレンズ８０は、画素行方向（Ｘ軸方向）に配列された複数のＣＤＬ（シリンドリカルレンズ）８１から構成されている。１つのＣＤＬ８１には、電気光学装置９０の厚さ方向（Ｚ軸方向）において、Ｘ軸方向に連続する４つの画素３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ，３０Ｒが重なって配置されており、当該レンズの光学作用により４つの画素からの出射光を４視点の方向にそれぞれ差し向けていた。

ここで、例えば、画素３０Ｇから出射されるＧ光は、図１３で説明した通り、角度αで出射されるため、Ｇ光のうち、両サイドにおけるハッチングで示した広角部分の光は、隣のＣＤＬ８１に掛かってしまい、対応するシリンドリカルレンズが形成する指向性に寄与しない光となっていた。また、同様に、他の３つの画素においても、指向性表示に寄与しない光があった。
つまり、従来の電気光学装置９０では、指向性表示における光の利用効率が良くないという課題があった。
また、表示パネル７０と、視差バリアとから構成された電気光学装置においても、同様な課題があった。

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。

（適用例）
複数の画素からなる表示領域を備えた表示パネルと、表示領域に重ねて配置されたレンズ体とを備え、レンズ体には、複数のレンズが配置されるとともに、レンズごとに複数の画素が重ねて配置され、複数の画素の各々には、それぞれの画素が出射する所定の波長域を有する表示光を選択的に共振させるための光共振器構造が設けられていることを特徴とする電気光学装置。

この電気光学装置によれば、複数の画素の各々には、それぞれの画素が出射する所定の波長域を有する表示光を選択的に共振させるための光共振器構造が設けられているため、各画素からは、光共振器構造において共振する波長域の光が選択的に増強されて出射される。
換言すれば、表示領域からは共振によってスペクトル幅が狭められ、かつ、指向性が高められた表示光が出射されることになる。
ここで、各画素から出射される表示光は、指向性が高くなっているため、その出射角度は、図１４の光共振器構造を持たない画素３０Ｂにおける出射角度αよりも、狭い角度となり、ハッチングで示された隣の凸レンズに掛かってしまう光量を減らすことができる。
よって、凸レンズに重なる複数の画素のそれぞれに異なる画像を表示させて指向性表示を行う場合において、各視点における光の利用効率を高めることができる。
従って、明るい指向性表示を行うことができる電気光学装置を提供することができる。

また、表示パネルは、誘電体多層膜からなるハーフミラー層と、透明な画素電極と、有機ＥＬ層と、共通電極とを、この順番で備え、ハーフミラー層側から光を出射するボトムエミッション型の有機ＥＬパネルであり、画素は、画素電極に重なる領域に配置されたハーフミラー層から共通電極までの積層構造からなり、光共振器構造は、ハーフミラー層と、反射性を有する共通電極とによって構成され、光共振器構造における共振器長は、ハーフミラー層から共通電極までの距離によって規定されることが好ましい。
また、表示パネルは、共通電極と、有機ＥＬ層と、透明な画素電極と、誘電体多層膜からなるハーフミラー層とを、この順番で備え、共通電極側から光を出射するトップエミッション型の有機ＥＬパネルであり、画素は、画素電極に重なる領域に配置された共通電極からハーフミラー層までの積層構造からなり、光共振器構造は、ハーフミラー化された共通電極と、ハーフミラー層とによって構成され、光共振器構造における共振器長は、共通電極からハーフミラー層までの距離によって規定されることが好ましい。

また、複数の画素のうち、いずれかの画素には、ハーフミラー層から共通電極までの距離を調整するための透明な調整層が、画素内にさらに設けられていることが好ましい。
また、ハーフミラー層は、ＴｉＯ₂膜とＳｉＯ₂膜とが交互に積層された誘電体多層膜であることが好ましい。
また、画素の各々は、赤色、緑色、青色のうち、いずれか１色の画素に割り振られ、所定の波長域を有する表示光は、赤色光、緑色光、青色光のうち、いずれか１色の色光であり、共振器長は、赤色画素、緑色画素、青色画素の順に、長さが短くなるように設定されていることが好ましい。

また、複数の画素は、表示領域において行列をなして配置され、レンズ体は、複数のシリンドリカルレンズが配置されたレンチキュラーレンズであり、行列における画素列の延在方向に対してシリンドリカルレンズの延在方向が傾斜して配置され、シリンドリカルレンズの凸レンズ面と、画素行方向に隣り合う２つ以上の画素とが、重ねて配置されていることが好ましい。
また、凸レンズ面に重ねて配置された２つ以上の画素が出射する表示光の一部は、凸レンズ面の光学作用により、複数の画素の画素数と同じ視点数の指向性表示における各視点の表示光となり、レンズ体における複数のシリンドリカルレンズが配列された面の裏面には、プリズム面が設けられ、プリズム面は、複数の画素の各々に重なるように配置された複数の小プリズムから構成され、小プリズムの各々は、複数の画素が出射する表示光の各々を、それぞれ対応する視点の方向に屈折させるための屈折面を備えていることが好ましい。

複数の画素からなる表示領域を備えた表示パネルと、プリズム面を有するプリズム体と、表示領域に重なるように配置された視差バリアとを、この順番に備え、視差バリアには、複数の開口部が設けられるとともに、開口部ごとに複数の画素が対応して配置され、複数の画素の各々には、それぞれの画素が出射する所定の波長域を有する表示光を選択的に共振させるための光共振器構造が設けられてなり、プリズム面は、開口部ごとに対応して配置された複数の画素の各々が出射する表示光のそれぞれを開口部に差し向けるための複数の小プリズムからなることを特徴とする電気光学装置。

上記記載の表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。

（実施形態１）
「電気光学装置の概要と、指向性表示の原理」
図１は、本実施形態に係る電気光学装置の斜視図である。
まず、本発明の実施形態１に係る電気光学装置１００の概要と、指向性表示の原理について説明する。
電気光学装置１００は、表示パネル７５とレンチキュラーレンズ８０との組合せによって、４視点による指向性表示を可能な構成を備えている。

電気光学装置１００は、電気光学物質として有機ＥＬを用いた表示パネル７５と、レンチキュラーレンズ８０などから構成されている。
表示パネル７５は、基板１と対向基板２５との間に発光層を含む有機ＥＬ層を挟持し、基板１側から表示光を出射するボトムエミッション型の有機ＥＬパネルである。また、表示パネル７５は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に行列をなして配置された複数の画素からなる表示領域Ｖを備えている。
また、基板１には、対向基板２５からその一辺が張出した張出し領域が形成されており、当該領域には、駆動信号を入力するための複数の端子が形成されており、また、後述する駆動回路を内蔵したＩＣ（Integrated Circuit）などの周辺回路が実装されている。なお、表示パネル７５の詳細な構成については後述する。

レンズ体としてのレンチキュラーレンズ８０は、画素列の延在方向（Ｙ軸方向）に対して所定の角度をなして延在するＣＤＬ（シリンドリカルレンズ）８１が、複数本配列された透明なシート部材である。
換言すれば、複数のシリンドリカル凸レンズがストライプ状に配列された表面と、平面からなる背面とを備えたレンズ体である。レンチキュラーレンズ８０の材質としては、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系や、ポリカーボネイトなどの透明な樹脂が好適である。また、ガラスであっても良い。
また、図１では、構成を解り易くするために、表示パネル７５とレンチキュラーレンズ８０との間に空間を設けて描いているが、実際は、レンチキュラーレンズ８０の背面と、表示パネル７５の基板１の表面（表示面）とは接触している。
詳しくは後述するが、ここで、凸レンズとしての１つのＣＤＬ８１の凸レンズ面に対して、表示領域Ｖの画素行において隣り合う４つの画素が平面的に重なるように配置されている。つまり、電気光学装置１００は、このような表示パネル７５とレンチキュラーレンズ８０との組合せによって、４視点による指向性表示を実現している。

図２は、指向性表示の原理を説明するための電気光学装置の拡大断面図である。
図２は、図１におけるｐ−ｐ断面であり、電気光学装置１００を上方（Ｙ軸（＋）方向）から観察したときの電気光学装置１００の断面形状と、各画素から出射される表示光の進行方向が示されている。
図２の紙面に向って左から２番目のＣＤＬ８１を事例として説明する。当該ＣＤＬ８１の凸レンズ面には、厚さ方向（Ｚ軸方向）において表示パネル７５の４つの画素３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂ，３５Ｒが重なって配置されている。なお、画素行の延在方向における各画素の色調は、ＲＧＢの繰り返しによって配置されており、また、紙面に向って奥行き方向となる画素列の延在方向には、図２における各画素の色調がそのまま連続して配置されている。

また、ＣＤＬ８１の焦点は、４つの画素の中央近傍になるように、換言すれば、画素３５Ｇと画素３５Ｂとの間近傍になるようにレンズ設計されている。
このような構成によれば、前述したような位置にレイアウトされた４つの画素３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂ，３５Ｒから出射される表示光は、ＣＤＬ８１の光学作用により次のように観察されることになる。なお、表示光は、Ｒ光と、Ｇ光と、Ｂ光の３種類ある。
まず、一番左側（Ｘ軸（−）方向）に位置する画素３５Ｒから出射されたＲ光は、視点１から観察される。また、画素３５Ｒの右隣りの画素３５Ｇから出射されたＧ光は、視点２から観察される。また、画素３５Ｇの右隣りの画素３５Ｂから出射されたＢ光は、視点３から観察される。同様に、画素３５Ｂの右隣りの画素３５Ｒから出射されたＲ光は、視点４から観察される。
つまり、４つの画素３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂ，３５Ｒは、ＣＤＬ８１を介してＸ軸における正負方向を反転させた視点１〜４においてそれぞれ分離されて観察される。
また、図示は省略しているが、各画素は、Ｙ軸方向を長辺とした長方形をなしており、図２は、各画素を短辺方向から観察した一つの画素行の態様を示している。つまり、各画素は、Ｙ軸方向を長辺とし、Ｘ軸方向を短辺とした長方形をなしている。
ここで、図１において、ＣＤＬ８１の延在方向がＹ軸に対して所定の角度の傾斜をなしていることを説明したが、これは、当該傾斜によって、例えば、図２の画素行では視点１から赤色画素（画素３５Ｒ）が観察され、また、当該画素行の一段下（Ｙ軸（−）側）の画素行では、視点１から緑色画素が観察されるようにしているためである。
換言すれば、ＣＤＬ８１をＹ軸に対して傾斜をなして配置することによって、各視点において、ＲＧＢのカラー表示ができるようにしている。

また、図２において各画素内に附された１〜４の数字は、視点１〜４に対応しており、各視点から選択的に視認される画素を示している。
視点１に対応した画素３５Ｒ（１）には、視点１で観察される画像を規定した画像信号の画像データが供給される。視点２に対応した画素３５Ｇ（２）には、視点２で観察される画像を規定した画像信号の画像データが供給される。同様に、画素３５Ｂ（３），画素３５Ｒ（４）には、視点３，４で観察される画像を規定した画像信号の画像データがそれぞれ供給される。
ここで、各視点における４つの画像データは、それぞれが異なる画像を表す画像データであっても良い。または、例えば、多視点カメラによる山並などの立体的な景色を連続した３次元画像で撮像した多視点画像信号であっても良い。
この場合、例えば、観察者が電気光学装置１００の左側（視点１）から右側（視点４）に視点を徐々に移動することによって、立体的な山並の３次元画像を連続して鑑賞することができる。また、右側（視点４）から左側（視点１）に移動する場合も同様である。
このようにして、電気光学装置１００による４視点の指向性表示が行われる。

ここで、本実施形態に係る電気光学装置１００によれば、図１４で説明した従来の電気光学装置９０よりも明るい指向性表示を得ることができる。
これは、図２の各画素が出射する表示光の指向性が、従来の電気光学装置の各画素が出射する表示光の指向性よりも高いからである。
続いて、このような明るい指向性表示を実現するための具体的な構成について説明する。

「電気光学装置の詳細な構成」
図３は、画素回路、および駆動回路を示す回路図である。
ここでは、表示パネル７５の画素回路、および駆動回路の概要について説明する。
図１において表示領域Ｖにマトリックス状に配置された画素の各々には、図３の画素回路６が形成されている。
画素回路６は、画素を選択するためのスイッチングＴＦＴ（Thin Film Transistor）１と、ＥＬ層１５に電流を流すための駆動用ＴＦＴ２と、保持容量Ｃなどから構成されている。
スイッチングＴＦＴ１のゲート端子には、走査線駆動回路７からの走査線ＳＬが接続されており、ソース端子には、データ線駆動回路８からのデータ線ＤＬが接続されている。
スイッチングＴＦＴ１のドレイン端子には、駆動用ＴＦＴ２のゲート端子と、保持容量Ｃの一端が接続されている。

駆動用ＴＦＴ２のソース端子と、保持容量Ｃの他端とは、高電源電位が供給されているＶＤＤラインに接続されている。そして、駆動用ＴＦＴ２のドレイン端子は、画素電極１０に接続されている。
また、画素電極１０と、共通電極１９との間には、ＥＬ層１５が配置されている。また、共通電極１９は、アースラインに接続されている。
走査線駆動回路７、およびデータ線駆動回路８には、外部機器（図示せず）から画像信号に基づいたタイミング信号、および画像内容を規定したデータ信号が供給される。
詳しくは、４視点の画像を表す４つの画像信号を、１枚の表示パネル７５の解像度に合せて表示させるために合成された視差画像信号に基づく、タイミング信号、およびデータ信号が走査線駆動回路７、およびデータ線駆動回路８に供給される。

走査線駆動回路７は、シフトレジスタや出力バッファ（いずれも図示せず）を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号に基づき、複数の走査線ＳＬに順次走査信号を供給する。
データ線駆動回路８は、シフトレジスタやラッチ回路（いずれも図示せず）を含んで構成され、外部機器からのタイミング信号、およびデータ信号に基づき、複数のデータ線ＤＬにデータ信号を供給する。
走査信号によって選択されたスイッチングＴＦＴ１はオンし、データ信号が駆動用ＴＦＴ２に供給される。これにより、駆動用ＴＦＴ２がオンし、ＶＤＤラインからＥＬ層１５にデータ信号の電圧に応じた電流が流れ、発光層から表示光が放射される。
また、駆動用ＴＦＴ２がオンするのと並行して、保持容量Ｃにデータ信号が保持されるため、容量に応じた時間、発光が維持される。

図４は、本実施形態に係る表示パネルの断面図であり、図１３に対応している。
ここでは、表示パネル７５の具体的な構成について説明する。なお、図１３での説明と同一の構成部位については同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
表示パネル７５は、画素ごとに微小な光共振器構造を備えている点が従来の表示パネル７０と異なり、この構成によって、各画素が出射する表示光の指向性を高めている。

表示パネル７５は、発光層を含むＥＬ層１５が放射する光を、基板１側から出射するボトムエミッション型の有機ＥＬパネルである。
表示パネル７５は、基板１、ハーフミラー層３、素子層５、調整層９、画素電極１０、ＥＬ層１５、共通電極１９、接着層２３、対向基板２５などから構成されている。
基板１は、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）などの透明な材質から構成されている。
ハーフミラー層３は、屈折率の異なる２種類の透明薄膜が交互に積層されて構成された誘電体多層膜であり、基板１の上（Ｚ軸（＋）側）に積層されている。好適には、透明薄膜としてＴｉＯ₂膜と、ＳｉＯ₂膜とを用い、これらの薄膜を交互に積層した誘電体多層膜を用いる。換言すれば、ＴｉＯ₂膜とＳｉＯ₂膜とが周期的に交互に積層された誘電体多層膜である。なお、詳しくは後述するが、このハーフミラー層３と、反射層となる共通電極１９とによって微小な光共振器が構成される。

素子層５には、図３で説明した画素回路６や、走査線ＳＬおよびデータ線ＤＬを含む各種配線が形成されている。素子層５は、ハーフミラー層３の上に積層されている。
また、図４では、隔壁２７と重なる位置に駆動用ＴＦＴ２のみが示されているが、光の影響を受け易いスイッチングＴＦＴ１などの回路素子も、隔壁２７と重なる位置に配置されている。また、素子層５において、ＥＬ層１５と重なる領域は、例えば、ＳｉＯ₂などからなる層間絶縁膜によって透明に形成されている。
調整層９は、ＳｉＯ₂などの透明材料からなる透明薄膜層であり、光共振器の共振器長を調整するために設けられている。詳しくは、図４の事例の場合、調整層９は、画素３５Ｒと画素３５Ｇのみにおける素子層５の上に設けられており、画素３５Ｒの調整層９の方が、画素３５Ｇの調整層９よりも厚く形成されている。

画素電極１０は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や、ＺｎＯなどの透明電極から構成されており、画素ごとに素子層５の駆動用ＴＦＴ２のドレイン端子と接続されている。また、画素電極１０は、画素３５Ｂにおいては素子層５の上に設けられており、画素３５Ｒ，３５Ｇにおいては素子層５の上で、かつ、それぞれの調整層９を覆って形成されている。
隔壁２７は、光硬化性の黒色樹脂などから構成され、各画素を格子状に区画している。また、光学的には、ブラックマトリックスの機能を有している。
ＥＬ層１５は、正孔輸送層１６、発光層１７、電子注入層１８などから構成されており、画素電極１０上にこの順番に積層されている。
正孔輸送層１６は、芳香族ジアミン（ＴＰＡＢ２Ｍｅ−ＴＰＤ，α−ＮＰＤ）などの昇華性の材料から構成されている。
発光層１７は、ＲＧＢの画素ごとに組成は異なるが、Ａｌｑ₃（アルミキノリノール錯体）などの昇華性の材料から構成されている。
電子注入層１８は、ＬｉＦ（フッ化リチウム）などから構成されている。

共通電極１９は、Ｍｇ−Ａｇ合金（例えば重量比１０：１）などの導電性および反射性を兼ね備えた材料から構成された反射層、兼電極であり、ＥＬ層１５および隔壁２７を覆って形成されている。
接着層２３は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなる接着層であり、共通電極１９と対向基板２５との間の凹凸面に充填されるとともに、両者を接着する。また、外部から、ＥＬ層１５への水分の浸入を防ぐ機能も果たす。
対向基板２５は、ガラスや、樹脂フィルム、金属などから構成された基板である。対向基板２５は、光を透過する必要がないため、透明でなくても良く、金属を用いても良い。

「光共振器の構成」
このような構成を備えた表示パネル７５における１つの画素は、画素電極１０と重なる領域に配置されたハーフミラー層３から共通電極１９までの積層構造によって構成されている。
図４では、紙面に向って左側から、点線で示された画素３５Ｒ、画素３５Ｇ、画素３５Ｂの３つの画素が、Ｘ軸（＋）方向にこの順番で配置されている。

ここで、各画素には、ハーフミラー層３から反射層としての共通電極１９までの間を共振器長とした共振器構造がそれぞれ形成されている。
共振器長は、ハーフミラー層３から共通電極１９までの長さであり、画素の色調ごとに異なっている。詳しくは、図４の各画素内に矢印で示したように、ＢＧＲの順に共振器長が長くなっている。
これは、調整層９の有無、および厚さの設定によって共振器長を調整しているためであり、前述した通り、画素３５Ｂには調整層９が設けられておらず、また、画素３５Ｒの調整層９の方が、画素３５Ｇの調整層９よりも厚く形成されている。また、ＲＧＢの各画素における共振器長は、該当する色光の波長域の波長が共振する長さにそれぞれ設定されている。

各画素に設けられた光共振器構造によれば、ＥＬ層１５の発光層から放射された光が、ハーフミラー層３と共通電極１９との間で反射を繰り返すことにより、当該光共振器の共振器長において共振する波長域を持つ光が選択的に増強されて出射されることになる。換言すれば、各画素の発光層１７から放射された半値幅が広いスペクトルで、かつ指向性の乏しい光を、共振器長に応じた狭いスペクトルで、かつ指向性の高い光に変換する機能がある。
例えば、画素３５Ｇの場合、ＥＬ層１５Ｇから放射されたＧ光は、当該画素の光共振器構造によって、スペクトル幅が狭いＧ光に変換され、図４において白抜きの矢印で示すように、基板１面に対して垂直方向（Ｚ軸方向）の指向性が高い光として表示面から出射される。また、このときのＧ光の出射角度は、図１３で説明した従来の画素からの出射角度αよりも狭角の出射角度βで出射される。これは、Ｇ光の指向性が高まったことに伴い、出射角度も小さくなるからである。なお、他の色光についても同様である。

図５は、電気光学装置の拡大断面図であり、図１４に対応している。
図５には、前述した光共振器構造を有する画素を備えた表示パネル７５と、レンチキュラーレンズ８０とからなる電気光学装置１００を、上方（Ｙ軸（＋）方向）から観察したときの電気光学装置１００の断面形状と、画素から出射される表示光の進行方向が示されている。
ここで、例えば、光共振器構造を備えた画素３５Ｇから出射されるＧ光は、図４で説明した通り角度βで出射されるため、図５に示すように、対応する（重なって配置された）ＣＤＬ８１の凸レンズの集光範囲内に収まる割合が高くなり、視点３における指向性表示に寄与する光となる。
また、同様に、他の３つの画素においても、出射されるＲ光、Ｂ光が表示面に対して垂直方向（Ｚ軸方向）の指向性が高い光となっているため、対応するＣＤＬ８１の凸レンズの集光範囲内に収まる光量が増えることになる。

「主要部の製造方法」
表示パネル７５は、基本的にフォトリソグラフィ法や、スパッタ法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Depositi）法などの組合せによって製造することができるが、光共振器構造を中心とした主要部の製造方法について簡単に説明する。
まず、ハーフミラー層３は、スパッタ法によって形成することができる。詳しくは、ＴｉＯ₂膜とＳｉＯ₂膜とを交互に形成する。積層数は、例えば、各４層ずつで計８層とする。また、各層の膜厚や、積層数も共振器長に影響を与えるため、共振器構造の設計においては、これらの要素も考慮して最適化を図る必要がある。
調整層９は、プラズマＣＶＤ法などの蒸着法によるＳｉＯ₂膜の成膜と、フォトリソグラフィ法によるエッチングとを複数回繰り返すことにより、厚さの異なるＳｉＯ₂膜を選択的に形成する。

本実施形態においてはＥＬ層１５に低分子材料を用いたものとして説明しているが、高分子材料を用いた構成であっても良い。
低分子材料を用いる場合には、ＲＧＢの色画素ごとに、真空蒸着法による３色塗り分けでそれぞれのＥＬ層１５を形成する。
また、高分子材料を用いる場合には、ＲＧＢの色画素ごとに、インクジェット法による３色塗り分けでそれぞれのＥＬ層１５を形成する。

上述した通り、本実施形態に係る電気光学装置１００によれば、以下の効果を得ることができる。
表示パネル７５の画素の各々には、それぞれの画素が出射する所定の波長域を有する表示光を選択的に共振させるための光共振器構造が設けられているため、各画素からは、光共振器構造において共振する波長域の光が選択的に増幅されて出射される。換言すれば、表示領域からは共振によってスペクトル範囲が狭められ、かつ、指向性が高められた表示光が出射されることになる。
よって、図１４に示すように、表示光が出射角度αで出射されていたため、表示光の一部がハッチングで示された隣のＣＤＬ８１の凸レンズ面に掛かってしまっていた従来の電気光学装置よりも、図５に示すように、狭い出射角度βで表示光を出射することができる。これにより、例えば、画素３５Ｇの場合、出射するＧ光の大半を対応するＣＤＬ８１の凸レンズ面に収まる光とすることが可能となり、指向性表示に寄与する光量を増やすことができる。
よって、各視点における光の利用効率を高めたことにより、明るい指向性表示を行うことができる電気光学装置１００を提供することができる。

各画素の光共振器構造における共振器長は、調整層９の有無、および当該層の厚さの設定によって、ＲＧＢの各色画素ごとに調整されている。詳しくは、該当する色光の波長域の波長が共振する長さにそれぞれ設定されており、ＢＧＲの順に共振器長が長くなっている。
よって、調整層９の有無、および当該層の厚さの設定によって、最適な共振器長を持つ光共振器構造を実現することができる。さらに、この共振器構造によって、色純度の高いＲＧＢの各色光が得られるため、鮮やかな指向性表示を実現することができる。
従って、鮮やかで明るい指向性表示を行うことができる電気光学装置１００を提供することができる。

光共振器構造を構成するためのハーフミラー層３は、スパッタ法によって形成することが可能であるため、有機ＥＬパネルを製造するための既存の製造装置を転用することが可能であり、特別な製造装置を必要としないため、新たな設備投資を低減することができる。

（実施形態２）
図６は、実施形態２に係る電気光学装置の部分斜視図である。図７は、電気光学装置の拡大断面図である。
以下、本発明の実施形態２に係る電気光学装置について説明する。
本実施形態における電気光学装置１１０は、複数のＣＤＬ８１に加えてプリズム面８２を備えたレンチキュラーレンズ８５と、トップエミッション型の表示パネル７６とを備えていることが、実施形態１の電気光学装置１００とは異なる。
ここでは、実施形態１における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。

本実施形態の電気光学装置１１０は、レンチキュラーレンズ８５にプリズム面８２を追加するとともに、表示パネル７６をトップエミッション型とすることにより、指向性表示における光の利用効率をさらに高めている。
電気光学装置１１０は、表示パネル７６、レンチキュラーレンズ８５などから構成されている。
表示パネル７６は、対向基板２５側から表示光を出射するトップエミッション型の有機ＥＬパネルである。このため、表示パネル７６の表示面は、対向基板２５の外側（Ｚ軸（−）方向）となり、当該面がレンチキュラーレンズ８５と向い合って配置されている。なお、表示パネル７６の詳細な構成は後述する。

レンチキュラーレンズ８５は、複数のＣＤＬ８１が形成された表面と、プリズム面８２が形成された背面とを備えたシート状のレンズ体である。
表面に形成された複数のＣＤＬ８１は、図１で説明した複数のＣＤＬ８１と同様の構成であり、１つのＣＤＬ８１の凸レンズ面に対して、画素行方向に隣り合う４つの画素が重なるように配置されており、４視点による指向性表示に対応している。
プリズム面８２は、１つのＣＤＬ８１の凸レンズ面に対して形成された４つの小プリズムが１つのセットとして構成されており、当該セットが凸レンズ面の延在方向に沿って配置されている。換言すれば、プリズム面８２は、Ｙ軸に対して所定の角度をなして延在するＣＤＬ８１の背面において、同じ傾斜角度で延在している。

「プリズムの構成」
図７は、電気光学装置１１０を上方から観察したときの部分断面図であり、図２に対応している。
図７に示すように、レンチキュラーレンズ８５のプリズム面８２は、１つのＣＤＬ８１の凸レンズ面に対応した４つの小プリズムａ，ｂ，ｃ，ｄを１つのセットとして、当該セットが繰り返して形成されたプリズム面となっている。
なお、プリズム面８２と表示パネル７６との間は、空気層となっている。または、レンチキュラーレンズ８５の材質より低い屈折率を有する樹脂などによって、プリズム面８２と表示パネル７６との間を充填および接着する構成であっても良い。
小プリズムａ，ｂ，ｃ，ｄは、視点１，２，３，４に対応した画素と重なるように配置されている。
例えば、図７の紙面に向って左から２番目のＣＤＬ８１を事例として説明する。小プリズムａは画素３６Ｒ（１）と重なるように配置され、小プリズムｂは画素３６Ｇ（２）と重なるように配置され、小プリズムｃは画素３６Ｂ（３）と重なるように配置され、小プリズムｄは画素３６Ｒ（４）と重なるように配置されている。

ここで、各小プリズムａ，ｂ，ｃ，ｄは、対応する視点の画素からの表示光をそれぞれ視点１〜４に差し向けるための屈折面を備えている。
詳しくは、小プリズムａは、図７の矢印で示すように、画素３６Ｒ（１）から出射される表示面に対して略垂直なＲ光を視点１の方向に屈折させるための屈折面を備えている。
同様に、小プリズムｂは、画素３６Ｇ（２）から出射されるＧ光を視点２の方向に屈折させるための屈折面を備えており、小プリズムｃは、画素３６Ｂ（３）から出射されるＢ光を視点３の方向に屈折させるための屈折面を備え、小プリズムｄは、画素３６Ｒ（４）から出射されるＲ光を視点４の方向に屈折させるための屈折面を備えている。
図７の矢印で示すように、画素３６Ｒ（１）から表示面に対して略垂直方向に出射されたＲ光の大半は、小プリズムａの屈折面により屈折されて視点１の方向に進行する。
同様に、画素３６Ｇ（２）から出射されたＧ光の大半は、小プリズムｂの屈折面により屈折されて視点２の方向に進行し、画素３６Ｂ（３）から出射されたＢ光の大半は、小プリズムｃの屈折面により屈折されて視点３の方向に進行し、画素３６Ｒ（４）から出射されたＲ光の大半は、小プリズムｄの屈折面により屈折されて視点４の方向に進行する。

「表示パネルの構成」
図８は、本実施形態に係る表示パネルの断面図であり、図４に対応している。
ここでは、表示パネル７６の具体的な構成について説明する。なお、図４での説明と同一の構成部位については同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
表示パネル７６も、図４の表示パネル７５と同様に、各画素に微小な光共振器構造を備えているが、その構造をトップエミッション型に適応している点が、表示パネル７５と異なる。
なお、表示パネル７６はトップエミッション型の構成であるため、図８における各層の積層方向（Ｚ軸方向）が、図４のボトムエミッション型の表示パネル７５とは基本的に反転している。

表示パネル７６は、基板１、反射層２８、ハーフミラー層３、素子層５、調整層９、画素電極１０、ＥＬ層１５、共通電極２９、封止層２６、接着層２３、封止フィルム４５などから構成されている。
基板１は、ガラスや、樹脂、金属などから構成されている。トップエミッション型の場合、基板１は光を透過する必要がないため、金属を用いても良い。
反射層２８は、ＡｌやＡｇ、またはそれらの合金などから構成された全反射膜である。
共通電極２９は、ＭｇＡｇなどの金属を、光が透過できる程度にごく薄く成膜した金属薄膜層から構成されており、ハーフミラーとしての光学作用を有している。
封止層２６は、ＳｉＯ₂や、Ｓｉ₃Ｎ₄などの透明で、かつ、水分を遮断する機能を有する封止層であり、ＥＬ層１５に水分が浸入することを防止するガスバリア層である。
封止フィルム４５は、透明性と防水性とを兼ね備えた樹脂フィルムであり、封止層２６単独での封止性能が不十分な場合に必要となる。封止フィルム４５の材質としては、ＰＥＴ（Polyethylene Terephthalate）フィルムや、フッ素系の防湿フィルムなどを用いることができる。また、樹脂フィルムの代わりに薄いガラス板を用いることもできる。
また、その他の構成部位の材質などについては、図４での説明と同様である。

「光共振器の構成」
このような構成を備えた表示パネル７６における１つの画素は、画素電極１０と重なる領域に配置された反射層２８から共通電極２９までの積層構造によって構成されている。
図８では、紙面に向って左側から、点線で示された画素３６Ｒ、画素３６Ｇ、画素３６Ｂの３つの画素が、Ｘ軸（＋）方向にこの順番で配置されている。

ここで、各画素には、ハーフミラー層３から共通電極２９までの間を共振器長とした共振器構造がそれぞれ形成されている。
共振器長は、ハーフミラー層３から共通電極２９までの長さであり、画素の色調ごとに異なっている。詳しくは、図８の各画素内に矢印で示したように、ＢＧＲの順に共振器長が長くなっている。
これは、調整層９の有無、および厚さの設定によって共振器長を調整しているためであり、画素３６Ｂには調整層９が設けられておらず、また、画素３６Ｒの調整層９の方が、画素３６Ｇの調整層９よりも厚く形成されている。また、ＲＧＢの各画素における共振器長は、該当する色光の波長域の波長が共振する長さにそれぞれ設定されている。

各画素に設けられた光共振器構造によれば、ＥＬ層１５の発光層から放射された光が、ハーフミラー層３と共通電極２９との間で反射を繰り返すことにより、当該光共振器の共振器長において共振する波長域を持つ光が選択的に増強されて出射されることになる。換言すれば、各画素のＥＬ層１５から放射された広範囲のスペクトルで、かつ指向性の乏しい光を、共振器長に応じた狭いスペクトルで、かつ指向性の高い光に変換する機能がある。
図４での説明と同様に、この共振器構造によって、各画素から出射される光は、スペクトル幅の狭い光に変換され、基板１面に対して垂直方向（Ｚ軸方向）の指向性が高い光として表示面から出射される。例えば、Ｇ光の出射角度は、図１３で説明した従来の画素からの出射角度αよりも狭角の出射角度βで出射される。なお、他の色光についても同様である。

また、トップエミッション型であるため、各画素のＥＬ層１５から表示面までの距離を、図４のボトムエミッション型におけるＥＬ層１５から表示面までの距離よりも短くすることができる。詳しくは、図４の表示パネル７５では、例えば、画素３６Ｇの場合、ＥＬ層１５から表示面までの間に、厚みが０．５ｍｍ程度の基板１が介在していたが、図８の表示パネル７６では封止フィルム４５の厚みを０．０５ｍｍから０．１ｍｍ程度とすることができるので、ＥＬ層１５から表示面までの距離を短く（厚さを薄く）することができる。
なお、封止層２６だけで十分な封止性能が確保できれば封止フィルムを省くことができるので、さらにＥＬ層１５から表示面までの距離を短くすることができる。

図９は、電気光学装置の拡大断面図であり、図５に対応している。
図９には、前述した光共振器構造を有する画素を備えた表示パネル７６と、プリズム面８２を備えたレンチキュラーレンズ８５とからなる電気光学装置１１０を、上方（Ｙ軸（＋）方向）から観察したときの電気光学装置１１０の断面形状と、画素から出射される表示光の進行方向が示されている。
ここで、例えば、光共振器構造を備えた画素３６Ｒ（４）から出射されるＲ光は、図８で説明した通り表示面に対して略垂直方向に角度βで出射された後、その大半が小プリズムｄの屈折面により屈折されて視点４方向に進む光となる。
このため、図９に示すように、Ｒ光の大半が、対応する（重なって配置された）ＣＤＬ８１の凸レンズの集光範囲内に収まることになり、視点４における指向性表示に寄与する光となる。
また、同様に、他の３つの画素においても、出射される表示光が対応する視点に向う指向性の高い光となっているため、対応するＣＤＬ８１の凸レンズの集光範囲内に収まる光量が増えることになる。

上述した通り、本実施形態に係る電気光学装置１１０によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
電気光学装置１１０によれば、図９に示すように、表示面から略垂直方向に出射された表示光の進行方向を、プリズム面８２の小プリズムａ〜ｄにより対応する視点に向う光とすることができるため、図５の電気光学装置１００と比べて、より光の利用効率を高めることができる。
よって、各視点における光の利用効率が高く、より明るい指向性表示を行うことができる電気光学装置１１０を提供することができる。

図８の表示パネル７６は、トップエミッション型であるため、各画素のＥＬ層１５から表示面までの距離を、図４のボトムエミッション型におけるＥＬ層１５から表示面までの距離よりも短くすることができる。
よって、ＥＬ層１５からプリズム面８２までの距離が短くなるため、角度βで出射された表示光が拡大し過ぎないうちに、その進行方向を対応する小プリズムによって各視点の方向に差し向けることができる。
従って、図５の電気光学装置１００と比べて、より光の利用効率が高い電気光学装置１１０を提供することができる。

（実施形態３）
図１０は、指向性表示の原理を説明するための電気光学装置の拡大断面図である。
図１０は、従来の電気光学装置９１を上方（Ｙ軸（＋）方向）から観察したときの電気光学装置９１の断面形状と、各画素から出射される表示光の進行方向とを示した図であり、図２に対応している。
ここでは、図１０を用いて、視差バリア８７を備えた従来の電気光学装置９１における指向性表示の原理について説明する。
なお、背景技術、および前記各実施形態における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。

「指向性表示の原理」
電気光学装置９１は、表示パネル７０と、視差バリア８７とから構成されており、表示パネル７０の前面に視差バリア８７が配置されている。
視差バリア８７は、ハッチングで示された遮光部に、光を透過する複数の開口部ｈが形成されたパララックスバリアである。視差バリア８７としては、例えば、金属薄板や、黒色の樹脂フィルムに複数の開口部ｈをプレス加工などにより形成したシート状の部材を用いることができる。
電気光学装置９１では、４視点による指向性表示を実現するために、画素行方向（Ｘ軸方向）に連続する４つの画素ごとに、１つの開口部ｈが形成されている。図１０では、画素３０Ｇと画素３０Ｂとの間に重なるように、開口部ｈが形成されている。

このような構成によれば、４つの画素３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ，３０Ｒから出射される表示光は、視差バリア８７の開口部ｈを介して次のように観察されることになる。
まず、一番左側（Ｘ軸（−）方向）に位置する画素３０Ｒから出射された光は、視点１から観察される。これは、視点１から電気光学装置９１を観察したときに、開口部ｈを介した視線の延長線上に画素３０Ｒが位置するとともに、遮光部によって他の画素が見えない（見え難い）ように、開口部ｈの大きさおよび配置が設計されているからである。
同様に、画素３０Ｒの右隣りの画素３０Ｇから出射された光は、視点２から観察される。また、画素３０Ｇの右隣りの画素３０Ｂから出射された光は、視点３から観察される。同様に、画素３０Ｂの右隣りの画素３０Ｒから出射された光は、視点４から観察される。
つまり、視差バリア８７を備えた電気光学装置９１によっても、図２の電気光学装置１００と同様に、視点１〜４の４視点による指向性表示を行うことができる。

ここで、例えば、白抜きの矢印で示された画素３０Ｒから出射されるＲ光は、図１３で説明した通り、表示面に対して略垂直な方向に出射されるが、その出射角度は角度αであるため、その殆どは、遮光層に向う光となっていた。換言すれば、視点１における指向性表示に寄与する光は、角度αで出射されたＲ光のうちの極一部であった。
また、画素の位置によって程度の差はあるものの、他の画素においても、指向性表示に寄与する光の割合は、各画素から出射される表示光の一部であった。

「電気光学装置の構成」
図１１は、本実施形態の電気光学装置の拡大断面図であり、図１０に対応している。
本実施形態における電気光学装置１２０は、実施形態２の表示パネル７６と、プリズム面８２を備えたプリズムシート８３とを備えていることが、図１０の電気光学装置９１とは異なる。
電気光学装置１２０は、表示パネル７６と、プリズムシート８３と、視差バリア８７とが、この順番で積層して構成されている。
プリズム体としてのプリズムシート８３は、図６のレンチキュラーレンズ８５におけるＣＤＬ８１を削除し、当該面を平面とした構造を持つシート部材である。換言すれば、図７で説明したプリズム面８２を備えたシート状のプリズム体である。
また、プリズムシート８３以外の構成部位は、図７，８，１０での説明と同様である。

図１１に示すように、プリズムシート８３のプリズム面８２は、１つの開口部ｈに対応した４つの小プリズムａ，ｂ，ｃ，ｄを１つのセットとして、当該セットが繰り返して形成されたプリズム面となっている。
小プリズムａ，ｂ，ｃ，ｄは、視点１，２，３，４に対応した画素と重なるように配置されている。
ここで、各小プリズムａ，ｂ，ｃ，ｄは、対応する視点の画素からの表示光をそれぞれ視点１〜４に差し向けるための屈折面を備えている。
詳しくは、小プリズムａは、図１１の白抜きの矢印で示すように、画素３５Ｒ（１）から出射される表示面に対して略垂直なＲ光を開口部ｈの方向（視点１の方向）に屈折させるための屈折面を備えている。
同様に、小プリズムｂは、画素３５Ｇ（２）から出射されるＧ光を開口部ｈの方向（視点２の方向）に屈折させるための屈折面を備えており、小プリズムｃは、画素３５Ｂ（３）から出射されるＢ光を開口部ｈの方向（視点３の方向）に屈折させるための屈折面を備え、小プリズムｄは、画素３５Ｒ（４）から出射されるＲ光を開口部ｈの方向（視点４の方向）に屈折させるための屈折面を備えている。

ここで、例えば、白抜きの矢印で示された画素３５Ｒから出射されるＲ光は、図８で説明した通り、表示面に対して略垂直な方向に角度βをなして出射された後、その大半が、小プリズムａの屈折面によって屈折されて開口部ｈの方向（視点１の方向）に向う光となる。また、同様に、他の画素から出射される表示光も、その大半が開口部ｈの方向に向う光となる。
また、ここまで、表示パネル７６を備えた構成について説明したが、表示パネル７６の代わりに、実施形態１で説明した表示パネル７５を用いる構成であっても良い。なお、この場合、画素とプリズム面８２とを近づけるために、表示パネル７５の基板１を薄く研磨することが好ましい。

上述した通り、本実施形態に係る電気光学装置１２０によれば、以下の効果を得ることができる。
電気光学装置１２０によれば、各画素の光共振器構造により表示面に対して垂直方向への表示光の指向性を高めるとともに、プリズムシート８３を備えたことにより、各画素から出射された表示光の大半をプリズム面８２の屈折作用により、それぞれ開口部ｈに向う光とすることができる。
よって、視差バリア８７を備えた構成においても、指向性表示に寄与する光量を増やすことができるため、明るい指向性表示を実現することができる。
従って、各視点における光の利用効率を高めたことにより、明るい指向性表示を行うことができる電気光学装置１２０を提供することができる。
（電子機器）
図１２は、上記電気光学装置を搭載したマルチメディアプレーヤを示す図である。
電気光学装置１００は、例えば、電子機器としての携帯型のＭＭＰ（マルチメディアプレーヤ）５００に搭載して用いることができる。
ＭＭＰ５００は、内蔵のハードディスクドライブや、メモリデバイスなどに記憶されている音楽や、動画、写真などを再生可能に設けられている。
ＭＭＰ５００は、表示部として電気光学装置１００を備えており、複数の操作ボタン５１０を操作することにより、記憶している視差画像データによる指向性表示を行うことができる。
例えば、視差画像データが、多視点カメラによる山並などの立体的な景色を連続した３次元画像で撮像した多視点画像信号であった場合には、観察者が電気光学装置１００の左側（視点１）から右側（視点４）に視点を徐々に移動することによって、立体的な山並の３次元画像を連続して鑑賞することができる。
特に、表示部として電気光学装置１００を備えたことにより、光の利用効率が高く、明るい指向性表示が可能なＭＭＰ５００を提供することができる。
なお、電気光学装置１００を、電気光学装置１１０，１２０に置き換えた構成であっても良く、これらの構成であっても、電気光学装置１００の場合と同様な作用効果を得ることができる。

また、電子機器としてはＭＭＰに限定するものではなく、表示パネルを備えた電子機器であれば良い。
例えば、携帯電話、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器であっても、ＭＭＰ５００と同様な作用効果を得ることができる。

なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。

（変形例１）
図１５は、変形例１に係る表示パネルの断面図であり、図４に対応している。
図４の表示パネル７５では、ＥＬ層１５を３色塗り分け法により形成し、ＲＧＢの各色光を発光する画素構成を採用していたが、共振器構造を備える場合には、ＥＬ層が白色光を発光する構成であっても良い。
なお、実施形態１における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。
表示パネル７５Ｗは、白色を発光する発光層を含むＥＬ層１５Ｗを備えている。ＥＬ層１５Ｗは、隔壁２７を跨いでＲＧＢの各画素に共通に設けられている。換言すれば、ＲＧＢの各画素の画素電極１０と、画素電極１０を区分けしている隔壁２７とを覆って一面にＥＬ層１５Ｗが形成されている。
また、ＥＬ層１５Ｗが画素電極１０および隔壁２７の上層に積層される構成となるため、段差を減らすために、隔壁２７の高さは、図４の隔壁よりも低く設定されている。
そして、ＥＬ層１５Ｗの上層には、共通電極１９が一面に積層されている。これらの構成以外は、図４の表示パネル７５と同様である。

表示パネル７５Ｗにおける１つの画素は、図４の表示パネル７５と同様に、画素電極１０と重なる領域に配置されたハーフミラー層３から共通電極１９までの積層構造によって構成されている。
また、各画素における共振器長を含む共振器構造も表示パネル７５と同様である。
詳しくは、図１５の矢印で示されるように、共振器長が画素３７Ｒ，画素３７Ｇ，画素３７Ｂの順に短くなるように設定されている。換言すれば、画素３７Ｒの共振器長はＲ光の波長域と共振する長さに設定され、画素３７Ｇの共振器長はＧ光の波長域と共振する長さに設定され、画素３７Ｂの共振器長はＢ光の波長域と共振する長さに設定されている。
この構成によれば、例えば、画素３７ＧのＥＬ層１５Ｗから放射された白色光は、ハーフミラー層３と共通電極１９との間で反射を繰り返すことにより、当該光共振器の共振器長において共振する波長域の光となって出射される。つまり、Ｇ光が選択的に増強されて画素３７Ｇから出射角度β_Gで出射されることになる。
同様に、画素３７ＲからはＲ光が出射角度β_Rで出射され、画素３７ＢからはＢ光が出射角度β_Bで出射されることになる。なお、出射角度β_G，β_R，β_Bは、近似した角度であるが、色光ごとでの共振効果が若干異なるため、それぞれ固有の出射角度となる。

上述した通り、本変形例に係る表示パネル７５Ｗによれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
表示パネル７５Ｗによれば、ＥＬ層１５Ｗの形成は白色１層のみで良いため、３色塗り分けのための工程が必要であった図４の表示パネル７５よりも、製造工程を短縮することが可能となり、製造コストの低減を図ることができる。
また、画素ごとに、ハーフミラー層３と基板１との間に、対応する色のカラーフィルタをさらに設けて、色純度を向上させる構成としても良い。

（変形例２）
図１６は、変形例２に係る表示パネルの断面図であり、図８に対応している。
図８の表示パネル７６では、ＥＬ層１５を３色塗り分け法により形成し、ＲＧＢの各色光を発光する画素構成を採用していたが、共振器構造を備える場合には、ＥＬ層が白色光を発光する構成であっても良い。
なお、実施形態２における説明と重複する部分は省略し、相違点を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。
表示パネル７６Ｗは、白色を発光する発光層を含むＥＬ層１５Ｗを備えている。ＥＬ層１５Ｗは、隔壁２７を跨いでＲＧＢの各画素に共通に設けられている。換言すれば、ＲＧＢの各画素の画素電極１０と、画素電極１０を区分けしている隔壁２７とを覆って一面にＥＬ層１５Ｗが形成されている。
また、ＥＬ層１５Ｗが画素電極１０および隔壁２７の上層に積層される構成となるため、段差を減らすために、隔壁２７の高さは、図８の隔壁よりも低く設定されている。
そして、ＥＬ層１５Ｗの上層には、共通電極２９が一面に積層されている。これらの構成以外は、図８の表示パネル７６と同様である。

表示パネル７６Ｗにおける１つの画素は、図８の表示パネル７６と同様に、画素電極１０と重なる領域に配置されたハーフミラー層３から共通電極２９までの積層構造によって構成されている。
また、各画素における共振器長を含む共振器構造も表示パネル７６と同様である。
詳しくは、図１６の矢印で示されるように、共振器長が画素３８Ｒ，画素３８Ｇ，画素３８Ｂの順に短くなるように設定されている。換言すれば、画素３８Ｒの共振器長はＲ光の波長域と共振する長さに設定され、画素３８Ｇの共振器長はＧ光の波長域と共振する長さに設定され、画素３８Ｂの共振器長はＢ光の波長域と共振する長さに設定されている。
この構成によれば、例えば、画素３８ＧのＥＬ層１５Ｗから放射された白色光は、ハーフミラー層３と共通電極２９との間で反射を繰り返すことにより、当該光共振器の共振器長において共振する波長域の光となって出射される。つまり、Ｇ光が選択的に増強されて画素３８Ｇから出射角度β_Gで出射されることになる。
同様に、画素３８ＲからはＲ光が出射角度β_Rで出射され、画素３８ＢからはＢ光が出射角度β_Bで出射されることになる。なお、出射角度β_G，β_R，β_Bは、近似した角度であるが、色光ごとでの共振効果が若干異なるため、それぞれ固有の出射角度となる。

上述した通り、本変形例に係る表示パネル７６Ｗによれば、実施形態２の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
表示パネル７６Ｗによれば、ＥＬ層１５Ｗの形成は白色１層のみで良いため、３色塗り分けのための工程が必要であった図８の表示パネル７６よりも、製造工程を短縮することが可能となり、製造コストの低減を図ることができる。
また、画素ごとに、接着層２３と封止フィルム４５との間に、対応する色のカラーフィルタをさらに設けて、色純度を向上させる構成としても良い。

（変形例３）
図７、および図１１を用いて説明する。
図７の電気光学装置１１０において、表示パネル７６は、有機ＥＬパネルであるものとして説明したが、液晶パネルであっても良い。
この場合、表示パネルは、透過型の液晶パネルと、液晶パネルの背面に配置されたバックライトとから構成される。なお、画素とプリズム面８２とを近づけるために、液晶パネルにおけるプリズム面８２側のガラス基板を薄く研磨することが必要になる。また、画素を透過した光は指向性が強いことが必要となるため、正面方向に指向性が強いバックライトを用いることが望ましい。
この構成であっても、液晶パネルから出射された表示光の大半は、レンチキュラーレンズ８５のプリズム面８２の屈折作用によって対応する視点に向う光となるため、指向性表示における光の利用効率が高められ、明るい指向性表示を行うことができる。
同様に、図１１の電気光学装置１２０においても、表示パネル７５は、有機ＥＬパネルであるものとして説明したが、バックライトを備えた液晶パネルであっても良い。
この構成であっても、液晶パネルから出射された表示光の大半は、プリズムシート８３のプリズム面８２の屈折作用によって対応する視点に向う光となるため、指向性表示における光の利用効率が高められ、明るい指向性表示を行うことができる。

実施形態１に係る電気光学装置の斜視図。 指向性表示の原理を説明するための電気光学装置の拡大断面図。 画素回路、および駆動回路を示す回路図。 表示パネルの断面図。 電気光学装置の拡大断面図。 実施形態２に係る電気光学装置の部分斜視図。 電気光学装置の拡大断面図。 表示パネルの断面図。 電気光学装置の拡大断面図。 指向性表示の原理を説明するための電気光学装置の拡大断面図。 実施形態３に係る電気光学装置の拡大断面図。 電気光学装置を搭載したマルチメディアプレーヤを示す図。 従来の表示パネルの断面図。 従来の電気光学装置の断面図。 変形例１に係る表示パネルの断面図。 変形例２に係る表示パネルの断面図。

符号の説明

１…基板、３…ハーフミラー層、５…素子層、９…調整層、１０…画素電極、１５，１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ，１５Ｗ…有機ＥＬ層としてのＥＬ層、１９，２９…共通電極、２５…対向基板、３５Ｒ，３５Ｇ，３５Ｂ…画素、７５，７５Ｗ，７６，７６Ｗ…表示パネル、８０，８５…レンズ体としてのレンチキュラーレンズ、８１…レンズとしてのＣＤＬ（シリンドリカルレンズ）、８２…プリズム面、８３…プリズム体としてのプリズムシート、８７…視差バリア、１００，１１０，１２０…電気光学装置、５００…電子機器としてのＭＭＰ（マルチメディアプレーヤ）、ａ〜ｄ…小プリズム、ｈ…開口部、Ｖ…表示領域。

Claims (7)

1. 複数の画素からなる表示領域を備えた表示パネルと、
   前記表示領域に重ねて配置され、複数のシリンドリカルレンズが配置されたレンチキュラーレンズを有する面とプリズム面が設けられた面とを有するレンズ体と、
   を備え、
   複数の前記画素は、前記表示領域において行列をなして配置され、
   複数の前記画素の各々には、それぞれの画素が出射する所定の波長域を有する表示光を選択的に共振させるための光共振器構造が設けられており、
   前記行列における画素列の延在方向に対して前記シリンドリカルレンズの延在方向が傾斜して配置され、
   前記シリンドリカルレンズの凸レンズ面と、前記複数の画素のうち前記画素行方向に隣り合う２つ以上の画素とが、重ねて配置されており、
   前記プリズム面は、前記複数の画素の各々に重なるように配置された複数の小プリズムから構成され、
   前記小プリズムの各々は、前記複数の画素が出射する表示光の各々を、それぞれ対応する前記視点の方向に屈折させるための屈折面を備えており、
   前記凸レンズ面に重ねて配置された前記２つ以上の画素が出射する表示光の一部は、前記複数の小プリズムにより屈折された後、前記凸レンズ面の光学作用により、前記２つ以上の画素の画素数と同じ視点数の指向性表示における各視点の表示光となることを特徴とする電気光学装置。
2. 前記表示パネルは、誘電体多層膜からなるハーフミラー層と、透明な画素電極と、有機ＥＬ層と、共通電極とを、この順番で備え、前記ハーフミラー層側から光を出射するボトムエミッション型の有機ＥＬパネルであり、
   前記画素は、前記画素電極に重なる領域に配置された前記ハーフミラー層から前記共通電極までの積層構造からなり、
   前記光共振器構造は、前記ハーフミラー層と、反射性を有する前記共通電極とによって構成され、
   前記光共振器構造における共振器長は、前記ハーフミラー層から前記共通電極までの距離によって規定されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記表示パネルは、共通電極と、有機ＥＬ層と、透明な画素電極と、誘電体多層膜からなるハーフミラー層とを、この順番で備え、前記共通電極側から光を出射するトップエミッション型の有機ＥＬパネルであり、
   前記画素は、前記画素電極に重なる領域に配置された前記共通電極から前記ハーフミラー層までの積層構造からなり、
   前記光共振器構造は、ハーフミラー化された前記共通電極と、前記ハーフミラー層とによって構成され、
   前記光共振器構造における共振器長は、前記共通電極から前記ハーフミラー層までの距離によって規定されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
4. 複数の前記画素のうち、いずれかの画素には、前記ハーフミラー層から前記共通電極までの距離を調整するための透明な調整層が、前記画素内にさらに設けられていることを特徴とする請求項２または３に記載の電気光学装置。
5. 前記ハーフミラー層は、ＴｉＯ2膜とＳｉＯ2膜とが交互に積層された誘電体多層膜であることを特徴とする請求項２〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記画素の各々は、赤色、緑色、青色のうち、いずれか１色の画素に割り振られ、
   前記所定の波長域を有する表示光は、赤色光、緑色光、青色光のうち、いずれか１色の色光であり、
   前記共振器長は、赤色画素、緑色画素、青色画素の順に、長さが短くなるように設定されていることを特徴とする請求項２〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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