JP5300543B2 - 光学系及びレーザ加工装置 - Google Patents
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Description
上記光学系を備えたレーザ加工装置を構成し、前記光学系で生成された楕円パルスレーザを被加工物に照射してアブレーション加工することを特徴とする。
図1は、本発明の一実施の形態に係る光学系の構成図である。発振部11は、レーザ光源であり、レーザ波長が100〜1500nmの短パルスレーザを発振することができる。発振部11が発振する短パルスレーザは断面円形をなす短パルスレーザ光として出射される。発振部11から出射する短パルスレーザの伝搬路上に第1のアナモルフィック光学素子12が配置されている。
図6はマルチビーム光学系を用いたレーザ加工装置の構成例である。
半導体ウェーハWは、略円板状に形成されており、表面に格子状に配列された分割予定ラインによって複数の領域に区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイス72が形成されている。また、半導体ウェーハWは、貼着テープ73を介して環状フレーム71に支持される。
12 第1のアナモルフィック光学素子
12a〜12c プリズム
13 オプティカルアイソレータ
14 偏光ビームスプリッタ
15 ファラデー回転子
16 光路長差生成部
17 第2のアナモルフィック光学素子
18 集光レンズ
50 レーザ加工装置
60 チャックテーブル
66 レーザ照射ユニット
Claims (6)
- パルスレーザを発振する発振器と、
前記パルスレーザを断面形状が楕円形状の楕円パルスレーザに変換するアナモリフィック光学手段と、
前記楕円パルスレーザの断面内において前記発振器から対象物までの光路長に差を生じさせる光路長差生成部と、
光路長差を与えられた前記楕円パルスレーザを前記対象物に対して集光させる集光レンズと、
を具備したことを特徴とする光学系。 - 前記アナモリフィック光学手段は、前記発振器と前記光路長差生成部との間に光路上に配置されたことを特徴とする請求項1記載の光学系。
- 前記光路長差生成部は、光軸に対して傾斜して配置された回折光学素子を有することを特徴とする請求項1又は請求項2記載の光学系。
- 前記光路長差生成部は、前記回折光学素子に入射するパルスレーザと前記回折光学素子から反射したパルスレーザの光路を変化させるオプティカルアイソレータを含み、
前記オプティカルアイソレータは、ファラデー回転子を含むことを特徴とする請求項3記載の光学系。 - 前記アナモリフィック光学手段は、プリズム体で構成されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学系。
- 請求項1から請求項5のいずれかに記載の光学系を備え、
前記光学系で生成された楕円パルスレーザを被加工物に照射してアブレーション加工することを特徴とするレーザ加工装置。
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