JP5294303B2 - 新規なn,n,p−三座シッフ塩基配位子化合物および該化合物を用いた不斉合成 - Google Patents
新規なn,n,p−三座シッフ塩基配位子化合物および該化合物を用いた不斉合成 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5294303B2 JP5294303B2 JP2008091179A JP2008091179A JP5294303B2 JP 5294303 B2 JP5294303 B2 JP 5294303B2 JP 2008091179 A JP2008091179 A JP 2008091179A JP 2008091179 A JP2008091179 A JP 2008091179A JP 5294303 B2 JP5294303 B2 JP 5294303B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- schiff base
- reaction
- novel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 *[C@@](CP(*)*)N=C(*)c1nc(cccc2)c2cc1 Chemical compound *[C@@](CP(*)*)N=C(*)c1nc(cccc2)c2cc1 0.000 description 2
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
高エナンチオ選択的な(S)−3−アルキルシクロアルカン−1−オンは、例えば、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。
これらの配位子では、不斉収率は98% eeと満足出来るものではあるが、銅塩(2mol%)や配位子(4mol%)の使用量が多く、反応温度も−30℃と低い温度で不斉合成しなければならない。
あるいは、次式で示されるN,N,P−三座配位子と銅錯体の存在下、2−シクロへキセノンとジエチル亜鉛とが円滑に反応して、高選択的に光学活性な(S)−3−アルキルシクロヘキサノンを与えることも見出されている。(非特許文献2)
また、ピリジン骨格にシッフ塩基を備えたN,N,P−三座のシッフ塩基配位子化合物と銅錯体の存在下、2−シクロへキセノンとジエチル亜鉛とを反応させて、高選択的に光学活性な(S)−3−アルキルシクロヘキサノンを与えることも見出されている。(非特許文献3)
しかしながら、これらの配位子でも、不斉収率が高くて91% ee止まりであり、十分に満足できるものではなく、反応で使用する銅錯体量や配位子量も多い。
(R1は、水素、炭素数1〜6のアルキル基およびフェニル基からなる群より選ばれる基である。R2は、炭素数1〜6のアルキル基である。R3およびR4はフェニル基およびシクロヘキシル基からなる群より選ばれる基であり、同一でも異なっていてもよい。)
で示され、(S)−体である、光学活性で新規なN,N,P−三座シッフ塩基配位子化合物である。
(R1は、水素、炭素数1〜6のアルキル基およびフェニル基からなる群より選ばれる基である。R2は、炭素数1〜6のアルキル基である。R3およびR4はフェニル基およびシクロヘキシル基からなる群より選ばれる基であり、同一でも異なっていてもよい。)
R2は、炭素数1〜6のアルキル基であるが、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基(i−プロピル基またはi−Prと略記することもある。)、ターシャリーブチル基(t−ブチル基またはt−Buと略記することもある。)、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられ、構造異性体も含まれる。好ましいR2は、エチル基,i−プロピル基、t-ブチル基が挙げられ、より好ましくは、i−プロピル基およびt−ブチル基である。
R3およびR4は、フェニル基およびシクロへキシル基が挙げられ、同一でも異なっていても何ら問題はない。好ましくは、少なくとも1つはフェニル基を含むものであり、より好ましくはR3およびR4がともにフェニル基の場合である。
なお、R2がt−ブチル基の場合も本製法に準じて合成することができる。
(第一ステップ)
光学活性であるバリン((S)−バリン)1当量を、濃硫酸およびジエチルエーテル溶媒(体積比=1:2)に添加し、水素化ホウ素ナトリウム(またはテトラヒドロホウ酸ナトリウム)2.8当量を加えて、0℃で24時間反応させ、(S)−バリノール(化合物(2))が54%の収率で得られた。
得られた化合物(2)の光学活性は保たれていた。
なお、(S)−バリノールは、市販されており、市販品をそのまま使用しても何ら問題はない。
次に、1当量の化合物(2)に対して、2.2当量のp−TsCl(p−トルエンスルホニルクロリド)をピリジン溶媒(化合物(2)1gあたり5ml)に加えて、0〜25℃(室温)で24時間攪拌し、水酸基およびアミノ基をトシル基(Ts基)で保護した化合物(3)を74%の収率で得た。
得られた化合物(3)をベンゼン(化合物(3)1mmolあたり5ml)に溶解させ、20%の水酸化カリウムを体積でベンゼンの半量加えて室温下(およそ25℃)で2時間攪拌反応させた。その結果、環化反応が定量的に進行し、化合物(4)が99%以上の収率で得られた。
化合物(4)をテトラヒドロフラン(化合物(4)1mmolあたり2ml)に溶解させ、1当量のカリウムジフェニルホスフィド(0.5Mテトラヒドロフラン溶液)を加えて室温下(およそ25℃)で2時間攪拌し、開環反応させて化合物(5)を80%の収率で得た。
得られた化合物(5)は、濃硫酸(化合物(5)1mmolあたり6ml)に添加して100℃で5時間反応させてアミン化合物(6)を88%の収率で得た。
得られたアミン化合物(6)と当量の化合物(7)である2−キノリンカルバルデヒド(2−Quinolinecarbaldehyde)を共にベンゼン(化合物(6)1mmolあたり10ml)に溶解させ、脱水剤として無水の硫酸ナトリウムを加え、室温下(およそ25℃)で6時間攪拌しながら反応させた。その結果、新規なN,N,P−三座シッフ塩基配位子化合物(8)が54%の収率で得られた。
得られた化合物の元素分析値は、以下の通りであった。
C:78.79、H:6.63およびN:6.85
なお、上記配位子(化合物(8))の分子量をC27H27N2Pとして計算すると、その値は
C:79.00、H:6.63およびN:6.82となり、一致することが確認できた。
たとえば、第一ステップにおいて(S)−バリンのi−プロピル基の代わりに、t−ブチル基を有する(S)−t−ロイシンを用いた場合では、i−プロピル基の代わりにt−ブチル基の配位子化合物が得られる。
好ましくは、2−シクロペンテン−1−オン、2−シクロヘキセン−1−オン、2−シクロヘプテン−1−オン、2−シクロオクテン−1−オン、2−シクロドデセン−1−オンが挙げられ、より好ましくは2−シクロヘキセン−1−オン、2−シクロペンテン−1−オン、2−シクロヘプテン−1−オンが挙げられ、さらに好ましくは2−シクロヘキセン−1−オン、2−シクロペンテン−1−オンであり、最も好ましくは2−シクロヘキセン−1−オンである。
本発明で使用する2−シクロアルケン−1−オンは、市販品をそのまま使用しても何ら問題はないが、脱水操作を施したものを使用するのが好ましい。
脱水操作としては、通常の方法が使用される。
具体的には、モレキュラシーブと接触させる方法や、無水の無機塩(例えば硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウム)を添加後、蒸留あるいは、ろ過する方法、さらには脱水剤を添加後、精密蒸留する方法が挙げられる。
具体的なニッケル化合物としては、Ni(OTf)2、Ni(OAc)2、Ni(OAc)2・H2O、NiCl2、NiBr2、NiSO4・5H20、Ni(ClO4)2・6H20、Ni(BF4)2・6H2O、Ni(SbF6)2、Ni(trifluoroacetonylacetate)2、Ni(cyclohexanebutyrate)2、Ni(2−ethylhexanoate)2、Ni(acac)2、Ni(naphthenate)2などのニッケル2価化合物が挙げられる。
好ましい化合物は、Ni(acac)2およびCu(OTf)2、[Cu(OTf)2・C6H6]、CuTC、Cu(naphthenate)2であり、さらに好ましくは、Cu(OTf)2である。なお、上記のニッケル化合物ならびに銅化合物は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
また、配位子の略号は、以下のとおりである。
OTf:trifluoromethanesulfonate
TC:thiophene−2−carboxylate
acac:acetylacetonato
反応圧力は特に制限されない。
反応時間は、金属化合物の使用量や、原料の濃度および反応温度等の条件により大きく変わるが、通常は0.5時間〜24時間である。
好ましくは1時間〜12時間であり、さらに好ましくは2時間〜10時間である。
なお、本発明の合成態様としては、特に制限はされないが、金属化合物、配位子および溶媒(例えば塩化メチレン)を加えて室温下で攪拌し、次に、反応基質である2−シクロアルケン−1−オンを加え攪拌する。その後、所定の温度に設定し、ジアルキル亜鉛を一定量滴下し、一定時間所定の温度にて反応させる手順が好ましい。
あるいは、金属化合物と配位子を前もって反応させて、金属配位子錯体とし、該錯体を溶媒に加えて同様の反応を実施しても何ら問題はない。
所定時間が経過した後、塩酸にて反応をクエンチし、反応系を室温に戻す。
なお、上記反応は、不活性ガスの雰囲気下にて実施する。
不活性ガスとしては、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノンが挙げられるが、好ましくは、窒素およびアルゴンである。
(2)IR:FT−IR SPECTRUM1000(Perkin Elmer社製)
(3)旋光度:SEPA−300旋光計(堀場社製)
(4)MS:LCQ DECA(サーモフィッシャーサイエンティフィック社製)
(5)元素分析:CHN CORDER MT−5(ヤナコ分析工業社製)
を使用した。
カラム:Supelco(商標)γ−DEX−225(30m×0.25mm(i.d.)(ALDRICH社製)
ただし、(S)−3−アルキルシクロヘプタン−1−オンでは、Supelco(商標)β−DEX−225(30m×0.25mm(i.d.)(ALDRICH社製)を使用した。
カラム温度:80℃(30分保持)⇒120℃(10℃/min昇温)
キャリアーガス:He
ガス流速 :1.2mL/min
INJ(注入)温度:250℃
DET(検出)温度:300℃
検出器 :FID
1H−NMR(400MHz,溶媒:CDCl3):δ 0.95(d,J=6.8Hz,6H),2.08(m,1H),2.53(d,J=8.0Hz,2H),3.23(m,1H),7.19−7.25(m,3H),7.30−7.32(m,3H),7.39−7.46(m,4H),7.55(dd,J=8.0,8.0Hz,1H),7.72(dd,J=8.0,8.0Hz,1H),7.81(d,J=8.0Hz,1H),7.95(d,J=8.8Hz,1H),8.08(d,J=8.0Hz,1H),8.11(d,J=8.8Hz,1H),8.37(s,1H)
なお、測定値の解析については、ケミカルシフトはテトラメチルシランを基準に算出し、上記の各ピークに記載の略号は以下の内容である。
(s=singlet、d=doublet、t=triplet、q=quartet、quint=quintet、m=multiplet、dt=doublet of triplets、dd=doublet of doublets、ddd=doublet of doublet of doublets;coupling constant(s) in Hz;integration)
IR (thin film):νmax(cm−1)3053,2958,2870,1712,1643,1596,1559,1502,1481,1433,1368,1113,1067,1026,999,895,834,788,749,696
(3)旋光度
(4)質量分析(MS測定結果)
MS:m/z 411(M+H+)
(5)元素分析
EA:Anal.Calcd.For C27H27N2P:C,79.00;H,6.63;N,6.82.
Found: C,78.79;H,6.63;N,6.85.
1H−NMR (400MHz,溶媒;CDCl3):δ 0.94(s,9H),2.50(d,J=7.2Hz,2H),3.09(m,1H),7.13−7.19(m,3H),7.33−7.37(m,5H),7.44−7.49(m,2H),7.55(dd,J=8.0,8.0Hz,1H),7.72(dd,J=8.0,8.0Hz,1H),7.81(d,J=8.0Hz,1H),8.00(d,J=8.8Hz,1H),8.08(d,J=8.8Hz,1H),8.12(d,J=8.0Hz,1H),8.35(s,1H)
IR (thin film): νmax(cm−1)3053,2957,2867,1713,1645,1596,1559,1503,1479,1433,1393,1365,1112,1000,960,890,834,750,738,696
(3)旋光度
(4)質量分析(MS測定結果)
MS:m/z 425(M+H+)
(5)元素分析
EA:Anal.Calcd.For C28H29N2P:C,79.22;H,6.89;N,6.60.
Found:C,79.21;H,6.99;N,6.60.
(銅化合物による(S)−3−エチルシクロヘキサン−1−オンの合成)
30mlの反応容器(アンプル管)に、マグネット、銅化合物としてCu(OTf)20.01mmol、新規なN,N,P−三座シッフ塩基配位子(R1=水素、R2=イソプロピル基、R3=R4=フェニル基の化合物)0.025mmolおよびジクロロメタン1.5mLを加えて、十分にアルゴン置換した後、室温下(20〜30℃)で30分攪拌した。
次に、2−シクロヘキセン−1−オン96mg(1.0mmol)を添加して、さらに10分間攪拌した。その後、0℃に冷却してジエチル亜鉛溶液1.5mL(1.5mmol:ALDRICH社製1.0Mヘキサン含有溶液)加えて5時間反応させた。反応後、1Nの塩酸水溶液を加えて、反応をクエンチし、有機溶剤にて生成物を抽出したのち、ガスクロマトグラフィーにて分析した。分析結果から、2−シクロヘキセン−1−オンの添加率はほぼ100%(>99%)であり、(S)−3−エチルシクロヘキサン−1−オンが97% eeの光学収率で得られた。
(銅化合物による(S)−3−エチルシクロヘキサン−1−オンの合成)
銅化合物および新規なN,N,P−三座シッフ塩基配位子の使用量および反応温度を表1に記載の条件に変えて、実施例1に準じて反応をおこなった。
その結果を表1に合わせて示した。
(銅化合物による(S)−3−エチルシクロヘキサン−1−オンの合成)
新規な新規なN,N,P−三座シッフ塩基配位子(R1=水素、R2=ターシャリーブチル基(t−Buと記載することもある)、R3=R4=フェニル基の化合物)を用いた以外は実施例1に順じて反応をおこなった。その反応条件および反応結果を表2に示す。
(銅化合物による(S)−3−エチルシクロアルカン−1−オンの合成)
反応基質を2−シクロヘキセン−1−オンも含め、2−シクロペンテン−1−オンおよび2−シクロヘプテン−1−オンに拡大して実施例1に準じて反応を行った。
その反応条件および反応結果を表3にまとめて示す。
用いた配位子は、R1=水素、R2=i−Pr、R3=R4=フェニル基の化合物およびR1=水素、R2=t−Bu、R3=R4=フェニル基の化合物である。
(ニッケル化合物による(S)−3−エチルシクロヘキサン−1−オンの合成)
30mlの反応容器(アンプル管)に、マグネット、ニッケル化合物としてNi(acac)20.07mmol、新規なN,N,P−三座シッフ塩基配位子(R1=水素、R2=イソプロピル基、R3=R4=フェニル基の化合物)0.16mmolおよびアセトニトリル1.5mLを加えて、十分にアルゴン置換した後、室温下(20〜30℃)で30分攪拌した。
次に、2−シクロヘキセン−1−オン96mg(1.0mmol)を添加して、さらに10分間攪拌した。その後、−25℃に冷却してジエチル亜鉛溶液1.5mL(1.5mmol:ALDRICH社製1.0Mヘキサン含有溶液)加えて16時間反応させた。反応後、1Nの塩酸水溶液を加えて、反応をクエンチし、有機溶剤にて生成物を抽出したのち、ガスクロマトグラフィーにて分析した。分析結果から、2−シクロヘキセン−1−オンの収率は82%であり、(S)−3−エチルシクロヘキサン1−オンが78% eeの光学収率で得られた。
(銅化合物による(S)−3−アルキルシクロヘキサン−1−オンの合成)
銅化合物およびN,N,P−三座シッフ塩基配位子を含む条件を以下のように変えて、実施例1に準じて反応をおこなった。
その結果を表3に合わせて示した。
Claims (3)
- 2−シクロアルケン−1−オンが2−シクロヘキセン−1−オンである請求項2に記載の(S)−3−アルキルシクロアルカン−1−オンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008091179A JP5294303B2 (ja) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | 新規なn,n,p−三座シッフ塩基配位子化合物および該化合物を用いた不斉合成 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008091179A JP5294303B2 (ja) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | 新規なn,n,p−三座シッフ塩基配位子化合物および該化合物を用いた不斉合成 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009242304A JP2009242304A (ja) | 2009-10-22 |
JP5294303B2 true JP5294303B2 (ja) | 2013-09-18 |
Family
ID=41304654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008091179A Expired - Fee Related JP5294303B2 (ja) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | 新規なn,n,p−三座シッフ塩基配位子化合物および該化合物を用いた不斉合成 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5294303B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2845017C (en) * | 2011-08-18 | 2020-09-08 | Dmitri GOUSSEV | Hydrogenation and dehydrogenation catalyst, and methods of making and using the same |
EP3233800A4 (en) * | 2014-12-19 | 2018-08-01 | Dow Silicones Corporation | Ligand components, associated reaction products, activated reaction products, hydrosilylation catalysts and hydrosilylation curable compositions including the ligand components, and associated methods for preparing same |
CN104817591B (zh) * | 2015-03-11 | 2018-04-24 | 华东师范大学 | 一种手性叔膦化合物及其全构型、其制备方法和应用 |
-
2008
- 2008-03-31 JP JP2008091179A patent/JP5294303B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009242304A (ja) | 2009-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9637457B2 (en) | Process for the stereoselective preparation of a pyrazole-carboxamide | |
CN107188832B (zh) | 一种利用二氧化碳合成含三氟甲基的氨基甲酸酯的方法 | |
BR112021015362A2 (pt) | Derivados de pirazol | |
CN112430187A (zh) | 一种α,β-氘代胺类化合物、氘代药物及其制备方法 | |
CN108314658B (zh) | 一种多取代噁唑衍生物的制备方法 | |
JP5294303B2 (ja) | 新規なn,n,p−三座シッフ塩基配位子化合物および該化合物を用いた不斉合成 | |
CN111574444A (zh) | 一种贝达喹啉的制备方法 | |
US10544098B2 (en) | Method for synthesizing bipyridine compound and method for manufacturing pyridine compound | |
CN110105285B (zh) | 三取代吡唑类衍生物及其制备方法 | |
JPS6029704B2 (ja) | 第四級アンモニウム塩触媒によるチオカルバメ−トの製法 | |
Grigg et al. | Stereoselective synthesis of chiral β2, 3-disubstituted-β-amino acid derivatives using Pd/In transmetallation cascade processes | |
JP2014076986A (ja) | チオノカルボン酸アリールエステルの製造方法 | |
CN110343040B (zh) | 一种制备手性反式第一菊酸的方法 | |
CN102627571B (zh) | 一种手性铵盐的制备及合成方法 | |
CN112321514A (zh) | 一种手性巴比妥酸类化合物及其制备方法 | |
Liu et al. | Efficient Synthesis of Oxazolidin‐2‐one via (Chitosan‐Schiff Base) cobalt (II)‐Catalyzed Oxidative Carbonylation of 2‐Aminoalkan‐1‐ols | |
CN106631898B (zh) | 一种脒类化合物的制备方法 | |
CN106854125B (zh) | 一种制备含有两个手性中心α-氟-β-乙炔基酮化合物的方法 | |
CN114478429B (zh) | 一种3-烷硫基异噻唑衍生物及其合成方法 | |
CN110372718B (zh) | 一种二氟甲硫化色酮并噻吩化合物及其制备方法 | |
WO2018200881A1 (en) | Process for the preparation of deuterated ethanol from d2o | |
CN111909057B (zh) | 一种环戊烯基芳基酮肟类化合物的制备方法 | |
CN115108932B (zh) | 一种芳香酰胺类化合物的制备方法 | |
CN108147996B (zh) | 一种芳亚甲基双吡唑酯单钾盐的合成方法 | |
CN114436851B (zh) | 一种n,n-二甲基苄胺及其衍生物的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130312 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130502 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130528 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130606 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |