JP5288442B2 - Shock-resistant optical seeker and its manufacturing method - Google Patents
Shock-resistant optical seeker and its manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP5288442B2 JP5288442B2 JP2008007903A JP2008007903A JP5288442B2 JP 5288442 B2 JP5288442 B2 JP 5288442B2 JP 2008007903 A JP2008007903 A JP 2008007903A JP 2008007903 A JP2008007903 A JP 2008007903A JP 5288442 B2 JP5288442 B2 JP 5288442B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- impact
- resistant
- thin film
- seeker
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
本発明は、目標追尾誘導装置に適用可能な耐衝撃光学シーカとその製造方法に関する。 The present invention relates to an impact-resistant optical seeker applicable to a target tracking guidance device and a method for manufacturing the same.
目標追尾誘導装置は、目標に向けてレーザビームを照射すると共に、この目標に向けて飛翔体を飛翔させ、目標で反射されたレーザビームのレーザ反射光を、飛翔体に搭載した光学シーカにより検出して目標を捕捉し、飛翔体の飛翔経路を修正して飛翔体を目標に向けて誘導する装置である。
また、目標追尾誘導装置の光学シーカには特定の波長の光(例えばレーザビーム)を選択的に反射又は透過させるために光学フィルタが用いられる。
The target tracking guidance device irradiates a laser beam toward the target, causes the flying object to fly toward the target, and detects the laser reflected light of the laser beam reflected by the target by an optical seeker mounted on the flying object. The device captures the target and corrects the flight path of the flying object to guide the flying object toward the target.
In addition, an optical filter is used for the optical seeker of the target tracking guidance device in order to selectively reflect or transmit light of a specific wavelength (for example, a laser beam).
かかる目標追尾誘導装置及び光学フィルタに関連する先行技術として、特許文献1〜4が既に開示されている。
特許文献1の「目標追尾誘導システム及び目標追尾誘導方法」は、設備の簡素化を図った上で、飛翔体を確実に目標に向けて誘導させることを可能にすることを目的とする。
そのため、この発明では、図6に示すように、飛翔体50において、目標Tに向かって赤外線レーザ照射装置52から照射されているレーザビームLBの後方散乱光を赤外線センサにより検出し、システム制御部により赤外線センサによる検出結果からレーザビームLBの軌跡及び方向を求め、このレーザビームLBの軌跡及び方向と位置・速度センサにより検出される飛翔体50の飛翔位置・速度情報とを比較照合して、レーザビームLBに対する飛翔体50の飛翔位置及び飛翔方向を求め、このレーザビームLBの軌跡及び方向と飛翔位置及び飛翔方向とのずれに対応する誘導信号を生成して姿勢駆動部に与えることにより、飛翔体50をレーザビームLBに近づけ、飛翔方向とレーザビーム方向とを略一致させるものである。
The “target tracking guidance system and target tracking guidance method” of
Therefore, in this invention, as shown in FIG. 6, in the
特許文献2の誘電体多層膜フィルタ61は、図7に示すように、多層膜部より小さい屈折率を有するフッ素化ポリイミド薄膜からなる基板69を用い、この基板69上にイオンアシスト蒸着による誘電体多層膜60が形成されたものである。
フッ素化ポリイミド薄膜は耐熱性と透明性があり、かつ仮基板から容易に剥離でき、薄い誘電体多層膜フィルタが製造できる。
As shown in FIG. 7, the
The fluorinated polyimide thin film has heat resistance and transparency, can be easily peeled off from the temporary substrate, and can produce a thin dielectric multilayer filter.
特許文献3は、製造適性に優れかつ機械的強度の高い多機能の光学フィルタを目的とする。
この光学フィルタは、プラスチック透明支持体の少なくとも片側に565乃至605nmの波長範囲に透過率が0.01乃至80%の吸収極大を有する可視フィルタ層、電磁波遮断効果を有する導電性層、赤外線遮断層、ハードコート層および熱伝導度が0.4W/m・K以上である熱伝導層を有し、画像表示装置の視認側に直接貼りつけて用いられる。
This optical filter includes a visible filter layer having an absorption maximum with a transmittance of 0.01 to 80% in a wavelength range of 565 to 605 nm, a conductive layer having an electromagnetic wave blocking effect, and an infrared blocking layer on at least one side of a plastic transparent support. It has a hard coat layer and a heat conductive layer having a thermal conductivity of 0.4 W / m · K or more, and is directly attached to the viewing side of the image display device.
特許文献4は、プラスチック基板上に形成される耐衝撃性の高い光学フィルムを目的とする。
この方法は、第1の基板上に、剥離層及び光学フィルタを積層して形成する工程と、第1の基板から光学フィルタを剥離する工程と、光学フィルタを第2の基板に接着する工程とを有する。この方法で作製された光学フィルムは、可とう性を有するため曲面を有する部位、又は表示装置に設けることができる。また、光学フィルムを高温処理することがないため、歩留まり高く信頼性の高い光学フィルムを形成することができる。
Patent Document 4 aims at an optical film having high impact resistance formed on a plastic substrate.
The method includes a step of laminating and forming a release layer and an optical filter on a first substrate, a step of peeling the optical filter from the first substrate, and a step of bonding the optical filter to the second substrate. Have Since the optical film manufactured by this method has flexibility, it can be provided in a portion having a curved surface or a display device. Further, since the optical film is not subjected to high temperature treatment, an optical film with high yield and high reliability can be formed.
上述した光学シーカに用いられる光学フィルタは、従来、母材の表面(片面/両面)に、真空蒸着等の手段によって所望の波長に合わせた誘電体材料の薄膜多層膜を構成して製造している。
一般的に、薄膜多層膜の層数が増えるほど、光の反射/透過の選択自由度が向上する。しかし、層数を増やすことは一方で、製造工程中に母材が熱に晒される時間が増えるため、母材の熱特性(耐熱特性)が重要となる。
The optical filter used in the optical seeker described above is conventionally manufactured by forming a thin film multilayer film of a dielectric material matched to a desired wavelength by means such as vacuum deposition on the surface (one side / both sides) of a base material. Yes.
In general, as the number of thin film multilayer films increases, the degree of freedom in selecting light reflection / transmission improves. However, increasing the number of layers, on the other hand, increases the time during which the base material is exposed to heat during the manufacturing process, so the thermal characteristics (heat resistance characteristics) of the base material are important.
一方、光学フィルタは、光学シーカで検出する信号の信号対雑音比(S/N比)を高めるために、狭帯域のバンドパスフィルタが必要になる。
このような狭帯域のバンドパスフィルタを得るためには、薄膜多層膜の層数は少なくとも40層以上、好ましくは60層以上が必要となる。
そのため、従来は、母材として耐熱温度が350℃を超える耐熱ガラスを用いてこのような光学フィルタを製造していた。
On the other hand, the optical filter requires a narrow-band bandpass filter in order to increase the signal-to-noise ratio (S / N ratio) of the signal detected by the optical seeker.
In order to obtain such a narrow-band bandpass filter, the number of thin-film multilayer films needs to be at least 40 layers, preferably 60 layers or more.
Therefore, conventionally, such an optical filter has been manufactured using a heat-resistant glass having a heat-resistant temperature exceeding 350 ° C. as a base material.
しかし、目標追尾誘導装置は通常砲発射され、その発射時に1万Gを超える高衝撃を受ける。そのため、従来の光学フィルタは、母材(ガラス)が脆性材であり、発射時の高衝撃によれ、割れ、ひびなどの損傷を受けるおそれがあった。 However, the target tracking guidance device is normally fired and receives a high impact exceeding 10,000 G at the time of launch. For this reason, in the conventional optical filter, the base material (glass) is a brittle material, and there is a risk of damage such as cracking and cracking due to high impact at the time of launch.
本発明は、上述した問題点を解決するために創案されたものである。すなわち、本発明の目的は、使用する光(例えばレーザビーム)を高いS/N比で検出することができ、かつ1万Gを超える高衝撃を受けても、割れ、ひびなどの損傷をほとんど受けない耐衝撃光学シーカとその製造方法を提供することにある。 The present invention has been developed to solve the above-described problems. That is, the object of the present invention is to detect light (for example, a laser beam) to be used with a high S / N ratio, and to prevent damage such as cracks and cracks even when subjected to high impact exceeding 10,000 G. It is an object of the present invention to provide an impact-resistant optical seeker that is not subjected to such damage and a method for manufacturing the same.
本発明によれば、発射時に高衝撃を受け、所定の狭帯域の光を検出する耐衝撃光学シーカであって、
前記光を検出する光学センサと、
該光学センサの前面に配置された集光レンズ及び光学フィルタと、
該集光レンズ及び光学フィルタの前面に配置されこれらを保護する光学ドームとを備え、
前記集光レンズ、光学フィルタ及び光学ドームは、前記高衝撃に耐え、前記光の透過率が高く、かつ転移温度が約200℃以上の耐衝撃耐熱プラスチックからなり、
前記集光レンズ、光学フィルタ及び光学ドームの一部又は全部は、その片面又は両面に薄膜多層膜を有し、該薄膜多層膜の全体で所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成する、ことを特徴とする耐衝撃光学シーカが提供される。
According to the present invention, an impact-resistant optical seeker that receives a high impact at the time of launch and detects light of a predetermined narrow band,
An optical sensor for detecting the light;
A condenser lens and an optical filter disposed in front of the optical sensor;
An optical dome disposed in front of the condenser lens and the optical filter to protect them,
The condensing lens, the optical filter, and the optical dome are made of an impact-resistant heat-resistant plastic that can withstand the high impact, has a high light transmittance, and has a transition temperature of about 200 ° C. or more.
A part or all of the condensing lens, the optical filter, and the optical dome has a thin film multilayer film on one or both surfaces thereof, and the entire thin film multilayer film constitutes a predetermined narrow band pass filter. An impact resistant optical seeker is provided.
本発明の好ましい実施態様によれば、前記耐衝撃耐熱プラスチックは、ポリエーテルイミド、ポリフェニルサルフォン又はポリフェルサルフォンである。 According to a preferred embodiment of the present invention, the impact-resistant heat-resistant plastic is polyetherimide, polyphenylsulfone or polyfersulfone.
また本発明によれば、発射時に高衝撃を受け、所定の狭帯域の光を検出する耐衝撃光学シーカの製造方法であって、
前記光を検出する光学センサの前面に配置される集光レンズ及び光学フィルタと、その前面に配置されこれらを保護する光学ドームとを、前記高衝撃に耐え、前記光の透過率が高く、かつ転移温度が約200℃以上の耐衝撃耐熱プラスチックで製造し、
更に、前記集光レンズ、光学フィルタ及び光学ドームの一部又は全部の片面又は両面に薄膜多層膜を成膜し、該薄膜多層膜の全体で所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成する、ことを特徴とする耐衝撃光学シーカの製造方法が提供される。
Further, according to the present invention, there is provided a method for manufacturing an impact-resistant optical seeker that receives a high impact at the time of launch and detects light of a predetermined narrow band,
A condensing lens and an optical filter disposed on the front surface of the optical sensor for detecting the light, and an optical dome disposed on the front surface for protecting the condensing lens, withstands the high impact, has a high light transmittance, and Manufactured with impact and heat resistant plastics with a transition temperature of about 200 ° C or higher,
Furthermore, a thin film multilayer film is formed on one or both surfaces of the condensing lens, the optical filter, and the optical dome, and the entire thin film multilayer film constitutes a predetermined narrow-band bandpass filter. A method for producing an impact-resistant optical seeker is provided.
本発明の好ましい実施態様によれば、前記耐衝撃耐熱プラスチックは、ポリエーテルイミド、ポリフェニルサルフォン又はポリフェルサルフォンである。 According to a preferred embodiment of the present invention, the impact-resistant heat-resistant plastic is polyetherimide, polyphenylsulfone or polyfersulfone.
また、前記薄膜多層膜は、真空蒸着、イオンアシスト蒸着、又はスパッタリングにより、中間に冷却期間を取りながら、耐衝撃耐熱プラスチックの転移温度以下で成膜する。 The thin film multilayer film is formed at a temperature equal to or lower than the transition temperature of the impact-resistant heat-resistant plastic while taking a cooling period in the middle by vacuum vapor deposition, ion-assisted vapor deposition, or sputtering.
上記本発明の装置及び方法によれば、集光レンズ、光学フィルタ及び光学ドームの一部又は全部が、その片面又は両面に薄膜多層膜を有し、該薄膜多層膜の全体で所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成するので、この狭帯域に相当する光(例えばレーザビーム)を高いS/N比で検出することができる。 According to the apparatus and method of the present invention, some or all of the condenser lens, the optical filter, and the optical dome have the thin film multilayer film on one or both surfaces thereof, and the entire thin film multilayer film has a predetermined narrow band. Therefore, light corresponding to this narrow band (for example, a laser beam) can be detected with a high S / N ratio.
また、集光レンズ、光学フィルタ及び光学ドームは、発射時の高衝撃に耐える耐衝撃性の高い耐衝撃耐熱プラスチックからなるので、1万Gを超える高衝撃を受けても、割れ、ひびなどの損傷をほとんど受けない。 In addition, the condensing lens, optical filter and optical dome are made of impact-resistant and heat-resistant plastic that can withstand high impact at the time of launch, so even if subjected to high impact exceeding 10,000 G, cracks, cracks, etc. Almost no damage.
従って、もともと耐衝撃性のあるプラスチック母材を用いることで、従来のガラス材が持つ衝撃に対する脆弱性を解決することができる。 Therefore, by using a plastic base material that originally has impact resistance, it is possible to solve the fragility of conventional glass materials with respect to impact.
以下、本発明の好ましい実施形態を図面を参照して説明する。なお各図において、共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明は省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each figure, common portions are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
図1は、単層薄膜における干渉説明図である。
図1(A)において、1は基板(ガラス又はプラスチック)、2は基板表面に成膜された単層薄膜(屈折率をnとする)、3は波長λの光(例えばレーザビーム)である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of interference in a single-layer thin film.
In FIG. 1A, 1 is a substrate (glass or plastic), 2 is a single-layer thin film formed on the substrate surface (refractive index is n), and 3 is light of wavelength λ (for example, a laser beam). .
A,Bの光3のうち、単層薄膜2の表面で反射する光をA’,B’とし、単層薄膜2の表面Oで屈折し、基板1の表面で全反射し、単層薄膜2の表面Qで屈折して空気側に戻る光をCとする。表面O,Qにおける屈折はスネルの法則に従う。
単層薄膜2の厚さ(光学膜厚:nd)を波長λの1/4、又はこれに近い厚さに設定することにより、光B’と光Cとを干渉させることができる。
例えば、図1(B)に示すように、光B’(B−1)と光C(B−2)を同じタイミングで同期させると、(B−3)に示すように光3の振幅(すなわち強度)を高めることができる。
また、逆に図1(C)に示すように、光B’(B−1)と光C(B−2)をπ/2ずれたタイミングで同期させると、(B−3)に示すように光3の振幅(すなわち強度)を弱めることができる。
Of the
By setting the thickness (optical film thickness: nd) of the single layer
For example, as shown in FIG. 1B, when the light B ′ (B-1) and the light C (B-2) are synchronized at the same timing, the amplitude of the light 3 ( That is, the strength) can be increased.
Conversely, as shown in FIG. 1C, when the light B ′ (B-1) and the light C (B-2) are synchronized at a timing shifted by π / 2, as shown in (B-3). In addition, the amplitude (ie, intensity) of the
同様に多層膜の干渉現象において、基板上に、屈折率の異なる2種類の透明膜(光学膜厚=波長λの1/4)を交互に積層すると、光は干渉作用によって強め合ったり、打消し合ったりして、高反射や低反射が発生する。 Similarly, in the interference phenomenon of a multilayer film, when two types of transparent films having different refractive indexes (optical film thickness = 1/4 of wavelength λ) are alternately laminated on the substrate, the light is strengthened or canceled by the interference action. High reflection and low reflection are generated.
図2は、薄膜多層膜の分光特性を示す図である。この図において、横軸は波長[nm]、縦軸は損失[dB]であり、図中の3本の曲線は、薄膜多層膜が20,40,60層の場合を示している。
この図からわかるように、一般的に薄膜多層膜の層数を増やせば分光特性は急峻となることが知られている。
また、上述したように光学シーカで検出する信号の信号対雑音比(S/N比)を高めるために、狭帯域のバンドパスフィルタが必要であり、このような狭帯域のバンドパスフィルタを得るためには、薄膜多層膜の層数は少なくとも40層以上、好ましくは60層が必要となる。
FIG. 2 is a diagram showing the spectral characteristics of the thin film multilayer film. In this figure, the horizontal axis is the wavelength [nm], the vertical axis is the loss [dB], and the three curves in the figure show the case where the thin film multilayer film is 20, 40, 60 layers.
As can be seen from this figure, it is generally known that the spectral characteristics become steep when the number of thin-film multilayer films is increased.
In addition, as described above, in order to increase the signal-to-noise ratio (S / N ratio) of the signal detected by the optical seeker, a narrow-band bandpass filter is necessary, and such a narrow-band bandpass filter is obtained. For this purpose, the number of layers of the thin film multilayer film is required to be at least 40 layers, preferably 60 layers.
図3は、本発明の耐衝撃光学シーカの第1実施形態を示す図である。本発明の耐衝撃光学シーカ10は、発射時に高衝撃(例えば1万G)を受け、所定の狭帯域の光3を検出する。所定の狭帯域の光3は、例えばレーザビームの波長を含む狭帯域光である。
FIG. 3 is a view showing a first embodiment of the impact-resistant optical seeker of the present invention. The impact-resistant
この図において、本発明の耐衝撃光学シーカ10は、光学センサ12、集光レンズ14、光学フィルタ16及び光学ドーム18をこの順で備える。
光学センサ12は、CCD又はフォトダイオードであり、前記所定の狭帯域の光3(例えばレーザビーム)の強度と方向を検出する。
集光レンズ14及び光学フィルタ16は、光学センサ12の前面に配置される。なお集光レンズ14と光学フィルタ16はこの図と逆の順であってもよい。
集光レンズ14は、この例では、2枚の凸レンズ14aからなり、外部から入射した光3を光学センサ12上に集光する。なお本発明はこの構成に限定されず、3枚以上のレンズ(凸レンズ又は凹レンズ)で構成してもよい。
光学ドーム18は、集光レンズ14及び光学フィルタ16の前面に配置され、これらを外部の粉塵や風雨から保護する機能を有する。
In this figure, the impact-resistant
The
The
In this example, the condensing
The
上述した集光レンズ14、光学フィルタ16及び光学ドーム18は、発射時の高衝撃(例えば1万G)に耐え、前記狭帯域の光3の透過率が高く、かつ転移温度が約200℃以上の耐衝撃耐熱プラスチックからなる。この耐衝撃耐熱プラスチックは、例えば、ポリエーテルイミド、ポリフェニルサルフォン又はポリフェルサルフォンである。
The condensing
また、集光レンズ14、光学フィルタ16及び光学ドーム18の一部又は全部は、その片面又は両面に薄膜多層膜20を有し、薄膜多層膜20の全体で所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成する。
薄膜多層膜20は、この例では、2枚の凸レンズ14aの両面、光学フィルタ16の前面、光学ドーム18の背面に設けられている。凸レンズ14aの両面、光学フィルタ16の前面、光学ドーム18の背面の各薄膜多層膜20は、それぞれ層数は任意であり、それぞれの母材が製造工程中に熱に晒されて悪影響が出ない範囲で設定する。
例えば、光学フィルタ16の前面の薄膜多層膜20を悪影響が出ないように10〜20層とし、その他の薄膜多層膜20を10層とした場合でも、全体で60〜70層となり、所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成することができる。
Further, a part or all of the
In this example, the
For example, even when the thin
図4は、本発明の耐衝撃光学シーカの第2実施形態を示す図である。
この図において、本発明の耐衝撃光学シーカ10は、光学センサ12、集光レンズ14、光学フィルタ16及び光学ドーム18をこの順で備える。なお集光レンズ14と光学フィルタ16はこの図と逆の順であってもよい。
FIG. 4 is a view showing a second embodiment of the impact-resistant optical seeker of the present invention.
In this figure, the impact-resistant
この例において、光学フィルタ16は、3枚の薄型フィルタ16aからなる。
また、薄膜多層膜20は、この例では、3枚の薄型フィルタ16aの両面に設けられている。3枚の薄型フィルタ16aの各薄膜多層膜20は、それぞれ層数は任意であり、それぞれの母材が製造工程中に熱に晒されて悪影響が出ない範囲で設定する。
例えば、薄型フィルタ16aの両面の薄膜多層膜20を悪影響が出ないように10〜15層とした場合でも、全体で60〜90層となり、所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成することができる。
その他の構成は第1実施形態と同様である。
In this example, the
In this example, the
For example, even when the thin
Other configurations are the same as those of the first embodiment.
図5は、本発明の耐衝撃光学シーカにおける透過率の説明図である。この図において、(A)はある薄膜多層膜20の波長と透過率の関係図、(B)は別の薄膜多層膜20の波長と透過率の関係図とする。この2枚の薄膜多層膜20を光学的に重ねて使用した場合、その波長と透過率の関係は、(C)に示すように、(A)(B)を積算した結果となり、狭帯域化される。
従って、上述したように、集光レンズ14、光学フィルタ16及び光学ドーム18の一部又は全部に、その片面又は両面に合計で60層以上の薄膜多層膜20を設けることにより、(D)に示すように、所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成することができる。
FIG. 5 is an explanatory diagram of the transmittance in the impact-resistant optical seeker of the present invention. In this figure, (A) is a relationship diagram between the wavelength and transmittance of one thin
Accordingly, as described above, a part or all of the
次に上述した耐衝撃光学シーカ10の製造方法を説明する。
本発明の方法は、発射時に高衝撃(例えば1万G)を受け、所定の狭帯域の光3を検出する耐衝撃光学シーカ10の製造方法である。
Next, a method for manufacturing the above-described impact-resistant
The method of the present invention is a method of manufacturing an impact-resistant
本発明の製造方法では、まず集光レンズ14、光学フィルタ16、および光学ドーム18を、発射時の高衝撃に耐え、光3の透過率が高く、かつ転移温度が約200℃以上の耐衝撃耐熱プラスチックで製造する。この耐衝撃耐熱プラスチックは、例えばポリエーテルイミド、ポリフェニルサルフォン又はポリフェルサルフォンである。
次に、本発明の製造方法の第1実施形態では、集光レンズ14、光学フィルタ16及び光学ドーム18の一部又は全部の片面又は両面に薄膜多層膜20を成膜し、薄膜多層膜20の全体で所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成する。
この薄膜多層膜20は、真空蒸着、イオンアシスト蒸着、又はスパッタリングにより、中間に冷却期間を取りながら、耐衝撃耐熱プラスチックの転移温度以下で成膜する。
In the manufacturing method of the present invention, first, the condensing
Next, in the first embodiment of the manufacturing method of the present invention, the thin
The thin
この方法によれば、薄膜多層膜20を複数の光学素子に分散して配置し、各光学素子の薄膜多層膜20の層数を熱影響を受けない範囲に低減することができる。
According to this method, the thin
本発明の製造方法の第2実施形態では、まず、集光レンズ14、光学フィルタ16及び光学ドーム18の一部又は全部の片面又は両面と同形状の耐熱仮母材を準備する。
次いで、この耐熱仮母材の表面に、剥離層を形成し、次いでこの剥離層の表面に薄膜多層膜20を、真空蒸着、イオンアシスト蒸着、又はスパッタリングにより成膜する。
次いで剥離層を除去して薄膜多層膜20を耐熱仮母材から分離し、集光レンズ14、光学フィルタ16及び光学ドーム18の一部又は全部の片面又は両面に貼付ける。
その他の方法は第1実施形態と同様である。
In the second embodiment of the manufacturing method of the present invention, first, a heat-resistant temporary base material having the same shape as one or both surfaces of a part or all of the
Next, a release layer is formed on the surface of the heat-resistant temporary base material, and then a thin
Next, the release layer is removed, the thin
Other methods are the same as those in the first embodiment.
この方法によれば、耐熱仮母材として耐熱性の高い材料(耐熱ガラス、セラミックス、金属、等)を用いることができ、熱影響を考慮することなく、多層の薄膜多層膜20を自由に製造することができる。
According to this method, a material having high heat resistance (heat-resistant glass, ceramics, metal, etc.) can be used as the heat-resistant temporary base material, and the multi-layered thin
上述した本発明の装置及び方法によれば、集光レンズ14、光学フィルタ16及び光学ドーム18の一部又は全部が、その片面又は両面に薄膜多層膜20を有し、薄膜多層膜20の全体で所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成するので、この狭帯域に相当する光(例えばレーザビーム)を高いS/N比で検出することができる。
According to the apparatus and method of the present invention described above, a part or all of the
また、集光レンズ12、光学フィルタ16及び光学ドーム18は、発射時の高衝撃に耐える耐衝撃性の高い耐衝撃耐熱プラスチックからなるので、1万Gを超える高衝撃を受けても、割れ、ひびなどの損傷をほとんど受けない。
In addition, the
従って、もともと耐衝撃性のあるプラスチック母材を用いることで、従来のガラス材が持つ衝撃に対する脆弱性を解決することができる。 Therefore, by using a plastic base material that originally has impact resistance, it is possible to solve the fragility of conventional glass materials with respect to impact.
なお、本発明は上述した実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更できることは勿論である。 It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified without departing from the gist of the present invention.
1 基板(ガラス又はプラスチック)、2 単層薄膜、3 波長λの光、
10 耐衝撃光学シーカ、12 光学センサ、
14 集光レンズ、16 光学フィルタ、
18 光学ドーム
1 substrate (glass or plastic), 2 single layer thin film, 3 wavelength light,
10 shockproof optical seeker, 12 optical sensor,
14 condenser lens, 16 optical filter,
18 Optical Dome
Claims (5)
前記光を検出する光学センサと、
該光学センサの前面に配置された集光レンズ及び光学フィルタと、
該集光レンズ及び光学フィルタの前面に配置されこれらを保護する光学ドームとを備え、
前記集光レンズ、光学フィルタ及び光学ドームは、前記高衝撃に耐え、前記光の透過率が高く、かつ転移温度が約200℃以上の耐衝撃耐熱プラスチックからなり、
前記集光レンズ、光学フィルタ及び光学ドームの一部又は全部は、その片面又は両面に薄膜多層膜を有し、該薄膜多層膜の全体で所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成する、ことを特徴とする耐衝撃光学シーカ。 It is an impact-resistant optical seeker that receives a high impact at the time of launch and detects light of a predetermined narrow band,
An optical sensor for detecting the light;
A condenser lens and an optical filter disposed in front of the optical sensor;
An optical dome disposed in front of the condenser lens and the optical filter to protect them,
The condensing lens, the optical filter, and the optical dome are made of an impact-resistant heat-resistant plastic that can withstand the high impact, has a high light transmittance, and has a transition temperature of about 200 ° C. or more.
A part or all of the condensing lens, the optical filter, and the optical dome has a thin film multilayer film on one or both surfaces thereof, and the entire thin film multilayer film constitutes a predetermined narrow band pass filter. Characteristic impact-resistant optical seeker.
前記光を検出する光学センサの前面に配置される集光レンズ及び光学フィルタと、その前面に配置されこれらを保護する光学ドームとを、前記高衝撃に耐え、前記光の透過率が高く、かつ転移温度が約200℃以上の耐衝撃耐熱プラスチックで製造し、
更に、前記集光レンズ、光学フィルタ及び光学ドームの一部又は全部の片面又は両面に薄膜多層膜を成膜し、該薄膜多層膜の全体で所定の狭帯域のバンドパスフィルタを構成する、ことを特徴とする耐衝撃光学シーカの製造方法。 A method of manufacturing an impact-resistant optical seeker that receives a high impact during launch and detects light of a predetermined narrow band,
A condensing lens and an optical filter disposed on the front surface of the optical sensor for detecting the light, and an optical dome disposed on the front surface for protecting the condensing lens, withstands the high impact, has a high light transmittance, and Manufactured with impact and heat resistant plastics with a transition temperature of about 200 ° C or higher,
Furthermore, a thin film multilayer film is formed on one or both surfaces of the condensing lens, the optical filter, and the optical dome, and the entire thin film multilayer film constitutes a predetermined narrow-band bandpass filter. A method for producing an impact-resistant optical seeker characterized by
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008007903A JP5288442B2 (en) | 2008-01-17 | 2008-01-17 | Shock-resistant optical seeker and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008007903A JP5288442B2 (en) | 2008-01-17 | 2008-01-17 | Shock-resistant optical seeker and its manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009168663A JP2009168663A (en) | 2009-07-30 |
JP5288442B2 true JP5288442B2 (en) | 2013-09-11 |
Family
ID=40969996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008007903A Expired - Fee Related JP5288442B2 (en) | 2008-01-17 | 2008-01-17 | Shock-resistant optical seeker and its manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5288442B2 (en) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63161398A (en) * | 1986-12-24 | 1988-07-05 | 株式会社東芝 | Guidance system |
JPH0324601U (en) * | 1989-07-18 | 1991-03-14 | ||
JPH0351333U (en) * | 1989-09-22 | 1991-05-20 | ||
JP4345123B2 (en) * | 1999-02-24 | 2009-10-14 | 株式会社ニコン | Resin bonded optical element and manufacturing method thereof |
JP2004109775A (en) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Alps Electric Co Ltd | Optical variable filter |
-
2008
- 2008-01-17 JP JP2008007903A patent/JP5288442B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009168663A (en) | 2009-07-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3361295B1 (en) | Optical polarizing filter | |
US7095026B2 (en) | Methods and apparatuses for selectively limiting undesired radiation | |
TWI618921B (en) | Non-contact thermal sensor module | |
JP4936554B2 (en) | Prism device and optical and radio frequency combined beam steering system | |
US9547178B2 (en) | Dichroic image splitter | |
RU2512089C2 (en) | Variable transmission composite interference filter | |
JP2006235139A (en) | Optical system for focusing two wavelengths | |
EP1723462B1 (en) | Optical sight comprising means for combining information from a lcd | |
JP5148839B2 (en) | Antireflection film for infrared light | |
KR101589644B1 (en) | Optical apparatus for infrared and laser | |
US9766375B2 (en) | Antireflection film, lens, and imaging device | |
JP4963028B2 (en) | ND filter and light quantity reduction device using the ND filter | |
US20150192763A1 (en) | Coatings for use with long wavelength detection, optical system including the same, and associated methods | |
JP5288442B2 (en) | Shock-resistant optical seeker and its manufacturing method | |
JP4963027B2 (en) | ND filter, method for manufacturing the same, and light quantity reduction device using them | |
JP2010175941A (en) | Optical filter and method of manufacturing the same, and image capturing apparatus having the same | |
WO2019032158A2 (en) | Two-color inverse telephoto refractive optical form with external pupil for cold shielding | |
US10948349B2 (en) | Multi-spectrum imaging | |
JPH08334603A (en) | Optical film and optical element for infrared region | |
JP7093194B2 (en) | Light source angle measuring device and artificial satellite | |
KR101589636B1 (en) | Optical apparatus for infrared and laser | |
US20170026589A1 (en) | Multi-spectrum imaging | |
JP2021096283A (en) | Lens system | |
JP2003149434A (en) | Optical film for ir region and optical element | |
JP6982951B2 (en) | Silicon substrate with functional film for infrared rays |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130515 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5288442 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |