JP5287455B2 - Hole injection transport layer forming composition, method for manufacturing hole injection transport layer forming composition, organic electroluminescence device, organic EL display, and organic EL lighting - Google Patents

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本発明は有機電界発光素子の正孔注入輸送層を形成するための組成物とその製造方法に関する。
本発明はまた、この正孔注入輸送層形成用組成物を用いて形成された正孔注入輸送層を有する有機電界発光素子およびその製造方法、並びにこの有機電界発光素子を用いた有機ELディスプレイおよび有機EL照明に関する。
The present invention relates to a composition for forming a hole injecting and transporting layer of an organic electroluminescent device and a method for producing the same.
The present invention also provides an organic electroluminescent device having a hole injecting and transporting layer formed using the composition for forming a hole injecting and transporting layer, a method for producing the same, an organic EL display using the organic electroluminescent device, and The present invention relates to organic EL lighting.

近年、有機薄膜を用いた電界発光素子(有機電界発光素子)の開発が行われている。有機電界発光素子における有機薄膜の形成方法としては、真空蒸着法と湿式成膜法が挙げられる。   In recent years, an electroluminescent element (organic electroluminescent element) using an organic thin film has been developed. Examples of the method for forming the organic thin film in the organic electroluminescence device include a vacuum deposition method and a wet film formation method.

真空蒸着法は、複数の層を積層形成すること(積層化)が容易であるため、陽極および/または陰極からの電荷注入の改善、励起子の発光層封じ込めが容易であるという利点を有する。   The vacuum deposition method has an advantage that it is easy to laminate a plurality of layers (lamination), and therefore, it is easy to improve charge injection from the anode and / or the cathode and to confine excitons in the light emitting layer.

一方、湿式成膜法は真空プロセスが要らず、大面積化が容易で、1つの層(塗布液)に様々な機能をもった複数の材料を混合して入れることが容易である等の利点がある。   On the other hand, the wet film formation method does not require a vacuum process, is easy to increase in area, and can be easily mixed with a plurality of materials having various functions in one layer (coating liquid). There is.

しかしながら、湿式成膜法は積層化が困難であるため、湿式成膜による素子は、真空蒸着法による素子に比べて駆動安定性に劣り、一部を除いて実用レベルに至っていないのが現状である。例えば、塗布液の溶剤として、各々有機溶剤と水系溶剤とを使用するなどして、二層の積層化は可能であるが、三層以上の積層化は困難であった。   However, since the wet film formation method is difficult to stack, the element formed by the wet film formation is inferior in driving stability to the element formed by the vacuum vapor deposition method, and has not reached the practical level except for a part. is there. For example, two layers can be stacked by using an organic solvent and an aqueous solvent as the solvent of the coating solution, respectively, but it is difficult to stack three or more layers.

このような湿式成膜法による積層化における問題点を解決するために、特許文献1では、層形成材料として重合性基を有するトリアリールアミン誘導体が提案され、有機溶剤を使用した積層化の技術が開示されている。
このような重合性基を有する化合物は、通常、有機電界発光素子の正孔輸送層に用いられる。しかしながら、重合性基を有する化合物を用いて形成された正孔輸送層を有する素子は耐久性が低く、寿命が短いという問題点があった。
In order to solve such a problem in the lamination by the wet film forming method, Patent Document 1 proposes a triarylamine derivative having a polymerizable group as a layer forming material, and a technique for lamination using an organic solvent. Is disclosed.
A compound having such a polymerizable group is usually used for a hole transport layer of an organic electroluminescence device. However, an element having a hole transport layer formed using a compound having a polymerizable group has a problem of low durability and short lifetime.

国際公開第WO2005/083812号パンフレットInternational Publication No. WO2005 / 083812 Pamphlet

本発明は、重合性基を有する化合物を含有する正孔注入輸送層形成用組成物であって、この組成物を用いて形成した正孔注入輸送層を有する有機電界発光素子の耐久性を高め、長寿命化を図ることができる正孔注入輸送層形成用組成物およびその製造方法と、この組成物を用いて形成された正孔注入輸送層を有する高耐久性かつ長寿命の有機電界発光素子およびその製造方法と、この有機電界発光素子を用いた有機ELディスプレイおよび有機EL照明を提供することを課題とする。   The present invention relates to a composition for forming a hole injecting and transporting layer containing a compound having a polymerizable group, and enhancing the durability of an organic electroluminescent device having a hole injecting and transporting layer formed using this composition. , A composition for forming a hole injection / transport layer capable of extending the lifetime, a method for producing the same, and a highly durable and long-life organic electroluminescence having a hole injection / transport layer formed using the composition An object is to provide an element, a method for manufacturing the element, an organic EL display using the organic electroluminescent element, and an organic EL illumination.

本発明者らが鋭意検討した結果、重合性基を有する化合物を含有する正孔注入輸送層形成用組成物を調製した後、一定期間保存してから正孔注入輸送層の成膜に使用することにより、上記課題を解決できることが分かり、本発明に到達した。   As a result of intensive studies by the present inventors, after preparing a composition for forming a hole injecting and transporting layer containing a compound having a polymerizable group, the composition is stored for a certain period and then used for film formation of the hole injecting and transporting layer. Thus, it has been found that the above problems can be solved, and the present invention has been achieved.

すなわち、本発明は、重合性基を有する化合物および有機溶剤を含有する有機電界発光素子の正孔注入輸送層形成用組成物であって、該組成物を調製後、24時間以上保存されたことを特徴とする正孔注入輸送層形成用組成物、
陽極および陰極と、該陽極と該陰極の間に正孔注入輸送層および発光層を有する有機電界発光素子であって、該正孔注入輸送層がこの正孔注入輸送層形成用組成物を用いて形成されたことを特徴とする有機電界発光素子、
該有機電界発光素子を用いることを特徴とする有機ELディスプレイおよび有機EL照明、
重合性基を有する化合物および有機溶剤を含有する有機電界発光素子の正孔注入輸送層形成用組成物の製造方法であって、該組成物を調製後、24時間以上保存することを特徴とする正孔注入輸送層形成用組成物の製造方法、
並びに
陽極および陰極と、該陽極と該陰極の間に正孔注入輸送層および発光層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、重合性基を有する化合物と有機溶剤とを含有する組成物を調製後、24時間以上保存させた後に、該組成物を用いて、湿式成膜法で該正孔注入輸送層を形成することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法、
に存する。
That is, the present invention is a composition for forming a hole injecting and transporting layer of an organic electroluminescent device containing a compound having a polymerizable group and an organic solvent, which has been stored for 24 hours or more after the preparation of the composition. A composition for forming a hole injection transport layer,
An organic electroluminescent device having an anode and a cathode, and a hole injecting and transporting layer and a light emitting layer between the anode and the cathode, wherein the hole injecting and transporting layer uses the composition for forming a hole injecting and transporting layer An organic electroluminescence device characterized by being formed by,
An organic EL display and an organic EL illumination, characterized by using the organic electroluminescent element;
A method for producing a composition for forming a hole injecting and transporting layer of an organic electroluminescent device comprising a compound having a polymerizable group and an organic solvent, wherein the composition is stored for 24 hours or more after preparation. Method for producing composition for forming hole injection transport layer,
And a method for producing an organic electroluminescent device having an anode and a cathode, and a hole injecting and transporting layer and a light emitting layer between the anode and the cathode, the composition comprising a compound having a polymerizable group and an organic solvent After the preparation of the organic electroluminescence device, the hole injection transport layer is formed by a wet film forming method using the composition after being stored for 24 hours or more,
Exist.

本発明によれば、重合性基を有する化合物を用いて形成される正孔注入輸送層を有する有機電界発光素子を長寿命化することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the lifetime of the organic electroluminescent element which has a positive hole injection transport layer formed using the compound which has a polymeric group can be extended.

本発明の有機電界発光素子の一例を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the organic electroluminescent element of this invention.

以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例(代表例)であり、本発明は、これらの内容に特定はされない。   Embodiments of the present invention will be described in detail below. However, the description of the constituent elements described below is an example (representative example) of an embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to these contents. Not.

本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、重合性基を有する化合物および有機溶剤を含有する有機電界発光素子の正孔注入輸送層形成用組成物であって、該組成物を調製後、22時間以上保存されたことを特徴とする。   The composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention is a composition for forming a hole injecting and transporting layer of an organic electroluminescent device containing a compound having a polymerizable group and an organic solvent, and after the preparation of the composition , Stored for 22 hours or more.

有機電界発光素子の正孔注入輸送層に用いられるような重合性基を有する化合物を、有機溶剤中で長時間保存すると、保存中に重合性基を有する化合物が重合してしまい、有機溶剤への溶解性の低下あるいは組成物の粘性が高くなり塗布性が低下してしまう恐れがあるため、従来においては、重合性基を有する化合物と有機溶剤を含む組成物の保存は行われておらず、調製後は少なくとも20時間以内に使用(正孔注入輸送層の成膜)に供されていた。   When a compound having a polymerizable group such as that used in a hole injection / transport layer of an organic electroluminescent device is stored in an organic solvent for a long time, the compound having a polymerizable group is polymerized during storage, and the organic solvent is converted into an organic solvent. Conventionally, a composition containing a compound having a polymerizable group and an organic solvent has not been stored, because the solubility of the resin may decrease or the viscosity of the composition may increase and the coating property may decrease. After preparation, it was used (deposition of a hole injection transport layer) within at least 20 hours.

しかしながら、本発明者らは、このような正孔注入輸送層形成用組成物について、あえて保存という操作を行ってみたところ、保存後の組成物を用いて長寿命の素子を製造することができるという予想外の効果を得ることができた。
保存によりこのような効果が得られる理由を以下の通り推測する。
重合性基を有する化合物と有機溶剤とを含む組成物を保存することにより、組成物を構成する材料が均質化される。つまり、重合性基を有する化合物と溶媒との溶媒和が促進されて、均質に溶解又は分散した状態となる。この様な状態の組成物を用いて湿式成膜法により層を形成すると、均質に溶解又は分散していない状態に比べ、湿式成膜後、加熱などにより重合して層を形成した後に残る未反応重合性基の数が低減される。層中に、未反応重合性基があると、駆動時に素子を流れる正孔/電子によって酸化/還元反応を起こし、素子の駆動寿命に影響する可能性がある。しかしながら、本発明の組成物を用いて形成された層を有する有機電界発光素子は、上記のおそれがないため、駆動寿命が長くなるものと考えられる。
このように、保存という簡便な操作で素子の長寿命化を達成できることは、生産コストの点からも有利である。
However, the present inventors dared to perform an operation of storage on such a composition for forming a hole injecting and transporting layer, and a long-life device can be produced using the composition after storage. It was possible to obtain an unexpected effect.
The reason why such an effect is obtained by storage is presumed as follows.
By storing a composition containing a compound having a polymerizable group and an organic solvent, the materials constituting the composition are homogenized. That is, the solvation between the compound having a polymerizable group and the solvent is promoted, and a homogeneously dissolved or dispersed state is obtained. When a layer is formed by a wet film-forming method using the composition in such a state, it remains after the film is formed by polymerization by heating or the like after the wet film formation, compared to a state where it is not homogeneously dissolved or dispersed. The number of reactive polymerizable groups is reduced. If there is an unreacted polymerizable group in the layer, an oxidation / reduction reaction may be caused by holes / electrons flowing through the device during driving, which may affect the driving life of the device. However, an organic electroluminescent device having a layer formed using the composition of the present invention is considered to have a long driving life because there is no such fear.
Thus, it is advantageous from the viewpoint of production cost that the lifetime of the element can be achieved by a simple operation of storage.

なお、本発明において「正孔注入輸送層」とは、「正孔注入層」と「正孔輸送層」の総称である。即ち、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、有機電界発光素子の正孔注入層を形成するために用いてもよく、正孔輸送層を形成するために用いてもよく、正孔注入層と正孔輸送層との両方を形成するために用いてもよい。
また、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、通常、正孔注入層および/または正孔輸送層を湿式成膜法により形成するために用いられる。
In the present invention, “hole injection transport layer” is a general term for “hole injection layer” and “hole transport layer”. That is, the composition for forming a hole injection transport layer of the present invention may be used for forming a hole injection layer of an organic electroluminescence device, may be used for forming a hole transport layer, It may be used to form both the hole injection layer and the hole transport layer.
Moreover, the composition for forming a hole injection transport layer of the present invention is usually used for forming a hole injection layer and / or a hole transport layer by a wet film forming method.

[正孔注入輸送層形成用組成物]
本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、重合性基を有する化合物と有機溶剤とを含有するものである。
[Composition for forming hole injection transport layer]
The composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention contains a compound having a polymerizable group and an organic solvent.

<重合性基を有する化合物(以下、「重合性化合物」という場合がある)>
重合性化合物の重合性基とは、近傍に位置する他の分子が有する、当該重合性基と同一または異なる基と反応して、新規な化学結合を生成する基のことをいう。例えば、熱および/または活性エネルギー線の照射により、あるいは、増感剤などの他分子からエネルギーを受け取ることにより、近傍に位置する他の分子の同一または異なる基と反応して新規な化学結合を生成する基が挙げられる。
<Compound having a polymerizable group (hereinafter sometimes referred to as “polymerizable compound”)>
The polymerizable group of the polymerizable compound refers to a group that reacts with a group that is the same as or different from the polymerizable group of another molecule located in the vicinity to generate a new chemical bond. For example, by irradiation with heat and / or active energy rays, or by receiving energy from other molecules such as a sensitizer, it reacts with the same or different groups of other molecules located nearby to form a new chemical bond. Examples of the group to be generated are mentioned.

重合性化合物が有する重合性基としては、制限されるものではないが、不飽和二重結合、環状エーテル、ベンゾシクロブタン環等を含む基が好ましい。
中でも、重合性基としては、不溶化し易いという点から、下記重合性基群Tから選ばれる基が好ましい。
The polymerizable group of the polymerizable compound is not limited, but a group containing an unsaturated double bond, a cyclic ether, a benzocyclobutane ring, or the like is preferable.
Especially, as a polymeric group, the group chosen from the following polymeric group group T from the point that it is easy to insolubilize is preferable.

(重合性基群T)

Figure 0005287455
(Polymerizable group T)
Figure 0005287455

上記式中、R91〜R95は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表す。
Ar91は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基または置換基を有してもよい芳香族複素環基を表す。
In the above formula, R 91 to R 95 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
Ar 91 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent.

とりわけ、重合性基としては、電気化学的耐久性に優れるという点から、下記重合性基群T’から選ばれる基であることが好ましい。   In particular, the polymerizable group is preferably a group selected from the following polymerizable group group T ′ from the viewpoint of excellent electrochemical durability.

(重合性基群T’)

Figure 0005287455
(Polymerizable group T ′)
Figure 0005287455

なお、重合性化合物は重合性基を1つのみ有していてもよく、2つ以上有していてもよい。また、重合性化合物が重合性基を2つ以上有する場合、複数の重合性基は互いに同一であってもよく、異なるものであってもよい。   Note that the polymerizable compound may have only one polymerizable group, or may have two or more. When the polymerizable compound has two or more polymerizable groups, the plurality of polymerizable groups may be the same or different from each other.

また、本発明に係る重合性化合物は低分子化合物であっても、高分子化合物であってもよいが、耐熱性、電荷輸送性、成膜性等に優れる点において、高分子化合物であることが好ましい。
本発明における低分子化合物とは、分子量に分布を有するものではなく、単一の分子量を有する化合物をいう。また、本発明における高分子化合物とは、分子量に分布を有する化合物であって、例えば構造中に繰り返し単位を有する化合物をいう。
The polymerizable compound according to the present invention may be a low molecular compound or a high molecular compound, but is a high molecular compound in terms of excellent heat resistance, charge transporting property, film forming property, and the like. Is preferred.
The low molecular weight compound in the present invention refers to a compound having a single molecular weight rather than having a distribution in molecular weight. The polymer compound in the present invention is a compound having a distribution in molecular weight, for example, a compound having a repeating unit in the structure.

重合性化合物が低分子化合物である場合の分子量は、通常300以上、好ましくは500以上、また、通常5000以下、好ましくは2500以下の範囲である。重合性化合物の分子量が小さ過ぎると電荷輸送性が低下する場合があり、大き過ぎると溶解性が低下する場合がある。   When the polymerizable compound is a low molecular compound, the molecular weight is usually 300 or more, preferably 500 or more, and usually 5000 or less, preferably 2500 or less. If the molecular weight of the polymerizable compound is too small, the charge transport property may be lowered, and if it is too large, the solubility may be lowered.

一方、重合性化合物が高分子化合物である場合の重量平均分子量は、通常500以上、好ましくは2000以上、より好ましくは4000以上、また、通常2,000,000以下、好ましくは500,000以下、より好ましくは200,000以下の範囲である。重合性化合物の重量平均分子量がこの下限値を下回ると、重合性化合物の成膜性が低下する可能性があり、また、重合性化合物のガラス転移温度、融点および気化温度が低下するため耐熱性が著しく損なわれる可能性がある。また、重量平均分子量がこの上限値を超えると、不純物の高分子量化によって重合性化合物の精製が困難となる可能性がある。   On the other hand, the weight average molecular weight when the polymerizable compound is a polymer compound is usually 500 or more, preferably 2000 or more, more preferably 4000 or more, and usually 2,000,000 or less, preferably 500,000 or less, More preferably, it is the range of 200,000 or less. If the weight average molecular weight of the polymerizable compound is below this lower limit, the film formability of the polymerizable compound may be reduced, and the glass transition temperature, melting point and vaporization temperature of the polymerizable compound will decrease, resulting in heat resistance. May be significantly impaired. If the weight average molecular weight exceeds this upper limit, purification of the polymerizable compound may be difficult due to the high molecular weight of impurities.

なお、この重量平均分子量はSEC(サイズ排除クロマトグラフィー)測定により決定される。SEC測定では高分子量成分ほど溶出時間が短く、低分子量成分ほど溶出時間が長くなるが、分子量既知のポリスチレン(標準試料)の溶出時間から算出した校正曲線を用いて、サンプルの溶出時間を分子量に換算することによって、重量平均分子量が算出される。数平均分子量についても同様に算出される。後述の正孔輸送性ポリマー等の重量平均分子量および数平均分子量についても同様である。   The weight average molecular weight is determined by SEC (size exclusion chromatography) measurement. In SEC measurement, the elution time is shorter for higher molecular weight components and the elution time is longer for lower molecular weight components, but using the calibration curve calculated from the elution time of polystyrene (standard sample) with a known molecular weight, the elution time of the sample is changed to the molecular weight. The weight average molecular weight is calculated by conversion. The number average molecular weight is similarly calculated. The same applies to the weight average molecular weight and the number average molecular weight of a hole transporting polymer described later.

本発明において用いられる重合性化合物としては、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、フルオレン誘導体、2,4,6−トリフェニルピリジン誘導体、C60誘導体、オリゴチオフェン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体誘導体等が挙げられ、特にトリアリールアミン誘導体が好ましい。 The polymerizable compound used in the present invention, a triarylamine derivative, a carbazole derivative, a fluorene derivative, 2,4,6-triphenyl pyridine derivatives, C 60 derivatives, oligothiophene derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, condensed polycyclic Aromatic derivatives, metal complex derivatives and the like can be mentioned, and triarylamine derivatives are particularly preferable.

トリアリールアミン誘導体の中でも、電気化学的安定性および電荷輸送性が高いという理由から、下記式で表される部分構造と重合性基とを有する化合物が特に好ましい。   Among the triarylamine derivatives, a compound having a partial structure represented by the following formula and a polymerizable group is particularly preferable because of high electrochemical stability and charge transportability.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

特に好ましい重合性化合物のうち、低分子化合物の具体例としては、以下に示す構造の化合物が挙げられる。   Among the particularly preferred polymerizable compounds, specific examples of the low molecular weight compounds include compounds having the structures shown below.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

Figure 0005287455
Figure 0005287455

一方、特に好ましい重合性化合物のうち、繰り返し単位を有するものの具体例としては、以下に示す構造の化合物が挙げられる。   On the other hand, among the particularly preferred polymerizable compounds, specific examples of those having a repeating unit include compounds having the structures shown below.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

Figure 0005287455
Figure 0005287455

Figure 0005287455
Figure 0005287455

Figure 0005287455
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重合性化合物は、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物中に、何れか1種が単独で含有されていてもよく、2種以上が任意の比率および組み合わせで含有されていてもよい。   In the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention, any one of the polymerizable compounds may be contained alone, or two or more thereof may be contained in any ratio and combination. .

重合性化合物は、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物中に、通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上、さらに好ましくは0.1重量%以上、通常50重量%以下、好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下含有される。組成物中の重合性化合物の含有量が少な過ぎると、湿式成膜法による積層膜の形成に支障をきたす場合があり、多過ぎると相対的に有機溶剤等の含有量が少なくなり過ぎて、成膜性等が損なわれるおそれがある。   In the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention, the polymerizable compound is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, usually 50% by weight. % Or less, preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less. If the content of the polymerizable compound in the composition is too small, it may hinder the formation of the laminated film by the wet film formation method, and if it is too much, the content of the organic solvent or the like is relatively decreased. There is a risk that film-forming properties and the like may be impaired.

<有機溶剤>
本発明の正孔注入輸送層形成用組成物に含まれる有機溶剤の種類には特に制限はない。有機溶剤の具体例としては、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族化合物;1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン等の含ハロゲン溶剤;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル、1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル等のエーテル系溶剤;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル等の脂肪族エステル;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸イソプロピル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等のエステル系溶剤等の有機溶剤等が挙げられる。
組成物中の有機溶剤は、重合性化合物を0.05重量%以上、好ましくは重量0.5%以上、さらに好ましくは1重量%以上の濃度で溶解することができる有機溶剤であることが好ましい。
本発明の正孔注入輸送層形成用組成物に含まれる有機溶剤としては、中でもトルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族化合物が好ましい。
<Organic solvent>
There is no restriction | limiting in particular in the kind of organic solvent contained in the composition for positive hole injection transport layer formation of this invention. Specific examples of the organic solvent include aromatic compounds such as toluene, xylene, methicylene and cyclohexylbenzene; halogen-containing solvents such as 1,2-dichloroethane, chlorobenzene and o-dichlorobenzene; ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene Aliphatic ethers such as glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA), 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole, phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, Ether solvents such as aromatic ethers such as 2,3-dimethylanisole and 2,4-dimethylanisole; aliphatic esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, ethyl lactate and n-butyl lactate; phenyl acetate; Propionic acid phenyl, methyl benzoate, ethyl benzoate, isopropyl benzoate, propyl benzoate, organic solvents such as ester solvents such as benzoic acid n- butyl.
The organic solvent in the composition is preferably an organic solvent capable of dissolving the polymerizable compound at a concentration of 0.05% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more. .
As the organic solvent contained in the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention, aromatic compounds such as toluene, xylene, methicylene and cyclohexylbenzene are particularly preferable.

これらの有機溶剤は、何れか1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   Any one of these organic solvents may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio.

本発明の正孔注入輸送層形成用組成物中の有機溶剤の含有率は、通常1重量%以上、好ましくは20重量%以上、また、通常99.999重量%以下、好ましくは70重量%以下の範囲が望ましい。この範囲よりも有機溶剤の含有率が少ないと、組成物の粘性が高くなりすぎ、成膜作業性が低下する可能性がある。一方、この範囲よりも有機溶剤の含有率が多いと、塗布後、溶剤を除去して得られる膜の厚みが稼げなくなるため、成膜が困難となる傾向がある。   The content of the organic solvent in the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention is usually 1% by weight or more, preferably 20% by weight or more, and usually 99.999% by weight or less, preferably 70% by weight or less. A range of is desirable. When the content of the organic solvent is less than this range, the viscosity of the composition becomes too high, and film forming workability may be lowered. On the other hand, if the content of the organic solvent is larger than this range, the thickness of the film obtained by removing the solvent after coating cannot be obtained, and thus film formation tends to be difficult.

<正孔輸送性化合物>
本発明の正孔注入輸送層形成用組成物が正孔輸送層形成用組成物である場合、前述の重合性化合物以外の正孔輸送性化合物を含有していてもよい。
この場合、重合性化合物を含む正孔輸送性化合物の合計の組成物中の含有量が、通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上、さらに好ましくは0.1重量%以上、通常50重量%以下、好ましくは20重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下となることが好ましい。組成物中の全正孔輸送性化合物の含有量が少なすぎると電荷輸送性に優れた正孔輸送層を形成し得ず、多過ぎると相対的に有機溶剤等の含有量が少なくなり、成膜性が損なわれるおそれがある。
<Hole transporting compound>
When the hole injection transport layer forming composition of the present invention is a hole transport layer forming composition, it may contain a hole transporting compound other than the polymerizable compound described above.
In this case, the content in the total composition of the hole transporting compound including the polymerizable compound is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more. Usually, it is preferably 50% by weight or less, preferably 20% by weight or less, and more preferably 10% by weight or less. If the total hole transporting compound content in the composition is too small, a hole transporting layer excellent in charge transporting property cannot be formed. There is a risk that the film properties may be impaired.

また、この場合、組成物中の正孔輸送性化合物が、重合性化合物を含む正孔輸送性化合物を0.05重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、さらに好ましくは1重量%以上の濃度で溶解させることができる有機溶剤であることが好ましい。   In this case, the hole transporting compound in the composition is 0.05% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more of the hole transporting compound containing a polymerizable compound. An organic solvent that can be dissolved at a concentration of 1 to 5 is preferable.

<その他の成分>
本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、上記重合性化合物および有機溶剤以外に、必要に応じて、電子受容性化合物や、レベリング剤や、消泡剤等の塗布性改良剤などの各種添加剤を含んでいてもよい。また、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、後述の有機電界発光素子の正孔注入輸送層の溶解性を低下させ、正孔注入輸送層上へ他の層を湿式成膜することを可能とする重合性化合物の重合(架橋)反応を促進するための添加物等の、その他の添加剤を含んでいてもよい。
<Other ingredients>
In addition to the polymerizable compound and the organic solvent, the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention includes an electron accepting compound, a leveling agent, a coating improver such as an antifoaming agent, and the like as necessary. Various additives may be included. Further, the composition for forming a hole injection / transport layer of the present invention reduces the solubility of the hole injection / transport layer of an organic electroluminescence device described later, and wet-forms another layer on the hole injection / transport layer. Other additives such as an additive for accelerating the polymerization (crosslinking) reaction of the polymerizable compound that can be performed may be included.

この場合、組成物中の有機溶剤としては、重合性化合物と添加剤等の固形成分を0.05重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、さらに好ましくは1重量%以上の濃度で溶解する有機溶剤を使用することが好ましい。   In this case, as an organic solvent in the composition, a solid component such as a polymerizable compound and an additive is dissolved at a concentration of 0.05% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more. It is preferable to use an organic solvent.

本発明の正孔注入輸送層形成用組成物に用いられる架橋反応を促進する添加物としては、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシムエステル化合物、アゾ化合物、オニウム塩などの重合開始剤や重合促進剤、縮合多環炭化水素、ポルフィリン化合物、ジアリールケトン化合物などの光増感剤等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the additive that accelerates the crosslinking reaction used in the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention include polymerization initiation of alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime ester compounds, azo compounds, onium salts, and the like. And photosensitizers such as an agent, a polymerization accelerator, a condensed polycyclic hydrocarbon, a porphyrin compound, and a diaryl ketone compound. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の正孔注入輸送層形成用組成物が、このような架橋反応を促進する添加物を含む場合、その含有量は、重合性基を有する化合物に対して通常0.001重量%以上、好ましくは0.005重量%以上で、通常50重量%以下、好ましくは20重量%以下である。この含有量が少な過ぎると、架橋反応を促進する添加物を配合したことによる架橋反応の促進効果を十分に得ることができず、多過ぎても添加量に見合う効果は得られず、相対的に他の成分の含有量が低減することにより、成膜性等の低下のおそれがある。   When the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention contains an additive that promotes such a crosslinking reaction, the content thereof is usually 0.001% by weight or more based on the compound having a polymerizable group, It is preferably 0.005% by weight or more, usually 50% by weight or less, preferably 20% by weight or less. If the content is too small, the effect of promoting the crosslinking reaction due to the blending of the additive that promotes the crosslinking reaction cannot be obtained sufficiently, and if the content is too large, the effect corresponding to the added amount cannot be obtained. In addition, when the content of other components is reduced, the film formability and the like may be reduced.

また、電子受容性化合物としては、下記詳述する有機電界発光素子の正孔注入層に含有される電子受容性化合物として後述したものの1種または2種以上を使用することができる。
本発明の正孔注入輸送層形成用組成物が電子受容性化合物を含む場合、その含有量は重合性基を有する化合物に対して通常0.001重量%以上、好ましくは0.005重量%以上で、通常50重量%以下、好ましくは20重量%以下である。この含有量が少な過ぎると電子受容性化合物を配合したことによる電荷移動性の向上効果を十分に得ることができず、多過ぎても添加量に見合う効果は得られず、相対的に他の成分の含有量が低減することにより、成膜性等の低下のおそれがある。
Moreover, as an electron-accepting compound, the 1 type (s) or 2 or more types of what was mentioned later as an electron-accepting compound contained in the positive hole injection layer of the organic electroluminescent element explained in full detail below can be used.
When the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention contains an electron accepting compound, the content thereof is usually 0.001% by weight or more, preferably 0.005% by weight or more with respect to the compound having a polymerizable group. In general, it is 50% by weight or less, preferably 20% by weight or less. If the content is too small, the effect of improving the charge mobility due to the compounding of the electron accepting compound cannot be obtained sufficiently, and if the content is too large, the effect commensurate with the added amount cannot be obtained. If the content of the component is reduced, the film formability may be lowered.

<保存>
本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、組成物に配合される上述の配合成分を用いて正孔注入輸送層形成用組成物を調製後、即ち、組成物の調製が完了した後、該組成物を22時間以上保存してなるものである。
尚、本発明における「22時間以上保存」とは、組成物の調製が完了後、該組成物を用いる迄に22時間以上経過させることを意味し、例えば、特定の場所で静置する場合のみを意味するものではない。
<Save>
The composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention is prepared after the composition for forming a hole injecting and transporting layer is prepared by using the above-described blending components blended in the composition, that is, after the preparation of the composition is completed. The composition is stored for 22 hours or longer.
In the present invention, “storage for 22 hours or more” means that, after the preparation of the composition is completed, it takes 22 hours or more to use the composition. For example, only when the composition is allowed to stand at a specific place. Does not mean.

ここで、正孔注入輸送層形成用組成物の調製の完了とは、前述の重合性化合物の有機溶剤への溶解が完了した時点をさす。即ち、重合性化合物を有機溶剤に添加して、当該有機溶剤が溶解すべき量の重合性化合物が溶解した時点をさす。   Here, the completion of the preparation of the composition for forming a hole injecting and transporting layer refers to the time when the above-described polymerizable compound is completely dissolved in the organic solvent. That is, the time when the polymerizable compound is added to the organic solvent and the amount of the polymerizable compound in which the organic solvent should be dissolved is dissolved.

本発明において、正孔注入輸送層形成用組成物の調製後の保存期間は、通常22時間以上、好ましくは1日間以上(この1日とは24時間をさす。)、通常60日間以下、好ましくは30日間以下、さらに好ましくは15日間以下、より好ましくは11日間以下、特に好ましくは7日以下、最も好ましくは3日間(72時間)以下である。
上記範囲内であると、組成物中の重合性化合物と有機溶剤との均質が十分になされる為、本発明の効果が良好に得られる。
In the present invention, the storage period after the preparation of the composition for forming a hole injecting and transporting layer is usually 22 hours or more, preferably 1 day or more (this 1 day means 24 hours), usually 60 days or less, preferably Is 30 days or less, more preferably 15 days or less, more preferably 11 days or less, particularly preferably 7 days or less, and most preferably 3 days (72 hours) or less.
Within the above range, the polymerizable compound in the composition and the organic solvent are sufficiently homogenized, so that the effects of the present invention can be obtained satisfactorily.

好ましい保存条件としては、次のような条件が挙げられる。
保存温度は、通常40℃以下、好ましくは30℃以下、通常0℃以上、好ましく10℃以上である。
上記範囲内であると、固形分が析出しにくいため得られる膜の均一性が良好である。また、組成物中に含まれる重合性化合物の重合性基が反応しにくいため、組成物中の重合性化合物と有機溶剤との均質性が向上し、得られる膜の均一性がよい。
保存湿度は、通常0.001%以上、また通常50%以下、好ましくは20%である。
上記範囲内であると、組成物に混入する水分が少なくなり、重合性基が反応しにくくなるため好ましい。尚、下限値については、理想的には0%である。
保存雰囲気は、不活性ガス雰囲気下が好ましく、不活性ガスとして具体的には窒素、アルゴン等が挙げられ、これらの混合ガス中であってもよいが、取り扱いが容易な点で、好ましくは窒素である。
なお、保存圧力は通常大気圧である。
Preferred conditions for storage include the following conditions.
The storage temperature is usually 40 ° C. or lower, preferably 30 ° C. or lower, usually 0 ° C. or higher, preferably 10 ° C. or higher.
Within the above range, since the solid content is difficult to precipitate, the resulting film has good uniformity. Further, since the polymerizable group of the polymerizable compound contained in the composition is difficult to react, the homogeneity between the polymerizable compound and the organic solvent in the composition is improved, and the uniformity of the resulting film is good.
The storage humidity is usually 0.001% or more, usually 50% or less, preferably 20%.
Within the above range, moisture mixed into the composition is reduced, and the polymerizable group is less likely to react, which is preferable. The lower limit is ideally 0%.
The storage atmosphere is preferably an inert gas atmosphere, and specific examples of the inert gas include nitrogen, argon, etc., and these mixed gases may be used, but nitrogen is preferable in terms of easy handling. It is.
The storage pressure is usually atmospheric pressure.

本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、有機溶剤の揮発を防ぐために密閉容器で保存することが好ましい。また、紫外光による重合性化合物等の分解/重合を抑制できる点で、遮光できる容器であることが好ましい。保存容器としては、例えばパッキン付褐色ねじ口びん、ステンレス製の加圧タンクなどが好ましい。   The composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention is preferably stored in a sealed container in order to prevent volatilization of the organic solvent. Moreover, it is preferable that it is a container which can light-shield from the point which can suppress decomposition | disassembly / superposition | polymerization of the polymeric compound etc. by ultraviolet light. As the storage container, for example, a brown screw mouth bottle with packing, a pressurized tank made of stainless steel, and the like are preferable.

[有機電界発光素子の製造方法]
本発明の有機電界発光素子の製造方法は、陽極および陰極と、該陽極と該陰極の間に正孔注入輸送層および発光層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、重合性基を有する化合物と有機溶剤とを含有する組成物を調製後、22時間以上保存させた後に、該組成物を用いて、湿式成膜法で該正孔注入輸送層を形成することを特徴とする。
[Method of manufacturing organic electroluminescent element]
The method for producing an organic electroluminescent element of the present invention is a method for producing an organic electroluminescent element having an anode and a cathode, and a hole injection transport layer and a light emitting layer between the anode and the cathode, After preparing a composition containing a compound having an organic solvent and storing the composition, the hole injecting and transporting layer is formed by a wet film forming method using the composition after being stored for 22 hours or more.

ここで、重合性基を有する化合物と有機溶剤とを含有する組成物の配合成分および組成等については、本発明の[正孔注入輸送層形成用組成物]における<重合性基を有する化合物(以下、「重合性化合物」という場合がある)>、<有機溶剤>、<正孔輸送性化合物>および<その他の成分>の項に記載のものと同様であり、好ましい態様も同様である。
また、重合性基を有する化合物と有機溶剤とを含有する組成物を調製後、22時間以上保存させる場合の、環境などは、前記[正孔注入輸送層形成用組成物]の<保存>の項に記載のものと同様であり、好ましい態様も同様である。
また、有機電界発光素子の構成および湿式成膜法については、後述の[有機電界発光素子]の項に記載のものが挙げられる。
Here, about the compounding component of a composition containing the compound which has a polymeric group, and an organic solvent, a composition, etc. in <the composition for positive hole injection transport layer formation> of this invention <compound which has a polymeric group ( Hereinafter, it may be referred to as “polymerizable compound”), <organic solvent>, <hole transporting compound> and <other components>, and the preferred embodiments are also the same.
The environment when the composition containing the compound having a polymerizable group and the organic solvent is prepared and stored for 22 hours or more is the same as that described in <Preservation> of [Composition for forming hole injection transport layer]. It is the same as that of description in a term, and its preferable aspect is also the same.
Moreover, about the structure and wet film-forming method of an organic electroluminescent element, the thing of the item of the below-mentioned [organic electroluminescent element] is mentioned.

[有機電界発光素子]
本発明の有機電界発光素子は、陽極、陰極、および該陽極と該陰極との間に形成された正孔注入輸送層および発光層を有する有機電界発光素子であって、該正孔注入輸送層が本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いて形成されたことを特徴とする。
本発明の有機電界発光素子において、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、正孔注入層の形成に用いられても、正孔輸送層の形成に用いられてもよく、両方の層の形成に用いられてもよい。
[Organic electroluminescence device]
The organic electroluminescent device of the present invention is an organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and a hole injection transport layer and a light emitting layer formed between the anode and the cathode, the hole injection transport layer Is formed using the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention.
In the organic electroluminescence device of the present invention, the composition for forming a hole injection transport layer of the present invention may be used for forming a hole injection layer or a hole transport layer. It may be used to form a layer.

以下に、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いて製造される有機電界発光素子の層構成およびその一般的形成方法等について、図1を参照して説明する。上述の如く、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物は、正孔輸送層の形成に用いても、正孔注入層の形成に用いてもよいが、以下では正孔輸送層を形成するために用いる場合を例示して説明する。   Below, the layer structure of the organic electroluminescent element manufactured using the composition for hole injection transport layer formation of this invention, its general formation method, etc. are demonstrated with reference to FIG. As described above, the composition for forming a hole injection transport layer of the present invention may be used for forming a hole transport layer or a hole injection layer. The case where it uses for doing is illustrated and demonstrated.

図1は本発明の有機電界発光素子の構造例を示す断面の模式図であり、図1において、1は基板、2は陽極、3は正孔注入層、4は正孔輸送層、5は発光層、6は正孔阻止層、7は電子輸送層、8は電子注入層、9は陰極を各々表す。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a structural example of an organic electroluminescent device of the present invention. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is a hole injection layer, 4 is a hole transport layer, The light emitting layer, 6 represents a hole blocking layer, 7 represents an electron transport layer, 8 represents an electron injection layer, and 9 represents a cathode.

なお、有機電界発光素子は、通常、図1に示す如く、基板1上に形成された第1の電極、発光層および第2の電極を有し、陽極2となる一方の電極と発光層5との間にさらに、正孔注入層3のみを有する場合と、正孔輸送層4と正孔注入層3とを有する場合があり、正孔輸送層4と正孔注入層3のうち、正孔注入層3のみが有機電界発光素子に設けられている場合、発光層5は該正孔注入層3の上に形成される。また、正孔輸送層4と正孔注入層3の両方が設けられている場合、発光層5は、正孔注入層3および正孔輸送層4が積層された正孔輸送層4上に形成される。   The organic electroluminescent element usually has a first electrode, a light emitting layer and a second electrode formed on the substrate 1, as shown in FIG. In addition, there may be a case where only the hole injection layer 3 is included between the hole transport layer 4 and a hole transport layer 4 and a hole injection layer 3. When only the hole injection layer 3 is provided in the organic electroluminescent element, the light emitting layer 5 is formed on the hole injection layer 3. Further, when both the hole transport layer 4 and the hole injection layer 3 are provided, the light emitting layer 5 is formed on the hole transport layer 4 in which the hole injection layer 3 and the hole transport layer 4 are laminated. Is done.

このような有機電界発光素子において、陽極2と陰極9との間の有機層を湿式成膜法で形成する場合は、以下に記載の各層の材料を溶剤へ分散または溶解させて塗布用組成物を作製し、この塗布用組成物を用いて成膜すればよい。   In such an organic electroluminescent device, when the organic layer between the anode 2 and the cathode 9 is formed by a wet film forming method, the material for each layer described below is dispersed or dissolved in a solvent to form a coating composition. And a film may be formed using this coating composition.

なお、本発明における湿式成膜法とは、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、キャピラリーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷等の溶剤を含有するインクを用いて成膜する方法をいう。これらの湿式成膜法のうち、パターニングのし易さという点で、ダイコート法、ロールコート法、スプレーコート法、インクジェット法、フレキソ印刷法が好ましい。   The wet film forming method in the present invention is a spin coating method, a dip coating method, a die coating method, a bar coating method, a blade coating method, a roll coating method, a spray coating method, a capillary coating method, an ink jet method, a screen printing method, It refers to a method of forming a film using an ink containing a solvent, such as gravure printing, flexographic printing, and offset printing. Among these wet film forming methods, a die coating method, a roll coating method, a spray coating method, an ink jet method, and a flexographic printing method are preferable from the viewpoint of easy patterning.

{基板}
基板1は有機電界発光素子の支持体となるものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシート等が用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホン等の透明な合成樹脂の板が好ましい。合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要がある。基板のガスバリア性が小さすぎると、基板を通過した外気により有機電界発光素子が劣化することがあるので好ましくない。このため、合成樹脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つである。
{substrate}
The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescent element, and a quartz or glass plate, a metal plate or a metal foil, a plastic film, a sheet, or the like is used. In particular, a glass plate or a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, polysulfone or the like is preferable. When using a synthetic resin substrate, it is necessary to pay attention to gas barrier properties. If the gas barrier property of the substrate is too small, the organic electroluminescent element may be deteriorated by the outside air that has passed through the substrate, which is not preferable. For this reason, a method of providing a gas barrier property by providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate is also a preferable method.

{陽極}
基板1上には陽極2が設けられる。陽極2は発光層5側の層(正孔注入層3または発光層5など)への正孔注入の役割を果たすものである。
この陽極2は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウムおよび/またはスズの酸化物等の金属酸化物、ヨウ化銅等のハロゲン化金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。
{anode}
An anode 2 is provided on the substrate 1. The anode 2 plays a role of hole injection into a layer on the light emitting layer 5 side (such as the hole injection layer 3 or the light emitting layer 5).
This anode 2 is usually a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, platinum, a metal oxide such as an oxide of indium and / or tin, a metal halide such as copper iodide, carbon black, or It is composed of a conductive polymer such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, or polyaniline.

陽極2の形成は通常、スパッタリング法、真空蒸着法等により行われることが多い。また、銀等の金属微粒子、ヨウ化銅等の微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末等を用いて陽極2を形成する場合には、これらを適当なバインダー樹脂溶液に分散させて、基板1上に塗布することにより陽極2を形成することもできる。さらに、導電性高分子の場合は、電解重合により直接基板1上に薄膜を形成したり、基板1上に導電性高分子を塗布して陽極2を形成することもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。   In general, the anode 2 is often formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. In addition, when the anode 2 is formed using fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, and conductive polymer fine powder, these are used as an appropriate binder. The anode 2 can also be formed by dispersing it in a resin solution and applying it onto the substrate 1. Furthermore, in the case of a conductive polymer, a thin film can be directly formed on the substrate 1 by electrolytic polymerization, or the anode 2 can be formed by applying a conductive polymer on the substrate 1 (Appl. Phys. Lett. 60, 2711, 1992).

陽極2は通常は単層構造であるが、所望により複数の材料からなる積層構造とすることも可能である。   The anode 2 usually has a single-layer structure, but it can also have a laminated structure made of a plurality of materials if desired.

陽極2の厚みは、必要とする透明性により異なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率を、通常60%以上、好ましくは80%以上とすることが好ましい。この場合、陽極2の厚みは通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下程度である。不透明でよい場合は陽極2の厚みは任意であり、陽極2は基板1と同一でもよい。また、さらには、上記の陽極2の上に異なる導電材料を積層することも可能である。   The thickness of the anode 2 varies depending on the required transparency. When transparency is required, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode 2 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 1000 nm or less, preferably about 500 nm or less. When it may be opaque, the thickness of the anode 2 is arbitrary, and the anode 2 may be the same as the substrate 1. Furthermore, it is also possible to laminate different conductive materials on the anode 2 described above.

陽極2に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させることを目的に、陽極2表面を紫外線(UV)/オゾン処理したり、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ処理したりすることは好ましい。   For the purpose of removing impurities adhering to the anode 2 and adjusting the ionization potential to improve the hole injection property, the surface of the anode 2 is treated with ultraviolet (UV) / ozone, or with oxygen plasma or argon plasma. It is preferable to do.

{正孔注入層}
正孔注入層3は、陽極2から発光層5へ正孔を輸送する層であり、通常、陽極2上に形成される。正孔注入層3は真空蒸着法で形成しても、湿式成膜法で形成してもよい。
{Hole injection layer}
The hole injection layer 3 is a layer that transports holes from the anode 2 to the light emitting layer 5, and is usually formed on the anode 2. The hole injection layer 3 may be formed by a vacuum deposition method or a wet film formation method.

<正孔注入層の材料>
正孔注入層3の材料とは、正孔注入層3に含有されるものである。
湿式成膜法により正孔注入層3を形成する場合、通常は、正孔注入層3を構成する材料を適切な溶剤(正孔注入層用溶剤)と混合して正孔注入層形成用の塗布用組成物(以下、適宜「正孔注入層形成用組成物」ということがある)を調製し、この正孔注入層形成用組成物を適切な手法により、正孔注入層3の下層に該当する層(通常は、陽極)上に塗布して成膜し、乾燥することにより正孔注入層3を形成する。
この正孔注入層3の材料は、正孔注入層3を形成しうるものであれば特に制限は無い。以下、正孔注入層の材料について説明する。
<Material of hole injection layer>
The material of the hole injection layer 3 is contained in the hole injection layer 3.
When the hole injection layer 3 is formed by a wet film formation method, the material for forming the hole injection layer 3 is usually mixed with an appropriate solvent (solvent for the hole injection layer) to form the hole injection layer. A coating composition (hereinafter sometimes referred to as “hole injection layer forming composition”) is prepared, and this hole injection layer forming composition is applied to the lower layer of the hole injection layer 3 by an appropriate technique. The hole injection layer 3 is formed by coating on a corresponding layer (usually an anode), forming a film, and drying.
The material of the hole injection layer 3 is not particularly limited as long as it can form the hole injection layer 3. Hereinafter, the material of the hole injection layer will be described.

正孔注入層3の材料としては、正孔輸送性化合物を用いることが好ましい。
正孔輸送性化合物としては、高分子量の正孔輸送性化合物や低分子量の正孔輸送性化合物が挙げられる。
As a material for the hole injection layer 3, it is preferable to use a hole transporting compound.
Examples of the hole transporting compound include a high molecular weight hole transporting compound and a low molecular weight hole transporting compound.

(高分子量の正孔輸送性化合物)
正孔注入層3の材料として用いられる高分子量の正孔輸送性化合物(以下適宜、「正孔輸送性ポリマー」という)は、正孔輸送性を有するものであれば特に制限はないが、4.5eV〜5.5eVのイオン化ポテンシャルを有する化合物であることが好ましい。なお、イオン化ポテンシャルは物質のHOMO(最高被占分子軌道)レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義され、光電子分光法で直接測定されるか、電気化学的に測定した参加電位を基準電極に対して補正しても求められる。後者の方法の場合は、例えば、飽和甘コウ電極(SCE)を基準電極として用いたとき、下記式で表される(”MolecularSemiconductors”,Springer−Verlag,1985年,pp.98)。
イオン化ポテンシャル = 酸化電位(vs.SCE)+4.3eV
(High molecular weight hole transporting compound)
The high molecular weight hole transporting compound (hereinafter referred to as “hole transporting polymer” as appropriate) used as the material of the hole injection layer 3 is not particularly limited as long as it has hole transporting properties. A compound having an ionization potential of .5 eV to 5.5 eV is preferable. The ionization potential is defined as the energy required to emit electrons at the HOMO (highest occupied molecular orbital) level of a material to the vacuum level, and can be measured directly by photoelectron spectroscopy or electrochemically. It can also be obtained by correcting the participation potential obtained with respect to the reference electrode. In the case of the latter method, for example, when a saturated sweet potato electrode (SCE) is used as a reference electrode, it is represented by the following formula ("Molecular Semiconductors", Springer-Verlag, 1985, pp. 98).
Ionization potential = oxidation potential (vs. SCE) + 4.3 eV

正孔注入層3の材料として用いられる正孔輸送性ポリマーの重量平均分子量は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常1000以上、好ましくは2000以上、より好ましくは3000以上、また、通常50万以下、好ましくは20万以下、より好ましくは10万以下である。   The weight average molecular weight of the hole transporting polymer used as the material of the hole injection layer 3 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 1000 or more, preferably 2000 or more, more preferably 3000 or more, Usually, it is 500,000 or less, preferably 200,000 or less, more preferably 100,000 or less.

正孔輸送性ポリマーの例としては、芳香族アミン化合物、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体等が挙げられる。中でも、非晶質性、溶剤への溶解度、可視光の透過率の点から、芳香族アミン化合物が好ましい。   Examples of the hole transporting polymer include aromatic amine compounds, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, oligothiophene derivatives, and the like. Of these, aromatic amine compounds are preferred from the viewpoints of amorphousness, solubility in solvents, and visible light transmittance.

芳香族アミン化合物の中でも、特に芳香族三級アミン化合物が好ましい。なお、ここでいう芳香族三級アミン化合物とは、芳香族三級アミン構造を有する化合物であって、芳香族三級アミン由来の基を有する化合物も含む。芳香族三級アミン化合物の種類は特に制限されないが、表面平滑化効果の点から、重量平均分子量が1000以上、100万以下の高分子化合物が更に好ましい。   Of the aromatic amine compounds, aromatic tertiary amine compounds are particularly preferable. In addition, the aromatic tertiary amine compound here is a compound having an aromatic tertiary amine structure, and includes a compound having a group derived from an aromatic tertiary amine. The type of the aromatic tertiary amine compound is not particularly limited, but a polymer compound having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less is more preferable from the viewpoint of the surface smoothing effect.

正孔輸送性ポリマーは1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   Only 1 type may be used for a positive hole transport polymer, and it may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

正孔注入層3中の正孔輸送性ポリマーの割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、正孔注入層3全体に対する重量百分率の値で、通常10重量%以上、好ましくは30重量%以上、また、通常99.9重量%以下、好ましくは99重量%以下である。なお、2種以上の正孔輸送性ポリマーを併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The ratio of the hole transporting polymer in the hole injection layer 3 is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, but is usually 10% by weight or more, preferably in terms of the weight percentage with respect to the whole hole injection layer 3. Is 30% by weight or more, usually 99.9% by weight or less, preferably 99% by weight or less. In addition, when using together 2 or more types of hole transportable polymers, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

(低分子量の正孔輸送性化合物)
正孔注入層3の材料としては、低分子量の正孔輸送性化合物を用いてもよい。
低分子量の正孔輸送性化合物は、従来、有機電界発光素子における正孔注入・輸送性の薄膜形成材料として利用されてきた各種の化合物の中から、適宜選択することが可能である。中でも、溶剤溶解性の高いものが好ましい。
低分子量の正孔輸送性化合物の好ましい例としては、芳香族アミン化合物が挙げられる。中でも、芳香族三級アミン化合物が特に好ましい。
(Low molecular weight hole transport compound)
As a material for the hole injection layer 3, a low molecular weight hole transporting compound may be used.
The low molecular weight hole transporting compound can be appropriately selected from various compounds conventionally used as a hole injecting / transporting thin film forming material in an organic electroluminescence device. Among them, those having high solvent solubility are preferable.
Preferable examples of the low molecular weight hole transporting compound include aromatic amine compounds. Of these, aromatic tertiary amine compounds are particularly preferred.

なお、低分子量の正孔輸送性化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常200以上、好ましくは400以上、より好ましくは600以上、また、通常5000以下、好ましくは3000以下、より好ましくは2000以下、更に好ましくは1700以下、特に好ましくは1400以下の範囲である。この分子量が小さ過ぎると耐熱性が低くなる傾向がある一方で、低分子量の正孔輸送性化合物の分子量が大き過ぎると合成および精製が困難となる傾向がある。   The molecular weight of the low molecular weight hole transporting compound is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 200 or more, preferably 400 or more, more preferably 600 or more, and usually 5000 or less, preferably Is not more than 3000, more preferably not more than 2000, still more preferably not more than 1700, particularly preferably not more than 1400. If the molecular weight is too small, the heat resistance tends to be low, whereas if the molecular weight of the low molecular weight hole transporting compound is too large, synthesis and purification tend to be difficult.

なお、低分子量の正孔輸送性化合物は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, a low molecular weight hole transportable compound may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

(正孔輸送性化合物の含有量)
正孔注入層3中の正孔輸送性化合物の合計の割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、正孔注入層3全体に対する重量百分率の値で、通常10重量%以上、好ましくは30重量%以上、また、通常99.9重量%以下、好ましくは99重量%以下である。なお、2種以上の正孔輸送性化合物を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにすることが好ましい。
(Hole-transporting compound content)
The total proportion of the hole transporting compounds in the hole injection layer 3 is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, and is a weight percentage with respect to the whole hole injection layer 3 and is usually 10% by weight or more. , Preferably 30% by weight or more, and usually 99.9% by weight or less, preferably 99% by weight or less. In addition, when using together 2 or more types of hole transportable compounds, it is preferable that these total content is contained in the said range.

また、正孔注入層形成用組成物中の正孔輸送性化合物の濃度としては、本発明の効果を著しく損なわない限り制限はないが、通常0.01重量%以上、好ましくは0.1重量%以上、さらに好ましくは0.5重量%以上、また、通常70重量%以下、好ましくは60重量%以下、さらに好ましくは50重量%以下である。この濃度が高すぎると塗布性が低下して膜厚ムラが生じる可能性があり、また、低すぎると膜に欠陥が生じる可能性がある。なお、2種以上の正孔輸送性化合物を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The concentration of the hole transporting compound in the composition for forming a hole injection layer is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.1% by weight. % Or more, more preferably 0.5% by weight or more, and usually 70% by weight or less, preferably 60% by weight or less, more preferably 50% by weight or less. If this concentration is too high, coating properties may be reduced and film thickness unevenness may occur, and if it is too low, defects may occur in the film. In addition, when using together 2 or more types of hole transportable compounds, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

(電子受容性化合物)
正孔注入層3の材料として、正孔輸送性化合物の他、電子受容性化合物を用いることが好ましい。電子受容性化合物の種類は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。その例としては、4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンダフルオロフェニル)ボラート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート等の有機基の置換したオニウム塩;塩化鉄(III)(特開平11−251067号公報)、ペルオキソ二硫酸アンモニウム等の高原子価の無機化合物;テトラシアノエチレン等のシアノ化合物、トリス(ペンダフルオロフェニル)ボラン(特開2003−31365号公報)等の芳香族ホウ素化合物;フラーレン誘導体;ヨウ素等が挙げられる。
(Electron-accepting compound)
As a material for the hole injection layer 3, it is preferable to use an electron accepting compound in addition to a hole transporting compound. The kind of electron-accepting compound is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples thereof include onium salts substituted with an organic group such as 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium tetrakis (pendafluorophenyl) borate and triphenylsulfonium tetrafluoroborate; No. 251067), high-valence inorganic compounds such as ammonium peroxodisulfate; cyano compounds such as tetracyanoethylene; aromatic boron compounds such as tris (pendafluorophenyl) borane (JP-A-2003-31365); fullerene derivatives ; Iodine etc. are mentioned.

上記の化合物のうち、強い酸化力を有する点で、有機基の置換したオニウム塩、高原子価の無機化合物が好ましく、種々の溶剤に可溶である点で、有機基の置換したオニウム塩、シアノ化合物、芳香族ホウ素化合物が好ましい。さらに、強い酸化力と高い溶解性とを両立する点から、有機基の置換したオニウム塩が最も好ましい。   Of the above compounds, an onium salt substituted with an organic group is preferable in terms of having strong oxidizing power, and an inorganic compound having a high valence is preferable, and an onium salt substituted with an organic group in terms of being soluble in various solvents, A cyano compound and an aromatic boron compound are preferable. Furthermore, an onium salt substituted with an organic group is most preferable from the viewpoint of achieving both strong oxidizing power and high solubility.

正孔注入層3の材料として、電子受容性化合物は、何れか1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で用いてもよい。   As a material for the hole injection layer 3, any one of the electron-accepting compounds may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

正孔注入層3および正孔注入層形成用組成物中における電子受容性化合物の含有量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、上述の正孔輸送性化合物に対する割合で、通常0.1重量%以上、好ましくは1重量%以上、また、通常100重量%以下、好ましくは60重量%以下、更に好ましくは50重量%以下である。電子受容性化合物の量は多い方が不溶化しやすいため好ましく、加熱時間が短時間で不溶化することができるが、過度に多いと成膜性が低下したり、電荷注入・輸送性が低下したりする恐れがある。なお、2種以上の電子受容性化合物を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The content of the electron-accepting compound in the hole injection layer 3 and the composition for forming the hole injection layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. It is usually 0.1% by weight or more, preferably 1% by weight or more, and usually 100% by weight or less, preferably 60% by weight or less, and more preferably 50% by weight or less. A larger amount of the electron-accepting compound is preferable because it is more easily insolubilized, and can be insolubilized in a short time. However, if it is excessively large, the film formability is lowered, and the charge injection / transport property is lowered. There is a fear. In addition, when using together 2 or more types of electron-accepting compounds, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

(その他の成分)
正孔注入層3の材料としては、本発明の効果を著しく損なわない限り、上述した正孔輸送性ポリマー、電子受容性化合物および低分子量の正孔輸送性化合物に加えて、さらに、その他の成分を含有させても良い。その他の成分の例としては、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バインダー樹脂、塗布性改良剤などが挙げられる。なお、その他の成分は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
(Other ingredients)
As a material for the hole injection layer 3, in addition to the above-described hole transporting polymer, electron accepting compound, and low molecular weight hole transporting compound, in addition to the above-described hole transporting polymer, other components, as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. May be included. Examples of other components include various light emitting materials, electron transporting compounds, binder resins, and coating property improving agents. In addition, only 1 type may be used for another component and it may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

(正孔注入層用溶剤)
正孔注入層形成用組成物に含有させる正孔注入層用溶剤としては、正孔注入層3の形成が可能である限り任意のものを用いることができる。ただし、前述の正孔輸送性化合物、電子受容性化合物といった正孔注入層3の材料のうち、少なくとも1種、好ましくは全ての材料を溶解することが可能なものが好ましい。具体的な溶解性としては、常温、常圧下で、正孔輸送性ポリマー等の正孔輸送性化合物を通常0.005重量%以上、中でも0.5重量%以上、特には1重量%以上溶解することが好ましく、電子受容性化合物を通常0.001重量%以上、中でも0.1重量%以上、特には0.2重量%以上溶解することが好ましい。
(Solvent for hole injection layer)
As the solvent for the hole injection layer to be contained in the composition for forming the hole injection layer, any solvent can be used as long as the hole injection layer 3 can be formed. However, among the materials of the hole injection layer 3 such as the above-described hole transporting compound and electron accepting compound, those capable of dissolving at least one, preferably all of the materials are preferable. As specific solubility, a hole transporting compound such as a hole transporting polymer is usually 0.005% by weight or more, particularly 0.5% by weight or more, and particularly 1% by weight or more at room temperature and normal pressure. It is preferable to dissolve the electron-accepting compound in an amount of usually 0.001% by weight or more, particularly 0.1% by weight or more, and particularly 0.2% by weight or more.

正孔注入層用溶剤としては、疎水性の溶剤を用いることが好ましく、好ましい溶剤としては、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、アミド系溶剤が挙げられる。具体的には、エーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル等の脂肪族エステル;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらは何れか1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で用いてもよい。ただし、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤は、電子受容性化合物と正孔輸送性ポリマーを溶解する能力が低いため、エーテル系溶剤およびエステル系溶剤と混合して用いることが好ましい。   As the hole injection layer solvent, a hydrophobic solvent is preferably used, and preferred solvents include ether solvents, ester solvents, aromatic hydrocarbon solvents, and amide solvents. Specifically, examples of the ether solvent include aliphatic ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA); 1,2-dimethoxybenzene, 1, 3 -Aromatic ethers such as dimethoxybenzene, anisole, phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, 2,4-dimethylanisole; ethyl acetate, n-butyl acetate, Aliphatic esters such as ethyl lactate and n-butyl lactate; Aromatic esters such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, n-butyl benzoate; benzene, toluene, xylene, etc. Aromatic carbonization Motokei solvent; N, N-dimethylformamide, N, N-amide solvent of dimethylacetamide and the like; dimethyl sulfoxide and the like. Any one of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio. However, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene have a low ability to dissolve the electron-accepting compound and the hole-transporting polymer, so it is preferable to use a mixture with an ether solvent and an ester solvent. .

正孔注入層形成用組成物中の正孔注入層用溶剤の含有量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10重量%以上、好ましくは30重量%以上、より好ましくは50%重量以上、また、通常99.999重量%以下、好ましくは99.99重量%以下、更に好ましくは99.9重量%以下の範囲である。なお、正孔注入層用溶剤として2種以上の溶剤を混合して用いる場合には、これらの溶剤の合計がこの範囲を満たすようにする。   The content of the solvent for the hole injection layer in the composition for forming the hole injection layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10% by weight or more, preferably 30% by weight or more, more preferably. Is in the range of 50% by weight or more, usually 99.999% by weight or less, preferably 99.99% by weight or less, more preferably 99.9% by weight or less. In addition, when mixing and using 2 or more types of solvents as a solvent for positive hole injection layers, it is made for the sum total of these solvents to satisfy | fill this range.

<成膜方法>
正孔注入層形成用組成物を調製後、この組成物を湿式成膜法により、正孔注入層3の下層に該当する層(通常は、陽極2)上に塗布、成膜し、得られた塗膜を乾燥して、正孔注入層用溶剤を除去することにより、正孔注入層3が形成される。湿式成膜法の方式は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されず、前述のいかなる方式も採用することができる。
<Film formation method>
After preparing the composition for forming the hole injection layer, the composition is obtained by applying and forming a film on the layer corresponding to the lower layer of the hole injection layer 3 (usually the anode 2) by a wet film formation method. The hole injection layer 3 is formed by drying the coated film and removing the solvent for the hole injection layer. The method of the wet film forming method is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, and any of the methods described above can be adopted.

正孔注入層3の膜厚は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常5nm以上、好ましくは10nm以上、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下の範囲である。   The thickness of the hole injection layer 3 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less.

{正孔輸送層}
図1において、正孔注入層3の上には正孔輸送層4が形成される。
本実施の形態において、正孔輸送層4は、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を前述の湿式成膜法により成膜して得られる層であり、この場合、正孔輸送層4は、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物中の重合性化合物を、熱および/または活性エネルギー線(紫外線、電子線、赤外線、マイクロ波等)の照射等により重合(架橋)して得られる層である。
{Hole transport layer}
In FIG. 1, a hole transport layer 4 is formed on the hole injection layer 3.
In the present embodiment, the hole transport layer 4 is a layer obtained by film-forming the composition for forming a hole injection / transport layer of the present invention by the above-described wet film-forming method. 4 polymerizes (crosslinks) the polymerizable compound in the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention by irradiation with heat and / or active energy rays (ultraviolet rays, electron beams, infrared rays, microwaves, etc.). It is a layer obtained.

本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を正孔注入層3上に湿式成膜法により膜形成した後の、重合性化合物の架橋のための加熱の手法は特に限定されないが、例としては加熱乾燥、減圧乾燥等が挙げられる。加熱乾燥の場合の条件としては、通常120℃以上、好ましくは400℃以下に、成膜された層を加熱する。加熱時間としては、通常1分以上、好ましくは24時間以下である。加熱手段としては特に限定されないが、成膜された層を有する積層体をホットプレート上に載せたり、オーブン内で加熱するなどの手段が用いられる。例えば、ホットプレート上で120℃以上、1分間以上加熱する等の条件を用いることができる。   The heating method for crosslinking the polymerizable compound after forming the hole injection / transport layer forming composition of the present invention on the hole injection layer 3 by a wet film forming method is not particularly limited. Examples thereof include heat drying and reduced pressure drying. As a condition in the case of heat drying, the deposited layer is usually heated to 120 ° C. or higher, preferably 400 ° C. or lower. The heating time is usually 1 minute or longer, preferably 24 hours or shorter. The heating means is not particularly limited, and means such as placing a laminated body having a deposited layer on a hot plate or heating in an oven is used. For example, conditions such as heating on a hot plate at 120 ° C. or more for 1 minute or more can be used.

光などの活性エネルギー線照射による架橋の場合には、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、赤外ランプ等の紫外・可視・赤外光源を直接用いて照射する方法、あるいは前述の光源を内蔵するマスクアライナ、コンベア型光照射装置を用いて照射する方法などが挙げられる。光以外の電磁エネルギー照射では、例えばマグネトロンにより発生させたマイクロ波を照射する装置、いわゆる電子レンジを用いて照射する方法が挙げられる。照射時間としては、膜の溶解性を低下させるために必要な条件を設定することが好ましいが、通常、0.1秒以上、好ましくは10時間以下である。   In the case of crosslinking by irradiation with active energy rays such as light, a method of irradiating directly using an ultraviolet / visible / infrared light source such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, an infrared lamp, or the above-mentioned light source And a mask aligner with a built-in, a method of irradiating using a conveyor type light irradiation device. In electromagnetic energy irradiation other than light, for example, there is a method of irradiation using a device that irradiates a microwave generated by a magnetron, a so-called microwave oven. The irradiation time is preferably set to conditions necessary for reducing the solubility of the film, but is usually 0.1 seconds or longer, preferably 10 hours or shorter.

加熱および光などの活性エネルギー線照射は、それぞれ単独で、あるいは組み合わせて行ってもよい。2種以上を組み合わせる場合、実施する順序は特に限定されない。   The irradiation of active energy rays such as heating and light may be performed alone or in combination. When combining 2 or more types, the order of implementation is not particularly limited.

加熱および光を含む活性エネルギー線照射は、その実施後に、層に含有される水分および/または表面に吸着する水分の量を低減するために、窒素ガス雰囲気等の水分を含まない雰囲気で行うことが好ましい。同様の目的で、加熱および/または光などの活性エネルギー線照射を組み合わせて行う場合には、少なくとも有機発光層の形成直前の工程を窒素ガス雰囲気等の水分を含まない雰囲気で行うことが特に好ましい。   The active energy ray irradiation including heating and light is performed in an atmosphere not containing moisture such as a nitrogen gas atmosphere in order to reduce the amount of moisture contained in the layer and / or the amount of moisture adsorbed on the surface after the execution. Is preferred. For the same purpose, when combined with heating and / or irradiation of active energy rays such as light, it is particularly preferable to perform at least the step immediately before the formation of the organic light emitting layer in an atmosphere containing no moisture such as a nitrogen gas atmosphere. .

正孔輸送層4の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。   The thickness of the hole transport layer 4 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

なお、正孔注入層3を本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いて形成する場合、正孔輸送層4は、上記方法の他、真空蒸着法で形成されてもよい。
なお、本発明の有機電界発光素子は、正孔輸送層4を省いた構成であってもよい。その場合、正孔注入層3は本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いて形成される。
In addition, when forming the positive hole injection layer 3 using the composition for positive hole injection transport layer formation of this invention, the positive hole transport layer 4 may be formed by the vacuum evaporation method other than the said method.
The organic electroluminescent device of the present invention may have a configuration in which the hole transport layer 4 is omitted. In that case, the hole injection layer 3 is formed using the hole injection transport layer forming composition of the present invention.

{発光層}
正孔注入層3の上、または正孔輸送層4を設けた場合には正孔輸送層4の上には発光層5が設けられる。発光層5は、電界を与えられた電極間において、陽極2から注入された正孔と、陰極9から注入された電子との再結合により励起されて、主たる発光源となる層である。
発光層5は真空蒸着法で形成してもよく、湿式成膜法で形成してもよいが、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いることによる湿式成膜法での積層化の効果を得る上で、湿式成膜法で形成することが好ましい。
{Light emitting layer}
When the hole injection layer 3 or the hole transport layer 4 is provided, the light emitting layer 5 is provided on the hole transport layer 4. The light emitting layer 5 is a layer that is excited by recombination of holes injected from the anode 2 and electrons injected from the cathode 9 between electrodes to which an electric field is applied, and becomes a main light emitting source.
The light emitting layer 5 may be formed by a vacuum vapor deposition method or a wet film formation method, but is laminated by a wet film formation method using the hole injection transport layer forming composition of the present invention. In order to obtain the effect, it is preferable to form the film by a wet film forming method.

<発光層の材料>
発光層5は、その構成材料として、少なくとも、発光の性質を有する材料(発光材料)を含有するとともに、好ましくは、正孔輸送の性質を有する化合物(正孔輸送性化合物)、あるいは、電子輸送の性質を有する化合物(電子輸送性化合物)を含有する。発光材料については特に限定はなく、所望の発光波長で発光し、発光効率が良好である物質を用いればよい。また、電荷輸送性化合物を2成分以上含有していることが好ましい。更に、発光層5は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、その他の成分を含有していてもよい。発光層は、湿式成膜法で形成されても、真空蒸着法で形成されてもよいが、湿式成膜法で形成されることが好ましい。
<Light emitting layer material>
The light emitting layer 5 contains at least a material having a light emitting property (light emitting material) as a constituent material, and preferably a compound having a hole transporting property (hole transporting compound) or an electron transport. A compound (electron transporting compound) having the following properties: There is no particular limitation on the light-emitting material, and a material that emits light at a desired light emission wavelength and has favorable light emission efficiency may be used. Moreover, it is preferable to contain two or more charge transport compounds. Furthermore, the light emitting layer 5 may contain other components as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. The light emitting layer may be formed by a wet film formation method or a vacuum deposition method, but is preferably formed by a wet film formation method.

なお、湿式成膜法で発光層5を形成する場合は、発光材料として分子量10000以下の低分子量の材料を使用することが好ましい。   In addition, when forming the light emitting layer 5 with a wet film-forming method, it is preferable to use a low molecular weight material with a molecular weight of 10,000 or less as the light emitting material.

(発光材料)
発光材料としては、任意の公知の材料を適用可能である。例えば、蛍光発光材料であってもよく、燐光発光材料であってもよいが、内部量子効率の観点から、好ましくは燐光発光材料である。
なお、発光材料には、溶剤への溶解性を向上させる目的で、発光材料の分子の対称性や剛性を低下させたり、或いはアルキル基などの親油性置換基を導入したりすることが好ましい。
(Luminescent material)
Any known material can be applied as the light emitting material. For example, a fluorescent material or a phosphorescent material may be used, but a phosphorescent material is preferable from the viewpoint of internal quantum efficiency.
For the purpose of improving the solubility in a solvent, it is preferable to reduce the symmetry and rigidity of the molecules of the luminescent material or introduce a lipophilic substituent such as an alkyl group into the luminescent material.

以下、発光材料のうち蛍光色素の例を挙げるが、蛍光色素は以下の例示物に限定されるものではない。
青色発光を与える蛍光色素(青色蛍光色素)としては、例えば、ナフタレン、ペリレン、ピレン、アントラセン、クリセン、クマリン、p−ビス(2−フェニルエテニル)ベンゼンおよびそれらの誘導体等が挙げられる。
緑色発光を与える蛍光色素(緑色蛍光色素)としては、例えば、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、Al(CNO)などのアルミニウム錯体等が挙げられる。

黄色発光を与える蛍光色素(黄色蛍光色素)としては、例えば、ルブレン、ペリミドン誘導体等が挙げられる。
赤色発光を与える蛍光色素(赤色蛍光色素)としては、例えば、DCM(4−(dicyanomethylene)−2−methyl−6−(p−dimethylaminostyryl)−4H−pyran)系化合物、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサンテン等が挙げられる。
Hereinafter, although the example of a fluorescent dye is mentioned among light emitting materials, a fluorescent dye is not limited to the following illustrations.
Examples of the fluorescent dye that gives blue light emission (blue fluorescent dye) include naphthalene, perylene, pyrene, anthracene, chrysene, coumarin, p-bis (2-phenylethenyl) benzene, and derivatives thereof.
Examples of fluorescent dyes that give green light emission (green fluorescent dyes) include quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and aluminum complexes such as Al (C 9 H 6 NO) 3 .

Examples of fluorescent dyes that give yellow light (yellow fluorescent dyes) include rubrene and perimidone derivatives.
Examples of fluorescent dyes that give red luminescence (red fluorescent dyes) include DCM (4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran) compounds, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzoates. Examples thereof include thioxanthene derivatives and azabenzothioxanthene.

燐光発光材料としては、例えば、長周期型周期表(以下、特に断り書きの無い限り「周期表」という場合には、長周期型周期表を指すものとする。)第7〜11族から選ばれる金属を含む有機金属錯体が挙げられる。   As the phosphorescent material, for example, a long-period type periodic table (hereinafter referred to as a long-period type periodic table when referred to as “periodic table” unless otherwise specified) is selected from the seventh to eleventh groups. And an organometallic complex containing a metal.

周期表第7〜11族から選ばれる金属として、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金等が挙げられる。   Preferred examples of the metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table include ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum, and gold.

錯体の配位子としては、(ヘテロ)アリールピリジン配位子、(ヘテロ)アリールピラゾール配位子などの(ヘテロ)アリール基とピリジン、ピラゾール、フェナントロリンなどが連結した配位子が好ましく、特にフェニルピリジン配位子、フェニルピラゾール配位子が好ましい。ここで、(ヘテロ)アリールとは、アリール基またはヘテロアリール基を表す。   As the ligand of the complex, a ligand in which a (hetero) aryl group such as a (hetero) arylpyridine ligand or a (hetero) arylpyrazole ligand and a pyridine, pyrazole, phenanthroline, or the like is connected is preferable. A pyridine ligand and a phenylpyrazole ligand are preferable. Here, (hetero) aryl represents an aryl group or a heteroaryl group.

燐光発光材料として、具体的には、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム、トリス(2−フェニルピリジン)ルテニウム、トリス(2−フェニルピリジン)パラジウム、ビス(2−フェニルピリジン)白金、トリス(2−フェニルピリジン)オスミウム、トリス(2−フェニルピリジン)レニウム、オクタエチル白金ポルフィリン、オクタフェニル白金ポルフィリン、オクタエチルパラジウムポルフィリン、オクタフェニルパラジウムポルフィリン等が挙げられる。   Specific examples of the phosphorescent material include tris (2-phenylpyridine) iridium, tris (2-phenylpyridine) ruthenium, tris (2-phenylpyridine) palladium, bis (2-phenylpyridine) platinum, tris (2- Phenylpyridine) osmium, tris (2-phenylpyridine) rhenium, octaethyl platinum porphyrin, octaphenyl platinum porphyrin, octaethyl palladium porphyrin, octaphenyl palladium porphyrin, and the like.

発光材料として用いる化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10000以下、好ましくは5000以下、より好ましくは4000以下、更に好ましくは3000以下、また、通常100以上、好ましくは200以上、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上の範囲である。発光材料の分子量が小さ過ぎると、耐熱性が著しく低下したり、ガス発生の原因となったり、膜を形成した際の膜質の低下を招いたり、或いはマイグレーションなどによる有機電界発光素子のモルフォロジー変化を来したりする場合がある。一方、発光材料の分子量が大き過ぎると、当該化合物の精製が困難であったり、溶剤に溶解させる際に時間を要したりする傾向がある。   The molecular weight of the compound used as the light emitting material is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less, still more preferably 3000 or less, and usually 100 or more, Preferably it is 200 or more, More preferably, it is 300 or more, More preferably, it is the range of 400 or more. If the molecular weight of the luminescent material is too small, the heat resistance will be significantly reduced, gas generation will be caused, the film quality will be reduced when the film is formed, or the morphology of the organic electroluminescent element will be changed due to migration, etc. Sometimes come. On the other hand, if the molecular weight of the luminescent material is too large, it tends to be difficult to purify the compound, or it may take time to dissolve the compound in a solvent.

なお、上述した発光材料は、いずれか1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, only 1 type may be used for the luminescent material mentioned above, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.

発光層5における発光材料の含有割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.05重量%以上、好ましくは0.3重量%以上、より好ましくは0.5重量%以上、また、通常35重量%以下、好ましくは25重量%以下、更に好ましくは20重量%以下である。発光材料が少なすぎると発光ムラを生じる可能性があり、多すぎると発光効率が低下する可能性がある。なお、2種以上の発光材料を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The content ratio of the light emitting material in the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.05% by weight or more, preferably 0.3% by weight or more, more preferably 0.5% by weight. In addition, it is usually 35% by weight or less, preferably 25% by weight or less, and more preferably 20% by weight or less. If the amount of the light emitting material is too small, uneven light emission may occur. If the amount is too large, the light emission efficiency may be reduced. In addition, when using together 2 or more types of luminescent material, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

(正孔輸送性化合物)
発光層5には、その構成材料として、正孔輸送性化合物を含有させてもよい。ここで、正孔輸送性化合物のうち、低分子量の正孔輸送性化合物の例としては、前述の正孔注入層3における(低分子量の正孔輸送性化合物)として例示した各種の化合物のほか、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルに代表される、2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族ジアミン(特開平5−234681号公報)、4,4’,4”−トリス(1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のスターバースト構造を有する芳香族アミン化合物(Journal of Luminescence, 1997年, Vol.72−74, pp.985)、トリフェニルアミンの四量体から成る芳香族アミン化合物(Chemical Communications, 1996年, pp.2175)、2,2’,7,7’−テトラキス−(ジフェニルアミノ)−9,9’−スピロビフルオレン等のスピロ化合物(Synthetic Metals, 1997年, Vol.91, pp.209)等が挙げられる。
(Hole transporting compound)
The light emitting layer 5 may contain a hole transporting compound as a constituent material thereof. Here, among the hole transporting compounds, examples of the low molecular weight hole transporting compound include various compounds exemplified as (low molecular weight hole transporting compound) in the hole injection layer 3 described above. For example, two or more condensed aromatic rings containing two or more tertiary amines represented by 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl are bonded to the nitrogen atom. Aromatic amine compounds having a starburst structure such as substituted aromatic diamines (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234681), 4,4 ′, 4 ″ -tris (1-naphthylphenylamino) triphenylamine, etc. (Journal of Luminescence, 1997, Vol.72-74, pp.985), an aromatic amine compound comprising a tetramer of triphenylamine (Chemical Communi). ations, 1996, pp. 2175), spiro compounds such as 2,2 ′, 7,7′-tetrakis- (diphenylamino) -9,9′-spirobifluorene (Synthetic Metals, 1997, Vol. 91, pp. 209) and the like.

なお、発光層5において、正孔輸送性化合物は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In the light emitting layer 5, only one kind of hole transporting compound may be used, or two or more kinds may be used in any combination and ratio.

発光層5における正孔輸送性化合物の含有割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.1重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上、また、通常65重量%以下、好ましくは50重量%以下、更に好ましくは40重量%以下である。正孔輸送性化合物が少なすぎると短絡の影響を受けやすくなる可能性があり、多すぎると膜厚ムラを生じる可能性がある。なお、2種以上の正孔輸送性化合物を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The content ratio of the hole transporting compound in the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight. % Or more, usually 65% by weight or less, preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less. If the amount of the hole transporting compound is too small, it may be easily affected by a short circuit, and if it is too large, the film thickness may be uneven. In addition, when using together 2 or more types of hole transportable compounds, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

(電子輸送性化合物)
発光層5には、その構成材料として、電子輸送性化合物を含有させてもよい。ここで、電子輸送性化合物のうち、低分子量の電子輸送性化合物の例としては、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール(BND)や、2,5−ビス(6’−(2’,2”−ビピリジル))−1,1−ジメチル−3,4−ジフェニルシロール(PyPySPyPy)や、バソフェナントロリン(BPhen)や、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP、バソクプロイン)、2−(4−ビフェニリル)−5−(p−ターシャルブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(tBu−PBD)や、4,4’−ビス(9−カルバゾール)−ビフェニル(CBP)等が挙げられる。なお、発光層5において、電子輸送性化合物は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
(Electron transporting compound)
The light emitting layer 5 may contain an electron transporting compound as a constituent material thereof. Here, among the electron transporting compounds, examples of low molecular weight electron transporting compounds include 2,5-bis (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole (BND), 2,5, -Bis (6 '-(2', 2 "-bipyridyl))-1,1-dimethyl-3,4-diphenylsilole (PyPySPyPy), bathophenanthroline (BPhen), 2,9-dimethyl-4,7 -Diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP, bathocuproin), 2- (4-biphenylyl) -5- (p-tertiarybutylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (tBu-PBD), 4 , 4′-bis (9-carbazole) -biphenyl (CBP), etc. In the light emitting layer 5, only one type of electron transporting compound may be used, or two or more types may be combined arbitrarily. It may be used in combination with so and proportions.

発光層5における電子輸送性化合物の含有割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.1重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上、また、通常65重量%以下、好ましくは50重量%以下、更に好ましくは40重量%以下である。電子輸送性化合物が少なすぎると短絡の影響を受けやすくなる可能性があり、多すぎると膜厚ムラを生じる可能性がある。なお、2種以上の電子輸送性化合物を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The content ratio of the electron transporting compound in the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight. In addition, it is usually 65% by weight or less, preferably 50% by weight or less, and more preferably 40% by weight or less. If the amount of the electron transporting compound is too small, it may be easily affected by a short circuit, and if it is too large, the film thickness may be uneven. In addition, when using together 2 or more types of electron transport compounds, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

<発光層の形成>
湿式成膜法により発光層5を形成する場合は、上述の材料を適切な溶剤(発光層用溶剤)に溶解させて塗布用組成物(発光層形成用組成物)を調製し、この組成物を用いて成膜する。
<Formation of light emitting layer>
When forming the light emitting layer 5 by a wet film-forming method, the above-mentioned material is dissolved in an appropriate solvent (light emitting layer solvent) to prepare a coating composition (light emitting layer forming composition). Is used to form a film.

発光層5を湿式成膜法で形成するための塗布用組成物である発光層形成用組成物に含有させる発光層用溶剤としては、発光層の形成が可能である限り任意のものを用いることができる。ただし、前述の発光材料、正孔輸送性化合物、および電子輸送性化合物を溶解することが可能なものが好ましい。具体的な溶解性としては、常温、常圧下で、発光材料、正孔輸送性化合物あるいは電子輸送性化合物を、通常0.01重量%以上、中でも0.05重量%以上、特には0.1重量%以上溶解することが好ましい。   As the light emitting layer solvent to be contained in the light emitting layer forming composition which is a coating composition for forming the light emitting layer 5 by a wet film forming method, any solvent can be used as long as the light emitting layer can be formed. Can do. However, those capable of dissolving the light-emitting material, the hole transporting compound, and the electron transporting compound are preferable. Specifically, the solubility of the light emitting material, the hole transporting compound or the electron transporting compound is usually 0.01% by weight or more, particularly 0.05% by weight or more, particularly 0.1% at normal temperature and normal pressure. It is preferable to dissolve by weight% or more.

発光層用溶剤としては、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物に含まれる有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができる。これらの有機溶剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   As the solvent for the light emitting layer, the same solvents as those exemplified as the organic solvent contained in the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention can be used. These organic solvents may use only 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.

発光層5を形成するための発光層形成用組成物における発光層用溶剤の含有量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.01重量%以上、好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは0.5重量%以上、また、通常70重量%以下、好ましくは60重量%以下、更に好ましくは50重量%以下の範囲である。なお、発光層用溶剤として2種以上の溶剤を混合して用いる場合には、これらの溶剤の合計がこの範囲を満たすようにする。   The content of the solvent for the light emitting layer in the composition for forming the light emitting layer 5 for forming the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.01% by weight or more, preferably 0. It is 1% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more, and usually 70% by weight or less, preferably 60% by weight or less, and more preferably 50% by weight or less. In addition, when mixing and using 2 or more types of solvents as a solvent for light emitting layers, it is made for the sum total of these solvents to satisfy | fill this range.

上述した発光層5を形成するための発光層形成用組成物を、正孔輸送層4、或いは正孔輸送層4がない場合には正孔注入層3の上に湿式成膜法により塗布、成膜後、得られた塗膜を乾燥し、発光層用溶剤を除去することにより、発光層5が形成される。湿式成膜法の方式は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されず、前述のいかなる方式も採用することができる。   A composition for forming a light-emitting layer for forming the light-emitting layer 5 described above is applied by a wet film forming method on the hole-injecting layer 3 when there is no hole-transporting layer 4 or the hole-transporting layer 4. After film formation, the obtained coating film is dried and the light emitting layer solvent is removed, whereby the light emitting layer 5 is formed. The method of the wet film forming method is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, and any of the methods described above can be adopted.

発光層5の膜厚は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常3nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常200nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。発光層5の膜厚が、薄すぎると膜に欠陥が生じる可能性があり、厚すぎると駆動電圧が上昇する可能性がある。   The thickness of the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less. If the thickness of the light emitting layer 5 is too thin, defects may occur in the film, and if it is too thick, the driving voltage may increase.

{正孔阻止層}
発光層5と後述の電子注入層8との間に、正孔阻止層6を設けてもよい。正孔阻止層6は、発光層5の上に、発光層5の陰極9側の界面に接するように積層される層である。
{Hole blocking layer}
A hole blocking layer 6 may be provided between the light emitting layer 5 and an electron injection layer 8 described later. The hole blocking layer 6 is a layer laminated on the light emitting layer 5 so as to be in contact with the interface of the light emitting layer 5 on the cathode 9 side.

この正孔阻止層6は、陽極2から移動してくる正孔を陰極9に到達するのを阻止する役割と、陰極9から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送する役割とを有する。   The hole blocking layer 6 has a role of blocking holes moving from the anode 2 from reaching the cathode 9 and a role of efficiently transporting electrons injected from the cathode 9 toward the light emitting layer 5. Have

正孔阻止層6を構成する材料に求められる物性としては、電子移動度が高く正孔移動度が低いこと、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いことが挙げられる。このような条件を満たす正孔阻止層の材料としては、例えば、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(トリフェニルシラノラト)アルミニウム等の混合配位子錯体、ビス(2−メチル−8−キノラト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−8−キノリラト)アルミニウム二核金属錯体等の金属錯体、ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開平11−242996号公報)、3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7−41759号公報)、バソクプロイン等のフェナントロリン誘導体(特開平10−79297号公報)などが挙げられる。更に、国際公開第2005−022962号公報に記載の2,4,6位が置換されたピリジン環を少なくとも1個有する化合物も、正孔阻止層6の材料として好ましい。   The physical properties required for the material constituting the hole blocking layer 6 include high electron mobility, low hole mobility, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and excited triplet level (T1). Is high. Examples of the material for the hole blocking layer satisfying such conditions include bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) aluminum, and the like. Mixed metal complexes such as bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolinato) aluminum binuclear metal complexes, distyrylbiphenyl derivatives, etc. Triazole derivatives such as styryl compounds (JP-A-11-242996), 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5 (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole (JP-A-7 -41759), phenanthroline derivatives such as bathocuproine (JP-A-10-79297), and the like. That. Further, a compound having at least one pyridine ring substituted at positions 2, 4, and 6 described in International Publication No. 2005-022962 is also preferable as a material for the hole blocking layer 6.

なお、正孔阻止層6の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of the hole-blocking layer 6 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.

正孔阻止層6の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成できる。   There is no restriction | limiting in the formation method of the hole-blocking layer 6. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

正孔阻止層6の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.3nm以上、好ましくは0.5nm以上、また、通常100nm以下、好ましくは50nm以下である。   The thickness of the hole blocking layer 6 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.3 nm or more, preferably 0.5 nm or more, and usually 100 nm or less, preferably 50 nm or less.

{電子輸送層}
発光層5と後述の電子注入層8の間に、電子輸送層7を設けてもよい。
電子輸送層7は、素子の発光効率を更に向上させることを目的として設けられるもので、電界を与えられた電極間において陰極9から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送することができる化合物より形成される。
{Electron transport layer}
An electron transport layer 7 may be provided between the light emitting layer 5 and an electron injection layer 8 described later.
The electron transport layer 7 is provided for the purpose of further improving the light emission efficiency of the device, and efficiently transports electrons injected from the cathode 9 between the electrodes to which an electric field is applied in the direction of the light emitting layer 5. Formed from a compound capable of

電子輸送層7に用いられる電子輸送性化合物としては、通常、陰極9または電子注入層8からの電子注入効率が高く、かつ、高い電子移動度を有し注入された電子を効率よく輸送することができる化合物を用いる。このような条件を満たす化合物としては、例えば、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−ヒドロキシフラボン金属錯体、5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第5645948号明細書)、キノキサリン化合物(特開平6−207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛などが挙げられる。   As an electron transport compound used for the electron transport layer 7, usually, the electron injection efficiency from the cathode 9 or the electron injection layer 8 is high, and the injected electrons are transported efficiently with high electron mobility. The compound which can be used is used. Examples of the compound satisfying such conditions include metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (Japanese Patent Laid-Open No. 59-194393), metal complexes of 10-hydroxybenzo [h] quinoline, oxadiazole derivatives , Distyrylbiphenyl derivatives, silole derivatives, 3-hydroxyflavone metal complexes, 5-hydroxyflavone metal complexes, benzoxazole metal complexes, benzothiazole metal complexes, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948), quinoxaline compounds ( JP-A-6-207169), phenanthroline derivative (JP-A-5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N'-dicyanoanthraquinonediimine, n-type hydrogenated amorphous silicon carbide , N-type zinc sulfide, n-type zinc Such as emissions of zinc, and the like.

なお、電子輸送層7の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of the electron carrying layer 7 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

電子輸送層7の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。   There is no restriction | limiting in the formation method of the electron carrying layer 7. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

電子輸送層7の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。   The thickness of the electron transport layer 7 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

{電子注入層}
電子注入層8は、陰極9から注入された電子を効率良く発光層5へ注入する役割を果たす。電子注入を効率よく行なうには、電子注入層8を形成する材料は、仕事関数の低い金属が好ましい。例としては、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属等が用いられ、その膜厚は通常0.1nm以上、5nm以下が好ましい。
{Electron injection layer}
The electron injection layer 8 plays a role of efficiently injecting electrons injected from the cathode 9 into the light emitting layer 5. In order to perform electron injection efficiently, the material for forming the electron injection layer 8 is preferably a metal having a low work function. Examples include alkali metals such as sodium and cesium, alkaline earth metals such as barium and calcium, and the film thickness is preferably from 0.1 nm to 5 nm.

更に、バソフェナントロリン等の含窒素複素環化合物や8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体に代表される有機電子輸送化合物に、ナトリウム、カリウム、セシウム、リチウム、ルビジウム等のアルカリ金属をドープする(特開平10−270171号公報、特開2002−100478号公報、特開2002−100482号公報などに記載)ことにより、電子注入・輸送性が向上し優れた膜質を両立させることが可能となるため好ましい。この場合の膜厚は、通常、5nm以上、中でも10nm以上が好ましく、また、通常200nm以下、中でも100nm以下が好ましい。   Furthermore, an organic electron transport compound represented by a metal complex such as a nitrogen-containing heterocyclic compound such as bathophenanthroline or an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is doped with an alkali metal such as sodium, potassium, cesium, lithium, or rubidium ( (As described in JP-A-10-270171, JP-A-2002-1000047, JP-A-2002-1000048, etc.), it is possible to improve the electron injection / transport properties and achieve excellent film quality. preferable. In this case, the film thickness is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.

なお、電子注入層8の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of the electron injection layer 8 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

電子注入層8の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。   There is no restriction | limiting in the formation method of the electron injection layer 8. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

{陰極}
陰極9は、発光層5側の層(電子注入層8または発光層5など)に電子を注入する役割を果たすものである。
{cathode}
The cathode 9 plays a role of injecting electrons into a layer (such as the electron injection layer 8 or the light emitting layer 5) on the light emitting layer 5 side.

陰極9の材料としては、前記の陽極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効率良く電子注入を行なうには、仕事関数の低い金属が好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属またはそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。   As the material of the cathode 9, the material used for the anode 2 can be used. However, in order to perform electron injection efficiently, a metal having a low work function is preferable. For example, tin, magnesium, indium, A suitable metal such as calcium, aluminum, silver, or an alloy thereof is used. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy.

なお、陰極9の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of the cathode 9 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

陰極9の膜厚は、通常、陽極2と同様である。   The film thickness of the cathode 9 is usually the same as that of the anode 2.

さらに、低仕事関数金属から成る陰極9を保護する目的で、この上に更に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層すると、素子の安定性が増すので好ましい。この目的のために、例えば、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が使われる。なお、これらの材料は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   Further, for the purpose of protecting the cathode 9 made of a low work function metal, it is preferable to further stack a metal layer having a high work function and stable to the atmosphere because the stability of the device is increased. For this purpose, for example, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold and platinum are used. In addition, these materials may be used only by 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

{その他の層}
本発明の有機電界発光素子は、その趣旨を逸脱しない範囲において、別の構成を有していてもよい。例えば、その性能を損なわない限り、陽極2と陰極9との間に、上記説明にある層の他に任意の層を有していてもよく、また、任意の層が省略されていてもよい。
{Other layers}
The organic electroluminescent element of the present invention may have another configuration without departing from the gist thereof. For example, as long as the performance is not impaired, an arbitrary layer may be provided between the anode 2 and the cathode 9 in addition to the layers described above, and an arbitrary layer may be omitted. .

有していてもよい層としては、例えば、電子阻止層が挙げられる。
電子阻止層は、正孔注入層3または正孔輸送層4と発光層5との間に設けられ、発光層5から移動してくる電子が正孔注入層3に到達するのを阻止することで、発光層5内で正孔と電子との再結合確率を増やし、生成した励起子を発光層5内に閉じこめる役割と、正孔注入層3から注入された正孔を効率よく発光層5の方向に輸送する役割とがある。特に、発光材料として燐光材料を用いたり、青色発光材料を用いたりする場合は電子阻止層を設けることが効果的である。
Examples of the layer that may be included include an electron blocking layer.
The electron blocking layer is provided between the hole injection layer 3 or the hole transport layer 4 and the light emitting layer 5 and prevents electrons moving from the light emitting layer 5 from reaching the hole injection layer 3. Thus, the probability of recombination of holes and electrons in the light emitting layer 5 is increased, the excitons generated are confined in the light emitting layer 5, and the holes injected from the hole injection layer 3 are efficiently collected. There is a role to transport in the direction of. In particular, when a phosphorescent material or a blue light emitting material is used as the light emitting material, it is effective to provide an electron blocking layer.

電子阻止層に求められる特性としては、正孔輸送性が高く、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いこと等が挙げられる。更に、本発明においては、発光層5を本発明に係る有機層として湿式成膜法で作製する場合には、電子阻止層にも湿式成膜の適合性が求められる。このような電子阻止層に用いられる材料としては、F8−TFBに代表されるジオクチルフルオレンとトリフェニルアミンの共重合体(国際公開第2004/084260号公報記載)等が挙げられる。   The characteristics required for the electron blocking layer include high hole transportability, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and a high excited triplet level (T1). Furthermore, in the present invention, when the light emitting layer 5 is formed as an organic layer according to the present invention by a wet film formation method, the electron blocking layer is also required to be compatible with the wet film formation. Examples of the material used for such an electron blocking layer include a copolymer of dioctylfluorene and triphenylamine typified by F8-TFB (described in International Publication No. 2004/084260).

なお、電子阻止層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, the material of an electron blocking layer may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

電子阻止層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。   There is no restriction | limiting in the formation method of an electron blocking layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.

さらに陰極9と発光層5または電子輸送層7との界面に、例えばフッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF2)、酸化リチウム(Li2O)、炭酸セシウム(II)(CsCO3)等で形成された極薄絶縁膜(0.1〜5nm)を挿入することも、素子の効率を向上させる有効な方法である(Applied Physics Letters, 1997年, Vol.70, pp.152;特開平10−74586号公報;IEEE Transactions on Electron Devices, 1997年,Vol.44, pp.1245;SID 04 Digest, pp.154等参照)。 Further, at the interface between the cathode 9 and the light emitting layer 5 or the electron transport layer 7, for example, lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), lithium oxide (Li 2 O), cesium carbonate (II) (CsCO 3 ). Inserting an ultrathin insulating film (0.1 to 5 nm) formed by the above method is also an effective method for improving the efficiency of the device (Applied Physics Letters, 1997, Vol. 70, pp. 152; (Kaihei 10-74586; IEEE Transactions on Electron Devices, 1997, Vol. 44, pp. 1245; SID 04 Digest, pp. 154, etc.).

また、以上説明した層構成において、基板以外の構成要素を逆の順に積層することも可能である。例えば、図1の層構成であれば、基板1上に他の構成要素を陰極9、電子注入層8、電子輸送層7、正孔阻止層6、発光層5、正孔輸送層4、正孔注入層3、陽極2の順に設けてもよい。   Moreover, in the layer structure demonstrated above, it is also possible to laminate | stack components other than a board | substrate in reverse order. For example, in the case of the layer configuration of FIG. 1, the other components on the substrate 1 are the cathode 9, the electron injection layer 8, the electron transport layer 7, the hole blocking layer 6, the light emitting layer 5, the hole transport layer 4, the positive layer. The hole injection layer 3 and the anode 2 may be provided in this order.

更には、少なくとも一方が透明性を有する2枚の基板の間に、基板以外の構成要素を積層することにより、本発明に係る有機電界発光素子を構成することも可能である。   Furthermore, it is also possible to constitute the organic electroluminescent element according to the present invention by laminating components other than the substrate between two substrates, at least one of which is transparent.

また、基板以外の構成要素(発光ユニット)を複数段重ねた構造(発光ユニットを複数積層させた構造)とすることも可能である。その場合には、各段間(発光ユニット間)の界面層(陽極がITO、陰極がAlの場合は、それら2層)の代わりに、例えば五酸化バナジウム(V25)等からなる電荷発生層(Carrier Generation Layer:CGL)を設けると、段間の障壁が少なくなり、発光効率・駆動電圧の観点からより好ましい。 In addition, a structure in which a plurality of components (light emitting units) other than the substrate are stacked in a plurality of layers (a structure in which a plurality of light emitting units are stacked) may be employed. In that case, instead of the interface layer between the steps (between the light emitting units) (when the anode is ITO and the cathode is Al, these two layers), for example, a charge made of vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) or the like. When a generation layer (Carrier Generation Layer: CGL) is provided, a barrier between steps is reduced, which is more preferable from the viewpoint of light emission efficiency and driving voltage.

更には、本発明に係る有機電界発光素子は、単一の有機電界発光素子として構成してもよく、複数の有機電界発光素子がアレイ状に配置された構成に適用してもよく、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構成に適用してもよい。   Furthermore, the organic electroluminescent device according to the present invention may be configured as a single organic electroluminescent device, or may be applied to a configuration in which a plurality of organic electroluminescent devices are arranged in an array. You may apply to the structure by which the cathode is arrange | positioned at XY matrix form.

また、上述した各層には、本発明の効果を著しく損なわない限り、材料として説明した以外の成分が含まれていてもよい。   Each layer described above may contain components other than those described as materials unless the effects of the present invention are significantly impaired.

[有機ELディスプレイ]
本発明の有機ELディスプレイは、上述の本発明の有機電界発光素子を用いたものである。本発明の有機ELディスプレイの型式や構造については特に制限はなく、本発明の有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。
例えば、「有機ELディスプレイ」(オーム社、平成16年8月20日発行、時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載されているような方法で、本発明の有機ELディスプレイを形成することができる。
[Organic EL display]
The organic EL display of the present invention uses the above-described organic electroluminescent element of the present invention. There is no restriction | limiting in particular about the model and structure of the organic electroluminescent display of this invention, It can assemble in accordance with a conventional method using the organic electroluminescent element of this invention.
For example, the organic EL display of the present invention is formed by a method as described in “Organic EL Display” (Ohm, published on August 20, 2004, Shizushi Tokito, Chiba Adachi, Hideyuki Murata). can do.

[有機EL照明]
本発明の有機EL照明は、上述の本発明の有機電界発光素子を用いたものである。本発明の有機EL照明の型式や構造については特に制限はなく、本発明の有機電界発光素子を用いて常法に従って組み立てることができる。
[Organic EL lighting]
The organic EL illumination of the present invention uses the above-described organic electroluminescent element of the present invention. There is no restriction | limiting in particular about the model and structure of the organic EL illumination of this invention, It can assemble in accordance with a conventional method using the organic electroluminescent element of this invention.

以下に、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the description of the following examples unless it exceeds the gist.

[正孔注入輸送層形成用組成物の調製]
{実施例1}
下記構造式(H1)で表される重合性化合物(重量平均分子量158,000)を含有する正孔注入輸送層形成用組成物を以下に示す成分配合で調製した。
[Preparation of composition for forming hole injection transport layer]
{Example 1}
A composition for forming a hole injecting and transporting layer containing a polymerizable compound (weight average molecular weight 158,000) represented by the following structural formula (H1) was prepared with the following component composition.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

<正孔注入輸送層形成用組成物>
溶媒 トルエン
固形分濃度 0.4重量%
<Composition for forming hole injection transport layer>
Solvent Toluene Solid concentration 0.4 wt%

調製後(重合性化合物(H1)がトルエン中に完全に溶解したことが確認された直後)の組成物のうち、本発明サンプル1−1〜1−9の9サンプルを褐色サンプル瓶に、窒素雰囲気下で密栓し、遮光下、室温(25℃)において各々表1に示す期間保存した。尚、比較サンプル1の保存無しとは、組成物の溶解が確認された直後の溶液である。   Among the compositions after preparation (immediately after it was confirmed that the polymerizable compound (H1) was completely dissolved in toluene), 9 samples of the present invention samples 1-1 to 1-9 were placed in a brown sample bottle and nitrogen. The container was sealed under an atmosphere and stored for a period shown in Table 1 at room temperature (25 ° C.) under light shielding. Note that “no storage of comparative sample 1” means a solution immediately after the dissolution of the composition was confirmed.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

{実施例2}
上記重合性化合物(H1)を含有する正孔注入輸送層形成用組成物を以下に示す成分配合で調製した。
{Example 2}
A composition for forming a hole injecting and transporting layer containing the polymerizable compound (H1) was prepared by blending the components shown below.

<正孔注入輸送層形成用組成物>
溶媒 シクロヘキシルベンゼン
固形分濃度 1.4重量%
<Composition for forming hole injection transport layer>
Solvent Cyclohexylbenzene Solid concentration 1.4% by weight

調製後(重合性化合物(H1)がシクロヘキシルベンゼン中に完全に溶解したことが確認された直後)の組成物うち、本発明サンプル2−1を褐色サンプル瓶に、窒素雰囲気下で密栓し、遮光下、室温(25℃)において、表2に示す期間保存した。尚、比較サンプル2の保存無しとは、組成物の溶解が確認された直後の溶液である。   After preparation (immediately after it was confirmed that the polymerizable compound (H1) was completely dissolved in cyclohexylbenzene), the sample 2-1 of the present invention was sealed in a brown sample bottle under a nitrogen atmosphere and shielded from light. The sample was stored at room temperature (25 ° C.) for the period shown in Table 2. Incidentally, “no storage of Comparative Sample 2” means a solution immediately after the dissolution of the composition was confirmed.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

[有機電界発光素子の作製]
{実施例1−1}
図1に示す有機電界発光素子を作製した。
ガラス基板1上に、インジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を120nmの厚さに堆積したもの(三容真空社製、スパッタ成膜品)を、通常のフォトリソグラフィー技術と塩酸エッチングを用いて2mm幅のストライプにパターニングして陽極2を形成した。パターン形成したITO基板を、界面活性剤水溶液による超音波洗浄、超純水による水洗、超純水による超音波洗浄、超純水による水洗の順で洗浄後、圧縮空気で乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行った。
[Production of organic electroluminescence device]
{Example 1-1}
The organic electroluminescent element shown in FIG. 1 was produced.
An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film deposited on a glass substrate 1 with a thickness of 120 nm (manufactured by Sanyo Vacuum Co., Ltd., sputtered film product) using ordinary photolithography technology and hydrochloric acid etching Then, the anode 2 was formed by patterning into stripes having a width of 2 mm. The patterned ITO substrate is cleaned in the order of ultrasonic cleaning with an aqueous surfactant solution, water cleaning with ultrapure water, ultrasonic cleaning with ultrapure water, and water cleaning with ultrapure water, followed by drying with compressed air, and finally UV irradiation. Ozone cleaning was performed.

まず、下記構造式(P1)で示される繰り返し構造を有する正孔輸送性高分子化合物(重量平均分子量:26500,数平均分子量:12000)、下記構造式(A1)で示される4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、および安息香酸エチルを含有する正孔注入層形成用組成物を調製した。組成物中の化合物(P1)および化合物(A1)の濃度は、化合物(P1)が2.0重量%、化合物(A1)が0.8重量%であった。この組成物を下記条件で陽極2上にスピンコートにより塗布した後、大気中、230℃で3時間加熱乾燥し、膜厚30nmの正孔注入層3を得た。   First, a hole transporting polymer compound having a repeating structure represented by the following structural formula (P1) (weight average molecular weight: 26500, number average molecular weight: 12000), 4-isopropyl-4 represented by the following structural formula (A1) A composition for forming a hole injection layer containing '-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and ethyl benzoate was prepared. The concentration of compound (P1) and compound (A1) in the composition was 2.0% by weight for compound (P1) and 0.8% by weight for compound (A1). This composition was applied onto the anode 2 by spin coating under the following conditions, and then heated and dried at 230 ° C. for 3 hours in the air to obtain a hole injection layer 3 having a thickness of 30 nm.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

<正孔注入層3の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 30秒
スピンコート雰囲気 大気中
<Film formation conditions for hole injection layer 3>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 30 seconds Spin coat atmosphere In air

引き続き、実施例1で調製、保存した本発明サンプル1−1(保存期間1日)の正孔注入輸送層形成用組成物を用い、下記の条件で正孔注入層3上にスピンコートにより塗布した後、窒素中、230℃で1時間加熱により重合(架橋)させることにより膜厚20nmの正孔輸送層4を形成した。   Subsequently, the composition for forming a hole injection / transport layer of the inventive sample 1-1 (storage period 1 day) prepared and stored in Example 1 was applied onto the hole injection layer 3 by spin coating under the following conditions. Then, the hole transport layer 4 having a film thickness of 20 nm was formed by polymerization (crosslinking) by heating at 230 ° C. for 1 hour in nitrogen.

<正孔輸送層4の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 30秒
スピンコート雰囲気 窒素中
<Film formation conditions for hole transport layer 4>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 30 seconds Spin coat atmosphere In nitrogen

次に、以下の構造式で示される有機化合物(C1)、(C2)、(D1)および溶媒としてキシレンを含有する発光層形成用組成物を調製した。組成物中における有機化合物(C1)、(C2)、(D1)の含有量は、(C1)が1.0重量%、(C2)が1.0重量%、(D1)が0.1重量%であった。この組成物を、下記の条件で正孔輸送層4上にスピンコートにより塗布した後、窒素中、130℃で1時間加熱乾燥させることにより、膜厚60nmの発光層5を形成した。   Next, a composition for forming a light emitting layer containing organic compounds (C1), (C2), (D1) represented by the following structural formula and xylene as a solvent was prepared. The contents of the organic compounds (C1), (C2), and (D1) in the composition are 1.0% by weight for (C1), 1.0% by weight for (C2), and 0.1% for (D1). %Met. This composition was applied onto the hole transport layer 4 by spin coating under the following conditions, and then heated and dried in nitrogen at 130 ° C. for 1 hour to form a light emitting layer 5 having a thickness of 60 nm.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

<発光層5の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 30秒
スピンコート雰囲気 窒素中
<Film formation conditions of the light emitting layer 5>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 30 seconds Spin coat atmosphere In nitrogen

ここで、発光層5までを成膜した基板を真空蒸着装置内に移し、油回転ポンプにより装置の粗排気を行った後、装置内の真空度が3.0×10−4Pa以下になるまでクライオポンプを用いて排気し、次いで、下記構造式(C3)で表される化合物を真空蒸着法により発光層5上に積層成膜して正孔阻止層6を形成した。このとき、蒸着速度は0.3〜0.8Å/秒の範囲で制御し、発光層5の上に積層成膜して膜厚5nmの正孔阻止層6を形成した。蒸着時の真空度は1.3〜2.0×10−4Paであった。 Here, the substrate on which the light emitting layer 5 is formed is transferred into a vacuum vapor deposition apparatus, and after the apparatus is roughly evacuated by an oil rotary pump, the degree of vacuum in the apparatus becomes 3.0 × 10 −4 Pa or less. Then, the hole blocking layer 6 was formed by stacking the compound represented by the following structural formula (C3) on the light emitting layer 5 by a vacuum deposition method. At this time, the vapor deposition rate was controlled in the range of 0.3 to 0.8 Å / second, and a hole blocking layer 6 having a thickness of 5 nm was formed by laminating on the light emitting layer 5. The degree of vacuum at the time of deposition was 1.3 to 2.0 × 10 −4 Pa.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

続いて、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウムを加熱して蒸着を行い、電子輸送層7を成膜した。蒸着時の真空度は1.1〜1.7×10−4Pa、蒸着速度は0.5〜1.1Å/秒の範囲で制御し、膜厚30nmの膜を正孔阻止層6の上に積層して電子輸送層7を形成した。 Subsequently, tris (8-hydroxyquinolinate) aluminum was heated and evaporated to form an electron transport layer 7. The degree of vacuum during deposition is 1.1 to 1.7 × 10 −4 Pa, the deposition rate is controlled in the range of 0.5 to 1.1 Å / sec, and a film with a thickness of 30 nm is formed on the hole blocking layer 6. To form an electron transport layer 7.

ここで、電子輸送層7までの蒸着を行った素子を一度前記真空蒸着装置内より大気中に取り出して、陰極蒸着用のマスクとして2mm幅のストライプ状シャドーマスクを、陽極2のITOストライプとは直交するように素子に密着させて、別の真空蒸着装置内に設置して有機層と同様にして装置内の真空度が5.6×10−4Pa以下になるまで排気した。 Here, the element that has been deposited up to the electron transport layer 7 is once taken out from the vacuum deposition apparatus into the atmosphere, and a 2 mm wide striped shadow mask is used as a cathode deposition mask. The device was placed in close contact with each other so as to be orthogonal to each other, placed in another vacuum vapor deposition apparatus, and evacuated until the degree of vacuum in the apparatus was 5.6 × 10 −4 Pa or less in the same manner as the organic layer.

電子注入層8として、先ずフッ化リチウム(LiF)を、モリブデンボートを用いて、蒸着速度0.03〜0.2Å/秒、真空度3.0〜5.6×10−4Paで制御し、0.5nmの膜厚で電子輸送層7の上に成膜した。次に、陰極9としてアルミニウムを同様にモリブデンボートにより加熱して、蒸着速度0.5〜6.5Å/秒、真空度1.2〜10.7×10−4Paで制御して膜厚80nmのアルミニウム層を形成した。以上の2層の蒸着時の基板温度は室温に保持した。 As the electron injection layer 8, first, lithium fluoride (LiF) was controlled at a deposition rate of 0.03 to 0.2 liter / second and a degree of vacuum of 3.0 to 5.6 × 10 −4 Pa using a molybdenum boat. A film having a thickness of 0.5 nm was formed on the electron transport layer 7. Next, aluminum is similarly heated by a molybdenum boat as the cathode 9 and controlled at a deposition rate of 0.5 to 6.5 liters / second and a degree of vacuum of 1.2 to 10.7 × 10 −4 Pa to a film thickness of 80 nm. An aluminum layer was formed. The substrate temperature during the above two-layer deposition was kept at room temperature.

引き続き、素子が保管中に大気中の水分等で劣化することを防ぐため、以下に記載の方法で封止処理を行った。
窒素グローブボックス中で、23mm×23mmサイズのガラス板の外周部に、約1mmの幅で光硬化性樹脂(スリーボンド社製30Y−437)を塗布し、中央部に水分ゲッターシート(ダイニック社製)を設置した。この上に、陰極形成を終了した基板を、蒸着された面が乾燥剤シートと対向するように貼り合わせた。その後、光硬化性樹脂が塗布された領域のみに紫外光を照射し、樹脂を硬化させた。
Subsequently, in order to prevent the element from being deteriorated by moisture in the atmosphere during storage, a sealing process was performed by the method described below.
In a nitrogen glove box, a photocurable resin (30Y-437 manufactured by ThreeBond Co., Ltd.) with a width of about 1 mm is applied to the outer periphery of a 23 mm × 23 mm size glass plate, and a moisture getter sheet (manufactured by Dynic) is applied to the center. Was installed. On this, the board | substrate which complete | finished cathode formation was bonded together so that the vapor-deposited surface might oppose a desiccant sheet. Then, only the area | region where the photocurable resin was apply | coated was irradiated with ultraviolet light, and resin was hardened.

以上の様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子が得られた。   As described above, an organic electroluminescent element having a light emitting area portion having a size of 2 mm × 2 mm was obtained.

得られた有機電界発光素子について、以下の条件で連続駆動試験を行い、後述の比較例1の場合を1とした時の規格化寿命を調べ、結果を表3に示した。   About the obtained organic electroluminescent element, the continuous drive test was done on condition of the following, the normalization life when the case of the below-mentioned comparative example 1 was set to 1 was investigated, and the result was shown in Table 3.

<駆動条件>
温度 室温
駆動方式 直流駆動(DC駆動)
初期輝度 2,500cd/m
<Drive conditions>
Temperature Room temperature Drive method DC drive (DC drive)
Initial luminance 2,500 cd / m 2

表3から、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いることにより長寿命な素子が得られることがわかった。   From Table 3, it was found that a long-life device can be obtained by using the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention.

{実施例1−2〜1−9}
実施例1−1において、本発明サンプル1−1の代わりに、実施例1で調製・保存を行った正孔注入輸送層形成用組成物(本発明サンプル1−2〜1−9)を用いて正孔輸送層4を形成した他は、実施例1−1と同様にしてそれぞれ図1に示す有機電界発光素子を作製した。
得られた各有機電界発光素子について、実施例1−1と同様にして連続駆動試験を行い、後述の比較例1の場合を1とした時の規格化寿命を調べ、結果を表3に示した。
表3から、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いることにより長寿命な素子が得られることがわかった。
{Examples 1-2 to 1-9}
In Example 1-1, instead of the sample 1-1 of the present invention, the composition for forming a hole injection transport layer prepared in Example 1 (samples 1-2 to 1-9 of the present invention) was used. 1 was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the hole transport layer 4 was formed.
About each obtained organic electroluminescent element, the continuous drive test was done like Example 1-1, the normalization lifetime when the case of the below-mentioned comparative example 1 was set to 1 was investigated, and a result is shown in Table 3. It was.
From Table 3, it was found that a long-life device can be obtained by using the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention.

{比較例1}
実施例1−1において、本発明サンプル1−1の代わりに、実施例1で調製した直後の正孔注入輸送層形成用組成物(比較サンプル1)を用いて正孔輸送層4を形成した他は、実施例1−1と同様にして図1に示す有機電界発光素子を作製した。
得られた有機電界発光素子について実施例1−1と同様にして連続駆動試験を行った。
{Comparative Example 1}
In Example 1-1, the hole transport layer 4 was formed using the composition for forming a hole injection transport layer (Comparative Sample 1) immediately after the preparation in Example 1 instead of the inventive sample 1-1. Others were the same as Example 1-1, and produced the organic electroluminescent element shown in FIG.
About the obtained organic electroluminescent element, it carried out similarly to Example 1-1, and performed the continuous drive test.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

{実施例2−1}
実施例1−1において、正孔輸送層4の形成に当たり、本発明サンプル1−1の代わりに、実施例2で調製・保存を行った正孔注入輸送層形成用組成物(本発明サンプル2−1)を用い、また、発光層5および正孔阻止層6を以下のように形成した他は、実施例1−1と同様にして図1に示す有機電界発光素子を作製した。
{Example 2-1}
In Example 1-1, in forming the hole transport layer 4, instead of the sample 1-1 of the present invention, the composition for forming a hole injection transport layer prepared and stored in Example 2 (sample 2 of the present invention) The organic electroluminescent device shown in FIG. 1 was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the light emitting layer 5 and the hole blocking layer 6 were formed as follows.

<発光層>
前述の構造式で示される有機化合物(C1)、(C2)、(D1)および溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含有する発光層形成用組成物を調製した。組成物中における有機化合物(C1)、(C2)、(D1)の含有量は、(C1)が1.6重量%、(C2)が1.6重量%、(D1)が0.16重量%であった。この組成物を、下記の条件で正孔輸送層4上にスピンコートにより塗布した後、減圧下(0.1MPa)、130℃で1時間加熱乾燥させることにより、膜厚40nmの発光層5を形成した。
<Light emitting layer>
A composition for forming a light emitting layer containing the organic compounds (C1), (C2), (D1) represented by the above structural formula and cyclohexylbenzene as a solvent was prepared. The contents of the organic compounds (C1), (C2), and (D1) in the composition are 1.6% by weight for (C1), 1.6% by weight for (C2), and 0.16% for (D1). %Met. The composition was applied by spin coating on the hole transport layer 4 under the following conditions, and then dried by heating at 130 ° C. for 1 hour under reduced pressure (0.1 MPa), thereby forming the light-emitting layer 5 having a thickness of 40 nm. Formed.

<発光層5の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 30秒
スピンコート雰囲気 窒素中
<Film formation conditions of the light emitting layer 5>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 30 seconds Spin coat atmosphere In nitrogen

<正孔阻止層>
発光層5までを成膜した基板を実施例1−1と同様にして真空蒸着装置に設置して、排気を行い、下記構造式(C4)で表される化合物を真空蒸着法により発光層5上に積層成膜して正孔阻止層6を形成した。このとき、蒸着速度を0.3〜0.8Å/秒の範囲で制御し、発光層5の上に積層成膜して膜厚10nmの正孔阻止層6を形成した。蒸着時の真空度は1.3〜2.0×10−4Paであった。
<Hole blocking layer>
The substrate on which the layers up to the light-emitting layer 5 were formed was placed in a vacuum vapor deposition apparatus in the same manner as in Example 1-1, evacuated, and a compound represented by the following structural formula (C4) was formed by the vacuum vapor deposition method. A hole blocking layer 6 was formed by laminating a film thereon. At this time, the vapor deposition rate was controlled in the range of 0.3 to 0.8 Å / second, and the hole blocking layer 6 having a thickness of 10 nm was formed by stacking on the light emitting layer 5. The degree of vacuum at the time of deposition was 1.3 to 2.0 × 10 −4 Pa.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

得られた有機電界発光素子について、実施例1−1と同様にして連続駆動試験を行い、後述の比較例2の場合を1としたときの規格化寿命を調べ、結果を表4に示した。
表4から、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いることにより長寿命な素子が得られることがわかった。
About the obtained organic electroluminescent element, the continuous drive test was done like Example 1-1, the normalization lifetime when the case of the below-mentioned comparative example 2 was set to 1 was investigated, and the result was shown in Table 4. .
From Table 4, it was found that a long-life device can be obtained by using the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention.

{比較例2}
実施例2−1において、本発明サンプル2−1の代わりに、実施例2で調製した直後の正孔注入輸送層形成用組成物(比較サンプル2)を用いて正孔輸送層4を形成した他は、実施例2−1と同様にして図1に示す有機電界発光素子を作製した。
得られた有機電界発光素子について実施例1−1と同様にして連続駆動試験を行った。
{Comparative Example 2}
In Example 2-1, the hole transport layer 4 was formed using the composition for forming a hole injection transport layer (comparative sample 2) immediately after preparation in Example 2 instead of the inventive sample 2-1. Others were the same as Example 2-1, and produced the organic electroluminescent element shown in FIG.
About the obtained organic electroluminescent element, it carried out similarly to Example 1-1, and performed the continuous drive test.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

{実施例3−1}
発光層5を以下のようにして形成した他は、実施例2−1と同様にして図1に示す有機電界発光素子を作製した。
{Example 3-1}
The organic electroluminescent element shown in FIG. 1 was produced in the same manner as in Example 2-1, except that the light emitting layer 5 was formed as follows.

<発光層>
下記構造式で示される有機化合物(C5)、(D2)および溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含有する発光層形成用組成物を調製した。組成物中における有機化合物(C5)、(D2)の含有量は、(C5)が2.3重量%、(D2)が0.23重量%であった。この組成物を、下記の条件で正孔輸送層4上にスピンコートにより塗布した後、減圧下(0.1MPa)、100℃で1時間加熱乾燥させることにより、膜厚55nmの発光層5を形成した。
<Light emitting layer>
A light emitting layer forming composition containing organic compounds (C5) and (D2) represented by the following structural formula and cyclohexylbenzene as a solvent was prepared. The contents of the organic compounds (C5) and (D2) in the composition were 2.3% by weight for (C5) and 0.23% by weight for (D2). The composition was applied onto the hole transport layer 4 by spin coating under the following conditions, and then dried by heating at 100 ° C. for 1 hour under reduced pressure (0.1 MPa), whereby the light emitting layer 5 having a thickness of 55 nm was formed. Formed.

<発光層5の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 30秒
スピンコート雰囲気 窒素中
<Film formation conditions of the light emitting layer 5>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 30 seconds Spin coat atmosphere In nitrogen

Figure 0005287455
Figure 0005287455

得られた有機電界発光素子を以下の条件で連続駆動試験を行い、後述の比較例3の場合を1としたときの規格化寿命を調べ、結果を表5に示した。   The obtained organic electroluminescence device was subjected to a continuous driving test under the following conditions, and the normalized lifetime when the case of Comparative Example 3 described later was set to 1 was examined. The results are shown in Table 5.

<駆動条件>
温度 室温
駆動方式 直流駆動(DC駆動)
初期輝度 500cd/m
<Drive conditions>
Temperature Room temperature Drive method DC drive (DC drive)
Initial luminance 500 cd / m 2

表5から、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いることにより長寿命な素子が得られることがわかった。   From Table 5, it was found that a device having a long lifetime can be obtained by using the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention.

{比較例3}
実施例3−1において、本発明サンプル2−1の代わりに、実施例2で調製した直後の正孔注入輸送層形成用組成物(比較サンプル2)を用いて正孔輸送層4を形成した他は、実施例3−1と同様にして図1に示す有機電界発光素子を作製した。
得られた有機電界発光素子について実施例3−1と同様にして連続駆動試験を行った。
{Comparative Example 3}
In Example 3-1, the hole transport layer 4 was formed using the composition for forming a hole injection transport layer (Comparative Sample 2) immediately after preparation in Example 2 instead of the inventive sample 2-1. Others were the same as Example 3-1, and produced the organic electroluminescent element shown in FIG.
About the obtained organic electroluminescent element, it carried out similarly to Example 3-1, and performed the continuous drive test.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

[正孔注入輸送層形成用塗布液の調製]
{実施例4}
下記構造式(H2)で表される重合性化合物(重量平均分子量:55,000)を含有する正孔注入輸送層形成用組成物を以下に示す成分配合で調製した。
[Preparation of coating solution for forming hole injection transport layer]
{Example 4}
A composition for forming a hole injecting and transporting layer containing a polymerizable compound (weight average molecular weight: 55,000) represented by the following structural formula (H2) was prepared by blending the components shown below.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

<正孔注入輸送層形成用組成物>
溶媒 シクロヘキシルベンゼン
固形分濃度 1.4重量%
<Composition for forming hole injection transport layer>
Solvent Cyclohexylbenzene Solid concentration 1.4% by weight

調製後(重合成化合物(H2)がシクロヘキシルベンゼン中に完全に溶解したことが確認された直後)の組成物のうち、本発明サンプル4−1を褐色サンプル瓶に、大気中で密栓し、遮光下、室温(25℃)において表6に示す期間保存した。尚、比較サンプル4の保存無しとは、組成物の溶解が確認された直後の溶液である。   Among the compositions after preparation (immediately after it was confirmed that the polysynthetic compound (H2) was completely dissolved in cyclohexylbenzene), the sample 4-1 of the present invention was sealed in a brown sample bottle in the air and shielded from light. The sample was stored at room temperature (25 ° C.) for the period shown in Table 6. Note that “no storage of comparative sample 4” means a solution immediately after the dissolution of the composition was confirmed.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

[有機電界発光素子の作製]
{実施例4−1}
図1に示す有機電界発光素子を作製した。
実施例1−1と同様にして、ガラス基板1上に陽極2を形成した。
まず、下の構造式(P2)に示す繰り返し構造を有する正孔輸送性高分子材料、前述の構造式(A1)で表される4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、および安息香酸エチルを含有する正孔注入層形成用組成物を調製した。組成物中の化合物(P2)および化合物(A1)の濃度は、化合物(P2)が2.0重量%、化合物(A1)が0.4重量%であった。この組成物を下記条件で陽極2上にスピンコートにより塗布した後、大気中、230℃で1時間加熱により重合(架橋)させることにより、膜厚30nmの正孔注入層3を得た。
[Production of organic electroluminescence device]
{Example 4-1}
The organic electroluminescent element shown in FIG. 1 was produced.
In the same manner as in Example 1-1, the anode 2 was formed on the glass substrate 1.
First, a hole-transporting polymer material having a repeating structure represented by the following structural formula (P2), 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) represented by the above structural formula (A1) A composition for forming a hole injection layer containing borate and ethyl benzoate was prepared. The concentration of compound (P2) and compound (A1) in the composition was 2.0% by weight for compound (P2) and 0.4% by weight for compound (A1). This composition was applied on the anode 2 by spin coating under the following conditions, and then polymerized (crosslinked) by heating at 230 ° C. for 1 hour in the air to obtain a hole injection layer 3 having a thickness of 30 nm.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

<正孔注入層3の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 30秒
スピンコート雰囲気 大気中
<Film formation conditions for hole injection layer 3>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 30 seconds Spin coat atmosphere In air

引き続き、実施例4で調製、保存した本発明サンプル4−1(保存期間24時間)の正孔注入輸送層形成用組成物を用い、下記の条件で正孔注入層3上にスピンコートにより塗布した後、窒素中、230℃で1時間加熱により重合(架橋)させることにより膜厚20nmの正孔輸送層4を形成した。   Subsequently, the composition for forming a hole injection / transport layer of the inventive sample 4-1 (storage period 24 hours) prepared and stored in Example 4 was applied onto the hole injection layer 3 by spin coating under the following conditions. Then, the hole transport layer 4 having a film thickness of 20 nm was formed by polymerization (crosslinking) by heating at 230 ° C. for 1 hour in nitrogen.

<正孔輸送層4の成膜条件>
スピナ回転数 1500rpm
スピナ回転時間 120秒
スピンコート雰囲気 窒素中
<Film formation conditions for hole transport layer 4>
Spinner speed 1500rpm
Spinner rotation time 120 seconds Spin coat atmosphere In nitrogen

次に、以下の構造式で示される有機化合物(C6)、前述の構造式で示される有機化合物(D2)および溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含有する発光層形成用組成物を調製した。組成物中における有機化合物(C6)、および(D2)の濃度は、有機化合物(C6)が3.4重量%、有機化合物(D2)が0.34重量%であった。この組成物を、下記の条件で正孔輸送層4上にスピンコートにより塗布した後、減圧下(0.1MPa)、130℃で1時間加熱乾燥させることにより、膜厚40nmの発光層5を形成した。   Next, a composition for forming a light emitting layer containing an organic compound (C6) represented by the following structural formula, an organic compound (D2) represented by the above structural formula, and cyclohexylbenzene as a solvent was prepared. Concentrations of the organic compounds (C6) and (D2) in the composition were 3.4% by weight for the organic compound (C6) and 0.34% by weight for the organic compound (D2). The composition was applied by spin coating on the hole transport layer 4 under the following conditions, and then dried by heating at 130 ° C. for 1 hour under reduced pressure (0.1 MPa), thereby forming the light-emitting layer 5 having a thickness of 40 nm. Formed.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

<発光層5の成膜条件>
スピナ回転数 1200rpm
スピナ回転時間 120秒
スピンコート雰囲気 窒素中
<Film formation conditions of the light emitting layer 5>
Spinner speed 1200rpm
Spinner rotation time 120 seconds Spin coat atmosphere In nitrogen

発光層5までを成膜した基板を実施例1−1と同様にして真空蒸着装置に設置して排気を行い、下記構造式(C7)で表される化合物を真空蒸着法により発光層5上に積層成膜して正孔阻止層6を形成した。このとき、蒸着速度を0.8〜1.0Å/秒の範囲で制御し、発光層5の上に膜厚10nmの正孔阻止層6を形成した。蒸着時の真空度は0.8〜2.0×10−4Paであった。 The substrate on which the layers up to the light emitting layer 5 were formed was placed in a vacuum vapor deposition apparatus in the same manner as in Example 1-1 and evacuated, and a compound represented by the following structural formula (C7) was formed on the light emitting layer 5 by vacuum vapor deposition. A hole blocking layer 6 was formed by laminating the film. At this time, the vapor deposition rate was controlled in the range of 0.8 to 1.0 kg / second, and the hole blocking layer 6 having a thickness of 10 nm was formed on the light emitting layer 5. The degree of vacuum during vapor deposition was 0.8 to 2.0 × 10 −4 Pa.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

電子輸送層7以降は、実施例1−1と同様にして成膜を行い、同様に封止処理を行った。
得られた有機電界発光素子について、以下の条件で連続駆動試験を行い、後述の比較例4の場合において輝度が初期輝度の80%まで減少する時間を1としたときの規格化寿命を調べ、結果を表7に示した。
After the electron transport layer 7, film formation was performed in the same manner as in Example 1-1, and sealing treatment was similarly performed.
About the obtained organic electroluminescent element, a continuous drive test was performed under the following conditions, and in the case of Comparative Example 4 described later, the normalized lifetime when the time for the luminance to be reduced to 80% of the initial luminance was set to 1 was investigated. The results are shown in Table 7.

<駆動条件>
温度 室温
駆動方式 直流駆動(DC駆動)
初期輝度 3,000cd/m
<Drive conditions>
Temperature Room temperature Drive method DC drive (DC drive)
Initial luminance 3,000 cd / m 2

表7から、本発明の正孔注入輸送層形成用組成物を用いることにより長寿命な素子が得られることがわかった。   From Table 7, it was found that a long-life device can be obtained by using the composition for forming a hole injecting and transporting layer of the present invention.

{比較例4}
実施例4−1において、本発明サンプル4−1に代わりに、実施例4で調製した直後の正孔注入輸送層形成用組成物(比較サンプル4)を用いて正孔輸送層4を形成した他は、実施例4−1と同様にして図1に示す有機電界発光素子を作製した。
得られた有機電界発光素子について、実施例4−1と同様にして連続駆動試験を行った。
{Comparative Example 4}
In Example 4-1, the hole transport layer 4 was formed using the composition for forming a hole injection transport layer (Comparative Sample 4) immediately after preparation in Example 4 instead of the inventive sample 4-1. Otherwise, the organic electroluminescent element shown in FIG. 1 was produced in the same manner as in Example 4-1.
About the obtained organic electroluminescent element, the continuous drive test was done like Example 4-1.

Figure 0005287455
Figure 0005287455

1 基板
2 陽極
3 正孔注入層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 正孔阻止層
7 電子輸送層
8 電子注入層
9 陰極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode 3 Hole injection layer 4 Hole transport layer 5 Light emitting layer 6 Hole blocking layer 7 Electron transport layer 8 Electron injection layer 9 Cathode

Claims (9)

重合性基を有する化合物および有機溶剤を含有する有機電界発光素子の正孔注入輸送層形成用組成物であって、該組成物を調製後、24時間以上保存されたことを特徴とする、正孔注入輸送層形成用組成物。 A composition for forming a hole injecting and transporting layer of an organic electroluminescent device comprising a compound having a polymerizable group and an organic solvent, wherein the composition is stored for at least 24 hours after the preparation. A composition for forming a hole injection transport layer. 保存が、40℃以下の雰囲気下で行われたことを特徴とする、請求項1に記載の正孔注入輸送層形成用組成物。   The composition for forming a hole injection transport layer according to claim 1, wherein the storage is performed in an atmosphere of 40 ° C. or less. 重合性基を有する化合物が、トリアリールアミン誘導体であることを特徴とする、請求項1または2に記載の正孔注入輸送層形成用組成物。   The composition for forming a hole injecting and transporting layer according to claim 1 or 2, wherein the compound having a polymerizable group is a triarylamine derivative. 重合性基を有する化合物が、高分子化合物であることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の正孔注入輸送層形成用組成物。   The composition for forming a hole injecting and transporting layer according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound having a polymerizable group is a polymer compound. 陽極および陰極と、該陽極と該陰極の間に正孔注入輸送層および発光層を有する有機電界発光素子であって、該正孔注入輸送層が請求項1ないし4のいずれか1項に記載の正孔注入輸送層形成用組成物を用いて形成されたことを特徴とする、有機電界発光素子。   5. An organic electroluminescent device comprising an anode and a cathode, and a hole injecting and transporting layer and a light emitting layer between the anode and the cathode, wherein the hole injecting and transporting layer is any one of claims 1 to 4. An organic electroluminescent device, characterized by being formed using the composition for forming a hole injecting and transporting layer. 請求項5に記載の有機電界発光素子を用いることを特徴とする、有機ELディスプレイ。   An organic EL display using the organic electroluminescent element according to claim 5. 請求項5に記載の有機電界発光素子を用いることを特徴とする、有機EL照明。   6. An organic EL illumination using the organic electroluminescent element according to claim 5. 重合性基を有する化合物および有機溶剤を含有する有機電界発光素子の正孔注入輸送層形成用組成物の製造方法であって、該組成物を調製後、24時間以上保存することを特徴とする、正孔注入輸送層形成用組成物の製造方法。 A method for producing a composition for forming a hole injecting and transporting layer of an organic electroluminescent device comprising a compound having a polymerizable group and an organic solvent, wherein the composition is stored for 24 hours or more after preparation. The manufacturing method of the composition for positive hole injection transport layer formation. 陽極および陰極と、該陽極と該陰極の間に正孔注入輸送層および発光層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、
重合性基を有する化合物と有機溶剤とを含有する組成物を調製後、24時間以上保存させた後に、該組成物を用いて、湿式成膜法で該正孔注入輸送層を形成することを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。
A method for producing an organic electroluminescent device having an anode and a cathode, and a hole injection transport layer and a light emitting layer between the anode and the cathode,
After preparing a composition containing a compound having a polymerizable group and an organic solvent, storing the composition for 24 hours or more, and then forming the hole injecting and transporting layer by a wet film-forming method using the composition. A method for producing an organic electroluminescent device, which is characterized by the following.
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