JP5281876B2 - Liquid crystal display element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display element suppressing malfunctions of a liquid crystal display between wirings of the liquid crystal display element while suppressing an increase in cost. <P>SOLUTION: The liquid crystal display element comprises: a first glass substrate with a segment electrode pattern and wiring patterns are formed; a second glass substrate which is arranged facing the first glass substrate and, when an interval between a common electrode pattern and the wiring pattern formed on the first glass substrate is 100 &mu;m or less, has a dummy pattern formed on an area facing the area located between the wiring patterns; film constitutions formed to cover the patterns formed on the first and second glass substrates; and a liquid crystal layer held between the first and second glass substrates. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、液晶表示素子に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display element.

図5は、従来の液晶表示素子のセグメント電極パターン基板の引き回し線間における液晶の誤動作を表す顕微鏡写真を基にした概念図である。本図において、液晶層中央部における液晶の配向方位は上下方向となっている。   FIG. 5 is a conceptual diagram based on a micrograph showing a malfunction of liquid crystal between lead lines of a segment electrode pattern substrate of a conventional liquid crystal display element. In this figure, the orientation direction of the liquid crystal in the central portion of the liquid crystal layer is the vertical direction.

図に示すように、セグメント電極パターン基板の複数の本の引き回し線のそれぞれの間の液晶が誤動作し、当該領域が表示して見えることがある。2本の引き回し線間の領域が表示して見えるのは、当該2本の引き回し線のそれぞれに例えば、ON/OFFの異なる電圧を印加した場合である。   As shown in the figure, the liquid crystal between each of the plurality of drawing lines on the segment electrode pattern substrate may malfunction and the area may appear to be displayed. The area between the two lead lines appears to be displayed when, for example, different voltages of ON / OFF are applied to each of the two lead lines.

DUTY駆動でON/OFF状態が異なるとしても、その電圧差は非常にわずかである。例えば、電圧差は概ね2V以下である。なお、ここで用いている引き回し線の線間距離は30μm以上である。このように広い線間距離であり、かつ僅かな電圧差でありながら横電界により誤動作する理由として、液晶層の液晶配列状態が電界方向に対し傾いているためと考えられる。   Even if the ON / OFF state is different in DUTY drive, the voltage difference is very small. For example, the voltage difference is approximately 2V or less. Note that the distance between the lead wires used here is 30 μm or more. The reason why the lateral electric field malfunctions with such a wide line-to-line distance and a slight voltage difference is considered to be that the liquid crystal alignment state of the liquid crystal layer is inclined with respect to the electric field direction.

これを裏付けるものとして、液晶層中央部の液晶配向方位と該引き回し線間で生じる横電界の方向が概ね45°ずれている部分(図5中、一点鎖線で囲んだ引き回し線2Wが3つに折れている中央部分)で誤動作が目立ちやすく、横電界方向と平行もしくは垂直に液晶層中央部の液晶が配向されている部分(図5中、二点鎖線で囲んだ引き回し線2Wが3つに折れている一番下の部分)では目立ちにくい傾向が見られる。   To support this, the portion where the liquid crystal alignment direction at the center of the liquid crystal layer and the direction of the transverse electric field generated between the lead lines are shifted by about 45 ° (in FIG. 5, three lead lines 2W surrounded by a one-dot chain line are divided into three. Malfunctions tend to be noticeable at the folded central part, and the liquid crystal in the central part of the liquid crystal layer is aligned parallel to or perpendicular to the transverse electric field direction (in FIG. 5, there are three lead lines 2W surrounded by a two-dot chain line). There is a tendency to be inconspicuous in the bottom part of the fold.

つまり、液晶層のセル中央付近の液晶配列状態が横電界方向に対し45°にずれている場合に最も誤動作が目立ち、横電界方向に対し平行もしくは直交している場合に最も目立たないことがわかる。   That is, the malfunction is most noticeable when the liquid crystal alignment state in the vicinity of the cell center of the liquid crystal layer is shifted by 45 ° with respect to the horizontal electric field direction, and the least noticeable when the liquid crystal layer is parallel or orthogonal to the horizontal electric field direction. .

従来、電界方向に対しセル中央付近の液晶分子の配列状態が平面方向に予め傾いていると閾値の無い電気光学特性を示すことが知られている。また、液晶の挙動は電界強度ではなく電圧差により応答することが知られている。ただし、理想的な場合であり、実際には概ね100μm以上電極間距離が離れると僅かな電圧差では応答しなくなる。図5を参照して説明したような誤動作は、上記のような条件がそろったため生じたものと考えられる。   Conventionally, it has been known that when the alignment state of liquid crystal molecules in the vicinity of the center of the cell with respect to the electric field direction is inclined in advance in the plane direction, an electro-optical characteristic having no threshold is exhibited. In addition, it is known that the behavior of liquid crystals responds not by electric field strength but by voltage difference. However, this is an ideal case. Actually, when the distance between the electrodes is about 100 μm or more, the response does not occur with a slight voltage difference. The malfunction as described with reference to FIG. 5 is considered to have occurred because the above conditions are met.

ここで、誤動作の部分は、非常に細いため、通常では顕微鏡を持ち無ければ観察されず、問題にならない。しかし、図5に示すように引き回し線が密になり、誤動作の部分がある程度集まっている場合や、背景がネガ表示でバックライトが明るい場合には、目立ちやすくなってしまう傾向がある。   Here, since the malfunctioning portion is very thin, it is usually not observed unless a microscope is held, and does not cause a problem. However, as shown in FIG. 5, when the lead lines are dense and there are some malfunctioning parts, or when the background is negative and the backlight is bright, there is a tendency that the lines become conspicuous.

上述したような誤動作を解消するための対策としては、引き回し線間の距離を広くすることも考えられ、概ね100μm以上離すと誤動作は生じなくなる。しかし、配線の設計上、どうしても密に配線しなければならない場合があり、そのような対策を常に採れるとは限らない。また、液晶が90°ツイストでラビング方向が45°、135°、225°、315°より選択される構成の場合においては、配線を密にする部分の配線方向をラビング方向に対して45°の角度をなすようにすれば誤動作による表示は目立たなくなるが、設計上確実にその方向にあわせることは非常に困難である。   As a measure for eliminating the above-described malfunction, it is conceivable to increase the distance between the drawing lines. When the distance is approximately 100 μm or more, malfunction does not occur. However, due to the wiring design, there is a case where it is inevitably necessary to carry out dense wiring, and such a measure cannot always be taken. In the case where the liquid crystal is 90 ° twisted and the rubbing direction is selected from 45 °, 135 °, 225 °, and 315 °, the wiring direction of the portion where the wiring is dense is 45 ° with respect to the rubbing direction. If the angle is set, the display due to the malfunction becomes inconspicuous, but it is very difficult to make sure that the direction is aligned in design.

さらに、上述したような誤動作を解消するための対策として、セグメント電極の引き回し線上に遮光膜等を設けることが提案されている(特許文献1及び2参照)。しかし、遮光膜等を設けることは、製造コストの増加を招くという問題がある。また、遮光膜を設けることでは、ノーマリー・ブラック(ノーマリーオフ)型の液晶表示装置における誤動作にしか対応することができない。   Furthermore, as a countermeasure for eliminating the above-described malfunction, it has been proposed to provide a light shielding film or the like on the lead line of the segment electrode (see Patent Documents 1 and 2). However, the provision of a light shielding film or the like has a problem in that the manufacturing cost increases. In addition, providing a light-shielding film can cope only with a malfunction in a normally black (normally off) liquid crystal display device.

特開平5−241144号公報JP-A-5-241144 特開2007−114729号公報JP 2007-114729 A

本発明の目的は、コストの増加を抑えつつ液晶表示素子の引き回し線間における液晶表示の誤動作を抑制することである。   An object of the present invention is to suppress a malfunction of a liquid crystal display between lead lines of a liquid crystal display element while suppressing an increase in cost.

本発明の一観点によれば、液晶表示素子は、セグメント電極パターンと、引き回し線パターンとが形成された第1のガラス基板と、前記第1のガラス基板に対向配置され、コモン電極パターンと、前記第1のガラス基板上に形成された引き回し線パターンの間隔が100μm以下である当該引き回し線パターン間に対向する領域に形成されたダミーパターンとを有する第2のガラス基板と、前記第1及び第2のガラス基板上に形成されるパターンを覆って形成された配向膜を含む膜構成と、前記第1及び第2のガラス基板間に挟持された液晶層とを有する。前記第1及び第2のガラス基板を重ね合わせ、前記引き回し線パターンと前記ダミーパターンとが平面視上重なっている部分が20μm以下であり、前記第2のガラス基板の前記引き回し線パターンに対向する領域においては、前記ダミーパターンが形成されている位置以外の基板上の位置に、前記膜構成が直接形成されている。 According to an aspect of the present invention, a liquid crystal display element includes a first glass substrate on which a segment electrode pattern and a lead line pattern are formed, a counter electrode disposed on the first glass substrate, a common electrode pattern, A second glass substrate having a dummy pattern formed in a region facing between the lead line patterns, the gap between the lead line patterns formed on the first glass substrate being 100 μm or less ; A film structure including an alignment film formed to cover a pattern formed on the second glass substrate; and a liquid crystal layer sandwiched between the first and second glass substrates. The first and second glass substrates are overlapped, and the portion where the lead line pattern and the dummy pattern overlap in plan view is 20 μm or less and faces the lead line pattern of the second glass substrate. In the region, the film configuration is directly formed at a position on the substrate other than the position where the dummy pattern is formed.

本発明によれば、コストの増加を抑えつつ液晶表示素子の引き回し線間における液晶表示の誤動作を抑制することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the malfunctioning of the liquid crystal display between the drawing lines of a liquid crystal display element can be suppressed, suppressing an increase in cost.

図1は、本発明の第1の実施例によるセグメント電極パターン基板及びコモン電極パターン基板を用いた液晶表示素子101の断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display element 101 using a segment electrode pattern substrate and a common electrode pattern substrate according to a first embodiment of the present invention.

パターニングしたITO付きセグメント電極パターン基板1A及びコモン電極パターン基板1B(以降、両基板をあわせて単にガラス基板1と呼ぶ)を洗浄し、該ガラス基板1上にフレキソ印刷にて絶縁膜(有機系酸化シリコン膜)4を500〜2000Åの厚さで形成する。この絶縁膜4は必須では無いが、上下基板間の短絡防止のため形成することが望ましい。フレキソ印刷の他に、メタルマスクを用い、蒸着やスパッタなどの方法で絶縁膜を形成してもよい。   The patterned segment electrode pattern substrate with ITO 1A and the common electrode pattern substrate 1B (hereinafter, both substrates are simply referred to as a glass substrate 1) are washed, and an insulating film (organic oxide) is formed on the glass substrate 1 by flexographic printing. (Silicon film) 4 is formed to a thickness of 500 to 2000 mm. The insulating film 4 is not essential, but is desirably formed to prevent a short circuit between the upper and lower substrates. In addition to flexographic printing, an insulating film may be formed by a method such as vapor deposition or sputtering using a metal mask.

絶縁膜4の上に絶縁膜4とほぼ同じパターンの水平配向膜5をフレキソ印刷等で形成する。TN−LCDの場合、プレチルト角が低い(基板平面に対して2°以下である)ことが好ましい。例えば、水平配向膜5hを日産化学より入手可能なSE−410で500〜800Åの厚さで形成し、ラビング処理を施す。ラビングは布を巻いた円筒状のロールを高速に回転させ、水平配向膜5h上を擦る工程である。上下基板間の液晶3xの捩れ角が90°(左捩れ)になるようラビング処理の方向を設定する。   A horizontal alignment film 5 having the same pattern as that of the insulating film 4 is formed on the insulating film 4 by flexographic printing or the like. In the case of TN-LCD, it is preferable that the pretilt angle is low (2 ° or less with respect to the substrate plane). For example, the horizontal alignment film 5h is formed with SE-410, which is available from Nissan Chemical, with a thickness of 500 to 800 mm and subjected to rubbing treatment. Rubbing is a process in which a cylindrical roll wound with a cloth is rotated at high speed and rubbed on the horizontal alignment film 5h. The rubbing process direction is set so that the twist angle of the liquid crystal 3x between the upper and lower substrates is 90 ° (left twist).

セグメント電極パターン基板1A上に、シール材6を所定のパターンにスクリーン印刷する。シール材6の形成にはスクリーン印刷の代わりにディスペンサを用いてもよい。シール材には、例えば三井化学より入手可能な熱硬化性のES−7500を用いる。光硬化性のものや、光・熱併用型シール材でもよい。このシール材6は直径6μmの大きさのグラスファイバー2wt%と直径6.5μmのAu鍍金を施したスチレンボール1wt%とを含んでいる。   A seal material 6 is screen-printed in a predetermined pattern on the segment electrode pattern substrate 1A. A dispenser may be used to form the sealing material 6 instead of screen printing. For the sealing material, for example, thermosetting ES-7500 available from Mitsui Chemicals is used. It may be a photo-curing material or a light / heat combination type sealing material. The sealing material 6 includes 2 wt% of glass fiber having a diameter of 6 μm and 1 wt% of styrene balls subjected to Au plating having a diameter of 6.5 μm.

コモン電極パターン基板1Bにはギャップコントロール材を乾式散布法にて散布する。ギャップコントロール材には6μmのプラスチックボールを用いる。シリカから成る真絲球を用いてもよい。   A gap control material is sprayed on the common electrode pattern substrate 1B by a dry spraying method. A 6 μm plastic ball is used as the gap control material. A true sphere made of silica may be used.

2つの基板1A、1Bを、水平配向膜5hが内側になるよう所定の位置で重ね合わせてセル化し、プレスした状態で熱処理を行なって、シール材6を硬化する。なお、光硬化性のシール材を用いる場合は光処理を行って、シール材6を硬化する。   The two substrates 1A and 1B are overlapped at predetermined positions so that the horizontal alignment film 5h is on the inside to form a cell, and heat treatment is performed in a pressed state to cure the sealing material 6. In addition, when using a photocurable sealing material, light processing is performed and the sealing material 6 is hardened.

スクライバー装置によりガラス基板に傷をつけ、ブレイキングにより所定の大きさ、形に分割して空セルを作成する。   A glass substrate is scratched with a scriber device, and is divided into a predetermined size and shape by breaking to create empty cells.

空セルに液晶3xを真空注入する。ここでは、例えば、大日本インキ化学工業製のΔεが正のネマティック液晶(ミクスチャー:Δn=0.082)を用いる。その後エンドシール材で注入口を封止する。その後ガラス基板の面取りと洗浄を行い、液晶セル101cを作成する。液晶セル101cに偏光板8をクロスニコル配置で貼り付けTNモードのノーマリー・ホワイト(ノーマリーオン)型の液晶表示素子101を完成する。   Liquid crystal 3x is vacuum injected into the empty cell. Here, for example, nematic liquid crystal (mixture: Δn = 0.082) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. having a positive Δε is used. Thereafter, the inlet is sealed with an end seal material. Thereafter, the glass substrate is chamfered and cleaned to form a liquid crystal cell 101c. A polarizing plate 8 is attached to the liquid crystal cell 101c in a crossed Nicol arrangement to complete a TN mode normally white (normally on) type liquid crystal display element 101.

図2は、本発明の第1の実施例によるセグメント電極パターン基板及びコモン電極パターン基板の構成及び作製方法を説明するための液晶表示素子101の概略断面図である。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display element 101 for explaining the configuration and manufacturing method of the segment electrode pattern substrate and the common electrode pattern substrate according to the first embodiment of the present invention.

まず、周知の方法により、セグメント電極パターン基板1Aを作製する。一方、コモン電極パターン基板1Bを作製する際には、セグメント電極パターン基板1Aの電極面上に形成されるセグメント電極パターン2のうち引き回し線2Wの電極間距離が100μm以下(なお、実際には線幅100μm、線間距離30μmで作製した)であり、かつラビング方向と引き回し線方向のなす角Φが−30°<Φ<30°若しくは60°<Φ<120°である領域(すなわち、液晶層中央部付近において液晶配列状態が、2本の隣接する引き回し線間の電圧差に起因する横電界方向に対して、45°又は135°前後(±30°程度)ずれている領域であり、ラビング方向と引き回し線方向のなす角Φが45°前後の方向を除く領域)において、対向するコモン電極パターン基板1B上の当該引き回し線2Wの電極間に相当する部分に、ダミーの透明電極膜2D(以下、単にダミー電極パターン2Dとする)をアイランド状に形成する。すなわち、上述したように、電極間距離が100μm以下であり液晶層101qのセル中央付近の液晶配列状態が2本の隣接する引き回し線間の電圧差に起因する横電界方向に対して45°ずれている場合に最も誤動作が目立つという傾向があるため、当該領域にダミー電極パターン2Dを形成する。   First, the segment electrode pattern substrate 1A is manufactured by a known method. On the other hand, when the common electrode pattern substrate 1B is manufactured, the inter-electrode distance of the lead wire 2W in the segment electrode pattern 2 formed on the electrode surface of the segment electrode pattern substrate 1A is 100 μm or less (in practice, the line A region having a width of 100 μm and a line-to-line distance of 30 μm, and an angle Φ formed by the rubbing direction and the drawing line direction is −30 ° <Φ <30 ° or 60 ° <Φ <120 ° (that is, a liquid crystal layer) In the vicinity of the center, the liquid crystal alignment state is a region that is displaced by 45 ° or 135 ° (about ± 30 °) with respect to the horizontal electric field direction caused by the voltage difference between two adjacent lead lines, and is rubbed In the direction excluding the direction where the angle Φ between the direction and the lead line direction is around 45 °), the portion corresponding to the electrode of the lead line 2W on the common electrode pattern substrate 1B facing each other A dummy transparent electrode film 2D (hereinafter, simply referred to as dummy electrode pattern 2D) to form an island shape. That is, as described above, the distance between the electrodes is 100 μm or less, and the liquid crystal alignment state in the vicinity of the cell center of the liquid crystal layer 101q is shifted by 45 ° with respect to the horizontal electric field direction due to the voltage difference between two adjacent lead lines. Since the malfunction tends to be most noticeable, the dummy electrode pattern 2D is formed in the region.

ダミー電極パターン2Dのパターンは、コモン電極パターンのフォトマスクパターン設計時にパターンを追加し、コモン電極パターン作成時に同時に作製できるため、工程の追加を必要としない。なお、ダミー電極パターン2Dのパターンはセグメント電極パターン基板1Aとコモン電極パターン基板1Bとを重ねて基板平面上方から見た場合に、引き回し線2Wのパターンと重なっていないことが望ましく、重ね合わせの精度を考慮して、5〜20μmほど引き回し線2Wのパターンから離して作製されることが望ましい。また、たとえ重なったとしても、重なり量を0〜20μmとすることにより、誤動作が起きた場合にも、この寸法範囲の応答による点灯は目視での観察が甚だこんなんであり、また、静電気による誤動作は一時的なものであるため実用上の問題は無いと考えられる。   Since the pattern of the dummy electrode pattern 2D can be formed at the same time when the common electrode pattern is created by adding the pattern when designing the photomask pattern of the common electrode pattern, no additional process is required. Note that the dummy electrode pattern 2D is preferably not overlapped with the pattern of the lead wire 2W when the segment electrode pattern substrate 1A and the common electrode pattern substrate 1B are overlapped and viewed from above the substrate plane. In consideration of the above, it is desirable that the wiring line is formed so as to be separated from the pattern of the drawing line 2W by about 5 to 20 μm. In addition, even if they overlap, if the amount of overlap is set to 0 to 20 μm, even if a malfunction occurs, lighting due to the response in this size range is very observable visually, and malfunction due to static electricity It is considered that there is no practical problem because is temporary.

以下に、セグメント電極パターン基板1A及びコモン電極パターン基板1Bの作成方法の一例を説明する。   Hereinafter, an example of a method for producing the segment electrode pattern substrate 1A and the common electrode pattern substrate 1B will be described.

まず、無アルカリガラス(白板ガラス)もしくはソーダライムガラス(青板ガラス)を用いたガラス基板の表面に透明電極膜であるインジウム錫オキサイド(ITO)膜をCVD、蒸着、スパッタなどにより形成し、その後、所定のパターンにITO膜をフォトリソグラフィーを用いてパターニングする。パターニングは、まずロールコーターもしくはスリットコーターを用いてフォトレジスト材料をITO膜上に数ミクロンの厚さで形成する。ここでは、ロールコーターを用いて東京応化製のポジレジスト(OFPR−800)を1.5μmの厚さで形成する。次に、ホットプレートにて110℃、3分間のプリベーク処理を行い、露光機を用いて所定パターンのマスクを介して紫外線を100mJ/cm照射する。その後、アルカリ溶液(1wt%KOH)を用いて現像を行い、ホットプレートにて130℃、3分間のポストベーク処理を行う。さらに、その後、ITO用エッチャント(関東科学製ITOシリーズ(ITO−02、ITO−06N、ITO−07N)などの硝酸・塩素系、第2塩化鉄系(FeCl)他)を用いてウェットエッチングを行い、最後に強アルカリ溶液(3wt%NaOH)を用いてレジスト材を除去する。なお、ここでは一般的な露光機を用いるが、レーザを用いたマスクレス露光方式を用いても良い。 First, an indium tin oxide (ITO) film, which is a transparent electrode film, is formed on the surface of a glass substrate using alkali-free glass (white plate glass) or soda lime glass (blue plate glass) by CVD, vapor deposition, sputtering, etc. The ITO film is patterned into a predetermined pattern using photolithography. For patterning, a photoresist material is first formed on the ITO film with a thickness of several microns using a roll coater or a slit coater. Here, a positive resist (OFPR-800) manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. is formed with a thickness of 1.5 μm using a roll coater. Next, a pre-bake process is performed at 110 ° C. for 3 minutes on a hot plate, and ultraviolet rays are irradiated at 100 mJ / cm 2 through a mask having a predetermined pattern using an exposure machine. Thereafter, development is performed using an alkaline solution (1 wt% KOH), and post-baking is performed at 130 ° C. for 3 minutes on a hot plate. Further, wet etching is then performed using an etchant for ITO (Nitrogen / chlorine-based, ferric chloride-based (FeCl 3 ), etc. such as ITO series (ITO-02, ITO-06N, ITO-07N) manufactured by Kanto Kagaku). Finally, the resist material is removed using a strong alkaline solution (3 wt% NaOH). Although a general exposure machine is used here, a maskless exposure method using a laser may be used.

以上のようにして作製した本発明の第1の実施例による液晶表示素子をスタティック駆動で5Vの交流電圧を印加して駆動し、目視したところ、図5で観察された引き回し線による誤作動は確認されなかった。   When the liquid crystal display element according to the first embodiment of the present invention manufactured as described above is driven by applying a 5V AC voltage by static drive and visually observed, the malfunction due to the lead line observed in FIG. It was not confirmed.

以下、誤作動の解消の理由について考察する。   The reason for eliminating the malfunction will be considered below.

図3に示すように、引き回し線2W間にダミーパターンが無い状態では、当該引き回し線2W間に電位差が生じた場合、図中矢印で示すように、電界は液晶層101qを横切る形で横方向にかかる。TNの液晶配列に対し横方向に電圧がかかると液晶分子は敏感に動作し、わずかな電圧差であっても電界方向に傾き、誤動作が生じるものと考えられる。   As shown in FIG. 3, in the state where there is no dummy pattern between the lead lines 2W, when a potential difference occurs between the lead lines 2W, the electric field crosses the liquid crystal layer 101q in the horizontal direction as shown by arrows in the figure. It takes. When a voltage is applied in the horizontal direction with respect to the liquid crystal alignment of TN, the liquid crystal molecules operate sensitively, and even a slight voltage difference is inclined in the direction of the electric field, causing malfunction.

本発明の第1の実施例では、図2に示すように、引き回し線2W間に電位差が生じたとしても、引き回し線2W間の距離よりも、各引き回し線2Wと対向基板(コモン電極パターン基板)1Aに形成されたダミーパターン2Dとの距離のほうが短い(引き回し線2W間の距離:30〜100μm、引き回し線2W−ダミーパターン2D間の距離:6〜30μm)。したがって、液晶の抵抗に対しITOの抵抗が圧倒的に低いので、電界方向は図中矢印で示すように、引き回し線2W−ダミーパターン2D間、すなわちほぼセル厚方向)にかかる。セル厚方向の液晶分子は電界方向に対してほぼ寝ている(電界方向に対してほぼ傾いていない)状態で配列しているため、閾値(2.16V)以下の電圧が印加されても、液晶は全く動作せず、誤動作が生じないと考えられる。すなわち、第1の実施例では、わずかな電圧差がかかっても液晶が誤動作しない方向に電界を逃すことにより、引き回し線2W間の液晶の誤動作を防止している。   In the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 2, even if a potential difference occurs between the routing lines 2W, each routing line 2W and the counter substrate (common electrode pattern substrate) are more than the distance between the routing lines 2W. ) The distance from the dummy pattern 2D formed on 1A is shorter (distance between the lead lines 2W: 30 to 100 μm, distance between the lead lines 2W and the dummy pattern 2D: 6 to 30 μm). Accordingly, since the ITO resistance is overwhelmingly lower than the resistance of the liquid crystal, the direction of the electric field is applied between the lead-out line 2W and the dummy pattern 2D, that is, substantially in the cell thickness direction, as indicated by an arrow in the figure. Since the liquid crystal molecules in the cell thickness direction are arranged in a state of being substantially lying with respect to the electric field direction (not substantially inclined with respect to the electric field direction), even if a voltage of a threshold value (2.16 V) or less is applied, The liquid crystal does not operate at all, and it is considered that no malfunction occurs. That is, in the first embodiment, the liquid crystal is prevented from malfunctioning between the lead lines 2W by allowing the electric field to escape in a direction in which the liquid crystal does not malfunction even when a slight voltage difference is applied.

なお、外部の静電気などによりダミーパターン2Dに大きなチャージがかかった時に、引き回し線2W−ダミーパターン2D間の液晶が誤動作し、新たな表示不良が発生する恐れがある。これを回避するために、本実施例では、ダミーパターン2Dと引き回し線2Wとが基板平面を上から見た時に重なっていない状態にし、誤動作が生じたとしても目視では観察できないようにしている。基板平面を上から見た時のダミーパターン2Dと引き回し線2Wとの間隔は、理想的には0〜20μmである。たとえ重なったとしても目視では確認できない程度である0〜20μmであれば、静電気による誤動作は一時的な問題であるため、問題が無いと考えられる。   When a large charge is applied to the dummy pattern 2D due to external static electricity or the like, the liquid crystal between the lead line 2W and the dummy pattern 2D may malfunction and a new display defect may occur. In order to avoid this, in this embodiment, the dummy pattern 2D and the routing line 2W are not overlapped when the substrate plane is viewed from above, so that even if a malfunction occurs, it cannot be visually observed. The distance between the dummy pattern 2D and the routing line 2W when the substrate plane is viewed from above is ideally 0 to 20 μm. Even if it overlaps, if it is 0-20 micrometers which is a grade which cannot be visually confirmed, since malfunction by static electricity is a temporary problem, it is thought that there is no problem.

図4は、本発明の第2の実施例によるセグメント電極パターン基板及びコモン電極パターン基板の構成及び作製方法を説明するための液晶表示素子102の概略断面図である。なお、第1の実施例と同様の部材には同一の参照番号を付してその説明を省略する。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display element 102 for explaining the configuration and manufacturing method of the segment electrode pattern substrate and the common electrode pattern substrate according to the second embodiment of the present invention. In addition, the same reference number is attached | subjected to the member similar to 1st Example, and the description is abbreviate | omitted.

第2の実施例による液晶表示素子102の基本的な製造方法は上述した第1の実施例と同様である。第1の実施例と異なる点は、以下の3点である。   The basic manufacturing method of the liquid crystal display element 102 according to the second embodiment is the same as that of the first embodiment described above. The differences from the first embodiment are the following three points.

(1)基板平面を上から見たときにコモン電極パターン基板1B上に、セグメント電極パターン基板上で誤動作が発生する恐れのある引き回し線2W間に各々細いダミーパターン2D2を形成する。   (1) The thin dummy patterns 2D2 are formed on the common electrode pattern substrate 1B when the substrate plane is viewed from above, between the routing lines 2W that may cause malfunction on the segment electrode pattern substrate.

(2)ダミーパターン2D2を取り出し端子まで接続し、回路と接続する。   (2) The dummy pattern 2D2 is connected to the takeout terminal and connected to the circuit.

(3)ダミーパターン2D2に接続されている電圧は、アース、当該ダミーパターン2D2がその境界に形成される2本の引き回し線2Wのいずれかに印加されている電圧と同じか、両引き回し線2Wに印加されている電圧の中間のもののいずれかである。なお、複数のダミーパターン2D2に印加される電圧は同一のものである。   (3) The voltage connected to the dummy pattern 2D2 is the same as the voltage applied to one of the two lead wires 2W formed at the boundary between the ground and the dummy pattern 2D2, or both lead wires 2W. One of the intermediate voltages applied to the. The voltages applied to the plurality of dummy patterns 2D2 are the same.

第2の実施例において引き回し線2W間に形成されるダミーパターン2D2の幅は、5〜20μmであることが好ましい。こうするとダミーパターン2D2の線幅が非常に細くなり、十分な電圧がかからなくなる恐れがあるが、この電圧を用いて表示を行うわけではないので、問題とはならない。   In the second embodiment, the width of the dummy pattern 2D2 formed between the routing lines 2W is preferably 5 to 20 μm. In this case, the line width of the dummy pattern 2D2 becomes very thin and a sufficient voltage may not be applied. However, since display is not performed using this voltage, there is no problem.

第2の実施例においてダミーパターン2D2を形成する部分は、第1の実施例と同様に、セグメント電極パターン基板1Aの電極面上に形成されるセグメント電極パターン2のうち引き回し線2Wの電極間距離が100μm以下(なお、実際には線幅100μm、線間距離30μmで作製した)であり、かつラビング方向と引き回し線方向のなす角Φが−30°<Φ<30°若しくは60°<Φ<120°である領域、換言すると引き回し線間の方位と液晶層中央部の液晶配向方位が45°±30°の角度をなす領域において、対向するコモン電極パターン基板1B上の当該引き回し線2Wの電極間に相当する部分である。第1の実施例との違いは、第1の実施例では、2本の隣接する引き回し線2Wに対して1本のダミーパターン2Dをアイランド状に形成したのに対して、第2の実施例では、2本の隣接する引き回し線2Wのそれぞれについて細いダミーパターン2D2を形成することである。   In the second embodiment, the portion where the dummy pattern 2D2 is formed is the distance between the electrodes of the lead-out line 2W in the segment electrode pattern 2 formed on the electrode surface of the segment electrode pattern substrate 1A, as in the first embodiment. Is 100 μm or less (actually manufactured with a line width of 100 μm and a distance between lines of 30 μm), and the angle Φ formed by the rubbing direction and the drawing line direction is −30 ° <Φ <30 ° or 60 ° <Φ < In the region of 120 °, in other words, the region in which the orientation between the lead lines and the liquid crystal alignment orientation at the center of the liquid crystal layer form an angle of 45 ° ± 30 °, the electrodes of the lead lines 2W on the common electrode pattern substrate 1B facing each other It is a part corresponding to between. The difference from the first embodiment is that, in the first embodiment, one dummy pattern 2D is formed in an island shape with respect to two adjacent lead lines 2W, whereas the second embodiment is different from the first embodiment. Then, a thin dummy pattern 2D2 is formed for each of two adjacent lead lines 2W.

ダミーパターン2D2に電圧を印加するための接続線は、セグメント電極パターン2の引き回し線2Wの電極間距離が100μmより大きい部分の引き回し線2W間に対応するコモン電極パターン基板1B上に引き回すこととする。なお、使用者が液晶表示の表示を観察できない部分(表示部外)であれば、ダミーパターン2D2に電圧を印加するための接続線は、コモン電極パターン基板1B上を自由に引き回すことができる。   The connection line for applying a voltage to the dummy pattern 2D2 is routed on the common electrode pattern substrate 1B corresponding to the space between the lead lines 2W of the segment electrode pattern 2 where the distance between the lead lines 2W is larger than 100 μm. . If the user cannot observe the display of the liquid crystal display (outside the display part), the connection line for applying a voltage to the dummy pattern 2D2 can be freely routed on the common electrode pattern substrate 1B.

ダミーパターン2D2及びダミーパターン2D2に電圧を印加するための接続線のパターンは、フォトマスクパターン設計時にパターンを追加するだけで、コモン電極パターン2形成時に同時に作製できるため工程の追加を必要としない。なお、ダミー電極パターン2D2のパターンはセグメント電極パターン基板1Aとコモン電極パターン基板1Bとを重ねて基板平面状から見たい場合に、引き回し線2Wのパターンと重なっていないことが望ましく、重ね合わせの精度を考慮して、5〜20μmほど引き回し線2Wのパターンから離して作製されることが望ましい。   The dummy pattern 2D2 and the connection line pattern for applying a voltage to the dummy pattern 2D2 can be produced at the same time when the common electrode pattern 2 is formed by adding the pattern at the time of designing the photomask pattern. The dummy electrode pattern 2D2 is preferably not overlapped with the pattern of the lead-out line 2W when the segment electrode pattern substrate 1A and the common electrode pattern substrate 1B are overlapped and viewed from the substrate plane. In consideration of the above, it is desirable that the wiring line is formed so as to be separated from the pattern of the drawing line 2W by about 5 to 20 μm.

以上のようにして作製した本発明の第2の実施例による液晶表示素子をスタティック駆動で5Vの交流電圧を印加して駆動し、目視したところ、図5で観察された引き回し線による誤作動は確認されなかった。   When the liquid crystal display element according to the second embodiment of the present invention manufactured as described above is driven by applying a 5V AC voltage by static drive and visually observed, the malfunction due to the lead line observed in FIG. It was not confirmed.

本発明の第2の実施例では、図4に示すように、引き回し線2W間に電位差が生じたとしても、引き回し線2W間の距離よりも、各引き回し線2Wと対向基板(コモン電極パターン基板)1Aに形成されたダミーパターン2D2との距離のほうが短い(引き回し線2W間の距離:30〜100μm、引き回し線2W−ダミーパターン2D2間の距離(セル厚):6〜30μm)。したがって、電界方向は図4のように、引き回し線2W−ダミーパターン2D2間、すなわちほぼセル厚方向)にかかる。セル厚方向の液晶分子は電界方向に対してほぼ寝ている(電界方向に対してほぼ傾いていない)状態で配列しているため、閾値(2.16V)以下の電圧が印加されても、液晶は全く動作せず、誤動作が生じないと考えられる。すなわち、第2の実施例でも、わずかな電圧差がかかっても液晶が誤動作しない方向に電界を逃すことにより、引き回し線2W間の液晶の誤動作を防止している。さらに、第2の実施例では、ダミーパターン2D2の全てに接続線を通じて引き回し線2Wのいずれかに印加されている電圧と同じか又は非常に近い電圧を印加することが可能なため、第1の実施例よりもさらに大きい誤動作の抑制機能が期待できる。   In the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 4, even if a potential difference occurs between the routing lines 2W, the routing lines 2W and the counter substrate (common electrode pattern substrate) are more than the distance between the routing lines 2W. ) The distance from the dummy pattern 2D2 formed on 1A is shorter (distance between the lead lines 2W: 30 to 100 μm, distance between the lead lines 2W and the dummy pattern 2D2 (cell thickness): 6 to 30 μm). Therefore, as shown in FIG. 4, the direction of the electric field is applied between the lead line 2W and the dummy pattern 2D2, that is, approximately in the cell thickness direction. Since the liquid crystal molecules in the cell thickness direction are arranged in a state of being substantially lying with respect to the electric field direction (not substantially inclined with respect to the electric field direction), even if a voltage of a threshold value (2.16 V) or less is applied, The liquid crystal does not operate at all, and it is considered that no malfunction occurs. That is, also in the second embodiment, the liquid crystal is prevented from malfunctioning between the lead lines 2W by allowing the electric field to escape in a direction in which the liquid crystal does not malfunction even if a slight voltage difference is applied. Furthermore, in the second embodiment, it is possible to apply a voltage that is the same as or very close to the voltage applied to any one of the routing lines 2W through the connection line to all of the dummy patterns 2D2. An even greater malfunction suppression function than in the embodiment can be expected.

なお、外部の静電気などによりダミーパターン2D2に大きなチャージがかかった時に、引き回し線2W−ダミーパターン2D2間の液晶が誤動作し、新たな表示不良が発生する恐れがある。これを回避するために、本実施例では、ダミーパターン2D2と引き回し線2Wとが基板平面を上から見た時に重なっていない状態にし、誤動作が生じたとしても目視では観察できないようにしている。基板平面を上から見た時のダミーパターン2D2と引き回し線2Wとの重なり量は、理想的には0〜20μmである。たとえ重なったとしても目視では確認できない程度である20μm以下であれば、静電気による誤動作は一時的な問題であるため、問題が無いと考えられる。   When a large charge is applied to the dummy pattern 2D2 due to external static electricity or the like, the liquid crystal between the lead line 2W and the dummy pattern 2D2 may malfunction and a new display defect may occur. In order to avoid this, in this embodiment, the dummy pattern 2D2 and the routing line 2W are not overlapped when the substrate plane is viewed from above, so that even if a malfunction occurs, it cannot be visually observed. The amount of overlap between the dummy pattern 2D2 and the routing line 2W when the substrate plane is viewed from above is ideally 0 to 20 μm. Even if they overlap, if they are 20 μm or less, which cannot be confirmed by visual observation, malfunction due to static electricity is a temporary problem, so it is considered that there is no problem.

さらに、第2の実施例では、ダミーパターン2D2は、接続線を介して回路に接続されているので、静電気がかかったとしても接続線を通じて回路に放電できると考えられる。なお、実際には、作製した液晶表示素子に、積極的に静電気を加えても誤動作は確認できなかった。   Furthermore, in the second embodiment, since the dummy pattern 2D2 is connected to the circuit through the connection line, it can be considered that the circuit can be discharged through the connection line even if static electricity is applied. Actually, no malfunction was confirmed even when static electricity was positively applied to the manufactured liquid crystal display element.

以上、本発明の実施例によれば、セグメント電極パターン基板の電極面上に形成されるセグメント電極パターンのうち引き回し線の電極間距離が100μm以下であり、かつラビング方向と引き回し線方向のなす角Φが−30°<Φ<30°若しくは60°<Φ<120°である領域、換言すると引き回し線間の方位と液晶層中央部の液晶配向方位が45°±30°の角度をなす領域において、対向するコモン電極パターン基板上の当該引き回し線の電極間に相当する部分に、ダミーの透明電極膜(ダミー電極パターン)を形成することで、当該引き回し線間における液晶表示の誤動作を抑制することができる。   As described above, according to the embodiment of the present invention, among the segment electrode patterns formed on the electrode surface of the segment electrode pattern substrate, the distance between the lead lines is 100 μm or less, and the angle formed between the rubbing direction and the lead line direction In a region where Φ is −30 ° <Φ <30 ° or 60 ° <Φ <120 °, in other words, in a region where the orientation between the lead lines and the liquid crystal alignment direction in the central portion of the liquid crystal layer form an angle of 45 ° ± 30 °. By forming a dummy transparent electrode film (dummy electrode pattern) in a portion corresponding to between the electrodes of the lead lines on the common electrode pattern substrate facing each other, it is possible to suppress malfunction of the liquid crystal display between the lead lines. Can do.

また、ダミーの透明電極膜(ダミー電極パターン)は、フォトマスクパターン設計時にパターンを追加するだけで、コモン電極パターン形成時に同時に作製できるため工程の追加を必要としない。よって、コストの増加を抑制することができる。   Further, since the dummy transparent electrode film (dummy electrode pattern) can be formed at the same time when the common electrode pattern is formed only by adding the pattern when designing the photomask pattern, no additional process is required. Therefore, an increase in cost can be suppressed.

また、ダミーパターンと引き回し線とが基板平面を上から見た時に重なっていない状態にし、誤動作が生じたとしても目視では観察できないようにして、静電気による誤動作の影響を軽減することができる。さらに、ダミーの透明電極膜(ダミー電極パターン)を接続線を介して回路に接続することにより、静電気による誤動作の影響を防止できる。   In addition, the dummy pattern and the lead-out line are not overlapped when the substrate plane is viewed from above, and even if a malfunction occurs, the dummy pattern and the lead line cannot be visually observed, thereby reducing the influence of malfunction due to static electricity. Further, by connecting the dummy transparent electrode film (dummy electrode pattern) to the circuit through the connection line, it is possible to prevent the malfunction due to static electricity.

本発明の実施例は、車載用ディスプレイ、遊戯用表示、携帯電話・デジタルカメラ用表示、オーディオ機器用表示などの、情報表示関連全般に適用することができる。なお、ディスプレイ全面ではなく表示の一部に本実施例を適用する場合を含む。特に、ネガ型表示、バックライトが明るい表示に適用すると効果的である。   The embodiment of the present invention can be applied to information display-related in general, such as an in-vehicle display, a display for play, a display for a mobile phone / digital camera, and a display for audio equipment. In addition, the case where this embodiment is applied to a part of the display instead of the entire display is included. In particular, it is effective when applied to a negative display and a display with a bright backlight.

以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。   Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

例えば、引き回し線2Wと接地・非接地の関係は、上記実施例の組み合わせに限らない。また、ダミーパターンの形状、大きさは上記実施例のものに限らない。さらに、液晶セルのセル条件も実施例のものに限らない。   For example, the relationship between the lead wire 2W and grounding / non-grounding is not limited to the combination of the above embodiments. Further, the shape and size of the dummy pattern are not limited to those of the above embodiments. Furthermore, the cell conditions of the liquid crystal cell are not limited to those of the embodiment.

また、セグメント電極パターン基板の電極面上に形成されるセグメント電極パターンのうち引き回し線の電極間距離が100μm以下であれば、ラビング方向と引き回し線方向のなす角Φが−30°<Φ<30°若しくは60°<Φ<120°でない領域においても、対向するコモン電極パターン基板上の当該引き回し線の電極間に相当する部分に、ダミーの透明電極膜(ダミー電極パターン)を形成するようにしても良い。   In addition, when the inter-electrode distance between the lead lines in the segment electrode pattern formed on the electrode surface of the segment electrode pattern substrate is 100 μm or less, the angle Φ formed by the rubbing direction and the lead line direction is −30 ° <Φ <30. Even in a region where ° or 60 ° <Φ <120 °, a dummy transparent electrode film (dummy electrode pattern) is formed on a portion corresponding to the electrode between the lead lines on the common electrode pattern substrate facing each other. Also good.

本発明の第1の実施例によるセグメント電極パターン基板及びコモン電極パターン基板を用いた液晶表示素子101の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display element 101 using the segment electrode pattern board | substrate and common electrode pattern board | substrate by 1st Example of this invention. 本発明の第1の実施例によるセグメント電極パターン基板及びコモン電極パターン基板の構成及び作製方法を説明するための液晶表示素子101の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the liquid crystal display element 101 for demonstrating the structure and manufacturing method of the segment electrode pattern board | substrate and common electrode pattern board | substrate by 1st Example of this invention. 従来のセグメント電極パターン基板及びコモン電極パターン基板の構成を表す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing showing the structure of the conventional segment electrode pattern board | substrate and a common electrode pattern board | substrate. 本発明の第2の実施例によるセグメント電極パターン基板及びコモン電極パターン基板の構成及び作製方法を説明するための液晶表示素子102の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the liquid crystal display element 102 for demonstrating the structure and manufacturing method of the segment electrode pattern board | substrate and common electrode pattern board | substrate by 2nd Example of this invention. 従来の液晶表示素子のセグメント電極パターン基板の引き回し線間における液晶の誤動作を表す顕微鏡写真を基にした概念図である。It is a conceptual diagram based on the microscope picture showing the malfunctioning of the liquid crystal between the drawing lines of the segment electrode pattern board | substrate of the conventional liquid crystal display element.

符号の説明Explanation of symbols

1A、1B…ガラス基板、2…電極、2W…引き回し線、2D、2D2…ダミーパターン、2L…配線、3…液晶、4…絶縁膜、5…配向膜、6…シール材、8…偏光板、101…液晶表示素子、101c…液晶セル、101q…液晶層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1A, 1B ... Glass substrate, 2 ... Electrode, 2W ... Lead wire, 2D, 2D2 ... Dummy pattern, 2L ... Wiring, 3 ... Liquid crystal, 4 ... Insulating film, 5 ... Orientation film, 6 ... Sealing material, 8 ... Polarizing plate 101 ... Liquid crystal display element, 101c ... Liquid crystal cell, 101q ... Liquid crystal layer

Claims (4)

セグメント電極パターンと、引き回し線パターンとが形成された第1のガラス基板と、
前記第1のガラス基板に対向配置され、コモン電極パターンと、前記第1のガラス基板上に形成された引き回し線パターンの間隔が100μm以下である当該引き回し線パターン間に対向する領域に形成されたダミーパターンとを有する第2のガラス基板と、
前記第1及び第2のガラス基板上に形成されるパターンを覆って形成された配向膜を含む膜構成と、
前記第1及び第2のガラス基板間に挟持された液晶層と
を有し、
前記第1及び第2のガラス基板を重ね合わせ、前記引き回し線パターンと前記ダミーパターンとが平面視上重なっている部分が20μm以下であり、
前記第2のガラス基板の前記引き回し線パターンに対向する領域においては、前記ダミーパターンが形成されている位置以外の基板上の位置に、前記膜構成が直接形成されている液晶表示素子。
A first glass substrate on which a segment electrode pattern and a lead line pattern are formed;
Opposed to the first glass substrate, the common electrode pattern and a lead line pattern formed on the first glass substrate are formed in a region facing the lead line pattern having an interval of 100 μm or less . A second glass substrate having a dummy pattern;
A film configuration including an alignment film formed to cover a pattern formed on the first and second glass substrates;
Have a liquid crystal layer sandwiched between said first and second glass substrates,
The first and second glass substrates are overlapped, and the portion where the lead line pattern and the dummy pattern overlap in plan view is 20 μm or less,
The liquid crystal display element in which the film configuration is directly formed at a position on the substrate other than the position where the dummy pattern is formed in a region of the second glass substrate facing the lead line pattern .
前記ダミーパターンは、接続線を介して回路と接続されている請求項1記載の液晶表示素子。 The liquid crystal display element according to claim 1 , wherein the dummy pattern is connected to a circuit through a connection line. 前記ダミーパターンは、前記第1のガラス基板上に形成された引き回し線パターンの間隔が100μm以下であり、かつ前記液晶層の中央において液晶配列状態が引き回し線パターン間の電圧差に起因する横電界方向に対し45°±30°にずれている当該引き回し線パターン間に対向する領域に形成される請求項1又は2に記載の液晶表示素子。 The dummy pattern has a horizontal electric field caused by a distance between lead line patterns formed on the first glass substrate being 100 μm or less and a liquid crystal alignment state in the center of the liquid crystal layer due to a voltage difference between the lead line patterns. 3. The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the liquid crystal display element is formed in a region facing between the drawing line patterns shifted by 45 ° ± 30 ° with respect to the direction. TNモードである請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示素子。It is a TN mode, The liquid crystal display element of any one of Claims 1-3.
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