JP5278688B2 - Method for manufacturing antireflection laminate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection laminate having sufficient antireflection performance, sufficient antifouling property, and improved flaw resistance, and a method of manufacturing the antireflection laminate. <P>SOLUTION: This antireflection laminate includes a transparent base material, and a low refractive index layer containing zeolite formed on at least on a surface of the transparent base material. The particle size of zeolite is 5 nm or longer and 200 nm or shorter, the crystallinity is 0.64 or higher, the content of the zeolite is 5% or more and 95% or less, and the refractive index of the low refractive index layer is 1.20 or higher and 1.40 or lower. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、反射防止積層体及びその製造方法に関し、特に、液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ及びELディスプレイなどの表示装置の表面で使用される反射防止積層体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an antireflection laminate and a manufacturing method thereof, and more particularly to an antireflection laminate used on the surface of a display device such as a liquid crystal display, a CRT display, a projection display, a plasma display, and an EL display, and a manufacturing method thereof.

一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須である。 In general, a display is used in an environment where external light or the like enters regardless of whether the display is used indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface and the like, and the reflected image thereby mixes with the display image, thereby degrading the screen display quality. Therefore, it is essential to provide an antireflection function to the display surface or the like.

液晶ディスプレイの最表面で使用される反射防止積層体では、最表面に低屈折率層を設けることにより、反射防止機能を実現させる技術が提案されている。 In an antireflection laminate used on the outermost surface of a liquid crystal display, a technique for realizing an antireflection function by providing a low refractive index layer on the outermost surface has been proposed.

空気は他の物質に比べて屈折率が低い物質であるため、内部に空隙を有する無機質微粒子、多孔質あるいは中空シリカゾルをバインダマトリックス中に分散させ低屈折率層を形成する方式が提案されている。(特許文献1及び特許文献2参照) Since air is a substance having a lower refractive index than other substances, a method of forming a low refractive index layer by dispersing inorganic fine particles, porous or hollow silica sol having voids inside in a binder matrix has been proposed. . (See Patent Document 1 and Patent Document 2)

しかし、この時、得られた低屈折率層において、中空シリカが表面に多量に存在している。中空シリカのシェルはアモルファスであるため、十分な耐擦傷性が得られないという欠点がある。 However, at this time, in the obtained low refractive index layer, a large amount of hollow silica is present on the surface. Since the hollow silica shell is amorphous, there is a drawback that sufficient scratch resistance cannot be obtained.

この欠点を克服するため、結晶性をもつ材料の利用の試みがあった。例えば、部分結晶化したゼオライトの前駆体からなるシリカゼオライト薄膜が提案されている(特許文献3参照)。内部空隙を有する部分結晶化したゼオライト前駆体を使用することにより、硬度が上がり、耐擦傷性能がアップした。しかし、前駆体を使用する場合には、内部の空隙が十分ではない。十分な低反射性能を得るため、硬化した薄膜を抽出溶剤に接触させ、有機ポリマーを除去して多孔化する工程も必要である。又、前駆体の結晶化度が低いため、得られた低屈折率層にアモルファス部分も大量存在し、耐擦傷性能が十分ではない。 In order to overcome this drawback, there has been an attempt to use a material having crystallinity. For example, a silica zeolite thin film made of a partially crystallized zeolite precursor has been proposed (see Patent Document 3). By using a partially crystallized zeolite precursor having internal voids, the hardness increased and the scratch resistance improved. However, when using precursors, the internal voids are not sufficient. In order to obtain sufficient low reflection performance, a process of bringing the cured thin film into contact with an extraction solvent and removing the organic polymer to make it porous is also necessary. In addition, since the crystallinity of the precursor is low, a large amount of amorphous portions are present in the obtained low refractive index layer, and the scratch resistance is not sufficient.

特開平7−133105号公報JP 7-133105 A 特開2001−233611号公報JP 2001-233611 A 特開2004−37795公報JP 2004-37795 A

本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、十分な反射防止性能を有しながら耐擦傷性が向上した反射防止積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。特に、結晶性をもつゼオライトの結晶化度とサイズをコントロールすることにより、低反射かつ高耐擦傷性の両立の実現を目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an antireflection laminate having improved anti-scratch properties while having sufficient antireflection performance, and a method for producing the same. In particular, it aims at realizing both low reflection and high scratch resistance by controlling the crystallinity and size of zeolite having crystallinity.

本発明の請求項1に係る発明は、透明基材を準備し、前記透明基材の少なくとも片面に透明基材の上にハードコード層を作製する工程と、前記ハードコード層の表面のアルカリ処理工程と、結晶化度0.97のゼオライト粒子を使用したゼオライト溶液合成工程と、前記ゼオライト溶液を含み、且つケイ素アルコキシドとフッ素シランとのモル比が1.0/0.01〜1.0/0.2である低屈折率層用塗液作製工程と低屈折率層硬化する工程と、により結晶化度0.64以上のゼオライトを含む低屈折率層を形成することを特徴とする反射防止積層体の製造方法である。
Invention prepares a transparent substrate, a process of forming a hard code layer on a transparent substrate on one side at least of the transparent substrate, the alkali of the surface of the hard-coded layer according to claim 1 of the present invention a processing step, the zeolite solution synthesis process using zeolite particles of crystallinity 0.97, viewed including the zeolite solution, and the molar ratio of silicon alkoxide and fluorine silane 1.0 / 0.01. A low refractive index layer containing zeolite having a crystallinity of 0.64 or more is formed by a low refractive index layer coating liquid preparation step of 0 / 0.2 and a step of curing the low refractive index layer. It is a manufacturing method of the reflection preventing laminated body which does.

本発明の請求項2に係る発明は、前記ゼオライトは粒径5nm以上200nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止積層体の製造方法である。 The invention according to claim 2 of the present invention is the method for producing an antireflection laminate according to claim 1, wherein the zeolite has a particle size of 5 nm or more and 200 nm or less.

本発明の請求項3に係る発明は、前記ゼオライトの含有量は5%以上95%以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の反射防止積層体の製造方法である。 The invention according to claim 3 of the present invention is the method for producing an antireflection laminate according to claim 1 or 2, wherein the content of the zeolite is 5% or more and 95% or less.

本発明の請求項4に係る発明は、前記低屈折率層の屈折率が1.20以上1.40以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の反射防止積層体の製造方法である。 The invention according to claim 4 of the present invention is characterized in that the refractive index of the low refractive index layer is 1.20 or more and 1.40 or less, and antireflection according to any one of claims 1 to 3. It is a manufacturing method of a laminated body.

本発明によれば、十分な反射防止性能を有しながら耐擦傷性が向上した反射防止積層体及びその製造方法を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the antireflection laminated body with which abrasion resistance improved while having sufficient antireflection performance, and its manufacturing method can be provided.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

本発明の実施の形態に係る反射防止積層体は、低屈折率層にゼオライトを含むことを特徴とする。ゼオライトとは結晶性をもち、かつ、内部空隙を有するアルミノケイ酸塩の総称である。低屈折層に内部空隙を有する結晶性ゼオライトを含むことにより、低反射率かつ耐擦傷性の向上を両立することができる。以下、最表面層が低屈折率層である形態について説明する。 The antireflection laminate according to the embodiment of the present invention is characterized in that the low refractive index layer contains zeolite. Zeolite is a generic name for aluminosilicates that have crystallinity and have internal voids. By including crystalline zeolite having internal voids in the low refractive layer, both low reflectance and improved scratch resistance can be achieved. Hereinafter, a mode in which the outermost surface layer is a low refractive index layer will be described.

本発明の透明基材としては、種種の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いる
ことができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらに耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、6−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。
As the transparent substrate of the present invention, a film or sheet made of various organic polymers can be used. For example, a base material usually used for an optical member such as a display can be cited. In consideration of optical properties such as transparency and refractive index of light, and various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability, polyethylene is used. Polyolefins such as polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon, acrylics such as polymethyl methacrylate, polystyrene, poly Those made of an organic polymer such as vinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, ethylene vinyl alcohol are used. In particular, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are preferable.

さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより、機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる1種または2種以上の混合物、または重合体からなるものでなく、複数の層を積層されたものであってもよい。 Furthermore, functions are added to these organic polymers by adding known additives such as antistatic agents, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, etc. You can also use it. Further, the transparent substrate is not made of one or a mixture of two or more selected from the above organic polymers, or a polymer, and may be a laminate of a plurality of layers.

本発明の透明基材上にハードコート層を積層する場合がある。ハードコート層を積層する場合は、多官能ウレタンアクリレート等の紫外線硬化型の樹脂と1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の硬化性を向上させる光重合開始剤を用いることができる。 A hard coat layer may be laminated on the transparent substrate of the present invention. When laminating the hard coat layer, an ultraviolet curable resin such as polyfunctional urethane acrylate and a photopolymerization initiator that improves the curability such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone can be used.

本発明の実施の形態に係る透明基材の片面に形成される低屈折率層は、ゼオライトと適切選択した透明樹脂バインターとを主成分とする形態が好ましい。 The low refractive index layer formed on one side of the transparent substrate according to the embodiment of the present invention preferably has a form mainly composed of zeolite and a suitably selected transparent resin binder.

透明バインターとしては、特に制限されるものではないが、電離放射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性の樹脂が使用でき、特に紫外線硬化型であるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系や、有機珪素系の樹脂、熱硬化型のポリシロキサン樹脂であることが好ましい。 Although it does not restrict | limit especially as a transparent binder, The curable resin and thermosetting resin by ionizing radiation and ultraviolet irradiation can be used, and especially acrylic acid esters, acrylamides, and methacrylic acid esters which are ultraviolet curable. Acrylic resins such as methacrylamides, organic silicon resins, and thermosetting polysiloxane resins are preferred.

本発明の実施の形態に係るゼオライトの微粒子としては、平均粒径が5nm以上200nm以下の範囲内であるのが好ましい。平均粒径が5nm以上200nm以下の範囲内にあると屈折率を下げることと透過性を損なわないことが両立できる。この平均粒径が200nmより大きくなると、低屈折率層の表面において光が散乱され、白っぽく見え、透明性が低下する。平均粒径が5nm未満であると、微粒子が凝集しやすくなってしまう。なお、平均粒径が40nm以上100nm以下であることが好ましい。 The zeolite fine particles according to the embodiment of the present invention preferably have an average particle diameter in the range of 5 nm to 200 nm. If the average particle diameter is in the range of 5 nm or more and 200 nm or less, it is possible to achieve both reduction of the refractive index and no loss of transparency. When this average particle diameter is larger than 200 nm, light is scattered on the surface of the low refractive index layer, and it looks whitish and transparency is lowered. If the average particle size is less than 5 nm, the fine particles tend to aggregate. The average particle size is preferably 40 nm or more and 100 nm or less.

本発明の実施の形態に係るゼオライトの結晶化度は0.64以上であることが好ましい。結晶化度を0.64以上とすることにより、ゼオライト粒子の硬度と内部の空隙とを両立することができる。結晶化度が0.64未満であると、相当なアモルファス部分が結晶化してなく、ゼオライトの微粒子の内部空隙が少なくなってしまい、低反射率の実現が難しい。また、結晶化度が0.64未満であると、相当なアモルファス部分が残り、膜全体の硬度が低下する。なお、ゼオライトの結晶化度をIR分光分析により測定する方法についてはJ.Chem.Soc.,Chem.Commun.1982,1413に開示されている。本発明の塗布組成物の結晶化度( 440cm−1〜480c m−1付近のピーク面積に対する550cm−1〜650cm−1付近のピークの面積比)は0.63以上が好ましく、より好ましくは0.8以上であること。 The crystallinity of the zeolite according to the embodiment of the present invention is preferably 0.64 or more. By setting the crystallinity to 0.64 or more, both the hardness of the zeolite particles and the internal voids can be achieved. When the degree of crystallinity is less than 0.64, a considerable amorphous portion is not crystallized, and the internal voids of the zeolite fine particles are reduced, and it is difficult to realize low reflectance. On the other hand, if the crystallinity is less than 0.64, a considerable amorphous portion remains and the hardness of the entire film is lowered. Regarding the method for measuring the crystallinity of zeolite by IR spectroscopic analysis, see J. Am. Chem. Soc. , Chem. Commun. 1982, 1413. The crystallinity of the coating composition of the present invention (area ratio of the peak in the vicinity of 550 cm-1 to 650 cm-1 with respect to the peak area in the vicinity of 440 cm-1 to 480 cm-1) is preferably 0.63 or more, more preferably 0. .8 or more.

本発明の実施の形態に係るゼオライトの添加量は、低屈折率層中、5質量%〜95質量%であると、低反射効果が得られ、かつ、下層(例えば、ハードコート層)との密着性が向上する。ゼオライトの含有量は5%以下になると、十分な低反射効果を得られない。また、ゼオライトの含有率が95%以上になると、下層(例えば、ハードコート層)との密着性を損なう。さらに、ゼオライトの添加量が40質量%〜80質量%であることが好ましい。 When the amount of the zeolite according to the embodiment of the present invention is 5% by mass to 95% by mass in the low refractive index layer, a low reflection effect is obtained and the lower layer (for example, a hard coat layer) is added. Adhesion is improved. If the zeolite content is 5% or less, a sufficient low reflection effect cannot be obtained. Moreover, when the content rate of a zeolite becomes 95% or more, adhesiveness with a lower layer (for example, hard-coat layer) will be impaired. Furthermore, it is preferable that the addition amount of a zeolite is 40 mass%-80 mass%.

本発明の実施の形態に係る低屈折率層の屈折率が1.20以上1.40以下であると、反射防止性能が得られ、かつ、耐擦傷性が向上する。屈折率が1.40より大きくなると、十分な反射防止性能を得られない。屈折率が1.20未満になると、低屈折率層の空隙が多くなり、耐擦傷性が低下する。さらに低屈折率層の厚みは80nm以上120nm以下が好ましい。 When the refractive index of the low refractive index layer according to the embodiment of the present invention is 1.20 or more and 1.40 or less, antireflection performance is obtained, and scratch resistance is improved. When the refractive index is greater than 1.40, sufficient antireflection performance cannot be obtained. When the refractive index is less than 1.20, the voids in the low refractive index layer increase, and the scratch resistance decreases. Furthermore, the thickness of the low refractive index layer is preferably 80 nm or more and 120 nm or less.

本発明の反射防止積層体は、通常、LCDディスプレイなどの表示装置の最外層に装着され使用されるものであるから、防汚性を有することが望ましい。ケイ素アルコキシドとフッ素シランとのモル比を1.0/0.01〜1.0/0.2とすることで、低屈折率化と強度を両立することができ、しかも防汚性能も発揮でき好適である。 Since the antireflection laminate of the present invention is usually used by being mounted on the outermost layer of a display device such as an LCD display, it is desirable to have antifouling properties. By making the molar ratio of silicon alkoxide and fluorine silane 1.0 / 0.01 to 1.0 / 0.2, both low refractive index and strength can be achieved, and antifouling performance can be exhibited. Is preferred.

シランカップリング剤としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エボキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が例示でき、それらを単独に、或いは2種類以上併せて用いてもよい。 Examples of the silane coupling agent include tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3 4-Ethoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltri Examples include ethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

フッ素シランとしては、パーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤が好ましい。例えば、Rf−(OC−O−(CF−(CH−O−(CH −Si(OR)(但し、Rfは炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、nは1〜50の整数、mは0〜3の整数、lは0〜3の整数、sは0〜6の整数、但し、6≧m+l>0、Rは炭素数1〜10のアルキル基を示す)が好ましい。 As the fluorosilane, a perfluoropolyether group-containing silane coupling agent is preferable. For example, Rf- (OC 3 F 6) n -O- (CF 2) m - (CH 2) l -O- (CH 2) s -Si (OR) 3 ( where, Rf is C1-16 Linear or branched perfluoroalkyl group, n is an integer of 1-50, m is an integer of 0-3, l is an integer of 0-3, s is an integer of 0-6, provided that 6 ≧ m + 1> 0 , R represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms).

また、本発明の反射防止積層体は加工工程上及び使用上の帯電による埃付着防止の観点から、導電性を有することが求められている。これを実現するために、低屈折率層の下に導電性を有する高屈折率層を設けることが好ましい。 Further, the antireflection laminate of the present invention is required to have conductivity from the viewpoint of preventing dust adhesion due to charging during processing and use. In order to realize this, it is preferable to provide a high refractive index layer having conductivity under the low refractive index layer.

高屈折率層を形成する材料としては、導電性がある材料から選ばれ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化スズ(ITO)、酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化アルミニウム(AZO)、酸化亜鉛−酸化ガリウム(GZO)、酸化インジウム−酸化セリウムから選ばれる一種または、二種以上の混合物を使用することができる。 The material for forming the high refractive index layer is selected from conductive materials, such as indium oxide, tin oxide, indium oxide-tin oxide (ITO), zinc oxide, zinc oxide-aluminum oxide (AZO), zinc oxide- One kind or a mixture of two or more kinds selected from gallium oxide (GZO) and indium oxide-cerium oxide can be used.

本発明の反射防止フィルムは以下の手順で製造したことを特徴とする。
透明基材の上にハードコード層を作製する工程と、前記ハードコード層の表面のアルカリ処理工程とゼオライト溶液合成工程と前記ゼオライト溶液を含む低屈折率層用塗液作製工程と低屈折率層硬化する手順で製造する。
The antireflection film of the present invention is manufactured by the following procedure.
A step of preparing a hard cord layer on a transparent substrate, an alkali treatment step of the surface of the hard cord layer, a zeolite solution synthesis step, a coating solution preparation step for the low refractive index layer containing the zeolite solution, and a low refractive index layer Manufactured with a curing procedure.

以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明の技術範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, the technical scope of this invention is not limited to these Examples.

[ハードコート層の作製]
日本合成化学社製、商品名「UV1700B」の多官能ウレタンアクリレートを80質量部と、光重合開始剤であるチバスペシャリティケミカルズ社製、商品名「イルガキュア184」の1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを5質量部とをメチルイソブチルケトン中で混合してハードコート層形成用塗液を調製した。
[Preparation of hard coat layer]
80 parts by mass of a polyfunctional urethane acrylate manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name “UV1700B”, and 5 masses of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., a photopolymerization initiator, product name “Irgacure 184” Were mixed in methyl isobutyl ketone to prepare a coating solution for forming a hard coat layer.

[ゼオライトAの合成]
NaO:Al:SiO:HO=5.5:1.0:4.0:190のモル比で水酸ナトリウム、アルミン酸ナトリウム、純水、シリカを混合した。混合物を60℃で4日振動し反応させてゼオライトAを得た。ゼオライトAを遠心分離機で、0.5時間処理して沈降粒子を除去した後で、粒子径が100nm以下のゼオライトAを得た。結晶化度は0.97であった。
[Synthesis of zeolite A]
Sodium hydroxide, sodium aluminate, pure water, and silica were mixed at a molar ratio of Na 2 O: Al 2 O 3 : SiO 2 : H 2 O = 5.5: 1.0: 4.0: 190. The mixture was reacted by shaking at 60 ° C. for 4 days to obtain zeolite A. Zeolite A was treated with a centrifugal separator for 0.5 hours to remove precipitated particles, and then zeolite A having a particle size of 100 nm or less was obtained. The crystallinity was 0.97.

[ゼオライトBの合成]
ゼオライトAの合成と同様にして水酸ナトリウム、アルミン酸ナトリウム、純水、シリカを混合した。混合物を60℃で1日振動し反応させてゼオライトBを得た。ゼオライトBを遠心分離機で、0.5時間処理して沈降粒子を除去した後で、粒子径が100nm以下のゼオライトBを得た。結晶化度は0.57であった。
[Synthesis of zeolite B]
In the same manner as in the synthesis of zeolite A, sodium hydroxide, sodium aluminate, pure water, and silica were mixed. The mixture was vibrated at 60 ° C. for 1 day to obtain zeolite B. Zeolite B was treated with a centrifuge for 0.5 hour to remove the precipitated particles, and then zeolite B having a particle size of 100 nm or less was obtained. The crystallinity was 0.57.

[低屈折率層用塗液Aの作製]
テトラトキシシラン溶液1molにトリデカチルトリメトキシシラン0.015molを添加し、混合溶液を作製した。混合液1molに対して1N水酸ナトリウム7.5molを加えたマトリックスとゼオライトAを60重量部と40重量部の割合になるように組み合わせて調液し、固形分換算で15%になるようにイソプロピルアルコールを加え、1時間攪拌加水分解させてから、イソプロピルアルコールを追加し、4wt%低屈折率層コーティング溶液を作製した。
[Preparation of coating liquid A for low refractive index layer]
It was added trideca Bed trimethoxysilane 0.015mol Tetra main Tokishishiran solution 1 mol, a mixed solution was prepared. A matrix prepared by adding 7.5 mol of 1N sodium hydroxide to 1 mol of the mixed solution and zeolite A were combined in a ratio of 60 parts by weight and 40 parts by weight, so that the solid content was 15%. Isopropyl alcohol was added and the mixture was stirred and hydrolyzed for 1 hour, and then isopropyl alcohol was added to prepare a 4 wt% low refractive index layer coating solution.

[低屈折率層用塗液Bの作製]
テトラトキシシラン溶液1molにトリデカチルトリメトキシシラン0.015molを添加し、混合溶液を作製した。混合液1molに対して1N水酸ナトリウム7.5mol加えたマトリックスとゼオライトBを60重量部と40重量部の割合になるように組み合わせて調液し、固形分換算で15%になるようにイソプロピルアルコールを加え、1時間攪拌加水分解させてから、イソプロピルアルコールを追加し、4wt%低屈折率層コーティング溶液を作製した。
[Preparation of coating liquid B for low refractive index layer]
It was added trideca Bed trimethoxysilane 0.015mol Tetra main Tokishishiran solution 1 mol, a mixed solution was prepared. A matrix prepared by adding 7.5 mol of 1N sodium hydroxide to 1 mol of the mixed solution and zeolite B were combined in a ratio of 60 parts by weight and 40 parts by weight, and isopropyl was prepared so that the solid content was 15%. After adding alcohol and stirring and hydrolyzing for 1 hour, isopropyl alcohol was added to prepare a 4 wt% low refractive index layer coating solution.

[低屈折率層用塗液Cの作製]
テトラトキシシラン溶液1molにトリデカチルトリメトキシシラン0.015molを添加し、混合溶液を作製した。混合液1molに対して1N塩酸7.5mol加えたマトリックスと内部に空隙を有するシリカゾルを60重量部と40重量部の割合になるように組み合わせて調液し、固形分換算で15%なるようにイソプロピルアルコールを加え、1時間攪拌加水分解させてから、イソプロピルアルコールを追加し、4wt%低屈折率層コーティング溶液を作製した。
[Preparation of coating liquid C for low refractive index layer]
It was added trideca Bed trimethoxysilane 0.015mol Tetra main Tokishishiran solution 1 mol, a mixed solution was prepared. A matrix prepared by adding 7.5 mol of 1N hydrochloric acid to 1 mol of the mixed solution and a silica sol having voids in the interior were prepared so as to have a ratio of 60 parts by weight and 40 parts by weight, and the solid content was 15%. Isopropyl alcohol was added and the mixture was stirred and hydrolyzed for 1 hour, and then isopropyl alcohol was added to prepare a 4 wt% low refractive index layer coating solution.

[実施例1]
(ハードコート層の形成)
調製したハードコート層の形成用塗液をマイクログラビア法によりトリアセチルセルロースフィルム(透明基材)上に膜厚5μmで塗布し、120Wのメタルハライドランプを20cmの距離から10秒間照射することにより、ハードコート層を形成した。
[Example 1]
(Formation of hard coat layer)
The prepared hard coat layer forming coating solution is applied to a triacetyl cellulose film (transparent substrate) with a film thickness of 5 μm by a microgravure method, and a 120 W metal halide lamp is irradiated for 10 seconds from a distance of 20 cm. A coat layer was formed.

[表面処理]
トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(透明基材)上に形成したハードコート層の積層体を、50℃に加熱した1.5N−NaOH水溶液に2分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、0.5wt%−HSO水溶液に室温で30秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥処理を行った。
[surface treatment]
The laminate of the hard coat layer formed on the triacetyl cellulose (TAC) film (transparent substrate) was immersed in a 1.5N NaOH aqueous solution heated to 50 ° C. for 2 minutes for alkali treatment, washed with water, and then washed with 0.0. It was neutralized by immersing in a 5 wt% -H 2 SO 4 aqueous solution at room temperature for 30 seconds, followed by washing with water and drying.

[低屈折率層の作製]
低屈折率層用塗液Aをマイクログラビア法により塗布し120℃オーブンで5分間加熱硬化することにより、ハードコート層上に層厚100nmの低屈折率層を形成し、反射防止積層体を得た。
[Preparation of low refractive index layer]
The coating liquid A for low refractive index layer is applied by a micro gravure method and heated and cured in a 120 ° C. oven for 5 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm on the hard coat layer, thereby obtaining an antireflection laminate. It was.

[比較例1]
実施例1と同様にして、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(透明基材)上に、ハードコート層の形成用塗液を用いて、層厚5μmのハードコート層を形成した。さらに、実施例1と同様にして、ハードコート層の表面処理をおこなった。
[Comparative Example 1]
In the same manner as in Example 1, a hard coat layer having a layer thickness of 5 μm was formed on a triacetyl cellulose (TAC) film (transparent substrate) using a coating liquid for forming a hard coat layer. Further, the surface treatment of the hard coat layer was performed in the same manner as in Example 1.

次に、低屈折率層用塗液Bをマイクログラビア法により塗布し120℃オーブンで5分間加熱硬化することにより、ハードコート層上に層厚100nmの低屈折率層を形成し、反射防止積層体を得た。 Next, the coating liquid B for low refractive index layer is applied by a micro gravure method and cured by heating in a 120 ° C. oven for 5 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm on the hard coat layer, and an antireflection laminate. Got the body.

[比較例2]
実施例1と同様にして、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(透明基材)上に、ハードコート層形成用塗液を用いて、層厚5μmのハードコート層を形成した。さらに、実施例1と同様にして、ハードコート層の表面処理をおこなった。
[Comparative Example 2]
In the same manner as in Example 1, a hard coat layer having a layer thickness of 5 μm was formed on a triacetyl cellulose (TAC) film (transparent substrate) using a coating liquid for forming a hard coat layer. Further, the surface treatment of the hard coat layer was performed in the same manner as in Example 1.

次に、低屈折率層用塗液Cをマイクログラビア法により塗布し120℃オーブンで5分間加熱硬化することにより、ハードコート層上に層厚100nmの低屈折率層を形成した。以上により、反射防止積層体を得た。 Next, the coating solution C for low refractive index layer was applied by a micro gravure method and heated and cured in a 120 ° C. oven for 5 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm on the hard coat layer. Thus, an antireflection laminate was obtained.

上記の実施例1、比較例1及び2において、各種物性評価方法を以下に示す。 In Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, various physical property evaluation methods are shown below.

(1)光学特性
反射率:分光光度計により入射角5で550nmにおける反射率を測定した。
ヘイズ:プラスチックの光学的特性試験方法JIS−K7105のヘイズ試験方法に準じて算出した。
(1) Optical characteristic reflectance: The reflectance at 550 nm was measured at an incident angle of 5 with a spectrophotometer.
Haze: Calculated according to the haze test method of JIS-K7105.

(2)密着性
塗料一般試験法JIS−K5400のクロスカット密着試験方法に準じて塗膜の残存数にて評価した。
(2) Adhesive paint general test method Evaluation was made by the number of remaining coating films according to the cross-cut adhesion test method of JIS-K5400.

(3)耐擦傷試験
スチールウール#0000により、300g/cm の荷重で往復5回擦傷試験を実施して、目視による傷の外観を検査した。評価は、傷なし(◎)、かるく傷あり(○)、かなり傷つく(△)、著しく傷つく(×)の4段階とした。
(3) Scratch resistance test Using steel wool # 0000, a five-way scratch test was performed with a load of 300 g / cm 2 to inspect the appearance of the scratches by visual inspection. The evaluation was made in four stages: no damage (◎), light scratch (◯), considerable damage (△), and significant damage (x).

(4)水接触角
被膜表面に水滴をのせ、水滴と表面の接触角を測定した。測定には協和界面科学(株)製の接触角計を用いた。
(4) Water contact angle A water drop was placed on the surface of the coating, and the contact angle between the water drop and the surface was measured. For the measurement, a contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was used.

(5)指紋拭き取り性
被膜表面に指紋を付着させ、ティッシュペーパーにて拭き取り性を目視で検査した。評価は、容易に拭き取れる(○)、拭き取れる(△)、拭き取れない(×)の3段階とした。
(5) Fingerprint wiping property A fingerprint was adhered to the surface of the coating, and the wiping property was visually inspected with a tissue paper. The evaluation was made in three stages: easy wiping (◯), wiping (Δ), and non-wiping (×).

Figure 0005278688
Figure 0005278688

表1に示すように、実施例1及び比較例2のいずれも反射率が低く、目的の低屈折率層を得ることができたが、実施例1に結晶化度0.97のゼオライト粒子を使うことにより得られた反射防止積層体は密着性、硬度、耐擦傷性、防汚性にも優れている。それに対して、結晶化ゼオライト粒子を使用してない比較例2の反射防止積層体は耐擦傷性の強度面で著しく特性が劣っていることがわかる。また、比較例1の結晶化度0.57ゼオライト粒子を使用することにより得られた反射防止積層体と実施例1により得られた反射防止積層体とを比較して、実施例1の反射防止積層体の方が耐擦傷性、反射率ともに優れていることわかる。 As shown in Table 1, both Example 1 and Comparative Example 2 had low reflectance, and the desired low refractive index layer could be obtained. In Example 1, zeolite particles having a crystallinity of 0.97 were used. The antireflection laminate obtained by use is excellent in adhesion, hardness, scratch resistance and antifouling property. On the other hand, it can be seen that the antireflective laminate of Comparative Example 2 that does not use crystallized zeolite particles is significantly inferior in terms of scratch resistance strength. Further, the antireflection laminate obtained by using the zeolite particles having a crystallinity of 0.57 in Comparative Example 1 and the antireflection laminate obtained in Example 1 were compared, and the antireflection laminate of Example 1 was compared. It can be seen that the laminate is superior in both scratch resistance and reflectance.

本発明の反射防止積層体は、低屈折率層にゼオライトに添加することにより、低屈折率という光学特性と優れた物理的強度とを兼備した被膜を形成することができるものである。すなわち、本発明の反射防止積層体は、ディスプレイなどの最外層に配置され、過酷な環境や取り扱いにも充分に耐えられ、かつ防汚性に優れたものである。 The antireflective laminate of the present invention can form a film having both the optical characteristics of a low refractive index and excellent physical strength by adding it to zeolite in the low refractive index layer. That is, the antireflection laminate of the present invention is disposed in the outermost layer of a display or the like, can sufficiently withstand harsh environments and handling, and has excellent antifouling properties.

Claims (4)

透明基材を準備し、
前記透明基材の少なくとも片面に透明基材の上にハードコード層を作製する工程と、
前記ハードコード層の表面のアルカリ処理工程と
結晶化度0.97のゼオライト粒子を使用したゼオライト溶液合成工程と、
前記ゼオライト溶液を含み、且つケイ素アルコキシドとフッ素シランとのモル比が1.0/0.01〜1.0/0.2である低屈折率層用塗液作製工程と低屈折率層硬化する工程と、
により結晶化度0.64以上のゼオライトを含む低屈折率層を形成することを特徴とする反射防止積層体の製造方法。
Prepare a transparent substrate,
A step of preparing a hard cord layer on a transparent substrate on one side at least of the transparent substrate,
An alkali treatment step on the surface of the hard cord layer ;
A zeolite solution synthesis process using zeolite particles having a crystallinity of 0.97 ;
Look including the zeolite solution, and the molar ratio of the low refractive index layer coating solution preparation step and the low refractive index layer is 1.0 / 0.01 to 1.0 / 0.2 of the silicon alkoxide and the fluorine silane A curing step;
And forming a low refractive index layer containing zeolite having a crystallinity of 0.64 or higher.
前記ゼオライトは粒径5nm以上200nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止積層体の製造方法。 The method for producing an antireflection laminate according to claim 1, wherein the zeolite has a particle size of 5 nm to 200 nm. 前記ゼオライトの含有量は5%以上95%以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の反射防止積層体の製造方法。 The method for producing an antireflection laminate according to claim 1 or 2, wherein the content of the zeolite is 5% or more and 95% or less. 前記低屈折率層の屈折率が1.20以上1.40以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の反射防止積層体の製造方法。

The method for producing an antireflection laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein a refractive index of the low refractive index layer is 1.20 or more and 1.40 or less.

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