JP5275085B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5275085B2 JP5275085B2 JP2009046313A JP2009046313A JP5275085B2 JP 5275085 B2 JP5275085 B2 JP 5275085B2 JP 2009046313 A JP2009046313 A JP 2009046313A JP 2009046313 A JP2009046313 A JP 2009046313A JP 5275085 B2 JP5275085 B2 JP 5275085B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- mask material
- temperature condition
- region
- material film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Description
前記第1のマスク材膜は、カーボンを主成分とするカーボン膜からなり、
前記第1の温度条件は、前記第2の温度条件よりも高温である。
前記第1のマスク材膜は、カーボンを主成分とするカーボン膜からなり、
前記第1の温度条件は、前記第2の温度条件よりも高温である。
図1(a)〜(i)は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図であり、図2は、カーボン膜を形成する際の温度と、最小加工寸法および反射率との関係を示すグラフである。図2は、横軸が温度、縦軸の左側が最小加工寸法、右側が反射率であり、CVD(Chemical Vapor Deposition)法によって膜厚200nmのカーボン膜を形成する場合の温度と最小加工寸法の関係、および温度と反射率の関係を示している。図2に示す□は、カーボン膜を形成する温度に対応する最小加工寸法の値を示し、◆は、カーボン膜を形成する温度に対応する単膜での反射率を示している。ここで、以下における最小加工寸法とは、カーボン膜をマスクとし、被加工膜としてのシリコン酸化膜をフッ化炭素(CF)系のガスを用いてRIE(Reactive Ion Etching)加工する際、カーボン膜の曲がりや撚れを招くことなく加工できる最小の寸法を示している。
本実施の形態によれば、以下の効果が得られる。
(1)CVD法によって第1のマスク材膜5を形成する過程で、同一チャンバー内にて第1の温度条件から第2の温度条件へと変更することによって、マスクとして機能する第1の領域3と、反射防止膜として機能する第2の領域4と、を作り分けることができる。よって、例えば別々の製造プロセスによって、反射防止膜をマスク材膜上に形成する場合に比べて工程数を削減することができ、半導体装置の製造コストを減らすことができる。また、反射防止膜とマスク材膜(カーボン膜)の密着性不良やエッチングレートの差によるアンダーカットに起因するパターン倒れや剥がれを防ぐことができ、歩留まりが向上する。
(2)フォトリソグラフィ法の露光解像限界を超えた寸法を有するパターンの形成において、アスペクト比が小さい側壁パターンをマスクとして、表面張力等のパターン間応力を発生させるウエット処理を用いることなくドライエッチングにより芯材パターンから被加工膜まで加工してパターン形成できるので、パターン倒れが生じ難い。
(3)芯材パターンの除去と、芯材パターンの下層のカーボン膜のエッチングをガス条件(例えば、ガス種)を変えずに1つの工程で行うことができ、工程数を減らすことができる。
(4)エッチバックによる側壁パターンの形成からカーボン膜の除去までを、1つのドライエッチング装置内で行うことが可能となり、工程間搬送時のパーティクル付着等による欠陥の発生を抑制し、歩留まり低下を低減することができる。
(5)工程数の削減による寸法ばらつきの低減と歩留まりの向上を図ることができる。
(6)レジストにドライエッチング耐性が不要となり、解像性の高いレジスト材料を使うことができる。
本発明の第2の実施の形態は、第1の実施の形態におけるマスクとしての機能と反射防止膜としての機能とを有する第1のマスク材膜が、温度条件の変更により実際に形成可能であることを具体例を挙げて示すものである。なお、第1の実施の形態と同様の部分については、説明を省略または簡略化する。本実施の形態は、第1の実施の形態と工程が共通であることから、図1を参照しながら説明する。
本実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様の効果が得られる。
Claims (3)
- 被加工膜上に、前記被加工膜を加工する際のマスク材となる膜をCVD法によって形成するに当って、第1の温度条件でマスクとして機能する第1の領域を形成し、前記第1の領域上に、同一チャンバー内にて前記第1の温度条件を変えた第2の温度条件で反射防止膜として機能する第2の領域を形成し、前記第1および第2の領域からなる第1のマスク材膜を形成する工程を含み、
前記第1のマスク材膜は、カーボンを主成分とするカーボン膜からなり、
前記第1の温度条件は、前記第2の温度条件よりも高温である、半導体装置の製造方法。 - 被加工膜上に、前記被加工膜を加工する際のマスク材となる膜をCVD法によって形成する工程であって、第1の温度条件でマスクとして機能する第1の領域を形成し、前記第1の領域上に、同一チャンバー内にて前記第1の温度条件を変えた第2の温度条件で反射防止膜として機能する第2の領域を形成し、前記第1および第2の領域からなる第1のマスク材膜を形成する工程と、
前記第1のマスク材膜上にレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンを覆うように前記第1のマスク材膜上に第2のマスク材膜を形成する工程と、
前記第2のマスク材膜をエッチバックして前記レジストパターンの側面に側壁パターンを形成するとともに、前記レジストパターンおよび前記第1のマスク材膜を露出させる工程と、
エッチバックされた前記第2のマスク材膜を残したまま、露出した前記レジストパターンとその下方の前記第1のマスク材膜および露出した前記第1のマスク材膜を一括加工する工程と、
前記第1のマスク材膜下に露出した前記被加工膜を加工する工程と、
を含み、
前記第1のマスク材膜は、カーボンを主成分とするカーボン膜からなり、
前記第1の温度条件は、前記第2の温度条件よりも高温である、半導体装置の製造方法。 - 前記被加工膜は、ラインアンドスペースパターンに加工される請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009046313A JP5275085B2 (ja) | 2009-02-27 | 2009-02-27 | 半導体装置の製造方法 |
US12/481,919 US8329385B2 (en) | 2008-06-10 | 2009-06-10 | Method of manufacturing a semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009046313A JP5275085B2 (ja) | 2009-02-27 | 2009-02-27 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010205755A JP2010205755A (ja) | 2010-09-16 |
JP5275085B2 true JP5275085B2 (ja) | 2013-08-28 |
Family
ID=42967010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009046313A Expired - Fee Related JP5275085B2 (ja) | 2008-06-10 | 2009-02-27 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5275085B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MY132894A (en) * | 1997-08-25 | 2007-10-31 | Ibm | Layered resist system using tunable amorphous carbon film as a bottom layer and methods of fabrication thereof |
JP2002194547A (ja) * | 2000-06-08 | 2002-07-10 | Applied Materials Inc | アモルファスカーボン層の堆積方法 |
JP2008197526A (ja) * | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Renesas Technology Corp | 微細パターンの形成方法、パターン保護材料と半導体装置 |
US7838432B2 (en) * | 2007-04-16 | 2010-11-23 | Applied Materials, Inc. | Etch process with controlled critical dimension shrink |
WO2008149989A1 (ja) * | 2007-06-08 | 2008-12-11 | Tokyo Electron Limited | パターニング方法 |
-
2009
- 2009-02-27 JP JP2009046313A patent/JP5275085B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010205755A (ja) | 2010-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8309463B2 (en) | Method for forming fine pattern in semiconductor device | |
US9064813B2 (en) | Trench patterning with block first sidewall image transfer | |
US7846843B2 (en) | Method for manufacturing a semiconductor device using a spacer as an etch mask for forming a fine pattern | |
US20150093902A1 (en) | Self-Aligned Patterning Process | |
JP6928764B2 (ja) | 金属酸化物のスピンオン堆積の方法 | |
JP5122422B2 (ja) | 半導体素子の製造方法 | |
JP5224919B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
KR100777927B1 (ko) | 반도체 소자의 미세패턴 형성방법 | |
US8048764B2 (en) | Dual etch method of defining active area in semiconductor device | |
JP2010087300A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US9412612B2 (en) | Method of forming semiconductor device | |
JP2009239030A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US8329385B2 (en) | Method of manufacturing a semiconductor device | |
US9460933B1 (en) | Patterning method | |
TWI443758B (zh) | 形成閘極導體結構的方法 | |
JP5275085B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
WO2021135179A1 (zh) | 头对头图形的制备方法 | |
US7939451B2 (en) | Method for fabricating a pattern | |
TWI473205B (zh) | 接觸窗開口的形成方法 | |
KR101033354B1 (ko) | 반도체 소자의 미세패턴 형성방법 | |
JP2008016839A (ja) | 半導体素子の微細パターン形成方法 | |
CN112670175B (zh) | 半导体结构的制作方法 | |
KR20090000882A (ko) | 반도체소자의 미세 패턴 형성방법 | |
KR20110060757A (ko) | 반도체장치 제조 방법 | |
KR20080018422A (ko) | 반도체 장치 형성 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20100928 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110311 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110627 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110628 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110629 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110630 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130312 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130408 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130423 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130515 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5275085 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |