JP5274622B2 - Defect inspection apparatus and method - Google Patents
Defect inspection apparatus and method Download PDFInfo
- Publication number
- JP5274622B2 JP5274622B2 JP2011141426A JP2011141426A JP5274622B2 JP 5274622 B2 JP5274622 B2 JP 5274622B2 JP 2011141426 A JP2011141426 A JP 2011141426A JP 2011141426 A JP2011141426 A JP 2011141426A JP 5274622 B2 JP5274622 B2 JP 5274622B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- defect
- image
- defect image
- laminated film
- pseudo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/21—Polarisation-affecting properties
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/892—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/892—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
- G01N21/896—Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Pathology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
Description
本発明は、偏光板とフィルムとを積層してなる積層フィルムの欠陥を検査する欠陥検査装置及び方法に関するものである。 The present invention relates to a defect inspection apparatus and method for inspecting a defect of a laminated film formed by laminating a polarizing plate and a film.
液晶ディスプレイには、各種の光学機能性フィルムが用いられている。この光学機能フィルムとしてフィルム状の偏光板が知られている。この偏光板の一面には、偏光板を液晶ディスプレイのガラス基板等に貼り付けるための粘着層が形成されている。この粘着層は、ガラス基板等に貼り付けられるまでの間はセパレータで覆われている。このため、液晶ディスプレイの製造工程には、偏光板とセパレータとを積層してなる積層フィルムの製造工程が含まれる(特許文献1参照)。 Various optical functional films are used for liquid crystal displays. A film-like polarizing plate is known as this optical functional film. An adhesive layer for attaching the polarizing plate to a glass substrate of a liquid crystal display is formed on one surface of the polarizing plate. This adhesive layer is covered with a separator until it is attached to a glass substrate or the like. For this reason, the manufacturing process of a liquid crystal display includes the manufacturing process of the laminated film formed by laminating | stacking a polarizing plate and a separator (refer patent document 1).
このような積層フィルムには、その製造工程においてフィルム表面またはフィルム内部に異物が付着したり、汚れや傷が付いたりする等の各欠陥が発生する場合がある。このため、積層フィルムの製造工程では、光源から積層フィルムに対して光を照射して、積層フィルムの透過光または反射光をカメラで撮影し、この撮影により得られた画像に基づいて欠陥検査を行う。 Such a laminated film may have various defects such as foreign matters adhering to the film surface or the inside of the film, or contamination or scratches in the production process. For this reason, in the production process of the laminated film, light is emitted from the light source to the laminated film, the transmitted light or reflected light of the laminated film is photographed with a camera, and defect inspection is performed based on the image obtained by this photography. Do.
特許文献2には、積層フィルムとカメラとの間に偏光フィルタを介在させた状態で、積層フィルムの透過光を撮影する欠陥検査装置が開示されている。偏光フィルタは、その偏光軸が偏光板の偏光軸と直交する、いわゆるクロスニコルとなるように配置されている。これにより、積層フィルムに欠陥が存在しなければ、積層フィルムの透過光の振動方向は偏光フィルタの偏光軸と直交するので、この透過光は偏光フィルタにより遮断される。このため、透過光像は全面黒画像となる。逆に、積層フィルムに欠陥が存在する場合は、その欠陥部分を透過した透過光の偏光状態が変わることにより、この欠陥部分の透過光は偏光フィルムを透過する。このため、透過光像の欠陥部分に対応する部分の輝度が高くなる。これにより、積層フィルムの欠陥の有無を検査することができる。
特許文献3には、細長く延びた欠陥部の画像を解析して、この欠陥部の種類を判定する傷検査方法が開示されている。この特許文献3の傷検査方法では、欠陥部の画像の2次モーメントから欠陥部の形状と方向性を求めることにより、欠陥部が傷であるか汚れであるかを判定する。
特許文献4には、積層フィルム等の被検査体の反射光を撮影して得られた画像から各種の特徴量を抽出し、この特徴量を基づき欠陥検査を行う欠陥検査装置が開示されている。この欠陥検査装置では、各特徴量をもとに重回帰式を計算して予測特性値を得るとともに、判別関数から判別スコアを計算して、これらの結果に基づいて欠陥の有無を判定する。 Patent Document 4 discloses a defect inspection apparatus that extracts various feature amounts from an image obtained by photographing reflected light of an object to be inspected such as a laminated film, and performs defect inspection based on the feature amounts. . In this defect inspection apparatus, a multiple regression equation is calculated based on each feature amount to obtain a predicted characteristic value, and a discrimination score is calculated from a discriminant function, and the presence or absence of a defect is determined based on these results.
積層フィルムのセパレータは、液晶ディスプレイの製造工程において最終的に偏光板から剥離されてしまう。このため、セパレータ自体に欠陥が存在していても粘着層の保護機能が損なわれていなければ、このセパレータの欠陥を本来は欠陥として扱う必要はない。しかしながら、特許文献2及び3の検査方法では、偏光板の欠陥とセパレータの欠陥を区別することができないので、検査員等が欠陥の発生箇所を確認して、偏光板の欠陥である実害欠陥であるか、あるいはセパレータの欠陥である擬似欠陥であるかを判定する必要がある。
The separator of the laminated film is finally peeled off from the polarizing plate in the manufacturing process of the liquid crystal display. For this reason, if the protective function of the adhesive layer is not impaired even if the separator itself has a defect, it is not necessary to treat the defect of the separator as a defect. However, in the inspection methods of
特許文献4の欠陥検査装置では、撮影画像から抽出する特徴量の種類を適宜設定することで、実害欠陥と擬似欠陥を判別することは不可能ではないが、撮影画像の全てに対して特徴量の抽出処理、重回帰式及び判別関数による複雑な演算処理を行う必要がある。このため、演算量が膨大になり処理に時間が掛かるという問題が生じる。その結果、特許文献4の欠陥検査装置を、搬送ラインを走行中の積層フィルムの欠陥検査に用いることは極めて困難である。 In the defect inspection apparatus of Patent Document 4, it is not impossible to discriminate a real defect from a pseudo defect by appropriately setting the type of the feature amount extracted from the photographed image. Extraction processing, multiple regression equations and discriminant functions need to be performed. For this reason, there is a problem that the amount of calculation becomes enormous and the processing takes time. As a result, it is extremely difficult to use the defect inspection apparatus disclosed in Patent Document 4 for defect inspection of a laminated film that is traveling on a conveyance line.
本発明の目的は、積層フィルムの擬似欠陥の判定を簡単に実行することができる欠陥検査装置及び方法を提供することにある。 The objective of this invention is providing the defect inspection apparatus and method which can perform the determination of the pseudo defect of a laminated film easily.
上記目的を達成するため、本発明の欠陥検査装置は、偏光板とフィルムとを積層してなる多層の積層フィルムの表裏面の一方側に配置され、前記積層フィルムに対して光を照射する光源と、前記表裏面の他方側に配置され、前記表裏面に平行でかつ前記偏光板の第1偏光軸に略直交する第2偏光軸を有し、前記積層フィルムの正常部分を透過した前記光を遮断する偏光フィルタと、前記偏光フィルタの前記積層フィルムに対向する面側とは反対面側に配置され、前記偏光フィルタを透過した光を撮影する撮影手段と、前記撮影手段により取得された前記偏光フィルタの透過光像から、前記積層フィルムの欠陥部分及び前記偏光フィルタを透過した前記光によって輝度が高くなる高輝度領域を欠陥画像として抽出する欠陥画像抽出手段と、前記欠陥画像抽出手段が抽出した前記欠陥画像が、2つの高輝度領域が並んでいる特定欠陥画像である場合に、当該欠陥画像に対応する前記欠陥部分を前記偏光板の欠陥ではない擬似欠陥であると判定する擬似欠陥判定手段と、を備えることを特徴とする。 In order to achieve the above object, a defect inspection apparatus according to the present invention is a light source that is arranged on one side of the front and back surfaces of a multilayer laminated film formed by laminating a polarizing plate and a film, and irradiates light on the laminated film And the light that is disposed on the other side of the front and back surfaces, has a second polarization axis that is parallel to the front and back surfaces and substantially perpendicular to the first polarization axis of the polarizing plate, and has passed through a normal portion of the laminated film A polarizing filter for blocking light, a photographing means for photographing light transmitted through the polarizing filter, disposed on a surface opposite to the surface facing the laminated film of the polarizing filter, and the photographing means obtained by the photographing means A defect image extracting means for extracting, as a defect image, a defect portion of the laminated film and a high-luminance region whose luminance is increased by the light transmitted through the polarizing filter from the transmitted light image of the polarizing filter; When the defect image extracted by the fallen image extraction means is a specific defect image in which two high-luminance regions are arranged, the defect portion corresponding to the defect image is a pseudo defect that is not a defect of the polarizing plate. And a pseudo-defect determination unit.
前記欠陥画像抽出手段が抽出した前記欠陥画像から、前記欠陥画像の輝度の平均値である平均輝度と、前記欠陥画像の中心位置における輝度である中心輝度とを少なくとも含む複数種類の特徴量を抽出する特徴量抽出手段を備え、前記擬似欠陥判定手段は、前記特徴量抽出手段の抽出結果を、前記特定欠陥画像の特徴に応じて予め定められた各前記特徴量のしきい値と比較することで、前記欠陥画像が前記特定欠陥画像であるか否かを判定することが好ましい。 A plurality of types of feature amounts including at least an average luminance that is an average value of the luminance of the defect image and a central luminance that is a luminance at the center position of the defect image are extracted from the defect image extracted by the defect image extraction unit. A feature amount extracting unit that compares the extraction result of the feature amount extracting unit with a threshold value of each feature amount that is predetermined according to the feature of the specific defect image. Therefore, it is preferable to determine whether or not the defect image is the specific defect image.
前記特徴量には、前記平均輝度と前記中心輝度との差が含まれることが好ましい。 The feature amount preferably includes a difference between the average luminance and the central luminance.
前記特定欠陥画像は、N(Nは2以上の自然数)種類の第1〜第N擬似欠陥にそれぞれ対応した第1〜第N特定欠陥画像からなり、前記しきい値は、前記第1〜第N特定欠陥画像の特徴に応じてそれぞれ個別に定められた第1〜第Nしきい値からなるものであり、前記擬似欠陥判定手段に設けられ、前記特徴量抽出手段の抽出結果を、第1〜第Nしきい値とそれぞれ個別に比較することで、前記欠陥画像が前記第1〜第N特定欠陥画像であるか否かを個別に判定する第1〜第N判定手段と、前記第1〜第N判定手段による判定処理を所定の順番で実行させるとともに、第M[Mは(N−1)以下の自然数]番目の判定処理で前記欠陥部分が前記擬似欠陥であると判定された場合には、第(M+1)番目以降の判定処理を中止させる判定制御手段と、を備えることが好ましい。 The specific defect image includes first to N-th specific defect images corresponding to N (N is a natural number of 2 or more) types of first to N-th pseudo defects, respectively, and the threshold value includes the first to N-th specific defect images. N first threshold value to Nth threshold value individually determined according to the features of the N specific defect image, provided in the pseudo defect determining means, and the extraction result of the feature value extracting means is the first First to Nth determination means for individually determining whether or not the defect image is the first to Nth specific defect image by individually comparing with each of the Nth threshold value and the first threshold value. When the determination process by the Nth determination means is executed in a predetermined order, and the defect portion is determined to be the pseudo defect in the Mth [M is a natural number equal to or less than (N−1)] th determination process Includes a determination control unit that stops the (M + 1) th and subsequent determination processes. When, it is preferable to provide.
前記特定欠陥画像には、略十字形状の前記高輝度領域を有するものが含まれることが好ましい。 It is preferable that the specific defect image includes an image having the substantially bright cross-shaped high luminance region.
前記フィルムは、前記偏光板の表面上に形成された粘着層上に剥離自在に貼り付けられたセパレータであることが好ましい。 The film is preferably a separator that is detachably attached to an adhesive layer formed on the surface of the polarizing plate.
前記擬似欠陥判定手段が前記特定欠陥画像であると判定しなかった前記欠陥画像に対応をする前記欠陥部分を、前記偏光板の欠陥である実害欠陥と判定する実害欠陥判定手段を備えることが好ましい。 It is preferable to include actual defect determination means that determines the defect portion corresponding to the defect image that has not been determined to be the specific defect image by the pseudo defect determination means as an actual defect that is a defect of the polarizing plate. .
前記積層フィルムの前記実害欠陥と判定された部分に、前記実害欠陥を示すマーキングを行うマーキング手段を備えることが好ましい。 It is preferable that a marking unit that performs marking indicating the actual damage defect is provided on a portion of the laminated film determined to be the actual damage defect.
また、本発明の欠陥検査方法は、偏光板とフィルムとを積層してなる多層の積層フィルムの表裏面の一方側に配置された光源から、前記積層フィルムに対して光を照射する照射ステップと、前記表裏面の他方側に配置され、前記表裏面に平行でかつ前記偏光板の第1偏光軸に略直交する第2偏光軸を有する偏光フィルタにより、前記積層フィルムの正常部分を透過した前記光を遮断する遮断ステップと、前記偏光フィルタの前記積層フィルムに対向する面側とは反対面側に配置された撮影手段により、前記偏光フィルタを透過した光を撮影する撮影ステップと、前記撮影ステップで取得された偏光フィルタの透過光像から、前記積層フィルムの欠陥部分及び前記偏光フィルタを透過した前記光によって輝度が高くなる高輝度領域を欠陥画像として抽出する欠陥画像抽出ステップと、前記欠陥画像抽出ステップで抽出した前記欠陥画像が、2つの高輝度領域が並んでいる特定欠陥画像である場合に、当該欠陥画像に対応する前記欠陥部分を前記偏光板の欠陥ではない擬似欠陥であると判定する擬似欠陥判定ステップと、を有することを特徴とする。
In addition, the defect inspection method of the present invention includes an irradiation step of irradiating light to the laminated film from a light source disposed on one side of the front and back surfaces of a multilayer laminated film obtained by laminating a polarizing plate and a film. The polarizing film that is disposed on the other side of the front and back surfaces, is parallel to the front and back surfaces, and has a second polarization axis that is substantially orthogonal to the first polarization axis of the polarizing plate, and transmits the normal part of the laminated film. A blocking step for blocking light, a shooting step for shooting the light transmitted through the polarizing filter by a shooting means disposed on a surface opposite to the surface facing the laminated film of the polarizing filter, and the shooting step From the transmitted light image of the polarizing filter acquired in
本発明の欠陥検査装置及び方法は、偏光フィルタの透過光像からその高輝度領域を欠陥画像として抽出し、この欠陥画像の中で2つの高輝度領域が並んでいる特定欠陥画像に対応する積層フィルムの欠陥部分を、偏光板の欠陥ではない擬似欠陥であると判定することにより、重回帰式及び判別関数などを用いた複雑な演算処理を行うことなく擬似欠陥の判定を簡単に実行することができる。これにより、検査処理に掛かる時間を短縮することができるので、走行中の積層フィルムの欠陥検査が可能になる。 The defect inspection apparatus and method of the present invention extract a high brightness area from a transmitted light image of a polarizing filter as a defect image, and a stack corresponding to a specific defect image in which two high brightness areas are arranged in the defect image. By determining that the defective part of the film is a pseudo defect that is not a defect of the polarizing plate, it is possible to easily execute the determination of the pseudo defect without performing complicated arithmetic processing using multiple regression equations and discriminant functions. Can do. Thereby, since the time required for the inspection process can be shortened, it becomes possible to inspect the laminated film for defects during traveling.
図1及び図2に示すように、長尺の積層フィルム9を製造する積層フィルム製造ライン10には、欠陥検査装置11が配置されている。欠陥検査装置11は、図中Y方向に走行する積層フィルム9の欠陥を検査する。図3に示すように、検査対象となる積層フィルム9は、フィルム状の偏光板13と、この偏光板13の一面に形成された粘着層14上に積層されたセパレータ(フィルム)15とを備える積層構造を有している。
As shown in FIGS. 1 and 2, a
偏光板13は、例えばポリビニルアルコール(PVA)などのポリマー中に各種有機物を混合してなるフィルムを所定方向に延伸することで生成される。これにより、偏光板13の中の各分子M(図7参照)が延伸方向に沿って配向する。その結果、偏光板13は、各分子Mの配向方向に平行な方向に振動する偏光を透過させる。ここで、偏光板13の偏光軸D1(図2参照)は図中Y方向に平行であるものとする。偏光板13は、その一面に形成された粘着層14を介して液晶ディスプレイのガラス基板(図示せず)等に貼り付けられる。
The
セパレータ15は、粘着層14上に剥離可能に積層されており、偏光板13がガラス基板等に貼り付けられるまでの間は粘着層14を保護する。このセパレータ15は、偏光板13をガラス基板等に貼り付ける際など、最終的には粘着層14上から剥離される。
The separator 15 is detachably laminated on the
図1及び図2に戻って、欠陥検査装置11は、積層フィルム9の搬送ラインの途中に配置されている。この欠陥検査装置11は、ライン光源17と、偏光フィルタ19と、ラインセンサカメラ(以下、単にカメラという、撮影手段)20と、マーキング装置21と、欠陥検査装置本体(以下、単に装置本体という)22とで構成されている。
Returning to FIG. 1 and FIG. 2, the
ライン光源17及び偏光フィルタ19は、それぞれ積層フィルム9の幅方向(以下、単にフィルム幅方向という、図中X方向)に積層フィルム9の幅よりも長く延びた形状を有している。
Each of the line light source 17 and the
ライン光源17は、積層フィルム9の表裏面の一面側(図中下面側)に配置されている。ライン光源17は、フィルム幅方向に平行なライン状の検査光24を積層フィルム9に向けて照射する。なお、ライン光源17としては、ハロゲンランプ、LED等を用いることができる。
The line light source 17 is disposed on one surface side (the lower surface side in the drawing) of the front and back surfaces of the
偏光フィルタ19は、積層フィルム9の表裏面の他面側(図中上面側)、より具体的には積層フィルム9とカメラ20との間に配置されている。偏光フィルタ19は、積層フィルム9の表裏面に平行で、かつ偏光軸D1に対して略直交する偏光軸D2を有している。なお、ここでいう「略直交」には、完全に直交している場合とほぼ直交している場合(偏光軸D1と偏光軸D2とのなす角度が90°に近い値となる場合)の両方が含まれる。これにより、偏光フィルタ19と偏光板13とは、いわゆるクロスニコルの関係になる。
The
偏光フィルタ19は、積層フィルム9を透過して入射した検査光24のうち、偏光軸D2に垂直な方向に振動する偏光成分の光を遮断し、偏光軸D2に平行な方向に振動する偏光成分の光はそのまま透過させる。これにより、偏光フィルタ19を透過した検査光24は、偏光軸D2に平行な方向に振動する偏光となる。
The
カメラ20は、偏光フィルタ19の積層フィルム9に対向する面側とは反対面側で、かつ積層フィルム9の幅方向中心の直上位置に配置されている。カメラ20は、フィルム幅方向に1列に配列された複数の画素からなるライン状の撮像領域を有している。この撮像領域は、フィルム幅方向に積層フィルム9の幅よりも長く延びている。
The
カメラ20は、積層フィルム9及び偏光フィルタ19を透過した検査光24を撮像して、1ライン分の画像信号を装置本体22へ出力する。このカメラ20は、積層フィルム9が1ライン分ずつ搬送されるごとに撮像と画像信号の出力とを連続して実行する。これにより、積層フィルム9の全領域を透過した検査光24の撮像信号が得られる。
The
マーキング装置21は、積層フィルム9の搬送路上で、かつライン光源17やカメラ20などよりも積層フィルム9の搬送方向下流側に配置されている。マーキング装置21は、装置本体22の制御の下、積層フィルム9で特定の欠陥が発生した場合に、その位置を示すマーキングを積層フィルム9に行う。
The marking
装置本体22は、カメラ20から入力された画像信号に基づき、積層フィルム9に欠陥が発生している否かの欠陥検査を行う。また、装置本体22は、積層フィルム9に欠陥が発生している場合に、この欠陥がセパレータ15で発生した擬似欠陥であるか、あるいは偏光板13で発生した実害欠陥であるかを判定する。
The
ここで擬似欠陥とは、例えば、図4に示すようにセパレータ15の内部に存在する異物26に起因する欠陥である。この場合には、異物26によって偏光板13の表面に凹み13aが形成されるものの、図5に示すように、偏光板13からセパレータ15を剥離した場合には偏光板13に異物26は残らない。また、偏光板13の復元力により凹み13aも消えてしまうので、偏光板13の性能にも影響を及ぼさない。このため、擬似欠陥は、セパレータ15による粘着層14や偏光板13の保護という機能が損なわれていなければ、本来は欠陥として扱う必要がないものである。
Here, the pseudo defect is, for example, a defect caused by the
実害欠陥は、例えば、偏光板13に異物が付着あるいは埋め込まれるなどの外観欠陥であり、セパレータ15を剥離した場合でも偏光板13に残る欠陥である。この実害欠陥は、偏光板13の性能に影響を及ぼすものであるので、欠陥として扱う必要がある。
The actual damage defect is, for example, an appearance defect such as a foreign substance adhering to or embedded in the
図6に示すように、装置本体22のCPU28は、操作部29からの制御信号に基づき、メモリ30から読み出した各種プログラムやデータを逐次実行することで、装置本体22の各部を統括的に制御する。メモリ30のRAM領域は、CPU28が処理を実行するためのワークメモリや、各種データの一時保管先として機能する。また、メモリ30のROM領域には、制御用の各種プログラムやデータが格納されている。
As shown in FIG. 6, the
CPU28には、バスBuを介して、操作部29、メモリ30、入力I/F31、画像処理回路32、欠陥画像抽出回路33、特徴量抽出回路34、擬似欠陥判定回路35、実害欠陥判定回路36、欠陥位置検出回路37、マーキング制御回路38などが接続されている。操作部29は、欠陥検査の開始/停止操作などに用いられる。
The
入力I/F31は、カメラ20と接続している。入力I/F31は、カメラ20から逐次入力される1ライン分の画像信号を、画像処理回路32へ逐次出力する。
The input I /
画像処理回路32は、入力I/F31から入力される1ライン分の画像信号を蓄積し、例えば所定ライン数分の画像信号が蓄積される度に、これら画像信号に基づき2次元の画像データを生成する。これにより、積層フィルム9をY方向に複数の区間に分けたときの、各区間をそれぞれ透過した検査光24を撮影した画像データが生成される。画像処理回路32は、画像データをメモリ30に逐次格納する。
The
画像データは、積層フィルム9の正常部分に対応する領域が黒画像となる。これは、積層フィルム9の正常部分を透過した検査光24の振動方向が偏光軸D2と直交するため、この検査光24が偏光フィルタ19で遮断されるからである。
In the image data, a region corresponding to a normal portion of the
逆に画像データは、積層フィルム9の欠陥部分(以下、フィルム欠陥部分という)に対応する領域の輝度が高くなる。これは、検査光24がフィルム欠陥部分を透過する際に偏光状態が変わることで、偏光軸D2と垂直な方向に振動する直線偏光ではなくなり、検査光24が偏光フィルタ19を透過するためである。
On the other hand, the image data has high brightness in a region corresponding to a defective portion of the laminated film 9 (hereinafter referred to as a film defective portion). This is because when the inspection light 24 passes through the film defect portion, the polarization state changes, so that the linearly polarized light that vibrates in the direction perpendicular to the polarization axis D2 is eliminated and the inspection light 24 passes through the
この際に、偏光フィルタ19を透過する検査光24の量(以下、透過検査光量という)は、フィルム欠陥部分を透過した検査光24の偏光状態によって変わる。例えば、検査光24に偏光軸D2に平行な方向に振動する偏光成分が多い場合には透過検査光量が増加し、逆に少ない場合には透過検査光量は減少する。なお、フィルム欠陥部分を透過した検査光24の偏光状態は、偏光板13中の分子Mの配向方向によって変わる。
At this time, the amount of inspection light 24 transmitted through the polarizing filter 19 (hereinafter referred to as transmission inspection light amount) varies depending on the polarization state of the
例えば、図4に示した異物26による擬似欠陥が発生した場合には、この異物26からの押圧を受けて偏光板13中の分子M(図7参照)の配向方向に乱れが生じる。具体的に異物26からの押圧により、各分子Mは異物26の中心に向けて引っ張られる。図7に示すように、異物26の中心付近に位置する分子Maは、異物26により偏光板13の厚み方向に押圧されるだけなので、分子Maの配向方向は偏光軸D1にほぼ平行な方向のまま変わらない。
For example, when a pseudo defect due to the
また、分子Maの周辺に位置する分子Mbの中で、異物26の中心に向けて偏光軸D1に平行な方向に引っ張られるものは、そのまま平行移動するだけで配向方向は変わらない。一方、分子Mbの中で、異物26の中心に向けて斜め方向に引っ張られるものは、配向方向が異物26の中心に向けて斜めに傾く。
Further, among the molecules Mb located around the molecule Ma, those pulled in the direction parallel to the polarization axis D1 toward the center of the
このような分子Mの配向方向に乱れが生じている箇所を透過した検査光24は、偏光軸D2と垂直な方向に振動する直線偏光ではなくなるので、偏光フィルタ19を透過する。その結果、この検査光24を撮像すると、図8に示すように、黒画像(図中のドットで表示)の中に輝度が高い2つの高輝度領域40(図中の白抜き部分で表示)が並んでいる画像データ(透過光像)41が取得される。以下、2つの高輝度領域40が並んで観察される擬似欠陥を「2点並び擬似欠陥」という。
The
2点並び擬似欠陥には、両高輝度領域40の輝度、画素数、及び間隔等が異なるN(Nは2以上の自然数)種類があり、各々の2点並び擬似欠陥を「2点並び(1)」、「2点並び(2)」・・・「2点並び(N)」という。例えば、図9に示すように「2点並び(1)」は、両高輝度領域40が完全に分離している。
There are N types (N is a natural number greater than or equal to 2) of the two-point aligned pseudo-defects in which the brightness, the number of pixels, the interval, etc. of both high-
図10に示すように「2点並び(2)」は、目視では2つの高輝度領域40が分離しているように見えても実際には両者が繋がっている。また、2点並び(2)には、図11に示すように、両高輝度領域40の面積及び輝度が大きくなり、目視でも2つの高輝度領域40が繋がっていることが確認可能なものも含まれる。
As shown in FIG. 10, the “two-point arrangement (2)” is actually connected even though the two high-
一方、実害欠陥には、偏光板13に球形あるいは多角形状の異物が付着する「異物」と、「異物」よりも細長形状の異物が偏光板13に付着する「細長異物」と、偏光板13に繊維状異物が埋め込まれている「ケバ」との少なくとも3種類がある。なお、異物の大きさが所定の下限規格値を下回る「異物(小)」は、偏光板13の性能に影響を及ぼすものではないので、実害欠陥とは判定しない。
On the other hand, the actual defect includes “foreign matter” in which spherical or polygonal foreign matter adheres to the
図6に戻って、欠陥画像抽出回路33は、メモリ30に格納された画像データ41から、予め定められた条件に従って、フィルム欠陥部分に起因する高輝度領域40を欠陥画像データとして抽出する。この条件とは、例えば、高輝度領域40を構成する各画素の輝度値の下限値や、画素数の下限値である。これにより、輝度値が所定値以上の画素が所定個数以上連結されてなる高輝度領域40が欠陥画像データとして抽出される。また、欠陥画像抽出回路33は、第1抽出パターンと第2抽出パターンの2種類の抽出パターンで欠陥画像データの抽出を行う。
Returning to FIG. 6, the defect
図12に示すように、第1抽出パターンでは、高輝度領域40の外周に沿うように外接四角形43aを設定し、この外接四角形43aの内側を欠陥画像データ42aとして抽出する。例えば2点並び擬似欠陥のように複数の高輝度領域40が集合している場合には、これら高輝度領域40の集合体を含む外接四角形43aを設定し、この外接四角形43aの内側を欠陥画像データ42aとして抽出する。また、3以上の高輝度領域40が集合している場合にも、全ての高輝度領域40の集合体を欠陥画像データ42aとして抽出する。
As shown in FIG. 12, in the first extraction pattern, a circumscribed
一方、高輝度領域40が単体で存在している場合には、これを含む外接四角形43aを設定して欠陥画像データ42aの抽出を行う。なお、外接四角形43aの大きさには上限が定められている。従って、外接四角形43a内に入らない高輝度領域40については、別のフィルム欠陥部分に起因するものと見なして、別途抽出を行う。
On the other hand, when the high-
図13に示すように、第2抽出パターンでは、複数の高輝度領域40が集合している場合に、画素数の多い高輝度領域40を含む外接四角形43bを設定し、この外接四角形43bの内側を欠陥画像データ42bとして抽出する。なお、高輝度領域40が単体で存在している場合には、これを含む外接四角形43bを設定して欠陥画像データ42bの抽出を行う。この場合には、欠陥画像データ42aと欠陥画像データ42bとは同じものになる。欠陥画像抽出回路33は、画像データ41から抽出した欠陥画像データ42a,42bを互いに関連付けてメモリ30に格納する。
As shown in FIG. 13, in the second extraction pattern, when a plurality of high-
図6に戻って、特徴量抽出回路34は、メモリ30に格納された欠陥画像データ42a,42bからそれぞれ特徴量を抽出する。この特徴量には、例えば「平均輝度」、「中心輝度」、「平均輝度−中心輝度」、「最大輝度」、「画素数」、「面積比1」、「面積比2」、「幅」、「長さ」、「縦横比」、「平均幅」、「平均幅縦横比」などが含まれる。
Returning to FIG. 6, the feature
「平均輝度」は、欠陥画像データ42aを構成する各画素の輝度の平均値である。「中心輝度」は、欠陥画像データ42aの中心位置における画素の輝度である。「平均輝度−中心輝度」は、「平均輝度」−「中心輝度」である。
“Average luminance” is an average value of the luminance of each pixel constituting the
「画素数」は、欠陥画像データ42a,42b内の高輝度領域40を構成する画素の画素数である。「面積比1」は、欠陥画像データ42aにおける「画素数」÷「高輝度領域40外の画素の画素数」であり、「面積比2」は、欠陥画像データ42bにおける「画素数」÷「高輝度領域40外の画素の画素数」である。
The “number of pixels” is the number of pixels constituting the
「幅」は、欠陥画像データ42aの幅(外接四角形43aの幅)である。「長さ」は、欠陥画像データ42aの長さ(外接四角形43aの長さ)である。「縦横比」は、「長さ」÷「幅」である。「平均幅」は、欠陥画像データ42a内の高輝度領域40の幅の平均値である。「平均幅縦横比」は、「長さ」÷「平均幅」である。特徴量抽出回路34は、欠陥画像データ42a,42bから抽出した各特徴量を、抽出元の欠陥画像データ42a,42bに対応付けてメモリ30に格納する。
“Width” is the width of the
擬似欠陥判定回路35は、メモリ30内の欠陥画像データ42a,42bに対応するフィルム欠陥部分が2点並び擬似欠陥であるか否かを判定する。この際に、2点並び擬似欠陥には、「2点並び(1)」〜「2点並び(N)」のN種類がある。このため、擬似欠陥判定回路35は、フィルム欠陥部分が「2点並び(1)」・・・「2点並び(N)」であるか否かを個別に判定する第1判定回路46(1)〜第N判定回路46(N)を有している。
The pseudo
第1判定回路46(1)は、メモリ30内の欠陥画像データ42a,42bの特徴量に基づき、欠陥画像データ42a,42bが「2点並び(1)」を示す第1特定欠陥画像データ(図14参照)であるか否かを判定する第1判定処理を行うことで、フィルム欠陥部分が「2点並び(1)」であるか否かを判定する。この第1判定処理は、欠陥画像データ42a,42bの各特徴量と、第1特定欠陥画像データの特徴に応じて予め定められた各特徴量の第1しきい値54(1)(図14参照)と、の比較により実行される。
The first determination circuit 46 (1) is configured to display the first specific defect image data (where the
第2判定回路46(2)は、欠陥画像データ42a,42bが「2点並び(2)」を示す第2特定欠陥画像データ(図14参照)である否かを判定する第2判定処理を行うことで、フィルム欠陥部分が「2点並び(2)」であるか否かを判定する。以下同様に、第N判定回路46(N)は、欠陥画像データ42a,42bが「2点並び(N)」を示す第N特定欠陥画像データである否かを判定する第N判定処理を行うことで、フィルム欠陥部分が「2点並び(N)」であるか否かを判定する。
The second determination circuit 46 (2) performs a second determination process for determining whether or not the
第2〜第N判定処理は、欠陥画像データ42a,42bの各特徴量を、第2〜第N特定欠陥画像データの特徴に応じて個別に予め定められた各特徴量の第2〜第Nしきい値54(2)〜54(N)(図14参照)とそれぞれ比較することにより実行される。
In the second to Nth determination processes, the feature amounts of the
実害欠陥判定回路36は、メモリ30内に格納された欠陥画像データ42a,42bに対応するフィルム欠陥部分が実害欠陥であるか否かを判定する。実害欠陥判定回路36は、擬似欠陥判定回路35により第1〜第N特定欠陥画像データであると判定されなかった欠陥画像データ42a,42bに対応するフィルム欠陥部分を、実害欠陥であると判定する。
The actual
欠陥位置検出回路37は、擬似欠陥判定回路35及び実害欠陥判定回路36によりそれぞれ2点並び擬似欠陥、実害欠陥と判定されたフィルム欠陥部分の積層フィルム9内における位置座標を検出する。この位置座標は、例えば、積層フィルム9の先端の通過を検出する先端検出センサ(図示せず)からの検出情報、既知の積層フィルム9の搬送速度、及び画像データ41内における欠陥画像データ42a,42bの位置情報などから求められる。なお、この方法以外にも公知の各種検出方法を用いてフィルム欠陥部分の位置座標を検出してもよい。欠陥位置検出回路37は、2点並び擬似欠陥及び実害欠陥の位置座標データをメモリ30に格納する。
The defect
マーキング制御回路38は、メモリ30内の実害欠陥の位置座標データ(以下、実害欠陥位置座標データという)に基づき、マーキング装置21を制御して、搬送路上の積層フィルム9に実害欠陥の位置を示すマーキングを行う。マーキング制御回路38は、先端検出センサからの検出情報、既知の積層フィルム9の搬送速度などから、積層フィルム9の実害欠陥位置座標データに対応する位置(以下、位置座標対応位置という)の移動を監視する。これにより、積層フィルム9の位置座標対応位置へのマーキングが可能となる。
The marking
CPU28は、メモリ30のROM領域から読み出した各種プログラムを逐次実行することで、擬似欠陥判定制御部28aとして機能する。擬似欠陥判定制御部28aは、第1〜第N判定回路46(1)〜46(N)による判定処理を所定の順番(例えば、第1判定回路46(1)、第2判定回路46(2)、・・・第N判定回路46(N))で実行させる。
The
また、擬似欠陥判定制御部28aは、第1判定処理でフィルム欠陥部が2点並び(1)であると判定された場合には第2〜第N判定処理を中止させ、第2判定処理でフィルム欠陥部が2点並び(2)であると判定された場合には第3〜第N判定処理を中止させる。このため、第M[Mは(N−1)以下の自然数]判定処理でフィルム欠陥部が2点並び擬似欠陥であると判定された場合には、それ以降の判定処理は行われない。
Further, the pseudo defect
図14に示すように、メモリ30のROM領域には、各種プログラムの他に、欠陥画像抽出基準データ60と、擬似欠陥分類基準データ61と、欠陥位置情報データ62とが格納されている。
As shown in FIG. 14, the ROM area of the
欠陥画像抽出基準データ60は、欠陥画像抽出回路33が画像データ41から欠陥画像データ42a,42bを抽出するための基準データとして用いられる。この欠陥画像抽出基準データ60には、高輝度領域40を構成する画素の輝度値の下限値、画素数の下限値などが格納されている。これにより、欠陥画像抽出回路33は、欠陥画像抽出基準データ60を参照して、画像データ41から欠陥画像データ42a,42bを抽出する。
The defect image
擬似欠陥分類基準データ61は、第1〜第N判定回路46(1)〜46(N)による第1〜第N判定処理に用いられるデータである。擬似欠陥分類基準データ61には、第1〜第N特定欠陥画像データの特徴に応じてそれぞれ予め定められた各特徴量の第1〜第Nしきい値54(1)〜54(N)が格納されている。
The pseudo defect
例えば、第1しきい値54(1)は、第1特定欠陥画像データの外観上の特徴に応じて定められている。この特徴とは、具体的には(a1)面積が大きい方の高輝度領域40が略円形で、(b1)目視観察上は両高輝度領域40が分離しており、(c1)両高輝度領域40が近接して並んでいる、などである。第1しきい値54(1)は、(a1)に対応して、「面積比2」が所定値β以上に定められている。(b1)に対応して、「平均輝度−中心輝度」が0.0以上(正の値)に定められている。(c1)に対応して、「縦横比」が1.0以下の所定値でかつ「面積比1」が所定値α以上に定められている。
For example, the first threshold value 54 (1) is determined according to the appearance characteristics of the first specific defect image data. Specifically, (a1) the high-
また、第2しきい値54(2)は、第2特定欠陥画像データの外観上の特徴、具体的には(a2)ほぼ円形の2つの高輝度領域40が一部重なるように並んでいる、などの特徴に応じて定められている。第2しきい値54(2)は、(a2)に対応して、「縦横比」が1.0以下、「平均輝度−中心輝度」が所定値γ以上、「面積比1」が所定値δ以上、「平均幅縦横比」が所定値ε以下に定められている。
Further, the second threshold value 54 (2) is arranged such that the appearance characteristics of the second specific defect image data, specifically, (a2) two substantially circular high-
第1〜第N判定回路46(1)〜46(N)は、それぞれ第1〜第Nしきい値54(1)〜54(N)を参照することにより、欠陥画像データ42a,42bが第1〜第N特定欠陥画像データであるか否かを個別に判定する。
The first to Nth determination circuits 46 (1) to 46 (N) refer to the first to Nth threshold values 54 (1) to 54 (N), respectively, so that the
欠陥位置情報データ62は、欠陥位置検出回路37により抽出された2点並び擬似欠陥及び実害欠陥の位置座標データを格納する。これにより、マーキング制御回路38は、欠陥位置情報データ62を参照することにより、実害欠陥位置座標データを取得することができる。
The defect position information data 62 stores the position coordinate data of the two-point aligned pseudo defect and the actual harm defect extracted by the defect
次に、図16を用いて上記構成の欠陥検査装置11の作用について説明を行う。操作部29で検査開始操作がなされると、積層フィルム9の搬送開始と同時に欠陥検査装置11による検査処理が開始される。最初に、ライン光源17から積層フィルム9に向けて検査光24が照射される。
Next, the operation of the
積層フィルム9の正常部分に入射した検査光24は、偏光軸D1に平行な方向に振動する直線偏光に変換されて積層フィルム9を透過する。これに対して、フィルム欠陥部分に入射した検査光24は、フィルム欠陥部分を透過する際に偏光状態が変わることで、偏光軸D1と平行な方向に振動する直線偏光にはならない。これら正常部分またはフィルム欠陥部分を透過した検査光24は、偏光フィルタ19に入射する。
The
偏光フィルタ19に入射した検査光24の中で、偏光軸D1と平行な方向(偏光軸D2に垂直な方向)に振動する直線偏光は偏光フィルタ19により遮断される。これに対して、フィルム欠陥部分を透過することで、偏光軸D1と平行な方向に振動する直線偏光にならなかった検査光24は、偏光フィルタ19を透過してカメラ20に入射する。
In the
カメラ20は、偏光フィルタ19を透過した検査光24を撮像して、1ライン分の画像信号を装置本体22へ出力する。以下、カメラ20は、積層フィルム9が1ライン分ずつ搬送されるごとに撮像と画像信号の出力とを連続して実行する。
The
カメラ20から出力された1ライン分の画像信号は、入力I/F31を介して、画像処理回路32に逐次入力する。画像処理回路32は、入力I/F31から入力される1ライン分の画像信号を蓄積し、所定ライン数分の画像信号が蓄積される度に、これら画像信号に基づき2次元の画像データ41を生成してメモリ30に格納する。
The image signal for one line output from the
CPU28は、新たな画像データ41がメモリ30に格納されたときに、欠陥画像抽出回路33に対して欠陥画像抽出指令を発する。この指令を受けて、欠陥画像抽出回路33は、メモリ30内の画像データ41を読み出す。そして、欠陥画像抽出回路33は、メモリ30内の欠陥画像抽出基準データ60で定められた基準に従って、画像データ41からフィルム欠陥部分に起因する高輝度領域40の抽出を開始する。
The
最初に、欠陥画像抽出回路33は、図12に示したように第1抽出パターンで高輝度領域40の抽出を行う。これにより、2点並び擬似欠陥のように複数の高輝度領域40が集合している場合には、これら高輝度領域40の集合体が欠陥画像データ42aとして抽出される。なお、高輝度領域40が単体で存在している場合には、この高輝度領域40が欠陥画像データ42aとして抽出される。
First, the defect
次いで、欠陥画像抽出回路33は、図13に示したように第2抽出パターンで高輝度領域40の抽出を行う。これにより、2点並び擬似欠陥のように複数の高輝度領域40が集合している場合には、その中で最大画素数の高輝度領域40が欠陥画像データ42bとして抽出される。なお、高輝度領域40が単体で存在している場合には、この高輝度領域40が欠陥画像データ42bとして抽出されるので、欠陥画像データ42bは欠陥画像データ42aと同じものになる。欠陥画像抽出回路33は、欠陥画像データ42a,42bをメモリ30に格納する。
Next, the defect
CPU28は、新たな欠陥画像データ42a,42bがメモリ30に格納されたときに、特徴量抽出回路34に対して特徴量抽出指令を発する。この指令を受けて、特徴量抽出回路34は、メモリ30内の欠陥画像データ42a,42bから各種の特徴量を抽出する。特徴量抽出回路34は、各特徴量を抽出元の欠陥画像データ42a,42bに対応付けてメモリ30に格納する。
The
次いで、CPU28は、擬似欠陥判定回路35及び実害欠陥判定回路36に対して判定指令を発する。最初に、擬似欠陥判定制御部28aによる制御の下、第1判定回路46(1)は、メモリ30内の欠陥画像データ42a,42bの各特徴量と、擬似欠陥分類基準データ61の第1しきい値54(1)とを比較する。この比較結果を基に、第1判定回路46(1)は、欠陥画像データ42a,42bが第1特定欠陥画像データであるか否かを判定する第1判定処理を行う。これにより、フィルム欠陥部分が「2点並び(1)」であるか否かが判定される。
Next, the
擬似欠陥判定制御部28aは、フィルム欠陥部分が「2点並び(1)」ではないと判定されたときに、第2判定回路46(2)を作動させる。第2判定回路46(2)は、欠陥画像データ42a,42bの各特徴量と第2しきい値54(2)とを比較して、欠陥画像データ42a,42bが第2特定欠陥画像データであるか否かを判定する第2判定処理を行う。これにより、フィルム欠陥部分が「2点並び(2)」であるか否かが判定される。
The pseudo defect
以下同様にして、フィルム欠陥部分が2点並び擬似欠陥であると判定されるまで、擬似欠陥判定制御部28aは、第3判定回路46(3)〜第N判定回路46(N)による第3〜第N判定処理を順番に実行させて、2点並び擬似欠陥の有無を判定させる。
Similarly, until the film defect portion is determined to be a two-point aligned pseudo defect, the pseudo defect
積層フィルム9の擬似欠陥の殆どはセパレータ15内部の異物26に起因するものであり、この異物26に起因する擬似欠陥では、図7〜図8に示したように高輝度領域40が2つ並んで観察される。このため、画像データ41から抽出した欠陥画像データ42a,42bの中で、2つの高輝度領域40が並んでいる欠陥画像データ42aに対応するフィルム欠陥部分を擬似欠陥として判定することができる。その結果、従来のように、画像データ41の全てに対して特徴量の抽出処理や、重回帰式及び判別関数による複雑な演算を行うことなく、擬似欠陥の有無を判定することができる。これにより、検査処理に掛かる時間を短縮することができるので、走行中の積層フィルム9の欠陥検査が可能になる。
Most of the pseudo defects of the
擬似欠陥判定制御部28aは、第1〜第(N(1))判定処理のいずれかでフィルム欠陥部分が2点並び擬似欠陥であると判定されたときには、それ以降の判定処理を中止させる。これにより、無駄な判定処理が行われなくなるので、より検査を迅速に行うことができる。
The pseudo-defect
実害欠陥判定回路36は、第1判定回路46(1)〜第N判定回路46(N)による第1〜第N判定処理を監視する。そして、実害欠陥判定回路36は、各判定処理のいずれでも2点並び擬似欠陥と判定されなかった場合に、フィルム欠陥部分を実害欠陥であると判定する。
The actual damage
CPU28は、フィルム欠陥部分が2点並び擬似欠陥あるいは実害欠陥であると判定されたときに、欠陥位置検出回路37に対して位置検出指令を発する。この指令を受けて、欠陥位置検出回路37は、2点並び擬似欠陥あるいは実害欠陥と判定されたフィルム欠陥部分の積層フィルム9内における位置座標を検出する。次いで、欠陥位置検出回路37は、2点並び擬似欠陥あるいは実害欠陥の位置座標データをメモリ30内の欠陥位置情報データ62に格納する。
The
CPU28は、実害欠陥位置座標データが欠陥位置情報データ62に格納されたときに、マーキング制御回路38に対してマーキング指令を発する。この指令を受けて、マーキング制御回路38は、欠陥位置情報データ62から実害欠陥位置座標データを読み出す。
The
次いで、マーキング制御回路38は、先端検出センサからの検出情報、及び積層フィルム9の搬送速度などから、積層フィルム9における位置座標対応位置の移動を監視する。そして、マーキング制御回路38は、位置座標対応位置がマーキング装置21の直下に移動したときに、マーキング装置21を作動させて位置座標対応位置にマーキングを行わせる。これにより、積層フィルム9における実害欠陥の位置の判別が容易となる。
Next, the marking
以下、積層フィルム9の全領域の検査が完了するまで、上述の処理が繰り返し実行される。
Hereinafter, the above-described processing is repeatedly executed until the inspection of the entire region of the
上記実施形態では、実害欠陥判定回路36はフィルム欠陥部分が実害欠陥であるか否かの判定しか行っていないが、フィルム欠陥部分が実害欠陥である場合にはその種類(「異物」、「細長異物」、「ケバ」など)の判定を行ってもよい。この場合には、図16に示すように、メモリ30のROM領域に実害欠陥分類基準データ64を格納しておく。
In the above embodiment, the actual
実害欠陥分類基準データ64には、「異物」、「細長異物」、「ケバ」などの実害欠陥の種類に応じてそれぞれ予め定められた各特徴量のしきい値が格納されている。これにより、実害欠陥判定回路36は、特徴量抽出回路34の抽出結果に基づき、実害欠陥分類基準データ64を参照することで、実害欠陥の種類を判定することができる。
In the actual damage defect
上記実施形態では、セパレータ15内の異物26による擬似欠陥として、図7〜図11に示した「2点並び擬似欠陥」が発生する場合を例に挙げて説明を行ったが、これ以外に十字形状の擬似欠陥(以下、十字擬似欠陥という)が発生する場合がある。なお、ここでいう「十字」には、「X字」も含まれるものとする。
In the above embodiment, the case where the “two-point aligned pseudo defect” shown in FIGS. 7 to 11 occurs as a pseudo defect due to the
セパレータ15内に異物26が存在している場合には、図4に示したように、異物26からの押圧を受けて偏光板13の表面に凹み13aが形成される。この際に、凹み13aが理想円に近い形状に形成されると、図17に示すように、異物26の中心を通りかつ偏光軸D1に平行な直線L1上またはその付近に位置する分子Mcは、偏光軸D1に平行な方向に平行移動するだけで、配向方向は変わらない。また、異物26の中心を通りかつ偏光軸D1に垂直な直線L2上またはその付近に位置する分子Mdも、偏光軸D1に垂直な方向に平行移動するだけで、配向方向は変わらない。これに対して、異物26の中心に対して斜め方向に位置する分子Meの配向方向は、異物26の中心に向けて斜めに傾く。
When the
分子Mc,Mdを透過した検査光24は、偏光軸D1と平行な方向(偏光軸D2に対して垂直な方向)に振動する直線偏光であるので、この検査光24は偏光フィルタ19で遮断される。これに対して、分子Meを透過した検査光24の振動方向は偏光軸D2に対して垂直な方向に振動する直線偏光ではなくなるので、偏光フィルタ19を透過する。その結果、この検査光24を撮像すると、図18に示すように、黒画像(図中のドットで表示)の中に十字形状の高輝度領域66(図中の白抜き部分で表示)を含む画像データ41が取得される。
Since the
このようにセパレータ15内の異物26に起因する擬似欠陥に、「2点並び擬似欠陥」と「十字擬似欠陥」との両方がある場合には、擬似欠陥判定回路35に第X判定回路46(X)を設けるとともに、擬似欠陥分類基準データ61に第Xしきい値54(X)を登録しておく。
As described above, when the pseudo defect caused by the
第X判定回路46(X)は、欠陥画像データ42a,42bが「十字擬似欠陥」を示す第X特定欠陥画像データであるか否かを判定する第X判定処理を行うことで、フィルム欠陥部分が「十字擬似欠陥」であるか否かを判定する。
The X-th determination circuit 46 (X) performs the X-th determination process for determining whether or not the
第Xしきい値54(X)は、第X判定処理に用いられるデータであり、第X特定欠陥画像データの外観上の特徴に応じて定められている。この特徴は、具体的には(aX)高輝度領域40が略十字形状になり、(bX)十字の中央部分の輝度が他の部分の輝度に比べて同等または暗い、などである。また、(aX)において高輝度領域40が略十字形状になる場合の特徴とは、(aX−1)外接四角形43aが略正方形状であり、(aX−2)外接四角形43a内における高輝度領域40の面積の割合が所定値以下になる、などが挙げられる。
The Xth threshold value 54 (X) is data used for the Xth determination process, and is determined according to the appearance characteristics of the Xth specific defect image data. Specifically, (aX) the
第1しきい値54(1)は、(aX−1)に対応して、「縦横比」が1.0を含む所定範囲(ζ以上η以下)に定められている。また、(aX−2)に対応して、「面積比1」が0.5以下の所定範囲内に定められるとともに、「平均幅縦横比」が3.0以下の所定範囲内に定められる。また、(bX)に対応して、「平均輝度−中心輝度」が−5.0以上の0に近い値に定められている。
The first threshold value 54 (1) is set in a predetermined range (ζ or more and η or less) in which the “aspect ratio” includes 1.0, corresponding to (aX−1). Corresponding to (aX-2), “
第X判定回路46(X)は、特徴量抽出回路34の抽出結果と、第Xしきい値54(X)とを比較することで、第X判定処理を行うことができる。なお、各判定処理の中で第X判定処理を行う順番を、例えば1番目にするなど適宜変更してもよい。この場合に、擬似欠陥判定制御部28aは、フィルム欠陥部分が「十字擬似欠陥」であると判定されたときにはそれ以降の判定処理を中止させる。
The X-th determination circuit 46 (X) can perform the X-th determination process by comparing the extraction result of the feature
また、「十字擬似欠陥」が1種類だけでなく複数種類ある場合にも本発明を適用することができる。この場合には「2点並び擬似欠陥」と同様に、「十字擬似欠陥」の種類毎に予め定められた各特徴量のしきい値を擬似欠陥分類基準データ61に格納しておく。これにより、擬似欠陥判定回路35は、擬似欠陥分類基準データ61を参照することで、「十字擬似欠陥」の種類を判定することができる。
Further, the present invention can be applied to a case where there are not only one type of “cross pseudo defect” but also a plurality of types. In this case, similarly to the “two-point aligned pseudo defect”, the threshold value of each feature amount predetermined for each type of “cross pseudo defect” is stored in the pseudo defect
上記実施形態では、積層フィルム9の擬似欠陥として、セパレータ15内に含まれる異物26に起因する擬似欠陥を例に挙げて説明を行ったが、例えば、図20に示すように、セパレータ15と偏光板13との間に存在する異物68に起因した擬似欠陥の検査にも本発明を適用することができる。セパレータ15を偏光板13から剥離した際に、異物68は粘着層14に残るおそれがあるが、偏光板13を液晶ディスプレイのガラス基板等に貼り付ける前に行われるクリーニング処理により異物68は除去される。このため、異物68が発生していても偏光板13の性能に影響は及ぼさない。なお、異物68に起因する擬似欠陥の検査は、上記の異物26に起因する2点並び擬似欠陥や十字擬似欠陥の検査と同様の方法で行うことができる。
In the above-described embodiment, the pseudo defect caused by the
上記実施形態では、偏光フィルタ19を透過した検査光24をカメラ20で撮像しているが、積層フィルム9の幅方向に移動自在なエリアカメラなどの各種のカメラ(撮影手段)を用いて検査光24を撮像してもよい。
In the above embodiment, the
上記実施形態では、特徴量抽出回路34が欠陥画像データ42a,42bから抽出する特徴量として、「平均輝度」及び「中心輝度」などを例に挙げて説明したが、2点並び擬似欠陥や十字擬似欠陥の判定に有用な上記以外の特徴量の抽出を行ってもよい。
In the above embodiment, “average luminance”, “center luminance”, and the like have been described as examples of feature amounts extracted by the feature
上記実施形態では、2点並び擬似欠陥や十字擬似欠陥を積層フィルム9の擬似欠陥として判定しているが、セパレータ15で発生するような偏光板13の性能に影響を及ぼさない各種欠陥を積層フィルム9の擬似欠陥として判定してもよい。
In the above-described embodiment, the two-point aligned pseudo defect or the cross pseudo defect is determined as the pseudo defect of the
上記実施形態では、積層フィルム9は3層構造であるが、少なくとも偏光板13を含む2層または4層以上の積層フィルムの検査を行う場合にも本発明を適用することができる。また、偏光板13の両面に粘着層14を介してセパレータ15が貼り付けられていてもよい。
In the said embodiment, although the laminated |
液晶ディスプレイに用いられる積層フィルム9を製造する積層フィルム製造ライン10に配置される欠陥検査装置11を例に挙げて説明を行ったが、駅層ディスプレイ以外に用いられる積層フィルムの欠陥検査装置にも本発明を適用することができる。
Although the
以下、本発明の効果を実証するための実施例を示し、本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, examples for demonstrating the effects of the present invention will be shown to specifically describe the present invention. However, the present invention is not limited to these examples.
下記表1に示すように、実施例では、欠陥検査装置11で1139枚分の画像データ41(積層フィルム9の約7500m分のデータ)で取得するとともに、個々の画像データ41ごとに欠陥画像データ42a,42bの取得、欠陥画像データ42a,42bからの各特徴量の取得、及び2点並び擬似欠陥及び実害欠陥の有無の判定を実施した。
As shown in Table 1 below, in the embodiment, the
欠陥検査装置11により2点並び擬似欠陥及び実害欠陥と判定されたフィルム欠陥部分を検査員により目視で確認を行った。その結果、2点並び擬似欠陥をケバと判定したものが10個、ケバを2点並び擬似欠陥と判定したものが1個発生した。実際の606(=597+10−1)個の2点並び擬似欠陥の中で誤判定が11個となり、誤判定率が約1.81%になった。その結果、欠陥検査装置11では高精度で2点並び擬似欠陥の有無の判定が実行できることが確認された。
A film defect portion determined to be a pseudo defect and an actual defect by the
9 積層フィルム
11 欠陥検査装置
13 偏光板
15 セパレータ
17 ライン光源
19 偏光フィルタ
20 ラインセンサカメラ
21 マーキング装置
22 装置本体
24 検査光
28 CPU
33 欠陥画像抽出回路
34 特徴量抽出回路
35 擬似欠陥判定回路
36 実害欠陥判定回路
40,66 高輝度領域
42a,42b 欠陥画像データ
46(1)〜46(N) 第1判定回路〜第N判定回路
54(1)〜54(N) 第1しきい値〜第Nしきい値
61 擬似欠陥分類基準データ
DESCRIPTION OF
33 Defect
Claims (9)
前記表裏面の他方側に配置され、前記表裏面に平行でかつ前記偏光板の第1偏光軸に略直交する第2偏光軸を有し、前記積層フィルムの正常部分を透過した前記光を遮断する偏光フィルタと、
前記偏光フィルタの前記積層フィルムに対向する面側とは反対面側に配置され、前記偏光フィルタを透過した光を撮影する撮影手段と、
前記撮影手段により取得された前記偏光フィルタの透過光像から、前記積層フィルムの欠陥部分及び前記偏光フィルタを透過した前記光によって輝度が高くなる高輝度領域を欠陥画像として抽出する欠陥画像抽出手段と、
前記欠陥画像抽出手段が抽出した前記欠陥画像が、2つの高輝度領域が並んでいる特定欠陥画像である場合に、当該欠陥画像に対応する前記欠陥部分を前記偏光板の欠陥ではない擬似欠陥であると判定する擬似欠陥判定手段と、
を備えることを特徴とする欠陥検査装置。 A light source that is disposed on one side of the front and back surfaces of a multilayer laminated film formed by laminating a polarizing plate and a film, and irradiates light to the laminated film;
Arranged on the other side of the front and back surfaces, having a second polarization axis parallel to the front and back surfaces and substantially perpendicular to the first polarization axis of the polarizing plate, and blocking the light transmitted through the normal portion of the laminated film A polarizing filter,
An imaging unit that is disposed on the side opposite to the side of the polarizing filter that faces the laminated film, and that captures the light that has passed through the polarizing filter;
A defect image extracting means for extracting, from the transmitted light image of the polarizing filter acquired by the photographing means, a defective portion of the laminated film and a high brightness region whose brightness is increased by the light transmitted through the polarizing filter as a defect image; ,
When the defect image extracted by the defect image extraction means is a specific defect image in which two high-luminance regions are arranged, the defect portion corresponding to the defect image is a pseudo defect that is not a defect of the polarizing plate. Pseudo-fault determination means for determining that there is,
A defect inspection apparatus comprising:
前記擬似欠陥判定手段は、前記特徴量抽出手段の抽出結果を、前記特定欠陥画像の特徴に応じて予め定められた各前記特徴量のしきい値と比較することで、前記欠陥画像が前記特定欠陥画像であるか否かを判定することを特徴とする請求項1記載の欠陥検査装置。 A plurality of types of feature amounts including at least an average luminance that is an average value of the luminance of the defect image and a central luminance that is a luminance at the center position of the defect image are extracted from the defect image extracted by the defect image extraction unit. Feature amount extraction means
The pseudo defect determination unit compares the extraction result of the feature amount extraction unit with a threshold value of each feature amount that is predetermined according to the feature of the specific defect image, so that the defect image is identified. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein it is determined whether or not the image is a defect image.
前記擬似欠陥判定手段に設けられ、前記特徴量抽出手段の抽出結果を、第1〜第Nしきい値とそれぞれ個別に比較することで、前記欠陥画像が前記第1〜第N特定欠陥画像であるか否かを個別に判定する第1〜第N判定手段と、
前記第1〜第N判定手段による判定処理を所定の順番で実行させるとともに、第M[Mは(N−1)以下の自然数]番目の判定処理で前記欠陥部分が前記擬似欠陥であると判定された場合には、第(M+1)番目以降の判定処理を中止させる判定制御手段と、を備えることを特徴とする請求項2または3記載の欠陥検査装置。 The specific defect image includes first to N-th specific defect images corresponding to N (N is a natural number of 2 or more) types of first to N-th pseudo defects, respectively, and the threshold value includes the first to N-th specific defect images. It consists of first to Nth threshold values individually determined according to the characteristics of the N specific defect image,
The defect image is provided in the pseudo defect determination unit, and the defect image is the first to Nth specific defect image by individually comparing the extraction result of the feature amount extraction unit with the first to Nth threshold values. First to Nth determination means for individually determining whether or not there are;
The determination processes by the first to Nth determination means are executed in a predetermined order, and the defect portion is determined to be the pseudo defect in the Mth [M is a natural number equal to or less than (N−1)] th determination process. 4. The defect inspection apparatus according to claim 2, further comprising: a determination control unit that cancels the (M + 1) th and subsequent determination processes when the determination is made.
前記表裏面の他方側に配置され、前記表裏面に平行でかつ前記偏光板の第1偏光軸に略直交する第2偏光軸を有する偏光フィルタにより、前記積層フィルムの正常部分を透過した前記光を遮断する遮断ステップと、
前記偏光フィルタの前記積層フィルムに対向する面側とは反対面側に配置された撮影手段により、前記偏光フィルタを透過した光を撮影する撮影ステップと、
前記撮影ステップで取得された偏光フィルタの透過光像から、前記積層フィルムの欠陥部分及び前記偏光フィルタを透過した前記光によって輝度が高くなる高輝度領域を欠陥画像として抽出する欠陥画像抽出ステップと、
前記欠陥画像抽出ステップで抽出した前記欠陥画像が、2つの高輝度領域が並んでいる特定欠陥画像である場合に、当該欠陥画像に対応する前記欠陥部分を前記偏光板の欠陥ではない擬似欠陥であると判定する擬似欠陥判定ステップと、
を有することを特徴とする欠陥検査方法。 An irradiation step of irradiating light to the laminated film from a light source disposed on one side of the front and back surfaces of a multilayer laminated film formed by laminating a polarizing plate and a film,
The light that has been transmitted through the normal portion of the laminated film by a polarizing filter that is disposed on the other side of the front and back surfaces and has a second polarization axis that is parallel to the front and back surfaces and substantially perpendicular to the first polarization axis of the polarizing plate. A blocking step for blocking
A photographing step of photographing the light transmitted through the polarizing filter by photographing means disposed on the surface opposite to the surface facing the laminated film of the polarizing filter;
A defect image extraction step for extracting, as a defect image, a defect portion of the laminated film and a high-luminance region whose luminance is increased by the light transmitted through the polarization filter from the transmitted light image of the polarization filter acquired in the photographing step;
When the defect image extracted in the defect image extraction step is a specific defect image in which two high-luminance regions are arranged, the defect portion corresponding to the defect image is a pseudo defect that is not a defect of the polarizing plate. A pseudo-defect determination step for determining that there is,
A defect inspection method characterized by comprising:
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011141426A JP5274622B2 (en) | 2011-06-27 | 2011-06-27 | Defect inspection apparatus and method |
KR1020120066124A KR101358481B1 (en) | 2011-06-27 | 2012-06-20 | Apparatus and method for detecting defect |
TW101122729A TWI418779B (en) | 2011-06-27 | 2012-06-26 | Method and apparatus for inspecting defect |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011141426A JP5274622B2 (en) | 2011-06-27 | 2011-06-27 | Defect inspection apparatus and method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013007689A JP2013007689A (en) | 2013-01-10 |
JP5274622B2 true JP5274622B2 (en) | 2013-08-28 |
Family
ID=47675148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011141426A Expired - Fee Related JP5274622B2 (en) | 2011-06-27 | 2011-06-27 | Defect inspection apparatus and method |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5274622B2 (en) |
KR (1) | KR101358481B1 (en) |
TW (1) | TWI418779B (en) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6182806B2 (en) * | 2013-06-04 | 2017-08-23 | 住友化学株式会社 | Defect inspection system and film manufacturing apparatus |
JP6156820B2 (en) | 2013-08-22 | 2017-07-05 | 住友化学株式会社 | Defect inspection apparatus, optical member manufacturing system, and optical display device production system |
TWI487895B (en) * | 2013-09-10 | 2015-06-11 | Benq Materials Corp | System for detecting pinhole defect of separator and method thereof |
JP2015160282A (en) * | 2014-02-27 | 2015-09-07 | 中央発條株式会社 | Coverage measuring method, and coverage measuring apparatus |
KR101697071B1 (en) * | 2014-04-18 | 2017-01-17 | 동우 화인켐 주식회사 | Method for discriminating defect of polarizing plate |
KR101702841B1 (en) * | 2014-09-01 | 2017-02-06 | 동우 화인켐 주식회사 | Method for monitoring defect in polaroid films |
CN104655648B (en) * | 2015-03-18 | 2017-03-01 | 常州工学院 | A kind of hardware transplantation device for defects detection and software transplanting method |
JP6456235B2 (en) * | 2015-05-11 | 2019-01-23 | 株式会社クラレ | Polarizing film inspection method |
WO2016194874A1 (en) * | 2015-06-05 | 2016-12-08 | 住友化学株式会社 | Inspection method for defects in light transmissive film, manufacturing method for linear polarizer film, and manufcturing method for polarizing plate |
JP6898492B2 (en) * | 2015-09-30 | 2021-07-07 | 日東電工株式会社 | Polarizer inspection method and polarizing plate manufacturing method |
JP6784540B2 (en) * | 2015-09-30 | 2020-11-11 | 日東電工株式会社 | Polarizing plate inspection method and inspection equipment |
CN105842885B (en) * | 2016-03-21 | 2018-11-27 | 凌云光技术集团有限责任公司 | A kind of liquid crystal display defect Hierarchical Location method and device |
KR102205582B1 (en) * | 2017-02-28 | 2021-01-21 | 도요 가라스 가부시키가이샤 | Container inspection device and container inspection method |
KR102475056B1 (en) * | 2017-03-03 | 2022-12-06 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Defect marking method and defect marking apparatus, web manufacturing method and the web, and sheet manufacturing method and the sheet |
CN107764835A (en) * | 2017-09-30 | 2018-03-06 | 长沙派数控股份有限公司 | A kind of electronic product glass cover-plate detection means and method |
JP2020173188A (en) * | 2019-04-11 | 2020-10-22 | 住友化学株式会社 | Inspection device, inspection method, and film manufacturing method |
CN110132981A (en) * | 2019-05-21 | 2019-08-16 | 东莞市瑞图新智科技有限公司 | Piece appearance and size integrated detection equipment and detection method in a kind of optical filter |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1130591A (en) * | 1997-07-11 | 1999-02-02 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Method and device for inspecting film sheet defect |
JP2001349839A (en) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Sumitomo Chem Co Ltd | Inspection method for polarizing film defect |
JP2003344302A (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-03 | Sumitomo Chem Co Ltd | Method and equipment for inspecting polarization film |
JP2004198163A (en) * | 2002-12-17 | 2004-07-15 | Sumitomo Chem Co Ltd | Defect inspection method for protective film adhered polarizing plate |
JP4396160B2 (en) * | 2003-07-31 | 2010-01-13 | 住友化学株式会社 | Foreign film inspection method for transparent film |
JP2006275843A (en) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Nitto Denko Corp | Method of inspecting contamination in insulating film for wiring circuit board |
JP5051874B2 (en) * | 2006-01-11 | 2012-10-17 | 日東電工株式会社 | Laminated film manufacturing method, laminated film defect detection method, laminated film defect detection apparatus |
JP4842034B2 (en) * | 2006-07-12 | 2011-12-21 | 株式会社日本マイクロニクス | Liquid crystal panel inspection method and image processing apparatus |
JP5248052B2 (en) * | 2006-10-11 | 2013-07-31 | 日東電工株式会社 | Defect inspection device for sheet-like product having optical film, inspection data processing device, cutting device and manufacturing system thereof |
-
2011
- 2011-06-27 JP JP2011141426A patent/JP5274622B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-06-20 KR KR1020120066124A patent/KR101358481B1/en active IP Right Grant
- 2012-06-26 TW TW101122729A patent/TWI418779B/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI418779B (en) | 2013-12-11 |
KR101358481B1 (en) | 2014-02-05 |
TW201300766A (en) | 2013-01-01 |
JP2013007689A (en) | 2013-01-10 |
KR20130001683A (en) | 2013-01-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5274622B2 (en) | Defect inspection apparatus and method | |
WO2010024082A1 (en) | Defect inspecting system, and defect inspecting method | |
JP2017215277A (en) | Defect inspection system, film manufacturing device and defect inspection method | |
CN107003254A (en) | Equipment, method and computer program product for the defects detection in workpiece | |
JP5415709B2 (en) | Polarizing film sorting system | |
JP2014163694A (en) | Defect inspection device, and defect inspection method | |
US20140286563A1 (en) | Accurate detection of low-contrast defects in transparent material | |
JP7184954B2 (en) | Defect inspection imaging device, defect inspection system, film manufacturing device, defect inspection imaging method, defect inspection method, and film manufacturing method | |
JP6801142B1 (en) | Polarizing plate inspection method and inspection equipment | |
TW201608233A (en) | Inspection device for optical film | |
JP2009293999A (en) | Wood defect detector | |
TW201918702A (en) | Defect inspection apparatus, defect inspection method, manufacturing method of circular polarizing plate or oval polarizing plate, and manufacturing method of retardation plate | |
TW200307117A (en) | Method for inspecting polarizing film and apparatus for the method | |
JP2015004674A (en) | Method for discriminating defect of optical film | |
US20120133761A1 (en) | Uneven area inspection system | |
JP2010085166A (en) | Prepreg defect inspection method | |
JP2017219343A (en) | Defect inspection device, defect inspection method, film manufacturing device, and film manufacturing method | |
JP2008026060A (en) | Flaw inspection device of insulating film covered belt-like body | |
JP2008096314A (en) | Macro inspection device | |
JP3977503B2 (en) | Film inspection method and film inspection apparatus using the same | |
JP2010223598A (en) | Flaw inspection device for sheet-like article | |
JP2011141285A5 (en) | ||
JP2005351825A (en) | Defect inspection device | |
KR102632190B1 (en) | Imaging apparatus for obtaining image of polarizing film, inspection apparatus, and inspection method | |
JP2016125817A (en) | Inspection system, and inspection method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130416 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130424 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130514 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5274622 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |