JP5272892B2 - Test condition adjusting apparatus and test condition adjusting method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a test condition adjustment device and a test condition adjustment method, for preventing the increase of the scale of a chip. <P>SOLUTION: A comparison part 2 compares voltage drop under first operation conditions with voltage drop under second operation conditions in a semiconductor circuit to be designed, for example by performing simulation. In this case, the first operation conditions are, for example, operation conditions in actual operation after a semiconductor circuit is completed, and the second operation conditions are, for example, operation conditions when performing a shipping test (in a test) after the semiconductor circuit is completed. An adjustment part 3 adjusts the second operation conditions based on the delay characteristics of the semiconductor circuit when the voltage drop under the second operation conditions is larger than voltage drop under the first operation conditions. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は試験条件調整装置および試験条件調整方法に関する。   The present invention relates to a test condition adjusting device and a test condition adjusting method.

半導体チップの特性の1つとして、電源レールの寄生抵抗の影響等により、電源ラインから引き込まれる電流と相まってメモリセルに供給される電圧が低下すること(以下、IRドロップと言う)が知られている。IRドロップが発生すると、タイミング遅延が発生し、半導体チップの動作不良の原因となる。   As one of the characteristics of the semiconductor chip, it is known that the voltage supplied to the memory cell is reduced (hereinafter referred to as IR drop) in combination with the current drawn from the power supply line due to the influence of the parasitic resistance of the power supply rail. Yes. When the IR drop occurs, a timing delay occurs, which causes a malfunction of the semiconductor chip.

ところで、近年、例えば出荷時に行う試験(プライマリテスト:Primary Test)時間の短縮等の理由等により、実動作時には同時に動作させない半導体チップの複数の回路を、試験時には同時に動作させて試験を行う場合が増加している。   By the way, in recent years, there are cases where a plurality of semiconductor chip circuits that are not operated simultaneously during actual operation are simultaneously operated during testing, for example, due to shortening of a test (Primary Test) performed at the time of shipment. It has increased.

特に、フリップチップ(Flip Chip)では試験コスト削減のためにプライマリテスト用に周辺から電源を供給するためのパッド(PAD)を設けて、ペリフェラル(Peripheral)な半導体チップと同じように周辺から電源を供給してプライマリテストを行う場合がある。   In particular, a flip chip has a pad (PAD) for supplying power from the periphery for primary testing to reduce test costs, and power is supplied from the periphery in the same way as a peripheral semiconductor chip. There may be cases where the primary test is performed.

特開2004−102725号公報JP 2004-102725 A

このようなプライマリテストを行った場合、実動作時よりも高い負荷が半導体チップにかかる。従って、実動作時のIRドロップよりもプライマリテスト時のIRドロップの方が大きくなる。このため、プライマリテスト時のIRドロップを想定した電源作成やプライマリテスト時のIRドロップを考慮したタイミング設計等を行う必要がある。   When such a primary test is performed, a load higher than that in actual operation is applied to the semiconductor chip. Accordingly, the IR drop during the primary test is larger than the IR drop during actual operation. For this reason, it is necessary to create a power supply that assumes an IR drop during the primary test, or to perform a timing design that takes into account the IR drop during the primary test.

しかしながら、このような設計を行うと、製品の実動作に対しては過剰な電源物量や、過剰なタイミング保証になっている。そのため半導体チップのサイズが大きくなるという問題がある。   However, when such a design is performed, an excessive amount of power supply or an excessive timing is guaranteed for the actual operation of the product. Therefore, there is a problem that the size of the semiconductor chip is increased.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、チップ規模の増大を防止する試験条件調整装置および試験条件調整方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of these points, and an object of the present invention is to provide a test condition adjusting device and a test condition adjusting method for preventing an increase in chip size.

上記目的を達成するために、開示の試験条件調整装置が提供される。この試験条件調整装置は、比較部と調整部とを有している。
比較部は、設計対象の半導体回路の第1の動作条件での電圧降下と、第2の動作条件での電圧降下とを比較する。
In order to achieve the above object, a disclosed test condition adjusting apparatus is provided. This test condition adjustment apparatus has a comparison part and an adjustment part.
The comparison unit compares the voltage drop under the first operating condition of the semiconductor circuit to be designed with the voltage drop under the second operating condition.

調整部は、第2の動作条件での電圧降下が、第1の動作条件での電圧降下よりも大きい場合、半導体回路の遅延特性に基づいて、第2の動作条件を調整する。
この試験条件調整装置によれば、比較部により、設計対象の半導体回路の第1の動作条件での電圧降下と、第2の動作条件での電圧降下とが比較される。そして、第2の動作条件での電圧降下が、第1の動作条件での電圧降下よりも大きい場合、調整部により、半導体回路の遅延特性に基づいて、第2の動作条件が調整される。
When the voltage drop under the second operating condition is larger than the voltage drop under the first operating condition, the adjusting unit adjusts the second operating condition based on the delay characteristics of the semiconductor circuit.
According to this test condition adjusting apparatus, the comparison unit compares the voltage drop under the first operating condition of the semiconductor circuit to be designed with the voltage drop under the second operating condition. When the voltage drop under the second operating condition is larger than the voltage drop under the first operating condition, the adjusting unit adjusts the second operating condition based on the delay characteristics of the semiconductor circuit.

開示の試験条件調整装置によれば、半導体回路の回路規模の増大を防止することができる。   According to the disclosed test condition adjusting apparatus, an increase in the circuit scale of the semiconductor circuit can be prevented.

実施の形態の試験条件調整装置の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of the test condition adjustment apparatus of embodiment. 試験条件調整装置のハードウェア構成例を示す図である。It is a figure which shows the hardware structural example of a test condition adjustment apparatus. 試験条件調整装置の機能を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the function of a test condition adjustment apparatus. ハードウェア制約条件を示す図である。It is a figure which shows a hardware constraint condition. 係数管理テーブルの具体例を示す図である。It is a figure which shows the specific example of a coefficient management table. 試験条件生成用テーブルを示す図である。It is a figure which shows the table for test condition production | generation. 試験条件調整装置の処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of a test condition adjustment apparatus. 試験条件調整装置の処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of a test condition adjustment apparatus. 算出結果を示す図である。It is a figure which shows a calculation result. 具体例の試験条件生成用テーブルを示す図である。It is a figure which shows the test condition production | generation table of a specific example.

以下、実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
まず、実施の形態の試験条件調整装置について説明し、その後、実施の形態をより具体的に説明する。
Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings.
First, the test condition adjusting apparatus according to the embodiment will be described, and then the embodiment will be described more specifically.

図1は、実施の形態の試験条件調整装置の概要を示す図である。
実施の形態の試験条件調整装置1は、比較部2と、調整部3とを有している。
比較部2は、設計対象の半導体回路の第1の動作条件での電圧降下と、第2の動作条件での電圧降下とを例えば、シミュレーションを行って比較する。
FIG. 1 is a diagram illustrating an outline of a test condition adjusting apparatus according to an embodiment.
The test condition adjustment apparatus 1 according to the embodiment includes a comparison unit 2 and an adjustment unit 3.
The comparison unit 2 compares the voltage drop under the first operation condition of the semiconductor circuit to be designed with the voltage drop under the second operation condition, for example, by performing a simulation.

図1では、第1の動作条件および第2の動作条件は、それぞれ、周囲温度100[℃]、電源電圧1.1[V]の環境下で動作する条件である。
ここで、第1の動作条件は、例えば、半導体回路完成後の実動作時の動作条件であり、第2の動作条件は、例えば、半導体回路完成後の出荷試験を行うとき(試験時)の動作条件である。
In FIG. 1, the first operating condition and the second operating condition are conditions for operating in an environment of an ambient temperature of 100 [° C.] and a power supply voltage of 1.1 [V], respectively.
Here, the first operation condition is, for example, an operation condition during actual operation after the completion of the semiconductor circuit, and the second operation condition is, for example, when a shipping test is performed after the completion of the semiconductor circuit (during testing). This is an operating condition.

前述したように、試験時間の短縮等の理由により、実動作時には同時に動作させない複数の回路を、試験時には同時に動作させて試験を行うことがある。このような場合は、実動作時よりも高い負荷が半導体回路にかかる。従って、実動作時の電圧降下よりも試験時の電圧効果の方が大きくなる。   As described above, due to reasons such as shortening the test time, a plurality of circuits that are not operated at the time of actual operation may be operated at the same time during the test. In such a case, a higher load is applied to the semiconductor circuit than during actual operation. Therefore, the voltage effect at the time of the test is larger than the voltage drop at the actual operation.

図1では、第2の動作条件の電圧降下(4%)が、第1の動作条件の電圧降下(2%)よりも大きいことを示している。
なお、図1では、第1の動作条件の電圧降下および第2の動作条件の電圧降下は、試験条件調整装置1の外部から入力されており、比較部2が入力された電圧降下同士を比較している。しかし、これに限らず、比較部2が、入力された第1の動作条件および第2の動作条件から、電圧降下を算出し、比較するようにしてもよい。
FIG. 1 shows that the voltage drop (4%) under the second operating condition is larger than the voltage drop (2%) under the first operating condition.
In FIG. 1, the voltage drop under the first operating condition and the voltage drop under the second operating condition are input from the outside of the test condition adjusting device 1, and the comparison unit 2 compares the input voltage drops with each other. doing. However, the present invention is not limited to this, and the comparison unit 2 may calculate and compare the voltage drop from the input first operating condition and second input operating condition.

調整部3は、第2の動作条件での電圧降下が、第1の動作条件での電圧降下よりも大きい場合、半導体回路の遅延特性に基づいて、第2の動作条件を調整する。
第2の動作条件の調整方法としては、例えば、温度を調整してもよいし、動作電圧を調整してもよい。図1では、温度を調整する場合を示している。
When the voltage drop under the second operating condition is larger than the voltage drop under the first operating condition, the adjusting unit 3 adjusts the second operating condition based on the delay characteristics of the semiconductor circuit.
As a method for adjusting the second operating condition, for example, the temperature may be adjusted or the operating voltage may be adjusted. FIG. 1 shows a case where the temperature is adjusted.

図1では、設計対象の半導体回路の実動作時の温度および電圧によって変化する遅延特性を数値化(係数化)したグラフ4を図示している。数値が同じ部分は、半導体回路の遅延特性が同じであることを示している。   FIG. 1 shows a graph 4 in which delay characteristics that change depending on temperature and voltage during actual operation of a semiconductor circuit to be designed are quantified (coefficientized). Parts having the same numerical value indicate that the delay characteristics of the semiconductor circuits are the same.

調整部3は、このグラフ4を用いて第2の動作条件を調整する。具体的には、シミュレーションにて第2の動作条件によって半導体回路を動作させ、4%の電圧降下が生じた結果、電圧降下が0.05[V]発生し、1.05[V]になるとする。   The adjustment unit 3 uses the graph 4 to adjust the second operating condition. Specifically, when the semiconductor circuit is operated under the second operating condition in the simulation and a voltage drop of 4% occurs, a voltage drop of 0.05 [V] occurs and becomes 1.05 [V]. To do.

ここで、グラフ4の100[℃]、1.05[V]が重なる部位を参照すると、遅延係数は1.1である。これは、実動作時よりも遅延が大きくなることを意味している。
従って、電圧1.05[V]で動作したときでも、遅延を解消しようとする温度、すなわち、電圧1.05[V]において、遅延係数が1.0となる温度を探すと85[℃]となる。
Here, referring to the part of graph 4 where 100 [° C.] and 1.05 [V] overlap, the delay coefficient is 1.1. This means that the delay becomes larger than that in actual operation.
Accordingly, even when operating at a voltage of 1.05 [V], when searching for a temperature at which the delay is to be eliminated, that is, a temperature at which the delay coefficient becomes 1.0 at a voltage of 1.05 [V], 85 [° C.]. It becomes.

従って、85[℃]、1.1[V]で第2の動作条件による試験を行う。
このような試験条件調整装置1によれば、試験時に実動作時よりも大きな電圧降下が生じても、実動作時よりも低い温度で試験を行っているため、遅延が生じない。従って、試験時の電圧降下に備えて容量の大きな電源を実装する必要や、遅延補償回路を設ける必要がなくなるため、チップ規模の増大を防止することができる。
Therefore, the test under the second operating condition is performed at 85 [° C.] and 1.1 [V].
According to such a test condition adjusting apparatus 1, even if a larger voltage drop occurs during the test than during the actual operation, no delay occurs because the test is performed at a lower temperature than during the actual operation. Accordingly, it is not necessary to mount a power supply with a large capacity in preparation for a voltage drop during a test, and it is not necessary to provide a delay compensation circuit, so that an increase in chip size can be prevented.

以下、実施の形態をより具体的に説明する。
図2は、試験条件調整装置のハードウェア構成例を示す図である。
試験条件調整装置10は、CPU(Central Processing Unit)101によって装置全体が制御されている。CPU101には、バス108を介してRAM(Random Access Memory)102、ハードディスクドライブ(HDD:Hard Disk Drive)103、グラフィック処理装置104、入力インタフェース105、外部補助記憶装置106および通信インタフェース107が接続されている。
Hereinafter, the embodiment will be described more specifically.
FIG. 2 is a diagram illustrating a hardware configuration example of the test condition adjusting device.
The entire test condition adjusting apparatus 10 is controlled by a CPU (Central Processing Unit) 101. A random access memory (RAM) 102, a hard disk drive (HDD) 103, a graphic processing device 104, an input interface 105, an external auxiliary storage device 106, and a communication interface 107 are connected to the CPU 101 via a bus 108. Yes.

RAM102には、CPU101に実行させるOS(Operating System)のプログラムやアプリケーションプログラムの少なくとも一部が一時的に格納される。また、RAM102には、CPU101による処理に必要な各種データが格納される。HDD103には、OSやアプリケーションプログラムが格納される。また、HDD103内には、プログラムファイルが格納される。   The RAM 102 temporarily stores at least part of an OS (Operating System) program and application programs to be executed by the CPU 101. The RAM 102 stores various data necessary for processing by the CPU 101. The HDD 103 stores an OS and application programs. A program file is stored in the HDD 103.

グラフィック処理装置104には、モニタ104aが接続されている。グラフィック処理装置104は、CPU101からの命令に従って、画像をモニタ104aの画面に表示させる。入力インタフェース105には、キーボード105aとマウス105bとが接続されている。入力インタフェース105は、キーボード105aやマウス105bから送られてくる信号を、バス108を介してCPU101に送信する。   A monitor 104 a is connected to the graphic processing device 104. The graphic processing device 104 displays an image on the screen of the monitor 104a in accordance with a command from the CPU 101. A keyboard 105 a and a mouse 105 b are connected to the input interface 105. The input interface 105 transmits a signal transmitted from the keyboard 105 a and the mouse 105 b to the CPU 101 via the bus 108.

外部補助記憶装置106は、記録媒体に書き込まれた情報を読み取ったり、記録媒体に情報を書き込んだりする。外部補助記憶装置106で読み書きが可能な記録媒体としては、例えば、磁気記録装置、光ディスク、光磁気記録媒体、半導体メモリ等が挙げられる。磁気記録装置としては、例えば、HDD、フレキシブルディスク(FD)、磁気テープ等が挙げられる。光ディスクとしては、例えば、DVD(Digital Versatile Disc)、DVD−RAM(Random Access Memory)、CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory)、CD−R(Recordable)/RW(ReWritable)等が挙げられる。光磁気記録媒体としては、例えば、MO(Magneto-Optical disk)等が挙げられる。   The external auxiliary storage device 106 reads information written on the recording medium and writes information on the recording medium. Examples of the recording medium that can be read and written by the external auxiliary storage device 106 include a magnetic recording device, an optical disc, a magneto-optical recording medium, and a semiconductor memory. Examples of the magnetic recording device include an HDD, a flexible disk (FD), and a magnetic tape. Examples of the optical disc include a DVD (Digital Versatile Disc), a DVD-RAM (Random Access Memory), a CD-ROM (Compact Disc Read Only Memory), and a CD-R (Recordable) / RW (ReWritable). Examples of the magneto-optical recording medium include MO (Magneto-Optical disk).

通信インタフェース107は、ネットワーク30に接続されている。通信インタフェース107は、ネットワーク30を介して、他のコンピュータとの間でデータの送受信を行う。   The communication interface 107 is connected to the network 30. The communication interface 107 transmits and receives data to and from other computers via the network 30.

以上のようなハードウェア構成によって、本実施の形態の処理機能を実現することができる。このようなハードウェア構成の試験条件調整装置10内には、以下のような機能が設けられる。   With the hardware configuration as described above, the processing functions of the present embodiment can be realized. The following functions are provided in the test condition adjusting apparatus 10 having such a hardware configuration.

図3は、試験条件調整装置の機能を示すブロック図である。
試験条件調整装置10は、物理設計部11と、IRドロップシミュレーション部12と、ハードウェア制約条件管理DB13と、条件生成部14と、出力部15とを有している。
FIG. 3 is a block diagram illustrating functions of the test condition adjusting device.
The test condition adjustment apparatus 10 includes a physical design unit 11, an IR drop simulation unit 12, a hardware constraint condition management DB 13, a condition generation unit 14, and an output unit 15.

物理設計部11は、設計対象のLSIに対して設計者が設定した、目標とするIRドロップの値に基づいて、設計対象のLSIの電源設計、P&R(Place and Route)、タイミング検証を行う。   The physical design unit 11 performs power design, P & R (Place and Route), and timing verification of the target LSI based on the target IR drop value set by the designer for the target LSI.

目標とするIRドロップの値は、例えば、電源電圧が1.2Vで、その保証範囲が1.2V±0.1Vの場合、下限電圧1.1Vからドロップする分をV単位や%単位で予め決めておく。この値は、チップサイズや、電源物量等や消費電力等を考慮して決定される。   The target IR drop value is, for example, when the power supply voltage is 1.2V and the guaranteed range is 1.2V ± 0.1V, the amount dropped from the lower limit voltage 1.1V in advance in units of V or%. Decide it. This value is determined in consideration of the chip size, power supply quantity, power consumption, and the like.

なお、試験条件調整装置10では、条件生成部14が試験条件を生成するため、設計者は、プライマリテスト時のIRドロップの値ではなく、実動作時のIRドロップの値を設定すればよい。   In the test condition adjusting apparatus 10, since the condition generation unit 14 generates the test condition, the designer only needs to set the IR drop value during the actual operation instead of the IR drop value during the primary test.

また、物理設計部11は、設計対象のLSIに対して設計者が設定した、目標とする動作温度の入力も受け付ける。
IRドロップシミュレーション部12は、設計対象のLSIの実動作時の消費電力およびプライマリテスト時の消費電力をそれぞれ算出する。
The physical design unit 11 also receives an input of a target operating temperature set by the designer for the LSI to be designed.
The IR drop simulation unit 12 calculates the power consumption during the actual operation and the power consumption during the primary test of the LSI to be designed.

そして、実動作時の消費電力の算出結果に基づいて、設計対象のLSIの実動作時のIRドロップを算出する。また、設計対象のLSIのプライマリテスト時の消費電力の算出結果に基づいて、プライマリテスト時のIRドロップを算出する。   Based on the calculation result of power consumption during actual operation, an IR drop during actual operation of the LSI to be designed is calculated. Further, the IR drop during the primary test is calculated based on the calculation result of the power consumption during the primary test of the LSI to be designed.

そして、プライマリテスト時のIRドロップが、実動作時のIRドロップより大きいか否かを判断する。プライマリテスト時のIRドロップが、実動作時のIRドロップより大きい場合、条件生成部14に処理が引き継がれる。   Then, it is determined whether the IR drop during the primary test is larger than the IR drop during actual operation. If the IR drop during the primary test is greater than the IR drop during actual operation, the process is taken over by the condition generation unit 14.

ハードウェア制約条件管理DB13には、設計対象のLSIのプライマリテストを行うテスタのハードウェア制約条件が格納されている。ハードウェア制約条件としては特に限定されないが、例えば、温度条件や、印加電圧条件等が挙げられる。   The hardware constraint management DB 13 stores the hardware constraint of a tester that performs a primary test of the LSI to be designed. The hardware constraint condition is not particularly limited, and examples thereof include a temperature condition and an applied voltage condition.

条件生成部14は、プライマリテスト時の消費電力が、実動作時の消費電力より大きい場合に、試験条件を生成する。
具体的には、条件生成部14は、まず、設計対象のLSIの一部の回路(代表回路)の遅延の電圧依存性および温度依存性を取得する。
The condition generation unit 14 generates a test condition when the power consumption during the primary test is greater than the power consumption during the actual operation.
Specifically, the condition generation unit 14 first acquires the voltage dependency and temperature dependency of the delay of some circuits (representative circuits) of the LSI to be designed.

取得する回路部分については、特に限定されないが、例えば、インバータのチェーン構造等、タイミングが厳しく、遅延エラーが発生しやすいパスの回路部分、特に、最もタイミングが厳しい部位の遅延の電圧依存性および温度依存性を取得するのが好ましい。これにより、生成した試験条件により、確実に遅延を補償することができる。   The circuit part to be acquired is not particularly limited. For example, the circuit part of the path where the timing is strict and the delay error is likely to occur, such as the chain structure of the inverter, in particular, the voltage dependency and the temperature of the delay of the part having the strictest timing. It is preferable to acquire the dependency. Thereby, the delay can be reliably compensated according to the generated test conditions.

また、取得する回路部分は1箇所でもよいし、複数箇所でもよい。
そして、取得した遅延の依存性は、設計対象のLSIの実動作時の予め定めた電圧および温度による遅延時間を1.00とした係数(指数)に変換する。変換した係数(以下、遅延係数と言う)は、電圧、温度および遅延時間と関連づけて記憶しておく。なお、複数箇所を取得した場合は、それぞれの箇所において、電圧、温度および遅延時間と関連づけて記憶しておくようにしてもよい。
Further, the circuit part to be acquired may be one place or a plurality of places.
The obtained delay dependency is converted into a coefficient (index) with a delay time due to a predetermined voltage and temperature during actual operation of the LSI to be designed as 1.00. The converted coefficient (hereinafter referred to as delay coefficient) is stored in association with the voltage, temperature, and delay time. In addition, when a plurality of locations are acquired, each location may be stored in association with the voltage, temperature, and delay time.

そして、条件生成部14は、温度条件や電圧条件を調整することによりプライマリテスト時の試験条件を生成する。このとき、ハードウェア制約条件管理DB13に格納されているテスタのハードウェア制約条件を考慮し、試験できない温度条件や印加電圧条件を除外する。なお、プライマリテスト時の試験条件の生成方法については、後に詳述する。   And the condition production | generation part 14 produces | generates the test conditions at the time of a primary test by adjusting temperature conditions and voltage conditions. At this time, considering the hardware constraint conditions of the tester stored in the hardware constraint management DB 13, the temperature condition and the applied voltage condition that cannot be tested are excluded. A method for generating test conditions during the primary test will be described in detail later.

出力部15は、条件生成部14によって生成された試験条件をモニタ104aに出力する。
また、出力部15は、それ以外にもIRドロップシミュレーション部12から設計者に報知すべき情報を受け取ると、その情報をモニタ104aに出力する。
The output unit 15 outputs the test conditions generated by the condition generation unit 14 to the monitor 104a.
In addition, when the output unit 15 receives other information to be notified from the IR drop simulation unit 12 to the designer, the output unit 15 outputs the information to the monitor 104a.

次に、ハードウェア制約条件管理DB13に格納されている情報および条件生成部14が記憶している情報の具体例を説明する。
図4は、ハードウェア制約条件を示す図である。
Next, a specific example of information stored in the hardware constraint management DB 13 and information stored in the condition generation unit 14 will be described.
FIG. 4 is a diagram illustrating hardware constraint conditions.

ハードウェア制約条件は、テーブル化されて管理されている。
ハードウェア制約条件テーブル13aには、条件および許容値の欄が設けられており、横方向に並べられた情報同士が互いに関連づけられている。
The hardware constraint conditions are managed as a table.
The hardware constraint condition table 13a is provided with columns for conditions and allowable values, and pieces of information arranged in the horizontal direction are associated with each other.

条件の欄には、前述したハードウェア制約条件が設定されている。
許容値の欄には、テスタで試験可能な値の範囲や、規格により決定されている値の範囲が設定される。
In the condition column, the hardware constraint condition described above is set.
A range of values that can be tested by the tester and a range of values determined by the standard are set in the allowable value column.

図5は、係数管理テーブルの具体例を示す図である。
係数管理テーブル14aには、電圧、温度、遅延および遅延係数の欄が設けられており、横方向に並べられた値が互いに関連づけられている。
FIG. 5 is a diagram illustrating a specific example of the coefficient management table.
The coefficient management table 14a includes columns for voltage, temperature, delay, and delay coefficient, and values arranged in the horizontal direction are associated with each other.

一般的に、電圧が低くなる程、また、温度が高くなる程、遅延時間が長くなる。従って、例えば、電圧X[V]の温度A[℃]の遅延時間La1[ps]よりも、電圧X[V]の温度A+a1[℃]の遅延時間La2[ps]の方が大きい。このため、遅延時間La1[ps]の遅延係数1.00よりも、遅延時間La2[ps]の遅延係数Ma2の方が大きい。   In general, the lower the voltage and the higher the temperature, the longer the delay time. Therefore, for example, the delay time La2 [ps] of the temperature A + a1 [° C] of the voltage X [V] is longer than the delay time La1 [ps] of the temperature A [° C] of the voltage X [V]. For this reason, the delay coefficient Ma2 of the delay time La2 [ps] is larger than the delay coefficient 1.00 of the delay time La1 [ps].

また、電圧X[V]の温度A[℃]の遅延時間La1[ps]よりも、電圧X+x1[V]の温度A[℃]の遅延時間Lb1[ps]の方が大きい。このため、遅延時間Lb1[ps]の遅延係数Mb1よりも遅延時間La1[ps]の遅延係数1.00の方が大きい。   Further, the delay time Lb1 [ps] of the temperature A [° C.] of the voltage X + x1 [V] is larger than the delay time La1 [ps] of the temperature A [° C.] of the voltage X [V]. For this reason, the delay coefficient 1.00 of the delay time La1 [ps] is larger than the delay coefficient Mb1 of the delay time Lb1 [ps].

図6は、試験条件生成用テーブルを示す図である。
試験条件生成用テーブル14bは、各条件の許容値の上限値および下限値における遅延係数が設定されている。
FIG. 6 is a diagram showing a test condition generation table.
In the test condition generation table 14b, the delay coefficient at the upper limit value and the lower limit value of the allowable value of each condition is set.

具体的には、電圧の欄には、ハードウェア制約条件テーブル13aから取得した電圧の下限値である電圧X+x1[V]および上限値である電圧X+x2[V]それぞれの値が設定されている。   Specifically, values of voltage X + x1 [V], which is a lower limit value of the voltage acquired from the hardware constraint table 13a, and voltage X + x2 [V], which is an upper limit value, are set in the voltage column.

また、温度の欄には、ハードウェア制約条件テーブル13aから取得した温度の下限値である温度A+a1[℃]および上限値である温度A+a2[℃]それぞれの値が設定されている。   In the temperature column, a temperature A + a1 [° C.] which is a lower limit value of the temperature acquired from the hardware constraint table 13a and a temperature A + a2 [° C.] which is an upper limit value are set.

さらに、条件が重なる部位には、係数管理テーブル14aから取得した遅延係数が設定されている。図6では、電圧X+x1[V]と温度A+a1[℃]が重なる部位に遅延係数Mb2が設定されている。同様に、電圧X+x2[V]と温度A+a1[℃]が重なる部位に遅延係数Mc2が設定されている。電圧X+x1[V]と温度A+a2[℃]が重なる部位に遅延係数Mb3が設定されている。電圧X+x2[V]と温度A+a2[℃]が重なる部位に遅延係数Mc3が設定されている。   Furthermore, the delay coefficient acquired from the coefficient management table 14a is set in the part where the conditions overlap. In FIG. 6, the delay coefficient Mb2 is set at a portion where the voltage X + x1 [V] and the temperature A + a1 [° C.] overlap. Similarly, a delay coefficient Mc2 is set at a portion where the voltage X + x2 [V] and the temperature A + a1 [° C.] overlap. A delay coefficient Mb3 is set at a portion where the voltage X + x1 [V] and the temperature A + a2 [° C.] overlap. A delay coefficient Mc3 is set at a portion where the voltage X + x2 [V] and the temperature A + a2 [° C.] overlap.

次に、試験条件調整装置10の処理を説明する。
図7および図8は、試験条件調整装置の処理を示すフローチャートである。
まず、物理設計部11が、設計対象のLSIの目標とする実動作時のIRドロップの入力を受け付ける(ステップS1)。ここではIRドロップ率(N%)を受け付けるものとする。
Next, the process of the test condition adjusting apparatus 10 will be described.
7 and 8 are flowcharts showing the processing of the test condition adjusting device.
First, the physical design unit 11 receives an IR drop input during actual operation targeted by the LSI to be designed (step S1). Here, the IR drop rate (N%) is accepted.

次に、物理設計部11が、ステップS1にて受け付けたIRドロップを満たせるような電源の容量(初期電源)の見積もりの入力を受け付ける(ステップS2)。
次に、物理設計部11が、設計対象のLSIの電源の経路を組む(電源設計)(ステップS3)。
Next, the physical design unit 11 receives an input of an estimate of the power supply capacity (initial power supply) that can satisfy the IR drop received in step S1 (step S2).
Next, the physical design unit 11 creates a power supply path for the LSI to be designed (power supply design) (step S3).

次に、物理設計部11が、論理合成された回路を元に、ライブラリ(図示せず)に登録された各ゲートを配置(Place)し、ゲートの端子間の配線(Route)を実施する(ステップS4)。ライブラリは、試験条件調整装置10の内部に設けられていてもよいし、試験条件調整装置10外部に存在していてもよい。   Next, the physical design unit 11 places (Places) each gate registered in the library (not shown) based on the logically synthesized circuit, and performs wiring (Route) between the terminals of the gate ( Step S4). The library may be provided inside the test condition adjusting apparatus 10 or may exist outside the test condition adjusting apparatus 10.

次に、物理設計部11が、設計対象のLSIの各信号が決められた時間内に正しく動作をするかのタイミング検証を実施する(ステップS5)。
次に、IRドロップシミュレーション部12が、実動作時の消費電力を算出する(ステップS6)。例えば、トランジスタのリークによる消費電力や、トランジスタのスイッチングによる消費電力や、トランジスタの貫通電流による消費電力を加算した値を実動作時の消費電力として算出する。
Next, the physical design unit 11 performs timing verification as to whether each signal of the LSI to be designed operates correctly within a predetermined time (step S5).
Next, the IR drop simulation unit 12 calculates power consumption during actual operation (step S6). For example, a value obtained by adding power consumption due to transistor leakage, power consumption due to transistor switching, and power consumption due to through current of the transistor is calculated as power consumption during actual operation.

次に、IRドロップシミュレーション部12が、実動作時のIRドロップ率を算出する(ステップS7)。
次に、IRドロップシミュレーション部12が、ステップS7にて算出した実動作時のIRドロップ率が、ステップS10にて設定した目標とするIRドロップ率(N%)以下であるか否かを判断する(ステップS8)。
Next, the IR drop simulation unit 12 calculates an IR drop rate during actual operation (step S7).
Next, the IR drop simulation unit 12 determines whether or not the IR drop rate during the actual operation calculated in step S7 is equal to or less than the target IR drop rate (N%) set in step S10. (Step S8).

実動作時のIRドロップが、目標とするIRドロップ率(N%)より大きい場合(ステップS8のNo)、ステップS1に移行し、例えば、モニタ104aにエラーを表示させる等により設計者にその旨を報知する。そして、設計者による目標とするIRドロップの新たな入力を受け付けると、ステップS2以降の処理を再度行う。   If the IR drop during actual operation is larger than the target IR drop rate (N%) (No in step S8), the process proceeds to step S1, and for example, an error is displayed on the monitor 104a to notify the designer. Is notified. Then, when a new input of the target IR drop by the designer is received, the processing after step S2 is performed again.

なお、実動作時のIRドロップが、目標とするIRドロップ率(N%)より大きい場合は、ステップS3に移行し、物理設計部11が電源設計をやり直すことで、再度IRドロップ率を算出するようにしてもよい。   If the IR drop during actual operation is larger than the target IR drop rate (N%), the process proceeds to step S3, and the physical design unit 11 re-calculates the power supply, thereby calculating the IR drop rate again. You may do it.

一方、実動作時のIRドロップが、目標とするIRドロップ率(N%)以下である場合(ステップS8のYes)、IRドロップシミュレーション部12が、実動作時のIRドロップを考慮したレイアウトデータを生成する(図8のステップS9)。   On the other hand, when the IR drop during actual operation is equal to or less than the target IR drop rate (N%) (Yes in step S8), the IR drop simulation unit 12 generates layout data considering the IR drop during actual operation. (Step S9 in FIG. 8).

次に、IRドロップシミュレーション部12が、実動作時のIRドロップを考慮したレイアウトデータを用いてプライマリテスト時の消費電力を算出する(ステップS10)。
次に、IRドロップシミュレーション部12が、ステップS9にて生成したレイアウトデータを用いてプライマリテスト時のIRドロップ率(S%)を算出する(ステップS11)。
Next, the IR drop simulation unit 12 calculates the power consumption during the primary test using the layout data considering the IR drop during actual operation (step S10).
Next, the IR drop simulation unit 12 calculates the IR drop rate (S%) during the primary test using the layout data generated in step S9 (step S11).

次に、IRドロップシミュレーション部12が、ステップS11にて算出されたIRドロップ率(S%)が、IRドロップ率(N%)より大きいか否かを判断する(ステップS12)。   Next, the IR drop simulation unit 12 determines whether or not the IR drop rate (S%) calculated in step S11 is larger than the IR drop rate (N%) (step S12).

IRドロップ率(S%)が、IRドロップ率(N%)以下である場合(ステップS12のNo)、すなわち、プライマリテスト時のIRドロップの値が、実動作時のIRドロップの値以下である場合、調整の必要はないため、処理を終了する。なお、この場合、IRドロップシミュレーション部12は、ステップS1にて入力を受け付けたIRドロップ率(N%)での設計が上手くいった旨を出力部15に送る。出力部15は、その旨をモニタ104aに出力する。   When the IR drop rate (S%) is equal to or less than the IR drop rate (N%) (No in step S12), that is, the IR drop value during the primary test is equal to or less than the IR drop value during actual operation. In this case, no adjustment is necessary, and the process is terminated. In this case, the IR drop simulation unit 12 sends to the output unit 15 that the design with the IR drop rate (N%) received in step S1 is successful. The output unit 15 outputs that fact to the monitor 104a.

一方、IRドロップ率(S%)が、IRドロップ率(N%)より大きい場合(ステップS12のYes)、すなわち、プライマリテスト時のIRドロップの値が、実動作時のIRドロップの値より大きい場合、調整の必要があるため、条件生成部14が以下の処理を行う。   On the other hand, when the IR drop rate (S%) is greater than the IR drop rate (N%) (Yes in step S12), that is, the IR drop value during the primary test is greater than the IR drop value during actual operation. In this case, since the adjustment is necessary, the condition generation unit 14 performs the following processing.

条件生成部14が、前述した代表回路の遅延の電圧依存性および温度依存性を取得する(ステップS13)。取得した遅延値は基準の条件での遅延値を1.00とした係数に変換する。   The condition generation unit 14 acquires the voltage dependency and temperature dependency of the delay of the representative circuit described above (step S13). The acquired delay value is converted into a coefficient with the delay value under the reference condition as 1.00.

次に、条件生成部14が、ハードウェア制約条件テーブル13aを参照し、テスタのハードウェア制約条件を取得する(ステップS14)。
条件生成部14が、ステップS13にて取得した温度依存性およびステップS14にて取得したハードウェア制約条件に基づいて、試験条件生成用テーブル14bを生成する(ステップS15)。具体的には、ハードウェア制約条件テーブル13aから電圧の下限値である電圧X+x1[V]および上限値である電圧X+x2[V]を取得する。そして、電圧の欄にそれぞれの値を設定する。
Next, the condition generation unit 14 refers to the hardware constraint condition table 13a and acquires the hardware constraint condition of the tester (step S14).
The condition generation unit 14 generates the test condition generation table 14b based on the temperature dependency acquired in step S13 and the hardware constraint conditions acquired in step S14 (step S15). Specifically, the voltage X + x1 [V] which is the lower limit value of the voltage and the voltage X + x2 [V] which is the upper limit value are acquired from the hardware constraint condition table 13a. Each value is set in the voltage column.

次に、ハードウェア制約条件テーブル13aから温度の下限値である温度A+a1[℃]および上限値である温度A+a2[℃]を取得する。そして、温度の欄にそれぞれの値を設定する。   Next, the temperature A + a1 [° C.] which is the lower limit value of the temperature and the temperature A + a2 [° C.] which is the upper limit value are acquired from the hardware constraint condition table 13a. Each value is set in the temperature column.

次に、係数管理テーブル14aを参照し、条件が重なる部位に遅延係数を設定していく。図6では、電圧X+x1[V]と温度A+a1[℃]が重なる部位に遅延係数Mb2を設定する。同様に、電圧X+x2[V]と温度A+a1[℃]が重なる部位に遅延係数Mc2を設定する。電圧X+x1[V]と温度A+a2[℃]が重なる部位に遅延係数Mb3を設定する。電圧X+x2[V]と温度A+a2[℃]が重なる部位に遅延係数Mc3を設定する。これにより、試験条件生成用テーブル14bが完成する。   Next, the coefficient management table 14a is referred to, and a delay coefficient is set in a portion where conditions overlap. In FIG. 6, the delay coefficient Mb2 is set at a portion where the voltage X + x1 [V] and the temperature A + a1 [° C.] overlap. Similarly, the delay coefficient Mc2 is set at a portion where the voltage X + x2 [V] and the temperature A + a1 [° C.] overlap. The delay coefficient Mb3 is set at a portion where the voltage X + x1 [V] and the temperature A + a2 [° C.] overlap. The delay coefficient Mc3 is set at a portion where the voltage X + x2 [V] and the temperature A + a2 [° C.] overlap. Thereby, the test condition generation table 14b is completed.

次に、条件生成部14がステップS11にて求めたプライマリテスト時のIRドロップ率(S%)における試験条件を、ステップS15にて生成した試験条件生成用テーブル14bから抽出する(ステップS16)。   Next, the test condition in the IR drop rate (S%) at the time of the primary test obtained by the condition generation unit 14 in step S11 is extracted from the test condition generation table 14b generated in step S15 (step S16).

例えば、実動作時のIRドロップ率(N%)、プライマリテスト時のIRドロップ率(S%)のIRドロップ後の電圧値をそれぞれ算出する。
図9は、算出結果を示す図である。
For example, the voltage value after IR drop of the IR drop rate (N%) during the actual operation and the IR drop rate (S%) during the primary test is calculated.
FIG. 9 is a diagram illustrating a calculation result.

図9に示すテーブル14dは、条件生成部14が算出した算出結果を示している。
テーブル14dは、実動作時およびプライマリテスト時のIRドロップ前の電圧および温度は、ともにX+x1[V]、A+a1[℃]であることを示している。また、実動作時のIRドロップ率は、N%であり、IRドロップ後の電圧がXn[V]であることを示している。また、プライマリテスト時のIRドロップ率は、S%であり、IRドロップ後の電圧がXs[V]であることを示している。
A table 14d illustrated in FIG. 9 illustrates the calculation result calculated by the condition generation unit 14.
The table 14d shows that the voltage and temperature before the IR drop during the actual operation and the primary test are both X + x1 [V] and A + a1 [° C.]. The IR drop rate during actual operation is N%, indicating that the voltage after IR drop is Xn [V]. Further, the IR drop rate during the primary test is S%, indicating that the voltage after IR drop is Xs [V].

再び図8に戻って説明する。
そして、条件生成部14は、試験条件生成用テーブル14bを参照し、IRドロップ後の電圧比に対応する温度比を抽出する。温度の換算値として、プライマリテスト時の温度を算出する。なお、電圧値を算出することも可能である。どちらに換算するかは算出コスト等を考慮して予め決めておく。
Returning again to FIG.
Then, the condition generation unit 14 refers to the test condition generation table 14b and extracts a temperature ratio corresponding to the voltage ratio after the IR drop. The temperature at the primary test is calculated as the temperature conversion value. It is also possible to calculate a voltage value. Which is converted is determined in advance in consideration of the calculation cost and the like.

次に、ステップS11にて求めたIRドロップ(S%)がステップS15にて生成した試験条件生成用テーブル14bの範囲外か否かを判断する(ステップS17)。
ステップS11にて求めたIRドロップの値がステップS15にて生成した試験条件生成用テーブル14bの範囲外の場合(ステップS17のYes)、ステップS1に移行し、例えば、モニタ104aにエラーを表示させる等により設計者にその旨を報知する。そして、設計者による目標とするIRドロップの新たな入力を受け付けると、ステップS2以降の処理を再度行う。
Next, it is determined whether or not the IR drop (S%) obtained in step S11 is outside the range of the test condition generation table 14b generated in step S15 (step S17).
If the IR drop value obtained in step S11 is outside the range of the test condition generation table 14b generated in step S15 (Yes in step S17), the process proceeds to step S1, for example, an error is displayed on the monitor 104a. Notify the designer to that effect. Then, when a new input of the target IR drop by the designer is received, the processing after step S2 is performed again.

一方、試験条件生成用テーブル14bの範囲内である場合(ステップS17のNo)、処理を終了する。なお、この場合、条件生成部14は、ステップS16にて抽出した試験条件を出力部15に送る。出力部15は、この試験条件をモニタ104aに出力する。   On the other hand, if it is within the range of the test condition generation table 14b (No in step S17), the process is terminated. In this case, the condition generation unit 14 sends the test conditions extracted in step S16 to the output unit 15. The output unit 15 outputs this test condition to the monitor 104a.

<具体例>
次に、具体例を用いて試験条件を生成する方法を説明する。
図10は、具体例の試験条件生成用テーブルを示す図である。
<Specific example>
Next, a method for generating test conditions will be described using a specific example.
FIG. 10 is a diagram showing a test condition generation table of a specific example.

以下、温度を調整することにより試験条件を生成する方法を説明する。
設計対象のLSIは、実動作時にて100[℃]、1.1[V]での動作を前提とする。この場合、係数管理テーブル14aは、100[℃]、1.1[V]での遅延係数を1.0とする。
Hereinafter, a method for generating test conditions by adjusting the temperature will be described.
The LSI to be designed is premised on operation at 100 [° C.] and 1.1 [V] in actual operation. In this case, the coefficient management table 14a sets the delay coefficient at 100 [° C.] and 1.1 [V] to 1.0.

プライマリテスト時にはIRドロップが0.1[V]発生し、1.0[V]になるとする。
ここで、試験条件生成用テーブル14cの100[℃]、1.0[V]が重なる部位を参照すると、遅延係数は1.1である。これは、実動作時よりも遅延が大きくなることを意味している。
It is assumed that IR drop occurs at 0.1 [V] and becomes 1.0 [V] during the primary test.
Here, referring to a portion where 100 [° C.] and 1.0 [V] overlap in the test condition generation table 14c, the delay coefficient is 1.1. This means that the delay becomes larger than that in actual operation.

従って、電圧1.0[V]において、遅延を解消しようとする温度、すなわち、電圧1.0[V]において、遅延係数が1.0となる温度を探すと85[℃]が該当する。
従って、プライマリテストは、85[℃]、1.1[V]で実施する。
Accordingly, when the temperature at which the delay is to be eliminated at the voltage of 1.0 [V], that is, the temperature at which the delay coefficient becomes 1.0 at the voltage of 1.0 [V], 85 [° C.] corresponds.
Therefore, the primary test is performed at 85 [° C.] and 1.1 [V].

これにより、プライマリテスト時にIRドロップが発生し、電圧が1.0[V]まで落ち込む場合でも、85[℃]で試験を行っている、すなわち、係数が1.0である条件においてプライマリテストを行っているので、実動作時の100[℃]、1.1[V]相当の負荷になる。従って、プライマリテスト用に過剰な電源設計を行うことなく、実動作時と同様の条件でプライマリテストを行うことができる。   Thus, even when an IR drop occurs during the primary test and the voltage drops to 1.0 [V], the test is performed at 85 [° C.], that is, the primary test is performed under the condition that the coefficient is 1.0. Therefore, the load is equivalent to 100 [° C.] and 1.1 [V] during actual operation. Therefore, the primary test can be performed under the same conditions as in the actual operation without designing an excessive power supply for the primary test.

なお、電圧を調整することにより試験条件を生成する場合は、温度を一定にしておき、電圧を変更することで上記と同様の効果を得ることができる。すなわち、100[℃]において、遅延係数が1.0となる電圧は、1.1[V]であるため、IRドロップの電圧差0.1[V]を、1.1[V]に加算すると1.2[V]になる。   When the test conditions are generated by adjusting the voltage, the same effect as described above can be obtained by changing the voltage while keeping the temperature constant. That is, at 100 [° C.], the voltage at which the delay coefficient is 1.0 is 1.1 [V], so the IR drop voltage difference of 0.1 [V] is added to 1.1 [V]. Then, it becomes 1.2 [V].

従って、プライマリテストは、100[℃]、1.2[V]で実施する。
<変形例>
遅延の最悪条件に基づいて、プライマリテストの温度および電圧を決定することもできる。
Therefore, the primary test is performed at 100 [° C.] and 1.2 [V].
<Modification>
The primary test temperature and voltage can also be determined based on the worst case delay.

実動作時に2%のIRドロップが発生し、プライマリテスト時に4%のIRドロップが発生するLSIを例にとって説明する。
実動作時の遅延の最悪条件は、125[℃]、1.1[V]で試験を行った場合であり、IRドロップが発生したときの電圧は、1.1×0.98=1.078[V]である。なお、最良条件は、−40[℃]、1.3[V]で試験を行った場合である。
An LSI in which 2% IR drop occurs during actual operation and 4% IR drop occurs during the primary test will be described as an example.
The worst condition for delay during actual operation is when the test is performed at 125 [° C.] and 1.1 [V], and the voltage when the IR drop occurs is 1.1 × 0.98 = 1. 078 [V]. The best conditions are when the test is performed at −40 [° C.] and 1.3 [V].

一方、プライマリテスト時の遅延の最悪条件は、125[℃]、1.1[V]で試験を行った場合であり、IRドロップが発生したときの電圧は、1.1×0.96=1.056[V]である。なお、最良条件は、−40[℃]、1.3[V]で試験を行った場合である。   On the other hand, the worst condition for the delay in the primary test is when the test is performed at 125 [° C.] and 1.1 [V], and the voltage when the IR drop occurs is 1.1 × 0.96 = 1.056 [V]. The best conditions are when the test is performed at −40 [° C.] and 1.3 [V].

温度を調整する場合、1.078[V]と1.056[V]の遅延時間の差に等しい125[℃]とx[℃]の遅延時間の差を求める。ここではx=100[℃]となるものとする。従って100[℃]、1.1[V]でプライマリテストを行う。   When adjusting the temperature, the difference between the delay times of 125 [° C.] and x [° C.] equal to the difference between the delay times of 1.078 [V] and 1.056 [V] is obtained. Here, x = 100 [° C.]. Therefore, the primary test is performed at 100 [° C.] and 1.1 [V].

また、電圧を調整する場合、1.078[V]と1.056[V]の電圧差0.024Vを、1.1Vに加算してプライマリテストを行う。すなわち、125[℃]、1.124V[V]でプライマリテストを行う。   When adjusting the voltage, a primary test is performed by adding a voltage difference of 0.024 V between 1.078 [V] and 1.056 [V] to 1.1 V. That is, the primary test is performed at 125 [° C.] and 1.124 V [V].

以上述べたように、試験条件調整装置10によれば、条件生成部14が、プライマリテスト時のIRドロップが、実動作時のIRドロップよりも大きい場合、試験条件生成用テーブル14b、14cに格納された遅延係数に基づいて、プライマリテスト時の試験条件を生成するようにした。   As described above, according to the test condition adjusting apparatus 10, when the IR drop during the primary test is larger than the IR drop during the actual operation, the condition generation unit 14 stores the test condition generation tables 14b and 14c. Based on the determined delay coefficient, the test conditions for the primary test were generated.

これにより、プライマリテスト時に実動作時よりも大きな電圧降下が生じても、実動作時よりも低い温度または実動作時よりも高い電源電圧で試験を行っているため、遅延が生じない。   As a result, even if a larger voltage drop occurs during the primary test than during the actual operation, no delay occurs because the test is performed at a lower temperature than during the actual operation or a higher power supply voltage than during the actual operation.

従って、プライマリテスト時の電圧降下に備えて容量の大きな電源をLSIに実装する必要や、遅延補償回路を設ける必要がなくなるため、LSIの回路規模の増大を防止することができる。   Therefore, it is not necessary to mount a power supply having a large capacity in the LSI in preparation for a voltage drop at the time of the primary test, or to provide a delay compensation circuit, so that an increase in the circuit scale of the LSI can be prevented.

また、条件生成部14は、試験条件生成用テーブル14bを生成し、このテーブルに基づいてプライマリテスト時の試験条件を生成するようにした。これにより、試験条件を容易に生成することができる。   In addition, the condition generation unit 14 generates a test condition generation table 14b, and generates a test condition for the primary test based on this table. Thereby, a test condition can be easily generated.

また、条件生成部14は、テスタの電圧および温度の制約を考慮して試験条件生成用テーブル14bを生成するようにした。これにより、生成した試験条件を用いてテスタにて確実にテストすることができる。   In addition, the condition generation unit 14 generates the test condition generation table 14b in consideration of the tester voltage and temperature constraints. Thereby, it can test reliably with a tester using the produced | generated test conditions.

また、条件生成部14は、代表回路の遅延の電圧依存性および温度依存性を取得する際に、遅延エラーが発生しやすいパスの回路部分を取得するようにした。これにより、生成した試験条件により、確実に遅延を補償することができる。   Further, the condition generation unit 14 acquires a circuit portion of a path where a delay error is likely to occur when acquiring the voltage dependency and temperature dependency of the delay of the representative circuit. Thereby, the delay can be reliably compensated according to the generated test conditions.

なお、試験条件調整装置10が適用できる設計対象のLSIの種別は特に限定されないが、例えば、フリップチップや、ペリフェラルなLSI等が挙げられる。
設計対象のLSIが、フリップチップである場合、プライマリテスト用のパッドから電源を供給する場合は、実動作時のIRドロップよりもプライマリテスト時のIRドロップの方が大きくなる場合がある。
The type of LSI to be designed to which the test condition adjusting apparatus 10 can be applied is not particularly limited, and examples thereof include a flip chip and a peripheral LSI.
When the LSI to be designed is a flip chip, when power is supplied from the primary test pad, the IR drop during the primary test may be larger than the IR drop during actual operation.

また、設計対象のLSIが、ペリフェラルなLSIである場合、プライマリテスト時にも実動作時と同じ周波数で動作させて、試験時間の短縮のため実動作時よりプライマリテスト時の方が、動作回路が多い。   In addition, when the LSI to be designed is a peripheral LSI, the operation circuit is operated at the same frequency as in the actual operation during the primary test, and the operation circuit is more active during the primary test than during the actual operation in order to shorten the test time. Many.

従って、このLSIも実動作時のIRドロップよりプライマリテスト時のIRドロップの方が大きくなる場合がある。
試験条件調整装置10は、設計対象のLSIの種別に限定されず、LSIの回路規模の増大を防止することができる。
Therefore, in this LSI, the IR drop during the primary test may be larger than the IR drop during actual operation.
The test condition adjusting apparatus 10 is not limited to the type of LSI to be designed, and can prevent an increase in the circuit scale of the LSI.

なお、試験条件調整装置10が行った処理が、複数の装置によって分散処理されるようにしてもよい。例えば、1つの装置が、物理設計を行ってタイミング検証までを行っておき、他の装置が、その結果を用いてシミュレーションを行い、試験条件を生成するようにしてもよい。   Note that the processing performed by the test condition adjustment device 10 may be distributed by a plurality of devices. For example, one apparatus may perform physical design and perform timing verification, and another apparatus may perform simulation using the result and generate test conditions.

以上、本発明の試験条件調整装置および試験条件調整方法を、図示の実施の形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物や工程が付加されていてもよい。   The test condition adjusting apparatus and the test condition adjusting method of the present invention have been described based on the illustrated embodiment. However, the present invention is not limited to this, and the configuration of each part has the same function. Any configuration can be substituted. Moreover, other arbitrary structures and processes may be added to the present invention.

また、本発明は、前述した実施の形態のうちの、任意の2以上の構成(特徴)を組み合わせたものであってもよい。
なお、上記の処理機能は、コンピュータによって実現することができる。その場合、試験条件調整装置10が有する機能の処理内容を記述したプログラムが提供される。そのプログラムをコンピュータで実行することにより、上記処理機能がコンピュータ上で実現される。処理内容を記述したプログラムは、コンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録しておくことができる。コンピュータで読み取り可能な記録媒体としては、例えば、磁気記録装置、光ディスク、光磁気記録媒体、半導体メモリ等が挙げられる。磁気記録装置としては、例えば、ハードディスク装置(HDD)、フレキシブルディスク(FD)、磁気テープ等が挙げられる。光ディスクとしては、例えば、DVD(Digital Versatile Disc)、DVD−RAM(Random Access Memory)、CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory)、CD−R(Recordable)/RW(ReWritable)等が挙げられる。光磁気記録媒体としては、例えば、MO(Magneto-Optical disk)等が挙げられる。
In addition, the present invention may be a combination of any two or more configurations (features) of the above-described embodiments.
The above processing functions can be realized by a computer. In that case, a program describing the processing contents of the functions of the test condition adjusting apparatus 10 is provided. By executing the program on a computer, the above processing functions are realized on the computer. The program describing the processing contents can be recorded on a computer-readable recording medium. Examples of the computer-readable recording medium include a magnetic recording device, an optical disk, a magneto-optical recording medium, and a semiconductor memory. Examples of the magnetic recording device include a hard disk device (HDD), a flexible disk (FD), and a magnetic tape. Examples of the optical disc include a DVD (Digital Versatile Disc), a DVD-RAM (Random Access Memory), a CD-ROM (Compact Disc Read Only Memory), and a CD-R (Recordable) / RW (ReWritable). Examples of the magneto-optical recording medium include MO (Magneto-Optical disk).

プログラムを流通させる場合には、例えば、そのプログラムが記録されたDVD、CD−ROM等の可搬型記録媒体が販売される。また、プログラムをサーバコンピュータの記憶装置に格納しておき、ネットワークを介して、サーバコンピュータから他のコンピュータにそのプログラムを転送することもできる。   When distributing the program, for example, a portable recording medium such as a DVD or a CD-ROM in which the program is recorded is sold. It is also possible to store the program in a storage device of a server computer and transfer the program from the server computer to another computer via a network.

試験条件調整プログラムを実行するコンピュータは、例えば、可搬型記録媒体に記録されたプログラムもしくはサーバコンピュータから転送されたプログラムを、自己の記憶装置に格納する。そして、コンピュータは、自己の記憶装置からプログラムを読み取り、プログラムに従った処理を実行する。なお、コンピュータは、可搬型記録媒体から直接プログラムを読み取り、そのプログラムに従った処理を実行することもできる。また、コンピュータは、サーバコンピュータからプログラムが転送される毎に、逐次、受け取ったプログラムに従った処理を実行することもできる。   A computer that executes the test condition adjustment program stores, for example, a program recorded on a portable recording medium or a program transferred from a server computer in its own storage device. Then, the computer reads the program from its own storage device and executes processing according to the program. The computer can also read the program directly from the portable recording medium and execute processing according to the program. In addition, each time the program is transferred from the server computer, the computer can sequentially execute processing according to the received program.

以上の実施の形態に関し、さらに以下の付記を開示する。
(付記1) 設計対象の半導体回路の第1の動作条件での電圧降下と、第2の動作条件での電圧降下とを比較する比較部と、
前記第2の動作条件での電圧降下が、前記第1の動作条件での電圧降下よりも大きい場合、前記半導体回路の遅延特性に基づいて、前記第2の動作条件を調整する調整部と、
を有することを特徴とする試験条件調整装置。
Regarding the above embodiment, the following additional notes are disclosed.
(Additional remark 1) The comparison part which compares the voltage drop in the 1st operation condition of the semiconductor circuit to be designed with the voltage drop in the 2nd operation condition,
An adjustment unit that adjusts the second operating condition based on a delay characteristic of the semiconductor circuit when a voltage drop under the second operating condition is larger than a voltage drop under the first operating condition;
A test condition adjusting apparatus comprising:

(付記2) 前記調整部は、前記第2の動作条件の動作温度を前記第1の動作条件の動作温度より低く調整することを特徴とする付記1記載の試験条件調整装置。
(付記3) 前記調整部は、前記第2の動作条件の動作電圧を前記第1の動作条件の動作電圧より低く調整することを特徴とする付記1記載の試験条件調整装置。
(Additional remark 2) The said adjustment part adjusts the operating temperature of the said 2nd operating condition lower than the operating temperature of the said 1st operating condition, The test condition adjustment apparatus of Additional remark 1 characterized by the above-mentioned.
(Additional remark 3) The said adjustment part adjusts the operating voltage of the said 2nd operating condition lower than the operating voltage of the said 1st operating condition, The test condition adjusting apparatus of Additional remark 1 characterized by the above-mentioned.

(付記4) 前記調整部は、前記半導体回路の所定部位の電圧変化および温度変化に対する遅延特性の関係を表した情報を生成し、前記情報に基づいて、前記第2の動作条件を調整することを特徴とする付記1記載の試験条件調整装置。   (Additional remark 4) The said adjustment part produces | generates the information showing the relationship of the delay characteristic with respect to the voltage change of the predetermined part of the said semiconductor circuit, and a temperature change, and adjusts the said 2nd operating condition based on the said information. The test condition adjusting device as set forth in Appendix 1, characterized by:

(付記5) 前記調整部は、前記第2の動作条件における電圧および温度の予め定められた制約を考慮して前記情報を生成することを特徴とする付記4記載の試験条件調整装置。   (Additional remark 5) The said adjustment part produces | generates the said information in consideration of the predetermined restrictions of the voltage and temperature in a said 2nd operating condition, The test condition adjustment apparatus of Additional remark 4 characterized by the above-mentioned.

(付記6) 前記所定部位は、前記半導体回路の最もタイミングが厳しいパスを有する回路部分であることを特徴とする付記4記載の試験条件調整装置。
(付記7) コンピュータが、
設計対象の半導体回路の第1の動作条件での電圧降下と、第2の動作条件での電圧降下とを比較し、
前記第2の動作条件での電圧降下が、前記第1の動作条件での電圧降下よりも大きい場合、前記半導体回路の遅延特性に基づいて、前記第2の動作条件を調整する、
ことを特徴とする試験条件調整方法。
(Additional remark 6) The said predetermined site | part is a circuit part which has a path | route with the strictest timing of the said semiconductor circuit, The test condition adjustment apparatus of Additional remark 4 characterized by the above-mentioned.
(Supplementary note 7)
Compare the voltage drop under the first operating condition of the semiconductor circuit to be designed with the voltage drop under the second operating condition,
When the voltage drop under the second operating condition is larger than the voltage drop under the first operating condition, the second operating condition is adjusted based on the delay characteristics of the semiconductor circuit;
The test condition adjustment method characterized by this.

(付記8) コンピュータを、
設計対象の半導体回路の第1の動作条件での電圧降下と、第2の動作条件での電圧降下とを比較する比較手段、
前記第2の動作条件での電圧降下が、前記第1の動作条件での電圧降下よりも大きい場合、前記半導体回路の遅延特性に基づいて、前記第2の動作条件を調整する調整手段、
として機能させることを特徴とする試験条件調整プログラム。
(Appendix 8)
Comparison means for comparing the voltage drop under the first operating condition of the semiconductor circuit to be designed with the voltage drop under the second operating condition;
Adjusting means for adjusting the second operating condition based on a delay characteristic of the semiconductor circuit when a voltage drop under the second operating condition is larger than a voltage drop under the first operating condition;
Test condition adjustment program characterized by functioning as

1、10 試験条件調整装置
2 比較部
3 調整部
4 グラフ
11 物理設計部
12 IRドロップシミュレーション部
13 ハードウェア制約条件管理DB
13a ハードウェア制約条件テーブル
14 条件生成部
14a 係数管理テーブル
14b、14c 試験条件生成用テーブル
15 出力部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 10 Test condition adjustment apparatus 2 Comparison part 3 Adjustment part 4 Graph 11 Physical design part 12 IR drop simulation part 13 Hardware constraint condition management DB
13a Hardware constraint condition table 14 Condition generation unit 14a Coefficient management table 14b, 14c Test condition generation table 15 Output unit

Claims (5)

設計対象の半導体回路の実動作時の動作条件である第1の動作条件での電圧降下と、試験時の動作条件である第2の動作条件での電圧降下とを比較する比較部と、
前記第2の動作条件での電圧降下が、前記第1の動作条件での電圧降下よりも大きい場合、前記半導体回路の遅延特性に基づいて、前記第2の動作条件を調整する調整部と、
を有する
ことを特徴とする試験条件調整装置。
A comparison unit for comparing a voltage drop under a first operation condition that is an operation condition during actual operation of a semiconductor circuit to be designed with a voltage drop under a second operation condition that is an operation condition during testing ;
An adjustment unit that adjusts the second operating condition based on a delay characteristic of the semiconductor circuit when a voltage drop under the second operating condition is larger than a voltage drop under the first operating condition;
A test condition adjusting apparatus characterized by comprising:
前記調整部は、前記第2の動作条件の動作温度を前記第1の動作条件の動作温度より低く調整する
ことを特徴とする請求項1記載の試験条件調整装置。
The test condition adjusting apparatus according to claim 1, wherein the adjustment unit adjusts the operating temperature of the second operating condition to be lower than the operating temperature of the first operating condition.
前記調整部は、前記第2の動作条件の動作電圧を前記第1の動作条件の動作電圧より高く調整する
ことを特徴とする請求項1記載の試験条件調整装置。
The test condition adjusting apparatus according to claim 1, wherein the adjustment unit adjusts the operating voltage of the second operating condition to be higher than the operating voltage of the first operating condition.
前記調整部は、前記半導体回路の所定部位の電圧変化および温度変化に対する遅延特性の関係を表した情報を生成し、前記情報に基づいて、前記第2の動作条件を調整する
ことを特徴とする請求項1記載の試験条件調整装置。
The adjusting unit generates information representing a relationship of delay characteristics with respect to voltage change and temperature change of a predetermined portion of the semiconductor circuit, and adjusts the second operating condition based on the information. The test condition adjusting device according to claim 1.
コンピュータが、
設計対象の半導体回路の実動作時の動作条件である第1の動作条件での電圧降下と、試験時の動作条件である第2の動作条件での電圧降下とを比較し、
前記第2の動作条件での電圧降下が、前記第1の動作条件での電圧降下よりも大きい場合、前記半導体回路の遅延特性に基づいて、前記第2の動作条件を調整する、
ことを特徴とする試験条件調整方法。


Computer
Compare the voltage drop under the first operating condition, which is the operating condition during the actual operation of the semiconductor circuit to be designed, with the voltage drop under the second operating condition, which is the operating condition during the test ,
When the voltage drop under the second operating condition is larger than the voltage drop under the first operating condition, the second operating condition is adjusted based on the delay characteristics of the semiconductor circuit;
The test condition adjustment method characterized by this.


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