JP5260404B2 - Touch panel, display device and electronic device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel, which can be operated smoothly by a finger, a pen or the like with a sufficiently small operating force, while minimizing irregularities on the surface, and a display device and an electronic device provided with the same. <P>SOLUTION: The resistance film type touch panel 1 includes an upper substrate 10 including a transparent substrate having a resistance film and a wiring layer provided on one side thereof; and a lower substrate 20 including a transparent substrate having a resistance film and a wiring layer provided on one side thereof, both the substrate being adhered through a first adhesive layer 40 so that the respective resistance films are opposed to each other. A transparent plate 15 is provided on the side opposite to the resistance film of the transparent substrate of the upper substrate 10 through a second adhesive layer 14, and the thickness of the second adhesive layer 14 is 50-300 &mu;m. As the transparent plate 15, a PMMA plate or PET plate 100-500 &mu;m in thickness is used. The upper surface of the transparent plate 15 forms a contact surface 10a. This touch panel 1 is disposed on an image display surface of the display device. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、タッチパネル、表示装置および電子機器に関し、特に、抵抗膜方式のタッチパネル、このタッチパネルを備えた表示装置およびこのタッチパネルを備えた電子機器に関する。   The present invention relates to a touch panel, a display device, and an electronic device, and more particularly, to a resistive film type touch panel, a display device including the touch panel, and an electronic device including the touch panel.

従来から、指やペンなどの検出対象物が表示装置の表示面に接触した位置を検出する技術が知られている。この技術を用いた表示装置の中でも代表的で一般に広く普及しているものとして、タッチパネルを備えた表示装置が挙げられる。このタッチパネルも種々のタイプのものが存在するが、一般に普及しているものとして抵抗膜方式のものが挙げられる(例えば、特許文献1参照。)。この抵抗膜方式では、パネル表面が、例えば、互いに対向するガラスとフィルムとの間に非常に小さなスペーサを挟み込んだ積層構造となっており、ガラスおよびフィルムの互いに対向する面に、透明な電極格子が設けられている。そして、指やペンなどでフィルムの表面に接触することで、フィルムがたわみ、フィルム面の透明電極とガラス面の透明電極とが互いに接触し、電流が流れる。このため、ガラス面、フィルム面それぞれの透明電極の抵抗による分圧比を測定することで、指やペンの位置を検出することができる。したがって、このようなタッチパネルを用いることで、ユーザは直感的に操作することが可能である。   Conventionally, a technique for detecting a position where a detection target object such as a finger or a pen contacts a display surface of a display device is known. Among display devices using this technique, a display device provided with a touch panel is a typical and widely used display device. There are various types of touch panels, but a resistive film type is widely used (see, for example, Patent Document 1). In this resistive film system, for example, the panel surface has a laminated structure in which very small spacers are sandwiched between glass and film facing each other, and transparent electrode grids are formed on the surfaces facing each other of glass and film. Is provided. Then, by touching the surface of the film with a finger or a pen, the film bends, the transparent electrode on the film surface and the transparent electrode on the glass surface come into contact with each other, and current flows. For this reason, the position of a finger or a pen can be detected by measuring the partial pressure ratio due to the resistance of the transparent electrodes on the glass surface and the film surface. Therefore, the user can operate intuitively by using such a touch panel.

図18は上述の抵抗膜方式のタッチパネル100の概略構成を示す。図19は図18に示すタッチパネル100の分解斜視図である。図18および図19に示すように、このタッチパネル100は、例えば、所定の間隙を介して対向配置された一対の上側基板110および下側基板120を備えている。これらの上側基板110および下側基板120の間には、フレキシブルプリント配線板(FPC)130および接着層140が設けられている。   FIG. 18 shows a schematic configuration of the above-described resistive film type touch panel 100. FIG. 19 is an exploded perspective view of the touch panel 100 shown in FIG. As shown in FIGS. 18 and 19, the touch panel 100 includes, for example, a pair of an upper substrate 110 and a lower substrate 120 that are arranged to face each other with a predetermined gap therebetween. A flexible printed wiring board (FPC) 130 and an adhesive layer 140 are provided between the upper substrate 110 and the lower substrate 120.

上側基板110は、指やペンなどが接触する接触面110aとなる透明基板111を有している。透明基板111のうちの接触面110aとは反対側の面(下面)には、抵抗膜112が設けられている。透明基板111の下面のうちの抵抗膜112の周囲に、抵抗膜112に連結されて電気的に接続された帯状の配線層113a、113bが設けられている。これらの配線層113a、113bの一端は、FPC130の端部130aとの対向領域に設けられており、FPC130の電極(図示せず)と接触している。   The upper substrate 110 has a transparent substrate 111 serving as a contact surface 110a with which a finger, a pen, or the like contacts. A resistance film 112 is provided on the surface (lower surface) of the transparent substrate 111 opposite to the contact surface 110a. Around the resistance film 112 on the lower surface of the transparent substrate 111, strip-shaped wiring layers 113a and 113b connected to and electrically connected to the resistance film 112 are provided. One end of each of the wiring layers 113a and 113b is provided in a region facing the end portion 130a of the FPC 130, and is in contact with an electrode (not shown) of the FPC 130.

下側基板120は、指やペンなどで上側基板110に接触した際に抵抗膜112が接触する抵抗膜122(後述)を支持する透明基板121を有している。透明基板121のうちの上側基板110との対向面(上面)であって、かつ抵抗膜112との対向領域には、上記の抵抗膜122が設けられている。そして、透明基板121の上面のうちの抵抗膜122の周囲に、抵抗膜122に連結されて電気的に接続された帯状の配線層123a、123bが設けられている。これらの配線層123a、123bの一端が、FPC130の端部130aとの対向領域に設けられており、FPC130の電極と接触している。   The lower substrate 120 includes a transparent substrate 121 that supports a resistance film 122 (described later) with which the resistance film 112 comes into contact when the upper substrate 110 is contacted with a finger or a pen. The resistance film 122 described above is provided on the surface (upper surface) of the transparent substrate 121 facing the upper substrate 110 and in the region facing the resistance film 112. Band-shaped wiring layers 123 a and 123 b connected to and electrically connected to the resistance film 122 are provided around the resistance film 122 on the upper surface of the transparent substrate 121. One end of these wiring layers 123 a and 123 b is provided in a region facing the end portion 130 a of the FPC 130, and is in contact with the electrode of the FPC 130.

接着層140は、抵抗膜112との対向領域に開口140aを有する環形状を有し、透明基板111上の配線層113a、113bと、透明基板121上の配線層123a、123bとの間に配置されている。これにより、接着層140は、配線層113a、113bと配線層123a、123bとを互いに絶縁分離しつつ、上側基板110と下側基板120とを互いに接着している。この接着層140は、FPC130との対応領域に切り欠き140bを有しており、厚さ方向から見てFPC130と重なり合わないようになっている。接着層140は、例えば、両面テープなどによって構成されている。   The adhesive layer 140 has a ring shape having an opening 140a in a region facing the resistance film 112, and is disposed between the wiring layers 113a and 113b on the transparent substrate 111 and the wiring layers 123a and 123b on the transparent substrate 121. Has been. Thus, the adhesive layer 140 bonds the upper substrate 110 and the lower substrate 120 to each other while insulating and separating the wiring layers 113a and 113b and the wiring layers 123a and 123b from each other. This adhesive layer 140 has a notch 140b in a region corresponding to the FPC 130 so that it does not overlap with the FPC 130 when viewed from the thickness direction. The adhesive layer 140 is made of, for example, a double-sided tape.

特開2002−182854号公報JP 2002-182854 A

ところで、図18および図19に示すタッチパネル100は、上側基板110および下側基板120でFPC130の端部130aおよび接着層140を挟み込んだ状態で、上側基板110および下側基板120を積層方向から押圧することにより形成される。ここで、接着層140は、上述のように、配線層113a、113bと配線層123a、123bとの間に配置されている。このため、製造過程において、上側基板110および下側基板120を積層方向から押圧した際に、上側基板110の接触面110aに、配線層113a、113bに沿って凹凸が生じてしまう。その結果、接触面110a全体を表示装置の筐体の一部として用いた場合に、筐体表面のフラット感が損なわれてしまうという問題があった。   By the way, the touch panel 100 shown in FIGS. 18 and 19 presses the upper substrate 110 and the lower substrate 120 from the stacking direction with the upper substrate 110 and the lower substrate 120 sandwiching the end portion 130a of the FPC 130 and the adhesive layer 140. It is formed by doing. Here, the adhesive layer 140 is disposed between the wiring layers 113a and 113b and the wiring layers 123a and 123b as described above. For this reason, in the manufacturing process, when the upper substrate 110 and the lower substrate 120 are pressed from the stacking direction, the contact surface 110a of the upper substrate 110 becomes uneven along the wiring layers 113a and 113b. As a result, when the entire contact surface 110a is used as a part of the housing of the display device, there is a problem that the flatness of the housing surface is impaired.

そこで、この発明が解決しようとする課題は、十分に小さな作動力で作動が可能で指やペンなどによりスムーズに作動させることができ、しかも表面に生じる凹凸を小さくすることが可能なタッチパネルを提供することである。
この発明が解決しようとする他の課題は、十分に小さな作動力で作動が可能で指やペンなどによりスムーズに作動させることができ、しかも表面に生じる凹凸を小さくすることが可能なタッチパネルを備えた表示装置および電子機器を提供することである。
Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a touch panel that can be operated with a sufficiently small operating force, can be operated smoothly with a finger, a pen, etc., and can reduce unevenness on the surface. It is to be.
Another problem to be solved by the present invention is to provide a touch panel that can be operated with a sufficiently small operating force, can be operated smoothly with a finger or a pen, and can reduce unevenness on the surface. Display device and electronic device.

本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、この発明を案出するに至った。その概要について説明すると、次の通りである。
すなわち、タッチパネルの表面に、上側基板と下側基板との対向面に形成される配線層などにより凹凸が生じるのを防止するためには、硬くて十分に剛性のある透明板を上側基板の表面に設けることが考えられる。しかしながら、このようにすると、上側基板の剛性が高くなり過ぎて、タッチパネルの作動に必要な作動力が高くなり、スムーズに操作することができない。本発明者らはこの問題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、上側基板の透明基板上に十分な厚さの接着層を介して、接触面に生じる凹凸を十分に小さくすることが可能な程度に十分な剛性を有する透明板を設けることにより、上記の課題を一挙に解決することができることを見出し、この発明を案出するに至った。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have come up with the present invention. The outline will be described as follows.
That is, in order to prevent unevenness on the surface of the touch panel due to the wiring layer formed on the opposing surface of the upper substrate and the lower substrate, a hard and sufficiently rigid transparent plate is used. It is conceivable to provide it. However, if it does in this way, the rigidity of an upper board will become high too much, the operating force required for the action | operation of a touchscreen will become high, and it cannot operate smoothly. The present inventors have intensively studied to solve this problem. As a result, by providing a transparent plate having sufficient rigidity so that the unevenness generated on the contact surface can be sufficiently reduced via the adhesive layer having a sufficient thickness on the transparent substrate of the upper substrate, The present inventors have found that the above problems can be solved at once, and have come up with the present invention.

本発明の一形態に係るタッチパネルは、第1および第2の透明基板と、第1および第2の抵抗膜と、第1および第2の配線層と、第1および第2の接着層と、透明板とを具備する。
上記第1の透明基板および上記第2の透明基板は、互いに離間して対向配置される。
上記第1の抵抗膜は、上記第1の透明基板の上記第2の透明基板との対向面に設けられ、上記第1の配線層は、上記第1の抵抗膜と電気的に接続される。
上記第2の抵抗膜は、上記第2の透明基板の上記第1の透明基板との対向面に設けられ、上記第2の配線層は、上記第2の抵抗膜と電気的に接続される。
上記第1の接着層は、上記第1の透明基板と上記第2の透明基板との間の間隙内でかつ上記第1の配線層と上記第2の配線層との対向領域を含む外周部の領域に設けられる。上記第1の接着層は、上記第1の透明基板と上記第2の透明基板とを接着する。
上記第2の接着層は、上記第1の透明基板の上記第2の透明基板との対向面と反対側の面に設けられる。
上記透明板は、上記第1の透明基板の上記第2の透明基板との対向面と反対側の面に上記第2の接着層を介して接着される。
上記透明板、上記第2の接着層、上記第1の透明基板および上記第1の抵抗膜の横断面の中立面に関する断面二次モーメントは、第1の断面二次モーメントと第2の断面二次モーメントとの間にある。上記第1の断面二次モーメントは、上記透明板が厚さが500μmのポリメチルメタクリレート板からなり、上記第2の接着層が厚さが50μmのアクリル系粘着剤からなり、上記第1の透明基板および上記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときのそれらの断面二次モーメントである。上記第2の断面二次モーメントは、上記透明板が厚さが125μmのポリエチレンテレフタレート板からなり、上記第2の接着層が厚さが300μmのアクリル系粘着剤からなり、上記第1の透明基板および上記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときのそれらの前記断面二次モーメントである。
A touch panel according to an aspect of the present invention includes a first and second transparent substrate, a first and second resistance film, a first and second wiring layer, a first and a second adhesive layer, And a transparent plate.
The first transparent substrate and the second transparent substrate are spaced apart from each other.
The first resistance film is provided on a surface of the first transparent substrate facing the second transparent substrate, and the first wiring layer is electrically connected to the first resistance film. .
The second resistance film is provided on a surface of the second transparent substrate facing the first transparent substrate, and the second wiring layer is electrically connected to the second resistance film. .
The first adhesive layer is an outer peripheral portion including a facing region between the first wiring layer and the second wiring layer in a gap between the first transparent substrate and the second transparent substrate. Is provided in the area. The first adhesive layer bonds the first transparent substrate and the second transparent substrate.
The second adhesive layer is provided on the surface of the first transparent substrate opposite to the surface facing the second transparent substrate.
The transparent plate is bonded to the surface of the first transparent substrate opposite to the surface facing the second transparent substrate via the second adhesive layer.
The cross-sectional second moment with respect to the neutral plane of the transverse plane of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate and the first resistive film is the first cross-sectional second moment and the second cross-section. Between the second moment. The first moment of inertia of the first cross section is that the transparent plate is made of a polymethylmethacrylate plate having a thickness of 500 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 50 μm, and the first transparent The sectional moment of inertia when the substrate and the first resistive film are made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm. The second moment of inertia of the second cross section is such that the transparent plate is made of a polyethylene terephthalate plate having a thickness of 125 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic adhesive having a thickness of 300 μm, and the first transparent substrate And the second moment of inertia when the first resistive film is made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm.

本発明の一形態に係る表示装置は、画像表示面を有する表示パネルと、上記画像表示面上に配置されたタッチパネルとを具備する。
上記タッチパネルは、第1および第2の透明基板と、第1および第2の抵抗膜と、第1および第2の配線層と、第1および第2の接着層と、透明板とを有する。
上記第1の透明基板および上記第2の透明基板は、互いに離間して対向配置される。
上記第1の抵抗膜は、上記第1の透明基板の上記第2の透明基板との対向面に設けられ、上記第1の配線層は、上記第1の抵抗膜と電気的に接続される。
上記第2の抵抗膜は、上記第2の透明基板の上記第1の透明基板との対向面に設けられ、上記第2の配線層は、上記第2の抵抗膜と電気的に接続される。
上記第1の接着層は、上記第1の透明基板と上記第2の透明基板との間の間隙内でかつ上記第1の配線層と上記第2の配線層との対向領域を含む外周部の領域に設けられる。上記第1の接着層は、上記第1の透明基板と上記第2の透明基板とを接着する。
上記第2の接着層は、上記第1の透明基板の上記第2の透明基板との対向面と反対側の面に設けられる。
上記透明板は、上記第1の透明基板の上記第2の透明基板との対向面と反対側の面に上記第2の接着層を介して接着される。
上記透明板、上記第2の接着層、上記第1の透明基板および上記第1の抵抗膜の横断面の中立面に関する断面二次モーメントは、第1の断面二次モーメントと第2の断面二次モーメントとの間にある。上記第1の断面二次モーメントは、上記透明板が厚さが500μmのポリメチルメタクリレート板からなり、上記第2の接着層が厚さが50μmのアクリル系粘着剤からなり、上記第1の透明基板および上記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときのそれらの断面二次モーメントである。上記第2の断面二次モーメントは、上記透明板が厚さが125μmのポリエチレンテレフタレート板からなり、上記第2の接着層が厚さが300μmのアクリル系粘着剤からなり、上記第1の透明基板および上記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときのそれらの前記断面二次モーメントである。
A display device according to one embodiment of the present invention includes a display panel having an image display surface, and a touch panel arranged on the image display surface.
The touch panel includes first and second transparent substrates, first and second resistance films, first and second wiring layers, first and second adhesive layers, and a transparent plate.
The first transparent substrate and the second transparent substrate are spaced apart from each other.
The first resistance film is provided on a surface of the first transparent substrate facing the second transparent substrate, and the first wiring layer is electrically connected to the first resistance film. .
The second resistance film is provided on a surface of the second transparent substrate facing the first transparent substrate, and the second wiring layer is electrically connected to the second resistance film. .
The first adhesive layer is an outer peripheral portion including a facing region between the first wiring layer and the second wiring layer in a gap between the first transparent substrate and the second transparent substrate. Is provided in the area. The first adhesive layer bonds the first transparent substrate and the second transparent substrate.
The second adhesive layer is provided on the surface of the first transparent substrate opposite to the surface facing the second transparent substrate.
The transparent plate is bonded to the surface of the first transparent substrate opposite to the surface facing the second transparent substrate via the second adhesive layer.
The cross-sectional second moment with respect to the neutral plane of the transverse plane of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate and the first resistive film is the first cross-sectional second moment and the second cross-section. Between the second moment. The first moment of inertia of the first cross section is that the transparent plate is made of a polymethylmethacrylate plate having a thickness of 500 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 50 μm, and the first transparent The sectional moment of inertia when the substrate and the first resistive film are made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm. The second moment of inertia of the second cross section is such that the transparent plate is made of a polyethylene terephthalate plate having a thickness of 125 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic adhesive having a thickness of 300 μm, and the first transparent substrate And the second moment of inertia when the first resistive film is made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm.

本発明の一形態に係る電子機器は、画像表示面を有する表示パネルと、上記画像表示面上に配置されたタッチパネルと、上記表示パネルおよび上記タッチパネルを支持する筐体とを具備する。
上記タッチパネルは、第1および第2の透明基板と、第1および第2の抵抗膜と、第1および第2の配線層と、第1および第2の接着層と、透明板とを有する。
上記第1の透明基板および上記第2の透明基板は、互いに離間して対向配置される。
上記第1の抵抗膜は、上記第1の透明基板の上記第2の透明基板との対向面に設けられ、上記第1の配線層は、上記第1の抵抗膜と電気的に接続される。
上記第2の抵抗膜は、上記第2の透明基板の上記第1の透明基板との対向面に設けられ、上記第2の配線層は、上記第2の抵抗膜と電気的に接続される。
上記第1の接着層は、上記第1の透明基板と上記第2の透明基板との間の間隙内でかつ上記第1の配線層と上記第2の配線層との対向領域を含む外周部の領域に設けられる。上記第1の接着層は、上記第1の透明基板と上記第2の透明基板とを接着する。
上記第2の接着層は、上記第1の透明基板の上記第2の透明基板との対向面と反対側の面に設けられる。
上記透明板は、上記第1の透明基板の上記第2の透明基板との対向面と反対側の面に上記第2の接着層を介して接着される。
上記透明板、上記第2の接着層、上記第1の透明基板および上記第1の抵抗膜の横断面の中立面に関する断面二次モーメントは、第1の断面二次モーメントと第2の断面二次モーメントとの間にある。上記第1の断面二次モーメントは、上記透明板が厚さが500μmのポリメチルメタクリレート板からなり、上記第2の接着層が厚さが50μmのアクリル系粘着剤からなり、上記第1の透明基板および上記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときのそれらの断面二次モーメントである。上記第2の断面二次モーメントは、上記透明板が厚さが125μmのポリエチレンテレフタレート板からなり、上記第2の接着層が厚さが300μmのアクリル系粘着剤からなり、上記第1の透明基板および上記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときのそれらの前記断面二次モーメントである。
An electronic device according to one embodiment of the present invention includes a display panel having an image display surface, a touch panel disposed on the image display surface, and a housing that supports the display panel and the touch panel.
The touch panel includes first and second transparent substrates, first and second resistance films, first and second wiring layers, first and second adhesive layers, and a transparent plate.
The first transparent substrate and the second transparent substrate are spaced apart from each other.
The first resistance film is provided on a surface of the first transparent substrate facing the second transparent substrate, and the first wiring layer is electrically connected to the first resistance film. .
The second resistance film is provided on a surface of the second transparent substrate facing the first transparent substrate, and the second wiring layer is electrically connected to the second resistance film. .
The first adhesive layer is an outer peripheral portion including a facing region between the first wiring layer and the second wiring layer in a gap between the first transparent substrate and the second transparent substrate. Is provided in the area. The first adhesive layer bonds the first transparent substrate and the second transparent substrate.
The second adhesive layer is provided on the surface of the first transparent substrate opposite to the surface facing the second transparent substrate.
The transparent plate is bonded to the surface of the first transparent substrate opposite to the surface facing the second transparent substrate via the second adhesive layer.
The cross-sectional second moment with respect to the neutral plane of the transverse plane of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate and the first resistive film is the first cross-sectional second moment and the second cross-section. Between the second moment. The first moment of inertia of the first cross section is that the transparent plate is made of a polymethylmethacrylate plate having a thickness of 500 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 50 μm, and the first transparent The sectional moment of inertia when the substrate and the first resistive film are made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm. The second moment of inertia of the second cross section is such that the transparent plate is made of a polyethylene terephthalate plate having a thickness of 125 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic adhesive having a thickness of 300 μm, and the first transparent substrate And the second moment of inertia when the first resistive film is made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm.

上述のように構成されたタッチパネル、表示装置および電子機器においては、透明板、第2の接着層、第1の透明基板および第1の抵抗膜の全体の横断面における中立軸に関する断面二次モーメントが適切な範囲に設定されている。このため、十分に小さい作動力でタッチパネルを作動させることができる。また、透明板として十分にヤング率が高く固いものを用いることにより、第1の透明基板上の第1の配線層や第2の透明基板上の第2の配線層などによりタッチパネルの表面、すなわち接触面に凹凸が生じるのを防止することができる。   In the touch panel, the display device, and the electronic device configured as described above, the secondary moment of inertia related to the neutral axis in the entire transverse cross section of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistive film. Is set to an appropriate range. For this reason, the touch panel can be operated with a sufficiently small operating force. Further, by using a hard plate having a sufficiently high Young's modulus as the transparent plate, the surface of the touch panel, that is, the first wiring layer on the first transparent substrate, the second wiring layer on the second transparent substrate, or the like, It is possible to prevent unevenness on the contact surface.

この発明によれば、十分に小さな作動力で作動が可能で指やペンなどによりスムーズに作動させることができ、しかも表面に生じる凹凸を小さくすることが可能なタッチパネルを実現することができる。また、このタッチパネルを備えた操作性に優れた表示装置および電子機器を実現することができる。   According to the present invention, it is possible to realize a touch panel that can be operated with a sufficiently small operating force, can be operated smoothly with a finger, a pen, or the like, and can reduce unevenness generated on the surface. In addition, it is possible to realize a display device and an electronic device that are provided with this touch panel and are excellent in operability.

この発明の第1の実施の形態によるタッチパネルを示す斜視図である。1 is a perspective view showing a touch panel according to a first embodiment of the present invention. 図1に示すタッチパネルの分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the touch panel shown in FIG. 図2に示すタッチパネルのA−A線およびB−B線に沿っての断面図である。It is sectional drawing along the AA line and BB line of the touch panel shown in FIG. 図2に示すタッチパネルのC−C線およびD−D線に沿っての断面図である。It is sectional drawing along CC line and DD line of the touch panel shown in FIG. 図2に示すタッチパネルのE−E線に沿っての断面図である。It is sectional drawing along the EE line of the touch panel shown in FIG. 図2に示すタッチパネルのFPC側の端部の断面図である。It is sectional drawing of the edge part by the side of FPC of the touch panel shown in FIG. この発明の第1の実施の形態においてタッチパネルの作動力の評価に用いた測定系を示す略線図である。It is a basic diagram which shows the measuring system used for evaluation of the operating force of a touch panel in 1st Embodiment of this invention. 図7に示す測定系を用いて測定された第2の接着層の厚さと作動力との関係を示す略線図である。It is a basic diagram which shows the relationship between the thickness of the 2nd contact bonding layer measured using the measuring system shown in FIG. 7, and an operating force. この発明の第2の実施の形態によるタッチパネルを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the touchscreen by 2nd Embodiment of this invention. この発明の第3の実施の形態によるタッチパネルを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the touchscreen by 3rd Embodiment of this invention. この発明の第4の実施の形態によるタッチパネルを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the touchscreen by 4th Embodiment of this invention. この発明の第4の実施の形態によるタッチパネルの第2の接着層の厚さと作動力との関係を示す略線図である。It is a basic diagram which shows the relationship between the thickness of the 2nd contact bonding layer of the touchscreen by 4th Embodiment of this invention, and an operating force. この発明の第4の実施の形態によるタッチパネルの第2の接着層の厚さと作動力との関係を示す略線図である。It is a basic diagram which shows the relationship between the thickness of the 2nd contact bonding layer of the touchscreen by 4th Embodiment of this invention, and an operating force. この発明の第4の実施の形態によるタッチパネルの第2の接着層の厚さと作動力との関係を示す略線図である。It is a basic diagram which shows the relationship between the thickness of the 2nd contact bonding layer of the touchscreen by 4th Embodiment of this invention, and an operating force. この発明の第4の実施の形態において測定された第2の接着層の厚さと作動力との関係を示す略線図である。It is a basic diagram which shows the relationship between the thickness of the 2nd contact bonding layer measured in 4th Embodiment of this invention, and an operating force. この発明の第5の実施の形態によるタッチパネルを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the touchscreen by 5th Embodiment of this invention. この発明の第6の実施の形態による表示装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the display apparatus by 6th Embodiment of this invention. 従来のタッチパネルを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the conventional touch panel. 図18に示すタッチパネルの分解斜視図である。FIG. 19 is an exploded perspective view of the touch panel shown in FIG. 18. 本発明の第7の実施の形態によるタッチパネルを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the touchscreen by the 7th Embodiment of this invention.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<第1の実施の形態>
[タッチパネル]
図1は第1の実施の形態による抵抗膜方式のタッチパネル1の概略構成を示す斜視図、図2はタッチパネル1の分解斜視図である。図3Aは図2に示すタッチパネル1の外縁のA−A線に沿っての断面構造を拡大して示す断面図、図3Bは図2に示すタッチパネル1の外縁のB−B線に沿っての断面構造を拡大して示す断面図である。図4Aは図2に示すタッチパネル1の外縁のC−C線に沿っての断面構造を拡大して示す断面図、図4Bは図2に示すタッチパネル1の外縁のD−D線に沿っての断面構造を拡大して示す断面図である。図5は図2に示すタッチパネル1のE−E線に沿っての断面構造を拡大して示す断面図である。図6は、タッチパネル1のうちの後述のフレキシブルプリント配線板(FPC)の端部近傍の断面構造を拡大して示す断面図である。
<First Embodiment>
[Touch panel]
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a resistive touch panel 1 according to the first embodiment, and FIG. 2 is an exploded perspective view of the touch panel 1. 3A is a cross-sectional view showing an enlarged cross-sectional structure along the AA line at the outer edge of the touch panel 1 shown in FIG. 2, and FIG. 3B is a cross-sectional view along the BB line at the outer edge of the touch panel 1 shown in FIG. It is sectional drawing which expands and shows a cross-section. 4A is an enlarged cross-sectional view of the outer edge of the touch panel 1 shown in FIG. 2 taken along the line CC, and FIG. 4B is an enlarged view taken along the line DD of the outer edge of the touch panel 1 shown in FIG. It is sectional drawing which expands and shows a cross-section. FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing a cross-sectional structure along the line EE of the touch panel 1 shown in FIG. FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view showing a cross-sectional structure in the vicinity of an end portion of a flexible printed wiring board (FPC) described later in the touch panel 1.

タッチパネル1は、例えば液晶パネルや有機ELパネルなどを備えた表示装置の上に重ねて画面入力表示装置として用いられる。タッチパネル1は、利用者が指やペンなどでタッチパネル1の表面を押すことにより表示装置の表示画面上の表示の選択などを直接行うものである。   The touch panel 1 is used as a screen input display device by being superimposed on a display device including, for example, a liquid crystal panel or an organic EL panel. The touch panel 1 is used to directly select a display on the display screen of the display device when the user presses the surface of the touch panel 1 with a finger or a pen.

タッチパネル1は、例えば、図1および図2に示すように、互いに離間して対向配置された一対の上側基板10および下側基板20を備えている。これらの上側基板10および下側基板20の間には、フレキシブルプリント配線板(FPC)30および第1の接着層40が設けられている。これらの上側基板10および下側基板20は互いに同一の大きさを有する。   For example, as shown in FIGS. 1 and 2, the touch panel 1 includes a pair of an upper substrate 10 and a lower substrate 20 that are disposed to face each other while being separated from each other. A flexible printed wiring board (FPC) 30 and a first adhesive layer 40 are provided between the upper substrate 10 and the lower substrate 20. The upper substrate 10 and the lower substrate 20 have the same size.

上側基板10は透明基板11(第1の透明基板)を有する。透明基板11の下側基板20との対向面(下面)には抵抗膜12(第1の抵抗膜)が設けられている。透明基板11の下面のうちの抵抗膜12の外縁上には、図2、図3AおよびBならびに図4AおよびBに示すように、帯状の配線層13a、13b(第1の配線層)が設けられている。配線層13aは、抵抗膜12の一端に連結されて電気的に接続されている。配線層13aは、図2に示すように、T字型の形状を有する。配線層13bは、抵抗膜12の他端に連結されて電気的に接続されている。配線層13bは、図2に示すように、U字型の形状を有する。   The upper substrate 10 has a transparent substrate 11 (first transparent substrate). A resistance film 12 (first resistance film) is provided on a surface (lower surface) facing the lower substrate 20 of the transparent substrate 11. On the outer edge of the resistance film 12 on the lower surface of the transparent substrate 11, as shown in FIGS. 2, 3A and B and FIGS. 4A and B, strip-like wiring layers 13a and 13b (first wiring layers) are provided. It has been. The wiring layer 13a is connected to and electrically connected to one end of the resistance film 12. As shown in FIG. 2, the wiring layer 13a has a T-shape. The wiring layer 13 b is connected to and electrically connected to the other end of the resistance film 12. As shown in FIG. 2, the wiring layer 13b has a U-shape.

透明基板11は、例えば、軟質の可撓性透明樹脂などによって構成されており、可撓性を有している。抵抗膜12は、例えば酸化インジウムスズ(ITO;Indium Tin Oxide)などからなる。配線層13a、13bは、例えば銀(Ag)などからなる。
透明基板11および抵抗膜12は、好適には、偏光制御を行ってタッチパネル1の接触面10aに入射する光の反射を防止することができるように構成する。
The transparent substrate 11 is made of, for example, a soft flexible transparent resin and has flexibility. The resistance film 12 is made of, for example, indium tin oxide (ITO). The wiring layers 13a and 13b are made of, for example, silver (Ag).
The transparent substrate 11 and the resistance film 12 are preferably configured so as to be able to prevent reflection of light incident on the contact surface 10a of the touch panel 1 by performing polarization control.

透明基板11の、抵抗膜12が設けられている下面とは反対側の面(上面)には第2の接着層14を介して透明板(トッププレート)15が設けられている。この透明板15は例えば上側基板10および下側基板20と同一の大きさを有する。この透明板15の第2の接着層14とは反対側の面が、指やペンなどが接触する接触面10aとなる。これらの第2の接着層14および透明板15については後に詳細に説明する。   A transparent plate (top plate) 15 is provided on the surface (upper surface) opposite to the lower surface on which the resistive film 12 is provided of the transparent substrate 11 via the second adhesive layer 14. For example, the transparent plate 15 has the same size as the upper substrate 10 and the lower substrate 20. The surface of the transparent plate 15 opposite to the second adhesive layer 14 is a contact surface 10a with which a finger, a pen, or the like contacts. The second adhesive layer 14 and the transparent plate 15 will be described in detail later.

下側基板20は、指やペンなどで上側基板10に接触した際に抵抗膜12が接触する抵抗膜22(第2の抵抗膜)を支持する透明基板21(第2の透明基板)を有している。透明基板21の上側基板10との対向面(上面)のうちの抵抗膜12との対向領域には、例えば、図2に示すように、抵抗膜22が設けられている。透明基板21の上面のうちの抵抗膜22の外縁上には、例えば、図2、図3AおよびBならびに図4AおよびBに示すように、帯状の配線層23a、23b(第2の配線層)が設けられている。配線層23aは、抵抗膜22の一端に連結されて電気的に接続されている。配線層23aは、図2に示すように、L字型に近い形状を有する。配線層23bは、抵抗膜22の他端に連結されて電気的に接続されている。配線層23bは、図2に示すように、L字を表裏反対にした形に近い形状を有する。抵抗膜22上には、上側基板10の抵抗膜12に届かない所定の高さの従来公知の絶縁体からなるドットスペーサ24が所定のピッチで例えば二次元アレイ状に配列されている(図5参照)。   The lower substrate 20 has a transparent substrate 21 (second transparent substrate) that supports the resistive film 22 (second resistive film) with which the resistive film 12 comes into contact when the upper substrate 10 is contacted with a finger or a pen. doing. For example, as shown in FIG. 2, a resistance film 22 is provided in a region facing the resistance film 12 in a surface (upper surface) of the transparent substrate 21 facing the upper substrate 10. On the outer edge of the resistance film 22 on the upper surface of the transparent substrate 21, for example, as shown in FIGS. 2, 3A and B and FIGS. 4A and B, strip-like wiring layers 23a and 23b (second wiring layers) Is provided. The wiring layer 23 a is connected to and electrically connected to one end of the resistance film 22. As shown in FIG. 2, the wiring layer 23a has a shape close to an L shape. The wiring layer 23 b is connected to and electrically connected to the other end of the resistance film 22. As shown in FIG. 2, the wiring layer 23 b has a shape close to a shape in which the L shape is reversed. On the resistance film 22, dot spacers 24 made of a conventionally known insulator having a predetermined height that does not reach the resistance film 12 of the upper substrate 10 are arranged at a predetermined pitch, for example, in a two-dimensional array (FIG. 5). reference).

透明基板21は、例えば、軟質の可撓性透明樹脂、アクリル板などの硬質透明樹脂、硬質の透明ガラスなどによって構成されている。抵抗膜22は例えばITOなどからなる。配線層23a、23bは例えばAgなどからなる。   The transparent substrate 21 is made of, for example, a soft flexible transparent resin, a hard transparent resin such as an acrylic plate, a hard transparent glass, or the like. The resistance film 22 is made of, for example, ITO. The wiring layers 23a and 23b are made of, for example, Ag.

第1の接着層40は、抵抗膜12と抵抗膜22との対向領域内に開口40aを有する長方形の環形状を有し、抵抗膜12、22の外縁に沿って形成されている。第1の接着層40は、少なくとも配線層13a、13b、23a、23bとの対向領域に形成されている。このため、第1の接着層40は、配線層13a、13bと配線層23a、23bとを互いに絶縁分離しつつ上側基板10と下側基板20とを互いに接着している。この第1の接着層40は、FPC30との対応領域に切り欠き40bを有し、厚さ方向から見てFPC30と重なり合わないようになっている。第1の接着層40は、例えば、両面テープなどによって構成されている。   The first adhesive layer 40 has a rectangular ring shape having an opening 40 a in a region where the resistance film 12 and the resistance film 22 face each other, and is formed along the outer edges of the resistance films 12 and 22. The first adhesive layer 40 is formed at least in a region facing the wiring layers 13a, 13b, 23a, and 23b. Therefore, the first adhesive layer 40 adheres the upper substrate 10 and the lower substrate 20 to each other while insulating and separating the wiring layers 13a and 13b and the wiring layers 23a and 23b from each other. The first adhesive layer 40 has a notch 40b in a region corresponding to the FPC 30, and does not overlap the FPC 30 when viewed from the thickness direction. The first adhesive layer 40 is made of, for example, a double-sided tape.

FPC30は、図6に示すように、一方向に延在する帯状のベースフィルム31を有している。このベースフィルム31は、図2に示すように、このベースフィルム31の延在方向において互いに対向する一対の端部30a、30bを有する。端部30aは、例えば、ベースフィルム31の中央部分の幅よりも広い幅を有し、透明基板11と透明基板21との間に挟まれている。他方、端部30bは、例えば、端部30aと同様、ベースフィルム31の中央部分の幅よりも広い幅を有し、タッチパネル1からの出力信号を処理する処理装置(図示せず)に接続可能となっている。ベースフィルム31は、例えば、ポリイミドなどからなる。   As shown in FIG. 6, the FPC 30 has a strip-like base film 31 extending in one direction. As shown in FIG. 2, the base film 31 has a pair of end portions 30 a and 30 b that face each other in the extending direction of the base film 31. For example, the end 30 a has a width wider than the width of the central portion of the base film 31, and is sandwiched between the transparent substrate 11 and the transparent substrate 21. On the other hand, the end 30b has a width wider than the width of the central portion of the base film 31, for example, as with the end 30a, and can be connected to a processing device (not shown) that processes an output signal from the touch panel 1. It has become. The base film 31 is made of, for example, polyimide.

ベースフィルム31の上側基板10側の表面には、例えば、銅箔などからなる配線層32が四つ設けられている。これらの配線層32は、ベースフィルム31の上側基板10側の表面に接して形成されており、互いに同一面内に形成されている。また、これらの配線層32のうちの端部30a側の端部がパッド形状を有する。従って、FPC30には、導体パターンを両面に形成した両面構造のフレキシブル基板が用いられている。   Four wiring layers 32 made of, for example, copper foil are provided on the surface of the base film 31 on the upper substrate 10 side. These wiring layers 32 are formed in contact with the surface of the base film 31 on the upper substrate 10 side, and are formed in the same plane. Of these wiring layers 32, the end portion on the end portion 30a side has a pad shape. Therefore, a flexible substrate having a double-sided structure in which conductor patterns are formed on both sides is used for the FPC 30.

ベースフィルム31の下側基板20側の表面には、例えば、銅箔などからなる配線層33が四つ設けられている。これらの配線層33は、ベースフィルム31の下側基板20側の表面に接して形成されており、互いに同一面内に形成されている。また、これらの配線層33は、端部30aから端部30bにかけて線状に形成されている。さらに、これらの配線層33のうちの端部30a側の端部がパッド形状を有し、これらの配線層33のうちの端部30a側の端部以外の部分が、これらの配線層33のうちの端部30a側の端部の幅と比べて若干、狭い幅で形成されている。   Four wiring layers 33 made of, for example, copper foil are provided on the surface of the base film 31 on the lower substrate 20 side. These wiring layers 33 are formed in contact with the surface on the lower substrate 20 side of the base film 31 and are formed in the same plane. These wiring layers 33 are formed in a line shape from the end 30a to the end 30b. Further, the end portion on the end portion 30 a side of these wiring layers 33 has a pad shape, and a portion other than the end portion on the end portion 30 a side of these wiring layers 33 is formed on the wiring layer 33. The width is slightly narrower than the width of the end on the end 30a side.

さらに、FPC30には、例えば、ベースフィルム31の端部30aおよび配線層32、33を貫通するスルーホール35が二つ形成されている。四つの配線層33のうちの配線層23a、23bとの対向領域に設けられた二つの配線層(以下「スルーホール非接触の配線層33」と言う。)は、スルーホール35を避けるようにして端部30aから端部30bにかけて延在している。また、四つの配線層33のうちの配線層13a、13bとの対向領域に設けられた二つの配線層(以下「スルーホール接触の配線層33」と言う。)は、スルーホール35に接して端部30aから端部30bにかけて延在している。なお、スルーホール非接触の配線層33の厚さは、例えば、スルーホール接触の配線層33の厚さとほぼ同一となっている。   Further, the FPC 30 is formed with, for example, two through holes 35 penetrating the end 30a of the base film 31 and the wiring layers 32 and 33. Of the four wiring layers 33, two wiring layers (hereinafter referred to as “through-hole non-contact wiring layers 33”) provided in the regions facing the wiring layers 23 a and 23 b avoid the through-holes 35. Extending from the end 30a to the end 30b. In addition, two wiring layers (hereinafter referred to as “wiring layer 33 in contact with a through hole”) provided in a region facing the wiring layers 13 a and 13 b among the four wiring layers 33 are in contact with the through hole 35. It extends from the end 30a to the end 30b. Note that the thickness of the through-hole non-contact wiring layer 33 is, for example, substantially the same as the thickness of the through-hole contact wiring layer 33.

一方、四つの配線層32のうちの配線層23a、23bとの対向領域に設けられた二つの配線層(以下「スルーホール非接触の配線層32」と言う。)は、スルーホール35を避けるようにして端部30aに形成されている。また、四つの配線層32のうちの配線層13a、13bとの対向領域に設けられた二つの配線層(以下「スルーホール接触の配線層32」と言う。)は、スルーホール35に接して形成されている。なお、スルーホール非接触の配線層32の厚さは、例えば、スルーホール接触の配線層32の厚さとほぼ同一となっている。   On the other hand, two wiring layers (hereinafter referred to as “through-hole non-contact wiring layer 32”) provided in regions facing the wiring layers 23a and 23b among the four wiring layers 32 avoid the through-hole 35. In this way, it is formed at the end 30a. In addition, two wiring layers (hereinafter referred to as “wiring layer 32 in contact with a through hole”) provided in a region facing the wiring layers 13 a and 13 b of the four wiring layers 32 are in contact with the through hole 35. Is formed. The thickness of the wiring layer 32 that is not in contact with the through hole is, for example, substantially the same as the thickness of the wiring layer 32 that is in contact with the through hole.

また、スルーホール35内と、スルーホール接触の配線層32、33のうちスルーホール35近傍の表面上とに、例えば、めっき層34が形成されている。また、スルーホール非接触の配線層32、33のうち端部30aの表面上に、例えば、めっき層36が形成されている。めっき層36は、例えば、製造過程において、めっき層34を形成する際に同時に一括して形成されるものであり、めっき層36の厚さは、例えば、めっき層34のうち配線層32、33の表面上に形成されている部分の厚さとほぼ同一となっている。めっき層34、36の表面上には、めっき層37が形成されている。   Further, for example, a plating layer 34 is formed in the through hole 35 and on the surface in the vicinity of the through hole 35 of the wiring layers 32 and 33 in contact with the through hole. Further, for example, a plating layer 36 is formed on the surface of the end portion 30a of the wiring layers 32 and 33 that are not in contact with the through hole. The plating layer 36 is formed at the same time when forming the plating layer 34 in the manufacturing process, for example, and the thickness of the plating layer 36 is, for example, the wiring layers 32 and 33 of the plating layer 34. The thickness is substantially the same as the thickness of the portion formed on the surface. A plating layer 37 is formed on the surfaces of the plating layers 34 and 36.

透明基板11のめっき層37側の表面には異方性導電膜38が形成されており、異方性導電膜38が配線層13a、13bの端部に接している。一方、透明基板21のめっき層37側の表面には異方性導電膜39が形成されており、異方性導電膜39が配線層23a、23bおよびスペーサ層24の端部に接している。   An anisotropic conductive film 38 is formed on the surface of the transparent substrate 11 on the plating layer 37 side, and the anisotropic conductive film 38 is in contact with the ends of the wiring layers 13a and 13b. On the other hand, an anisotropic conductive film 39 is formed on the surface of the transparent substrate 21 on the plating layer 37 side, and the anisotropic conductive film 39 is in contact with the ends of the wiring layers 23 a and 23 b and the spacer layer 24.

ここで、異方性導電膜38、39は、例えば、シート状の異方性導電膜(ACF:Anisotropic conductive film )などにより構成されており、厚さ方向に導電性を有し、かつ厚さと直交する方向に絶縁性を有している。そのため、図6に示すように、異方性導電膜38が配線層13a、13bに物理的に接していても、異方性導電膜38の面内方向には導通しない。異方性導電膜39についても同様で、異方性導電膜39が配線層23a、23bに物理的に接していても、異方性導電膜39の面内方向には導通しない。その結果、配線層13aは異方性導電膜38を介して配線層13aと対向するめっき層37とだけ電気的に接続され、配線層13bは異方性導電膜38を介して配線層13bと対向するめっき層37とだけ電気的に接続される。また、配線層23aは異方性導電膜39を介して配線層23aと対向するめっき層37とだけ電気的に接続され、配線層23bは異方性導電膜39を介して配線層23bと対向するめっき層37とだけ電気的に接続される。   Here, the anisotropic conductive films 38 and 39 are made of, for example, a sheet-like anisotropic conductive film (ACF), have conductivity in the thickness direction, It has insulation in the orthogonal direction. Therefore, as shown in FIG. 6, even if the anisotropic conductive film 38 is physically in contact with the wiring layers 13a and 13b, it does not conduct in the in-plane direction of the anisotropic conductive film 38. The same applies to the anisotropic conductive film 39. Even if the anisotropic conductive film 39 is physically in contact with the wiring layers 23a and 23b, the anisotropic conductive film 39 does not conduct in the in-plane direction. As a result, the wiring layer 13a is electrically connected only to the plating layer 37 facing the wiring layer 13a via the anisotropic conductive film 38, and the wiring layer 13b is connected to the wiring layer 13b via the anisotropic conductive film 38. Only the opposing plating layer 37 is electrically connected. Further, the wiring layer 23 a is electrically connected only to the plating layer 37 facing the wiring layer 23 a through the anisotropic conductive film 39, and the wiring layer 23 b is opposed to the wiring layer 23 b through the anisotropic conductive film 39. It is electrically connected only to the plating layer 37 to be performed.

従って、このタッチパネル1では、透明基板11側の抵抗膜12に連結された二つの配線層13a、13bがベースフィルム31および配線層32、33に設けられたスルーホール35を介して、スルーホール接触の二つの配線層33に電気的に接続されている。また、透明基板21側の抵抗膜22に連結された2つの配線層23a、23bがスルーホール35を介さず、異方性導電膜38およびめっき層35、36を介して、スルーホール非接触の二つの配線層33に電気的に接続されている。   Therefore, in this touch panel 1, the two wiring layers 13 a and 13 b connected to the resistance film 12 on the transparent substrate 11 side are in contact with each other through the base film 31 and the through holes 35 provided in the wiring layers 32 and 33. The two wiring layers 33 are electrically connected. Further, the two wiring layers 23a and 23b connected to the resistance film 22 on the transparent substrate 21 side do not pass through the through-hole 35 but pass through the anisotropic conductive film 38 and the plating layers 35 and 36 so as not to contact the through-hole. The two wiring layers 33 are electrically connected.

なお、図示は省略するが、異方性導電膜38、39の代わりに、等方性の導電膜を用いてもよい。ただし、その場合には、導電膜の面内方向に導通してしまうので、導電膜を配線層ごとに別体で設けることが必要となる。   Although not shown, an isotropic conductive film may be used instead of the anisotropic conductive films 38 and 39. However, in that case, since conduction occurs in the in-plane direction of the conductive film, it is necessary to provide the conductive film separately for each wiring layer.

また、図2および図5では、配線層13a、13b、23a、23bのうちの異方性導電膜38、39に接する部分が、図2および図5のX軸方向において、配線層23a、配線層13a、配線層23b、配線層13bの順に並んでいるが、これに限定されない。すなわち、配線層23a、配線層13a、配線層23b、配線層13bの順とは異なる順に並んでいてもよい。例えば、配線層13a、13b、23a、23bのうちの異方性導電膜37、38に接する部分が、X軸方向において、配線層23a、配線層23b、配線層13a、配線層13bの順に並んでいてもよい。   2 and 5, the portions of the wiring layers 13a, 13b, 23a, and 23b that are in contact with the anisotropic conductive films 38 and 39 are the wiring layer 23a and the wiring in the X-axis direction in FIGS. The layer 13a, the wiring layer 23b, and the wiring layer 13b are arranged in this order, but the present invention is not limited to this. That is, the wiring layer 23a, the wiring layer 13a, the wiring layer 23b, and the wiring layer 13b may be arranged in a different order. For example, portions of the wiring layers 13a, 13b, 23a, and 23b that are in contact with the anisotropic conductive films 37 and 38 are arranged in the order of the wiring layer 23a, the wiring layer 23b, the wiring layer 13a, and the wiring layer 13b in the X-axis direction. You may go out.

ここで、第2の接着層14および透明板15について説明する。
タッチパネル1において、透明板15の上面である接触面10aに利用者の指やペンなどが接触すると、この接触部の近傍の部分の透明板15、第2の接着層14および抵抗膜12を有する透明基板11の全体がたわむ。このとき、十分に小さい作動力で透明基板11の抵抗膜12を透明基板21の抵抗膜22に接触させてタッチパネル1を作動させる必要がある。一方、透明基板11上の配線層13a、13b、透明基板21上の配線層23a、23bなどにより接触面10aに凹凸が生じるのを防止するためには、透明板15が十分に高い剛性を有するようにする必要がある。
Here, the second adhesive layer 14 and the transparent plate 15 will be described.
In the touch panel 1, when a user's finger or pen touches the contact surface 10 a which is the upper surface of the transparent plate 15, the touch panel 1 includes the transparent plate 15, the second adhesive layer 14, and the resistance film 12 in the vicinity of the contact portion. The entire transparent substrate 11 bends. At this time, it is necessary to operate the touch panel 1 by bringing the resistance film 12 of the transparent substrate 11 into contact with the resistance film 22 of the transparent substrate 21 with a sufficiently small operating force. On the other hand, in order to prevent the contact surface 10a from being uneven due to the wiring layers 13a and 13b on the transparent substrate 11 and the wiring layers 23a and 23b on the transparent substrate 21, the transparent plate 15 has sufficiently high rigidity. It is necessary to do so.

このような観点から、透明板15および第2の接着層14の材質や厚さなどについて検討を行った結果について説明する。
ここでは、透明基板11および抵抗膜12として、シクロオレフィンポリマーからなるゼオノアフィルム(登録商標)上に厚さが20nm程度のITO膜が形成された総厚100μmのITOフィルム(ITO膜付き樹脂フィルム)を用いる場合を考える。第2の接着層14としては、アクリル系粘着剤(ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社製、商品名:CC8702、貯蔵剛性率G':90000Pa、損失剛性率G":38000Pa、ヤング率:約0.6MPa程度)からなるものを用いた。この第2の接着層14の厚さを25μm、75μm、100μm、125μmに変えた。透明板15としては、厚さが500μm(0.5mm)のPMMA(ポリメチルメタクリレート)板を用いた。ドットスペーサ24のピッチは2.5mm、高さは13μmである。
From this point of view, the results of studying the material and thickness of the transparent plate 15 and the second adhesive layer 14 will be described.
Here, as the transparent substrate 11 and the resistance film 12, an ITO film (resin film with an ITO film) having a total thickness of 100 μm in which an ITO film having a thickness of about 20 nm is formed on a ZEONOR film (registered trademark) made of a cycloolefin polymer. Consider the case of using. As the second adhesive layer 14, an acrylic pressure-sensitive adhesive (manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd., trade name: CC8702, storage rigidity G ′: 90000 Pa, loss rigidity G ″: 38000 Pa, Young's modulus: about 0.8. The thickness of the second adhesive layer 14 was changed to 25 μm, 75 μm, 100 μm, and 125 μm, and the transparent plate 15 was a PMMA (thickness: 500 μm (0.5 mm)). (Polymethylmethacrylate) plate. The dot spacers 24 have a pitch of 2.5 mm and a height of 13 μm.

この場合のタッチパネル1の作動力特性(指入力特性)を次のようにして測定した。図7に示すように、タッチパネル1の下側基板20側を十分な剛性を有するガラス基板(図示せず)上に接着し、このタッチパネル1のFPC30をパーソナルコンピュータ51と接続されたTP(タッチパネル)評価キット52に接続する。そして、タッチパネル1の接触面10a上で評価者が指で絵を描くモードで実際に描画を行う。第2の接着層14の厚さを25μm、75μm、100μm、125μmに変えて描画を行い、そのときの作動力を測定した。その結果、作動力は、第2の接着層14の厚さ25μm、75μm、100μm、125μmに対して、それぞれ0.75N、0.54N、0.44N、0.32Nであった。この結果を図8に示す。これらのデータに基づいて回帰直線を求めた。第2の接着層14の厚さをx(μm)、作動力をy(N)とし、y=ax+bとおき、最小二乗法によりa、bを求めた。その結果、a=−0.00426、b=0.858が求められた。こうして回帰直線y=−0.00426x+0.858が得られた。   The operating force characteristics (finger input characteristics) of the touch panel 1 in this case were measured as follows. As shown in FIG. 7, the lower substrate 20 side of the touch panel 1 is bonded to a sufficiently rigid glass substrate (not shown), and the FPC 30 of the touch panel 1 is connected to a personal computer 51 (TP) (touch panel). Connect to evaluation kit 52. Then, the evaluator actually draws on the contact surface 10a of the touch panel 1 in a mode in which a picture is drawn with a finger. Drawing was performed by changing the thickness of the second adhesive layer 14 to 25 μm, 75 μm, 100 μm, and 125 μm, and the operating force at that time was measured. As a result, the operating force was 0.75 N, 0.54 N, 0.44 N, and 0.32 N for the thicknesses of the second adhesive layer 14 of 25 μm, 75 μm, 100 μm, and 125 μm, respectively. The result is shown in FIG. A regression line was determined based on these data. The thickness of the second adhesive layer 14 was x (μm), the actuation force was y (N), and y = ax + b, and a and b were obtained by the least square method. As a result, a = −0.00426 and b = 0.858 were obtained. Thus, a regression line y = −0.00426x + 0.858 was obtained.

第2の接着層14の厚さが25μmの場合には作動力が0.75Nと高く、接触面10aに強い力を掛けて操作しないと作動させることができず、また、操作中に場所によって作動しない飛びの現象が発生した。これに対し、第2の接着層14の厚さが75〜125μmでは、作動力は0.54〜0.32Nとなり、スムーズに入力することができ、飛びの現象も発生しなかった。また、第2の接着層14の厚さが50〜75μmでも、作動力は0.63〜0.54Nであり、同様にスムーズに入力することができ、飛びの現象は発生しない。   When the thickness of the second adhesive layer 14 is 25 μm, the operating force is as high as 0.75 N, and it cannot be operated unless it is operated by applying a strong force to the contact surface 10a. There was a flying phenomenon that did not work. On the other hand, when the thickness of the second adhesive layer 14 is 75 to 125 μm, the operating force is 0.54 to 0.32 N, and the input can be smoothly performed, and the flying phenomenon does not occur. Further, even when the thickness of the second adhesive layer 14 is 50 to 75 μm, the operating force is 0.63 to 0.54 N, and similarly, the input can be smoothly performed, and the flying phenomenon does not occur.

以上の結果より、透明基板11上に第2の接着層14を介して透明板15を設置するこのタッチパネル1では、第2の接着層14の厚さを大きくすると、作動力は低下することが分かる。そして、このタッチパネル1では、指によりスムーズに入力を行うことができる。加えて、透明板15として厚さが500μmの十分な剛性を有し固いPMMA板を用いているため、接触面10aに、透明基板11の配線層13a、13b、透明基板21の配線層23a、23bなどにより凹凸が生じるのを防止することができる。   From the above results, in the touch panel 1 in which the transparent plate 15 is installed on the transparent substrate 11 with the second adhesive layer 14 interposed therebetween, the operating force may be reduced when the thickness of the second adhesive layer 14 is increased. I understand. And with this touch panel 1, it is possible to input smoothly with a finger. In addition, since the PMMA plate having a sufficient rigidity and thickness of 500 μm is used as the transparent plate 15, the wiring layers 13a and 13b of the transparent substrate 11 and the wiring layer 23a of the transparent substrate 21 are formed on the contact surface 10a. It is possible to prevent unevenness due to 23b or the like.

以上の実験結果から、より一般的に、透明板15、第2の接着層14および抵抗膜12を有する透明基板11に必要な条件を求めることができる。
透明板15、第2の接着層14、透明基板11および抵抗膜12の全体を合成ばり(二種類以上の材料で合成されたはり)と考える。この合成ばりの互いに接する層間は互いに完全に結合しているとする。ところで、曲げの単純理論によると、M/I=σ/y=E/Rが成立する。ここで、Mははりに作用する曲げモーメント、Iは中立軸(はりの横断面の図心を通り、はりの面に平行な直線)に関する断面二次モーメント、σははりの横断面に生じる応力、yははりの横断面における中立軸からの垂直距離、Eははりのヤング率、Rははりの曲率半径である。この曲げ公式は合成ばりに対してもそのまま適用することができる。
From the above experimental results, the conditions necessary for the transparent substrate 11 having the transparent plate 15, the second adhesive layer 14, and the resistance film 12 can be obtained more generally.
The whole of the transparent plate 15, the second adhesive layer 14, the transparent substrate 11, and the resistance film 12 is considered as a synthetic beam (a beam composed of two or more kinds of materials). It is assumed that the layers of the composite beam that are in contact with each other are completely bonded to each other. By the way, according to the simple theory of bending, M / I = σ / y = E / R holds. Where M is the bending moment acting on the beam, I is the secondary moment of inertia about the neutral axis (straight line passing through the centroid of the beam and parallel to the plane of the beam), and σ is the stress generated on the beam's cross section. , Y is the vertical distance from the neutral axis in the cross section of the beam, E is the Young's modulus of the beam, and R is the radius of curvature of the beam. This bending formula can be applied to the composite beam as it is.

いま、各層の構成材料や厚さなどが互いに異なる二つの合成ばりを考える。この二つの合成ばりの中立軸に関する断面二次モーメントが互いに同一である場合には、この二つの合成ばりの曲げに対する挙動は同じであると考えることができる。   Now consider two composite beams with different constituent materials and thicknesses for each layer. If the second moments of section about the neutral axes of the two composite beams are the same, the behavior of the two composite beams with respect to bending can be considered to be the same.

そこで、上述の実験に用いたタッチパネル1における透明板15、第2の接着層14、透明基板11および抵抗膜12の全体を合成ばり(合成ばりA)と考える。この場合、透明基板11および抵抗膜12として、ゼオノアフィルム(登録商標)上に厚さが20nm程度のITO膜が形成された総厚100μmのITOフィルム(ITO膜付き樹脂フィルム)を用いた。第2の接着層14としては、アクリル系粘着剤(ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社製、商品名:CC8702、貯蔵剛性率G':90000Pa、損失剛性率G":38000Pa、ヤング率:約0.6MPa程度)からなるものを用いた。透明板15としては厚さが500μmのPMMA板を用いた。この場合、既に述べたことに加えて後述の図12の結果を合わせて考えると、第2の接着層14の厚さが50〜300μmであれば、0.63N以下と十分に低い作動力を得ることができる。第2の接着層14は必要以上に厚くする必要がないので、例えば100μm以下とすることができる。一方、上述の材料限定や厚さなどの限定のない透明板15、第2の接着層14、透明基板11および抵抗膜12の全体を合成ばりBと呼ぶことにする。この合成ばりBが合成ばりAと同様な曲げ特性を有するためには、この合成ばりBの中立軸に関する断面二次モーメントが、合成ばりAの中立軸に関する断面二次モーメントと同一であればよい。従って、合成ばりBの中立軸に関する断面二次モーメントが、合成ばりAにおける第2の接着層14の厚さが50μmのときの断面二次モーメント(M1 とする)と第2の接着層14の厚さが300μmのときの断面二次モーメント(M2 とする)との間にあれば、0.63N以下の低い作動力を得ることができる。透明板15の厚さは一般的には100μm以上に選ばれる。   Therefore, the whole of the transparent plate 15, the second adhesive layer 14, the transparent substrate 11, and the resistance film 12 in the touch panel 1 used in the above-described experiment is considered as a synthetic beam (synthetic beam A). In this case, as the transparent substrate 11 and the resistance film 12, an ITO film (resin film with an ITO film) having a total thickness of 100 μm in which an ITO film having a thickness of about 20 nm was formed on a ZEONOR film (registered trademark) was used. As the second adhesive layer 14, an acrylic pressure-sensitive adhesive (manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd., trade name: CC8702, storage rigidity G ′: 90000 Pa, loss rigidity G ″: 38000 Pa, Young's modulus: about 0.8. A PMMA plate having a thickness of 500 μm was used as the transparent plate 15. In this case, in addition to what has already been described, the results of FIG. If the thickness of the adhesive layer 14 is 50 to 300 μm, it is possible to obtain a sufficiently low operating force of 0.63 N or less, since the second adhesive layer 14 does not need to be thicker than necessary, for example, 100 μm. On the other hand, if the transparent plate 15, the second adhesive layer 14, the transparent substrate 11, and the resistance film 12, which are not limited to the above-described material limitations and thicknesses, are synthesized, This composite beam B has the same bending characteristics as the composite beam A, so that the secondary moment of inertia with respect to the neutral axis of the composite beam B is equal to the secondary cross section of the composite beam A with respect to the neutral axis. Therefore, it is sufficient that the second moment of section with respect to the neutral axis of the composite beam B is the second moment of inertia (referred to as M1) when the thickness of the second adhesive layer 14 in the composite beam A is 50 μm. And a second moment of section (M2) when the thickness of the second adhesive layer 14 is 300 μm, a low operating force of 0.63 N or less can be obtained. The thickness is generally selected to be 100 μm or more.

合成ばりAにおける中立軸に関する断面二次モーメントは次のようにして求めることができる。合成ばりAの透明板15、第2の接着層14、透明基板11および抵抗膜12のヤング率をそれぞれE1 、E2 、E3 、E4 、厚さをt1 、t2 、t3 、t4 、横断面における中立軸に平行な方向の幅をWとする。いま、ヤング率E1 の透明板15を基準とすると、ヤング率E2 の第2の接着層14の幅は(E2 /E1 )×W、ヤング率E3 の透明基板11の幅は(E3 /E1 )×W、ヤング率E4 の抵抗膜12の幅は(E4 /E1 )×Wに等しいと考える。従って、断面二次モーメントの計算に際しての合成ばりAの横断面における各要素の実効的な断面積は次のようになる。すなわち、透明板15の面積はW×t1 、第2の接着層14の面積は(E2 /E1 )×W×t2 、透明基板11の面積は(E3 /E1 )×W×t3 、抵抗膜12の面積は(E4 /E1 )×W×t4 である。断面二次モーメントはこれらの面積を用いて容易に計算することができる。   The cross-sectional second moment about the neutral axis in the composite beam A can be obtained as follows. The Young's moduli of the transparent plate 15, the second adhesive layer 14, the transparent substrate 11 and the resistance film 12 of the composite beam A are E1, E2, E3, E4, the thicknesses are t1, t2, t3, t4, respectively, in the cross section. Let W be the width in the direction parallel to the vertical axis. Assuming that the transparent plate 15 having Young's modulus E1 is used as a reference, the width of the second adhesive layer 14 having Young's modulus E2 is (E2 / E1) × W, and the width of the transparent substrate 11 having Young's modulus E3 is (E3 / E1). It is assumed that the width of the resistance film 12 having × W and Young's modulus E4 is equal to (E4 / E1) × W. Therefore, the effective cross-sectional area of each element in the cross section of the composite beam A in calculating the cross-sectional secondary moment is as follows. That is, the area of the transparent plate 15 is W × t1, the area of the second adhesive layer 14 is (E2 / E1) × W × t2, the area of the transparent substrate 11 is (E3 / E1) × W × t3, and the resistance film 12 The area of (E4 / E1) × W × t4. The cross-sectional second moment can be easily calculated using these areas.

合成ばりBにおける中立軸に関する断面二次モーメントも同様にして求めることができる。合成ばりBの横断面における中立軸に平行な方向の幅は合成ばりAと同じWとする。合成ばりBの透明板15、第2の接着層14、透明基板11および抵抗膜12のヤング率をそれぞれE1´、E2´、E3´、E4´、厚さをt1´、t2´、t3´、t4´とする。この場合、合成ばりAのヤング率E1 の透明板15を基準とし、合成ばりBのヤング率E1´の透明板15の幅は(E1´/E1 )×W、ヤング率E2´の第2の接着層14の幅は(E2´/E1 )×W、ヤング率E3´の透明基板11の幅は(E3´/E1 )×W、ヤング率E4´の抵抗膜12の幅は(E4´/E1 )×Wに等しいと考える。従って、断面二次モーメントの計算に際しての合成ばりBの横断面における各要素の実効的な断面積は次のようになる。すなわち、透明板15の面積は(E1´/E1 )×W×t1´、第2の接着層14の面積は(E2´/E1 )×W×t2´、透明基板11の面積は(E3´/E1 )×W×t3´、抵抗膜12の面積は(E4´/E1 )×W×t4´である。   The cross-sectional secondary moment about the neutral axis in the composite beam B can be obtained in the same manner. The width in the direction parallel to the neutral axis in the cross section of the composite beam B is the same W as that of the composite beam A. The Young's modulus of the transparent plate 15, the second adhesive layer 14, the transparent substrate 11 and the resistance film 12 of the composite beam B is E1 ', E2', E3 ', E4', and the thicknesses are t1 ', t2', t3 '. , T4 ′. In this case, based on the transparent plate 15 having the Young's modulus E1 of the composite beam A, the width of the transparent plate 15 having the Young's modulus E1 'of the composite beam B is (E1' / E1) × W and the second of the Young's modulus E2 '. The width of the adhesive layer 14 is (E2 ′ / E1) × W, the width of the transparent substrate 11 with Young's modulus E3 ′ is (E3 ′ / E1) × W, and the width of the resistive film 12 with Young's modulus E4 ′ is (E4 ′ / E1) is considered to be equal to W. Therefore, the effective cross-sectional area of each element in the cross section of the composite beam B in calculating the cross-sectional secondary moment is as follows. That is, the area of the transparent plate 15 is (E1 ′ / E1) × W × t1 ′, the area of the second adhesive layer 14 is (E2 ′ / E1) × W × t2 ′, and the area of the transparent substrate 11 is (E3 ′ / E1) × W × t3 ′, and the area of the resistance film 12 is (E4 ′ / E1) × W × t4 ′.

合成ばりBの透明板15、第2の接着層14、透明基板11および抵抗膜12の厚さおよび材料は、基本的には、この合成ばりBの中立軸に関する断面二次モーメントがM1 とM2 との間にある限り、任意に選ぶことができる。このうち透明板15に関しては、この透明板15の上面が接触面10aとなるので、ヤング率が十分に大きく、硬度が高いものを用いることが望ましい。この場合、この透明板15としては、PET(ポリエチレンテレフタレート)板のヤング率以上のヤング率を有するものが用いられる。透明板15の材料としては各種のものを用いることができ、必要に応じて選ばれるが、具体例を挙げるとPMMA、PET、ポリスチレン、ポリカーボネート、シルプラス(登録商標)(新日鉄化学製の高耐熱透明材料)などである。これらの材料のうちのいくつかのもののヤング率を挙げると次の通りである。   The thickness and materials of the transparent plate 15, the second adhesive layer 14, the transparent substrate 11 and the resistance film 12 of the composite beam B are basically such that the secondary moments of the cross section about the neutral axis of the composite beam B are M1 and M2. As long as it is between, you can choose arbitrarily. Among these, regarding the transparent plate 15, since the upper surface of the transparent plate 15 becomes the contact surface 10a, it is desirable to use a material having a sufficiently large Young's modulus and high hardness. In this case, as the transparent plate 15, one having a Young's modulus equal to or higher than that of a PET (polyethylene terephthalate) plate is used. Various materials can be used as the material of the transparent plate 15 and are selected as necessary. Specific examples include PMMA, PET, polystyrene, polycarbonate, Sylplus (registered trademark) (high heat and transparency made by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.). Material). The Young's modulus of some of these materials is as follows:

材料 ヤング率(GPa)
PMMA 3.4
PET 2〜2.5または2.8〜3.1
ポリスチレン 3〜3.5
ポリカーボネート 2.6
Material Young's modulus (GPa)
PMMA 3.4
PET 2-2.5 or 2.8-3.1
Polystyrene 3-3.5
Polycarbonate 2.6

[タッチパネルの製造方法]
タッチパネル1の製造方法の一例について説明する。
まず、透明基板11の一方の面上に、例えばスパッタリング法などの従来公知の成膜法により例えばITOからなる抵抗膜12を成膜する。次に、透明基板11のうちの抵抗膜12の外縁上に、例えばAgからなる配線層13a、13bを、スクリーン印刷法などの従来公知の方法によりAgペーストを塗布することにより形成する。次に、透明基板11の抵抗膜12とは反対側の面の全面に第2の接着層14をスクリーン印刷法などの従来公知の方法により塗布する。次に、この第2の接着層14により透明板15を接着する。このようにして、上側基板10を形成する。
[Method for manufacturing touch panel]
An example of the manufacturing method of the touch panel 1 will be described.
First, the resistance film 12 made of, for example, ITO is formed on one surface of the transparent substrate 11 by a conventionally known film forming method such as a sputtering method. Next, on the outer edge of the resistance film 12 of the transparent substrate 11, wiring layers 13a and 13b made of Ag, for example, are formed by applying an Ag paste by a conventionally known method such as a screen printing method. Next, the second adhesive layer 14 is applied to the entire surface of the transparent substrate 11 opposite to the resistance film 12 by a conventionally known method such as a screen printing method. Next, the transparent plate 15 is adhered by the second adhesive layer 14. In this way, the upper substrate 10 is formed.

一方、抵抗膜11の形成方法と同様にして、透明基板21の一方の面上に抵抗膜22を成膜する。次に、透明基板21のうちの抵抗膜22の外縁上に、例えばAgからなる配線層23a、23bを、スクリーン印刷法などの従来公知の方法によりAgペーストを塗布することにより形成する。このようにして、下側基板20を形成する。   On the other hand, the resistance film 22 is formed on one surface of the transparent substrate 21 in the same manner as the method for forming the resistance film 11. Next, on the outer edge of the resistance film 22 of the transparent substrate 21, wiring layers 23a and 23b made of, for example, Ag are formed by applying an Ag paste by a conventionally known method such as a screen printing method. In this way, the lower substrate 20 is formed.

次に、下側基板20を抵抗膜22側が上を向くように載置台に配置し、長方形の環状の第1の接着層40を、下側基板20のうちの抵抗膜22の外縁上と、配線層23a、23bの表面上とに配置する。その後、上側基板10を抵抗膜12側が下を向くようにして、第1の接着層40を介して下側基板20上に配置し、上側基板10と下側基板20とを第1の接着層40により接着する。このとき、第1の接着層40の上面が配線層13a、13bの表面に接するように、上側基板10を下側基板20上に配置する。   Next, the lower substrate 20 is arranged on the mounting table so that the resistance film 22 side faces upward, and the rectangular first adhesive layer 40 is formed on the outer edge of the resistance film 22 of the lower substrate 20; It arrange | positions on the surface of the wiring layers 23a and 23b. Thereafter, the upper substrate 10 is disposed on the lower substrate 20 via the first adhesive layer 40 so that the resistance film 12 side faces downward, and the upper substrate 10 and the lower substrate 20 are connected to the first adhesive layer. Adhere by 40. At this time, the upper substrate 10 is disposed on the lower substrate 20 so that the upper surface of the first adhesive layer 40 is in contact with the surfaces of the wiring layers 13a and 13b.

次に、FPC30の端部30aを、第1の接着層40の切り欠き40bに挿入する。その後、圧着ヘッドによって端部30aを押圧し、配線層13a、13bおよびACF層(後に異方性導電膜38となる層)と、配線層23a、23bおよびACF層(後に異方性導電膜39となる層)とをそれぞれ圧着接続する。これにより、ACF層が異方性導電膜38、39となるので、配線層13aが異方性導電膜38を介して配線層13aと対向するめっき層37とだけ電気的に接続される。また、配線層13bが異方性導電膜38を介して配線層13bと対向するめっき層37とだけ電気的に接続される。また、配線層23aが異方性導電膜39を介して配線層23aと対向するめっき層37とだけ電気的に接続される。さらに、配線層23bが異方性導電膜39を介して配線層23bと対向するめっき層37とだけ電気的に接続される。
以上のようにしてタッチパネル1が製造される。
Next, the end 30 a of the FPC 30 is inserted into the notch 40 b of the first adhesive layer 40. Thereafter, the end 30a is pressed by the pressure bonding head, and the wiring layers 13a, 13b and the ACF layer (a layer to be the anisotropic conductive film 38 later), the wiring layers 23a, 23b and the ACF layer (the anisotropic conductive film 39 later). Are connected to each other by pressure bonding. Thus, since the ACF layer becomes the anisotropic conductive films 38 and 39, the wiring layer 13a is electrically connected only to the plating layer 37 facing the wiring layer 13a via the anisotropic conductive film 38. Further, the wiring layer 13b is electrically connected only to the plating layer 37 facing the wiring layer 13b through the anisotropic conductive film 38. Further, the wiring layer 23 a is electrically connected only to the plating layer 37 facing the wiring layer 23 a through the anisotropic conductive film 39. Furthermore, the wiring layer 23 b is electrically connected only to the plating layer 37 facing the wiring layer 23 b through the anisotropic conductive film 39.
The touch panel 1 is manufactured as described above.

この第1の実施の形態によれば、次のような利点を得ることができる。すなわち、透明基板11上に第2の接着層14を介して透明板15を設け、この透明板15の上面をタッチパネル1の接触面10aとしているので、タッチパネル1の作動力を0.63N以下と十分に小さくすることができる。このため、タッチパネル1の操作を、途中でいわゆる飛びが発生することなくスムーズに行うことができる。また、透明板15はPET板のヤング率以上のヤング率を有し、十分な剛性を有し固いため、接触面10aに、透明基板11の配線層13a、13b、透明基板21の配線層23a、23bなどにより凹凸が生じるのを防止することができる。このため、タッチパネル1の接触面10aの全体を表示装置の筐体の一部として用いた場合であっても、筐体表面のフラット感が損なわれるおそれがない。さらに、透明板15はPET板のヤング率以上のヤング率を有し、十分な剛性を有し固いため、接触面10aの鉛筆硬度の向上を図ることもできる。例えば、透明板15としてPMMA板を用いた場合には鉛筆硬度を6H以上にすることができ、透明板15としてPET板を用いた場合には鉛筆硬度を4H以上にすることができる。   According to the first embodiment, the following advantages can be obtained. That is, since the transparent plate 15 is provided on the transparent substrate 11 via the second adhesive layer 14, and the upper surface of the transparent plate 15 is used as the contact surface 10a of the touch panel 1, the operating force of the touch panel 1 is 0.63 N or less. It can be made sufficiently small. For this reason, operation of the touch panel 1 can be smoothly performed without what is called a jump in the middle. Further, since the transparent plate 15 has a Young's modulus equal to or higher than the Young's modulus of the PET plate and is sufficiently rigid and hard, the wiring layers 13a and 13b of the transparent substrate 11 and the wiring layer 23a of the transparent substrate 21 are formed on the contact surface 10a. , 23b or the like can prevent the unevenness from occurring. For this reason, even if it is a case where the whole contact surface 10a of the touch panel 1 is used as a part of the housing | casing of a display apparatus, there is no possibility that the flat feeling of the housing | casing surface may be impaired. Furthermore, since the transparent plate 15 has a Young's modulus equal to or higher than the Young's modulus of the PET plate, and has sufficient rigidity and is hard, the pencil hardness of the contact surface 10a can be improved. For example, when a PMMA plate is used as the transparent plate 15, the pencil hardness can be 6H or higher, and when a PET plate is used as the transparent plate 15, the pencil hardness can be 4H or higher.

<第2の実施の形態>
[タッチパネル]
図9に示すように、第2の実施の形態によるタッチパネル1においては、第1の実施の形態によるタッチパネル1における透明板15と第2の接着層14との間に偏光板53が設けられている。偏光板53としては、例えば、厚さ100μmの市販の偏光板(住友化学工業製SRW062AP7)を用いることができる。
この場合、透明板15、偏光板53、第2の接着層14、透明基板11および抵抗膜12からなる合成ばりを考え、この合成ばりの横断面における中立軸に関する断面二次モーメントがM1 とM2 との間にあるようにする。
偏光板53、透明基板11および抵抗膜12は、好適には、偏光制御を行ってタッチパネル1の接触面10aに入射する光の反射を防止することができるように構成する。
上記以外のことは第1の実施の形態と同様である。
この第2の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様な利点を得ることができる。
<Second Embodiment>
[Touch panel]
As shown in FIG. 9, in the touch panel 1 according to the second embodiment, a polarizing plate 53 is provided between the transparent plate 15 and the second adhesive layer 14 in the touch panel 1 according to the first embodiment. Yes. As the polarizing plate 53, for example, a commercially available polarizing plate (SRW062AP7 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm can be used.
In this case, a synthetic beam composed of the transparent plate 15, the polarizing plate 53, the second adhesive layer 14, the transparent substrate 11 and the resistance film 12 is considered, and the sectional moments about the neutral axis in the transverse section of the synthetic beam are M1 and M2. To be between.
The polarizing plate 53, the transparent substrate 11, and the resistance film 12 are preferably configured such that the polarization control can be performed to prevent reflection of light incident on the contact surface 10 a of the touch panel 1.
Other than the above are the same as in the first embodiment.
According to the second embodiment, advantages similar to those of the first embodiment can be obtained.

<第3の実施の形態>
[タッチパネル]
図10に示すように、第3の実施の形態によるタッチパネル1においては、第1の実施の形態によるタッチパネル1における第2の接着層14と透明基板11との間に偏光板53が設けられている。偏光板53としては、例えば、厚さ100μmの市販の偏光板(住友化学工業製SRW062AP7)を用いることができる。
この場合、透明板15、第2の接着層14、偏光板53、透明基板11および抵抗膜12からなる合成ばりを考え、この合成ばりの横断面における中立軸に関する断面二次モーメントがM1 とM2 との間にあるようにする。
偏光板53、透明基板11および抵抗膜12は、好適には、偏光制御を行ってタッチパネル1の接触面10aに入射する光の反射を防止することができるように構成する。
上記以外のことは第1の実施の形態と同様である。
この第3の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様な利点を得ることができる。
<Third Embodiment>
[Touch panel]
As shown in FIG. 10, in the touch panel 1 according to the third embodiment, a polarizing plate 53 is provided between the second adhesive layer 14 and the transparent substrate 11 in the touch panel 1 according to the first embodiment. Yes. As the polarizing plate 53, for example, a commercially available polarizing plate (SRW062AP7 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm can be used.
In this case, a synthetic beam composed of the transparent plate 15, the second adhesive layer 14, the polarizing plate 53, the transparent substrate 11 and the resistance film 12 is considered, and the sectional moments about the neutral axis in the transverse section of the synthetic beam are M1 and M2. To be between.
The polarizing plate 53, the transparent substrate 11, and the resistance film 12 are preferably configured such that the polarization control can be performed to prevent reflection of light incident on the contact surface 10 a of the touch panel 1.
Other than the above are the same as in the first embodiment.
According to the third embodiment, advantages similar to those of the first embodiment can be obtained.

<第4の実施の形態>
[タッチパネル]
図11に示すように、第4の実施の形態によるタッチパネル1においては、第1の実施の形態によるタッチパネル1における透明板15と第2の接着層14との間に偏光板53が設けられている。加えて、透明基板21と抵抗膜22との間に従来公知のアンチニュートンリング膜53が設けられている。このアンチニュートンリング膜53は、透明基板11の抵抗膜12と透明基板21の抵抗膜22との間に空気層が存在するため、タッチパネル1の接触面10aを指などで押したときにニュートンリングが発生するのを防止するためのものである。ここで、このアンチニュートンリング膜53は、透明基板11と抵抗膜12との間に設けてもよいし、透明基板21と抵抗膜22との間および透明基板11と抵抗膜12との間の両方に設けてもよい。
偏光板53、透明基板11および抵抗膜12は、好適には、偏光制御を行ってタッチパネル1の接触面10aに入射する光の反射を防止することができるように構成する。
<Fourth embodiment>
[Touch panel]
As shown in FIG. 11, in the touch panel 1 according to the fourth embodiment, a polarizing plate 53 is provided between the transparent plate 15 and the second adhesive layer 14 in the touch panel 1 according to the first embodiment. Yes. In addition, a conventionally known anti-Newton ring film 53 is provided between the transparent substrate 21 and the resistance film 22. The anti-Newton ring film 53 has an air layer between the resistance film 12 of the transparent substrate 11 and the resistance film 22 of the transparent substrate 21, so that when the contact surface 10 a of the touch panel 1 is pressed with a finger or the like, the Newton ring This is to prevent the occurrence of. Here, the anti-Newton ring film 53 may be provided between the transparent substrate 11 and the resistance film 12, or between the transparent substrate 21 and the resistance film 22 and between the transparent substrate 11 and the resistance film 12. You may provide in both.
The polarizing plate 53, the transparent substrate 11, and the resistance film 12 are preferably configured such that the polarization control can be performed to prevent reflection of light incident on the contact surface 10 a of the touch panel 1.

透明板15としてPMMA板またはPET板を用いる場合を考える。PMMA板としては厚さが200μm、300μm、500μmのものを用いた。PET板としては厚さが50μm、125μm、188μmのものを用いた。透明基板11および抵抗膜12として、ゼオノアフィルム(登録商標)上に厚さが20nm程度のITO膜が形成された総厚100μmのITOフィルム(1/4λ位相差フィルム)を用いた。なお、透明基板21および抵抗膜22としても同様なITOフィルムを用いた。第2の接着層14としては、アクリル系粘着剤(ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社製、商品名:CC8702、貯蔵剛性率G':90000Pa、損失剛性率G":38000Pa、ヤング率:約0.6MPa程度)からなるものを用いた。偏光板53としては、例えば、厚さ100μmの市販の偏光板(住友化学工業製SRW062AP7)を用いた。ドットスペーサ24のピッチおよび高さは、ピッチ2mm、高さ15μmとピッチ2.5mm、高さ8.5μmとの二種類とした。   Consider a case where a PMMA plate or a PET plate is used as the transparent plate 15. PMMA plates with thicknesses of 200 μm, 300 μm, and 500 μm were used. A PET plate having a thickness of 50 μm, 125 μm, and 188 μm was used. As the transparent substrate 11 and the resistance film 12, an ITO film (1 / 4λ retardation film) having a total thickness of 100 μm in which an ITO film having a thickness of about 20 nm was formed on a ZEONOR film (registered trademark) was used. The same ITO film was used as the transparent substrate 21 and the resistance film 22. As the second adhesive layer 14, an acrylic pressure-sensitive adhesive (manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd., trade name: CC8702, storage rigidity G ′: 90000 Pa, loss rigidity G ″: 38000 Pa, Young's modulus: about 0.8. For example, a commercially available polarizing plate having a thickness of 100 μm (SRW062AP7 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was used as the polarizing plate 53. The pitch and height of the dot spacers 24 were 2 mm, Two types, a height of 15 μm, a pitch of 2.5 mm, and a height of 8.5 μm, were used.

第1の実施の形態と同様な方法により、タッチパネル1の作動力特性を次のようにして測定した。ただし、タッチパネル1の作動はペンを用いて行った。ペンとしては、擬似指(プラスチック消しゴムを用いて作製した断面の大きさが1cm×1cmの正四角柱で先端が平坦なもの)または先端の曲率半径が0.8mmのPOM(ポリオキシメチレン)製のペンを用いた。   The operating force characteristic of the touch panel 1 was measured as follows by the same method as in the first embodiment. However, the operation of the touch panel 1 was performed using a pen. As a pen, a pseudo finger (a square prism with a cross section of 1 cm × 1 cm made of a plastic eraser and a flat tip) or a POM (polyoxymethylene) made of a tip with a radius of curvature of 0.8 mm is used. A pen was used.

作動力の測定結果を図12〜図15に示す。ここで、図12に示す作動力特性は、ドットスペーサ24のピッチが2mm、高さが15μmで、作動にPOMペンを用いた場合のデータである。図13に示す作動力特性は、ドットスペーサ24のピッチが2.5mm、高さが8.5μmで、作動にPOMペンを用いた場合のデータである。図14に示す作動力特性は、ドットスペーサ24のピッチが2.5mm、高さが8.5μmで、作動に擬似指を用いた場合のデータである。図15に示す作動力特性は、ドットスペーサ24のピッチが2mm、高さが15μmで、作動に擬似指を用いた場合のデータである。   The measurement results of the operating force are shown in FIGS. Here, the operating force characteristics shown in FIG. 12 are data when the dot spacers 24 have a pitch of 2 mm and a height of 15 μm, and a POM pen is used for the operation. The operating force characteristics shown in FIG. 13 are data when the pitch of the dot spacers 24 is 2.5 mm and the height is 8.5 μm, and a POM pen is used for the operation. The operating force characteristics shown in FIG. 14 are data when the pitch of the dot spacers 24 is 2.5 mm and the height is 8.5 μm and a pseudo finger is used for the operation. The operating force characteristics shown in FIG. 15 are data when the pitch of the dot spacers 24 is 2 mm and the height is 15 μm and a pseudo finger is used for the operation.

図12に示す結果より、第2の接着層14の厚さが50〜300μmの場合には、いずれの厚さのPMMA板またはPET板を用いた場合でも作動力が1.0N以下と低く、スムーズに入力することができた。また、操作中に、場所によって作動しない飛びの現象は発生しなかった。   From the results shown in FIG. 12, when the thickness of the second adhesive layer 14 is 50 to 300 μm, the operating force is as low as 1.0 N or less when using any thickness PMMA plate or PET plate, I was able to input smoothly. In addition, there was no flying phenomenon that did not work depending on the location during operation.

図13に示す結果より、第2の接着層14の厚さが50〜300μmの場合には、いずれの厚さのPMMA板またはPET板を用いた場合でも作動力が0.43N以下と低く、スムーズに入力することができた。また、操作中に、場所によって作動しない飛びの現象は発生しなかった。   From the results shown in FIG. 13, when the thickness of the second adhesive layer 14 is 50 to 300 μm, the working force is as low as 0.43 N or less even when any thickness PMMA plate or PET plate is used, I was able to input smoothly. In addition, there was no flying phenomenon that did not work depending on the location during operation.

図14に示す結果より、第2の接着層14の厚さが100〜300μmの場合には、厚さ300μmのPMMA板を用いた場合でも作動力が1.0N以下と低く、スムーズに入力することができた。また、操作中に、場所によって作動しない飛びの現象は発生しなかった。   From the results shown in FIG. 14, when the thickness of the second adhesive layer 14 is 100 to 300 μm, even when a PMMA plate having a thickness of 300 μm is used, the operating force is as low as 1.0 N or less and the input is smoothly performed. I was able to. In addition, there was no flying phenomenon that did not work depending on the location during operation.

図15に示す結果より、第2の接着層14の厚さが300μm程度の場合には、いずれの厚さのPMMA板およびPET板を用いた場合でも作動力が1.0N程度となり、スムーズに入力することができた。また、操作中に、場所によって作動しない飛びの現象は発生しなかった。   From the results shown in FIG. 15, when the thickness of the second adhesive layer 14 is about 300 μm, the operating force is about 1.0 N regardless of the thickness of the PMMA plate and the PET plate, and smoothly I was able to enter. In addition, there was no flying phenomenon that did not work depending on the location during operation.

図12に示す実験結果から、より一般的に、透明板15、偏光板53、第2の接着層14、抵抗膜12、アンチニュートンリング膜54および透明基板11に必要な条件を求めることができる。
透明板15、偏光板53、第2の接着層14、抵抗膜12、アンチニュートンリング膜54および透明基板11の全体を合成ばり(合成ばりC)と考える。一方、上述の材料限定や厚さなどの限定のない透明板15、偏光板53、第2の接着層14、抵抗膜12、アンチニュートンリング膜54の全体を合成ばりDと呼ぶことにする。この合成ばりDが合成ばりCと同様な曲げ特性を有するためには、合成ばりCの中立軸に関する断面二次モーメントと同一であればよい。合成ばりCの中立軸に関する断面二次モーメントが最も大きいのは、厚さが500μmのPMMA板を用い、第2の接着層14の厚さが50μmの場合であり、最も小さいのは、厚さが125μmのPET板を用い、第2の接着層14の厚さが300μmの場合である。従って、合成ばりDの中立軸に関する断面二次モーメントが、前者の最大値(M3 とする)と後者の最小値(M4 とする)との間にあれば、1.0N以下の低い作動力を得ることができる。透明板15としては、例えば、厚さが100μm以上で例えば500μm以下のPMMA板またはPET板を用いる。第2の接着層14としては、例えば、厚さが50μm以上で例えば300μm以下のアクリル系粘着剤からなるものを用いる。第1の透明基板11および抵抗膜12としては、例えば、厚さが25μm以上で例えば150μm以下のITOフィルム(ITO膜付き樹脂フィルム)を用いる。
From the experimental results shown in FIG. 12, the conditions necessary for the transparent plate 15, the polarizing plate 53, the second adhesive layer 14, the resistance film 12, the anti-Newton ring film 54 and the transparent substrate 11 can be obtained more generally. .
The whole of the transparent plate 15, the polarizing plate 53, the second adhesive layer 14, the resistance film 12, the anti-Newton ring film 54, and the transparent substrate 11 is considered as a synthetic beam (synthetic beam C). On the other hand, the transparent plate 15, the polarizing plate 53, the second adhesive layer 14, the resistance film 12, and the anti-Newton ring film 54, which are not limited to the above-described material limitations and thicknesses, are referred to as a composite beam D. In order for this composite beam D to have the same bending characteristics as the composite beam C, it is sufficient if it is the same as the cross-sectional secondary moment about the neutral axis of the composite beam C. The cross sectional moment about the neutral axis of the composite beam C is the largest when a PMMA plate having a thickness of 500 μm is used and the thickness of the second adhesive layer 14 is 50 μm, and the smallest is the thickness. Is a case where a 125 μm PET plate is used and the thickness of the second adhesive layer 14 is 300 μm. Therefore, if the cross-sectional secondary moment about the neutral axis of the composite beam D is between the former maximum value (M3) and the latter minimum value (M4), a low operating force of 1.0 N or less is obtained. Can be obtained. As the transparent plate 15, for example, a PMMA plate or a PET plate having a thickness of 100 μm or more and 500 μm or less is used. As the second adhesive layer 14, for example, a layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 50 μm or more and 300 μm or less is used. As the first transparent substrate 11 and the resistance film 12, for example, an ITO film (resin film with an ITO film) having a thickness of 25 μm or more and 150 μm or less is used.

ここで、合成ばりDの中立軸に関する断面二次モーメントがM3 とM4 との間にあるという上記の条件は、合成ばりBの断面二次モーメントがM1 とM2 との間にあるという第1の実施の形態で述べた条件に比べてより一般的なものである。また、中立軸に関する断面二次モーメントがM3 とM4 との間にあるという上記の条件は、合成ばりBのほか、合成ばりB、Dと層構成が異なる他の合成ばりにも適用することができる一般的なものである。
上記以外のことは第1の実施の形態と同様である。
この第4の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様な利点を得ることができる。
Here, the above-mentioned condition that the cross-sectional secondary moment about the neutral axis of the composite beam D is between M3 and M4 is the first condition that the cross-sectional secondary moment of the composite beam B is between M1 and M2. This is more general than the conditions described in the embodiment. The above-mentioned condition that the cross-sectional second moment with respect to the neutral axis is between M3 and M4 can be applied not only to the composite beam B but also to other composite beams having a layer configuration different from that of the composite beams B and D. It is a general thing that can be done.
Other than the above are the same as in the first embodiment.
According to the fourth embodiment, the same advantages as in the first embodiment can be obtained.

<第5の実施の形態>
[タッチパネル]
図16に示すように、第5の実施の形態によるタッチパネル1においては、第1の実施の形態によるタッチパネル1における第2の接着層14と透明基板11との間に偏光板53が設けられている。また、第2の接着層14中に透明な芯材フィルム55が挿入されている。芯材フィルム55としては、例えば、1/4λ位相差フィルムまたは光等方性フィルムを用いることができる。1/4λ位相差フィルムとしては、例えば、厚さ60μmの市販の1/4λ位相差フィルム(住友化学工業製SEF460138)を用いることができる。
この場合、透明板15、偏光板53、第2の接着層14、芯材フィルム55、第2の接着層14、透明基板11および抵抗膜12からなる合成ばりを考え、この合成ばりの横断面における中立軸に関する断面二次モーメントがM3 とM4 との間にあるようにする。
偏光板53、芯材フィルム55、透明基板11および抵抗膜12は、好適には、偏光制御を行ってタッチパネル1の接触面10aに入射する光の反射を防止することができるように構成する。
上記以外のことは第1の実施の形態と同様である。
この第5の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様な利点を得ることができる。
<Fifth embodiment>
[Touch panel]
As shown in FIG. 16, in the touch panel 1 according to the fifth embodiment, a polarizing plate 53 is provided between the second adhesive layer 14 and the transparent substrate 11 in the touch panel 1 according to the first embodiment. Yes. A transparent core film 55 is inserted in the second adhesive layer 14. As the core material film 55, for example, a ¼λ phase difference film or a light isotropic film can be used. As the 1 / 4λ retardation film, for example, a commercially available 1 / 4λ retardation film (SEF460138 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) having a thickness of 60 μm can be used.
In this case, a synthetic beam composed of the transparent plate 15, the polarizing plate 53, the second adhesive layer 14, the core material film 55, the second adhesive layer 14, the transparent substrate 11 and the resistance film 12 is considered, and the cross section of this synthetic beam So that the moment of inertia of the cross section about the neutral axis is between M3 and M4.
The polarizing plate 53, the core material film 55, the transparent substrate 11, and the resistance film 12 are preferably configured so as to be able to prevent reflection of light incident on the contact surface 10 a of the touch panel 1 by performing polarization control.
Other than the above are the same as in the first embodiment.
According to the fifth embodiment, the same advantages as those of the first embodiment can be obtained.

<第6の実施の形態>
[表示装置(電子機器)]
第6の実施の形態による表示装置は、第1〜第5の実施の形態によるタッチパネル1を画面入力表示装置に用いた表示装置であり、本発明に係る電子機器の一実施形態である。
図17に示すように、この表示装置2は、画像表示面3aを有する表示パネル3(液晶表示パネルや有機ELパネルなど)と、画像表示面3a上に配置されたタッチパネル1と、表示パネル3の背面に配置されたバックライト4と、これらの表示パネル3、タッチパネル1およびバックライト4を支持する筐体5とを備えている。
<Sixth Embodiment>
[Display device (electronic equipment)]
The display device according to the sixth embodiment is a display device using the touch panel 1 according to the first to fifth embodiments as a screen input display device, and is an embodiment of an electronic apparatus according to the invention.
As shown in FIG. 17, the display device 2 includes a display panel 3 (a liquid crystal display panel, an organic EL panel, or the like) having an image display surface 3a, a touch panel 1 disposed on the image display surface 3a, and the display panel 3. And a housing 5 that supports the display panel 3, the touch panel 1, and the backlight 4.

第6の実施の形態によれば、表示装置2の画面入力表示装置に第1〜第5の実施の形態によるタッチパネル1を用いているので、図17に示すように、タッチパネル1を筐体5の凹部5aに固定し、タッチパネル1の接触面10a全体を筐体5の一部として用いた場合であっても、接触面10aに凹凸がほとんどないので、筐体表面のフラット感が損なわれるおそれがない。   According to the sixth embodiment, since the touch panel 1 according to the first to fifth embodiments is used for the screen input display device of the display device 2, as shown in FIG. Even when the entire contact surface 10a of the touch panel 1 is used as a part of the housing 5, the contact surface 10a has almost no unevenness, and the flatness of the housing surface may be impaired. There is no.

<第7の実施の形態>
[タッチパネル]
図20(A)、(B)は、本発明の第7の実施の形態を示している。図20(A)に示すタッチパネル6は、第1の抵抗膜12を有する第1の透明基板11と、第2の抵抗膜22を有する第2の透明基板21とを有する。これら透明基板11、21は、各々の抵抗膜12、22が上下方向に相互に対向するように接着層40(第1の接着層)を介して接合されている。透明基板11の上面には偏光板53が接合され、その偏光板53の上面には接着層14A(第2の接着層)を介して透明板15A(第1の透明板)が積層されている。一方、透明基板21の下面には、接着層14B(第3の接着層)を介して透明板15B(第2の透明板)が接合されている。更に、この透明板15Bの下面には、透明基板21と同種の材料(例えば、シクロオレフィンポリマー)からなる透明フィルム60が積層されている。
<Seventh embodiment>
[Touch panel]
20A and 20B show a seventh embodiment of the present invention. A touch panel 6 shown in FIG. 20A includes a first transparent substrate 11 having a first resistance film 12 and a second transparent substrate 21 having a second resistance film 22. The transparent substrates 11 and 21 are bonded via an adhesive layer 40 (first adhesive layer) so that the resistance films 12 and 22 face each other in the vertical direction. A polarizing plate 53 is bonded to the upper surface of the transparent substrate 11, and a transparent plate 15A (first transparent plate) is laminated on the upper surface of the polarizing plate 53 via an adhesive layer 14A (second adhesive layer). . On the other hand, a transparent plate 15B (second transparent plate) is bonded to the lower surface of the transparent substrate 21 via an adhesive layer 14B (third adhesive layer). Further, a transparent film 60 made of the same material as the transparent substrate 21 (for example, cycloolefin polymer) is laminated on the lower surface of the transparent plate 15B.

本実施の形態のタッチパネル1は、図10に示した第3の実施の形態のタッチパネルをベースとして、更に第2の透明板としてのPMMA板15Bを透明基材21側に接着した構成に相当する。本実施形態のタッチパネル1によれば、これら2枚の透明板15A、15Bによって透明基板11、21を挟み込むことで、剛性の高い、耐衝撃性に優れたタッチパネルを提供することが可能となる。   The touch panel 1 of the present embodiment corresponds to a configuration in which a PMMA plate 15B as a second transparent plate is bonded to the transparent substrate 21 side based on the touch panel of the third embodiment shown in FIG. . According to the touch panel 1 of the present embodiment, it is possible to provide a touch panel with high rigidity and excellent impact resistance by sandwiching the transparent substrates 11 and 21 between the two transparent plates 15A and 15B.

本実施の形態のタッチパネル1は、透明基板11、21を接着層40で接着する第1の工程と、透明基板21と透明板15Bとを接着層15Bで接着する第2の工程と、透明基板11と透明板15Aとを接着層15Aで接着する第3の工程とを順に経ることで製造される。図20(B)は、上記第2の工程で製造されたタッチパネル6を示す。透明板15Bは、透明基板11、21の反りを防止し、透明基板11に対して透明板15Aが適正に接着されるように機能する。なお、このタッチパネル6を最終製品とすることも可能である。   The touch panel 1 of the present embodiment includes a first step of bonding the transparent substrates 11 and 21 with the adhesive layer 40, a second step of bonding the transparent substrate 21 and the transparent plate 15B with the adhesive layer 15B, and a transparent substrate. 11 and the transparent plate 15A are manufactured by sequentially passing through a third step of bonding the transparent plate 15A with the adhesive layer 15A. FIG. 20B shows the touch panel 6 manufactured in the second step. The transparent plate 15B functions to prevent the transparent substrates 11 and 21 from warping and to adhere the transparent plate 15A to the transparent substrate 11 appropriately. Note that the touch panel 6 may be a final product.

透明板15Bは、例えばPMMA(ポリメチルメタクリレート)板からなり、主として透明基板11、21に対して所定の剛性を付与するために設けられている。透明板15Bの厚みは、例えば、0.3mm〜3mmとすることができる。PMMAは、光学特性が等方的であり、耐衝撃性が比較的高いものの、耐熱性及び耐湿度性が比較的低い。このため、熱または湿度の影響で、透明板15Bが変形し、透明基板11、21に反りを生じさせるおそれがある。そこで、本実施形態では、透明板15Bに透明フィルム60を積層することで、透明板15Bの反りを防止するようにしている。これにより、透明基板21、22に反りを生じさせることなく、透明板15Aを適正に接着することが可能となる。   The transparent plate 15B is made of, for example, a PMMA (polymethylmethacrylate) plate, and is mainly provided to give a predetermined rigidity to the transparent substrates 11 and 21. The thickness of the transparent plate 15B can be set to, for example, 0.3 mm to 3 mm. PMMA has isotropic optical properties and relatively high impact resistance, but has relatively low heat resistance and humidity resistance. For this reason, the transparent plate 15B may be deformed by the influence of heat or humidity, and the transparent substrates 11 and 21 may be warped. Therefore, in the present embodiment, the transparent film 60 is laminated on the transparent plate 15B to prevent warping of the transparent plate 15B. Accordingly, the transparent plate 15A can be appropriately bonded without causing the transparent substrates 21 and 22 to be warped.

透明フィルム60の厚みは特に限定されず、例えば、透明基板21と同等の厚みで構成することができる。透明フィルム60は、透明基板21と同種の材料で構成する例に限られない。例えば、透明フィルム60は、偏光板53と同種の材料で構成した場合でも上述と同様な効果を得ることができる。   The thickness of the transparent film 60 is not specifically limited, For example, it can comprise by the thickness equivalent to the transparent substrate 21. The transparent film 60 is not limited to the example configured with the same kind of material as the transparent substrate 21. For example, even when the transparent film 60 is made of the same kind of material as that of the polarizing plate 53, the same effect as described above can be obtained.

以上、この発明の実施の形態について具体的に説明したが、この発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
例えば、上述の実施の形態において挙げた数値、構造、構成、形状、材料などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれらと異なる数値、構造、構成、形状、材料などを用いてもよい。
Although the embodiment of the present invention has been specifically described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications based on the technical idea of the present invention are possible.
For example, the numerical values, structures, configurations, shapes, materials, and the like given in the above-described embodiments are merely examples, and different numerical values, structures, configurations, shapes, materials, and the like may be used as necessary.

1…タッチパネル
2…表示装置
3…液晶表示パネル
3a…画像表示面
4…バックライト
5…筐体
10…上側基板
10a…接触面
11、21…透明基板
12、22…抵抗膜
13a、13b、23a、23b…配線層
14…第2の接着層
15、15A、15B…透明板
20…下側基板
30…フレキシブルプリント配線板
30a、30b…端部
31…ベースフィルム
32、33…配線層
34、36、37…めっき層
35…スルーホール
38、39…異方性導電膜
40…第1の接着層
40a…開口
53…偏光板
54…アンチニュートンリング膜
55…芯材フィルム
60…透明フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Touch panel 2 ... Display apparatus 3 ... Liquid crystal display panel 3a ... Image display surface 4 ... Backlight 5 ... Case 10 ... Upper side substrate 10a ... Contact surface 11, 21 ... Transparent substrate 12, 22 ... Resistive film 13a, 13b, 23a , 23b ... wiring layer 14 ... second adhesive layer 15, 15A, 15B ... transparent plate 20 ... lower substrate 30 ... flexible printed wiring board 30a, 30b ... end 31 ... base film 32, 33 ... wiring layer 34, 36 37 ... plating layer 35 ... through hole 38, 39 ... anisotropic conductive film 40 ... first adhesive layer 40a ... opening 53 ... polarizing plate 54 ... anti-Newton ring film 55 ... core material film 60 ... transparent film

Claims (13)

互いに離間して対向配置された第1の透明基板および第2の透明基板と、
前記第1の透明基板の前記第2の透明基板との対向面に設けられた第1の抵抗膜およびこの第1の抵抗膜と電気的に接続された第1の配線層と、
前記第2の透明基板の前記第1の透明基板との対向面に設けられた第2の抵抗膜およびこの第2の抵抗膜と電気的に接続された第2の配線層と、
前記第1の透明基板と前記第2の透明基板との間の間隙内でかつ前記第1の配線層と前記第2の配線層との対向領域を含む外周部の領域に設けられ、前記第1の透明基板と前記第2の透明基板とを接着する第1の接着層と、
前記第1の透明基板の前記第2の透明基板との対向面と反対側の面に設けられた第2の接着層と、
前記第1の透明基板の前記第2の透明基板との対向面と反対側の面に前記第2の接着層を介して接着された透明板とを具備し、
前記透明板、前記第2の接着層、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜の横断面の中立軸に関する断面二次モーメントが、第1の断面二次モーメントと第2の断面二次モーメントとの間にあり、
前記第1の断面二次モーメントは、前記透明板が厚さが500μmのポリメチルメタクリレート板からなり、前記第2の接着層が厚さが50μmのアクリル系粘着剤からなり、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときの前記透明板、前記第2の接着層、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜の前記断面二次モーメントであり、
前記第2の断面二次モーメントは、前記透明板が厚さが125μmのポリエチレンテレフタレート板からなり、前記第2の接着層が厚さが300μmのアクリル系粘着剤からなり、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときの前記透明板、前記第2の接着層、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜の前記断面二次モーメントである
タッチパネル。
A first transparent substrate and a second transparent substrate which are arranged opposite to each other and spaced apart from each other;
A first resistance film provided on a surface of the first transparent substrate facing the second transparent substrate, and a first wiring layer electrically connected to the first resistance film;
A second resistance film provided on a surface of the second transparent substrate facing the first transparent substrate, and a second wiring layer electrically connected to the second resistance film;
Provided in a region of an outer peripheral portion in a gap between the first transparent substrate and the second transparent substrate and including a facing region between the first wiring layer and the second wiring layer; A first adhesive layer that bonds the transparent substrate of 1 and the second transparent substrate;
A second adhesive layer provided on a surface of the first transparent substrate opposite to the surface facing the second transparent substrate;
A transparent plate bonded to the surface opposite to the surface facing the second transparent substrate of the first transparent substrate via the second adhesive layer;
The second moment of section with respect to the neutral axis of the transverse plane of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistive film is the second sectional moment and the second sectional moment. Next moment,
The first moment of inertia of the first cross section is that the transparent plate is made of a polymethyl methacrylate plate having a thickness of 500 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic adhesive having a thickness of 50 μm, and the first transparent The transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistive film when the substrate and the first resistive film are made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm. Next moment,
In the second moment of inertia of the second cross section, the transparent plate is made of a polyethylene terephthalate plate having a thickness of 125 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic adhesive having a thickness of 300 μm, and the first transparent substrate And the cross section secondary of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistance film when the first resistance film is made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm. Touch panel that is moment.
請求項1に記載のタッチパネルであって、
前記第2の接着層の厚さは、50μm以上300μm以下であるタッチパネル。
The touch panel according to claim 1,
The thickness of the said 2nd contact bonding layer is a touch panel which is 50 micrometers or more and 300 micrometers or less.
請求項2に記載のタッチパネルであって、
前記透明板の厚さは、100μm以上であるタッチパネル。
The touch panel according to claim 2,
The touch panel has a thickness of 100 μm or more.
請求項3に記載のタッチパネルであって、
前記透明板のヤング率は、ポリエチレンテレフタレート板のヤング率以上であるタッチパネル。
The touch panel according to claim 3,
The touch panel whose Young's modulus of the said transparent board is more than the Young's modulus of a polyethylene terephthalate board.
請求項4に記載のタッチパネルであって、
前記透明板は、ポリエチレンテレフタレート板またはポリメチルメタクリレート板からなるタッチパネル。
The touch panel according to claim 4,
The transparent plate is a touch panel made of a polyethylene terephthalate plate or a polymethyl methacrylate plate.
請求項5に記載のタッチパネルであって、
前記透明板と前記第2の接着層との間に設けられた偏光板をさらに具備するタッチパネル。
The touch panel according to claim 5,
A touch panel further comprising a polarizing plate provided between the transparent plate and the second adhesive layer.
請求項5に記載のタッチパネルであって、
前記第2の接着層と前記第1の透明基板との間に設けられた偏光板をさらに具備するタッチパネル。
The touch panel according to claim 5,
A touch panel further comprising a polarizing plate provided between the second adhesive layer and the first transparent substrate.
請求項6に記載のタッチパネルであって、
前記第1の透明基板と前記第1の抵抗膜との間および/または前記第2の透明基板と前記第2の抵抗膜との間に設けられたアンチニュートンリング膜をさらに具備するタッチパネル。
The touch panel according to claim 6,
A touch panel further comprising an anti-Newton ring film provided between the first transparent substrate and the first resistance film and / or between the second transparent substrate and the second resistance film.
請求項1に記載のタッチパネルであって、
前記透明板は、厚さが100μm以上のポリメチルメタクリレート板またはポリエチレンテレフタレート板からなり、
前記第2の接着層は、厚さが50μm以上のアクリル系粘着剤からなり、
前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜は、厚さが25μm以上の酸化インジウムスズフィルムからなるタッチパネル。
The touch panel according to claim 1,
The transparent plate is a polymethyl methacrylate plate or a polyethylene terephthalate plate having a thickness of 100 μm or more,
The second adhesive layer is made of an acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 50 μm or more,
The first transparent substrate and the first resistance film are touch panels made of an indium tin oxide film having a thickness of 25 μm or more.
請求項9に記載のタッチパネルであって、
前記透明板は、厚さが100μm以上500μm以下のポリメチルメタクリレート板またはポリエチレンテレフタレート板からなり、
前記第2の接着層は、厚さが50μm以上300μm以下のアクリル系粘着剤からなり、
前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜は、厚さが25μm以上150μm以下の酸化インジウムスズフィルムからなるタッチパネル。
The touch panel according to claim 9,
The transparent plate is a polymethyl methacrylate plate or a polyethylene terephthalate plate having a thickness of 100 μm or more and 500 μm or less,
The second adhesive layer is made of an acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 50 μm or more and 300 μm or less,
The first transparent substrate and the first resistance film are touch panels made of an indium tin oxide film having a thickness of 25 μm to 150 μm.
請求項1に記載のタッチパネルであって、
前記第2の透明基板の前記第1の透明基板との対向面と反対側の面に設けられた第3の接着層と、
前記第2の透明基板の前記第1の透明基板との対向面と反対側の面に前記第3の接着層を介して接着された第2の透明板と、
前記第2の透明板の前記第3の接着層との対向面と反対側の面に積層され、前記第2の透明基板と同種の材料からなるフィルムとをさらに具備するタッチパネル。
The touch panel according to claim 1,
A third adhesive layer provided on a surface of the second transparent substrate opposite to the surface facing the first transparent substrate;
A second transparent plate bonded to the surface opposite to the surface facing the first transparent substrate of the second transparent substrate via the third adhesive layer;
A touch panel further comprising a film made of the same material as that of the second transparent substrate, which is laminated on a surface opposite to the surface facing the third adhesive layer of the second transparent plate.
画像表示面を有する表示パネルと、
前記画像表示面上に配置されたタッチパネルとを具備し、
前記タッチパネルは、
互いに離間して対向配置された第1の透明基板および第2の透明基板と、
前記第1の透明基板の前記第2の透明基板との対向面に設けられた第1の抵抗膜およびこの第1の抵抗膜と電気的に接続された第1の配線層と、
前記第2の透明基板の前記第1の透明基板との対向面に設けられた第2の抵抗膜およびこの第2の抵抗膜と電気的に接続された第2の配線層と、
前記第1の透明基板と前記第2の透明基板との間の間隙内でかつ前記第1の配線層と前記第2の配線層との対向領域を含む外周部の領域に設けられ、前記第1の透明基板と前記第2の透明基板とを接着する第1の接着層と、
前記第1の透明基板の前記第2の透明基板との対向面と反対側の面に設けられた第2の接着層と、
前記第1の透明基板の前記第2の透明基板との対向面と反対側の面に前記第2の接着層を介して接着された透明板とを有し、
前記透明板、前記第2の接着層、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜の横断面の中立軸に関する断面二次モーメントが、第1の断面二次モーメントと第2の断面二次モーメントとの間にあり、
前記第1の断面二次モーメントは、前記透明板が厚さが500μmのポリメチルメタクリレート板からなり、前記第2の接着層が厚さが50μmのアクリル系粘着剤からなり、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときの前記透明板、前記第2の接着層、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜の前記断面二次モーメントであり、
前記第2の断面二次モーメントは、前記透明板が厚さが125μmのポリエチレンテレフタレート板からなり、前記第2の接着層が厚さが300μmのアクリル系粘着剤からなり、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときの前記透明板、前記第2の接着層、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜の前記断面二次モーメントである
表示装置。
A display panel having an image display surface;
A touch panel disposed on the image display surface,
The touch panel
A first transparent substrate and a second transparent substrate which are arranged opposite to each other and spaced apart from each other;
A first resistance film provided on a surface of the first transparent substrate facing the second transparent substrate, and a first wiring layer electrically connected to the first resistance film;
A second resistance film provided on a surface of the second transparent substrate facing the first transparent substrate, and a second wiring layer electrically connected to the second resistance film;
Provided in a region of an outer peripheral portion in a gap between the first transparent substrate and the second transparent substrate and including a facing region between the first wiring layer and the second wiring layer; A first adhesive layer that bonds the transparent substrate of 1 and the second transparent substrate;
A second adhesive layer provided on a surface of the first transparent substrate opposite to the surface facing the second transparent substrate;
A transparent plate bonded to the surface opposite to the surface facing the second transparent substrate of the first transparent substrate via the second adhesive layer;
The second moment of section with respect to the neutral axis of the transverse plane of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistive film is the second sectional moment and the second sectional moment. Next moment,
The first moment of inertia of the first cross section is that the transparent plate is made of a polymethyl methacrylate plate having a thickness of 500 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic adhesive having a thickness of 50 μm, and the first transparent The transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistive film when the substrate and the first resistive film are made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm. Next moment,
In the second moment of inertia of the second cross section, the transparent plate is made of a polyethylene terephthalate plate having a thickness of 125 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic adhesive having a thickness of 300 μm, and the first transparent substrate And the cross section secondary of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistance film when the first resistance film is made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm. A display device that is a moment.
画像表示面を有する表示パネルと、
前記画像表示面上に配置されたタッチパネルと、
前記表示パネルおよび前記タッチパネルを支持する筐体とを具備し、
前記タッチパネルは、
互いに離間して対向配置された第1の透明基板および第2の透明基板と、
前記第1の透明基板の前記第2の透明基板との対向面に設けられた第1の抵抗膜およびこの第1の抵抗膜と電気的に接続された第1の配線層と、
前記第2の透明基板の前記第1の透明基板との対向面に設けられた第2の抵抗膜およびこの第2の抵抗膜と電気的に接続された第2の配線層と、
前記第1の透明基板と前記第2の透明基板との間の間隙内でかつ前記第1の配線層と前記第2の配線層との対向領域を含む外周部の領域に設けられ、前記第1の透明基板と前記第2の透明基板とを接着する第1の接着層と、
前記第1の透明基板の前記第2の透明基板との対向面と反対側の面に設けられた第2の接着層と、
前記第1の透明基板の前記第2の透明基板との対向面と反対側の面に前記第2の接着層を介して接着された透明板とを有し、
前記透明板、前記第2の接着層、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜の横断面の中立軸に関する断面二次モーメントが、第1の断面二次モーメントと第2の断面二次モーメントとの間にあり、
前記第1の断面二次モーメントは、前記透明板が厚さが500μmのポリメチルメタクリレート板からなり、前記第2の接着層が厚さが50μmのアクリル系粘着剤からなり、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときの前記透明板、前記第2の接着層、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜の前記断面二次モーメントであり、
前記第2の断面二次モーメントは、前記透明板が厚さが125μmのポリエチレンテレフタレート板からなり、前記第2の接着層が厚さが300μmのアクリル系粘着剤からなり、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜が厚さが100μmの酸化インジウムスズフィルムからなるときの前記透明板、前記第2の接着層、前記第1の透明基板および前記第1の抵抗膜の前記断面二次モーメントである
電子機器。
A display panel having an image display surface;
A touch panel disposed on the image display surface;
A housing that supports the display panel and the touch panel;
The touch panel
A first transparent substrate and a second transparent substrate which are arranged opposite to each other and spaced apart from each other;
A first resistance film provided on a surface of the first transparent substrate facing the second transparent substrate, and a first wiring layer electrically connected to the first resistance film;
A second resistance film provided on a surface of the second transparent substrate facing the first transparent substrate, and a second wiring layer electrically connected to the second resistance film;
Provided in a region of an outer peripheral portion in a gap between the first transparent substrate and the second transparent substrate and including a facing region between the first wiring layer and the second wiring layer; A first adhesive layer that bonds the transparent substrate of 1 and the second transparent substrate;
A second adhesive layer provided on a surface of the first transparent substrate opposite to the surface facing the second transparent substrate;
A transparent plate bonded to the surface opposite to the surface facing the second transparent substrate of the first transparent substrate via the second adhesive layer;
The second moment of section with respect to the neutral axis of the transverse plane of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistive film is the second sectional moment and the second sectional moment. Next moment,
The first moment of inertia of the first cross section is that the transparent plate is made of a polymethyl methacrylate plate having a thickness of 500 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic adhesive having a thickness of 50 μm, and the first transparent The transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistive film when the substrate and the first resistive film are made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm. Next moment,
In the second moment of inertia of the second cross section, the transparent plate is made of a polyethylene terephthalate plate having a thickness of 125 μm, the second adhesive layer is made of an acrylic adhesive having a thickness of 300 μm, and the first transparent substrate And the cross section secondary of the transparent plate, the second adhesive layer, the first transparent substrate, and the first resistance film when the first resistance film is made of an indium tin oxide film having a thickness of 100 μm. Electronic devices that are moments.
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