JP5255810B2 - Method for producing dicyclopentadiene-modified phenolic resin - Google Patents

Method for producing dicyclopentadiene-modified phenolic resin Download PDF

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Description

本発明は、フェノール類とジシクロペンタジエン類と反応させてフェノール樹脂を製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a phenol resin by reacting a phenol with dicyclopentadiene.

フェノール類とジシクロペンタジエン類と反応させて得られるフェノール樹脂(以後、ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂、または、変性フェノール樹脂とも記す)は、流れ性や吸湿性に優れるエポキシ樹脂の原料として有用であり、該フェノール樹脂をエポキシ化したエポキシ樹脂は、半導体封止剤やプリント配線基板用積層板の材料として用いられている。   Phenol resins obtained by reacting phenols with dicyclopentadiene (hereinafter also referred to as dicyclopentadiene-modified phenol resins or modified phenol resins) are useful as raw materials for epoxy resins with excellent flowability and moisture absorption. An epoxy resin obtained by epoxidizing the phenol resin is used as a material for a semiconductor encapsulant or a laminate for a printed wiring board.

ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂は、フェノール類とジシクロペンタジエン類(以後、DCPD類とも記す)を酸触媒とともに加熱して製造される。酸触媒は、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素・フェノール錯体、三フッ化ホウ素・エーテル錯体等である。酸触媒は、反応終了後、アルカリ性の触媒中和剤を用いて中和され、失活する。これは、反応終了後も酸触媒が残存していると、その後の未反応フェノールを蒸留除去する工程で反応が過度に進行することを防止するためである。
酸触媒を中和した後の反応生成液は、中和剤や酸触媒残渣からなる固形分と、未反応フェノール類とジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を含む濾液に分別される。濾液を減圧蒸留して、未反応フェノール類を蒸留除去し、ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を回収する。
The dicyclopentadiene-modified phenol resin is produced by heating phenols and dicyclopentadiene (hereinafter also referred to as DCPDs) together with an acid catalyst. Examples of the acid catalyst include boron trifluoride, boron trifluoride / phenol complex, and boron trifluoride / ether complex. After completion of the reaction, the acid catalyst is neutralized and deactivated using an alkaline catalyst neutralizing agent. This is to prevent the reaction from proceeding excessively in the subsequent step of distilling off unreacted phenol when the acid catalyst remains even after the reaction is completed.
The reaction product liquid after neutralizing the acid catalyst is separated into a solid containing a neutralizing agent and an acid catalyst residue, and a filtrate containing unreacted phenols and dicyclopentadiene-modified phenol resin. The filtrate is distilled under reduced pressure to remove unreacted phenols and collect dicyclopentadiene-modified phenolic resin.

ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を、半導体封止剤や積層板の材料として用いた場合に、電気絶縁性などを低下させる恐れがあることから、変性フェノール樹脂の製造の際に、反応生成液中のフェノール類、不純物を十分に除去する必要がある。特に、酸触媒由来のホウ素化合物やフッ素化合物を、好ましくは25ppm以下、より好ましくは22ppm以下にする必要がある。しかしながら、ホウ素化合物やフッ素化合物の一部は、フェノール類に溶解するため濾過を行っても、反応生成液中に残存する問題があった。   When dicyclopentadiene-modified phenolic resin is used as a material for semiconductor encapsulants or laminates, it may reduce electrical insulation, etc. It is necessary to sufficiently remove the phenols and impurities. In particular, the boron compound or fluorine compound derived from the acid catalyst is preferably 25 ppm or less, more preferably 22 ppm or less. However, since some boron compounds and fluorine compounds are dissolved in phenols, there is a problem that they remain in the reaction product liquid even after filtration.

従来、前記変性フェノール樹脂の製造の際には、触媒中和剤として炭酸カルシウムや水酸化ナトリウムが用いられてきた。このような触媒中和剤は、ホウ素化合物やフッ素化合物を吸着することができず、反応生成液中にホウ素化合物やフッ素化合物が残存しやすかった。これに対し、特許文献1に、ハイドロタルサイト類を触媒中和剤に用いることが提案されている。ハイドロタルサイト類は、酸触媒を中和する効果を有するとともに、ホウ素化合物やフッ素化合物を吸着するので、反応生成液中の不純物を低減することができる。しかしながら、半導体封止剤やプリント配線基板用積層板用途では、より一層の不純物の削減が求められており、ハイドロタルサイト類による酸触媒の中和では、不純物の削減が依然として不十分であるという問題があった。   Conventionally, calcium carbonate or sodium hydroxide has been used as a catalyst neutralizing agent in the production of the modified phenolic resin. Such a catalyst neutralizing agent cannot adsorb boron compounds and fluorine compounds, and boron compounds and fluorine compounds are likely to remain in the reaction product solution. On the other hand, Patent Document 1 proposes using hydrotalcites as a catalyst neutralizing agent. Hydrotalcites have the effect of neutralizing the acid catalyst and adsorb boron compounds and fluorine compounds, so that impurities in the reaction product liquid can be reduced. However, in semiconductor encapsulants and printed circuit board laminates, further reductions in impurities are required, and neutralization of acid catalysts with hydrotalcites is still insufficient. There was a problem.

また、特許文献2には、酸触媒を水酸化カルシウムなどの無機塩基により中和し失活させた後、得られた反応生成液に吸着水を含む粉体、例えば、活性白土、酸性白土、活性炭などを加え、中和で生成した錯体を加水分解することにより、ホウ素化合物やフッ素化合物の含有が少ない変性フェノール樹脂を得る方法が提案されている。しかし、この方法は、粉体中の吸着水が未反応のフェノールに溶解してしまう問題がある。このため、反応終了後に、変性フェノール樹脂から蒸留回収した過剰のフェノール中には、水分が含有されることになる。その結果、該回収フェノールを用いて、次に変性フェノール樹脂を製造するときに、酸触媒の一部が水分で失活して、反応効率が低下したり、変性フェノール樹脂の特性が低下する問題がある。   In Patent Document 2, after neutralizing and deactivating the acid catalyst with an inorganic base such as calcium hydroxide, the resulting reaction product liquid contains adsorbed water, such as activated clay, acid clay, There has been proposed a method for obtaining a modified phenol resin containing less boron compound or fluorine compound by adding activated carbon or the like and hydrolyzing the complex formed by neutralization. However, this method has a problem that the adsorbed water in the powder is dissolved in unreacted phenol. For this reason, after completion | finish of reaction, a water | moisture content will be contained in the excess phenol distilled and collect | recovered from the modified phenol resin. As a result, when the modified phenol resin is produced using the recovered phenol, a part of the acid catalyst is deactivated by moisture, resulting in a decrease in reaction efficiency or a characteristic of the modified phenol resin. There is.

特許第3028385号明細書Japanese Patent No. 3028385 特開平11−199659号公報JP-A-11-199659

本発明の目的は、半導体封止剤やプリント配線基板用積層板の原材料として使用できるほど不純物の含有量が少ないジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を製造する方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for producing a dicyclopentadiene-modified phenolic resin having a content of impurities that is small enough to be used as a raw material for a semiconductor encapsulant or a printed wiring board laminate.

本発明は、フェノール類およびジシクロペンタジエン類を反応原料として酸触媒の存在下で反応させ、ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を製造する反応工程(I)と、該反応工程(I)で得られた反応生成液に、アルカリ性化合物およびゼオライトを同時に添加して、該酸触媒を失活させる酸触媒失活工程(II)を有することを特徴とするジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂の製造方法、である。 The present invention is obtained by a reaction step (I) in which phenols and dicyclopentadiene are reacted in the presence of an acid catalyst as a reaction raw material to produce a dicyclopentadiene-modified phenol resin, and the reaction step (I). A method for producing a dicyclopentadiene-modified phenolic resin, characterized by comprising an acid catalyst deactivation step (II) for simultaneously adding an alkaline compound and zeolite to the reaction product solution to deactivate the acid catalyst. is there.

本発明のジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂の製造方法は、前記酸触媒失活工程(II)で得られた反応生成液から、前記ゼオライト、酸触媒および未反応原料を除去して、ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を得る樹脂回収工程(III)を有することが好ましい。   The process for producing a dicyclopentadiene-modified phenolic resin of the present invention comprises removing the zeolite, acid catalyst and unreacted raw material from the reaction product obtained in the acid catalyst deactivation step (II), and dicyclopentadiene. It is preferable to have a resin recovery step (III) for obtaining a modified phenolic resin.

本発明の製造方法によれば、半導体封止剤やプリント配線基板用積層板等の原料に適した軟化点と不純物含有量を有するジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を得ることができる。すなわち、本発明の方法で製造された変性フェノール樹脂をエポキシ化したものは電気特性に優れ、半導体封止剤やプリント配線基板用積層板等の原料として有用である。   According to the production method of the present invention, a dicyclopentadiene-modified phenolic resin having a softening point and an impurity content suitable for raw materials such as a semiconductor encapsulant and a printed wiring board laminate can be obtained. That is, the epoxidized modified phenolic resin produced by the method of the present invention has excellent electrical characteristics and is useful as a raw material for semiconductor encapsulants, printed wiring board laminates, and the like.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、これらは本発明の実施形態の一例であり、これらの内容に限定されないことは言うまでない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, these are examples of the embodiments of the present invention, and needless to say, the present invention is not limited to these contents.

本発明で用いられるフェノール類は、特に限定されないが、好ましくは、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,6−キシレノールまたはこれらの混合物を挙げることができる。中でも、樹脂の特性や経済性の点から、フェノールが好ましい。   The phenols used in the present invention are not particularly limited, but preferred examples include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,6-xylenol, and mixtures thereof. Of these, phenol is preferable from the viewpoint of the characteristics and economical efficiency of the resin.

本発明で用いられるDCPD類も特に限定されないが、好ましくは、ジシクロペンタジエン(以後、DCPDとも記す)や少なくとも一つのアルキル基またはビニル基が置換したジシクロペンタジエンまたはこれらの混合物である。アルキル基はメチル基、エチル基等である。中でも、樹脂の特性や入手の容易さからジシクロペンタジエンを用いることが好ましい。   The DCPDs used in the present invention are not particularly limited, but are preferably dicyclopentadiene (hereinafter also referred to as DCPD), dicyclopentadiene substituted with at least one alkyl group or vinyl group, or a mixture thereof. The alkyl group is a methyl group, an ethyl group or the like. Among these, it is preferable to use dicyclopentadiene because of the characteristics of the resin and availability.

フェノール類とDCPD類を反応させる場合、その仕込モル比(フェノール類/DCPD類)を調整することで、得られる変性フェノール樹脂の軟化点を調節することができる。すなわち、フェノール類の仕込モル比を増やすと変性フェノール樹脂の軟化点は低下し、フェノール類の仕込モル比を減らすと変性フェノール樹脂の軟化点は上昇する。工業的に有意義な軟化点(70〜150℃、好ましくは80〜140℃)を有する変性フェノール樹脂を製造するために好ましい仕込モル比は1/1〜15/1、より好ましくは2/1〜10/1である。   When phenols and DCPDs are reacted, the softening point of the resulting modified phenolic resin can be adjusted by adjusting the charged molar ratio (phenols / DCPDs). That is, when the feed molar ratio of phenols is increased, the softening point of the modified phenol resin is lowered, and when the feed mole ratio of phenols is decreased, the softening point of the modified phenol resin is raised. In order to produce a modified phenolic resin having an industrially significant softening point (70 to 150 ° C., preferably 80 to 140 ° C.), the preferable feed molar ratio is 1/1 to 15/1, more preferably 2/1 to 10/1.

フェノール類とDCPD類を反応させる際に用いられる酸触媒は、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素・フェノール錯体、三フッ化ホウ素・エーテル錯体等である。中でも、取扱いが容易で、単位触媒量当りの変性フェノール樹脂の収量が大きい三フッ化ホウ素・フェノール錯体が好ましい。酸触媒の使用量は、三フッ化ホウ素・フェノール錯体の場合で、DCPD類100質量部当り0.1〜20質量部、好ましくは0.5〜10質量部である。
フェノール類とDCPD類の反応温度は酸触媒の種類により異なるが、三フッ化ホウ素・フェノール錯体の場合で、20〜170℃、好ましくは50〜150℃である。
該反応は水分が可及的に少ない状態で行うことが好ましく、100質量ppm以下であることが好ましい。
Examples of the acid catalyst used for reacting phenols with DCPDs include boron trifluoride, boron trifluoride / phenol complex, boron trifluoride / ether complex, and the like. Among these, boron trifluoride / phenol complex is preferable because it is easy to handle and has a large yield of modified phenolic resin per unit amount of catalyst. In the case of boron trifluoride / phenol complex, the acid catalyst is used in an amount of 0.1 to 20 parts by mass, preferably 0.5 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of DCPDs.
The reaction temperature of phenols and DCPDs varies depending on the type of acid catalyst, but in the case of boron trifluoride / phenol complex, it is 20 to 170 ° C, preferably 50 to 150 ° C.
The reaction is preferably carried out with as little moisture as possible, preferably 100 ppm by mass or less.

反応生成物の粘度上昇が停滞したら、加熱を中止し、反応生成物中の酸触媒の失活を行う。該酸触媒の失活は、反応生成物にアルカリ性化合物およびゼオライトを添加し、10〜150℃、好ましくは30〜90℃で、10分〜10時間、好ましくは20分〜5時間加熱攪拌して行う。アルカリ性化合物およびゼオライトの添加は、同時に行ってもよいし、別工程で行ってもよい。酸触媒失活の終了は、例えば、メチルイソブチルケトンに溶解し、この溶液に水を加えて攪拌し、水層のpHを測定することにより確認することができる。   When the increase in viscosity of the reaction product stagnates, heating is stopped and the acid catalyst in the reaction product is deactivated. The acid catalyst is deactivated by adding an alkaline compound and zeolite to the reaction product, and heating and stirring at 10 to 150 ° C., preferably 30 to 90 ° C., for 10 minutes to 10 hours, preferably 20 minutes to 5 hours. Do. The addition of the alkaline compound and zeolite may be performed simultaneously or in separate steps. The end of the acid catalyst deactivation can be confirmed by, for example, dissolving in methyl isobutyl ketone, adding water to this solution and stirring, and measuring the pH of the aqueous layer.

酸触媒失活工程で用いられるゼオライトは、主成分がアルカリ金属またはアルカリ土類金属のアルミノケイ酸塩であり、M/nO・Al/xSiO/yHO(式中Mは金属イオン、nは原子価、x、yは整数を示す)で表される組成を有し、例えば、Na12[(AlO)12(SiO12]・27HO(4A型)やNa86[(AlO)86(SiO106]・276HO(13X型)などの組成の吸着剤である。
ゼオライトは酸触媒の中和で生じた酸触媒残渣、ホウ素化合物、フッ素化合物、アルカリ(土類)金属などの不純物をよく吸着して、反応生成液の純度を向上させる。ゼオライトがこれらの不純質をよく吸着するのは、ゼオライトには無数の細孔があり、この細孔内部に侵入した不純物が、細孔内部の内壁に吸着されるためである。
Zeolite used in acid catalyst deactivation process, the main component is an alkali metal or alkaline earth metal aluminosilicates, M 2 / nO · Al 2 O 3 / xSiO 2 / yH 2 O (M in the formula is a metal Ion, n is a valence, and x and y are integers). For example, Na 12 [(AlO 2 ) 12 (SiO 2 ) 12 ] · 27H 2 O (4A type) or Na 86 [(AlO 2 ) 86 (SiO 2 ) 106 ] · 276H 2 O (13X type).
Zeolite adsorbs impurities such as acid catalyst residues, boron compounds, fluorine compounds, and alkali (earth) metals generated by neutralization of the acid catalyst, thereby improving the purity of the reaction product solution. Zeolite adsorbs these impurities well because zeolite has innumerable pores, and impurities that enter the pores are adsorbed on the inner walls of the pores.

酸触媒失活工程で用いられるゼオライトの平均細孔径は特に限定されないが、1〜20Å(0.1〜2nm)、好ましくは5〜15Å(0.5〜1.5nm)であると、ホウ素化合物やフッ素化合物の吸着能力に優れており好ましい。該ゼオライトの比表面積は特に限定されないが、500〜1500m/g、好ましくは700〜1300m/gである。該ゼオライトの粒径や形状も特に限定されないが、粉末状の場合の平均粒径は1〜150μm、好ましくは5〜100μmであり、粒状の場合の平均粒径は0.5〜4mmであると好ましい。粒径が上限値を超えると、ホウ素化合物やフッ素化合物の吸着性が低下する場合があり、粒径が下限値より小さいと、濾過速度が低下する場合があるので好ましくない。 The average pore diameter of the zeolite used in the acid catalyst deactivation step is not particularly limited, but is 1 to 20 mm (0.1 to 2 nm), preferably 5 to 15 mm (0.5 to 1.5 nm). It is preferable because of its excellent adsorption ability for fluorine compounds. The specific surface area of the zeolite is not particularly limited, 500~1500m 2 / g, preferably from 700~1300m 2 / g. The particle size and shape of the zeolite are not particularly limited, but the average particle size in the case of powder is 1 to 150 μm, preferably 5 to 100 μm, and the average particle size in the case of granular is 0.5 to 4 mm. preferable. If the particle size exceeds the upper limit value, the adsorptivity of the boron compound or the fluorine compound may be lowered, and if the particle size is smaller than the lower limit value, the filtration rate may be lowered, which is not preferable.

効率的にホウ素化合物やフッ素化合物を吸着できる点と濾過性の兼ね合いから平均粒径が1〜100μm、好ましくは10〜50μmの粉末状ゼオライトが好ましい。平均粒径が前記上限値を超えると、ホウ素化合物やフッ素化合物の吸着性が低下する場合があり、平均粒径が前記下限値より小さいと、濾過速度が低下する場合があるので好ましくない。
ゼオライトは、内部に細孔を持つ吸着剤であり、例えば、4A型の細孔径は約0.35nmで、有効直径0.4nmまでの分子を通過できるとされる。
該ゼオライトの使用量はアルカリ性化合物100質量部当り10〜1000質量部、好ましくは50〜500質量部である。
A powdery zeolite having an average particle size of 1 to 100 μm, preferably 10 to 50 μm, is preferred in terms of efficient adsorption of boron compounds and fluorine compounds and filterability. When the average particle size exceeds the upper limit, the adsorptivity of the boron compound or the fluorine compound may be lowered, and when the average particle size is smaller than the lower limit, the filtration rate may be lowered.
Zeolite is an adsorbent having pores inside. For example, the 4A type pore diameter is about 0.35 nm, and it can pass molecules having an effective diameter of 0.4 nm.
The amount of the zeolite used is 10 to 1000 parts by mass, preferably 50 to 500 parts by mass, per 100 parts by mass of the alkaline compound.

ゼオライトの製造方法は特に限定されないが、例えば、試薬から製造する方法、天然鉱物から製造する方法等を挙げることができる。試薬から製造する方法としては、ケイ酸ナトリウム、アルミン酸ナトリウムを出発原料とする方法がよい。天然鉱物から製造する方法としては、酸性白土、カオリン、真珠石、長石等から製造する方法が挙げられる。例えば、カオリン鉱物を焼成してメタカオリンにして反応性を高めてから水酸化ナトリウムを加える方法、または、カオリン、火山ガラスを磨砕し、結晶構造を壊してから水酸化ナトリウムを加える方法などが挙げられる。   The method for producing zeolite is not particularly limited, and examples thereof include a method for producing from a reagent and a method for producing from a natural mineral. As a method for producing from a reagent, a method using sodium silicate and sodium aluminate as starting materials is preferable. Examples of the method for producing from natural minerals include a method for producing from acid clay, kaolin, nacre, feldspar and the like. For example, a method of adding sodium hydroxide after baking kaolin mineral to metakaolin to increase reactivity, or a method of adding sodium hydroxide after grinding kaolin or volcanic glass to break the crystal structure, etc. It is done.

酸触媒失活工程で用いられるアルカリ性化合物は、特に限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、アンモニア等が好ましく、水酸化カルシウムが特に好ましい。アルカリ性化合物の添加量は特に制限されないが、酸触媒1質量部に対し1〜10質量倍、好ましくは2〜5質量倍である。アルカリ性化合物の添加量が該上限量を超えると濾過時間が長くなり過ぎ、変性フェノール樹脂の生産性が低下する。また、アルカリ性化合物の添加量が該下限量より少ないと酸触媒の失活が不十分になる問題がある。   The alkaline compound used in the acid catalyst deactivation step is not particularly limited, but sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, calcium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonia and the like are preferable, and calcium hydroxide is particularly preferable. preferable. The addition amount of the alkaline compound is not particularly limited, but is 1 to 10 times by mass, preferably 2 to 5 times by mass with respect to 1 part by mass of the acid catalyst. If the addition amount of the alkaline compound exceeds the upper limit, the filtration time becomes too long, and the productivity of the modified phenolic resin decreases. Moreover, when the addition amount of the alkaline compound is less than the lower limit amount, there is a problem that the deactivation of the acid catalyst becomes insufficient.

酸触媒を失活された反応生成物は、蒸留、濾過などの固液分離手段により、液体と固形分に分別されるが、濾過が簡便であり好ましい。該濾過の方法、条件は特に限定されるものではないが、濾過は減圧濾過または加圧濾過が好ましい。濾過温度は室温〜150℃、好ましくは70〜130℃である。   The reaction product in which the acid catalyst is deactivated is separated into a liquid and a solid content by solid-liquid separation means such as distillation and filtration, but filtration is simple and preferable. The filtration method and conditions are not particularly limited, but the filtration is preferably vacuum filtration or pressure filtration. The filtration temperature is room temperature to 150 ° C, preferably 70 to 130 ° C.

濾過残渣は変性フェノール樹脂であり、回収され、各種用途の原材料として使用される。回収された変性フェノール樹脂は、軟化点が70〜150℃、好ましくは80〜140℃、PHは5.0〜9.0、好ましくは6.0〜8.0、ホウ素化合物およびフッ素化合物含有量がそれぞれ25質量ppm以下、好ましくは22質量ppm以下であり、格別の処理、精製をすることなく、半導体封止剤やプリント配線基板用積層板などの材料として好適に使用することができる。
濾液は蒸留され、未反応のフェノールが回収される。該蒸留は、加圧下でも、常圧下でも、減圧下でも行うことができるが、減圧蒸留が好ましい。蒸留温度は100〜300℃、好ましくは150〜270℃、より好ましくは170〜250℃である。
なお、該回収フェノールは、純度が90質量%以上であり、引続き変性フェノール樹脂の製造に再利用することができる。
The filtration residue is a modified phenolic resin that is collected and used as a raw material for various applications. The recovered modified phenolic resin has a softening point of 70 to 150 ° C, preferably 80 to 140 ° C, PH of 5.0 to 9.0, preferably 6.0 to 8.0, boron compound and fluorine compound content. Are 25 ppm by mass or less, preferably 22 ppm by mass or less, and can be suitably used as a material for a semiconductor encapsulant, a laminate for a printed wiring board, or the like without any special treatment or purification.
The filtrate is distilled and unreacted phenol is recovered. The distillation can be performed under pressure, normal pressure, or reduced pressure, but vacuum distillation is preferred. The distillation temperature is 100 to 300 ° C, preferably 150 to 270 ° C, more preferably 170 to 250 ° C.
The recovered phenol has a purity of 90% by mass or more and can be reused for the production of the modified phenolic resin.

以下、実施例により、さらに詳しく、本発明を説明する。
なお、反応生成液のpHは、約0.5gの生成液を20cmのメチルイソブチルケトンに溶解し、20cmの水を加えてよく攪拌した。攪拌後、30分静置し、水層のpHをPHメーターで測定した。
ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂の軟化点は、環球式軟化点測定装置(MEITECH社製、25D5−ASP−MG型)を用い、グリセリン浴中、5℃/分の昇温速度で測定した。
ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂のホウ素化合物およびフッ素化合物の含有量は原子吸光装置[(株)島津製作所製、型番AA−6200]を用いて原子吸光法により測定した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples.
In addition, about pH of the reaction product solution, about 0.5 g of the product solution was dissolved in 20 cm 3 of methyl isobutyl ketone, and 20 cm 3 of water was added and well stirred. After stirring, the mixture was allowed to stand for 30 minutes, and the pH of the aqueous layer was measured with a PH meter.
The softening point of the dicyclopentadiene-modified phenolic resin was measured using a ring and ball softening point measuring device (MEITECH, 25D5-ASP-MG type) in a glycerin bath at a heating rate of 5 ° C./min.
The content of the boron compound and fluorine compound in the dicyclopentadiene-modified phenolic resin was measured by an atomic absorption method using an atomic absorption apparatus [manufactured by Shimadzu Corporation, model number AA-6200].

(実施例1)
攪拌装置、温度計、還流装置、不活性ガス導入管、オイルバスを備えた反応容器(セパラブルフラスコ:1L)に市販のフェノール278g(=2.9mol)を仕込んで、80℃に加熱した。加熱終了後、三フッ化ホウ素・フェノール錯体2.5gを添加し、さらに、140℃に昇温して、DCPD100g(=0.76mol)を2時間かけて、徐々に添加し反応させた。添加終了後、水酸化カルシウム7.5gと、ゼオライト[和光純薬(株)製、合成ゼオライトF9、粉末、細孔径9Å(9nm)、平均粒径7μm(200メッシュ通過品)、比表面積1100m/g]2.5gを添加して30分間攪拌して酸触媒を中和し、失活させた。攪拌終了後、反応生成液を濾過した。濾液を220℃に昇温して、減圧蒸留し、未反応のフェノール183gを蒸留除去した。
蒸留残渣(=変性フェノール樹脂)の収量は195gであった。変性フェノール樹脂の軟化点、pH、ホウ素含有量、フッ素含有量を測定し、結果を表1に示した。
Example 1
A reaction vessel (separable flask: 1 L) equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux device, an inert gas introduction tube, and an oil bath was charged with 278 g (= 2.9 mol) of commercially available phenol and heated to 80 ° C. After the heating, 2.5 g of boron trifluoride / phenol complex was added, the temperature was further raised to 140 ° C., and 100 g (= 0.76 mol) of DCPD was gradually added over 2 hours to cause the reaction. After completion of the addition, 7.5 g of calcium hydroxide, zeolite [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., synthetic zeolite F9, powder, pore size 9 mm (9 nm), average particle size 7 μm (200 mesh passing product), specific surface area 1100 m 2 / G] 2.5 g was added and stirred for 30 minutes to neutralize and deactivate the acid catalyst. After completion of the stirring, the reaction product solution was filtered. The filtrate was heated to 220 ° C. and distilled under reduced pressure, and 183 g of unreacted phenol was distilled off.
The yield of distillation residue (= modified phenolic resins) was 195 g. The softening point, pH, boron content and fluorine content of the modified phenolic resin were measured, and the results are shown in Table 1.

(実施例2)
実施例1において、フェノールの代わりにo−クレゾールを用いた以外は実施例1を繰返した。得られた樹脂の軟化点、pH、ホウ素含有量、フッ素含有量を測定し、結果を表1に示した。
(Example 2)
In Example 1, Example 1 was repeated except that o-cresol was used instead of phenol. The softening point, pH, boron content and fluorine content of the obtained resin were measured, and the results are shown in Table 1.

(実施例3)
実施例1において、フェノールの代わりに2,6−キシレノールを用いた以外は実施例1を繰返した。得られた樹脂の軟化点、pH、ホウ素含有量、フッ素含有量を測定し、結果を表1に示した。
(Example 3)
In Example 1, Example 1 was repeated except that 2,6-xylenol was used instead of phenol. The softening point, pH, boron content and fluorine content of the obtained resin were measured, and the results are shown in Table 1.

(実施例4)
実施例1において、ゼオライト[和光純薬(株)製、合成ゼオライトF9、粉末、細孔径9Å(9nm)、平均粒径7μm(200メッシュ通過品)、比表面積1100m/g]の代わりに、ゼオライト[和光純薬(株)製、合成ゼオライトA3、粉末、細孔径3Å(3nm)、平均粒径7μm(200メッシュ通過品)、比表面積1000m/g]2.5gを用いた以外は実施例1を繰返した。変性フェノール樹脂の軟化点、pH、ホウ素含有量、フッ素含有量を測定し、結果を表1に示した。
Example 4
In Example 1, instead of zeolite [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., synthetic zeolite F9, powder, pore size 9 mm (9 nm), average particle size 7 μm (200 mesh passing product), specific surface area 1100 m 2 / g] Except for using 2.5 g of zeolite [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., synthetic zeolite A3, powder, pore size 3 mm (3 nm), average particle size 7 μm (200 mesh passing product), specific surface area 1000 m 2 / g] Example 1 was repeated. The softening point, pH, boron content and fluorine content of the modified phenolic resin were measured, and the results are shown in Table 1.

(実施例5)
実施例1において、水酸化カルシウム7.5gの代わりに、水酸化ナトリウム7.5gを用いた以外は実施例1を繰返した。変性フェノール樹脂の軟化点、pH、ホウ素含有量、フッ素含有量を測定し、結果を表1に示した。
(Example 5)
In Example 1, Example 1 was repeated except that 7.5 g of sodium hydroxide was used instead of 7.5 g of calcium hydroxide. The softening point, pH, boron content and fluorine content of the modified phenolic resin were measured, and the results are shown in Table 1.

(比較例1)
実施例1において、水酸化カルシウム7.5gとゼオライト2.5gの代わりに、水酸化カルシウム10gを用いた以外は実施例1を繰返した。変性フェノール樹脂の軟化点、pH、ホウ素含有量、フッ素含有量を測定し、結果を表1に示した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, Example 1 was repeated except that 10 g of calcium hydroxide was used instead of 7.5 g of calcium hydroxide and 2.5 g of zeolite. The softening point, pH, boron content and fluorine content of the modified phenolic resin were measured, and the results are shown in Table 1.

(比較例2)
実施例1において、水酸化カルシウム7.5gとゼオライト2.5gの代わりに、ハイドロタルサイト10gを用いた以外は実施例1を繰返した。変性フェノール樹脂の軟化点、pH、ホウ素含有量、フッ素含有量を測定し、結果を表1に示した。
(Comparative Example 2)
In Example 1, Example 1 was repeated except that 10 g of hydrotalcite was used instead of 7.5 g of calcium hydroxide and 2.5 g of zeolite. The softening point, pH, boron content and fluorine content of the modified phenolic resin were measured, and the results are shown in Table 1.

(比較例3)
実施例1において、ゼオライト2.5gの代わりに、活性白土[東新化成(株)製、活性白土E、比表面積約200m/g、水分量5質量%]2.5gを用いた以外は実施例1を繰返した。変性フェノール樹脂の軟化点、pH、ホウ素含有量、フッ素含有量を測定し、結果を表1に示した。
(Comparative Example 3)
In Example 1, instead of 2.5 g of zeolite, 2.5 g of activated clay [manufactured by Toshin Kasei Co., Ltd., activated clay E, specific surface area of about 200 m 2 / g, water content 5 mass%] was used. Example 1 was repeated. The softening point, pH, boron content and fluorine content of the modified phenolic resin were measured, and the results are shown in Table 1.

Figure 0005255810
Figure 0005255810

Claims (2)

フェノール類およびジシクロペンタジエン類を反応原料として酸触媒の存在下で反応させ、ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を製造する反応工程(I)と、該反応工程(I)で得られた反応生成液に、アルカリ性化合物およびゼオライトを同時に添加して、該酸触媒を失活させる酸触媒失活工程(II)を有することを特徴とするジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂の製造方法。 Reaction step (I) in which phenols and dicyclopentadiene are reacted in the presence of an acid catalyst as a reaction raw material to produce a dicyclopentadiene-modified phenol resin, and a reaction product solution obtained in the reaction step (I) And a method for producing a dicyclopentadiene-modified phenolic resin characterized by having an acid catalyst deactivation step (II) in which an alkaline compound and zeolite are simultaneously added to deactivate the acid catalyst. 前記酸触媒失活工程(II)で得られた反応生成液から、前記ゼオライト、酸触媒および未反応原料を除去して、ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を得る樹脂回収工程(III)を有することを特徴とする請求項1に記載のジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂の製造方法。   A resin recovery step (III) for obtaining dicyclopentadiene-modified phenolic resin by removing the zeolite, acid catalyst and unreacted raw material from the reaction product obtained in the acid catalyst deactivation step (II); The process for producing a dicyclopentadiene-modified phenolic resin according to claim 1.
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