JP5248602B2 - 走査窓内で横に分散されたレーザパルスを用いて半導体構造を加工するためのシステム及び方法 - Google Patents
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Description
一般的には、現在のリンク加工システムにおけるレーザパルスの真の利用率は、かなり低い。例えば、約600,000個のリンクを含む典型的なウェハは、約600秒で加工できる。これは、有効ブローレート(effective blow rate)が1kHzであることを意味する。この例示的なウェハ加工システムが70kHzのパルス繰返し周波数(pulse repetition frequency:PRF)を有するレーザ光源を使用する場合、70個のレーザパルスのうち約1個のレーザパルスのみがウェハの表面に達する。
一実施の形態においては、加工窓内のマルチリンクバンクを偏向されたレーザビームで加工する。レーザPRFがXYステージ性能より速くなると、高PRFレーザに追従する加速度及び速度は、使用できなくなる。このため、一実施の形態に基づくレーザビームは、時間的に間引かれて複数の有効なビームになる。複数の有効なビームは、ビーム経路内の同じ光学素子を共有してもよい。他の実施の形態においては、複数の有効なビームは、各ビームについて物理的に個別の光学素子を有するビーム経路を含む。
上述のように、一実施の形態では、AODを用いて、複数のリンクバンク間で一連のレーザパルスを偏向することができる。例えば、図6は、一実施の形態に基づく、AOD610を含むレーザ加工システム600の概略図である。後に詳細に説明するように、この例示的な実施の形態では、AOD610は、レーザ614から出射されたパルスレーザビーム612を偏向するように構成され、2個の連続するパルスを、2個の横方向に離間したリンクバンク内の2個の異なるリンクに供給できる非常に高速なデバイスを含む。一実施の形態においては、AOD610は、1次元で(例えば、走査方向に垂直に)レーザパルスを偏向するように構成されている。他の実施の形態においては、AOD610は、2次元で(例えば、走査方向に垂直及び走査方向に平行に)レーザパルスを偏向するように構成されている。他の実施の形態では、2個のAOD(例えば、図13及び図14のAOD610、1312参照)を用いて、2次元の偏向を提供する。
リンク、リンクバンク及びリンクランは、通常、ウェハ領域(図3参照)の僅かなパーセンテージを占める細長いストリップ状の領域内に収まっているため、フォーカスレンズの走査視野内に横方向に離間した複数のリンクは、ウェハに亘って走査視野を横断させて、効率的に加工できる。
一実施の形態においては、システム600は、単一のパルスを用いて、各リンク1024をブローし、加工窓1000内の個別のリンク1024を加工する。AOD610は、加工窓1000が走査方向を移動している間に、2個の連続するレーザパルスの間で、加工窓1000内でフォーカスされたリンクパルスの位置をリンク1024に向け直す。従来のリンク加工システムは、非常にPRFが高いレーザが生成するパルスのうち、約半分から約99%をブロックすることがあるが、システム600は、パルスの大部分又は全てを使用することができる。したがって、被加工物618をより速く動かすことなく、スループットを大幅に向上させることができる。
一実施の形態においては、横方向に離間したリンクにレーザパルスを選択的に提供するために使用される図6に示すAOD610は、フォーカスされたレーザスポットの位置を移動させて、移動ステージで発生する相対的な位置の誤差を補正するためにも使用される。例えば、平坦なXY移動ステージを用いて、フォーカスされたレーザスポットの下でウェハを位置決めする場合、ビームステアリングを用いて、残りのXYステージ追跡誤差(例えば、所望の軌道と実際の軌道との間の瞬間的な差分)を補償することができる。
上述のように、図6は、レーザ加工システム600の一実施の形態を示している。但し、当業者は、この開示に基づいて、他のシステム構成及び部品を想到することができる。例えば、図13〜図17は、後述する他の例示的な実施の形態を示している。
Claims (38)
- 半導体基板上又は半導体基板内の構造を加工する方法であって、
加工窓内でレーザパルスを選択的に偏向するように構成された第1の偏向器に一連のレーザパルスを供給するステップと、
前記加工窓が走査されるにしたがって、複数の横方向に離間した構造の行が前記加工窓を同時に通過するように前記半導体基板上で前記加工窓を走査するステップと、
前記加工窓内で、前記複数の横方向に離間した行の間で、前記一連のレーザパルスを選択的に偏向するステップとを有し、
前記加工窓が前記半導体基板上で走査方向において走査されるにしたがって、第1のレーザパルスが前記横方向に離間した行の第1の行に偏向され、第2のレーザパルスが前記横方向に離間した行の第2の行に偏向され、前記第2のレーザパルスは前記一連のレーザパルス内において前記第1のレーザパルスの後に続き、
前記走査方向に対して、前記第2のレーザパルスは逆方向と横方向の双方に偏向され、
前記第2のレーザパルスは、前記第1のレーザパルスが前記第1の行に偏向された後、100μs以内に前記第2の行に偏向される、
方法。 - 前記第1のレーザパルス及び前記第2のレーザパルスは、前記一連のレーザパルス内の連続したレーザパルスである、請求項1記載の方法。
- 前記第1のレーザパルスは、前記第1の行内の第1の構造体に偏向され、前記第2のレーザパルスは、前記第2の行内の第2の構造体に偏向され、前記第1の構造体及び前記第2の構造体は、前記加工窓の走査方向に垂直な直線が前記第1の構造体及び前記第2の構造体の両方を通過するように横に揃っている、請求項1記載の方法。
- 前記第1の偏向器は、前記一連のレーザパルスを第1の方向及び第2の方向に偏向するように構成されており、前記第1の方向は、前記加工窓の走査方向に実質的に垂直であり、前記第2の方向は、前記走査方向に実質的に平行である、請求項1記載の方法。
- 前記第1の偏向器は、音響光学偏向器及び電気光学偏向器を含むグループから選択される、請求項1記載の方法。
- 前記加工窓を走査するステップは、前記複数の横方向に離間した行の第1の端部から、前記横方向に離間した行の第2の端部に、前記加工窓を前記半導体基板に対して継続的に動かすステップを含む、請求項1記載の方法。
- 前記加工窓を継続的に動かすステップは、前記加工窓を前記半導体基板に対して一定の速度で動かすステップを含む、請求項6記載の方法。
- 前記加工窓を継続的に動かすステップは、現在、前記加工窓を通過している前記横方向に離間した行内の構造の数の変化に基づいて、走査速度を変更するステップを含む、請求項6記載の方法。
- 前記走査速度を変更するステップは、前記横方向に離間した行の1つ以上が、連続する構造間に相対的なギャップを有する場合に、前記走査速度を加速するステップを含む、請求項8記載の方法。
- 前記加工窓を走査するステップは、前記半導体基板に対する第1の位置と、前記半導体基板に対する第2の位置との間で、前記加工窓を段階的に進ませるステップを含み、前記第1の位置は、構造の第1のサブセットに対応し、前記第2の位置は、構造の第2のサブセットに対応する、請求項1記載の方法。
- 前記一連のレーザパルスを選択的に偏向するステップは、
前記加工窓が前記第1の位置にあるとき、前記一連のレーザパルスを、前記構造の第1のサブセット間で選択的に偏向するステップと、
前記加工窓が前記第2の位置にあるとき、前記一連のレーザパルスを、前記構造の第2のサブセット間で選択的に偏向するステップとを含む、
請求項10記載の方法。 - 前記偏向されたレーザパルスを前記第1の偏向器から第2の偏向器に供給するステップを更に有し、前記第1の偏向器は、前記レーザパルスを第1の方向に偏向するように構成されており、前記第2の偏向器は、前記レーザパルスを第2の方向に偏向するように構成されている、請求項1記載の方法。
- 前記第1の方向は、前記半導体基板に対して動く前記加工窓の走査方向に実質的に垂直である、請求項12記載の方法。
- 前記第2の方向は、前記走査方向に実質的に平行である、請求項13記載の方法。
- 半導体基板上又は半導体基板内の構造を加工するシステムであって、
一連のレーザパルスを生成するように構成されたレーザ光源と、
前記一連のレーザパルスを受け取り、前記一連のレーザパルスを、加工窓内で選択的に偏向する第1の偏向器と、
前記加工窓が走査されるにしたがって、複数の横方向に離間した構造の行が前記加工窓を同時に通過するように前記半導体基板上で前記加工窓を走査するように構成された移動ステージとを備え、
前記第1の偏向器は、100μs以下の切替時間を有し、
前記加工窓が前記半導体基板上で走査方向において走査されるにしたがって、前記第1の偏向器は、更に、前記加工窓内で、前記複数の横方向に離間した行の間で、前記一連のレーザパルスを選択的に偏向するように構成されており、
前記走査方向に対して、前記一連のレーザパルスのうち少なくとも1つのパルスは逆方向と横方向の双方に偏向される、
システム。 - 前記第1の偏向器は、更に、前記一連のレーザパルスを第1の方向及び第2の方向に偏向するように構成されており、前記第1の方向は、前記加工窓の前記走査方向に実質的に垂直であり、前記第2の方向は、前記走査方向に実質的に平行である、請求項15記載のシステム。
- 前記第1の偏向器は、+/−4mラジアンの偏向角の範囲内で、前記一連のレーザパルスを偏向するように構成された音響光学偏向器を含む、請求項15記載のシステム。
- 前記音響光学偏向器は、更に、前記偏向角の範囲内で、0.8μラジアンの精度を選択的に提供するように構成されている、請求項17記載のシステム。
- 前記第1の偏向器は、電気光学偏向器を有する、請求項15記載のシステム。
- 前記一連のレーザパルスを前記半導体基板にフォーカスするように構成されたレンズを更に備える、請求項15記載のシステム。
- 前記移動ステージは、更に、前記複数の横方向に離間した行の第1の端部から、前記横方向に離間した行の第2の端部に、前記加工窓を前記半導体基板に対して継続的に動かすように構成されている、請求項15記載のシステム。
- 前記移動ステージは、更に、前記加工窓を前記半導体基板に対して一定の速度で動かすように構成されている、請求項21記載のシステム。
- 前記移動ステージは、更に、現在、前記加工窓を通過している前記横方向に離間した行内の構造の数の変化に基づいて、走査速度を変更するように構成されている、請求項21記載のシステム。
- 前記移動ステージは、更に、前記横方向に離間した行の1つ以上が、連続する構造間に相対的なギャップを有する場合に、前記走査速度を加速するように構成されている、請求項23記載のシステム。
- 前記移動ステージは、更に、前記半導体基板に対する第1の位置と、前記半導体基板に対する第2の位置との間で、前記加工窓を段階的に進ませるように構成されており、前記第1の位置は、構造の第1のサブセットに対応し、前記第2の位置は、構造の第2のサブセットに対応する、請求項15記載のシステム。
- 前記第1の偏向器は、更に、
前記加工窓が前記第1の位置にあるとき、前記一連のレーザパルスを、前記構造の第1のサブセット内の第1の構造体に向けて選択的に偏向し、
前記加工窓が前記第2の位置にあるとき、前記一連のレーザパルスを、前記構造の第2のサブセット間で選択的に偏向するように構成されている、
請求項25記載のシステム。 - 前記第1の偏向器は、更に、
前記一連のレーザパルスの第1のレーザパルスを前記加工窓内にある第1の行の第1の構造体に偏向し、
前記一連のレーザパルス内の前記第1のレーザパルスの直後に続く前記一連のレーザパルスからの第2のレーザパルスを第2の行の第2の構造体に偏向するように構成されている、
請求項15記載のシステム。 - 前記レーザパルスを第1の方向に偏向するように構成されている前記第1の偏向器から前記偏向されたレーザパルスを受け取り、
前記レーザパルスを第2の方向に偏向するように構成された、
第2の偏向器を更に備える、請求項15記載のシステム。 - 前記第1の方向は、前記半導体基板に対して動く前記加工窓の前記走査方向に実質的に垂直である、請求項28記載のシステム。
- 前記第2の方向は、前記走査方向に実質的に平行である、請求項29記載のシステム。
- 一連のレーザパルスを生成するように構成されたレーザ光源と、
被加工物に対して加工窓を動かすように構成された移動ステージと、
前記加工窓が前記被加工物上で第1の方向において走査されるにしたがって、第1のレーザパルスを、前記加工窓内で前記被加工物上の第1の構造体に偏向し、第2のレーザパルスを、前記加工窓内で前記被加工物上の第2の構造体に偏向し、前記第2のレーザパルスが前記一連のレーザパルス内において前記第1のレーザパルスの後に続くように構成された偏向器とを備え、
前記第1の方向に対して、前記第2のレーザパルスは逆方向と横方向の双方に偏向され、
前記偏向器は、更に、前記第1のレーザパルスを前記第1の構造体に偏向した後、100μs以内に、前記第2のレーザパルスを前記第2の構造体に偏向するように構成されている、
レーザ加工システム。 - 前記移動ステージは、更に、前記加工窓を前記被加工物に対して前記第1の方向に動かすように構成されており、前記偏向器は、更に、前記一連のレーザパルスを前記被加工物に対して第2の方向に偏向するように構成されている、請求項31記載のシステム。
- 前記偏向器は、更に、前記一連のレーザパルスを第1の方向に偏向するように構成されている、請求項32記載のシステム。
- 前記第1の構造体は、前記第2の構造体に隣接しない、請求項31記載のシステム。
- 前記偏向器は、音響光学偏向器及び電気光学偏向器を含むグループから選択される、請求項31記載のシステム。
- 半導体基板上又は半導体基板内の構造を加工する方法であって、
加工窓内でレーザパルスを選択的に偏向するように構成された偏向器に一連のレーザパルスを供給するステップと、
前記加工窓が走査されるにしたがって、複数の構造が前記加工窓を同時に通過するように前記半導体基板上で前記加工窓を走査するステップと、
前記加工窓が前記半導体基板上で第1の方向において走査されるにしたがって、前記加工窓内で、選択的に、第1のレーザパルスを第1の構造体に偏向し、第2のレーザパルスを第2の構造体に偏向し、前記第2のレーザパルスが前記第1のレーザパルスの後に続くようにするステップとを有し、
前記第2のレーザパルスは、少なくとも前記第1の方向に対して逆方向である第2の方向に偏向され、
前記選択的に偏向するステップは、前記第2のレーザパルスを前記第1の方向に垂直な前記半導体基板に対する第3の方向に偏向するステップを有し、
前記第2のレーザパルスは、前記第1のレーザパルスが前記第1の構造体に偏向された後、100μs以内に、前記第2の構造体に偏向される、
方法。 - 一連のレーザパルス内の第3のパルスを前記第1の方向に偏向するステップを含む、請求項36記載の方法。
- 前記第1の構造体は、前記第2の構造体に隣接しない、請求項36記載の方法。
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