JP5245233B2 - Silicone rubber composition for polymer electrolyte and proton conductive polymer electrolyte membrane - Google Patents

Silicone rubber composition for polymer electrolyte and proton conductive polymer electrolyte membrane Download PDF

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Description

本発明は、高分子電解質用シリコーンゴム組成物並びにプロトン伝導性高分子電解質膜に関し、更に詳しくは、燃料電池、水電解、ハロゲン化水素酸電解、食塩電解、酸素濃縮器、湿度センサ、ガスセンサ等に用いられるイオン伝導膜等に好適な、強度とイオン伝導性を兼ね備えた珪素−酸素架橋構造体からなるイオン伝導性材料を用いた高分子電解質用シリコーンゴム組成物、並びに該組成物の硬化物よりなるプロトン伝導性高分子電解質膜に関するものである。 The present invention relates to a silicone rubber composition for a polymer electrolyte and a proton conductive polymer electrolyte membrane, and more specifically, a fuel cell, water electrolysis, hydrohalic acid electrolysis, salt electrolysis, oxygen concentrator, humidity sensor, gas sensor, etc. suitably the ion conductive membrane or the like used for a strength and ionic conductivity of the silicon combines - consisting of oxygen crosslinked structure ionically conductive materials polyelectrolyte silicone rubber composition using, as well as curing of the composition The present invention relates to a proton conductive polymer electrolyte membrane made of a material.

イオン伝導性材料は、特定のイオンと強固に結合したり、陽イオン又は陰イオンを選択的に透過する性質を有していることから、粒子、繊維、あるいは膜状に成形し、電気透析、拡散透析、電池隔膜等、各種の用途に利用されているものである。例えば、固体高分子型燃料電池は、高分子電解質膜を用いて電池内で水素やメタノール等の燃料を電気化学的に酸化することにより、燃料の化学エネルギーを直接電気エネルギーに変換して取り出すものであり、近年、クリーンな電気エネルギー供給源として注目されている。特に、プロトン伝導膜として、高分子鎖中にスルホン酸基等の官能基を有する高分子の場合、高出力密度が得られ、低温作動が可能なことから電気自動車用電源として期待されている。   Since the ion conductive material has the property of binding firmly to specific ions or selectively permeating cations or anions, it is formed into particles, fibers, or membranes, electrodialysis, It is used for various applications such as diffusion dialysis and battery diaphragm. For example, a polymer electrolyte fuel cell uses a polymer electrolyte membrane to electrochemically oxidize a fuel such as hydrogen or methanol in the cell, thereby converting the chemical energy of the fuel directly into electric energy and taking it out. In recent years, it has attracted attention as a clean electrical energy supply source. In particular, in the case of a polymer having a functional group such as a sulfonic acid group in a polymer chain as a proton conductive membrane, a high output density is obtained and a low-temperature operation is possible, which is expected as a power source for electric vehicles.

このような燃料電池の基本構造は、電解質膜と、その両面に接合された一対の触媒層を有するガス拡散電極とで構成され、更にその両側に集電体を配する構造からなっている。一方の電極(アノード)に燃料である水素やメタノールを、もう一方の電極(カソード)に酸化剤である酸素や空気をそれぞれ供給し、両方の電極間に外部負荷回路を接続することにより、燃料電池として作動するとき、アノードで生成したプロトンは電解質膜を通ってカソード側に移動し、カソードで酸素と反応して水を生成する。   The basic structure of such a fuel cell is composed of an electrolyte membrane and a gas diffusion electrode having a pair of catalyst layers bonded to both sides thereof, and further a current collector is disposed on both sides thereof. By supplying hydrogen or methanol as fuel to one electrode (anode), oxygen or air as oxidant to the other electrode (cathode), and connecting an external load circuit between both electrodes, the fuel When operating as a battery, protons produced at the anode move to the cathode side through the electrolyte membrane and react with oxygen at the cathode to produce water.

電解質膜は、プロトンの移動媒体、及び水素ガスや酸素ガスの隔膜として機能している。従って、高いプロトン伝導性、強度、化学的安定性に加えて、ガスのシール性が要求される。とりわけ、燃料電池や水電解の場合、電解質膜と電極の界面に形成された触媒層において過酸化物が生成し、生成した過酸化物が拡散しながら過酸化物ラジカルとなって劣化反応を起こすので、耐酸化性に乏しい炭化水素系電解質膜を使用することが困難である。そのため、一般に、高価ではあるが、高い耐酸化性を有するパーフルオロスルホン酸膜が用いられている。   The electrolyte membrane functions as a proton transfer medium and a hydrogen gas or oxygen gas diaphragm. Therefore, in addition to high proton conductivity, strength, and chemical stability, gas sealing properties are required. In particular, in the case of fuel cells and water electrolysis, peroxide is generated in the catalyst layer formed at the interface between the electrolyte membrane and the electrode, and the generated peroxide diffuses and becomes a peroxide radical, causing a deterioration reaction. Therefore, it is difficult to use a hydrocarbon-based electrolyte membrane having poor oxidation resistance. Therefore, in general, a perfluorosulfonic acid membrane having high oxidation resistance is used although it is expensive.

実用化されている電解質膜としては、パーフルオロアルキレンを主骨格とし、一部にパーフルオロビニルエーテル側鎖の末端にスルホン酸基、カルボン酸基等のイオン交換基を有するフッ素系膜が主として用いられている。このようなフッ素系電解質膜としては、Nafion膜(登録商標:Du Pont社)、Dow膜(登録商標:Dow Chemical社)、Aciplex膜(登録商標:旭化成工業(株))、Flemion膜(登録商標:旭硝子(株))等が知られている。   As electrolyte membranes in practical use, fluorine-based membranes having perfluoroalkylene as the main skeleton and partially having ion-exchange groups such as sulfonic acid groups and carboxylic acid groups at the end of the perfluorovinyl ether side chain are mainly used. ing. As such a fluorine-based electrolyte membrane, Nafion membrane (registered trademark: Du Pont), Dow membrane (registered trademark: Dow Chemical), Aciplex membrane (registered trademark: Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), Flemion membrane (registered trademark) : Asahi Glass Co., Ltd.).

現状の固体高分子型燃料電池は、室温から80℃程度の比較的低い温度領域で運転される。この運転温度の制限は、用いられているフッ素系膜が130℃近辺にガラス転移温度(Tg)を有し、これよりも高温領域ではプロトン伝導に寄与しているイオンチャネル構造が破壊されてしまうため、実質的には100℃以下でしか使用できないというような要因による。運転温度が低いことは、燃料電池にとって、発電効率が低くなるというデメリットを生じる。仮に、運転温度を100℃以上とすることができれば、発電効率は向上し、更に廃熱利用が可能となるために、より効率的にエネルギーを活用できる。また、運転温度を120℃まで上昇させることができれば、こうした効率の向上や廃熱利用だけではなく、触媒材料選択の幅が広がり、安価な燃料電池を実現する可能性がでてくる。   The current polymer electrolyte fuel cell is operated in a relatively low temperature range from room temperature to about 80 ° C. The limitation of the operating temperature is that the fluorine-based membrane used has a glass transition temperature (Tg) near 130 ° C., and the ion channel structure contributing to proton conduction is destroyed at a temperature higher than this. Therefore, it is due to such a factor that it can be practically used only at 100 ° C. or lower. The low operating temperature causes a demerit that the power generation efficiency is low for the fuel cell. If the operating temperature can be set to 100 ° C. or higher, the power generation efficiency is improved and the waste heat can be used, so that energy can be used more efficiently. Further, if the operating temperature can be raised to 120 ° C., not only the improvement of efficiency and utilization of waste heat but also the possibility of realizing an inexpensive fuel cell can be realized by expanding the range of catalyst material selection.

現状のプロトン伝導性膜では、プロトン伝達の役割を担う物質として水の存在が必須であることも、高温作動を困難にしている原因の一つである。Nafionに代表されるプロトン伝導性膜は、その膜中の水の含有量によりプロトン伝導性能が大きく左右され、水が存在しない場合にはプロトン伝導性を示さない。常時水を存在させるためには、例えば水素等の燃料を加湿状態にして送り込む必要がある。燃料加湿による膜中の厳密かつ複雑な水分量管理が必要なことは、燃料電池の構造を複雑化させ、故障等の原因となる。同時に、水の沸点である100℃を超える高温では加圧が必要となり、装置が大がかりとなるなど装置への負担が大きくなる。特に150℃を超える場合にはかなりの高圧が必要となるため、燃料電池のコストアップになるだけでなく、安全性の面からも好ましくない。   In the current proton-conducting membrane, the presence of water is essential as a substance that plays a role in proton transmission, which is one of the causes that make high-temperature operation difficult. The proton conductive membrane represented by Nafion is greatly influenced by the proton conductivity depending on the water content in the membrane, and does not exhibit proton conductivity in the absence of water. In order to always have water, it is necessary to feed fuel such as hydrogen in a humidified state. The necessity of strict and complicated water content control in the membrane by fuel humidification complicates the structure of the fuel cell and causes failure and the like. At the same time, pressurization is required at a high temperature exceeding the boiling point of water, which is 100 ° C., and the burden on the apparatus becomes large, for example, the apparatus becomes large. In particular, when the temperature exceeds 150 ° C., a considerably high pressure is required, which not only increases the cost of the fuel cell but is not preferable from the viewpoint of safety.

このように、フッ素系電解質は製造が困難で、非常に高価であるという欠点があるとともに、現状のフッ素系電解質は燃料電池等の高温動作に十分対応できない等の問題があった。そのため、フッ素系電解質に代わるイオン伝導性・イオン交換性材料の開発が望まれ、耐熱、耐酸化性の高い珪素系高分子がすでに提案されていた。   As described above, the fluorine-based electrolyte has the disadvantages that it is difficult to manufacture and is very expensive, and the current fluorine-based electrolyte has a problem that it cannot sufficiently cope with high-temperature operation of a fuel cell or the like. Therefore, development of an ion conductive / ion exchange material to replace the fluorine-based electrolyte has been desired, and silicon polymers having high heat resistance and oxidation resistance have already been proposed.

その一つが、特開2001−307545号公報(特許文献1)に開示される、ポリテトラメチレンオキシドを主骨格に有する有機重合体と、珪素−酸素結合による3次元架橋構造体とを有し、膜内にプロトン性付与物質、及び水を有するプロトン伝導性膜と、特開2004−55165号公報(特許文献2)に開示される、ポリシロキサンを主骨格に有するプロトン伝導性膜である。   One of them has an organic polymer having polytetramethylene oxide as a main skeleton, disclosed in JP-A No. 2001-307545 (Patent Document 1), and a three-dimensional crosslinked structure with a silicon-oxygen bond, A proton conductive membrane having a protonic substance and water in the membrane, and a proton conductive membrane having polysiloxane as a main skeleton disclosed in JP-A-2004-55165 (Patent Document 2).

特許文献1、2に開示されるプロトン伝導性膜は、無機材料成分やポリシロキサンによって耐熱性は向上するものの、反面強度が十分でなく脆いため、加工時に応力がかかると破損する。特に、燃料電池として運転する際に、ガス圧力や衝撃により膜が破壊されてしまう。これは、上記膜材料に、引っ張り強度や可撓性が不足していることが原因である。しかも、上記3次元架橋構造体は、プロトン伝導性が十分でなく、特に低湿度時にはプロトン伝導性が低いという問題があった。   The proton conductive membranes disclosed in Patent Documents 1 and 2 are improved in heat resistance by an inorganic material component or polysiloxane, but on the other hand, the strength is not sufficient and is brittle. In particular, when operating as a fuel cell, the membrane is destroyed by gas pressure and impact. This is because the membrane material lacks tensile strength and flexibility. In addition, the three-dimensional crosslinked structure has a problem in that the proton conductivity is not sufficient, and the proton conductivity is low particularly at low humidity.

特開2002−184427号公報(特許文献3)には、メルカプト基含有アルコキシシランと、硼素酸化物と、他のアルコキシシリル化合物とを組み合わせた架橋体を形成し、その後酸化することにより、耐熱性を有するプロトン伝導性膜の製造方法が開示されている。しかしながら、この方法では、メルカプト基含有アルコキシシランと硼素酸化物との架橋構造体、及び、メルカプト基含有アルコキシシランと硼素酸化物と他のアルコキシシリル化合物との架橋構造体は、いずれも粉末として得られることから単独では製膜することはできない。従って、製膜には別の高分子材料と複合する必要があるが、架橋体自身の耐熱性が高くても、複合する高分子材料の耐熱性が劣るため、膜としての耐熱性は必ずしも高くないものであった。   In JP 2002-184427 A (Patent Document 3), a cross-linked product combining a mercapto group-containing alkoxysilane, a boron oxide and another alkoxysilyl compound is formed, and then oxidized to provide heat resistance. A method for producing a proton conducting membrane having the following is disclosed. However, in this method, the crosslinked structure of mercapto group-containing alkoxysilane and boron oxide and the crosslinked structure of mercapto group-containing alkoxysilane, boron oxide and other alkoxysilyl compounds are all obtained as powders. Therefore, it is impossible to form a film by itself. Therefore, it is necessary to form a composite with another polymer material for film formation, but even if the crosslinked body itself has high heat resistance, the heat resistance of the composite polymer material is inferior, so the heat resistance as a film is not necessarily high. It was not.

特開2006−131770号公報(特許文献4)にも、メルカプト基含有アルコキシシランと、他のアルコキシシリル化合物とを組み合わせた架橋体を形成し、その後酸化することにより、導電性膜の製造方法が開示されている。しかしながら、この方法では、表面抵抗が高々10Ω/□レベルの導電性の膜しか得られず、用途も表面コーティングの分野に限られ、到底電解質膜の用途に使用できるものではなかった。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-131770 (Patent Document 4) also discloses a method for producing a conductive film by forming a crosslinked body in which a mercapto group-containing alkoxysilane and another alkoxysilyl compound are combined, and then oxidizing. It is disclosed. However, in this method, only a conductive film having a surface resistance of at most 10Ω / □ level can be obtained, and its application is limited to the field of surface coating, and it cannot be used for an electrolyte film.

非特許文献1(ソリッドステートイオニクス(Solid State Ionics)、第74巻、第105頁、1994)にも、メルカプト基含有アルコキシシランと、他のアルコキシシリル化合物とを組み合わせて架橋し、酸化することにより電解質材料を得る方法が開示されている。しかし、ここでは材料形態等の詳細な記述はないものの、高湿度においては潮解性を示すことが明示されており、プロトン伝導性膜として用いることができないものであった。   Non-patent document 1 (Solid State Ionics, Vol. 74, p. 105, 1994) also crosslinks a combination of a mercapto group-containing alkoxysilane and another alkoxysilyl compound, and oxidizes. A method for obtaining an electrolyte material is disclosed. However, although there is no detailed description of the material form and the like here, it has been clearly shown that it exhibits deliquescence at high humidity and cannot be used as a proton conductive membrane.

非特許文献2(Kaliaguine、Microporous and Mesoporous Materials、第52巻、第29−37頁、2002)には、メルカプト基含有アルコキシシランと、テトラエトキシシランを種々の比率で混合し、混合物を界面活性剤等の存在下で架橋し、その後酸化することにより、イオンチャネルとして働く微小な空孔を有する電解質材料を得る方法が開示されている。しかしながら、この方法により得られた膜でも、低湿下におけるプロトン伝導性への効果は十分発現されていない。   Non-Patent Document 2 (Kaliaguine, Microporous and Mesoporous Materials, Vol. 52, pp. 29-37, 2002) is a mixture of mercapto group-containing alkoxysilane and tetraethoxysilane in various ratios, and the mixture is a surfactant. A method of obtaining an electrolyte material having microscopic pores that function as ion channels by crosslinking in the presence of the like and subsequent oxidation is disclosed. However, even the membrane obtained by this method does not sufficiently exhibit the effect on proton conductivity under low humidity.

特開2001−307545号公報JP 2001-307545 A 特開2004−55165号公報JP 2004-55165 A 特開2002−184427号公報JP 2002-184427 A 特開2006−131770号公報JP 2006-131770 A ソリッドステートイオニクス(Solid State Ionics)、第74巻、第105頁、1994Solid State Ionics, 74, 105, 1994 Kaliaguine、Microporous and Mesoporous Materials、第52巻、第29−37頁、2002Kaliaguine, Microporous and Mesoporous Materials, 52, 29-37, 2002

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、高弾性のためシール性に優れ、湿度変化によるプロトン伝導性能の変動が小さく、特に低湿下におけるプロトン伝導性能にも優れるプロトン伝導性膜の材料となり得る珪素−酸素架橋構造体からなるイオン伝導性材料を用いた高分子電解質用シリコーンゴム組成物、該組成物の硬化物よりなるゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a material for a proton conductive membrane that is excellent in sealability due to high elasticity, has little fluctuation in proton conductivity due to changes in humidity, and is particularly excellent in proton conductivity under low humidity. obtained silicon - oxygen comprising a crosslinked structure ion conducting materials polyelectrolyte silicone rubber composition using, to provide the proton-conducting polymer electrolyte membrane having rubber elasticity formed of a cured product of the composition Objective.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、エポキシ基を持つアルコキシシランとメルカプト基等の硫黄原子含有基を持つアルコキシシランとを、水及び酸化剤の存在下で反応させ、前記両アルコキシシランの共加水分解・縮合と、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換と、前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせることによって得られた珪素−酸素架橋構造体が、良好なプロトン伝導性材料になること、更にこれを配合したビニル基含有オルガノポリシロキサンを主成分とするシリコーンゴム組成物の硬化物よりなるプロトン伝導性の高分子電解質膜が、製造容易で低コストであり、強度に優れ、ゴム弾性を有し、ガスシール特性を保持したまま、耐熱性が高く、かつ低湿度においてもプロトン伝導性が高く、高温動作に対応し得る燃料電池を実現することが可能になることを見出し、本発明をなすに至った。   As a result of intensive investigations to achieve the above object, the present inventors have determined that an alkoxysilane having an epoxy group and an alkoxysilane having a sulfur atom-containing group such as a mercapto group are present in the presence of water and an oxidizing agent. Reaction is carried out to cause co-hydrolysis / condensation of both alkoxysilanes, conversion of a sulfur atom-containing group to a sulfonic acid group by the oxidizing agent, ring opening of the epoxy group, and condensation of a hydroxyl group generated based on this. The resulting silicon-oxygen crosslinked structure is a good proton conductive material, and is further composed of a cured silicone rubber composition containing a vinyl group-containing organopolysiloxane blended with the proton conductive material. The highly functional polymer electrolyte membrane is easy to manufacture, low in cost, excellent in strength, has rubber elasticity, maintains gas seal characteristics, and has high heat resistance. High proton conductivity even at low humidity, found that it is possible to realize a fuel cell that may correspond to the high temperature operation, the present invention has been accomplished.

従って、本発明は、下記に示す高分子電解質用シリコーンゴム組成物並びにプロトン伝導性高分子電解質膜を提供する。
〔1〕 (A)下記平均組成式(1)
aSiO(4-a)/2 (1)
(式中、Rは炭素数1〜10の同一又は異種の非置換もしくは置換の一価炭化水素基、ただし、1分子中のビニル基の合計が2以上であり、aは1.95〜2.05の正数を表す。)
で示され、末端がトリオルガノシリル基又はジオルガノヒドロキシシリル基で封鎖されたビニル基含有オルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)エポキシ基を持つアルコキシシランと硫黄原子含有基を持つアルコキシシランとを、水及び酸化剤の存在下で反応させ、前記両アルコキシシランの共加水分解・縮合と、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換と、前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせることによって得られた珪素−酸素架橋構造体からなるイオン伝導性材料:20〜400質量部、
(C)架橋剤:0.1〜10質量部
を含有することを特徴とする高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物。
〔2〕 (B)成分は、更に、含窒素化合物が添加されて、含窒素化合物と前記イオン伝導性材料のスルホン酸基との塩の形態とされた〔1〕記載の高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物。
〔3〕 含窒素化合物が、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール及びテトラゾールからなる群から選択される含窒素ヘテロ環化合物であることを特徴とする〔2〕記載の高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物。
〔4〕 〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物の硬化物よりなるゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜。
Accordingly, the present invention provides the following silicone rubber composition for polymer electrolyte and proton conductive polymer electrolyte membrane.
[1] (A) The following average composition formula (1)
R a SiO (4-a) / 2 (1)
(In the formula, R is the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, provided that the total number of vinyl groups in one molecule is 2 or more, and a is 1.95 to 2 .05 represents a positive number.)
A vinyl group-containing organopolysiloxane having a terminal end blocked with a triorganosilyl group or a diorganohydroxysilyl group: 100 parts by mass,
(B) An alkoxysilane having an epoxy group and an alkoxysilane having a sulfur atom-containing group are reacted in the presence of water and an oxidizing agent to co-hydrolyze / condense both alkoxysilanes, and a sulfur atom by the oxidizing agent. Ion conductive material comprising a silicon-oxygen cross-linked structure obtained by converting a contained group into a sulfonic acid group, ring opening of the epoxy group and condensation of a hydroxyl group generated based on the ring opening: 20 to 400 Parts by mass,
(C) Crosslinking agent: A silicone rubber composition for polymer electrolyte membranes, containing 0.1 to 10 parts by mass.
[2] The polymer electrolyte membrane according to [1], wherein the component (B) is further added with a nitrogen-containing compound to form a salt of the nitrogen-containing compound and the sulfonic acid group of the ion conductive material. Silicone rubber composition.
[3] The silicone rubber composition for a polymer electrolyte membrane according to [2], wherein the nitrogen-containing compound is a nitrogen-containing heterocyclic compound selected from the group consisting of imidazole, pyrazole, triazole, and tetrazole.
[4] A proton conductive polymer electrolyte membrane having rubber elasticity made of a cured product of the silicone rubber composition for a polymer electrolyte membrane according to any one of [1] to [3].

本発明によれば、イオン伝導性に優れ、製造が容易で低コストであり、強度に優れ、耐熱性が高い高分子電解質材料となり得る珪素−酸素架橋構造体を得ることができ、これを用いた上記シリコーンゴム組成物の硬化物は、高弾性のためシール性に優れ、湿度変化によるプロトン伝導性能の変動が小さく、特に低湿下におけるプロトン伝導性能にも優れるプロトン伝導性高分子電解質膜となり得る。
本発明のプロトン伝導性高分子電解質膜は、燃料電池、水電解、ハロゲン化水素酸電解、食塩電解、酸素濃縮器、湿度センサ、ガスセンサ等に広く用いることができる。
According to the present invention, it is possible to obtain a silicon-oxygen crosslinked structure that can be a polymer electrolyte material that is excellent in ion conductivity, easy to manufacture, low in cost, excellent in strength, and high in heat resistance. The cured product of the above-mentioned silicone rubber composition is excellent in sealing properties due to its high elasticity, has little fluctuation in proton conduction performance due to changes in humidity, and can be a proton-conducting polymer electrolyte membrane that is particularly excellent in proton conduction performance under low humidity. .
The proton conductive polymer electrolyte membrane of the present invention can be widely used in fuel cells, water electrolysis, hydrohalic acid electrolysis, salt electrolysis, oxygen concentrators, humidity sensors, gas sensors and the like.

本発明の高分子電解質膜は、エポキシ基を持つアルコキシシランとメルカプト基等の硫黄原子含有基を持つアルコキシシランの混合物溶液を調製する第1の工程と、前記溶液に水及び酸化剤を添加し、前記両アルコキシシランを共加水分解・縮合させると共に、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換並びに前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせて珪素−酸素架橋構造体を製造する第2の工程と、該珪素−酸素架橋構造体をビニル基含有オルガノポリシロキサンと混合し、オルガノポリシロキサン中に珪素−酸素架橋構造体を分散させた混合物を形成させる第3の工程と、この混合物に架橋剤を加えたシリコーンゴム組成物を硬化することでゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜を形成させる第4の工程から製造される。   The polymer electrolyte membrane of the present invention includes a first step of preparing a mixture solution of an alkoxysilane having an epoxy group and an alkoxysilane having a sulfur atom-containing group such as a mercapto group, and water and an oxidizing agent are added to the solution. The both alkoxysilanes are cohydrolyzed / condensed, the sulfur atom-containing group is converted into a sulfonic acid group by the oxidizing agent, the epoxy group is opened, and the hydroxyl group generated based on this is condensed to form silicon. A second step of producing an oxygen-crosslinked structure, and the silicon-oxygen crosslinked structure is mixed with a vinyl group-containing organopolysiloxane to form a mixture in which the silicon-oxygen crosslinked structure is dispersed in the organopolysiloxane. And a proton conductive polymer electrolyte membrane having rubber elasticity by curing a silicone rubber composition obtained by adding a crosslinking agent to the mixture. It is produced from the fourth step of forming.

本発明の珪素−酸素架橋構造体は、上述したエポキシ基を持つアルコキシシランとメルカプト基等の硫黄原子含有基を持つアルコキシシランの混合物溶液を調製する第1の工程と、前記溶液に水及び酸化剤を添加し、前記両アルコキシシランを共加水分解・縮合させると共に、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換並びに前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせて珪素−酸素架橋構造体を製造する第2の工程とから製造されるものである。   The silicon-oxygen crosslinked structure of the present invention includes a first step of preparing a mixture solution of the above-described alkoxysilane having an epoxy group and an alkoxysilane having a sulfur atom-containing group such as a mercapto group, and water and oxidation in the solution. An agent is added to cause both the alkoxysilanes to co-hydrolyze and condense, to convert the sulfur atom-containing group into a sulfonic acid group by the oxidizing agent, to ring-open the epoxy group, and to condense the hydroxyl group generated based on this. And the second step of producing a silicon-oxygen cross-linked structure.

第1の工程に使用する珪素−酸素架橋構造体の原料は、以下のエポキシ基を持つアルコキシシランと硫黄原子含有基を持つアルコキシシランからなる。   The raw material of the silicon-oxygen crosslinked structure used in the first step is composed of the following alkoxysilane having an epoxy group and alkoxysilane having a sulfur atom-containing group.

エポキシ基を持つアルコキシシランとしては、下記一般式(I)で表されるものを用いることができる。
Y−SiXn3-n (I)
(式(I)において、Xはアルコキシ基又はアリーロキシ基、Yはエポキシ基含有基、Rは一価の有機基、nは1〜3の整数を表す。)
As the alkoxysilane having an epoxy group, those represented by the following general formula (I) can be used.
Y-SiX n R 3-n (I)
(In formula (I), X represents an alkoxy group or an aryloxy group, Y represents an epoxy group-containing group, R represents a monovalent organic group, and n represents an integer of 1 to 3)

式(I)中、Xはアルコキシ基又はアリーロキシ基であり、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロパノキシ基、ブトキシ基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、フェノキシ基等が挙げられる。このアルコキシ基の炭素数は通常1以上10以下であって、好ましくは6以下、より好ましくは4以下である。また、アリーロキシ基の炭素数は、6以上12以下である。アルコキシ基、アリーロキシ基の炭素数が大きいと、加水分解生成物の分子量が大きくなり、加水分解生成物の除去が困難になり、溶媒として水を用いた場合には水との相溶性が悪くなるおそれがあるため、炭素数は少ない方が好ましく、アルコキシ基の方がより好ましく、中でもメトキシ基、エトキシ基等が好ましい。   In the formula (I), X is an alkoxy group or an aryloxy group. Specific examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propanoxy group, a butoxy group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, and a phenoxy. Groups and the like. The number of carbon atoms of the alkoxy group is usually 1 or more and 10 or less, preferably 6 or less, more preferably 4 or less. The carbon number of the aryloxy group is 6 or more and 12 or less. If the number of carbon atoms of the alkoxy group or aryloxy group is large, the molecular weight of the hydrolyzed product increases, making it difficult to remove the hydrolyzed product, and when water is used as the solvent, the compatibility with water becomes poor. Since there is a possibility that the number of carbon atoms is small, an alkoxy group is more preferable, and a methoxy group, an ethoxy group, and the like are particularly preferable.

Yはエポキシ基含有基であり、下記の(A)又は(B)であることが好ましい。

Figure 0005245233
Y is an epoxy group-containing group, and is preferably the following (A) or (B).
Figure 0005245233

Rは、一価の有機基であり、該有機基の炭素数は、通常6以下、好ましくは3以下、より好ましくは1である。炭化水素基の種類としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基や、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基等のアルコキシアルキル基が挙げられ、メチル基が最も好ましい。   R is a monovalent organic group, and the carbon number of the organic group is usually 6 or less, preferably 3 or less, more preferably 1. The types of hydrocarbon groups include methyl groups, ethyl groups, propyl groups, butyl groups, pentyl groups, hexyl groups and other alkyl groups, methoxyethyl groups, ethoxyethyl groups, butoxyethyl groups, methoxypropyl groups, ethoxypropyl groups. And the like, and a methyl group is most preferable.

式(I)で表されるアルコキシシランとしては、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリ(2−メトキシエトキシ)シラン、3−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−グリシドキシプロピルジエトキシメチルシラン、3−グリシドキシプロピルジブトキシメチルシラン、3−グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルジメチルプロポキシシラン、5,6−エポキシヘキシルトリメトキシシラン、5,6−エポキシヘキシルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチル−ジ−イソプロペノキシシランが挙げられる。最も好ましい具体例として、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−403)や、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン(同 KBM−402)が挙げられる。 Examples of the alkoxysilane represented by the formula (I) include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltripropoxysilane, and 3-glycidoxy. Propyltri (2-methoxyethoxy) silane, 3-glycidoxypropyldimethoxymethylsilane, 3-glycidoxypropyldiethoxymethylsilane, 3-glycidoxypropyldibutoxymethylsilane, 3-glycidoxypropyldimethylmethoxy Silane, 3-glycidoxypropyldimethylpropoxysilane, 5,6-epoxyhexyltrimethoxysilane, 5,6-epoxyhexyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane , 3- Glycidoxypropyl Chill - di - include isopropenoxysilane alkoxy Sila down. The most preferred specific examples include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane (KBM-402).

一方、硫黄原子含有基を持つアルコキシシランとしては、下記一般式(II)で表されるものを用いることができる。
Z−(R’)−SiXn1 3-n (II)
(式(II)において、Xはアルコキシ基又はアリーロキシ基、Zは酸化によりスルホン酸基に変換可能な硫黄原子含有基、R’は二価の炭化水素基、R1は一価の炭化水素基、nは1〜3の整数を表す。)
On the other hand, as the alkoxysilane having a sulfur atom-containing group, those represented by the following general formula (II) can be used.
Z- (R ′)-SiX n R 1 3-n (II)
(In the formula (II), X is an alkoxy group or aryloxy group, Z is a sulfur atom-containing group that can be converted to a sulfonic acid group by oxidation, R ′ is a divalent hydrocarbon group, and R 1 is a monovalent hydrocarbon group. N represents an integer of 1 to 3.)

Xは、アルコキシ基又はアリーロキシ基であり、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロパノキシ基、ブトキシ基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、フェノキシ基等が挙げられる。アルコキシ基、アリーロキシ基の要件は、式(I)と同様であり、炭素数が少ないアルコキシ基の方が好ましく、中でもメトキシ基、エトキシ基等が好ましい。   X is an alkoxy group or an aryloxy group, and specific examples include a methoxy group, an ethoxy group, a propanoxy group, a butoxy group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, and a phenoxy group. . The requirements for the alkoxy group and the aryloxy group are the same as in the formula (I), and an alkoxy group having a small number of carbon atoms is preferred, and among them, a methoxy group, an ethoxy group, and the like are preferred.

Zは、酸化によりスルホン酸基に変換可能な硫黄原子含有基である。通常、硫黄の酸化数が5以下の硫黄原子を含む官能基を含む置換基であり、具体的には、メルカプト基、亜硫酸基等を含む置換基が挙げられ、このうちメルカプト基を含む置換基が好ましい。この硫黄原子の数は何個でもよいが、通常1個である。   Z is a sulfur atom-containing group that can be converted to a sulfonic acid group by oxidation. Usually, it is a substituent containing a functional group containing a sulfur atom having a sulfur oxidation number of 5 or less, and specific examples include a substituent containing a mercapto group, a sulfite group, etc. Among these, a substituent containing a mercapto group Is preferred. The number of sulfur atoms is not limited, but is usually one.

R’は二価の炭化水素基であり、上述のメルカプト基、亜硫酸基等の官能基と珪素を繋ぎ、酸化剤や溶媒に対する反応性の低い基が挙げられる。該炭化水素基の炭素数は、通常12以下、好ましくは6以下、より好ましくは4以下、最も好ましくは3以下で1以上である。炭化水素基の種類としては、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基及びアルキニレン基が挙げられ、好ましくは、アルキレン基及びアリーレン基であって、アルキレン基が最も好ましい。これらの基は硫黄原子の酸化反応に影響を及ばさない置換基を含んでいてもよい。アルキレン基としては炭素数4以下が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基及びブチレン基等が好ましく挙げられる。アリーレン基としては炭素数9以下が好ましく、フェニレン基、メチルフェニレン基及びジメチルフェニレン基等が好ましく挙げられる。   R 'is a divalent hydrocarbon group, and includes a group having a low reactivity with an oxidizing agent or a solvent by linking the above-described functional group such as mercapto group or sulfite group with silicon. The carbon number of the hydrocarbon group is usually 12 or less, preferably 6 or less, more preferably 4 or less, and most preferably 3 or less and 1 or more. Examples of the hydrocarbon group include an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group and an alkynylene group, preferably an alkylene group and an arylene group, and most preferably an alkylene group. These groups may contain a substituent that does not affect the oxidation reaction of the sulfur atom. The alkylene group preferably has 4 or less carbon atoms, and preferred examples include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a butylene group. The arylene group preferably has 9 or less carbon atoms, and preferred examples include a phenylene group, a methylphenylene group, and a dimethylphenylene group.

Z−(R’)−の好ましい基としては、メルカプトアルキル基やメルカプトアリール基が挙げられ、メルカプトアルキル基が特に好ましい。メルカプトアルキル基としては、メルカプトメチル基、2−メルカプトエチル基、3−メルカプトプロピル基等が挙げられる。メルカプトアリール基としては、メルカプトフェニル基や、メチル基やエチル基等がベンゼン環に置換したアルキルメルカプトフェニル基等が挙げられる。   Preferred groups for Z— (R ′) — include a mercaptoalkyl group and a mercaptoaryl group, with a mercaptoalkyl group being particularly preferred. Examples of the mercaptoalkyl group include a mercaptomethyl group, a 2-mercaptoethyl group, and a 3-mercaptopropyl group. Examples of the mercaptoaryl group include a mercaptophenyl group, and an alkyl mercaptophenyl group in which a benzene ring is substituted with a methyl group or an ethyl group.

1は、一価の炭化水素基が用いられる。該炭化水素基の炭素数は、通常6以下、好ましくは3以下、通常1である。炭化水素基の種類としては、アルキル基が挙げられ、メチル基が最も好ましい。
nの数は1〜3であるが、nが小さいと、プロトン伝導体の強度が上がらない可能性があるので、より好ましくは2又は3である。nが複数の場合、加水分解性の置換基の種類は、同一であっても異なった種類のものであってもよい。
R 1 is a monovalent hydrocarbon group. The number of carbon atoms of the hydrocarbon group is usually 6 or less, preferably 3 or less, and usually 1. Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, and a methyl group is most preferable.
The number of n is 1 to 3, but if n is small, the strength of the proton conductor may not increase, so 2 or 3 is more preferable. When n is plural, the types of hydrolyzable substituents may be the same or different.

式(II)で表されるアルコキシシランとして、最も好ましい具体例としては、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製KBM−803)や、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン(同 KBM−802)が挙げられる。   The most preferred specific examples of the alkoxysilane represented by the formula (II) include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (KBM-803 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane (KBM). -802).

上記エポキシ基含有アルコキシシランと硫黄原子含有基含有アルコキシシランの使用割合は、質量比としてエポキシ基含有アルコキシシラン:硫黄原子含有基含有アルコキシシラン=9:1〜1:9、特に8:2〜2:8であることが好ましい。エポキシ基含有アルコキシシランの割合が多すぎると、プロトン伝導性が低下する場合があり、少なすぎると水溶化が起こりやすくなり、膜から系外に溶け出してしまう場合がある。   The use ratio of the epoxy group-containing alkoxysilane and the sulfur atom-containing group-containing alkoxysilane is, as a mass ratio, epoxy group-containing alkoxysilane: sulfur atom-containing group-containing alkoxysilane = 9: 1 to 1: 9, particularly 8: 2-2. : 8 is preferable. If the proportion of the epoxy group-containing alkoxysilane is too large, proton conductivity may be reduced, and if it is too small, water-solubilization is likely to occur and the membrane may be dissolved out of the system.

第1の工程は、まず、上述したエポキシ基を持つアルコキシシランと硫黄原子含有基を持つアルコキシシランを、有機溶媒存在下に十分混合する。   In the first step, first, the alkoxysilane having an epoxy group and the alkoxysilane having a sulfur atom-containing group are sufficiently mixed in the presence of an organic solvent.

ここで、有機溶媒としては、アルコール類、グリコール誘導体、炭化水素類、エステル類、ケトン類、エーテル類等のうちの1種又は2種以上を混合して使用する。有機溶媒は、通常炭素数1以上10以下であって、8以下が好ましく、6以下がより好ましい。   Here, as the organic solvent, one or more of alcohols, glycol derivatives, hydrocarbons, esters, ketones, ethers and the like are mixed and used. The organic solvent usually has 1 to 10 carbon atoms, preferably 8 or less, and more preferably 6 or less.

アルコール類としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、イソブチルアルコール、オクタノール、n−プロピルアルコール、アセチルアセトンアルコール等が挙げられる。グリコール誘導体としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−プロピルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。炭化水素類としては、ベンゼン、ケロシン、トルエン、キシレン等が挙げられる。エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等が挙げられる。ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン等が挙げられる。エーテル類としては、エチルエーテル、ブチルエーテル、2−α−メトキシエタノール、2−α−エトキシエタノール、ジオキサン、フラン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。   Examples of alcohols include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutyl alcohol, octanol, n-propyl alcohol, and acetylacetone alcohol. As glycol derivatives, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-propyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, Examples include ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate. Examples of the hydrocarbons include benzene, kerosene, toluene, xylene and the like. Examples of the esters include methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl acetoacetate, and ethyl acetoacetate. Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and acetyl acetone. Examples of ethers include ethyl ether, butyl ether, 2-α-methoxyethanol, 2-α-ethoxyethanol, dioxane, furan, and tetrahydrofuran.

これらの有機溶媒の中でも、エポキシ基とスルホン酸基に対する溶解性が高く、また水とも完全に相溶するアルコール類が好ましい。アルコール類の炭素数は、水との相溶性や、後の溶媒除去のしやすさの観点から、炭素数は1以上6以下が好ましく、4以下がより好ましく、2以下が更に好ましい。具体的にはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール又はブタノールが好ましく、中でもメタノールやエタノールが好ましい。   Among these organic solvents, alcohols that have high solubility in epoxy groups and sulfonic acid groups and are completely compatible with water are preferable. From the viewpoint of compatibility with water and ease of solvent removal later, the number of carbons in the alcohols is preferably from 1 to 6, more preferably 4 or less, and even more preferably 2 or less. Specifically, methanol, ethanol, isopropyl alcohol or butanol is preferable, and methanol or ethanol is particularly preferable.

上記有機溶媒の使用量は、上記エポキシ基含有アルコキシシランと硫黄原子含有基含有アルコキシシランの合計100質量部に対して20〜2000質量部、特に80〜200質量部とすることが好ましい。有機溶媒の添加量が多すぎるとオルガノポリシロキサンと組み合わせて組成物とするために溶媒を除くため経済的に不利となる場合があり、少なすぎると架橋構造体製造時にゲル化が起こり、撹拌が不十分となり反応が十分に進まなくなる場合がある。   The amount of the organic solvent used is preferably 20 to 2000 parts by mass, particularly 80 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the epoxy group-containing alkoxysilane and the sulfur atom-containing group-containing alkoxysilane. If the amount of the organic solvent added is too large, the composition may be combined with the organopolysiloxane to remove the solvent, which may be economically disadvantageous. If the amount is too small, gelation may occur during the production of the crosslinked structure, and stirring may occur. It may be insufficient and the reaction may not proceed sufficiently.

次に、第2の工程では、この混合物溶液に水及び酸化剤を添加し、前記両アルコキシシランを共加水分解・縮合させると共に、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換と、前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせる。   Next, in the second step, water and an oxidant are added to the mixture solution to co-hydrolyze and condense the both alkoxysilanes, and the oxidant converts the sulfur atom-containing group into a sulfonic acid group. The ring opening of the epoxy group and the condensation of the hydroxyl group generated based on the ring opening are performed.

ここで、酸化剤としては、硫黄原子含有基をスルホン酸基に酸化できるものであれば特に限定されないが、アルコール、水といった溶媒に可溶な酸化剤が好ましく、特には過酸化水素水が好ましい。
上記酸化剤は、水又はアルコール溶液として添加することもでき、この場合、アルコールとしては、上述したアルコール類と同様のものを使用することができる。
Here, the oxidizing agent is not particularly limited as long as it can oxidize a sulfur atom-containing group to a sulfonic acid group. However, an oxidizing agent soluble in a solvent such as alcohol or water is preferable, and hydrogen peroxide solution is particularly preferable. .
The oxidizing agent can also be added as water or an alcohol solution. In this case, as the alcohol, the same alcohols as described above can be used.

酸化剤の量は、アルコキシシラン中の硫黄原子含有基1モルに対して、酸化物当量として3モル当量以上であることが好ましく、より好ましくは3モル当量以上5モル当量以下である。酸化剤が少なすぎると、スルホン酸までの酸化が進行しづらいことや、上述した両アルコキシシランの加水分解・縮合物が均一な溶液とならない等の問題が生ずる場合がある。酸化剤の量の上限は特に制限はないが、アルコキシシラン中の硫黄原子含有基1モルに対して、酸当量として、通常5モル当量以下、好ましくは4モル当量以下である。酸化剤が多すぎると、経済性が悪くなったり、後工程で使用する中和剤まで酸化されたりといった好ましくない酸化反応が起こることがある。   The amount of the oxidizing agent is preferably 3 molar equivalents or more and more preferably 3 molar equivalents or less and 5 molar equivalents or less as an oxide equivalent with respect to 1 mol of the sulfur atom-containing group in the alkoxysilane. If the amount of the oxidizing agent is too small, there are cases where oxidation to the sulfonic acid is difficult to proceed and the hydrolysis / condensation products of both alkoxysilanes described above do not form a uniform solution. The upper limit of the amount of the oxidizing agent is not particularly limited, but is usually 5 molar equivalents or less, preferably 4 molar equivalents or less as an acid equivalent per 1 mol of the sulfur atom-containing group in the alkoxysilane. If the amount of the oxidizing agent is too large, an undesirable oxidation reaction may occur such as poor economic efficiency or oxidation of the neutralizing agent used in the subsequent process.

また、H22のような酸化剤は希釈すると硫黄酸化の反応効率が著しく低下すると同時に、希釈溶媒を酸化して望ましくない副生成物を与えることがある一方、分解・爆発といった危険を避けるため、通常、市販されている30%濃度の過酸化水素水をそのまま用いることが最も望ましい。
この場合、加水分解に使用する水の量は、上記アルコキシシランの総アルコキシ基に対し当量以上が必要であり、この点から水の量が選定されるが、過酸化水素水を用いた場合に、これに含まれる水の量及び過酸化水素がメルカプト基等の硫黄原子含有基を酸化するときに発生する水の量を考慮して添加する水の量を決めることができ、特に水を添加しなくてもよい場合もある。
In addition, when an oxidizing agent such as H 2 O 2 is diluted, the reaction efficiency of sulfur oxidation is significantly reduced. At the same time, the diluted solvent may be oxidized to give undesirable by-products, while avoiding the danger of decomposition and explosion. For this reason, it is usually most desirable to use a commercially available 30% hydrogen peroxide solution as it is.
In this case, the amount of water used for hydrolysis must be equal to or greater than the total alkoxy groups of the alkoxysilane. From this point, the amount of water is selected. The amount of water to be added can be determined in consideration of the amount of water contained therein and the amount of water generated when hydrogen peroxide oxidizes sulfur atom-containing groups such as mercapto groups. Sometimes it is not necessary.

本反応において、両アルコキシシランと酸化剤及び水とを接触させる温度・時間は、特に制限されないが、通常0〜100℃、2時間から3日で行う。均一な溶液になるまでの時間、保持又は撹拌することが好ましいが、条件によっては、接触させるべき所定量の酸化剤のうち、全部もしくはその一部分を接触させた段階で、溶液が固化、ゲル化により固体が析出する場合がある。そのような場合でも所定量の酸化剤を全て接触させた上で、溶媒が蒸発しないような状況下で保持することにより、珪素−酸素架橋構造体の均一な溶液を得ることができる。   In this reaction, the temperature and time for bringing both alkoxysilanes into contact with the oxidizing agent and water are not particularly limited, but are usually 0 to 100 ° C. for 2 hours to 3 days. It is preferable to hold or agitate for a time until a uniform solution is obtained. However, depending on conditions, the solution is solidified or gelled when all or a part of a predetermined amount of the oxidizing agent to be contacted is contacted. May cause solids to precipitate. Even in such a case, a uniform solution of the silicon-oxygen crosslinked structure can be obtained by bringing all of the predetermined amount of oxidant into contact with each other and maintaining the solvent in a state where the solvent does not evaporate.

上記アルコキシシラン混合物溶液に水及び酸化剤を添加することにより、硫黄原子含有基を持つアルコキシシラン中の硫黄原子含有基がスルホン酸基に酸化されると同時に、上記両アルコキシシランの加水分解・縮合反応が進行し、更にエポキシ基の一部又は全部が、スルホン酸基の生成により反応系が酸性となり、これによってエポキシ基が開環して−CH(OH)−CH3に変換されて水酸基が生成し、この水酸基が上記縮合反応に関与し、この水酸基相互が、また上記アルコキシシランの加水分解で生成した水酸基との間で縮合が行われ、珪素−酸素架橋構造体が製造される。 By adding water and an oxidizing agent to the alkoxysilane mixture solution, the sulfur atom-containing group in the alkoxysilane having a sulfur atom-containing group is oxidized to a sulfonic acid group, and at the same time, hydrolysis and condensation of both alkoxysilanes are performed. The reaction proceeds, and further, a part or all of the epoxy group becomes acidic due to the formation of a sulfonic acid group, which causes the epoxy group to ring open and be converted to —CH (OH) —CH 3 , resulting in a hydroxyl group. The hydroxyl group is involved in the condensation reaction, and the hydroxyl group is condensed with the hydroxyl group generated by hydrolysis of the alkoxysilane to produce a silicon-oxygen crosslinked structure.

珪素−酸素架橋構造体の分子構造は特に限定されず、具体的には、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状、分岐状、網状が例示され、好ましくは直鎖状、分岐状である。また、溶液の粘度は濃度によって大きく変動するため特に限定されず、例えば、25℃における粘度の値が1〜50,000mPa・sの範囲であることが好ましく、更に5〜1,000mPa・sの範囲であることが好ましい。ここで、この粘度は回転粘度計による測定値である。   The molecular structure of the silicon-oxygen crosslinked structure is not particularly limited, and specific examples include linear, partially branched linear, branched, and network, preferably linear and branched. . Further, the viscosity of the solution is not particularly limited because it greatly varies depending on the concentration. For example, the viscosity value at 25 ° C. is preferably in the range of 1 to 50,000 mPa · s, and more preferably 5 to 1,000 mPa · s. A range is preferable. Here, this viscosity is a value measured by a rotational viscometer.

本発明の珪素−酸素架橋構造体のスルホン酸基は、炭化水素基等の酸化剤や溶媒に対する反応性の低い基R’を介して珪素原子に化学的に結合している。従って、水等の溶媒に均一に溶解させた場合でも、スルホン酸基が硫酸として遊離しない。   The sulfonic acid group of the silicon-oxygen crosslinked structure of the present invention is chemically bonded to a silicon atom via a group R ′ having low reactivity with an oxidizing agent such as a hydrocarbon group or a solvent. Therefore, even when it is uniformly dissolved in a solvent such as water, the sulfonic acid group is not liberated as sulfuric acid.

溶液中の珪素−酸素架橋構造体の濃度は、通常10質量%以上、好ましくは40質量%以上であり、通常99質量%以下、好ましくは95質量%以下、より好ましくは80質量%以下であり、シロキサン類が溶解する範囲で高濃度である方が好ましい。溶液中のシロキサン類の濃度やシロキサン類由来の珪素濃度は、必要に応じて上述した水及び/又は有機溶媒を加えたり、減圧蒸留等により溶媒のみを除去することによって所定の濃度に調節できる。ここでいう有機溶媒としては、前述した有機溶媒と同様のものが使用できる。   The concentration of the silicon-oxygen crosslinked structure in the solution is usually 10% by mass or more, preferably 40% by mass or more, and usually 99% by mass or less, preferably 95% by mass or less, more preferably 80% by mass or less. A higher concentration is preferable as long as siloxanes are dissolved. The concentration of the siloxanes in the solution and the silicon concentration derived from the siloxanes can be adjusted to a predetermined concentration by adding the above-described water and / or organic solvent as necessary, or removing only the solvent by vacuum distillation or the like. As an organic solvent here, the thing similar to the organic solvent mentioned above can be used.

次に、本発明の高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物は、以下の(A),(B),(C)成分を含有してなるものである。
(A)下記平均組成式(1)で示され、末端がトリオルガノシリル基又はジオルガノヒドロキシシリル基で封鎖されたビニル基含有オルガノポリシロキサン、
2 aSiO(4-a)/2 (1)
(式中、R2は炭素数1〜10の同一又は異種の非置換もしくは置換の一価炭化水素基、ただし、1分子中のビニル基の合計が2以上であり、aは1.95〜2.05の正数を表す。)
(B)上記で製造した珪素−酸素架橋構造体、
(C)架橋剤
Next, the silicone rubber composition for polymer electrolyte membrane of the present invention comprises the following components (A), (B), and (C).
(A) A vinyl group-containing organopolysiloxane represented by the following average composition formula (1) and having a terminal blocked with a triorganosilyl group or a diorganohydroxysilyl group:
R 2 a SiO (4-a) / 2 (1)
(In the formula, R 2 is the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, provided that the total number of vinyl groups in one molecule is 2 or more, and a is 1.95 to Represents a positive number of 2.05.)
(B) the silicon-oxygen crosslinked structure produced above,
(C) Crosslinking agent

本発明に用いられるビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、組成物の主剤で、強度に大きな影響を与えるものであり、下記平均組成式(1)で示され、末端がトリオルガノシリル基R 2 3Si−又はジオルガノヒドロキシシリル基R2 2 Si(OH)−で封鎖されたものである。
2 aSiO(4-a)/2 (1)
(式中、R2は炭素数1〜10の同一又は異種の非置換もしくは置換の一価炭化水素基、ただし、1分子中のビニル基の合計が2以上であり、aは1.95〜2.05の正数を表す。)
The vinyl group-containing organopolysiloxane (A) used in the present invention is a main component of the composition and has a great influence on the strength. The vinyl group-containing organopolysiloxane (A) is represented by the following average composition formula (1), and the terminal is a triorganosilyl group R: It is blocked with 2 3 Si- or a diorganohydroxysilyl group R 2 2 Si (OH)-.
R 2 a SiO (4-a) / 2 (1)
(In the formula, R 2 is the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, provided that the total number of vinyl groups in one molecule is 2 or more, and a is 1.95 to Represents a positive number of 2.05.)

上記式(1)中、R2は、同一又は異種の置換もしくは非置換の炭素数1〜10、好ましくは1〜8の一価炭化水素基であるが、このような一価炭化水素基としては、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル基;フェニル基,トリル基,キシリル基等のアリール基;ベンジル基,フェネチル基等のアラルキル基;3−クロロプロピル基,3,3,3−トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基等の一価炭化水素基が例示され、好ましくはメチル基,フェニル基である。 In the above formula (1), R 2 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms, and preferably 1 to 8 carbon atoms. Is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group or a hexyl group; an aryl group such as a phenyl group, a tolyl group or a xylyl group; an aralkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group; Examples thereof include monovalent hydrocarbon groups such as halogen-substituted alkyl groups such as propyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group, preferably methyl group and phenyl group.

2は、一分子中に少なくとも2個以上のビニル基を有するものであり、R2中のビニル基の含有量は、0.01〜10モル%、特に0.05〜5モル%であることが好ましい。該ビニル基の結合位置は特に限定されず、例えば、分子鎖末端、分子鎖側鎖、分子鎖末端と分子鎖側鎖が挙げられる。 R 2 has at least two or more vinyl groups in one molecule, and the content of vinyl groups in R 2 is 0.01 to 10 mol%, particularly 0.05 to 5 mol%. It is preferable. The bonding position of the vinyl group is not particularly limited, and examples thereof include molecular chain end, molecular chain side chain, molecular chain end and molecular chain side chain.

(A)成分のオルガノポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、又は一部分岐を有する直鎖状が好ましく、1種を単独で、又は重合度や分子構造の異なる2種以上を混合して用いてよい。   The molecular structure of the organopolysiloxane (A) is preferably linear or partially branched, and one type is used alone, or two or more types having different degrees of polymerization and molecular structures are used in combination. It's okay.

(A)成分の重合度は、R2 aSiO(4-a)/2単位として100以上の整数であり、好ましくは200〜100,000である。この単位が100未満ではゴム強度特性が悪く、本発明の目的を達しえない場合がある。(A)成分は、具体的には通常シリコーン生ゴムと呼ばれる形態のオルガノポリシロキサンが好ましい。 The degree of polymerization of the component (A) is an integer of 100 or more as R 2 a SiO (4-a) / 2 units, and preferably 200 to 100,000. If this unit is less than 100, the rubber strength characteristics are poor and the object of the present invention may not be achieved. Specifically, the component (A) is preferably an organopolysiloxane usually in the form of silicone raw rubber.

このような(A)成分として、具体的には、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体,分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン,分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体,分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体,分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン,分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン,分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン,分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体,分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体,分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体,分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体,分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体,分子鎖両末端シラノール基封鎖メチルビニルポリシロキサン,分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体が例示される。   Specifically, as the component (A), molecular chain both ends trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, molecular chain both ends trimethylsiloxy group-capped methylvinylpolysiloxane, molecular chain both ends trimethyl Siloxy group-blocked methylvinylsiloxane / diphenylsiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane / diphenylsiloxane copolymer, both ends of molecular chain dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, both molecular chains Terminal dimethylvinylsiloxy-blocked methylvinylpolysiloxane, molecular chain both ends dimethylvinylsiloxy-blocked methylphenylpolysiloxane, molecular chain both ends dimethylvinylsiloxy-blocked dimethylsiloxane methylvinyl Roxane copolymer, dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylvinylsiloxy group copolymer at both ends of molecular chain, dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / diphenylsiloxane copolymer at both chain ends, silanol-blocked dimethylol at both ends of molecular chain Siloxane / methylvinylsiloxane copolymer, silanol-blocked dimethylsiloxane / diphenylsiloxane copolymer, silanol group-blocked methylvinylpolysiloxane, silanol-blocked methylvinylpolysiloxane, silanol-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane -A methylphenylsiloxane copolymer is illustrated.

(B)成分は、上記記載の珪素−酸素架橋構造体又はその溶液である。この溶液は、強酸の形態であるがゆえに、周辺の腐食や共存高分子の劣化を引き起こすため、スルホン酸基を塩基性化合物により中和してスルホン酸塩としておくことが必要である。   The component (B) is the above-described silicon-oxygen crosslinked structure or a solution thereof. Since this solution is in the form of a strong acid, in order to cause peripheral corrosion and deterioration of the coexisting polymer, it is necessary to neutralize the sulfonic acid group with a basic compound to form a sulfonate.

塩基性化合物として、アンモニア水や水酸化カリウムの水溶液、ナトリウムメトキサイドのアルコール溶液等により中和しておくこともできるが、この珪素−酸素架橋構造体は、含窒素化合物を添加して含窒素化合物と前記珪素−酸素架橋構造体のスルホン酸基との塩の形態とすることで、低湿度下でもイオン伝導性材料として用いられるようにすることができる。とりわけ、含窒素化合物として、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾールからなる群から選ばれる含窒素ヘテロ環化合物を用いることが好ましい。 As a basic compound, it can be neutralized with an aqueous solution of ammonia water, potassium hydroxide, an alcohol solution of sodium methoxide, etc., but this silicon-oxygen crosslinked structure is obtained by adding a nitrogen-containing compound to form a nitrogen-containing compound. By using a salt form of the compound and the sulfonic acid group of the silicon-oxygen crosslinked structure, it can be used as an ion conductive material even under low humidity. Especially, nitrogen-containing compounds, imidazole, pyrazole, triazole, it is preferable to use a nitrogen-containing heterocyclic compound selected from Tetorazo Le or Ranaru group.

これまでのプロトン伝導性材料及びプロトン伝導性材料膜においては、イオン伝達助剤として水を用いている場合がほとんどであるが、本発明のように高温作動性を高めた場合、100℃以上では水の蒸発が起こり、十分なイオン伝達助剤としての性能を発揮することができないのに対し、含窒素ヘテロ環化合物を用いた場合は、中和と同時にイオン伝達助剤の働きをさせることができる。   In conventional proton conductive materials and proton conductive material membranes, water is mostly used as an ion transfer aid. However, when high temperature operability is improved as in the present invention, at 100 ° C. or higher, While evaporation of water occurs and the performance as a sufficient ion transfer aid cannot be achieved, when a nitrogen-containing heterocyclic compound is used, the ion transfer aid can be made to work simultaneously with neutralization. it can.

珪素−酸素架橋構造体を中和するための塩基性化合物の使用量は、スルホン酸基のモル数の当量以上10当量倍以下が望ましく、更には2当量倍〜5当量倍が望ましい。当量未満では酸性のためオルガノポリシロキサンの切断による劣化が起こることがあり、10当量倍を超える量では、膜のゴム物性が低下することがある。
また、中和の方法は、珪素−酸素架橋構造体の溶液に撹拌下で塩基性化合物を添加することにより速やかに中和することができる。この時発熱するので水浴等で冷却することが望ましい。
The amount of the basic compound used for neutralizing the silicon-oxygen crosslinked structure is preferably not less than the equivalent of the number of moles of the sulfonic acid group and not more than 10 equivalents, and more preferably 2 to 5 equivalents. If the amount is less than the equivalent, it is acidic, and degradation due to cutting of the organopolysiloxane may occur. If the amount exceeds 10 equivalents, the rubber physical properties of the film may be deteriorated.
Moreover, the neutralization method can be quickly neutralized by adding a basic compound to the silicon-oxygen crosslinked structure solution with stirring. Since heat is generated at this time, it is desirable to cool in a water bath or the like.

とりわけイオン伝導に重要な役割を果たしている(B)成分の配合量は、溶媒を計算上除いた純分換算で(A)成分100質量部に対して、20〜400質量部の範囲であり、より好ましくは50〜200質量部の範囲である。これは、(B)成分の配合量が、(A)成分100質量部に対して20質量部未満であると、得られたシリコーンゴムのイオン導電性が著しく低下する場合があり、また400質量部を超えると、得られた組成物の流動性が著しく低下し、その組成物の取り扱い作業性が著しく困難となる場合がある。   In particular, the blending amount of the component (B) that plays an important role in ion conduction is in the range of 20 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A) in terms of the pure component excluding the solvent in calculation, More preferably, it is the range of 50-200 mass parts. This is because, when the blending amount of the component (B) is less than 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), the ionic conductivity of the obtained silicone rubber may be remarkably lowered, and 400 masses. When it exceeds the part, the fluidity of the obtained composition is remarkably lowered, and the handling workability of the composition may be extremely difficult.

(C)成分の架橋剤は、硬化剤としての働きを持つ。通常シリコーンゴム組成物の架橋に使用されるラジカル反応、付加反応等を利用して架橋、硬化させるものであれば、その硬化機構に制限はなく、従来公知の種々の硬化剤を用いることができる。例えばラジカル反応では有機過酸化物が使用され、付加反応では白金系触媒とオルガノハイドロジェンポリシロキサンを組み合わせたものが使用できる。
(C)成分の配合量は、(A)成分のオルガノポリシロキサンを硬化させ得る量であり、通常のシリコーンゴム組成物と同様でよい。
The crosslinking agent (C) has a function as a curing agent. There are no limitations on the curing mechanism, and various conventionally known curing agents can be used as long as they are crosslinked and cured using radical reactions, addition reactions, etc., which are usually used for crosslinking of silicone rubber compositions. . For example, an organic peroxide is used in the radical reaction, and a combination of a platinum catalyst and an organohydrogenpolysiloxane can be used in the addition reaction.
The compounding amount of the component (C) is an amount capable of curing the organopolysiloxane of the component (A) and may be the same as that of a normal silicone rubber composition.

これらの中でも、アミン等の含窒素化合物を使用する場合は、架橋阻害が起こらない有機過酸化物を用いることが好ましい。より具体的に、有機過酸化物硬化剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、o−メチルベンゾイルパーオキサイド、p−メチルベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエート等が挙げられる。
有機過酸化物の配合量は、(A)成分100質量部に対して0.1〜10質量部、より好ましくは0.5〜10質量部が望ましい。特に1〜5質量部とすることが好ましく、0.1質量部未満の添加量では架橋密度が低くゴム強度が低下する傾向があり、10質量部を超えると過酸化物の分解残渣が残存しやすくなる場合がある。
Among these, when using nitrogen-containing compounds such as amines, it is preferable to use organic peroxides that do not inhibit crosslinking. More specifically, examples of the organic peroxide curing agent include benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, o-methylbenzoyl peroxide, p-methylbenzoyl peroxide, and 2,4-dicumyl peroxide. 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, di-t-butyl peroxide, t-butyl perbenzoate and the like.
The compounding amount of the organic peroxide is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). In particular, the amount is preferably 1 to 5 parts by mass. If the addition amount is less than 0.1 parts by mass, the crosslinking density tends to be low and the rubber strength tends to decrease. If the amount exceeds 10 parts by mass, peroxide decomposition residues remain. It may be easier.

本発明に用いるシリコーンゴム組成物を、架橋させて導電性シリコーンゴムとする方法は、未硬化の被膜に可視光線よりも波長の短い紫外線、電子線、X線、γ線などの電磁波を照射することで行うこともできる。紫外線を照射する場合は、高圧水銀灯を用いることができ、照射エネルギーは、例えば365nmの波長の紫外線量で、20〜20,000mJ/cm2、より望ましくは50〜5,000mJ/cm2照射することができる。あるいは、紫外線等の照射と熱処理を併用することもでき、このようにすると、被膜形成成分の硬化が促進され、得られる透明被膜の硬度が高くなることがある。硬化に必要な光重合開始剤は、適宜に加えることができる。
光重合開始剤として、具体的には、アシルホスフィンオキサイド(ルシリンTPO、BASF社製)、ダロキュアー1173(ヒドロキシケトン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、イルガキュアー907(アミノケトン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)等が例示される。またこの場合の架橋剤として、1分子中に少なくとも2つのメルカプトアルキル基を有するオルガノポリシロキサンが用いられる。
The method of cross-linking the silicone rubber composition used in the present invention into a conductive silicone rubber irradiates an uncured film with electromagnetic waves such as ultraviolet rays, electron beams, X-rays and γ rays having a wavelength shorter than that of visible light. It can also be done. Case of irradiation with ultraviolet light may be used a high-pressure mercury lamp, irradiation energy, for example in quantity of ultraviolet wavelength of 365nm, 20~20,000mJ / cm 2, and more desirably 50~5,000mJ / cm 2 irradiated be able to. Alternatively, irradiation with ultraviolet rays or the like and heat treatment can be used in combination. In this case, curing of the film forming component is promoted, and the hardness of the obtained transparent film may be increased. A photopolymerization initiator necessary for curing can be appropriately added.
Specific examples of the photopolymerization initiator include acylphosphine oxide (Lucirin TPO, manufactured by BASF), Darocur 1173 (hydroxyketone, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Irgacure 907 (aminoketone, Ciba Specialty Chemicals) Manufactured) and the like. In this case, an organopolysiloxane having at least two mercaptoalkyl groups in one molecule is used as a crosslinking agent.

本発明の高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物は、下記工程(第3及び4の工程)により得ることができる。即ち、第3及び4の工程は、(B)珪素−酸素架橋構造体溶液と(A)ビニル基含有オルガノポリシロキサンの混合を行う。混合後、珪素−酸素架橋構造体を溶解させ、ビニル基含有オルガノポリシロキサンとの均一な分散を助けていた溶媒を除き、(C)架橋剤を加えることによりシリコーンゴム組成物が調製できる。   The silicone rubber composition for a polymer electrolyte membrane of the present invention can be obtained by the following steps (third and fourth steps). That is, in the third and fourth steps, (B) a silicon-oxygen crosslinked structure solution and (A) a vinyl group-containing organopolysiloxane are mixed. After mixing, a silicone rubber composition can be prepared by dissolving the silicon-oxygen crosslinked structure, removing the solvent that has helped uniform dispersion with the vinyl group-containing organopolysiloxane, and adding (C) a crosslinking agent.

まず、上記塩基性化合物で中和した(B)成分の、溶液中のシロキサン類の濃度やシロキサン類由来の珪素濃度を、必要に応じて上述した水や有機溶媒を加えたり、減圧蒸留等により溶媒のみを除去することによって所定の濃度に調節する。ここで、この濃度は30〜90質量%が望ましく、より望ましくは40〜80質量%である。30質量%未満では混合量が多くなるため、混合時間が長くなり、経済的に不利であり、90質量%より多いと珪素−酸素架橋構造体とビニル基含有オルガノポリシロキサンの均一分散が困難になることがある。
その後、この(B)成分と(A)成分とを混合し、更に溶媒を除去することでシロキサン混合物を得ることができる。溶媒を除去する際の乾燥は、60℃以上200℃以下の温度で、より好ましくは80℃以上180℃以下、更に好ましくは80〜120℃の温度で0.5〜5時間加熱する。乾燥の際には自然乾燥、加熱乾燥、オートクレーブによる加圧加熱等、公知の方法を使用してもよい。
次いで、室温に冷却した後、この混合物に(C)成分を加え、組成物とする。
First, the concentration of the siloxanes in the solution or the silicon concentration derived from the siloxanes of the component (B) neutralized with the basic compound is added by adding water or an organic solvent as described above, or by vacuum distillation or the like. Adjust to a predetermined concentration by removing only the solvent. Here, the concentration is desirably 30 to 90% by mass, and more desirably 40 to 80% by mass. If the amount is less than 30% by mass, the amount of mixing increases, so the mixing time becomes long and economically disadvantageous. If it exceeds 90% by mass, uniform dispersion of the silicon-oxygen crosslinked structure and the vinyl group-containing organopolysiloxane becomes difficult. May be.
Then, this (B) component and (A) component are mixed, and a siloxane mixture can be obtained by removing a solvent further. Drying at the time of removing the solvent is performed at a temperature of 60 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and further preferably 80 to 120 ° C. for 0.5 to 5 hours. In drying, known methods such as natural drying, heat drying, and pressure heating with an autoclave may be used.
Subsequently, after cooling to room temperature, (C) component is added to this mixture, and it is set as a composition.

あるいは、本発明のシリコーンゴム組成物の調製において、上記(A)成分と(B)成分の混合は、2本ロール、バンバリーミキサー、ドウミキサー(ニーダー)などのゴム混練り機を用いて均一に混合することができ、また、この混合物と(C)成分の混合は、2本ロールを用いて混合することができる。   Alternatively, in the preparation of the silicone rubber composition of the present invention, the components (A) and (B) are mixed uniformly using a rubber kneader such as a two-roll, Banbury mixer, or dough mixer (kneader). The mixture can be mixed with the component (C) using two rolls.

本発明のシリコーンゴム組成物には、上記必須成分に加え、任意成分として本発明の効果を妨げない範囲で、必要に応じ、他の導電剤、補強剤、発泡剤、難燃剤、耐熱性向上剤などの各種添加剤や反応制御剤、離型剤あるいは充填剤用分散剤を加えることができる。   In the silicone rubber composition of the present invention, in addition to the above essential components, other conductive agents, reinforcing agents, foaming agents, flame retardants, and heat resistance are improved as necessary as long as they do not interfere with the effects of the present invention as optional components. Various additives such as an agent, a reaction control agent, a release agent, or a filler dispersant can be added.

補強剤は、補強性シリカ粉末を好適に用いうる。このシリカ粉末は、機械的強度の優れたシリコーンゴムを得るために添加されるものであるが、この目的のためには、比表面積が50m2/g以上、好ましくは100〜300m2/gであることが好ましい。比表面積が50m2/gに満たないと硬化物の機械的強度が低くなってしまう場合がある。このような補強性シリカとしては、例えば煙霧質シリカ、沈降シリカ等が挙げられ、またこれらの表面をクロロシランやヘキサメチルジシラザンなどで疎水化したものも好適に用いられる。補強性シリカ粉末等の補強剤の添加量は、(A)成分のオルガノポリシロキサン100質量部に対して0〜70質量部、特に3〜50質量部とすることが好ましい。 As the reinforcing agent, reinforcing silica powder can be suitably used. The silica powder is added to obtain a silicone rubber having excellent mechanical strength. For this purpose, the specific surface area is 50 m 2 / g or more, preferably 100 to 300 m 2 / g. Preferably there is. If the specific surface area is less than 50 m 2 / g, the mechanical strength of the cured product may be lowered. Examples of such reinforcing silica include fumed silica, precipitated silica, and the like, and those whose surfaces are hydrophobized with chlorosilane, hexamethyldisilazane, or the like are also preferably used. The addition amount of the reinforcing agent such as reinforcing silica powder is preferably 0 to 70 parts by mass, particularly 3 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organopolysiloxane of the component (A).

また、ベンガラ等の着色剤、粉砕石英、炭酸カルシウムなどの増量剤を添加してもよい。難燃剤は、本発明のシリコーンゴム組成物を難燃性、耐火性にするために、白金含有材料、白金化合物と二酸化チタン、白金と炭酸マンガン、白金とγ−Fe23、フェライト、マイカ、ガラス繊維、ガラスフレークなどの公知の添加剤を添加してもよい。 Further, a coloring agent such as Bengala, and a bulking agent such as pulverized quartz and calcium carbonate may be added. The flame retardant contains platinum-containing material, platinum compound and titanium dioxide, platinum and manganese carbonate, platinum and γ-Fe 2 O 3 , ferrite, mica to make the silicone rubber composition of the present invention flame retardant and fire resistant. Further, known additives such as glass fiber and glass flake may be added.

分散剤としては、ジフェニルシランジオール、各種アルコキシシラン、カーボンファンクショナルシラン、シラノール基含有低分子量シロキサンなど、通常のものが用いうるが、量は本発明の効果を損なわないように最小限の添加量に止めることが好ましい。   As the dispersant, usual ones such as diphenylsilane diol, various alkoxysilanes, carbon functional silane, silanol group-containing low molecular weight siloxane can be used, but the amount is the minimum addition amount so as not to impair the effects of the present invention. It is preferable to stop.

このようにして得られたシリコーンゴム組成物は、射出成形、注型成形、金型加圧成形(熱プレス)、押出成形などの種々の成形法によって必要とされるシリコーンゴムに成形することができる。
なお、硬化条件は適宜調整することができるが、80〜200℃、好ましくは100〜180℃で、5秒〜60分、好ましくは20秒〜30分程度とすることが好適である。
The silicone rubber composition thus obtained can be molded into silicone rubber required by various molding methods such as injection molding, cast molding, mold pressure molding (hot press), and extrusion molding. it can.
In addition, although hardening conditions can be adjusted suitably, it is 80-200 degreeC, Preferably it is 100-180 degreeC, 5 seconds-60 minutes, Preferably it is about 20 seconds-30 minutes.

本発明のプロトン伝導性高分子電解質膜は、上記で得られたシリコーンゴム組成物の硬化物よりなるもので、該シリコーンゴム組成物を架橋、硬化することで機械的強度と導電特性の両立したゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜を得ることができるものである(第4の工程)。   The proton conductive polymer electrolyte membrane of the present invention comprises a cured product of the silicone rubber composition obtained above, and the silicone rubber composition is cross-linked and cured to achieve both mechanical strength and conductive properties. A proton conductive polymer electrolyte membrane having rubber elasticity can be obtained (fourth step).

プロトン伝導性高分子電解質膜を得るための一般的な条件は、該シリコーンゴム組成物を、100〜200℃、好ましくは120〜180℃の温度の熱プレスにより架橋・製膜することで得られる。ここで、熱プレス条件は、10〜100kgf/cm2、特に30〜80kgf/cm2の圧力で、1〜30分、特に5〜20分とすることができる。 General conditions for obtaining a proton conductive polymer electrolyte membrane can be obtained by crosslinking and forming the silicone rubber composition by hot pressing at a temperature of 100 to 200 ° C, preferably 120 to 180 ° C. . Here, the hot press conditions can be 1 to 30 minutes, particularly 5 to 20 minutes at a pressure of 10 to 100 kgf / cm 2 , particularly 30 to 80 kgf / cm 2 .

更に、該膜を必要に応じて、酸性水溶液中に浸漬することにより、導電性の向上した膜が得られる。この工程は、上記第4の工程までで得られた膜内でスルホン酸基にプロトンを導入する工程である。酸性溶液としては、例えば、リン酸水溶液、塩酸水溶液、硫酸水溶液が挙げられる。酸性溶液の濃度は好ましくは0.05〜5Nである。浸漬温度は好ましくは15〜35℃であり、浸漬時間は好ましくは1〜60分である。   Furthermore, the film | membrane with improved electroconductivity is obtained by immersing this film | membrane in acidic aqueous solution as needed. This step is a step of introducing protons into the sulfonic acid group in the membrane obtained up to the fourth step. Examples of the acidic solution include a phosphoric acid aqueous solution, a hydrochloric acid aqueous solution, and a sulfuric acid aqueous solution. The concentration of the acidic solution is preferably 0.05 to 5N. The immersion temperature is preferably 15 to 35 ° C., and the immersion time is preferably 1 to 60 minutes.

このようにして得られた本発明のプロトン伝導性高分子電解質膜の厚さは特に制限されないが、好ましくは0.001〜1mm、より好ましくは0.01〜0.5mmである。   The thickness of the proton conductive polymer electrolyte membrane of the present invention thus obtained is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 1 mm, more preferably 0.01 to 0.5 mm.

本発明のプロトン伝導性高分子電解質膜は、イオン伝導性に優れ、製造が容易で低コストであり、強度に優れ、耐熱性が高いものであり、とりわけ、高弾性のためシール性に優れ、湿度変化によるプロトン伝導性能の変動が小さく、特に低湿下におけるプロトン伝導性能にも優れるものである。
本発明のプロトン伝導性高分子電解質膜は、燃料電池、水電解、ハロゲン化水素酸電解、食塩電解、酸素濃縮器、湿度センサ、ガスセンサ等に広く用いることができる。
The proton conductive polymer electrolyte membrane of the present invention is excellent in ion conductivity, easy to manufacture and low in cost, excellent in strength, and high in heat resistance. The fluctuation of proton conduction performance due to changes in humidity is small, and the proton conduction performance is particularly excellent under low humidity.
The proton conductive polymer electrolyte membrane of the present invention can be widely used in fuel cells, water electrolysis, hydrohalic acid electrolysis, salt electrolysis, oxygen concentrators, humidity sensors, gas sensors and the like.

以下、合成例、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.

[実施例1〜4、比較例1〜3]
〔珪素−酸素架橋構造体の合成〕
[合成例1]
(1)エポキシスルホン酸基含有レジン(珪素−酸素架橋構造体)の製造(Ep25)
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製:KBM−803)156.8質量部(0.8mol)とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製:KBM−403)63.0質量部(0.267mol)に、エタノール260質量部、蒸留水40質量部を室温で加えて溶解させた。ここに、30%過酸化水素水溶液288質量部(2.54mol)を3時間かけて撹拌しながら滴下すると、徐々に温度が上昇すると同時に粘度が上昇し、硫黄原子含有基の酸化とトリメトキシシランの加水分解が同時に進行し、ゲル状物になった。
[Examples 1-4, Comparative Examples 1-3]
[Synthesis of silicon-oxygen crosslinked structure]
[Synthesis Example 1]
(1) Production of epoxy sulfonic acid group-containing resin (silicon-oxygen crosslinked structure) (Ep25)
3-mercaptopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-803) 156.8 parts by mass (0.8 mol) and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM) -403) To 63.0 parts by mass (0.267 mol), 260 parts by mass of ethanol and 40 parts by mass of distilled water were added and dissolved at room temperature. When 288 parts by mass of a 30% aqueous hydrogen peroxide solution (2.54 mol) was added dropwise with stirring over 3 hours, the temperature gradually increased and at the same time the viscosity increased, oxidation of the sulfur atom-containing group and trimethoxysilane. The hydrolysis proceeded simultaneously to form a gel.

ゲル状物は、オイルバスを用いて80℃で加熱を続けると再溶解が起こった。この溶液を80℃で3時間加熱撹拌したところ、低粘度の均一な透明溶液が得られた。
この反応容器にエステルコンデンサーを取り付け、窒素気流下、更に80℃で3時間加熱撹拌を行って、エステルコンデンサーからアルコール類を除去し、濃縮を行い、無色透明の均一溶液440gを得た。
The gel-like material was redissolved when heated at 80 ° C. using an oil bath. When this solution was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours, a uniform transparent solution having a low viscosity was obtained.
An ester condenser was attached to the reaction vessel, and the mixture was further heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream to remove alcohols from the ester condenser and concentrated to obtain 440 g of a colorless and transparent uniform solution.

この溶液は、エポキシ基を持つアルコキシシランと硫黄原子含有基を持つアルコキシシランとを、水及び酸化剤の存在下で反応させ、前記両アルコキシシランの共加水分解・縮合と、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換と、前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせることによって得られた珪素−酸素架橋構造体が、水を主成分とする溶媒に溶解した溶液である。得られた溶液中の不揮発分を105℃,3時間乾燥機中で保持することによって定量したところ、44%であった。この溶液1gを水25gに溶解し、フェノールフタレインを指示薬として0.1N NaOH水溶液(f=1.004)での滴定によりスルホン酸基の含有量を求めると、4.2mmol/gであった。この均一な溶液を、エポキシスルホン酸基含有レジン(Ep25)とする。   In this solution, an alkoxysilane having an epoxy group and an alkoxysilane having a sulfur atom-containing group are reacted in the presence of water and an oxidizing agent to co-hydrolyze / condense both alkoxysilanes and sulfur by the oxidizing agent. A silicon-oxygen crosslinked structure obtained by converting an atom-containing group into a sulfonic acid group, ring-opening the epoxy group, and condensing a hydroxyl group generated based on the ring opening is a solvent containing water as a main component. It is a solution dissolved in The non-volatile content in the obtained solution was quantitatively determined by holding it in a dryer at 105 ° C. for 3 hours, and it was 44%. 1 g of this solution was dissolved in 25 g of water, and the content of sulfonic acid group was determined by titration with 0.1N NaOH aqueous solution (f = 1.004) using phenolphthalein as an indicator, and found to be 4.2 mmol / g. . This uniform solution is referred to as an epoxysulfonic acid group-containing resin (Ep25).

この溶液は、下記に示すように、アンモニア水溶液あるいは1−メチルイミダゾールを、撹拌・冷却下にリトマス紙で中性〜弱塩基性を示すまで徐々に加えることで、酸性ではない溶液にして、以下のプロトン伝導性材料として使用する。   This solution is, as shown below, an aqueous ammonia solution or 1-methylimidazole, gradually added with stirring and cooling until neutral to weakly basic with litmus paper to make a non-acidic solution. Used as a proton conductive material.

[合成例2]
(2)エポキシスルホン酸基含有レジン(珪素−酸素架橋構造体)の製造(Ep50)
合成例1のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン63.0質量部(0.267mol)の代わりに、188.8質量部(0.8mol)を用いる以外は同様に操作して、無色透明の均一溶液690gを得た。この均一な溶液を、エポキシスルホン酸基含有レジン(Ep50)とする。
[Synthesis Example 2]
(2) Production of epoxysulfonic acid group-containing resin (silicon-oxygen crosslinked structure) (Ep50)
The same operation was carried out except that 188.8 parts by mass (0.8 mol) was used instead of 63.0 parts by mass (0.267 mol) of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane in Synthesis Example 1, and colorless and transparent 690 g of a homogeneous solution was obtained. This uniform solution is referred to as an epoxysulfonic acid group-containing resin (Ep50).

[比較合成例1]
(3)スルホン酸基含有レジン(珪素−酸素架橋構造体)の製造(S100)
合成例1のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを全く使用しない以外は同様に操作して、無色透明の均一溶液340gを得た。この均一な溶液を、エポキシ基を全く含まないスルホン酸基含有レジン(S100)とする。
[Comparative Synthesis Example 1]
(3) Production of sulfonic acid group-containing resin (silicon-oxygen crosslinked structure) (S100)
The same operation was performed except that γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane of Synthesis Example 1 was not used at all, to obtain 340 g of a colorless and transparent uniform solution. This uniform solution is referred to as a sulfonic acid group-containing resin (S100) containing no epoxy group.

[比較合成例2]
(4)エポキシ基含有レジン(珪素−酸素架橋構造体)の製造(Ep100)
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製:KBM−403)188.8質量部(0.8mol)に、エタノール260質量部、蒸留水40質量部を室温で加えて溶解させた。ここに、0.05N塩化水素水溶液110質量部を一定速度で3時間かけて撹拌しながら滴下すると、徐々に温度が上昇すると同時に粘度が上昇し、トリメトキシシランの加水分解が進行した。この溶液を80℃で3時間加熱撹拌した後、エステルコンデンサーを取り付け、窒素気流下、アルコール類を除去し、濃縮を行い、無色透明の均一溶液250gを得た。この均一な溶液を、エポキシ基含有レジン(Ep100)とする。
[Comparative Synthesis Example 2]
(4) Production of epoxy group-containing resin (silicon-oxygen crosslinked structure) (Ep100)
γ-Glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-403) is dissolved in 188.8 parts by mass (0.8 mol) of 260 parts by mass of ethanol and 40 parts by mass of distilled water at room temperature. I let you. When 110 parts by mass of 0.05N hydrogen chloride aqueous solution was added dropwise with stirring at a constant rate for 3 hours, the temperature gradually increased and at the same time the viscosity increased and trimethoxysilane hydrolysis proceeded. This solution was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours, then an ester condenser was attached, alcohols were removed under a nitrogen stream, and concentration was performed to obtain 250 g of a colorless and transparent uniform solution. This uniform solution is referred to as an epoxy group-containing resin (Ep100).

上記(1)〜(4)のレジン溶液の不揮発分(105℃,3時間)、屈折率、比重、粘度、スルホン酸基の含有量を測定した結果を表1に記す。
なお、レジン溶液の不揮発分はJIS C 2103に準拠して105℃×3時間の条件で測定し、屈折率はJIS K 0062に準拠してアッベ屈折計法で測定し、比重はJIS Z 8804に準拠して浮秤計法で測定し、粘度はJIS Z 8803に準拠して毛細管粘度計法で測定し、スルホン酸基の含有量はフェノールフタレイン指示薬を使用し、0.1NのNaOH水溶液による酸滴定法により測定した。
また、これらの溶液にガラス板を浸漬して引き上げ、乾燥機中で保持することによって製膜した。この膜の表面抵抗を、三菱化学(株)製 表面抵抗器 Hiresta−UP MCP−HT450にて印加電圧10Vで定量したところ、表1に示すとおり比較合成例1,2は、製膜性が悪いか、膜の表面抵抗が悪いかのどちらかであるのに対し、合成例1,2は、製膜性と膜の表面抵抗が共に良好であるという結果が得られた。
Table 1 shows the results of measuring the nonvolatile content (105 ° C., 3 hours), refractive index, specific gravity, viscosity, and sulfonic acid group content of the resin solutions (1) to (4).
The non-volatile content of the resin solution is measured under conditions of 105 ° C. × 3 hours in accordance with JIS C 2103, the refractive index is measured by Abbe refractometer method in accordance with JIS K 0062, and the specific gravity is in accordance with JIS Z 8804. In accordance with buoyometer method, viscosity is measured by capillary viscometer method in accordance with JIS Z 8803, sulfonic acid group content is 0.1N NaOH aqueous solution using phenolphthalein indicator. It was measured by the acid titration method.
Moreover, the glass plate was immersed in these solutions, pulled up, and formed into a film by holding in a dryer. When the surface resistance of this film was quantified at an applied voltage of 10 V using a surface resistor Hiresta-UP MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, as shown in Table 1, Comparative Synthesis Examples 1 and 2 had poor film forming properties. In contrast, either of the film surface resistance was poor or the synthesis examples 1 and 2 showed that both the film forming property and the film surface resistance were good.

Figure 0005245233
*1):温度25℃、湿度39%RH中で測定
*2):105℃で保持し、デシケータ中で25℃に放冷後、直ちに測定
Figure 0005245233
* 1): Measured at a temperature of 25 ° C and humidity of 39% RH * 2): Hold at 105 ° C, measure immediately after cooling to 25 ° C in a desiccator

(5)レジン(珪素−酸素架橋構造体)の中和塩の製造
(5−1)アンモニウム塩の調製
上記(2),(3)のレジン溶液100質量部に、水冷下にアンモニア水(28%)8質量部を滴下し、酸を中和した。この反応容器にエステルコンデンサーを取り付け、窒素気流下にこの溶液を70℃、5時間加熱撹拌することによってエタノールの一部を除き、得られた溶液中の不揮発分が60質量%になるまで濃縮した。この均一な溶液をスルホン酸含有レジンシロキサンアンモニウム塩(以下、NH4塩と略記する)とする。
(5) Production of neutralized salt of resin (silicon-oxygen crosslinked structure) (5-1) Preparation of ammonium salt To 100 parts by mass of the resin solution of (2) and (3) above, aqueous ammonia (28 %) 8 parts by mass were added dropwise to neutralize the acid. An ester condenser was attached to this reaction vessel, and this solution was heated and stirred at 70 ° C. for 5 hours under a nitrogen stream to remove a part of ethanol, and concentrated until the nonvolatile content in the obtained solution became 60% by mass. . This uniform solution is referred to as sulfonic acid-containing resin siloxane ammonium salt (hereinafter abbreviated as NH 4 salt).

(5−2)イミダゾール塩の調製
上記(1),(2)のレジン溶液100質量部に、水冷下にメチルイミダゾール22.6質量部を滴下し、酸を中和した。この反応容器にエステルコンデンサーを取り付け、窒素気流下にこの溶液を70℃、5時間加熱撹拌することによってエタノールの一部を除き、得られた溶液中の不揮発分が60質量%になるまで濃縮した。この均一な溶液をスルホン酸含有レジンシロキサンイミダゾール塩(以下、Imid−塩と略記する)とする。
(5-2) Preparation of imidazole salt 22.6 parts by mass of methylimidazole was added dropwise to 100 parts by mass of the resin solutions (1) and (2) under water cooling to neutralize the acid. An ester condenser was attached to this reaction vessel, and this solution was heated and stirred at 70 ° C. for 5 hours under a nitrogen stream to remove a part of ethanol, and concentrated until the nonvolatile content in the obtained solution became 60% by mass. . This uniform solution is referred to as a sulfonic acid-containing resin siloxane imidazole salt (hereinafter abbreviated as “Imid-salt”).

上記NH4塩溶液は、濃縮を続けて乾固したところ、硬いレジン状の固体が得られ、乳鉢中で粉砕すると粉体となった。一方、上記Imid−塩溶液は、濃縮を続けて乾固したところ、高粘度の液体となった。 When the NH 4 salt solution was concentrated and dried, a hard resinous solid was obtained, which became a powder when pulverized in a mortar. On the other hand, the above-mentioned Imid-salt solution was concentrated to dryness, and became a highly viscous liquid.

〔組成物の製造とシリコーンゴム物性〕
(6−1)シリコーンゴム用コンパウンドの製造(KE−MU)
(CH32SiO単位99.50モル%、(CH3)(CH2=CH)SiO単位0.475モル%及び(CH32(CH2=CH)SiO1/2単位0.025モル%からなるジオルガノポリシロキサン生ゴム100質量部、アエロジルR−972(フュームドシリカ、日本アエロジル社製)40質量部、末端水酸基ジメチルシリコーンオイル(重合度10、分散助剤)5質量部をニーダーにて配合し、160℃で2時間熱処理してコンパウンドとした。これは、シリカ含有量が、ポリシロキサンを含む全不揮発成分中27.5%であるシリカを含むシリコーンゴム用コンパウンド(以下、KE−MUと略記する)である。
[Production of composition and physical properties of silicone rubber]
(6-1) Manufacture of silicone rubber compound (KE-MU)
(CH 3) 2 SiO units 99.50 mol%, (CH 3) (CH 2 = CH) SiO units 0.475 mol% and (CH 3) 2 (CH 2 = CH) SiO 1/2 units 0.025 100 parts by mass of diorganopolysiloxane raw rubber composed of mol%, 40 parts by mass of Aerosil R-972 (fumed silica, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), 5 parts by mass of terminal hydroxyl group dimethyl silicone oil (polymerization degree 10, dispersion aid) And heat treated at 160 ° C. for 2 hours to obtain a compound. This is a compound for silicone rubber (hereinafter abbreviated as KE-MU) containing silica having a silica content of 27.5% of the total nonvolatile components including polysiloxane.

(6−2)KE−MUとレジン溶液の混合
表2,3に示す配合で、上記製造したシリコーンゴムコンパウンドKE−MU100質量部に、上記で得られたEp50,S100のNH4塩溶液108〜167質量部(不揮発成分としてポリシロキサン65〜100質量部)、フュームドシリカR−972 5質量部を、二本ロールで混練して混合物を調製した。この混合物を120℃の熱オーブン中で2時間熱処理し、溶媒を除いた。
(6-2) Mixing of KE-MU and resin solution In the formulations shown in Tables 2 and 3, to 100 parts by mass of the produced silicone rubber compound KE-MU, the NH 4 salt solution 108 ~ of Ep50 and S100 obtained above. 167 parts by mass (65 to 100 parts by mass of polysiloxane as a nonvolatile component) and 5 parts by mass of fumed silica R-972 were kneaded with two rolls to prepare a mixture. The mixture was heat treated in a 120 ° C. hot oven for 2 hours to remove the solvent.

(7−1)パーオキサイド架橋
この混合物を二本ロールで混練した後、このコンパウンド100質量部に対してC−8B(信越化学工業(株)製パーオキサイド)4.0質量部添加し、これらを二本ロールで混練してコンパウンドを調製した。次いで、このコンパウンドを165℃で10分間プレス成型(圧力70kg/cm2)し、120℃で4時間ポストキュアして0.2〜0.3mm厚のシートを得た。
(7-1) Peroxide Crosslinking After kneading this mixture with two rolls, 4.0 parts by mass of C-8B (peroxide manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is added to 100 parts by mass of this compound, and these Was kneaded with two rolls to prepare a compound. Subsequently, this compound was press-molded at 165 ° C. for 10 minutes (pressure 70 kg / cm 2 ) and post-cured at 120 ° C. for 4 hours to obtain a sheet having a thickness of 0.2 to 0.3 mm.

(7−2)UV架橋
この混合物を二本ロールで混練した後、このコンパウンド100質量部に対して下記調製例により得られた(C)メルカプトシロキサン1.2質量部、増感剤としてダロキュア1173(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製ケトンアルコール)0.6質量部を添加し、これらを二本ロールで混練してコンパウンドを調製した。次いで、このコンパウンドを室温でプレス成型(圧力50kgf/cm2)し、0.2〜0.3mm厚のシートを得た。
該シートにアイグラフィック社製紫外線照射装置(高圧水銀灯)を用いて紫外線を照射し(照射条件:365nm領域の照射エネルギー200mJ/cm2表裏に2回、計400mJ/cm2)、厚さ0.15mmの薄膜状のシリコーンゴムシートを得た。得られたシリコーンゴムシートは、120℃,4時間の条件でポストキュアーを施した。
(7-2) UV crosslinking After kneading this mixture with two rolls, 1.2 parts by mass of (C) mercaptosiloxane obtained according to the following preparation example with respect to 100 parts by mass of this compound, Darocur 1173 as a sensitizer 0.6 parts by mass (ketone alcohol manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was added, and these were kneaded with two rolls to prepare a compound. Subsequently, this compound was press-molded at room temperature (pressure 50 kgf / cm 2 ) to obtain a sheet having a thickness of 0.2 to 0.3 mm.
The sheet was irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet irradiation device (high-pressure mercury lamp) manufactured by Igraphic (irradiation condition: irradiation energy of 200 mJ / cm 2 in the 365 nm region twice, total 400 mJ / cm 2 ), thickness 0. A 15 mm thin film silicone rubber sheet was obtained. The resulting silicone rubber sheet was post-cured at 120 ° C. for 4 hours.

〔調製例1〕
UV架橋時に使用しているメルカプト官能基ポリシロキサンの合成
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン19.6質量部に対して、水5.4質量部(3倍当量)を室温で加えて溶解させた。混合物の温度を5℃に冷却し、3.6%塩酸1.0質量部を滴下して加水分解を行った。温度を15℃に上げ1時間撹拌後、更に70℃、3時間撹拌した。4.25%水酸化カリウム水溶液1.3質量部を滴下して中和を行った。酢酸ブチル20質量部を加え、水層と分離した後に、無水硫酸マグネシウムを加えて脱水した後、60℃、2mmHgの条件でストリップし、メルカプト官能基ポリシロキサン13.4質量部を得た。粘度930cs、比重1.175、屈折率1.4935、不揮発分99.2%であった。このオイルを(C)メルカプトシロキサンとする。
[Preparation Example 1]
Synthesis of Mercapto Functional Group Polysiloxane Used at the Time of UV Crosslinking With respect to 19.6 parts by mass of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 5.4 parts by mass (3 times equivalent) of water was added at room temperature and dissolved. The temperature of the mixture was cooled to 5 ° C., and 1.0 part by mass of 3.6% hydrochloric acid was added dropwise for hydrolysis. The temperature was raised to 15 ° C. and stirred for 1 hour, and further stirred at 70 ° C. for 3 hours. Neutralization was performed by adding dropwise 1.3 parts by mass of a 4.25% aqueous potassium hydroxide solution. After adding 20 parts by mass of butyl acetate and separating from the water layer, anhydrous magnesium sulfate was added for dehydration, followed by stripping at 60 ° C. and 2 mmHg to obtain 13.4 parts by mass of a mercapto functional group polysiloxane. The viscosity was 930 cs, the specific gravity was 1.175, the refractive index was 1.4935, and the non-volatile content was 99.2%. This oil is referred to as (C) mercaptosiloxane.

(8)酸処理
このゴムシートを1Nリン酸水溶液に、室温下30分間浸漬処理後、水洗することによって、シート中にプロトンを導入した。
(8) Acid treatment The rubber sheet was immersed in a 1N phosphoric acid aqueous solution at room temperature for 30 minutes and then washed with water to introduce protons into the sheet.

ゴム物性の膜強度は、JIS K 6301に準拠した引っ張り強さ(kgf/cm2)として測定した。
得られた薄膜状のゴムシートを、金メッキを施したステンレス電極に挟むことにより評価用セルを作製し、交流インピーダンス法(日置電機製LCRハイテスタ、測定周波数0.1Hz〜5MHz)により、抵抗測定からプロトン伝導度を算出した。なお、電気抵抗値及び導電率はリン酸処理後の値である。
これらの結果を表2,3に示す。
また、乾燥させたタテ2cm、ヨコ4cmのシート状膜を80℃の熱水に1時間浸漬させたのち乾燥させ、重量の変化率を調べたところ、表2に示すように、実施例1では1%の重量減であったが、比較例1では35%も重量が減少していた。
The film strength of rubber properties was measured as the tensile strength (kgf / cm 2 ) based on JIS K 6301.
An evaluation cell is prepared by sandwiching the obtained thin rubber sheet between stainless steel electrodes plated with gold, and resistance measurement is performed by an AC impedance method (LCR high tester manufactured by Hioki Electric, measurement frequency 0.1 Hz to 5 MHz). Proton conductivity was calculated. In addition, an electrical resistance value and electrical conductivity are values after phosphoric acid treatment.
These results are shown in Tables 2 and 3.
Moreover, when the dried sheet-like film of 2 cm in length and 4 cm in width was immersed in hot water at 80 ° C. for 1 hour and then dried and examined for the rate of change in weight, as shown in Table 2, in Example 1, Although the weight was reduced by 1%, the weight was reduced by 35% in Comparative Example 1.

表2,3の結果より、比較例と実施例を対比することにより、本発明の高分子電解質膜は、高温かつ高湿度の環境下においても強度の低下が少なく、優れたイオン伝導性を示すことがわかる。また120℃程度までは膜強度の低下も大きくなく、さまざまな電解質膜としての適性がある材料を作製することができた。   From the results shown in Tables 2 and 3, the polymer electrolyte membrane of the present invention shows excellent ionic conductivity with little decrease in strength even under high temperature and high humidity environments by comparing the comparative example with the examples. I understand that. Moreover, the film strength did not decrease significantly up to about 120 ° C., and materials suitable for various electrolyte membranes could be produced.

Figure 0005245233
*3) NH4塩:アンモニアによる中和塩
*4) C8B:信越化学工業(株)製パーオキサイド、純分40%
Figure 0005245233
* 3) NH 4 salt: Neutralized salt with ammonia * 4) C8B: Peroxide manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 40% pure

Figure 0005245233
*3) NH4塩:アンモニアによる中和塩
*5) Imid−塩:1−メチルイミダゾールによる中和塩
*6) 飽和CaCl2・6H2O水溶液を共存させたデシケータ中で制御した温度25℃、湿度31%RH中で測定
*7) 105℃で保持し、デシケータ中で25℃に放冷後、直ちに測定
Figure 0005245233
* 3) NH 4 salt: neutralized salt with ammonia * 5) Imid-salt: neutralized salt with 1-methylimidazole * 6) Temperature controlled in a desiccator in the presence of a saturated aqueous CaCl 2 · 6H 2 O solution 25 ° C , Measured in a humidity of 31% RH * 7) Hold at 105 ° C, let cool to 25 ° C in a desiccator, and measure immediately

Claims (4)

(A)下記平均組成式(1)
aSiO(4-a)/2 (1)
(式中、Rは炭素数1〜10の同一又は異種の非置換もしくは置換の一価炭化水素基、ただし、1分子中のビニル基の合計が2以上であり、aは1.95〜2.05の正数を表す。)
で示され、末端がトリオルガノシリル基又はジオルガノヒドロキシシリル基で封鎖されたビニル基含有オルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)エポキシ基を持つアルコキシシランと硫黄原子含有基を持つアルコキシシランとを、水及び酸化剤の存在下で反応させ、前記両アルコキシシランの共加水分解・縮合と、前記酸化剤による硫黄原子含有基のスルホン酸基への変換と、前記エポキシ基の開環及びこれに基づき生成した水酸基の縮合を行わせることによって得られた珪素−酸素架橋構造体からなるイオン伝導性材料:20〜400質量部、
(C)架橋剤:0.1〜10質量部
を含有することを特徴とする高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物。
(A) The following average composition formula (1)
R a SiO (4-a) / 2 (1)
(In the formula, R is the same or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, provided that the total number of vinyl groups in one molecule is 2 or more, and a is 1.95 to 2 .05 represents a positive number.)
A vinyl group-containing organopolysiloxane having a terminal end blocked with a triorganosilyl group or a diorganohydroxysilyl group: 100 parts by mass,
(B) An alkoxysilane having an epoxy group and an alkoxysilane having a sulfur atom-containing group are reacted in the presence of water and an oxidizing agent to co-hydrolyze / condense both alkoxysilanes, and a sulfur atom by the oxidizing agent. Ion conductive material comprising a silicon-oxygen cross-linked structure obtained by converting a contained group into a sulfonic acid group, ring opening of the epoxy group and condensation of a hydroxyl group generated based on the ring opening: 20 to 400 Parts by mass,
(C) Crosslinking agent: A silicone rubber composition for polymer electrolyte membranes, containing 0.1 to 10 parts by mass.
(B)成分は、更に、含窒素化合物が添加されて、含窒素化合物と前記イオン伝導性材料のスルホン酸基との塩の形態とされた請求項1記載の高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物。   The silicone rubber composition for a polymer electrolyte membrane according to claim 1, wherein the component (B) is further in the form of a salt of a nitrogen-containing compound and a sulfonic acid group of the ion conductive material to which a nitrogen-containing compound is added. object. 含窒素化合物が、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール及びテトラゾールからなる群から選択される含窒素ヘテロ環化合物であることを特徴とする請求項2記載の高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物。   3. The silicone rubber composition for a polymer electrolyte membrane according to claim 2, wherein the nitrogen-containing compound is a nitrogen-containing heterocyclic compound selected from the group consisting of imidazole, pyrazole, triazole and tetrazole. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の高分子電解質膜用シリコーンゴム組成物の硬化物よりなるゴム弾性を有するプロトン伝導性高分子電解質膜。   A proton conductive polymer electrolyte membrane having rubber elasticity made of a cured product of the silicone rubber composition for polymer electrolyte membrane according to any one of claims 1 to 3.
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