JP5239127B2 - Display element substrate - Google Patents
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Landscapes
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Description
本発明は表示素子用基板に関する。さらに詳しくはフレキシブルディスプレイ等のディスプレイに用いられる表示素子用基板に関する。 The present invention relates to a display element substrate. More specifically, the present invention relates to a display element substrate used for a display such as a flexible display.
表示素子用基板は表示素子に用いられている。表示素子は、フレキシブルディスプレイ等のディスプレイに用いられている。フレキシブルディスプレイは、機器等の曲面に設置することができる柔軟性を有するディスプレイであり、表示素子として有機EL素子を用いたフレキシブルディスプレイ、表示素子として液晶素子を用いたフレキシブルディスプレイ等が挙げられる。また、表示素子用基板としては、基材フィルムに無機酸化物膜からなるガスバリア層と樹脂層とがこの順に積層されてなるフィルムが、特許文献1に開示されている。 The display element substrate is used for a display element. The display element is used for a display such as a flexible display. The flexible display is a flexible display that can be installed on a curved surface of a device or the like, and examples thereof include a flexible display using an organic EL element as a display element and a flexible display using a liquid crystal element as a display element. Further, as a display element substrate, Patent Document 1 discloses a film in which a gas barrier layer made of an inorganic oxide film and a resin layer are laminated in this order on a base film.
しかしながら、従来の表示素子用基板は、ガスバリア性が十分ではなく、該基板を用いてなる表示素子の耐久性が十分ではなかった。本発明の目的は、ガスバリア性がより良好で、耐久性がより良好な表示素子を得ることができる表示素子用基板を提供することにある。 However, the conventional display element substrate does not have sufficient gas barrier properties, and the durability of the display element using the substrate is not sufficient. An object of the present invention is to provide a display element substrate that can provide a display element with better gas barrier properties and better durability.
本発明者は上記課題を解決すべく、鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has completed the present invention.
すなわち本発明は、下記の表示素子用基板および表示素子を提供するものである。
<1>2層以上の樹脂層を有する表示素子用基板であって、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が(A)液晶ポリエステルおよび(B)該液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体から実質的になる液晶ポリエステル樹脂層であり、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層であることを特徴とする表示素子用基板。
<2>2層以上の樹脂層を有する表示素子用基板であって、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が(A)液晶ポリエステルおよび(B)該液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体から実質的になる液晶ポリエステル樹脂層であり、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層であり、該液晶ポリエステル樹脂層の少なくとも1層と該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層の少なくとも1層とが接し、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層側の表面平均粗さ(Ra)が5nm以下であることを特徴とする表示素子用基板。
<3>2層以上の樹脂層を有する表示素子用基板であって、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が(A)液晶ポリエステルおよび(B)該液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体から実質的になる液晶ポリエステル樹脂層であり、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層であり、さらに無機層状化合物および樹脂からなる層を有し、該液晶ポリエステル樹脂層の少なくとも1層と該無機層状化合物および樹脂からなる層とが接し、該無機層状化合物および樹脂からなる層と該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層の少なくとも1層とが接し、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層側の表面平均粗さ(Ra)が5nm以下であることを特徴とする表示素子用基板。
<4>液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層に用いられる樹脂が、ガラス転移温度(Tg)が150℃以上の樹脂である前記<1>〜<3>のいずれかに記載の表示素子用基板。
<5>さらに無機層を有し、液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層と該無機層とが接する前記<1>〜<4>のいずれかに記載の表示素子用基板。
<6>無機層が金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物および金属酸窒化物からなる群より選ばれる1種以上の無機物からなる前記の表示素子用基板。
<7>無機層状化合物が、粒径が5μm以下でありアスペクト比が50以上5000以下の無機層状化合物である前記<3>〜<6>のいずれかに記載の表示素子用基板。
<8>さらに導電性を有する層を有し、液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層と導電性を有する層とが接する前記<1>〜<4>のいずれかに記載の表示素子用基板。
<9>さらに導電性を有する層を有し、無機層と導電性を有する層とが接する前記<5>〜<7>のいずれかに記載の表示素子用基板。
<10>水蒸気透過度が0.2g/m2/day以下でかつ酸素透過度が0.1cc/m2/day以下である前記<1>〜<9>のいずれかに記載の表示素子用基板。
<11>20℃〜150℃の温度範囲における平均線膨張率が、−10ppm/℃以上25ppm/℃以下であることを特徴とする前記<1>〜<10>のいずれかに記載の表示素子用基板。
<12>前記<1>〜<11>のいずれかに記載の表示素子用基板を用いてなることを特徴とするフレキシブルディスプレイ用基板。
<13>下記の(a)〜(e)を有することを特徴とする表示素子。
(a)前記<1>〜<7>のいずれかに記載の基板。
(b)導電性を有する層。
(c)電界印加により、光吸収、光散乱、旋光および発光から選ばれる少なくとも1つの機能が発現する有機層。
(d)透明導電性を有する層。
(e)透明な封止材。
<14>下記の(a´)〜(d´)の工程を含む製法により得られることを特徴とする表示素子。
(a´)前記<1>〜<7>のいずれかに記載の基板の液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層側の表面に、導電性を有する層を形成する工程。
(b´)工程(a´)で得られる導電性を有する層側の表面に、光吸収、光散乱、旋光および発光から選ばれる少なくとも1つの機能が電界印加により発現する有機層を形成する工程。
(c´)工程(b´)の有機層側の表面に、透明導電性を有する層を形成し、積層体を得る工程。
(d´)工程(c´)により得られた積層体の表面の一部または全部を、透明な封止材で封止し、表示素子を得る工程。
<15>前記<13>または<14>記載の表示素子を用いてなることを特徴とするフレキシブルディスプレイ。
That is, the present invention provides the following display element substrate and display element.
<1> A display element substrate having two or more resin layers, wherein at least one of the two or more resin layers is functionally reactive with (A) liquid crystal polyester and (B) the liquid crystal polyester. A liquid crystal polyester resin layer substantially composed of a copolymer having a group, wherein at least one of the two or more resin layers is a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer. substrate.
<2> A display element substrate having two or more resin layers, wherein at least one of the two or more resin layers is functionally reactive with (A) liquid crystal polyester and (B) the liquid crystal polyester. A liquid crystal polyester resin layer substantially composed of a copolymer having a group, wherein at least one of the two or more resin layers is a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer, and at least of the liquid crystal polyester resin layer One layer and at least one layer of the resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer are in contact with each other, and the surface average roughness (Ra) on the resin layer side other than the liquid crystal polyester resin layer is 5 nm or less. Substrate.
<3> A display element substrate having two or more resin layers, wherein at least one of the two or more resin layers is functionally reactive with (A) liquid crystal polyester and (B) the liquid crystal polyester. A liquid crystal polyester resin layer substantially composed of a copolymer having a group, wherein at least one of the two or more resin layers is a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer, and further from an inorganic layered compound and a resin At least one layer of the liquid crystalline polyester resin layer is in contact with the layer composed of the inorganic layered compound and the resin, and at least one of the layer composed of the inorganic layered compound and the resin and the resin layer other than the liquid crystalline polyester resin layer. A substrate for a display element, which is in contact with one layer and has a surface average roughness (Ra) on the resin layer side other than the liquid crystal polyester resin layer of 5 nm or less.
<4> The display element substrate according to any one of <1> to <3>, wherein the resin used for the resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer is a resin having a glass transition temperature (Tg) of 150 ° C. or higher.
<5> The display element substrate according to any one of <1> to <4>, further including an inorganic layer, wherein the resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer is in contact with the inorganic layer.
<6> The display element substrate described above, wherein the inorganic layer is made of one or more inorganic substances selected from the group consisting of metals, metal oxides, metal nitrides, metal carbides, and metal oxynitrides.
<7> The display element substrate according to any one of <3> to <6>, wherein the inorganic layered compound is an inorganic layered compound having a particle size of 5 μm or less and an aspect ratio of 50 to 5000.
<8> The display element substrate according to any one of <1> to <4>, further including a conductive layer, wherein the resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer is in contact with the conductive layer.
<9> The display element substrate according to any one of <5> to <7>, further including a conductive layer, wherein the inorganic layer and the conductive layer are in contact with each other.
<10> For the display element according to any one of <1> to <9>, wherein the water vapor permeability is 0.2 g / m 2 / day or less and the oxygen permeability is 0.1 cc / m 2 / day or less. substrate.
<11> The display element according to any one of <1> to <10>, wherein an average linear expansion coefficient in a temperature range of 20 ° C. to 150 ° C. is −10 ppm / ° C. to 25 ppm / ° C. Substrate.
<12> A flexible display substrate, comprising the display element substrate according to any one of <1> to <11>.
<13> A display element having the following (a) to (e).
(A) The substrate according to any one of <1> to <7>.
(B) A layer having conductivity.
(C) An organic layer that exhibits at least one function selected from light absorption, light scattering, optical rotation, and light emission by applying an electric field.
(D) A layer having transparent conductivity.
(E) Transparent encapsulant.
<14> A display element obtained by a production method including the following steps (a ′) to (d ′).
(A ′) A step of forming a conductive layer on the surface of the substrate on the side of the resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer according to any one of <1> to <7>.
(B ′) A step of forming, on the surface of the conductive layer obtained in the step (a ′), an organic layer in which at least one function selected from light absorption, light scattering, optical rotation and light emission is manifested by applying an electric field. .
(C ′) A step of obtaining a laminate by forming a layer having transparent conductivity on the surface of the organic layer side in the step (b ′).
(D ′) A step of obtaining a display element by sealing part or all of the surface of the laminate obtained in the step (c ′) with a transparent sealing material.
<15> A flexible display using the display element according to <13> or <14>.
本発明の表示素子用基板は柔軟性を有し、かつガスバリア性がより良好である。また本発明の表示素子用基板を用いてなる表示素子も柔軟性を有し、ガスバリア性がより良好であり、耐久性が良好であるため、本発明の表示素子用基板はフレキシブルディスプレイにより好適に使用でき、特に表示素子として有機EL素子を用いたフレキシブルディスプレイに好適に使用できるため、本発明は工業的に極めて有用である。 The display element substrate of the present invention has flexibility and better gas barrier properties. In addition, since the display element using the display element substrate of the present invention has flexibility, better gas barrier properties, and better durability, the display element substrate of the present invention is more suitable for a flexible display. The present invention is industrially extremely useful because it can be used suitably, particularly for a flexible display using an organic EL element as a display element.
以下、本発明について説明する。
本発明の表示素子用基板は、2層以上の樹脂層を有する表示素子用基板であって、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が(A)液晶ポリエステルおよび(B)該液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体から実質的になる液晶ポリエステル樹脂層であり、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層であることを特徴とする。このような構成とすることで、本発明の表示素子用基板は、より良好なガスバリア性を示すことができる。
The present invention will be described below.
The display element substrate of the present invention is a display element substrate having two or more resin layers, wherein at least one of the two or more resin layers is (A) liquid crystal polyester and (B) the liquid crystal polyester. A liquid crystal polyester resin layer substantially comprising a copolymer having a functional group having reactivity with at least one of the two or more resin layers is a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer Features. By setting it as such a structure, the board | substrate for display elements of this invention can show more favorable gas barrier property.
次に、本発明の表示素子用基板が有する液晶ポリエステル樹脂層について説明する。該液晶ポリエステル樹脂層は、(A)液晶ポリエステルおよび(B)該液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体から実質的になる。 Next, the liquid crystal polyester resin layer included in the display element substrate of the present invention will be described. The liquid crystal polyester resin layer is substantially composed of (A) liquid crystal polyester and (B) a copolymer having a functional group reactive with the liquid crystal polyester.
(A)液晶ポリエステルとしては、例えば、
(1)芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、および芳香族ジオールを重合させて得られるもの、
(2)同種または異種の芳香族ヒドロキシカルボン酸を重合させて得られるもの、
(3)ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルに芳香族ヒドロキシカルボン酸を反応させて得られるもの、
などが挙げられる。
(A) As liquid crystal polyester, for example,
(1) What is obtained by polymerizing aromatic hydroxycarboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid, and aromatic diol,
(2) those obtained by polymerizing the same or different aromatic hydroxycarboxylic acids,
(3) those obtained by reacting an aromatic hydroxycarboxylic acid with a polyester such as polyethylene terephthalate,
Etc.
また、これらの芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、および芳香族ジオールの代わりに、これらのエステル形成性誘導体を使用してもよい。 Further, these ester-forming derivatives may be used in place of these aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids, and aromatic diols.
ここで、カルボン酸のエステル形成性誘導体としては、例えば、カルボキシル基が、ポリエステル生成反応を促進するような酸塩化物、酸無水物などの反応性が高い誘導体となっているもの、カルボキシル基が、エステル交換反応によりポリエステルを生成するようなアルコール類やエチレングリコールなどとエステルを形成しているものなどが挙げられる。 Here, as the ester-forming derivative of carboxylic acid, for example, a carboxyl group is a highly reactive derivative such as an acid chloride or an acid anhydride that promotes a polyester forming reaction, and a carboxyl group is And those that form esters with alcohols, ethylene glycol, or the like that form polyesters by transesterification.
また、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸および芳香族ジオールは、エステル形成性を阻害しない程度であれば、塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基などで置換されていてもよい。 In addition, aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids and aromatic diols are halogen atoms such as chlorine atoms and fluorine atoms, alkyl groups such as methyl groups and ethyl groups, phenyl groups, and the like, as long as they do not inhibit ester formation. It may be substituted with an aryl group such as a group.
該液晶ポリエステルの繰返し構造単位としては、下記の(1)芳香族ジカルボン酸に由来する繰返し構造単位、(2)芳香族ジオールに由来する繰返し構造単位、(3)芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する繰返し構造単位を例示することができる。 As the repeating structural unit of the liquid crystal polyester, the following (1) repeating structural unit derived from aromatic dicarboxylic acid, (2) repeating structural unit derived from aromatic diol, and (3) derived from aromatic hydroxycarboxylic acid. A repeating structural unit can be illustrated.
(1)芳香族ジカルボン酸に由来する繰り返し構造単位:
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
(1) Repeating structural unit derived from aromatic dicarboxylic acid:
The above repeating structural unit may be substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.
(2)芳香族ジオールに由来する繰返し構造単位:
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
(2) Repeating structural unit derived from aromatic diol:
The above repeating structural unit may be substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.
(3)芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する繰返し構造単位:
上記の繰り返し構造単位は、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で置換されていてもよい。
(3) Repeating structural unit derived from aromatic hydroxycarboxylic acid:
The above repeating structural unit may be substituted with a halogen atom, an alkyl group or an aryl group.
(A)液晶ポリエステルは、耐熱性、機械的特性、加工性のバランスの点から、上記式(ア)で表される繰り返し構造単位を、(A)の繰り返し構造単位総モル数に対して30モル%以上含むことが好ましい。 (A) The liquid crystalline polyester has 30 repeating structural units represented by the above formula (A) with respect to the total number of moles of repeating structural units in (A), from the viewpoint of balance between heat resistance, mechanical properties, and workability. It is preferable to contain more than mol%.
また、上記式(ア)で表される繰り返し構造単位を含む(A)液晶ポリエステルの繰り返し構造単位の組み合わせとしては、下記(I)〜(VI)から選ばれるいずれかに示されるものがより好ましい。また、さらにガスバリア性を良好にする意味で(I)、(II)、(III)、(V)または(VI)の、全芳香族ポリエステルがさらに好ましい。特に好ましくは(I)〜(III)の構造を有する全芳香族ポリエステルである。 Moreover, as a combination of the repeating structural unit of (A) liquid crystal polyester containing the repeating structural unit represented by the above formula (a), those shown in any one selected from the following (I) to (VI) are more preferable. . In addition, the wholly aromatic polyester of (I), (II), (III), (V) or (VI) is more preferable in order to further improve the gas barrier property. Particularly preferred are wholly aromatic polyesters having the structures (I) to (III).
(I)
(I)
(II)
(II)
(III)
(III)
(IV)
(IV)
(V)
(V)
(VI)
(VI)
上記(I)〜(VI)における組合せの(A)液晶ポリエステルは、例えば特公昭47−47870号公報、特公昭63−3888号公報、特公昭63−3891号公報、特公昭56−18016号公報、特開平2−51523号公報などに記載の方法に準拠して製造し得る。これらの中で好ましい組合せとしては(I)、(II)または(IV)、さらに好ましくは(I)または(II)が挙げられる。 The (A) liquid crystal polyesters in the combinations (I) to (VI) are, for example, Japanese Patent Publication No. 47-47870, Japanese Patent Publication No. 63-3888, Japanese Patent Publication No. 63-3891, and Japanese Patent Publication No. 56-18016. And can be produced according to the method described in JP-A-2-51523. Among these, preferred combinations include (I), (II) or (IV), more preferably (I) or (II).
また、本発明における(A)液晶ポリエステルは、耐熱性の観点から、上記芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する繰返し構造単位を30〜80モル%、上記芳香族ジカルボン酸に由来する繰り返し構造単位を25〜10モル%、上記芳香族ジオールに由来する繰り返し構造単位を35〜10モル%含有することが好ましい。 Moreover, (A) liquid crystalline polyester in this invention is 30 to 80 mol% of repeating structural units derived from the said aromatic hydroxycarboxylic acid, and 25 repeating structural units derived from the said aromatic dicarboxylic acid from a heat resistant viewpoint. It is preferable to contain 35 to 10 mol% of repeating structural units derived from the aromatic diol.
次に(B)液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体について説明する。液晶ポリエステルと反応性を有する官能基としては、液晶ポリエステルと反応性を有するものであればよいが、好ましくはオキサゾリル基やエポキシ基、アミノ基であり、さらに好ましくはエポキシ基である。これらの官能基は他の官能基の一部として存在していてもよく、そのような例としてはグリシジル基等が挙げられる。 Next, (B) a copolymer having a functional group reactive with liquid crystal polyester will be described. The functional group having reactivity with the liquid crystalline polyester may be any functional group reactive with the liquid crystalline polyester, but is preferably an oxazolyl group, an epoxy group, or an amino group, and more preferably an epoxy group. These functional groups may exist as a part of other functional groups, and examples thereof include a glycidyl group.
共重合体(B)において、上記の液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を共重合体中に導入する方法としては、例えば共重合体の合成段階で、該官能基を有する単量体を共重合により導入することも可能であるし、共重合体に該官能基を有する単量体をグラフト共重合することも可能である。 In the copolymer (B), as a method of introducing a functional group having reactivity with the above liquid crystal polyester into the copolymer, for example, in the synthesis step of the copolymer, the monomer having the functional group is copolymerized. It is possible to introduce by polymerization, or it is possible to graft copolymerize a monomer having the functional group with a copolymer.
液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する単量体としては、グリシジル基を含有する単量体が好ましく使用される。グリシジル基を含有する単量体としては、例えば下記一般式
(式中、Rは、エチレン系不飽和結合を有する炭素数2〜13の炭化水素基を表し、Xは、−C(O)O−、−CH2−O−または
を表す。)
で示される不飽和カルボン酸グリシジルエステル、不飽和グリシジルエーテルが好ましく用いられる。
As the monomer having a functional group having reactivity with the liquid crystal polyester, a monomer containing a glycidyl group is preferably used. As a monomer containing a glycidyl group, for example, the following general formula
(In the formula, R represents a hydrocarbon group having 2 to 13 carbon atoms having an ethylenically unsaturated bond, and X represents —C (O) O—, —CH 2 —O— or
Represents. )
An unsaturated carboxylic acid glycidyl ester or an unsaturated glycidyl ether represented by formula (1) is preferably used.
ここで、不飽和カルボン酸グリシジルエステルとしては、例えばグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、イタコン酸ジグリシジルエステル、ブテントリカルボン酸トリグリシジルエステル、p−スチレンカルボン酸グリシジルエステルなどを挙げることができる。 Examples of the unsaturated carboxylic acid glycidyl ester include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, itaconic acid diglycidyl ester, butenetricarboxylic acid triglycidyl ester, and p-styrene carboxylic acid glycidyl ester.
不飽和グリシジルエーテルとしては、例えばビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−メチルアリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシジルエーテル、スチレン−p−グリシジルエーテル等が例示される。 Examples of the unsaturated glycidyl ether include vinyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-methylallyl glycidyl ether, methacryl glycidyl ether, and styrene-p-glycidyl ether.
上記の共重合体(B)は、好ましくは、不飽和カルボン酸グリシジルエステル単位および/または不飽和グリシジルエーテル単位を0.1〜30重量%含有する共重合体である。 The copolymer (B) is preferably a copolymer containing 0.1 to 30% by weight of unsaturated carboxylic acid glycidyl ester units and / or unsaturated glycidyl ether units.
また、上記の共重合体(B)は、熱可塑性樹脂であってもよいし、ゴムであってもよいし、熱可塑性樹脂とゴムとの混合物であってもよい。本発明の表示素子用基板の熱安定性や柔軟性の点で、ゴムがより好ましい。 Further, the copolymer (B) may be a thermoplastic resin, a rubber, or a mixture of a thermoplastic resin and rubber. Rubber is more preferable in terms of thermal stability and flexibility of the display element substrate of the present invention.
液晶ポリエステルと反応性を有する官能基をゴム中に導入する方法としては、例えばゴムの合成段階で、該官能基を有する単量体を共重合により導入することも可能であるし、ゴムに該官能基を有する単量体をグラフト共重合することも可能である。 As a method for introducing a functional group having reactivity with the liquid crystalline polyester into the rubber, for example, at the rubber synthesis stage, a monomer having the functional group can be introduced by copolymerization. It is also possible to graft copolymerize a monomer having a functional group.
液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有するゴムの具体例で、エポキシ基を有するゴムとしては、(メタ)アクリル酸エステル−エチレン−(不飽和カルボン酸グリシジルエステルおよび/または不飽和グリシジルエーテル)共重合体ゴムを挙げられる。 Specific examples of rubbers having functional groups that are reactive with liquid crystalline polyesters include rubbers having epoxy groups such as (meth) acrylic acid ester-ethylene- (unsaturated carboxylic acid glycidyl ester and / or unsaturated glycidyl ether) copolymer. Examples include polymer rubber.
ここで(メタ)アクリル酸エステルとは、アクリル酸またはメタクリル酸とアルコールから得られるエステルである。アルコールとしては、炭素原子数1〜8のアルコールが好ましい。(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレートなどを挙げることができる。なお、(メタ)アクリル酸エステルとしては、上記の二種以上を併用してもよい。 Here, the (meth) acrylic acid ester is an ester obtained from acrylic acid or methacrylic acid and an alcohol. As the alcohol, an alcohol having 1 to 8 carbon atoms is preferable. Specific examples of (meth) acrylic acid esters include methyl acrylate, methyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate and the like. be able to. In addition, as (meth) acrylic acid ester, you may use said 2 or more types together.
得られる液晶ポリエステル樹脂層の熱安定性や機械的性質の点で、前記ゴムの組成としては、(メタ)アクリル酸エステル単位が好ましくは40重量%を超え97重量%未満、さらに好ましくは45〜70重量%、エチレン単位が好ましくは3重量%以上50重量%未満、さらに好ましくは10〜49重量%、不飽和カルボン酸グリシジルエーテル単位および/または不飽和グリシジルエーテル単位が好ましくは0.1〜30重量%、さらに好ましくは0.5〜20重量%である。 In terms of the thermal stability and mechanical properties of the obtained liquid crystal polyester resin layer, the rubber composition is preferably (meth) acrylic acid ester units exceeding 40% by weight and less than 97% by weight, more preferably 45 to 45%. 70% by weight, preferably 3 to 50% by weight of ethylene units, more preferably 10 to 49% by weight, preferably 0.1 to 30 unsaturated carboxylic acid glycidyl ether units and / or unsaturated glycidyl ether units % By weight, more preferably 0.5 to 20% by weight.
該ゴムは、例えばフリーラジカル開始剤による塊状重合、乳化重合、溶液重合などによって製造することができる。なお、代表的な重合方法は、特開昭48−11388号公報、特開昭61−127709号公報などに記載された方法であり、フリーラジカルを生成する重合開始剤の存在下、圧力500kg/cm2以上、温度40〜300℃の条件により製造することができる。 The rubber can be produced, for example, by bulk polymerization, emulsion polymerization, solution polymerization or the like using a free radical initiator. Typical polymerization methods are those described in JP-A-48-11388, JP-A-61-127709, etc., and in the presence of a polymerization initiator that generates free radicals, a pressure of 500 kg / It can be produced under conditions of cm 2 or more and a temperature of 40 to 300 ° C.
上記のゴム以外のゴムとしては、液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有するアクリルゴムや、液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有するビニル芳香族炭化水素化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体ゴムを例示することができる。 As rubbers other than the above rubber, acrylic rubber having a functional group reactive with liquid crystal polyester, and vinyl aromatic hydrocarbon compound-conjugated diene compound block copolymer rubber having a functional group reactive with liquid crystal polyester Can be illustrated.
ここでいうアクリルゴムとして好ましくは、式(1)〜(3)
CH2=CH−C(O)−OR1 (1)
CH2=CH−C(O)−OR2OR3 (2)
CH2=CR4H−C(O)−O(R5(C(O)O)nR6 (3)
(式中、R1は炭素原子数1〜18のアルキル基またはシアノアルキル基を示す
。R2は炭素原子数1〜12のアルキレン基を、R3は炭素原子数1〜12のアルキル基を示す。R4は水素原子またはメチル基、R5は、炭素原子数3〜30のアルキレン基、R6は炭素原子数1〜20のアルキル基またはその誘導体、nは1〜20の整数を示す。)
で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の単量体を主成分とするものである。
The acrylic rubber here is preferably a formula (1) to (3).
CH 2 = CH-C (O ) -OR 1 (1)
CH 2 = CH-C (O ) -OR 2 OR 3 (2)
CH 2 = CR 4 H-C (O) -O (R 5 (C (O) O) nR 6 (3)
(Wherein R 1 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or a cyanoalkyl group, R 2 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and R 3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 represents an alkylene group having 3 to 30 carbon atoms, R 6 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a derivative thereof, and n represents an integer of 1 to 20. .)
The main component is at least one monomer selected from the compounds represented by:
上記式(1)で表されるアクリル酸アルキルエステルの具体例としては、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ペンチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ノニルアクリレート、デシルアクリレート、ドデシルアクリレート、シアノエチルアクリレートなどを挙げることができる。 Specific examples of the alkyl acrylate ester represented by the above formula (1) include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, pentyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, nonyl acrylate, decyl. Examples include acrylate, dodecyl acrylate, cyanoethyl acrylate, and the like.
また、上記式(2)で表されるアクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、例えばメトキシエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシプロピルアクリレートなどを挙げることができる。これらの一種または二種以上を該アクリルゴムの主成分として用いることができる。 Examples of the acrylic acid alkoxyalkyl ester represented by the above formula (2) include methoxyethyl acrylate, ethoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, and ethoxypropyl acrylate. One or more of these can be used as the main component of the acrylic rubber.
このようなアクリルゴムの組成として、必要に応じて上記式(1)〜(3)で表される化合物から選ばれる少なくとも一種の単量体と共重合可能な不飽和単量体を用いることができる。
このような不飽和単量体の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、ハロゲン化スチレン、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ビニルナフタレン、N−メチロールアクリルアミド、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ベンジルアクリレート、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸などが挙げられる。
As such an acrylic rubber composition, an unsaturated monomer copolymerizable with at least one monomer selected from the compounds represented by the above formulas (1) to (3) is used as necessary. it can.
Examples of such unsaturated monomers include styrene, α-methyl styrene, acrylonitrile, halogenated styrene, methacrylonitrile, acrylamide, methacrylamide, vinyl naphthalene, N-methylol acrylamide, vinyl acetate, vinyl chloride, chloride. Examples include vinylidene, benzyl acrylate, methacrylic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid and the like.
上記アクリルゴムの好ましい組成としては、上記式(1)〜(3)で表される化合物から選ばれる少なくとも一種の単量体40.0〜99.9重量%、不飽和カルボン酸グリシジルエステルおよび/または不飽和グリシジルエーテル0.1〜30.0重量%、上記の一般式(1)〜(3)で表される化合物から選ばれる少なくとも一種の単量体と共重合可能な不飽和単量体0.0〜30.0重量%である。アクリルゴムの組成をこのようにすることで、ポリエステル樹脂層の耐熱性や耐衝撃性、成形加工性が良好となる傾向にある。 As a preferable composition of the acrylic rubber, 40.0 to 99.9% by weight of at least one monomer selected from the compounds represented by the above formulas (1) to (3), an unsaturated carboxylic acid glycidyl ester, and / or Or unsaturated glycidyl ether 0.1 to 30.0% by weight, unsaturated monomer copolymerizable with at least one monomer selected from the compounds represented by the above general formulas (1) to (3) 0.0-30.0 wt%. By setting the composition of the acrylic rubber in this way, the polyester resin layer tends to have good heat resistance, impact resistance, and moldability.
該アクリルゴムの製法としては、例えば特開昭59−113010号公報、特開昭62−64809号公報、特開平3−160008号公報、あるいはWO95/04764などに記載されているような周知の製法を用いることができ、ラジカル開始剤の存在下で乳化重合、懸濁重合、溶液重合あるいはバルク重合等で製造することができる。 As a method for producing the acrylic rubber, for example, a well-known production method as described in, for example, JP-A-59-111010, JP-A-62-64809, JP-A-3-160008, or WO95 / 04764. And can be produced by emulsion polymerization, suspension polymerization, solution polymerization or bulk polymerization in the presence of a radical initiator.
また、前記のビニル芳香族炭化水素化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体ゴムとしては、例えば(i)ビニル芳香族炭化水素化合物を主体とするシーケンスと(ii)共役ジエン化合物を主体とするシーケンスとからなるブロック共重合体をエポキシ化して得られるゴム、該ブロック共重合体の水添物をエポキシ化して得られるゴム等が挙げられる。 Examples of the vinyl aromatic hydrocarbon compound-conjugated diene compound block copolymer rubber include (i) a sequence mainly composed of vinyl aromatic hydrocarbon compounds and (ii) a sequence mainly composed of conjugated diene compounds. And a rubber obtained by epoxidizing a block copolymer comprising the above, a rubber obtained by epoxidizing a hydrogenated product of the block copolymer, and the like.
ここでビニル芳香族炭化水素化合物としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルナフタレンなどを挙げることができ、スチレンが好ましい。
共役ジエン化合物としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、3−ブチル−1,3−オクタジエンなどを挙げることができ、ブタジエンまたはイソプレンが好ましい。
Examples of the vinyl aromatic hydrocarbon compound include styrene, vinyl toluene, divinyl benzene, α-methyl styrene, p-methyl styrene, vinyl naphthalene, and styrene is preferable.
Examples of the conjugated diene compound include butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, 3-butyl-1,3-octadiene, and butadiene or isoprene is preferable.
かかるビニル芳香族炭化水素化合物−共役ジエン化合物ブロック共重合体またはその水添物は、例えば、特公昭40−23798号公報、特開昭59−133203号公報等に記載されているような方法で製造することができる。 Such a vinyl aromatic hydrocarbon compound-conjugated diene compound block copolymer or a hydrogenated product thereof is obtained by a method described in, for example, Japanese Patent Publication No. 40-23798, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-133203, and the like. Can be manufactured.
さらに、共重合体(B)に用いるゴムとして好ましくは、(メタ)アクリル酸エステル−エチレン−(不飽和カルボン酸グリシジルエステルおよび/または不飽和グリシジルエーテル)共重合体ゴムが用いられる。 Furthermore, (meth) acrylic acid ester-ethylene- (unsaturated carboxylic acid glycidyl ester and / or unsaturated glycidyl ether) copolymer rubber is preferably used as the rubber used for the copolymer (B).
共重合体(B)に用いるゴムは、必要に応じて加硫を行い、加硫ゴムとして用いることができる。
上記の(メタ)アクリル酸エステル−エチレン−(不飽和カルボン酸グリシジルエステルおよび/または不飽和グリシジルエーテル)共重合体ゴムの加硫は、例えば、多官能性有機酸、多官能性アミン化合物、イミダゾール化合物などを用いることで達成される。
The rubber used for the copolymer (B) can be used as a vulcanized rubber after being vulcanized as necessary.
Vulcanization of the above (meth) acrylic acid ester-ethylene- (unsaturated carboxylic acid glycidyl ester and / or unsaturated glycidyl ether) copolymer rubber includes, for example, polyfunctional organic acid, polyfunctional amine compound, imidazole This is achieved by using a compound or the like.
また、液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する熱可塑性樹脂の具体例で、エポキシ基を有する熱可塑性樹脂としては、(I)エチレン単位が50〜99重量%、(II)不飽和カルボン酸グリシジルエステル単位および/または不飽和グリシジルエーテル単位が0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜20重量%、(III)エチレン系不飽和エステル化合物単位が0〜50重量%からなるエポキシ基含有エチレン共重合体を挙げることができる。 In addition, specific examples of the thermoplastic resin having a functional group having reactivity with the liquid crystal polyester, the thermoplastic resin having an epoxy group includes (I) an ethylene unit of 50 to 99% by weight, and (II) an unsaturated carboxylic acid. Epoxy group comprising 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 20% by weight of glycidyl ester unit and / or unsaturated glycidyl ether unit, and (III) 0 to 50% by weight of ethylenically unsaturated ester compound unit Examples thereof include an ethylene copolymer.
エチレン系不飽和エステル化合物(III)としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル等のカルボン酸ビニルエステル、α,β−不飽和カルボン酸アルキルエステル等が挙げられ、酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチルが好ましい。 Examples of the ethylenically unsaturated ester compound (III) include vinyl acetate, vinyl propionate, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate and other carboxylic acid vinyl esters, α , Β-unsaturated carboxylic acid alkyl ester and the like, and vinyl acetate, methyl acrylate, and ethyl acrylate are preferable.
該エポキシ基含有エチレン共重合体の具体例としては、エチレン単位とグリシジルメタクリレート単位からなる共重合体、エチレン単位とグリシジルメタクリレート単位およびアクリル酸メチル単位からなる共重合体、エチレン単位とグリシジルメタクリレート単位およびアクリル酸エチル単位からなる共重合体、エチレン単位とグリシジルメタクリレート単位および酢酸ビニル単位からなる共重合体等が挙げられる。 Specific examples of the epoxy group-containing ethylene copolymer include a copolymer comprising an ethylene unit and a glycidyl methacrylate unit, a copolymer comprising an ethylene unit, a glycidyl methacrylate unit and a methyl acrylate unit, an ethylene unit and a glycidyl methacrylate unit, and Examples include a copolymer composed of ethyl acrylate units, a copolymer composed of ethylene units, glycidyl methacrylate units, and vinyl acetate units.
該エポキシ基含有エチレン共重合体は、通常不飽和エポキシ化合物とエチレンをラジカル発生剤の存在下、500〜4000気圧、100〜300℃で適当な溶媒や連鎖移動剤の存在下または不存在下に共重合させる高圧ラジカル重合法により製造することができる。また、ポリエチレンに不飽和エポキシ化合物およびラジカル発生剤を混合し、押出機の中で溶融グラフト共重合させる方法によっても製造することができる。 The epoxy group-containing ethylene copolymer is usually an unsaturated epoxy compound and ethylene in the presence of a radical generator at 500 to 4000 atm and 100 to 300 ° C. in the presence or absence of a suitable solvent or chain transfer agent. It can be produced by a high-pressure radical polymerization method for copolymerization. It can also be produced by a method in which an unsaturated epoxy compound and a radical generator are mixed with polyethylene and melt graft copolymerized in an extruder.
本発明における液晶ポリエステル樹脂層は、前記のような(A)液晶ポリエステルを連続相として含有することが好ましい。また、本発明の液晶ポリエステル樹脂層は、前記のような(B)該液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体を分散相として含有することが好ましい。液晶ポリエステル樹脂層をこのような構成とすることで、該液晶ポリエステル樹脂層のガスバリア性、耐熱性をより向上することができる。 The liquid crystal polyester resin layer in the present invention preferably contains (A) liquid crystal polyester as described above as a continuous phase. Moreover, it is preferable that the liquid crystalline polyester resin layer of this invention contains the copolymer which has the above (B) functional group which has reactivity with this liquid crystalline polyester as a dispersed phase. By setting the liquid crystal polyester resin layer to such a configuration, the gas barrier property and heat resistance of the liquid crystal polyester resin layer can be further improved.
上記の液晶ポリエステル樹脂層の組成の一実施態様としては、(A)は56.0〜99.9重量%、好ましくは65.0〜99.9重量%、さらに好ましくは70〜98重量%、および(B)44.0〜0.1重量%、好ましくは35.0〜0.1重量%、さらに好ましくは30〜2重量%である。
(A)が56.0重量%未満であると得られる液晶ポリエステル樹脂層の水蒸気バリア性、耐熱性が低下する場合がある。また、(A)が99.9重量%を超えると液晶ポリエステル層の成形加工性が低下する場合があり、また価格的にも高価なものとなる。
As one embodiment of the composition of the liquid crystal polyester resin layer, (A) is 56.0 to 99.9% by weight, preferably 65.0 to 99.9% by weight, more preferably 70 to 98% by weight, And (B) 44.0 to 0.1% by weight, preferably 35.0 to 0.1% by weight, more preferably 30 to 2% by weight.
When (A) is less than 56.0% by weight, the water vapor barrier property and heat resistance of the obtained liquid crystal polyester resin layer may be lowered. On the other hand, if (A) exceeds 99.9% by weight, the molding processability of the liquid crystal polyester layer may be lowered, and the price becomes expensive.
このような液晶ポリエステル樹脂層を構成する(A)および(B)からなる液晶ポリエステル樹脂を製造する方法としては、たとえば、溶液状態で(A)および(B)を混合し、溶剤を蒸発させるか、溶剤中に沈殿させる方法が挙げられる。工業的見地からみると溶融状態で上記(A)および(B)を混練する方法が好ましい。この溶融混練には一軸もしくは二軸の押出機、または一軸もしくは二軸の各種ニーダー等の混練装置を用いることができ、中でも二軸の混練機が好ましい。溶融混練に際しては、混練装置のシリンダー設定温度は、200〜360℃の範囲が好ましく、さらに好ましくは230〜350℃である。 As a method for producing a liquid crystal polyester resin comprising (A) and (B) constituting such a liquid crystal polyester resin layer, for example, (A) and (B) are mixed in a solution state and the solvent is evaporated. And a method of precipitation in a solvent. From an industrial standpoint, a method of kneading the above (A) and (B) in a molten state is preferable. For this melt-kneading, a kneading apparatus such as a uniaxial or biaxial extruder or various uniaxial or biaxial kneaders can be used. Among these, a biaxial kneader is preferable. In the melt-kneading, the cylinder setting temperature of the kneading apparatus is preferably in the range of 200 to 360 ° C, more preferably 230 to 350 ° C.
混練に際しては、(A)および(B)を予めタンブラーもしくはヘンシェルミキサーのような装置で均一に混合してもよいし、混合を省き、混練装置にそれぞれ別個に定量供給してもよい。 In kneading, (A) and (B) may be uniformly mixed in advance with an apparatus such as a tumbler or a Henschel mixer, or the mixing may be omitted and a fixed amount may be separately supplied to the kneading apparatus.
必要に応じて、さらに、有機充填剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、無機または有機系着色剤、防錆剤、架橋剤、発泡剤、蛍光剤、表面平滑剤、表面光沢改良剤、フッ素樹脂などの離型改良剤などの各種の添加剤を(A)および(B)の樹脂の製造工程中あるいはその後の加工工程において添加することができる。 If necessary, further organic fillers, antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, flame retardants, lubricants, antistatic agents, inorganic or organic colorants, rust preventives, crosslinking agents, foaming agents, fluorescent Various additives such as an agent, a surface smoothing agent, a surface gloss improving agent, and a mold release improving agent such as a fluororesin can be added during the manufacturing process of the resin (A) and (B) or in the subsequent processing process. .
本発明における液晶ポリエステル樹脂層は、同時に二軸延伸可能なインフレーション成形によるものが好ましい。すなわち、(A)および(B)からなる樹脂を環状スリットのダイを備えた溶融混練押出機に供給し、シリンダー設定温度好ましくは200〜360℃、さらに好ましくは230〜350℃で溶融混練する。次に、押出機の環状スリットから上方または下方へ溶融樹脂が押出される(この方向(長手方向)がMD方向であり、フィルム面内でそれに直行する方向がTD方向である)。環状スリット間隔は、通常0.1〜5mm、好ましくは0.5〜2mm、環状スリットの直径は、通常20〜1000mm、好ましくは50〜300mmである。 The liquid crystal polyester resin layer in the present invention is preferably formed by inflation molding capable of biaxial stretching at the same time. That is, the resin comprising (A) and (B) is supplied to a melt-kneading extruder equipped with a die having an annular slit, and melt-kneaded at a cylinder set temperature, preferably 200 to 360 ° C, more preferably 230 to 350 ° C. Next, the molten resin is extruded upward or downward from the annular slit of the extruder (this direction (longitudinal direction) is the MD direction, and the direction perpendicular to it in the film plane is the TD direction). The interval between the annular slits is usually 0.1 to 5 mm, preferably 0.5 to 2 mm, and the diameter of the annular slit is usually 20 to 1000 mm, preferably 50 to 300 mm.
インフレーション成形において、好ましいブロー比は、通常1.5〜10、好ましいMD延伸倍率は、1.5〜40である。
インフレーション成形時の設定条件が上記の範囲外であると、厚さが均一でしわの無い高強度の液晶ポリエステル樹脂層を得るのが困難となる場合がある。
膨張させた液晶ポリエステル樹脂層は、その円周を空冷あるいは水冷させた後、ニップロールを通過させて引き取る。
In inflation molding, a preferable blow ratio is usually 1.5 to 10, and a preferable MD stretch ratio is 1.5 to 40.
If the setting conditions at the time of inflation molding are out of the above range, it may be difficult to obtain a high-strength liquid crystal polyester resin layer having a uniform thickness and no wrinkles.
The expanded liquid crystal polyester resin layer is air-cooled or water-cooled around the circumference, and then taken through a nip roll.
インフレーション成形に際しては、樹脂の組成に応じて、溶融体液晶ポリエステル樹脂層が均一な厚みで表面平滑な状態に膨張するような条件を選択することができる。
インフレーション成形以外の方法であると、液晶ポリエステル樹脂層が二軸延伸されず強度が十分でない場合がある。また、インフレーション成形以外の方法による二軸延伸は、コスト面で問題がでてくることがある。
In the inflation molding, conditions can be selected such that the melt liquid crystalline polyester resin layer expands to a smooth surface with a uniform thickness according to the resin composition.
If the method is other than inflation molding, the liquid crystal polyester resin layer may not be biaxially stretched and the strength may not be sufficient. Further, biaxial stretching by a method other than inflation molding may cause a problem in terms of cost.
本発明における液晶ポリエステル樹脂層の厚みは、ガスバリア性と柔軟性の点で、3μm以上500μm未満、より好ましくは、5μm以上300μm未満、さらに好ましくは、8μm以上200μm未満である。厚みが3μm未満、または500μm以上であると、柔軟性が損なわれる場合がある。 The thickness of the liquid crystal polyester resin layer in the present invention is 3 μm or more and less than 500 μm, more preferably 5 μm or more and less than 300 μm, and still more preferably 8 μm or more and less than 200 μm in terms of gas barrier properties and flexibility. When the thickness is less than 3 μm or 500 μm or more, flexibility may be impaired.
本発明の表示素子用基板は、2層以上の樹脂層を有する表示素子用基板であって、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が上記の液晶ポリエステル樹脂層であり、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層である。ここで、液晶ポリエステル樹脂層は1層であることが製造の面で好ましい。また、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層に用いる樹脂としては、耐熱性の高い樹脂が挙げられる。該樹脂としては、そのガラス転移温度(Tg)が150℃以上のものが好ましく、ガラス転移温度(Tg)が150℃以上の樹脂として、具体的には、エチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ドモン共重合体などのポリオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂;ナイロン−6、ナイロン−6,6、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体;ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂;ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂;ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリルなどのスチレン−アクリロニトリル系樹脂;トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水化セルロース系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなどのハロゲン含有樹脂;ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性樹脂;ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂が挙げられ、また、これらの樹脂の中でもエチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ドモン共重合体、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂またはポリエーテルサルホン樹脂からなる群より選ばれる1種以上の樹脂がより好ましい。また、ガラス転移温度(Tg)が180℃以上の樹脂を用いることがさらに好ましく、特に好ましくは190℃以上の樹脂を用いることである。 The display element substrate of the present invention is a display element substrate having two or more resin layers, wherein at least one of the two or more resin layers is the above-described liquid crystal polyester resin layer, and two or more layers. At least one of the resin layers is a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer. Here, the liquid crystal polyester resin layer is preferably a single layer in terms of production. Moreover, as resin used for resin layers other than this liquid crystal polyester resin layer, resin with high heat resistance is mentioned. The resin preferably has a glass transition temperature (Tg) of 150 ° C. or higher. Specific examples of resins having a glass transition temperature (Tg) of 150 ° C. or higher include ethylene-norbornene copolymers and ethylene-monone. Polyolefin resins such as copolymers; Polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; Nylon-6, nylon-6,6, metaxylenediamine-adipic acid condensation polymer; polymethylmethacrylamide, etc. Amide resins; acrylic resins such as polymethylmethacrylate; styrene-acrylonitrile resins such as polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer, polyacrylonitrile; cellulose triacetate Hydrophobized cellulose resins such as cellulose diacetate; Halogen-containing resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, and polytetrafluoroethylene; Hydrogen such as polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, and cellulose derivatives Binding resin: polycarbonate resin, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyether ether ketone resin, polyphenylene oxide resin, polymethylene oxide resin, and among these resins, ethylene-norbornene copolymer, ethylene- One or more resins selected from the group consisting of a domon copolymer, polyethylene naphthalate, polycarbonate resin, polysulfone resin or polyethersulfone resin are more preferable. Further, it is more preferable to use a resin having a glass transition temperature (Tg) of 180 ° C. or higher, and it is particularly preferable to use a resin having a glass transition temperature of 190 ° C. or higher.
また、本発明の表示素子用基板は、2層以上の樹脂層を有する表示素子用基板であって、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が(A)液晶ポリエステルおよび(B)該液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体から実質的になる液晶ポリエステル樹脂層であり、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層であり、該液晶ポリエステル樹脂層の少なくとも1層と該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層の少なくとも1層とが接し、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層側の表面平均粗さ(Ra)が5nm以下であることを特徴とする。この表面平均粗さ(Ra)が5nmを超えると、この表示素子用基板を表示素子に用いるときに組み合せる導電層との密着性、あるいは基板のガスバリア性の観点で好ましくない。また、より前記の密着性を向上することができるので、表面平均粗さ(Ra)は、3nm以下であることが好ましい。ここで、表面平均粗さとは、日本規格協会発行のJIS B 0601(平成13年1月20日改正)の段落[4.2.1]に記載の算術平均粗さに相当する値であり、樹脂層表面の断面曲線の平均線から求める値であり、具体的には、セイコーインスツルメント社製Nanopics等の装置を用いて算出することができる値である。 The display element substrate of the present invention is a display element substrate having two or more resin layers, wherein at least one of the two or more resin layers comprises (A) liquid crystal polyester and (B) the A liquid crystal polyester resin layer substantially composed of a copolymer having a functional group reactive with liquid crystal polyester, and at least one of the two or more resin layers is a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer And at least one layer of the liquid crystal polyester resin layer is in contact with at least one layer of the resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer, and the surface average roughness (Ra) on the resin layer side other than the liquid crystal polyester resin layer is 5 nm or less. It is characterized by being. When the surface average roughness (Ra) exceeds 5 nm, it is not preferable from the viewpoints of adhesion to a conductive layer to be combined when the display element substrate is used for a display element, or gas barrier properties of the substrate. Moreover, since the said adhesiveness can be improved more, it is preferable that surface average roughness (Ra) is 3 nm or less. Here, the surface average roughness is a value corresponding to the arithmetic average roughness described in paragraph [4.2.1] of JIS B 0601 (revised on January 20, 2001) issued by the Japanese Standards Association, This is a value obtained from the average line of the cross-sectional curve on the surface of the resin layer, and specifically, a value that can be calculated using a device such as Nanopics manufactured by Seiko Instruments Inc.
該液晶ポリエステル樹脂層としては、上記のものを用いればよい。また、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層としては、上記のものを用いればよい。 What is necessary is just to use said thing as this liquid crystal polyester resin layer. Moreover, what is necessary is just to use said thing as resin layers other than this liquid crystal polyester resin layer.
また、液晶ポリエステル樹脂層と、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層とを接する際に、接着性向上の目的で、液晶ポリエステル樹脂層の表面についてあらかじめ表面処理を施すことができる。この表面処理法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理、スパッタリング処理、溶剤処理、紫外線処理、研磨処理、赤外線処理、オゾン処理などが挙げられる。 In addition, when the liquid crystal polyester resin layer is in contact with a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer, the surface of the liquid crystal polyester resin layer can be subjected to surface treatment in advance for the purpose of improving adhesion. Examples of the surface treatment method include corona discharge treatment, plasma treatment, flame treatment, sputtering treatment, solvent treatment, ultraviolet treatment, polishing treatment, infrared treatment, and ozone treatment.
また、本発明の表示素子用基板は、2層以上の樹脂層を有する表示素子用基板であって、2層以上の樹脂層のうちの1層が(A)液晶ポリエステルおよび(B)該液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体から実質的になる液晶ポリエステル樹脂層であり、2層以上の樹脂層のうちの少なくとも1層が該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層であり、さらに無機層状化合物および樹脂からなる層を有し、該液晶ポリエステル樹脂層の少なくとも1層と該無機層状化合物および樹脂からなる層とが接し、該無機層状化合物および樹脂からなる層と該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層の少なくとも1層とが接し、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層側の表面平均粗さ(Ra)が5nm以下であることを特徴とする。この表面平均粗さ(Ra)が5nmを超えると、この表示素子用基板を表示素子に用いるときに組み合せる導電層との密着性、あるいは基板のガスバリア性の観点で好ましくない。また、より前記の密着性を向上することができるので、表面平均粗さ(Ra)は、3nm以下であることが好ましい。また、表面平均粗さは、前記と同じ手法で求めることができる。 The display element substrate of the present invention is a display element substrate having two or more resin layers, wherein one of the two or more resin layers is (A) liquid crystal polyester and (B) the liquid crystal. A liquid crystal polyester resin layer substantially comprising a copolymer having a functional group reactive with polyester, wherein at least one of the two or more resin layers is a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer; Furthermore, it has a layer composed of an inorganic layered compound and a resin, and at least one layer of the liquid crystalline polyester resin layer is in contact with a layer composed of the inorganic layered compound and resin, and the layer composed of the inorganic layered compound and resin and the liquid crystalline polyester resin The surface average roughness (Ra) on the resin layer side other than the liquid crystal polyester resin layer is in contact with at least one layer other than the resin layer, and is 5 nm or less. When the surface average roughness (Ra) exceeds 5 nm, it is not preferable from the viewpoints of adhesion to a conductive layer to be combined when the display element substrate is used for a display element, or gas barrier properties of the substrate. Moreover, since the said adhesiveness can be improved more, it is preferable that surface average roughness (Ra) is 3 nm or less. The surface average roughness can be obtained by the same method as described above.
該液晶ポリエステル樹脂層としては、上記のものを用いればよい。また、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層としては、上記のものを用いればよい。 What is necessary is just to use said thing as this liquid crystal polyester resin layer. Moreover, what is necessary is just to use said thing as resin layers other than this liquid crystal polyester resin layer.
また、無機層状化合物および樹脂からなる層に用いる無機層状化合物としては、後述する方法により測定されるアスペクト比が50以上5000以下で、平均粒径が5μm以下のものが好ましい。アスペクト比が50未満では、ガスバリア性が低下する傾向がある。一方アスペクト比が5000を越える無機層状化合物は、その製造が容易でない場合がある。製造の点からは、アスペクト比は50以上2000以下がより好ましく、100〜1000の範囲がさらに好ましい。ここで、アスペクト比(Z)は、式Z=L/aで計算される。Lは、溶媒中、動的光散乱法により測定した平均粒径であり、aは、無機層状化合物の平均単位厚みである。単位厚みaは、粉末X線回折測定によって得られる無機層状化合物の回折ピークから算出することができる値である。
さらに、無機層状化合物の大きさ、すなわち、溶媒中、動的光散乱法により測定した平均粒径は5μm以下であり、50nm以上3μm以下の範囲がより好ましく、さらに好ましくは100nm以上2μm以下の範囲である。無機層状化合物の平均粒径が5μmを超えると樹脂中での無機層状化合物の分散が容易でない場合があり、平均粒径が50nm未満であると、ガスバリア性が低下する場合がある。
Moreover, as an inorganic layered compound used for the layer which consists of an inorganic layered compound and resin, the aspect-ratio measured by the method mentioned later is 50 or more and 5000 or less, and an average particle diameter of 5 micrometers or less is preferable. If the aspect ratio is less than 50, the gas barrier property tends to decrease. On the other hand, an inorganic layered compound having an aspect ratio exceeding 5000 may not be easily manufactured. From the viewpoint of production, the aspect ratio is more preferably from 50 to 2,000, and even more preferably from 100 to 1,000. Here, the aspect ratio (Z) is calculated by the formula Z = L / a. L is an average particle diameter measured by a dynamic light scattering method in a solvent, and a is an average unit thickness of the inorganic layered compound. The unit thickness a is a value that can be calculated from the diffraction peak of the inorganic layered compound obtained by powder X-ray diffraction measurement.
Furthermore, the size of the inorganic layered compound, that is, the average particle diameter measured by the dynamic light scattering method in a solvent is 5 μm or less, more preferably in the range of 50 nm to 3 μm, and still more preferably in the range of 100 nm to 2 μm. It is. When the average particle size of the inorganic layered compound exceeds 5 μm, the dispersion of the inorganic layered compound in the resin may not be easy, and when the average particle size is less than 50 nm, the gas barrier property may be deteriorated.
無機層状化合物としては、粘土鉱物を好ましく用いることができる。粘土鉱物としては、具体的にはカオリナイト、ディッカイト、ナクライト、ハロイサイト、アンチゴライト、クリソタイル、パイロフィライト、モンモリロナイト、ヘクトライト、テトラシリリックマイカ、ナトリウムテニオライト、白雲母、マーガライト、タルク、バーミキュライト、金雲母、ザンソフィライト、緑泥石等を挙げることができる。取扱いの容易性から、カオリナイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、タルクなどが好ましい。 As the inorganic layered compound, a clay mineral can be preferably used. Specific examples of clay minerals include kaolinite, dickite, nacrite, halloysite, antigolite, chrysotile, pyrophyllite, montmorillonite, hectorite, tetrasilic mica, sodium teniolite, muscovite, margarite, talc, Examples include vermiculite, phlogopite, xanthophyllite, chlorite. In view of ease of handling, kaolinite, montmorillonite, hectorite, talc and the like are preferable.
また、無機層状化合物および樹脂からなる層に用いる樹脂としては、耐熱性の高い樹脂が挙げられる。具体的には、エチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ドモン共重合体などのポリオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂;ナイロン−6、ナイロン−6,6、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体;ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂;ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂;ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリルなどのスチレン−アクリロニトリル系樹脂;トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水化セルロース系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなどのハロゲン含有樹脂;ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性樹脂;ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂が挙げられる。 Moreover, as resin used for the layer which consists of an inorganic layered compound and resin, resin with high heat resistance is mentioned. Specifically, polyolefin resins such as ethylene-norbornene copolymer and ethylene-monone copolymer; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; nylon-6, nylon-6,6, Metaxylenediamine-adipic acid condensation polymer; Amide resin such as polymethylmethacrylamide; Acrylic resin such as polymethylmethacrylate; Polystyrene, Styrene-acrylonitrile copolymer, Styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer, Polyacrylonitrile, etc. Styrene-acrylonitrile resins; Hydrophobized cellulose resins such as cellulose triacetate and cellulose diacetate; Polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoro Halogen-containing resins such as ethylene; hydrogen-bonding resins such as polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, cellulose derivatives; polycarbonate resins, polysulfone resins, polyether sulfone resins, polyether ether ketone resins, polyphenylene oxide resins, poly A methylene oxide resin is mentioned.
また、無機層状化合物および樹脂からなる層に用いる樹脂としては、無機層状化合物と樹脂との重量比は、通常は、無機層状化合物/樹脂の重量比が5/95〜90/10の範囲であり、重量比が5/95〜50/50の範囲であることが好ましい。無機層状化合物/樹脂の重量比が5/95より小さい場合には、ガスバリア性が低下する傾向があり、90/10より大きい場合には製膜性が良好ではない場合がある。 Moreover, as resin used for the layer which consists of an inorganic layered compound and resin, the weight ratio of an inorganic layered compound and resin is the range whose weight ratio of an inorganic layered compound / resin is 5 / 95-90 / 10 normally. The weight ratio is preferably in the range of 5/95 to 50/50. When the weight ratio of the inorganic layered compound / resin is smaller than 5/95, the gas barrier property tends to decrease, and when it is larger than 90/10, the film forming property may not be good.
また、無機層状化合物および樹脂からなる層に用いる樹脂としては、10μm以下が好ましく、より好ましくは2μm以下である。10μmを超えると表示素子用基板の柔軟性が低下する場合がある。 Moreover, as resin used for the layer which consists of an inorganic layered compound and resin, 10 micrometers or less are preferable, More preferably, it is 2 micrometers or less. If it exceeds 10 μm, the flexibility of the display element substrate may be lowered.
また、本発明の表示素子用基板は、さらに導電性を有する層を有し、上記の液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層と導電性を有する層とが接していてもよい。この導電性を有する層は、後述の表示素子の陽極または陰極となってもよいし、パターン化されていてもよい。 In addition, the display element substrate of the present invention further has a conductive layer, and a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer may be in contact with the conductive layer. This conductive layer may be an anode or a cathode of a display element described later, or may be patterned.
導電性を有する層としては、導電性の金属酸化物膜、金属薄膜等が用いられる。具体的な材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド、金、白金、銀、銅等が用いられ、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法により導電性を有する層を形成することができる。また、導電性を有する層としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の導電膜を用いてもよい。 As the conductive layer, a conductive metal oxide film, a metal thin film, or the like is used. Specific materials include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide, gold, platinum, silver, copper, etc., vacuum deposition, sputtering, A conductive layer can be formed by ion plating or plating. Alternatively, an organic conductive film such as polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof may be used as the conductive layer.
本発明の表示素子用基板は、ガスバリア性の観点から、さらに無機層を有し、前記の液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層と該無機層とが接することが好ましい。該無機層としては、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物または金属酸窒化物からなる群より選ばれる1種以上の無機物からなる層が好ましく、無機物として具体的には、シリカ、アルミナ、チタニア、酸化インジウム、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸窒化ケイ素、アルミニウム、銅、ニッケル及びそれらの組合せからなるものが挙げられる。より好ましくは、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、さらに好ましくは酸窒化ケイ素である。 From the viewpoint of gas barrier properties, the display element substrate of the present invention preferably further comprises an inorganic layer, and the resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer is preferably in contact with the inorganic layer. The inorganic layer is preferably a layer made of one or more inorganic materials selected from the group consisting of metals, metal oxides, metal nitrides, metal carbides or metal oxynitrides. , Titania, indium oxide, tin oxide, titanium oxide, zinc oxide, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, silicon oxynitride, aluminum, copper, nickel and combinations thereof. More preferred are alumina, aluminum nitride, silicon nitride, silicon oxynitride, and still more preferred is silicon oxynitride.
該無機層の厚みは、1nm以上1000nm以下が好ましく、さらに好ましくは10nm以上500nm以下である。1nm未満であると製膜が難しく、1000nmより厚いと、クラックを生じる傾向がある。また、液晶ポリエステル樹脂層と該無機層とが接した表示素子用基板は、ガスバリア性の観点で好ましくない。 The thickness of the inorganic layer is preferably 1 nm or more and 1000 nm or less, more preferably 10 nm or more and 500 nm or less. If it is less than 1 nm, film formation is difficult, and if it is thicker than 1000 nm, cracks tend to occur. Moreover, the display element substrate in which the liquid crystal polyester resin layer and the inorganic layer are in contact is not preferable from the viewpoint of gas barrier properties.
また、本発明の表示素子用基板は、さらに導電性を有する層を有し、無機層と導電性を有する層とが接していてもよい。この導電性を有する層は、後述の表示素子の陽極または陰極となってもよいし、パターン化されていてもよい。導電性を有する層としては上記のものが挙げられる。 The display element substrate of the present invention may further have a conductive layer, and the inorganic layer and the conductive layer may be in contact with each other. This conductive layer may be an anode or a cathode of a display element described later, or may be patterned. Examples of the conductive layer include those described above.
また、本発明の表示素子用基板は、反射防止膜、耐磨耗性膜等の膜を積層して用いることができる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、紫外線吸収剤、着色剤、酸化防止剤等が含有されてもよい。 In addition, the display element substrate of the present invention can be used by laminating films such as an antireflection film and an abrasion-resistant film. Moreover, an ultraviolet absorber, a coloring agent, antioxidant, etc. may be contained in the range which does not impair the effect of this invention.
次に、本発明の表示素子用基板の製造方法について説明する。
液晶ポリエステル樹脂層の製法としては、上記の製法を挙げることができる。
液晶ポリエステル樹脂層と該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層とを接する方法、または無機層状化合物および樹脂からなる層と該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層とを接する方法としては、例えば液晶ポリエステル樹脂層または後述の無機層状化合物および樹脂からなる層の表面に、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂を含む塗工液を塗布し、乾燥し、熱処理を行ってコーティングする方法や、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂からなる層を後からラミネートする方法により形成することができる。具体的な方法としては、ダイレクトグラビア法;リバースグラビア法;マイクログラビア法;2本ロールビートコート法やボトムフィード3本リバースコート法等のロールコーティング法;ドクターナイフ法;ダイコート法;ディップコート法;バーコーティング法;およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。ラミネートする場合は、これから接する表面について、コロナ処理やアンカーコート剤による処理を行ってもよい。
Next, the manufacturing method of the display element substrate of the present invention will be described.
Examples of the production method of the liquid crystal polyester resin layer include the production methods described above.
Examples of a method for contacting a liquid crystal polyester resin layer with a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer, or a method for contacting an inorganic layered compound and resin layer with a resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer include, for example, a liquid crystal polyester resin layer Alternatively, a coating solution containing a resin other than the liquid crystalline polyester resin layer is applied to the surface of the layer composed of an inorganic layered compound and a resin, which will be described later, dried, and subjected to a heat treatment for coating, or other than the liquid crystalline polyester resin layer It can be formed by a method of laminating a layer made of this resin later. Specific methods include a direct gravure method; a reverse gravure method; a micro gravure method; a roll coating method such as a two-roll beat coat method or a bottom feed three-pin reverse coat method; a doctor knife method; a die coating method; a dip coating method; A bar coating method; and a combination thereof. When laminating, the surface to be contacted may be treated with a corona treatment or an anchor coating agent.
また、無機層状化合物および樹脂からなる層を接する方法としては、工業的に通常用いられる方法により形成することができ、液晶ポリエステル樹脂層の表面に、無機層状化合物と樹脂と溶媒との混合物を塗布し、乾燥し、熱処理を行ってコーティングする方法や、無機層状化合物および樹脂からなる層をラミネートする方法により形成することができる。コーティングする方法としては、ダイレクトグラビア法;リバースグラビア法;マイクログラビア法;2本ロールビートコート法やボトムフィード3本リバースコート法等のロールコーティング法;ドクターナイフ法;ダイコート法;ディップコート法;バーコーティング法;およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。ラミネートする場合は、これから接する表面について、コロナ処理やアンカーコート剤による処理を行ってもよい。 In addition, as a method for contacting the layer composed of the inorganic layered compound and the resin, it can be formed by a method commonly used in industry, and a mixture of the inorganic layered compound, the resin and the solvent is applied to the surface of the liquid crystal polyester resin layer. Then, it can be formed by a method of coating by drying and heat treatment, or a method of laminating a layer composed of an inorganic layered compound and a resin. As a coating method, a direct gravure method; a reverse gravure method; a micro gravure method; a roll coating method such as a two-roll beat coat method or a bottom feed three-reverse coat method; a doctor knife method; a die coating method; a dip coating method; A coating method; and a combination thereof. When laminating, the surface to be contacted may be treated with a corona treatment or an anchor coating agent.
ここで、無機層状化合物は、そのそれぞれの粒子の多くが、該粒子の最大の面を本発明の表示素子用基板の面と略平行になるように配向(これを「面方向に配向」という。)していることが好ましい。無機層状化合物が配向している場合には、表示素子用基板のガスバリア性が向上する傾向がある。そこで、塗布の方法としては、無機層状化合物の粒子を面方向に配向させるよう、基板と平行方向に働く力(シェア)をかける方法であるロールコーティング法またはドクターナイフ法が好ましい。 Here, in the inorganic layered compound, many of the respective particles are aligned so that the maximum surface of the particles is substantially parallel to the surface of the display element substrate of the present invention (this is referred to as “orientation in the plane direction”). Preferably). When the inorganic layered compound is oriented, the gas barrier property of the display element substrate tends to be improved. Therefore, as a coating method, a roll coating method or a doctor knife method, which is a method of applying a force (shear) acting in a direction parallel to the substrate so as to orient the particles of the inorganic layered compound in the plane direction, is preferable.
無機層状化合物と樹脂と溶媒との混合物について、無機層状化合物および樹脂としては前記のものを用いて、例えば、樹脂を溶媒に溶解させた溶液と、無機層状化合物を溶媒により膨潤・へき開させて得られる分散液とを混合する方法、該分散液を樹脂に添加して混合させる方法、該溶液に無機層状化合物を添加して膨潤・へき開させながら混合する方法、また樹脂と無機層状化合物とを加熱混練して得られた混練物と溶媒とを混合する方法により製造することができ、前三者が好ましい。前記溶媒としては、無機層状化合物を膨潤・へき開させることができるものが好ましく、例えば、水、メタノール等のアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、アセトン、N−メチルピロリドン等が挙げられる。また、前記分散液を製造するに際し、無機層状化合物の分散性を向上するために、無機層状化合物の表面処理を行うことが好ましい。表面処理剤としては、4級アンモニウム塩などが用いられる。 A mixture of an inorganic layered compound, a resin and a solvent is obtained by using the above-mentioned inorganic layered compound and resin, for example, a solution obtained by dissolving a resin in a solvent, and swelling and cleaving the inorganic layered compound with a solvent. A method of mixing the resulting dispersion with the resin, a method of adding the dispersion to the resin and mixing, a method of adding the inorganic layered compound to the solution and mixing while swelling and cleaving, and heating the resin and the inorganic layered compound The kneaded product obtained by kneading can be produced by a method of mixing a solvent, and the former three are preferred. As the solvent, those capable of swelling and cleaving the inorganic layered compound are preferable, and examples thereof include water, alcohols such as methanol, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dichloromethane, chloroform, toluene, acetone, N-methylpyrrolidone and the like. Can be mentioned. Moreover, when manufacturing the said dispersion liquid, in order to improve the dispersibility of an inorganic layered compound, it is preferable to surface-treat an inorganic layered compound. As the surface treatment agent, a quaternary ammonium salt or the like is used.
無機層を接する方法としては、例えば工業的に通常用いられる真空蒸着法、CVD法、スパッタリング法およびゾル−ゲル法などが挙げられる。 Examples of the method for contacting the inorganic layer include a vacuum deposition method, a CVD method, a sputtering method, a sol-gel method, and the like that are usually used industrially.
また導電性を有する層を接する方法としては、例えば工業的に通常用いられる真空蒸着法、CVD法、スパッタリング法およびゾル−ゲル法などが挙げられる。 Examples of a method for contacting the conductive layer include a vacuum deposition method, a CVD method, a sputtering method, a sol-gel method, and the like that are usually used industrially.
また、本発明の表示素子用基板を用いてなる表示素子の耐久性が向上するので、本発明の表示素子用基板のガスバリア性は、水蒸気透過度が0.2g/m2/day以下でかつ酸素透過度が0.1cc/m2/day以下である場合が好ましく、水蒸気透過度が0.1g/m2/day以下でかつ酸素透過度が0.05cc/m2/day以下である場合がさらに好ましい。 In addition, since the durability of the display element using the display element substrate of the present invention is improved, the gas barrier property of the display element substrate of the present invention is such that the water vapor permeability is 0.2 g / m 2 / day or less and When the oxygen permeability is preferably 0.1 cc / m 2 / day or less, when the water vapor permeability is 0.1 g / m 2 / day or less and the oxygen permeability is 0.05 cc / m 2 / day or less Is more preferable.
また、本発明の表示素子用基板を用いてなる表示素子の密着性が向上するので、本発明の表示素子用基板は、20℃〜150℃の温度範囲における平均熱線膨張率が−10ppm/℃以上25ppm/℃以下である場合が好ましく、−5ppm/℃以上20ppm/℃以下の範囲である場合がさらに好ましい。 Moreover, since the adhesiveness of the display element using the display element substrate of the present invention is improved, the display element substrate of the present invention has an average coefficient of thermal expansion in the temperature range of 20 ° C. to 150 ° C. of −10 ppm / ° C. The case of 25 ppm / ° C. or less is preferable, and the range of −5 ppm / ° C. to 20 ppm / ° C. is more preferable.
次に、本発明の表示素子用基板を有する表示素子について説明する。
本発明の表示素子用基板を有する表示素子としては、下記の(a)〜(e)を有するものが挙げられる。
(a)上記<1>〜<7>のいずれかに記載の本発明の表示素子用基板。
(b)導電性を有する層。
(c)電界印加により、光吸収、光散乱、旋光および発光から選ばれる少なくとも1つの機能が発現する有機層。
(d)透明導電性を有する層。
(e)透明な封止材。
Next, a display element having the display element substrate of the present invention will be described.
Examples of the display element having the display element substrate of the present invention include those having the following (a) to (e).
(A) The display element substrate according to any one of <1> to <7>.
(B) A layer having conductivity.
(C) An organic layer that exhibits at least one function selected from light absorption, light scattering, optical rotation, and light emission by applying an electric field.
(D) A layer having transparent conductivity.
(E) Transparent encapsulant.
また、本発明の表示素子用基板を用いてなる表示素子としては、例えば、下記の(a´)〜(d´)の工程を含む製法により得られるものが挙げられる。
(a´)上記<1>〜<7>のいずれかに記載の本発明の表示素子用基板の液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層側の表面に、導電性を有する層を形成する工程。
(b´)工程(a´)で得られる導電性を有する層側の表面に、光吸収、光散乱、旋光および発光から選ばれる少なくとも1つの機能が電界印加により発現する有機層を形成する工程。
(c´)工程(b´)で得られる有機層の表面に、透明導電性を有する層を形成し、積層体を得る工程。
(d´)工程(c´)により得られた積層体の表面の一部または全部を、透明な封止材で封止し、表示素子を得る工程。
Examples of the display element using the display element substrate of the present invention include those obtained by a production method including the following steps (a ′) to (d ′).
(A ′) A step of forming a conductive layer on the surface on the resin layer side other than the liquid crystal polyester resin layer of the substrate for display elements of the present invention according to any one of <1> to <7>.
(B ′) A step of forming, on the surface of the conductive layer obtained in the step (a ′), an organic layer in which at least one function selected from light absorption, light scattering, optical rotation and light emission is manifested by applying an electric field. .
(C ′) A step of forming a layer having transparent conductivity on the surface of the organic layer obtained in step (b ′) to obtain a laminate.
(D ′) A step of obtaining a display element by sealing part or all of the surface of the laminate obtained in the step (c ′) with a transparent sealing material.
導電性を有する層としては、上記のものをあげることができ、導電性を有する層の形成方法としては、上記の方法が挙げられる。また、導電性を有する層はパターン化されていてもよい。パターン化の方法としては、マスクを用いたスパッタリングやレジストワークによる手法が挙げられる。
また、工程(a´)において、液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層側の表面とは、液晶ポリエステル樹脂層の表面ではなく、液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層の表面または無機層の表面のことである。また、この導電性を有する層は、表示素子において、後述の陰極または陽極の役割を果たす。
Examples of the conductive layer include those described above, and examples of the method for forming the conductive layer include the above-described methods. In addition, the conductive layer may be patterned. Examples of the patterning method include sputtering using a mask and a resist work method.
In the step (a ′), the surface on the resin layer side other than the liquid crystal polyester resin layer is not the surface of the liquid crystal polyester resin layer but the surface of the resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer or the surface of the inorganic layer. is there. In addition, the conductive layer serves as a cathode or an anode described later in the display element.
透明導電性を有する層とは、透明性かつ導電性を有する層であり、パターン化されていてもよい。透明導電性を有する層の形成方法としては、例えば工業的に通常用いられる真空蒸着法、CVD法、スパッタリング法およびゾル−ゲル法などが挙げられ、また、パターン化の方法としては、マスクを用いたスパッタリングやレジストワークによる手法が挙げられる。また、この透明導電性を有する層は、表示素子において後述の陰極または陽極の役割を果たし、前記の導電性を有する層が陰極の役割を果たすときは、該透明導電性を有する層は陽極の役割を果たし、導電性を有する層が陽極の役割を果たすときは、該透明導電性を有する層は陰極の役割を果たす。 The layer having transparent conductivity is a layer having transparency and conductivity, and may be patterned. Examples of a method for forming a layer having transparent conductivity include a vacuum vapor deposition method, a CVD method, a sputtering method, a sol-gel method, and the like that are usually used industrially, and a mask is used as a patterning method. Examples of such methods include sputtering and resist work. In addition, the transparent conductive layer serves as a cathode or an anode described later in the display element. When the conductive layer serves as a cathode, the transparent conductive layer serves as an anode. When the conductive layer plays a role as an anode, the transparent conductive layer plays a role as a cathode.
また、透明導電性を有する層が陽極となる場合、透明導電性を有する層としては、導電性の金属酸化物膜、金属薄膜等が用いられる。具体的な材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド、金、白金、銀、銅等が用いられ、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法により透明導電性を有する層を形成することができる。また、透明導電性を有する層としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。 In the case where the layer having transparent conductivity becomes the anode, a conductive metal oxide film, a metal thin film, or the like is used as the layer having transparent conductivity. Specific materials include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide, gold, platinum, silver, copper, etc., vacuum deposition, sputtering, A layer having transparent conductivity can be formed by an ion plating method or a plating method. Alternatively, an organic transparent conductive film such as polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof may be used as the layer having transparent conductivity.
また、透明導電性を有する層が陰極となる場合、具体的な材料としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムから選ばれる金属、およびこれらの金属のうち2つ以上から選ばれる合金、あるいはこれらの金属のうち1つ以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫から選ばれる1つ以上との合金、グラファイトまたはグラファイト層間化合物等が用いられ、真空蒸着法、スパッタリング法、または熱圧着によるラミネート法により透明導電性を有する層を形成することができる。またこれらの材料が不透明である場合には、これらの材料を透明にするために、層厚を薄くしてもよいし、抵抗値を低下させるために、上記の陽極となる場合の材料を積層してもよい。 When the transparent conductive layer is a cathode, specific materials include, for example, lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, scandium, vanadium, and zinc. , Yttrium, indium, cerium, samarium, europium, terbium, ytterbium, an alloy selected from two or more of these metals, or one or more of these metals, and gold, silver, platinum, An alloy with one or more selected from copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin, graphite or a graphite intercalation compound is used, and transparent conductivity is obtained by vacuum deposition, sputtering, or lamination by thermocompression bonding. The It is possible to form a layer. In addition, when these materials are opaque, in order to make these materials transparent, the layer thickness may be thinned, or in order to reduce the resistance value, the above-mentioned materials for the anode are laminated. May be.
また、電界印加により、光吸収、光散乱、旋光および発光から選ばれる少なくとも1つの機能が発現する有機層は、上記の導電性を有する層と透明導電性を有する層との間、すなわち上記の陰極および陽極からなる電極間に形成される。
工程(b´)において、導電性を有する層側の表面とは、工程(a´)における導電性を有する層の表面、または、導電性を有する層がパターン化されている場合は、表示素子用基板の表面(例えば、液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層の表面または無機層の表面)に該有機層が形成されることを意味する。
The organic layer that exhibits at least one function selected from light absorption, light scattering, optical rotation, and light emission by applying an electric field is between the conductive layer and the transparent conductive layer, that is, the above-described layer. It is formed between electrodes consisting of a cathode and an anode.
In the step (b ′), the surface on the conductive layer side is the surface of the conductive layer in the step (a ′), or when the conductive layer is patterned, a display element This means that the organic layer is formed on the surface of the substrate (for example, the surface of the resin layer other than the liquid crystal polyester resin layer or the surface of the inorganic layer).
電界印加により、光吸収の機能が発現する有機層に用いる有機化合物としては、二色性色素を含む液晶組成物などが挙げられる。
電界印加により、光散乱の機能が発現する有機層に用いる有機化合物としては、高分子分散型液晶などが挙げられる。
電界印加により、旋光の機能が発現する有機層に用いる有機化合物としては、コレステリック液晶組成物などが挙げられる。
Examples of the organic compound used for the organic layer that exhibits a light absorption function when an electric field is applied include a liquid crystal composition containing a dichroic dye.
Examples of the organic compound used in the organic layer that exhibits a light scattering function when an electric field is applied include polymer-dispersed liquid crystals.
Examples of the organic compound used in the organic layer that exhibits the function of optical rotation when an electric field is applied include a cholesteric liquid crystal composition.
また、電界印加により、発光の機能が発現する有機層とは、発光層を必須とし、さらに電子輸送層および/または正孔輸送層を有していてもよい有機層である。
陽極、陰極および発光の機能が発現する有機層の構造としては、例えば、陰極と発光層との間に電子輸送層を設けた構造(陽極/発光層/電子輸送層/陰極)(ここで、「/」は各層が隣接して積層されていることを示す。)、陽極と発光層との間に正孔輸送層を設けた構造(陽極/正孔輸送層/発光層/陰極)、陰極と発光層との間に電子輸送層を設け、かつ陽極と発光層との間に正孔輸送層を設けた構造(陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極)等が挙げられる。
In addition, the organic layer that exhibits the function of light emission when an electric field is applied is an organic layer that essentially includes a light-emitting layer and may further include an electron transport layer and / or a hole transport layer.
Examples of the structure of the anode, the cathode, and the organic layer exhibiting the function of light emission include a structure in which an electron transport layer is provided between the cathode and the light emitting layer (anode / light emitting layer / electron transport layer / cathode) (here, “/” Indicates that each layer is laminated adjacently.), A structure in which a hole transport layer is provided between the anode and the light emitting layer (anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode), cathode And a structure in which an electron transport layer is provided between the light emitting layer and a hole transport layer between the anode and the light emitting layer (anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode). It is done.
発光層に用いる有機化合物としては、低分子化合物、高分子化合物を用いることができ、塗布の容易性の点で高分子化合物が好ましく用いられる。低分子化合物としては、例えば特開昭57−51781号公報、同59−194393号公報に記載されているように、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセンもしくはその誘導体、ペリレンもしくはその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエンもしくはその誘導体、またはテトラフェニルブタジエンもしくはその誘導体などが用いられる。
また、高分子化合物としては、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリフルオレン(ジャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプライド・フィジックス(Jpn.J.Appl.Phys.)第30巻、L1941頁(1991年))、ポリパラフェニレン誘導体(アドバンスト・マテリアルズ(Adv.Mater.)第4巻、36頁(1992年))などが用いられる。
発光層は、これらの有機化合物の粉末からの真空蒸着法、有機化合物の溶液を塗布し乾燥して形成する方法、インクジェット法、スピンコート法等により形成することができる。
As the organic compound used in the light emitting layer, a low molecular compound or a high molecular compound can be used, and a high molecular compound is preferably used from the viewpoint of easy coating. Examples of the low molecular weight compounds include, for example, naphthalene derivatives, anthracene or derivatives thereof, perylene or derivatives thereof, polymethine series, xanthene series, as described in JP-A-57-51781 and 59-194393. , Pigments such as coumarins and cyanines, metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, aromatic amines, tetraphenylcyclopentadiene or derivatives thereof, or tetraphenylbutadiene or derivatives thereof are used.
Examples of the polymer compound include poly (p-phenylene vinylene) and polyfluorene (Japanese Journal of Applied Physics, Volume 30, L1941 (1991)), Polyparaphenylene derivatives (Advanced Materials (Adv. Mater.) Vol. 4, page 36 (1992)), etc. are used.
The light-emitting layer can be formed by a vacuum deposition method from a powder of these organic compounds, a method of forming a solution of an organic compound and drying, an inkjet method, a spin coating method, or the like.
正孔輸送層に用いる有機化合物としては、ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、ポリシランもしくはその誘導体、側鎖もしくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)もしくはその誘導体、またはポリ(2,5−チエニレンビニレン)もしくはその誘導体等が用いられ、正孔輸送層は、正孔輸送層に用いる有機化合物と高分子バインダーとの混合溶液を塗布し乾燥して形成する。 Examples of the organic compound used for the hole transport layer include polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine compound group in a side chain or a main chain, polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof, poly (P-phenylene vinylene) or a derivative thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or a derivative thereof is used, and the hole transport layer is a mixture of an organic compound used for the hole transport layer and a polymer binder. The solution is applied and dried to form.
電子輸送層に用いる有機化合物としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンもしくはその誘導体、ベンゾキノンもしくはその誘導体、ナフトキノンもしくはその誘導体、アントラキノンもしくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンもしくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンもしくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、または8−ヒドロキシキノリンもしくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリンもしくはその誘導体、ポリキノキサリンもしくはその誘導体、ポリフルオレンもしくはその誘導体が用いられ、電子輸送層は、電子輸送層に用いる有機化合物の粉末からの真空蒸着法、または電子輸送層に用いる有機化合物の溶液を塗布し、乾燥して形成する。 Organic compounds used for the electron transport layer include oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or its derivatives, benzoquinone or its derivatives, naphthoquinone or its derivatives, anthraquinone or its derivatives, tetracyanoanthraquinodimethane or its derivatives, fluorenone derivatives , Diphenyldicyanoethylene or a derivative thereof, a diphenoquinone derivative, or a metal complex of 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof, polyquinoline or a derivative thereof, polyquinoxaline or a derivative thereof, polyfluorene or a derivative thereof, It is formed by applying a vacuum deposition method from an organic compound powder used for the layer, or applying a solution of the organic compound used for the electron transport layer and drying.
また、透明な封止材は、工程(a´)、(b´)および(c´)で得られた積層体の一部または全部を封止する役割を果たす。また、封止する前の積層体は、透明導電性を有する層等の保護の目的でさらに保護層を有していてもよい。 Moreover, the transparent sealing material plays the role which seals a part or all of the laminated body obtained at process (a '), (b'), and (c '). Moreover, the laminated body before sealing may further have a protective layer for the purpose of protecting a layer having transparent conductivity.
透明な封止材は、本発明の目的を損なわない限りで透光性を有する封止材であり、得られる表示素子の柔軟性を低下させないような材料である。具体的には樹脂からなるものなどが挙げられる。樹脂としては、具体的には、ポリエチレン(低密度、高密度)、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、エチレン−ノルボルネン共重合体、エチレン−ドモン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、アイオノマー樹脂などのポリオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂;ナイロン−6、ナイロン−6,6、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体;ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂;ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂;ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリルなどのスチレン−アクリロニトリル系樹脂;トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水化セルロース系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンなどのハロゲン含有樹脂;ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性樹脂;ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂などのエンジニアリングプラスチック系樹脂等が挙げられる。 The transparent encapsulant is a translucent encapsulant as long as the object of the present invention is not impaired, and is a material that does not reduce the flexibility of the display element obtained. Specifically, what consists of resin etc. are mentioned. Specific examples of the resin include polyethylene (low density, high density), ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene copolymer, ethylene-hexene copolymer, ethylene-octene copolymer, ethylene-norbornene copolymer. Polymers, ethylene-domon copolymers, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymers, ethylene-methyl methacrylate copolymers, polyolefin resins such as ionomer resins; polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate Resin; Nylon-6, Nylon-6,6, Metaxylenediamine-Adipic acid condensation polymer; Amide resin such as polymethylmethacrylamide; Acrylic resin such as polymethylmethacrylate; Polystyrene, Styrene-acrylonite Copolymers, styrene-acrylonitrile-butadiene copolymers, styrene-acrylonitrile resins such as polyacrylonitrile; hydrophobic cellulose resins such as cellulose triacetate and cellulose diacetate; polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride Halogen-containing resins such as polytetrafluoroethylene; hydrogen-bonding resins such as polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymers and cellulose derivatives; polycarbonate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyetheretherketone resins, polyphenylene Examples thereof include engineering plastic resins such as oxide resins and polymethylene oxide resins.
この透明な封止材は、厚さが20μm以上1000μm(1mm)以下の範囲のフィルム状のものであり、この厚さは20μm以上500μm以下の範囲がより好ましく、20μm以上300μm以下の範囲がさらに好ましい。 The transparent sealing material is a film having a thickness in the range of 20 μm to 1000 μm (1 mm), and the thickness is more preferably in the range of 20 μm to 500 μm, and further in the range of 20 μm to 300 μm. preferable.
透明な封止材を設ける方法としては、前記の樹脂を含む塗工液を積層体に塗布し、乾燥し、熱処理を行ってコーティングする方法や、前記の樹脂からなる層を後からラミネートする方法により形成することができる。コーティングする方法としては、ダイレクトグラビア法;リバースグラビア法;マイクログラビア法;2本ロールビートコート法やボトムフィード3本リバースコート法等のロールコーティング法;ドクターナイフ法;ダイコート法;ディップコート法;バーコーティング法;およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。ラミネートする場合は、これから接合する表面について、コロナ処理やアンカーコート剤などの処理を行ってもよい。 As a method of providing a transparent sealing material, a method of applying a coating liquid containing the above resin to a laminate, drying, performing a heat treatment, and a method of laminating a layer made of the resin later Can be formed. As a coating method, a direct gravure method; a reverse gravure method; a micro gravure method; a roll coating method such as a two-roll beat coat method or a bottom feed three-reverse coat method; a doctor knife method; a die coating method; a dip coating method; A coating method; and a combination thereof. When laminating, the surfaces to be joined may be subjected to treatment such as corona treatment or anchor coating agent.
本発明の表示素子用基板を有する表示素子は、陽極および陰極の配置等により、さまざまなパターンで発光させることにより、フレキシブルディスプレイ等のディスプレイとすることができる。面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。また、特定のパターン状の発光を得るためには、面状の表示素子表面にその特定のパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、陽極または陰極のいずれか一方、または両方の電極を特定のパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にON/OFFできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号などを表示できるセグメントタイプの表示素子が得られる。さらに、ドットマトリックス素子とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。発光色の異なる複数の発光層を塗り分ける方法や、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いれば、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス素子は、パッシブ駆動してもよく、TFTなどと組み合わせてアクティブ駆動してもよい。 The display element having the display element substrate of the present invention can be used as a display such as a flexible display by emitting light in various patterns depending on the arrangement of the anode and the cathode. In order to obtain planar light emission, the planar anode and cathode may be arranged so as to overlap each other. Further, in order to obtain a specific pattern of light emission, a method in which a mask having a specific pattern window is provided on the surface of the planar display element, either the anode or the cathode, or both electrodes There is a method of forming a specific pattern. A segment type display element capable of displaying numbers, letters, simple symbols, etc. can be obtained by forming a pattern by any of these methods and arranging several electrodes so that they can be turned ON / OFF independently. Further, in order to obtain a dot matrix element, both the anode and the cathode may be formed in stripes and arranged so as to be orthogonal to each other. Partial color display and multi-color display can be achieved by using a method in which a plurality of light-emitting layers having different emission colors are separately applied, or by using a color filter or a fluorescence conversion filter. The dot matrix element may be passively driven or may be actively driven in combination with a TFT or the like.
本発明の表示素子用基板を有する表示素子を用いてなるフレキシブルディスプレイ等のディスプレイは、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどのディスプレイとして用いることができる。さらに、自発光型でかつ薄くすることができ、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、あるいは面状の照明用光源等として好適に用いることができる。また、本発明の表示素子用基板は、曲面状の光源や表示装置にも使用できる。 A display such as a flexible display using the display element having the display element substrate of the present invention can be used as a display for a computer, a television, a mobile terminal, a mobile phone, a car navigation, a video camera viewfinder, and the like. Furthermore, it is self-luminous and can be made thin, and can be suitably used as a planar light source for backlight of a liquid crystal display device or a planar illumination light source. The display element substrate of the present invention can also be used for curved light sources and display devices.
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.
比較例1
(1)液晶ポリエステル(A)の製造
p―ヒドロキシ安息香酸16.6Kg(12.1モル)、6―ヒドロキシ−2−ナフトエ酸8.4Kg(4.5モル)および無水酢酸18.6Kg(18.2モル)を櫛型攪拌翼付きの重合槽に仕込み、窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら昇温し、320℃で1時間、さらに2.0torrの減圧下で320℃で1時間重合させた。この間に、副生する酢酸を系外へ留出し続けた。その後、徐々に冷却し、180℃で取り出し、ポリマーを得た。
この得られたポリマーを細川ミクロン(株)製のハンマーミルで粉砕し、2.5mm以下の粒子とした。これを更にロータリーキルン中で窒素ガス雰囲気下で240℃で5時間処理することによって、下記繰り返し単位および比率からなる液晶ポリエステルを得た。以下該液晶ポリエステルをA―1と略記する。A−1は流動開始温度が270℃で、粒子状であった。
またA−1は偏光顕微鏡で観察した際、加圧下で280℃以上の温度で光学異方性を示した。
Comparative Example 1
(1) Production of liquid crystalline polyester (A) 16.6 kg (12.1 mol) of p-hydroxybenzoic acid, 8.4 kg (4.5 mol) of 6-hydroxy-2-naphthoic acid and 18.6 kg of acetic anhydride (18 .2 mol) was charged into a polymerization tank equipped with a comb-shaped stirring blade, heated while stirring in a nitrogen gas atmosphere, and polymerized at 320 ° C. for 1 hour and further under a reduced pressure of 2.0 torr at 320 ° C. for 1 hour. . During this time, acetic acid produced as a by-product continued to be distilled out of the system. Then, it cooled gradually and took out at 180 degreeC and obtained the polymer.
The obtained polymer was pulverized with a hammer mill manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd. to obtain particles of 2.5 mm or less. This was further treated in a rotary kiln under a nitrogen gas atmosphere at 240 ° C. for 5 hours to obtain a liquid crystal polyester having the following repeating units and ratios. Hereinafter, the liquid crystal polyester is abbreviated as A-1. A-1 had a flow start temperature of 270 ° C. and was in the form of particles.
A-1 showed optical anisotropy at a temperature of 280 ° C. or higher under pressure when observed with a polarizing microscope.
(2)共重合体(B)
特開昭61−127709号公報の実施例5に記載の方法に準じて、アクリル酸メチル/エチレン/グリシジルメタクリレート=59.0/38.7/2.3(重量比)のゴムを得た。以下該ゴムをB−1と略称する。
(2) Copolymer (B)
According to the method described in Example 5 of JP-A-61-127709, a rubber of methyl acrylate / ethylene / glycidyl methacrylate = 59.0 / 38.7 / 2.3 (weight ratio) was obtained. Hereinafter, this rubber is abbreviated as B-1.
(3)液晶ポリエステル樹脂層の製造
A−1(95重量%)と、B−1(5重量%)との溶融混練を、日本製鋼(株)製TEX−30型二軸押出機を用いて、シリンダー設定平均温度300℃、スクリュー回転数250rpmで行って組成物を得た。この組成物は、加圧下で265℃以上で光学的異方性を示した。この組成物の溶融押出しを、円筒ダイを備えた60mmφの単軸押出機を用いてシリンダー設定温度290℃、スクリュー回転数60rpmで行い、直径50mm、リップ間隔(環状スリット間隔)1.0mm、ダイ設定温度305℃の円筒ダイの上方から、筒状溶融樹脂を押出した。この筒状溶融樹脂の中空部へ乾燥空気を圧入し、膨張させ、次に冷却させたのちニップロールに通してフィルムAB−1を得た。ブロー比2.5、ドローダウン比(MD延伸倍率)10であり、フィルムAB−1の実測平均厚みは40μmであった。
フィルムAB−1の表面平均粗さ(Ra)は、8.6nm(10μm□)であった。またフィルムAB−1の水蒸気透過度を40℃で測定したところ、0.29g/m2/dayであった。また、23℃での酸素透過度は0.84cc/m2/day以下であった。
(3) Manufacture of liquid crystal polyester resin layer A-1 (95 wt%) and B-1 (5 wt%) are melt-kneaded using a TEX-30 type twin screw extruder manufactured by Nippon Steel Co., Ltd. The composition was obtained at a cylinder set average temperature of 300 ° C. and a screw rotation speed of 250 rpm. This composition exhibited optical anisotropy at 265 ° C. or higher under pressure. The composition was melt extruded using a single screw extruder of 60 mmφ equipped with a cylindrical die at a cylinder setting temperature of 290 ° C. and a screw rotation speed of 60 rpm, a diameter of 50 mm, a lip interval (annular slit interval) of 1.0 mm, a die A cylindrical molten resin was extruded from above a cylindrical die having a set temperature of 305 ° C. Dry air was pressed into the hollow portion of the tubular molten resin, expanded, then cooled, and then passed through a nip roll to obtain a film AB-1. The blow ratio was 2.5, the drawdown ratio (MD draw ratio) was 10, and the measured average thickness of the film AB-1 was 40 μm.
The surface average roughness (Ra) of the film AB-1 was 8.6 nm (10 μm □). Moreover, it was 0.29 g / m < 2 > / day when the water-vapor permeability of film AB-1 was measured at 40 degreeC. The oxygen permeability at 23 ° C. was 0.84 cc / m 2 / day or less.
実施例1
側管に三方コックおよびジムロートを取り付け、主管にフッ素樹脂製攪拌翼を装着した100mL三口フラスコに、ポリエーテルサルホン(以下、「PES」という。)(住友化学工業製、PES5200p(商品名)、Tgは230℃)15gと、N−メチルピロリドン(以下、「NMP」という。)45gとを入れ、80℃にて3時間攪拌し、PESの25重量%NMP溶液である溶液Cを調製した。
比較例1で得られたフィルムAB−1の表面に、バーコーター(テスター産業製、SA−203型)を用いて、厚さ15μmのPES層(樹脂層)を塗布し、基板1を作製した。得られた基板1のPES層側の表面平均粗さ(Ra)は、0.2nm(10μm□)であった。また基板1の20℃〜150℃の温度範囲における平均線膨張率は−1.8ppm/℃であった。
Example 1
A polyethersulfone (hereinafter referred to as “PES”) (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., PES5200p (trade name), Tg was 230 ° C.) 15 g and N-methylpyrrolidone (hereinafter referred to as “NMP”) 45 g were added and stirred at 80 ° C. for 3 hours to prepare a solution C which is a 25 wt% NMP solution of PES.
A PES layer (resin layer) having a thickness of 15 μm was applied to the surface of the film AB-1 obtained in Comparative Example 1 using a bar coater (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd., SA-203 type) to produce a substrate 1. . The surface average roughness (Ra) on the PES layer side of the obtained substrate 1 was 0.2 nm (10 μm □). The average linear expansion coefficient in the temperature range of 20 ° C. to 150 ° C. of the substrate 1 was −1.8 ppm / ° C.
実施例2
実施例1で得られた基板1のPES層側の表面に、スパッタリングにより120℃の条件下でAl2O3を厚さが150nmとなるように形成し、基板2を作製した。基板2の水蒸気透過度を40℃で測定したところ、0.12g/m2/dayであった。また、23℃での酸素透過度は0.01cc/m2/day以下であった。
Example 2
On the surface of the substrate 1 obtained in Example 1 on the PES layer side, Al 2 O 3 was formed to a thickness of 150 nm under the condition of 120 ° C. by sputtering to produce the substrate 2. It was 0.12 g / m < 2 > / day when the water-vapor permeability of the board | substrate 2 was measured at 40 degreeC. The oxygen permeability at 23 ° C. was 0.01 cc / m 2 / day or less.
実施例3
無機層状化合物および樹脂からなる層の形成
イオン交換水3000gにポリビニルアルコール((株)クラレ製、PVA117H(商品名))100gを入れ、低速攪拌条件下(1500rpm、周速度約4m/秒)で95℃に昇温し、1時間攪拌して溶解させることにより、溶液Dを得た。続いて、該溶液Dを攪拌したまま65℃まで温度を下げた後、該溶液Dに、イオン交換水1600gと1−ブタノール376gとを予め混合してなるアルコール水溶液を滴下した。滴下終了後、65℃でさらに無機層状化合物として高純度の天然モンモリロナイト(クニミネ工業(株)製、クニピアG(商品名)、アスペクト比は200〜1000nm)を粉末のまま50g添加し、撹拌条件を高速攪拌条件(3000rpm、周速度約8m/秒)に切替えて90分間撹拌、分散させることにより、混合液Eを得た。次に、超高圧ホモジナイサー(Microfluidics Corporation製、M110−E/H型)に混合液Eを通し、1.750kgf/cm2で1回処理することで、無機層状化合物が分散した塗工液F得た。前記フィルムAB−1の表面に、バーコーター(テスター産業製、SA−203型)を用いて、厚さ1.4μmの無機層状化合物および樹脂からなる層を形成し、基板3を得た。さらに、基板3の上に実施例1で得られた溶液Cをバーコーター(テスター産業製、SA−203型)を用いて厚さ15μmのPES層(樹脂層)を実施例1と同様に形成し、基板4を得た。基板4のPES層側の表面平均粗さ(Ra)は、1.7nm(10μm□)であった。また基板4の20℃〜150℃の温度範囲における平均線膨張率は−1.1ppm/℃であった。
Example 3
Formation of Layer Consisting of Inorganic Layered Compound and Resin 100 g of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA117H (trade name)) is added to 3000 g of ion-exchanged water, and 95 under low-speed stirring conditions (1500 rpm, peripheral speed about 4 m / sec). The solution was obtained by heating to 0 ° C. and stirring for 1 hour to dissolve. Subsequently, the temperature of the solution D was lowered to 65 ° C. with stirring, and then an aqueous alcohol solution obtained by previously mixing 1600 g of ion-exchanged water and 376 g of 1-butanol was dropped into the solution D. After completion of dropping, 50 g of high purity natural montmorillonite (Kunimine Kogyo Co., Ltd., Kunipia G (trade name), aspect ratio is 200 to 1000 nm) as powder is added as an inorganic layered compound in powder form, and stirring conditions are set. The mixture E was obtained by switching to high-speed stirring conditions (3000 rpm, peripheral speed of about 8 m / sec) and stirring and dispersing for 90 minutes. Next, the liquid mixture E is passed through an ultrahigh pressure homogenizer (manufactured by Microfluidics Corporation, M110-E / H type) and treated once at 1.750 kgf / cm 2 to obtain a coating liquid F in which the inorganic layered compound is dispersed. It was. A layer made of an inorganic layered compound and a resin having a thickness of 1.4 μm was formed on the surface of the film AB-1 using a bar coater (manufactured by Tester Sangyo, SA-203 type) to obtain a substrate 3. Further, a PES layer (resin layer) having a thickness of 15 μm was formed on the substrate 3 in the same manner as in Example 1 by using the solution C obtained in Example 1 using a bar coater (SA-203 type, manufactured by Tester Sangyo). As a result, a substrate 4 was obtained. The surface average roughness (Ra) on the PES layer side of the substrate 4 was 1.7 nm (10 μm □). The average linear expansion coefficient of the substrate 4 in the temperature range of 20 ° C. to 150 ° C. was −1.1 ppm / ° C.
実施例4
実施例3で得られた基板4のPES層側の表面に、スパッタリングにより120℃の条件下でAl2O3を厚さが150nmとなるように形成し、基板5を作製した。基板5の水蒸気透過度を40℃で測定したところ、0.16g/m2/dayであった。また、23℃での酸素透過度は0.01cc/m2/day以下であった。
Example 4
On the surface of the substrate 4 obtained in Example 3 on the side of the PES layer, Al 2 O 3 was formed to a thickness of 150 nm under the conditions of 120 ° C. by sputtering to produce the substrate 5. It was 0.16 g / m < 2 > / day when the water-vapor permeability of the board | substrate 5 was measured at 40 degreeC. The oxygen permeability at 23 ° C. was 0.01 cc / m 2 / day or less.
比較例2
200μmのPESフィルムを用意し、その表面に、スパッタリングにより酸窒化ケイ素からなる150nmの無機層を形成し、40℃で水蒸気透過度を測定したところ、0.6g/m2/dayであった。また、23℃での酸素透過度は2.9cc/m2/dayであった。
Comparative Example 2
A 200 μm PES film was prepared, a 150 nm inorganic layer made of silicon oxynitride was formed on the surface by sputtering, and the water vapor transmission rate was measured at 40 ° C., which was 0.6 g / m 2 / day. The oxygen permeability at 23 ° C. was 2.9 cc / m 2 / day.
実施例5
実施例1で得られた基板1のPES層側の表面に、スパッタリングにより酸窒化ケイ素からなる150nmの無機層を形成し、基板5を作製した。基板5の水蒸気透過度を40℃で測定したところ、0.22g/m2/dayであった。また、23℃での酸素透過度は0.01cc/m2/day以下であった。
Example 5
A 150 nm inorganic layer made of silicon oxynitride was formed by sputtering on the surface of the substrate 1 obtained in Example 1 on the PES layer side, and a substrate 5 was produced. It was 0.22 g / m < 2 > / day when the water-vapor permeability of the board | substrate 5 was measured at 40 degreeC. The oxygen permeability at 23 ° C. was 0.01 cc / m 2 / day or less.
Claims (14)
(a)請求項1〜6のいずれかに記載の基板。
(b)導電性を有する層。
(c)電界印加により、光吸収、光散乱、旋光および発光から選ばれる少なくとも1つの機能が発現する有機層。
(d)透明導電性を有する層。
(e)透明な封止材。 A display element having the following (a) to (e):
(A) The substrate according to any one of claims 1 to 6 .
(B) A layer having conductivity.
(C) An organic layer that exhibits at least one function selected from light absorption, light scattering, optical rotation, and light emission by applying an electric field.
(D) A layer having transparent conductivity.
(E) Transparent encapsulant.
(a´)請求項1〜6のいずれかに記載の基板の液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層側の表面に、導電性を有する層を形成する工程。
(b´)工程(a´)で得られる導電性を有する層側の表面に、光吸収、光散乱、旋光および発光から選ばれる少なくとも1つの機能が電界印加により発現する有機層を形成する工程。
(c´)工程(b´)の有機層側の表面に、透明導電性を有する層を形成し、積層体を得る工程。
(d´)工程(c´)により得られた積層体の表面の一部または全部を、透明な封止材で封止し、表示素子を得る工程。 A display element obtained by a manufacturing method including the following steps (a ′) to (d ′):
(A ') The process of forming the layer which has electroconductivity in the surface by the side of resin layers other than the liquid crystalline polyester resin layer of the board | substrate in any one of Claims 1-6 .
(B ′) A step of forming, on the surface of the conductive layer obtained in the step (a ′), an organic layer in which at least one function selected from light absorption, light scattering, optical rotation and light emission is manifested by applying an electric field. .
(C ′) A step of obtaining a laminate by forming a layer having transparent conductivity on the surface of the organic layer side in the step (b ′).
(D ′) A step of obtaining a display element by sealing part or all of the surface of the laminate obtained in the step (c ′) with a transparent sealing material.
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