JP5222156B2 - Carboxylate resin and resin composition containing the same - Google Patents

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Description

本発明は、高耐熱性、高屈折率を有する活性エネルギー線硬化物を提供することを目的とした、特定の構造を有する不飽和基含有化合物に関する。その用途としては、皮膜形成用材料、プリント(配線回路)基板製造の際のソルダーマスク、メッキレジスト、接着剤、レンズ、ディスプレー、光ファイバー、光導波路、ホログラム等が挙げられる。   The present invention relates to an unsaturated group-containing compound having a specific structure for the purpose of providing an active energy ray cured product having high heat resistance and a high refractive index. Applications include film forming materials, solder masks in the production of printed (wiring circuit) substrates, plating resists, adhesives, lenses, displays, optical fibers, optical waveguides, holograms, and the like.

近年、活性エネルギー線で硬化し、高耐熱かつ高屈折率である透明性を有する感光性材料の開発が様々な用途で進められている(特許文献1〜3)。
これらの用途では、高耐熱性、高屈折率以外にも基材への密着性や硬化物の硬度、アルカリに対する溶解性等が求められている。そして、用途により、樹脂に、モノマーやフィラー等の添加剤を加えることが多い。しかしながら、これらの添加剤を加えることで、基材への密着性及び屈折率の低下等を来し、これらを添加しない場合の有機材料(樹脂)自体の特性を完全には発現できないため、より高い基材への密着性、耐熱性や屈折率を有する樹脂が求められている。
In recent years, development of photosensitive materials that are cured with active energy rays and have transparency that has high heat resistance and high refractive index has been promoted in various applications (Patent Documents 1 to 3).
In these applications, in addition to high heat resistance and high refractive index, adhesion to a substrate, hardness of a cured product, solubility in alkali, and the like are required. Depending on the application, additives such as monomers and fillers are often added to the resin. However, by adding these additives, the adhesion to the base material and the decrease in the refractive index are brought about, and the characteristics of the organic material (resin) itself when not adding these cannot be fully expressed. There is a demand for a resin having high adhesion to a substrate, heat resistance and refractive index.

また、特許文献4では3,3’−ジフェニル−4,4’−ジヒドロキシビフェニルのビスアルキレングリコールエーテル化合物の(メタ)アクリレート化合物が開示され、該化合物は光学用プラスチックレンズや光ディスク用のプラスチックモノマーとして有用であることが記載されている。しかし、該化合物は水酸基やカルボキシル基などの官能基を有さないモノマーであるため密着性やアルカリ溶解性等の物性を満足しきれない場合がある。また、得られた樹脂が淡褐色であり、透明性を必要とする光学分野では添加量が制限される場合が考えられる。   Patent Document 4 discloses a (meth) acrylate compound of a bisalkylene glycol ether compound of 3,3′-diphenyl-4,4′-dihydroxybiphenyl, which is used as a plastic monomer for optical plastic lenses and optical disks. It is described as being useful. However, since the compound is a monomer having no functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group, physical properties such as adhesion and alkali solubility may not be satisfied. Moreover, the obtained resin is light brown and the addition amount may be limited in the optical field that requires transparency.

更に特許文献5では後記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化促進剤及び無機充填剤を含む半導体封止用エポキシ樹脂組成物が開示されており、耐半田特性及び難燃性に優れることが開示されている。また、特許文献6では、3,3’−ジフェニル−4,4’−ジヒドロキシビフェニルにエピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂が記載され、無色で高い屈折率を有し、光学用途で有用であることが述べられている。   Furthermore, Patent Document 5 discloses an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation containing an epoxy resin represented by the following general formula (1), a phenol resin, a curing accelerator and an inorganic filler, and has solder resistance and flame resistance. It is disclosed that it is excellent in performance. Patent Document 6 describes an epoxy resin obtained by reacting 3,3′-diphenyl-4,4′-dihydroxybiphenyl with epichlorohydrin, is colorless and has a high refractive index, and is useful for optical applications. It is stated.

WO2002/033447WO2002 / 033447 特開2004−29042号公報JP 2004-29042 A 特開2005−274664号公報JP 2005-274664 A 特許第3606615号公報Japanese Patent No. 3606615 特開2000−248050号公報JP 2000-248050 A 特開2006−307011号公報JP 2006-307011 A

本発明は、透明性に優れ、樹脂単独で高い屈折率と高い密着性を有し、かつ十分な硬度を有する硬化物を与える感光性樹脂及び樹脂組成物を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the photosensitive resin and resin composition which are excellent in transparency, have the high refractive index and high adhesiveness by resin itself, and give the hardened | cured material which has sufficient hardness.

本発明者らは前述の課題を解決するため、鋭意研究の結果、特定の構造を有する不飽和基含有化合物及びその組成物が前記課題を解決するものであることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、
(1)一般式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)とエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)を反応させて得られることを特徴とする化合物(A)、
式(1)
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that an unsaturated group-containing compound having a specific structure and a composition thereof solve the above-mentioned problems as a result of intensive studies and complete the present invention. It came to. That is, the present invention
(1) A compound (A) obtained by reacting the epoxy resin (a) represented by the general formula (1) with a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group,
Formula (1)

Figure 0005222156
Figure 0005222156

(式中、nは0〜5の正数を表す)、
(2)エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)が、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物または桂皮酸である上記(1)に記載の化合物(A)、
(3)液屈折率が1.6以上である上記(1)又は(2)に記載の化合物(A)、
(4)上記(1)ないし(3)のいずれか一項に記載の化合物(A)及び光重合開始剤(B)を含有する樹脂組成物、
(5)一般式(1)

Figure 0005222156

(式中nは0〜5の正数を表す)
で表されるエポキシ樹脂(a)のエポキシ基に、エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)を付加したジカルボキシレート樹脂、
(6) nが0より大きく1以下である上記(5)に記載のジカルボキシレート樹脂、
(7) エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)が(i)(メタ)アクリル酸、(ii)(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物または(iii)桂皮酸である上記(5)又は(6)のジカルボキシレート樹脂。
(8) エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)が(メタ)アクリル酸である上記(5)又は(6)に記載のジカルボキシレート樹脂、
(9) 上記(5)に記載のジカルボキシレート樹脂及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物、
(10) 一般式(1)
Figure 0005222156

(式中nは0〜5の正数を表す)
で表されるエポキシ樹脂(a)に、エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)を反応させ、該エポキシ樹脂(a)のエポキシ基1当量に対して、該モノカルボン酸化合物(b)を0.8〜1当量を付加させることを特徴とするジカルボキシレート樹脂の製造方法、
(11) 反応を、不活性な有機溶媒及び触媒の存在下に、反応温度60℃〜150℃で行うことを特徴とする上記(10)に記載のジカルボキシレート樹脂の製造方法、
(12)上記(5)に記載のジカルボキシレート樹脂及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を光硬化させた硬化物、
に関する。(Where n represents a positive number from 0 to 5),
(2) The monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group is (meth) acrylic acid, a reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, or cinnamic acid. Compound (A) of
(3) The compound (A) according to (1) or (2), wherein the liquid refractive index is 1.6 or more,
(4) A resin composition comprising the compound (A) according to any one of (1) to (3) above and a photopolymerization initiator (B),
(5) General formula (1)
Figure 0005222156

(Where n represents a positive number from 0 to 5)
A dicarboxylate resin obtained by adding a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group to the epoxy group of the epoxy resin (a) represented by:
(6) The dicarboxylate resin according to (5), wherein n is greater than 0 and 1 or less,
(7) The monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group is (i) (meth) acrylic acid, (ii) a reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, or (iii) cinnamic acid The dicarboxylate resin of (5) or (6) above.
(8) The dicarboxylate resin according to (5) or (6), wherein the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group is (meth) acrylic acid,
(9) A photosensitive resin composition comprising the dicarboxylate resin according to (5) and a photopolymerization initiator,
(10) General formula (1)
Figure 0005222156

(Where n represents a positive number from 0 to 5)
The monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group is reacted with the epoxy resin (a) represented by the formula (1), and the monocarboxylic acid compound ( a process for producing a dicarboxylate resin, characterized in that 0.8 to 1 equivalent of b) is added;
(11) The method for producing a dicarboxylate resin according to the above (10), wherein the reaction is performed in the presence of an inert organic solvent and a catalyst at a reaction temperature of 60 ° C. to 150 ° C.
(12) A cured product obtained by photocuring a photosensitive resin composition containing the dicarboxylate resin according to (5) and a photopolymerization initiator,
About.

本発明の化合物(A)は、分子中に3,3’−ジフェニル−4,4’−ジヒドロキシビフェニル骨格、エチレン性不飽和基及び感応性ヒドロキシ基を有する新規カルボキシレート化合物であり、該化合物は難燃性であり、透明性に優れ、高い屈折率を有する樹脂であり、該樹脂及び光重合開始剤を含有する樹脂組成物は活性エネルギー線により露光硬化することができ、得られた硬化物は基材への接着性に優れ、無色の透明性に優れ(図1参照)、高い屈折率を有し、かつ十分な硬度を有し、且つ高い難燃性を有する。また、該樹脂組成物を有機溶媒で希釈した液を塗布することにより、光硬化性の途膜を形成することができ、該塗膜を露光硬化することにより、高い密着性を有し、かつ十分な硬度と可撓性(柔軟性)を有する硬化物(硬化膜)を与えるものである。従って、本発明の化合物(A)は、皮膜形成用材料、プリント(配線回路)基板製造の際のソルダーマスク、メッキレジスト、接着剤、レンズ、ディスプレー、光ファイバー、光導波路、ホログラム等用の一成分として適している。   The compound (A) of the present invention is a novel carboxylate compound having a 3,3′-diphenyl-4,4′-dihydroxybiphenyl skeleton, an ethylenically unsaturated group and a sensitive hydroxy group in the molecule. A resin composition that is flame retardant, excellent in transparency, and has a high refractive index, and the resin composition containing the resin and a photopolymerization initiator can be exposed and cured by active energy rays, and the resulting cured product Is excellent in adhesion to the substrate, excellent in colorless transparency (see FIG. 1), has a high refractive index, has sufficient hardness, and has high flame retardancy. Further, by applying a liquid obtained by diluting the resin composition with an organic solvent, a photocurable film can be formed, and by exposing and curing the coating film, high adhesion is obtained, and It provides a cured product (cured film) having sufficient hardness and flexibility (softness). Accordingly, the compound (A) of the present invention is a component for film forming materials, solder masks for plating (wiring circuit) board production, plating resists, adhesives, lenses, displays, optical fibers, optical waveguides, holograms and the like. Suitable as

実施例1で得られた本発明の化合物(A)と比較例1で得られた化合物(H)をそれぞれトルエン70重量%で希釈し、可視光の各波長での透過率を測定しプロットしたグラフを示す図である。The compound (A) of the present invention obtained in Example 1 and the compound (H) obtained in Comparative Example 1 were each diluted with 70% by weight of toluene, and the transmittance at each wavelength of visible light was measured and plotted. It is a figure which shows a graph.

本発明の化合物(A)を製造するために用いられる上記式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)は、例えば、下記式(2)
式(2)
The epoxy resin (a) represented by the above formula (1) used for producing the compound (A) of the present invention is, for example, the following formula (2):
Formula (2)

Figure 0005222156
Figure 0005222156

で表されるフェノール化合物(c)をアルカリ金属水酸化物存在下、エピハロヒドリンと反応させた後、晶析を行うことで結晶として得ることができる。上記式(2)で表されるフェノール化合物(c)は、例えば特許第3606615号公報(前記特許文献4)に記載の方法で合成することが出来る。 It can obtain as a crystal | crystallization by making it crystallize, after making it react with epihalohydrin in presence of an alkali metal hydroxide. The phenol compound (c) represented by the above formula (2) can be synthesized, for example, by the method described in Japanese Patent No. 3606615 (the above Patent Document 4).

上記のエポキシ樹脂(a)を得る反応において、用いうるアルカリ金属水酸化物はその固形物を利用してもよく、水溶液を使用してもよい。水溶液を使用する場合は該アルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に反応系内に添加すると共に減圧下、または常圧下連続的に水及びエピハロヒドリンを流出させ、更に分液し水は除去しエピハロヒドリンは反応系内に連続的に戻す方法でもよい。アルカリ金属水酸化物の使用量は式(2)で表されるフェノール化合物(c)の水酸基1当量に対して通常0.9〜2.5当量であり、好ましくは0.95〜2.0当量である。
アルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムなどを挙げることができる。
In the reaction for obtaining the epoxy resin (a), the alkali metal hydroxide that can be used may be a solid or an aqueous solution. When using an aqueous solution, the aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added to the reaction system, and water and epihalohydrin are allowed to flow out continuously under reduced pressure or normal pressure. May be a method of continuously returning to the reaction system. The usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.9-2.5 equivalent normally with respect to 1 equivalent of hydroxyl groups of the phenolic compound (c) represented by Formula (2), Preferably it is 0.95-2.0. Is equivalent.
Examples of the alkali metal hydroxide include sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide.

上記のエポキシ樹脂(a)を得る反応において、反応を簡便に進行させるため4級アンモニウム塩を触媒として添加することができる。用いうる4級アンモニウム塩としてはテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等のテトラ低級アルキルアンモニウムハライド又はトリ低級アルキルベンジルアンモニウムハライドが挙げられる。該ハライドとしてはブロマイド又はクロライドが好ましい。また、低級アルキルとしてメチル、エチル、プロピル及びブチル等のC1−C4アルキルを挙げることができる。4級アンモニウム塩を使用する場合の使用量としては式(2)に示した化合物の水酸基1当量に対し通常0.1〜15重量部であり、好ましくは0.2〜10重量部である。   In the reaction for obtaining the epoxy resin (a), a quaternary ammonium salt can be added as a catalyst in order to facilitate the reaction. Examples of quaternary ammonium salts that can be used include tetra-lower alkylammonium halides such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, and trimethylbenzylammonium chloride, and tri-lower alkylbenzylammonium halides. As the halide, bromide or chloride is preferred. Further, examples of lower alkyl include C1-C4 alkyl such as methyl, ethyl, propyl and butyl. The amount of quaternary ammonium salt used is usually 0.1 to 15 parts by weight, preferably 0.2 to 10 parts by weight, based on 1 equivalent of the hydroxyl group of the compound represented by formula (2).

上記のエポキシ樹脂(a)を得る反応において、エピハロヒドリンの使用量は式(2)に示した化合物の水酸基1当量(モル)に対し通常0.8〜12当量(モル)、好ましくは0.9〜11当量(モル)である。使用するエピハロヒドリンとしては工業的にはエピクロルヒドリンが使用しやすい。この際、式(2)に示した化合物の溶解性を高めるためにメタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行うことが好ましい。   In the reaction for obtaining the epoxy resin (a), the amount of epihalohydrin used is usually 0.8 to 12 equivalents (mol), preferably 0.9 to 1 equivalent (mol) of the hydroxyl group of the compound represented by formula (2). -11 equivalents (moles). As an epihalohydrin to be used, epichlorohydrin is industrially easy to use. At this time, in order to increase the solubility of the compound represented by the formula (2), alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, aprotic polar solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran and dioxane are added. It is preferable to carry out the reaction.

アルコール類を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対し通常2〜50重量%、好ましくは4〜30重量%である。また非プロトン性極性溶媒を用いる場合はエピハロヒドリンの量に対し通常5〜100重量%、好ましくは10〜80重量%である。   When using alcohol, the amount of its use is 2-50 weight% normally with respect to the quantity of epihalohydrin, Preferably it is 4-30 weight%. Moreover, when using an aprotic polar solvent, it is 5-100 weight% normally with respect to the quantity of epihalohydrin, Preferably it is 10-80 weight%.

反応温度は通常30〜90℃であり、好ましくは35〜80℃であり、温度は一定であっても、経時的に変化させてもよい。反応時間は通常0.5〜10時間であり、好ましくは1〜8時間である。   The reaction temperature is usually 30 to 90 ° C., preferably 35 to 80 ° C. The temperature may be constant or may be changed with time. The reaction time is usually 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 8 hours.

必要に応じて反応終了後、反応液を水洗及び/もしくは反応液を室温まで冷却後、析出する塩をろ過することで反応時に生成する塩を取り除く。エポキシ樹脂の析出の際、塩がエポキシ樹脂の結晶中に混入するおそれがあるため、本操作、好ましくは、反応液の水洗で反応時に生成する塩を除いておくことが好ましい。   If necessary, after completion of the reaction, the reaction solution is washed with water and / or the reaction solution is cooled to room temperature, and the salt produced during the reaction is removed by filtering the precipitated salt. During the precipitation of the epoxy resin, there is a possibility that a salt may be mixed in the crystal of the epoxy resin. Therefore, it is preferable to remove the salt generated during the reaction by this operation, preferably by washing the reaction solution with water.

得られたエポキシ樹脂反応液からの晶析方法としては、特に指定は無いが、例えば一旦濃縮した後、溶剤を用いて再結晶を行う、あるいは貧溶剤を加え、再沈殿を行うなど種々の手法が用いることができるが、本発明においては以下の手法が好ましい。   The crystallization method from the obtained epoxy resin reaction liquid is not particularly specified. For example, various methods such as concentrating and then recrystallizing with a solvent, or adding a poor solvent and reprecipitating. However, in the present invention, the following method is preferable.

反応生成物、エピハロヒドリン等を含有する反応混合物を加熱減圧下で過剰のエピハロヒドリン等を留去する(工程d)。この際、結晶が析出し、スラリー状になった時点で減圧回収を止め(工程e)、ここにアセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロペンタノン(CP)、シクロヘキサノン等のケトン類、あるいは酢酸エチル、酢酸ブチル、酪酸エチル、γ―ブチロラクトン、カルビトールアセテート等のエステル類、ジオキサン、THF等のエーテル類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類等の有機溶剤を加え、分散させた後(工程f)、さらに必要により水溶性の溶剤、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、アセトン等のケトン類等の有機溶剤を加え(工程f´)、そこに水を徐々に滴下する(g)。得られた結晶をろ過、乾燥(h)することで目的とする結晶性エポキシ樹脂を得ることができる。   The reaction mixture containing the reaction product, epihalohydrin and the like is heated to remove excess epihalohydrin and the like under reduced pressure (step d). At this time, when the crystals are precipitated and become slurry, the recovery under reduced pressure is stopped (step e), where ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), cyclopentanone (CP), cyclohexanone, or ethyl acetate, Add organic solvents such as esters such as butyl acetate, ethyl butyrate, γ-butyrolactone, carbitol acetate, ethers such as dioxane, THF, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol, After the dispersion (step f), an organic solvent such as a water-soluble solvent, for example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, and propylene glycol, and ketones such as acetone is added as necessary (step f). ´), water slowly there Add dropwise (g). The target crystalline epoxy resin can be obtained by filtering and drying (h) the obtained crystals.

前記工程において条件、および使用する溶剤の量は使用する溶剤により異なるので一概には範囲を規定できないが、例えば工程dのエピハロヒドリンとしてエピクロルヒドリン、工程fにおいてアセトン、工程f´においてメタノールを使用した場合、工程dでは50〜100度に加熱し、減圧度は−0.05MPa〜−0.095MPa程度とするのがよい。工程fにおいて使用するアセトンの量は反応生成物の理論収量に対し、20〜500重量%が好ましく、50〜200重量%がより好ましい。工程f´において使用するメタノールは該理論収量に対して20〜500重量%が好ましく、50〜200重量%がより好ましい。工程gにおいて使用する水は該理論収量に対して40〜1000重量%が好ましい。(工程f)及び(工程f´)で使用する有機溶剤、及び(工程g)に使用する水の比率(重量割合)は(工程fの溶媒):(工程f´の溶媒):(工程gでの水)=1〜3:1〜3:1〜9程度が好ましい。また工程hにおいてろ過した結晶をメタノール、エタノール等のアルコール類、もしくは水で洗浄することは好ましい。   The conditions in the above step and the amount of solvent used vary depending on the solvent used, so the range cannot be defined unconditionally. For example, when epichlorohydrin is used as the epihalohydrin in step d, acetone is used in step f, and methanol is used in step f ′, In step d, it is preferably heated to 50 to 100 degrees, and the degree of vacuum is about -0.05 MPa to -0.095 MPa. The amount of acetone used in step f is preferably 20 to 500% by weight, more preferably 50 to 200% by weight, based on the theoretical yield of the reaction product. The methanol used in step f ′ is preferably 20 to 500% by weight, more preferably 50 to 200% by weight, based on the theoretical yield. The water used in step g is preferably 40 to 1000% by weight based on the theoretical yield. The ratio (weight ratio) of the organic solvent used in (step f) and (step f ′) and the water used in (step g) is (solvent in step f) :( solvent in step f ′) :( step g Water) = 1 to 3: 1 to 3: 1 to about 9 is preferable. Moreover, it is preferable to wash | clean the crystal | crystallization filtered in the process h with alcohol, such as methanol and ethanol, or water.

上記のようにして得られたエポキシ樹脂(a)は、反応条件等により異なるので一概にはいえないが、上記好ましい条件で合成した時、通常一般式(1)で表される化合物においてn=0の化合物を主体として、n=1〜5の化合物を少量含む混合物として得られる。従って、一般式(1)におけるnはそれらの混合物の平均値で表され、nは0〜5の正数を表し、好ましくは0〜1である。nの値(平均値)の出し方は、例えば、エポキシ等量を実測し、理論的な分子量と比較し算出する方法又はGPCにて分子量分布を分析し各n数のピーク面積を算出した後平均値を計算する方法等が挙げられる。   Although the epoxy resin (a) obtained as described above varies depending on reaction conditions and the like, it cannot be generally stated, but when synthesized under the above preferred conditions, in the compound represented by the general formula (1), n = It is obtained as a mixture mainly containing a compound of 0 and a small amount of a compound of n = 1 to 5. Therefore, n in General formula (1) is represented by the average value of those mixtures, n represents the positive number of 0-5, Preferably it is 0-1. The method of calculating the value of n (average value) is, for example, after actually measuring the epoxy equivalent, calculating by comparing with the theoretical molecular weight, or analyzing the molecular weight distribution by GPC and calculating the peak area of each n number For example, a method of calculating an average value.

本発明の化合物(A)の製造は、前記のエポキシ樹脂(a)と、エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)を反応させることにより得ることができる(以下カルボキシレート化反応とも言う)。
本発明の化合物(A)は、前記のエポキシ樹脂(a)のエポキシ基に、上記モノカルボン酸化合物(b)のカルボキシル基が付加したカルボキシレートであり、上記モノカルボン酸化合物(b)の使用量等により、モノ又はジカルボキシレート、その混合物等を得ることもできるが、本発明においては、エポキシ樹脂(a)のエポキシ基の1当量に対して、モノカルボン酸化合物(b)1当量(エポキシ樹脂(a)1モルに対してモノカルボン酸化合物(b)2モル)を付加させて得られるジカルボキシレートが好ましい。
原料である前記のエポキシ樹脂(a)の単一化合物(例えば、n=0、1等の整数の化合物)を使用すると、単一のカルボキシレート化合物を得ることも可能であるが、通常、上記のように、エポキシ樹脂(a)は一般式(1)で表されるエポキシ化合物の混合物として得られ、それをそのまま使用するので、本発明の化合物(A)も、対応するカルボキシレート化合物の混合物として得られる。
従って、本願の化合物(A)は、基本的には、前記のエポキシ樹脂(a)のエポキシ基に、上記モノカルボン酸化合物(b)のカルボキシル基が付加したカルボキシレート樹脂であり、より好ましくは、エポキシ基1当量に対して、上記モノカルボン酸化合物(b)が0.8〜1当量付加したカルボキシレート樹脂である。
The production of the compound (A) of the present invention can be obtained by reacting the epoxy resin (a) with a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group (hereinafter referred to as carboxylation reaction). say).
The compound (A) of the present invention is a carboxylate obtained by adding the carboxyl group of the monocarboxylic acid compound (b) to the epoxy group of the epoxy resin (a), and the use of the monocarboxylic acid compound (b). Although mono or dicarboxylate, a mixture thereof, and the like can be obtained depending on the amount and the like, in the present invention, 1 equivalent of monocarboxylic acid compound (b) per 1 equivalent of epoxy group of epoxy resin (a) ( A dicarboxylate obtained by adding a monocarboxylic acid compound (2 mol) to 1 mol of the epoxy resin (a) is preferred.
When a single compound of the epoxy resin (a) as a raw material (for example, an integer compound such as n = 0, 1) can be used, a single carboxylate compound can be obtained. Thus, since the epoxy resin (a) is obtained as a mixture of the epoxy compounds represented by the general formula (1) and used as it is, the compound (A) of the present invention is also a mixture of the corresponding carboxylate compounds. As obtained.
Therefore, the compound (A) of the present application is basically a carboxylate resin in which the carboxyl group of the monocarboxylic acid compound (b) is added to the epoxy group of the epoxy resin (a), more preferably The carboxylate resin is obtained by adding 0.8 to 1 equivalent of the monocarboxylic acid compound (b) to 1 equivalent of an epoxy group.

本発明の化合物(A)を製造するためのエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)としては、例えばアクリル酸類やクロトン酸、α−シアノ桂皮酸、桂皮酸、或いは飽和または不飽和二塩基酸と不飽和基含有モノグリシジル化合物(エチレン性不飽和基含有モノグリシジル化合物)との反応物が挙げられる。好ましい該モノカルボン酸化合物(b)としてアクリル酸類が挙げられる。アクリル酸類としては、例えば(メタ)アクリル酸、β−スチリルアクリル酸、β−フルフリルアクリル酸、(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物、飽和または不飽和二塩基酸無水物(無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等)と1分子中に1個の水酸基を有する(メタ)アクリレート誘導体との当モル反応物である半エステル類、飽和または不飽和二塩基酸とモノグリシジル(メタ)アクリレート誘導体類との当モル反応物である半エステル類等が挙げられる。より好ましい化合物の一つとして下記式(3)
R1−CH=CH−COOH
(式中R1は水素原子、メチル基又はフェニル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である)で表される化合物又は前記(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物を挙げることができる。
感光性樹脂組成物としたときの感度の点で(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物または桂皮酸が特に好ましい。
なお、本発明において、「(メタ)アクリル酸」の用語は、アクリル酸又はメタクリル酸を表す。
Examples of the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group for producing the compound (A) of the present invention include acrylic acids, crotonic acid, α-cyanocinnamic acid, cinnamic acid, or saturated or unsaturated. Examples include a reaction product of a dibasic acid and an unsaturated group-containing monoglycidyl compound (ethylenically unsaturated group-containing monoglycidyl compound). A preferable monocarboxylic acid compound (b) is acrylic acid. Examples of acrylic acids include (meth) acrylic acid, β-styrylacrylic acid, β-furfurylacrylic acid, reaction products of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, saturated or unsaturated dibasic acid anhydrides ( Half-esters, saturated or unsaturated dibasic acid and monoglycidyl (meta) which are equimolar reaction products of (meth) acrylate derivatives having one hydroxyl group in one molecule and maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, etc. ) Half-esters which are equimolar reactants with acrylate derivatives. As one of the more preferred compounds, the following formula (3)
R1-CH = CH-COOH
(Wherein R1 represents a hydrogen atom, a methyl group or a phenyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group) or a reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone. Can do.
In view of sensitivity when a photosensitive resin composition is used, (meth) acrylic acid, a reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, or cinnamic acid is particularly preferable.
In the present invention, the term “(meth) acrylic acid” represents acrylic acid or methacrylic acid.

本カルボキシレート化反応は、無溶剤で反応させることも、若しくは溶剤で希釈して反応させることも出来る。通常は溶剤の存在下に反応を行うのが好ましい。ここで用いることが出来る溶剤としては、カルボキシレート化反応に対して不活性な溶剤であれば特に限定はない。好ましいものの一つとして、アルコール性水酸基を有さない溶媒を挙げることができる。   This carboxylation reaction can be carried out in the absence of a solvent or can be carried out after dilution with a solvent. Usually, the reaction is preferably carried out in the presence of a solvent. The solvent that can be used here is not particularly limited as long as it is inert to the carboxylation reaction. One preferable example is a solvent having no alcoholic hydroxyl group.

溶剤の使用量は、得られる樹脂の粘度や使途により適宜調整することができる。例えば、カルボキシレート化反応における固形分と溶剤分の合計を100重量%とした場合に、溶剤の使用量は90〜0重量%、より好ましくは60〜5重量%となるように溶剤を用いる。   The usage-amount of a solvent can be suitably adjusted with the viscosity and usage of resin obtained. For example, when the total of the solid content and the solvent content in the carboxylation reaction is 100% by weight, the solvent is used so that the amount of the solvent used is 90 to 0% by weight, more preferably 60 to 5% by weight.

上記のアルコール性水酸基を有さない溶媒としては例えば、アセトン、エチルメチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のエステル類、γ−ブチロラクトン等の環状エステル類、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤、更には各種モノマーと多カルボン酸化合物の酸無水物との反応物であるハーフエステル、例えば、水酸基含有(メタ)アクリレート(2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート等)と多カルボン酸化合物の酸無水物との反応物であるハーフエステル及びアクリロイルモルホリンと多カルボン酸化合物の酸無水物との反応物であるハーフエステル(これらハーフエステル用の多カルボン酸化合物の酸無水物としては例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる)挙げられる。
また、その他に、2−フェニルフェノールのエチレンオキサイド付加物の末端アクリル酸エステル化物(例えば、日本化薬株式会社製OPP−1、OPP−2)、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ(メタ)アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペングリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート(例えば、日本化薬株式会社製、KAYARADRTM HX−220、HX−620等)、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、モノ又はポリグリシジル化合物(例えば、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、グリセリンポリグリシジルエーテル、グリセリンポリエトキシグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリエトキシポリグリシジルエーテル等と(メタ)アクリル酸の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
また、上記した溶剤を含めて、使用できる溶媒をより具体的に分類すると、炭化水素溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤などを挙げることができる。それらを具体的に分類して例示すれば、、炭化水素溶剤としては、例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族系炭化水素溶剤、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素溶剤、及びそれらの混合物である石油エーテル、ホワイトガソリン、ソルベントナフサ等が挙げられる。
Examples of the solvent having no alcoholic hydroxyl group include ketones such as acetone, ethyl methyl ketone, and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and tetramethylbenzene, ethylene glycol dimethyl ether, and ethylene glycol diethyl. Glycol ethers such as ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, Propylene glycol monomethyl ether acetate, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, Esters such as dialkyl dipinates, cyclic esters such as γ-butyrolactone, petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, solvent naphtha, and various monomers and acid anhydrides of polycarboxylic acid compounds For example, hydroxyl-containing (meth) acrylate (2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, carbitol ( A half ester that is a reaction product of a polycarboxylic acid compound and an acid anhydride of a polycarboxylic acid compound, and a half ester that is a reaction product of an acryloylmorpholine and an acid anhydride of a polycarboxylic acid compound. Examples of acid anhydrides of acid compounds include succinic anhydride, Maleic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, etc.).
In addition, the terminal acrylic acid ester of 2-phenylphenol ethylene oxide adduct (eg, OPP-1, OPP-2 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di Di () -caprolactone adduct of (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane polyethoxytri (meth) acrylate, glycerin polypropoxytri (meth) acrylate, and hydroxypenic acid neopenglycol meth) acrylate (e.g., manufactured by Nippon Kayaku Co., KAYARAD RTM HX-220, HX -620 , etc.), pentaerythritol tetra (meth) acrylate, a reaction product of dipentaerythritol and ε- caprolactone Poly (meth) acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, mono- or polyglycidyl compounds (for example, butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol di) Epoxy that is a reaction product of (meth) acrylic acid with glycidyl ether, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, glycerin polyglycidyl ether, glycerin polyethoxyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyethoxypolyglycidyl ether, etc. A (meth) acrylate etc. can be mentioned.
Moreover, when the solvent which can be used including the above-mentioned solvent is classified more specifically, a hydrocarbon solvent, an ester solvent, an ether solvent, a ketone solvent and the like can be exemplified. If they are specifically classified and illustrated, examples of the hydrocarbon solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene and tetramethylbenzene, and aliphatic hydrocarbons such as hexane, octane and decane. Solvents and mixtures thereof such as petroleum ether, white gasoline, solvent naphtha and the like can be mentioned.

また、エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のアルキルアセテート類、γ−ブチロラクトン等の環状エステル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のモノ、若しくはポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルモノアセテート類、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のポリカルボン酸アルキルエステル類等が挙げられる。   Examples of ester solvents include alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate, cyclic esters such as γ-butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, diethylene glycol monoethyl ether monoacetate, Mono- or polyalkylene glycol monoalkyl ether monoacetates such as triethylene glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, butylene glycol monomethyl ether acetate, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, adipine Polyesters of polycarboxylic acids such as dialkyl acids Kind, and the like.

また、エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、エチルブチルエーテル等のアルキルエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類等が挙げられる。   Examples of ether solvents include alkyl ethers such as diethyl ether and ethyl butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol diethyl ether. Glycol ethers, and cyclic ethers such as tetrahydrofuran.

また、ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。   Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and isophorone.

このほかにも、上記反応に不活性な、エチレン性不飽和化合物(C)(本発明の化合物(A)を除く)等の単独または混合有機溶媒中で行うことができる。この場合、反応生成物を分離することなく、反応液をそのまま硬化型組成物として利用することが出来るので好ましい。   In addition, the reaction can be carried out in a single or mixed organic solvent such as an ethylenically unsaturated compound (C) (excluding the compound (A) of the present invention) inert to the above reaction. In this case, it is preferable because the reaction solution can be used as it is as a curable composition without separating the reaction product.

上記エチレン性不飽和化合物(C)の具体例としては、上記カルボキシレート化反応には不活性であるが、後記樹脂組成物の硬化反応においては反応するラジカル反応型のアクリレート類等のいわゆる反応性モノマー又は反応性オリゴマー類が挙げられる。
該アクリレート類としては、単官能(メタ)アクリレート類、多官能(メタ)アクリレート、その他エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the ethylenically unsaturated compound (C) are so-called reactivity such as radical reactive acrylates which are inactive in the carboxylation reaction but react in the curing reaction of the resin composition described later. Monomers or reactive oligomers may be mentioned.
Examples of the acrylates include monofunctional (meth) acrylates, polyfunctional (meth) acrylates, other epoxy acrylates, polyester acrylates, urethane acrylates, and the like.

単官能(メタ)アクリレート類としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレートモノメチルエーテル、フェニルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ビフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Monofunctional (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate monomethyl ether, phenylethyl (meth) acrylate, Examples include isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and biphenyloxyethyl (meth) acrylate.

多官能(メタ)アクリレート類としては、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、グリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレンジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、アジピン酸エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールエチレンオキサイドジ(メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールエチレンオキサイド(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペングリコールのγ−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとγ−カプロラクトンの反応物のポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリエチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物、及びそのエチレンオキサイド付加物、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、およびそのエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。
上記の溶媒は単独または混合有機溶媒として使用することができる。
As polyfunctional (meth) acrylates, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, glycol di (meth) acrylate, Diethylene di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl isocyanurate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, adipic acid epoxy di (meth) acrylate, bisphenol ethylene oxide di (meth) acrylate, hydrogen Bisphenol ethylene oxide (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, and γ-caprola of hydroxypenic acid neopenglycol Tone adduct di (meth) acrylate, reaction product of dipentaerythritol and γ-caprolactone, poly (meth) acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, triethylolpropane tri ( And (meth) acrylate and its ethylene oxide adduct, and its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and its ethylene oxide adduct.
The above solvents can be used alone or as a mixed organic solvent.

反応における原料の仕込み割合としては、好ましくは、エポキシ樹脂(a)のエポキシ基1当量に対し、前記モノカルボン酸化合物(b)を、0.8〜1.2当量(80〜120当量%)である。この範囲を逸脱した場合、反応中にゲル化を引き起こす恐れや、最終的に得られる化合物(A)の熱安定性が低くなる恐れがある。   The raw material charge ratio in the reaction is preferably 0.8 to 1.2 equivalents (80 to 120 equivalent%) of the monocarboxylic acid compound (b) with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin (a). It is. When deviating from this range, there is a risk of causing gelation during the reaction, or the thermal stability of the finally obtained compound (A) may be lowered.

反応時には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましく、触媒を使用する場合の該触媒の使用量は、反応物に対して0.1〜10重量%である。その際の反応温度は60〜150℃であり、また反応時間は、好ましくは5〜60時間である。使用する触媒の具体例としては、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムアイオダイド、トリフェニルフォスフィン、トリフェニルスチビン、メチルトリフェニルスチビン、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等が挙げられる。   During the reaction, it is preferable to use a catalyst in order to promote the reaction. When the catalyst is used, the amount of the catalyst used is 0.1 to 10% by weight with respect to the reaction product. The reaction temperature at that time is 60 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, methyltriphenylstibine, chromium octoate, octane Examples include zirconium acid.

また、熱重合禁止剤を使用することが出来、具体例としては、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2−メチルハイドロキノン、ハイドロキノン、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ジフェニルピクリルヒドラジン、ジフェニルアミン、3,5−ジターシャリーブチル−4ヒドロキシトルエン等が挙げられ、使用する場合の使用量は反応物に対して0.1〜10重量%使用するのが好ましい。   Further, a thermal polymerization inhibitor can be used. Specific examples include hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, diphenylpicrylhydrazine, diphenylamine, 3,5-ditertiary butyl-4hydroxytoluene and the like can be mentioned, and the amount used is preferably 0.1 to 10% by weight based on the reaction product.

前記モノカルボン酸化合物(b)を上記の好ましい範囲で使用した場合、反応液を、適宜サンプリングしながら、サンプルの酸価が5mg・KOH/g以下、好ましくは3mg・KOH/g程度、若しくはそれ以下となった時点を反応の終点とするのが好ましい。反応生成物の単離は、反応液から溶媒を減圧蒸留等の常法により除去することにより得ることができる。
この場合、得られる本発明の目的化合物(A)(カルボキシレート化合物)は、原料エポキシ樹脂(a)のエポキシ基1当量に対して、モノカルボン酸化合物(b)が0.8〜1当量、好ましくは0.9〜1当量付加した化合物として得ることができる。
また、上記反応液は、場合により、目的化合物を単離することなく、そこに光重合開始剤を加えて、本発明における樹脂組成物として使用することもできる。
When the monocarboxylic acid compound (b) is used in the above-mentioned preferable range, the sample has an acid value of 5 mg · KOH / g or less, preferably about 3 mg · KOH / g, while sampling the reaction solution as appropriate. The end point of the reaction is preferably the time point at which: Isolation of the reaction product can be obtained by removing the solvent from the reaction solution by a conventional method such as vacuum distillation.
In this case, the obtained target compound (A) (carboxylate compound) of the present invention is 0.8 to 1 equivalent of the monocarboxylic acid compound (b) relative to 1 equivalent of the epoxy group of the raw material epoxy resin (a). Preferably, it can be obtained as a compound with 0.9 to 1 equivalent added.
Moreover, the said reaction liquid can also be used as a resin composition in this invention, adding a photoinitiator there without isolating the target compound depending on the case.

本発明の化合物(A)は、液屈折率が樹脂単独で高く、液屈折率が1.6以上、例えば1.60〜1.65であるものが好ましい。本発明において、液屈折率とは硬化させる前の化合物の屈折率であり、測定波長は様々であるが例えばD線(589nm)を使用することができる。本明細書で記載の屈折率は何れもD線(589nm)での測定値である。
このような屈折率を測定する装置は一般的であり、例えば株式会社アタゴ製の多波長アッベ屈折計が挙げられる。測定方法は、例えば、硬化させる前の液状の化合物を直接塗布し、光源の透過光の屈折する角度を測定できる。
本発明の化合物(A)は前記したように、前記エポキシ樹脂(a)のエポキシ基に前記モノカルボン酸化合物(b)を付加したカルボキシレート樹脂であり、好ましいカルボキシレート樹脂の場合、分子中に平均で、ヒドロキシ基を1.6〜7個、好ましくは1.8〜3個有する。該ジカルボキシレート樹脂は、基本的には一般式(1)の2つのエポキシ基に前記モノカルボン酸化合物(b)をそれぞれ付加した構造であり、nの値も基本的には原料エポキシ樹脂と同じである。
本発明の化合物(A)は光重合開始剤や熱感応性の重合開始剤(アゾビスイソブチロニトリルなど)等と共に用いて、前記した種々の用途に用いることができる。本発明においては、本発明の化合物(A)と光重合開始剤を(B)を含む光重合性の樹脂組成物は好ましい態様の一つである。
The compound (A) of the present invention preferably has a liquid refractive index high by the resin alone and a liquid refractive index of 1.6 or more, for example, 1.60 to 1.65. In the present invention, the liquid refractive index is the refractive index of the compound before curing, and for example, D-line (589 nm) can be used although the measurement wavelength varies. All the refractive indexes described in the present specification are measured values at the D line (589 nm).
An apparatus for measuring such a refractive index is common, for example, a multi-wavelength Abbe refractometer manufactured by Atago Co., Ltd. is available. As the measuring method, for example, a liquid compound before being cured can be directly applied, and the angle at which the transmitted light of the light source is refracted can be measured.
As described above, the compound (A) of the present invention is a carboxylate resin in which the monocarboxylic acid compound (b) is added to the epoxy group of the epoxy resin (a). On average, it has 1.6 to 7, preferably 1.8 to 3 hydroxy groups. The dicarboxylate resin basically has a structure in which the monocarboxylic acid compound (b) is added to two epoxy groups of the general formula (1), and the value of n is basically the same as that of the raw material epoxy resin. The same.
The compound (A) of the present invention can be used in various applications as described above together with a photopolymerization initiator, a heat-sensitive polymerization initiator (such as azobisisobutyronitrile) and the like. In the present invention, a photopolymerizable resin composition containing the compound (A) of the present invention and a photopolymerization initiator (B) is one of preferred embodiments.

本発明の樹脂組成物は、上記本発明の化合物(A)及び光重合開始剤(B)を含有する。本発明の樹脂組成物100重量部中における化合物(A)の含有量としては5〜98重量部が好ましく、好ましくは10〜96重量部であり、更に場合により、10〜94重量部である。
残部は光重合開始剤と任意の添加成分である。本発明の樹脂の特性を生かすためには好ましくは、樹脂組成物の固形分全体に対して、本発明の樹脂が20〜98%(重量%:以下特に断りの無い限り同じ)程度、より好ましくは30〜98%、場合により、40〜98%又は50〜98%、また、他の場合は20〜94%(重量%:以下特に断りの無い限り同じ)程度、より好ましくは30〜94%、場合により、40〜94%又は50〜94%含まれるのが好ましい。
The resin composition of the present invention contains the compound (A) of the present invention and a photopolymerization initiator (B). The content of the compound (A) in 100 parts by weight of the resin composition of the present invention is preferably 5 to 98 parts by weight, preferably 10 to 96 parts by weight, and in some cases, 10 to 94 parts by weight.
The balance is a photopolymerization initiator and optional additives. In order to take advantage of the characteristics of the resin of the present invention, the resin of the present invention is preferably about 20 to 98% (weight%: the same unless otherwise specified), more preferably, based on the entire solid content of the resin composition. Is 30 to 98%, optionally 40 to 98% or 50 to 98%, and in other cases 20 to 94% (weight%: the same unless otherwise specified), more preferably 30 to 94%. Depending on the case, it is preferable that 40 to 94% or 50 to 94% is contained.

本発明の樹脂組成物に含有される光重合開始剤(B)としては、光重合開始剤として使用されるものは何れも使用できる。例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(イルガキュアー184;チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン(イルガキュア651;チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(ダロキュア1173;チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン(イルガキュアー907;チバスペシャリティーケミカルズ製)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらの光重合開始剤は1種類でも複数でも任意の割合で混合して使用することができ、アミン類等の光重合開始助剤と併用することも可能である。これらの光重合開始剤の中ではケトン系の重合開始剤が好ましい。
本発明の樹脂組成物(100重量部)中の光重合開始剤(B)の含有量としては0.5〜20重量部が好ましく、より好ましくは1〜10重量部である。この場合、本発明の化合物(A)の含量は、99.5〜10重量部、好ましくは99〜20部であり、任意成分が残部である。
また場合により、光重合開始剤(B)の含有量は1〜20重量部、好ましくは2〜10重量部、更に好ましくは4〜10重量部である。この場合、本発明の化合物(A)の含量は、98〜5重量部、好ましくは96〜10重量部であり、任意成分が残部である。任意成分として好ましいのは下記するエチレン性不飽和化合物(C)である。
As the photopolymerization initiator (B) contained in the resin composition of the present invention, any one used as a photopolymerization initiator can be used. For example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (Irgacure 651; manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2-hydroxy-2-methyl -1-phenyl-propan-1-one (Darocur 1173; manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (Irgacure 907; Ciba Specialty Chemicals), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, Isopro Lucio xanthone, 2,4,6 dichloride phosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentyl phosphine oxide and the like. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination at any ratio, and may be used in combination with photopolymerization initiation assistants such as amines. Of these photopolymerization initiators, ketone-based polymerization initiators are preferred.
As content of the photoinitiator (B) in the resin composition (100 weight part) of this invention, 0.5-20 weight part is preferable, More preferably, it is 1-10 weight part. In this case, the content of the compound (A) of the present invention is 99.5 to 10 parts by weight, preferably 99 to 20 parts, and the optional component is the balance.
Moreover, depending on the case, content of a photoinitiator (B) is 1-20 weight part, Preferably it is 2-10 weight part, More preferably, it is 4-10 weight part. In this case, the content of the compound (A) of the present invention is 98 to 5 parts by weight, preferably 96 to 10 parts by weight, and the optional component is the balance. Preferred as the optional component is the ethylenically unsaturated compound (C) described below.

本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、種々の任意成分を含むことができる。
主な該任意成分としては、下記するように、光重合開始助剤、本発明の化合物(A)以外のエチレン性不飽和化合物(C)、その他の添加剤及び希釈剤等を挙げることができる。
本発明で使用しうるアミン類等の光重合開始助剤としては、例えば、ジエタノールアミン、2−ジメチルアミノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル等が挙げられる。本発明の樹脂組成物(100重量部)中の光重合開始助剤の含有量は0〜5重量部であり、光重合開始助剤を併用する場合、本発明の脂組組成物中の含有量としては0.05〜5重量部が好ましく、より好ましくは0.1〜3重量部である。
The resin composition of this invention can contain a various arbitrary component as needed.
Examples of the main optional component include a photopolymerization initiation aid, an ethylenically unsaturated compound (C) other than the compound (A) of the present invention, other additives, and a diluent as described below. .
Examples of photopolymerization initiation assistants such as amines that can be used in the present invention include diethanolamine, 2-dimethylaminoethylbenzoate, dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester. Etc. The content of the photopolymerization initiation assistant in the resin composition (100 parts by weight) of the present invention is 0 to 5 parts by weight. When the photopolymerization initiation assistant is used in combination, the content in the oil composition composition of the present invention The amount is preferably 0.05 to 5 parts by weight, more preferably 0.1 to 3 parts by weight.

本発明の樹脂組成物で、必要に応じて添加することができるエチレン性不飽和化合物(本発明の化合物(A)以外のエチレン性不飽和化合物)の好ましいものとしては、例えば、(メタ)アクリレートモノマー、(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられ、それらは任意に使用しても良い。   As a preferable thing of the ethylenically unsaturated compound (ethylenically unsaturated compound other than the compound (A) of this invention) which can be added as needed with the resin composition of this invention, (meth) acrylate is mentioned, for example A monomer, a (meth) acrylate oligomer, etc. are mentioned, You may use them arbitrarily.

エチレン性不飽和化合物としての(メタ)アクリレートモノマーは、分子中に1個の(メタ)アクリレート基を有する単官能モノマーと分子中に2個以上の(メタ)アクリレート基を有する多官能モノマーに分類できる。
分子中に1個の(メタ)アクリレート基を有する単官能モノマーとしては、例えばトリシクロデカン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエンオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、モルフォリン(メタ)アクリレート、フェニルグリシジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(Meth) acrylate monomers as ethylenically unsaturated compounds are classified into monofunctional monomers having one (meth) acrylate group in the molecule and polyfunctional monomers having two or more (meth) acrylate groups in the molecule. it can.
Monofunctional monomers having one (meth) acrylate group in the molecule include, for example, tricyclodecane (meth) acrylate, dicyclopentadieneoxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, isobornyl (meta ) Acrylate, adamantyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, morpholine (meth) acrylate, phenylglycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( Examples include meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and ethyl carbitol (meth) acrylate.

また、分子中に2個以上(メタ)アクリレート基を有する(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えばネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the (meth) acrylate monomer having two or more (meth) acrylate groups in the molecule include neopentyl glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, and hydroxypivalaldehyde-modified tri Methylolpropane di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, Polypropylene glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide modified bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide De-modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ethylene oxide modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

これら(メタ)アクリレートモノマーは1種、2種以上でも任意の割合で混合使用してもかまわない。本発明の樹脂組成物(100重量部)中の該(メタ)アクリレートモノマーの含有量は0〜90重量部であり、(メタ)アクリレートモノマーを使用する場合、1〜90重量部が好ましく、特に好ましくは5〜85重量部である。   These (meth) acrylate monomers may be used singly, in combination of two or more, and in any ratio. The content of the (meth) acrylate monomer in the resin composition (100 parts by weight) of the present invention is 0 to 90 parts by weight, and when the (meth) acrylate monomer is used, 1 to 90 parts by weight is preferable. Preferably it is 5-85 weight part.

エチレン性不飽和化合物としての(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、例えば、分子量400〜10000のウレタン(メタ)アクリレート、分子量500〜10000のエポキシ(メタ)アクリレートを挙げることができる。   Examples of the (meth) acrylate oligomer as the ethylenically unsaturated compound include urethane (meth) acrylate having a molecular weight of 400 to 10,000 and epoxy (meth) acrylate having a molecular weight of 500 to 10,000.

分子量400〜10000のウレタン(メタ)アクリレートは、下記多価アルコールと有機ポリイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物との反応によって得られる。
多価アルコールとして、例えば、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−(ヒドロキシメチル)−シクロヘキサン等の多価アルコール;また前記多価アルコールと多塩基酸(例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等)との反応によって得られるポリエステルポリオール;及び前記多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるカプロラクトンアルコール;及びポリカーボネートポリオール(例えば、1,6−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等);及びポリエーテルポリオール(例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA等)があげられる。
有機ポリイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルイソシアネート等が挙げられる。
ヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物としては、例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジメチロールシクロヘキシルモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン(メタ)アクリレート等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物(100重量部)中の分子量400〜10000のウレタン(メタ)アクリレートの含有量は0〜90重量部であり、該ウレタン(メタ)アクリレートを使用する場合、1〜90重量部が好ましく、より好ましくは3〜85重量部である。
A urethane (meth) acrylate having a molecular weight of 400 to 10,000 is obtained by a reaction of the following polyhydric alcohol, an organic polyisocyanate, and a hydroxy (meth) acrylate compound.
Examples of the polyhydric alcohol include neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, and triglyceride. Polyhydric alcohols such as cyclodecane dimethylol and bis- (hydroxymethyl) -cyclohexane; and the polyhydric alcohols and polybasic acids (for example, succinic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic anhydride, terephthalic acid, adipic acid, azelaic acid Polyester polyol obtained by reaction with tetrahydrophthalic anhydride, etc .; and caprolactone alcohol obtained by reaction of the polyhydric alcohol with ε-caprolactone; and polycarbonate polyol (for example, 1,6- Hexanediol polycarbonate diol obtained by reacting diphenyl carbonate); and polyether polyols (such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, ethylene oxide-modified bisphenol A, etc.).
Examples of the organic polyisocyanate include isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, and dicyclopentanyl isocyanate.
Examples of the hydroxy (meth) acrylate compound include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, dimethylol cyclohexyl mono (meth) acrylate, hydroxycaprolactone (meth) acrylate, and the like. .
The content of urethane (meth) acrylate having a molecular weight of 400 to 10000 in the resin composition (100 parts by weight) of the present invention is 0 to 90 parts by weight. When the urethane (meth) acrylate is used, 1 to 90 parts by weight. Part is preferred, more preferably 3 to 85 parts by weight.

前記分子量500〜10000のエポキシアクリレートとしては、特に制限はないが、ビスフェノール型エポキシアクリレートを用いることが好ましく、例えば、油化シェルエポキシ株式会社製エピコートRTM802、1001、1004等のビスフェノールA型エポキシ樹脂、及びエピコートRTM4001P、4002P、4003P等のビスフェノールF型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応によって得られるエポキシアクリレートが挙げられる(上付RTMは登録商標を表す)。また、上記を水添した脂環式エポキシアクリレートも使用しても良い。本発明の樹脂組成物(100重量部)中の分子量500〜10000のエポキシアクリレートの含有量は0〜90重量部であり、該エポキシアクリレートを使用する場合、本発明の樹脂組成物中の含有量としては1〜90重量部が好ましく、より好ましくは3〜85重量部である。Although there is no restriction | limiting in particular as said epoxy acrylate of the molecular weight 500-10000, It is preferable to use a bisphenol type epoxy acrylate, for example, bisphenol A type epoxy resin, such as Epicoat RTM 802,1001,1004 by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. And epoxy acrylate obtained by reaction of bisphenol F type epoxy resin such as Epicoat RTM 4001P, 4002P, 4003P and (meth) acrylic acid (superscript RTM represents a registered trademark). Moreover, you may use the alicyclic epoxy acrylate which hydrogenated the above. The content of the epoxy acrylate having a molecular weight of 500 to 10,000 in the resin composition (100 parts by weight) of the present invention is 0 to 90 parts by weight. When the epoxy acrylate is used, the content in the resin composition of the present invention. Is preferably 1 to 90 parts by weight, more preferably 3 to 85 parts by weight.

更に、本発明の樹脂組成物は、用途に応じて、非反応性化合物、無機充填剤、有機充填剤、シランカップリング剤、粘着付与剤、消泡剤、レベリング剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、顔料、染料等を適宜使用することができる。   Furthermore, the resin composition of the present invention is a non-reactive compound, an inorganic filler, an organic filler, a silane coupling agent, a tackifier, an antifoaming agent, a leveling agent, a plasticizer, and an antioxidant depending on the application. UV absorbers, flame retardants, pigments, dyes, and the like can be used as appropriate.

前記、非反応性化合物の具体例としては、反応性の低い、或いは反応性の無い液状若しくは固体状のオリゴマーや樹脂であり、(メタ)アクリル酸アルキル共重合体、エポキシ樹脂、液状ポリブタジエン、ジシクロペンタジエン誘導体、飽和ポリエステルオリゴマー、キシレン樹脂、ポリウレタンポリマー、ケトン樹脂、ジアリルフタレートポリマー(ダップ樹脂)、石油樹脂、ロジン樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコン系オリゴマーなどを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the non-reactive compound include a liquid or solid oligomer or resin having low reactivity or non-reactivity, and includes (meth) acrylic acid alkyl copolymer, epoxy resin, liquid polybutadiene, Examples include, but are not limited to, cyclopentadiene derivatives, saturated polyester oligomers, xylene resins, polyurethane polymers, ketone resins, diallyl phthalate polymers (dup resins), petroleum resins, rosin resins, fluorine-based oligomers, and silicon-based oligomers. It is not something.

前記、無機充填剤としては、例えば、二酸化珪素、酸化珪素、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、タルク、カオリンクレー、焼成クレー、酸化亜鉛、硫酸亜鉛、水酸アルミニウム、酸化アルミニウム、ガラス、雲母、硫酸バリウム、アルミナホワイト、ゼオライト、シリカバルーン、ガラスバルーン、等を挙げることができる。これらの無機充填剤には、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコネート系カップリング剤などを添加、反応させるなどの方法により、ハロゲン基、エポキシ基、水酸基、チオール基の官能基を持たせることもできる。   Examples of the inorganic filler include silicon dioxide, silicon oxide, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium carbonate, magnesium oxide, talc, kaolin clay, calcined clay, zinc oxide, zinc sulfate, aluminum hydroxide, aluminum oxide, and glass. , Mica, barium sulfate, alumina white, zeolite, silica balloon, glass balloon, and the like. These inorganic fillers may be added with a silane coupling agent, titanate coupling agent, aluminum coupling agent, zirconate coupling agent, or the like, and reacted to form a halogen group, an epoxy group, a hydroxyl group, or a thiol. It can also have a functional group.

前記、有機充填剤としては、例えば、ベンゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリオレフィン樹脂、エチレン・アクリル酸共重合体、ポリスチレン、アクリル共重合体、ポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、ナイロン12、ナイロン6/66、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂などを挙げることができる。   Examples of the organic filler include benzoguanamine resin, silicone resin, low density polyethylene, high density polyethylene, polyolefin resin, ethylene / acrylic acid copolymer, polystyrene, acrylic copolymer, polymethyl methacrylate resin, fluororesin, Nylon 12, nylon 6/66, phenol resin, epoxy resin, urethane resin, polyimide resin and the like can be mentioned.

シランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトレメトキシシラン又はγ−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート等のチタネート系カップリング剤;アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等のアルミニウム系カップリング剤;アセチルアセトン・ジルコニウム錯体等のジルコニウム系カップリング剤、などを挙げることができる。   Examples of the silane coupling agent include silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyl tremethoxysilane and γ-chloropropyltrimethoxysilane, and tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl). ) Titanate coupling agents such as phosphite titanate and bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate; Aluminum coupling agents such as acetoalkoxyaluminum diisopropylate; Zirconium coupling agents such as acetylacetone / zirconium complex, etc. be able to.

本発明の樹脂組成物に使用可能な粘着付与剤、消泡剤、レベリング剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、顔料及び染料は、公知慣用のものであれば如何なるものも、その硬化性、樹脂特性を損なわない範囲で、特に制限無く使用することができる。   Any tackifier, antifoaming agent, leveling agent, plasticizer, antioxidant, ultraviolet absorber, flame retardant, pigment, and dye that can be used in the resin composition of the present invention can be used. As long as the curability and resin properties are not impaired, the resin can be used without particular limitation.

本発明の樹脂組成物を得るには、上記した各成分を混合すればよく、混合の順序や方法は特に限定されない。   In order to obtain the resin composition of the present invention, the above-described components may be mixed, and the order and method of mixing are not particularly limited.

本発明の樹脂組成物は、希釈剤で希釈して、塗布用組成物等として使用することもできる。希釈剤としては有機溶剤が挙げられ、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、その他の一般によく用いられる有機溶剤等を挙げることができる。好ましい溶媒の一つはケトン系溶媒である。該塗布用組成物においては、有機溶剤以外の樹脂組成物成分含量が20%〜80%程度が好ましく、30%〜70%程度がより好ましい。
本発明の好ましい塗布用組成物の一例を下記する。
本発明の樹脂組成物 20〜80%
有機溶剤 80〜20%
からなり、本発明の樹脂組成物が下記の組成からなる。
本発明の樹脂組成物の組成(100重量部中):
本発明の化合物(A) 5〜99重量部
光重合開始剤(B) 1〜20重量部
任意成分(好ましくはエチレン性不飽和化合物(C)) 残部(0〜94重量部)
The resin composition of the present invention can be diluted with a diluent and used as a coating composition or the like. Diluents include organic solvents, such as ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, acetates such as ethyl acetate and butyl acetate, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and other commonly used The organic solvent etc. which can be mentioned can be mentioned. One preferred solvent is a ketone solvent. In the coating composition, the resin composition component content other than the organic solvent is preferably about 20% to 80%, more preferably about 30% to 70%.
An example of a preferable coating composition of the present invention will be described below.
20-80% of the resin composition of the present invention
Organic solvent 80-20%
The resin composition of the present invention has the following composition.
Composition of resin composition of the present invention (in 100 parts by weight):
Compound (A) of the present invention 5-99 parts by weight Photopolymerization initiator (B) 1-20 parts by weight Optional component (preferably ethylenically unsaturated compound (C)) The remainder (0-94 parts by weight)

本発明の樹脂組成物は、180〜500nmの波長の紫外線又は可視光線等の活性エネルギー線を照射することによって重合(架橋硬化)させることができる。又、紫外線以外のエネルギー線の照射によって、あるいは、本発明の樹脂組成物に熱感応性の開始剤(アゾビスイソブチロニトリル等)を熱によっても硬化させることもできる。
波長180〜500nmの紫外線又は可視光線の光発生源としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀−キセノンランプ、エキシマーランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、エキシマーレーザー、太陽光を挙げることができる。
本発明において活性エネルギー線とは、紫外線、可視光線、赤外線、X線、ガンマー線、レーザー光線等の電磁波、アルファー線、ベータ線、電子線等の粒子線等が挙げられる。しかしながら本発明の好適な用途を考慮すれば、レーザーを含む紫外線、可視光線、または電子線が好ましい。
The resin composition of the present invention can be polymerized (cross-linked and cured) by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays or visible rays having a wavelength of 180 to 500 nm. It is also possible to cure the heat sensitive initiator (azobisisobutyronitrile or the like) to the resin composition of the present invention by irradiation with energy rays other than ultraviolet rays.
Examples of the light generation source of ultraviolet light or visible light having a wavelength of 180 to 500 nm include, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a mercury-xenon lamp, an excimer lamp, and a short. Examples include arc lamps, helium / cadmium lasers, argon lasers, excimer lasers, and sunlight.
In the present invention, active energy rays include electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, gamma rays and laser rays, particle rays such as alpha rays, beta rays and electron rays. However, in view of a preferred application of the present invention, ultraviolet rays including laser, visible light, or electron beams are preferred.

本発明の樹脂組成物は、皮膜形成用材料、プリント(配線回路)基板製造の際のソルダーマスク、メッキレジスト、接着剤、レンズ、ディスプレー、光ファイバー、光導波路、ホログラム等に使用することができる。皮膜形成用材料とは、基材表面を被覆することを目的として利用されるものである。具体的な用途としては、グラビアインキ、フレキソインキ、シルクスクリーンインキ、オフセットインキ等のインキ材料、ハードコート、トップコート、オーバープリントニス、クリヤコート等の塗工材料等がこれに該当する。また、ソルダーレジスト、エッチングレジスト、マイクロマシン用レジスト等のレジスト材料、ラミネート用他各種接着剤、粘着剤等の接着材料、LED用接着剤等の各種接着剤、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ等の各種レンズ、光ファイバーのコア材、クラッド材、光導波路、ホログラム等の各種光学材料等にも使用することができる。さらには、樹脂組成物を一時的に剥離性基材に塗工しフイルム化した後、本来目的とする基材に貼合し皮膜を形成させる、いわゆるドライフイルムとしても使用することができる。   The resin composition of the present invention can be used for film-forming materials, solder masks in the production of printed (wiring circuit) substrates, plating resists, adhesives, lenses, displays, optical fibers, optical waveguides, holograms, and the like. The film forming material is used for the purpose of coating the surface of the base material. Specific applications include ink materials such as gravure ink, flexo ink, silk screen ink, and offset ink, and coating materials such as hard coat, top coat, overprint varnish, and clear coat. Also, resist materials such as solder resists, etching resists, micromachine resists, other adhesives for laminating, adhesive materials such as adhesives, various adhesives such as adhesives for LEDs, various lenses such as Fresnel lenses, lenticular lenses, It can also be used for various optical materials such as optical fiber core materials, clad materials, optical waveguides and holograms. Furthermore, after applying a resin composition to a peelable base material temporarily and making it into a film, it can be used also as what is called a dry film which is bonded to the originally intended base material and forms a film.

各種塗膜を形成させる方法としては特に限定はないが、グラビア等の凹版印刷方式、フレキソ等の凸版印刷方式、シルクスクリーン等の孔版印刷方式、オフセット等の平版印刷方式、ロールコーター、ナイフコーター、ダイコーター、カーテンコーター、スピンコーター等の各種塗工方式においても好適に使用することができる。   The method for forming various coating films is not particularly limited, but an intaglio printing method such as gravure, a relief printing method such as flexo, a stencil printing method such as silk screen, a lithographic printing method such as offset, a roll coater, a knife coater, It can also be suitably used in various coating methods such as a die coater, curtain coater, and spin coater.

以下、本発明を参考例及び実施例によって更に具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものでない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference examples and examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

参考例1
一般式(1)のエポキシ樹脂(a)の合成
温度計、冷却官、撹拌器を取り付けたフラスコに窒素ガスパージを施しながら下記式(2)で表されるフェノール化合物(c)(DOQ−O 三光株式会社製)169部、エピクロルヒドリン463部及びメタノール169部を仕込み、前2者をメタノールに溶解させた。更に該溶液の温度を70℃に加熱し、そこにフレーク状水酸化ナトリウム41部を90分かけて分割添加した後、更に70℃で60分間反応させた。反応終了後、反応液を、水150部で二回洗浄を行い生成した塩などを除去した後、加熱減圧下(〜70度、−0.08MPa〜−0.09MPa)、撹拌しながら、3時間で、過剰のエピクロルヒドリン等を留去した。反応液がスラリー状態になったところで、減圧を開放し、そこにアセトン300部を加え、還流状態で30分攪拌後、メタノール1500部を加え15分撹拌、つづいて水300部を徐々に加えた。析出した結晶を減圧濾過により分離し、目的とする結晶状エポキシ樹脂を得た(n=0.01(平均値))。さらにこの結晶をメタノール200部、さらに水200部で十分洗浄し、乾燥することで目的とするエポキシ樹脂(a)が白色〜淡白色の粉末状結晶として191g得られた。得られたエポキシ樹脂(a)の融点は98℃であった。また、エポキシ当量をJIS K7236:2001に従い分析した結果、このエポキシ樹脂(a)のエポキシ当量は227g/eqであった。この分析値から一般式(1)のnの値は、0.01と算出された。またこのエポキシ樹脂(a)の屈折率を測定したところ、その屈折率は1.65であった。(試料をジメチルスルホキシドに溶解し、その屈折率を3点測定し、計算した。測定装置:多波長アッベ屈折計DR−M2 株式会社アタゴ製、測定波長:589nm(D線))
式(2)
Reference example 1
Synthesis of epoxy resin (a) of general formula (1) Phenol compound (c) (DOQ-O Sanko) represented by the following formula (2) while purging a nitrogen gas purge to a flask equipped with a thermometer, a cooler and a stirrer 169 parts), epichlorohydrin 463 parts and methanol 169 parts were charged, and the former two were dissolved in methanol. Further, the temperature of the solution was heated to 70 ° C., and 41 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, followed by further reaction at 70 ° C. for 60 minutes. After completion of the reaction, the reaction solution was washed twice with 150 parts of water to remove the generated salt and the like, and then stirred under reduced pressure by heating (up to 70 degrees, -0.08 MPa to -0.09 MPa). Excess epichlorohydrin and the like were distilled off over time. When the reaction solution was in a slurry state, the reduced pressure was released, 300 parts of acetone was added thereto, stirred for 30 minutes at reflux, 1500 parts of methanol was added and stirred for 15 minutes, and then 300 parts of water were gradually added. . The precipitated crystals were separated by filtration under reduced pressure to obtain the desired crystalline epoxy resin (n = 0.01 (average value)). Further, the crystal was sufficiently washed with 200 parts of methanol and further 200 parts of water and dried to obtain 191 g of the target epoxy resin (a) as white to pale white powdery crystals. The melting point of the obtained epoxy resin (a) was 98 ° C. Moreover, as a result of analyzing an epoxy equivalent according to JISK7236: 2001, the epoxy equivalent of this epoxy resin (a) was 227 g / eq. From this analysis value, the value of n in the general formula (1) was calculated to be 0.01. Moreover, when the refractive index of this epoxy resin (a) was measured, the refractive index was 1.65. (A sample was dissolved in dimethyl sulfoxide, and its refractive index was measured and calculated at three points. Measuring apparatus: Multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2, manufactured by Atago Co., Ltd., measurement wavelength: 589 nm (D line))
Formula (2)

Figure 0005222156
Figure 0005222156

実施例1
本発明の化合物(A)の合成
攪拌装置、還流管をつけた1Lフラスコ中に、希釈剤として、トルエンを128.2g、合成例1と同様にして得られたエポキシ樹脂(a)(n=0.01(平均値))を227.0g(エポキシ当量:1.0当量)、エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)として、アクリル酸(分子量 72.06)を72.06g(1.0当量)、熱重合禁止剤として、2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾールを2.56g及び反応触媒として、トリフェニルホスフィンを1.28g仕込み、100℃の温度で24時間反応させ、本発明の化合物(A)70重量%を含む溶液を得た。溶液の酸価を測定したところ、0.3mg・KOH/gであった。
次いで、この溶液にトルエン570gを加え、水100gで3回洗浄し、有機相を減圧濃縮して、淡黄色樹脂状の化合物(A)を得た。この樹脂状化合物(A)のエポキシ当量は62,000g/eq.であった。この分析値から原料エポキシ基反応率(アクリル酸導入率)は99.3%と算出された。
この樹脂の25℃における屈折率を参考例1と同じ測定装置を用いて、直接測定したところ、1.616であった。
また、プロトンNMRを測定したところ以下のようなピークであった。
Example 1
Synthesis of Compound (A) of the Present Invention In a 1 L flask equipped with a stirrer and a reflux tube, 128.2 g of toluene as a diluent, epoxy resin (a) obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 (n = 0.01 (average value)) is 227.0 g (epoxy equivalent: 1.0 equivalent), and the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group is 72.06 g of acrylic acid (molecular weight 72.06). (1.0 equivalent), 2.56 g of 2,6-ditert-butyl-p-cresol as a thermal polymerization inhibitor and 1.28 g of triphenylphosphine as a reaction catalyst were charged at a temperature of 100 ° C. for 24 hours. The reaction was performed to obtain a solution containing 70% by weight of the compound (A) of the present invention. The acid value of the solution was measured and found to be 0.3 mg · KOH / g.
Next, 570 g of toluene was added to this solution, washed with 100 g of water three times, and the organic phase was concentrated under reduced pressure to obtain a pale yellow resinous compound (A). The epoxy equivalent of this resinous compound (A) is 62,000 g / eq. Met. From this analysis value, the raw material epoxy group reaction rate (acrylic acid introduction rate) was calculated to be 99.3%.
The refractive index of this resin at 25 ° C. was directly measured using the same measuring apparatus as in Reference Example 1. As a result, it was 1.616.
Moreover, when proton NMR was measured, the following peaks were obtained.

H−NMR
3.90−4.50ppm=10H、5.83ppm=2H、6.15ppm=2H、6.42ppm=2H、6.90−7.65ppm=16H
H-NMR
3.90-4.50 ppm = 10H, 5.83 ppm = 2H, 6.15 ppm = 2H, 6.42 ppm = 2H, 6.90-7.65 ppm = 16H

比較例1(H)
窒素雰囲気下、攪拌装置及び還流脱水装置をつけた2Lフラスコ中に上記式(2)のフェノール化合物(DOQ−O 三光株式会社製 分子量:338.1)を67.6g(0.2mol)、トルエンを600ml、エチレンカーボネート(分子量:88.06)を61.6g(0.70mol)を仕込んだ。得られた液に、攪拌下90〜110℃で無水炭酸カリウム粉末8gを添加し、5時間そのまま反応させた。反応混合物を冷却し、析出物を濾別し、水及びメタノールで洗浄し、75℃で乾燥して上記式(2)で表されるフェノール化合物(c)のエチレンオキサイド付加物を、白色結晶として71.0g得た。
次いで、還流冷却器、攪拌機、温度計、温度調節装置、および水分離機を備えた反応器に、上記で得られたエチレンオキサイド付加物(分子量:426.5)を42.7g(0.10mol)、アクリル酸(分子量:72.06)を17.3g(0.24mol)、パラトルエンスルホン酸・一水和物を0.35g、ハイドロキノンを0.14g、トルエンを60g仕込み、反応温度を100℃〜115℃で生成水を溶媒と共沸留去しながら反応させ、生成水が3.6mlに達したところで反応の終点とした。反応混合物をトルエン100gに溶解し、25%苛性ソーダ水溶液で中和した後、15%食塩水20gで3回洗浄した。溶媒を減圧留去して褐色樹脂状の上記式(2)で表されるフェノール化合物(c)のエチレンオキサイドアクリレート化合物(H)を51.6g得た。この樹脂の25℃における屈折率を測定したところ、1.614であった。
Comparative Example 1 (H)
Under a nitrogen atmosphere, 67.6 g (0.2 mol) of a phenol compound (DOQ-O Sanko Co., Ltd., molecular weight: 338.1) of the above formula (2) in a 2 L flask equipped with a stirrer and a reflux dehydrator, toluene Was charged with 600 ml and ethylene carbonate (molecular weight: 88.06) 61.6 g (0.70 mol). To the obtained liquid, 8 g of anhydrous potassium carbonate powder was added at 90 to 110 ° C. with stirring, and reacted for 5 hours as it was. The reaction mixture is cooled, the precipitate is filtered off, washed with water and methanol, dried at 75 ° C., and the ethylene oxide adduct of the phenol compound (c) represented by the above formula (2) is converted into white crystals. 71.0 g was obtained.
Subsequently, 42.7 g (0.10 mol) of the ethylene oxide adduct (molecular weight: 426.5) obtained above was added to a reactor equipped with a reflux condenser, a stirrer, a thermometer, a temperature controller, and a water separator. ), 17.3 g (0.24 mol) of acrylic acid (molecular weight: 72.06), 0.35 g of paratoluenesulfonic acid monohydrate, 0.14 g of hydroquinone, and 60 g of toluene, and the reaction temperature was 100 The reaction was carried out while azeotropically distilling off the produced water with a solvent at from C to 115 ° C., and when the produced water reached 3.6 ml, the reaction was terminated. The reaction mixture was dissolved in 100 g of toluene, neutralized with 25% aqueous sodium hydroxide solution, and then washed 3 times with 20 g of 15% brine. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 51.6 g of an ethylene oxide acrylate compound (H) of the phenol compound (c) represented by the brown resin-like formula (2). The refractive index of this resin at 25 ° C. was measured and found to be 1.614.

また、実施例1、比較例1にて得られた化合物をそれぞれトルエン70重量%で希釈し、可視光での透過率を測定したデータを図1に示す。
図1から明らかなように、本発明の化合物(A)は、波長450nm〜800nmにかけて、その光の透過率が70〜80%と高く、一定しており、着色が無く透明度が高いことが判る。
なお、本実施例において、アクリル酸の代わりに、桂皮酸(分子量148)148gを用いる以外は実施例1に準じて、反応を行うことにより、一般式(1)のエポキシ樹脂のエポキシ基に、桂皮酸が付加したカルボキシレート樹脂を得ることができる。
また、アクリル酸の代わりに、アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物を用いる以外は実施例1に準じて、反応を行うことにより、一般式(1)のエポキシ樹脂のエポキシ基に、該反応生成物が付加したカルボキシレート樹脂を得ることができる。
Further, FIG. 1 shows data obtained by diluting the compounds obtained in Example 1 and Comparative Example 1 with 70% by weight of toluene and measuring the transmittance with visible light.
As can be seen from FIG. 1, the compound (A) of the present invention has a high and constant light transmittance of 70 to 80% over a wavelength of 450 to 800 nm, and it is clear that there is no coloring and high transparency. .
In this example, by reacting according to Example 1 except that 148 g of cinnamic acid (molecular weight 148) was used instead of acrylic acid, the epoxy group of the epoxy resin of the general formula (1) A carboxylate resin to which cinnamic acid has been added can be obtained.
Moreover, by using a reaction according to Example 1 except that a reaction product of acrylic acid and ε-caprolactone is used instead of acrylic acid, the epoxy group of the epoxy resin of the general formula (1) A carboxylate resin to which a reaction product is added can be obtained.

実施例2及び比較例2
また、実施例1、比較例1にて得られた化合物をそれぞれMEK(2−ブタノン)50重量%で希釈し、光重合開始剤としてイルガキュアー184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)を3重量%添加し、本発明の樹脂組成物の希釈液(塗布用組成物)を得た。
次いでこれらの溶液をバーコーター(No.20)を用いて易接着処理ポリエステルフィルム(東洋紡株式会社製:A−4300、膜厚188μm)に塗布し、80℃の乾燥炉中に1分間放置後、空気雰囲気下で、5m/分の搬送速度で該フィルムを搬送しながら、120W/cmの高圧水銀灯を用い、ランプ高さ10cmの距離から紫外線を照射し、塗膜を硬化させ、硬化皮膜(10〜15μm)を有するフィルムを得た。
Example 2 and Comparative Example 2
In addition, the compounds obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were each diluted with 50% by weight of MEK (2-butanone), and Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals: 1-hydroxycyclohexyl) as a photopolymerization initiator. 3% by weight of phenylketone) was added to obtain a diluted solution (coating composition) of the resin composition of the present invention.
Next, these solutions were applied to an easy adhesion treatment polyester film (manufactured by Toyobo Co., Ltd .: A-4300, film thickness 188 μm) using a bar coater (No. 20), and left in a drying oven at 80 ° C. for 1 minute. While transporting the film at a transport speed of 5 m / min in an air atmosphere, a 120 W / cm high-pressure mercury lamp is used to irradiate ultraviolet rays from a distance of a lamp height of 10 cm to cure the coated film (10 A film having ˜15 μm) was obtained.

得られたフィルムについて、JIS K 5400に従い、フィルムの表面に1mm間隔で縦、横11本の切れ目を入れて100個の碁盤目を作った。次いで、セロハンテープをその表面に密着させた後一気に剥がした時に剥離せず残存したマス目の個数を表1に示した。   With respect to the obtained film, according to JIS K 5400, 100 grids were made by making 11 vertical and horizontal cuts at 1 mm intervals on the surface of the film. Next, Table 1 shows the number of cells remaining without peeling when the cellophane tape was adhered to the surface and then peeled off at once.

表1
フィルム 残存したマス目の個数
実施例2のフィルム 83
(実施例1で得られた化合物(A)の硬化膜を有するフィルム)
比較例2のフィルム 24
(比較例1で得られた化合物(H)の硬化膜を有するフィルム)
Table 1
Film Number of remaining squares Film of Example 2 83
(Film having a cured film of compound (A) obtained in Example 1)
Film of Comparative Example 2 24
(Film having a cured film of compound (H) obtained in Comparative Example 1)

以上の結果から、本発明の化合物(A)は樹脂単独で透明性に優れ、高い屈折率を有し、本発明の化合物(A)を含有する本発明の樹脂組成物の硬化膜を有するフィルムは高い密着性を有する。   From the above results, the compound (A) of the present invention is a resin having excellent transparency, a high refractive index, and a cured film of the resin composition of the present invention containing the compound (A) of the present invention. Has high adhesion.

本発明の化合物(A)は、透明性に優れ、高い屈折率を有し、それを含有する樹脂組成物は活性エネルギー線により露光硬化することによる塗膜の形成において高い密着性を有し、かつ十分な硬度を有する硬化物を与えるものである。従って、該感光性樹脂は、皮膜形成用材料、プリント(配線回路)基板製造の際のソルダーマスク、メッキレジスト、接着剤、レンズ、ディスプレー、光ファイバー、光導波路、ホログラム等用の一成分として適している。   The compound (A) of the present invention is excellent in transparency and has a high refractive index, and the resin composition containing it has high adhesion in the formation of a coating film by exposure and curing with active energy rays, And the hardened | cured material which has sufficient hardness is given. Therefore, the photosensitive resin is suitable as a component for film forming materials, solder masks for plating (wiring circuit) substrates, plating resists, adhesives, lenses, displays, optical fibers, optical waveguides, holograms, etc. Yes.

Claims (12)

一般式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)とエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)を反応させて得られることを特徴とする化合物(A)、
式(1)
Figure 0005222156

(式中、nは0〜5の正数を表す)。
A compound (A) obtained by reacting the epoxy resin (a) represented by the general formula (1) with a monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group,
Formula (1)
Figure 0005222156

(In the formula, n represents a positive number of 0 to 5).
エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)が、(i)(メタ)アクリル酸、(ii)(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物または(iii)桂皮酸である請求項1に記載の化合物(A)。   The monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group is (i) (meth) acrylic acid, (ii) a reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, or (iii) cinnamic acid. The compound (A) according to claim 1. 液屈折率が1.6以上である請求項1又は2に記載の化合物(A)。   The compound (A) according to claim 1 or 2, wherein the liquid refractive index is 1.6 or more. 請求項1ないし3のいずれか一項に記載の化合物(A)及び光重合開始剤(B)を含有する樹脂組成物。   A resin composition comprising the compound (A) according to any one of claims 1 to 3 and a photopolymerization initiator (B). 一般式(1)
Figure 0005222156

(式中nは0〜5の正数を表す)
で表されるエポキシ樹脂(a)のエポキシ基に、エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)を付加したジカルボキシレート樹脂。
General formula (1)
Figure 0005222156

(Where n represents a positive number from 0 to 5)
The dicarboxylate resin which added the monocarboxylic acid compound (b) which has an ethylenically unsaturated group to the epoxy group of the epoxy resin (a) represented by these.
nが0より大きく1以下である請求項5に記載のジカルボキシレート樹脂。   6. The dicarboxylate resin according to claim 5, wherein n is greater than 0 and 1 or less. エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)が(i)(メタ)アクリル酸、(ii)(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物または(iii)桂皮酸である請求項5又は6に記載のジカルボキシレート樹脂。     The monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group is (i) (meth) acrylic acid, (ii) a reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, or (iii) cinnamic acid. Item 7. The dicarboxylate resin according to Item 5 or 6. エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)が(メタ)アクリル酸である請求項5又は6に記載のジカルボキシレート樹脂。   The dicarboxylate resin according to claim 5 or 6, wherein the monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group is (meth) acrylic acid. 請求項5に記載のジカルボキシレート樹脂及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物。   A photosensitive resin composition comprising the dicarboxylate resin according to claim 5 and a photopolymerization initiator. 一般式(1)
Figure 0005222156

(式中nは0〜5の正数を表す)
で表されるエポキシ樹脂(a)に、エチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物(b)を反応させ、該エポキシ樹脂(a)のエポキシ基1当量に対して、該モノカルボン酸化合物(b)を0.8〜1当量を付加させることを特徴とするジカルボキシレート樹脂の製造方法。
General formula (1)
Figure 0005222156

(Where n represents a positive number from 0 to 5)
The monocarboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group is reacted with the epoxy resin (a) represented by the formula (1), and the monocarboxylic acid compound ( A method for producing a dicarboxylate resin, characterized in that 0.8 to 1 equivalent of b) is added.
反応を、不活性な有機溶媒及び触媒の存在下に、反応温度60℃〜150℃で行うことを特徴とする請求項10に記載のジカルボキシレート樹脂の製造方法。   The method for producing a dicarboxylate resin according to claim 10, wherein the reaction is performed at a reaction temperature of 60 ° C. to 150 ° C. in the presence of an inert organic solvent and a catalyst. 請求項5に記載のジカルボキシレート樹脂及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を光硬化させた硬化物。   Hardened | cured material which photocured the photosensitive resin composition containing the dicarboxylate resin of Claim 5, and a photoinitiator.
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