JP5219970B2 - Electromagnetic wave shielding material and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、一般に電磁波シールド材に関するものであり、より特定的には、寒暖差の大きい環境下で使用しても反りが生じないように改良された電磁波シールド材に関する。この発明はまた、そのような電磁波シールド材の製造方法に関するものである。   The present invention generally relates to an electromagnetic shielding material, and more particularly to an electromagnetic shielding material improved so as not to warp even when used in an environment with a large temperature difference. The present invention also relates to a method for producing such an electromagnetic shielding material.

従来、電磁波シールドの透明基材としては、金やITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電膜を透明樹脂や無機ガラスからなる窓部材の表面にコーティングし、有害な電磁波を遮断する技術が知られている。   Conventionally, as a transparent base material for electromagnetic shielding, a technique for shielding harmful electromagnetic waves by coating a transparent conductive film such as gold or ITO (indium tin oxide) on the surface of a window member made of transparent resin or inorganic glass is known. It has been.

しかしながら、窓部材に透明導電膜をコーティングする場合には、ムラなく均一にコーティングすることが困難であるという問題がある。また電磁波シールド性能を向上させるためには厚くコーティングする必要があるため、電磁波シールド性能を向上させると透明性が低下し、透明性と電磁波シールド性能を両立させることは困難であった。   However, when the transparent conductive film is coated on the window member, there is a problem that it is difficult to coat the window member uniformly. Moreover, since it is necessary to coat thickly in order to improve electromagnetic wave shielding performance, if electromagnetic wave shielding performance is improved, transparency will fall and it was difficult to make transparency and electromagnetic wave shielding performance compatible.

そこで、特許文献1では、透明な窓部材の表面に、導電性材料からなる薄膜を形成し、該薄膜を処理してメッシュ形状に形成し、電磁波シールド性を有する窓を製造する方法を開示している。この方法によれば、後工程でフォトエッチング法により微細なメッシュを形成することから、透明導電膜をコーティングする場合のように、コーティング後のムラ等の不均一性もなく透明性を大きく低下させずに、均一な密度のメッシュ形状に形成するし電磁波シールド性を付与することができる。   Therefore, Patent Document 1 discloses a method of manufacturing a window having electromagnetic wave shielding properties by forming a thin film made of a conductive material on the surface of a transparent window member and processing the thin film to form a mesh shape. ing. According to this method, since a fine mesh is formed by a photoetching method in a later step, the transparency is greatly reduced without unevenness such as unevenness after coating as in the case of coating a transparent conductive film. In addition, it can be formed in a mesh shape with a uniform density and impart electromagnetic wave shielding properties.

特開2005−104310号公報JP-A-2005-104310

しかし、透明な窓部材の表面に形成された導電性材料からなるメッシュ形状の薄膜は、風、雪、雨に曝された場合、また飛行中の圧力や外気温の大きな変動などにより、破断などの損傷を受ける可能性があり、耐久性、耐候性の面において課題があった。このような場合に、後述するプラズマディスプレイパネルに用いる従来の電磁波シールド材を応用することも考えられるが、寒暖差の大きい屋外の環境下でたとえば窓ガラスに取り付けると、張り合わされた部材の線膨張率の差が影響し、反りが発生するという問題点があった。特に温度変化の激しい、自動車用の窓、軍事用の車両の窓やディスプレイ、軍事用のジェット機や民間航空機の窓材料では反りが顕著である。   However, a mesh-shaped thin film made of a conductive material formed on the surface of a transparent window member breaks down when exposed to wind, snow, rain, or due to large fluctuations in pressure or outside temperature during flight. There was a problem in terms of durability and weather resistance. In such a case, it is conceivable to apply a conventional electromagnetic shielding material used for a plasma display panel, which will be described later. However, when it is attached to, for example, a window glass in an outdoor environment with a large temperature difference, the linear expansion of the bonded members There was a problem that warping occurred due to the difference in rate. In particular, warpage is remarkable in window materials for automobile windows, military vehicle windows and displays, military jet planes, and commercial aircraft, which have a severe temperature change.

本発明は上記の問題点を解決するためになされたもので、寒暖差の大きい環境下で用いられても反りが生じないように改良された電磁波シールド材を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an improved electromagnetic shielding material that does not warp even when used in an environment with a large temperature difference.

本発明の他の目的は、透明樹脂フィルムに導電性パターンを印刷した電磁波シールドフィルムを透明支持基材に加熱加圧貼り合わせする際に、カールや変形が少ない、電磁波シールド材の製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a method for producing an electromagnetic wave shielding material that is less curled or deformed when an electromagnetic wave shielding film having a conductive pattern printed on a transparent resin film is bonded to a transparent support substrate by heating and pressing. There is to do.

本発明に係る電磁波シールド材は、透明樹脂フィルムと、上記透明樹脂フィルムの一方の面上に設けられた、導電性ペーストインキのにじみを防止するためのインキ受容層と、上記インキ受容層の上に設けられ、導電性ペーストインキの焼成によって形成された電磁波シールドメッシュ層と、上記電磁波シールドメッシュ層を間に挟むように、上記透明樹脂フィルムの上記一方の面上に貼り合わされた、上記透明樹脂フィルムと線膨張率の差が30ppm以内の線膨張率を有する透明支持基材とを備える。   The electromagnetic wave shielding material according to the present invention includes a transparent resin film, an ink receiving layer provided on one surface of the transparent resin film for preventing bleeding of the conductive paste ink, and an ink receiving layer on the ink receiving layer. The transparent resin bonded to the one surface of the transparent resin film so as to sandwich the electromagnetic wave shield mesh layer provided between the electromagnetic wave shield mesh layer and the electromagnetic wave shield mesh layer. A transparent support substrate having a linear expansion coefficient within 30 ppm is provided.

上記透明樹脂フィルムと透明支持基材との線膨張率の差が30ppm以内さらに好ましくは20ppm以下にあれば、寒暖差の大きい環境下で用いられる窓に使用する場合においても、反りが認められない。また、線膨張率の差が30ppm以内にあれば、透明樹脂フィルムに導電性パターンを印刷した電磁波シールドフィルムを透明支持基材に加熱加圧貼り合わせする際に、カールや変形が少ない。   If the difference in linear expansion coefficient between the transparent resin film and the transparent support substrate is within 30 ppm, more preferably 20 ppm or less, no warpage is observed even when used in a window used in an environment with a large temperature difference. . Moreover, if the difference in linear expansion coefficient is within 30 ppm, curling and deformation are less when an electromagnetic wave shielding film having a conductive pattern printed on a transparent resin film is bonded to a transparent support substrate by heating and pressing.

プラズマディスプレイパネルに用いる従来の電磁波シールド材では、透明支持基材にアクリル樹脂基材が用いられ、この透明支持基材に、その表面に電磁波シールドメッシュ層が形成されたPET透明樹脂フィルムを貼り合わせている。この場合、PETフィルムの線膨張率は30ppmであり、アクリル樹脂基材の線膨張率は65ppmであり、両者の差は大きい。しかし、民生用のテレビなどのように、寒暖差の小さい環境下で使用する分には、この程度の線膨張率差があっても、反りは生じない。   In conventional electromagnetic shielding materials used for plasma display panels, an acrylic resin substrate is used as the transparent support substrate, and a PET transparent resin film having an electromagnetic shielding mesh layer formed on the surface is bonded to the transparent support substrate. ing. In this case, the linear expansion coefficient of the PET film is 30 ppm, and the linear expansion coefficient of the acrylic resin base material is 65 ppm, and the difference between the two is large. However, warping does not occur even if there is such a difference in linear expansion coefficient when used in an environment where the temperature difference is small, such as a consumer television.

ところが、PETフィルムを使用した従来の電磁波シールド材をそのまま、寒暖差の大きい環境下で使用すると、例えば航空機の窓ガラスに取り付けると、線膨張率の差が影響し、反りが発生する。   However, when a conventional electromagnetic shielding material using a PET film is used as it is in an environment with a large temperature difference, for example, when it is attached to an aircraft window glass, a difference in linear expansion coefficient affects and warpage occurs.

そこで、本発明によれば、電磁波シールドメッシュ層を環状オレフィン系樹脂で形成された透明樹脂フィルムの面上に形成し、これをアクリル系樹脂等の透明支持基材に貼り付ける。環状オレフィン系樹脂フィルムの線膨張率は65ppmであり、アクリル樹脂の線膨張率は65ppmであるので、寒暖差の大きい環境下で用いられても反りは生じない。線膨張率の差は30ppm以内にあれば反りは生じないので、環状オレフィン系樹脂フィルムを貼り合せる透明支持基材を、ポリカーボネート系樹脂で形成することもできる。 Therefore, according to this onset bright, an electromagnetic wave shielding mesh layer formed on the surface of the transparent resin film formed with a cyclic olefin resin, paste it into a transparent supporting substrate such as an acrylic resin. Since the linear olefin-based resin film has a linear expansion coefficient of 65 ppm and the acrylic resin has a linear expansion coefficient of 65 ppm, no warpage occurs even when used in an environment with a large temperature difference. Since the warp does not occur if the difference in linear expansion coefficient is within 30 ppm, the transparent support substrate to which the cyclic olefin-based resin film is bonded can be formed of a polycarbonate-based resin.

一方、環状オレフィン系樹脂フィルム及びポリカーボネート系樹脂フィルムの表面は、濡れ性及び接着性に劣るという問題が生じたが、電磁波シールドメッシュ層を形成する側の面に、その表面の濡れ張力が、測定温度23℃で、450μN/cm以上となるように表面改質処理を行うと、そのような問題点が解消されるのが認められた。   On the other hand, the surface of the cyclic olefin-based resin film and the polycarbonate-based resin film had a problem of poor wettability and adhesiveness, but the wet tension of the surface was measured on the surface on which the electromagnetic wave shielding mesh layer was formed. It was recognized that such a problem was solved when the surface modification treatment was performed at a temperature of 23 ° C. so as to be 450 μN / cm or more.

上記透明樹脂フィルムの厚みは、20〜200μmであるのが好ましい。   The thickness of the transparent resin film is preferably 20 to 200 μm.

上記透明支持基材の膜厚は、1〜10mmであるのが好ましい。   The film thickness of the transparent support substrate is preferably 1 to 10 mm.

上記透明樹脂フィルムと上記透明支持基材とは透明な感圧性の粘着剤(PSA)、ホットメルト接着剤、1液硬化型接着剤、2液混合型接着剤で張り合わされる。   The transparent resin film and the transparent support substrate are bonded together with a transparent pressure-sensitive adhesive (PSA), a hot melt adhesive, a one-part curable adhesive, and a two-part mixed adhesive.

上記透明樹脂フィルムとして、その屈折率は1.49〜1.55であり、かつ光線透過率は93.0〜90.8%である環状オレフィン系樹脂フィルムを使用するのが好ましい。このように屈折率は及び光線透過率を選ぶことにより、窓の部分に用いる場合、透明度が低下しない。   As the transparent resin film, a cyclic olefin resin film having a refractive index of 1.49 to 1.55 and a light transmittance of 93.0 to 90.8% is preferably used. Thus, by selecting the refractive index and the light transmittance, the transparency is not lowered when used for the window portion.

上記環状オレフィン系樹脂として、化1に示すようなノルボルネンを開環重合して得られた樹脂、又は化2に示すようなノルボルネンとエチレンを共重合してなる樹脂を選ぶと、線膨張率、屈折率、光線透過率を上述の好ましい範囲にすることができる。式中、R1,R2は、置換基を表す。nは自然数である。X、Yは比率を表している。

Figure 0005219970
Figure 0005219970
As the cyclic olefin-based resin, a resin obtained by ring-opening polymerization of norbornene as shown in Chemical Formula 1 or a resin obtained by copolymerizing norbornene and ethylene as shown in Chemical Formula 2 is selected. The refractive index and light transmittance can be set within the above-described preferable ranges. In formula, R1, R2 represents a substituent. n is a natural number. X and Y represent ratios.
Figure 0005219970
Figure 0005219970

この発明の他の局面に従う電磁波シールド材の製造方法においては、まず、環状オレフィン系樹脂で形成された透明樹脂フィルムの一方の面に、その表面の濡れ張力が、測定温度23℃で、450μN/cm以上となるように表面改質処理する。上記透明樹脂フィルムの一方の面上に、導電性ペーストインキのにじみを防止するためのインキ受容層を形成する。上記インキ受容層の上に、導電性ペーストインキ層を形成し、これをメッシュ状にパターニングし、次いで焼成することによって電磁波シールドメッシュ層を形成する。上記電磁波シールドメッシュ層を間に挟むように、上記透明樹脂フィルムの一方の面上に、アクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂で形成された透明支持基材を貼り合わせる。   In the method for producing an electromagnetic wave shielding material according to another aspect of the present invention, first, the wet tension of the surface of one side of the transparent resin film formed of the cyclic olefin resin is 450 μN / cm at a measurement temperature of 23 ° C. Surface modification treatment is performed so as to be equal to or more than cm. An ink receiving layer for preventing bleeding of the conductive paste ink is formed on one surface of the transparent resin film. A conductive paste ink layer is formed on the ink receiving layer, patterned into a mesh shape, and then baked to form an electromagnetic wave shielding mesh layer. A transparent support substrate formed of an acrylic resin or a polycarbonate resin is bonded to one surface of the transparent resin film so as to sandwich the electromagnetic wave shielding mesh layer.

上記表面改質処理は、表面の濡れ張力が、測定温度23℃で、500μN/cm以上となるように行うのが好ましい。   The surface modification treatment is preferably performed so that the surface wetting tension is 500 μN / cm or more at a measurement temperature of 23 ° C.

本発明に係る電磁波シールド材によれば、透明樹脂フィルムと透明支持基材との線膨張率の差が30ppm以内であるので、寒暖差の大きい環境下で用いられる飛行機の窓に使用する場合においても、反りが認められない。また、透明樹脂フィルムに導電性パターンを印刷した電磁波シールドフィルムを透明支持基材に加熱加圧貼り合わせする際に、線膨張率の差が30ppm以内さらに好ましくは20ppm以下にあれば、カールや変形が少ない。   According to the electromagnetic wave shielding material according to the present invention, since the difference in linear expansion coefficient between the transparent resin film and the transparent support substrate is within 30 ppm, when used for an airplane window used in an environment with a large temperature difference. However, no warpage is recognized. In addition, when an electromagnetic wave shielding film having a conductive pattern printed on a transparent resin film is bonded to a transparent support substrate by heating and pressing, if the difference in linear expansion coefficient is within 30 ppm, more preferably 20 ppm or less, curling or deformation Less is.

本発明の実施例1に係る電磁波シールド材の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the electromagnetic wave shielding material which concerns on Example 1 of this invention. 電磁波シールドメッシュ層が形成された透明樹脂フィルムの平面図である。It is a top view of the transparent resin film in which the electromagnetic wave shielding mesh layer was formed. (A) 図2におけるIII−III線に沿う断面図である。 (B) 電磁波シールドメッシュ層部分の拡大図である。(A) It is sectional drawing which follows the III-III line in FIG. (B) It is an enlarged view of the electromagnetic wave shield mesh layer part. 電磁波シールド材を、例えば航空機の窓を構成する2枚のガラスの間に挟み込まれて使用された場合の概念図である。It is a conceptual diagram at the time of using the electromagnetic wave shielding material being inserted | pinched between two glass which comprises the window of an aircraft, for example. 本発明の実施例2に係る電磁波シールド材の製造方法を工程順に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding material which concerns on Example 2 of this invention in order of a process. 本発明の実施例3に係る航空機用窓材の斜視図(A)とその断面図(B)である。It is the perspective view (A) of the aircraft window material which concerns on Example 3 of this invention, and its sectional drawing (B).

寒暖差の大きい環境下で用いられても反りが生じないように改良された電磁波シールド材を得るという目的を、環状オレフィン系樹脂で形成された透明樹脂フィルムの一方の面に電磁波シールドメッシュ層を形成し、これをアクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂で形成された透明支持基材に貼り合せることによって実現した。以下、この発明の実施例を、図を用いて説明する。   For the purpose of obtaining an electromagnetic shielding material improved so as not to warp even when used in an environment with a large temperature difference, an electromagnetic shielding mesh layer is provided on one side of a transparent resin film formed of a cyclic olefin resin. This was realized by bonding it to a transparent support substrate formed of an acrylic resin or a polycarbonate resin. Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、本発明に係る電磁波シールド材の分解斜視図である。   FIG. 1 is an exploded perspective view of an electromagnetic wave shielding material according to the present invention.

電磁波シールド材1は、その一方の面上に電磁波シールドメッシュ層が形成された、環状オレフィン系樹脂で形成された透明樹脂フィルム2を備える。電磁波シールドメッシュ層を間に挟むように、透明樹脂フィルム2の一方の面上に、アクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂で形成された透明支持基材4が、ホットメルト接着剤3を用いて加熱加圧して貼り合わされている。加熱加圧条件は用いる材料の組み合わせで適宜最適条件を決めればよいが、一般的には100℃、18kg/cm2、1時間の条件が適している。 The electromagnetic wave shielding material 1 includes a transparent resin film 2 made of a cyclic olefin resin and having an electromagnetic wave shielding mesh layer formed on one surface thereof. A transparent support substrate 4 formed of an acrylic resin or a polycarbonate resin is heated on one surface of the transparent resin film 2 so as to sandwich the electromagnetic wave shielding mesh layer with a hot melt adhesive 3. It is pressed together. The optimum conditions for heating and pressurization may be determined as appropriate depending on the combination of materials used. In general, conditions of 100 ° C., 18 kg / cm 2 and 1 hour are suitable.

本実施例によれば、環状オレフィン系樹脂で形成された透明樹脂フィルムに導電性パターンを印刷した電磁波シールドフィルムを、アクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂で形成された透明支持基材に加熱加圧貼り合わせする際に、線膨張係数が合っているので、カールや変形が少ない。なお、環状オレフィン系樹脂の代わりにPET樹脂を用いると、PETフィルムの線膨張率は30ppmなので、アクリル樹脂の線膨張率65ppmとの差が35ppmになり、現象として反りが生じる。   According to this example, an electromagnetic wave shielding film obtained by printing a conductive pattern on a transparent resin film formed of a cyclic olefin resin is applied to a transparent support substrate formed of an acrylic resin or a polycarbonate resin by heat and pressure. When matching, the linear expansion coefficient matches, so there is little curling or deformation. In addition, when PET resin is used instead of cyclic olefin resin, since the linear expansion coefficient of PET film is 30 ppm, the difference from the linear expansion coefficient of 65 ppm of acrylic resin is 35 ppm, and warping occurs as a phenomenon.

透明支持基材4は、電磁波シールドフィルムに必要な強度や腰を付与するものである。なかでも、透明性、コスト、耐久性、耐熱性等の観点から総合的に判断すると、アクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂が好適である。   The transparent support substrate 4 provides strength and waist required for the electromagnetic wave shielding film. Among these, acrylic resin or polycarbonate resin is preferable from the viewpoint of transparency, cost, durability, heat resistance, and the like.

ここで透明支持基材4における透明性とは、航空機の窓用途に用いられ得る程度の透明性であれば特に限定されない。通常、JIS K7105で測定した全光線透過率が85から90%程度、及びJIS K7105で測定したヘイズ値が0.1〜3%程度であることを意味する。   Here, the transparency in the transparent support substrate 4 is not particularly limited as long as it is transparent enough to be used for aircraft windows. Usually, it means that the total light transmittance measured by JIS K7105 is about 85 to 90%, and the haze value measured by JIS K7105 is about 0.1 to 3%.

透明支持基材4の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は10μm、好ましい上限は300μmである。10μm未満であると、あまりに薄いため、折れやしわが発生するなど、加工工程での取扱い性に不具合が生じることがあり、300μmを超えると、あまりに厚いため、可とう性が低下して、基材フィルムを連続加工する際の障害となる。より好ましい下限は20μm、より好ましい上限は200μmである。   Although it does not specifically limit as thickness of the transparent support base material 4, A preferable minimum is 10 micrometers and a preferable upper limit is 300 micrometers. If the thickness is less than 10 μm, it may be too thin to cause folds or wrinkles, which may cause problems in handling in the processing process. If it exceeds 300 μm, the thickness is too thick and the flexibility is reduced. This is an obstacle to continuous processing of material films. A more preferable lower limit is 20 μm, and a more preferable upper limit is 200 μm.

図2は、電磁波シールドメッシュ層が形成された透明樹脂フィルム2の平面図であり、図3(A)は、図2におけるIII−III線に沿う断面図である。図3(B)は、電磁波シールドメッシュ層部分の拡大図である。   2 is a plan view of the transparent resin film 2 on which the electromagnetic wave shielding mesh layer is formed, and FIG. 3A is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. FIG. 3B is an enlarged view of the electromagnetic shielding mesh layer portion.

これらの図を参照して、透明樹脂フィルム2は、環状オレフィン系樹脂フィルム5を備える。環状オレフィン系樹脂フィルム5の一方の面に、フレーム処理、紫外線処理、コロナ処理、プラズマ処理、イトロ処理、プライマー処理、化学薬品処理などの表面改質処理が行われている。図中、×印でそれを表現している。この処理(×)により、その表面の濡れ性及び接着性が向上する。   With reference to these drawings, the transparent resin film 2 includes a cyclic olefin-based resin film 5. One surface of the cyclic olefin-based resin film 5 is subjected to surface modification treatment such as frame treatment, ultraviolet treatment, corona treatment, plasma treatment, itro treatment, primer treatment, and chemical treatment. In the figure, this is represented by a cross. This treatment (x) improves the wettability and adhesion of the surface.

表面改質処理後の環状オレフィン系樹脂フィルム5の一方の面に、導電性ペーストインキのにじみ(線太り)を防止するためのインキ受容層6(厚み1μm)が設けられている。表面改質処理がなされているので、環状オレフィン系樹脂フィルム5とインキ受容層6との馴染みは優れる。上記インキ受容層6の上に、導電性ペーストインキの焼成によって形成された電磁波シールドメッシュ層7が設けられている。この焼成により熱がかかるが、環状オレフィン系樹脂フィルム5は耐熱性を有するので、変形などは生じない。   On one surface of the cyclic olefin-based resin film 5 after the surface modification treatment, an ink receiving layer 6 (thickness 1 μm) for preventing bleeding (line thickening) of the conductive paste ink is provided. Since the surface modification treatment is performed, the familiarity between the cyclic olefin resin film 5 and the ink receiving layer 6 is excellent. On the ink receiving layer 6, an electromagnetic wave shielding mesh layer 7 formed by baking conductive paste ink is provided. Although heat is applied by this firing, the cyclic olefin-based resin film 5 has heat resistance, so that deformation or the like does not occur.

電磁波シールドメッシュ層7は、導電性粉末とバインダーとからなる、例えば銀ペーストを用いてスクリーン印刷により、格子状に形成される。スクリーン印刷によれば、電磁波シールドメッシュ層7の傾斜角度θは、20°〜50°の範囲になる。   The electromagnetic shielding mesh layer 7 is formed in a lattice shape by screen printing using, for example, a silver paste made of conductive powder and a binder. According to screen printing, the inclination angle θ of the electromagnetic wave shielding mesh layer 7 is in the range of 20 ° to 50 °.

図4を参照して、このように形成された電磁波シールド材1は、例えば航空機の窓を構成する2枚のガラス8,8の間に挟み込まれて使用される。本実施例によれば、電磁波シールド材1を構成する環状オレフィン系樹脂フィルムの線膨張率は65ppmであり、透明支持基材であるアクリル樹脂の線膨張率は65ppmであるので、寒暖差の大きい環境下で用いられても反りは生じない。電磁波シールド材1を2枚のガラス8,8の間に挟み込むという構成により、窓が、風、雪、雨に曝された場合でも、また飛行中の圧力や外気温の大きな変動を受けても、電磁波シールド材1は、破断などの損傷を受けず、耐久性、耐候性に優れる。   Referring to FIG. 4, electromagnetic wave shielding material 1 formed in this way is used by being sandwiched between, for example, two sheets of glass 8 and 8 constituting an aircraft window. According to this example, the linear olefin resin film constituting the electromagnetic wave shielding material 1 has a linear expansion coefficient of 65 ppm, and the linear expansion coefficient of the acrylic resin that is the transparent support base material is 65 ppm. Even when used in an environment, no warping occurs. The structure in which the electromagnetic shielding material 1 is sandwiched between the two glasses 8 and 8 allows the window to be exposed to wind, snow, and rain, and to receive large fluctuations in pressure and outside temperature during flight. The electromagnetic shielding material 1 is excellent in durability and weather resistance without being damaged such as breaking.

図5を参照して、電磁波シールド材の製造方法について説明する。   With reference to FIG. 5, the manufacturing method of an electromagnetic wave shielding material is demonstrated.

図5(A)を参照して、まず、環状オレフィン系樹脂で形成された透明樹脂フィルム5を準備する。図5(B)を参照して、透明樹脂フィルム5の一方の面に、その表面の濡れ張力が、測定温度23℃で、450μN/cm以上となるように表面改質処理する(×印が表面改質の結果を表している)。   With reference to FIG. 5 (A), first, a transparent resin film 5 formed of a cyclic olefin-based resin is prepared. Referring to FIG. 5B, surface modification treatment is performed on one surface of the transparent resin film 5 so that the wetting tension of the surface becomes 450 μN / cm or more at a measurement temperature of 23 ° C. Represents the result of surface modification).

図5(C)を参照して、透明樹脂フィルム5の一方の面上に、導電性ペーストインキのにじみを防止するためのインキ受容層6を形成する。   Referring to FIG. 5C, an ink receiving layer 6 for preventing bleeding of the conductive paste ink is formed on one surface of the transparent resin film 5.

図5(D)を参照して、インキ受容層6の上に、導電性ペーストインキ層をメッシュ状に形成し、次いで焼成することによって電磁波シールドメッシュ層7を形成する。これによって、その一方の面上に電磁波シールドメッシュ層が形成された、環状オレフィン系樹脂で形成された透明樹脂フィルムが完成する。   Referring to FIG. 5D, an electromagnetic wave shielding mesh layer 7 is formed by forming a conductive paste ink layer in a mesh shape on the ink receiving layer 6 and then baking it. As a result, a transparent resin film formed of a cyclic olefin-based resin having an electromagnetic shielding mesh layer formed on one surface thereof is completed.

図5(E)を参照して、電磁波シールドメッシュ層7を間に挟むように、透明樹脂フィルム5の一方の面上に、ホットメルト接着剤3を用いて、加熱加圧して、アクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂で形成された透明支持基材4を貼り合わせる。これにより、電磁波シールド材1が完成する。透明樹脂フィルムに導電性パターンを印刷した電磁波シールドフィルムを透明支持基材に加熱加圧貼り合わせする際に、線膨張率を合わせているので、カールや変形が少ない。   Referring to FIG. 5 (E), the acrylic resin is heated and pressurized using hot melt adhesive 3 on one surface of transparent resin film 5 so as to sandwich electromagnetic wave shielding mesh layer 7 therebetween. Or the transparent support base material 4 formed with the polycarbonate-type resin is bonded together. Thereby, the electromagnetic wave shielding material 1 is completed. When the electromagnetic shielding film having a conductive pattern printed on the transparent resin film is bonded to the transparent support substrate by heating and pressing, the linear expansion coefficient is matched, so curling and deformation are small.

以下、本発明の主要要素である、表面改質処理がなされた環状オレフィン系樹脂フィルム5の製造にあたって留意すべき点について説明する。   Hereinafter, points to be noted in manufacturing the cyclic olefin-based resin film 5 subjected to the surface modification treatment, which is a main element of the present invention, will be described.

(環状オレフィン系樹脂)
環状オレフィン系樹脂として具体的には、(a)環状オレフィンの開環(共)重合体を必要に応じ水素添加した重合体、(b)環状オレフィンの付加(共)重合体、(c)環状オレフィンとエチレン、プロピレン等のα−オレフィンとのランダム共重合体、(d)上記(a)〜(c)を不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト変性体等が例示できる。環状オレフィンとしては特に限定するものでなく、例えばノルボルネン、テトラシクロドデセンや、それらの誘導体(例えば、カルボキシル基やエステル基を有するもの)が例示できる。
(Cyclic olefin resin)
Specifically, as the cyclic olefin resin, (a) a polymer obtained by hydrogenating a ring-opened (co) polymer of cyclic olefin as necessary, (b) an addition (co) polymer of cyclic olefin, (c) cyclic Examples thereof include random copolymers of olefins and α-olefins such as ethylene and propylene, and (d) graft modified products obtained by modifying the above (a) to (c) with unsaturated carboxylic acids or derivatives thereof. The cyclic olefin is not particularly limited, and examples thereof include norbornene, tetracyclododecene, and derivatives thereof (for example, those having a carboxyl group or an ester group).

環状オレフィン系樹脂としては、市販品を使用することができる。市販品としては、例えば、日本ゼオン社製、商品名「ZEONOR(登録商標)」、「ZEONEX(登録商標)」、JSR社製、商品名「ARTON(登録商標)」、三井化学社製、商品名「APEL(登録商標)」、TOPAS Advanced Polymers社製、商品名「TOPAS(登録商標)」等を挙げることができる。   A commercial item can be used as cyclic olefin resin. Examples of commercially available products include those manufactured by ZEON Corporation, trade names “ZEONOR (registered trademark)”, “ZEONEX (registered trademark)”, manufactured by JSR Corporation, trade names “ARTON (registered trademark)”, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. The name “APEL (registered trademark)”, a product name “TOPAS (registered trademark)” manufactured by TOPAS Advanced Polymers, and the like can be given.

本発明で使用する環状オレフィン系樹脂の吸水率(23℃/24時間)は、通常、0.005〜0.1%であるのが好ましい。吸水率が、0.1%を超えると、得られる基板のガスバリア性が低下する傾向にある。   The water absorption (23 ° C./24 hours) of the cyclic olefin resin used in the present invention is usually preferably 0.005 to 0.1%. When the water absorption exceeds 0.1%, the gas barrier property of the obtained substrate tends to be lowered.

本発明で使用する環状オレフィン系樹脂の屈折率は1.49〜1.55であり、光線透過率は、93.0〜90.8%であるのが好ましい。   The cyclic olefin resin used in the present invention preferably has a refractive index of 1.49 to 1.55 and a light transmittance of 93.0 to 90.8%.

環状オレフィン系樹脂には紫外線吸収剤、無機や有機のアンチブロッキング剤、滑材、静電気防止剤、安定剤等各種公知の添加剤を合目的に添加してもよい。   Various known additives such as an ultraviolet absorber, an inorganic or organic antiblocking agent, a lubricant, an antistatic agent, and a stabilizer may be added to the cyclic olefin resin for a proper purpose.

(フィルムの製造方法)
環状オレフィン系樹脂からフィルムを得る方法は特に限定なく、例えば溶液流延法、押出し法、カレンダー法等が例示できる。
(Film production method)
The method for obtaining a film from the cyclic olefin-based resin is not particularly limited, and examples thereof include a solution casting method, an extrusion method, and a calendar method.

(表面処理)
環状オレフィン系樹脂フィルム5の一方の面に、その表面の濡れ性及び接着性を向上させるために、フレーム処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、イトロ処理、プライマー処理、化学薬品処理などの表面改質処理が行われている。コロナ放電処理及び紫外線照射処理は、空気中、窒素ガス中、希ガス中等で行うことができる。このような表面改質処理によって、環状オレフィン系樹脂フィルムの表面の濡れ張力を、測定温度23℃で、450μN/cm以上となるように、より好ましくは500μN/cmとなるようにすることができる。
(surface treatment)
In order to improve the wettability and adhesion of the surface of the cyclic olefin-based resin film 5, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, intro treatment, primer treatment, chemical treatment, etc. Surface modification treatment is performed. The corona discharge treatment and the ultraviolet irradiation treatment can be performed in air, nitrogen gas, rare gas, or the like. By such surface modification treatment, the wetting tension of the surface of the cyclic olefin resin film can be set to 450 μN / cm or more, more preferably 500 μN / cm at a measurement temperature of 23 ° C. .

(延伸)
環状オレフィン系樹脂フィルムを延伸することによって、リタデーションを制御する手法は特に限定はなく、例えばロール延伸法、テンタークリップ延伸法、圧延法等が例示できる。
(Stretching)
The method for controlling the retardation by stretching the cyclic olefin-based resin film is not particularly limited, and examples thereof include a roll stretching method, a tenter clip stretching method, and a rolling method.

(位相差に関して)   (Regarding phase difference)

環状オレフィン系樹脂フィルムを延伸加工してなる位相差フィルムを用いることで、より好適にLCD用途等にも使用可能である。位相差機能を付与する意味は、LCD用途の場合は光学補償である。また円偏光機能によりディスプレイの内部構造からの反射光を低減するため、従来は偏光板にさらに位相差フィルムを積層することでこの効果を得ていた。ディスプレイ基材フィルムに位相差機能を付与することで、薄型化とコストダウンが図られることになる。   By using a retardation film formed by stretching a cyclic olefin resin film, it can be more suitably used for LCD applications and the like. The meaning of imparting the phase difference function is optical compensation in the case of LCD applications. In addition, in order to reduce the reflected light from the internal structure of the display by the circular polarization function, conventionally, this effect has been obtained by further laminating a retardation film on the polarizing plate. By providing a retardation function to the display substrate film, thickness reduction and cost reduction are achieved.

(具体的実施例)   (Specific examples)

1) ノルボルネンとエチレンとの共重合体(TOPAS Advanced Polymers社製、Topas6017、ガラス転移点180℃)を溶融成形Tダイ法にて、樹脂温度270℃、引き取りロール温度140℃の条件下で、厚さ200μmのフィルムを製膜した。得られたフィルムの両面を、空気中で、処理強度100W/m2・分でコロナ放電処理することにより、濡れ張力を500μN/cm(23℃)とした。 1) A copolymer of norbornene and ethylene (TOPAS Advanced Polymers, Topas 6017, glass transition point 180 ° C.) is melt-molded by a T-die method under conditions of a resin temperature of 270 ° C. and a take-up roll temperature of 140 ° C. A film having a thickness of 200 μm was formed. Both surfaces of the obtained film were subjected to corona discharge treatment in air at a treatment strength of 100 W / m 2 · min, so that the wetting tension was 500 μN / cm (23 ° C.).

2) 環状オレフィン系樹脂(日本ゼオン株式会社製 ZEONOR1600R)を溶融成形Tダイ法にて、樹脂温度250℃、引き取りロール温度110℃の条件下で、厚さ150μmのフィルムを製膜した。得られたフィルムの両面を空気中で処理強度100W/m2・分でコロナ放電処理することにより、濡れ張力を500μN/cm(23℃)とした。 2) A film having a thickness of 150 μm was formed from a cyclic olefin resin (ZEONOR1600R manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) by a melt molding T-die method under the conditions of a resin temperature of 250 ° C. and a take-up roll temperature of 110 ° C. Both surfaces of the obtained film were subjected to corona discharge treatment in air at a treatment strength of 100 W / m 2 · min, so that the wetting tension was 500 μN / cm (23 ° C.).

3) 流延溶液として環状オレフィン系樹脂(日本ゼオン株式会社製 ZEONEX 490K)30重量部をキシレン70重量部に溶解し、流延法により厚み100μmのフィルムを製膜した。得られたフィルムの両面を空気中で処理強度100W/m2・分でコロナ放電処理することにより、濡れ張力を500μN/cm(23℃)とした。 3) 30 parts by weight of a cyclic olefin-based resin (ZEONEX 490K, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was dissolved in 70 parts by weight of xylene as a casting solution, and a film having a thickness of 100 μm was formed by the casting method. Both surfaces of the obtained film were subjected to corona discharge treatment in air at a treatment strength of 100 W / m 2 · min, so that the wetting tension was 500 μN / cm (23 ° C.).

なお、上記実施の形態では、透明支持基材としてアクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂を例示したが、透明樹脂フィルムと透明支持基材の線膨張率の差が30ppm(3×10E−5/℃)以内となる組み合わせのものなら、いずれも使用できる。   In the above embodiment, an acrylic resin or a polycarbonate resin is exemplified as the transparent support substrate. However, the difference in linear expansion coefficient between the transparent resin film and the transparent support substrate is 30 ppm (3 × 10E-5 / ° C.). Any combination that is within the range can be used.

透明樹脂フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂フィルム、シリコーン系樹脂フィルム、ポリアリレート系樹脂フィルム、ポリエーテルスルホン系樹脂フィルム、ポリイミド系樹脂フィルム、ポリスチレン系樹脂フィルムから選ばれる。
シャルピー衝撃強さ(kJ/m2)、線膨張率(ppm)については、例えば環状ポリオレフィン系樹脂「Topas6017S−04」(TOPAS Advanced Polymers社製)は、それぞれ1.6kJ/m2、65ppmであり、PMMA(株式会社クラレ製 パラペットHR−L(光学・耐熱)は、1.4KJ/m2、70ppmであり、PC(ポリカーボネート)(帝人化成株式会社製 パンライトAD−5503(光学用))は、3kJ/m2、70ppmであり、PC(ポリカーボネート)(三菱ガス化学株式会社製 ユーピロンH−4000(disk))は、7kJ/m2、70ppmであり、PES(ポリエーテルスルホン)(BASFジャパン株式会社製 ウルトラゾーンE2010)は、6kJ/m2、55ppmである。
Transparent resin films include polyester resin films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cyclic olefin resin films, polycarbonate resin films, poly (meth) acrylate resin films, silicone resin films, and polyarylate resin films. , A polyethersulfone resin film, a polyimide resin film, and a polystyrene resin film.
As for Charpy impact strength (kJ / m 2 ) and linear expansion coefficient (ppm), for example, cyclic polyolefin resin “Topas6017S-04” (manufactured by TOPAS Advanced Polymers) is 1.6 kJ / m 2 and 65 ppm, respectively. , PMMA (Parapet HR-L (optical / heat resistant) manufactured by Kuraray Co., Ltd.) is 1.4 KJ / m 2 and 70 ppm, and PC (polycarbonate) (Panlite AD-5503 (optical) manufactured by Teijin Chemicals Limited) is 3 kJ / m 2 and 70 ppm, PC (polycarbonate) (Iupilon H-4000 (disk) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) is 7 kJ / m 2 and 70 ppm, and PES (polyether sulfone) (BASF Japan shares) company made Ultra zone E2010) is, 6kJ / m 2, 55p A m.

透明樹脂基材は、(メタ)アクリル酸エステル系樹脂基材、ポリカーボネート系樹脂基材、シリコーン系樹脂基材、ポリアリレート系樹脂基材、ポリスチレン系樹脂基材から選ばれる。透明樹脂基板をそのまま用いてもまた、延伸して用いてもよい。アクリル板を延伸加工することにより強化することによりさらに好適に用いることができる。   The transparent resin substrate is selected from a (meth) acrylic ester resin substrate, a polycarbonate resin substrate, a silicone resin substrate, a polyarylate resin substrate, and a polystyrene resin substrate. The transparent resin substrate may be used as it is or may be stretched. It can be used more suitably by strengthening the acrylic plate by stretching.

透明接着剤は、ホットメルト接着剤としてポリビニルブチラール系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、エチレン酢ビ系、ポリオレフィン系樹脂の、フィルムまたは溶液から選ばれる。感圧性の粘着剤として、水系粘着剤として、酢ビ系 、エチレン酢ビ系 、アクリル系 、スチレンアクリル系 、SBR等ラテックス系、溶剤系では酢ビ系、アクリル系 、スチレンアクリル系、無溶剤系 、エポキシ系 、ポリエステル系 、シアノアクリレート樹脂などを適宜利用できる。   The transparent adhesive is selected from a film or solution of a polyvinyl butyral resin, a urethane resin, an acrylic resin, an ethylene vinyl acetate resin, or a polyolefin resin as a hot melt adhesive. As pressure sensitive adhesive, water-based adhesive, vinyl acetate-based, ethylene vinyl acetate-based, acrylic-based, latex-based such as styrene-acrylic, SBR, solvent-based, vinyl acetate-based, acrylic-based, styrene-acrylic-based, solventless Epoxy-based, polyester-based, cyanoacrylate resins, and the like can be used as appropriate.

以下、航空機窓に応用する本発明の実施例について説明する。図6(A)に、例えばキャビン窓に用いられる航空機用窓材11を示す。航空機用窓材11は、平板形状が図示されているが、適用される位置に応じて曲面形状であってもよい。航空機用窓材11は、基板となる窓本体13と、窓本体13上に貼付されたフィルム15と、フィルム15上に形成された導電性メッシュ17とを備える。この航空機用窓材11は、導電性メッシュ17によって電磁波シールド性を有するとともに、視界確保のための光透過性を有しており、例えば、可視光線の透過率が90%程度とされる。   Hereinafter, an embodiment of the present invention applied to an aircraft window will be described. FIG. 6A shows an aircraft window member 11 used for, for example, a cabin window. The aircraft window member 11 has a flat plate shape, but may have a curved surface shape depending on the position to which it is applied. The aircraft window member 11 includes a window main body 13 serving as a substrate, a film 15 attached on the window main body 13, and a conductive mesh 17 formed on the film 15. The aircraft window member 11 has an electromagnetic wave shielding property due to the conductive mesh 17 and also has a light transmittance for securing a field of view. For example, the visible light transmittance is about 90%.

図6(B)に、航空機用窓材11の端部における部分断面図を示す。同図に示すように、窓本体13上に、接着層19を介して、導電性メッシュ17及びフィルム15がこの順で積層されている。窓本体13は、アクリル樹脂製、より具体的にはPMMA(メタクリル酸メチル樹脂)で形成されている。フィルム15は、環状オレフィン系樹脂で形成される。フィルム15の厚さは、例えば、125μmである。導電性メッシュ17は、格子状に形成されており、電磁シールド性および視界確保が両立される。環状オレフィン系樹脂で形成されたフィルム15とアクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂で形成された窓本体13とは、線膨張係数が合っているので、後述する加熱加圧貼り合わせする際に、カールや変形が少ない。   FIG. 6B shows a partial cross-sectional view at the end of the aircraft window member 11. As shown in the figure, a conductive mesh 17 and a film 15 are laminated in this order on the window main body 13 via an adhesive layer 19. The window main body 13 is made of acrylic resin, more specifically, PMMA (methyl methacrylate resin). The film 15 is formed of a cyclic olefin resin. The thickness of the film 15 is, for example, 125 μm. The conductive mesh 17 is formed in a lattice shape, and both electromagnetic shielding properties and ensuring visibility are compatible. Since the film 15 formed of the cyclic olefin resin and the window main body 13 formed of the acrylic resin or the polycarbonate resin have the same linear expansion coefficient, curling and Less deformation.

接着層19は、ウレタン系接着剤で形成されている。接着層19は、接着後に、フィルム15と導電性メッシュ17との間の空間まで進入し、導電性メッシュ17の導電材料の周りを覆うように直接接触する。上記構成の航空機用窓材11の製造は、実施例2に記載された方法で行い、導電性メッシュ17付きのフィルム15が得られる。そして、窓本体13上にシート状のウレタン系接着剤とされた接着層19を設置した後に、導電性メッシュ17が窓本体13に対向するようにしてフィルム15を貼付する。次に、オートクレーブを用いて、熱処理を行うことにより、接着層19を硬化させて窓本体13上にフィルム15を固定する。オートクレーブによる処理条件としては、温度が85〜95℃、圧力が1.03MPa、処理時間が1時間が好ましい。そして、オートクレーブから取り出して冷却することにより、航空機用窓材11が得られる。このように製造された航空機用窓材11は、後に窓枠等に組み付けられることにより、航空機用窓組立体が得られる。
今回開示された実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
The adhesive layer 19 is formed of a urethane adhesive. After bonding, the adhesive layer 19 enters the space between the film 15 and the conductive mesh 17 and directly contacts the conductive material of the conductive mesh 17 so as to cover the conductive material. The aircraft window member 11 having the above-described configuration is manufactured by the method described in Example 2, and the film 15 with the conductive mesh 17 is obtained. And after installing the adhesive layer 19 made into the sheet-like urethane adhesive on the window main body 13, the film 15 is stuck so that the electroconductive mesh 17 may oppose the window main body 13. FIG. Next, heat treatment is performed using an autoclave to cure the adhesive layer 19 and fix the film 15 on the window body 13. As processing conditions by the autoclave, a temperature of 85 to 95 ° C., a pressure of 1.03 MPa, and a processing time of 1 hour are preferable. And the window material 11 for aircrafts is obtained by taking out from an autoclave and cooling. The aircraft window member 11 manufactured in this way is assembled to a window frame or the like later to obtain an aircraft window assembly.
It should be understood that the embodiments disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明に係る電磁波シールド材は、寒暖差の大きい環境下で用いられても反りが生じない。   The electromagnetic wave shielding material according to the present invention does not warp even when used in an environment with a large temperature difference.

1 電磁波シールド材
2 透明樹脂フィルム
3 ホットメルト接着剤
4 透明支持基材
5 環状オレフィン系樹脂フィルム
6 インキ受容層
7 電磁波シールドメッシュ層
8 ガラス
11 航空機用窓材
13 窓本体
15 フィルム
17 導電性メッシュ
19 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electromagnetic shielding material 2 Transparent resin film 3 Hot melt adhesive 4 Transparent support base material 5 Cyclic olefin resin film 6 Ink receiving layer 7 Electromagnetic wave shielding mesh layer 8 Glass 11 Aircraft window material 13 Window body 15 Film 17 Conductive mesh 19 Adhesive layer

Claims (8)

透明樹脂フィルムと、
前記透明樹脂フィルムの一方の面上に設けられた、導電性ペーストのにじみを防止するためのインキ受容層と、
前記インキ受容層の上に設けられ、導電性ペーストインキの焼成によって形成された電磁波シールドメッシュ層と、
前記電磁波シールドメッシュ層を間に挟むように、前記透明樹脂フィルムの前記一方の面上に貼り合わされた、前記透明樹脂フィルムと線膨張率の差が30ppm以下の線膨張率を有する透明支持基材と、を備え、
前記透明樹脂フィルムは環状オレフィン系樹脂で形成され、
前記透明支持基材は、アクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂で形成された電磁波シールド材。
A transparent resin film,
An ink receiving layer provided on one surface of the transparent resin film for preventing bleeding of the conductive paste;
An electromagnetic wave shielding mesh layer provided on the ink receiving layer and formed by firing conductive paste ink;
A transparent support substrate having a linear expansion coefficient of 30 ppm or less, which is bonded to the one surface of the transparent resin film so that the electromagnetic wave shielding mesh layer is sandwiched between the transparent resin film and the linear expansion coefficient. And comprising
The transparent resin film is formed of a cyclic olefin resin,
The transparent support substrate is an electromagnetic wave shielding material formed of an acrylic resin or a polycarbonate resin .
前記透明樹脂フィルムの前記一方の面には、その表面の濡れ張力が、測定温度23℃で、450μN/cm以上となるように表面改質処理が行われ、その上に前記インキ受容層が形成されている請求項1に記載の電磁波シールド材。 The one surface of the transparent resin film is subjected to a surface modification treatment so that the wetting tension of the surface is 450 μN / cm or more at a measurement temperature of 23 ° C., and the ink receiving layer is formed thereon. The electromagnetic wave shielding material according to claim 1 . 前記透明樹脂フィルムの厚みが20〜200μmである請求項1又は2に記載の電磁波シールド材。 The electromagnetic wave shielding material according to claim 1, wherein the transparent resin film has a thickness of 20 to 200 μm. 前記透明支持基材の膜厚は、1〜10mmである請求項1〜のいずれか1項に記載の電磁波シールド材。 The thickness of the transparent supporting substrate, an electromagnetic wave shielding material according to any one of claims 1 to 3, which is 1 to 10 mm. 前記透明樹脂フィルムの屈折率は1.49〜1.55であり、光線透過率は93.0〜90.8%である、請求項1〜のいずれか1項に記載の電磁波シールド材。 The electromagnetic wave shielding material according to any one of claims 1 to 4 , wherein the transparent resin film has a refractive index of 1.49 to 1.55 and a light transmittance of 93.0 to 90.8%. 前記透明樹脂フィルムは、(a)環状オレフィンの開環(共)重合体を必要に応じ水素添加した重合体、(b)環状オレフィンの付加(共)重合体、(c)環状オレフィンとエチレン、プロピレン等α−オレフィンとのランダム共重合体、(d)前記(a)〜(c)を不飽和カルボン酸やその誘導体等で変性したグラフト変性体のいずれかで形成されている請求項に記載の電磁波シールド材。 The transparent resin film comprises (a) a polymer obtained by hydrogenating a ring-opening (co) polymer of a cyclic olefin as necessary, (b) an addition (co) polymer of a cyclic olefin, (c) a cyclic olefin and ethylene, random copolymers of propylene, such as α- olefins, in claim 5, which is formed in one of a graft-modified product modified with; (d) (a) ~ (c) is or unsaturated carboxylic acid derivatives thereof The electromagnetic wave shielding material as described. 環状オレフィン系樹脂で形成された透明樹脂フィルムの一方の面に、その表面の濡れ張力が、測定温度23℃で、450μN/cm以上となるように表面改質処理する工程と、
前記透明樹脂フィルムの一方の面上に、導電性ペーストインキのにじみを防止するためのインキ受容層を形成する工程と、
前記インキ受容層の上に、導電性ペーストインキ層を形成し、これをメッシュ状にパターニングし、次いで焼成することによって電磁波シールドメッシュ層を形成する工程と、
前記電磁波シールドメッシュ層を間に挟むように、前記透明樹脂フィルムの一方の面上に、アクリル系樹脂またはポリカーボネート系樹脂で形成された透明支持基材を貼り合わせる工程と、を備えた電磁波シールド材の製造方法。
A surface modification treatment on one surface of a transparent resin film formed of a cyclic olefin-based resin so that the wetting tension of the surface is 450 μN / cm or more at a measurement temperature of 23 ° C .;
Forming an ink receiving layer on one surface of the transparent resin film to prevent bleeding of the conductive paste ink;
Forming a conductive paste ink layer on the ink receiving layer, patterning it into a mesh, and then baking to form an electromagnetic shielding mesh layer; and
A step of laminating a transparent support substrate formed of an acrylic resin or a polycarbonate resin on one surface of the transparent resin film so as to sandwich the electromagnetic wave shielding mesh layer. Manufacturing method.
前記表面改質処理は、表面の濡れ張力が、測定温度23℃で、500μN/cm以上となるように行う請求項に記載の電磁波シールド材の製造方法。 The said surface modification process is a manufacturing method of the electromagnetic wave shielding material of Claim 7 performed so that the wetting tension | tensile_strength of a surface may be 500 microN / cm or more at the measurement temperature of 23 degreeC.
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