JP5192423B2 - Liquid crystal display element and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示素子(liquid Cristal Display; LCD)とその製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display (LCD) and a manufacturing method thereof.

フィルム状の偏光板を、液晶セルの外側に配置した液晶表示素子が多く製造されている。また、たとえば使用する光の波長の半分以下の周期で一方向に並んだ金属の細線(ワイヤー)で構成される、ワイヤーグリッド偏光子も公知である。ワイヤーグリッド偏光子を、液晶セルの内側に形成する液晶表示素子も知られている(たとえば、特許文献1参照)。特許文献1には、特に明所におけるコントラストの低下を防止するために、ワイヤーグリッド偏光子のワイヤーに平行な偏光(TE(Transverse Electric)偏光)成分を吸収する吸収層の形成に関する技術が記載されている。   Many liquid crystal display elements in which a film-like polarizing plate is disposed outside the liquid crystal cell are manufactured. For example, a wire grid polarizer composed of fine metal wires (wires) arranged in one direction with a period of half or less of the wavelength of light to be used is also known. A liquid crystal display element in which a wire grid polarizer is formed inside a liquid crystal cell is also known (see, for example, Patent Document 1). Patent Document 1 describes a technique related to the formation of an absorption layer that absorbs a polarized light (TE (Transverse Electric) polarized light) component parallel to the wire of a wire grid polarizer, in order to prevent a decrease in contrast particularly in a bright place. ing.

フィルム状の偏光板は、熱、湿度、光などに対する耐久性が低い。このため、液晶セルの外側に偏光板が配置された構成の液晶表示素子においては、液晶セルに問題がなくても、偏光板の劣化により、液晶表示素子の信頼性が低下する場合があった。   A film-like polarizing plate has low durability against heat, humidity, light, and the like. For this reason, in a liquid crystal display element having a configuration in which a polarizing plate is disposed outside the liquid crystal cell, the reliability of the liquid crystal display element may be reduced due to deterioration of the polarizing plate even if there is no problem with the liquid crystal cell. .

また、液晶表示素子には低温状況下で応答性が悪化するという問題もある。これに対しては、たとえばITO(Indium Tin Oxide)で形成される透明ヒータを外付けするなどの対応策が考えられる。しかし、大幅なコストアップ、液晶セルの光透過率の低下、液晶表示素子の厚さの増大等のデメリットが生じる。   In addition, the liquid crystal display element also has a problem that its responsiveness deteriorates under low temperature conditions. To cope with this, for example, countermeasures such as attaching a transparent heater formed of ITO (Indium Tin Oxide) can be considered. However, there are disadvantages such as a significant increase in cost, a decrease in the light transmittance of the liquid crystal cell, and an increase in the thickness of the liquid crystal display element.

更に、液晶表示素子には静電気により誤作動するという問題もある。静電気対策としては、偏光板上や液晶セルのガラス基板上に、透明導電膜をコーティングする方法が挙げられる。これも大幅なコストアップ、液晶セルの光透過率の低下等を招いてしまう。   Furthermore, the liquid crystal display element also has a problem that it malfunctions due to static electricity. As a countermeasure against static electricity, there is a method of coating a transparent conductive film on a polarizing plate or a glass substrate of a liquid crystal cell. This also leads to a significant increase in cost and a decrease in light transmittance of the liquid crystal cell.

特開2008−102416号公報JP 2008-102416 A

本発明の目的は、良好な表示を実現することのできる液晶表示素子を提供することである。   An object of the present invention is to provide a liquid crystal display element capable of realizing good display.

また、良好な表示を実現可能な液晶表示素子を低コストで製造することのできる製造方法を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of manufacturing a liquid crystal display element capable of realizing good display at a low cost.

本発明の一観点によれば、第1の透明基板と、前記第1の透明基板に対向配置された第2の透明基板であって、複数の金属線が平行に形成され、ワイヤーグリッド偏光子として機能する第1のパターンと、前記第1のパターンを電気的に接続する第2のパターンを備える金属膜が配置されている第2の透明基板と、前記第1の透明基板と前記第2の透明基板との間に挟持された液晶層と、前記第1の透明基板及び前記第2の透明基板に設けられた透明電極と、前記第1の透明基板もしくは前記第2の透明基板の前記透明電極と電気的に接続された第1の電気回路とを有し、前記金属膜は、前記第2の透明基板の、前記液晶層側に形成され、かつ、前記第2のパターンとは異なる位置で前記第1のパターンを電気的に接続する第3のパターンを備え、前記第2及び第3のパターンの端子部が、前記第2の透明基板の端部に形成され、更に、前記第2の透明基板の端部に形成された、前記第2及び第3のパターンの端子部間に接続され、前記第2及び第3のパターン間に電流を流すことのできる、前記第1の電気回路とは異なる第2の電気回路を備え、更に、複数の金属線が平行に形成され、ワイヤーグリッド偏光子として機能するパターンと、該パターンを電気的に接続するパターンとを備える金属膜が前記第1の透明基板に配置される液晶表示素子が提供される。
According to one aspect of the present invention, a first transparent substrate and a second transparent substrate disposed opposite to the first transparent substrate, wherein a plurality of metal lines are formed in parallel, and a wire grid polarizer A second transparent substrate on which a metal film having a first pattern that functions as a second pattern that electrically connects the first pattern is disposed, the first transparent substrate, and the second pattern A liquid crystal layer sandwiched between the transparent substrate, a transparent electrode provided on the first transparent substrate and the second transparent substrate, and the first transparent substrate or the second transparent substrate. possess a first electric circuit which is a transparent electrode and electrically connected to the metal film of the second transparent substrate, it is formed on the liquid crystal layer side, and different from the second pattern A third pattern electrically connecting the first pattern at a position; The terminal portions of the second and third patterns are formed at the end portions of the second transparent substrate, and are further formed at the end portions of the second transparent substrate. A second electric circuit different from the first electric circuit, which is connected between the terminal portions of the pattern and can flow current between the second and third patterns, and further includes a plurality of metal wires Are provided in parallel, and a liquid crystal display element is provided in which a metal film including a pattern that functions as a wire grid polarizer and a pattern that electrically connects the pattern is disposed on the first transparent substrate .

本発明によれば、良好な表示を実現可能な液晶表示素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the liquid crystal display element which can implement | achieve favorable display can be provided.

また、良好な表示を実現可能な液晶表示素子を低コストで製造することのできる製造方法を提供することができる。   In addition, it is possible to provide a manufacturing method capable of manufacturing a liquid crystal display element capable of realizing good display at low cost.

第1の実施例による液晶表示素子の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the liquid crystal display element by a 1st Example. フォトマスクのパターンを示す概略的な平面図である。It is a schematic top view which shows the pattern of a photomask. 偏光膜付基板の光透過率の測定結果を示すグラフである。It is a graph which shows the measurement result of the light transmittance of a board | substrate with a polarizing film. と、When, (A)及び(B)は、偏光膜付基板と一般的な偏光フィルムとを貼り合わせた場合の光透過率の角度依存性を示すグラフであり、(C)及び(D)は、一般的な偏光フィルム2枚を重ねた場合のそれを示すグラフである。(A) And (B) is a graph which shows the angle dependence of the light transmittance at the time of bonding a board | substrate with a polarizing film, and a general polarizing film, (C) and (D) are general It is a graph which shows that at the time of piling up two polarizing films. (A)及び(B)は、それぞれ第1の実施例による液晶表示素子の概略的な断面図、及び平面図である。(A) And (B) is the schematic sectional drawing and top view of the liquid crystal display element by a 1st Example, respectively. (A)及び(B)は、第2の実施例による液晶表示素子の製造方法を説明するための図である。(A) And (B) is a figure for demonstrating the manufacturing method of the liquid crystal display element by a 2nd Example. 第2の実施例による液晶表示素子の概略的な断面図である。It is a schematic sectional drawing of the liquid crystal display element by a 2nd Example. 第3の実施例による液晶表示素子の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the liquid crystal display element by a 3rd Example. 第3の実施例による液晶表示素子の概略的な断面図である。It is a schematic sectional drawing of the liquid crystal display element by a 3rd Example.

図1は、第1の実施例による液晶表示素子の製造方法を示すフローチャートである。   FIG. 1 is a flowchart showing a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the first embodiment.

まず、偏光膜付基板(ワイヤーグリッド偏光子付基板)を作製する。偏光膜付基板は、ステップS101(金属スパッタ工程)及びステップS102(金属パターニング工程)を含む工程によって作製される。   First, a substrate with a polarizing film (a substrate with a wire grid polarizer) is produced. The substrate with a polarizing film is manufactured by a process including step S101 (metal sputtering process) and step S102 (metal patterning process).

ステップS101(金属スパッタ工程)においては、たとえば厚さ0.7mmtの洗浄したガラス基板上に、厚さ1000Åのモリブデン(Mo)膜をスパッタにて形成する。Mo膜の厚さは300Å以上であればよいが、薄いと光抜けが生じ、厚いとパターニング性が低下するため、500Å〜2000Åが適当である。なお、ガラス基板上の導電性膜は、Moに限らず、クロムやチタンなどの金属で形成することもできる。   In step S101 (metal sputtering step), for example, a molybdenum (Mo) film having a thickness of 1000 mm is formed by sputtering on a cleaned glass substrate having a thickness of 0.7 mm. The thickness of the Mo film may be 300 mm or more, but if it is thin, light leakage occurs, and if it is thick, the patterning property is lowered. Note that the conductive film on the glass substrate is not limited to Mo, and can be formed of a metal such as chromium or titanium.

ステップS102(金属パターニング工程)においては、Mo膜上に、ポジ型の高解像度フォトレジスト材料を1μmの厚さに、スピンコートでコーティングする。スピンコートに限らず、スリットコート、ロールコート、スピンコートとスリットコートの併用等により行ってもよい。レジスト膜の厚さは、0.1〜1.5μmが適当である。   In step S102 (metal patterning step), a positive type high-resolution photoresist material is coated on the Mo film to a thickness of 1 μm by spin coating. Not only spin coating but also slit coating, roll coating, combined use of spin coating and slit coating, and the like may be performed. The thickness of the resist film is suitably from 0.1 to 1.5 μm.

続いて、レジスト膜上に、フォトマスク(レチクル)を配置して露光を行う。   Subsequently, exposure is performed by placing a photomask (reticle) on the resist film.

図2は、フォトマスクのパターンを示す概略的な平面図である。マスクパターンは、図面左右方向を長さ方向とする、線状の透光領域と遮光領域とが交互に形成された線状パターン60c部分と、線状パターン60cの各端部を接続するベタパターン60d部分とを含む。線状の透光領域と遮光領域は、ともに幅0.1μm程度に形成されている。すなわち、線状パターン60cは、図面上下方向に0.2μmピッチで形成されている。なお、図示するマスクパターンは、8枚の偏光膜付基板を作製するためのマスクである。   FIG. 2 is a schematic plan view showing a photomask pattern. The mask pattern includes a linear pattern 60c portion in which linear light-transmitting areas and light-shielding areas are alternately formed, and a solid pattern that connects each end of the linear pattern 60c with the horizontal direction in the drawing as the length direction. 60d portion. Both the linear light transmitting region and the light shielding region are formed with a width of about 0.1 μm. That is, the linear patterns 60c are formed at a pitch of 0.2 μm in the vertical direction of the drawing. The illustrated mask pattern is a mask for manufacturing eight substrates with a polarizing film.

露光はレジストの感度に合わせて、たとえば80mJ/cmのフルエンスで行った。 The exposure was performed at a fluence of, for example, 80 mJ / cm 2 in accordance with the sensitivity of the resist.

露光後、プリベークを行い、現像を実施する。現像液として、KOHの無機アルカリ系水溶液を用いた。市販の現像液を使用することもできる。市販の現像液として、たとえばリソグラフィ用ポジ型レジストの現像に一般的に用いられる、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)が利用可能である。   After exposure, pre-baking is performed and development is performed. An inorganic alkaline aqueous solution of KOH was used as the developer. Commercially available developers can also be used. As a commercially available developer, for example, tetramethylammonium hydroxide (TMAH) generally used for developing a positive resist for lithography can be used.

なお、マスク(レチクル)の線状パターン60c部分は、レーザを利用した干渉露光系、またはマスクを利用した縮小露光系を用いて作製することができる。実施例においては、He−Cdレーザの光学干渉系でパターンを作製した。   The linear pattern 60c portion of the mask (reticle) can be manufactured using an interference exposure system using a laser or a reduced exposure system using a mask. In the example, a pattern was produced with an optical interference system of a He—Cd laser.

続いて、エッチングを、たとえばウェットエッチで行う。リン酸、硝酸、酢酸、水の混合液を、エッチャントとして用いた。エッチングは室温で行い、約10秒で完了した。   Subsequently, etching is performed by, for example, wet etching. A mixed solution of phosphoric acid, nitric acid, acetic acid and water was used as an etchant. Etching was performed at room temperature and was completed in about 10 seconds.

エッチングはドライエッチで行ってもよい。ガラス基板上の膜がモリブデンやチタンで形成されている場合、CF、C、C、C、C、C、C10、C、C14、CFCFOCF、CCFCFCF、CFBr、CFI、CI、SF、NF、WF、CCl、CCl、CFCl、CFCl、CFCl、CHF、CH、CHFCF、CHFCF、CHCHF、C、CHF、CFCHCF、CCHCH等を用いることができる。また、ガラス基板上の膜がクロムで形成されている場合、Cl、CCl、SiCl、BCl、PCl、CBrF、BBr、CClF、CCl、CClF、CCl、CClF、HCl、CHCl、CHCl、HBr等を用いることができる。 Etching may be performed by dry etching. When the film on the glass substrate is formed of molybdenum or titanium, CF 4 , C 2 F 4 , C 2 F 6 , C 3 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 8 , C 4 F 10 , C 5 F 8, C 6 F 14 , CF 3 CFOCF 2, C 6 F 5 CF 2 CFCF 2, CF 3 Br, CF 3 I, C 2 F 5 I, SF 6, NF 3, WF 6, C 2 F 5 Cl, C 2 F 4 Cl 2 , CF 3 Cl, CF 2 Cl 2, CFCl 3, CHF 3, CH 2 F 2, CHF 2 CF 3, CH 2 FCF 3, CH 3 CHF 2, C 2 H 3 F 3 C 3 HF 7 , CF 3 CH 2 CF 3 , C 6 F 5 CHCH 2, or the like can be used. Also, if the film on the glass substrate is formed by chromium, Cl 2, CCl 4, SiCl 4, BCl 3, PCl 3, CBrF 3, BBr 3, C 2 ClF 5, C 2 Cl 2 F 4, CClF 3 , CCl 2 F 2 , CCl 3 F, HCl, CH 2 Cl 2 , CHCl 3 , HBr, or the like can be used.

エッチングの後、NaOH水溶液を用いてレジストを除去した。有機系のリムーバやアッシングを使ってもよい。   After the etching, the resist was removed using an aqueous NaOH solution. Organic remover and ashing may be used.

こうして偏光膜付基板が完成した。図2は、8枚分の偏光膜(Mo膜)付基板の偏光膜パターンを示す図でもある。偏光膜付基板(ワイヤーグリッド偏光子付基板)は、ガラス基板と、その上にMoで形成された偏光膜を含む。偏光膜は、線状パターン60c部分と、線状パターン60c部分の各端部を接続するベタパターン60d部分とを含む。線状パターン60cの長さ方向は図の左右方向であり、幅方向は図の上下方向である。線状パターン60cは、幅方向に0.2μmピッチで形成されている。また、線状パターン60cの各線の幅はほぼ0.1μmである。   Thus, a substrate with a polarizing film was completed. FIG. 2 is also a diagram showing a polarizing film pattern of a substrate with eight polarizing films (Mo film). A substrate with a polarizing film (substrate with a wire grid polarizer) includes a glass substrate and a polarizing film formed of Mo on the glass substrate. The polarizing film includes a linear pattern 60c portion and a solid pattern 60d portion connecting each end of the linear pattern 60c portion. The length direction of the linear pattern 60c is the left-right direction in the figure, and the width direction is the up-down direction in the figure. The linear patterns 60c are formed at a pitch of 0.2 μm in the width direction. The width of each line of the linear pattern 60c is approximately 0.1 μm.

なお、線状パターン60c部分は、製造された液晶表示素子の表示領域に対応して、少なくとも表示領域には配置され、ベタパターン60d部分は、表示領域外に配置される。   The linear pattern 60c portion is disposed at least in the display region corresponding to the display region of the manufactured liquid crystal display element, and the solid pattern 60d portion is disposed outside the display region.

本願発明者らは、作製した偏光膜付基板の光透過率を、基板法線方向より測定した。測定に当たっては、光源からの出射光に偏光成分が含まれている可能性を考慮し、偏光膜付基板を縦に置いたときと横に置いたとき(90°ずらし)のそれぞれの場合について、光透過率を測定し、その平均値を算出した。   The inventors of the present application measured the light transmittance of the produced polarizing film-coated substrate from the normal direction of the substrate. In the measurement, considering the possibility that the emitted light from the light source contains a polarization component, each of the cases where the polarizing film-coated substrate is placed vertically and placed horizontally (90 ° shifted), The light transmittance was measured and the average value was calculated.

図3は、偏光膜付基板の光透過率の測定結果を示すグラフである。グラフの横軸は、偏光膜付基板に入射する光の波長を単位「nm」で表し、縦軸は、光透過率を単位「%」で表す。光透過率は、偏光膜付基板と同厚(0.7mmt)のガラス基板を透過する場合を100%として表示した。白四角を結んだ曲線は、偏光膜付基板を横に置いたとき(横配置の場合)の、光の波長と透過率との関係を示す。白丸を結んだ曲線は、偏光膜付基板を縦に置いたとき(縦配置の場合)の両者の関係を示す。また、黒丸を結んだ曲線は、横配置の場合と縦配置の場合の平均を示す。作製した偏光膜付基板の光透過率は、黒丸を結んだ曲線で表されると考えられる。   FIG. 3 is a graph showing the measurement results of the light transmittance of the substrate with a polarizing film. The horizontal axis of the graph represents the wavelength of light incident on the polarizing film-coated substrate in the unit “nm”, and the vertical axis represents the light transmittance in the unit “%”. The light transmittance is shown as 100% when the light is transmitted through a glass substrate having the same thickness (0.7 mmt) as the polarizing film-coated substrate. The curve connecting the white squares shows the relationship between the wavelength of light and the transmittance when the polarizing film-coated substrate is placed sideways (in the case of a horizontal arrangement). The curve connecting the white circles shows the relationship between the two when the polarizing film-coated substrate is placed vertically (in the case of the vertical arrangement). Moreover, the curve which connected the black circle shows the average in the case of horizontal arrangement | positioning, and the case of vertical arrangement | positioning. The light transmittance of the produced polarizing film-coated substrate is considered to be represented by a curve connecting black circles.

グラフより、偏光膜付基板の光透過率は、波長によらず44%であると認められる。この値は、一般的な偏光フィルムの光透過率(同じ測定方法による測定で42%程度)よりも高い値であった。   From the graph, it is recognized that the light transmittance of the substrate with the polarizing film is 44% regardless of the wavelength. This value was higher than the light transmittance of a general polarizing film (about 42% as measured by the same measurement method).

次に、本願発明者らは、作製した偏光膜付基板の偏光度を調べるため、偏光膜付基板と一般的な偏光フィルムとを貼り合わせ、光透過率特性を測定した。   Next, in order to investigate the degree of polarization of the produced polarizing film-coated substrate, the inventors of the present application bonded the polarizing film-coated substrate and a general polarizing film, and measured the light transmittance characteristics.

図4(A)及び(B)は、偏光膜付基板と一般的な偏光フィルムとを貼り合わせた場合の光透過率の角度依存性を示すグラフであり、図4(C)及び(D)は、一般的な偏光フィルム2枚を重ねた場合のそれを示すグラフである。各グラフの横軸は、入射させる光の入射角を単位「°」で表し、縦軸は光透過率を単位「%」で表す。黒丸を結んだ曲線は、偏光膜付基板と一般的な偏光フィルム、または、一般的な偏光フィルム2枚を平行ニコルに配置したときの光透過率の入射角依存性を示し、黒四角を結んだ曲線はクロスニコルに配置したときのそれを示す。なお、図4(B)、図4(D)に示すのは、それぞれ図4(A)、図4(C)のクロスニコルの曲線を拡大した曲線である。   4 (A) and 4 (B) are graphs showing the angle dependency of light transmittance when a polarizing film-coated substrate and a general polarizing film are bonded together, and FIGS. 4 (C) and 4 (D). These are graphs showing that when two general polarizing films are stacked. The horizontal axis of each graph represents the incident angle of the incident light in the unit “°”, and the vertical axis represents the light transmittance in the unit “%”. The curve connecting the black circles shows the incident angle dependence of the light transmittance when a substrate with a polarizing film and a general polarizing film, or two general polarizing films are arranged in parallel Nicols, connecting black squares The curved line shows that when placed in crossed Nicols. 4B and 4D are curves obtained by enlarging the crossed Nicols curves of FIGS. 4A and 4C, respectively.

図4(A)と図4(C)とを比較対照する。平行ニコル配置時の光透過率は、作製した偏光膜付基板を用いた場合(図4(A))が高く、好ましいことがわかる。平行ニコル配置時の光透過率の入射角依存性(曲線のカーブの具合)は、図4(A)と図4(C)とに示す各場合で大きな差はない。   FIG. 4A and FIG. 4C are compared and contrasted. It can be seen that the light transmittance at the time of parallel Nicol arrangement is high when the produced polarizing film-coated substrate is used (FIG. 4A), which is preferable. The incident angle dependence of the light transmittance when the parallel Nicols are arranged (the degree of the curve) is not significantly different between the cases shown in FIGS. 4 (A) and 4 (C).

図4(B)と図4(D)とを比較対照する。クロスニコル配置時の光透過率(光抜け)は、作製した偏光膜付基板を用いた場合(図4(B))が高い。ただ、この点は条件を最適化することにより、克服できる可能性がある。また、偏光膜付基板を用いた場合(図4(B))においては、光の入射角が60°以上のとき、光抜けが顕著である。作製した偏光膜付基板を偏光板として使用する場合には、表示領域への光の入射角が60°以上とならないように、バックライトの指向性を高くするなどの工夫をすることが望ましいであろう。   FIG. 4B and FIG. 4D are compared and contrasted. The light transmittance (light omission) at the time of crossed Nicol arrangement is high when the produced substrate with a polarizing film is used (FIG. 4B). However, this point may be overcome by optimizing the conditions. In the case of using a substrate with a polarizing film (FIG. 4B), light leakage is remarkable when the incident angle of light is 60 ° or more. When the produced polarizing film-coated substrate is used as a polarizing plate, it is desirable to devise measures such as increasing the directivity of the backlight so that the incident angle of light to the display region does not exceed 60 °. I will.

再び、図1を参照する。偏光膜付基板の作製終了前、または後、もしくは作製と並行して、セグメント基板とコモン基板とを作製する。   Reference is again made to FIG. A segment substrate and a common substrate are manufactured before, after, or in parallel with the manufacturing of the polarizing film-coated substrate.

ステップS103及びS104において、2枚の透明基板、たとえば厚さ0.7mmtのガラス基板上に、たとえばITOで透明電極を形成する。透明電極は、ガラス基板上に蒸着またはスパッタで形成したITO膜を、フォトリソ工程で所望のITOパターンにエッチングすることで形成する。セグメント電極を形成した基板をセグメント基板、コモン電極を形成した基板をコモン基板と呼ぶ。   In steps S103 and S104, a transparent electrode is formed of, for example, ITO on two transparent substrates, for example, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm. The transparent electrode is formed by etching an ITO film formed by vapor deposition or sputtering on a glass substrate into a desired ITO pattern by a photolithography process. The substrate on which the segment electrode is formed is called a segment substrate, and the substrate on which the common electrode is formed is called a common substrate.

セグメント基板には、TFT(Thin Film Transistor)マトリクスを形成してもよい。コモン基板にはカラーフィルタ(Color Filter; CF)パターンを形成することができる。   A TFT (Thin Film Transistor) matrix may be formed on the segment substrate. A color filter (CF) pattern can be formed on the common substrate.

なお、偏光膜付基板の偏光膜形成面とは異なる面に、セグメント基板のITOパターンと同様のパターンを作製してもよい。その場合、偏光膜の表面を、保護フィルムの貼付、コーティング膜の形成等で保護することが望ましい。また、偏光膜付基板の偏光膜形成面とは異なる面に、コモン基板のCFパターンと同様のパターンを作製することも可能である。   In addition, you may produce the same pattern as the ITO pattern of a segment board | substrate in the surface different from the polarizing film formation surface of a board | substrate with a polarizing film. In that case, it is desirable to protect the surface of the polarizing film by attaching a protective film, forming a coating film, or the like. Moreover, it is also possible to produce a pattern similar to the CF pattern of the common substrate on a surface different from the polarizing film forming surface of the substrate with the polarizing film.

ITOパターンの形成されたセグメント基板、及びコモン基板上に、たとえばフレキソ印刷で絶縁膜を形成する。また、絶縁膜上に、たとえば絶縁膜とほぼ同じパターンに垂直配向膜を形成する。配向膜には、たとえばラビングにより配向処理を施す。ラビング処理は、たとえば上下基板間の配向状態がアンチパラレル(反平行)となるように行う。   An insulating film is formed by, for example, flexographic printing on the segment substrate on which the ITO pattern is formed and the common substrate. Further, a vertical alignment film is formed on the insulating film in, for example, a pattern substantially the same as the insulating film. The alignment film is subjected to an alignment process, for example, by rubbing. The rubbing process is performed, for example, so that the alignment state between the upper and lower substrates is antiparallel (antiparallel).

ステップS103及びS104の工程によって、パターニングされたITO電極、絶縁膜、配向処理の施された配向膜が、この順に形成されたセグメント基板及びコモン基板を得る。   Through the processes of steps S103 and S104, a segment substrate and a common substrate in which the patterned ITO electrode, the insulating film, and the alignment film subjected to the alignment process are formed in this order are obtained.

ステップS105において、セル化を行う。一方の基板、たとえばセグメント基板にメインシールパターンを印刷し、他方の基板、たとえばコモン基板にギャップコントロール剤を散布する。あらかじめリブを形成した基板を用いてもよい。その後、セグメント基板とコモン基板との間に、たとえば誘電率異方性Δεが負の液晶材料を用いて液晶層を形成し、液晶セルを作製する。液晶層の形成は、真空注入法、液晶滴下注入法(One Drop Filling; ODF)のいずれを用いてもよい。   In step S105, cell conversion is performed. A main seal pattern is printed on one substrate, for example, a segment substrate, and a gap control agent is sprayed on the other substrate, for example, a common substrate. A substrate on which ribs are formed in advance may be used. Thereafter, a liquid crystal layer is formed between the segment substrate and the common substrate using, for example, a liquid crystal material having a negative dielectric anisotropy Δε to produce a liquid crystal cell. The liquid crystal layer may be formed by using either a vacuum injection method or a liquid crystal drop injection method (One Drop Filling; ODF).

ステップS106は重ね合わせ工程である。液晶セルのセグメント基板上に偏光膜付基板を、偏光膜(Mo膜)がセルに接触する向きに載置する。偏光膜付基板とセグメント基板との貼り付けは行わない。   Step S106 is a superposition process. A substrate with a polarizing film is placed on the segment substrate of the liquid crystal cell in a direction in which the polarizing film (Mo film) contacts the cell. The substrate with the polarizing film and the segment substrate are not attached.

また、ステップS107において、コモン基板上にダイクロイックフィルムタイプの偏光板を貼り付ける。セグメント基板側の偏光膜と、コモン基板側の偏光板とは、偏光軸が相互に直交するように(クロスニコルに)、かつ、偏光軸がラビング方向に対し45°の角度をなすように配置する。   In step S107, a dichroic film type polarizing plate is attached to the common substrate. The polarizing film on the segment substrate side and the polarizing plate on the common substrate side are arranged so that the polarization axes are orthogonal to each other (crossed Nicols) and the polarization axis forms an angle of 45 ° with the rubbing direction. To do.

ステップS108においては、液晶セルの端子部と駆動回路とをフレキシブルプリント基板(Flexible Printed Circuit; FPC)で接続する。また、偏光膜付基板のベタパターン60d部分の端子部とDC回路とを、ハーネスで接続する。   In step S108, the terminal part of the liquid crystal cell and the drive circuit are connected by a flexible printed circuit (FPC). Further, the terminal part of the solid pattern 60d portion of the polarizing film-coated substrate and the DC circuit are connected by a harness.

図5(A)及び(B)は、それぞれ第1の実施例による液晶表示素子の概略的な断面図、及び平面図である。   5A and 5B are a schematic cross-sectional view and a plan view, respectively, of the liquid crystal display element according to the first embodiment.

図5(A)を参照する。第1の実施例による液晶表示素子は、相互に平行に対向配置されたコモン基板20、セグメント基板30、両基板20、30間に挟持された垂直配向液晶層40、及び、偏光膜付基板60を含んで構成される。   Reference is made to FIG. The liquid crystal display device according to the first embodiment includes a common substrate 20, a segment substrate 30, a vertically aligned liquid crystal layer 40 sandwiched between both substrates 20, 30, and a substrate 60 with a polarizing film. It is comprised including.

コモン基板20は、透明基板21、透明基板21上に形成された透明電極(コモン電極)22、透明電極22上に形成された絶縁膜23、及び絶縁膜23上に形成された配向膜24を含む。同様に、セグメント基板30は、透明基板31、透明基板31上に形成された透明電極(セグメント電極)32、透明電極32上に形成された絶縁膜33、及び絶縁膜33上に形成された配向膜34を含む。   The common substrate 20 includes a transparent substrate 21, a transparent electrode (common electrode) 22 formed on the transparent substrate 21, an insulating film 23 formed on the transparent electrode 22, and an alignment film 24 formed on the insulating film 23. Including. Similarly, the segment substrate 30 includes a transparent substrate 31, a transparent electrode (segment electrode) 32 formed on the transparent substrate 31, an insulating film 33 formed on the transparent electrode 32, and an orientation formed on the insulating film 33. A membrane 34 is included.

透明基板21、31は、たとえばガラス基板である。また、透明電極22、32はたとえばITOで形成される。配向膜24、34には、たとえばラビングにより、アンチパラレルに配向処理が施されている。   The transparent substrates 21 and 31 are, for example, glass substrates. The transparent electrodes 22 and 32 are made of, for example, ITO. The alignment films 24 and 34 are subjected to an anti-parallel alignment process, for example, by rubbing.

液晶層40は、垂直配向する液晶層である。フレキシブルプリント基板70を介して、透明電極(セグメント電極)32の端子部32aと電気的に接続された駆動回路71によって、液晶層40に電圧が印加される。   The liquid crystal layer 40 is a vertically aligned liquid crystal layer. A voltage is applied to the liquid crystal layer 40 by the drive circuit 71 electrically connected to the terminal portion 32a of the transparent electrode (segment electrode) 32 via the flexible printed circuit board 70.

透明基板20、30の液晶層40と反対側の面には、それぞれ偏光板50、偏光膜付基板60が配置される。偏光板50と偏光膜付基板60とは、偏光板50の偏光軸と、偏光膜付基板60のそれとが相互に直交するように(クロスニコルに)、かつ、偏光軸が、基板20、30のラビング方向に対し45°の角度をなすように配置される。   A polarizing plate 50 and a polarizing film-coated substrate 60 are disposed on the surface of the transparent substrates 20 and 30 opposite to the liquid crystal layer 40, respectively. The polarizing plate 50 and the substrate 60 with a polarizing film are formed such that the polarizing axis of the polarizing plate 50 and that of the substrate 60 with a polarizing film are orthogonal to each other (in a crossed nicols), and the polarizing axes are the substrates 20 and 30. It is arranged so as to form an angle of 45 ° with respect to the rubbing direction.

偏光板50は、ダイクロイックフィルムタイプの偏光板であり、コモン基板20の透明基板21に貼り付けられている。   The polarizing plate 50 is a dichroic film type polarizing plate and is attached to the transparent substrate 21 of the common substrate 20.

偏光膜付基板60は、たとえばガラスで形成された透明基板60b、及び透明基板60b上にMoで形成された偏光膜60aを含んで構成される。偏光膜付基板60は、偏光膜60aがセグメント基板30と接するように、セグメント基板30上に載置される。偏光膜付基板60とセグメント基板30とは貼り付けられていない。DC回路72が、偏光膜付基板60の偏光膜60aに、ハーネスで電気的に接続されている。   The polarizing film-coated substrate 60 includes a transparent substrate 60b made of glass, for example, and a polarizing film 60a made of Mo on the transparent substrate 60b. The substrate 60 with a polarizing film is placed on the segment substrate 30 so that the polarizing film 60 a is in contact with the segment substrate 30. The polarizing film-coated substrate 60 and the segment substrate 30 are not attached to each other. The DC circuit 72 is electrically connected to the polarizing film 60a of the polarizing film-coated substrate 60 with a harness.

バックライト80は、液晶セルの偏光膜付基板60側に配置される。バックライト80から出射する光は、60°未満の入射角で液晶セルの表示領域へ入射する。   The backlight 80 is disposed on the polarizing film-coated substrate 60 side of the liquid crystal cell. The light emitted from the backlight 80 enters the display area of the liquid crystal cell at an incident angle of less than 60 °.

液晶セルとバックライト80との間に金属偏光膜60aがあるため、バックライト80を出射した光のうち、偏光膜60aを透過しない偏光成分は、偏光膜60a表面でバックライト80側に反射された後、偏光解消しながら再反射、再利用される。このため、第1の実施例による液晶表示素子は、高輝度で表示を行うことができる。   Since there is the metal polarizing film 60a between the liquid crystal cell and the backlight 80, the polarization component that does not pass through the polarizing film 60a out of the light emitted from the backlight 80 is reflected to the backlight 80 side on the surface of the polarizing film 60a. After that, it is re-reflected and reused while depolarizing. For this reason, the liquid crystal display element according to the first embodiment can perform display with high luminance.

図5(B)は、第1の実施例による液晶表示素子をバックライト80側から見た平面図である。   FIG. 5B is a plan view of the liquid crystal display element according to the first embodiment as viewed from the backlight 80 side.

偏光膜付基板60の偏光膜60aは、複数の細い金属線が平行に並ぶ線状パターン60c部分とベタパターン60d部分とを備える。線状パターン60c部分は、たとえば20mm(図の左右方向、線状パターンの幅方向)×25mm(図の上下方向、線状パターンの長さ方向)の範囲に形成され、ワイヤーグリッド偏光子として機能する。2つのベタパターン60d部分は、それぞれ線状パターン60c部分の各端部を電気的に接続する。   The polarizing film 60a of the substrate 60 with a polarizing film includes a linear pattern 60c portion and a solid pattern 60d portion in which a plurality of thin metal lines are arranged in parallel. The linear pattern 60c portion is formed, for example, in a range of 20 mm (horizontal direction in the figure, width direction of the linear pattern) × 25 mm (vertical direction in the figure, length direction of the linear pattern) and functions as a wire grid polarizer. To do. The two solid patterns 60d are electrically connected to the ends of the linear pattern 60c.

偏光膜付基板60の端部に、各ベタパターン60dと電気的に接続している端子部60eが形成されている。DC回路72は、2つの端子部60e間に接続され、偏光膜60a(線状パターン60c部分、及び、ベタパターン60d部分)に電流を流すことができる。2つの端子部60e間の抵抗値は、たとえば22Ωである。DC回路72で2つの端子部60e間に電流を流すことで、抵抗加熱の原理により、線状パターン60c部分をヒータとして機能させることができる。   A terminal portion 60e electrically connected to each solid pattern 60d is formed at the end of the substrate 60 with a polarizing film. The DC circuit 72 is connected between the two terminal portions 60e, and can pass a current through the polarizing film 60a (the linear pattern 60c portion and the solid pattern 60d portion). The resistance value between the two terminal portions 60e is, for example, 22Ω. By causing a current to flow between the two terminal portions 60e in the DC circuit 72, the linear pattern 60c portion can function as a heater based on the principle of resistance heating.

本願発明者らは、第1の実施例による液晶表示素子について幾つかのテストを行った。   The inventors of the present application conducted several tests on the liquid crystal display element according to the first embodiment.

まず、液晶層40への電圧印加時と無印加時とにおける光透過率を測定した。その結果、電圧無印加時の光透過率は0.23%、電圧印加時の最大光透過率は33%、コントラスト比は約140であった。第1の実施例による液晶表示素子は、ワイヤーグリッド偏光子として機能する偏光膜60aを備えているため、良好な表示が可能である。   First, the light transmittance was measured when a voltage was applied to the liquid crystal layer 40 and when it was not applied. As a result, the light transmittance when no voltage was applied was 0.23%, the maximum light transmittance when voltage was applied was 33%, and the contrast ratio was about 140. Since the liquid crystal display element according to the first embodiment includes the polarizing film 60a that functions as a wire grid polarizer, good display is possible.

次に、偏光膜付基板60の偏光膜60aのヒータ機能に関する測定を行った。本願発明者らは、DC回路72で偏光膜60aに電流を流して加熱することにより、初期状態−30℃だった液晶表示素子の温度が、1分後に約0℃となることを確認した。ヒータ機能をもつ偏光膜60aがセグメント基板30(透明基板31)と接しているため、液晶層40が短時間で加熱されたものと考えられる。また、この加熱で、初期状態4000msecだった応答時間(立ち上がりと立ち下がりに要する合計時間)が、1分後には200msecにまで短縮された。第1の実施例による液晶表示素子は、低温に起因する損傷や機能の低下を防止することが可能な液晶表示素子である。また、高い応答性を実現することのできる液晶表示素子である。   Next, the measurement regarding the heater function of the polarizing film 60a of the board | substrate 60 with a polarizing film was performed. The inventors of the present application confirmed that the temperature of the liquid crystal display element, which was in the initial state of −30 ° C., becomes about 0 ° C. after 1 minute by applying current to the polarizing film 60a and heating it with the DC circuit 72. Since the polarizing film 60a having a heater function is in contact with the segment substrate 30 (transparent substrate 31), it is considered that the liquid crystal layer 40 was heated in a short time. Also, with this heating, the response time (total time required for rising and falling), which was 4000 msec in the initial state, was reduced to 200 msec after 1 minute. The liquid crystal display element according to the first embodiment is a liquid crystal display element capable of preventing damage and deterioration of function due to low temperature. In addition, the liquid crystal display element can achieve high responsiveness.

最後に、静電気に対する影響を調べた。絶縁板(厚さ5mmのベーク板)上に、偏光膜付基板60が絶縁板と接するようにサンプルLCD(図5(A)に示すLCDからバックライト80を除いたもの)を載置し、サンプルLCDの表示領域中央に、静電ガンで1秒間の接触放電を1回行い、静電気帯電によりオンした液晶が、全面完全に元に戻るまでの時間を計測した。計測は、温度22℃、湿度36%、静電容量150pF、電気抵抗330Ω、印加電圧15kVの条件下で実施した。なお、計測には(株)ノイズ研究所の静電気試験機SEE−200AXを使用した。   Finally, the effect on static electricity was examined. A sample LCD (the LCD shown in FIG. 5A excluding the backlight 80) is placed on an insulating plate (bake plate having a thickness of 5 mm) so that the polarizing film-coated substrate 60 is in contact with the insulating plate. In the center of the display area of the sample LCD, contact discharge was performed once for 1 second with an electrostatic gun, and the time until the liquid crystal turned on by electrostatic charging completely returned to the original surface was measured. The measurement was performed under conditions of a temperature of 22 ° C., a humidity of 36%, a capacitance of 150 pF, an electric resistance of 330Ω, and an applied voltage of 15 kV. For the measurement, an electrostatic test machine SEE-200AX of Noise Research Co., Ltd. was used.

通常の液晶表示素子においては、15kVという高電圧の静電気に対して誤作動が生じ、特に電極が形成されていない部分では、誤作動が3分以上も継続した。それに対しサンプルLCDにおいては、誤作動が生じなかった。このことから、サンプルLCDは静電気に対し、非常に耐性の高い液晶表示素子であることがわかる。なお、サンプルLCDからハーネスをはずし、DC回路72を除いたLCDの静電気耐性を同じ条件で調べたところ、短時間(10秒以内)の誤作動が認められた。DC回路72と導通させていない場合でも、高い静電気耐性効果が奏されることがわかる。静電気耐性効果は、線状パターン60c部分を電気的に接続することで奏される。このため、少なくとも1つのベタパターン60d部分があれば静電気耐性効果を奏することが可能である。   In a normal liquid crystal display element, a malfunction occurred due to static electricity of a high voltage of 15 kV, and the malfunction continued for 3 minutes or more particularly in a portion where no electrode was formed. In contrast, the sample LCD did not malfunction. From this, it can be seen that the sample LCD is a liquid crystal display element that is extremely resistant to static electricity. When the harness was removed from the sample LCD and the static electricity resistance of the LCD excluding the DC circuit 72 was examined under the same conditions, a malfunction in a short time (within 10 seconds) was observed. It can be seen that even when the DC circuit 72 is not conducted, a high static electricity resistance effect is exhibited. The static electricity resistance effect is achieved by electrically connecting the linear pattern 60c portion. For this reason, if there is at least one solid pattern 60d portion, an electrostatic resistance effect can be obtained.

第1の実施例による液晶表示素子は、偏光膜60aが、偏光板としての機能、ヒータとしての機能、及び高い静電気耐性を実現させる機能とを併有しているため、小型化及び低価格の実現が可能である。   In the liquid crystal display element according to the first embodiment, the polarizing film 60a has both a function as a polarizing plate, a function as a heater, and a function for realizing high electrostatic resistance. Realization is possible.

また、第1の実施例による液晶表示素子の製造方法によれば、たとえばヒータ用のITO膜の形成工程、帯電防止材料の塗布工程等を必要としないので、低コストで高品質の液晶表示素子を製造することができる。   In addition, according to the method of manufacturing the liquid crystal display element according to the first embodiment, for example, a process for forming an ITO film for a heater, a coating process for an antistatic material, and the like are not required. Can be manufactured.

なお、ヒータ用のITO膜を別途形成した場合、ITOの光透過率や屈折率の大きさに起因して、液晶表示素子の光透過率が低下するという問題が生じるが、第1の実施例による液晶表示素子においては、光透過率の低下は招来されない。図3を参照して説明したように、偏光膜付基板の光透過率は、一般的な偏光フィルムの光透過率よりも高いので、液晶表示素子の光透過率はむしろ高くなる。   When the ITO film for the heater is separately formed, there is a problem that the light transmittance of the liquid crystal display element is reduced due to the light transmittance and refractive index of the ITO. In the liquid crystal display device according to the above, the light transmittance is not lowered. As described with reference to FIG. 3, the light transmittance of the polarizing film-coated substrate is higher than the light transmittance of a general polarizing film, so that the light transmittance of the liquid crystal display element is rather high.

更に、第1の実施例による液晶表示素子の製造方法においては、偏光膜付基板60とセグメント基板30との貼り付けは行わないため、切り出した偏光板をセグメント基板30に貼付して液晶表示素子を作製する場合に比べ、少工程、低コストで液晶表示素子の製造が可能である。このメリットは、特に液晶の注入をODFで行う場合に顕著である。なお、両基板30、60をたとえば接着剤で接着してもよい。この場合は、接着剤にガラス基板と同等の屈折率(約1.5)を備えたものを採用することで、基板30、60界面における光の損失を抑制することができるため、高輝度で表示を行うことができる。   Further, in the method of manufacturing the liquid crystal display element according to the first embodiment, the polarizing film-coated substrate 60 and the segment substrate 30 are not attached, so the cut polarizing plate is attached to the segment substrate 30 to provide the liquid crystal display element. Compared with the case of manufacturing the liquid crystal display device, the liquid crystal display element can be manufactured with fewer steps and lower costs. This merit is particularly remarkable when liquid crystal is injected by ODF. In addition, you may adhere | attach the both board | substrates 30 and 60 with an adhesive agent, for example. In this case, it is possible to suppress the loss of light at the interface between the substrates 30 and 60 by adopting an adhesive having a refractive index equivalent to that of the glass substrate (about 1.5). Display can be made.

図6(A)及び(B)を参照して、第2の実施例による液晶表示素子の製造方法を説明する。第1の実施例による液晶表示素子は、偏光膜付基板60を作製し、セグメント透明基板31の液晶層40と反対側に偏光膜60aを配置したが、第2の実施例による液晶表示素子は、セグメント透明基板31に偏光膜60aを形成し、液晶層40側に偏光膜60aを配置する。   With reference to FIGS. 6A and 6B, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the second embodiment will be described. In the liquid crystal display element according to the first embodiment, the polarizing film-coated substrate 60 is produced and the polarizing film 60a is disposed on the opposite side of the segment transparent substrate 31 from the liquid crystal layer 40. However, the liquid crystal display element according to the second embodiment is The polarizing film 60a is formed on the segment transparent substrate 31, and the polarizing film 60a is disposed on the liquid crystal layer 40 side.

図6(A)を参照する。ステップS201〜S204において、セグメント基板を作製する。第2の実施例におけるセグメント基板は、偏光膜付きのセグメント基板である。   Reference is made to FIG. In steps S201 to S204, a segment substrate is manufactured. The segment substrate in the second embodiment is a segment substrate with a polarizing film.

ステップS201の金属スパッタ工程、及びステップS202の金属パターニング工程によって、たとえば厚さ0.7mmtのガラス基板上に偏光膜を形成する。偏光膜の形成方法は、第1の実施例におけるそれ(金属スパッタ工程S101、及び金属パターニング工程S102)と等しい。1枚のガラス基板上に、図2に示すような、8枚分の偏光膜(Mo膜)パターンが形成される。偏光膜の線状パターン60c部分が、製造される液晶表示素子の表示領域に対応して、少なくとも表示領域に配置されるように形成され、ベタパターン60d部分が、表示領域外に配置されるように形成される点も等しい。   For example, a polarizing film is formed on a glass substrate having a thickness of 0.7 mm by the metal sputtering process in step S201 and the metal patterning process in step S202. The method for forming the polarizing film is the same as that in the first embodiment (metal sputtering step S101 and metal patterning step S102). Eight polarizing film (Mo film) patterns as shown in FIG. 2 are formed on one glass substrate. The linear pattern 60c portion of the polarizing film is formed so as to be disposed at least in the display region corresponding to the display region of the liquid crystal display element to be manufactured, and the solid pattern 60d portion is disposed outside the display region. The points formed are the same.

ステップS203において、偏光膜パターンの上に絶縁膜を形成する。絶縁膜の形成は、たとえばSUSで形成されたマスクを用いたスパッタ、CVD、印刷等で行うことができる。第2の実施例においては、フレキソ印刷したレジスト材料をマスクとしてSiOをスパッタし、リフトオフ法を用いて、必要な部分の偏光膜上にのみ絶縁膜パターンを形成した。図6(B)に、形成した絶縁膜パターン(SiOパターン)60fを示す。 In step S203, an insulating film is formed on the polarizing film pattern. The insulating film can be formed by sputtering, CVD, printing or the like using a mask formed of SUS, for example. In the second embodiment, SiO 2 was sputtered using a flexographically printed resist material as a mask, and an insulating film pattern was formed only on a necessary portion of the polarizing film by using a lift-off method. FIG. 6B shows the formed insulating film pattern (SiO 2 pattern) 60f.

ステップS204において、絶縁膜(SiO膜)上に、たとえばITOで所定形状の透明電極を形成する。またはTFTマトリクスを形成してもよい。 In step S204, a transparent electrode having a predetermined shape is formed of, for example, ITO on the insulating film (SiO 2 film). Alternatively, a TFT matrix may be formed.

ステップS205において、コモン基板を作製する。たとえば厚さ0.7mmtのガラス基板上に、ITOで所定形状に透明電極を形成する。カラーフィルタ(CF)パターンを形成してもよい。   In step S205, a common substrate is produced. For example, a transparent electrode is formed in a predetermined shape with ITO on a glass substrate having a thickness of 0.7 mm. A color filter (CF) pattern may be formed.

コモン基板及びセグメント基板の透明電極上に、絶縁膜、配向膜を形成し、配向処理を施す点は第1の実施例と同様である。配向膜に配向処理を行う代わりに、透明電極にスリットを形成したり、基板上に突起を形成することで液晶分子の配向状態を規定してもよい。   Similar to the first embodiment, an insulating film and an alignment film are formed on the transparent electrodes of the common substrate and the segment substrate and an alignment process is performed. Instead of performing the alignment treatment on the alignment film, the alignment state of the liquid crystal molecules may be defined by forming a slit in the transparent electrode or forming a protrusion on the substrate.

ステップS206において、セグメント基板とコモン基板との間に液晶滴下注入法(ODF)で液晶層を形成し、液晶セルを作製する。一方の基板、たとえばコモン基板上にギャップコントロール剤を散布し、他方の基板、たとえばセグメント基板上に、閉じられた形状のメインシールパターンを印刷する。そしてシールパターンの内側に所定量の液晶を滴下し、真空中で両基板を重ね合わせ、第1の実施例と同様に垂直配向型の液晶セルを作製する。   In step S206, a liquid crystal layer is formed between the segment substrate and the common substrate by a liquid crystal dropping injection method (ODF) to manufacture a liquid crystal cell. A gap control agent is sprayed on one substrate, for example, a common substrate, and a closed main seal pattern is printed on the other substrate, for example, a segment substrate. Then, a predetermined amount of liquid crystal is dropped inside the seal pattern, and both substrates are superposed in a vacuum to produce a vertical alignment type liquid crystal cell as in the first embodiment.

ステップS207において、コモン基板上にダイクロイックフィルムタイプの偏光板を貼り付ける。セグメント基板側の偏光膜偏光軸と、コモン基板側の偏光板偏光軸との配置関係は、第1の実施例の場合と等しい。   In step S207, a dichroic film type polarizing plate is attached to the common substrate. The positional relationship between the polarizing film polarization axis on the segment substrate side and the polarizing plate polarization axis on the common substrate side is the same as in the first embodiment.

ステップS208においては、液晶セルの端子部と駆動回路とをフレキシブルプリント基板(FPC)で接続する。また、セグメント基板偏光膜のベタパターン60d部分の端子部とDC回路とを、ハーネスで接続する。   In step S208, the terminal part of the liquid crystal cell and the drive circuit are connected by a flexible printed circuit board (FPC). Further, the terminal part of the solid pattern 60d portion of the segment substrate polarizing film and the DC circuit are connected by a harness.

図7は、第2の実施例による液晶表示素子の概略的な断面図である。第2の実施例による液晶表示素子は、偏光膜付基板60を含まず、セグメント基板30が偏光膜60aを含む点において第1の実施例による液晶表示素子と異なる。また、第2の実施例においては、偏光膜60aは、セグメント透明基板31の液晶層40側に配置される。セグメント基板30は、透明基板31上に形成された偏光膜60a、その上に絶縁膜35を介して形成された透明電極32、絶縁膜33、配向膜34を含んで構成される。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device according to the second embodiment. The liquid crystal display element according to the second embodiment is different from the liquid crystal display element according to the first embodiment in that it does not include the polarizing film-coated substrate 60 and the segment substrate 30 includes the polarizing film 60a. In the second embodiment, the polarizing film 60 a is disposed on the liquid crystal layer 40 side of the segment transparent substrate 31. The segment substrate 30 includes a polarizing film 60a formed on the transparent substrate 31, and a transparent electrode 32, an insulating film 33, and an alignment film 34 formed thereon via an insulating film 35.

第2の実施例による液晶表示素子の平面図は第1の実施例のそれ(図5(B))と同様である。セグメント基板30の偏光膜60aは、線状パターン60c部分とベタパターン60d部分とを備え、2つのベタパターン60d部分は、それぞれ線状パターン60c部分の各端部を電気的に接続する。   The plan view of the liquid crystal display element according to the second embodiment is the same as that of the first embodiment (FIG. 5B). The polarizing film 60a of the segment substrate 30 includes a linear pattern 60c portion and a solid pattern 60d portion, and the two solid pattern 60d portions electrically connect each end of the linear pattern 60c portion.

セグメント基板30(透明基板31)の端部に、各ベタパターン60dと電気的に接続している端子部60eが形成され、DC回路72が、2つの端子部60e間に接続されている。DC回路72は、偏光膜60a(線状パターン60c部分、及び、ベタパターン60d部分)に電流を流すことができる。   A terminal portion 60e electrically connected to each solid pattern 60d is formed at the end of the segment substrate 30 (transparent substrate 31), and a DC circuit 72 is connected between the two terminal portions 60e. The DC circuit 72 can pass a current through the polarizing film 60a (the linear pattern 60c portion and the solid pattern 60d portion).

第2の実施例による液晶表示素子においても、偏光膜60aは、ワイヤーグリッド偏光子としての機能、ヒータとしての機能、静電気耐性を実現させる機能、輝度を向上させる機能等を備える。第2の実施例による液晶表示素子の効果は、第1の実施例の場合とほぼ等しいが、偏光膜60aが、液晶セルの内側(透明基板31の液晶層40側)に配置されているため、第1の実施例よりも、液晶層40の加熱において高い効果を奏することができる。このため、第1の実施例よりも、たとえば高い応答性を実現することができる。また、液晶セルの内側に偏光膜60a(線状パターン60c部分)が形成されているため、湿度の影響を受けず、第1の実施例より一層高い信頼性を発揮することができる。   Also in the liquid crystal display element according to the second embodiment, the polarizing film 60a has a function as a wire grid polarizer, a function as a heater, a function of realizing electrostatic resistance, a function of improving luminance, and the like. The effect of the liquid crystal display element according to the second embodiment is almost the same as that of the first embodiment, but the polarizing film 60a is disposed inside the liquid crystal cell (on the liquid crystal layer 40 side of the transparent substrate 31). The heating of the liquid crystal layer 40 can be more effective than the first embodiment. For this reason, for example, higher responsiveness than the first embodiment can be realized. Further, since the polarizing film 60a (the linear pattern 60c portion) is formed inside the liquid crystal cell, it is not affected by humidity and can exhibit higher reliability than that of the first embodiment.

なお、第1及び第2の実施例においては、液晶表示素子の表側(観察者側)にダイクロイックフィルムタイプの偏光板50、裏側(バックライト80側)にワイヤーグリッド偏光膜(金属偏光膜60aの線状パターン60c)を配置した。金属偏光膜60aを液晶表示素子の表側に用いた場合には、表面反射により外光が写り込み、液晶表示素子の表示品位が低下するという問題が生じるため、光学多層膜などの反射防止膜を形成することが望まれる。第1及び第2の実施例の構成を採用すれば、外光による表示品位低下の問題は回避され、反射防止膜形成のコストを削減することができる。また、市販の偏光フィルムは、金属偏光膜より優れた偏光度をもつ場合が多いため、液晶表示素子の表裏両面に金属偏光膜を配置する構成より、高コントラストの表示を実現することが可能である。金属偏光膜が用いられていれば、裏面のみであっても、ヒータとしての機能、静電気耐性を実現させる機能、輝度を向上させる機能等は維持される。特に、金属偏光膜を回路と電気的に接続したり、アースすることで、静電気耐性を一層高めることができる。   In the first and second embodiments, a dichroic film type polarizing plate 50 is provided on the front side (observer side) of the liquid crystal display element, and a wire grid polarizing film (metal polarizing film 60a is provided on the back side (backlight 80 side). A linear pattern 60c) was arranged. When the metal polarizing film 60a is used on the front side of the liquid crystal display element, there is a problem that external light is reflected due to surface reflection and the display quality of the liquid crystal display element is deteriorated. Therefore, an antireflection film such as an optical multilayer film is used. It is desirable to form. If the configurations of the first and second embodiments are adopted, the problem of deterioration in display quality due to external light can be avoided, and the cost for forming the antireflection film can be reduced. In addition, since commercially available polarizing films often have a degree of polarization superior to that of metal polarizing films, it is possible to realize high contrast display by arranging metal polarizing films on both the front and back surfaces of a liquid crystal display element. is there. If a metal polarizing film is used, the function as a heater, the function of realizing static electricity resistance, the function of improving luminance, and the like are maintained even on the back surface alone. In particular, static electricity resistance can be further enhanced by electrically connecting the metal polarizing film to a circuit or grounding it.

図8を参照して、第3の実施例による液晶表示素子の製造方法を説明する。第2の実施例による液晶表示素子は、セグメント基板側にのみ金属偏光膜を形成したが、第3の実施例においてはコモン基板側にも、液晶セルの内側に金属偏光膜を形成する。   With reference to FIG. 8, the manufacturing method of the liquid crystal display element by the 3rd Example is demonstrated. In the liquid crystal display element according to the second embodiment, the metal polarizing film is formed only on the segment substrate side. However, in the third embodiment, the metal polarizing film is also formed on the inner side of the liquid crystal cell on the common substrate side.

ステップS301〜S304において、コモン基板を作製する。ステップS301〜S303の工程は、第2の実施例におけるステップS201〜S203の工程と等しい。これらの工程により、たとえば透明ガラス基板上に図6(B)に示したような金属膜及び絶縁膜のパターンを形成する。   In steps S301 to S304, a common substrate is manufactured. Steps S301 to S303 are the same as steps S201 to S203 in the second embodiment. By these steps, for example, a pattern of a metal film and an insulating film as shown in FIG. 6B is formed on a transparent glass substrate.

ステップS304においては、絶縁膜上に、たとえばITOで所定形状の透明電極を形成する。カラーフィルタ(CF)を形成してもよい。   In step S304, a transparent electrode having a predetermined shape is formed of, for example, ITO on the insulating film. A color filter (CF) may be formed.

同様に、ステップS305〜S308において、セグメント基板を作製する。セグメント基板においては、金属偏光膜の端子部は必須ではなく、線状パターンとその各端部をつなぐベタパターンのみでよい。更に、金属偏光膜パターン上に形成する絶縁膜はパターニングせず、全面に形成することができる。なお、コモン基板とは、線状パターンの長さ方向が直交するように、パターンの形成を行う。   Similarly, a segment substrate is manufactured in steps S305 to S308. In the segment substrate, the terminal portion of the metal polarizing film is not essential, and only a solid pattern connecting the linear pattern and each end thereof may be used. Furthermore, the insulating film formed on the metal polarizing film pattern can be formed on the entire surface without patterning. Note that the pattern is formed so that the length direction of the linear pattern is orthogonal to the common substrate.

ステップS308においては、絶縁膜上に、たとえばITOで所定形状の透明電極を形成する。TFTマトリクスを形成してもよい。   In step S308, a transparent electrode having a predetermined shape is formed of, for example, ITO on the insulating film. A TFT matrix may be formed.

コモン基板及びセグメント基板の透明電極上に、絶縁膜、配向膜を形成し、配向処理を施す。   An insulating film and an alignment film are formed on the transparent electrodes of the common substrate and the segment substrate, and an alignment process is performed.

ステップS309において、セグメント基板とコモン基板との間に液晶滴下注入法(ODF)で垂直液晶層を形成し、液晶セルを作製する。ギャップコントロール剤の散布、メインシールパターンの印刷、液晶の滴下等の工程は、第1及び第2の実施例と同様である。   In step S309, a vertical liquid crystal layer is formed between the segment substrate and the common substrate by a liquid crystal dropping injection method (ODF) to manufacture a liquid crystal cell. The steps such as the application of the gap control agent, the printing of the main seal pattern, and the dropping of the liquid crystal are the same as those in the first and second embodiments.

ステップS310において、液晶セルの端子部と駆動回路とをフレキシブルプリント基板(FPC)で接続する。また、コモン基板偏光膜のベタパターン60d部分の端子部とDC回路とを、ハーネスで接続する。なお、セグメント基板の偏光膜にも端子部、及び、図6(B)に示したような絶縁膜のパターンを形成した場合は、セグメント基板偏光膜のベタパターン60d部分の端子部とDC回路とを、電気的に接続することもできる。   In step S310, the terminal part of the liquid crystal cell and the drive circuit are connected by a flexible printed circuit board (FPC). Further, the terminal portion of the solid pattern 60d portion of the common substrate polarizing film and the DC circuit are connected by a harness. In addition, when the terminal part and the insulating film pattern as shown in FIG. 6B are also formed on the polarizing film of the segment substrate, the terminal part of the solid pattern 60d portion of the segment substrate polarizing film, the DC circuit, Can also be electrically connected.

第3の実施例による液晶表示素子の製造方法においては、セグメント基板及びコモン基板の双方に金属偏光膜が形成されるため、液晶セルの外側に偏光板を貼付する工程が不要である。このため、液晶表示素子の製造コストを低減することが可能である。   In the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the third embodiment, since a metal polarizing film is formed on both the segment substrate and the common substrate, a step of attaching a polarizing plate to the outside of the liquid crystal cell is unnecessary. For this reason, it is possible to reduce the manufacturing cost of a liquid crystal display element.

図9は、第3の実施例による液晶表示素子の概略的な断面図である。第3の実施例による液晶表示素子は、コモン基板20側、セグメント基板30側双方とも、液晶セルの内側に金属偏光膜60aを有する液晶表示素子である。   FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device according to the third embodiment. The liquid crystal display element according to the third embodiment is a liquid crystal display element having a metal polarizing film 60a inside the liquid crystal cell on both the common substrate 20 side and the segment substrate 30 side.

第3の実施例による液晶表示素子は、偏光板50を含まず、コモン基板20に金属偏光膜60a及び絶縁膜25を備える点で、第2の実施例と異なる。また、DC回路72が、セグメント基板30ではなく、コモン基板20の偏光膜60aに接続されている。なお、コモン基板20に接続されているDC回路72と同一または異なるDC回路を、セグメント基板30の偏光膜60aに接続することができる。DC回路72は、コモン基板20、セグメント基板30の少なくとも一方に接続されていればよい。   The liquid crystal display device according to the third embodiment is different from the second embodiment in that the liquid crystal display element does not include the polarizing plate 50 and the common substrate 20 includes the metal polarizing film 60a and the insulating film 25. Further, the DC circuit 72 is connected not to the segment substrate 30 but to the polarizing film 60 a of the common substrate 20. A DC circuit that is the same as or different from the DC circuit 72 connected to the common substrate 20 can be connected to the polarizing film 60 a of the segment substrate 30. The DC circuit 72 only needs to be connected to at least one of the common substrate 20 and the segment substrate 30.

第3の実施例による液晶表示素子のコモン基板20側から見た平面図は第1及び第2の実施例の平面図(図5(B))と同様である。コモン基板20の偏光膜60aは、線状パターン60c部分とベタパターン60d部分とを備え、2つのベタパターン60d部分は、それぞれ線状パターン60c部分の各端部を電気的に接続する。   The plan view of the liquid crystal display element according to the third embodiment viewed from the common substrate 20 side is the same as the plan view of the first and second embodiments (FIG. 5B). The polarizing film 60a of the common substrate 20 includes a linear pattern 60c portion and a solid pattern 60d portion, and the two solid pattern 60d portions electrically connect the respective ends of the linear pattern 60c portion.

コモン基板20(透明基板21)の端部に、各ベタパターン60dと電気的に接続している端子部60eが形成され、DC回路72が、2つの端子部60e間に接続される。DC回路72は、偏光膜60a(線状パターン60c部分、及び、ベタパターン60d部分)に電流を流すことができる。   Terminal portions 60e that are electrically connected to the solid patterns 60d are formed at the end of the common substrate 20 (transparent substrate 21), and the DC circuit 72 is connected between the two terminal portions 60e. The DC circuit 72 can pass a current through the polarizing film 60a (the linear pattern 60c portion and the solid pattern 60d portion).

第3の実施例による液晶表示素子において、コモン基板20の偏光膜60aは、ワイヤーグリッド偏光子としての機能、ヒータとしての機能、静電気耐性を実現させる機能等を備える。第3の実施例による液晶表示素子の効果は、第2の実施例の場合とほぼ等しいが、コモン、セグメント両基板20、30とも液晶セル内側に金属偏光膜60aが形成されているため、湿度の影響を受けず、第2の実施例より一層高い信頼性を発揮することができる。また、第2の実施例より高輝度で表示を行うことができる。更に、セグメント基板側にもDC回路を接続した構成においては、より短時間での液晶層40加熱、及びより高い応答性の実現が可能である。   In the liquid crystal display element according to the third embodiment, the polarizing film 60a of the common substrate 20 has a function as a wire grid polarizer, a function as a heater, a function of realizing electrostatic resistance, and the like. The effect of the liquid crystal display device according to the third embodiment is almost the same as that of the second embodiment. However, since both the common and segment substrates 20 and 30 have the metal polarizing film 60a inside the liquid crystal cell, the humidity is high. Therefore, it is possible to exhibit higher reliability than the second embodiment. Further, display can be performed with higher brightness than in the second embodiment. Further, in the configuration in which the DC circuit is connected to the segment substrate side, the liquid crystal layer 40 can be heated in a shorter time and higher responsiveness can be realized.

また、静電気耐性に関しては、第1及び第2の実施例より高い効果を奏することが確認された。第3の実施例による液晶表示素子においては、DC回路72と接続した状態においては、誤作動が生じなかった。DC回路72を除いた場合の誤作動時間も1秒以内と、ごく短時間であった。第3の実施例のより高い静電気耐性効果は、液晶表示素子の表側(コモン基板側)に、導電性の偏光膜が形成されているためと考えられる。   Further, it was confirmed that the electrostatic resistance was higher than that of the first and second examples. In the liquid crystal display element according to the third embodiment, malfunction did not occur in the state where it was connected to the DC circuit 72. When the DC circuit 72 was removed, the malfunction time was very short, within one second. The higher static electricity resistance effect of the third embodiment is considered to be because a conductive polarizing film is formed on the front side (common substrate side) of the liquid crystal display element.

なお、第3の実施例において、コモン基板20の偏光膜60aを液晶セルの外側(透明基板21の液晶層40の反対側)に形成することができる。この場合、絶縁膜25は不要である。液晶セルの外側に形成された偏光膜60a上には、ハードコートなどのコーティングを行うことが望ましいが、必須ではない。偏光膜60aを液晶セル内側に形成する場合と比較すると、ヒータ機能はやや劣り、起動直後の液晶層40の温度上昇が遅くなる懸念がある。しかし外付けの透明ヒータと比較すると、偏光膜60aが透明基板21と一体化しているため、温度の立ち上がりは速い。コモン基板20の偏光膜60aを液晶セルの外側に形成した場合の静電気耐性は、内側に形成した場合とほとんど差がなかった。   In the third embodiment, the polarizing film 60a of the common substrate 20 can be formed outside the liquid crystal cell (opposite the liquid crystal layer 40 of the transparent substrate 21). In this case, the insulating film 25 is unnecessary. Although it is desirable to perform a coating such as a hard coat on the polarizing film 60a formed outside the liquid crystal cell, it is not essential. Compared with the case where the polarizing film 60a is formed inside the liquid crystal cell, the heater function is slightly inferior, and there is a concern that the temperature rise of the liquid crystal layer 40 immediately after startup is delayed. However, compared with an external transparent heater, since the polarizing film 60a is integrated with the transparent substrate 21, the temperature rises quickly. The static electricity resistance when the polarizing film 60a of the common substrate 20 was formed outside the liquid crystal cell was almost the same as the case where it was formed inside.

以上、実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。   As mentioned above, although this invention was demonstrated along the Example, this invention is not limited to these.

実施例におけるパターニング方法以外の方法、たとえば、特許文献1に記載されている方法で、金属偏光膜を作製してもよい。   You may produce a metal polarizing film by methods other than the patterning method in an Example, for example, the method described in patent document 1. FIG.

その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。     It will be apparent to those skilled in the art that other various modifications, improvements, combinations, and the like are possible.

たとえば車載用ディスプレイ、遊戯用表示、携帯電話・DSC用表示、オーディオ表示、パソコンモニタ表示、液晶テレビ表示、モバイルテレビ表示など液晶ディスプレイ関連全般に利用可能である。殊に、高信頼性が求められる液晶表示素子、低温時の応答性が求められる液晶表示素子、使用者が表示部を直接拭くことなどにより、静電気を発生させやすい液晶表示素子に好適に利用できる。   For example, it can be used for all types of liquid crystal displays such as in-vehicle displays, display for games, mobile phone / DSC displays, audio displays, personal computer monitor displays, liquid crystal television displays, mobile television displays. In particular, it can be suitably used for a liquid crystal display element that requires high reliability, a liquid crystal display element that requires responsiveness at low temperatures, and a liquid crystal display element that easily generates static electricity when the user directly wipes the display portion. .

20 コモン基板
30 セグメント基板
21、31 透明電極
22、32 透明電極
32a 端子部
23、33 絶縁膜
24、34 配向膜
25、35 絶縁膜
40 液晶層
50 偏光板
60 偏光膜付基板
60a 偏光膜
60b 透明基板
60c 線状パターン
60d ベタパターン
60e 端子部
60f SiOパターン
70 フレキシブルプリント基板
71 駆動回路
72 DC回路
80 バックライト
20 Common substrate 30 Segment substrate 21, 31 Transparent electrode 22, 32 Transparent electrode 32a Terminal portion 23, 33 Insulating film 24, 34 Alignment film 25, 35 Insulating film 40 Liquid crystal layer 50 Polarizing plate 60 Polarizing film substrate 60a Polarizing film 60b Transparent Substrate 60c Linear pattern 60d Solid pattern 60e Terminal portion 60f SiO 2 pattern 70 Flexible printed circuit board 71 Drive circuit 72 DC circuit 80 Backlight

Claims (2)

第1の透明基板と、
前記第1の透明基板に対向配置された第2の透明基板であって、複数の金属線が平行に形成され、ワイヤーグリッド偏光子として機能する第1のパターンと、前記第1のパターンを電気的に接続する第2のパターンを備える金属膜が配置されている第2の透明基板と、
前記第1の透明基板と前記第2の透明基板との間に挟持された液晶層と
前記第1の透明基板及び前記第2の透明基板に設けられた透明電極と、
前記第1の透明基板もしくは前記第2の透明基板の前記透明電極と電気的に接続された第1の電気回路と
を有し、
前記金属膜は、前記第2の透明基板の、前記液晶層側に形成され、かつ、前記第2のパターンとは異なる位置で前記第1のパターンを電気的に接続する第3のパターンを備え、
前記第2及び第3のパターンの端子部が、前記第2の透明基板の端部に形成され、
更に、前記第2の透明基板の端部に形成された、前記第2及び第3のパターンの端子部間に接続され、前記第2及び第3のパターン間に電流を流すことのできる、前記第1の電気回路とは異なる第2の電気回路を備え、
更に、複数の金属線が平行に形成され、ワイヤーグリッド偏光子として機能するパターンと、該パターンを電気的に接続するパターンとを備える金属膜が前記第1の透明基板に配置される液晶表示素子。
A first transparent substrate;
A second transparent substrate disposed opposite to the first transparent substrate, wherein a plurality of metal lines are formed in parallel and function as a wire grid polarizer , and the first pattern is electrically connected A second transparent substrate on which a metal film having a second pattern to be connected is disposed;
A liquid crystal layer sandwiched between the first transparent substrate and the second transparent substrate ;
Transparent electrodes provided on the first transparent substrate and the second transparent substrate;
Have a <br/> the first electrical circuit the electrically connected transparent electrodes and the first transparent substrate or the second transparent substrate,
The metal film includes a third pattern which is formed on the liquid crystal layer side of the second transparent substrate and electrically connects the first pattern at a position different from the second pattern. ,
The terminal portions of the second and third patterns are formed at the end of the second transparent substrate,
Furthermore, it is connected between the terminal portions of the second and third patterns formed at the end of the second transparent substrate, and a current can flow between the second and third patterns. A second electrical circuit different from the first electrical circuit,
Furthermore, a liquid crystal display element in which a plurality of metal lines are formed in parallel, and a metal film having a pattern that functions as a wire grid polarizer and a pattern that electrically connects the patterns is disposed on the first transparent substrate .
前記第2の電気回路で前記第2及び第3のパターン間に電流を流すことにより、前記第1のパターンはヒータとして機能する請求項1に記載の液晶表示素子。The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the first pattern functions as a heater by causing a current to flow between the second and third patterns in the second electric circuit.
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