KR20140075309A - A method for fabricating curved liquid crystal display device - Google Patents

A method for fabricating curved liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
KR20140075309A
KR20140075309A KR1020120143529A KR20120143529A KR20140075309A KR 20140075309 A KR20140075309 A KR 20140075309A KR 1020120143529 A KR1020120143529 A KR 1020120143529A KR 20120143529 A KR20120143529 A KR 20120143529A KR 20140075309 A KR20140075309 A KR 20140075309A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
color filter
substrate
forming
liquid crystal
crystal display
Prior art date
Application number
KR1020120143529A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102012823B1 (en
Inventor
서대영
남철
김홍식
신승환
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020120143529A priority Critical patent/KR102012823B1/en
Publication of KR20140075309A publication Critical patent/KR20140075309A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102012823B1 publication Critical patent/KR102012823B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133305—Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222—Colour filters incorporated in the active matrix substrate

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

A method for manufacturing a curved liquid crystal display device, according to the embodiment of the present invention, includes the steps of forming a thin film transistor, a gate line, and a data line on a first substrate; forming an interlayer dielectric layer on the thin film transistor, the gate line, and the data line; forming an R color filter on the interlayer dielectric layer; forming a B color filter on the interlayer dielectric layer; forming a G color filter on the interlayer dielectric layer; and forming a passivation layer on the R,G, and B color filters.

Description

곡면형 액정표시장치의 제조방법{A method for fabricating curved liquid crystal display device}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a curved liquid crystal display device,

실시 예는 곡면형 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.The embodiment relates to a method of manufacturing a curved liquid crystal display device.

최근에 액정표시장치는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display)소자로 각광받고 있다. 이러한 액정표시장치 중에서도, 각 화소(pixel)별로 전압의 온(on)/오프(off)를 조절할 수 있는 스위칭 소자인 박막트랜지스터가 구비된 액티브 매트릭스형 액정표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력이 뛰어나 가장 주목받고 있다. Recently, liquid crystal display devices have been attracting attention as next generation advanced display devices with low power consumption, good portability, and high value-added. Among these liquid crystal display devices, an active matrix type liquid crystal display device having a thin film transistor, which is a switching device capable of controlling voltage on / off for each pixel, It is attracting attention.

도 1a 및 도 1b는 종래 액정표시장치를 도시한 도면이다.1A and 1B are views showing a conventional liquid crystal display device.

도 1a를 참조하면, 종래 평판 액정표시장치는 박막 트랜지스터 기판과 컬러필터 기판이 합착되어 형성된 합착기판 상부와 하부에 편광판이 부착되어 완성된 패널(50)을 포함하고, 백라이트 유닛(60)과, 상기 백라이트 유닛(60)을 하부에서 지지하는 바텀커버(61)와, 상기 바텀커버와 결합되는 패널 가이드(62)를 포함한다. 또한, 상기 백라이트 유닛(60)과, 상기 백라이트 유닛(60) 상에 형성된 패널(50)을 측면에서 고정하는 탑커버(63)를 더 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1A, a conventional flat panel liquid crystal display includes a panel 50 having a polarizer attached to a top and a bottom of a bonding substrate formed by bonding a thin film transistor substrate and a color filter substrate, and includes a backlight unit 60, A bottom cover 61 for supporting the backlight unit 60 from below, and a panel guide 62 coupled to the bottom cover. The backlight unit 60 further includes a top cover 63 for fixing the panel 50 formed on the backlight unit 60 on the side.

이때, 도 1b를 참조하면, 상기 합착기판 상하부에 부착된 편광판이 환경 변화에 의해 수축 및 팽창하여 상기 패널(50)의 형태에 변형이 발생한다. 변형이 발생된 패널(50)과 백라이트 유닛(60) 또는 탑커버(63)의 간섭으로 패널(50) 내부의 액정층에 뒤틀림이 발생하여 광축이 틀어진다. 상기 패널(50)의 편광판과 액정층의 광축이 틀어짐으로 인해 블랙 상태에서 빛샘이 발생한다. At this time, referring to FIG. 1B, the polarizer attached to the upper and lower portions of the adhesion substrate shrinks and expands due to environmental changes, and the shape of the panel 50 is deformed. The liquid crystal layer inside the panel 50 is twisted due to the interference between the panel 50 in which the deformation has occurred and the backlight unit 60 or the top cover 63 and the optical axis is distorted. A light leakage occurs in a black state due to a deviation of the optical axis of the polarizing plate and the liquid crystal layer of the panel 50.

또한, 종래 액정표시장치는 일반적으로 평판형태로 형성되어 주 시청영역에서 중앙영역까지의 거리와 양측 영역까지의 거리가 서로 달라 거리감의 편차가 발생하는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해, 현재 액정표시장치의 구성에 일정한 곡률을 유지하는 곡면형 패널을 포함하는 액정표시장치가 제안되었다. In addition, the conventional liquid crystal display device is generally formed in the form of a flat plate, and the distance from the main viewing area to the central area and the distance to the both side areas are different from each other. In order to solve such a problem, a liquid crystal display device including a curved panel that maintains a constant curvature in the structure of the liquid crystal display device has been proposed.

도 2는 종래 액정표시장치의 곡면형 패널을 도시한 도면이다.2 is a view showing a curved panel of a conventional liquid crystal display device.

도 2를 참조하면, 곡면형 패널(50)은 제1 기판(10) 및 제2 기판(20)이 액정층(40)을 사이에 두고, 실재(30)로 합착하여 패널을 형성하고, 벤딩 공정을 거쳐 완성된다. 상기 곡면형 패널(50)은 곡률반경(R)으로 정의되며, 곡률반경(R)이란 곡면이나 곡선의 각 점에 있어서 만곡의 정도를 표시하는 값으로 곡선의 한 점에서 그 곡선에 가장 가까운 원, 즉 접촉원의 반지름을 말한다. 2, the curved panel 50 includes a first substrate 10 and a second substrate 20 which are bonded together with a liquid crystal layer 40 therebetween to form a panel, Process. The curved panel 50 is defined as a radius of curvature R and the radius of curvature R is a value representing the degree of curvature at each point of a curved surface or curve, , That is, the radius of the contact circle.

상기 곡면형 패널(50)의 상기 제1 기판(10)은 박막 트랜지스터 기판이고, 상기 제2 기판(20)은 컬러필터 기판일 수 있으며, 벤딩 공정시 제1 기판(10)은 인장하는 방향으로 응력이 발생하며, 제2 기판(20)은 수축하는 방향으로 응력이 발생한다. 이때, 제1 기판(10) 및 제2 기판(20)은 서로 반대 방향으로 응력이 발생하여 이동하려 하나, 상기 기판의 외곽부는 실재(30)로 패널(50)이 고정되어 비틀림 응력이 발생한다. 이로 인해, 기판의 미스얼라인이 발생하며, 상기 제1 기판(10) 및 제2 기판(20) 의 러빙축이 틀어져 액정배열이 틀어지게 된다. 상기 액정배열이 틀어지며 빛샘이 발생하게 되고, 상기 빛샘은 특히 IPS 모드에서 더 문제가 된다. IPS 모드의 경우, 러빙시 액정층(40)이 수평방향으로 배향되고, 광축의 틀어짐에 매우 민감하다. The first substrate 10 of the curved panel 50 may be a thin film transistor substrate and the second substrate 20 may be a color filter substrate. Stress is generated, and stress is generated in the direction in which the second substrate 20 contracts. At this time, the first substrate 10 and the second substrate 20 are moved in a direction opposite to each other, and the panel 50 is fixed to the outer portion of the substrate 30 to generate a torsional stress . This causes misalignment of the substrate, and the rubbing axes of the first substrate 10 and the second substrate 20 are twisted, and the liquid crystal array is twisted. The liquid crystal array is twisted and light leakage occurs, and the light leakage becomes more problematic especially in the IPS mode. In the IPS mode, the liquid crystal layer 40 is oriented in the horizontal direction at the time of rubbing, and is very sensitive to the shift of the optical axis.

따라서, 곡면형 패널을 포함하는 액정표시장치를 형성할 때, 빛샘 현상을 개선할 필요가 있다.Therefore, when forming a liquid crystal display device including a curved panel, it is necessary to improve the light leakage phenomenon.

실시 예는 곡면형 액정표시패널에서 빛샘을 방지하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다.Embodiments provide a method of manufacturing a liquid crystal display device that prevents light leakage in a curved liquid crystal display panel.

실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법은, 제1 기판상에 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하는 단계; 상기 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인 상에 층간 절연막을 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 R 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 B 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 G 컬러필터를 형성하는 단계; 및 상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a liquid crystal display according to an embodiment includes forming a thin film transistor, a gate line, and a data line on a first substrate; Forming an interlayer insulating film on the thin film transistor, the gate line, and the data line; Forming an R color filter on the interlayer insulating film; Forming a B color filter on the interlayer insulating film; Forming a G color filter on the interlayer insulating film; And forming a passivation layer on the R, G, and B color filters.

실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법은 컬러필터 형성과정에서 R, B, G 순서로 컬러필터를 형성하여 경화공정을 통해 기판의 휨량을 크게하여 곡면형 액정표시패널의 빛 샘을 방지한다.In the method of manufacturing a liquid crystal display according to an embodiment, a color filter is formed in the order of R, B, and G in the process of forming a color filter, and the deflection of the substrate is increased through a curing process to prevent light leakage of the curved liquid crystal display panel.

도 1은 종래 액정표시장치를 도시한 도면이다.
도 2는 종래 액정표시장치의 곡면형 패널을 도시한 도면이다.
도 3은 제1 실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 나타내기 위한 단면도이다.
도 4는 제1 실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 5는 경화공정에 의한 기판의 휨 현상을 도시한 도면이다.
도 6은 각각의 컬러필터에 따른 휨량을 나타내는 표이다.
도 7은 제2 실시 예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 8은 제3 실시 예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.
도 9는 제3 실시 예에 따른 액정표시장치의 상면도이다.1 is a view showing a conventional liquid crystal display device.
2 is a view showing a curved panel of a conventional liquid crystal display device.
3 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment.
4 is a flowchart showing a manufacturing method of the liquid crystal display device according to the first embodiment.
5 is a view showing a warping phenomenon of the substrate by the curing process.
6 is a table showing the amount of deflection in accordance with each color filter.
7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to the second embodiment.
8 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to the third embodiment.
9 is a top view of a liquid crystal display device according to the third embodiment.

실시 예에 따른 액정표시장치의 제조방법은, 제1 기판상에 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하는 단계; 상기 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인 상에 층간 절연막을 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 R 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 B 컬러필터를 형성하는 단계; 상기 층간 절연막 상에 G 컬러필터를 형성하는 단계; 및 상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a liquid crystal display according to an embodiment includes forming a thin film transistor, a gate line, and a data line on a first substrate; Forming an interlayer insulating film on the thin film transistor, the gate line, and the data line; Forming an R color filter on the interlayer insulating film; Forming a B color filter on the interlayer insulating film; Forming a G color filter on the interlayer insulating film; And forming a passivation layer on the R, G, and B color filters.

상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층 대신 오버코트 층을 형성할 수 있다.An overcoat layer may be formed on the R, G, and B color filters in place of the passivation layer.

상기 패시베이션 층의 두께는 10000Å 내지 20000Å일 수 있다.The thickness of the passivation layer may be in the range of 10000 Å to 20000 Å.

상기 패시베이션 층 상에 공통 전극을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 공통 전극은 상기 데이터 라인과 대응되는 영역에 형성될 수 있다.And forming a common electrode on the passivation layer, wherein the common electrode may be formed in a region corresponding to the data line.

상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판에 컬럼 스페이서를 부착하는 단계; 및 상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계를 더 포함하고, 상기 컬럼 스페이서는 상기 공통 전극과 접촉할 수 있다.Attaching a column spacer to a second substrate opposite to the first substrate; And bonding the first substrate and the second substrate, wherein the column spacer can be in contact with the common electrode.

상기 제2 기판상에 투명 도전판을 형성하는 단계; 상기 투명 도전판 상에 UV레진을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.Forming a transparent conductive plate on the second substrate; And forming a UV resin on the transparent conductive plate.

상기 UV레진은 외곽영역에 투명 도전판을 노출시키며 형성될 수 있다.The UV resin may be formed by exposing a transparent conductive plate to an outer area.

상기 R, G, B 컬러필터 및 패시베이션 층 사이에 오버코트층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.And forming an overcoat layer between the R, G, and B color filters and the passivation layer.

상기 패시베이션 층 및 상기 오버코트층은 100Å 내지 20000Å 두께로 형성될 수 있다.The passivation layer and the overcoat layer may be formed to a thickness of 100 ANGSTROM to 20000 ANGSTROM.

상기 R, G, B 컬러필터를 형성하는 과정은 경화공정을 포함할 수 있다.The process of forming the R, G, and B color filters may include a curing process.

도 3은 제1 실시 예에 따른 곡면형 액정표시장치의 제조방법을 나타내기 위한 단면도이고, 도 4는 제1 실시 예에 따른 곡면형 액정표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a curved-type liquid crystal display device according to a first embodiment, and FIG. 4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a curved-type liquid crystal display device according to the first embodiment.

도 3 및 도 4를 참조하면 제1 실시 예에 따른 곡면형 액정표시장치의 제조방법은 기판(1) 상에 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인(3)을 형성한다.(S101)3 and 4, a method of manufacturing a curved-type liquid crystal display device according to the first embodiment forms a thin film transistor, a gate line, and a data line 3 on a substrate 1. (S101)

상기 게이트 라인 및 데이터 라인(3)은 교차되어 형성된다. 상기 게이트 라인 및 데이터 라인(3)의 교차에 의해 화소 영역이 정의된다.The gate line and the data line 3 are formed so as to intersect with each other. A pixel region is defined by the intersection of the gate line and the data line (3).

상기 박막 트랜지스터는 게이트 전극, 소스 전극, 드레인 전극 및 반도체 층(2)을 포함할 수 있다.The thin film transistor may include a gate electrode, a source electrode, a drain electrode, and a semiconductor layer 2.

상기 게이트 전극은 상기 게이트 라인으로부터 연장될 수 있다. 상기 게이트 전극은 상기 게이트 라인과 일체로 형성될 수 있다.The gate electrode may extend from the gate line. The gate electrode may be formed integrally with the gate line.

상기 게이트 라인이 형성된 기판(1) 상에 게이트 절연막이 형성될 수 있다. 상기 게이트 절연막 상에는 상기 반도체 층(2)이 형성될 수 있다. 상기 반도체 층(2)은 채널 영역 및 상기 채널 영역 양측에 형성되는 소스 영역 및 드레인 영역을 포함할 수 있다.A gate insulating film may be formed on the substrate 1 on which the gate lines are formed. The semiconductor layer 2 may be formed on the gate insulating layer. The semiconductor layer 2 may include a channel region and source and drain regions formed on both sides of the channel region.

상기 소스 영역상에는 소스 전극이 형성될 수 있다. 상기 소스 전극은 상기 데이터 라인(3)으로부터 연장형성될 수 있다. 상기 소스 전극은 상기 데이터 라인(3)과 일체로 형성될 수 있다.A source electrode may be formed on the source region. The source electrode may extend from the data line 3. The source electrode may be formed integrally with the data line 3.

상기 드레인 영역 상에는 드레인 전극이 형성될 수 있다.A drain electrode may be formed on the drain region.

상기 데이터 라인(3), 소스 전극 및 드레인 전극은 동일한 층에 형성될 수 있다. 상기 데이터 라인(3), 소스 전극 및 드레인 전극은 상기 반도체 층(2)과 동일한 마스크 공정에 의해 패터닝될 수 있다.The data line 3, the source electrode, and the drain electrode may be formed in the same layer. The data line 3, the source electrode, and the drain electrode may be patterned by the same mask process as the semiconductor layer 2.

상기 데이터 라인(3)과 상기 반도체 층(2)이 동일한 마스크 공정에 의해 패터닝됨으로써, 상기 반도체 층(2)은 상기 데이터 라인(3) 하부에 형성될 수 있다.The data line 3 and the semiconductor layer 2 are patterned by the same mask process so that the semiconductor layer 2 can be formed under the data line 3.

상기 데이터 라인(3), 소스 전극 및 드레인 전극이 형성된 게이트 절연막 상에 층간 절연막(5)이 형성될 수 있다.An interlayer insulating film 5 may be formed on the gate insulating film on which the data line 3, the source electrode, and the drain electrode are formed.

도 4a에는, 기판(1) 상에 형성된 반도체층(2), 데이터 라인(3) 및 층간 절연막(5)을 도시하였다. 인접하는 데이터 라인(3)에 의해 화소 영역의 폭이 결정된다.4A shows a semiconductor layer 2, a data line 3, and an interlayer insulating film 5 formed on a substrate 1. [ And the width of the pixel region is determined by the adjacent data line 3. [

상기 층간 절연막(5) 상에 컬러필터(11)를 형성할 수 있다.The color filter 11 can be formed on the interlayer insulating film 5. [

상기 컬러필터(11)는 상기 층간 절연막(5) 전체에 R, G 또는 B 컬러레진을 도포하고, 상기 컬러필터(11)를 형성하고자 하는 영역을 제외한 영역에 노광공정, 현상공정, 경화공정(cure)을 통해 형성할 수 있다. 상기와 같은 공정을 컬러필터(11)의 색상 종류만큼 반복하여 상기 컬러필터(11)를 형성할 수 있다.The color filter 11 is formed by applying R, G, or B color resin to the entire interlayer insulating film 5 and applying an exposure process, a development process, a curing process cure. < / RTI > The color filter 11 can be formed by repeating the above-described processes for the color type of the color filter 11.

또는, 상기 컬러필터(11)를 형성하고자 하는 영역에 노광 및 현상을 통해 상기 컬러필터(11)를 형성할 수도 있다. 상기 컬러필터(11)를 형성하지 않은 영역의 컬러레진은 스트립 공정을 통해 제거할 수 있다.Alternatively, the color filter 11 may be formed through exposure and development in an area where the color filter 11 is to be formed. The color resin in the region where the color filter 11 is not formed can be removed through the strip process.

상기 경화공정은 오븐에 의한 가열에 의해 상기 컬러레진을 경화시키는 공정이다.The curing step is a step of curing the color resin by heating with an oven.

도 5는 경화공정에 의한 기판의 휨 현상을 도시한 도면이다.5 is a view showing a warping phenomenon of the substrate by the curing process.

도 5a를 참조하면, 기판(1)의 층간 절연막(5) 상에 컬러필터(11)가 도포된다. 상기 컬러필터(11)가 형성된 기판(1)을 경화시키는 경우 도 5b와 같은 휨이 발생한다. 다시 말해, 상기 컬러필터(11)가 형성된 기판을 오븐을 통해 가열하는 경우 일정한 휨이 발생한다. 상기 휨의 정도를 휨량(h)으로 판단할 수 있다. Referring to FIG. 5A, a color filter 11 is applied on an interlayer insulating film 5 of a substrate 1. When the substrate 1 on which the color filter 11 is formed is cured, warping occurs as shown in Fig. 5B. In other words, when the substrate on which the color filter 11 is formed is heated through an oven, a certain warpage occurs. The degree of warpage can be determined as the amount of warpage h.

상기 휨량(h)은 경화 공정전의 컬러필터(11)의 상면과 경화 공정 후의 컬러필터(11)의 상면간의 거리로 정의될 수 있다.The warping amount h may be defined as a distance between the upper surface of the color filter 11 before the curing process and the upper surface of the color filter 11 after the curing process.

도 6은 각각의 컬러필터에 따른 휨량을 나타내는 표이다.6 is a table showing the amount of deflection in accordance with each color filter.

도 6은 각각의 컬러필터에 1회의 경화공정을 행하였을 때의 각각의 컬러필터에 발생하는 휨량을 나타낸다.6 shows the amount of warpage occurring in each color filter when one color filter is subjected to one curing process.

1회의 경화공정을 수행한 R 컬러필터는 1.92mm의 휨량이 발생한다. 1회의 경화공정을 수행한 G 컬러필터는 1.27mm의 휨량이 발생한다. 1회의 경화공정을 수행한 B 컬러필터는 1.66mm의 휨량이 발생하는 것을 실험을 통해 측정하였다.The R color filter subjected to one curing process causes a deflection of 1.92 mm. The G color filter subjected to one curing process has a deflection amount of 1.27 mm. It was experimentally determined that a B color filter subjected to one curing process had a deflection of 1.66 mm.

상기 1회의 경화 공정을 수행하는 경우 R 컬러필터의 휨량이 가장 크게 측정되었고, B 컬러필터, G 컬러필터 순으로 휨량 변화가 측정되었다. 상기 컬러필터의 휨을 이용하는 경우 액정표시패널 자체의 휨에 의해 곡면형 액정표시패널을 구현할 수 있고, 다른 기구물에 의한 곡면형성의 의존도를 줄일 수 있어, 상기 액정표시패널에 가해지는 압력을 줄일 수 있고, 이를 통해 빛샘을 개선할 수 있다.When the curing process was performed once, the deflection amount of the R color filter was measured to the greatest, and the change in the deflection amount was measured in the order of the B color filter and the G color filter. When the warp of the color filter is utilized, the curved surface type liquid crystal display panel can be realized by bending of the liquid crystal display panel itself, the reliance of curved surface formation by other structures can be reduced, and the pressure applied to the liquid crystal display panel can be reduced , Which can improve light leakage.

다시 도 3 및 도 4를 설명한다.3 and 4 will be described again.

도 4b를 참조하면 상기 인접하는 데이터 라인(3) 사이 영역에 R 컬러필터(12)를 형성할 수 있다. (S101)Referring to FIG. 4B, an R color filter 12 may be formed in a region between the adjacent data lines 3. (S101)

상기 R 컬러필터(12)는 상기 층간 절연막(5) 상에 R 컬러레진을 도포하고, 상기 R 컬러필터(12)를 형성하고자 하는 화소 영역을 제외한 영역에 노광공정, 현상공정 및 경화공정을 통해 형성할 수 있다.The R color filter 12 is formed by applying an R color resin on the interlayer insulating film 5 and performing an exposure process, a development process, and a curing process on a region except for the pixel region where the R color filter 12 is to be formed .

도 4c를 참조하면, 상기 R 컬러필터(12)가 형성된 화소 영역이 아닌 다른 화소 영역에 B 컬러필터(13)를 형성할 수 있다.(S103)4C, the B color filter 13 may be formed in a pixel region other than the pixel region where the R color filter 12 is formed. (S103)

상기 B 컬러필터(13)는 상기 R 컬러필터(12)가 형성된 층간 절연막(5) 상에 B 컬러레진을 도포하고, 상기 B 컬러필터(13)를 형성하고자 하는 화소 영역을 제외한 영역에 노광공정, 현상공정 및 경화공정을 통해 형성할 수 있다.The B color filter 13 is formed by applying a B color resin on the interlayer insulating film 5 on which the R color filter 12 has been formed and by performing an exposure process in an area except for the pixel area where the B color filter 13 is to be formed , A development process, and a curing process.

도 4d를 참조하면, 상기 R 컬러필터(12) 및 B 컬러필터(13)가 형성되지 않은 화소 영역에 G 컬러필터(14)를 형성할 수 있다.(S104)4D, the G color filter 14 can be formed in a pixel region where the R color filter 12 and the B color filter 13 are not formed (S104)

상기 G 컬러필터(14)는 상기 R 컬러필터(12) 및 B 컬러필터(13)가 형성된 층간 절연막(5) 상에 G 컬러레진을 도포하고, 상기 G 컬러필터(14)를 형성하고자 하는 화소 영역을 제외한 영역에 노광공정, 현상공정 및 경화 공정을 통해 형성할 수 있다.The G color filter 14 applies G color resin on the interlayer insulating film 5 on which the R color filter 12 and the B color filter 13 are formed, Can be formed through an exposure process, a development process, and a curing process in an area other than the area.

상기 컬러필터는 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14) 순서로 형성될 수 있다.The color filter may be formed in the order of the R color filter 12, the B color filter 13, and the G color filter 14.

상기 컬러필터를 상기와 같은 순서로 형성하여, 상기 R 컬러필터(12)에는 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14)의 형성공정에 의한 세 번의 경화 공정이 수행된다. 상기 R 컬러필터(12)는 1회의 경화 공정에 의한 휨량이 가장 크므로, 상기 R 컬러필터(12)를 가장 먼저 형성하여 기판 자체의 휨량을 가장 크도록 할 수 있다.The color filters are formed in the same order as described above and three curing processes by the R color filter 12, the B color filter 13, and the G color filter 14 are formed in the R color filter 12 . Since the R color filter 12 has the largest amount of warpage caused by one curing process, the R color filter 12 can be formed first and the amount of warping of the substrate itself can be maximized.

상기 B 컬러필터(13)에는 B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14)의 형성공정에 의한 두 번의 경화 공정이 수행된다. 상기 B 컬러필터(13)는 1회의 경화 공정에 의한 휨량이 R 컬러필터(12) 보다는 작고, G 컬러필터(14) 보다는 크므로, 2회의 경화 공정에 의한 기판의 휨량이 커지도록 할 수 있다.The B color filter 13 is subjected to two curing processes by the B color filter 13 and the G color filter forming process. Since the bending amount by the single curing process is smaller than that of the R color filter 12 and larger than that by the G color filter 14, the bending amount of the substrate by the two curing processes can be increased .

상기 G 컬러필터(14)는 G 컬러필터(14)의 형성에 의한 한 번의 경화 공정이 수행된다. 상기 G 컬러필터(14)는 1회의 경화 공정에 의한 휨량이 가장 작으므로, 상기 기판의 휨량이 가장 커지는 조건이 될 수 있다.The G color filter 14 is subjected to a single curing process by the formation of the G color filter 14. The G color filter 14 has the smallest amount of warpage caused by one curing process, and therefore can be a condition in which the amount of warping of the substrate becomes the largest.

상기 컬러필터를 상기와 같은 순서로 형성하여 컬러필터가 형성된 기판(1) 자체의 휨에 의해 곡면형 액정표시패널을 구현할 수 있고, 곡면을 구현하기 위한 다른 기구물 부착시 기구물에 의한 의존도를 줄일 수 있어, 액정표시패널에 가해지는 압력에 의한 빛샘을 개선할 수 있는 효과가 있다.The curved surface type liquid crystal display panel can be realized by forming the color filters in the same order as described above and by bending the substrate 1 on which the color filter is formed, Therefore, the light leakage caused by the pressure applied to the liquid crystal display panel can be improved.

도 4e를 참조하면, 상기 컬러필터 상에 패시베이션 층(15)이 형성될 수 있다.(S105)Referring to FIG. 4E, a passivation layer 15 may be formed on the color filter (S105)

상기 패시베이션 층(15)은 상기 컬러필터를 보호하기 위한 층으로 SiNx, SiOx, BCB(Benzocyclobutene) 또는 포토아크릴(photo acryl)로 형성될 수 있다.The passivation layer 15 may be formed of SiNx, SiOx, BCB (benzocyclobutene), or photo acryl as a layer for protecting the color filter.

상기 패시베이션 층(15)에도 경화공정이 수행되므로, R, G, B 컬러필터(12, 13, 14) 각각에 1회의 경화 공정이 부가되고, 상기 패시베이션 층(15) 또한 경화 공정에 의해 휨이 발생하여, 곡면형 액정표시패널의 형성에 기여할 수 있다.Since the passivation layer 15 is also subjected to a curing process, a single curing process is applied to each of the R, G and B color filters 12, 13 and 14, and the passivation layer 15 is also warped by the curing process. So that it can contribute to the formation of the curved liquid crystal display panel.

상기 패시베이션 층(15) 대신 오버코트 층을 형성할 수도 있다. 상기 오버코트 층을 도포하여 상기 컬러필터의 상면의 굴곡을 평탄화하고, 상기 컬러필터를 보호할 수 있다.An overcoat layer may be formed instead of the passivation layer 15. The overcoat layer is applied to flatten the curvature of the upper surface of the color filter to protect the color filter.

상기 오버코트 층 또한, 경화공정을 통해 형성됨으로써 곡면형 액정표시패널의 형성에 기여할 수 있다.The overcoat layer is also formed through a curing process, thereby contributing to formation of a curved liquid crystal display panel.

상기 패시베이션 층(15) 또는 오버코트 층은 10000Å 내지 20000Å 두께로 형성할 수 있다. 상기 패시베이션 층(15) 또는 오버코트 층의 두께가 10000Å 미만일 경우 경화공정에 의한 휨량이 작아져, 곡면 형성에 기여도가 떨어진다. 상기 패시베이션 층(15) 또는 오버코트 층의 두께가 20000Å 초과일 경우 상기 층간 절연막(5) 또는 컬러필터 상에 형성되는 화소 전극(미도시)과 공통 전극(19)의 이격에 의한 전계가 작아져서 액정의 변위에 많은 전력이 소모될 수 있다.The passivation layer 15 or the overcoat layer may be formed to a thickness of 10000 to 20000 angstroms. If the thickness of the passivation layer 15 or the overcoat layer is less than 10000 ANGSTROM, the amount of warpage caused by the curing process becomes small and the contribution to curved surface formation is reduced. When the thickness of the passivation layer 15 or the overcoat layer is more than 20,000 Å, the electric field due to the separation between the pixel electrode (not shown) formed on the interlayer insulating film 5 or the color filter and the common electrode 19 becomes small, A large amount of electric power may be consumed.

도 4f를 참조하면, 컬러필터가 형성된 제1 기판(10)과 제2 기판(20)을 합착한다.(S106)Referring to FIG. 4F, the first substrate 10 on which the color filter is formed and the second substrate 20 are attached together (S106)

상기 패시베이션 층(15) 상에는 공통 전극(19)이 형성될 수 있다. 상기 공통 전극(19)은 상기 데이터 라인(3)과 대응되는 영역에 형성될 수 있다. 상기 공통 전극(19)은 제2 기판(20) 상에 형성될 수도 있고, 상기 컬러필터상 또는 상기 층간 절연막(5) 상에도 형성될 수 있다.A common electrode 19 may be formed on the passivation layer 15. The common electrode 19 may be formed in a region corresponding to the data line 3. The common electrode 19 may be formed on the second substrate 20 or on the color filter or on the interlayer insulating film 5.

상기 제2 기판(20)에는 컬럼 스페이서(21)가 형성될 수 있다. 상기 컬럼 스페이서(21)는 상기 제1 기판(10)과 제2 기판(20) 사이의 셀갭을 유지하는 역할을 할 수 있다. 상기 컬럼 스페이서(21)는 상기 공통 전극(19)과 대응되는 영역에 형성될 수 있다.A column spacer 21 may be formed on the second substrate 20. The column spacer 21 may serve to maintain a cell gap between the first substrate 10 and the second substrate 20. The column spacer 21 may be formed in a region corresponding to the common electrode 19.

상기 제1 기판(10)과 제2 기판(20)의 합착을 수행하면, 상기 컬럼 스페이서(21)의 일 측은 상기 공통 전극(19)과 접촉할 수 있다.When the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together, one side of the column spacer 21 can be in contact with the common electrode 19.

상기 컬러필터를 박막 트랜지스터가 형성되는 제1 기판(10) 상에 형성하여 COT(color filter on transistor)구조를 구현할 수 있다.The color filter may be formed on a first substrate 10 on which a thin film transistor is formed to realize a color filter on transistor (COT) structure.

상기 제1 기판(10)을 COT구조로 형성하여 곡면형 액정표시패널의 합착시 발생할 수 있는 합착시 미스 얼라인에 의한 컬러필터 불량을 줄일 수 있는 효과가 있다. 다시 말해, 곡면형 액정표시패널의 경우 컬러필터를 제2 기판(20) 상에 형성하는 경우 곡면에 의한 미스 얼라인에 의한 불량이 자주발생한다. 상기 COT 구조는 이러한 불량을 줄여 제조과정에서의 수율향상의 효과가 있다.The first substrate 10 is formed in a COT structure to reduce the defective color filter due to misalignment when the curved liquid crystal display panel is attached. In other words, when the color filter is formed on the second substrate 20 in the case of the curved liquid crystal display panel, defects due to misalignment due to curved surfaces frequently occur. The COT structure can reduce the defects and improve the yield in the manufacturing process.

도 7은 제2 실시 예에 따른 액정표시장치의 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to the second embodiment.

제2 실시 예에 따른 액정표시장치는 제1 실시 예에 따른 액정표시장치와 비교하여 컬러필터 상에 패시베이션 층과 오버코트 층이 형성되는 것 이외에는 동일하다. 따라서, 제2 실시 예를 설명함에 있어서, 상기 제1 실시 예와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면번호를 부여하고 상세한 설명을 생략한다.The liquid crystal display device according to the second embodiment is the same as the liquid crystal display device according to the first embodiment except that the passivation layer and the overcoat layer are formed on the color filter. Therefore, in describing the second embodiment, the same reference numerals are assigned to the same components as those of the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

도 7을 참조하면 제2 실시 예에 따른 액정표시장치의 제1 기판(10)은 기판(1) 상에 반도체 층(2), 데이터 라인(3), 층간 절연막(5), R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14)가 순차적으로 형성된다.7, the first substrate 10 of the liquid crystal display according to the second embodiment includes a semiconductor layer 2, a data line 3, an interlayer insulating film 5, an R color filter 12, a B color filter 13, and a G color filter 14 are sequentially formed.

상기 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14) 상에 오버코트 층(17)이 형성될 수 있다. 상기 오버코트 층(17)은 상기 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14) 상면의 굴곡을 평탄화 하고 상기 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14)를 보호할 수 있다.An overcoat layer 17 may be formed on the R color filter 12, the B color filter 13, and the G color filter 14. The overcoat layer 17 smoothes the curvature of the upper surface of the R color filter 12, the B color filter 13 and the G color filter 14 and smoothens the curvature of the R color filter 12, the B color filter 13, and the G color filter 14, The color filter 14 can be protected.

상기 오버코트 층(17)은 경화 공정을 통해 형성됨으로써 곡면형 액정표시패널의 형성에 기여할 수 있다. 상기 오버코트 층(17)은 100Å 내지 20000Å 두께로 형성될 수 있다.The overcoat layer 17 is formed through a curing process, thereby contributing to formation of a curved liquid crystal display panel. The overcoat layer 17 may be formed to a thickness of 100 ANGSTROM to 20000 ANGSTROM.

상기 오버코트 층(17) 상에 패시베이션 층(15)이 형성될 수 있다. 상기 패시베이션 층(15) 또한 경화 공정을 통해 형성되므로 상기 경화 공정에 의해 발생한 휨을 통해 곡면형 액정표시패널의 형성에 기여할 수 있다. 상기 패시베이션 층(15)은 100Å 내지 20000Å 두께로 형성될 수 있다.A passivation layer 15 may be formed on the overcoat layer 17. Since the passivation layer 15 is also formed through the curing process, it can contribute to the formation of the curved liquid crystal display panel due to the warping generated by the curing process. The passivation layer 15 may be formed to a thickness of 100 ANGSTROM to 20000 ANGSTROM.

제2 실시 예에 따른 액정표시장치는 상기 R 컬러필터(12), B 컬러필터(13) 및 G 컬러필터(14) 상에 상기 오버코트 층(17) 및 상기 패시베이션 층(15)을 적층하여, 2회의 경화 공정이 부가되므로 상기 제1 기판(10)에 휨량을 크게할 수 있다. 이로써 제1 기판(10) 자체의 휨에 의해 곡면형 액정표시패널을 구현할 수 있고, 곡면형을 구현하기 위한 다른 기구물 부착시 기구물에 의한 의존도를 줄일 수 있어, 액정표시패널에 가해지는 압력에 의한 빛샘을 개선할 수 있는 효과가 있다.The liquid crystal display according to the second embodiment is characterized in that the overcoat layer 17 and the passivation layer 15 are laminated on the R color filter 12, the B color filter 13 and the G color filter 14, The amount of deflection can be increased on the first substrate 10 because two curing processes are added. As a result, the curved surface type liquid crystal display panel can be realized by bending the first substrate 10 itself, and the dependence of the other structures on the curved type liquid crystal display panel can be reduced, There is an effect that light leakage can be improved.

도 8은 제3 실시 예에 따른 액정표시장치의 단면도이고, 도 9는 제3 실시 예에 따른 액정표시장치의 상면도이다.FIG. 8 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the third embodiment, and FIG. 9 is a top view of the liquid crystal display device according to the third embodiment.

제3 실시 예에 따른 액정표시장치는 제1 실시 예에 따른 액정표시장치와 비교하여 제2 기판 상에 UV레진을 도포한 것 이외에는 동일하다. 따라서, 제3 실시 예를 설명함에 있어서, 상기 제1 실시 예와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면 번호를 부여하고 상세한 설명을 생략한다.The liquid crystal display device according to the third embodiment is the same as the liquid crystal display device according to the first embodiment except that the UV resin is applied on the second substrate. Therefore, in describing the third embodiment, the same reference numerals are assigned to the same components as those of the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

도 8 및 도 9를 참조하면, 상기 제2 기판(20) 상에 투명 도전판(27)이 형성될 수 있다.Referring to FIGS. 8 and 9, a transparent conductive plate 27 may be formed on the second substrate 20.

상기 투명 도전판(27)은 ITO, IZO 또는 ITZO로 형성될 수 있다.The transparent conductive plate 27 may be formed of ITO, IZO, or ITZO.

상기 액정표시장치의 제조 공정 또는 사용과정에서 발생하는 정전기는 짧은 시간(수십 ns) 내에 많은 에너지를 상기 액정표시장치에 인가하기 때문에, 상기 액정표시장치의 내부에 구비되는 소자(특히, 상기 박막트랜지스터)는 치명적인 손상을 입게 된다. 상기 투명 도전판(27)은 상기 액정표시장치의 제조공정 또는 사용과정에서 발생할 수 있는 정전기를 외부로 방출하는 역할을 한다.Since the static electricity generated in the manufacturing process or the use process of the liquid crystal display device applies a large amount of energy to the liquid crystal display device in a short time (tens of ns) ) Are subject to fatal damage. The transparent conductive plate 27 serves to discharge static electricity, which may occur during the manufacturing process or use of the liquid crystal display device, to the outside.

상기 투명 도전판(27) 상에는 UV레진(25)이 형성될 수 있다. 상기 UV레진(25)은 외곽영역에 상기 투명 도전판(27)을 노출하며 형성될 수 있다. 상기 UV레진(25)을 상기 투명 도전판(27)을 일부 노출하며 형성하여 상기 액정표시장치의 제조공정 또는 사용과정에서 발생할 수 있는 정전기를 기구물을 통해 외부로 방출할 수 있다.A UV resin 25 may be formed on the transparent conductive plate 27. The UV resin 25 may be formed by exposing the transparent conductive plate 27 to an outer area. The UV resin 25 may be partially exposed to the transparent conductive plate 27 to discharge static electricity generated during the manufacturing process or use of the liquid crystal display device to the outside through the device.

상기 UV레진(25)은 자외선에 의해 경화되는 물질일 수 있다.The UV resin 25 may be a material that is cured by ultraviolet light.

상기 UV레진(25)은 경화 공정을 통해 형성되므로 상기 제2 기판(20)에 일정한 휨을 야기할 수 있다. 이로써 제2 기판(20) 자체의 휨에 의해 곡면형 액정표시패널을 구현할 수 있고, 곡면형을 구현하기 위한 다른 기구물 부착시 기구물에 의한 의존도를 줄일 수 있어, 액정표시패널에 가해지는 압력에 의한 빛샘을 개선할 수 있는 효과가 있다.
Since the UV resin 25 is formed through a curing process, the second substrate 20 may be warped. As a result, the curvature-type liquid crystal display panel can be realized by bending the second substrate 20 itself, and the dependence of the other structures on the curvature-type liquid crystal display panel can be reduced, There is an effect that light leakage can be improved.

1: 기판 2: 반도체 층
3: 데이터 라인 5: 층간 절연막
10: 제1 기판 12: R 컬러필터
13: B 컬러필터 14: G 컬러필터
15: 패시베이션 층 17: 오버코트 층
19: 공통전극 20: 제2 기판
21: 컬럼 스페이서 25: UV 레진
27: 투명 도전판1: substrate 2: semiconductor layer
3: Data line 5: Interlayer insulating film
10: first substrate 12: R color filter
13: B color filter 14: G color filter
15: passivation layer 17: overcoat layer
19: common electrode 20: second substrate
21: Column spacer 25: UV resin
27: transparent conductive plate

Claims (10)

제1 기판상에 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하는 단계;
상기 박막 트랜지스터, 게이트 라인 및 데이터 라인 상에 층간 절연막을 형성하는 단계;
상기 층간 절연막 상에 R 컬러필터를 형성하는 단계;
상기 층간 절연막 상에 B 컬러필터를 형성하는 단계;
상기 층간 절연막 상에 G 컬러필터를 형성하는 단계; 및
상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층을 형성하는 단계를 통해 상기 제1 기판에 일정한 곡률을 부여하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.Forming a thin film transistor, a gate line, and a data line on the first substrate;
Forming an interlayer insulating film on the thin film transistor, the gate line, and the data line;
Forming an R color filter on the interlayer insulating film;
Forming a B color filter on the interlayer insulating film;
Forming a G color filter on the interlayer insulating film; And
And forming a passivation layer on the R, G, and B color filters to give a predetermined curvature to the first substrate. 제1항에 있어서,
상기 R, G, B 컬러필터 상에 패시베이션 층 대신 오버코트 층을 형성하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.The method according to claim 1,
And forming an overcoat layer in place of the passivation layer on the R, G, and B color filters. 제1항에 있어서,
상기 패시베이션 층의 두께는 10000Å 내지 20000Å인 곡면형 액정표시장치의 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the passivation layer has a thickness of 10000 to 20000 angstroms. 제1항에 있어서,
상기 패시베이션 층 상에 공통 전극을 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 공통 전극은 상기 데이터 라인과 대응되는 영역에 형성되는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.The method according to claim 1,
Further comprising forming a common electrode on the passivation layer,
And the common electrode is formed in a region corresponding to the data line. 제4항에 있어서,
상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판에 컬럼 스페이서를 부착하는 단계; 및
상기 제1 기판과 제2 기판을 합착하는 단계를 더 포함하고,
상기 컬럼 스페이서는 상기 공통 전극과 접촉하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.5. The method of claim 4,
Attaching a column spacer to a second substrate opposite to the first substrate; And
Further comprising attaching the first substrate and the second substrate,
Wherein the column spacer is in contact with the common electrode. 제5항에 있어서,
상기 제2 기판상에 투명 도전판을 형성하는 단계; 및
상기 투명 도전판 상에 UV레진을 형성하여 상기 제2 기판에 일정한 곡률을 부가하는 단계를 더 포함하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.6. The method of claim 5,
Forming a transparent conductive plate on the second substrate; And
And forming a UV resin on the transparent conductive plate to add a predetermined curvature to the second substrate. 제6항에 있어서,
상기 UV레진은 외곽영역에 투명 도전판을 노출시키며 형성되는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the UV resin is formed by exposing a transparent conductive plate to an outer area. 제1항에 있어서,
상기 R, G, B 컬러필터 및 패시베이션 층 사이에 오버코트층을 형성하는 단계를 더 포함하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.The method according to claim 1,
And forming an overcoat layer between the R, G, and B color filters and the passivation layer. 제8항에 있어서,
상기 패시베이션 층 및 상기 오버코트층은 100Å 내지 20000Å 두께로 형성되는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.9. The method of claim 8,
Wherein the passivation layer and the overcoat layer are formed to a thickness of 100 ANGSTROM to 20000 ANGSTROM. 제1항에 있어서,
상기 R, G, B 컬러필터를 형성하는 과정 중 경화공정을 통해 상기 제1 기판에 곡률을 부여하는 곡면형 액정표시장치의 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein a curvature is imparted to the first substrate through a curing process during a process of forming the R, G, and B color filters.
KR1020120143529A 2012-12-11 2012-12-11 A method for fabricating curved liquid crystal display device KR102012823B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120143529A KR102012823B1 (en) 2012-12-11 2012-12-11 A method for fabricating curved liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120143529A KR102012823B1 (en) 2012-12-11 2012-12-11 A method for fabricating curved liquid crystal display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140075309A true KR20140075309A (en) 2014-06-19
KR102012823B1 KR102012823B1 (en) 2019-08-21

Family

ID=51128063

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120143529A KR102012823B1 (en) 2012-12-11 2012-12-11 A method for fabricating curved liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102012823B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102113972B1 (en) 2018-10-12 2020-06-02 정충교 Trasferring system for collecting concomitant

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060043040A (en) * 2004-07-30 2006-05-15 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Liquid crystal display device and the fabrication method thereof
JP2009093000A (en) * 2007-10-10 2009-04-30 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060043040A (en) * 2004-07-30 2006-05-15 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Liquid crystal display device and the fabrication method thereof
JP2009093000A (en) * 2007-10-10 2009-04-30 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
KR102012823B1 (en) 2019-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7643112B2 (en) Color filter substrate and manufacturing method thereof
US9880414B2 (en) Array substrate, liquid crystal display panel and display device
JP5536986B2 (en) Liquid crystal display
US9244320B2 (en) Liquid crystal display and manufacturing method thereof
US8264657B2 (en) Liquid crystal display panel and method of manufacturing the same
US8446558B2 (en) Liquid crystal display panel and method for fabricating the same
KR100795854B1 (en) Liquid crystal display element
JP5292612B2 (en) Liquid crystal display
JP2005266011A (en) Color filter substrate and display device using the same
KR20110046130A (en) Liquid crystal display panel
JP2011197643A (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
US10942390B2 (en) Display substrate and fabricating method thereof, and display panel
US20110147743A1 (en) Thin film transistor substrate and method for fabricating the same
KR102063598B1 (en) Liquid crystal display and method for fabricating the same
KR101937771B1 (en) Liquid crystal display and method for fabricating the same
KR20120042010A (en) Thin film transistor array panel, liquid crystal display device, and the method for manufacturing thereof
US20070040964A1 (en) Liquid crystal display device
JP2009258241A (en) Liquid crystal display
KR102062556B1 (en) Curved panel and liquid crystal display using the same
KR20140073648A (en) Liquid crystal display and method for fabricating the same
KR101982095B1 (en) Liquid crystal display having seal pattern
KR102012823B1 (en) A method for fabricating curved liquid crystal display device
JP2010054552A (en) Liquid crystal display device
WO2010079540A1 (en) Liquid-crystal display panel
KR20140075076A (en) Method for fabricating liquid crystal display

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant