JP5163547B2 - Card edge terminal manufacturing method for printed wiring board - Google Patents

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本発明は、プリント配線基板のカードエッジ端子製造方法に関し、電極との接続用リード線が不要なカードエッジコネクタを有するプリント配線基板の製造に好ましく適用される技術に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a card edge terminal of a printed wiring board, and relates to a technique preferably applied to the production of a printed wiring board having a card edge connector that does not require a lead wire for connection to an electrode.

従来、電子機器にプリント基板を内部実装するために、プリント基板のエッジ部分を接続端子部として、機器に設けられたカードエッジコネクタに直接挿入嵌合して実装するカードエッジコネクタ実装基板が用いられている。このような実装基板の接続端子部にプリント形成される各端子には、導通性の向上を図るため電解金めっきが施されることが多い。この電解金めっきに際して、各接続端子部を電気的につなぐために電極接続用リード線が不可欠となる。   Conventionally, in order to internally mount a printed circuit board in an electronic device, a card edge connector mounting substrate that is mounted by being directly inserted and fitted into a card edge connector provided in the device using the edge portion of the printed circuit board as a connection terminal portion has been used. ing. Each terminal printed on the connection terminal portion of the mounting substrate is often subjected to electrolytic gold plating in order to improve conductivity. In this electrolytic gold plating, an electrode connection lead wire is indispensable for electrically connecting the connection terminal portions.

こうして接続端子部に電解金めっきが施され、所定の回路が形成された後、ルータ等による機械装置でプリント基板が必要な大きさに外形加工(カット)されて最終的な基板となる。ここで、この外形加工において接続端子部の外延領域が切り出される場合には、接続端子部から伸びた接続用リード線が切断され、接続用リード線のめくれやばりが生じ、ひいては回路配線パターンの剥離が発生することもある。また、接続用リード線のめくれやばりにより、近接端子とショートする危険性がある。   After the electrolytic gold plating is thus applied to the connection terminal portion and a predetermined circuit is formed, the printed circuit board is processed (cut) into a required size by a mechanical device such as a router to become a final substrate. Here, when the extension region of the connection terminal portion is cut out in this outer shape processing, the connection lead wire extending from the connection terminal portion is cut, and the connection lead wire is turned up and flashed. Separation may occur. Also, there is a risk of short-circuiting with the adjacent terminal due to turning or flashing of the connecting lead wire.

これに対して、接続用リード線のめくれやばりを防止する技術として、接続用リード線を内層に配置する方法が例えば特許文献1で開示されている。また、例えば特許文献2では、配線基板における端子等の金属露出部を効率的に電解めっきする技術として、配線基板の内部ネットの全端子を一時的に短絡して外部端子に接続してから、この外部端子を電極に接続して電解めっきを行い、その後に短絡を解除して各端子の短絡部分に後処理を施す電解めっき方法が開示されている。   On the other hand, as a technique for preventing the connection lead wire from being turned over or flashing, a method of arranging the connection lead wire in the inner layer is disclosed in Patent Document 1, for example. Further, for example, in Patent Document 2, as a technique for efficiently electroplating a metal exposed portion such as a terminal in a wiring board, all terminals of an internal net of the wiring board are temporarily short-circuited and connected to an external terminal, An electrolytic plating method is disclosed in which this external terminal is connected to an electrode to perform electroplating, and then a short circuit is released and a short circuit portion of each terminal is post-treated.

特開平9−162508号公報JP-A-9-162508 特開昭59−165491号公報JP 59-165491 A

特許文献2の発明は、確かに、配線基板の外部端子に電極を接続するだけで内部ネットの各端子をも一度にめっきできるが、接続用リード線のめくれやばりに対応できるものではない。また、特許文献1の発明は、接続用リード線を基板の内側に配置することで接続用リード線のめくれやばりを防止しようとするものだが、接続用リード線の配置にある程度の工程がかかり、またリード線の露出部分への腐食生成物の発生が懸念される。   Although the invention of Patent Document 2 can certainly plate each terminal of the internal net at once by simply connecting the electrode to the external terminal of the wiring board, it cannot cope with turning or flashing of the connecting lead wire. The invention of Patent Document 1 tries to prevent the connection lead wire from being turned over or flashed by arranging the connection lead wire inside the substrate. However, it takes a certain amount of steps to arrange the connection lead wire. Moreover, there is a concern about the generation of corrosion products on the exposed portions of the lead wires.

そこで、本発明は、プリント配線基板のカードエッジ端子製造方法において、電解めっきを行うための給電手段としての接続用リード線を形成することなく、接続端子部を基板のエッジ部分に電解めっきで形成することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a method for manufacturing a card edge terminal of a printed wiring board, wherein the connection terminal portion is formed by electrolytic plating on the edge portion of the substrate without forming connection lead wires as power supply means for performing electrolytic plating. The purpose is to do.

かかる目的を達成するために、本発明のプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法は、プリント配線基板の表面全体に形成された銅薄膜を給電用電極として用い、プリント配線基板上の所定領域に電解金めっきを行って端子を形成する端子形成工程と、端子形成工程後のプリント配線基板に回路の配線パターンを形成して外形加工を行う回路形成工程と、を有する。   In order to achieve such an object, the card edge terminal manufacturing method for a printed wiring board according to the present invention uses a copper thin film formed on the entire surface of the printed wiring board as an electrode for power feeding, and electrolyzes a predetermined region on the printed wiring board. A terminal forming step of forming a terminal by performing gold plating; and a circuit forming step of forming a circuit wiring pattern on the printed wiring board after the terminal forming step and performing external processing.

本発明によれば、プリント配線基板のカードエッジ端子製造方法において、電解めっきを行うための給電手段としての接続用リード線を形成することなく、接続端子部を基板のエッジ部分に電解めっきで形成することが可能となる。   According to the present invention, in the method for manufacturing a card edge terminal of a printed wiring board, the connection terminal portion is formed by electrolytic plating on the edge portion of the substrate without forming a connection lead wire as a power supply means for performing electrolytic plating. It becomes possible to do.

本発明に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on this invention. 本発明に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on this invention. 本発明に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on this invention. 本発明に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法で形成された接続端子部を示した図である。It is the figure which showed the connecting terminal part formed with the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board concerning this invention. 従来のプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法で形成された接続端子部を示した図である。It is the figure which showed the connection terminal part formed with the card edge terminal manufacturing method of the conventional printed wiring board. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the card edge terminal manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 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本発明では、図1に示すように、プリント配線基板のカードエッジ端子製造方法は、端子形成工程S10、回路形成工程S20を有する。端子形成工程S10は、プリント配線基板の表面全体に形成された銅薄膜を給電用電極として用い、プリント配線基板上の所定領域に電解金めっきを行って端子を形成する工程で、図2に示すように、導薄膜形成工程S11、金めっき領域形成工程S12、金めっき工程S13を有するものであってよい。回路形成工程S20は、端子形成工程S10の後のプリント配線基板に回路の配線パターンを形成して外形加工を行う工程で、図3に示すように、銅錫めっき領域形成工程S21、銅めっき工程S22、錫めっき工程S23、銅薄膜除去工程S24、錫薄膜除去工程S25、後処理工程S26を有するものであってよい。   In this invention, as shown in FIG. 1, the card edge terminal manufacturing method of a printed wiring board has terminal formation process S10 and circuit formation process S20. The terminal forming step S10 is a step of forming a terminal by performing electrolytic gold plating on a predetermined region on the printed wiring board using a copper thin film formed on the entire surface of the printed wiring board as a power feeding electrode, as shown in FIG. Thus, it may have a conductive thin film forming step S11, a gold plating region forming step S12, and a gold plating step S13. The circuit forming step S20 is a step of forming a circuit wiring pattern on the printed wiring board after the terminal forming step S10 and performing outline processing. As shown in FIG. 3, the copper tin plating region forming step S21, the copper plating step You may have S22, tin plating process S23, copper thin film removal process S24, tin thin film removal process S25, and post-processing process S26.

導薄膜形成工程S11は、最初の工程で、プリント配線基板の表面全体に銅薄膜を形成する工程である。金めっき領域形成工程S12は、銅薄膜形成工程S11の後のプリント配線基板の表面全体に感光性ドライフィルムを塗布し、端子が形成される領域(端子形成領域)と給電に用いられる領域(給電領域)の感光性ドライフィルムを除去して、金めっきを行うための領域を確保する工程である。金めっき工程S13は、金めっき領域形成工程S12で形成された給電領域に通電して端子形成領域に電解金めっきを行い、端子を形成する工程である。   Conductive thin film forming step S11 is a first step in which a copper thin film is formed on the entire surface of the printed wiring board. In the gold plating region forming step S12, a photosensitive dry film is applied to the entire surface of the printed wiring board after the copper thin film forming step S11, and a region where the terminals are formed (terminal forming region) and a region used for power feeding (power feeding). In this step, the photosensitive dry film in the region is removed to secure a region for gold plating. The gold plating step S13 is a step of forming a terminal by energizing the power feeding region formed in the gold plating region forming step S12 to perform electrolytic gold plating on the terminal forming region.

銅錫めっき領域形成工程S21は、端子形成工程S10の後のプリント配線基板の表面全体に感光性ドライフィルムを塗布し、回路が形成される領域(回路形成領域)と給電に用いられる領域(給電領域)の感光性ドライフィルムを除去して、銅めっきや錫めっきを行うための領域を確保する工程である。銅めっき工程S22は、銅錫めっき領域形成工程S21で形成された給電領域に通電して回路形成領域に銅めっきを行う工程である。錫めっき工程S23は、銅錫めっき領域形成工程S21で形成された給電領域に通電し、銅めっき工程S22で銅薄膜が形成された回路形成領域に錫めっきを行う工程である。銅薄膜除去工程S24は、錫めっき工程S23の後、プリント配線基板に形成されて残存する銅薄膜を除去する工程である。錫薄膜除去工程S25は、銅薄膜除去工程S24の後、錫めっき工程S23で形成された錫薄膜を除去する工程である。後処理工程S26は、錫薄膜除去工程S25の後のプリント配線基板にソルダーレジストを塗布し、基板カット等の外形加工を行う工程である。   In the copper tin plating region forming step S21, a photosensitive dry film is applied to the entire surface of the printed wiring board after the terminal forming step S10, and a region where a circuit is formed (circuit forming region) and a region used for power feeding (power feeding). In this step, the photosensitive dry film in the region is removed to secure a region for copper plating or tin plating. The copper plating step S22 is a step of energizing the power feeding region formed in the copper tin plating region forming step S21 to perform copper plating on the circuit forming region. The tin plating step S23 is a step of energizing the power feeding region formed in the copper tin plating region forming step S21 and performing tin plating on the circuit forming region in which the copper thin film is formed in the copper plating step S22. The copper thin film removing step S24 is a step of removing the copper thin film remaining on the printed wiring board after the tin plating step S23. The tin thin film removing step S25 is a step of removing the tin thin film formed in the tin plating step S23 after the copper thin film removing step S24. The post-processing step S26 is a step in which a solder resist is applied to the printed wiring board after the tin thin film removing step S25, and external processing such as substrate cutting is performed.

図4は、本発明によるプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法で形成された接続端子部を示した図であり、図5は、従来のプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法で形成された接続端子部を示した図である。図4に示すように、本発明によるプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法で、従来の方法では必須となる電極接続用リード線3を形成することなく、プリント基板2の基板エッジ部分に端子1を形成することが可能である。本発明では、プリント配線基板が外形加工される前で、表面全体に銅薄膜が形成され導通状態にあるうちに、この銅薄膜を用いて端子形成領域に電解金めっきを施すため、電解金めっきを行うための接続用リード線を形成させる必要がなく、接続端子形成後の基板上に接続用リード線は存在しない。   FIG. 4 is a diagram illustrating a connection terminal portion formed by a method for manufacturing a card edge terminal of a printed wiring board according to the present invention, and FIG. 5 is a connection formed by a method for manufacturing a card edge terminal of a conventional printed wiring board. It is the figure which showed the terminal part. As shown in FIG. 4, in the printed circuit board card edge terminal manufacturing method according to the present invention, the terminal 1 is formed on the board edge portion of the printed circuit board 2 without forming the electrode connecting lead 3 which is essential in the conventional method. Can be formed. In the present invention, before the printed wiring board is subjected to outer shape processing, the copper thin film is formed on the entire surface and is in a conductive state. There is no need to form a connection lead wire for performing connection, and there is no connection lead wire on the substrate after the connection terminal is formed.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[第1実施形態]
まず、シールド板コア4−1について内層パターンを形成するとともに、シールド板表層銅箔4−2を生成するなど積層を行い、シールド板4を製造する(図6)。これは、図2の銅薄膜形成工程S11に相当する工程である。次いで、シールド板4に対してスルホール用下穴5の穴あけを行う(図7)。
[First Embodiment]
First, while forming an inner layer pattern about shield board core 4-1, lamination is performed, such as producing shield board surface layer copper foil 4-2, and shield board 4 is manufactured (Drawing 6). This is a process corresponding to the copper thin film forming process S11 of FIG. Next, a through-hole pilot hole 5 is drilled in the shield plate 4 (FIG. 7).

そして、シールド板4の表面に感光性ドライフィルム6を張り(図8)、露光の後に端子部分7と電解金めっき時の給電部分8のドライフィルムを炭酸ナトリウム等で現像除去する(図9)。これは、図2の金めっき領域形成工程S12に相当する工程である。次いで、給電部分8に電気を通して端子部分7に電解金めっき9を生成する(図10)。これは、図2の金めっき工程S13に相当する工程である。次いで、水酸化ナトリウム等でドライフィルム6を剥離する(図11)。   Then, a photosensitive dry film 6 is stretched on the surface of the shield plate 4 (FIG. 8), and after exposure, the dry film of the terminal portion 7 and the feeding portion 8 at the time of electrolytic gold plating is developed and removed with sodium carbonate or the like (FIG. 9). . This is a step corresponding to the gold plating region forming step S12 of FIG. Next, electricity is passed through the power feeding portion 8 to generate electrolytic gold plating 9 on the terminal portion 7 (FIG. 10). This is a step corresponding to the gold plating step S13 of FIG. Next, the dry film 6 is peeled off with sodium hydroxide or the like (FIG. 11).

続いて、電解金めっき9が形成されたシールド板4に感光性ドライフィルム10を張り(図12)、露光の後に回路・スルホール部分11と給電部分8の感光性ドライフィルムを炭酸ナトリウム等で現像除去する(図13)。これは、図3の銅錫めっき領域形成工程S21に相当する工程である。   Subsequently, a photosensitive dry film 10 is stretched on the shield plate 4 on which the electrolytic gold plating 9 is formed (FIG. 12), and after the exposure, the photosensitive dry film of the circuit / through hole portion 11 and the feeding portion 8 is developed with sodium carbonate or the like. It is removed (FIG. 13). This is a step corresponding to the copper tin plating region forming step S21 of FIG.

次に、給電部分8に電気を通して回路・スルホール部分11に銅めっき12を生成する(図14)。これは、図3の銅めっき工程S22に相当する工程である。次いで、エッチングレジストとして錫めっき13を形成する(図15)。これは、図3の錫めっき工程S23に相当する工程である。次いで、シールド板4に残存する感光性ドライフィルム10を水酸化ナトリウム等で剥離する(図16)。   Next, electricity is passed through the power feeding portion 8 to form a copper plating 12 on the circuit / through hole portion 11 (FIG. 14). This is a process corresponding to the copper plating process S22 of FIG. Next, tin plating 13 is formed as an etching resist (FIG. 15). This is a step corresponding to the tin plating step S23 of FIG. Next, the photosensitive dry film 10 remaining on the shield plate 4 is peeled off with sodium hydroxide or the like (FIG. 16).

そして、シールド板4で露出している銅部分を電解金めっき9と錫めっき13に影響を与えないエッチング液によりエッチング除去する(図17)。これは、図3の銅薄膜除去工程S24に相当する工程である。次いで、錫めっき13を電解金めっき9に影響を与えないエッチング液によりエッチング除去する(図18)。これは、図3の銅薄膜除去工程S25に相当する工程である。以上の工程により、電極接続用リード線がなく、電解めっき9が形成されたエッジ端子1、回路14、スルホール15を得ることができる。   Then, the copper portion exposed by the shield plate 4 is removed by etching with an etching solution that does not affect the electrolytic gold plating 9 and the tin plating 13 (FIG. 17). This is a process corresponding to the copper thin film removing process S24 of FIG. Next, the tin plating 13 is removed by etching with an etching solution that does not affect the electrolytic gold plating 9 (FIG. 18). This is a process corresponding to the copper thin film removing process S25 of FIG. Through the above steps, the edge terminal 1, the circuit 14, and the through hole 15 in which the electroplating 9 is formed without the electrode connecting lead wire can be obtained.

以後は、ソルダーレジスト塗布、外形加工等を行ってプリント配線板として完成させる。これは、図3の後処理工程S26に相当する工程である。   Thereafter, a printed wiring board is completed by applying a solder resist, external processing, and the like. This is a step corresponding to the post-processing step S26 in FIG.

[第2実施形態]
本発明の第2実施形態としてパネルめっきでの製造方法を説明する。まず、内層パターンの形成、シールド板表層銅箔4−2の生成等を行ってシールド板4を製造する(図6)。そして、シールド板4に対してスルホール用下穴5の穴あけを行う(図7)。ここまでは第1実施形態と同様である。
[Second Embodiment]
A manufacturing method using panel plating will be described as a second embodiment of the present invention. First, the shield plate 4 is manufactured by forming the inner layer pattern, generating the shield plate surface layer copper foil 4-2, and the like (FIG. 6). Then, through holes 5 for through holes are made in the shield plate 4 (FIG. 7). The process up to this point is the same as in the first embodiment.

次いで、シールド板4上に銅めっき20を行い、スルホール21を形成する(図19)。これは、図2の銅薄膜形成工程S11に相当する工程である。そして、シールド板4の表面に感光性ドライフィルム22を張り(図20)、露光の後に端子部分23と電解金めっき時の給電部分24のドライフィルムを炭酸ナトリウム等で現像除去する(図21)。これは、図2の金めっき領域形成工程S12に相当する工程である。次いで、給電部分8に電気を通して端子部分23に電解金めっき25を生成する(図22)。これは、図2の金めっき工程S13に相当する工程である。次いで、水酸化ナトリウム等でドライフィルム22を剥離する(図23)。   Next, copper plating 20 is performed on the shield plate 4 to form through holes 21 (FIG. 19). This is a process corresponding to the copper thin film forming process S11 of FIG. Then, a photosensitive dry film 22 is stretched on the surface of the shield plate 4 (FIG. 20), and after exposure, the dry film of the terminal portion 23 and the power feeding portion 24 during electrolytic gold plating is developed and removed with sodium carbonate or the like (FIG. 21). . This is a step corresponding to the gold plating region forming step S12 of FIG. Next, electricity is passed through the power supply portion 8 to generate electrolytic gold plating 25 on the terminal portion 23 (FIG. 22). This is a step corresponding to the gold plating step S13 of FIG. Next, the dry film 22 is peeled off with sodium hydroxide or the like (FIG. 23).

続いて、シールド板4の表面に感光性ドライフィルム26を張り(図24)、露光の後に回路・スルホール等の導体を残す必要がある部分以外のドライフィルムを炭酸ナトリウム等で現像除去する(図25)。これは、図3の銅錫めっき領域形成工程S21に相当する工程である。このとき、電解金めっき25のオーバーハング27(図28)を防止するため感光性ドライフィルム26は電解金めっき25より広い範囲に残すようにする。   Subsequently, a photosensitive dry film 26 is stretched on the surface of the shield plate 4 (FIG. 24), and the dry film other than the portion where conductors such as circuits and through-holes need to be left after exposure is developed and removed with sodium carbonate or the like (FIG. 24). 25). This is a step corresponding to the copper tin plating region forming step S21 of FIG. At this time, in order to prevent the overhang 27 (FIG. 28) of the electrolytic gold plating 25, the photosensitive dry film 26 is left in a wider range than the electrolytic gold plating 25.

次いで、シールド板4で露出している銅部分を金めっき部分に影響を与えないエッチング液でエッチング除去する(図26)。これは、図3の銅薄膜除去工程S24に相当する工程である。なお、第2実施形態では、図19で基板の表面全体に銅めっきを行っているため、図3の銅めっき工程S22、錫めっき工程S23、錫薄膜除去工程S25に相当する工程はない。そして、水酸化ナトリウム等で感光性ドライフィルム26を剥離する(図27)。以上の工程により、電極接続用リード線がなく、電解めっき25が形成されたエッジ端子1、回路26、スルホール21を得ることができる   Next, the copper portion exposed by the shield plate 4 is removed by etching with an etching solution that does not affect the gold plating portion (FIG. 26). This is a process corresponding to the copper thin film removing process S24 of FIG. In the second embodiment, since copper plating is performed on the entire surface of the substrate in FIG. 19, there are no steps corresponding to the copper plating step S22, the tin plating step S23, and the tin thin film removing step S25 in FIG. Then, the photosensitive dry film 26 is peeled off with sodium hydroxide or the like (FIG. 27). Through the above steps, the edge terminal 1, the circuit 26, and the through hole 21 in which the electrolytic plating 25 is formed without the electrode connecting lead wire can be obtained.

以後は、ソルダーレジスト塗布、外形加工等を行いプリント配線板として完成させる。これは、第1実施形態と同様で、図3の後処理工程S26に相当する工程である。   Thereafter, solder resist coating, outer shape processing, and the like are performed to complete the printed wiring board. This is the same as the first embodiment and corresponds to the post-processing step S26 in FIG.

なお、上述する実施形態は、本発明の好適な実施形態であり、上記実施形態のみに本発明の範囲を限定するものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更を施した形態での実施が可能である。   The above-described embodiment is a preferred embodiment of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment alone, and various modifications are made without departing from the gist of the present invention. Implementation is possible.

1 エッジ端子
2 プリント基板
3 電極接続用リード線
4 シールド板
4−1 シールド板コア
4−2 シールド板表層銅箔
5,21 スルホール用下穴
6,10,22,26 感光性ドライフィルム
7,23 端子部分
8,24 給電部分
9,25 電解金めっき
11 回路・スルホール部分
12 銅めっき
13 錫めっき
14 回路
15 スルホール
20 銅めっき
27 オーバーハング
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Edge terminal 2 Printed circuit board 3 Electrode connection lead wire 4 Shield board 4-1 Shield board core 4-2 Shield board surface layer copper foil 5,21 Pilot hole for through-hole 6,10,22,26 Photosensitive dry film 7,23 Terminal portion 8,24 Power feeding portion 9,25 Electrolytic gold plating 11 Circuit / through hole portion 12 Copper plating 13 Tin plating 14 Circuit 15 Through hole 20 Copper plating 27 Overhang

Claims (5)

プリント配線基板の表面全体に形成された銅薄膜を給電用電極として用い、前記プリント配線基板上の所定領域に電解金めっきを行って端子を形成する端子形成工程と、
前記端子形成工程後の前記プリント配線基板に回路の配線パターンを形成して外形加工を行う回路形成工程と、
を有することを特徴とするプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法。
Using a copper thin film formed on the entire surface of the printed wiring board as a power supply electrode, a terminal forming step of forming a terminal by performing electrolytic gold plating on a predetermined region on the printed wiring board;
A circuit forming step of forming a wiring pattern of a circuit on the printed wiring board after the terminal forming step and performing external processing;
A card edge terminal manufacturing method for a printed wiring board, comprising:
前記端子形成工程は、
プリント配線基板の表面全体に銅薄膜を形成する銅薄膜形成工程と、
前記銅薄膜形成工程後の前記プリント配線基板の表面全体に感光性ドライフィルムを塗布し、端子が形成される端子形成領域と給電に用いられる給電領域の感光性ドライフィルムを除去する金めっき領域形成工程と、
前記金めっき領域形成工程で形成された前記給電領域に通電して前記端子形成領域に電解金めっきを行う金めっき工程と、
を有することを特徴とする請求項1に記載のプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法。
The terminal forming step includes
A copper thin film forming step for forming a copper thin film on the entire surface of the printed wiring board;
Forming a gold plating region for applying a photosensitive dry film to the entire surface of the printed wiring board after the copper thin film forming step and removing the photosensitive dry film in the terminal forming region where the terminals are formed and the power feeding region used for power feeding Process,
A gold plating step in which the power supply region formed in the gold plating region formation step is energized to perform electrolytic gold plating on the terminal formation region;
The card edge terminal manufacturing method of a printed wiring board according to claim 1, wherein:
前記回路形成工程は、
前記端子形成工程後の前記プリント配線基板の表面全体に感光性ドライフィルムを塗布し、回路が形成される回路形成領域と給電に用いられる給電領域の感光性ドライフィルムを除去する銅錫めっき領域形成工程と、
前記銅錫めっき領域形成工程で形成された前記給電領域に通電して前記回路形成領域に銅めっきを行う銅めっき工程と、
前記銅錫めっき領域形成工程で形成された前記給電領域に通電し、前記銅めっき工程後で銅薄膜が形成された前記回路形成領域に錫めっきを行う錫めっき工程と、
を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法。
The circuit forming step includes
Forming a copper tin plating area for applying a photosensitive dry film to the entire surface of the printed wiring board after the terminal forming step and removing the photosensitive dry film in the circuit forming area where the circuit is formed and the power feeding area used for power feeding Process,
A copper plating step of conducting copper plating on the circuit forming region by energizing the power feeding region formed in the copper tin plating region forming step;
A tin plating step of energizing the power feeding region formed in the copper tin plating region forming step, and performing tin plating on the circuit forming region in which a copper thin film is formed after the copper plating step;
The card edge terminal manufacturing method of a printed wiring board according to claim 1 or 2, wherein
前記回路形成工程は、
前記プリント配線基板の回路の配線パターン上に錫めっきが施された後に、該プリント配線基板に形成された銅薄膜を除去する銅薄膜除去工程と、
前記銅薄膜除去工程の後に錫めっきにより形成された錫薄膜を除去する錫薄膜除去工程と、
を有することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法。
The circuit forming step includes
A copper thin film removal step of removing the copper thin film formed on the printed wiring board after tin plating is applied on the circuit wiring pattern of the printed wiring board;
A tin thin film removing step for removing a tin thin film formed by tin plating after the copper thin film removing step;
The card edge terminal manufacturing method of a printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein:
前記回路形成工程は、前記プリント配線基板に形成された銅薄膜及び該基板の回路の配線パターン上に形成された錫薄膜が除去された後に、前記プリント配線基板にソルダーレジストを塗布して外形加工を行う後処理工程を有することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のプリント配線基板のカードエッジ端子製造方法。   In the circuit forming step, after the copper thin film formed on the printed wiring board and the tin thin film formed on the circuit wiring pattern of the substrate are removed, a solder resist is applied to the printed wiring board to form an outer shape. A method for manufacturing a card edge terminal of a printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, further comprising a post-processing step.
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