JP5157089B2 - 補助光照射装置およびレーザ装置 - Google Patents

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Description

本発明は補助光照射装置およびレーザ装置に関し、特に集光装置によって集光されたレーザ光の集光位置を示す補助光照射装置、および、その補助光照射装置を備えるレーザ装置に関する。
従来、印字対象物の印字面にレーザ光を照射することによって所定の文字や図形などを印字するレーザマーキング装置が知られている。一般的に、レーザマーキング装置はレーザ光をレンズで集光して印字対象物の表面に照射する。よって、たとえばレーザ光が焦点を結ぶ位置が印字対象物の印字面と等しくなるように、レーザマーキング装置と印字対象物との距離が予め調整される。
多くの場合、レーザマーキング装置から発せられるレーザ光は赤外光である。また、レーザ光のパワーは非常に高い。よって作業者はレーザマーキング装置からレーザ光が出ている状態で集光位置を確認しながら調整を行なうことができない。
このため、レーザ装置からレーザ光を出すことなく作業者がレーザ光の焦点位置を把握できる方法が従来から提案されている。たとえば特開2000−15464号公報(特許文献1)は、レーザビームを集光するfθレンズの焦点位置を特定するための位置指示装置、および、レーザマーキング装置を開示する。
図10は、特開2000−15464号公報(特許文献1)に開示されるレーザマーキング装置の構成を示すブロック図である。
図10を参照して、レーザマーキング装置150は、入力・表示器111とレーザ制御部112と、レーザ発振器113と、走査部114とを備える。
入力・表示器111は、レーザ制御部112から与えられる情報を表示する。また、入力・表示器111は入力された文字および図形等のパターンをレーザ制御部112に送る。
レーザ制御部112は、マイクロコンピュータ121と電源122とを含む。マイクロコンピュータ121は入力・表示器111から与えられる情報を内部に記憶する。また、マイクロコンピュータ121は入力された情報に基づいてレーザ発振器113を制御する。電源122はレーザ発振器113に所定の電圧を印加する。
レーザ発振器113はマイクロコンピュータ121から与えられる情報に基づいてレーザ発振を行なう。
走査部114は、スキャナ141と、fθレンズ142と2つのLEDポインタ143とを含む。走査部114は、マイクロコンピュータ121から与えられる走査信号に基づいて、スキャナ141に備えられたガルバノモータ(図示せず)を駆動する。
ガルバノモータの出力軸にはミラーが設けられる。ミラーの回転によってレーザビームは走査される。スキャナ141によって走査されたレーザビームは、fθレンズ142を介してマーキング対象であるワークWの表面に照射される。なお、スキャナ141が基本位置にある場合、レーザビームはfθレンズ142の中心を通る。
2つのLEDポインタ143は、同一円上に配置される。fθレンズ142の中心軸はこの円の中心を通る。各LEDポインタ143は傾斜した状態で予め固定されている。そして各LEDポインタ143の光軸はfθレンズ142の焦点位置Pを通過するように設定されている。2つのLEDポインタ143から照射される光が交わる位置にワークWを配置することによってレーザマーキング装置の焦点合わせが行なわれる。
なお、特開2004−114085号公報(特許文献2)は光源からの光線を2分割して、レンズの焦点位置で交差させる方法を開示する。また、特開2005−103614号公報(特許文献3)は、ワーク上に基準目盛りパターンと光スポットとを投影させて、光スポットとが基準目盛りパターン上の基準点とが重なるときにワークの位置がレンズの焦点位置にあることを示す焦点合わせ方法を開示する。
特開2000−15464号公報 特開2004−114085号公報 特開2005−103614号公報
図11は、図10に示す2つのLEDポインタ143からの光がワークWにそれぞれ形成する2つの光スポットを示す図である。
図11および図10を参照して、光スポットSA,SBは2つのLEDポインタ143からそれぞれ発せられる光によってワークWの表面に形成される。光スポットSA,SBが重なる場合にはワークWは焦点位置Pに配置されている。たとえば光スポットSAは赤色であり、光スポットSBは緑色である。光スポットSAと光スポットSBとが重なると黄色の光スポットが現われる。一方、ワークWの位置がfθレンズ142の焦点位置Pから外れるほど、光スポットSA,SB間の距離は大きくなる。
光スポットSA,SBの各スポットにおいて、中心部分(実線で示す円状の部分)は周囲部分(破線で示す部分)に比較して極端に明るくなる。光スポットSA,SBの中心距離がaである場合には、ワークWの位置は焦点位置Pとずれている。しかしながら作業者にとって光スポットSA,SBの中心部分が眩しいため、作業者は光スポットSA,SBが離れていることを認識できない。このように従来の焦点合わせ方法においては、ワークの位置をレンズの焦点位置に精度よく調整することが困難であるという問題がある。
本発明の目的は、レーザ光が集光される位置を分かりやすく示すことが可能な補助光照射装置、および、この補助光照射装置を備えるレーザ装置を提供することである。
本発明は要約すれば、集光装置を通るレーザ光の集光スポットが形成される投影面の、レーザ光の光軸方向の位置である集光位置を知らせるための補助光照射装置であって、第1の照射装置と、第2の照射装置とを備える。第1の照射装置は、投影面に向けて第1の光線を照射して、投影面に第1の光スポットを形成する。第2の照射装置は、第1の光線の向きと異なる向きに進み、かつ、互いに平行な複数の第2の光線を投影面に向けて照射して、投影面に複数の第2の光線にそれぞれ対応する複数の第2の光スポットを形成する。光軸方向の投影面の位置が集光位置に一致する場合に、第1の光スポットと複数の第2の光スポットとは、互いに重ならず、かつ、同一直線上に配置される。
好ましくは、投影面の光軸方向の位置が集光位置と一致する場合に、レーザ光の集光スポットは、直線上に配置される。
好ましくは、第1の照射装置は、レーザ光を照射し、かつ、レーザ光の出力と第1の光線の出力とを切換える。
好ましくは、第1の照射装置は、レーザ光を発する光源とは別に設けられる。第1の光線の軌跡のうちの少なくとも投影面に向かう部分は、レーザ光の軌跡と重なる。
好ましくは、第1の照射装置は、第1の光スポットが直線上を移動するように第1の光線の進行方向を変化させる。補助光照射装置は、制御装置をさらに備える。制御装置は、第1の光スポットが直線上における各複数の第2の光スポットに対応する位置を通過するときに、第1の光線を照射しないように第1の照射装置を制御する。
より好ましくは、第1の光線および複数の第2の光線は、可視光線である。
本発明の他の局面に従うと、集光装置を通るレーザ光の集光スポットが形成される投影面の、レーザ光の光軸方向の位置である集光位置を知らせるための補助光照射装置であって、第1の照射装置を備える。第1の照射装置は、投影面に向けて第1の光線を照射して、投影面に第1の光スポットを形成する。第1の照射装置は、第1の光スポットが投影面上の所定の直線上を移動するように、第1の光線の進行方向を変化させる。補助光照射装置は、第2の照射装置をさらに備える。第2の照射装置は、第1の光線の向きと異なる向きに進む第2の光線を投影面に向けて照射して、投影面に第2の光スポットを形成する。光軸方向の投影面の位置が集光位置に一致する場合に、第2の光スポットは所定の直線上に配置される。
好ましくは、投影面の光軸方向の位置が集光位置と一致する場合に、レーザ光の集光スポットは、直線上に配置される。
好ましくは、第1の照射装置は、レーザ光を照射し、かつ、レーザ光の出力と第1の光線の出力とを切換える。
好ましくは、第1の照射装置は、レーザ光を発する光源とは別に設けられる。第1の光線の軌跡のうちの少なくとも投影面に向かう部分は、レーザ光の軌跡と重なる。
好ましくは、補助光照射装置は、制御装置をさらに備える。制御装置は、第1の光スポットが所定の直線上における第2の光スポットに対応する位置を通過するときに、第1の光線を照射しないように第1の照射装置を制御する。
より好ましくは、第1の光線および第2の光線は、可視光線である。
本発明のさらに他の局面に従うと、レーザ装置であって、上述のいずれかの補助光照射装置と、集光装置とを備える。
好ましくは、レーザ装置は、投影面である被照射体の表面にレーザ光を照射して、被照射体の表面を加工する。
本発明によれば、集光装置を透過したレーザ光の集光位置を作業者が容易に把握できる。
以下において、本発明の実施の形態について図面を参照して詳しく説明する。なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。
[実施の形態1]
図1は、本実施の形態の補助光照射装置を備えるレーザマーキング装置の構成を示す図である。
図1を参照して、レーザマーキング装置100はワークWの表面にレーザ光L1を照射する。これによりワークWの表面が加工され、ワークWの表面には文字、記号、図形等による情報が記録される。なおレーザマーキング装置100は本発明の「レーザ装置」に対応する。
ワークWの表面(記録面)はレーザ光L1と垂直に交わる。ワークWの表面は本発明における「投影面」に対応する。投影面にはレーザ光L1の集光スポットが形成される。
レーザマーキング装置100は、レーザ発振器1と、補助光照射装置2と、fθレンズ9とを備える。
レーザ発振器1はレーザ光L1を発する。レーザ発振器1としては、たとえばYAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザ、炭酸ガスレーザ、Ar(アルゴン)レーザ等の様々なレーザ発振器を用いることができる。また、レーザ光の波長領域は、たとえば紫外領域、可視領域、赤外領域のいずれでもよく、特に限定されない。
レーザ光L1はfθレンズ9によって集光される。fθレンズ9でできる像はfθレンズ9に入射するレーザ光L1の入射角度に比例する。ワークWの表面でレーザ光L1をスキャンする際に、レーザ光L1の移動量はレーザ光L1の入射角度に比例する。
補助光照射装置2は、fθレンズ9を通過したレーザ光L1の集光スポットが形成される投影面(ワークWの表面)のレーザ光L1の光軸方向の位置(集光位置)を知らせるための装置である。ここで「レーザ光L1の光軸方向の位置」とは、いわば投影面の高さに相当する。
なお、本実施の形態において「集光位置」とはレーザ光L1が焦点を結ぶ位置でもよいし、レーザ光L1が焦点を結ぶ位置よりもfθレンズ9に近い位置(または遠い位置)でもよい。
レーザ光L1が焦点を結ぶ位置とワークWの表面の位置とが同じ場合、レーザ光L1がワークWの表面の1点に集中する。レーザ光L1のパワーが大きい場合には、ワークWの表面に、所望のサイズよりも大きなサイズの穴が開くことが考えられる。つまりレーザマーキング装置の加工精度が低下することが起こり得る。このような問題が生じる場合には「集光位置」をレーザ光L1が焦点を結ぶ位置からずらすことが好ましい。ただし以下では「集光位置」はレーザ光L1が焦点を結ぶ位置であるとする。
補助光照射装置2は、照射装置2A,2Bを備える。照射装置2Aは、ワークWの表面に向けて光線LAを照射する。照射装置2Bは、複数の光線LB1,LB2を照射する。光線LB1,LB2は光線LAの向きと異なる向きに進み、かつ、互いに平行である。
光線LAはワークWの表面に光スポットSAを形成する。光線LB1,LB2はワークWの表面に光スポットSB1,SB2をそれぞれ形成する。レーザ光L1の光軸方向に沿ったワークWの表面の位置がレーザ光L1が焦点を結ぶ位置と同じである場合に、光スポットSAと光スポットSB1,SB2とが直線上に配置されるように、光線LAの向きと、光線LB1,LB2の向きとは設定される。
なお、図1では「投影面」、すなわちワークWの表面は平面である。このように投影面は平面でもよい。ただし、投影面は平面に限定されるものではなく、少なくとも光スポットSA,SB1,SB2が並ぶ方向については直線で構成される面(たとえば円筒状の面)であってもよい。
光線LA,LB1,LB2は可視光線である。よって、作業者は光スポットSA,SB1,SB2の配置を直接確認できる。作業者はワークWの表面に形成された光スポットSA,SB1,SB2の配置からワークWの位置がレーザ光L1の焦点位置と同じであるか否かを確認することができる。よって、作業者はfθレンズ9を透過したレーザ光L1の集光位置を容易に把握できる。
本実施の形態では光スポットSAの色と光スポットSB1,SB2の色とは異なる。これによって作業者が3つの光スポットのうちいずれが光スポットSAであるかを容易に把握できるので作業性が向上する。たとえば光スポットSAの色は赤色であり、光スポットSB1,SB2の色は緑色である。ただし光スポットSAの色と光スポットSB1,SB2の色は同じであってもよい。
補助光照射装置2は、照射装置2A,2Bを制御する制御装置20をさらに備える。なお制御装置20はレーザ発振器1の制御も行なう。ただし、レーザ発振器1を制御する制御装置は制御装置20と別に設けられていてもよい。
照射装置2Aは、光源3Aと、ダイクロックミラー4と、ガルバノミラー5,7と、モータ6,8と、ドライバ16,18とを含む。
光源3Aは、たとえば半導体レーザや発光ダイオード等であり、光線(可視光線)LAを照射する。光源3Aはドライバ13によって駆動される。ドライバ13は制御装置20によって制御される。
なお光線LAの波長帯とレーザ光L1の波長帯とは異なる。これによりダイクロックミラー4は光線LAを反射するとともにレーザ光L1を透過することができる。ダイクロックミラー4で反射した光線LAの軌跡はレーザ光L1の軌跡と重なる。すなわち、光線LAの軌跡のうち少なくとも投影面(ワークWの表面)に向かう部分は、レーザ光L1の軌跡と重なる。これにより補助光照射装置2は、レーザ光L1の集光位置だけでなく、ワークWの表面におけるレーザ光L1の照射位置も示すことができる。
よって、たとえば作業者は光スポットSAを見ながらワークWを水平方向に移動させることにより、マーキング開始時におけるレーザ光L1の照射位置を調整することができる。さらに、光スポットSAの色と光スポットSB1,SB2の色とが異なっているため、作業者は光スポットSA,SB1,SB2の中から光スポットSAを容易に識別できる。
光線LAの進行方向は、さらに、ガルバノミラー5,7によって変えられる。最終的に光線LAはfθレンズ9を通りワークWに達する。
ガルバノミラー5はモータ6の出力軸に取り付けられる。ドライバ16はモータ6を駆動する。ガルバノミラー7はモータ8の出力軸に取り付けられる。ドライバ18はモータ8を駆動する。なおドライバ16,18は制御装置20によって制御される。モータ6,8の出力軸が回転すると、ガルバノミラー5,7の傾きがそれぞれ変化する。
レーザ光L1を用いてワークWの表面に情報を記録する場合には、ガルバノミラー5,7が回転する。しかし、作業者がレーザ光L1の集光位置を確認する場合にはガルバノミラー5,7は固定される。なお、作業者がレーザ光L1の集光位置を確認する際(すなわち照射装置2Aから光線LAが出ている状態)、光線LAがfθレンズ9の中心軸を通るようにガルバノミラー5,7の反射面の向きが定められる。
照射装置2Bは、光源3Bと、レンズ10と、プリズム11と、反射鏡12と、ドライバ14とを含む。光源3Bは、たとえば半導体レーザや発光ダイオード等であり、光線(可視光線)LBを照射する。光源3Bはドライバ14によって駆動される。ドライバ14は制御装置20によって制御される。
光線LBはレンズ10を通過してプリズム11に入射する。プリズム11は光線LBを光線LB1,LB2に分割する。光線LB1,LB2は反射鏡12によってワークWの表面に導かれる。なお、光源3Bから発せられた光がワークWの表面において焦点を結ぶようにレンズ10の焦点距離が定められる。
図2は、図1に示す照射装置2Bの上面図である。
図2を参照して、光源3Bから発せられる光線LBは、レンズ10を通過してプリズム11に入射する。プリズム11に入射した光線LBは、プリズムと空気との境界面において光線LB1とLB2とに分割される。光線LB2はプリズム11から出て空気中を進み反射鏡12で反射する。光線LB1はプリズム11の内部を進み、プリズム11と空気との境界面において反射する。最終的に光線LB1は空気中に出て反射鏡12で反射する。
図3は、投影面の位置を説明する図である。
図3を参照して、投影面Fはレーザ光L1(図3には示さず)が焦点を結ぶ位置にある。投影面F1,F2は投影面Fよりも上下(レーザ光L1の光軸方向)にそれぞれ位置する。また、光線LBの向きは光線LAの向きと異なるのでプリズム11から出る光線LB1,LB2の向きも光線LAの向きと異なる。
図4は、図3に示す投影面に形成される光スポットを説明する図である。
図4を参照して、投影面がレーザ光L1の光軸方向に移動すると、応じて光スポットSB1,SB2も移動する。投影面Fでは光スポットSA,SB1,SB2は一直線上に並ぶ。投影面F2では光スポットSB1,SB2は光スポットSAの左側に位置する。投影面F1では光スポットSB1,SB2は光スポットSAの右側に位置する。よって作業者は光スポットSA,SB1,SB2の配置に基づいてレーザ光L1が焦点を結ぶ位置を容易に把握できる。
なお、光源3A,3Bの配置は図1に示す配置に限定されない。たとえば光線LA,LB1,LB2がワークWに直接入射してもよい。また光線LAの向きと光線LB1,LB2の向きとが異なっていれば、ワーク表面に対するこれらの光線の入射角度は特に限定されるものではない。
以上のように、実施の形態1によればレーザ光が集光する位置を容易に把握することが可能になる。
[実施の形態2]
図5は、実施の形態2の補助光照射装置を示す図である。
図5および図1を参照して、レーザマーキング装置100Aは、光源3Aと、ダイクロックミラー4と、ドライバ13とを含まない点でレーザマーキング装置100と異なる。レーザマーキング装置100Aの他の部分の構成はレーザマーキング装置100の対応する部分の構成と同様であるので以後の説明は繰返さない。
レーザ発振器1はレーザ光L1を出力する。またレーザ発振器1はレーザ光L1の出力と光線LAの出力とを切換える。なお光線LAのパワーはレーザ光L1のパワーよりも弱い。制御装置20は、作業者がワークWの位置を調整するときとレーザマーキングを行なうときとでレーザ発振器1から発せられるレーザ光のパワーを変える。なお、作業者がワークWの位置を調整するときに、フィルタによってレーザ光L1のパワーを減衰させることで光線LAが出力されてもよい。
要するにレーザ発振器1は図1に示す光源3Aを兼ねる。この点で実施の形態1と実施の形態2とは異なる。レーザ発振器1が光線LAを出力する際には、レーザマーキング装置100Aは、実施の形態2の補助光照射装置として動作する。
光線LAは可視光線であるので、レーザ発振器1としては可視光を発する装置が用いられる必要がある。実施の形態2ではレーザ発振器1として、たとえばArレーザや、YAGレーザおよび非線形光学結晶からなる装置等が用いられる。
以上のように実施の形態2によれば、レーザ発振器1は、レーザ光L1と光線LAとを切換えて出力する。これにより実施の形態2によれば補助光照射装置を備えるレーザ装置(すなわちレーザマーキング装置)の構成を簡単にできる。
また、光スポットSAの位置はレーザ光L1が照射される位置そのものを示す。よって実施の形態2によれば、作業者は光スポットSAの位置を知ることによってワーク表面におけるマーキング用レーザ光の照射位置を知ることができる。
[実施の形態3]
図6は、実施の形態3の補助光照射装置を備えるレーザマーキング装置を示す図である。
図6および図1を参照して、レーザマーキング装置100Bは、補助光照射装置2に代えて補助光照射装置21を備える。補助光照射装置21は制御装置20に代えて制御装置22を備える。これらの点でレーザマーキング装置100Bは、レーザマーキング装置100と異なる。レーザマーキング装置100Bの他の部分の構成は、レーザマーキング装置100の対応する部分の構成と同様であるので以後の説明は繰返さない。
制御装置22は、作業者がレーザ光L1の集光位置を確認する際に、ドライバ18に対してモータ8の出力軸の回転角度を指示する。ドライバ18は制御装置22の指示に応じてモータ8を正回転および逆回転させる。モータ8の回転に応じてガルバノミラー7の反射面の角度が変化する。
よって光スポットSAはワークWの表面において直線状に移動する。この直線は図1に示す直線、すなわち、図1においてワークWのレーザ光L1の光軸方向の位置(ワークWの高さ)がレーザ光L1の集光位置と一致する場合に光スポットSA,SB1,SB2を結ぶ直線に等しい。
さらに制御装置22は、光スポットSAの位置がこの直線において光スポットSB1,SB2に対応する位置である場合には、ドライバ13に消灯指示を送る。ドライバ13は消灯指示に応じて光源3Aを消灯する。つまり光スポットSAが上述の直線上における光スポットSB1,SB2に対応する位置を通過するときに、制御装置22は光線LAを照射しないように照射装置2Aを制御する。
図7は、図6のワークWの表面に形成される光スポットSA,SB1,SB2を詳細に示す図である。なお図7において、ワークWのレーザ光L1の光軸方向の位置はレーザ光L1の集光位置と一致する。
図7を参照して、光スポットSAはX1,X2の向きに交互に繰返して移動する。図7に示す複数の光スポットSAの形状は作業者に認識される形状である。光スポットSB1,SB2は、複数の光スポットSAの間に位置する。つまりワークWの位置とレーザ光L1の集光位置とが等しい場合、光スポットSAは光スポットSB1,SB2に重ならない。
実施の形態1においては光スポットSA,SB1,SB2の形状は点(あるいは円)である。一方、実施の形態3によれば、いわば複数の光スポットSAは破線状に形成されるので、作業者は光スポットSA,SB1,SB2が直線状に配置されているか否かを把握しやすい。よって実施の形態3によれば実施の形態1よりもワークWの位置を精度よく調整できる。
なお、実施の形態2と同様に、レーザマーキング装置100Bは、光源3Aと、ダイクロックミラー4と、ドライバ13とを含まずに、レーザ発振器1がレーザ光L1と光線LAとを切換えて出力してもよい。
[実施の形態4]
図8は、実施の形態4の補助光照射装置を備えるレーザマーキング装置を示す図である。
図8および図6を参照して、レーザマーキング装置100Cは補助光照射装置2に代えて補助光照射装置24を備える。補助光照射装置24は、照射装置2Bに代えて照射装置2B1を含む。照射装置2B1はプリズム11を含まない点で照射装置2Bと異なる。これらの点でレーザマーキング装置100Cは、レーザマーキング装置100Bと異なる。なおレーザマーキング装置100Cの他の部分の構成は、レーザマーキング装置100Bの対応する部分の構成と同様であるので以後の説明は繰返さない。
実施の形態3と同様に、制御装置22は、作業者がレーザ光L1の集光位置を確認する際に、ドライバ18に対してモータ8の出力軸の回転角度を指示する。これによってガルバノミラー7の傾きが変化する。光線LAの進行方向が変化することによって光スポットSAはワークWの表面の「所定の直線」上を移動する。なお「所定の直線」とは、図1に示す光スポットSA,SB1,SB2を結ぶ直線に等しい。
実施の形態4では、照射装置2B1からは1本の光線(光線LB)のみ発せられる。光線LBはワークWの表面に光スポットSBを形成する。さらに、実施の形態4では、ワークWの表面に対する光線LAの向きと、ワークWの表面に対するLBの向きとは、ワークWのレーザ光L1の光軸方向の位置がレーザ光L1の集光位置と同じである場合に、光スポットSBが上述の直線上に位置するように設定される。
さらに制御装置22は、光スポットSAが上述の直線上における光スポットSBに対応する位置を通過するときに、光線LAを照射しないようにドライバ13に消灯指示を送る。ドライバ13は消灯指示に応じて光源3Aを消灯する。
図9は、図8のワークWの表面に形成される光スポットSA,SBを示す図である。なお図9において、ワークWのレーザ光L1の光軸方向の位置は、レーザ光L1の集光位置にある。
図9および図7を参照して、図9に示す光スポットSBは図7に示す光スポットSB1,SB2に対応する。すなわちワークWの位置がレーザ光L1の集光位置と同じ場合に光スポットSBは2つの光スポットSAの間に位置する。なお光スポットSAはX1,X2の向きに交互に繰返して移動するが、作業者には光スポットSAはいわば破線状に認識される。よって実施の形態3と同様に、実施の形態4によれば、作業者がワークWの位置を精度よく調整できる。
また、実施の形態4によれば、プリズムが不要になるので補助光照射装置の部品点数を減らすことができる。
さらに、実施の形態2と同様に、レーザマーキング装置100Cは、光源3Aと、ダイクロックミラー4と、ドライバ13とを含まずに、レーザ発振器1がレーザ光L1と光線LAとを切換えて出力してもよい。
なお、実施の形態1から4において光線LA,LBは可視光線である。よって本実施の形態では作業者が目視にてレーザ光の集光位置を確認できる。しかし、たとえば光線LA,LBは赤外光であってもよい。この場合、たとえばCCDカメラがワークWの表面を撮影し、CCDカメラが撮影された画像に表れる光スポットが直線上に並んでいるか否かを画像処理装置が判定してもよい。
また、レーザ光L1を集光するための装置はfθレンズに限定されず、たとえば凸レンズでもよい。また、レーザ光L1を集光するための装置はレンズに限定されず、たとえば回折格子であってもよい。
また、本発明のレーザ装置はレーザマーキング装置に限定されない。たとえば本発明は、レーザ光を用いてワークの切断を行なう装置や、光硬化樹脂にレーザ光を照射して所定のパターンを形成する装置等、様々な装置に適用可能である。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
本実施の形態の補助光照射装置を備えるレーザマーキング装置の構成を示す図である。 図1に示す照射装置2Bの上面図である。 投影面の位置を説明する図である。 図3に示す投影面に形成される光スポットを説明する図である。 実施の形態2の補助光照射装置を示す図である。 実施の形態3の補助光照射装置を備えるレーザマーキング装置を示す図である。 図6のワークWの表面に形成される光スポットSA,SB1,SB2を詳細に示す図である。 実施の形態4の補助光照射装置を備えるレーザマーキング装置を示す図である。 図8のワークWの表面に形成される光スポットSA,SBを示す図である。 特開2000−15464号公報(特許文献1)に開示されるレーザマーキング装置の構成を示すブロック図である。 図10に示す2つのLEDポインタ143からの光がワークWにそれぞれ形成する2つの光スポットを示す図である。
符号の説明
1,113 レーザ発振器、2,21,24 補助光照射装置、2A,2B,2B1 照射装置、3A,3B 光源、4 ダイクロックミラー、5,7 ガルバノミラー、6,8 モータ、9,142 レンズ、10 レンズ、11 プリズム、12 反射鏡、13,14,16,18 ドライバ、20 制御装置、22 制御装置、100,100A,100B,100C,150 レーザマーキング装置、111 入力・表示器、112 レーザ制御部、114 走査部、121 マイクロコンピュータ、122 電源、141 スキャナ、143 LEDポインタ、F,F1,F2 投影面、L1 レーザ光、LA,LB,LB1,LB2 光線、P 焦点位置、SA,SB,SB1,SB2 光スポット、W ワーク。

Claims (13)

  1. 集光装置を通るレーザ光の集光スポットが形成される投影面の、前記レーザ光の光軸方向の位置である集光位置を知らせるための補助光照射装置であって、
    前記投影面に向けて第1の光線を照射して、前記投影面に第1の光スポットを形成する第1の照射装置と、
    前記第1の光線の向きと異なる向きに進み、かつ、互いに平行な複数の第2の光線を前記投影面に向けて照射して、前記投影面に前記複数の第2の光線にそれぞれ対応する複数の第2の光スポットを形成する第2の照射装置とを備え、
    前記光軸方向の前記投影面の位置が前記集光位置に一致する場合に、前記第1の光スポットと前記複数の第2の光スポットとは、互いに重ならず、かつ、同一直線上に配置され
    前記第1の照射装置は、前記第1の光スポットが前記直線上を移動するように前記第1の光線の進行方向を変化させ、
    前記補助光照射装置は、
    前記第1の光スポットが前記直線上における各前記複数の第2の光スポットに対応する位置を通過するときに、前記第1の光線を照射しないように前記第1の照射装置を制御する制御装置をさらに備える、補助光照射装置。
  2. 前記投影面の前記光軸方向の位置が前記集光位置と一致する場合に、前記レーザ光の前記集光スポットは、前記直線上に配置される、請求項1に記載の補助光照射装置。
  3. 前記第1の照射装置は、前記レーザ光を照射し、かつ、前記レーザ光の出力と前記第1の光線の出力とを切換える、請求項1または2に記載の補助光照射装置。
  4. 前記第1の照射装置は、前記レーザ光を発する光源とは別に設けられ、
    前記第1の光線の軌跡のうちの少なくとも前記投影面に向かう部分は、前記レーザ光の軌跡と重なる、請求項1または2に記載の補助光照射装置。
  5. 前記第1の光線および前記複数の第2の光線は、可視光線である、請求項1からのいずれか1項に記載の補助光照射装置。
  6. 集光装置を通るレーザ光の集光スポットが形成される投影面の、前記レーザ光の光軸方向の位置である集光位置を知らせるための補助光照射装置であって、
    前記レーザ光と交わる投影面に向けて第1の光線を照射して、前記投影面に第1の光スポットを形成し、前記第1の光スポットが前記投影面上の所定の直線上を移動するように、前記第1の光線の進行方向を変化させる第1の照射装置と、
    前記第1の光線の向きと異なる向きに進む第2の光線を前記投影面に向けて照射して、前記投影面に第2の光スポットを形成する第2の照射装置とを備え、
    前記光軸方向の前記投影面の位置が前記集光位置に一致する場合に、前記第2の光スポットは前記所定の直線上に配置される、補助光照射装置。
  7. 前記投影面の前記光軸方向の位置が前記集光位置と一致する場合に、前記レーザ光の前記集光スポットは、前記直線上に配置される、請求項に記載の補助光照射装置。
  8. 前記第1の照射装置は、前記レーザ光を照射し、かつ、前記レーザ光の出力と前記第1の光線の出力とを切換える、請求項またはに記載の補助光照射装置。
  9. 前記第1の照射装置は、前記レーザ光を発する光源とは別に設けられ、
    前記第1の光線の軌跡のうちの少なくとも前記投影面に向かう部分は、前記レーザ光の軌跡と重なる、請求項またはに記載の補助光照射装置。
  10. 前記第1の光スポットが前記所定の直線上における前記第2の光スポットに対応する位置を通過するときに、前記第1の光線を照射しないように前記第1の照射装置を制御する制御装置をさらに備える、請求項またはに記載の補助光照射装置。
  11. 前記第1の光線および前記第2の光線は、可視光線である、請求項から1のいずれか1項に記載の補助光照射装置。
  12. 請求項1〜1のいずれか1項に記載の補助光照射装置と、
    前記集光装置とを備える、レーザ装置。
  13. 前記レーザ装置は、前記投影面である被照射体の表面に前記レーザ光を照射して、前記被照射体の表面を加工する、請求項1に記載のレーザ装置。
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