JP5145864B2 - Method for manufacturing optical article - Google Patents

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Description

本発明は、光学材料用樹脂からなる光学物品およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical article made of a resin for optical materials and a method for producing the same.

従来から、モールド型に樹脂材料を注入し、加熱などの方法で重合させることにより光学基材が形成されている。そして、この光学基材に、硬度向上、耐擦傷性および反射防止機能などが付与された光学物品およびその製造方法が知られている。
ここで、重合後にモールド型から外した光学基材には、内部応力が残留しているため、物理的衝撃などの外力に弱いと言われている。
Conventionally, an optical substrate is formed by injecting a resin material into a mold and polymerizing it by a method such as heating. An optical article in which hardness is improved, scratch resistance, antireflection function, and the like are provided on this optical base material and a method for producing the same are known.
Here, since the internal stress remains in the optical base material removed from the mold after polymerization, it is said to be weak against external forces such as physical impact.

このような内部応力が残留した光学基材を長期間に渡って保管した場合、徐々に内部応力を開放或いは緩和する方向へ光学基材が変形する現象が起こり、光学基材の形状および光学物品の度数が維持されないおそれがある。
そのため、重合後、各種機能が付与される前の光学基材に、ガラス転移点(Tg)を超える温度でのアニール処理を施すことが多い。これにより、光学基材の内部応力を緩和させ、光学物品の形状および度数の安定化を図ることができる。
When an optical base material in which such internal stress remains is stored for a long period of time, a phenomenon occurs in which the optical base material gradually deforms in a direction to release or relax the internal stress, and the shape of the optical base material and the optical article The frequency may not be maintained.
For this reason, an annealing treatment at a temperature exceeding the glass transition point (Tg) is often applied to the optical base material after the polymerization and before various functions are imparted. Thereby, the internal stress of the optical substrate can be relaxed, and the shape and frequency of the optical article can be stabilized.

一方、上述のような光学物品に用いる光学基材の樹脂材料として、屈折率(nd)1.7以上の高屈折率を有する重合性組成物が提案されている。(例えば、特許文献1、2、3参照)。このような高屈折率を有する樹脂材料によれば、優れた光学特性を有する光学物品を構成することができる。   On the other hand, a polymerizable composition having a high refractive index having a refractive index (nd) of 1.7 or more has been proposed as a resin material for an optical substrate used in the optical article as described above. (For example, see Patent Documents 1, 2, and 3). According to the resin material having such a high refractive index, an optical article having excellent optical characteristics can be configured.

特開2006−169190号公報(第3頁〜第8頁)JP 2006-169190 A (pages 3 to 8) 特開2006−83313号公報(第4頁〜第10頁)JP 2006-83313 A (pages 4 to 10) 特開2006−182908号公報(第4頁〜第10頁)JP 2006-182908 A (pages 4 to 10)

しかしながら、特許文献1〜3に記載の樹脂材料は、熱可塑の性質を持ち合せているため、Tgを超える温度でのアニール処理を施すと、光学基材の形状が変わってしまうおそれがある。光学基材が変形すると、最終製品である光学物品の形状および度数が維持されず、品質低下が引き起こされるという課題があった。
このような課題は、特許文献1〜3に記載の樹脂材料に限定されず、熱可塑性を有する樹脂材料に共通するものであった。
However, since the resin materials described in Patent Documents 1 to 3 have thermoplastic properties, there is a possibility that the shape of the optical base material may change if annealing treatment is performed at a temperature exceeding Tg. When the optical substrate is deformed, there is a problem that the shape and frequency of the optical article as the final product are not maintained, and the quality is deteriorated.
Such a subject is not limited to the resin materials described in Patent Documents 1 to 3, but is common to resin materials having thermoplasticity.

本発明の目的は、光学基材の形状が変わりにくく、形状および度数が維持されることができる光学物品およびその製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide an optical article that can hardly change the shape of the optical base material and can maintain the shape and power, and a method for manufacturing the same.

本発明の光学物品は、光学基材と、前記光学基材の表面に設けられたコーティング層と、を備え、TMA(Thermomechanical Analyzer)を用い、荷重50g、直径1mmの針入プローブ、初期温度25℃、昇温スピード10℃/minの条件で、前記光学基材の熱機械分析を実施した場合において、前記光学基材のガラス転移点+10℃の測定温度における前記光学基材の厚みの変形量が、前記初期温度における前記光学基材の厚みの10%以上であり、前記コーティング層は、前記光学基材のガラス転移点以下の温度で硬化する材料から形成されることを特徴とする。 The optical article of the present invention comprises an optical base material and a coating layer provided on the surface of the optical base material, and uses a TMA (Thermomechanical Analyzer), a 50 g load, a 1 mm diameter needle probe, an initial temperature of 25 When the thermo-mechanical analysis of the optical base material is performed under the conditions of ℃ and a heating rate of 10 ° C./min, the amount of deformation of the optical base material at the measurement temperature of the glass transition point of the optical base material + 10 ° C. However, it is 10% or more of the thickness of the optical base material at the initial temperature, and the coating layer is formed of a material that cures at a temperature below the glass transition point of the optical base material.

この発明によれば、光学基材は、測定温度(Tg+10℃)における変形量が大きい材料、つまり熱可塑性を有する材料により構成される。そして、光学基材の表面には、光学基材のガラス転移点(Tg)以下の温度で硬化する材料から形成されたコーティング層が設けられる。   According to this invention, the optical substrate is made of a material having a large amount of deformation at the measurement temperature (Tg + 10 ° C.), that is, a material having thermoplasticity. And the coating layer formed from the material hardened | cured at the temperature below the glass transition point (Tg) of an optical base material is provided in the surface of an optical base material.

ここで、コーティング層が、光学基材のTg以下の温度で硬化する材料により形成されるので、光学基材の表面においてコーティング層の材料を硬化させる際に、光学基材がそのTg以上に加熱されることがない。したがって、コーティング層の形成時に、熱可塑性を有する光学基材が変形する可能性が低い。   Here, since the coating layer is formed of a material that cures at a temperature equal to or lower than the Tg of the optical substrate, the optical substrate is heated above its Tg when the coating layer material is cured on the surface of the optical substrate. It will not be done. Therefore, there is a low possibility that the optical substrate having thermoplasticity is deformed when the coating layer is formed.

そして、硬化したコーティング層は、光学基材のTg以上に加熱されたとしても、軟化することなく、その形状を維持することができる。
すなわち、本発明の光学物品に光学基材のTg以上の温度でのアニール処理を施した場合、光学基材は軟化するが、光学基材の表面に設けられたコーティング層は軟化しない。
コーティング層がアニール処理によって軟化した光学基材の変形を防ぐので、意図した形状および度数の光学物品が得られる。
なお、アニール処理によれば、光学基材の内部応力を緩和させ、光学物品の形状および度数の安定化を図ることができる。
And even if the hardened coating layer is heated more than Tg of an optical base material, the shape can be maintained, without softening.
That is, when the optical article of the present invention is annealed at a temperature equal to or higher than Tg of the optical substrate, the optical substrate is softened, but the coating layer provided on the surface of the optical substrate is not softened.
Since the coating layer prevents the deformation of the optical substrate softened by the annealing treatment, an optical article having the intended shape and frequency can be obtained.
In addition, according to annealing treatment, the internal stress of an optical base material can be relieved and the shape and frequency of an optical article can be stabilized.

したがって、本発明の光学物品は、光学基材のTg以上の温度でのアニール処理を実施しても光学基材の形状が変わりにくく、形状および度数を維持することができる優れた光学物品である。   Therefore, the optical article of the present invention is an excellent optical article that can maintain the shape and the power without changing the shape of the optical base material even when the annealing treatment at a temperature equal to or higher than Tg of the optical base material is performed. .

なお、本発明において、「コーティング層が光学基材のガラス転移点以下の温度で硬化する」とは、コーティング層を形成する原料組成物を硬化させる際に、外部から加える温度が、光学基材のTg以下であることを意味する。
例えば、加熱重合により原料組成物を硬化させる場合には、外部からの加熱が光学基材のTg以下であることが必要である。
また、例えば、紫外線などのエネルギー照射によって原料組成物を硬化させる場合にも、重合中における原料組成物の温度が光学基材のTg以下となるように調整することが必要である。
In the present invention, “the coating layer is cured at a temperature lower than the glass transition point of the optical substrate” means that the temperature applied from the outside when the raw material composition forming the coating layer is cured is the optical substrate. It means that it is below Tg.
For example, when the raw material composition is cured by heat polymerization, the external heating needs to be Tg or less of the optical substrate.
In addition, for example, when the raw material composition is cured by irradiation with energy such as ultraviolet rays, it is necessary to adjust the temperature of the raw material composition during polymerization to be equal to or lower than the Tg of the optical substrate.

本発明の光学物品では、前記光学基材は、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物から形成されることが好ましい。   In the optical article of the present invention, the optical substrate is preferably formed from a substrate composition containing a compound represented by the general formula (1).

式(1)中、Mは、Sn原子、Si原子、Zr原子、Ti原子、またはGe原子である。Rは、炭素数1〜4のアルキレン基であり、Xは、S原子またはO原子であり、nは0〜4の整数を示す。Yは、下記の式(1−1)、または式(1−2)、または式(1−3)のいずれかである。 In formula (1), M is a Sn atom, Si atom, Zr atom, Ti atom, or Ge atom. R 1 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, X 1 is an S atom or an O atom, and n is an integer of 0 to 4. Y is any of the following formula (1-1), formula (1-2), or formula (1-3).

一般式(1)で示される化合物は、屈折率が高く、光学特性に優れた光学基材を与える一方、熱可塑性を有するためアニール処理によって変形を生じるという問題点があった。
これに対し、本発明では、コーティング層が、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物から形成される光学基材のTg以下の温度で硬化され、光学基材の表面に形成されていることにより、コーティング層が高温下でも軟らかくなることがなく、コーティング層が変形しないことによって、結果的に光学基材の形状を維持することになる。
このため、アニール処理でTgを超える温度で光学基材を加熱しても、形状および度数を維持することが可能となり、高屈折率で光学特性に優れた光学物品を提供することができる。
The compound represented by the general formula (1) has a high refractive index and gives an optical base material excellent in optical properties, but has a problem that deformation is caused by annealing treatment because it has thermoplasticity.
On the other hand, in the present invention, the coating layer is cured at a temperature not higher than Tg of the optical substrate formed from the substrate composition containing the compound represented by the general formula (1), and is applied to the surface of the optical substrate. By being formed, the coating layer does not become soft even at a high temperature, and the coating layer does not deform, and as a result, the shape of the optical substrate is maintained.
For this reason, even if the optical substrate is heated at a temperature exceeding Tg by annealing treatment, the shape and power can be maintained, and an optical article having a high refractive index and excellent optical characteristics can be provided.

本発明の光学物品では、前記コーティング層は、前記光学基材の変形防止用のコーティング層である構成が好ましい。
この発明では、光学基材の変形防止用のコーティング層が、光学基材の表面に形成されていることにより、コーティング層が光学基材の形状変化を防止することから、アニール処理を施しても形状および度数が維持されることが可能となる光学物品を提供することができる。
In the optical article of the present invention, it is preferable that the coating layer is a coating layer for preventing deformation of the optical substrate.
In this invention, since the coating layer for preventing deformation of the optical substrate is formed on the surface of the optical substrate, the coating layer prevents the optical substrate from changing its shape. An optical article that can maintain its shape and power can be provided.

本発明の光学物品では、前記コーティング層が、プライマ層、ハードコート層、反射防止層の少なくとも一つを兼ねる構成が好ましい。
この発明では、コーティング層は、従来の光学物品に備えられているプライマ層、ハードコート層、反射防止層の少なくとも一つを兼ねることができるため、製造工程を増やすことなくコーティング層を備えた光学物品を製造できる。このため、構成を複雑にすることなく、アニール処理を施しても変形のない光学物品を提供することができる。
In the optical article of the present invention, it is preferable that the coating layer also serves as at least one of a primer layer, a hard coat layer, and an antireflection layer.
In this invention, the coating layer can also serve as at least one of a primer layer, a hard coat layer, and an antireflection layer provided in a conventional optical article. Articles can be manufactured. For this reason, it is possible to provide an optical article that is not deformed even if annealing is performed without complicating the configuration.

本発明の光学物品の製造方法は、光学基材を形成する基材形成工程と、前記基材形成工程の後に、前記光学基材の表面に前記光学基材の変形防止用のコーティング層を前記光学基材のガラス転移点以下の温度で形成するコーティング層形成工程と、前記コーティング層形成工程の後に、前記コーティング層および前記光学基材を前記光学基材のガラス転移点を超える温度で加熱するアニ−ル工程と、を備え、TMA(Thermomechanical Analyzer)を用い、荷重50g、直径1mmの針入プローブ、初期温度25℃、昇温スピード10℃/minの条件で、前記光学基材の熱機械分析を実施した場合において、前記光学基材のガラス転移点+10℃の測定温度における前記光学基材の厚みの変形量が、前記初期温度における前記光学基材の厚みの10%以上であることを特徴とする。   The method for producing an optical article of the present invention includes: a base material forming step for forming an optical base material; and a coating layer for preventing deformation of the optical base material on the surface of the optical base material after the base material forming step. After the coating layer forming step of forming at a temperature below the glass transition point of the optical substrate and the coating layer forming step, the coating layer and the optical substrate are heated at a temperature exceeding the glass transition point of the optical substrate. An optical process, and using a TMA (Thermomechanical Analyzer), a thermomechanical machine for the optical substrate under the conditions of a load of 50 g, a needle-in probe with a diameter of 1 mm, an initial temperature of 25 ° C., and a heating rate of 10 ° C./min. When the analysis is performed, the deformation amount of the thickness of the optical substrate at the measurement temperature of the glass transition point of the optical substrate + 10 ° C. is 10% of the thickness of the optical substrate at the initial temperature. It is the above.

この発明によれば、基材形成工程で形成された熱可塑性の光学基材の表面に、光学基材のTg以下の温度で、変形防止用のコーティング層を形成する(コーティング層形成工程)。
このコーティング層形成工程において、光学基材は、そのTg以上の温度には加熱されない。よって、熱可塑性を有する光学基材が変形する可能性が低い。
According to this invention, the coating layer for preventing deformation is formed on the surface of the thermoplastic optical substrate formed in the substrate forming step at a temperature not higher than Tg of the optical substrate (coating layer forming step).
In this coating layer forming step, the optical substrate is not heated to a temperature equal to or higher than its Tg. Therefore, the possibility that the optical substrate having thermoplasticity is deformed is low.

コーティング層形成工程に続くアニール工程では、コーティング層および光学基材を光学基材のTgを超える温度で加熱する。
これにより、光学基材の内部応力を緩和させ、光学物品の形状および度数の安定化を図ることができる。
In the annealing step subsequent to the coating layer forming step, the coating layer and the optical substrate are heated at a temperature exceeding the Tg of the optical substrate.
Thereby, the internal stress of the optical substrate can be relaxed, and the shape and frequency of the optical article can be stabilized.

ここで、従来は、熱可塑性を備える光学基材を含む光学物品にアニール工程を実施すると、光学基材が変形し、最終製品である光学物品の形状および度数が維持されず、品質低下が引き起こされるという課題があった。
これに対し、本発明では、コーティング層形成工程において、光学基材の表面に、変形防止用のコーティング層を形成する。コーティング層は、アニール工程においても軟化しないので、その形状を維持することができ、コーティング層に隣接する光学基材の形状もまた維持される。
Here, conventionally, when an annealing process is performed on an optical article including an optical base material having thermoplasticity, the optical base material is deformed, and the shape and frequency of the optical product that is the final product are not maintained, resulting in deterioration in quality. There was a problem of being.
On the other hand, in the present invention, in the coating layer forming step, a deformation preventing coating layer is formed on the surface of the optical substrate. Since the coating layer is not softened even in the annealing process, its shape can be maintained, and the shape of the optical substrate adjacent to the coating layer is also maintained.

したがって、本発明の光学物品の製造方法によれば、光学基材のTg以上の温度でのアニール工程を実施しても光学基材の形状が変わりにくく、形状および度数を維持することができる優れた光学物品を製造することができる。   Therefore, according to the method for producing an optical article of the present invention, the shape of the optical substrate is hardly changed even when the annealing step at a temperature equal to or higher than Tg of the optical substrate is performed, and the shape and frequency can be maintained. Optical articles can be manufactured.

本発明において、前記基材形成工程では、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物から前記光学基材を形成することが好ましい。   In this invention, it is preferable to form the said optical base material from the base material composition containing the compound shown by General formula (1) at the said base material formation process.

式(1)中、Mは、Sn原子、Si原子、Zr原子、Ti原子、またはGe原子である。Rは、炭素数1〜4のアルキレン基であり、Xは、S原子またはO原子であり、nは0〜4の整数を示す。Yは、下記の式(1−1)、または式(1−2)、または式(1−3)のいずれかである。 In formula (1), M is a Sn atom, Si atom, Zr atom, Ti atom, or Ge atom. R 1 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, X 1 is an S atom or an O atom, and n is an integer of 0 to 4. Y is any of the following formula (1-1), formula (1-2), or formula (1-3).

一般式(1)で示される化合物は、屈折率が高く、光学特性に優れた光学基材を与える一方、熱可塑性を有するためアニール処理によって変形を生じるという問題点があった。
これに対し、本発明では、コーティング層形成工程が、光学基材の変形防止用のコーティング層を、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物から形成される光学基材のTg以下の温度で硬化して、光学基材の表面に形成することにより、光学基材の形状を変わりにくくした後に基材組成物から形成される光学基材のTgを超える温度でアニール工程を行って光学基材の内部応力を緩和させる。このことから、形状および度数を維持する光学物品の製造方法を提供することができる。
The compound represented by the general formula (1) has a high refractive index and gives an optical base material excellent in optical properties, but has a problem that deformation is caused by annealing treatment because it has thermoplasticity.
On the other hand, in the present invention, the coating layer forming step is a process for forming an optical base material which is formed from a base material composition containing the compound represented by the general formula (1). An annealing process is performed at a temperature exceeding the Tg of the optical substrate formed from the substrate composition after making the shape of the optical substrate difficult to change by curing at a temperature below Tg and forming on the surface of the optical substrate. To relax the internal stress of the optical substrate. From this, the manufacturing method of the optical article which maintains a shape and frequency can be provided.

本発明の光学物品の製造方法では、前記コーティング層形成工程は、前記光学基材の表面にプライマ層を形成するプライマ層形成工程と、前記光学基材の表面もしくは前記プライマ層の表面にハードコート層を形成するハードコート層形成工程と、前記光学基材の表面もしくは前記ハードコート層の表面もしくは前記プライマ層の表面に反射防止層を形成する反射防止層形成工程との少なくとも一つを兼ねる構成が好ましい。
この発明では、コーティング層形成工程が、プライマ層形成工程と、ハードコート層形成工程と、反射防止層形成工程との少なくとも一つを兼ねることにより、アニール工程の後の工程が短縮する。このことから、簡略化された光学物品の製造方法を提供することができる。
In the method for producing an optical article of the present invention, the coating layer forming step includes a primer layer forming step of forming a primer layer on the surface of the optical substrate, and a hard coat on the surface of the optical substrate or the surface of the primer layer. A structure that serves as at least one of a hard coat layer forming step for forming a layer and an antireflection layer forming step for forming an antireflection layer on the surface of the optical substrate, the surface of the hard coat layer, or the surface of the primer layer Is preferred.
In this invention, the coating layer forming step serves as at least one of the primer layer forming step, the hard coat layer forming step, and the antireflection layer forming step, thereby shortening the step after the annealing step. Thus, a simplified method for manufacturing an optical article can be provided.

本発明では、熱可塑性を有する光学基材の表面に、光学基材のTg以下の温度で硬化する材料から形成されるコーティング層を設けたので、光学基材のTg以上の温度でのアニール処理を施した場合にも、コーティング層の存在によって光学基材の変形を防ぐことができ、意図した形状および度数の光学物品を得ることができる。   In the present invention, since a coating layer formed from a material that cures at a temperature of Tg or less of the optical substrate is provided on the surface of the optical substrate having thermoplasticity, annealing treatment at a temperature of Tg or more of the optical substrate is performed. Even in the case where the coating is applied, deformation of the optical substrate can be prevented by the presence of the coating layer, and an optical article having the intended shape and frequency can be obtained.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明による光学物品およびその製造方法は、以下の実施形態に限定されるものではない。
図1は、本実施形態の光学物品の概略構成を示す断面図である。
図2〜5は、それぞれ光学物品の製造方法の実施形態1〜9を示すフローチャート図である。
図6〜8は、本実施形態の光学物品の製造方法を示す概略図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the optical article and the manufacturing method thereof according to the present invention are not limited to the following embodiments.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the optical article of the present embodiment.
FIGS. 2-5 is a flowchart figure which shows Embodiment 1-9 of the manufacturing method of an optical article, respectively.
6-8 is schematic which shows the manufacturing method of the optical article of this embodiment.

[光学物品]
図1は、本実施形態の光学物品1を示す。以下、光学物品1について、図1に基づき説明する。本実施形態では、光学物品1はメガネレンズである。
図1において、本実施形態の光学物品1は、光学基材10と、光学基材10の表面に形成されたコーティング層2とを備えている。なお、コーティング層2の表面には、2点鎖線で示す層Pを備えていてもよい。
[Optical article]
FIG. 1 shows an optical article 1 of the present embodiment. Hereinafter, the optical article 1 will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the optical article 1 is a spectacle lens.
In FIG. 1, an optical article 1 of the present embodiment includes an optical substrate 10 and a coating layer 2 formed on the surface of the optical substrate 10. The surface of the coating layer 2 may include a layer P indicated by a two-dot chain line.

TMAを用い、荷重50g、直径1mmの針入プローブ、初期温度25℃、昇温スピード10℃/minの条件で、光学基材10の熱機械分析を実施した場合において、光学基材10のTg+10℃の測定温度における光学基材10の厚みの変形量が、初期温度における光学基材10の厚みの10%以上である。
つまり、光学基材10は、熱可塑性を有する。
When TMA was used for thermomechanical analysis of the optical substrate 10 under the conditions of a load of 50 g, a 1 mm diameter needle probe, an initial temperature of 25 ° C., and a heating rate of 10 ° C./min, Tg + 10 of the optical substrate 10 The deformation amount of the thickness of the optical substrate 10 at the measurement temperature of ° C. is 10% or more of the thickness of the optical substrate 10 at the initial temperature.
That is, the optical substrate 10 has thermoplasticity.

光学基材10は、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11からなる高屈折率を有する樹脂材料から形成されることが好ましい。
一般式(1)において、Mは、Sn原子、Si原子、Zr原子、Ti原子、またはGe原子である。Rは、炭素数1〜4のアルキレン基であり、Xは、S原子またはO原子であり、nは0〜4の整数を示す。Yは、下記の式(1−1)、または(1−2)、または(1−3)のいずれかである。
It is preferable that the optical base material 10 is formed from the resin material which has the high refractive index which consists of the base material composition 11 containing the compound shown by General formula (1).
In General formula (1), M is a Sn atom, Si atom, Zr atom, Ti atom, or Ge atom. R 1 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, X 1 is an S atom or an O atom, and n is an integer of 0 to 4. Y is one of the following formulas (1-1), (1-2), or (1-3).

通常、光学物品1は、光学基材10の表面に、プライマ層、ハードコート層、および反射防止層が、内側から外側に向けて積層されているが、物品によっては、プライマ層や反射防止層が省略されることがある。
本実施形態のコーティング層2は、プライマ層、ハードコート層、および反射防止層の少なくとも一つである。
つまり、コーティング層2は、図1において、一層構成に描画しているが、一層構成もしくは複数の層からなる複層構成である。
そして、コーティング層2は、光学基材10の変形防止用であって、光学基材10のTg以下の温度で硬化されることにより形成される。
Normally, in the optical article 1, a primer layer, a hard coat layer, and an antireflection layer are laminated on the surface of the optical base material 10 from the inside to the outside. However, depending on the article, the primer layer and the antireflection layer are laminated. May be omitted.
The coating layer 2 of this embodiment is at least one of a primer layer, a hard coat layer, and an antireflection layer.
That is, the coating layer 2 is drawn in a single layer structure in FIG. 1, but has a single layer structure or a multilayer structure composed of a plurality of layers.
The coating layer 2 is for preventing deformation of the optical substrate 10 and is formed by curing at a temperature equal to or lower than Tg of the optical substrate 10.

このため、コーティング層2および2点鎖線で示す層Pは、以下に示す構成例が挙げられる。
(構成1)コーティング層2はプライマ層およびハードコート層からなる二層構成になっている。2点鎖線で示す層Pは、反射防止層である。
(構成2)コーティング層2はハードコート層からなる一層構成になっている。2点鎖線で示す層Pは、反射防止層である。
(構成3)コーティング層2はプライマ層およびハードコート層および反射防止層からなる三層構成になっている。2点鎖線で示す層Pは、形成されていない。
(構成4)コーティング層2は複数の無機層が積層された反射防止層からなる多層構成になっている。2点鎖線で示す層Pは、形成されていない。
For this reason, the layer P shown with the coating layer 2 and a dashed-two dotted line has the structural example shown below.
(Configuration 1) The coating layer 2 has a two-layer configuration consisting of a primer layer and a hard coat layer. A layer P indicated by a two-dot chain line is an antireflection layer.
(Configuration 2) The coating layer 2 has a single layer configuration composed of a hard coat layer. A layer P indicated by a two-dot chain line is an antireflection layer.
(Configuration 3) The coating layer 2 has a three-layer configuration including a primer layer, a hard coat layer, and an antireflection layer. The layer P indicated by the two-dot chain line is not formed.
(Configuration 4) The coating layer 2 has a multilayer configuration including an antireflection layer in which a plurality of inorganic layers are laminated. The layer P indicated by the two-dot chain line is not formed.

プライマ層は、ウレタン樹脂などで形成されている。ハードコート層は、シリコーン系、アクリル系材料などで形成されている。反射防止層は、一層構成もしくは複数の層からなる複層構成である。複層構成の例としては、SiOからなる層と、ZrOまたはTiOからなる層とが、交互に積層された構成である。 The primer layer is made of urethane resin or the like. The hard coat layer is made of a silicone or acrylic material. The antireflection layer has a single layer structure or a multilayer structure composed of a plurality of layers. As an example of a multilayer structure, a layer made of SiO 2 and a layer made of ZrO 2 or TiO 2 are alternately stacked.

[光学物品の製造方法]
図2〜図5は、本実施形態の光学物品の製造方法の例を示すフローチャート図である。
以下、本実施形態の製造方法について、以下に示す4つの実施形態について図2〜図5に基づきそれぞれ説明する。
[Method of manufacturing optical article]
2 to 5 are flowcharts showing an example of a method for manufacturing an optical article according to the present embodiment.
Hereinafter, the manufacturing method of the present embodiment will be described based on FIGS. 2 to 5 for the following four embodiments.

いずれの光学物品1の製造方法においても、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物から光学基材10を形成する基材形成工程を行い、この基材形成工程の後に、光学基材10の表面に光学基材10の変形防止用のコーティング層2を形成するコーティング層形成工程と、コーティング層2および光学基材10を光学基材10のTgを超える温度で加熱するアニ−ル工程とを備える。   In any manufacturing method of the optical article 1, a base material forming step of forming the optical base material 10 from the base material composition containing the compound represented by the general formula (1) is performed, and after this base material forming step, A coating layer forming step for forming a coating layer 2 for preventing deformation of the optical substrate 10 on the surface of the optical substrate 10, and an anion for heating the coating layer 2 and the optical substrate 10 at a temperature exceeding Tg of the optical substrate 10. A process.

[第1実施形態]
図2において、光学物品1の製造方法の第1実施形態を説明する。第1実施形態の方法では、基材形成工程として、まず、光学基材10の原料である基材組成物11を調合する原料調合工程(S101)を実施し、続けて、ガラスモールド注入工程(S102)、熱硬化工程(S103)、および離型工程(S104)を実施し、その後に、コーティング層形成工程を実施する。ガラスモールド注入工程(S102)、熱硬化工程(S103)、および離型工程(S104)の具体的な手順については後述する。
コーティング層形成工程は、光学基材10の表面にプライマ層を形成するプライマ層形成工程(S105)と、プライマ層の表面にハードコート層を形成するハードコート層形成工程(S106)とを備え、これらの工程を順順に実施する。これにより、光学基材10の表面に、構成1で示されるプライマ層およびハードコート層からなるコーティング層2が形成される。なお、これらの工程の具体的な手順については後述する。
コーティング層形成工程の後に、アニール工程(S107)を行う。
このアニール工程では、プライマ層およびハードコート層からなるコーティング層2および光学基材10を光学基材10のTgを超える温度で加熱することで実施される。
アニール工程の後に、反射防止層形成工程(S108)を行う。これにより、光学物品1が完成する。なお、アニール工程の後に、反射防止層形成工程を行うとしたが、反射防止層形成工程を行わずに、光学物品1が完成するとしてもよい。反射防止層形成工程(S108)の具体的な手順については後述する。
[First Embodiment]
In FIG. 2, a first embodiment of a method for manufacturing an optical article 1 will be described. In the method of the first embodiment, as a base material forming step, first, a raw material preparation step (S101) for preparing a base material composition 11 that is a raw material of the optical base material 10 is carried out, followed by a glass mold injection step ( S102), a thermosetting step (S103), and a release step (S104) are performed, and then a coating layer forming step is performed. Specific procedures of the glass mold injection step (S102), the thermosetting step (S103), and the release step (S104) will be described later.
The coating layer forming step includes a primer layer forming step (S105) for forming a primer layer on the surface of the optical substrate 10, and a hard coat layer forming step (S106) for forming a hard coat layer on the surface of the primer layer. These steps are performed in order. Thereby, the coating layer 2 composed of the primer layer and the hard coat layer shown in the configuration 1 is formed on the surface of the optical substrate 10. In addition, the specific procedure of these processes is mentioned later.
An annealing step (S107) is performed after the coating layer forming step.
In this annealing step, the coating layer 2 including the primer layer and the hard coat layer and the optical substrate 10 are heated at a temperature exceeding the Tg of the optical substrate 10.
After the annealing step, an antireflection layer forming step (S108) is performed. Thereby, the optical article 1 is completed. Although the antireflection layer forming step is performed after the annealing step, the optical article 1 may be completed without performing the antireflection layer forming step. The specific procedure of the antireflection layer forming step (S108) will be described later.

[第2実施形態]
光学物品1の製造方法の第2実施形態を図3に基づいて説明する。図3において、光学物品1の製造方法の第2実施形態は、コーティング層形成工程として、第1実施形態と比べてプライマ層形成工程は行わないとし、光学基材10の表面にハードコート層形成工程(S205)を行うことに特徴がある。これにより、光学基材10の表面に、構成2に示すコーティング層2が形成される。アニール工程(S206)は、図2に示すアニール工程(S107)と同様に、コーティング層形成工程の後に行う。このアニール工程では、ハードコート層からなるコーティング層2および光学基材10を光学基材10のTgを超える温度で加熱することで実施される。
アニール工程の後に、図2に示す反射防止層形成工程(S108)と同様に、反射防止層形成工程(S207)を行う。これにより、光学物品1が完成する。
基材形成工程は、図2に示す基材形成工程S101〜S104と同様のため、同一の符号を付与して説明を省略する。
第2実施形態の方法において、ハードコート形成工程(S205)およびアニール工程(S206)および反射防止層形成工程(S207)は、図2に示すハードコート層形成工程(S106)およびアニール工程(S107)および反射防止層形成工程(S108)とそれぞれ同様である。
[Second Embodiment]
2nd Embodiment of the manufacturing method of the optical article 1 is described based on FIG. In FIG. 3, in the second embodiment of the method for manufacturing the optical article 1, the primer layer forming step is not performed as the coating layer forming step as compared with the first embodiment, and the hard coat layer is formed on the surface of the optical substrate 10. It is characterized by performing the step (S205). Thereby, the coating layer 2 shown in the configuration 2 is formed on the surface of the optical substrate 10. The annealing step (S206) is performed after the coating layer forming step, similarly to the annealing step (S107) shown in FIG. This annealing step is performed by heating the coating layer 2 made of a hard coat layer and the optical substrate 10 at a temperature exceeding the Tg of the optical substrate 10.
After the annealing step, the antireflection layer forming step (S207) is performed in the same manner as the antireflection layer forming step (S108) shown in FIG. Thereby, the optical article 1 is completed.
Since the base material forming step is the same as the base material forming steps S101 to S104 shown in FIG.
In the method of the second embodiment, the hard coat forming step (S205), the annealing step (S206), and the antireflection layer forming step (S207) are the hard coat layer forming step (S106) and annealing step (S107) shown in FIG. And antireflection layer forming step (S108).

[第3実施形態]
光学物品1の製造方法の第3実施形態を図4に基づいて説明する。図2において、コーティング層形成工程としてプライマ層形成工程(S105)およびハードコート層形成工程(S106)を行うとしたことを、本実施形態では、プライマ層形成工程(S305)およびハードコート層形成工程(S306)に引き続いて反射防止層形成工程(S307)を実施してコーティング層形成工程が行われることに特徴がある。これにより、光学基材10の表面に、構成3に示すコーティング層2を形成する。アニール工程(S308)は、図2に示すアニール工程(S107)と同様に、コーティング層形成工程の後に行う。これにより、光学物品1が完成する。このアニール工程では、プライマ層、ハードコート層および反射防止層からなるコーティング層2および光学基材10を光学基材10のTgを超える温度で加熱することで実施される。
なお、基材形成工程は、図2に示す基材形成工程と同様のため、同一の符号を付与する。また、プライマ層形成工程(S305)およびハードコート層形成工程(S306)およびアニール工程(S308)は、図2に示すプライマ層形成工程(S105)およびハードコート層形成工程(S106)およびアニール工程(S107)とそれぞれ同様である。
[Third Embodiment]
A third embodiment of the method for manufacturing the optical article 1 will be described with reference to FIG. In FIG. 2, the primer layer forming step (S105) and the hard coat layer forming step (S106) are performed as the coating layer forming step. In this embodiment, the primer layer forming step (S305) and the hard coat layer forming step are performed. Following the step (S306), the antireflection layer forming step (S307) is carried out to perform the coating layer forming step. Thereby, the coating layer 2 shown in the configuration 3 is formed on the surface of the optical substrate 10. The annealing step (S308) is performed after the coating layer forming step, similarly to the annealing step (S107) shown in FIG. Thereby, the optical article 1 is completed. This annealing step is performed by heating the coating layer 2 including the primer layer, the hard coat layer, and the antireflection layer, and the optical substrate 10 at a temperature exceeding the Tg of the optical substrate 10.
In addition, since a base material formation process is the same as that of the base material formation process shown in FIG. 2, the same code | symbol is provided. The primer layer forming step (S305), the hard coat layer forming step (S306), and the annealing step (S308) are the primer layer forming step (S105), the hard coat layer forming step (S106), and the annealing step (shown in FIG. 2). This is the same as S107).

[第4実施形態]
光学物品1の製造方法の第4実施形態を図5に基づいて説明する。図5に示す光学物品1の製造方法は、図2において、コーティング層形成工程としてプライマ層形成工程(S105)およびハードコート層形成工程(S106)を行うとしたことを、プライマ層形成工程およびハードコート層形成工程は行わず、反射防止層形成工程(S405)のみからコーティング層形成工程を実施することに特徴がある。これにより、光学基材10の表面に、構成4に示すコーティング層2を形成する。アニール工程(S406)は、図2に示すアニール工程(S107)と同様に、コーティング層形成工程の後に行う。これにより、光学物品1が完成する。なお、アニール工程では、反射防止層からなるコーティング層2および光学基材10を光学基材10のTgを超える温度で加熱することで実施される。
なお、基材形成工程は、図2に示す基材形成工程と同様のため、同一の符号を付与する。
[Fourth Embodiment]
4th Embodiment of the manufacturing method of the optical article 1 is described based on FIG. The manufacturing method of the optical article 1 shown in FIG. 5 is that the primer layer forming step (S105) and the hard coat layer forming step (S106) are performed as the coating layer forming step in FIG. The coating layer forming step is not performed, and the coating layer forming step is performed only from the antireflection layer forming step (S405). Thereby, the coating layer 2 shown in the configuration 4 is formed on the surface of the optical substrate 10. The annealing step (S406) is performed after the coating layer forming step, similarly to the annealing step (S107) shown in FIG. Thereby, the optical article 1 is completed. In the annealing step, the coating layer 2 made of an antireflection layer and the optical substrate 10 are heated at a temperature exceeding the Tg of the optical substrate 10.
In addition, since a base material formation process is the same as that of the base material formation process shown in FIG. 2, the same code | symbol is provided.

[基材形成工程]
図6は、基材形成工程の一例を示す概略図である。図6(A)(B)は原料調合工程(S101)の後に行うガラスモールド注入工程(S102)の具体的手順を示す概略図であり、図6(C)は熱硬化工程(S103)の具体的手順を示す概略図であり、図6(D)は離型工程(S104)の具体的手順を示す概略図である。
[Base material forming step]
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an example of the base material forming step. FIGS. 6A and 6B are schematic views showing a specific procedure of the glass mold injection step (S102) performed after the raw material preparation step (S101), and FIG. 6C is a specific example of the thermosetting step (S103). FIG. 6D is a schematic diagram showing a specific procedure of the mold release step (S104).

図6(A)に示すように、成型用ガラスモールド20は光学基材10を成形するためのものである。成型用ガラスモールド20において、ガラス製の一対のガラスモールド21,22は隙間を介して対向配置され、一対のガラスモールド21,22の外周面に粘着テープ23が巻きつけられて、キャビティ24を形成している。一対のガラスモールド21,22および粘着テープ23により囲まれたキャビティ24は、度数が約−3Dの光学基材10を形作るように形成されている。   As shown in FIG. 6A, the molding glass mold 20 is for molding the optical substrate 10. In the molding glass mold 20, a pair of glass molds 21 and 22 are arranged to face each other through a gap, and an adhesive tape 23 is wound around the outer peripheral surfaces of the pair of glass molds 21 and 22 to form a cavity 24. doing. The cavity 24 surrounded by the pair of glass molds 21 and 22 and the adhesive tape 23 is formed so as to form the optical substrate 10 having a frequency of about -3D.

ガラスモールド注入工程(S102)では、図6(B)に示すように、注入ノズル25を用いて、キャビティ24に、原料調合工程において得た基材組成物11を注入する。そして、ガラスモールド注入工程(S102)の後に、熱硬化工程(S103)を行う。
熱硬化工程(S103)では、図6(C)に示すように、加熱または紫外線照射などで基材組成物11を硬化させ、光学基材10を形作る。さらに、熱硬化工程(S103)の後に、離型工程(S104)を行う。
離型工程(S104)では、図6(D)に示すように、粘着テープ23を一対のガラスモールド21,22および光学基材10から取り外し、一対のガラスモールド21,22を光学基材10から離間させて、光学基材10を取り出す。これにより、光学基材10を形成する。
In the glass mold injection step (S102), as shown in FIG. 6B, the base material composition 11 obtained in the raw material preparation step is injected into the cavity 24 using the injection nozzle 25. And a thermosetting process (S103) is performed after a glass mold injection process (S102).
In the thermosetting step (S103), as shown in FIG. 6C, the base material composition 11 is cured by heating or ultraviolet irradiation to form the optical base material 10. Furthermore, a mold release step (S104) is performed after the thermosetting step (S103).
In the mold release step (S104), as shown in FIG. 6D, the adhesive tape 23 is removed from the pair of glass molds 21 and 22 and the optical base material 10, and the pair of glass molds 21 and 22 is removed from the optical base material 10. The optical substrate 10 is taken out after being separated. Thereby, the optical base material 10 is formed.

[コーティング層形成工程]
図7,8は、光学物品1の製造方法のコーティング層形成工程の例を示す概略図である。
図7は、コーティング層形成工程において、ウェットプロセスの一例として、浸漬法によるコーティング層2の形成に用いる浸漬装置30の構成を示す概略斜視図である。以下、上述の各実施形態のコーティング層形成工程の一例として、浸漬法によるプライマ層形成工程(S105)について、図7に基づき説明する。
[Coating layer forming process]
7 and 8 are schematic views illustrating an example of a coating layer forming step of the method for manufacturing the optical article 1.
FIG. 7 is a schematic perspective view showing a configuration of a dipping apparatus 30 used for forming the coating layer 2 by a dipping method as an example of a wet process in the coating layer forming step. Hereinafter, as an example of the coating layer forming step of each of the embodiments described above, the primer layer forming step (S105) by the dipping method will be described with reference to FIG.

浸漬装置30は、タンク34と昇降部31とを備えている。タンク34内には、コーティング組成物Lとしてのウレタン樹脂などからなるプライマ組成物が収納されている。
昇降部31は、把持具33とロッド32とを備え、把持具33はロッド32に連結されている。昇降部31は、図7に示す矢印の方向に昇降する構造になっている。把持具33が光学基材10の外周面部を把持し、昇降部31が降下することにより、タンク34内のコーティング組成物Lに、光学基材10を浸漬させる。浸漬後、昇降部31を上昇することにより、タンク34内から光学基材10を引き上げ、コーティング組成物Lが光学基材10に塗布される。塗布後、光学基材10に塗布されたコーティング組成物Lに、加熱または紫外線照射などで硬化処理を施し、コーティング組成物Lを硬化させることにより、プライマ層が形成された光学基材10を得る。これにより、コーティング組成物Lからなるコーティング層2が光学基材10の表面に形成された光学物品1を得る。なお、引き上げ速度および硬化処理条件などについては、適宜決定することができる。
また、浸漬装置30を用いたハードコート層形成工程(S106)および反射防止層形成工程(S108)において、ハードコート層および反射防止層を形成する方法は前述と略同じであり、タンク34内にシリコーン系、アクリル系材料などからなるハードコート組成物を収納するか、または有機物からなる有機層組成物を収納するかが相違するものであり、さらには、引き上げ速度および硬化処理条件も相違するものである。なお、ハードコート組成物や反射防止層用有機層組成物は従来と同じ材料を使用する。
The dipping device 30 includes a tank 34 and an elevating part 31. In the tank 34, a primer composition made of urethane resin or the like as the coating composition L is stored.
The elevating unit 31 includes a gripping tool 33 and a rod 32, and the gripping tool 33 is connected to the rod 32. The raising / lowering part 31 has a structure which raises / lowers in the direction of the arrow shown in FIG. The gripping tool 33 grips the outer peripheral surface portion of the optical base material 10 and the elevating part 31 descends, so that the optical base material 10 is immersed in the coating composition L in the tank 34. After dipping, the optical substrate 10 is pulled up from the tank 34 by raising the elevating unit 31, and the coating composition L is applied to the optical substrate 10. After coating, the coating composition L applied to the optical substrate 10 is subjected to a curing treatment by heating or ultraviolet irradiation, and the coating composition L is cured to obtain the optical substrate 10 on which the primer layer is formed. . Thereby, the optical article 1 in which the coating layer 2 made of the coating composition L is formed on the surface of the optical substrate 10 is obtained. Note that the pulling speed and curing treatment conditions can be determined as appropriate.
Further, in the hard coat layer forming step (S106) and the antireflection layer forming step (S108) using the dipping device 30, the method for forming the hard coat layer and the antireflection layer is substantially the same as described above. Whether it contains a hard coat composition made of silicone or acrylic material or an organic layer composition made of organic matter, and the pulling speed and curing treatment conditions are also different. It is. In addition, the same material as before is used for the hard coat composition and the organic layer composition for the antireflection layer.

図8は、コーティング層形成工程において、ドライプロセスの一例として、真空蒸着法によるコーティング層の形成に用いる真空蒸着装置40の構成を示す概略断面図である。
以下、上述の各実施形態のコーティング層形成工程の一例として反射防止層形成工程(S405)に用いる真空蒸着法について、図8に基づき説明する。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a vacuum deposition apparatus 40 used for forming a coating layer by a vacuum deposition method as an example of a dry process in the coating layer forming step.
Hereinafter, the vacuum evaporation method used for an antireflection layer formation process (S405) as an example of the coating layer formation process of each above-mentioned embodiment is explained based on FIG.

真空蒸着装置40は、真空容器41、および排気装置42、およびガス供給装置43、および圧力計44を備えている。真空蒸着装置40は、いわゆる電子ビーム真空蒸着装置である。   The vacuum vapor deposition device 40 includes a vacuum container 41, an exhaust device 42, a gas supply device 43, and a pressure gauge 44. The vacuum deposition apparatus 40 is a so-called electron beam vacuum deposition apparatus.

真空容器41は、真空容器41内に蒸着材料がセットされた蒸発源46,47、蒸発源46,47の蒸着材料を加熱溶解し蒸発させるフィラメント48、光学基材10が載置される基材支持台45、光学基材10を加熱するための基材加熱用ヒータ49などを備えている。また、必要に応じて真空容器41内に残留した水分を除去するためのコールドトラップや、酸素などのガスを導入し、導入したガスをイオン化し加速して光学基材10に照射する装置、膜厚を管理するための装置などが具備される。蒸着材料としては、無機物であるSiO、ZrO、またはTiOなどが挙げられる。 The vacuum vessel 41 includes evaporation sources 46 and 47 in which a deposition material is set in the vacuum vessel 41, a filament 48 that heats and dissolves the evaporation materials of the evaporation sources 46 and 47, and a substrate on which the optical substrate 10 is placed. A support base 45, a substrate heating heater 49 for heating the optical substrate 10, and the like are provided. Further, a cold trap for removing moisture remaining in the vacuum vessel 41 as needed, a device for introducing a gas such as oxygen, ionizing and accelerating the introduced gas and irradiating the optical substrate 10, a film A device for managing the thickness is provided. Examples of the vapor deposition material include inorganic materials such as SiO 2 , ZrO 2 , and TiO 2 .

蒸発源46,47は、蒸着材料がセットされたるつぼであり、真空容器41内の下部に配置されている。フィラメント48が発熱することによって発生する熱電子を、電子銃により加速、偏向して、蒸発源46,47にセットされた蒸着材料に照射し蒸発させる。いわゆる電子ビーム蒸着が行われる。電子ビームの電流値に特に制限はないが、当該電流値は蒸着速度との密接な関係があるため必要な蒸着速度に応じて調整できる。また、蒸着材料を蒸発させる他の方法として、タングステンなどの抵抗体に通電し蒸着材料を溶融し気化する方法、いわゆる抵抗加熱蒸着、そして高エネルギーのレーザー光を蒸発させたい材料に照射する方法などがある。   The evaporation sources 46 and 47 are crucibles in which a vapor deposition material is set, and are arranged at the lower part in the vacuum vessel 41. The thermoelectrons generated when the filament 48 generates heat are accelerated and deflected by an electron gun, and are irradiated to the vapor deposition material set in the evaporation sources 46 and 47 to evaporate. So-called electron beam evaporation is performed. The current value of the electron beam is not particularly limited, but the current value has a close relationship with the deposition rate, and can be adjusted according to the required deposition rate. In addition, other methods for evaporating the vapor deposition material include a method in which a resistor such as tungsten is energized to melt and vaporize the vapor deposition material, so-called resistance heating vapor deposition, and a method in which a material to be vaporized with high energy laser light is irradiated. There is.

基材支持台45は、所定数の光学基材10を載置する支持台であり、蒸発源46,47と対向した真空容器41内の上部に配置されている。基材支持台45は、光学基材10に形成されるコーティング層2の均一性を確保し、かつ量産性を高めるために回転機構を有するのが好ましい。   The base material support base 45 is a support base on which a predetermined number of optical base materials 10 are placed, and is disposed in the upper part of the vacuum container 41 facing the evaporation sources 46 and 47. The substrate support 45 preferably has a rotation mechanism in order to ensure the uniformity of the coating layer 2 formed on the optical substrate 10 and to improve mass productivity.

基材加熱用ヒータ49は、たとえば赤外線ランプからなり、基材支持台45の上部に配置されている。基材加熱用ヒータ49は、光学基材10を加熱することにより光学基材10のガス出しあるいは水分とばしを行い、光学基材10の表面に形成される層の密着性を確保する。なお、赤外線ランプの他に抵抗加熱ヒータなどを用いることができるが、光学基材10の材質がプラスチックまたは樹脂の場合には、赤外線ランプを用いるのが好ましい。   The substrate heating heater 49 is made of, for example, an infrared lamp, and is disposed on the substrate support 45. The substrate heating heater 49 heats the optical substrate 10 to perform outgassing or moisture removal from the optical substrate 10 to ensure adhesion of the layer formed on the surface of the optical substrate 10. In addition to the infrared lamp, a resistance heater or the like can be used. However, when the material of the optical substrate 10 is plastic or resin, it is preferable to use an infrared lamp.

排気装置42は、真空容器41内を高真空に排気する装置であり、ターボ分子ポンプと、真空容器41内の圧力を一定に保つ圧力調節バルブとを備えている。
ガス供給装置43は、Ar,N,Oなどのガスを内蔵するガスシリンダと、ガスの流量を制御する流量制御装置とを備えている。ガスシリンダに内蔵されたガスは、流量制御装置を介して真空容器41内に導入される。
圧力計44は、真空容器41内の圧力を検出する。圧力計44によって検出された圧力値に基づき、排気装置42の圧力調節バルブが、制御部(図示せず)からの制御信号により制御されて、真空容器41内の圧力が所定の圧力値に保たれる。圧力の調整方法としては、排気口のコンダクタンスを変化させる方法とガスを導入して導入量を変化させる方法などがあるがどちらでもかまわない。したがって、真空容器41内の圧力は、ガス供給装置43のガスシリンダから供給されるガスの流量を制御する流量制御装置を制御する方法でも可能である。また、特に調整をしないで排気後の残圧で圧力を調整する場合は、屈折率が変化する場合があるので膜厚の調整が必要になる。とくに圧力制御を行わない場合には蒸着中に大きく圧力が変化する場合がある。
The exhaust device 42 is a device that exhausts the inside of the vacuum vessel 41 to a high vacuum, and includes a turbo molecular pump and a pressure control valve that keeps the pressure inside the vacuum vessel 41 constant.
The gas supply device 43 includes a gas cylinder containing a gas such as Ar, N 2 , and O 2 and a flow rate control device that controls the flow rate of the gas. The gas built in the gas cylinder is introduced into the vacuum vessel 41 via the flow rate control device.
The pressure gauge 44 detects the pressure in the vacuum vessel 41. Based on the pressure value detected by the pressure gauge 44, the pressure control valve of the exhaust device 42 is controlled by a control signal from a control unit (not shown), and the pressure in the vacuum vessel 41 is maintained at a predetermined pressure value. Be drunk. There are two methods for adjusting the pressure, such as a method of changing the conductance of the exhaust port and a method of changing the introduction amount by introducing gas. Therefore, the pressure in the vacuum container 41 can be controlled by a method of controlling a flow rate control device that controls the flow rate of the gas supplied from the gas cylinder of the gas supply device 43. Further, when the pressure is adjusted with the residual pressure after exhausting without particular adjustment, the refractive index may change, so the film thickness needs to be adjusted. In particular, when pressure control is not performed, the pressure may change greatly during vapor deposition.

以下に、本実施形態の実施例1〜9について説明する。   Examples 1 to 9 of this embodiment will be described below.

[実施例1]
実施例1において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、構成1に示す二層構成である。
[Example 1]
In Example 1, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG.

実施例1に係る光学物品1の製造方法を示すフローチャート図は、上述した第1実施形態を示す図2である。
まず、基材形成工程として、原料調合工程(S101)、ガラスモールド注入工程(S102)、熱硬化工程(S103)、および離型工程(S104)を順順に行う。以下、基材形成工程について、図2および図6を参照して説明する。
原料調合工程(S101)において、光学物品1を形成する光学基材10の組成物として、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を形成する。
光学基材10の原料としてテトラキス(2,3−エピチオプロピルチオ)スズ(以下、『Sn−1』と記す。)を30g、紫外線吸収剤としてSEESORB701(シプロ化成工業製)0.3gを添加し、十分に攪拌して混合する。攪拌混合後に、重合触媒としてN,Nジメチルシクロへキシルアミン0.1gを加えて混合した後、1.5kPa以下に減圧した状態で攪拌しながら15分間脱気を行うことにより、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を得る。Sn−1からなる基材組成物11を重合させて得られる樹脂のTgは、110℃である。
The flowchart which shows the manufacturing method of the optical article 1 which concerns on Example 1 is FIG. 2 which shows 1st Embodiment mentioned above.
First, as a base material formation process, a raw material preparation process (S101), a glass mold injection process (S102), a thermosetting process (S103), and a mold release process (S104) are performed in order. Hereinafter, a base material formation process is demonstrated with reference to FIG. 2 and FIG.
In the raw material preparation step (S101), the base material composition 11 containing the compound represented by the general formula (1) is formed as the composition of the optical base material 10 that forms the optical article 1.
30 g of tetrakis (2,3-epithiopropylthio) tin (hereinafter referred to as “Sn-1”) is added as a raw material of the optical base material 10 and 0.3 g of SEESORB701 (manufactured by Sipro Kasei Kogyo) is added as an ultraviolet absorber. Mix well with sufficient agitation. After stirring and mixing, 0.1 g of N, N dimethylcyclohexylamine as a polymerization catalyst was added and mixed, and then deaerated for 15 minutes while stirring under reduced pressure to 1.5 kPa or less, whereby the general formula (1) The base material composition 11 containing the compound shown by is obtained. The Tg of the resin obtained by polymerizing the base composition 11 made of Sn-1 is 110 ° C.

原料調合工程(S101)の後に、ガラスモールド注入工程(S102)を行う。ガラスモールド注入工程(S102)では、図6(A)に示す成型用ガラスモールド20に、図6(B)に示すようにして、基材組成物11を注入する。   A glass mold injection step (S102) is performed after the raw material preparation step (S101). In the glass mold injection step (S102), the base material composition 11 is injected into the molding glass mold 20 shown in FIG. 6A as shown in FIG. 6B.

ガラスモールド注入工程(S102)の後に、熱硬化工程(S103)を行う。熱硬化工程(S103)では、図6(C)に示すように、成型用ガラスモールド20および成型用ガラスモールド20に注入された基材組成物11を、30℃から120℃まで20時間かけて昇温し、基材組成物11を重合硬化させることにより、光学基材10を形作る。   After the glass mold injection step (S102), a thermosetting step (S103) is performed. In the thermosetting step (S103), as shown in FIG. 6C, the molding glass mold 20 and the base material composition 11 injected into the molding glass mold 20 are heated from 30 ° C. to 120 ° C. over 20 hours. The optical substrate 10 is formed by raising the temperature and polymerizing and curing the substrate composition 11.

熱硬化工程(S103)の後に、離型工程(S104)を行う。これにより、図6(D)に示すように、光学基材10を得る。ここで、光学基材10は、度数が約−3Dであることを確認した。また、2枚の鏡面仕上げされたガラスフラット板を用いて、厚さ2mmのプラスチック板を作成し、ダイヤモンドカッタで光学基材10を切り出した。切り出された光学基材10の屈折率を、アッベ屈折率計を用いて、気温20℃で589.3nmのD線の屈折率を測定し、nd=1.794であることを確認した。   A mold release process (S104) is performed after a thermosetting process (S103). Thereby, as shown in FIG.6 (D), the optical base material 10 is obtained. Here, it was confirmed that the optical substrate 10 has a frequency of about -3D. Further, a plastic plate having a thickness of 2 mm was formed using two mirror-finished glass flat plates, and the optical substrate 10 was cut out with a diamond cutter. Using a Abbe refractometer, the refractive index of the D-line of 589.3 nm was measured for the refractive index of the cut optical substrate 10 using an Abbe refractometer, and it was confirmed that nd = 1.794.

離型工程(S104)の後に、コーティング層形成工程として、プライマ層形成工程(S105)およびハードコート層形成工程(S106)を順順に行う。まず、プライマ層形成工程(S105)について図7を参照して説明する。
ステンレス製のタンク34内に、メチルアルコール220g、水91.8gを投入し、十分に攪拌して混合する。攪拌混合後、酸化チタン、酸化スズ、および酸化ケイ素を主体とする複合微粒子ゾル(ルチル型結晶構造、メタノール分散、全固形物濃度20重量%、触媒化成工業株式会社製、商品名「オプトレイク1120Z」、以下、「オプトレイク1120Z」と記す)を加え、攪拌して混合する。攪拌混合後、水性ポリエステル(伊藤光学株式会社製)77gを加え、攪拌して混合する。シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー株式会社製、商品名「L−7604」)0.1gを添加して、2時間攪拌して混合する。これにより、プライマ層を形成するためのコーティング組成物Lとして、プライマ組成物を得る。プライマ組成物の中に、離型工程(S104)の後の光学基材10を、図7に示す浸漬装置30を用いて浸漬する。これにより、光学基材10の表面に、プライマ組成物を塗布する。引き上げ速度は、200mm/minとする。プライマ組成物が塗布された光学基材10に、80℃で30分間の加熱処理を施す。これにより、光学基材10の表面に形成されたプライマ層を得る。
After the release step (S104), a primer layer forming step (S105) and a hard coat layer forming step (S106) are performed in order as a coating layer forming step. First, the primer layer forming step (S105) will be described with reference to FIG.
Into a stainless steel tank 34, 220 g of methyl alcohol and 91.8 g of water are charged and mixed with sufficient stirring. After stirring and mixing, composite fine particle sol mainly composed of titanium oxide, tin oxide and silicon oxide (rutile type crystal structure, methanol dispersion, total solid concentration 20% by weight, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “OPTRAIQUE 1120Z ”, Hereinafter referred to as“ Optlake 1120Z ”), and mixed by stirring. After stirring and mixing, 77 g of aqueous polyester (manufactured by Ito Optical Co., Ltd.) is added and mixed by stirring. 0.1 g of a silicone-based surfactant (trade name “L-7604” manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.) is added and mixed by stirring for 2 hours. Thereby, a primer composition is obtained as the coating composition L for forming the primer layer. The optical base material 10 after the mold release step (S104) is immersed in the primer composition using an immersion apparatus 30 shown in FIG. Thereby, the primer composition is applied to the surface of the optical substrate 10. The pulling speed is 200 mm / min. The optical base material 10 coated with the primer composition is subjected to a heat treatment at 80 ° C. for 30 minutes. As a result, a primer layer formed on the surface of the optical substrate 10 is obtained.

プライマ層形成工程(S105)の後に、ハードコート層形成工程(S106)を行う。以下、ハードコート形成工程(S106)について図7を参照して説明する。
ステンレス製のタンク34内に、ブチルセロソルブ62.5gおよびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン67.1gを投入し、十分に攪拌して混合する。その後攪拌しながら、タンク34内に、0.1モル/リットル塩酸30.7gを滴下し、さらに4時間攪拌する。その後、一昼夜熟成させることにより、シラン加水分解物を得る。このシラン加水分解物の中に、オプトレイク1120Zを325g、ならびにグリセロールジグリシジルエーテル(ナガセ化成株式会社製、商品名「デナコールEX−313」)12.5gを添加する。その後、鉄(III)アセチルアセトナート1.36gおよびシリコーン系界面活性剤(日本ユニカー株式会社製、商品名「L−7001」、以下、「L−7001」と記す)0.15g、フェノール系酸化防止剤(川口化学工業株式会社製、商品名「アンテージクリスタル」)0.26gを添加して、4時間攪拌する。その後、一昼夜熟成させることにより、コーティング組成物Lとして、ハードコートα層形成用コーティング組成物を得る。
ハードコートα層形成用コーティング組成物の中に、プライマ層形成工程においてプライマ層が形成された光学基材10を、図7に示す浸漬装置30を用いて浸漬する。これにより、光学基材10の表面に形成されたプライマ層の表面に、ハードコートα層形成用コーティング組成物を塗布する。引き上げ速度は、200mm/minとする。ハードコートα層形成用コーティング組成物が塗布された光学基材10に、80℃で30分間の加熱処理を施す。これにより、プライマ層の表面に形成されたハードコートα層を得る。このようにして、光学基材10の表面に、構成1に示すコーティング層2を形成する。
After the primer layer forming step (S105), a hard coat layer forming step (S106) is performed. Hereinafter, the hard coat forming step (S106) will be described with reference to FIG.
Into a stainless steel tank 34, 62.5 g of butyl cellosolve and 67.1 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane are charged and mixed with sufficient stirring. Thereafter, 30.7 g of 0.1 mol / liter hydrochloric acid is dropped into the tank 34 while stirring, and further stirred for 4 hours. Thereafter, the silane hydrolyzate is obtained by aging all day and night. To this silane hydrolyzate, 325 g of Optolake 1120Z and 12.5 g of glycerol diglycidyl ether (manufactured by Nagase Kasei Co., Ltd., trade name “Denacol EX-313”) are added. Thereafter, 1.36 g of iron (III) acetylacetonate and 0.15 g of a silicone surfactant (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd., trade name “L-7001”, hereinafter referred to as “L-7001”), phenolic oxidation Add 0.26 g of an inhibitor (trade name “ANTAGE CRYSTAL” manufactured by Kawaguchi Chemical Co., Ltd.) and stir for 4 hours. Thereafter, the coating composition for forming a hard coat α layer is obtained as the coating composition L by aging all day and night.
The optical base material 10 on which the primer layer has been formed in the primer layer forming step is immersed in the hard coat α layer forming coating composition using an immersion apparatus 30 shown in FIG. Thereby, the coating composition for hard coat α layer formation is applied to the surface of the primer layer formed on the surface of the optical substrate 10. The pulling speed is 200 mm / min. The optical base material 10 to which the hard coat α layer forming coating composition is applied is subjected to a heat treatment at 80 ° C. for 30 minutes. Thereby, a hard coat α layer formed on the surface of the primer layer is obtained. In this way, the coating layer 2 shown in the configuration 1 is formed on the surface of the optical substrate 10.

ハードコート層形成工程(S106)の後に、アニール工程(S107)を行う。アニール工程(S107)において、コーティング層2としてプライマ層およびプライマ層の表面にハードコートα層が形成された光学基材10に、125℃で3時間のアニール処理を施す。これにより、光学物品1が完成する。   After the hard coat layer forming step (S106), an annealing step (S107) is performed. In the annealing step (S107), the primer layer and the optical substrate 10 on which the hard coat α layer is formed on the surface of the primer layer are subjected to an annealing process at 125 ° C. for 3 hours. Thereby, the optical article 1 is completed.

アニール工程(S107)の後に、図7に示す浸漬装置30を用いて、反射防止層形成工程(S108)を行う。アニール処理を施された光学基材10の表面に形成されたプライマ層、そしてこのプライマ層の表面に形成されたハードコートα層の表面に、2点鎖線で示す層Pとして反射防止層を形成する。これにより、光学物品1が完成する。   After the annealing step (S107), the antireflection layer forming step (S108) is performed using the immersion apparatus 30 shown in FIG. An antireflection layer is formed as a layer P indicated by a two-dot chain line on the surface of the primer layer formed on the surface of the optical substrate 10 that has been subjected to the annealing treatment, and on the surface of the hard coat α layer formed on the surface of the primer layer. To do. Thereby, the optical article 1 is completed.

[実施例2]
以下に、本発明の実施例2について、図面に基づき説明する。
実施例2において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、構成2に示す一層構成である。
[Example 2]
Below, Example 2 of the present invention is described based on a drawing.
In Example 2, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG.

実施例2に係る光学物品1の製造方法を示すフローチャート図は、上述した第2実施形態を示す図3である。
図3に示すように、実施例2の光学物品の製造方法は、コーティング層形成工程として、ハードコート層形成工程(S205)のみを実施することに特徴がある。なお、基材形成工程は、図2に示す基材形成工程と同様のため、同一の符号を付与し、説明を省略する。
The flowchart figure which shows the manufacturing method of the optical article 1 which concerns on Example 2 is FIG. 3 which shows 2nd Embodiment mentioned above.
As shown in FIG. 3, the optical article manufacturing method of Example 2 is characterized in that only the hard coat layer forming step (S205) is performed as the coating layer forming step. In addition, since a base material formation process is the same as the base material formation process shown in FIG. 2, the same code | symbol is provided and description is abbreviate | omitted.

離型工程(S104)の後に、コーティング層形成工程として、実施例2のハードコート層形成工程(S205)を行う。以下、ハードコート層形成工程(S205)について図7を参照して説明する。
コーティング組成物Lとして、前述のハードコートα層形成用コーティング組成物の中に、離型工程(S104)の後の光学基材10を、図7に示す浸漬装置30を用いて浸漬する。これにより、光学基材10の表面に、ハードコートα層形成用コーティング組成物を塗布する。引き上げ速度は、実施例1と同様に、200mm/minとする。ハードコートα層形成用コーティング組成物が塗布された光学基材10に、実施例1と同様にして、80℃で30分間の加熱処理を施す。これにより、光学基材10の表面にハードコートα層を得る。このようにして、光学基材10の表面に、構成2に示すコーティング層2を形成する。
After the release step (S104), the hard coat layer forming step (S205) of Example 2 is performed as a coating layer forming step. Hereinafter, the hard coat layer forming step (S205) will be described with reference to FIG.
As the coating composition L, the optical base material 10 after the release step (S104) is immersed in the above-described coating composition for forming the hard coat α layer using the immersion apparatus 30 shown in FIG. Thereby, the coating composition for forming the hard coat α layer is applied to the surface of the optical substrate 10. The pulling speed is set to 200 mm / min as in the first embodiment. In the same manner as in Example 1, heat treatment at 80 ° C. for 30 minutes is performed on the optical substrate 10 to which the hard coat α-layer forming coating composition has been applied. As a result, a hard coat α layer is obtained on the surface of the optical substrate 10. In this way, the coating layer 2 shown in the configuration 2 is formed on the surface of the optical substrate 10.

ハードコート層形成工程(S205)の後に、実施例1に示すアニール工程(S107)と同様にアニール工程(S206)を行う。アニール工程(S206)の後に、実施例1に示す反射防止層形成工程(S108)と同様に反射防止層形成工程(S207)を行う。アニール処理を施された光学基材10の表面に形成されたハードコートα層の表面に、2点鎖線で示す層Pとして反射防止層を形成する。これにより、光学物品1が完成する。   After the hard coat layer forming step (S205), the annealing step (S206) is performed in the same manner as the annealing step (S107) shown in the first embodiment. After the annealing step (S206), the antireflection layer forming step (S207) is performed in the same manner as the antireflection layer forming step (S108) shown in Example 1. An antireflection layer is formed as a layer P indicated by a two-dot chain line on the surface of the hard coat α layer formed on the surface of the optical substrate 10 subjected to the annealing treatment. Thereby, the optical article 1 is completed.

[実施例3]
以下に、本発明の実施例3について、図面に基づき説明する。
実施例3において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、構成2に示す一層構成である。
[Example 3]
Hereinafter, Example 3 of the present invention will be described with reference to the drawings.
In Example 3, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG.

実施例3に係る光学物品1の製造方法を示すフローチャート図は、実施例2と同じく上述した第2実施形態を示す図3である。
実施例3の光学物品の製造方法は、コーティング層形成工程として、図3に示すハードコート層形成工程(S205)において、ハードコートβ層を形成することに特徴がある。なお、基材形成工程は、図2に示す基材形成工程と同様のため、同一の符号を付与し、説明を省略する。
The flowchart showing the method for manufacturing the optical article 1 according to Example 3 is FIG. 3 showing the second embodiment described above as in Example 2.
The manufacturing method of the optical article of Example 3 is characterized in that the hard coat β layer is formed in the hard coat layer forming step (S205) shown in FIG. 3 as the coating layer forming step. In addition, since a base material formation process is the same as the base material formation process shown in FIG. 2, the same code | symbol is provided and description is abbreviate | omitted.

以下、実施例3のハードコート層形成工程(S205)について図7を参照して説明する。
ステンレス製のタンク34内にブチルセロソルブ1000重量部を投入し、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン1200重量部を加えて十分攪拌した後、0.1モル/リットル塩酸300重量部を添加して一昼夜攪拌を続け、シラン加水分解物を得る。このシラン加水分解物中にL−7001を30重量部、加えて1時間撹拌した後、酸化チタンを主体とする複合微粒子ゾル(オプトレイク1120Z)を7300重量部加え2時間撹拌混合した。次いでエポキシ樹脂(ナガセ化成(株)製、商品名デナコールEX−313)250重量部を加えて2時間攪拌した後、鉄(III)アセチルアセトナート20重量部を加えて1時間攪拌し、2μmのフィルターで濾過を行うことで、コーティング組成物Lとして、ハードコートβ層形成用コーティング組成物を得る。
ハードコートβ層形成用コーティング組成物の中に、離型工程の後の光学基材10を、図7に示す浸漬装置30を用いて浸漬する。これにより、光学基材10の表面に、ハードコートβ層形成用コーティング組成物を塗布する。引き上げ速度は、実施例1と同様に、200mm/minとする。ハードコートβ層形成用コーティング組成物が塗布された光学基材10に、実施例1と同様にして、80℃で30分間の加熱処理を施す。これにより、光学基材10の表面にハードコートβ層を得る。このようにして、光学基材10の表面に、構成2に示すコーティング層2を形成する。
Hereinafter, the hard coat layer forming step (S205) of Example 3 will be described with reference to FIG.
Put 1000 parts by weight of butyl cellosolve into a stainless steel tank 34, add 1200 parts by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, stir well, and then add 300 parts by weight of 0.1 mol / liter hydrochloric acid for a whole day and night. Stirring is continued to obtain a silane hydrolyzate. 30 parts by weight of L-7001 was added to the silane hydrolyzate and stirred for 1 hour, and then 7300 parts by weight of a composite fine particle sol (Optlake 1120Z) mainly composed of titanium oxide was added and stirred for 2 hours. Next, 250 parts by weight of an epoxy resin (manufactured by Nagase Kasei Co., Ltd., trade name Denacol EX-313) was added and stirred for 2 hours, and then 20 parts by weight of iron (III) acetylacetonate was added and stirred for 1 hour. By performing filtration with a filter, a coating composition for forming a hard coat β layer is obtained as the coating composition L.
In the coating composition for forming a hard coat β layer, the optical substrate 10 after the releasing step is immersed using an immersion apparatus 30 shown in FIG. Thereby, the coating composition for forming the hard coat β layer is applied to the surface of the optical substrate 10. The pulling speed is set to 200 mm / min as in the first embodiment. In the same manner as in Example 1, heat treatment at 80 ° C. for 30 minutes is performed on the optical substrate 10 on which the hard coat β-layer forming coating composition has been applied. Thereby, a hard coat β layer is obtained on the surface of the optical substrate 10. In this way, the coating layer 2 shown in the configuration 2 is formed on the surface of the optical substrate 10.

ハードコート層形成工程(S205)の後に、実施例1に示すアニール工程(S107)と同様にアニール工程(S206)を行う。アニール工程(S206)の後に、実施例1に示す反射防止層形成工程(S108)と同様に反射防止層形成工程(S207)を行う。アニール処理を施された光学基材10の表面に形成されたハードコートβ層の表面に、2点鎖線で示す層Pとして反射防止層を形成する。これにより、光学物品1が完成する。   After the hard coat layer forming step (S205), the annealing step (S206) is performed in the same manner as the annealing step (S107) shown in the first embodiment. After the annealing step (S206), the antireflection layer forming step (S207) is performed in the same manner as the antireflection layer forming step (S108) shown in Example 1. An antireflection layer is formed as a layer P indicated by a two-dot chain line on the surface of the hard coat β layer formed on the surface of the optical substrate 10 subjected to the annealing treatment. Thereby, the optical article 1 is completed.

[実施例4]
以下に、本発明の実施例4について、図面に基づき説明する。
実施例4において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、構成3に示す三層構成である。
[Example 4]
Embodiment 4 of the present invention will be described below with reference to the drawings.
In Example 4, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG.

実施例4に係る光学物品1の製造方法を示すフローチャート図は、上述した第3実施形態を示す図4である。
図4に示すように、実施例4の光学物品の製造方法は、コーティング層形成工程として、プライマ層形成工程(S305)およびハードコート層形成工程(S306)を行い、引き続いて反射防止層形成工程(S307)を実施することに特徴がある。なお、プライマ層形成工程(S305)およびハードコート形成工程(S306)は、実施例1と同様であるため、説明を省略する。また、基材形成工程は、図2に示す基材形成工程と同様のため、同一の符号を付与し、説明を省略する。
The flowchart figure which shows the manufacturing method of the optical article 1 which concerns on Example 4 is FIG. 4 which shows 3rd Embodiment mentioned above.
As shown in FIG. 4, in the method for manufacturing an optical article of Example 4, the primer layer forming step (S305) and the hard coat layer forming step (S306) are performed as the coating layer forming step, followed by the antireflection layer forming step. There is a feature in performing (S307). Note that the primer layer forming step (S305) and the hard coat forming step (S306) are the same as those in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted. Moreover, since the base material formation process is the same as the base material formation process shown in FIG. 2, the same code | symbol is provided and description is abbreviate | omitted.

以下、ハードコート層形成工程の後に行う、反射防止層形成工程(S307)について、図7を参照して説明する。
ステンレス製のタンク34内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル48.6gおよびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン14.1gを投入し、十分に攪拌して混合する。その後攪拌しながら、タンク34内に、0.1モル/リットル塩酸4gを滴下し、さらに5時間攪拌する。その後、イソプロパノール分散中空シリカゲル(平均粒径91nm、固形濃度30重量%、触媒化成工業株式会社製)33.3gを添加して十分に攪拌して混合する。そしてL−7001を0.03g添加し、十分攪拌し、溶解させることにより固形分濃度20%のコーティング原液を得る。この固形分濃度20%のコーティング原液に、300ppm濃度のシリコーン系界面活性剤(日本ユニカー株式会社製、商品名「L−7604」)を含有するプロピレングリコールモノエーテル溶液114.7gを添加し、十分に攪拌し、コーティング組成物Lとして、反射防止層用有機層組成物である固形分濃度約4.7%のコーティング液を得る。
この固形分濃度約4.7%のコーティング液の中に、ハードコート層形成工程(S306)の後の光学基材10を、図7に示す浸漬装置30を用いて浸漬する。これにより、光学基材10の表面からプライマ層およびハードコートα層の順に形成されたハードコートα層の表面に、固形分濃度約4.7%のコーティング液を塗布する。引き上げ速度は、実施例1と同様に、100mm/minとする。固形分濃度約4.7%のコーティング液が塗布された光学基材10に、実施例1と同様にして、80℃で30分間の加熱処理を施し、反射防止層用有機層を得る。これにより、ハードコートα層の表面に形成された反射防止層用有機層を得る。このようにして、光学基材10の表面に、構成3に示すコーティング層2を形成する。
Hereinafter, the antireflection layer forming step (S307) performed after the hard coat layer forming step will be described with reference to FIG.
Into a stainless steel tank 34, 48.6 g of propylene glycol monomethyl ether and 14.1 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane are charged and mixed with sufficient stirring. Thereafter, 4 g of 0.1 mol / liter hydrochloric acid is dropped into the tank 34 while stirring, and the mixture is further stirred for 5 hours. Thereafter, 33.3 g of isopropanol-dispersed hollow silica gel (average particle size 91 nm, solid concentration 30% by weight, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) is added and mixed with sufficient stirring. Then, 0.03 g of L-7001 is added, sufficiently stirred, and dissolved to obtain a coating stock solution having a solid content concentration of 20%. To this coating stock solution having a solid content concentration of 20%, 114.7 g of a propylene glycol monoether solution containing a silicone-based surfactant (trade name “L-7604” manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.) with a concentration of 300 ppm was sufficiently added. And a coating liquid having a solid content concentration of about 4.7%, which is an organic layer composition for an antireflection layer, is obtained as the coating composition L.
The optical base material 10 after the hard coat layer forming step (S306) is immersed in the coating liquid having a solid content concentration of about 4.7% using the immersion apparatus 30 shown in FIG. Thereby, the coating liquid having a solid content concentration of about 4.7% is applied to the surface of the hard coat α layer formed in the order of the primer layer and the hard coat α layer from the surface of the optical substrate 10. The pulling speed is set to 100 mm / min as in the first embodiment. In the same manner as in Example 1, the optical base material 10 to which the coating liquid having a solid content concentration of about 4.7% is subjected to a heat treatment at 80 ° C. for 30 minutes to obtain an organic layer for an antireflection layer. Thereby, the organic layer for antireflection layers formed on the surface of the hard coat α layer is obtained. In this way, the coating layer 2 shown in the configuration 3 is formed on the surface of the optical substrate 10.

反射防止層形成工程(S307)の後に、実施例1に示すアニール工程(S107)と同様にアニール工程(S308)を行う。これにより、光学物品1が完成する。   After the antireflection layer forming step (S307), the annealing step (S308) is performed in the same manner as the annealing step (S107) shown in the first embodiment. Thereby, the optical article 1 is completed.

[実施例5]
以下に、本発明の実施例5について、図面に基づき説明する。
実施例5において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、構成4に示す多層構成である。
[Example 5]
Embodiment 5 of the present invention will be described below with reference to the drawings.
In Example 5, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG.

実施例5に係る光学物品1の製造方法を示すフローチャート図は、上述した第4実施形態を示す図5である。
図5に示すように、実施例5の光学物品の製造方法は、コーティング層形成工程として、反射防止層形成工程(S405)のみを実施することに特徴がある。なお、基材形成工程は、実施例1の図2に示す基材形成工程と同様のため、同一の符号を付与し、説明を省略する。
The flowchart which shows the manufacturing method of the optical article 1 which concerns on Example 5 is FIG. 5 which shows 4th Embodiment mentioned above.
As shown in FIG. 5, the optical article manufacturing method of Example 5 is characterized in that only the antireflection layer forming step (S405) is performed as the coating layer forming step. In addition, since a base material formation process is the same as that of the base material formation process shown in FIG. 2 of Example 1, the same code | symbol is provided and description is abbreviate | omitted.

離型工程(S104)の後に、コーティング層形成工程として反射防止層形成工程(S405)を行う。以下、反射防止層形成工程(S405)について図8を参照して説明する。
離型工程(S104)の後の光学基材10に、プラズマ処理を施す。プラズマ処理の条件は、アルゴンプラズマ400Wで60秒間とする。プラズマ処理された光学基材10の表面から順に、第1層としてのSiO、第2層としてのZrO、第3層としてのSiO、第4層としてのZrO、第5層としてのSiOを、図8に示す真空蒸着装置40を用いて、真空蒸着法により形成する。真空蒸着装置40は、真空器械工業株式会社製、装置名「BMC−1000」を用いる。これにより、コーティング層2として、無機層である第1層、第2層、第3層、第4層、および第5層からなる反射防止多層膜を得る。このようにして、光学基材10の表面に、構成4に示すコーティング層2を形成する。
反射防止多層膜を構成する第1層から第5層のそれぞれの光学的膜厚は、次に示すとおりである。第1層としてのSiOの光学的膜厚は0.083λ、第2層としてのZrOの光学的膜厚は0.17λ、第3層としてのSiOの光学的膜厚は0.075λ、第4層としてのZrOの光学的膜厚は0.195λ、第5層としてのSiOの光学的膜厚は0.025λとする。そして、第1層、ならびに第2層、第3層、および第4層、ならびに第5層の光学的膜厚は、それぞれλ/4となる。反射防止多層膜の波長λは、設計値520nmとする。
After the release step (S104), an antireflection layer forming step (S405) is performed as a coating layer forming step. Hereinafter, the antireflection layer forming step (S405) will be described with reference to FIG.
Plasma processing is performed on the optical substrate 10 after the release step (S104). The plasma treatment condition is argon plasma 400 W for 60 seconds. In order from the surface of the plasma-treated optical substrate 10, SiO 2 as the first layer, ZrO 2 as the second layer, SiO 2 as the third layer, ZrO 2 as the fourth layer, and as the fifth layer SiO 2 is formed by a vacuum deposition method using a vacuum deposition apparatus 40 shown in FIG. The vacuum evaporation apparatus 40 uses the device name “BMC-1000” manufactured by Vacuum Instrument Industry Co., Ltd. Thereby, the antireflection multilayer film which consists of the 1st layer which is an inorganic layer, the 2nd layer, the 3rd layer, the 4th layer, and the 5th layer as the coating layer 2 is obtained. In this way, the coating layer 2 shown in the configuration 4 is formed on the surface of the optical substrate 10.
The optical film thicknesses of the first to fifth layers constituting the antireflection multilayer film are as follows. The optical film thickness of SiO 2 as the first layer is 0.083λ, the optical film thickness of ZrO 2 as the second layer is 0.17λ, and the optical film thickness of SiO 2 as the third layer is 0.075λ. The optical film thickness of ZrO 2 as the fourth layer is 0.195λ, and the optical film thickness of SiO 2 as the fifth layer is 0.025λ. The optical thicknesses of the first layer, the second layer, the third layer, the fourth layer, and the fifth layer are each λ / 4. The wavelength λ of the antireflection multilayer film is set to a design value of 520 nm.

反射防止層形成工程の後に、実施例1に示すアニール工程(S107)と同様にアニール工程(S406)を行う。これにより、光学物品1が完成する。   After the antireflection layer forming step, the annealing step (S406) is performed in the same manner as the annealing step (S107) shown in the first embodiment. Thereby, the optical article 1 is completed.

[実施例6]
以下に、本発明の実施例6について、図面に基づき説明する。
実施例6において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、構成4に示す多層構成である。
[Example 6]
The sixth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
In Example 6, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG.

実施例6に係る光学物品1の製造方法を示すフローチャート図は、実施例5と同じく上述した第4実施形態を示す図5である。
実施例6の光学物品の製造方法は、コーティング層形成工程として、図5に示す反射防止層形成工程(S405)において、SiOおよびTiOからなる7層の反射防止層を形成することに特徴がある。なお、基材形成工程は、実施例1の図2に示す基材形成工程と同様のため、同一の符号を付与し、説明を省略する。
The flowchart showing the method for manufacturing the optical article 1 according to Example 6 is FIG. 5 showing the fourth embodiment described above, as in Example 5.
The optical article manufacturing method of Example 6 is characterized in that, as the coating layer forming step, in the antireflection layer forming step (S405) shown in FIG. 5, seven antireflection layers made of SiO 2 and TiO 2 are formed. There is. In addition, since a base material formation process is the same as that of the base material formation process shown in FIG. 2 of Example 1, the same code | symbol is provided and description is abbreviate | omitted.

離型工程(S104)の後に、コーティング層形成工程として、反射防止層形成工程(S405)を行う。以下、実施例6の反射防止層形成工程(S405)について図8を参照して説明する。
離型工程(S104)の後の光学基材10に、プラズマ処理を施す。プラズマ処理の条件は、アルゴンプラズマ400Wで60秒間とする。プラズマ処理された光学基材10の表面から順に、第1層としてのSiO、第2層としてのTiO、第3層としてのSiO、第4層としてのTiO、第5層としてのSiO、第6層としてのTiO、第7層としてのSiOを、図8に示す真空蒸着装置40を用いて、真空蒸着法により形成する。これにより、コーティング層2として、無機層である第1層、第2層、第3層、第4層、第5層、第6層、および第7層からなる反射防止多層膜を得る。このようにして、光学基材10の表面に、構成4に示すコーティング層2を形成する。
反射防止多層膜を構成する第1層から第7層のそれぞれの光学的膜厚は、次に示すとおりである。第1層としてのSiOの光学的膜厚は0.083λ、第2層としてのTiOの光学的膜厚は0.070λ、第3層としてのSiOの光学的膜厚は0.10λ、第4層としてのTiOの光学的膜厚は0.18λ、第5層としてのSiOの光学的膜厚は0.065λ、第6層としてのTiOの光学膜厚は0.14λ、第7層としてのSiOの光学的膜厚は0.26λとする。そして、第1層、ならびに第2層、第3層、第4層、第5層、および第6層、ならびに第7層の光学的膜厚は、それぞれλ/4となる。反射防止多層膜の波長λは、設計値520nmとする。
After the release step (S104), an antireflection layer forming step (S405) is performed as a coating layer forming step. Hereinafter, the antireflection layer forming step (S405) of Example 6 will be described with reference to FIG.
Plasma processing is performed on the optical substrate 10 after the release step (S104). The plasma treatment condition is argon plasma 400 W for 60 seconds. In order from the surface of the optically treated optical substrate 10, SiO 2 as the first layer, TiO 2 as the second layer, SiO 2 as the third layer, TiO 2 as the fourth layer, and as the fifth layer SiO 2, TiO 2 as the sixth layer, the SiO 2 as the seventh layer, using a vacuum vapor deposition apparatus 40 shown in FIG. 8, formed by vacuum deposition. Thereby, the antireflection multilayer film which consists of the 1st layer, the 2nd layer, the 3rd layer, the 4th layer, the 5th layer, the 6th layer, and the 7th layer which are inorganic layers as the coating layer 2 is obtained. In this way, the coating layer 2 shown in the configuration 4 is formed on the surface of the optical substrate 10.
The optical film thicknesses of the first to seventh layers constituting the antireflection multilayer film are as follows. The optical film thickness of SiO 2 as the first layer is 0.083λ, the optical film thickness of TiO 2 as the second layer is 0.070λ, and the optical film thickness of SiO 2 as the third layer is 0.10λ. The optical film thickness of TiO 2 as the fourth layer is 0.18λ, the optical film thickness of SiO 2 as the fifth layer is 0.065λ, and the optical film thickness of TiO 2 as the sixth layer is 0.14λ. The optical film thickness of SiO 2 as the seventh layer is 0.26λ. The optical film thicknesses of the first layer, the second layer, the third layer, the fourth layer, the fifth layer, the sixth layer, and the seventh layer are each λ / 4. The wavelength λ of the antireflection multilayer film is set to a design value of 520 nm.

反射防止層形成工程(S405)の後に、実施例1に示すアニール工程(S107)と同様にアニール工程(S406)を行う。これにより、光学物品1が完成する。   After the antireflection layer forming step (S405), the annealing step (S406) is performed in the same manner as the annealing step (S107) shown in the first embodiment. Thereby, the optical article 1 is completed.

[実施例7]
以下に、本発明の実施例7について、図面に基づき説明する。
実施例7において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、実施例1と同様に構成1に示す二層構成である。
[Example 7]
The seventh embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
In Example 7, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG. 1 has a two-layer configuration shown in Configuration 1 as in Example 1.

実施例7に係る光学物品1の製造方法を示すフローチャート図は、実施例1と同じく上述した第1実施形態を示す図2である。
実施例7の光学物品の製造方法は、図2に示す原料調合工程(S101)において、光学基材10の原料としてSn−1を用いて光学基材10を形成する一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を形成するとしたことを、光学基材10の原料としてテトラキス(3−オキセタニルチオ)スズ(以下、『Sn−2』と記す。)を用いることに特徴を有している。
The flowchart showing the method for manufacturing the optical article 1 according to Example 7 is FIG. 2 showing the first embodiment described above in the same manner as Example 1.
The optical article manufacturing method of Example 7 is represented by the general formula (1) in which the optical base material 10 is formed using Sn-1 as the raw material of the optical base material 10 in the raw material preparation step (S101) shown in FIG. The feature is that tetrakis (3-oxetanylthio) tin (hereinafter referred to as “Sn-2”) is used as a raw material of the optical substrate 10 to form the substrate composition 11 containing the compound to be formed. Have.

以下、原料調合工程(S101)について説明する。
原料調合工程(S101)において、光学基材10を形成する一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を形成する。
光学基材10の原料としてSn−2を30g、紫外線吸収剤としてSEESORB701(シプロ化成工業製)0.3g、重合触媒としてトリフルオロメタンスルホン酸0.3gを添加し、十分に攪拌して混合する。攪拌混合後に、重合触媒としてN,Nジメチルシクロへキシルアミン0.1gを加えて混合した後、1.5kPa以下に減圧した状態で攪拌しながら15分間脱気を行うことにより、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を得る。Sn−2を含む基材組成物11を重合させて得られる樹脂のTgは、110℃である。
Hereinafter, the raw material preparation step (S101) will be described.
In the raw material preparation step (S101), the base material composition 11 containing the compound represented by the general formula (1) that forms the optical base material 10 is formed.
30 g of Sn-2 as a raw material for the optical substrate 10, 0.3 g of SEESORB 701 (manufactured by Sipro Kasei Kogyo) as an ultraviolet absorber, and 0.3 g of trifluoromethanesulfonic acid as a polymerization catalyst are added and mixed with sufficient stirring. After stirring and mixing, 0.1 g of N, N dimethylcyclohexylamine as a polymerization catalyst was added and mixed, and then deaerated for 15 minutes while stirring under reduced pressure to 1.5 kPa or less, whereby the general formula (1) The base material composition 11 containing the compound shown by is obtained. The Tg of the resin obtained by polymerizing the base material composition 11 containing Sn-2 is 110 ° C.

原料調合工程(S101)の後に、実施例1と同様に、ガラスモールド注入工程(S102)、熱硬化工程(S103)、および離型工程(S104)を行う。これにより、光学基材10を得る。ここで、光学基材10は、度数が約−3Dであることを確認した。また、2枚の鏡面仕上げされたガラスフラット板を用いて、厚さ2mmのプラスチック板を作成し、ダイヤモンドカッタで光学基材10を切り出した。切り出された光学基材10の屈折率を、アッベ屈折率計を用いて、気温20℃で589.3nmのD線の屈折率(nd)を測定し、nd=1.754であることを確認した。なお、ガラスモールド注入工程(S102)、熱硬化工程(S103)、および離型工程(S104)は、実施例1と同様であるため、説明を省略する。   After the raw material preparation step (S101), the glass mold injection step (S102), the thermosetting step (S103), and the release step (S104) are performed in the same manner as in Example 1. Thereby, the optical substrate 10 is obtained. Here, it was confirmed that the optical substrate 10 has a frequency of about -3D. Further, a plastic plate having a thickness of 2 mm was formed using two mirror-finished glass flat plates, and the optical substrate 10 was cut out with a diamond cutter. Using a Abbe refractometer, the refractive index (nd) of the 589.3 nm D-line is measured with an Abbe refractometer, and it is confirmed that nd = 1.754. did. Note that the glass mold injection step (S102), the thermosetting step (S103), and the mold release step (S104) are the same as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.

離型工程(S104)の後、実施例1と同様に、コーティング層形成工程として、プライマ層形成工程(S105)およびハードコート層形成工程(S106)を順順に行う。このようにして、光学基材10の表面に、構成1に示すコーティング層2を形成する。コーティング層形成工程の後に、アニール工程(S107)および反射防止層形成工程(S108)を順順に行う。これにより、光学物品1が完成する。   After the mold release step (S104), the primer layer forming step (S105) and the hard coat layer forming step (S106) are performed in order as the coating layer forming step as in the first embodiment. In this way, the coating layer 2 shown in the configuration 1 is formed on the surface of the optical substrate 10. After the coating layer forming step, an annealing step (S107) and an antireflection layer forming step (S108) are performed in order. Thereby, the optical article 1 is completed.

[実施例8]
以下に、本発明の実施例8について、図面に基づき説明する。
実施例8において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、実施例1と同様に構成1に示す二層構成である。
[Example 8]
Hereinafter, an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
In Example 8, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG. 1 has the two-layer configuration shown in Configuration 1 as in Example 1.

実施例8に係る光学物品1の製造方法を示すフローチャート図は、実施例1と同じく上述した第1実施形態を示す図2である。
実施例8の光学物品の製造方法は、図2に示す原料調合工程(S101)において、光学基材10の原料としてSn−1を用いて光学基材10を形成する一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を形成するとしたことを、光学基材10の原料としてテトラキス(2,3−エポキシ−1−プロピルチオ)スズ(以下、『Sn−3』と記す。)を用いることに特徴がある。
The flowchart showing the method for manufacturing the optical article 1 according to Example 8 is FIG. 2 showing the first embodiment described above, as in Example 1. FIG.
The manufacturing method of the optical article of Example 8 is shown by the general formula (1) in which the optical base material 10 is formed using Sn-1 as the raw material of the optical base material 10 in the raw material preparation step (S101) shown in FIG. As a raw material for the optical base material 10, tetrakis (2,3-epoxy-1-propylthio) tin (hereinafter referred to as “Sn-3”) is used to form the base material composition 11 containing the compound. It is characterized by its use.

以下、原料調合工程(S101)について説明する。
原料調合工程において、光学基材10を形成する一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を形成する。
光学基材10の原料としてSn−3を30g、紫外線吸収剤としてSEESORB701(シプロ化成工業製)0.3g、重合触媒としてトリフルオロメタンスルホン酸0.015gを添加し、十分に攪拌して混合する。攪拌混合後に、重合触媒としてN,Nジメチルシクロへキシルアミン0.1gを加えて混合した後、1.5kPa以下に減圧した状態で攪拌しながら15分間脱気を行うことにより、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を得る。Sn−3を含む基材組成物11を重合させて得られる樹脂のTgは、110℃である。
Hereinafter, the raw material preparation step (S101) will be described.
In the raw material preparation step, the base material composition 11 containing the compound represented by the general formula (1) that forms the optical base material 10 is formed.
30 g of Sn-3 as a raw material for the optical substrate 10, 0.3 g of SESORB 701 (manufactured by Sipro Kasei Kogyo) as an ultraviolet absorber, and 0.015 g of trifluoromethanesulfonic acid as a polymerization catalyst are added and mixed with sufficient stirring. After stirring and mixing, 0.1 g of N, N dimethylcyclohexylamine as a polymerization catalyst was added and mixed, and then deaerated for 15 minutes while stirring under reduced pressure to 1.5 kPa or less, whereby the general formula (1) The base material composition 11 containing the compound shown by is obtained. The Tg of the resin obtained by polymerizing the base material composition 11 containing Sn-3 is 110 ° C.

原料調合工程の後に、実施例1と同様に、ガラスモールド注入工程(S102)、熱硬化工程(S103)、および離型工程(S104)を行うことにより、光学基材10を得る。ここで、光学基材10は、度数が約−3Dであることを確認した。また、2枚の鏡面仕上げされたガラスフラット板を用いて、厚さ2mmのプラスチック板を作成し、ダイヤモンドカッタで光学基材10を切り出した。切り出された光学基材10の屈折率を、アッベ屈折率計を用いて、気温20℃で589.3nmのD線の屈折率(nd)を測定し、nd=1.758であることを確認した。なお、ガラスモールド注入工程(S102)、熱硬化工程(S103)、および離型工程(S104)は、実施例1と同様であるため、説明を省略する。   After the raw material preparation step, the optical substrate 10 is obtained by performing the glass mold injection step (S102), the thermosetting step (S103), and the mold release step (S104) in the same manner as in Example 1. Here, it was confirmed that the optical substrate 10 has a frequency of about -3D. Further, a plastic plate having a thickness of 2 mm was formed using two mirror-finished glass flat plates, and the optical substrate 10 was cut out with a diamond cutter. Using a Abbe refractometer, the refractive index (nd) of the 589.3 nm D-line is measured with an Abbe refractometer, and it is confirmed that nd = 1.758. did. Note that the glass mold injection step (S102), the thermosetting step (S103), and the mold release step (S104) are the same as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.

離型工程(S104)の後、実施例1と同様に、コーティング層形成工程として、プライマ層形成工程(S105)およびハードコート層形成工程(S106)を順順に行う。このようにして、光学基材10の表面に、構成1に示すコーティング層2を形成する。コーティング層形成工程の後に、アニール工程(S107)および反射防止層形成工程(S108)を順順に行う。これにより、光学物品1が完成する。   After the mold release step (S104), the primer layer forming step (S105) and the hard coat layer forming step (S106) are performed in order as the coating layer forming step as in the first embodiment. In this way, the coating layer 2 shown in the configuration 1 is formed on the surface of the optical substrate 10. After the coating layer forming step, an annealing step (S107) and an antireflection layer forming step (S108) are performed in order. Thereby, the optical article 1 is completed.

[実施例9]
以下に、本発明の実施例9について、図面に基づき説明する。
実施例9において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、実施例1と同様に構成1に示す二層構成である。
[Example 9]
The ninth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
In Example 9, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG. 1 has a two-layer configuration shown in Configuration 1 as in Example 1.

実施例9に係る光学物品1の製造方法を示すフローチャート図は、実施例1と同じく上述した第1実施形態を示す図2である。
実施例9の光学物品の製造方法は、図2に示すアニール工程(S107)において、プライマ層およびプライマ層の表面に形成されたハードコートα層が形成された光学基材10の凹面側を下にして、凹面側と対向する台の上または光学基材10の周縁と同様の形状に形成されたリング状治具の上に配置し、アニール処理を施すとしたことを、図9に示すように、光学基材10の凹面側を下にして、光学基材10の凹面側の形状に沿うように凸面形状を有したガラス型26の凸面形状の上に配置し、アニール処理を施すことを特徴とする。アニール処理は、実施例1と同様に125℃で3時間とする。これにより、光学物品1が完成する。実施例9のアニール工程(S107)以外の製造方法は、実施例1の製造方法と同様であるため、説明を省略する。
The flowchart showing the method for manufacturing the optical article 1 according to Example 9 is FIG. 2 showing the first embodiment described above, as in Example 1. FIG.
In the manufacturing method of the optical article of Example 9, the concave side of the optical substrate 10 on which the primer layer and the hard coat α layer formed on the surface of the primer layer were formed in the annealing step (S107) shown in FIG. As shown in FIG. 9, it is arranged on the base opposite to the concave side or on the ring-shaped jig formed in the same shape as the peripheral edge of the optical substrate 10 and annealed. In addition, the concave surface side of the optical base material 10 is placed on the convex surface shape of the glass mold 26 having a convex shape so as to follow the shape of the concave surface side of the optical base material 10, and annealing treatment is performed. Features. The annealing treatment is performed at 125 ° C. for 3 hours as in the first embodiment. Thereby, the optical article 1 is completed. Since the manufacturing method other than the annealing step (S107) of Example 9 is the same as the manufacturing method of Example 1, description thereof is omitted.

[実施例10]
基材形成工程において、市販のPMMA(ポリメチルメタクリレート)ペレットを射出成形法によりレンズ形状に加工して光学基材10を得た以外は、実施例1と同様にして光学物品1を製造した。
PMMAペレットからフラット板を作成し、TMAを用いてTgを測定したところ、110℃であった。
[実施例11]
基材形成工程において、市販のPst(ポリスチレン)ペレットを射出成形法によりレンズ形状に加工して光学基材10を得た以外は、実施例1と同様にして光学物品1を製造した。
Pstペレットからフラット板を作成し、TMAを用いてTgを測定したところ、95℃であった。
[Example 10]
Optical article 1 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that in the base material forming step, commercially available PMMA (polymethyl methacrylate) pellets were processed into a lens shape by an injection molding method to obtain optical base material 10.
When a flat plate was prepared from PMMA pellets and Tg was measured using TMA, it was 110 ° C.
[Example 11]
Optical article 1 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that in the base material forming step, commercially available Pst (polystyrene) pellets were processed into a lens shape by an injection molding method to obtain optical base material 10.
A flat plate was prepared from Pst pellets, and Tg was measured using TMA.

上述の実施例1〜11において、光学基材10を構成する基材組成物11を重合させて得られる樹脂(つまり光学基材)のTgは110℃または95℃である。よって、コーティング層2を光学基材10に形成する加熱処理の温度は、基材組成物11を重合させて得られる樹脂のTg以下の80℃で硬化されることにより形成される。また、コーティング層2が形成された光学基材10に施すアニール処理の温度は、光学基材10のTgを超える125℃である。   In Examples 1 to 11 described above, the Tg of the resin (that is, the optical substrate) obtained by polymerizing the substrate composition 11 constituting the optical substrate 10 is 110 ° C. or 95 ° C. Therefore, the temperature of the heat treatment for forming the coating layer 2 on the optical base material 10 is formed by curing at 80 ° C. which is equal to or lower than the Tg of the resin obtained by polymerizing the base material composition 11. Moreover, the temperature of the annealing process performed on the optical base material 10 on which the coating layer 2 is formed is 125 ° C. exceeding the Tg of the optical base material 10.

[比較例1]
比較例1において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、形成されていない無層構成である。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG. 1 has a non-layered structure that is not formed.

比較例1の光学物品の製造方法は、実施例1に係る光学物品1の製造方法において、離型工程(S104)の後に、コーティング層形成工程としてプライマ層形成工程(S105)およびハードコート層形成工程(S106)を行い、その後にアニール工程(S107)を行うとしたことを、離型工程(S104)の後にアニール工程を行うことを特徴とする。   The optical article manufacturing method of Comparative Example 1 is the same as the optical article 1 manufacturing method according to Example 1, but after the release step (S104), the primer layer forming step (S105) and the hard coat layer forming are performed as the coating layer forming step. The fact that the step (S106) is performed and then the annealing step (S107) is performed is characterized in that the annealing step is performed after the release step (S104).

離型工程(S104)の後、光学基材10に、実施例1に示すアニール工程(S107)と同様にアニール工程を行う。なお、必要に応じて、アニール工程後に、コーティング層形成工程を行うとしてもよい。   After the release step (S104), the optical substrate 10 is subjected to an annealing step in the same manner as the annealing step (S107) shown in the first embodiment. If necessary, a coating layer forming step may be performed after the annealing step.

[比較例2]
比較例2において、図1に示す光学物品1の一層に描画しているコーティング層2は、実施例1と同様に構成1に示す二層構成である。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 2, the coating layer 2 drawn on one layer of the optical article 1 shown in FIG. 1 has a two-layer configuration shown in Configuration 1 as in Example 1.

比較例2の光学物品の製造方法は、実施例1のハードコート形成工程において、鉄(III)アセチルアセトナートを用いるとしたことを、鉄(III)アセチルアセトナートを含まないとすることを特徴とする。   The method for producing an optical article of Comparative Example 2 is characterized in that iron (III) acetylacetonate is used in the hard coat forming step of Example 1 and that iron (III) acetylacetonate is not included. And

離型工程(S104)の後、実施例1と同様に、コーティング層形成工程として、プライマ層形成工程(S105)およびハードコート層形成工程(S106)を順順に行う。そして、ハードコート層形成工程(S106)の後に、プライマ層およびハードコート層が形成された光学基材10に、実施例1に示すアニール工程(S107)と同様にアニール工程を行う。   After the mold release step (S104), the primer layer forming step (S105) and the hard coat layer forming step (S106) are performed in order as the coating layer forming step as in the first embodiment. Then, after the hard coat layer forming step (S106), an annealing step is performed on the optical substrate 10 on which the primer layer and the hard coat layer are formed in the same manner as the annealing step (S107) shown in the first embodiment.

ここで、上述の実施例1〜11、ならびに比較例1、2の光学基材およびこれを用いた光学物品について、以下に示す評価方法により評価を行った。評価項目は、変形防止用のコーティング層2の硬化具合、ならびに光学基材10およびこれを用いた光学物品1の変形具合とした。
以下、各評価項目についての評価方法を説明する。
Here, the above-described Examples 1 to 11 and the optical substrates of Comparative Examples 1 and 2 and optical articles using the same were evaluated by the following evaluation methods. The evaluation items were the degree of curing of the coating layer 2 for preventing deformation, and the degree of deformation of the optical substrate 10 and the optical article 1 using the same.
Hereinafter, an evaluation method for each evaluation item will be described.

(I)硬化具合評価方法。
変形防止用のコーティング層形成工程の後の光学基材を手で触ることにより、硬化具合を観察した。硬化具合を、次の3段階に分けて評価した。
○:変形防止用のコーティング層が、ベタベタしない、あるいは崩れない。
×:変形防止用のコーティング層がベタベタする、あるいは変形防止用のコーティング層の少なくとも一部が光学基材から簡単に取れてしまう。
−:変形防止用のコーティング層を形成していないため、評価不能である。
(I) Curing condition evaluation method.
The degree of curing was observed by touching the optical base material after the coating layer forming step for preventing deformation. The degree of curing was evaluated in the following three stages.
○: The coating layer for preventing deformation does not stick or collapse.
X: The coating layer for preventing deformation is sticky, or at least part of the coating layer for preventing deformation is easily removed from the optical substrate.
-: Since the coating layer for preventing deformation is not formed, evaluation is impossible.

(II)変形具合評価方法。
アニール工程の後の光学基材またはこれを用いた光学物品の変形具合を、目視により観察した。変形具合を次の3段階に分けて評価した。
◎:光学基材またはこれを用いた光学物品が変形していない。
○:光学基材またはこれを用いた光学物品がほとんど変形していない。
×:光学基材またはこれを用いた光学物品が著しく変形している。
(II) Deformation evaluation method.
The deformation of the optical substrate after the annealing step or the optical article using the optical substrate was visually observed. Deformation was evaluated in the following three stages.
A: The optical substrate or the optical article using the same is not deformed.
○: The optical substrate or the optical article using the same is hardly deformed.
X: The optical substrate or the optical article using the same is significantly deformed.

上述の評価結果を表1に示す。
光学基材の表面に光学基材の変形防止用のコーティング層を形成しない比較例1、ならびに光学基材の表面に光学基材の変形防止用のコーティング層としてプライマ層および鉄(III)アセチルアセトナートを含まないハードコート層を形成した比較例2に対して、光学基材の表面に光学基材の変形防止用のコーティング層を形成した実施例1〜11は、変形防止用のコーティング層の硬化具合が優れ、ならびに光学基材およびこれを用いた光学物品の変形防止が優れていることを確認することができる。
The above evaluation results are shown in Table 1.
Comparative Example 1 in which a coating layer for preventing deformation of the optical substrate is not formed on the surface of the optical substrate, and a primer layer and iron (III) acetylacetate as a coating layer for preventing deformation of the optical substrate on the surface of the optical substrate Examples 1 to 11 in which a coating layer for preventing deformation of the optical base material was formed on the surface of the optical base material, compared with Comparative Example 2 in which a hard coat layer not containing a natto was formed, It can be confirmed that the curing condition is excellent, and that the optical base material and the optical article using the same are excellent in preventing deformation.

従って、上述の各実施形態によれば、コーティング層2が、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を重合させて得られる樹脂のTg以下の温度で硬化され、光学基材10の表面に形成されていることにより、コーティング層2が光学基材の形状を維持することから、形状および度数が維持されることが可能となる光学物品1を提供することができる。   Therefore, according to each above-mentioned embodiment, coating layer 2 is hardened at the temperature below Tg of resin obtained by polymerizing substrate composition 11 containing the compound shown by general formula (1), and optical. Since the coating layer 2 maintains the shape of the optical substrate by being formed on the surface of the substrate 10, the optical article 1 capable of maintaining the shape and the frequency can be provided.

また、上述の各実施形態では、光学基材10の変形防止用のコーティング層2が、光学基材10の表面に形成されていることにより、変形防止用のコーティング層2が光学基材10の形状変化を防止することから、形状および度数が維持されることが可能となる光学物品1を提供することができる。   In each of the above-described embodiments, the deformation preventing coating layer 2 of the optical substrate 10 is formed on the surface of the optical substrate 10, so that the deformation preventing coating layer 2 is formed on the optical substrate 10. Since the shape change is prevented, the optical article 1 capable of maintaining the shape and the frequency can be provided.

上述の各実施形態では、コーティング層2は、従来の光学物品に備えられているプライマ層、ハードコート層、反射防止層の少なくとも一つを兼ねることができるため、製造工程を増やすことなく製造できる。このため、構成を複雑にすることなく、変形のない光学物品を提供することができる。   In each of the above-described embodiments, the coating layer 2 can also serve as at least one of a primer layer, a hard coat layer, and an antireflection layer provided in a conventional optical article, and thus can be manufactured without increasing the manufacturing process. . For this reason, an optical article without deformation can be provided without complicating the configuration.

上述の各実施形態では、コーティング層形成工程が、光学基材10の変形防止用のコーティング層2を、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物11を重合させて得られる樹脂のTg以下の温度で硬化して、光学基材10の表面に形成することにより、光学基材10の形状を変わりにくくした後に光学基材10のTgを超える温度でアニール工程を行って光学基材10の内部応力を緩和させる。このことから、形状および度数を維持する光学物品1の製造方法を提供することができる。   In each of the above-described embodiments, the coating layer forming step is obtained by polymerizing the coating layer 2 for preventing deformation of the optical substrate 10 and the substrate composition 11 containing the compound represented by the general formula (1). The resin is cured at a temperature equal to or lower than the Tg of the resin and formed on the surface of the optical substrate 10, thereby making the optical substrate 10 difficult to change and then performing an annealing process at a temperature exceeding the Tg of the optical substrate 10. The internal stress of the substrate 10 is relaxed. From this, the manufacturing method of the optical article 1 which maintains a shape and frequency can be provided.

上述の各実施形態では、コーティング層形成工程が、プライマ層形成工程と、ハードコート層形成工程と、反射防止層形成工程との少なくとも一つを兼ねることにより、アニール工程の後の工程が短縮する。このことから、簡略化された光学物品1の製造方法を提供することができる。   In each of the above-described embodiments, the coating layer forming process serves as at least one of the primer layer forming process, the hard coat layer forming process, and the antireflection layer forming process, thereby shortening the process after the annealing process. . From this, the manufacturing method of the optical article 1 simplified can be provided.

なお、本発明は上述の各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
たとえば、上述の各実施形態では、光学基材10は、凹面および凸面を有した形状としていたが、本発明では、平面を2つ有した形状としてもよく、平面、凹面、および凸面の組み合わせにより、凹面または凸面を2つ有した形状としてもよく、凹面と平面と、凸面と平面とを有した形状としてもよい。また、光学基材の形状は、円形状としたが、本発明では、多面体または球体などとしてもよい。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications, improvements, and the like within a scope in which the object of the present invention can be achieved are included in the present invention.
For example, in each of the above-described embodiments, the optical substrate 10 has a shape having a concave surface and a convex surface. However, in the present invention, the optical base material 10 may have a shape having two flat surfaces, and a combination of a flat surface, a concave surface, and a convex surface. The shape may have two concave or convex surfaces, or may have a concave and flat surface and a convex and flat surface. Moreover, although the shape of the optical substrate is circular, in the present invention, it may be a polyhedron or a sphere.

本発明は、プラスチック製眼鏡レンズに利用できる他、防塵ガラス、防塵水晶、コンデンサレンズ、プリズム、マイクロレンズアレイ、光ディスクの反射防止、ディスプレイの反射防止、太陽電池の反射防止、光アイソレータなどにも利用することができる。   The present invention can be used for plastic eyeglass lenses, as well as dustproof glass, dustproof crystal, condenser lens, prism, microlens array, optical disk antireflection, display antireflection, solar cell antireflection, optical isolator, etc. can do.

本発明の実施形態にかかる光学物品の概略構成を示す断面図。Sectional drawing which shows schematic structure of the optical article concerning embodiment of this invention. 本実施形態にかかる光学物品の製造方法の実施例1、7〜9に係る光学物品の製造方法を示すフローチャート図。The flowchart figure which shows the manufacturing method of the optical article which concerns on Example 1, 7-9 of the manufacturing method of the optical article concerning this embodiment. 本発明の実施形態にかかる光学物品の製造方法の実施例2、3に係る光学物品の製造方法を示すフローチャート図。The flowchart figure which shows the manufacturing method of the optical article which concerns on Example 2, 3 of the manufacturing method of the optical article concerning embodiment of this invention. 本発明の実施形態にかかる光学物品の製造方法の実施例4に係る光学物品の製造方法を示すフローチャート図。The flowchart figure which shows the manufacturing method of the optical article which concerns on Example 4 of the manufacturing method of the optical article concerning embodiment of this invention. 本発明の実施形態にかかる光学物品の製造方法の実施例5、6に係る光学物品の製造方法を示すフローチャート図。The flowchart figure which shows the manufacturing method of the optical article which concerns on Example 5, 6 of the manufacturing method of the optical article concerning embodiment of this invention. 本実施形態にかかる光学物品の製造方法の基材形成工程を示す概略図。Schematic which shows the base material formation process of the manufacturing method of the optical article concerning this embodiment. 本実施形態にかかる光学物品の製造方法のコーティング層形成工程の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the coating layer formation process of the manufacturing method of the optical article concerning this embodiment. 本実施形態にかかる光学物品の製造方法のコーティング層形成工程の一例を示す概略図。Schematic which shows an example of the coating layer formation process of the manufacturing method of the optical article concerning this embodiment. 本実施形態にかかる光学物品の製造方法の実施例9に係るアニール工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the annealing process which concerns on Example 9 of the manufacturing method of the optical article concerning this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1…光学物品、2…コーティング層、10…光学基材、11…基材組成物、20…成型用ガラスモールド、21,22…ガラスモールド、23…粘着テープ、24…キャビティ、25…注入ノズル、26…ガラス型、30…浸漬装置、31…昇降部、32…ロッド、33…把持具、34…タンク、40…真空蒸着装置、41…真空容器、42…排気装置、43…ガス供給装置、44…圧力計、45…基材支持台、46,47…蒸発源、48…フィラメント、49…基材加熱用ヒータ、L…コーティング組成物、P…層   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical article, 2 ... Coating layer, 10 ... Optical base material, 11 ... Base material composition, 20 ... Molding glass mold, 21, 22 ... Glass mold, 23 ... Adhesive tape, 24 ... Cavity, 25 ... Injection nozzle , 26 ... Glass mold, 30 ... Dipping device, 31 ... Lifting unit, 32 ... Rod, 33 ... Grip, 34 ... Tank, 40 ... Vacuum deposition device, 41 ... Vacuum container, 42 ... Exhaust device, 43 ... Gas supply device , 44 ... Pressure gauge, 45 ... Base material support, 46, 47 ... Evaporation source, 48 ... Filament, 49 ... Heater for base material heating, L ... Coating composition, P ... Layer

Claims (3)

熱可塑性を有する光学基材を形成することと、
前記光学基材の表面に、前記光学基材の変形防止用のコーティング層を前記光学基材のガラス転移点以下の温度で形成することと、
前記コーティング層が形成された前記光学基材を前記光学基材のガラス転移点を超える温度で加熱することと、
含む
光学物品の製造方法。
And forming an optical substrate having a thermoplastic,
And said the surface of the optical substrate to form a coating layer for preventing deformation of the optical substrate at a temperature below the glass transition point of the optical substrate,
And heating the optical substrate, wherein the coating layer is formed at a temperature above the glass transition point of the optical substrate,
Including
A method for manufacturing an optical article.
請求項1に記載の光学物品の製造方法において、
前記光学基材は、一般式(1)で示される化合物を含有する基材組成物から形成される
光学物品の製造方法。

(式(1)中、Mは、Sn原子、Si原子、Zr原子、Ti原子、またはGe原子である。R1は、炭素数1〜4のアルキレン基であり、X1は、S原子またはO原子であり、nは0〜4の整数を示す。Yは、下記の式(1−1)、または式(1−2)、または式(1−3)のいずれかである。)
In the manufacturing method of the optical article according to claim 1,
The optical substrate is formed from a substrate composition containing a compound represented by the general formula (1) .
A method for manufacturing an optical article.

(In Formula (1), M is a Sn atom, Si atom, Zr atom, Ti atom, or Ge atom. R1 is a C1-C4 alkylene group, X1 is a S atom or O atom. And n represents an integer of 0 to 4. Y is any of the following formula (1-1), formula (1-2), or formula (1-3).
請求項1または請求項2に記載の光学物品の製造方法において、
前記コーティング層を形成することは、
前記光学基材の表面にプライマ層を形成することと、
前記光学基材または前記プライマ層の表面にハードコート層を形成することと、
前記光学基材前記ハードコート層、または前記プライマ層の表面に反射防止層を形成することと、
の少なくとも一つを兼ねる
光学物品の製造方法。
In the manufacturing method of the optical article according to claim 1 or 2,
Forming the coating layer comprises:
Forming a primer layer on the surface of the optical substrate,
And said optical substrate or to form a hard coat layer on the surface of the primer layer,
And said optical substrate, the hard coat layer, or forming an anti-reflection layer on the surface of the primer layer,
Of at least one of the
A method for manufacturing an optical article.
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