JP5126192B2 - 流体浄化装置 - Google Patents
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Description
この態様の装置1は、光触媒ユニット2、吸着剤フィルタユニット3、流体移送手段のユニット8、及び除塵フィルタユニット9をこの順に配列し一体化して構成されており、被処理流体が光触媒ユニット2側から装置1に入り、浄化された流体が除塵フィルタユニット9から出てゆく。このような装置1は、例えば、クリーンルームの壁面又は天井面等、あるいは半導体デバイスなどの生産設備の壁面又は天井面等に設けられ、被処理流体としてのクリーンルーム内の空気を清浄にするのに使用することができる。設置場所の制約により各ユニットを一体化するのが困難な場合などには、それらを隣接せずに離して設置することも可能である。
(付記1)被処理流体から汚染物質を除去してそれを浄化する装置であって、被処理流体中の汚染物質を分解可能な光触媒及びこの光触媒を励起するための励起光源を有する光触媒ユニットと、被処理流体中の汚染物質を吸着し得る吸着剤フィルタユニットとを含み、被処理流体の流動方向に対し光触媒ユニットを吸着剤フィルタユニットの上流側に配置し、且つ更に、吸着剤フィルタユニットの下流側に配置した除塵フィルタユニットを含むことを特徴とする流体浄化装置。
(付記2)前記被処理流体を前記光触媒ユニット又は前記吸着剤ユニットへ選択的に導入する切り換え手段を更に含む、付記1記載の流体浄化装置。
(付記3)被処理流体から汚染物質を除去してそれを浄化する装置であって、被処理流体中の汚染物質を分解可能な光触媒及びこの光触媒を励起するための励起光源を有する光触媒ユニットと、被処理流体中の汚染物質を吸着し得る吸着剤フィルタユニットとを含み、被処理流体の流動方向に対し光触媒ユニットを吸着剤フィルタユニットの上流側に配置し、且つ更に、被処理流体を光触媒ユニット又は吸着剤ユニットへ選択的に導入する切り換え手段を含むことを特徴とする流体浄化装置。
(付記4)前記被処理流体が前記光触媒ユニットでの光触媒作用による除去に適した汚染物質を含むとき、当該被処理流体を前記光触媒ユニットに導入し、前記被処理流体が前記吸着剤ユニットでの吸着による除去に適した汚染物質を含むとき、当該被処理流体を吸着剤フィルタユニットに導入する、付記2又は3記載の流体浄化装置。
(付記5)前記被処理流体が前記光触媒ユニットでの光触媒作用による除去に適した汚染物質を含むとき、前記光触媒ユニットで処理したガスに前記吸着剤ユニットをバイパスさせる、付記4記載の流体浄化装置。
(付記6)前記被処理流体中の汚染物質の濃度が低いときはそれを選択的に前記光触媒ユニットで浄化し、前記被処理流体中の汚染物質の濃度が中レベルのときはそれを選択的に前記吸着剤フィルタユニットで浄化し、前記被処理流体中の汚染物質の濃度が高いときは前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットの両方でそれを浄化する、付記2又は3記載の流体浄化装置。
(付記7)浄化した流体中に前記汚染物質が検出された場合において、前記被処理流体を選択的に前記光触媒ユニットで浄化していたときは前記吸着剤フィルタユニットでも当該被処理流体を浄化するよう当該流体浄化装置の運転を切り換え、前記被処理流体を選択的に前記吸着剤フィルタユニットで浄化していたときは前記光触媒ユニットでも当該被処理ガスを浄化するよう当該流体浄化装置の運転を切り換え、前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットの両方で前記被処理流体を浄化していたときは当該流体を循環させて当該流体浄化装置において再度浄化処理する、付記6記載の流体浄化装置。
(付記8)当該流体浄化装置で除去しようとする汚染物質が1種類であり、前記被処理流体中の当該汚染物質の濃度が高いときは前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットの両方で当該被処理流体を浄化し、当該汚染物質の濃度が低いときは前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットのどちらか一方で当該被処理流体を浄化する、付記2又は3記載の流体浄化装置。
(付記9)前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットの両方で浄化を行っていた場合において、前記浄化を受けた被処理流体中に前記汚染物質が検出されたとき、当該被処理流体を循環させる、付記8記載の流体浄化装置。
(付記10)前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットのどちらか一方で浄化を行っていた場合において、当該浄化を受けた被処理流体中に前記汚染物質が検出されたとき、当該被処理流体を循環させるか、浄化を行っていなかった方のユニットも浄化に使用するか、あるいは当該被処理流体を循環させて且つ浄化を行っていなかった方のユニットも浄化に使用する、付記8記載の流体浄化装置。
(付記11)前記切り換え手段が自動式の手段である、付記2又は3記載の流体浄化装置。
(付記12)前記切り換え手段が手動式の手段である、付記2又は3記載の流体浄化装置。
(付記13)前記被処理流体を移送するための流体移送手段を更に含む、付記2記載の流体浄化手段。
(付記14)前記流体移送手段が前記吸着剤フィルタユニットと前記除塵フィルタユニットとの間に位置する、付記13記載の流体浄化装置。
(付記15)前記被処理流体を移送するための流体移送手段を更に含む、付記3記載の流体浄化手段。
(付記16)前記吸着剤フィルタユニットの下流側に配置した除塵フィルタユニットを更に含み、且つ、前記流体移送手段が前記吸着剤フィルタユニットと当該除塵フィルタユニットとの間に位置している、付記15記載の流体浄化装置。
2 光触媒ユニット
3 吸着剤フィルタユニット
8 流体移送手段のユニット
9 除塵フィルタユニット
11、12、13、14、18、19 バルブ
15、17 汚染物質濃度測定モニタ
16 制御部
Claims (7)
- 被処理流体から汚染物質を除去してそれを浄化する流体浄化装置であって、被処理流体中の汚染物質を分解可能な光触媒及びこの光触媒を励起するための励起光源を有する光触媒ユニットと、被処理流体中の汚染物質を吸着し得る吸着剤フィルタユニットとを含み、被処理流体の流動方向に対し光触媒ユニットを吸着剤フィルタユニットの上流側に配置し、且つ更に、被処理流体を光触媒ユニット又は吸着剤ユニットへ選択的に導入する切り換え手段を含むとともに、当該流体浄化装置の上流側への循環経路を含み、浄化した流体中に前記汚染物質が検出された場合において、前記被処理流体を選択的に前記光触媒ユニットで浄化していたときは前記吸着剤フィルタユニットでも当該被処理流体を浄化するよう当該流体浄化装置の運転を切り換え、前記被処理流体を選択的に前記吸着剤フィルタユニットで浄化していたときは前記光触媒ユニットでも当該被処理ガスを浄化するよう当該流体浄化装置の運転を切り換え、前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットの両方で前記被処理流体を浄化していたときは当該流体を循環させて当該流体浄化装置において再度浄化処理することを特徴とする流体浄化装置。
- 前記被処理流体が前記光触媒ユニットでの光触媒作用による除去に適した汚染物質を含むとき、当該被処理流体を前記光触媒ユニットに導入し、前記被処理流体が前記吸着剤ユニットでの吸着による除去に適した汚染物質を含むとき、当該被処理流体を吸着剤フィルタユニットに導入する、請求項1記載の流体浄化装置。
- 前記被処理流体が前記光触媒ユニットでの光触媒作用による除去に適した汚染物質を含むとき、前記光触媒ユニットで処理したガスに前記吸着剤ユニットをバイパスさせる、請求項2記載の流体浄化装置。
- 前記被処理流体中の汚染物質の濃度が低いときはそれを選択的に前記光触媒ユニットで浄化し、前記被処理流体中の汚染物質の濃度が中レベルのときはそれを選択的に前記吸着剤フィルタユニットで浄化し、前記被処理流体中の汚染物質の濃度が高いときは前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットの両方でそれを浄化する、請求項1記載の流体浄化装置。
- 当該流体浄化装置で除去しようとする汚染物質が1種類であり、前記被処理流体中の当該汚染物質の濃度が高いときは前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットの両方で当該被処理流体を浄化し、当該汚染物質の濃度が低いときは前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットのどちらか一方で当該被処理流体を浄化する、請求項1記載の流体浄化装置。
- 前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットの両方で浄化を行っていた場合において、前記浄化を受けた被処理流体中に前記汚染物質が検出されたとき、当該被処理流体を循環させる、請求項5記載の流体浄化装置。
- 前記光触媒ユニットと前記吸着剤フィルタユニットのどちらか一方で浄化を行っていた場合において、当該浄化を受けた被処理流体中に前記汚染物質が検出されたとき、当該被処理流体を循環させるか、浄化を行っていなかった方のユニットも浄化に使用するか、あるいは当該被処理流体を循環させて且つ浄化を行っていなかった方のユニットも浄化に使用する、請求項5記載の流体浄化装置。
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