JP5125271B2 - Reflective screen manufacturing method and reflective screen - Google Patents
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Description
この発明は、反射スクリーンの製造方法および反射スクリーンに関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a reflective screen and a reflective screen.
従来から、投影画像を反射させて観察可能にする反射スクリーンが知られている。このような反射スクリーンとして、スクリーン基板の前面側に同一形状の多数の凸状の単位形状部が2次元的に規則的に配置され、凸状の単位形状部の投影光入射方向に向かう一部の観察面部分に反射面が形成されている反射スクリーンが開示されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、上記従来の反射スクリーンは、反射面の形成方法として、スプレーコート方法、印刷方法等を用いている。これらの方法では、反射面を所定の部分に正確に形成することが困難であるという課題がある。反射面が所定の部分に正確に形成されない場合、コントラストの低下、外光の写りこみの増加、観察面内でのコントラストの偏り等の問題が生じる。 However, the conventional reflective screen uses a spray coating method, a printing method, or the like as a method for forming the reflective surface. In these methods, there is a problem that it is difficult to accurately form the reflecting surface in a predetermined portion. When the reflection surface is not accurately formed in a predetermined portion, problems such as a decrease in contrast, an increase in reflection of external light, and a deviation in contrast in the observation surface occur.
そこで、この発明は、反射膜を所定の部分に正確に形成することができる反射スクリーンの製造方法および反射スクリーンを提供するものである。 Accordingly, the present invention provides a method of manufacturing a reflective screen and a reflective screen that can accurately form a reflective film at a predetermined portion.
上記の課題を解決するために、本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記スクリーン基板の前記観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、前記観察面に反射膜を形成する工程と、前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を前記投影光の入射方向から前記観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させて前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、感光させた前記レジストを残存させ、それ以外の前記レジストを剥離させ、露出した反射膜をエッチングする工程と、残存させた前記レジストを剥離させる工程と、を有することを特徴とする。
このように製造することで、観察面の凹部または凸部に沿って反射膜が形成され、その反射膜上に形成されたレジストを、凹部または凸部の投影光が照射される部分に残存させることができる。この状態で反射膜をエッチングすることで、凹部または凸部の投影光が照射される部分に反射膜を形成することができる。また、レジストを感光させる光を、投影光の観察面に対する入射角度よりも小さい角度で入射させることで、観察面内に形成される複数の反射膜の面積の差を小さくするとともに、反射膜への外光の入射を防止することができる。
したがって、本発明の反射スクリーンの製造方法によれば、反射スクリーンの反射膜を凹部または凸部の投影光が照射される部分に正確に形成し、コントラストの低下の防止、外光の写りこみの防止、観察面内でのコントラストの偏りの防止等を実現することができる。
In order to solve the above-described problems, a manufacturing method of a reflective screen according to the present invention is such that a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate is inclined toward the observation surface. A method of manufacturing a reflective screen that reflects the projection light emitted to the observation side, forming a plurality of concave portions or a plurality of convex portions in a vertical direction and a horizontal direction of the observation surface of the screen substrate; Forming a reflection film on the observation surface; forming a photosensitive resist on the reflection film; and projecting light for exposing the resist onto the observation surface from an incident direction of the projection light to the observation surface A resist exposure process in which the resist is exposed by being incident at an angle equal to or smaller than an incident angle of light, the exposed resist is left, and the other resist is peeled off and exposed. And having etching the reflection film, and a step of peeling the resist is left, the.
By manufacturing in this way, a reflective film is formed along the concave portion or convex portion of the observation surface, and the resist formed on the reflective film is left in the portion irradiated with the projection light of the concave portion or convex portion. be able to. By etching the reflective film in this state, it is possible to form the reflective film in the portion irradiated with the projection light of the concave portion or the convex portion. In addition, by making the light that sensitizes the resist incident at an angle smaller than the incident angle of the projection light with respect to the observation surface, the difference in the areas of the plurality of reflection films formed in the observation surface is reduced, and the reflection film is applied. The incidence of external light can be prevented.
Therefore, according to the manufacturing method of the reflective screen of the present invention, the reflective film of the reflective screen is accurately formed on the concave or convex portions irradiated with the projection light, the contrast is prevented, and the reflection of external light is prevented. It is possible to achieve prevention, prevention of contrast bias in the observation plane, and the like.
また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記スクリーン基板の少なくとも前記観察側の、少なくとも前記反射膜の非形成領域に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とする。
このように製造することで、反射膜の非形成領域に入射した外光をスクリーン基板によって吸収可能とし、外光の映り込みを防止して、コントラストの良好な反射スクリーンを得ることができる。
The method for producing a reflective screen according to the present invention is characterized in that it includes a step of forming a light absorption layer in at least the non-formation region of the reflective film on at least the observation side of the screen substrate.
By manufacturing in this way, it is possible to absorb the external light incident on the non-formation region of the reflective film by the screen substrate, prevent reflection of external light, and obtain a reflective screen with good contrast.
また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記スクリーン基板の前記観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、前記観察面に反射膜を形成する工程と、前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を前記投影光の入射方向から前記観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させて前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、感光させた前記レジストを剥離させ、それ以外の前記レジストを光吸収膜として残存させる工程と、を有することを特徴とする。
このように製造することで、観察面の凹部または凸部に沿って反射膜が形成され、その反射膜上の、凹部または凸部の投影光が照射される部分に形成されたレジストのみを取り除くことができる。これにより、凹部または凸部の投影光が照射される部分の反射膜を露出させ、それ以外の部分をレジストによって覆い、レジストを光吸収膜として機能させることができる。また、レジストを感光させる光を、投影光の観察面に対する入射角度よりも小さい角度で入射させることで、観察面内に露出される複数の反射膜の面積の差を小さくするとともに、反射膜への外光の入射を防止することができる。
したがって、本発明の反射スクリーンの製造方法によれば、反射スクリーンの反射膜を凹部または凸部の投影光が照射される部分に正確に形成し、コントラストの低下、外光の写りこみ、観察面内でのコントラストの偏り等を防止することができる。
Further, the manufacturing method of the reflective screen according to the present invention allows projection light emitted obliquely toward the observation surface from a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate. A method of manufacturing a reflective screen that reflects to an observation side, the method comprising: forming a plurality of concave portions or a plurality of convex portions in a vertical direction and a horizontal direction of the observation surface of the screen substrate; and a reflective film on the observation surface Forming a photosensitive resist on the reflective film, and light for sensitizing the resist from the incident direction of the projection light to the observation surface, an angle equal to or smaller than the incident angle of the projection light with respect to the observation surface A resist exposure step of exposing the resist by being incident on the substrate, and a step of separating the exposed resist and leaving the other resist as a light absorbing film. And wherein the door.
By manufacturing in this way, a reflective film is formed along the concave portion or convex portion of the observation surface, and only the resist formed in the portion irradiated with the projection light of the concave portion or convex portion on the reflective film is removed. be able to. Thereby, the reflective film of the part irradiated with the projection light of the concave part or the convex part is exposed, the other part is covered with the resist, and the resist can function as the light absorbing film. Further, by making the light for sensitizing the resist incident at an angle smaller than the incident angle of the projection light with respect to the observation surface, the difference in the areas of the plurality of reflection films exposed in the observation surface is reduced, and the reflection film is applied to the reflection film. The incidence of external light can be prevented.
Therefore, according to the manufacturing method of the reflective screen of the present invention, the reflective film of the reflective screen is accurately formed on the portion of the concave or convex portion irradiated with the projection light, the contrast is lowered, the external light is reflected, and the observation surface It is possible to prevent the deviation of contrast in the interior.
また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記光吸収膜をベーキングする工程を有することを特徴とする。
このように製造することで、熱により光吸収膜を変形させ、光吸収膜の膜厚が外縁部に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成される。これにより、光吸収膜と反射膜との境界での反射率の急峻な変化を緩和することができる。
Moreover, the manufacturing method of the reflective screen of this invention has the process of baking the said light absorption film | membrane, It is characterized by the above-mentioned.
By manufacturing in this way, the light absorption film is deformed by heat, and the light absorption film is formed so as to gradually become thinner as it approaches the outer edge. Thereby, a sharp change in reflectance at the boundary between the light absorption film and the reflection film can be alleviated.
また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記スクリーン基板の前記観察面とは反対側の非観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、前記非観察面に反射膜を形成する工程と、前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を、前記投影光の入射方向の反対方向から前記非観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させ、前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、感光させた前記レジストを残存させ、それ以外の前記レジストを剥離させ、露出した反射膜をエッチングする工程と、残存させた前記レジストを剥離させる工程と、を有することを特徴とする。
このように製造することで、観察面の凹部または凸部に沿って反射膜が形成され、その反射膜上に形成されたレジストを、凹部または凸部の投影光が照射される部分に残存させることができる。この状態で反射膜をエッチングすることで、凹部または凸部の投影光が照射される部分に反射膜を形成することができる。また、レジストを感光させる光を、非観察面に、投影光の観察面に対する入射角度よりも小さい角度で入射させることで、非観察面内に形成される複数の反射膜の面積の差を小さくするとともに、反射膜への外光の入射を防止することができる。
したがって、本発明の反射スクリーンの製造方法によれば、反射スクリーンの反射膜を凹部または凸部の投影光が照射される部分に正確に形成し、コントラストの低下、外光の写りこみ、観察面内でのコントラストの偏り等を防止することができる。
Further, the manufacturing method of the reflective screen according to the present invention allows projection light emitted obliquely toward the observation surface from a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate. A method of manufacturing a reflective screen that reflects to an observation side, the step of forming a plurality of concave portions or a plurality of convex portions in a vertical direction and a horizontal direction of a non-observation surface opposite to the observation surface of the screen substrate; Forming a reflective film on the non-observation surface; forming a photosensitive resist on the reflective film; and exposing the resist to light from the direction opposite to the incident direction of the projection light. A resist exposure process for exposing the resist by making it incident at an angle equal to or smaller than an incident angle of the projection light with respect to the observation surface, leaving the exposed resist, and removing the other resist. Allowed to etching the exposed reflective film, and a step of peeling the resist is left, characterized in that it has a.
By manufacturing in this way, a reflective film is formed along the concave portion or convex portion of the observation surface, and the resist formed on the reflective film is left in the portion irradiated with the projection light of the concave portion or convex portion. be able to. By etching the reflective film in this state, it is possible to form the reflective film in the portion irradiated with the projection light of the concave portion or the convex portion. In addition, by making the light that sensitizes the resist enter the non-observation surface at an angle smaller than the incident angle of the projection light with respect to the observation surface, the difference in the areas of the plurality of reflective films formed in the non-observation surface is reduced. In addition, it is possible to prevent external light from entering the reflective film.
Therefore, according to the manufacturing method of the reflective screen of the present invention, the reflective film of the reflective screen is accurately formed on the portion of the concave or convex portion irradiated with the projection light, the contrast is lowered, the external light is reflected, and the observation surface It is possible to prevent the deviation of contrast in the interior.
また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記非観察面に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とすることを特徴とする。
このように製造することで、スクリーン基板を透過し凹部または凸部の反射膜の非形成領域に入射した外光を、光吸収層によって吸収可能とし、外光の映り込みを防止して、コントラストの良好な反射スクリーンを製造することができる。
Moreover, the manufacturing method of the reflective screen of this invention has the process of forming a light absorption layer in the said non-observation surface, It is characterized by the above-mentioned.
By manufacturing in this way, external light that has passed through the screen substrate and entered the non-formation region of the reflective film of the concave or convex portion can be absorbed by the light absorption layer, and reflection of external light is prevented, and contrast is improved. Can be produced.
また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記複数の凹部または前記複数の凸部を形成する工程において、凹部を形成することを特徴とすることを特徴とする。
このように製造することで、観察面側に凹部を形成する場合には、投影光に対して凹状の反射膜が形成され、非観察面側に凹部を形成する場合には、投影光に対して凸状の反射膜が形成される。したがって、投影光に対して凹状の反射膜が形成された場合には、観察面の法線方向に対する光の集光性に優れた反射スクリーンとなる。また、投影光に対して凸状の反射膜が形成された場合には、光の散乱性に優れた反射スクリーンとなる。
Moreover, the manufacturing method of the reflective screen of this invention forms a recessed part in the process of forming the said several recessed part or these several convex part, It is characterized by the above-mentioned.
By manufacturing in this way, when a concave portion is formed on the observation surface side, a concave reflective film is formed with respect to the projection light, and when a concave portion is formed on the non-observation surface side, Thus, a convex reflective film is formed. Therefore, when a concave reflective film is formed with respect to the projection light, a reflective screen excellent in light condensing performance with respect to the normal direction of the observation surface is obtained. Further, when a convex reflection film is formed with respect to the projection light, a reflection screen having excellent light scattering properties is obtained.
また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記複数の凹部または前記複数の凸部を形成する工程において、凸部を形成することを特徴とする。
このように製造することで、観察面側に凸部を形成する場合には、投影光に対して凸状の反射膜が形成され、非観察面側に凸部を形成する場合には、投影光に対して凹状の反射膜が形成される。したがって、投影光に対して凹状の反射膜が形成された場合には、観察面の法線方向に対する光の集光性に優れた反射スクリーンとなる。また、投影光に対して凸状の反射膜が形成された場合には、光の散乱性に優れた反射スクリーンとなる。
Moreover, the manufacturing method of the reflective screen of this invention forms a convex part in the process of forming the said several recessed part or these several convex part, It is characterized by the above-mentioned.
By manufacturing in this way, when a convex part is formed on the observation surface side, a convex reflective film is formed with respect to the projection light, and when a convex part is formed on the non-observation surface side, the projection is performed. A concave reflective film is formed with respect to light. Therefore, when a concave reflective film is formed with respect to the projection light, a reflective screen excellent in light condensing performance with respect to the normal direction of the observation surface is obtained. Further, when a convex reflection film is formed with respect to the projection light, a reflection screen having excellent light scattering properties is obtained.
また、本発明の反射スクリーンは、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に、複数の凹部または複数の凸部が形成され、前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分に沿って、前記投影光を反射する反射膜が形成され、前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分を除く前記反射膜上に光吸収膜が形成され、前記光吸収膜の膜厚が前記反射膜との境界に近づくに従って徐々に薄くなっていることを特徴とする。
このように構成することで、光吸収膜の外縁部の光吸収性を徐々に低下させ、反射膜と光吸収膜との境界における反射率の急峻な変化を緩和することができる。したがって、反射スクリーンに対する観察角度を変化させたときに、投影画像のコントラストの変化を緩やかにすることができる。
Further, the reflection screen of the present invention is configured to project projection light emitted obliquely toward the observation surface from a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate. A plurality of concave portions or a plurality of convex portions formed in the vertical direction and the horizontal direction of the screen substrate, and along the portions of the concave portions or the convex portions irradiated with the projection light. A reflection film that reflects the projection light is formed, and a light absorption film is formed on the reflection film excluding a portion of the concave portion or the convex portion that is irradiated with the projection light, and the thickness of the light absorption film is It is characterized by being gradually thinner as it approaches the boundary with the reflective film.
With such a configuration, the light absorptivity of the outer edge portion of the light absorption film can be gradually reduced, and a steep change in reflectance at the boundary between the reflection film and the light absorption film can be mitigated. Therefore, when the observation angle with respect to the reflective screen is changed, the change in contrast of the projected image can be moderated.
<第一実施形態>
以下、本発明の第一実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。また、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をX軸方向、鉛直面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれに直交する方向をZ軸方向とする。
<First embodiment>
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale is appropriately changed for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing. In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. A predetermined direction in the vertical plane is defined as an X-axis direction, a direction orthogonal to the X-axis direction in the vertical plane is defined as a Y-axis direction, and a direction orthogonal to the X-axis direction and the Y-axis direction is defined as a Z-axis direction.
(反射スクリーンの製造方法)
図1および図2に示すように、まず、スクリーン基板1の観察面1aの垂直方向(Y軸方向)および水平方向(X軸方向)に、複数の凹部2を形成する。
凹部2の形成方法は、公知のものを用いることができる。例えば、特開2004−286906号公報に記載されているように、スクリーン基板1の観察面1aに形成したエッチングマスク膜に、レーザ加工により凹部2の形成位置に対応するエッチング用孔を形成し、ウエットエッチングを行うことで、凹部2を形成することができる。
これにより、略半球状の凹部2が形成される。凹部2の直径D1および水平方向の中心間の間隔D2は、例えば、約100μm程度に形成される。
(Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIGS. 1 and 2, first, a plurality of
A known method can be used for forming the
Thereby, the substantially hemispherical recessed
次に、凹部2を形成したスクリーン基板1全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。これにより、スクリーン基板1自体を光吸収層として機能させることができる。
次いで、図3に示すように、スクリーン基板1の観察面1aに、例えば、アルミニウム等の反射性に優れた材料によって、反射膜3を形成する。反射膜3は、例えば、スパッタリング法、蒸着法、静電スプレー法等により形成する。これにより、凹部2の表面2aを含むスクリーン基板1の観察面1aに反射膜3が形成される。
Next, the
Next, as shown in FIG. 3, the
次に、スクリーン基板1の観察面1aの反射膜3上に、ネガ型のレジストNRを形成する。
次いで、図4に示すように、レジストNRを感光させる光Lsを露光光源Sから観察面1aに対して斜めに照射してレジストNRを感光させる。ここで、反射スクリーンに対する投影光の射出位置を予め仮想光源位置PVとして想定しておく。そして、露光光源Sから射出されるレジストNRを感光させる光Lsの観察面1aの各凹部2に対する入射角度θsが、仮想光源位置PVから射出される投影光Lpの各凹部2に対する入射角度θp以下となるように露光光源Sを配置する。
この状態でレジストNRを露光させることで、凹部2の、投影光Lpが照射される部分に対応した部分のレジストNRが感光する。また、凹部2の、レジストNRを感光させる光Lsが照射される部分の面積は、凹部2の投影光Lpが照射される部分の面積以下となる。
Next, a negative resist NR is formed on the
Next, as shown in FIG. 4, the resist NR is exposed by irradiating light Ls for exposing the resist NR obliquely from the exposure light source S to the
By exposing the resist NR in this state, a portion of the resist NR corresponding to the portion irradiated with the projection light Lp of the
次に、レジストNRを現像液に浸漬し、図5(a)に示すように、感光させた部分のレジストNRを残存させ、それ以外のレジストNRを剥離させる。これにより、レジストNRの感光させた部分を除いて反射膜3が露出する。
次いで、露出した反射膜3を、図5(b)に示すように、エッチングによって除去する。これにより、レジストNRを感光させた部分を除いて、凹部2の表面2aが露出する。
次いで、反射膜3上に残存させたレジストNRを溶解または剥離させ、図5(c)に示すように反射膜3を露出させる。これにより、凹部2の投影光Lpが照射される部分に対応した部分に反射膜3が形成される。また、反射膜3は凹部2の投影光Lpが照射される部分の面積以下に形成される。
Next, the resist NR is immersed in a developing solution to leave the exposed portion of the resist NR as shown in FIG. 5A, and the other resist NR is peeled off. Thereby, the
Next, the exposed
Next, the resist NR remaining on the
また、反射膜3は、上述のように形成することで、図6に示すように、仮想光源位置PVからの投影光Lpの入射方向に対応し、スクリーン基板1の観察面1aに露光光源Sの位置を中心として、放射状に形成される。
このように、フォトレジストおよびエッチングにより凹部2に反射膜3を形成することで、従来のスプレーコート方法、印刷方法等を用いた場合と比較して、投影光Lpの入射する部分に対応して正確に反射膜3を形成することができる。
Further, by forming the
Thus, by forming the
次に、図7に示すように、凹部2の表面2aを含むスクリーン基板1の観察面1aに保護層4を形成する。保護層4は、例えば、透明な樹脂等の光透過性を有する材料により形成する。さらに保護層4の表面に、反射防止層5を形成する。反射防止層5は、保護層4と同様の材料により形成され、反射防止層5に入射する投影光Lpや外光が保護層4の表面で反射しないように、保護層4との間で屈折率が調整されている。
以上、本実施形態の反射スクリーンの製造方法によれば、図7に示すような反射スクリーン100を製造することができる。
Next, as shown in FIG. 7, a
As described above, according to the reflective screen manufacturing method of the present embodiment, the
(反射スクリーン)
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン100について説明する。
図8に示すように、反射スクリーン100は、観察面100aの法線NLに対して垂直方向(Y軸方向)にずれた位置に配置されたプロジェクタPから、観察面100aに向けて斜めに射出された投影光Lpを、反射スクリーン100の観察側(Z軸正方向側)に反射するものである。反射スクリーン100は、法線NLがZ軸と平行になるように配置されている。
(Reflective screen)
Next, the
As shown in FIG. 8, the
プロジェクタPは投影光Lpを反射スクリーン100の観察面100aに向けて反射するミラーMを備えている。ここで、投影光LpがミラーMを備えていないプロジェクタPから射出されたと仮定した場合のプロジェクタPの位置を仮想光源位置PVとする。仮想光源位置PVもプロジェクタPと同様に、反射スクリーン100の観察面100aの法線NLに対して垂直方向にずれた位置となる。
The projector P includes a mirror M that reflects the projection light Lp toward the
プロジェクタPは、仮想光源位置PVと観察面100aとの距離Dを約900mmとし、仮想光源位置PVから反射スクリーン100の中心点Cに向かう投影光Lpと観察面100aのなす角度θを約36°としたときに、反射スクリーン100に垂直方向の寸法Hが約996mm、水平方向(X軸方向)の寸法Wが1771mmの画像を投影可能に構成されている。すなわち、反射スクリーン100は80インチの投影画像を表示可能な大きさとなっている。
The projector P sets the distance D between the virtual light source position PV and the
次に、この反射スクリーン100の作用について説明する。
図8に示すように、プロジェクタPはミラーMに向けて投影光Lpを射出する。ミラーMに向けて射出された投影光Lpは、ミラーMによって反射され、仮想光源位置PVから射出されたと仮定した投影光Lpと同様に、反射スクリーン100の観察面100aに対して斜めに入射する。このとき、反射スクリーン100の中心点Cに入射する投影光Lpと、反射スクリーン100の観察面100aとのなす角度θは、約36°となっている。
Next, the operation of the
As shown in FIG. 8, the projector P emits projection light Lp toward the mirror M. The projection light Lp emitted toward the mirror M is reflected by the mirror M and incident obliquely on the
反射スクリーン100の観察面100aに到達した投影光Lpは、図7に示す反射防止層5に入射する。反射防止層5に入射した投影光Lpは、反射防止層5を透過して保護層4に入射する。このとき、反射防止層5は保護層4との間で屈折率が調整されているので、反射防止層5を透過した投影光Lpが保護層4の表面4aで反射することが防止される。
保護層4に入射した投影光Lpは、保護層4を透過して凹部2の表面2aに形成された反射膜3に到達する。反射膜3に到達した投影光Lpは、反射膜3によって反射スクリーン100の観察側に反射される。
The projection light Lp that has reached the
The projection light Lp incident on the
ここで、図6および図7に示すように、反射膜3は、凹部2の投影光Lpが照射される部分に対応して、正確に形成されている。したがって、反射膜3の位置ずれによるコントラストの低下、および観察面1a内でのコントラストの偏り等を防止することができる。
また、凹部2の表面2aの投影光Lpが照射される部分に沿って、観察側(Z軸正方向側)から見て凹状の反射膜3が観察面1aに投影光Lpの入射方向に対応して、露光光源Sを中心に、放射状に形成されている。これにより、反射スクリーン100の垂直方向上方(Y軸方向正方向)側および水平方向の両端側に、垂直方向および水平方向に角度を有して観察面100aに入射する投影光Lpを、反射膜3によって観察側のより法線NLに近い方向に効率よく反射させ、投影光Lpの反射率を向上させることができる。
Here, as shown in FIGS. 6 and 7, the
Further, along the portion irradiated with the projection light Lp on the
ところで、図8に示すように、反射スクリーン100の観察面100aには、投影光Lp以外に、垂直方向の上方(Y軸正方向)側から外光Loが入射する。観察面100aに入射した外光Loは、図7に示す反射防止層5に入射して、反射防止層5を透過し、保護層4の表面4aに到達する。このとき、反射防止層5によって、観察面100aの上方から観察面100aに入射した外光Loが、保護層4の表面4aで観察側に反射することが防止される。
As shown in FIG. 8, outside light Lo enters the
保護層4の表面4aに到達した外光Loは、保護層4を透過して凹部2に入射する。凹部2に入射した外光Loは、凹部2の反射膜3の非形成領域に到達する。
ここで、スクリーン基板1は、上述のように着色され、可視光に対して光吸収層として機能するように形成されているので、凹部2の表面2aの反射膜3の非形成領域に到達した外光Loは、スクリーン基板1によって吸収される。また、スクリーン基板1の凹部2の非形成領域に到達した外光Loも、同様にスクリーン基板1によって吸収される。さらに、反射膜3は凹部2に垂直方向の下方(Y軸負方向)側から射出された投影光Lpが入射する部分に対応して形成されているので、外光Loの反射膜3への入射が防止される。したがって、反射スクリーン100の観察面100aに入射した外光Loが、観察側に反射されることが防止できる。
The external light Lo that has reached the surface 4 a of the
Here, since the
また、反射膜3は凹部2の投影光Lpが照射される部分の面積以下に形成されている。これにより、凹部2の表面2aにおける反射膜3の非形成領域の面積を大きくすることができる。したがって、外光Loをより確実に反射膜3の非形成領域に入射させ、反射膜3に外光Loが入射することを防止し、外光の写りこみ等を防止することができる。
また、図6および図7に示すように、仮想光源位置PVからの距離が遠くなるほど、凹部2の表面2aの反射膜3が形成される部分の面積が縮小し、反射膜3の非形成領域が拡大している。したがって、より外光Loの影響を受けやすい反射スクリーン100の垂直方向上方側の外光Loに対する光吸収性を向上させることができる。
Further, the
Further, as shown in FIGS. 6 and 7, as the distance from the virtual light source position PV increases, the area of the
また、レジストNRを感光させる光Lsの各凹部2に対する入射角度θsを、仮想光源位置PVから射出される投影光Lpの各凹部2に対する入射角度以下となるようにしたことで、仮想光源位置PVから各凹部2までの距離の差による反射膜3の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板1の観察面1a内の反射率の偏りを減少させ、投影画像の観察面1a内のコントラストの差を減少させることができる。
Further, the incident angle θs of the light Ls for exposing the resist NR with respect to each
また、反射防止層5は、プロジェクタPから反射スクリーン100の観察面100aに入射する投影光Lpに対しては、投影光Lpを反射膜3により確実に到達させ、投影光Lpの反射率を向上させる効果がある。一方、観察面100aに入射する外光Loに対しては、外光Loを保護層4によって観察側に反射させず、スクリーン基板1に吸収させる効果がある。したがって、上述のように反射防止層5を形成することで、反射スクリーン100のコントラストを向上させることができる。
Further, the
以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン100によれば、反射スクリーン100の反射膜3を凹部2の投影光Lpが照射される部分に対応して正確に形成し、反射膜3の非形成領域で外光Loを吸収することで、コントラストの低下の防止、外光の写りこみの防止、観察面内でのコントラストの偏りの防止を実現することができる。
加えて、反射膜3を覆うように保護層4が形成されているので、反射膜3の損傷や劣化を防止することができる。
As described above, according to the
In addition, since the
<第二実施形態>
次に、本発明の第二実施形態について、図1および図8を援用し、図9(a)〜図9(c)を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン100の製造方法と、スクリーン基板11の観察面11aに凸部21を形成する点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
<Second embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9A to 9C with reference to FIGS. This embodiment is different from the manufacturing method of the
(反射スクリーンの製造方法)
図1および図9(a)に示すように、まず、スクリーン基板11の観察面11aの垂直方向(Y軸方向)および水平方向(X軸方向)に、複数の凸部21を形成する。
凸部21の形成方法は、公知のものを用いることができる。例えば、特開2004−286906号公報に記載されているように、凸部21を形成するための型に、凸部21に対応する凹部をエッチング等により形成し、型の凹部が形成された面に熱可塑性の樹脂等を、熱を加えながら押し当てることにより、凸部21を形成することができる。
これにより、略半球状の凸部21が形成される。凸部21の直径D1および水平方向の中心間の間隔D2は、例えば、約100μm程度に形成される。
(Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIGS. 1 and 9A, first, a plurality of
A well-known thing can be used for the formation method of the
Thereby, the substantially hemispherical
次に、第一実施形態と同様に、スクリーン基板11全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。これにより、スクリーン基板1自体を光吸収層として機能させることができる。
次いで、凸部21の表面21aを含むスクリーン基板11の観察面11aに、第一実施形態と同様に反射膜31を形成する。そして、反射膜31上に反射膜31を覆うネガ型のレジストNRを形成する。
次いで、図9(a)に示すように、レジストNRを感光させる光Lsを、露光光源Sから観察面11aに対して斜めに照射してレジストNRを感光させる。
Next, as in the first embodiment, the
Next, the
Next, as shown in FIG. 9A, the light LS for exposing the resist NR is obliquely irradiated from the exposure light source S to the
ここで、反射スクリーンに対する投影光Lpの射出位置を仮想光源位置PVとして想定する。そして、露光光源Sから射出されるレジストNRを感光させる光Lsの観察面11aの各凸部21に対する入射角度θsが、仮想光源位置PVから射出される投影光Lpの各凸部21に対する入射角度θp以下となるように、露光光源Sを配置する。
この状態でレジストNRを露光させることで、凸部21の投影光Lpが照射される部分に対応した部分のレジストNRが感光する。また、凸部21のレジストNRを感光させる光Lsが照射される部分の面積は、凸部21の投影光Lpが照射される部分の面積以下となる。
Here, the emission position of the projection light Lp with respect to the reflection screen is assumed as the virtual light source position PV. The incident angle θs of the light Ls that exposes the resist NR emitted from the exposure light source S with respect to each
By exposing the resist NR in this state, a portion of the resist NR corresponding to the portion irradiated with the projection light Lp of the
次に、レジストNRを現像液に浸漬し、図9(b)に示すように、感光させた部分のレジストNRを残存させ、それ以外のレジストNRを剥離させ、露出した反射膜31をエッチングによって除去する。これにより、レジストNRを感光させた部分を除いて、凸部21の表面21aが露出する。
次いで、図9(c)に示すように、第一実施形態と同様に、反射膜31上に残存させたレジストNRを溶解または剥離させ、スクリーン基板11の観察面11aに保護層4および反射防止層5を形成する。
Next, the resist NR is immersed in a developer, and as shown in FIG. 9B, the exposed resist NR is left, the other resist NR is peeled off, and the exposed
Next, as shown in FIG. 9C, similarly to the first embodiment, the resist NR remaining on the
これにより、凸部21のレジストNRを感光させる光Lsが照射される部分に反射膜31が形成され、反射膜31の面積は凸部21の投影光Lpが照射される部分の面積以下に形成される。
以上、本実施形態の反射スクリーン200の製造方法によれば、図9(c)に示すような反射スクリーン200を製造することができる。
As a result, the
As described above, according to the manufacturing method of the
(反射スクリーン)
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン200について説明する。
図8に示すように、反射スクリーン200は、第一実施形態の反射スクリーン100と同様に配置されている。プロジェクタPは、第一実施形態と同様に構成され、第一実施形態と同様に配置されている。
プロジェクタPからミラーMに向けて射出された投影光Lpは、仮想光源位置PVから射出されたと仮定した投影光Lpと同様に反射スクリーン200の観察面200aに対して斜めに入射する。
(Reflective screen)
Next, the
As shown in FIG. 8, the
The projection light Lp emitted from the projector P toward the mirror M is obliquely incident on the
反射スクリーン200の観察面200aに到達した投影光Lpは、図9(c)に示す反射防止層5に入射する。反射防止層5に入射した投影光Lpは、反射防止層5を透過して保護層4に入射する。このとき、反射防止層5は保護層4との間で屈折率が調整されているので、反射防止層5を透過した投影光Lpが保護層4の表面4aで反射することが防止される。
The projection light Lp that has reached the
保護層4に入射した投影光Lpは、保護層4を透過して凸部の表面に形成された反射膜31に到達する。反射膜31に到達した投影光Lpは、反射膜31によって反射スクリーン200の観察側に反射される。
ここで、図9(a)および図9(c)に示すように、反射膜31は、凸部21の投影光Lpが照射される部分に対応して、正確に形成されている。したがって、反射膜31の位置ずれによるコントラストの低下を防止し、観察面11a内でのコントラストの偏り等を防止することができる。
The projection light Lp incident on the
Here, as shown in FIGS. 9A and 9C, the
また、凸部21の表面21aの投影光Lpが照射される部分に沿って、観察側(Z軸正方向側)から見て凸状の反射膜31が観察面11aに露光光源Sを中心に、投影光Lpの入射方向に対応して、放射状に形成されている。これにより、反射スクリーン200の垂直方向上方(Y軸方向正方向)側および水平方向の両端側に、垂直方向および水平方向に角度を有して観察面200aに入射する投影光Lpを、反射膜31によって観察側のより法線NLに近い方向に効率よく反射させ、投影光Lpの反射率を向上させることができる。
Further, along the portion irradiated with the projection light Lp on the
一方、図8に示すように、反射スクリーン200の観察面200aに垂直方向の上方(Y軸正方向側)から入射する外光Loは、第一実施形態と同様に、図9(c)に示す反射防止層5によって、保護層4の表面4aで観察側に反射することが防止される。
保護層4の表面4aに到達した外光Loは、保護層4を透過して凸部21に到達する。凸部21に到達した外光Loは、凸部21の反射膜33の非形成領域に入射する。
ここで、スクリーン基板11は、上述のように着色され、可視光に対して光吸収層として機能するように形成されているので、凸部21の表面21aの反射膜31の非形成領域に到達した外光Loは、スクリーン基板11によって吸収される。また、スクリーン基板11の凸部21の非形成領域に到達した外光Loも、同様にスクリーン基板1によって吸収される。さらに、反射膜31は凸部21の投影光Lpが入射する部分に対応して形成されているので、外光Loが反射膜31に入射することが防止される。したがって、反射スクリーン200の観察面200aに入射した外光Loが、観察側に反射されることが防止できる。
On the other hand, as shown in FIG. 8, external light Lo incident on the
The external light Lo that has reached the surface 4 a of the
Here, since the
また、反射膜31は凸部21の投影光Lpが照射される部分の面積以下に形成されている。これにより、凸部21の表面21aにおける反射膜31の非形成領域の面積を大きくすることができる。したがって、外光Loを反射膜31の非形成領域により確実に入射させ、反射膜31に外光Loが入射することを防止し、外光Loの写りこみ等を防止することができる。
また、図9(a)〜図9(c)に示すように、仮想光源位置PVからの距離が遠くなるほど、凸部21の表面21aの反射膜31が形成される部分の面積が縮小し、反射膜31の非形成領域が拡大している。したがって、より外光Loの影響を受けやすい反射スクリーン200の垂直方向上方側の外光Loに対する光吸収性を向上させることができる。
Further, the
Further, as shown in FIGS. 9A to 9C, as the distance from the virtual light source position PV increases, the area of the portion of the
また、レジストNRを感光させる光Lsの観察面11aに対する入射角度θsを、仮想光源位置PVから射出される投影光Lpの観察面11aに対する入射角度θp以下となるようにしたことで、仮想光源位置PVから各凸部21までの距離の差による反射膜31の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板11の観察面11a内の反射率の偏りを減少させ、投影画像のコントラストの差を減少させることができる。
Further, the incident angle θs of the light Ls for exposing the resist NR to the
また、反射防止層5は、プロジェクタPから反射スクリーン200の観察面200aに入射する投影光Lpに対しては、投影光Lpを反射膜31により確実に到達させ、投影光Lpの反射率を向上させる効果がある。一方、観察面200aに入射する外光Loに対しては、外光Loを保護層4によって観察側に反射させず、スクリーン基板11に吸収させる効果がある。したがって、上述のように反射防止層5を形成することで、反射スクリーン200のコントラストを向上させることができる。
Further, the
以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン200によれば、反射スクリーン200の反射膜31を凸部21の投影光Lpが照射される部分に対応して正確に形成し、コントラスト低下の防止、外光の写りこみの防止、および観察面11a内でのコントラストの偏りの防止を実現することができる。
加えて、反射膜31を覆うように保護層4が形成されているので、反射膜31の損傷や劣化を防止することができる。
As described above, according to the
In addition, since the
<第三実施形態>
次に、本発明の第三実施形態について、図1〜図4、図6および図8を援用し、図10(a)〜図10(c)を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン100の製造方法と、スクリーン基板1の観察面1aの凹部2に形成された反射膜3上に光吸収膜を形成する点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
<Third embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 10A to 10C with reference to FIGS. 1 to 4, 6, and 8. This embodiment differs from the manufacturing method of the
(反射スクリーンの製造方法)
図1および図2に示すように、スクリーン基板1の観察面1aの垂直方向(Y軸方向)および水平方向(X軸方向)に、第一実施形態と同様に複数の凹部2を形成する。
次に、凹部2を形成したスクリーン基板1全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。これにより、スクリーン基板1自体を光吸収層として機能させることができる。
次いで、図3に示すように、スクリーン基板1の観察面1aに、第一実施形態と同様に反射膜3を形成する。
(Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIGS. 1 and 2, a plurality of
Next, the
Next, as shown in FIG. 3, the
次に、スクリーン基板1の観察面1aの反射膜3上に、ポジ型のレジストPRを形成する。ここで、レジストPRは、例えば、黒色に着色され、可視光を吸収可能なものを用いる。次いで、図4に示すように、第一実施形態と同様に、レジストPRを感光させる光を露光光源Sから観察面1aに対して斜めに照射してレジストPRを感光させる。
次に、レジストPRを現像液に浸漬し、図10(a)に示すように、感光させた部分のレジストPRを剥離させ、それ以外のレジストPRを残存させる。これにより、レジストPRを感光させた部分の反射膜3を露出させ、それ以外の部分の反射膜3を、可視光を吸収可能な光吸収膜として機能するレジストPRによって覆い、反射膜3の非形成領域とすることができる。
Next, a positive resist PR is formed on the
Next, the resist PR is immersed in a developing solution, and as shown in FIG. 10A, the exposed portion of the resist PR is peeled off, and the other resist PR is left. As a result, the portion of the
次いで、残存させたレジストPRをベーキングする。これにより、図10(b)に示すように、レジストPRが熱により変形し、レジストPRの膜厚が、レジストPRの外縁の反射膜3との境界に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成される。
また、反射膜3は、上述のように形成することで、図6に示すように、仮想光源位置PVからの投影光Lpの入射方向に対応し、スクリーン基板1の観察面1aに露光光源Sの位置を中心として、放射状に露出される。
Next, the remaining resist PR is baked. As a result, as shown in FIG. 10B, the resist PR is deformed by heat, and the film thickness of the resist PR is formed so as to gradually decrease as it approaches the boundary with the
Further, by forming the
このように、フォトレジストにより凹部2に反射膜3を露出させることで、従来のスプレーコート方法、印刷方法等を用いた場合と比較して、投影光Lpの入射する部分に対応して正確に反射膜3を形成することができる。
また、第一実施形態と比較して、反射膜3をエッチングする工程を省略できるので、工程を簡略化して製造を容易にし、生産性を向上させ、製造コストを低減することができる。
Thus, by exposing the
Moreover, since the process of etching the
次に、図10(b)に示すように、第一実施形態と同様に保護層4、反射防止層5を形成する。
以上、本実施形態の反射スクリーン101の製造方法によれば、図10(c)に示すような反射スクリーン101を製造することができる。
Next, as shown in FIG. 10B, the
As mentioned above, according to the manufacturing method of the
(反射スクリーン)
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン101について説明する。
図8に示すように、反射スクリーン101は、第一実施形態の反射スクリーン100と同様に配置されている。プロジェクタPは、第一実施形態と同様に構成され、第一実施形態と同様に配置されている。
図8に示すように、プロジェクタPからミラーMに向けて射出された投影光Lpは、ミラーMによって反射され、反射スクリーン101の観察面101aに対して斜めに入射する。
(Reflective screen)
Next, the
As shown in FIG. 8, the
As shown in FIG. 8, the projection light Lp emitted from the projector P toward the mirror M is reflected by the mirror M and is incident obliquely on the
反射スクリーン101の観察面101aに到達した投影光Lpは、図10(c)に示す反射防止層5に入射し、反射防止層5を透過して保護層4に入射する。このとき、反射防止層5によって投影光Lpが保護層4の表面4aで反射することが防止される。
保護層4に入射した投影光Lpは、保護層4を透過して凹部2の表面2aに形成された反射膜3に到達する。反射膜3に到達した投影光Lpは、第一実施形態と同様に、反射膜3によって反射スクリーン101の観察側に反射される。
The projection light Lp that has reached the
The projection light Lp incident on the
一方、図8に示すように、観察面101aに入射した外光Loは、第一実施形態と同様に、反射防止層5によって、保護層4の表面4aで観察側に反射することが防止される。
保護層4を透過して凹部2に入射した外光Loは、凹部2の反射膜3の非形成領域に到達する。
ここで、反射膜3の非形成領域には、上述のように、光吸収膜として機能するレジストPRが形成されているので、凹部2の表面2aの反射膜3の非形成領域に到達した外光Loは、レジストPRによって吸収される。さらに、反射膜3は凹部2に垂直方向の下方(Y軸負方向)側から射出された投影光Lpが入射する部分に対応して形成されているので、外光Loの反射膜3への入射が防止される。したがって、反射スクリーン100の観察面100aに入射した外光Loが、観察側に反射されることが防止できる。
On the other hand, as shown in FIG. 8, the external light Lo incident on the
The external light Lo that has passed through the
Here, since the resist PR that functions as a light absorption film is formed in the non-formation region of the
また、反射膜3は凹部2の投影光Lpが照射される部分の面積以下に露出されている。これにより、凹部2の表面2aにおけるレジストPRの面積を大きくすることができる。したがって、外光LoをレジストPRにより確実に入射させ、反射膜3に外光Loが入射することを防止し、外光Loの写りこみ等を防止することができる。
また、図6および図10(c)に示すように、仮想光源位置PVからの距離が遠くなるほど、凹部2の表面2aの反射膜3が露出される部分の面積が縮小し、レジストPRの面積が拡大している。したがって、より外光Loの影響を受けやすい反射スクリーン101の垂直方向上方側の外光Loに対する光吸収性を向上させることができる。
Further, the
Further, as shown in FIGS. 6 and 10C, as the distance from the virtual light source position PV increases, the area of the portion of the
また、レジストPRを感光させる光Lsの観察面1aに対する入射角度θsを、仮想光源位置PVから射出される投影光Lpの観察面1aに対する入射角度θp以下となるようにしたことで、仮想光源位置PVから各凹部2までの距離の差による反射膜3の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板1の観察面1a内の反射率の偏りを減少させ、観察面1a内の投影画像のコントラストの差を減少させることができる。
また、第一実施形態と同様に、反射防止層5を形成することで、反射スクリーン101のコントラストを向上させることができる。
Further, the incident angle θs of the light Ls for exposing the resist PR to the
Further, as in the first embodiment, the contrast of the
また、光吸収膜として機能するレジストPRは、膜厚がレジストPRの外縁の反射膜3との境界に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成されている。したがって、レジストPRの外縁に近づくにつれて徐々に光吸収率が低下し、レジストPRの下層の反射膜3によって光が反射されるようになる。これにより、レジストPRの外縁の反射膜3との境界における急峻な反射率の変化を防止することができる。
Further, the resist PR functioning as a light absorption film is formed such that the film thickness gradually decreases as the film thickness approaches the boundary with the
以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン100によれば、第一実施形態と同様の効果が得られるだけでなく、反射膜3と反射膜3の非形成領域との境界における急峻な反射率の変化を防止し、観察面1aに対する観察角度の変化によるコントラストの急峻な変化を防止することができる。
As described above, according to the
<第四実施形態>
次に、本発明の第四実施形態について、図1、図8および図9(a)を援用し、図11(a)〜図11(c)を用いて説明する。本実施形態では上述の第二実施形態で説明した反射スクリーン200の製造方法と、凸部21に形成された反射膜31上に光吸収膜を形成する点で異なっている。その他の点は第二実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
<Fourth embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 11 (a) to 11 (c) with reference to FIGS. 1, 8 and 9 (a). This embodiment is different from the manufacturing method of the
(反射スクリーンの製造方法)
図1および図9(a)に示すように、スクリーン基板11の観察面11aの垂直方向(Y軸方向)および水平方向(X軸方向)に、第二実施形態と同様に複数の凸部21を形成する。
次に、凸部21を形成したスクリーン基板11全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。これにより、スクリーン基板11自体を光吸収層として機能させることができる。
次いで、スクリーン基板11の観察面11aに、第二実施形態と同様に反射膜31を形成する。
(Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIGS. 1 and 9A, in the vertical direction (Y-axis direction) and the horizontal direction (X-axis direction) of the
Next, the
Next, the
次に、スクリーン基板11の観察面11aの反射膜31上に、反射膜31を覆うポジ型のレジストPRを形成する。ここで、レジストPRは、例えば、黒色に着色され、可視光を吸収可能にされたものを用いる。次いで、第二実施形態と同様に、レジストPRを感光させる光Lsを露光光源Sから観察面11aに対して斜めに照射してレジストPRを感光させる。
次に、レジストPRを現像液に浸漬し、図11(a)に示すように、感光させた部分のレジストPRを剥離させ、それ以外のレジストPRを残存させる。これにより、レジストPRを感光させた部分の反射膜31を露出させ、それ以外の部分の反射膜31を、可視光を吸収可能な光吸収膜として機能するレジストPRによって覆い、反射膜31の非形成領域とすることができる。
Next, a positive resist PR covering the
Next, the resist PR is immersed in a developing solution, and as shown in FIG. 11A, the exposed portion of the resist PR is peeled off, and the other resist PR is left. As a result, the
次いで、残存させたレジストPRをベーキングする。これにより、図11(b)に示すように、レジストPRが熱により変形し、レジストPRの膜厚が、レジストPRの外縁の反射膜31との境界に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成される。
また、反射膜31は、上述のように形成することで、第二実施形態と同様に、仮想光源位置PVからの投影光Lpの入射方向に対応し、スクリーン基板11の観察面11aに、露光光源Sの位置を中心として、放射状に露出される。
Next, the remaining resist PR is baked. As a result, as shown in FIG. 11B, the resist PR is deformed by heat, and the film thickness of the resist PR is formed so as to gradually decrease as it approaches the boundary with the
Further, by forming the
このように、フォトレジストにより凸部21に反射膜3を露出させることで、従来のスプレーコート方法、印刷方法等を用いた場合と比較して、投影光Lpの入射する部分に対応して正確に反射膜31を形成することができる。
また、第二実施形態と比較して、反射膜31をエッチングする工程を省略できるので、工程を簡略化して製造を容易にし、生産性を向上させ、製造コストを低減することができる。
In this way, by exposing the
Moreover, since the process of etching the
次に、図11(c)に示すように、第二実施形態と同様に保護層4、反射防止層5を形成する。
以上、本実施形態の反射スクリーン201の製造方法によれば、図11(c)に示すような反射スクリーン201を製造することができる。
Next, as shown in FIG. 11C, the
As mentioned above, according to the manufacturing method of the
(反射スクリーン)
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン201について説明する。
図8に示すように、反射スクリーン201は、第一実施形態の反射スクリーン100と同様に配置されている。プロジェクタPは、第一実施形態と同様に構成され、第一実施形態と同様に配置されている。
図8に示すように、プロジェクタPからミラーMに向けて射出された投影光Lpは、ミラーMによって反射され、反射スクリーン201の観察面201aに対して斜めに入射する。
(Reflective screen)
Next, the
As shown in FIG. 8, the
As shown in FIG. 8, the projection light Lp emitted from the projector P toward the mirror M is reflected by the mirror M and is incident obliquely on the
反射スクリーン201の観察面201aに到達した投影光Lpは、図11(c)に示す反射防止層5に入射し、反射防止層5を透過して保護層4に入射する。このとき、反射防止層5によって投影光Lpが保護層4の表面4aで反射することが防止される。
保護層4に入射した投影光Lpは、保護層4を透過して凸部21の表面2aに形成された反射膜31に到達する。反射膜3に到達した投影光Lpは、第二実施形態と同様に、反射膜31によって反射スクリーン201の観察側に反射される。
The projection light Lp that has reached the
The projection light Lp incident on the
一方、図8に示すように、観察面201aに入射した外光Loは、第二実施形態と同様に、反射防止層5によって、保護層4の表面4aで観察側に反射することが防止される。
保護層4を透過して凸部21に到達した外光Loは、凸部21の反射膜31の非形成領域に入射する。
ここで、反射膜31の非形成領域には、上述のように、光吸収膜として機能するレジストPRが形成されているので、凸部21の表面21aの反射膜31の非形成領域に到達した外光Loは、レジストPRによって吸収される。さらに、反射膜31は凸部21に垂直方向の下方(Y軸負方向)側から射出された投影光Lpが入射する部分に対応して露出されているので、外光Loの反射膜31への入射が防止される。したがって、反射スクリーン201の観察面201aに入射した外光Loが、観察側に反射されることが防止できる。
On the other hand, as shown in FIG. 8, the external light Lo incident on the
The external light Lo that has passed through the
Here, since the resist PR that functions as a light absorption film is formed in the non-formation region of the
また、反射膜31は凸部21の投影光Lpが照射される部分の面積以下に形成されている。これにより、凸部21の表面21aにおけるレジストPRの面積を大きくすることができる。したがって、外光LoをレジストPRにより確実に入射させ、反射膜31に外光Loが入射することを防止し、外光Loの写りこみ等を防止することができる。
また、図8および図11(c)に示すように、仮想光源位置PVからの距離が遠くなるほど、凸部21の表面21aの反射膜31が露出される部分の面積が縮小し、レジストPRの面積が拡大している。したがって、より外光Loの影響を受けやすい反射スクリーン100の垂直方向上方側の外光Loに対する光吸収性を向上させることができる。
Further, the
Further, as shown in FIGS. 8 and 11C, as the distance from the virtual light source position PV increases, the area of the portion of the
また、レジストPRを感光させる光の観察面11aに対する入射角度θsを、仮想光源位置PVから射出される投影光Lpの観察面11aに対する入射角度θp以下となるようにしたことで、仮想光源位置PVから各凸部21までの距離の差による反射膜31の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板11の観察面11a内の反射率の偏りを減少させ、投影画像のコントラストの差を減少させることができる。
また、第二実施形態と同様に、反射防止層5を形成することで、反射スクリーン201のコントラストを向上させることができる。
Further, the incident angle θs of the light for exposing the resist PR to the
Moreover, the contrast of the
また、光吸収膜として機能するレジストPRは、膜厚がレジストPRの外縁の反射膜3との境界に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成されている。したがって、第三実施形態と同様に、レジストPRの外縁の反射膜31との境界における急峻な反射率の変化を防止することができる。
Further, the resist PR functioning as a light absorption film is formed such that the film thickness gradually decreases as the film thickness approaches the boundary with the
以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン201によれば、第二実施形態と同様の効果が得られるだけでなく、反射膜31と反射膜31の非形成領域との境界における急峻な反射率の変化を防止し、観察面11aに対する観察角度の変化によるコントラストの急峻な変化を防止することができる。
As described above, according to the
<第五実施形態>
次に、本発明の第五実施形態について、図1および図8を援用し、図12(a)、12(b)、図13(a)〜図13(c)を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン100の製造方法と、スクリーン基板12の観察面12aとは反対側の面12bに凹部22が形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
<Fifth embodiment>
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 12A and 12B and FIGS. 13A to 13C with reference to FIGS. This embodiment is different from the manufacturing method of the
(反射スクリーンの製造方法)
図1および図12(a)に示すように、まず、スクリーン基板12の観察面12aとは反対側の面12bの垂直方向(Y軸方向)および水平方向(X軸方向)に、第一実施形態と同様に複数の凹部22を形成する。また、スクリーン基板12は光透過性を有する樹脂等によって形成する。
次いで、凹部22の表面22aを含むスクリーン基板12の観察面12aと反対側の面12bに、第一実施形態と同様の反射膜32およびネガ型のレジストNRを形成する。
(Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIGS. 1 and 12A, first, the first implementation is performed in the vertical direction (Y-axis direction) and the horizontal direction (X-axis direction) of the
Next, a
次いで、図12(b)に示すように、レジストNRを感光させる光Lsを露光光源Sから観察面12aの反対側の面12bに対して斜めに照射してレジストNRを感光させる。ここで、反射スクリーンに対する投影光Lpの射出位置を仮想光源位置PVとして想定する。そして、露光光源Sから射出されるレジストNRを感光させる光Lsの観察面12aの反対側の面12bの中心Cbに対する入射角度θsが、仮想光源位置PVから射出される投影光Lpの観察面12aの中心Caに対する入射角度θp以下となるように、露光光源Sを配置する。
この状態でレジストNRを露光させることで、凹部22の投影光Lpが照射される部分に対応した部分のレジストNRが感光する。また、凹部22のレジストNRを感光させる光Lsが照射される部分の面積は、凹部22の投影光Lpが照射される部分の面積以下となる。
Next, as shown in FIG. 12B, the resist NR is exposed by irradiating light Ls for exposing the resist NR obliquely from the exposure light source S to the
By exposing the resist NR in this state, a portion of the resist NR corresponding to the portion irradiated with the projection light Lp of the
次に、レジストNRを現像液に浸漬し、図13(a)に示すように、感光させた部分のレジストNRを残存させ、それ以外のレジストNRを剥離させる。これにより、レジストNRの感光させた部分を除いて反射膜32が露出する。
次いで、露出した反射膜32を、図13(b)に示すように、エッチングによって除去する。これにより、レジストNRの感光させた部分を除いて、凹部22の表面が露出する。
次いで、反射膜32上に残存させたレジストNRを溶解または剥離させ、図13(c)に示すように反射膜32を露出させる。これにより、凹部22の投影光が照射される部分に対応した部分に反射膜32が形成される。また、反射膜32は凹部22の投影光Lpが照射される部分の面積以下に形成される。
Next, the resist NR is immersed in a developing solution to leave the exposed portion of the resist NR as shown in FIG. 13A, and the other resist NR is peeled off. As a result, the
Next, as shown in FIG. 13B, the exposed
Next, the resist NR remaining on the
次に、凹部22の表面22aを含むスクリーン基板12の観察面12aとは反対側の面12bに光吸収層6を形成する。光吸収層6は、例えば、染色等によって黒色に着色された樹脂や、黒色の顔料を含有する樹脂等を用いて形成する。さらに、スクリーン基板12の観察面12aに、反射防止層51を形成する。反射防止層51は、例えば、透明な樹脂等により形成され、反射防止層51に入射する投影光Lpや外光Loがスクリーン基板12の観察面12aで反射しないように、スクリーン基板12との間で屈折率が調整されている。
以上、本実施形態の反射スクリーンの製造方法によれば、図13(c)に示す反射スクリーン300を製造することができる。
Next, the
As described above, according to the reflective screen manufacturing method of the present embodiment, the
(反射スクリーン)
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン300について説明する。
図8に示すように、反射スクリーン300は、第一実施形態の反射スクリーン100と同様に配置されている。
プロジェクタPからミラーMに向けて射出された投影光Lpは、仮想光源位置PVから射出されたと仮定した投影光Lpと同様に反射スクリーン300の観察面300aに対して斜めに入射する。
(Reflective screen)
Next, the
As shown in FIG. 8, the
The projection light Lp emitted from the projector P toward the mirror M is obliquely incident on the
ここで、反射スクリーン300は、観察側から見て、図9(c)に示す第二実施形態の反射スクリーン200と略同様の構成となっている。したがって、本実施形態の反射スクリーン300によれば、第二実施形態の反射スクリーン200と略同様の効果を得ることができる。
また、第二実施形態の反射スクリーン200とは異なり、仮想光源位置PVからの距離が遠くなるほど、反射膜32が形成される部分の面積が拡大し、反射膜32の非形成領域が縮小する。
Here, the
In addition, unlike the
したがって、本実施形態の反射スクリーン300によれば、仮想光源位置PVから遠い反射膜32の面積を、仮想光源位置PVに近い反射膜32の面積よりも拡大させることができる。したがって、反射スクリーン300の仮想光源位置PVから遠い部分の反射率を向上させることができる。
また、スクリーン基板12によって反射膜32の観察側を保護することができるので、反射スクリーン300の観察面300a側に保護層4を形成する工程を省略することができる。
Therefore, according to the
Further, since the observation side of the
<第六実施形態>
次に、本発明の第六実施形態について、図1および図8を援用し、図14(a)、14(b)、図15(a)〜図15(c)を用いて説明する。本実施形態では上述の第五実施形態で説明した反射スクリーン300の製造方法と、スクリーン基板13の観察面13aに凸部23を形成する点で異なっている。その他の点は第五実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
<Sixth embodiment>
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 14A and 14B and FIGS. 15A to 15C with reference to FIGS. 1 and 8. This embodiment is different from the manufacturing method of the
(反射スクリーンの製造方法)
図1および図14(a)に示すように、まず、スクリーン基板13の観察面13aとは反対側の面13bの垂直方向(Y軸方向)および水平方向(X軸方向)に、第二実施形態と同様に複数の凸部23を形成する。また、スクリーン基板13は光透過性を有する樹脂等によって形成する。
次いで、凸部23の表面23aを含むスクリーン基板13の観察面13aと反対側の面13bに、第二実施形態と同様の反射膜33およびネガ型のレジストNRを形成する。
(Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIG. 1 and FIG. 14 (a), first, in the second direction in the vertical direction (Y-axis direction) and horizontal direction (X-axis direction) of the
Next, a
次いで、図14(b)に示すように、レジストNRを感光させる光Lsを露光光源Sから観察面13aの反対側の面13bに対して斜めに照射してレジストNRを感光させる。ここで、反射スクリーンに対する投影光Lpの射出位置を仮想光源位置PVとして想定する。そして、露光光源Sから射出されるレジストNRを感光させる光Lsの観察面13aの反対側の面13bの中心Cbに対する入射角度θsが、仮想光源位置PVから射出される投影光Lpの観察面13aの中心Caに対する入射角度θp以下となるように、露光光源Sを配置する。
この状態でレジストNRを露光させることで、凸部21の投影光Lpが照射される部分に対応した部分のレジストNRが感光する。また、凸部21のレジストNRを感光させる光Lsが照射される部分の面積は、凸部21の投影光Lpが照射される部分の面積以下となる。
Next, as shown in FIG. 14B, the resist NR is exposed by irradiating light Ls for exposing the resist NR obliquely from the exposure light source S to the
By exposing the resist NR in this state, a portion of the resist NR corresponding to the portion irradiated with the projection light Lp of the
次に、レジストNRを現像液に浸漬し、感光させた部分のレジストNRを残存させ、それ以外のレジストNRを剥離させ、露出した反射膜33をエッチングによって除去する。これにより、図15(a)に示すように、レジストNRの感光させた部分を除いて、凸部23の表面23aが露出する。
次いで、反射膜33上に残存させたレジストNRを溶解または剥離させ、図15(b)に示すように反射膜33を露出させる。これにより、凸部23の投影光Lpが照射される部分に対応した部分に反射膜33が形成される。また、反射膜33は凸部23の投影光Lpが照射される部分の面積以下に形成される。
Next, the resist NR is immersed in a developing solution, the exposed resist NR remains, the other resist NR is peeled off, and the exposed
Next, the resist NR remaining on the
次に、凸部23の表面23aを含むスクリーン基板13の観察面13aとは反対側の面13bに第五実施形態と同様の光吸収層6を形成する。また、スクリーン基板13の観察面13aには、反射防止層51を形成する。
以上、本実施形態の反射スクリーン400の製造方法によれば、図13(c)に示す反射スクリーン400を製造することができる。
Next, the
As described above, according to the manufacturing method of the
(反射スクリーン)
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン400について説明する。
図8に示すように、反射スクリーン400は、第一実施形態の反射スクリーン100と同様に配置されている。
プロジェクタPからミラーMに向けて射出された投影光Lpは、仮想光源位置PVから射出されたと仮定した投影光Lpと同様に反射スクリーン400の観察面400aに対して斜めに入射する。
(Reflective screen)
Next, the
As shown in FIG. 8, the
The projection light Lp emitted from the projector P toward the mirror M is obliquely incident on the
ここで、反射スクリーン400は、観察側から見て、図7に示す第一実施形態の反射スクリーン100と略同様の構成となっている。したがって、本実施形態の反射スクリーン400によれば、第一実施形態の反射スクリーン100と略同様の効果を得ることができる。
また、第一実施形態の反射スクリーン100とは異なり、仮想光源位置PVからの距離が遠くなるほど、反射膜33が形成される部分の面積が拡大し、反射膜33の非形成領域が縮小する。
Here, the
Further, unlike the
したがって、本実施形態の反射スクリーン400によれば、仮想光源位置PVから遠い反射膜33の面積を、仮想光源位置PVに近い反射膜33の面積よりも拡大させることができる。したがって、反射スクリーン400の仮想光源位置PVから遠い部分の反射率を向上させることができる。
また、スクリーン基板13によって反射膜33の観察側を保護することができるので、反射スクリーン400の観察面400a側に保護層4を形成する工程を省略することができる。
Therefore, according to the
Further, since the observation side of the
尚、この発明は上述した実施の形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。スクリーン基板は全体を染色するのではなく、表面を黒色の塗料で塗装する等、少なくとも観察面側の、少なくとも反射膜の非形成領域に光吸収層が形成されていればよい。
また、凹部または凸部の形状は、半球状に限られない。また、凹部または凸部の配置は上述の実施形態の配置に限定されない。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. The light absorption layer should just be formed in the non-formation area | region of the reflection film at least on the observation surface side, such as painting the surface with a black paint instead of dyeing the whole screen substrate.
Moreover, the shape of a recessed part or a convex part is not restricted to a hemisphere. Further, the arrangement of the concave portions or the convex portions is not limited to the arrangement of the above-described embodiment.
1,11 スクリーン基板(光吸収層)、12,13 スクリーン基板、1a,11a,12a,13a 観察面、2,22 凹部、21,23 凸部、3,31,32,33 反射膜、12b,13b 面(非観察面)、6 光吸収層、100,101,200,201,300,400 反射スクリーン、Lp 投影光、Ls 光、NL 法線、NR,PR レジスト(光吸収膜)、P プロジェクタ、θp,θs 角度 1, 11 Screen substrate (light absorption layer), 12, 13 Screen substrate, 1a, 11a, 12a, 13a Observation surface, 2, 22 concave portion, 21, 23 convex portion, 3, 31, 32, 33 Reflective film, 12b, 13b surface (non-observation surface), 6 light absorption layer, 100, 101, 200, 201, 300, 400 reflection screen, Lp projection light, Ls light, NL normal, NR, PR resist (light absorption film), P projector , Θp, θs angle
Claims (9)
前記スクリーン基板の前記観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、
前記観察面に反射膜を形成する工程と、
前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を前記投影光の入射方向から前記観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させて前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、
感光させた前記レジストを残存させ、それ以外の前記レジストを剥離させ、露出した反射膜をエッチングする工程と、
残存させた前記レジストを剥離させる工程と、
を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 A method of manufacturing a reflective screen that reflects projection light emitted obliquely toward the observation surface from a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate to the observation side. There,
Forming a plurality of concave portions or a plurality of convex portions in a vertical direction and a horizontal direction of the observation surface of the screen substrate;
Forming a reflective film on the observation surface;
A photosensitive resist is formed on the reflective film, and light for exposing the resist is incident on the observation surface from an incident direction of the projection light at an angle equal to or smaller than an incident angle of the projection light with respect to the observation surface. A resist exposure process for exposing the resist;
Leaving the exposed resist, peeling off the other resist, and etching the exposed reflective film;
Peeling off the remaining resist,
A method for producing a reflective screen, comprising:
前記スクリーン基板の前記観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、
前記観察面に反射膜を形成する工程と、
前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を前記投影光の入射方向から前記観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させて前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、
感光させた前記レジストを剥離させ、それ以外の前記レジストを光吸収膜として残存させる工程と、
を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 A method of manufacturing a reflective screen that reflects projection light emitted obliquely toward the observation surface from a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate to the observation side. There,
Forming a plurality of concave portions or a plurality of convex portions in a vertical direction and a horizontal direction of the observation surface of the screen substrate;
Forming a reflective film on the observation surface;
A photosensitive resist is formed on the reflective film, and light for exposing the resist is incident on the observation surface from an incident direction of the projection light at an angle equal to or smaller than an incident angle of the projection light with respect to the observation surface. A resist exposure process for exposing the resist;
Peeling off the exposed resist and leaving the other resist as a light absorbing film;
A method for producing a reflective screen, comprising:
前記スクリーン基板の前記観察面とは反対側の非観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、
前記非観察面に反射膜を形成する工程と、
前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を、前記投影光の入射方向の反対方向から前記非観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させ、前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、
感光させた前記レジストを残存させ、それ以外の前記レジストを剥離させ、露出した反射膜をエッチングする工程と、
残存させた前記レジストを剥離させる工程と、
を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 A method of manufacturing a reflective screen that reflects projection light emitted obliquely toward the observation surface from a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate to the observation side. There,
Forming a plurality of concave portions or a plurality of convex portions in a vertical direction and a horizontal direction of a non-observation surface opposite to the observation surface of the screen substrate;
Forming a reflective film on the non-observation surface;
A photosensitive resist is formed on the reflective film, and the light for exposing the resist is incident on the non-observation surface from the direction opposite to the incident direction of the projection light, and an angle equal to or smaller than the incident angle of the projection light with respect to the observation surface. A resist exposure process in which the resist is exposed to light,
Leaving the exposed resist, peeling off the other resist, and etching the exposed reflective film;
Peeling off the remaining resist,
A method for producing a reflective screen, comprising:
前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に、複数の凹部または複数の凸部が形成され、
前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分に沿って、前記投影光を反射する反射膜が形成され、
前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分を除く前記反射膜上に光吸収膜として機能するレジストが形成され、
前記光吸収膜の膜厚が、前記光吸収膜の外縁のうち、前記凹部または前記凸部の内側における前記反射膜との境界に近づくに従って徐々に薄くなっていることを特徴とする反射スクリーン。 A reflection screen that reflects the projection light emitted obliquely toward the observation surface from the projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal of the observation surface of the screen substrate, to the observation side,
A plurality of concave portions or a plurality of convex portions are formed in the vertical direction and the horizontal direction of the screen substrate,
A reflection film that reflects the projection light is formed along a portion of the concave portion or the convex portion irradiated with the projection light,
A resist functioning as a light absorption film is formed on the reflective film except the portion irradiated with the projection light of the concave portion or the convex portion,
The reflective screen, wherein the thickness of the light absorbing film is gradually reduced as it approaches a boundary with the reflective film inside the concave portion or the convex portion of the outer edge of the light absorbing film.
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