JP2009015196A - Method for producing reflection screen, and reflection screen - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a reflection screen with which a reflective film thinner and having higher quality than the conventional one can be formed, and projected light made incident from the oblique direction of a reflection screen can be efficiently reflected on the observation side of the reflection screen, and to provide a reflection screen. <P>SOLUTION: The method for producing a reflection screen includes: a step where a plurality of recessed parts 2 are formed in the vertical direction and horizontal direction of a screen substrate 1; and a step where a reflective film material is obliquely vapor-deposited on each recessed part 2 by a vapor deposition process from a position shifted in a vertical direction to the normal NL of the observation face 1a in the screen substrate 1, to form each reflective film 3. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

この発明は、反射スクリーンの製造方法および反射スクリーンに関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a reflective screen and a reflective screen.

従来から、投影画像を反射させて観察可能にする反射スクリーンが知られている。このような反射スクリーンとして、スクリーン基板の前面側に同一形状の多数の凸状の単位形状部が２次元的に規則的に配置され、凸状の単位形状部の投影光入射方向に向かう一部の表面部分にのみに反射面が形成されている反射スクリーンが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
また、レンズシートの背面側のレンチキュラーレンズ面やフレネルレンズ面に、部分的に形成された反射面を有して光を選択的に反射する選択反射部を少なくとも一面に備える反射スクリーンが開示されている。
特開２００６−２１５１６２号公報 特開２００６−６５２６６号公報 2. Description of the Related Art Conventionally, a reflection screen that makes it possible to observe a projection image by reflecting the image is known. As such a reflective screen, a plurality of convex unit shape portions having the same shape are regularly arranged two-dimensionally on the front side of the screen substrate, and a part of the convex unit shape portions toward the projection light incident direction. A reflective screen is disclosed in which a reflective surface is formed only on the surface portion (see, for example, Patent Document 1).
Further, a reflection screen is disclosed that has a selective reflection portion that has a partially formed reflection surface on the lenticular lens surface or Fresnel lens surface on the back side of the lens sheet and selectively reflects light. Yes.
JP 2006-215162 A JP 2006-65266 A

しかしながら、上記従来の反射スクリーンは、特許文献１においては、反射面の形成方法として、スプレーコート方法、印刷方法等を用いるため、反射膜の膜厚が比較的厚くなってしまうという課題がある。反射膜の膜厚が厚くなると、反射膜のひび割れや剥離等により反射膜の品質が劣化する虞がある。
また、特許文献２においては、選択反射部がレンチキュラーレンズ面やフレネルレンズ面に設けられているため、例えば、垂直方向等、一定方向の投影光に対する反射率の向上についてはある程度の効果があるが、水平方向等、別の方向成分を有する投影光に対しては反射率が低下するという課題がある。したがって、プロジェクタから反射スクリーンに向けて、例えば、垂直方向斜め上方に向けて投影画像を投射した場合、反射スクリーンの水平方向のコントラストが低下するという問題がある。 However, since the conventional reflective screen uses a spray coating method, a printing method, or the like as a method for forming the reflective surface in Patent Document 1, there is a problem that the thickness of the reflective film becomes relatively large. When the thickness of the reflective film is increased, the quality of the reflective film may be deteriorated due to cracking or peeling of the reflective film.
Further, in Patent Document 2, since the selective reflection portion is provided on the lenticular lens surface or the Fresnel lens surface, for example, there is a certain effect in improving the reflectance with respect to projection light in a certain direction such as the vertical direction. However, there is a problem that the reflectance is reduced for projection light having another direction component such as a horizontal direction. Therefore, when a projection image is projected from the projector toward the reflection screen, for example, obliquely upward in the vertical direction, there is a problem that the horizontal contrast of the reflection screen is lowered.

そこで、この発明は、従来よりも薄く高品質な反射膜を形成することができ、反射スクリーンの斜め方向から入射する投影光を、反射スクリーンの観察側に効率よく反射させることができる反射スクリーンの製造方法および反射スクリーンを提供するものである。   Therefore, the present invention is capable of forming a reflective film that is thinner and higher quality than conventional ones, and that can efficiently reflect projection light incident from an oblique direction of the reflective screen to the observation side of the reflective screen. A manufacturing method and a reflective screen are provided.

上記の課題を解決するために、本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に、複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、前記凹部または前記凸部に、前記スクリーン基板の前記観察面の前記法線に対して垂直方向にずれた位置から、蒸着法により反射膜材料を斜めに蒸着させて反射膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
このように製造することで、スプレーコート方法、印刷方法等よりも薄く高品質な反射膜を形成することができる。また、凹部または凸部の投影光が照射される部分に合わせて、部分的に反射膜を形成することができるので、反射スクリーンの斜め方向から、垂直方向および水平方向の成分を有して入射する投影光を、反射スクリーンの観察側に効率よく反射させる反射スクリーンを製造することができる。 In order to solve the above-described problems, a manufacturing method of a reflective screen according to the present invention is such that a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate is inclined toward the observation surface. A method of manufacturing a reflective screen that reflects the projection light emitted to the observation side, the step of forming a plurality of concave portions or a plurality of convex portions in the vertical direction and the horizontal direction of the screen substrate, Forming a reflective film on the convex portion by obliquely depositing a reflective film material by a vapor deposition method from a position perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate. It is characterized by.
By manufacturing in this way, it is possible to form a high-quality reflective film that is thinner than a spray coating method, a printing method, or the like. In addition, since the reflective film can be partially formed in accordance with the portion irradiated with the projection light of the concave portion or the convex portion, the incident light has the vertical and horizontal components from the oblique direction of the reflective screen. Therefore, it is possible to manufacture a reflection screen that efficiently reflects the projected light to the observation side of the reflection screen.

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記複数の凹部を形成する工程において、前記スクリーン基板の前記観察面に複数の凹部を形成することを特徴とする。
このように製造することで、凹部に沿って反射膜を形成し、投影光に対して凹状の反射面を形成することができる。 Moreover, the manufacturing method of the reflective screen of this invention forms a several recessed part in the said observation surface of the said screen board | substrate in the process of forming the said several recessed part.
By manufacturing in this way, a reflective film can be formed along a recessed part, and a concave reflective surface can be formed with respect to projection light.

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記複数の凸部を形成する工程において、前記スクリーン基板の前記観察面に複数の凸部を形成することを特徴とする。
このように製造することで、凸部に沿って反射膜を形成し、投影光に対して凸状の反射面を形成することができる。 Moreover, the manufacturing method of the reflective screen of this invention forms a several convex part in the said observation surface of the said screen board | substrate in the process of forming the said several convex part, It is characterized by the above-mentioned.
By manufacturing in this way, a reflective film can be formed along the convex part, and a convex reflective surface can be formed with respect to projection light.

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記スクリーン基板の少なくとも前記観察面側の、少なくとも前記反射膜の非形成領域に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とする。
このように製造することで、観察面の反射膜の非形成領域に到達した光をスクリーン基板によって吸収可能にすることができる。 The method for producing a reflective screen according to the present invention is characterized by comprising a step of forming a light absorption layer in at least the non-formation region of the reflective film on at least the observation surface side of the screen substrate.
By manufacturing in this way, the light that reaches the non-formation region of the reflection film on the observation surface can be absorbed by the screen substrate.

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記反射膜を形成する工程において、前記複数の凹部または前記複数の凸部に、前記反射膜材料を前記投影光の入射方向から前記投影光の入射角度以下の角度で蒸着させることを特徴とする。
このように製造することで、凹部または凸部の投影光が照射される部分に合わせて、反射膜を形成することができる。また、各凹部または各凸部に形成される反射膜の面積の差を小さくして観察面内における反射率の偏りを減らし、より均一な投影画像を得ることができる。 In addition, in the method of manufacturing the reflective screen according to the invention, in the step of forming the reflective film, the reflective film material is incident on the plurality of concave portions or the plurality of convex portions from the incident direction of the projected light. Vapor deposition is performed at an angle less than the angle.
By manufacturing in this way, the reflective film can be formed in accordance with the portion irradiated with the projection light of the concave portion or the convex portion. In addition, the difference in the area of the reflective film formed in each concave portion or each convex portion can be reduced to reduce the unevenness of reflectance in the observation plane, and a more uniform projection image can be obtained.

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記複数の凹部を形成する工程において、前記スクリーン基板の前記観察面の反対側の面に複数の凹部を形成することを特徴とする。
このように製造することで、凹部に沿って反射膜を形成し、スクリーン基板の観察面側から入射する投影光に対して凸状の反射膜を形成することができる。また、スクリーン基板によって反射膜の観察面側を保護することができる。 Moreover, the manufacturing method of the reflective screen of this invention forms a several recessed part in the surface on the opposite side to the said observation surface of the said screen board | substrate in the process of forming these several recessed part.
By manufacturing in this way, a reflective film can be formed along the concave portion, and a convex reflective film can be formed with respect to projection light incident from the observation surface side of the screen substrate. Further, the observation surface side of the reflective film can be protected by the screen substrate.

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記複数の凸部を形成する工程において、前記スクリーン基板の前記観察面の反対側の面に複数の凸部を形成することを特徴とする。
このように製造することで、凸部に沿って反射膜を形成し、スクリーン基板の観察面側から入射する投影光に対して凹状の反射膜を形成することができる。また、スクリーン基板によって反射膜の観察面側を保護することができる。 Moreover, the manufacturing method of the reflective screen of this invention forms a some convex part in the surface on the opposite side to the said observation surface of the said screen board | substrate in the process of forming the said some convex part.
By manufacturing in this way, a reflective film can be formed along the convex part, and a concave reflective film can be formed with respect to the projection light incident from the observation surface side of the screen substrate. Further, the observation surface side of the reflective film can be protected by the screen substrate.

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記反射膜を形成する工程において、前記複数の凹部または前記複数の凸部に、前記反射膜材料を前記投影光の入射方向の反対方向から、前記投影光の入射角度以下の角度で蒸着させることを特徴とする。
このように製造することで、凹部または凸部の投影光が照射される部分に合わせて、反射膜を形成することができる。各凹部または各凸部に形成される反射膜の面積の差を小さくして観察面内における反射率の偏りを減らし、より均一な投影画像を得ることができる。 Further, in the method of manufacturing the reflective screen of the present invention, in the step of forming the reflective film, the reflective film material is applied to the plurality of concave portions or the plurality of convex portions from the direction opposite to the incident direction of the projection light. Vapor deposition is performed at an angle less than the incident angle of the projection light.
By manufacturing in this way, the reflective film can be formed in accordance with the portion irradiated with the projection light of the concave portion or the convex portion. A difference in the area of the reflective film formed in each concave portion or each convex portion can be reduced to reduce the reflectance unevenness in the observation surface, and a more uniform projection image can be obtained.

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記反射膜を形成する工程の後、前記スクリーン基板の前記観察面の反対側の面に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とする。
このように製造することで、スクリーン基板を透過し、反射膜の非形成領域に到達した光を光吸収層によって吸収することができる。 In addition, the method for manufacturing a reflective screen according to the present invention includes a step of forming a light absorption layer on a surface opposite to the observation surface of the screen substrate after the step of forming the reflective film. .
By manufacturing in this way, the light that has passed through the screen substrate and reached the region where the reflective film is not formed can be absorbed by the light absorption layer.

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記スクリーン基板の形成領域を複数備えたスクリーン基板用シートを用い、前記反射膜を形成する工程において、前記スクリーン基板用シートを移動させ、前記形成領域を前記蒸着源に対して配置し、前記形成領域に前記反射膜を形成した後、再び前記スクリーン基板用シートを移動させ、次の前記形成領域を前記蒸着源に対して配置し、再び前記形成領域に反射膜を形成することを繰り返し、複数の前記形成領域に前記反射膜を形成した後、前記スクリーン基板用材料シートを個々の前記スクリーン基板として分断する工程を有することを特徴とする。
このように製造することで、個々のスクリーン基板に個別に反射膜を形成する場合と比較して、反射膜の生産性を向上させ、製造コストを低減することができる。 Further, the method for manufacturing a reflective screen according to the present invention uses a screen substrate sheet having a plurality of screen substrate formation regions, and moves the screen substrate sheet in the step of forming the reflective film, thereby forming the formation region. Is disposed with respect to the vapor deposition source, the reflective film is formed on the formation region, the screen substrate sheet is moved again, the next formation region is disposed with respect to the vapor deposition source, and the formation is performed again. The step of repeatedly forming the reflective film in the region, forming the reflective film in a plurality of the formed regions, and then dividing the screen substrate material sheet into individual screen substrates is provided.
By manufacturing in this way, the productivity of the reflective film can be improved and the manufacturing cost can be reduced as compared with the case where the reflective film is individually formed on each screen substrate.

また、本発明の反射スクリーンは、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に、複数の凹部または複数の凸部が形成され、前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分に沿って、前記投影光を反射する反射膜が形成され、前記反射膜の膜厚が前記反射膜の外縁に近づくに従って徐々に薄くなっていることを特徴とする。
このように構成することで、反射膜と反射膜の非形成領域との境界における極端な反射率の変化を防止して、観察角度の変化によるコントラストの変化をなだらかにすることができる。 Further, the reflection screen of the present invention is configured to project projection light emitted obliquely toward the observation surface from a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate. A plurality of concave portions or a plurality of convex portions formed in the vertical direction and the horizontal direction of the screen substrate, and along the portions of the concave portions or the convex portions irradiated with the projection light. A reflective film for reflecting the projection light is formed, and the thickness of the reflective film is gradually reduced as it approaches the outer edge of the reflective film.
With this configuration, it is possible to prevent an extreme change in reflectance at the boundary between the reflection film and the non-formation region of the reflection film, and to smooth the change in contrast due to a change in observation angle.

＜第一実施形態＞
以下、本発明の第一実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。また、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をＸ軸方向、鉛直面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向をＺ軸方向とする。 <First embodiment>
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale is appropriately changed for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing. In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. A predetermined direction in the vertical plane is defined as an X-axis direction, a direction orthogonal to the X-axis direction in the vertical plane is defined as a Y-axis direction, and a direction orthogonal to the X-axis direction and the Y-axis direction is defined as a Z-axis direction.

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図２に示すように、まず、スクリーン基板１の観察面１ａの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、複数の凹部２を形成する。
凹部２の形成方法は、公知のものを用いることができる。例えば、特開２００４−２８６９０６号公報に記載されているように、スクリーン基板１の観察面１ａに形成したエッチングマスク膜に、レーザ加工により凹部２の形成位置に対応するエッチング用孔を形成し、ウエットエッチングを行うことで、凹部２を形成することができる。
これにより、略半球状の凹部２が形成される。凹部２の直径Ｄ１および水平方向の中心間の間隔Ｄ２は、例えば、約１００μｍ程度に形成される。 (Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIGS. 1 and 2, first, a plurality of concave portions 2 are formed in the vertical direction (Y-axis direction) and the horizontal direction (X-axis direction) of the observation surface 1 a of the screen substrate 1.
A known method can be used for forming the recess 2. For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-286906, an etching hole corresponding to the formation position of the recess 2 is formed by laser processing on an etching mask film formed on the observation surface 1a of the screen substrate 1, By performing wet etching, the concave portion 2 can be formed.
Thereby, the substantially hemispherical recessed part 2 is formed. The diameter D1 of the recess 2 and the distance D2 between the horizontal centers are, for example, about 100 μm.

次に、凹部２を形成したスクリーン基板１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。
次いで、図３に示すように、スクリーン基板の観察側（Ｚ軸正方向側）で、スクリーン基板１の観察面１ａの法線ＮＬに対して垂直方向下方側（Ｙ軸負方向側）にずれた位置に蒸着源Ｓを配置する。そして、蒸着法により反射膜材料を観察面１ａに対して斜めに蒸着させ、凹部２の内壁面２ａに反射膜３を形成する。反射膜材料としては、例えば、アルミニウム等の反射性に優れた金属材料を用いることができる。 Next, the entire screen substrate 1 on which the recesses 2 are formed is colored black, for example, by staining.
Next, as shown in FIG. 3, on the observation side (Z-axis positive direction side) of the screen substrate, a shift to the lower side in the vertical direction (Y-axis negative direction side) with respect to the normal NL of the observation surface 1 a of the screen substrate 1 is performed. The vapor deposition source S is arranged at the position. Then, the reflective film material is vapor-deposited obliquely with respect to the observation surface 1 a by the vapor deposition method to form the reflective film 3 on the inner wall surface 2 a of the recess 2. As the reflective film material, for example, a metal material having excellent reflectivity such as aluminum can be used.

蒸着法により反射膜３を形成する際には、観察面１ａに対して斜めに投影光Ｌｐを射出するプロジェクタの位置を仮想光源位置ＰＶとして予め想定しておく。そして、観察面１ａの各凹部２に対する反射膜材料の蒸着の角度θｓが、観察面１ａの各凹部２に対する仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しいか、それよりも小さくなるように蒸着源Ｓを配置して、投影光Ｌｐの入射方向から各凹部２に反射膜材料を蒸着させる。   When the reflective film 3 is formed by the vapor deposition method, the position of the projector that emits the projection light Lp obliquely with respect to the observation surface 1a is assumed in advance as the virtual light source position PV. Then, the angle θs of vapor deposition of the reflective film material with respect to each recess 2 on the observation surface 1a is equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light Lp from the virtual light source position PV with respect to each recess 2 on the observation surface 1a. As described above, the deposition source S is arranged so that the reflective film material is deposited on each recess 2 from the incident direction of the projection light Lp.

これにより、図３および図４に示すように、凹部２の内壁面２ａの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凹状の反射膜３が、蒸着源Ｓを中心に、観察面１ａに放射状に形成される。このとき、反射膜３の膜厚は、例えば約１０ｎｍ以上かつ約５μｍ以下程度に形成される。
また、このように斜め方向から蒸着法により反射膜３を形成することで、反射膜３の膜厚が反射膜３の非形成領域側の外縁３ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成される。
また、反射膜３を蒸着法により形成することで、スプレーコート方法、印刷方法等よりも薄く高品質な反射膜３を形成することができる。 Thereby, as shown in FIGS. 3 and 4, the concave reflective film 3 is seen from the observation side (Z-axis positive direction side) along the portion irradiated with the projection light Lp of the inner wall surface 2 a of the recess 2. , Centering on the vapor deposition source S, it is formed radially on the observation surface 1a. At this time, the film thickness of the reflective film 3 is, for example, about 10 nm or more and about 5 μm or less.
Further, by forming the reflective film 3 from the oblique direction by the vapor deposition method in this way, the film thickness of the reflective film 3 is formed so as to gradually decrease as it approaches the outer edge 3e on the non-formation region side of the reflective film 3. .
Further, by forming the reflective film 3 by vapor deposition, it is possible to form the reflective film 3 that is thinner and higher quality than the spray coating method, the printing method, and the like.

また、蒸着源Ｓを上述のように配置して反射膜材料を投影光Ｌｐの入射方向から斜めに蒸着させることで、凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分に合わせて、部分的に反射膜３を形成することができる。また、蒸着源Ｓからの距離が遠くなるほど、凹部２の内壁面２ａの反射膜３が形成される部分の面積が縮小し、反射膜３の非形成領域が拡大する。
また、観察面１ａに対する反射膜材料の蒸着の角度θｓを仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しいか、それよりも小さくなるようにすることで、蒸着源Ｓから各凹部２までの投影光Ｌｐの入射方向の距離の差による反射膜３の面積の差を小さくすることができる。
また、蒸着による反射膜３形成時の真空度は、例えば、約１×１０−４Ｔｏｒｒ〜約１×１０−５Ｔｏｒｒの範囲であることが望ましい。このようにすることで、形成された反射膜３の表面３ａの粗度を上昇させ、より明るい投影画像を得ることができる。 Further, the deposition source S is arranged as described above, and the reflective film material is deposited obliquely from the incident direction of the projection light Lp, so that it partially reflects in accordance with the portion irradiated with the projection light Lp of the recess 2. A film 3 can be formed. Further, as the distance from the vapor deposition source S increases, the area of the inner wall surface 2a of the recess 2 where the reflective film 3 is formed is reduced, and the area where the reflective film 3 is not formed is enlarged.
Further, the angle θs of vapor deposition of the reflective film material with respect to the observation surface 1a is made equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light Lp from the virtual light source position PV, so that each recess 2 from the vapor deposition source S is obtained. Thus, the difference in the area of the reflective film 3 due to the difference in the distance in the incident direction of the projection light Lp can be reduced.
Further, the degree of vacuum when forming the reflective film 3 by vapor deposition is preferably in the range of about 1 × 10 −4 Torr to about 1 × 10 −5 Torr, for example. By doing in this way, the roughness of the surface 3a of the formed reflecting film 3 can be raised, and a brighter projection image can be obtained.

次に、図５に示すように、凹部２の内壁面２ａを含むスクリーン基板１の観察面１ａに保護層４を形成する。保護層４は、例えば、透明な樹脂等、光透過性を有する材料により形成する。さらに保護層４の表面に、反射防止層５を形成する。反射防止層５は、保護層４と同様の材料により形成され、反射防止層５に入射する投影光Ｌｐや外光が保護層４の表面で反射しないように、保護層４との間で屈折率が調整されている。
以上、本実施形態の反射スクリーン１００の製造方法によれば、図５に示すような反射スクリーン１００を製造することができる。 Next, as shown in FIG. 5, the protective layer 4 is formed on the observation surface 1 a of the screen substrate 1 including the inner wall surface 2 a of the recess 2. The protective layer 4 is formed of a material having optical transparency such as a transparent resin. Further, an antireflection layer 5 is formed on the surface of the protective layer 4. The antireflection layer 5 is formed of the same material as that of the protective layer 4, and is refracted between the protective layer 4 so that projection light Lp and external light incident on the antireflection layer 5 are not reflected on the surface of the protective layer 4. The rate has been adjusted.
As described above, according to the manufacturing method of the reflective screen 100 of the present embodiment, the reflective screen 100 as shown in FIG. 5 can be manufactured.

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン１００について説明する。
図６に示すように、反射スクリーン１００は、観察面１００ａの法線ＮＬに対して垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクタＰから、観察面１００ａに向けて斜めに射出された投影光Ｌｐを、反射スクリーン１００の観察側（Ｚ軸正方向側）に反射するものである。反射スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行になるように配置されている。 (Reflective screen)
Next, the reflective screen 100 manufactured by the manufacturing method of this embodiment will be described.
As shown in FIG. 6, the reflective screen 100 is emitted obliquely toward the observation surface 100a from the projector P arranged at a position shifted in the direction perpendicular to the normal line NL of the observation surface 100a (Y-axis direction). The projected light Lp thus reflected is reflected to the observation side (Z-axis positive direction side) of the reflection screen 100. The reflective screen 100 is arranged so that the normal line NL is parallel to the Z axis.

プロジェクタＰは投影光Ｌｐを反射スクリーン１００の観察面１００ａに向けて反射するミラーＭを備えている。ここで、投影光ＬｐがミラーＭを備えていないプロジェクタＰから射出されたと仮定した場合のプロジェクタＰの位置を仮想光源位置ＰＶとする。仮想光源位置ＰＶもプロジェクタＰと同様に、反射スクリーン１００の観察面１００ａの法線ＮＬに対して垂直方向にずれた位置となる。   The projector P includes a mirror M that reflects the projection light Lp toward the observation surface 100 a of the reflection screen 100. Here, it is assumed that the position of the projector P when the projection light Lp is emitted from the projector P that does not include the mirror M is the virtual light source position PV. Similarly to the projector P, the virtual light source position PV is also shifted in a direction perpendicular to the normal line NL of the observation surface 100a of the reflection screen 100.

プロジェクタＰは、仮想光源位置ＰＶと観察面１００ａとの距離Ｄを約９００ｍｍとし、仮想光源位置ＰＶから反射スクリーン１００の中心点Ｃに向かう投影光Ｌｐと法線ＮＬのなす角度θを約３６°としたときに、反射スクリーン１００に垂直方向の寸法Ｈが約９９６ｍｍ、水平方向（Ｘ軸方向）の寸法Ｗが１７７１ｍｍの画像を投影可能に構成されている。すなわち、反射スクリーン１００は８０インチの投影画像を表示可能な大きさとなっている。   The projector P sets the distance D between the virtual light source position PV and the observation surface 100a to about 900 mm, and the angle θ formed between the projection light Lp and the normal NL from the virtual light source position PV toward the center point C of the reflective screen 100 is about 36 °. , An image having a vertical dimension H of about 996 mm and a horizontal dimension (X-axis direction) W of 1771 mm can be projected onto the reflective screen 100. That is, the reflective screen 100 has a size capable of displaying an 80-inch projection image.

次に、この反射スクリーンの作用について説明する。
図６に示すように、プロジェクタＰはミラーＭに向けて投影光Ｌｐを射出する。ミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、ミラーＭによって反射され、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に、反射スクリーン１００の観察面１００ａに対して斜めに入射する。このとき、反射スクリーン１００の中心点Ｃに入射する投影光Ｌｐと、反射スクリーン１００の観察面１００ａとのなす角度θは、約３６°となっている。 Next, the operation of this reflection screen will be described.
As shown in FIG. 6, the projector P emits projection light Lp toward the mirror M. The projection light Lp emitted toward the mirror M is reflected by the mirror M and incident obliquely on the observation surface 100a of the reflection screen 100, similarly to the projection light Lp assumed to be emitted from the virtual light source position PV. . At this time, the angle θ formed between the projection light Lp incident on the center point C of the reflection screen 100 and the observation surface 100a of the reflection screen 100 is about 36 °.

反射スクリーン１００の観察面１００ａに到達した投影光Ｌｐは、図５に示す反射防止層５に入射する。反射防止層５に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。このとき、反射防止層５は保護層４との間で屈折率が調整されているので、反射防止層５を透過した投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。
保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凹部２の内壁面２ａに形成された反射膜３に到達する。反射膜３に到達した投影光Ｌｐは、反射膜３によって反射スクリーン１００の観察側に反射される。 The projection light Lp that has reached the observation surface 100a of the reflection screen 100 enters the antireflection layer 5 shown in FIG. The projection light Lp incident on the antireflection layer 5 passes through the antireflection layer 5 and enters the protective layer 4. At this time, since the refractive index of the antireflection layer 5 is adjusted with respect to the protective layer 4, the projection light Lp transmitted through the antireflection layer 5 is prevented from being reflected by the surface 4 a of the protective layer 4.
The projection light Lp incident on the protective layer 4 passes through the protective layer 4 and reaches the reflective film 3 formed on the inner wall surface 2 a of the recess 2. The projection light Lp that has reached the reflective film 3 is reflected by the reflective film 3 toward the observation side of the reflective screen 100.

ここで、図３および図４に示すように、凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分に合わせて、部分的に反射膜３が形成されている。また、凹部２の内壁面２ａの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凹状の反射膜３が蒸着源Ｓを中心に、観察面１ａに放射状に形成されている。
これにより、反射スクリーン１００の垂直方向上方（Ｙ軸方向正方向）側および水平方向の両端側に、垂直方向および水平方向に角度を有して観察面１００ａに入射する投影光Ｌｐを、反射膜３によって観察側のより法線ＮＬに近い方向に効率よく反射させ、投影光Ｌｐの反射率を向上させることができる。 Here, as shown in FIGS. 3 and 4, the reflective film 3 is partially formed in accordance with the portion irradiated with the projection light Lp of the recess 2. Further, along the portion irradiated with the projection light Lp on the inner wall surface 2a of the recess 2, the concave reflective film 3 as viewed from the observation side (Z-axis positive direction side) is formed on the observation surface 1a with the vapor deposition source S as the center. It is formed radially.
Thereby, the projection light Lp incident on the observation surface 100a at an angle in the vertical direction and the horizontal direction on the upper side in the vertical direction (Y-axis direction positive direction) side and the both ends in the horizontal direction of the reflection screen 100 is reflected on the reflection film. 3 allows efficient reflection in the direction closer to the normal line NL on the observation side, and improves the reflectance of the projection light Lp.

また、反射膜３の膜厚が反射膜３の外縁３ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成されている。反射膜３が薄くなると、反射率は徐々に低下する。このため、反射膜３の非形成領域に近づくにつれて、徐々に反射膜３の反射率が低下していく。したがって、反射膜３と反射膜３の非形成領域との境界における極端な反射率の変化を防止することができる。   Further, the reflective film 3 is formed so that the film thickness gradually decreases as it approaches the outer edge 3 e of the reflective film 3. As the reflective film 3 becomes thinner, the reflectance gradually decreases. For this reason, the reflectance of the reflective film 3 gradually decreases as it approaches the non-formation region of the reflective film 3. Accordingly, it is possible to prevent an extreme change in reflectance at the boundary between the reflective film 3 and the non-formation region of the reflective film 3.

ところで、図６に示すように、反射スクリーン１００の観察面１００ａには、投影光Ｌｐ以外に垂直方向の上方（Ｙ軸正方向側）から外光Ｌｏが入射する。観察面１００ａに入射した外光Ｌｏは、図５に示す反射防止層５に入射して、反射防止層５を透過し、保護層４の表面４ａに到達する。このとき、反射防止層５によって、観察面１００ａの上方から観察面１００ａに入射した外光Ｌｏが、保護層４の表面４ａで観察側に反射することが防止される。   Incidentally, as shown in FIG. 6, outside light Lo is incident on the observation surface 100a of the reflection screen 100 from above the vertical direction (Y-axis positive direction side) in addition to the projection light Lp. The external light Lo incident on the observation surface 100a enters the antireflection layer 5 shown in FIG. 5, passes through the antireflection layer 5, and reaches the surface 4 a of the protective layer 4. At this time, the antireflection layer 5 prevents the external light Lo incident on the observation surface 100a from above the observation surface 100a from being reflected on the surface 4a of the protective layer 4 to the observation side.

保護層４の表面４ａに到達した外光Ｌｏは、保護層４を透過して凹部２に入射する。凹部２に入射した外光Ｌｏは、凹部２の反射膜３の非形成領域に到達する。
ここで、スクリーン基板１は、上述のように着色され、可視光に対して光吸収層として機能するように形成されているので、凹部２の内壁面２ａの反射膜３の非形成領域に到達した外光Ｌｏは、スクリーン基板１によって吸収される。また、スクリーン基板１の凹部２の非形成領域に到達した外光Ｌｏも、同様にスクリーン基板１によって吸収される。さらに、反射膜３は凹部２の投影光Ｌｐが入射する部分に合わせて形成されているので、外光Ｌｏは反射膜３に入射しない。したがって、反射スクリーン１００の観察面１００ａに入射した外光Ｌｏが、観察側に反射されることが防止できる。 The external light Lo that has reached the surface 4 a of the protective layer 4 passes through the protective layer 4 and enters the recess 2. The external light Lo incident on the concave portion 2 reaches the non-formation region of the reflective film 3 in the concave portion 2.
Here, since the screen substrate 1 is colored as described above and is formed so as to function as a light absorption layer with respect to visible light, it reaches the non-formation region of the reflection film 3 on the inner wall surface 2a of the recess 2. The external light Lo thus absorbed is absorbed by the screen substrate 1. In addition, the external light Lo reaching the non-formation region of the concave portion 2 of the screen substrate 1 is also absorbed by the screen substrate 1 in the same manner. Furthermore, since the reflective film 3 is formed in accordance with the portion of the recess 2 where the projection light Lp is incident, the external light Lo is not incident on the reflective film 3. Therefore, it is possible to prevent the external light Lo incident on the observation surface 100a of the reflection screen 100 from being reflected on the observation side.

また、図３に示すように、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、凹部２の内壁面２ａの反射膜３が形成される部分の面積が縮小し、反射膜３の非形成領域が拡大している。したがって、より外光Ｌｏの影響を受けやすい反射スクリーン１００の垂直方向上方側の外光Ｌｏに対する光吸収性を向上させることができる。   Further, as shown in FIG. 3, as the distance from the virtual light source position PV increases, the area of the inner wall surface 2a of the recess 2 where the reflective film 3 is formed is reduced, and the non-formation region of the reflective film 3 is enlarged. is doing. Therefore, it is possible to improve the light absorptivity for the external light Lo on the upper side in the vertical direction of the reflective screen 100 that is more easily affected by the external light Lo.

以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン１００によれば、垂直方向および水平方向に角度を有して観察面１００ａに入射した投影光Ｌｐに対する反射膜３の反射率を向上させるとともに、垂直方向上方側の外光Ｌｏに対する光吸収性を向上させ、反射スクリーン１００のコントラストを向上させることができる。
また、上述のように、反射膜３の膜厚が反射膜３の外縁３ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成され、反射膜３と反射膜３の非形成領域との境界における極端な反射率の変化を防止することができるので、観察角度の変化によるコントラストの急峻な変化を防止することができる。 As described above, according to the reflective screen 100 of the present embodiment, the reflectance of the reflective film 3 with respect to the projection light Lp incident on the observation surface 100a with an angle in the vertical direction and the horizontal direction is improved, and the vertical The light absorptivity with respect to the external light Lo of the direction upper side can be improved, and the contrast of the reflective screen 100 can be improved.
Further, as described above, the reflection film 3 is formed so that the film thickness gradually decreases as it approaches the outer edge 3e of the reflection film 3, and extreme reflection at the boundary between the reflection film 3 and the non-formation region of the reflection film 3 occurs. Since a change in rate can be prevented, a sharp change in contrast due to a change in observation angle can be prevented.

また、スクリーン基板１の観察面１ａに対する反射膜材料の蒸着の角度θｓを仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しいか、それよりも小さくなるように反射膜３を蒸着させたことで、仮想光源位置ＰＶから各凹部２までの垂直方向の距離の差による反射膜３の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板１の観察面１ａ内の反射率の偏りを減少させ、投影画像の垂直方向のコントラストの差を減少させることができる。   In addition, the reflective film 3 was deposited such that the angle θs of vapor deposition of the reflective film material with respect to the observation surface 1a of the screen substrate 1 is equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light Lp from the virtual light source position PV. Thus, the difference in the area of the reflective film 3 due to the difference in the distance in the vertical direction from the virtual light source position PV to each recess 2 is reduced. Therefore, it is possible to reduce the deviation of the reflectance in the observation surface 1a of the screen substrate 1 and to reduce the vertical contrast difference of the projected image.

また、反射防止層５は、プロジェクタＰから反射スクリーン１００の観察面１００ａに入射する投影光Ｌｐに対しては、投影光Ｌｐを反射膜３により確実に到達させ、投影光Ｌｐの反射率を向上させる効果がある。一方、観察面１００ａに入射する外光Ｌｏに対しては、外光Ｌｏを保護層４によって観察側に反射させず、スクリーン基板１に吸収させる効果がある。したがって、上述のように反射防止層５を形成することで、反射スクリーン１００のコントラストを向上させることができる。   Further, the antireflection layer 5 reliably causes the projection light Lp to reach the projection light Lp incident on the observation surface 100a of the reflection screen 100 from the projector P by the reflection film 3, thereby improving the reflectance of the projection light Lp. There is an effect to make. On the other hand, with respect to the external light Lo incident on the observation surface 100a, there is an effect that the external light Lo is absorbed by the screen substrate 1 without being reflected by the protective layer 4 to the observation side. Therefore, the contrast of the reflective screen 100 can be improved by forming the antireflection layer 5 as described above.

加えて、反射膜３を覆うように保護層４が形成されているので、反射膜３の損傷や劣化を防止することができる。
また、反射膜３の膜厚が従来よりも薄く形成されているので、反射膜３のひび割れや剥離等を防止して、反射膜３の品質を向上させ、投影画像のコントラストを向上させることができる。 In addition, since the protective layer 4 is formed so as to cover the reflective film 3, damage and deterioration of the reflective film 3 can be prevented.
In addition, since the reflective film 3 is formed thinner than the conventional film, it is possible to prevent the reflective film 3 from cracking, peeling, etc., thereby improving the quality of the reflective film 3 and improving the contrast of the projected image. it can.

＜第二実施形態＞
次に、本発明の第二実施形態について、図１および図６を援用し、図７〜図９を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン１００の製造方法と、スクリーン基板１１の観察面１１ａに凸部２１が形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。 <Second embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This embodiment is different from the manufacturing method of the reflective screen 100 described in the first embodiment described above in that a convex portion 21 is formed on the observation surface 11 a of the screen substrate 11. Since the other points are the same as in the first embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図７に示すように、まず、スクリーン基板１１の観察面１１ａの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、複数の凸部２１を形成する。
凸部２１の形成方法は、公知のものを用いることができる。例えば、特開２００４−２８６９０６号公報に記載されているように、凸部２１を形成するための型に、凸部２１に対応する凹部をエッチング等により形成し、型の凹部が形成された面に熱可塑性の樹脂等を、熱を加えながら押し当てることにより、凸部２１を形成することができる。
これにより、略半球状の凸部２１が形成される。凸部２１の直径Ｄ１および水平方向の中心間の間隔Ｄ２は、例えば、約１００μｍ程度に形成される。 (Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIGS. 1 and 7, first, a plurality of convex portions 21 are formed in the vertical direction (Y-axis direction) and the horizontal direction (X-axis direction) of the observation surface 11a of the screen substrate 11.
A well-known thing can be used for the formation method of the convex part 21. FIG. For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-286906, a surface on which a concave portion corresponding to the convex portion 21 is formed by etching or the like on a mold for forming the convex portion 21 and the concave portion of the mold is formed. The convex portion 21 can be formed by pressing a thermoplastic resin or the like while applying heat thereto.
Thereby, the substantially hemispherical convex part 21 is formed. The diameter D1 of the convex portion 21 and the distance D2 between the centers in the horizontal direction are, for example, about 100 μm.

次に、第一実施形態と同様に、スクリーン基板１１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。
次いで、図８に示すように、スクリーン基板１１の観察面１１ａの法線ＮＬに対して垂直方向にずれた位置に蒸着源Ｓを配置する。そして、蒸着法により反射膜材料を観察面１１ａに対して斜めに蒸着させ、凸部２１の表面に反射膜３１を形成する。 Next, as in the first embodiment, the entire screen substrate 11 is colored black by, for example, staining.
Next, as shown in FIG. 8, the vapor deposition source S is arranged at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line NL of the observation surface 11 a of the screen substrate 11. Then, the reflective film material is vapor-deposited obliquely with respect to the observation surface 11 a by the vapor deposition method to form the reflective film 31 on the surface of the convex portion 21.

蒸着法により反射膜３１を形成する際には、第一実施形態と同様に仮想光源位置ＰＶを予め想定し、観察面１１ａの各凸部２１に対する反射膜材料の蒸着の角度θｓが、観察面１１ａの各凸部２１に対する仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しいか、それよりも小さくなるように、凸部２１に反射膜材料を蒸着させる。
これにより、図８に示すように、凸部２１の表面２１ａの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凸状の反射膜３１が、第一実施形態と同様に蒸着源Ｓを中心に観察面１１ａに放射状に形成される。また、反射膜３１の膜厚は第一実施形態と同様に形成され、反射膜３１の非形成領域側の外縁３１ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成される。 When the reflective film 31 is formed by the vapor deposition method, the virtual light source position PV is assumed in advance as in the first embodiment, and the angle θs of vapor deposition of the reflective film material with respect to each convex portion 21 of the observation surface 11a is the observation surface. A reflective film material is vapor-deposited on the convex portion 21 so as to be equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light Lp from the virtual light source position PV with respect to each convex portion 21 of 11a.
As a result, as shown in FIG. 8, along the portion irradiated with the projection light Lp on the surface 21a of the convex portion 21, the convex reflective film 31 viewed from the observation side (Z-axis positive direction side) As in the embodiment, the deposition surface S is formed radially on the observation surface 11a. Moreover, the film thickness of the reflective film 31 is formed in the same manner as in the first embodiment, and is formed so as to gradually decrease as it approaches the outer edge 31e on the non-formation region side of the reflective film 31.

また、反射膜材料を投影光Ｌｐの入射方向から斜めに蒸着させることで、凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分に合わせて、部分的に反射膜３１を形成することができる。また、蒸着源Ｓからの距離が遠くなるほど、凸部２１の表面２１ａの反射膜３１が形成される部分の面積が縮小し、反射膜３１の非形成領域が拡大する。
また、観察面１１ａに対する反射膜材料の蒸着の角度θｓを仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しいか、それよりも小さくなるようにすることで、観察面１１ａ内の各凸部２１の反射膜３１の面積の差を小さくすることができる。
次に、図９に示すように、凸部２１の表面２１ａを含むスクリーン基板１１の観察面１１ａに第一実施形態と同様の保護層４および反射防止層５を形成する。
以上により、図９に示すような反射スクリーン２００を製造することができる。 Moreover, the reflective film 31 can be partially formed in accordance with the portion of the projection 21 irradiated with the projection light Lp by depositing the reflective film material obliquely from the incident direction of the projection light Lp. Further, as the distance from the vapor deposition source S increases, the area of the surface 21a of the convex portion 21 where the reflective film 31 is formed is reduced, and the area where the reflective film 31 is not formed is enlarged.
Further, by making the angle θs of the deposition of the reflective film material with respect to the observation surface 11a equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light Lp from the virtual light source position PV, each convex in the observation surface 11a is made. The difference in the area of the reflective film 31 of the part 21 can be reduced.
Next, as shown in FIG. 9, the same protective layer 4 and antireflection layer 5 as those in the first embodiment are formed on the observation surface 11 a of the screen substrate 11 including the surface 21 a of the convex portion 21.
As described above, the reflection screen 200 as shown in FIG. 9 can be manufactured.

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン２００について説明する。
図６に示すように、反射スクリーン２００は、第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。
プロジェクタＰからミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に反射スクリーン２００の観察面２００ａに対して斜めに入射する。 (Reflective screen)
Next, the reflective screen 200 manufactured by the manufacturing method of this embodiment will be described.
As shown in FIG. 6, the reflective screen 200 is disposed in the same manner as the reflective screen 100 of the first embodiment.
The projection light Lp emitted from the projector P toward the mirror M is obliquely incident on the observation surface 200a of the reflection screen 200, similarly to the projection light Lp assumed to be emitted from the virtual light source position PV.

反射スクリーン２００の観察面２００ａに到達した投影光Ｌｐは、図９に示す反射防止層５に入射する。反射防止層５に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。このとき、反射防止層５は保護層４との間で屈折率が調整されているので、反射防止層５を透過した投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。   The projection light Lp that has reached the observation surface 200a of the reflection screen 200 enters the antireflection layer 5 shown in FIG. The projection light Lp incident on the antireflection layer 5 passes through the antireflection layer 5 and enters the protective layer 4. At this time, since the refractive index of the antireflection layer 5 is adjusted with respect to the protective layer 4, the projection light Lp transmitted through the antireflection layer 5 is prevented from being reflected by the surface 4 a of the protective layer 4.

保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凸部の表面に形成された反射膜３に到達する。反射膜３に到達した投影光Ｌｐは、反射膜３によって反射スクリーン２００の観察側に反射される。
ここで、図８および図９に示すように、凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分に合わせて、部分的に反射膜３１が形成されている。また、凸部２１の表面２１ａの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凸状の反射膜３１が、観察面１１ａに、蒸着源Ｓを中心に観察面１１ａ放射状に形成されている。 The projection light Lp incident on the protective layer 4 passes through the protective layer 4 and reaches the reflective film 3 formed on the surface of the convex portion. The projection light Lp that has reached the reflective film 3 is reflected by the reflective film 3 toward the observation side of the reflective screen 200.
Here, as shown in FIGS. 8 and 9, a reflective film 31 is partially formed in accordance with the portion irradiated with the projection light Lp of the convex portion 21. Further, along the portion irradiated with the projection light Lp on the surface 21a of the convex portion 21, the convex reflective film 31 as viewed from the observation side (Z-axis positive direction side) has the deposition source S on the observation surface 11a. The observation surface 11a is formed radially at the center.

これにより、第一実施形態と同様に、反射スクリーン２００の垂直方向上方（Ｙ軸方向正方向）側および水平方向の両端側に垂直方向および水平方向に角度を有して観察面１１ａに入射した投影光Ｌｐを、反射膜３１によって観察側のより法線ＮＬに近い方向に効率よく反射させ、投影光Ｌｐの反射率を向上させることができる。
また、第一実施形態と同様に、反射膜３１の膜厚が反射膜３１の外縁３１ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成されている。したがって、反射膜３１と反射膜３１の非形成領域との境界における極端な反射率の変化を防止することができる。 As a result, as in the first embodiment, the reflection screen 200 is incident on the observation surface 11a with an angle in the vertical direction and the horizontal direction on the upper side in the vertical direction (Y-axis direction positive direction) and both ends in the horizontal direction. The projection light Lp can be efficiently reflected by the reflective film 31 in the direction closer to the normal line NL on the observation side, and the reflectance of the projection light Lp can be improved.
Further, similarly to the first embodiment, the thickness of the reflective film 31 is formed so as to be gradually reduced as it approaches the outer edge 31 e of the reflective film 31. Therefore, an extreme change in reflectance at the boundary between the reflective film 31 and the non-formation region of the reflective film 31 can be prevented.

また、スクリーン基板１１は、上述のように着色され、可視光に対して光吸収層として機能するように形成されているので、凸部２１の表面の反射膜３１の非形成領域に到達した外光Ｌｏは、スクリーン基板１１によって吸収される。また、スクリーン基板１１の凸部２１の非形成領域に到達した外光Ｌｏも、同様にスクリーン基板１１によって吸収される。さらに、反射膜３１は凸部２１の投影光Ｌｐが入射するのみに形成されているので、外光Ｌｏは反射膜３１に入射しない。したがって、反射スクリーン２００の観察面２００ａに入射した外光Ｌｏが、観察側に反射されることが防止できる。   Further, the screen substrate 11 is colored as described above and is formed so as to function as a light absorption layer with respect to visible light. Therefore, the screen substrate 11 is outside the region where the reflective film 31 is not formed on the surface of the convex portion 21. The light Lo is absorbed by the screen substrate 11. Further, the external light Lo that has reached the non-formation region of the convex portion 21 of the screen substrate 11 is similarly absorbed by the screen substrate 11. Further, since the reflection film 31 is formed only for the projection light Lp of the convex portion 21 to enter, the external light Lo does not enter the reflection film 31. Therefore, it is possible to prevent the external light Lo incident on the observation surface 200a of the reflection screen 200 from being reflected to the observation side.

また、図８に示すように、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、凸部２１の表面の反射膜３１が形成される部分の面積が縮小し、反射膜３１の非形成領域が拡大している。したがって、より外光Ｌｏの影響を受けやすい反射スクリーン２００の垂直方向上方側の外光Ｌｏに対する光吸収性を向上させることができる。   Further, as shown in FIG. 8, as the distance from the virtual light source position PV increases, the area of the surface of the convex portion 21 where the reflective film 31 is formed is reduced, and the non-formation region of the reflective film 31 is enlarged. ing. Therefore, it is possible to improve the light absorptivity with respect to the external light Lo on the upper side in the vertical direction of the reflective screen 200 that is more susceptible to the external light Lo.

以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン２００によれば、第一実施形態と同様に、垂直方向および水平方向に角度を有して観察面２００ａに入射した投影光Ｌｐに対する反射膜３１の反射率を向上させるとともに、垂直方向上方側の外光Ｌｏに対する光吸収性を向上させ、反射スクリーン２００のコントラストを向上させることができる。
また、上述のように、反射膜３１の膜厚が反射膜の外縁３１ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成され、反射膜３１と反射膜３１の非形成領域における極端な反射率の変化を防止することができるので、観察角度の変化によるコントラストの急峻な変化を防止することができる。 As described above, according to the reflective screen 200 of the present embodiment, as in the first embodiment, the reflective film 31 with respect to the projection light Lp incident on the observation surface 200a with an angle in the vertical and horizontal directions. While improving a reflectance, the light absorptivity with respect to the external light Lo of the vertical direction upper side can be improved, and the contrast of the reflective screen 200 can be improved.
Further, as described above, the reflective film 31 is formed so that the film thickness gradually decreases as it approaches the outer edge 31e of the reflective film, and an extreme change in the reflectance in the region where the reflective film 31 and the reflective film 31 are not formed is observed. Therefore, a sharp change in contrast due to a change in observation angle can be prevented.

また、観察面１１ａに対する反射膜材料の蒸着の角度θｓを仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しいか、それよりも小さくなるように反射膜３１を蒸着させたことで、各凸部２１の反射膜３１の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板１１の観察面１１ａ内の反射率の偏りを減少させ、より均一な投影画像を得ることができる。   In addition, the reflective film 31 is deposited so that the angle θs of vapor deposition of the reflective film material with respect to the observation surface 11a is equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light Lp from the virtual light source position PV. The difference in the area of the reflective film 31 of the convex portion 21 is small. Therefore, it is possible to reduce the uneven reflectance in the observation surface 11a of the screen substrate 11 and obtain a more uniform projection image.

＜第三実施形態＞
次に、本発明の第三実施形態について、図１および図６を援用し、図１０〜図１３を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン１００の製造方法と、スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂに凹部２２が形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。 <Third embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 10 to 13 with reference to FIGS. This embodiment is different from the manufacturing method of the reflective screen 100 described in the first embodiment described above in that a recess 22 is formed on the surface 12b of the screen substrate 12 opposite to the observation surface 12a. Since the other points are the same as in the first embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図１０に示すように、まず、スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、第一実施形態と同様に複数の凹部２２を形成する。また、スクリーン基板１２は光透過性を有する樹脂等によって形成する。
次いで、図１１に示すように、スクリーン基板１２の観察側とは反対側（Ｚ軸負方向側）で、スクリーン基板１２の観察面１２ａの法線ＮＬに対して垂直方向にずれた位置に蒸着源Ｓを配置する。そして、蒸着法により、反射膜材料を、仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射方向とは反対方向から、観察面１２ａの反対側の面１２ｂに対して斜めに蒸着させ、凹部２２の表面に反射膜３２を形成する。このとき、観察面１２ａの反対側の面１２ｂの中心Ｃ２に対する蒸着の角度θｓが、観察面１２ａの中心Ｃａに対する投影光Ｌｐの入射角度θｐ以下となるようにする。 (Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIGS. 1 and 10, first, in the vertical direction (Y-axis direction) and horizontal direction (X-axis direction) of the surface 12b opposite to the observation surface 12a of the screen substrate 12, the same as in the first embodiment. A plurality of recesses 22 are formed in the substrate. Further, the screen substrate 12 is formed of a resin having light transparency.
Next, as shown in FIG. 11, vapor deposition is performed at a position shifted in the direction perpendicular to the normal line NL of the observation surface 12 a of the screen substrate 12 on the opposite side (Z-axis negative direction side) of the screen substrate 12. A source S is arranged. Then, the reflective film material is vapor-deposited obliquely with respect to the surface 12b opposite to the observation surface 12a from the direction opposite to the incident direction of the projection light Lp from the virtual light source position PV by the vapor deposition method. A reflective film 32 is formed on the substrate. At this time, the deposition angle θs with respect to the center C2 of the surface 12b opposite to the observation surface 12a is set to be equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light Lp with respect to the center Ca of the observation surface 12a.

これにより、図１１に示すように、凹部２２の表面の投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凸状の反射膜３２が、蒸着源Ｓを中心に観察面１２ａとは反対側の面１２ｂに放射状に形成される。このとき、反射膜３２の膜厚は第一実施形態と同様に形成され、反射膜３２の膜厚が反射膜３２の非形成領域側の外縁３２ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成される。
また、蒸着源Ｓからの距離が近くなるほど、凹部２２の内壁面２２ａの反射膜３２が形成される部分の面積が拡大し、反射膜３２の非形成領域が縮小する。
また、観察面１２ａの反対側の面１２ｂに対する反射膜材料の蒸着の角度θｓを仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しいか、それよりも小さくなるようにすることで、蒸着源Ｓから各凹部２２までの距離の差による反射膜３２の面積の差を小さくすることができる。 As a result, as shown in FIG. 11, along the portion irradiated with the projection light Lp on the surface of the recess 22, the convex reflection film 32 as viewed from the observation side (Z-axis positive direction side) Is formed radially on the surface 12b opposite to the observation surface 12a. At this time, the film thickness of the reflection film 32 is formed in the same manner as in the first embodiment, and the film thickness of the reflection film 32 is formed so as to gradually decrease as it approaches the outer edge 32e on the non-formation region side of the reflection film 32. .
Further, as the distance from the vapor deposition source S becomes shorter, the area of the inner wall surface 22a of the recess 22 where the reflective film 32 is formed is increased, and the non-formation region of the reflective film 32 is reduced.
Further, the deposition angle θs of the reflective film material with respect to the surface 12b opposite to the observation surface 12a is made equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light Lp from the virtual light source position PV, thereby vapor deposition. The difference in area of the reflective film 32 due to the difference in distance from the source S to each recess 22 can be reduced.

次に、図１２に示すように、凹部２２の内壁面２２ａを含むスクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂに光吸収層６を形成する。光吸収層６は、例えば、染色等によって黒色に着色された樹脂や、黒色の顔料を含有する樹脂等を用いて形成する。さらに、図１３に示すように、スクリーン基板１２の観察面１２ａに、反射防止層５１を形成する。反射防止層５１は、例えば、透明な樹脂等により形成され、反射防止層５１に入射する投影光Ｌｐや外光Ｌｏがスクリーン基板１２の観察面１２ａで反射しないように、スクリーン基板１２との間で屈折率が調整されている。
以上、本実施形態の反射スクリーンの製造方法によれば、図１３に示す反射スクリーン３００を製造することができる。 Next, as shown in FIG. 12, the light absorption layer 6 is formed on the surface 12 b opposite to the observation surface 12 a of the screen substrate 12 including the inner wall surface 22 a of the recess 22. The light absorption layer 6 is formed using, for example, a resin colored black by dyeing or the like, or a resin containing a black pigment. Further, as shown in FIG. 13, an antireflection layer 51 is formed on the observation surface 12 a of the screen substrate 12. The antireflection layer 51 is formed of, for example, a transparent resin, and the projection light Lp and the external light Lo incident on the antireflection layer 51 are not reflected between the screen substrate 12 and the screen substrate 12 so as not to be reflected by the observation surface 12a. The refractive index is adjusted.
As described above, according to the reflective screen manufacturing method of the present embodiment, the reflective screen 300 shown in FIG. 13 can be manufactured.

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン３００について説明する。
図６に示すように、反射スクリーン３００は、第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。
プロジェクタＰからミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に反射スクリーン３００の観察面３００ａに対して斜めに入射する。 (Reflective screen)
Next, the reflective screen 300 manufactured by the manufacturing method of this embodiment will be described.
As shown in FIG. 6, the reflective screen 300 is disposed in the same manner as the reflective screen 100 of the first embodiment.
The projection light Lp emitted from the projector P toward the mirror M is obliquely incident on the observation surface 300a of the reflective screen 300 in the same manner as the projection light Lp assumed to be emitted from the virtual light source position PV.

ここで、反射スクリーン３００は、観察側から見て、図９に示す第二実施形態の反射スクリーン２００と略同様の構成となっている。したがって、本実施形態の反射スクリーン３００によれば、第二実施形態の反射スクリーン２００と略同様の効果を得ることができる。
また、第二実施形態の反射スクリーン２００とは異なり、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、反射膜３２が形成される部分の面積が拡大し、反射膜３２の非形成領域が縮小する。 Here, the reflective screen 300 has substantially the same configuration as the reflective screen 200 of the second embodiment shown in FIG. 9 when viewed from the observation side. Therefore, according to the reflective screen 300 of this embodiment, substantially the same effect as that of the reflective screen 200 of the second embodiment can be obtained.
In addition, unlike the reflective screen 200 of the second embodiment, as the distance from the virtual light source position PV increases, the area of the portion where the reflective film 32 is formed increases and the non-formation region of the reflective film 32 decreases.

したがって、本実施形態の反射スクリーン３００によれば、仮想光源位置ＰＶから遠い反射膜３２の面積を、仮想光源位置ＰＶに近い反射膜３２の面積よりも拡大させることができる。したがって、反射スクリーン３００の仮想光源位置ＰＶから遠い部分の反射率を向上させることができる。
また、スクリーン基板１２によって反射膜３２の観察側を保護することができるので、反射スクリーン３００の観察面３００ａ側に保護層４を形成する工程を省略することができる。 Therefore, according to the reflective screen 300 of this embodiment, the area of the reflective film 32 far from the virtual light source position PV can be made larger than the area of the reflective film 32 near the virtual light source position PV. Therefore, the reflectance of the part far from the virtual light source position PV of the reflective screen 300 can be improved.
Further, since the observation side of the reflection film 32 can be protected by the screen substrate 12, the step of forming the protective layer 4 on the observation surface 300a side of the reflection screen 300 can be omitted.

＜第四実施形態＞
次に、本発明の第四実施形態について、図１および図６を援用し、図１４〜図１７を用いて説明する。本実施形態では上述の第三実施形態で説明した反射スクリーン３００の製造方法と、スクリーン基板１３の観察面１３ａに凸部２３が形成されている点で異なっている。その他の点は第三実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。 <Fourth embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 14 to 17 with reference to FIGS. This embodiment is different from the manufacturing method of the reflective screen 300 described in the third embodiment described above in that a convex portion 23 is formed on the observation surface 13 a of the screen substrate 13. Since the other points are the same as in the third embodiment, the same parts are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図１４に示すように、まず、スクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１３ｂの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、第二実施形態と同様に複数の凸部２３を形成する。また、スクリーン基板１３は光透過性を有する樹脂等によって形成する。
次いで、図１５に示すように、上述の第三実施形態と同様に蒸着源Ｓを配置する。そして、蒸着法により、反射膜材料を、仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射方向とは反対方向から、観察面１３ａの反対側の面１３ｂに対して斜めに蒸着させ、凸部の表面に反射膜３３を形成する。このとき、観察面１３ａの反対側の面１３ｂの中心Ｃｂに対する蒸着の角度θｓが、観察面１３ａの中心Ｃａに対する投影光Ｌｐの入射角度θｐ以下の角度となるようにする。 (Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIGS. 1 and 14, first, in the vertical direction (Y-axis direction) and horizontal direction (X-axis direction) of the surface 13b opposite to the observation surface 13a of the screen substrate 13, the same as in the second embodiment. A plurality of convex portions 23 are formed on the surface. Further, the screen substrate 13 is formed of a resin having light transparency.
Next, as shown in FIG. 15, the vapor deposition source S is arranged in the same manner as in the third embodiment described above. Then, by a vapor deposition method, the reflective film material is vapor-deposited obliquely with respect to the surface 13b opposite to the observation surface 13a from the direction opposite to the incident direction of the projection light Lp from the virtual light source position PV. Then, the reflective film 33 is formed. At this time, the vapor deposition angle θs with respect to the center Cb of the surface 13b opposite to the observation surface 13a is set to be equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light Lp with respect to the center Ca of the observation surface 13a.

これにより、図１５に示すように、凸部２３の投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凹状の反射膜３３が、蒸着源Ｓを中心に、観察面１３ａとは反対側の面１３ｂに放射状に形成される。このとき、反射膜３３の膜厚は第一実施形態と同様に形成され、反射膜３３の膜厚が反射膜３３の非形成領域側の外縁３３ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成される。
また、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、凸部２３の表面２３ａの反射膜３３が形成される部分の面積が拡大し、反射膜３３の非形成領域が縮小する。
また、観察面１３ａの反対側の面１３ｂに対する反射膜材料の蒸着の角度θｓを仮想光源位置ＰＶからの投影光の入射角度θｐと等しいか、それよりも小さくなるようにすることで、各凸部２３の反射膜３３の面積の差を小さくすることができる。 Thereby, as shown in FIG. 15, the concave reflective film 33 viewed from the observation side (Z-axis positive direction side) is centered on the vapor deposition source S along the portion irradiated with the projection light Lp of the convex portion 23. In addition, it is formed radially on the surface 13b opposite to the observation surface 13a. At this time, the film thickness of the reflective film 33 is formed in the same manner as in the first embodiment, and the film thickness of the reflective film 33 is formed so as to gradually decrease as it approaches the outer edge 33e on the non-formation region side of the reflective film 33. .
Further, as the distance from the virtual light source position PV increases, the area of the portion of the surface 23a of the convex portion 23 where the reflective film 33 is formed increases, and the area where the reflective film 33 is not formed decreases.
Further, the angle θs of the deposition of the reflective film material with respect to the surface 13b on the opposite side of the observation surface 13a is made equal to or smaller than the incident angle θp of the projection light from the virtual light source position PV. The difference in the area of the reflective film 33 in the portion 23 can be reduced.

次に、図１６に示すように、凸部２３の表面２３ａを含むスクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１２ｂに第三実施形態と同様の光吸収層６を形成する。さらに、図１７に示すように、スクリーン基板１３の観察面１３ａに、第三実施形態と同様の反射防止層５１を形成する。
以上、本実施形態の反射スクリーンの製造方法によれば、図１７に示すような反射スクリーン４００を製造することができる。 Next, as shown in FIG. 16, the light absorption layer 6 similar to that of the third embodiment is formed on the surface 12 b opposite to the observation surface 13 a of the screen substrate 13 including the surface 23 a of the convex portion 23. Further, as shown in FIG. 17, an antireflection layer 51 similar to that of the third embodiment is formed on the observation surface 13 a of the screen substrate 13.
As described above, according to the reflective screen manufacturing method of the present embodiment, a reflective screen 400 as shown in FIG. 17 can be manufactured.

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン４００について説明する。
図６に示すように、反射スクリーン４００は、第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。
プロジェクタＰからミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に反射スクリーン４００の観察面４００ａに対して斜めに入射する。 (Reflective screen)
Next, the reflective screen 400 manufactured by the manufacturing method of this embodiment will be described.
As shown in FIG. 6, the reflective screen 400 is disposed in the same manner as the reflective screen 100 of the first embodiment.
The projection light Lp emitted from the projector P toward the mirror M is obliquely incident on the observation surface 400a of the reflective screen 400 in the same manner as the projection light Lp assumed to be emitted from the virtual light source position PV.

ここで、反射スクリーン４００は、観察側から見て、図５に示す第一実施形態の反射スクリーン１００と略同様の構成となっている。したがって、本実施形態の反射スクリーン４００によれば、第一実施形態の反射スクリーン１００と略同様の効果を得ることができる。
また、第一実施形態の反射スクリーン１００とは異なり、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、凸部２３の表面の反射膜３３が形成される部分の面積が拡大し、反射膜３３の非形成領域が縮小する。 Here, the reflective screen 400 has substantially the same configuration as the reflective screen 100 of the first embodiment shown in FIG. Therefore, according to the reflective screen 400 of the present embodiment, substantially the same effect as the reflective screen 100 of the first embodiment can be obtained.
In addition, unlike the reflective screen 100 of the first embodiment, as the distance from the virtual light source position PV increases, the area of the portion where the reflective film 33 is formed on the surface of the convex portion 23 increases, and the non-reflective film 33 is not formed. The formation area is reduced.

したがって、本実施形態の反射スクリーン４００によれば、仮想光源位置ＰＶから遠い反射膜３３の面積を、仮想光源位置ＰＶに近い反射膜３３の面積よりも拡大させることができる。したがって、反射スクリーン４００の仮想光源位置ＰＶから遠い部分の反射率を向上させることができる。
また、スクリーン基板１３によって反射膜３３の観察側を保護することができるので、反射スクリーン４００の観察側に保護層４を形成する工程を省略することができる。 Therefore, according to the reflective screen 400 of this embodiment, the area of the reflective film 33 far from the virtual light source position PV can be made larger than the area of the reflective film 33 near the virtual light source position PV. Therefore, the reflectance of the part far from the virtual light source position PV of the reflective screen 400 can be improved.
Moreover, since the observation side of the reflective film 33 can be protected by the screen substrate 13, the step of forming the protective layer 4 on the observation side of the reflective screen 400 can be omitted.

＜第五実施形態＞
次に、本発明の第四実施形態について、図１８を用いて説明する。本実施形態では上述の実施形態で説明した反射スクリーン１００，２００，３００，４００の製造方法において、連続蒸着装置５００を用いて、連続的に反射膜３，３１，３２，３３を形成する点で異なっている。その他の工程は上述の実施形態と同様であるので、説明は省略する。 <Fifth embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, in the method for manufacturing the reflective screens 100, 200, 300, and 400 described in the above-described embodiments, the reflective films 3, 31, 32, and 33 are continuously formed using the continuous vapor deposition apparatus 500. Is different. Since other processes are the same as those in the above-described embodiment, a description thereof will be omitted.

（反射スクリーンの製造方法）
図１８に示すように、連続蒸着装置５００は、内部に蒸着源Ｓを備えたチャンバー５０１を有している。チャンバー５０１には、上述の実施形態で説明した、例えば、スクリーン基板１の形成領域を複数備えたスクリーン基板用シート６００を送入するための送入口５０１ａと、スクリーン基板用シート６００を外部に送出するための送出口５０１ｂが設けられている。挿入口５０１ａおよび送出口５０１ｂには、チャンバー５０１の内部の真空度を保つためのシール部５０２，５０２が設けられている。
シール部５０２，５０２の外側には、スクリーン基板用シート６００を巻き取るためのローラ５０３ａ，５０３ｂが、図示しない駆動装置により回動自在に設けられている。ローラ５０３ａ，５０３ｂおよび送入口５０１ａ、送出口５０１ｂは、チャンバー５０１内部に送入されたスクリーン基板シート６００が蒸着源Ｓに対して所定の角度を有するように配置されている。 (Reflection screen manufacturing method)
As shown in FIG. 18, the continuous vapor deposition apparatus 500 has a chamber 501 provided with a vapor deposition source S therein. In the chamber 501, as described in the above-described embodiment, for example, the inlet 501a for feeding the screen substrate sheet 600 provided with a plurality of formation regions of the screen substrate 1 and the screen substrate sheet 600 are sent to the outside. A delivery port 501b is provided. Seal portions 502 and 502 for maintaining the degree of vacuum inside the chamber 501 are provided at the insertion port 501a and the delivery port 501b.
Outside the seal portions 502 and 502, rollers 503a and 503b for winding the screen substrate sheet 600 are rotatably provided by a driving device (not shown). The rollers 503a and 503b, the inlet 501a, and the outlet 501b are arranged so that the screen substrate sheet 600 fed into the chamber 501 has a predetermined angle with respect to the vapor deposition source S.

このような連続蒸着装置５００を用いて反射膜を形成する際には、上述の実施形態において説明したように、予めスクリーン基板シート６００のスクリーン基板１の形成領域に凹部２を形成しておく。
次いで、送入口５０１ａ側のローラ５０３ａに巻き付けた状態のスクリーン基板シート６００の端部を、送入口５０１ａからチャンバー５０１内部に挿入し、チャンバー５０１内部を通過させて送出口５０１ｂから取り出して送出口５０１ｂ側のローラ５０３ｂに固定し巻き取っていく。これにより、図１８に示すように、スクリーン基板シート６００がチャンバー５０１内に挿通された状態になる。
次いで、チャンバー５０１内の真空度を、例えば、約１×１０−４Ｔｏｒｒ〜約１×１０−５Ｔｏｒｒの範囲に設定する。 When the reflective film is formed using such a continuous vapor deposition apparatus 500, as described in the above-described embodiment, the concave portion 2 is formed in advance in the formation region of the screen substrate 1 of the screen substrate sheet 600.
Next, the end portion of the screen substrate sheet 600 wound around the roller 503a on the inlet 501a side is inserted into the chamber 501 from the inlet 501a, taken out from the outlet 501b through the inside of the chamber 501, and sent out from the outlet 501b. It is fixed to the side roller 503b and wound up. As a result, the screen substrate sheet 600 is inserted into the chamber 501 as shown in FIG.
Next, the degree of vacuum in the chamber 501 is set, for example, in the range of about 1 × 10 −4 Torr to about 1 × 10 −5 Torr.

次に、ローラ５０３ａ，５０３ｂを駆動させてスクリーン基板用シート６００を移動させ、スクリーン基板１の形成領域を蒸着源Ｓに対して配置する。このとき、蒸着源Ｓの位置は、スクリーン基板１の形成領域と蒸着源Ｓとの位置関係が、上述の実施形態で説明したスクリーン基板１と蒸着源Ｓとの位置関係となるように調整されている。この状態で、蒸着法により、反射膜３を形成する。
スクリーン基板１の形成領域に反射膜３を形成した後、再びローラ５０３ａ，５０３ｂを駆動させてスクリーン基板用シート６００を移動させ、次のスクリーン基板１の形成領域を蒸着源Ｓに対して配置し、再びスクリーン基板１の形成領域に反射膜３を形成する。これを繰り返し行うことで、複数のスクリーン基板１の形成領域に反射膜３を形成する。 Next, the rollers 503 a and 503 b are driven to move the screen substrate sheet 600, and the formation region of the screen substrate 1 is arranged with respect to the vapor deposition source S. At this time, the position of the vapor deposition source S is adjusted so that the positional relationship between the formation region of the screen substrate 1 and the vapor deposition source S is the positional relationship between the screen substrate 1 and the vapor deposition source S described in the above embodiment. ing. In this state, the reflective film 3 is formed by vapor deposition.
After forming the reflective film 3 in the formation area of the screen substrate 1, the rollers 503a and 503b are driven again to move the screen substrate sheet 600, and the next formation area of the screen substrate 1 is arranged with respect to the vapor deposition source S. Then, the reflective film 3 is formed again in the area where the screen substrate 1 is formed. By repeating this, the reflective film 3 is formed in the formation area of the plurality of screen substrates 1.

全てのスクリーン基板１の形成領域に反射膜３を形成した後、スクリーン基板シート６００を連続蒸着装置５００から取り外す。そして、上述の実施形態で説明したように、保護層４および反射防止層５を形成した後、スクリーン基板用材料シート６００を個々の反射スクリーン１００として分断する。
このように製造することで、個々のスクリーン基板１，１１，１２，１３に個別に反射膜を形成する場合と比較して、反射スクリーン１００，２００，３００，４００の生産性を向上させ、反射スクリーン１００，２００，３００，４００の製造コストを低減することができる。 After the reflective film 3 is formed on all the formation regions of the screen substrate 1, the screen substrate sheet 600 is removed from the continuous vapor deposition apparatus 500. Then, as described in the above embodiment, after the protective layer 4 and the antireflection layer 5 are formed, the screen substrate material sheet 600 is divided into individual reflection screens 100.
By manufacturing in this way, the productivity of the reflective screens 100, 200, 300, and 400 is improved compared to the case where the reflective films are individually formed on the individual screen substrates 1, 11, 12, and 13, and the reflective screens are reflected. The manufacturing cost of the screens 100, 200, 300, and 400 can be reduced.

尚、この発明は上述した実施の形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。例えば、スクリーン基板は全体を染色するのではなく、表面を黒色の塗料で塗装する等、少なくとも観察面側の、少なくとも反射膜の非形成領域に光吸収層が形成されていればよい。
また、蒸着源は一つではなく、観察面の垂直方向、水平方向に複数配置してもよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the screen substrate is not dyed as a whole, but the light absorption layer may be formed at least in the non-reflection film formation region at least on the observation surface side, such as painting the surface with a black paint.
Further, the number of vapor deposition sources is not limited to one, and a plurality of vapor deposition sources may be arranged in the vertical direction and the horizontal direction of the observation surface.

本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの断面図である。It is sectional drawing of the reflective screen which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第二実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第二実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第二実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第三実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 3rd embodiment of this invention. 本発明の第三実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 3rd embodiment of this invention. 本発明の第三実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 3rd embodiment of this invention. 本発明の第三実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 3rd embodiment of this invention. 本発明の第四実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 4th embodiment of this invention. 本発明の第四実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 4th embodiment of this invention. 本発明の第四実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 4th embodiment of this invention. 本発明の第四実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the reflective screen which concerns on 4th embodiment of this invention. 本発明の第五実施形態に係る連続蒸着装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the continuous vapor deposition apparatus which concerns on 5th embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１，１１，１２，１３ スクリーン基板、１ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａ 観察面、１２ｂ，１３ｂ 面、２，２２ 凹部、２１，２３ 凸部、３，３１，３２，３３ 反射膜、３ｅ，３１ｅ，３２ｅ，３３ｅ 外縁、６ 光吸収層、１００，２００，３００，４００ 反射スクリーン、６００ スクリーン基板用シート、Ｌｐ 投影光、ＮＬ 法線、Ｐ プロジェクタ、Ｓ 蒸着源、θｐ 入射角度、θｓ 角度 1, 11, 12, 13 Screen substrate, 1a, 11a, 12a, 13a Observation surface, 12b, 13b surface, 2,22 concave portion, 21,23 convex portion, 3, 31, 32, 33 Reflective film, 3e, 31e, 32e, 33e outer edge, 6 light absorbing layer, 100, 200, 300, 400 reflective screen, 600 screen substrate sheet, Lp projection light, NL normal, P projector, S deposition source, θp incident angle, θs angle

Claims (11)

スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、
前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に、複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、
前記凹部または前記凸部に、前記スクリーン基板の前記観察面の前記法線に対して垂直方向にずれた位置から、蒸着法により反射膜材料を斜めに蒸着させて反射膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 A method of manufacturing a reflective screen that reflects projection light emitted obliquely toward the observation surface from a projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate to the observation side. There,
Forming a plurality of concave portions or a plurality of convex portions in the vertical direction and the horizontal direction of the screen substrate;
Forming a reflective film on the concave portion or the convex portion by obliquely depositing a reflective film material by a vapor deposition method from a position shifted in a direction perpendicular to the normal line of the observation surface of the screen substrate;
A method for producing a reflective screen, comprising: 前記複数の凹部を形成する工程において、前記スクリーン基板の前記観察面に複数の凹部を形成することを特徴とする請求項１記載の反射スクリーンの製造方法。   The method for manufacturing a reflective screen according to claim 1, wherein in the step of forming the plurality of recesses, a plurality of recesses are formed on the observation surface of the screen substrate. 前記複数の凸部を形成する工程において、前記スクリーン基板の前記観察面に複数の凸部を形成することを特徴とする請求項１記載の反射スクリーンの製造方法。   The method for manufacturing a reflective screen according to claim 1, wherein in the step of forming the plurality of protrusions, the plurality of protrusions are formed on the observation surface of the screen substrate. 前記スクリーン基板の少なくとも前記観察側の、少なくとも前記反射膜の非形成領域に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法。   4. The reflection according to claim 1, further comprising a step of forming a light absorption layer in at least a region where the reflection film is not formed on at least the observation side of the screen substrate. 5. Screen manufacturing method. 前記反射膜を形成する工程において、
前記複数の凹部または前記複数の凸部に、前記反射膜材料を前記投影光の入射方向から前記投影光の入射角度以下の角度で蒸着させることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法。 In the step of forming the reflective film,
5. The method according to claim 1, wherein the reflective film material is deposited on the plurality of concave portions or the plurality of convex portions at an angle equal to or smaller than an incident angle of the projection light from an incident direction of the projection light. A method for producing a reflective screen according to claim 1. 前記複数の凹部を形成する工程において、前記スクリーン基板の前記観察面の反対側の面に複数の凹部を形成することを特徴とする請求項１記載の反射スクリーンの製造方法。   The method for manufacturing a reflective screen according to claim 1, wherein in the step of forming the plurality of recesses, a plurality of recesses are formed on a surface of the screen substrate opposite to the observation surface. 前記複数の凸部を形成する工程において、前記スクリーン基板の前記観察面の反対側の面に複数の凸部を形成することを特徴とする請求項１記載の反射スクリーンの製造方法。   The method for manufacturing a reflective screen according to claim 1, wherein in the step of forming the plurality of protrusions, the plurality of protrusions are formed on a surface of the screen substrate opposite to the observation surface. 前記反射膜を形成する工程において、
前記複数の凹部または前記複数の凸部に、前記反射膜材料を前記投影光の入射方向の反対方向から、前記投影光の入射角度以下の角度で蒸着させることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の反射スクリーンの製造方法。 In the step of forming the reflective film,
The reflective film material is deposited on the plurality of concave portions or the plurality of convex portions at an angle equal to or smaller than the incident angle of the projection light from a direction opposite to the incident direction of the projection light. Item 8. A method for manufacturing a reflective screen according to Item 7. 前記反射膜を形成する工程の後、前記スクリーン基板の前記観察面の反対側の面に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とする請求項６ないし請求項８のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法。   9. The method according to claim 6, further comprising a step of forming a light absorption layer on a surface opposite to the observation surface of the screen substrate after the step of forming the reflective film. The manufacturing method of the reflective screen as described in any one of. 前記スクリーン基板の形成領域を複数備えたスクリーン基板用シートを用い、
前記反射膜を形成する工程において、前記スクリーン基板用シートを移動させ、前記形成領域を蒸着源に対して配置し、前記形成領域に前記反射膜を形成した後、再び前記スクリーン基板用シートを移動させ、次の前記形成領域を前記蒸着源に対して配置し、再び前記形成領域に反射膜を形成することを繰り返し、複数の前記形成領域に前記反射膜を形成した後、前記スクリーン基板用材料シートを個々の前記スクリーン基板として分断する工程を有することを特徴とする請求項１ないし請求項９のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法。 Using a screen substrate sheet comprising a plurality of screen substrate forming regions,
In the step of forming the reflective film, the screen substrate sheet is moved, the forming region is disposed with respect to the vapor deposition source, the reflective film is formed in the forming region, and then the screen substrate sheet is moved again. The next formation region is arranged with respect to the vapor deposition source, and a reflective film is formed again in the formation region, and after forming the reflective film in a plurality of the formation regions, the screen substrate material is formed. The method for manufacturing a reflective screen according to claim 1, further comprising a step of dividing the sheet into individual screen substrates. スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、
前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に、複数の凹部または複数の凸部が形成され、
前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分に沿って、前記投影光を反射する反射膜が形成され、
前記反射膜の膜厚が前記反射膜の外縁に近づくに従って徐々に薄くなっていることを特徴とする反射スクリーン。 A reflection screen that reflects the projection light emitted obliquely toward the observation surface from the projector disposed at a position shifted in a direction perpendicular to the normal of the observation surface of the screen substrate, to the observation side,
A plurality of concave portions or a plurality of convex portions are formed in the vertical direction and the horizontal direction of the screen substrate,
A reflection film that reflects the projection light is formed along a portion of the concave portion or the convex portion irradiated with the projection light,
A reflective screen characterized in that the thickness of the reflective film gradually decreases as it approaches the outer edge of the reflective film.
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