JP5116628B2 - Cleaning method - Google Patents
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Description
本発明は、部品や製品などの被洗浄物を洗浄液中に浸積させて洗浄する被洗浄物の洗浄方法に係り、特に、洗浄液を洗浄タンク本体内において略水平方向に層流状態で流し、この流れの中途に被洗浄物を配置して洗浄するものに関する。 The present invention is a cleaning object such as parts and products relates to cleaning how the object to be cleaned for cleaning by immersion in the washing solution, in particular, the washing liquid is flowed in the cleaning tank body in a substantially horizontal direction in a laminar flow state The present invention relates to an object to be cleaned by arranging an object to be cleaned in the middle of this flow.
従来、部品や製品などの被洗浄物を洗浄液中に浸積して洗浄するものとして、上部に開口部を有する洗浄タンク本体内に被洗浄物を入れ、該洗浄タンク本体下部から洗浄液を供給しつつ、洗浄タンク本体の側壁上縁部から、汚れ等の異物を含む洗浄液をオーバーフローさせて洗浄を行う洗浄装置が提案されていた(例えば、特許文献1の図2参照)。
しかしながら、上述したような洗浄装置にあっては、被洗浄物に付着している汚れなどの異物の形状や比重などが様々であるため、洗浄液の比重や粘度、あるいは流速(オーバーフロー速度など)によっては洗浄タンク本体内に停滞したり、底部に沈降したりする物があり、特に、比重の大きな異物にあっては沈降傾向が大きいため、これらを確実に除去しようとすると、洗浄効果だけでなく液比重や粘度等の物性をも考慮する必要があり、使用可能な洗浄液の種類も自ずと限定され、しかも、オーバーフロー速度を高めつつ時間をかけて洗浄しなければならないという問題点があった。 However, in the cleaning apparatus as described above, the shape and specific gravity of foreign matters such as dirt adhering to the object to be cleaned are various, so depending on the specific gravity and viscosity of the cleaning liquid, or the flow rate (overflow speed, etc.) There are things that stagnate in the main body of the washing tank or settle at the bottom, and in particular, foreign substances with large specific gravity have a large tendency to settle. It is necessary to consider physical properties such as liquid specific gravity and viscosity, the types of cleaning liquids that can be used are naturally limited, and there is a problem that it is necessary to perform cleaning over time while increasing the overflow rate.
本発明は、上述した問題点を解決するためになされたものである。 The present invention has been made to solve the above-described problems.
請求項1に係る発明は、部品や製品などの被洗浄物を洗浄液中に浸積させて洗浄する被洗浄物の洗浄方法において、平面視略矩形状かつ鉛直方向に立設した内壁を有し、内部に前記被洗浄物を保持する共に前記洗浄液を満たした洗浄タンク本体にあって、前記洗浄タンク本体の前記内壁の内、一対の対向する第1の内壁と第2の内壁のそれぞれに、該内壁の略全体に亘って所定の間隔で前記洗浄液を通過させる複数の通孔を設け、前記第1の内壁の通孔を介して前記洗浄液を前記洗浄タンク本体内に導入すると共に、前記第2の内壁の通孔を介して前記洗浄液を前記洗浄タンク本体外へ排出することにより、該洗浄液を前記第1の内壁から前記第2の内壁に向かって略水平方向に層流状態で流し、この流れの中途に前記被洗浄物を配置して洗浄するものであり、前記第2の内壁には、前記洗浄液の液面と略同一の高さであって前記液面に沿って溢出孔を設け、この溢出孔を介して前記洗浄タンク本体内の前記洗浄液の一部をオーバーフローさせながら排出し、前記洗浄タンク本体内の底部に、前記洗浄液を該洗浄タンク本体外へ排出する排出口を設け、この排出口を介して前記洗浄タンク本体内の前記洗浄液の一部を排出しながら前記被洗浄物を洗浄し、前記洗浄タンク本体の底部に沈殿する異物がないか無視できるような場合には、前記排出口を介して前記洗浄タンク本体内の前記洗浄液の一部の排出をできないようにすると共に、前記洗浄液を前記第1の内壁から前記第2の内壁に向かって略水平方向に層流状態で流し、この流れの中途に前記被洗浄物を配置して洗浄する被洗浄物の洗浄方法である。 The invention according to claim 1 is a method of cleaning an object to be cleaned such as a part or product immersed in a cleaning liquid, and has an inner wall erected in a substantially rectangular shape in a plan view and in a vertical direction. , In the cleaning tank body that holds the object to be cleaned and is filled with the cleaning liquid, each of the pair of opposed first inner walls and second inner walls of the inner walls of the cleaning tank body, A plurality of through holes for allowing the cleaning liquid to pass at predetermined intervals are provided over substantially the entire inner wall, and the cleaning liquid is introduced into the cleaning tank body through the first inner wall through the holes. By discharging the cleaning liquid out of the main body of the cleaning tank through the through-hole of the inner wall of 2, the cleaning liquid flows in a laminar flow state in a substantially horizontal direction from the first inner wall toward the second inner wall, Place the object to be cleaned in the middle of this flow and wash it. Is intended to, wherein the second inner wall, a liquid level substantially the same height of the washing liquid overflowing holes provided along the liquid surface, the cleaning tank body through the overflow hole A part of the cleaning liquid is discharged while overflowing, and a discharge port for discharging the cleaning liquid to the outside of the cleaning tank body is provided at the bottom in the cleaning tank body, and the cleaning tank body in the cleaning tank body is provided through this discharge port. In the case where the object to be cleaned is washed while discharging a part of the washing liquid, and there is no foreign matter that settles on the bottom of the washing tank body, the washing tank body in the washing tank body can be ignored through the discharge port. A portion of the cleaning liquid cannot be discharged, and the cleaning liquid is allowed to flow in a laminar flow state in a substantially horizontal direction from the first inner wall toward the second inner wall. the wash to wash arranged to It is a method of cleaning a thing.
請求項2に係る発明は、請求項1記載の被洗浄物の洗浄方法において、洗浄が完了すると、洗浄液が第1の内壁から第2の内壁に向かって略水平方向に流れる層流状態を維持しながら抜き取りを行うものである。 According to a second aspect of the present invention, in the method for cleaning an object to be cleaned according to the first aspect, when cleaning is completed, a laminar flow state in which the cleaning liquid flows in a substantially horizontal direction from the first inner wall toward the second inner wall is maintained. It will be extracted while .
請求項1に記載の被洗浄物の洗浄方法によれば、洗浄タンク本体の内壁の内、一対の対向する第1の内壁と第2の内壁のそれぞれに、該内壁の略全体に亘って所定の間隔で洗浄液を通過させる複数の通孔を設け、前記第1の内壁の通孔を介して前記洗浄液を洗浄タンク本体内に導入すると共に、前記第2の内壁の通孔を介して前記洗浄液を前記洗浄タンク本体外へ排出することにより、該洗浄液を前記第1の内壁から前記第2の内壁に向かって略水平方向に層流状態で流し、この流れの中途に前記被洗浄物を配置して洗浄するため、被洗浄物から除去された異物は、該異物の比重が洗浄液よりも小さいときには浮上しながら、同等であるときには浮沈せず、大きいときには沈降しながら洗浄液の流れに沿って第2の内壁側に移動し、この第2の内壁の略全体に亘って設けられた通孔を介して洗浄タンク本体外に排出させることができ、該洗浄タンク本体内の異物の濃度を低減して被洗浄物への異物の再付着を簡易な方法で確実に抑制することができ、
第2の内壁には、洗浄液の液面と略同一の高さであって前記液面に沿って溢出孔を設け、この溢出孔を介して前記洗浄タンク本体内の前記洗浄液の一部をオーバーフローさせながら排出するため、被洗浄物から除去されて洗浄液面近傍を浮遊する比重の小さい異物をより一層確実に洗浄タンク本体外へ排出させることができ、
洗浄タンク本体内の底部に、洗浄液を該洗浄タンク本体外へ排出する排出口を設け、この排出口を介して前記洗浄タンク本体内の前記洗浄液の一部を排出しながら被洗浄物を洗浄するため、たとえ異物の比重が洗浄液よりも大きく、洗浄タンク本体底部に沈降するようなものであっても、排出口を介して確実に洗浄タンク本体外へ排出させることができる。
According to the method for cleaning an object to be cleaned according to claim 1, the inner wall of the cleaning tank body is predetermined on the pair of first inner wall and second inner wall facing each other over substantially the entire inner wall. A plurality of through holes for allowing the cleaning liquid to pass therethrough, and introducing the cleaning liquid into the cleaning tank body through the through holes in the first inner wall, and the cleaning liquid through the through holes in the second inner wall. Is discharged out of the main body of the cleaning tank so that the cleaning liquid flows in a laminar flow state in a substantially horizontal direction from the first inner wall toward the second inner wall, and the object to be cleaned is disposed in the middle of the flow. Therefore, the foreign matter removed from the object to be cleaned floats when the specific gravity of the foreign matter is smaller than that of the cleaning liquid, does not float when the specific gravity is equal, and sinks when the specific gravity is large. Move to the inner wall side of the second It can be discharged out of the main body of the cleaning tank through a through-hole provided over almost the entire inner wall, reducing the concentration of foreign substances in the main body of the cleaning tank and simplifying the reattachment of foreign objects to the object to be cleaned It can be reliably suppressed by a method,
The second inner wall is provided with an overflow hole along the liquid surface that is substantially the same height as the liquid surface of the cleaning liquid, and overflows a part of the cleaning liquid in the cleaning tank body through the overflow hole. Therefore, foreign matter with a small specific gravity that is removed from the object to be cleaned and floats near the surface of the cleaning liquid can be discharged to the outside of the cleaning tank body more reliably.
An outlet for discharging the cleaning liquid to the outside of the main body of the cleaning tank is provided at the bottom of the main body of the cleaning tank, and the object to be cleaned is cleaned while discharging a part of the cleaning liquid in the main body of the cleaning tank through this outlet. Therefore, even if the specific gravity of the foreign matter is larger than that of the cleaning liquid and settles on the bottom of the cleaning tank body, it can be reliably discharged out of the cleaning tank body through the discharge port.
本発明の一実施例を、図1〜図10を参照して説明する。図1においてAは本発明に係る被洗浄物の洗浄方法に使用するための洗浄装置の一実施例であり、洗浄装置Aは、部品や製品などの被洗浄物bを、有機溶剤や純水、超純水、アルカリ洗剤等の洗浄液m中に浸積させて洗浄するもので、概略的に、洗浄タンク本体1と、循環ポンプ3と、濾過器4とにより構成されている。なお、洗浄液mは被洗浄物b洗浄前の洗浄液を、洗浄液m’は被洗浄物b洗浄後に洗浄タンク本体1から排出された洗浄液であって濾過器4により濾過されていないものをそれぞれ示している。
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In FIG. 1, A is an embodiment of a cleaning apparatus for use in the method for cleaning an object to be cleaned according to the present invention. The cleaning apparatus A converts an object to be cleaned b such as parts and products into an organic solvent or pure water. It is immersed in a cleaning liquid m such as ultrapure water or an alkaline detergent for cleaning, and generally includes a cleaning tank body 1, a
洗浄タンク本体1は、図2の斜視図に示したように、平面視略矩形状かつ鉛直方向に立設した内壁を有し、内部に被洗浄物bを保持する共に洗浄液mを貯留可能なものである。被洗浄物bは、例えば、半導体に用いるシリコンウェハー、カメラレンズ、ガラス基板など、後記するように、洗浄液mの層流状態での流れを阻害しないような扁平形状の薄板のものが適している。なお、この洗浄タンク本体1の内壁の内、一対の対向する内壁は、第1の内壁11と第2の内壁12とにより構成されている。
As shown in the perspective view of FIG. 2, the cleaning tank main body 1 has an inner wall that is substantially rectangular in a plan view and is erected in the vertical direction. The cleaning tank main body 1 holds an object to be cleaned b and can store a cleaning liquid m. Is. As the cleaning object b, for example, a silicon wafer, a camera lens, a glass substrate or the like used for a semiconductor, a flat thin plate that does not hinder the laminar flow of the cleaning liquid m as described later is suitable. . Of the inner wall of the cleaning tank body 1, a pair of opposed inner walls is constituted by a first inner wall 11 and a second
また、第1の内壁11には、該内壁11の略全体に亘って所定の間隔(第1の内壁11から第2の内壁12に向かって洗浄液mを層流状態で流通させることができるような間隔、例えば、格子状に配置し、格子の各交点に通孔11aを形成)で洗浄液を洗浄タンク本体1内に導入する複数の通孔11a、11a、・・・が設けられており、同様に、第2の内壁12には、該内壁12の略全体に亘って所定の間隔(第1の内壁11から第2の内壁12に向かって洗浄液mを層流状態で流通させることができるような間隔、例えば、第1の内壁11の通孔11aに対向する位置に格子状に通孔12aを形成)で洗浄液mを洗浄タンク本体1外に排出する複数の通孔12a、12a、・・・が設けられている。また、この第2の内壁12には、洗浄液mの液面m1と略同一の高さであって液面m1に沿って、該洗浄液mの一部を洗浄タンク本体1外にオーバーフローさせる溢出孔12b、12b、・・(溢出孔12bは複数であっても、単一であってもよい)が設けられている。
Further, the cleaning liquid m can be circulated through the first inner wall 11 in a laminar flow state from the first inner wall 11 toward the second
また、洗浄タンク本体1の底部には、洗浄液mを該洗浄タンク本体1外に排出する排出口1aが設けられている。 A discharge port 1 a for discharging the cleaning liquid m to the outside of the cleaning tank body 1 is provided at the bottom of the cleaning tank body 1.
ところで、洗浄タンク本体1内には、図1、図2に示したように、洗浄用超音波を出力する超音波発振器2を設けることができる。この超音波発振器2は、洗浄液m中に洗浄用超音波を出力しながら、キャビテーション効果(超音波により洗浄液に生じた真空の気泡が破裂することにより生じる衝撃波を利用した被洗浄物からの異物の剥離)などにより被洗浄物bを洗浄するものであり、洗浄効果をより一層高めることができる。
Meanwhile, as shown in FIGS. 1 and 2, an
循環ポンプ3は、第2の内壁12の通孔12aおよび溢出孔12b、並びに排出口1aから排出された洗浄液m’を受け入れると共に、この受け入れた洗浄液m’を洗浄タンク本体1内に第1の内壁11の通孔11aを介して送出するものであり、例えば、公知の液送ポンプなどである。
The
濾過器4は、循環ポンプ3の洗浄液mの送出側または受け入れ側に接続され(図1、図4〜図6では循環ポンプ3の送出側にあるものを例示)、洗浄タンク本体1外に排出された洗浄液m’の中に存する異物を濾過して除去するものであり、異物の性状に合わせて適宜の各種のフィルター(例えば、微粒子の除去を目的としたPTFEメンブレン(四フッ化エチレン樹脂膜)などのフィルター)を採用することができる。
The
次に、上記のように構成された洗浄装置Aにより行う被洗浄物bの洗浄方法の一実施例を、図3〜図10を参照しながら説明する。この例にあっては被洗浄物bを扁平形状で薄板であるシリコンウェハーとしたものである。なお、洗浄装置Aの動作前は、各バルブb1〜b11は全て閉となっているものとする。 Next, an example of a method of cleaning the object to be cleaned b performed by the cleaning apparatus A configured as described above will be described with reference to FIGS. In this example, the object to be cleaned b is a flat and thin silicon wafer. Note that before the operation of the cleaning apparatus A, it is assumed that the valves b1 to b11 are all closed.
まず、図3に示したように、被洗浄物b(複数のシリコンウェハー)を洗浄バスケットなどの治工具15に整列して載置し、この治工具15を洗浄タンク本体1内に装着する。このとき洗浄タンク本体1内における被洗浄物bの位置は、第1の内壁11と第2の内壁12との間とする。また、被洗浄物bは、洗浄タンク本体1内における洗浄液mの層流状態の流れに沿うものであって扁平面が鉛直方向になるように配置する。ここで、被洗浄物bを前述のように配置するのは、洗浄液mの流れの中に被洗浄物bを配置して洗浄すると共に、被洗浄物bの好適形状が扁平形状の薄板であることと相俟って、被洗浄物bにより洗浄液mが層流状態を乱すのを防止し、該洗浄液mの略水平方向への流れを促進して除去された異物が第2の内壁12の通孔12aや溢出孔12bを介して洗浄タンク本体1外に迅速に排出するのを促進させるためである。なお、前述の層流状態の流れを阻害するものでなければ、扁平形状の薄板以外の物を被洗浄物bとしてもよく、また、洗浄液mの流れに対する配置方向を必ずしも規制する必要はない。
First, as shown in FIG. 3, an object to be cleaned b (a plurality of silicon wafers) is placed in alignment with a
そして、洗浄タンク本体1の開口部を蓋体16により閉塞して該洗浄タンク本体1を密閉すると共に、バルブb9、b10を開にして真空ポンプ6を作動させて洗浄タンク本体1内を減圧した後、この減圧した状態でバルブb1、b4を開にし、循環ポンプ3を作動させ、第1の貯留タンク51内に貯留されている洗浄液mを、第1の内壁11の通孔11aを介して洗浄タンク本体1内に導入する。なお、蓋体16の閉塞にあっては気密状態を維持するために洗浄タンク本体1と蓋体16との間にパッキン161を設けるようにしてもよい。また、真空ポンプ6による減圧は、図4に示したように、主として洗浄タンク本体1内の脱気を行うためであり、洗浄タンク本体1内に洗浄液mを導入した後に真空ポンプ6を作動させて脱気を行ってもよい。
Then, the opening of the cleaning tank body 1 is closed with a
その後、バルブb2、b3を開にして洗浄液mを通孔12aおよび溢出孔12b並びに排出口1aから排出するもので、通孔12aおよび溢出孔12bから排出される洗浄液m’は循環ポンプ3によりd4→d1→d2→d3(図5参照)の経路で、排出口1aから排出される洗浄液m’は循環ポンプ3によりd5→d2→d3(図5参照)の経路で循環する。
Thereafter, the valves b2 and b3 are opened to discharge the cleaning liquid m from the through
この内、前者の経路は、洗浄液mが第1の内壁11から第2の内壁12に向かって略水平方向に層流状態で流れるもので、主として比重が洗浄液mよりも小さいか同等の異物(比重が重くても洗浄タンク本体1の底部に沈殿しない異物を含む)がこの流れに乗って、通孔12aを介して、あるいは、一部が溢出孔12bを介してオーバーフローしながら洗浄タンク本体1外に排出される。一方、後者の経路は、主として比重が洗浄液mよりも大きい異物が洗浄液mに乗って通るもので、排出口1aを介して洗浄タンク本体1内の洗浄液mの一部が排出される。したがって、異物の比重が洗浄液mの比重よりも小さいもの、同等なもの、大きいもののいずれであっても確実に洗浄タンク本体1外に排出することができ、該洗浄タンク本体1内の異物の濃度を低減して被洗浄物bに再付着するのを可及的に少なくすることができる。
Among these, the former path is such that the cleaning liquid m flows in a laminar flow state from the first inner wall 11 toward the second
なお、これらの循環経路(矢印d4側、d5側)を通る洗浄液mの流量比は、バルブb2、b3の開放度合いを調整することにより適宜変えることができ、洗浄液m中を沈降して洗浄タンク本体1の底部に沈殿する異物が無いか無視できるような場合には、バルブb3を閉にして前者の循環経路(矢印d4側)のみにより循環させるようにしてもよい。また、循環経路の中途に位置する濾過器4を洗浄液mが通過する際には、該洗浄液mに含まれている異物(固形物や洗浄液m中に溶解している不純物イオンなど)が除去されるもので、洗浄タンク本体1に導入される洗浄液mは常に清浄な状態に保持される。
Note that the flow rate ratio of the cleaning liquid m passing through these circulation paths (arrow d4 side, d5 side) can be changed as appropriate by adjusting the degree of opening of the valves b2 and b3, and the cleaning tank settles in the cleaning liquid m. If there is no foreign matter that settles at the bottom of the main body 1 or can be ignored, the valve b3 may be closed and circulated only through the former circulation path (arrow d4 side). Further, when the cleaning liquid m passes through the
そして、洗浄が完了すると、図6に示したように、洗浄タンク本体1内から洗浄液mを抜き取るもので、バルブb5を開にして矢印d6の方向に洗浄液mの一部を流通させて第1の貯留タンク51に戻すと共に、バルブb6を開にして矢印d7の方向に洗浄液m’の一部を流通させて第2の貯留タンク52に戻す。その際、洗浄タンク本体1内の洗浄液mの液面は徐々に低下するが、洗浄タンク本体1内においては、洗浄液mが第1の内壁11から第2の内壁12に向かって略水平方向に流れる層流状態を維持しながら抜き取りを行うため、この抜き取り過程にあっても異物を確実に洗浄タンク本体1外に排出することができ、該洗浄タンク本体1内の異物の濃度を低減して被洗浄物bに再付着するのを可及的に少なくすることができる。
When the cleaning is completed, as shown in FIG. 6, the cleaning liquid m is extracted from the cleaning tank body 1, and the valve b5 is opened to allow a part of the cleaning liquid m to flow in the direction of the arrow d6. And the valve b6 is opened, a part of the cleaning liquid m ′ is circulated in the direction of the arrow d7 and returned to the
そして、洗浄タンク本体1内から洗浄液mが抜き取られると概ね洗浄が完了することとなるが、以下に示す蒸気洗浄および/または真空乾燥を追加的に行うことができる。すなわち、図7、図8は蒸気洗浄工程を示しているもので、第3の貯留タンク53に貯留された洗浄液mをヒータ81により加熱して気化させ、この蒸気を、蒸気口17を介してバッフル板18により拡散させながら洗浄タンク本体1内に導入するもので、蒸気が被洗浄物bに接触して冷却、液化し、該被洗浄物bに残存付着している異物を洗い流すことにより洗浄効果を一段と高めることができる。なお、液化した洗浄液mはバルブb6を開にして第2の貯留タンク52に貯留される(図7の矢印d7参照)。
Then, when the cleaning liquid m is extracted from the cleaning tank body 1, the cleaning is generally completed, but the following steam cleaning and / or vacuum drying can be additionally performed. That is, FIGS. 7 and 8 show a steam cleaning process. The cleaning liquid m stored in the
また、図9は真空乾燥工程を示しているもので、バルブb9、b11以外のバルブを閉にした状態で真空ポンプ6を作動させて洗浄タンク本体1内を減圧し、該洗浄タンク本体1内に残存している洗浄液m等(他の液が残存している場合には、その液を含む)を蒸発させて除去する。なお、真空ポンプ6により除去された洗浄液m等の蒸気は、凝集器7により復液され第2の貯留タンク52に貯留される。
FIG. 9 shows the vacuum drying process. The vacuum pump 6 is operated with the valves other than the valves b9 and b11 closed to depressurize the inside of the washing tank body 1, and the inside of the washing tank body 1 is shown. Evaporate and remove the remaining cleaning liquid m, etc. (including other liquids if other liquids remain). The vapor such as the cleaning liquid m removed by the vacuum pump 6 is condensed by the
そして、真空ポンプ6の作動を停止させ、バルブb7を開にして外気を洗浄タンク本体1内に取り入れて大気圧に戻し、図10に示したように、蓋体16を開放して被洗浄物bを取り出して洗浄が完了する。なお、前述の外気を取り入れる際、異物の混入を防止するため、バルブb7の外気側にフィルターfを設け、このフィルターfを介して取り入れるようにしてもよい。
Then, the operation of the vacuum pump 6 is stopped, the valve b7 is opened, the outside air is taken into the cleaning tank body 1 and returned to the atmospheric pressure, and the
ところで、上述した実施例にあっては、蒸気洗浄工程および真空乾燥工程の両者を行うものについて示したが、これら両者を行うのは、通常、蒸気洗浄工程に有機溶剤を用いる場合であり、有機溶剤を用いないもの(例えば、洗浄液mを純水としたものなど)にあっては、これらの内、真空乾燥工程を省略してもよく、かかる場合、蒸気洗浄工程が終了した段階で蓋体16を開放して被洗浄物bを取り出すようにしてもよい。 By the way, in the above-described embodiment, the steam cleaning process and the vacuum drying process are performed. However, both of these processes are usually performed when an organic solvent is used in the steam cleaning process. For those that do not use a solvent (for example, those in which the cleaning liquid m is pure water), the vacuum drying step may be omitted. In such a case, the lid body is formed after the vapor cleaning step is completed. The object to be cleaned b may be taken out by opening 16.
また、図1において、82は洗浄タンク本体1に併設されたヒータであり、高温にして使用する洗浄液mにあっては、このヒータ82により洗浄タンク本体1を加熱して該洗浄液mを昇温するようにしてもよい。
In FIG. 1, 82 is a heater attached to the cleaning tank body 1. When the cleaning liquid m is used at a high temperature, the cleaning tank body 1 is heated by the
また、図1に示したように、圧力スイッチ61を洗浄タンク本体1に接続し、洗浄中に該洗浄タンク本体1内の圧力が一定値を越えたときには、真空ポンプ6を作動させて洗浄タンク本体1内を減圧し、洗浄液m中の脱気を行うと共に、洗浄タンク本体1内のガスが外部に漏出しないようにするのが好ましい。
Further, as shown in FIG. 1, when the
A 洗浄装置
b 被洗浄物
m、m’ 洗浄液
1 洗浄タンク本体
2 超音波発振器
3 循環ポンプ
4 濾過器
6 真空ポンプ
7 凝集器
A Cleaning device b Object to be cleaned m, m 'Cleaning liquid 1
Claims (2)
平面視略矩形状かつ鉛直方向に立設した内壁を有し、内部に前記被洗浄物を保持する共に前記洗浄液を満たした洗浄タンク本体にあって、
前記洗浄タンク本体の前記内壁の内、一対の対向する第1の内壁と第2の内壁のそれぞれに、該内壁の略全体に亘って所定の間隔で前記洗浄液を通過させる複数の通孔を設け、
前記第1の内壁の通孔を介して前記洗浄液を前記洗浄タンク本体内に導入すると共に、前記第2の内壁の通孔を介して前記洗浄液を前記洗浄タンク本体外へ排出することにより、該洗浄液を前記第1の内壁から前記第2の内壁に向かって略水平方向に層流状態で流し、この流れの中途に前記被洗浄物を配置して洗浄するものであり、
前記第2の内壁には、前記洗浄液の液面と略同一の高さであって前記液面に沿って溢出孔を設け、この溢出孔を介して前記洗浄タンク本体内の前記洗浄液の一部をオーバーフローさせながら排出し、
前記洗浄タンク本体内の底部に、前記洗浄液を該洗浄タンク本体外へ排出する排出口を設け、この排出口を介して前記洗浄タンク本体内の前記洗浄液の一部を排出しながら前記被洗浄物を洗浄し、
前記洗浄タンク本体の底部に沈殿する異物がないか無視できるような場合には、前記排出口を介して前記洗浄タンク本体内の前記洗浄液の一部の排出をできないようにすると共に、前記洗浄液を前記第1の内壁から前記第2の内壁に向かって略水平方向に層流状態で流し、この流れの中途に前記被洗浄物を配置して洗浄する
ことを特徴とする被洗浄物の洗浄方法。 In the cleaning method of the object to be cleaned, in which the object to be cleaned such as parts and products is immersed in the cleaning liquid.
It has a substantially rectangular shape in plan view and has an inner wall erected in the vertical direction, and in the cleaning tank body that holds the object to be cleaned and is filled with the cleaning liquid,
A plurality of through holes for allowing the cleaning liquid to pass through the entire inner wall of the pair of opposed first inner wall and second inner wall of the cleaning tank main body at predetermined intervals are provided in each of the pair of opposing first inner wall and second inner wall. ,
The cleaning liquid is introduced into the cleaning tank body through the through hole of the first inner wall, and the cleaning liquid is discharged out of the cleaning tank body through the through hole of the second inner wall. The cleaning liquid is made to flow in a laminar flow state in a substantially horizontal direction from the first inner wall toward the second inner wall, and the object to be cleaned is arranged and cleaned in the middle of the flow ,
The second inner wall is provided with an overflow hole along the liquid surface that is substantially the same height as the liquid surface of the cleaning liquid, and a part of the cleaning liquid in the cleaning tank body is formed through the overflow hole. Discharging while overflowing,
A discharge port for discharging the cleaning liquid to the outside of the cleaning tank body is provided at the bottom of the cleaning tank body, and the object to be cleaned is discharged while discharging a part of the cleaning liquid in the cleaning tank body through the discharge port. Wash and
When there is no foreign matter that precipitates at the bottom of the cleaning tank body or can be ignored, the cleaning liquid in the cleaning tank body is not allowed to be discharged through the discharge port, and the cleaning liquid is A cleaning method for an object to be cleaned, wherein the object is cleaned in a laminar flow state in a substantially horizontal direction from the first inner wall toward the second inner wall, and the object to be cleaned is disposed in the middle of the flow. .
ことを特徴とする請求項1記載の被洗浄物の洗浄方法。 2. The method for cleaning an object to be cleaned according to claim 1 , wherein when the cleaning is completed, the cleaning liquid is extracted while maintaining a laminar flow state in which the cleaning liquid flows in a substantially horizontal direction from the first inner wall toward the second inner wall. .
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008269278A JP5116628B2 (en) | 2008-10-20 | 2008-10-20 | Cleaning method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010094639A JP2010094639A (en) | 2010-04-30 |
JP5116628B2 true JP5116628B2 (en) | 2013-01-09 |
Family
ID=42256707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008269278A Active JP5116628B2 (en) | 2008-10-20 | 2008-10-20 | Cleaning method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5116628B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6734626B2 (en) * | 2014-10-03 | 2020-08-05 | アクトファイブ株式会社 | Ultrasonic cleaning equipment |
JP2017029954A (en) * | 2015-08-05 | 2017-02-09 | Kyb株式会社 | Transferring liquid separator, washing device and washing method |
KR101971152B1 (en) | 2017-08-18 | 2019-04-22 | 에스케이실트론 주식회사 | Wafer Cleaning Apparatus And Cleaning Method Using Thereof |
JP2019107598A (en) * | 2017-12-15 | 2019-07-04 | 株式会社クリンビー | Water system one tank type vacuum cleaning dryer and cleaning system with automatic transportation unit |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2541525B2 (en) * | 1986-10-29 | 1996-10-09 | 九州日本電気 株式会社 | Semiconductor substrate processing equipment |
JPH0332985U (en) * | 1989-07-31 | 1991-03-29 | ||
JPH0515860A (en) * | 1991-07-12 | 1993-01-26 | Brother Ind Ltd | Ultrasonic washing device |
-
2008
- 2008-10-20 JP JP2008269278A patent/JP5116628B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010094639A (en) | 2010-04-30 |
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