JP5106887B2 - Honeycomb structure sheet manufacturing substrate and honeycomb structure sheet manufacturing method - Google Patents

Honeycomb structure sheet manufacturing substrate and honeycomb structure sheet manufacturing method Download PDF

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本発明は、複合セル構造体製造用基板及び複合セル構造体の製造方法に関する。   The present invention relates to a substrate for manufacturing a composite cell structure and a method for manufacturing the composite cell structure.

文字や静止画、動画等の所謂画像の表示用端末としては、CRTや液晶ディスプレイが広く用いられている。これらはデジタルデータを瞬時に表示し、書き換えることができるが、装置を手軽に持ち歩くことは容易ではない。また、自発光デバイスであるため長時間の作業では眼が疲労することや、電源をオフにすると表示が維持されないなどの難点がある。一方、文字や静止画を書類などとして配布や保存するときは、プリンタ等にて紙媒体に記録されている。この紙媒体は、いわゆるハードコピーとして、広く使用されている。ハードコピーは多重散乱による反射を見ることになるので、自発光デバイスより視認性がよく、疲れにくい。また、軽量でハンドリングに優れていることから、自由な姿勢で読むことができる。しかし、ハードコピーは使用された後は廃棄される。一部はリサイクルされるが、そのリサイクルには、多くの労力と費用を要するなど省資源の点からは課題がある。一方、情報機器の発達に伴い、書類作成などの情報の処理をコンピュータ上で行うようになり、表示用端末上で文章を読む機会が大幅に増えている。   CRTs and liquid crystal displays are widely used as display terminals for so-called images such as characters, still images, and moving images. These can display and rewrite digital data instantly, but it is not easy to carry the device easily. In addition, since it is a self-luminous device, there are problems such as eye fatigue when working for a long time and display not being maintained when the power is turned off. On the other hand, when a character or a still image is distributed or stored as a document or the like, it is recorded on a paper medium by a printer or the like. This paper medium is widely used as a so-called hard copy. Since hard copy sees reflections due to multiple scattering, it has better visibility than a self-luminous device and is less tiring. Moreover, since it is lightweight and excellent in handling, it can be read in a free posture. However, the hard copy is discarded after it is used. Some of them are recycled, but the recycling requires a lot of labor and cost, and there are problems in terms of resource saving. On the other hand, with the development of information equipment, information processing such as document creation has been performed on a computer, and the opportunity to read text on a display terminal has greatly increased.

このような状況において、ディスプレイとハードコピーの両方の長所を持った、書き換えが可能で記録性がある目に優しい、ペーパーライクな表示媒体へのニーズが高まっている。最近は、高分子分散型液晶、双安定性コレステリック液晶、エレクトロクロミック素子、電気泳動素子等を用いた表示媒体が、反射型で明るい表示ができ、かつメモリー性のある表示媒体として注目されている。中でも電気泳動素子を用いた表示媒体は、表示品質、表示動作時の消費電力の点で優れており、例えば、特許文献1などにその原理的な発明が開示されている。   Under such circumstances, there is a growing need for a paper-like display medium that has the advantages of both display and hard copy, is rewritable and has good recording properties, and is easy on the eyes. Recently, display media using polymer-dispersed liquid crystals, bistable cholesteric liquid crystals, electrochromic elements, electrophoretic elements, and the like are attracting attention as reflective display media that can display bright images and have memory properties. . Among these, a display medium using an electrophoretic element is excellent in terms of display quality and power consumption during display operation. For example, Patent Document 1 discloses a principle invention.

代表的な電気泳動方式の表示媒体では、一組の透明電極の間に、着色した分散媒中に分散媒の色とは異なる色を有する電気泳動粒子を分散させた分散液を封入してある。電気泳動粒子(単に泳動粒子とも言う。)は、分散媒中で粒子表面に電荷を帯びており、一方の透明電極側に泳動粒子の電荷を吸引する電圧を印加すると、泳動粒子がその透明電極側に吸引され集積して泳動粒子の色が観測され、泳動粒子の電荷と反発する電圧を与えた場合には、泳動粒子は反対側の透明電極側に移動するため分散媒の色が観測される。この色の変化を利用することにより表示を行うことができる。   In a typical electrophoretic display medium, a dispersion liquid in which electrophoretic particles having a color different from the color of the dispersion medium is dispersed in a colored dispersion medium is enclosed between a pair of transparent electrodes. . Electrophoretic particles (also simply referred to as electrophoretic particles) have a charge on the particle surface in the dispersion medium. When a voltage that attracts the charge of the electrophoretic particles is applied to one transparent electrode side, the electrophoretic particles are transferred to the transparent electrode. The color of the migrating particles is observed by being attracted and accumulated on the side, and when a voltage repelling the charge of the migrating particles is applied, the migrating particles move to the opposite transparent electrode side, so the color of the dispersion medium is observed. The Display can be performed by using the change in color.

このような電気泳動方式の表示媒体を用いた電気泳動表示素子は、ひとつ一つの画像表示素子であって、画像表示装置とするためには、微細な領域に配置された多くの電気泳動表示素子の集合体が必要となる。そこで、これらの素子を配置するための構造物が必要になる。複数の中空構造の集合体であるハニカム構造のシートは、このような微細な素子を区分して高密度に配置するのに好適な画像表示素子用構造体として知られている。それぞれのハニカムの中に電気泳動粒子と分散媒を配置して一つずつの画像素子とし、全体として画像表示装置とすることができる。   An electrophoretic display element using such an electrophoretic display medium is an individual image display element. In order to obtain an image display device, many electrophoretic display elements are arranged in a minute area. An aggregate of is required. Therefore, a structure for arranging these elements is required. A sheet having a honeycomb structure, which is an aggregate of a plurality of hollow structures, is known as a structure for an image display element suitable for dividing such fine elements and arranging them at high density. An electrophoretic particle and a dispersion medium are arranged in each honeycomb to form one image element, and an image display device as a whole can be obtained.

例えば、特許文献2には、電気泳動ディスプレイとその製造方法が開示されている。この電気泳動ディスプレイは、マイクロエンボス加工または画像露光により形成されたカップ状の凹部が複数あり、凹部に溶媒及び溶媒中に分散した帯電色素粒子の分散物が充填され、分散物よりも小さい比重を有し、分散物と非混和性であるシーリング組成物のオーバーコート層を硬化させることによって形成し、分散物を凹部内に閉じ込めるように封止されている。   For example, Patent Document 2 discloses an electrophoretic display and a manufacturing method thereof. This electrophoretic display has a plurality of cup-shaped recesses formed by microembossing or image exposure, and the recesses are filled with a solvent and a dispersion of charged pigment particles dispersed in the solvent, and have a specific gravity smaller than that of the dispersion. It is formed by curing an overcoat layer of a sealing composition that is immiscible with the dispersion and is sealed to confine the dispersion in the recess.

マイクロエンボス加工の場合、予めパターンを設けた雄型によって導体フィルム上にコーティングした熱可塑性物または熱硬化物の前駆体層をエンボス加工する。その後、前駆体層が放射線、冷却、溶媒蒸発または他の手段によって硬化されて型から取り出される。この方法で壁の厚みを薄くしようとすると、雄型の凹部(凸部と凸部の間)が非常に薄くすることになる。   In the case of micro-embossing, a precursor layer of a thermoplastic material or a thermosetting material coated on a conductor film by a male pattern provided with a pattern in advance is embossed. The precursor layer is then cured by radiation, cooling, solvent evaporation or other means and removed from the mold. If the thickness of the wall is reduced by this method, the male concave portion (between the convex portion and the convex portion) becomes very thin.

また、画像露光による構造体形成の場合には、放射線硬化性層をコーティングした導電性フィルムを画像露光し、その後、露光領域が硬くなってから非露光領域を除去する。この方法の場合、マスクを通して放射線を照射したり、細く絞った放射線で直接放射線硬化性層にパターンを描画したりする。   In the case of forming a structure by image exposure, the conductive film coated with the radiation curable layer is subjected to image exposure, and then the non-exposed area is removed after the exposed area becomes hard. In the case of this method, radiation is irradiated through a mask, or a pattern is directly drawn on the radiation curable layer with finely squeezed radiation.

ハニカム構造体の製法としては、特許文献3に記載のハニカム構造物を有する生分解性フィルムからなる癒着防止材の製法が開示されている。このハニカム構造物は、生分解ポリマーとリン系界面活性剤にて形成され、界面活性剤の効果にてハニカム構造物の生体への癒着を防止する機能を持っている。また、このハニカム構造物の膜厚は、およそ13μmである。
特開2004−189487号公報 特許第3680996号公報 国際公開2004/148680号パンフレット
As a method for manufacturing a honeycomb structure, a method for manufacturing an adhesion preventing material made of a biodegradable film having a honeycomb structure described in Patent Document 3 is disclosed. This honeycomb structure is formed of a biodegradable polymer and a phosphorus surfactant, and has a function of preventing adhesion of the honeycomb structure to the living body due to the effect of the surfactant. The film thickness of the honeycomb structure is approximately 13 μm.
JP 2004-189487 A Japanese Patent No. 3680996 International Publication No. 2004/148680 Pamphlet

画像表示用構造体(複合セル構造体ともいう。)を電気泳動ディスプレイなどの画像表示装置の表示部マトリックスとして応用する際、高反射率、高コントラストの表示画像を得るためには、画像表示用構造体の開口率が大きいこと、すなわち、複合セル構造体のセル構造における隔壁の厚さ、特に表示面側の隔壁の厚さが薄いことが好適である。また、画像表示装置の表示部マトリックスとしては、各表示素子の形状や表示素子間の隔壁の厚さが均一であることが求められる。   When an image display structure (also referred to as a composite cell structure) is applied as a display unit matrix of an image display device such as an electrophoretic display, in order to obtain a display image with high reflectivity and high contrast, an image display It is preferable that the aperture ratio of the structure is large, that is, the partition wall thickness in the cell structure of the composite cell structure, particularly the partition wall on the display surface side is thin. Further, the display unit matrix of the image display device is required to have a uniform shape of each display element and a uniform partition wall thickness between the display elements.

特許文献2に記載のマイクロエンボス加工法の場合、隔壁の厚さを薄くしようとすると、雄型の凹部(凸部と凸部の間)が非常に薄くなり、前駆体が凹部に十分入り込まず型形状を忠実に転写できなかったり、前駆体の強度が足りず、離型する際に型の凹部に前駆体が残ってしまったりして、壁の厚さの薄い中空構造体を作ることが難しい。また、加熱樹脂を用いているので硬化のための冷却時間が必要で、サイクルタイムが長くなるという問題があった。構造体の各凹部を仕切っている壁の厚みは特に記載されていないが、雄型への転写と剥離という工程を考えれば、隔壁の厚さやアスペクト比には限界がある。例えば、発明者等の検討によれば、型形状を転写するマイクロエンボス加工では、隔壁厚みが10μm以下の薄肉で、画像表示用構造体として好適な高さである50ミクロン以上のマイクロエンボス構造形成は困難であると考えられる。   In the case of the micro-embossing method described in Patent Document 2, when trying to reduce the thickness of the partition wall, the male concave portion (between the convex portion and the convex portion) becomes very thin, and the precursor does not sufficiently enter the concave portion. The shape of the mold cannot be faithfully transferred, the strength of the precursor is insufficient, and the precursor remains in the recess of the mold when releasing, creating a hollow structure with a thin wall thickness difficult. Further, since a heating resin is used, there is a problem that a cooling time for curing is required and a cycle time becomes long. Although the thickness of the wall partitioning each concave portion of the structure is not particularly described, there is a limit to the thickness and aspect ratio of the partition wall considering the process of transfer to the male mold and peeling. For example, according to studies by the inventors, in micro-embossing to transfer a mold shape, a micro-emboss structure having a partition wall thickness of 10 μm or less and a height suitable for an image display structure is formed. Is considered difficult.

画像露光による構造体形成法の場合には、マスクを通して放射線を照射したり、細く絞った放射線で直接放射線硬化性層にパターンを描画したりするが、放射線硬化性層内での放射光の回り込み、散乱等で高アスペクト比の壁面を作るのは難しい。また、フォトリソグラフィーを利用する方法は、工程が多くなるためコストが高くなり易く、特に面積が大きな構造体の形成には不向きである。   In the case of the structure formation method by image exposure, radiation is irradiated through a mask, or a pattern is drawn directly on the radiation curable layer with finely squeezed radiation, but the radiation wraps around the radiation curable layer. It is difficult to make a high aspect ratio wall by scattering. In addition, a method using photolithography is likely to be costly because of the increased number of steps, and is not suitable for forming a structure having a large area.

このような問題点に鑑み、本発明の目的は、開口率の大きい、従ってセル間の隔壁が薄く均一なセル構造を持つ複合セル構造体を製造するための複合セル構造体製造用基板、及びこれを用いた複合セル構造体の製造方法を提供することにある。   In view of such problems, an object of the present invention is to provide a composite cell structure manufacturing substrate for manufacturing a composite cell structure having a large aperture ratio, and thus a thin cell partition and a uniform cell structure, and The object is to provide a method of manufacturing a composite cell structure using the same.

以下に、本発明の課題を解決するための手段を記載する。
本発明は、複数の離間した凹部を備えた表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆し、前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって変形可能な材料に複数のセルを形成するハニカム構造シート製造用基板(以下、ハニカム構造シートを複合セル構造体と言い、ハニカム構造シート製造用基板を複合セル構造体製造用基板と言う。)であって、前記凹部を備えた表面は、変形可能な材料に対する親和性が異なる少なくとも2つの領域を有することを特徴とする複合セル構造体製造用基板を含む。
The means for solving the problems of the present invention will be described below.
The present invention covers a surface having a plurality of spaced recesses with a deformable material so that a space remains in the recess, and forms a plurality of cells in the deformable material by the gas expansion pressure in the space of the recess. A honeycomb structure sheet manufacturing substrate (hereinafter, the honeycomb structure sheet is referred to as a composite cell structure body, and the honeycomb structure sheet manufacturing substrate is referred to as a composite cell structure manufacturing substrate) , The composite cell structure manufacturing substrate includes at least two regions having different affinity for the deformable material.

本発明は、前記複数の離間した凹部は規則的に配置されており、変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち少なくとも一種の領域は、それぞれの凹部を包囲していることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。   The present invention is characterized in that the plurality of spaced-apart recesses are regularly arranged, and at least one of the regions having different affinity for the deformable material surrounds each recess. The composite cell structure manufacturing substrate is included.

本発明は、前記凹部を包囲している領域は、規則的に配置されていることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。   The present invention includes the composite cell structure manufacturing substrate, wherein the region surrounding the recess is regularly arranged.

本発明は、前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の高い領域を複合セル構造体の開口部の隔壁の形状とすることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。   The present invention is characterized in that, among the regions having different affinity for the deformable material, the region having high affinity for the deformable material is formed into the shape of the partition wall of the opening of the composite cell structure. Including a substrate for manufacturing a structure.

本発明は、前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の高い領域は、変形可能な材料に対して親和性が高い複数のドットを形成した領域であることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。   In the present invention, among the regions having different affinity for the deformable material, the region having high affinity for the deformable material is a region in which a plurality of dots having high affinity for the deformable material are formed. The composite cell structure manufacturing substrate is included.

本発明は、前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の低い領域を、不連続な複数の領域とすることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。   In the composite cell structure manufacturing method, the region having low affinity for the deformable material among the regions having different affinity for the deformable material is a plurality of discontinuous regions. Includes substrate.

本発明は、前記親和性の低い領域が、凹部を包囲していることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。   The present invention includes the substrate for manufacturing a composite cell structure, wherein the low affinity region surrounds a recess.

本発明は、前記親和性の低い領域が、変形可能な材料に濡れ難い微細凹凸形状を形成した領域であることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。   The present invention includes the substrate for manufacturing a composite cell structure, wherein the low affinity region is a region in which a fine concavo-convex shape that is difficult to wet with a deformable material is formed.

本発明は、前記親和性の低い領域は、アルキルケテンダイマー層を形成した領域であることを特徴とする前記複合セル構造体製造用基板を含む。 The present invention includes the substrate for manufacturing a composite cell structure, wherein the low affinity region is a region where an alkyl ketene dimer layer is formed .

本発明は、複数の離間した凹部を備えた基板の表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆する被覆工程と、
前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって前記変形可能な材料に複数のセルを形成するセル形成工程とを含む複合セル構造体の製造方法であって、
前記基板は、前記複合セル構造体製造用基板であることを特徴とする複合セル構造体の製造方法を含む。
The present invention is a coating step of coating the surface of a substrate having a plurality of spaced recesses with a deformable material so that a space remains in the recesses;
A cell forming step of forming a plurality of cells in the deformable material by gas expansion pressure in the space of the recess,
The substrate includes a method for manufacturing a composite cell structure, wherein the substrate is a substrate for manufacturing the composite cell structure.

本発明は、前記被覆工程において、基板の表面を被覆した変形可能な材料はシート状であることを特徴とする前記複合セル構造体の製造方法含む。   The present invention includes the method of manufacturing the composite cell structure, wherein in the coating step, the deformable material covering the surface of the substrate is a sheet.

本発明は、前記複数のセルを形成された変形可能な材料を硬化してセルの形状を固定化する硬化工程を有することを特徴とする前記複合セル構造体の製造方法含む。   The present invention includes the method for manufacturing the composite cell structure, including a curing step of curing the deformable material formed with the plurality of cells to fix the shape of the cells.

本発明によれば、開口率の大きい、従ってセル間の隔壁が薄く均一なセル構造を持つ複合セル構造体を製造するための複合セル構造体製造用基板、及びこれを用いた複合セル構造体の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, a substrate for manufacturing a composite cell structure for manufacturing a composite cell structure having a uniform cell structure with a large aperture ratio and thus a thin partition between cells, and a composite cell structure using the same The manufacturing method of can be provided.

本発明の複合セル構造体製造用基板及び複合セル構造体の製造方法を説明する前に、本発明の複合セル構造体製造用基板及び複合セル構造体の製造方法を理解しやすくするために、従来から本発明者らが検討してきた複合セル構造体の製造方法について簡単に説明する。図2は、従来から検討してきた複合セル構造体の製造方法の説明図である。図2に従って複合セル構造体の製造方法を説明すると、まず、表面にセル構造に対応した微細な凹部3を形成した基板1を準備する。基板1の表面は複合セル構造体の前駆体である変形可能な材料2との密着性がよいものが好ましい。この基板1の表面を複合セル構造体の前駆体であるシート状の変形可能な材料2で被覆する。この際、基板1の表面の凹部3と被覆した変形可能な材料2との間には空間を残しておく。   Before explaining the composite cell structure manufacturing substrate and the composite cell structure manufacturing method of the present invention, in order to facilitate understanding of the composite cell structure manufacturing substrate and the composite cell structure manufacturing method of the present invention, A method for manufacturing a composite cell structure that has been studied by the present inventors will be briefly described. FIG. 2 is an explanatory view of a method of manufacturing a composite cell structure that has been studied conventionally. The manufacturing method of a composite cell structure will be described with reference to FIG. 2. First, a substrate 1 having a fine recess 3 corresponding to the cell structure formed on the surface is prepared. The surface of the substrate 1 preferably has good adhesion to the deformable material 2 that is a precursor of the composite cell structure. The surface of the substrate 1 is covered with a sheet-like deformable material 2 that is a precursor of the composite cell structure. At this time, a space is left between the concave portion 3 on the surface of the substrate 1 and the coated deformable material 2.

この状態で基板1と変形可能な材料2とを密着させたまま、凹部3の空間に存在する気体(通常は空気である。)に膨張力を付与する。気体の膨張力を付与の方法としては、基板1に密着した変形可能な材料2を減圧チャンバなどに導入して、変形可能な材料2の表面側の圧力を低下させれば、凹部3内の気体は相対的に高圧となり、膨張力が生じる。基板1は剛性材料であるので変形せず、変形可能な材料2が気体の膨張圧力により押し上げられる。変形可能な材料2は、基板1の凹部3のない表面領域とは密着しているので、気体の膨張圧力によりそれぞれの凹部3を臨む位置に発泡するような状態で独立した空隙を生じる。そして、この空隙は、それぞれ独立した空間として変形可能な材料2中に配列される。この空間がある程度おおきくなると、シート状の変形可能な材料2は、全体として膨らんでハニカム構造をしたシート状の形態となる。   In this state, an expansion force is applied to the gas (usually air) existing in the space of the recess 3 while the substrate 1 and the deformable material 2 are kept in close contact with each other. As a method for imparting the gas expansion force, if the deformable material 2 in close contact with the substrate 1 is introduced into a decompression chamber or the like and the pressure on the surface side of the deformable material 2 is reduced, The gas has a relatively high pressure and an expansion force is generated. Since the substrate 1 is a rigid material, it is not deformed, and the deformable material 2 is pushed up by the gas expansion pressure. Since the deformable material 2 is in intimate contact with the surface area of the substrate 1 that does not have the recesses 3, independent voids are generated in a state of foaming at positions facing the respective recesses 3 due to gas expansion pressure. The voids are arranged in the deformable material 2 as independent spaces. When this space becomes large to some extent, the sheet-like deformable material 2 swells as a whole and takes a sheet-like form having a honeycomb structure.

このハニカム構造をしたシート状の変形可能な材料2を硬化させてハニカム構造が変形しないように固化して、ハニカム構造シートとする。硬化には、変形可能な材料2の特性に合わせて、乾燥硬化や紫外線照射硬化などの方法がとられる。   The sheet-like deformable material 2 having the honeycomb structure is cured and solidified so as not to deform the honeycomb structure to obtain a honeycomb structure sheet. For the curing, a method such as drying curing or ultraviolet irradiation curing is adopted in accordance with the characteristics of the deformable material 2.

ハニカム構造のシートは、基板1から離型されて複合セル構造体ができあがる。このような製造方法で、セル間の隔壁の薄いセルの深さの比較的深い複合セル構造体を製造することができる。   The honeycomb structure sheet is released from the substrate 1 to form a composite cell structure. With such a manufacturing method, it is possible to manufacture a composite cell structure having a relatively deep cell depth between the cells.

この複合セル構造体の製造方法においては、所望のセル構造を得ると同時にセル間の隔壁を薄くすると同時に均一性を厳密に制御するためには、変形可能な材料2の調整や基板1の表面の形成、基板1と変形可能な材料2との密着性の調整などに多くのノウハウがあり、容易に均一性の高い複合セル構造体は形成できなかった。例えば、図3の(a)図に示すように、変形可能な材料2の張力のばらつきや変形可能な材料2と基板1の表面との密着力のばらつきによって複合セル構造体のセル形状や隔壁の厚さにばらつきが生じることがあった。   In this method of manufacturing a composite cell structure, in order to obtain a desired cell structure and at the same time thin the partition walls between cells, and at the same time strictly control the uniformity, the adjustment of the deformable material 2 and the surface of the substrate 1 There is a lot of know-how in the formation of the substrate and the adjustment of the adhesion between the substrate 1 and the deformable material 2, and a composite cell structure with high uniformity cannot be easily formed. For example, as shown in FIG. 3A, the cell shape and partition walls of the composite cell structure may vary depending on variations in tension of the deformable material 2 and variations in adhesion between the deformable material 2 and the surface of the substrate 1. In some cases, the thickness of the film varied.

これに対し、本発明の複合セル構造体製造用基板は、凹部を形成した表面に変形可能な材料に対する親和性が異なる少なくとも二種類の領域を有している。なお、上述したように、この複合セル構造体製造用基板は、複数の離間した凹部を備えた表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆し、前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって、変形可能な材料に複数のセルを形成する複合セル構造体製造用基板である。   On the other hand, the substrate for manufacturing a composite cell structure of the present invention has at least two types of regions having different affinity for the deformable material on the surface where the recesses are formed. As described above, this composite cell structure manufacturing substrate covers a surface having a plurality of spaced recesses with a deformable material so that spaces remain in the recesses, and the gas in the spaces of the recesses is formed. It is a substrate for manufacturing a composite cell structure in which a plurality of cells are formed in a deformable material by an expansion pressure.

図1に示した本発明の複合セル構造体形成工程を参照しながら、本発明の複合セル構造体製造用基板及びこの基板を用いた複合セル構造体の製造方法について説明する。図1に示した複合セル構造体形成工程は、図2に示した複合セル構造体の製造方法とは複合セル構造体製造用基板の表面の特性が異なっている。図2に示した基板1は、単に規則的に配列された凹部3を備えただけであったが、図1に示した基板1は、それぞれの凹部3を取り囲むように、複合セル構造体形成用の変形可能な材料に対して親和性の高い高親和性領域4を帯状の亀甲模様として形成している。図2における基板1への変形可能な材料2の被覆工程から複合セル構造体の離型工程までは、図1に示した工程と同じである。   The composite cell structure manufacturing substrate of the present invention and the composite cell structure manufacturing method using the substrate will be described with reference to the composite cell structure forming step of the present invention shown in FIG. The composite cell structure forming step shown in FIG. 1 differs from the composite cell structure manufacturing method shown in FIG. 2 in the surface characteristics of the composite cell structure manufacturing substrate. The substrate 1 shown in FIG. 2 was merely provided with the recesses 3 arranged regularly, but the substrate 1 shown in FIG. 1 was formed with a composite cell structure so as to surround each recess 3. The high affinity region 4 having a high affinity for the deformable material is formed as a strip-shaped turtle shell pattern. The process from the coating process of the deformable material 2 onto the substrate 1 in FIG. 2 to the mold release process of the composite cell structure is the same as the process shown in FIG.

そして、得られた複合セル構造体のセル構造は異なっている。すなわち、図2に示した複合セル構造体の製造方法では、複合セル構造体のセル間の隔壁は厚さにばらつきがあったり、比較的厚かったりする。これに対し、図1に示した複合セル構造体の製造方法による複合セル構造体は、セル間の隔壁が帯状の高親和性領域4の幅と同じに揃い、帯状の高親和性領域4の幅を狭くしておけば、セル間の隔壁も薄くできる。   And the cell structure of the obtained composite cell structure is different. In other words, in the method for manufacturing the composite cell structure shown in FIG. 2, the partition walls between the cells of the composite cell structure vary in thickness or are relatively thick. On the other hand, in the composite cell structure according to the method for manufacturing the composite cell structure shown in FIG. 1, the partition walls between the cells are the same as the width of the strip-shaped high affinity region 4, If the width is narrowed, the partition between cells can be made thin.

この違いを、図3を参照にして説明する。図2に示した複合セル構造体の製造方法では、図3a)に示すように、基板1と変形可能な材料2に挟まれた気体が(減圧にしている)外気圧との差に応じて材料2を伸ばし広げようとする圧力と、これに対し材料膜の基板1への密着力と材料膜の張力とのバランスによってセル隔壁の厚さは変化する。セル内部の体積が大きくなると壁は薄くなり、材料2と基板1とが接する部分の幅x、すなわち隔壁開口部の厚さxも薄くなる。開口部の厚さxが薄くなると隔壁全体の厚さも更に薄くなる。材料2によって密着力や張力が変わるため、隔壁厚さは大きく変わり、所望の隔壁厚さを得ることが困難となる場合がある。また、同一材料においても材料2と基板1の間の凹部3に挟まれた気体量のばらつきや、基板1に塗布した際の材料2の厚さムラなどによって、形成されたセル構造体の位置によって隔壁厚さのムラが生じる恐れがある。   This difference will be described with reference to FIG. In the method of manufacturing the composite cell structure shown in FIG. 2, as shown in FIG. 3a), the gas sandwiched between the substrate 1 and the deformable material 2 is in accordance with the difference between the external pressure (which is reduced in pressure). The thickness of the cell partition wall changes depending on the pressure to stretch and spread the material 2 and the balance between the adhesion of the material film to the substrate 1 and the tension of the material film. As the volume inside the cell increases, the wall becomes thinner, and the width x of the portion where the material 2 and the substrate 1 are in contact, that is, the thickness x of the partition opening is also reduced. When the thickness x of the opening is reduced, the thickness of the whole partition is further reduced. Since the adhesive force and tension vary depending on the material 2, the partition wall thickness varies greatly, and it may be difficult to obtain a desired partition wall thickness. In addition, even in the same material, the position of the formed cell structure due to the variation in the amount of gas sandwiched between the recesses 3 between the material 2 and the substrate 1 or the unevenness of the thickness of the material 2 when applied to the substrate 1 May cause unevenness of the partition wall thickness.

一方、図1に示した本発明の複合セル構造体の製造方法では、図3b)に示すように、複合セル構造体形成に用いる本発明の複合セル構造体製造用基板(テンプレート)表面に、できあがった複合セル構造体のセルの開口部形状に相当する高親和性パターンを帯状に設けることによって、セルの隔壁厚さx'を制御し、所望の厚さの隔壁を有するセルを安定して得ることができる。   On the other hand, in the method for producing a composite cell structure of the present invention shown in FIG. 1, as shown in FIG. 3b), on the surface of the composite cell structure production substrate (template) of the present invention used for forming the composite cell structure, By providing a high-affinity pattern corresponding to the shape of the opening of the cell of the composite cell structure thus formed in a strip shape, the cell partition wall thickness x ′ is controlled, and a cell having a partition wall having a desired thickness can be stabilized. Obtainable.

図4に気体膨張によるハニカム構造形成工程における、セル形成及び隔壁形成の様子を模式的に表す。左から、a)変形可能な材料2と親和性の低い基板1を用いた例、b)変形可能な材料2と親和性の高い基板1を用いた例、c)表面に本発明の変形可能な材料2と親和性の異なる二種類の領域を持つ基板1を用いた例を示す。変形可能な材料2の表面に凹部の気体の膨張力によって空隙が発生し、ある程度の空間が形成されるまでは、それぞれの場合でほとんど差はない。   FIG. 4 schematically shows the state of cell formation and partition formation in the honeycomb structure forming step by gas expansion. From the left, a) an example using the substrate 1 having a low affinity with the deformable material 2, b) an example using the substrate 1 having a high affinity with the deformable material 2, c) the surface of the present invention can be deformed An example is shown in which a substrate 1 having two types of regions having different affinity from the material 2 is used. There is almost no difference in each case until voids are generated on the surface of the deformable material 2 due to the expansion force of the gas in the recesses and a certain amount of space is formed.

所定料以上にセルの空間が大きくなると、a)変形可能な材料2と親和性の低い基板1を用いた例では、変形可能な材料2と親和性の低い基板1との間の密着力が弱く、セル同士が繋がってしまうことがある。また、b)変形可能な材料2と親和性の高い基板1を用いた例では、変形可能な材料2と親和性の高い基板1との密着力が強すぎて、セルの開口部に変形可能な材料2が残ってしまい、ハニカム構造体としては、開口部の狭いセル間の隔壁の厚さにばらつきのあるハニカム構造体となってしまう。   When the cell space becomes larger than a predetermined charge, a) In the example using the substrate 1 having a low affinity with the deformable material 2, the adhesion between the deformable material 2 and the substrate 1 having a low affinity is reduced. It is weak and the cells may be connected. B) In the example using the substrate 1 having a high affinity with the deformable material 2, the adhesive force between the deformable material 2 and the substrate 1 with a high affinity is too strong and can be deformed into the opening of the cell. The remaining material 2 remains, and the honeycomb structure becomes a honeycomb structure having a variation in the thickness of partition walls between cells having narrow openings.

これに対し、c)表面に本発明の変形可能な材料2と親和性の異なる二種類の領域を持つ基板1を用いた例では、変形可能な材料2は、セルの開口部で高親和性領域4の部分のみに密着し、低親和性領域5からは剥離する。すなわち、セル開口部におけるセル間の隔壁の厚さは高親和性領域4の帯の幅により制御される。そして、これに従って開口部以外のセル中の隔壁の幅も制御される。   On the other hand, c) In the example using the substrate 1 having two types of regions having different affinity with the deformable material 2 of the present invention on the surface, the deformable material 2 has a high affinity at the opening of the cell. It adheres only to the region 4 and peels off from the low affinity region 5. That is, the thickness of the partition between cells in the cell opening is controlled by the width of the band of the high affinity region 4. And according to this, the width of the partition walls in the cells other than the openings is also controlled.

以下に、本発明をいくつかの実施形態及び実施例を示して具体的に説明する。なお、本発明は、下記の実施形態及び実施例に限られるものではなく、本発明の目的に応じて実施形態又は実施例に示した例を変更、変形することができる。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to some embodiments and examples. In addition, this invention is not restricted to the following embodiment and Example, The example shown to embodiment or the Example can be changed and deform | transformed according to the objective of this invention.

(実施形態1:複合セル構造体製造用基板)
本発明の複合セル構造体形成用基板の実施形態1を図5に示した。図5は、複合セル構造体となるべきシート状の変形可能な材料を密着させる基板(図2に示した基板1に相当する複合セル構造体形成用基板である。)の表面を表している。この基板は、図2に示した基板1に相当する複合セル構造体形成用基板である。この基板の表面には、六方最密充填構造に配置した凹部3が形成されている。その凹部3の周囲にセル形成材料である変形可能な材料に対して親和性が低い低親和性領域5とこの低親和性領域5を仕切る親和性の高い高親和性領域4が形成されている。これらの領域は、連続した六角形状の高親和性領域4の帯によって亀甲模様を描いている。それぞれの六角形の中心には凹部がひとつずつ配置されている。
(Embodiment 1: Substrate for manufacturing composite cell structure)
Embodiment 1 of the composite cell structure forming substrate of the present invention is shown in FIG. FIG. 5 shows the surface of a substrate (a substrate for forming a composite cell structure corresponding to the substrate 1 shown in FIG. 2) to which a sheet-like deformable material to be a composite cell structure is adhered. . This substrate is a composite cell structure forming substrate corresponding to the substrate 1 shown in FIG. On the surface of this substrate, a recess 3 arranged in a hexagonal close-packed structure is formed. A low-affinity region 5 having a low affinity for the deformable material that is a cell forming material and a high-affinity region 4 having a high affinity for partitioning the low-affinity region 5 are formed around the recess 3. . These regions have a turtle shell pattern drawn by a continuous hexagonal high affinity region 4 band. A recess is arranged at the center of each hexagon.

なお、図5では凹部3を六方最密充填構造に配置したが、凹部3を正方格子状に配置し高親和性領域4をそれぞれの凹部を包囲するように正方格子状に形成してもよい。また、基板は、剛性のある金属やガラス、セラミックスなどの無機物、又は複合セル構造体を形成する材料を変形させる際に変形しないような樹脂などの有機物やその複合材料で形成してもよい。例えば、基板材料としてニッケル、シリコン、ガラス上にレジスト剤パターンを形成したもの、銅張り板(銅/ポリイミド積層基板)、ガラス、その他樹脂材(ポリイミド、PET、アクリル等)が挙げられる。具体例としては、電析によるニッケル型、ガラス上にレジスト剤パターンを形成したもの、銅張り板(銅/ポリイミド積層基板)、エッチングしたガラス、シリコンなどが挙げられる。高親和性領域4及び低親和性領域5は、基材及び変形可能な材料の種類に応じて適宜選択すればよいが、基材が金属製で、変形可能な材料が樹脂の場合は、低親和性領域5は基板の金属表面そのままで、高親和性領域4として金属表面に変形可能な材料が樹脂との親和性の高い樹脂や有機系接着剤を使用すればよい。   In FIG. 5, the recesses 3 are arranged in a hexagonal close-packed structure. However, the recesses 3 may be arranged in a square lattice shape, and the high affinity regions 4 may be formed in a square lattice shape so as to surround the respective recesses. . The substrate may be formed of an inorganic substance such as a rigid metal, glass, or ceramic, or an organic substance such as a resin that does not deform when the material forming the composite cell structure is deformed, or a composite material thereof. Examples of the substrate material include nickel, silicon, glass having a resist pattern formed on glass, a copper-clad plate (copper / polyimide laminated substrate), glass, and other resin materials (polyimide, PET, acrylic, etc.). Specific examples include a nickel mold by electrodeposition, a glass having a resist pattern formed on glass, a copper-clad plate (copper / polyimide laminated substrate), etched glass, silicon, and the like. The high affinity region 4 and the low affinity region 5 may be appropriately selected according to the type of the base material and the deformable material. However, when the base material is made of metal and the deformable material is a resin, the low affinity region 4 and the low affinity region 5 are low. The affinity region 5 may be a metal surface of the substrate as it is, and a material that can be deformed to the metal surface as the high affinity region 4 may be a resin or an organic adhesive having a high affinity for the resin.

詳しくは後述するが、このような基板を使用して複合セル構造体を形成すると、セルの隔壁の厚さが薄く均一なハニカム構造を得ることができ、高親和性領域4の幅に応じてセルの隔壁の厚さをコントロールすることも可能となる。   As will be described in detail later, when such a substrate is used to form a composite cell structure, a uniform honeycomb structure in which the cell partition wall thickness is thin can be obtained, depending on the width of the high affinity region 4. It is also possible to control the thickness of the cell partition walls.

(実施形態2:複合セル構造体の製造方法(A))
本発明の複合セル構造体の製造方法は、複数の離間した凹部を備えた基板の表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆する被覆工程と、前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって前記変形可能な材料に複数のセルを形成するセル形成工程とを含む複合セル構造体の製造方法であり、基板は、実施形態1で説明した基板1を用いている。
(Embodiment 2: Manufacturing method of composite cell structure (A))
The manufacturing method of the composite cell structure of the present invention includes a coating step of covering a surface of a substrate having a plurality of spaced recesses with a deformable material so that a space remains in the recess, and a gas in the space of the recess A method of manufacturing a composite cell structure including a cell forming step of forming a plurality of cells in the deformable material by an expansion pressure, and the substrate is the substrate 1 described in the first embodiment.

本発明の複合セル構造体の製造方法を実施形態2として図6に示す。図6においては、まず、(a)実施形態1で説明した基板1を用いて、これを変形可能な材料2として熱可塑性樹脂(例えばPET)製のシート2を用いて被覆する。この際、基板1の凹部の空間は残したまま基板1の表面にシート2を密着させる。次に(b)材料変形工程として、PET製のシート2で被覆した基板1を減圧チャンバに導入して、PET製のシート2が変形可能な温度にして、減圧チャンバを減圧にする。そうすると、シート2の凹部に臨む領域が膨らみだし、それぞれの凹部に対応してセルが形成される。シート2は全体としてハニカム構造のシートとなる。所望のハニカム構造になったら、減圧チャンバの圧力(減圧)を保ちながら温度を下げる。十分に温度が下がり、PET製のシート2が硬化したら、このハニカム構造のシートを基板から剥離する。剥離が終了したら、減圧チャンバの圧力を常圧に戻して本発明の複合セル構造体の製造方法が完成する。なお、通常は、ハニカム構造のシートを基板から剥離する前に減圧チャンバの圧力を常圧に戻しても、ハニカム構造のシートは弾性変形するが、基板から剥離してやれば元のハニカム構造のシートに戻る。   A method for producing a composite cell structure of the present invention is shown in FIG. In FIG. 6, first, (a) the substrate 1 described in the first embodiment is used, and this is covered with a sheet 2 made of a thermoplastic resin (for example, PET) as a deformable material 2. At this time, the sheet 2 is brought into close contact with the surface of the substrate 1 while leaving the space of the concave portion of the substrate 1. Next, (b) as a material deformation step, the substrate 1 covered with the PET sheet 2 is introduced into a decompression chamber, and the decompression chamber is decompressed at a temperature at which the PET sheet 2 can be deformed. If it does so, the area | region which faces the recessed part of the sheet | seat 2 will swell, and a cell will be formed corresponding to each recessed part. The sheet 2 is a sheet having a honeycomb structure as a whole. When the desired honeycomb structure is obtained, the temperature is lowered while maintaining the pressure (decompression) of the decompression chamber. When the temperature is sufficiently lowered and the PET sheet 2 is cured, the honeycomb structured sheet is peeled from the substrate. When the peeling is completed, the pressure in the decompression chamber is returned to the normal pressure, and the manufacturing method of the composite cell structure of the present invention is completed. Normally, the honeycomb structured sheet is elastically deformed even if the pressure in the decompression chamber is returned to the normal pressure before the honeycomb structured sheet is peeled off the substrate, but if the sheet is peeled off from the substrate, the original honeycomb structured sheet is restored. Return.

(実施形態3:複合セル構造体の製造方法(B))
本発明の複合セル構造体の製造方法を実施形態3として図7に示す。図7に示す製造工程においては、実施形態2と類似しているので、実施形態2と相違している部分を説明する。説明を省いている部分は、実施形態2と同様である。この実施形態においては、変形可能な材料2としてゼラチン水溶液のシート2を用いている。このゼラチン水溶液のシート2はゲル化しない程度に加温しておく。そして、a)基板1をシート2で被覆し、b)基板1を被覆したままシート2を減圧チャンバで減圧にして発泡させ、ハニカム構造を形成する。c)ハニカム構造を形成したシート2を減圧にしたまま、または減圧のまま乾燥気流中で水分を除去する。水分を除去されたゼラチンのシートは、ハニカム構造を維持したまま硬化する。硬化したハニカム構造のシートは基板から剥離して本発明の複合セル構造体が製造できる。この実施形態においては、安価で取り扱いやすいゼラチン水溶液を用いているので、装置も簡単で製造が容易である。
(Embodiment 3: Manufacturing method of composite cell structure (B))
A method for producing a composite cell structure of the present invention is shown in FIG. Since the manufacturing process shown in FIG. 7 is similar to that of the second embodiment, a portion different from that of the second embodiment will be described. The parts that are not described are the same as those in the second embodiment. In this embodiment, a gelatin aqueous solution sheet 2 is used as the deformable material 2. The gelatin aqueous sheet 2 is heated to such an extent that it does not gel. Then, a) the substrate 1 is coated with the sheet 2, and b) the sheet 2 is foamed under reduced pressure in the decompression chamber while the substrate 1 is coated, thereby forming a honeycomb structure. c) Moisture is removed in a dry air stream with the honeycomb structure-formed sheet 2 under reduced pressure or under reduced pressure. The gelatin sheet from which moisture has been removed hardens while maintaining the honeycomb structure. The cured honeycomb structure sheet can be peeled off from the substrate to produce the composite cell structure of the present invention. In this embodiment, an inexpensive and easy-to-handle gelatin aqueous solution is used, so the apparatus is simple and easy to manufacture.

(実施形態4:複合セル構造体の製造方法(C))
さらに、本発明の複合セル構造体の製造方法を実施形態4として図8に示す。図8に示す製造工程おいては、変形可能な材料2として紫外線硬化樹脂のシート2を用いた。このため、b)工程で発泡して形成したハニカム構造のシート2に紫外線を照射して硬化する。その他の工程は実施形態3、4と同じである。この実施形態においては、紫外線照射工程が短時間で済むので、製造時間が大幅に短縮できる。
(Embodiment 4: Method for producing composite cell structure (C))
Furthermore, the manufacturing method of the composite cell structure of this invention is shown in FIG. In the manufacturing process shown in FIG. 8, an ultraviolet curable resin sheet 2 was used as the deformable material 2. For this reason, the honeycomb structured sheet 2 formed by foaming in the step b) is cured by irradiating with ultraviolet rays. Other steps are the same as those in the third and fourth embodiments. In this embodiment, since the ultraviolet irradiation process can be completed in a short time, the manufacturing time can be greatly shortened.

(実施形態5:複合セル構造体の製造方法(D))
さらに、本発明の複合セル構造体の製造方法を実施形態5として図9に示す。図9に示す製造工程おいては、変形可能な材料2として紫外線硬化樹脂のシート2を用いた。紫外線硬化樹脂のように材料からの揮発成分が少ない場合、図9に示すように、(a)工程において、基板1の上にシート2を載せた後で、シート2の上に板状又はフィルム状の押圧板7を載せてシート2を挟み、この状態で(b)基板1とシート2の間の凹部に挟まれた気体の膨張によって材料を変形させる工程と、(c)外部からエネルギーを与えて変形した材料を固める工程により複合セル構造体を製造することができる。
(Embodiment 5: Manufacturing method (D) of composite cell structure)
Furthermore, the manufacturing method of the composite cell structure of this invention is shown in FIG. In the manufacturing process shown in FIG. 9, an ultraviolet curable resin sheet 2 was used as the deformable material 2. When there are few volatile components from a material like an ultraviolet curable resin, as shown in FIG. 9, after mounting the sheet | seat 2 on the board | substrate 1 in a (a) process, as shown in FIG. (B) a step of deforming the material by the expansion of the gas sandwiched between the recesses between the substrate 1 and the sheet 2, and (c) energy from the outside. The composite cell structure can be manufactured by the process of applying and hardening the deformed material.

このようにすることによって、基板1と押圧板7との間隔を制御することにより、セル構造体のシートの厚さ制御が容易となるほか、基板1から剥離した後、押圧板7に付着した状態でセル構造体を取り扱うことができるので、セル構造体を破損することなく、容易に取り扱うことができる。   In this way, by controlling the distance between the substrate 1 and the pressing plate 7, it becomes easy to control the thickness of the sheet of the cell structure, and after peeling from the substrate 1, the sheet 1 adheres to the pressing plate 7. Since the cell structure can be handled in a state, it can be easily handled without damaging the cell structure.

これらの複合セル構造体の製造方法において、変形可能な材料としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、プルラン、アルブミン、CMC,ポリアクリル酸、セルロース、デンプン、ゼラチン、アルギン酸塩、グアーガム、アラビアガム、カラーギナン、トラガント、ペクチン、デキストリン、カゼイン、コラーゲン、ポリビニルメチルエーテル、カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレングリコール、酸化エチレン、寒天、ローカストビーンガム、キサンタンガム、サイクロデキストリン、タンニン酸、カラヤガム、ジュランガム、ファーセレラン、トラントガム、レシチン、キチンキトサン、コンドロイチン硫酸ナトリウム、リグニンスルホン酸、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ポリアクリルアマイド、ポリエチレンイミン、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレンオキサイド、ポリアリルアミン、ウレタンアクリル系UV硬化樹脂、エポキシアクリル系UV硬化樹脂、アルコキシアクリル系UV硬化樹脂、などが挙げられる。具体的には、例えばポリウレタンであれば、ハイドランWLS−201(大日本インキ化学工業製)、水溶性樹脂である。ゼラチンでは、MC−243(ゼライス株式会社製)を使用し、5〜30wt%程度に水に溶解させ使用できる。ポリビニルアルコールでは、ポバールPVA117(クラレ製)を使用でき、例えばポリビニルアルコールを5〜30wt%程度に水に溶解させて使用すればよい。   In the method for producing these composite cell structures, the deformable materials include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyurethane, pullulan, albumin, CMC, polyacrylic acid, cellulose, starch, gelatin, alginate, guar gum, gum arabic, Color ginnan, tragacanth, pectin, dextrin, casein, collagen, polyvinyl methyl ether, carboxyvinyl polymer, sodium polyacrylate, polyethylene glycol, ethylene oxide, agar, locust bean gum, xanthan gum, cyclodextrin, tannic acid, karaya gum, duran gum, far celeran , Trang gum, lecithin, chitin chitosan, chondroitin sodium sulfate, lignin sulfonic acid, methylcellulose, hydroxy Examples include methylcellulose, polyacrylamide, polyethyleneimine, dimethylaminoethyl acrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, polyethylene oxide, polyallylamine, urethane acrylic UV curable resin, epoxy acrylic UV curable resin, and alkoxy acrylic UV curable resin. . Specifically, for example, for polyurethane, Hydran WLS-201 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals), water-soluble resin. For gelatin, MC-243 (manufactured by Zerais Co., Ltd.) can be used, and it can be dissolved in water to about 5 to 30 wt%. For polyvinyl alcohol, Poval PVA117 (manufactured by Kuraray) can be used. For example, polyvinyl alcohol may be used by dissolving it in water at about 5 to 30 wt%.

(実施例)
以下に、具体的な複合セル構造体製造用基板を実施例として示す。基板1の表面に形成する変形可能な材料との親和性の異なる領域の構成は、変形可能な材料の材質と基板の材質とによって異なる。そこで、以下の実施例では、変形可能な材料の材質と基板の材質の組み合わせごとに、対応する変形可能な材料との親和性の異なる領域の構成を例示した。
(Example)
Hereinafter, a specific substrate for producing a composite cell structure will be shown as an example. The structure of the region having a different affinity with the deformable material formed on the surface of the substrate 1 differs depending on the material of the deformable material and the material of the substrate. Therefore, in the following embodiments, the configuration of regions having different affinity with the corresponding deformable material is illustrated for each combination of the material of the deformable material and the material of the substrate.

基板表面の親水性、親油性、撥水性、撥油性について説明しておく。基板表面の親水性とは水に濡れやすい性質であり、水との接触角が小さくなる程度であり、表面エネルギーが約50erg/cm以上の高エネルギー表面の基板を親水性基板としている。ガラス面、金属面、PVA、セルロース、架橋高分子電解質面、グラフト化樹脂表面などが親水性基板表面に該当する。親油性表面とは炭化水素(例えばn-デカンなど)との接触角が小さくなる面であり、表面エネルギーとしては約20〜50erg/cm程度の面であり、水に対してはぬれ難く、疎水性を示す。PE、PP、ポリエステル、ナイロン、PMMAなどの表面が該当する。撥水性、撥油性の面はそれぞれ、水、油をはじく面であり、表面エネルギーとしては約20erg/cm以下の面であり、フッ素系樹脂やシリコーン樹脂の表面が該当する。(表面エネルギーに関する参考文献:表面の科学,産業図書(1990)筏義人)
(実施例1)
親水性材料1と親水性基板の場合
(ゼラチン等たんぱく質水溶液+ガラス基板、金属基板)
1)ガラス基板+ゼラチン(1)
図10に示すように、親水性基板であるガラス基板表面に、凹部3を取り囲むように亀甲模様の帯状の親水性領域11としてのガラス基板表面を残して、アルキルトリアルコキシシラン、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)等シランカップリング剤を凹部3を取り囲む六角形状に塗布して親油性領域12を形成した。同様に、シリコン基板上に熱酸化膜を形成した基板でもよい。
The hydrophilicity, lipophilicity, water repellency and oil repellency of the substrate surface will be described. The hydrophilicity of the substrate surface is a property that is easily wetted by water, has a small contact angle with water, and a substrate having a high energy surface with a surface energy of about 50 erg / cm 2 or more is used as the hydrophilic substrate. A glass surface, a metal surface, PVA, cellulose, a crosslinked polymer electrolyte surface, a grafted resin surface, and the like correspond to the hydrophilic substrate surface. The lipophilic surface is a surface with a small contact angle with a hydrocarbon (for example, n-decane, etc.), the surface energy is about 20 to 50 erg / cm 2 , and it is difficult to wet with water. Shows hydrophobicity. The surface includes PE, PP, polyester, nylon, PMMA, and the like. The water-repellent and oil-repellent surfaces are surfaces that repel water and oil, respectively, have a surface energy of about 20 erg / cm 2 or less, and the surfaces of fluorine-based resins and silicone resins are applicable. (References on surface energy: surface science, industrial books (1990) Yoshito Kan)
Example 1
In the case of hydrophilic material 1 and hydrophilic substrate (protein solution such as gelatin + glass substrate, metal substrate)
1) Glass substrate + gelatin (1)
As shown in FIG. 10, alkyltrialkoxysilane, HMDS (hexamethyl) is left on the glass substrate surface, which is a hydrophilic substrate, leaving the glass substrate surface as a strip-shaped hydrophilic region 11 surrounding the concave portion 3. A silane coupling agent such as (disilazane) was applied in a hexagonal shape surrounding the recess 3 to form the lipophilic region 12. Similarly, a substrate in which a thermal oxide film is formed on a silicon substrate may be used.

親油性領域12の形成方法としては、インクジェット方式、スクリーン印刷方式、マイクロコンタクトプリンティング方式などの印刷工法を用いて基板表面と親和性が異なる物質をパターン状に塗布、あるいは転写した後、乾燥や加熱などにより定着する方法が有効である。実施例1では、上記方法にて形成された親和性パターンを有する基板表面に、ゼラチンの15%水溶液の薄膜を形成する。薄膜形成方法としては一般の液膜コート手段を用いても良いし、シャボン状の膜を形成しながら基板1の表面にシャボン膜を載せる方法も有効である。その後、図5に示すように基板1を減圧槽内で1〜50kPa程度に減圧し、ゼラチン薄膜と基板間にはさまれた気体を膨張させることによって、ゼラチン材料を変形させ隔壁に隔てられたセル形状を形成する。ゼラチンのゲル化、及び水分の乾燥によってゼラチンはセル形状を保ったまま固化させることができる。   As a method for forming the oleophilic region 12, a substance having an affinity for the substrate surface is applied or transferred in a pattern using a printing method such as an ink jet method, a screen printing method, or a micro contact printing method, and then dried or heated. A fixing method is effective. In Example 1, a thin film of a 15% aqueous solution of gelatin is formed on the surface of a substrate having an affinity pattern formed by the above method. As a thin film forming method, a general liquid film coating means may be used, and a method of placing a soap film on the surface of the substrate 1 while forming a soap film is also effective. Thereafter, as shown in FIG. 5, the substrate 1 was decompressed to about 1 to 50 kPa in a decompression tank, and the gas sandwiched between the gelatin thin film and the substrate was expanded to deform the gelatin material and to be separated by the partition walls. A cell shape is formed. Gelatin can be solidified while maintaining its cell shape by gelatinization and moisture drying.

このとき、基板表面に親水性領域がない場合には、セルの隔壁自体の壁厚み制御が難しいことに加えて、基板面にはみ出した薄膜が隔壁と基板の間に形成されるため開口形状を安定させることが難しいが、本実施例のように親水性領域を有する基板を用いた場合には、基板の親水性領域の幅に応じてゼラチン隔壁の厚さを制御することが可能である。なお、材料としてはゼラチンなどゲル化する水溶性たんぱく質が望ましいが、発泡性に優れた他のたんぱく質を用いることも可能である。
2)金属基板+ゼラチン(1)
図10に示す上記(ガラス基板+ゼラチン)のガラス基板を金属基板に変更して、金属基板表面にアルカンチオール等の亀甲模様の膜形成により親油性領域を形成した。金属基板としては、表面にアルカンチオールとの親和性が高いAu,Ag,Cuなどの膜を有する基板が適しており、この金属表面に、印刷工法を用いてアルカンチオール膜を亀甲模様パターン状に形成することによって、アルカンチオールのメチル基末端が表面に並ぶ新油性領域を形成することができる。
At this time, when there is no hydrophilic region on the substrate surface, it is difficult to control the wall thickness of the cell partition wall itself, and in addition, a thin film protruding from the substrate surface is formed between the partition wall and the substrate, so that the opening shape is formed. Although it is difficult to stabilize, when a substrate having a hydrophilic region is used as in this embodiment, the thickness of the gelatin partition wall can be controlled according to the width of the hydrophilic region of the substrate. The material is preferably a water-soluble protein that gels, such as gelatin, but it is also possible to use other proteins with excellent foamability.
2) Metal substrate + gelatin (1)
The above glass substrate (glass substrate + gelatin) shown in FIG. 10 was changed to a metal substrate, and a lipophilic region was formed on the surface of the metal substrate by forming a turtle shell pattern such as alkanethiol. As the metal substrate, a substrate having a film of Au, Ag, Cu or the like having a high affinity with alkanethiol on the surface is suitable, and the alkanethiol film is formed on the metal surface in a tortoiseshell pattern using a printing method. By forming, a new oily region in which the methyl group ends of the alkanethiol are arranged on the surface can be formed.

アルカンチオールとしては、例えばn-デカンチオール、n-ウンデカンチオール、n-ドデカンチオール、n-テトラデカンチオール、n-ペンタデカンチオール、n-ヘキサデカンチオール、n-ヘプタデカンチオール、n-オクタデカンチオール、n-ノナデカンチオール、n-エイコサンチオールなどを用いることができる。   Examples of the alkanethiol include n-decanethiol, n-undecanethiol, n-dodecanethiol, n-tetradecanethiol, n-pentadecanethiol, n-hexadecanethiol, n-heptadecanethiol, n-octadecanethiol, n-nona. Decanethiol, n-eicosanethiol, etc. can be used.

3)ガラス基板+ゼラチン(2)
図11に示すように、複数の凹部を有するガラス基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域11を残して、HFDSやフッ化アルキルトリメトキシシラン等フッ化炭素末端を有するシランカップリング剤の層を設けることにより撥水性パターン領域13を形成した。パターンの形状は帯状にガラス基板表面を残した亀甲模様である(以下、パターンの形状は全て同じ亀甲模様である。)。
3) Glass substrate + gelatin (2)
As shown in FIG. 11, a silane cup having a fluorinated carbon end such as HFDS or fluorinated alkyltrimethoxysilane, leaving a hydrophilic region 11 which is a surface of a belt-shaped turtle shell pattern on the surface of a glass substrate having a plurality of recesses. The water-repellent pattern region 13 was formed by providing a ring agent layer. The shape of the pattern is a tortoiseshell pattern in which the surface of the glass substrate is left in a strip shape (hereinafter, the pattern shapes are all the same tortoiseshell pattern).

4)金属基板+ゼラチン(2)
図11に示すガラス基板+ゼラチンのガラス基板を金属基板に変更して、複数の凹部を有する金属基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域11を残して、HFDTフッ化アルカンチオール等の膜形成によりフッ化炭素末端が表面に並ぶ撥水性領域14を形成した。パターニング方法としてマイクロコンタクトプリンティング法を利用することが可能である。
4) Metal substrate + gelatin (2)
The glass substrate + gelatin glass substrate shown in FIG. 11 is changed to a metal substrate, and the HFDT fluorinated alkanethiol is left on the surface of the metal substrate having a plurality of recesses, leaving the hydrophilic region 11 that is the surface of the belt-shaped turtle shell pattern. A water-repellent region 14 having fluorocarbon ends aligned on the surface was formed by forming a film such as the above. The micro contact printing method can be used as a patterning method.

5)ガラス基板又は金属基板+ゼラチン(1)
図12に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域11を残して、微細な凹凸による撥水性領域14を形成した。この場合、基板表面に薬剤等を塗布しなくても、表面の微細構造を調整することにより、変形可能な材料2との親和性に変化をもたらすことができる。
5) Glass substrate or metal substrate + gelatin (1)
As shown in FIG. 12, a water-repellent region 14 with fine irregularities was formed on the surface of a glass substrate or metal substrate having a plurality of recesses, leaving the hydrophilic region 11 that is the surface of a strip-shaped turtle shell pattern. In this case, the affinity with the deformable material 2 can be changed by adjusting the fine structure of the surface without applying a drug or the like to the substrate surface.

6)ガラス基板又は金属基板+ゼラチン(2)
図13に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域11を残して、微細凹凸自己相似性形状による撥水性領域15を形成した。この場合、基板表面に薬剤等を塗布しなくても、表面の微細構造を調整することにより、変形可能な材料2との親和性に変化をもたらすことができる。
6) Glass substrate or metal substrate + gelatin (2)
As shown in FIG. 13, a water-repellent region 15 having a fine unevenness self-similar shape was formed on the surface of a glass substrate or metal substrate having a plurality of recesses, leaving a hydrophilic region 11 that is a surface of a strip-shaped turtle shell pattern. . In this case, the affinity with the deformable material 2 can be changed by adjusting the fine structure of the surface without applying a drug or the like to the substrate surface.

7)ガラス基板又は金属基板+ゼラチン(3)
図13に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に、帯状の亀甲模様の表面である親水性領域11を残して、微細凹凸自己相似性形状の形成の代わりにアルキルケテンダイマー層形成によるによる撥水性領域15を形成した。ステアリルケテンダイマーやベヘニルケテンダイマーなどのアルキルケテンダイマーはアルケニル無水コハク酸などと同様に印刷分野において紙上でインクがにじむことを防ぐためのサイジング剤として一般に用いられている。上記アルキルケテンダイマーはその結晶表面の構造がフラクタルと呼ばれる自己相似性を有し、実表面積が大きいため、水が微細表面形状の奥まで濡らし難い表面を形成することが知られている。このアルキルケテンダイマーをインクジェット他の印刷手段などを用いて基板表面にパターン状に膜形成し、再溶融と冷却による再結晶化することによって、前記撥水性の領域を得ることができる。
7) Glass substrate or metal substrate + gelatin (3)
As shown in FIG. 13, an alkyl ketene dimer is used instead of forming a fine concavo-convex self-similar shape by leaving a hydrophilic region 11 which is a surface of a band-shaped turtle shell pattern on the surface of a glass substrate or metal substrate having a plurality of recesses. A water-repellent region 15 was formed by layer formation. Alkyl ketene dimers such as stearyl ketene dimer and behenyl ketene dimer are generally used as a sizing agent for preventing ink from bleeding on paper in the printing field, like alkenyl succinic anhydride. It is known that the alkyl ketene dimer has a self-similarity called “fractal” in its crystal surface structure and has a large actual surface area, so that water forms a surface that is difficult to wet to the back of a fine surface shape. The water-repellent region can be obtained by forming a film of this alkyl ketene dimer in a pattern on the substrate surface using an inkjet or other printing means and recrystallizing by remelting and cooling.

(実施例2)
親水性材料2と親水性基板の場合
(親水性UV硬化樹脂+ガラス基板、金属基板)
1)ガラス基板+親水性UV硬化樹脂(1)
図10に示すように、複数の凹部を有するガラス基板表面に親水性領域11を亀甲模様のパターンで残して、アルキルトリアルコキシシラン、HMDS(ヘキサメチルジシラザン)等シランカップリング剤の層を設けることにより親油性領域12を形成した。
(Example 2)
In case of hydrophilic material 2 and hydrophilic substrate (hydrophilic UV curable resin + glass substrate, metal substrate)
1) Glass substrate + hydrophilic UV curable resin (1)
As shown in FIG. 10, a layer of a silane coupling agent such as alkyltrialkoxysilane or HMDS (hexamethyldisilazane) is provided on the surface of a glass substrate having a plurality of recesses, leaving the hydrophilic region 11 in a tortoiseshell pattern. As a result, the lipophilic region 12 was formed.

2)金属基板+親水性UV硬化樹脂(1)
図10に示すガラス基板を金属基板に代えて、複数の凹部を有する金属基板表面に親水性領域11を亀甲模様のパターンで残して、アルカンチオール等の膜形成により親油性領域12を形成
3)ガラス基板+親水性UV硬化樹脂(2)
図11に示すように、複数の凹部を有するガラス基板表面に親水性領域11を亀甲模様のパターンで残して、HFDSやフッ化アルキルトリメトキシシラン等シランカップリング剤の層を設けることにより撥水性パターン領域を形成した。
2) Metal substrate + hydrophilic UV curable resin (1)
The glass substrate shown in FIG. 10 is replaced with a metal substrate, and the hydrophilic region 11 is left in the pattern of a tortoiseshell pattern on the surface of the metal substrate having a plurality of recesses, and the lipophilic region 12 is formed by forming a film of alkanethiol or the like 3) Glass substrate + hydrophilic UV curable resin (2)
As shown in FIG. 11, the hydrophilic region 11 is left in a tortoiseshell pattern pattern on the surface of the glass substrate having a plurality of recesses, and a layer of a silane coupling agent such as HFDS or fluorinated alkyltrimethoxysilane is provided to provide water repellency. A pattern area was formed.

4)金属基板+親水性UV硬化樹脂(2)
図11に示すガラス基板を金属基板に代えて、複数の凹部を有する金属基板表面に親水性領域11を亀甲模様のパターンで残して、HFDTやフッ化アルカンチオール等の膜形成により撥水性領域13を形成した。
4) Metal substrate + hydrophilic UV curable resin (2)
The glass substrate shown in FIG. 11 is replaced with a metal substrate, and the hydrophilic region 11 is left in the pattern of a turtle shell pattern on the surface of the metal substrate having a plurality of recesses, and the water-repellent region 13 is formed by forming a film of HFDT or alkanethiol fluoride. Formed.

5)ガラス基板又は金属基板+親水性UV硬化樹脂(1)
図12に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に親水性領域11を亀甲模様のパターンで残して、微細凹凸による撥水性領域14を形成した。
5) Glass substrate or metal substrate + hydrophilic UV curable resin (1)
As shown in FIG. 12, the hydrophilic region 11 was left in a turtle shell pattern on the surface of a glass substrate or metal substrate having a plurality of recesses to form a water-repellent region 14 with fine irregularities.

6)ガラス基板又は金属基板+親水性UV硬化樹脂(2)
図13に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に親水性領域11を亀甲模様のパターンで残して、自己相似性形状を有する撥水性領域15を形成した。
6) Glass substrate or metal substrate + hydrophilic UV curable resin (2)
As shown in FIG. 13, the water-repellent region 15 having a self-similar shape was formed by leaving the hydrophilic region 11 in a turtle shell pattern on the surface of a glass substrate or metal substrate having a plurality of recesses.

6)ガラス基板又は金属基板+親水性UV硬化樹脂(3)
図13に示すように、複数の凹部を有するガラス基板又は金属基板表面に親水性領域11を亀甲模様のパターンで残して、自己相似性の表面にアルキルケテンダイマー層を形成して撥水性領域15を形成した。
6) Glass substrate or metal substrate + hydrophilic UV curable resin (3)
As shown in FIG. 13, the water-repellent region 15 is formed by forming an alkyl ketene dimer layer on the self-similar surface, leaving the hydrophilic region 11 in a turtle shell pattern on the surface of the glass substrate or metal substrate having a plurality of recesses. Formed.

上記のような親水性パターンを有する基板に対して、変形可能な紫外線硬化樹脂を用いて気体膨脹させることによってセル構造を形成してから紫外線硬化させることにより変形しないハニカム構造体を製造することができる。   It is possible to manufacture a honeycomb structure that does not deform by forming a cell structure by gas expansion using a deformable ultraviolet curable resin on a substrate having a hydrophilic pattern as described above, and then curing the substrate by ultraviolet curing. it can.

例えば、図9に示したプロセス例のように、水溶性のウレタンアクリル系紫外線硬化樹脂Loctite3301の層を基板1の上に形成しながらその上にガラス押圧板7を載せて樹脂を挟み込む。基板1と押圧板7の2枚の板のギャップを調整することによって、ハニカム構造体の層厚をコントロールすることができる。この状態で樹脂を挟んだ2枚の板ごと1〜50kPa程度に減圧し、基板1の凹部3と樹脂の間の気体を膨張させることによって樹脂形状を変形してセル構造を形成する。変形後に減圧状態のまま紫外線を照射して樹脂を硬化させることによってセル構造体を得ることができる。このとき、基板表面に親水性領域がない場合にはセル間の隔壁の厚さの制御が難しいことに加えて、基板面にはみ出した薄膜が隔壁と基板1の間に形成されるためセルの開口形状を安定させることが難しい。しかし、本発明の親水性領域を有する基板を用いた場合には、基板1の親水性領域の幅に応じてセル間の隔壁の厚さを制御することが可能である。なお、材料としては親水性のUV硬化樹脂の例を示したが、これに添加剤を混ぜて用いることも可能である。   For example, as in the process example shown in FIG. 9, a layer of water-soluble urethane acrylic ultraviolet curable resin Loctite 3301 is formed on the substrate 1, and a glass pressing plate 7 is placed thereon to sandwich the resin. By adjusting the gap between the two plates of the substrate 1 and the pressing plate 7, the layer thickness of the honeycomb structure can be controlled. In this state, the two plates sandwiching the resin are decompressed to about 1 to 50 kPa, and the resin shape is deformed by expanding the gas between the recess 3 of the substrate 1 and the resin to form a cell structure. A cell structure can be obtained by curing the resin by irradiating ultraviolet rays in a reduced pressure state after deformation. At this time, when there is no hydrophilic region on the substrate surface, it is difficult to control the thickness of the partition wall between cells, and a thin film protruding from the substrate surface is formed between the partition wall and the substrate 1, so It is difficult to stabilize the opening shape. However, when the substrate having the hydrophilic region of the present invention is used, the thickness of the partition between the cells can be controlled according to the width of the hydrophilic region of the substrate 1. In addition, although the example of hydrophilic UV curable resin was shown as a material, it is also possible to mix and use an additive for this.

(実施例3)
親水性材料1と親油性基板の場合
(ゼラチン等たんぱく質水溶液+樹脂基板)
1)エキシマレーザ露光により親水性領域
複数の凹部を有する親油性領域16である樹脂基板表面に、図14に示すように、親水性領域17の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、親油性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、エキシマレーザを露光することによる。又はレーザを走査する手段を用いて亀甲模様のパターンに対応して書き込むことも有効である。その他の工程は実施例1のゼラチンの場合と同様である。
図15.親油性の基板にエキシマレーザ露光により親水性領域を形成した例
2)真空紫外光照射により親水性領域
複数の凹部を有する親油性領域16である樹脂基板表面に、図14に示すように、親水性領域17の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、親油性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、真空紫外光照射することによる。その他の工程は実施例1のゼラチンの場合と同様である。
(Example 3)
In the case of hydrophilic material 1 and lipophilic substrate (protein solution such as gelatin + resin substrate)
1) Hydrophilic region by excimer laser exposure As shown in FIG. 14, a tortoiseshell pattern of the hydrophilic region 17 is formed on the surface of the resin substrate, which is the lipophilic region 16 having a plurality of recesses. The formation of the turtle shell pattern is formed by exposing the surface of the resin substrate having lipophilicity to a strip-shaped turtle shell pattern-shaped light-shielding mask and exposing to an excimer laser. Alternatively, it is also effective to write corresponding to the turtle shell pattern using a laser scanning means. The other steps are the same as in the case of gelatin in Example 1.
FIG. Example of forming hydrophilic region by excimer laser exposure on lipophilic substrate 2) Hydrophilic region by irradiation with vacuum ultraviolet light As shown in FIG. 14, the hydrophilic region is formed on the surface of the resin substrate which is the lipophilic region 16 having a plurality of recesses. The pattern of the turtle shell pattern of the sex region 17 is formed. The formation of the turtle shell pattern is performed by irradiating the surface of the resin substrate having lipophilicity with a band-shaped turtle shell pattern-shaped light-shielding mask and irradiating it with vacuum ultraviolet light. The other steps are the same as in the case of gelatin in Example 1.

(実施例4)
親水性材料2と親油性基板の場合
(親水性UV硬化樹脂+樹脂基板)
1)エキシマレーザ露光による親水性領域形成
複数の凹部を有する親油性領域16である樹脂基板表面に、図14に示すように、親水性領域17の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、親油性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、エキシマレーザを露光することによる。又はレーザを走査する手段を用いて亀甲模様のパターンに対応して書き込むことも有効である。その他の工程は実施例1の親水性UV硬化樹脂の場合と同様である。
Example 4
In the case of hydrophilic material 2 and lipophilic substrate (hydrophilic UV curable resin + resin substrate)
1) Formation of hydrophilic region by excimer laser exposure As shown in FIG. 14, a tortoiseshell pattern of the hydrophilic region 17 is formed on the surface of the resin substrate, which is the lipophilic region 16 having a plurality of recesses. The formation of the turtle shell pattern is formed by exposing the surface of the resin substrate having lipophilicity to a strip-shaped turtle shell pattern-shaped light-shielding mask and exposing to an excimer laser. Alternatively, it is also effective to write corresponding to the turtle shell pattern using a laser scanning means. The other steps are the same as in the case of the hydrophilic UV curable resin of Example 1.

2)真空紫外光照射による親水性領域形成
複数の凹部を有する親油性領域16である樹脂基板表面に、図14に示すように、親水性領域17の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、親油性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、真空紫外光照射することによる。その他の工程は実施例1の親水性UV硬化樹脂の場合と同様である。
2) Formation of hydrophilic region by irradiation with vacuum ultraviolet light As shown in FIG. 14, a tortoiseshell pattern of the hydrophilic region 17 is formed on the surface of the resin substrate, which is the lipophilic region 16 having a plurality of recesses. The formation of the turtle shell pattern is performed by irradiating the surface of the resin substrate having lipophilicity with a band-shaped turtle shell pattern-shaped light-shielding mask and irradiating it with vacuum ultraviolet light. The other steps are the same as in the case of the hydrophilic UV curable resin of Example 1.

(実施例5)
親水性材料1と撥水性基板の場合
(ゼラチン等たんぱく質水溶液+PDMS基板、テフロン基板)
1)プラズマ処理による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域18であるPDMS基板表面に、図15に示すように、帯状の撥水性領域19の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、酸素プラズマ処理することによる。その他の工程は実施例1のゼラチンの場合と同様である。
(Example 5)
In the case of hydrophilic material 1 and water-repellent substrate (protein aqueous solution such as gelatin + PDMS substrate, Teflon substrate)
1) Formation of hydrophilic region by plasma treatment As shown in FIG. 15, a turtle-shell pattern of a band-like water-repellent region 19 is formed on the surface of a PDMS substrate which is a water-repellent region 18 having a plurality of recesses. The formation of the turtle shell pattern is performed by applying oxygen plasma treatment to the surface of the water-repellent resin substrate with a band-shaped turtle shell pattern-shaped light shielding mask. The other steps are the same as in the case of gelatin in Example 1.

2)酸化チタン層形成+紫外光照射による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域18であるPDMS基板表面に、図15に示すように、帯状の撥水性領域19の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状に酸化チタン層形成を形成し、その他の部分に遮光マスクをして、紫外光照射することによる。その他の工程は、実施例1のゼラチンの場合と同様である。
2) Formation of a titanium oxide layer + hydrophilic region by ultraviolet light irradiation As shown in FIG. 15, a tortoiseshell pattern of the band-like water-repellent region 19 is formed on the surface of the PDMS substrate, which is a water-repellent region 18 having a plurality of recesses. Form. The pattern formation of the turtle shell pattern is formed by forming a titanium oxide layer in a band-shaped turtle shell pattern pattern on the surface of a water-repellent resin substrate and irradiating with ultraviolet light using a light-shielding mask on other portions. Other steps are the same as in the case of the gelatin of Example 1.

3)酸化チタン粒子埋め込み+紫外光照射による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域18であるPDMS基板表面に、図16に示すように、帯状の撥水性領域19の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状に微小な酸化チタンを粒子埋め込み、その他の部分に遮光マスクをして、紫外光照射することによる。この親水性領域19は、ドットの集合からなる親水性領域である。その他の工程は、実施例1のゼラチンの場合と同様である。
3) Hydrophilic region formation by titanium oxide particle embedding + ultraviolet light irradiation On the surface of the PDMS substrate, which is the water repellent region 18 having a plurality of recesses, a turtle-shell pattern of the band-like water repellent region 19 is formed as shown in FIG. Form. The formation of the turtle shell pattern is formed by embedding fine titanium oxide particles in a band-like turtle shell pattern pattern on the surface of a water-repellent resin substrate and irradiating with ultraviolet light using a light-shielding mask in other portions. The hydrophilic region 19 is a hydrophilic region composed of a set of dots. Other steps are the same as in the case of the gelatin of Example 1.

(実施例6)
親水性材料2と撥水性基板の場合
(親水性UV樹脂+PDMS基板、テフロン基板)
1)プラズマ処理による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域18であるPDMS基板表面に、図15に示すように、帯状の撥水性領域19の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状の遮光マスクをして、酸素プラズマ処理することによる。その他の工程は実施例1の親水性UV樹脂の場合と同様である。
(Example 6)
In the case of hydrophilic material 2 and water-repellent substrate (hydrophilic UV resin + PDMS substrate, Teflon substrate)
1) Formation of hydrophilic region by plasma treatment As shown in FIG. 15, a turtle-shell pattern of a band-like water-repellent region 19 is formed on the surface of a PDMS substrate which is a water-repellent region 18 having a plurality of recesses. The formation of the turtle shell pattern is performed by applying oxygen plasma treatment to the surface of the water-repellent resin substrate with a band-shaped turtle shell pattern-shaped light shielding mask. The other steps are the same as in the case of the hydrophilic UV resin of Example 1.

2)酸化チタン層形成+紫外光照射による親水性領域形成
複数の凹部を有する撥水性領域18であるPDMS基板表面に、図15に示すように、帯状の撥水性領域19の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状に酸化チタン層形成を形成し、その他の部分に遮光マスクをして、紫外光照射することによる。その他の工程は、実施例1の親水性UV硬化樹脂の場合と同様である。
2) Formation of a titanium oxide layer + hydrophilic region by ultraviolet light irradiation As shown in FIG. 15, a tortoiseshell pattern of the band-like water-repellent region 19 is formed on the surface of the PDMS substrate, which is a water-repellent region 18 having a plurality of recesses. Form. The pattern formation of the turtle shell pattern is formed by forming a titanium oxide layer in a band-shaped turtle shell pattern pattern on the surface of a water-repellent resin substrate and irradiating with ultraviolet light using a light-shielding mask on other portions. The other steps are the same as in the case of the hydrophilic UV curable resin of Example 1.

3)酸化チタン粒子埋め込み+紫外光照射による親水性領域形成
図16に示すように、複数の凹部を有する撥水性領域18であるPDMS基板表面に、帯状の撥水性領域19の亀甲模様のパターンを形成する。亀甲模様のパターン形成は、撥水性を有する樹脂基板の表面に帯状の亀甲模様パターン形状に微小な酸化チタンを粒子埋め込み、その他の部分に遮光マスクをして、紫外光照射することによる。この親水性領域19は、ドットの集合からなる親水性領域である。その他の工程は、実施例1の親水性UV硬化樹脂の場合と同様である。
3) Hydrophilic region formation by titanium oxide particle embedding + ultraviolet light irradiation As shown in FIG. 16, a turtle shell pattern of the band-like water repellent region 19 is formed on the surface of the PDMS substrate which is the water repellent region 18 having a plurality of concave portions. Form. The formation of the turtle shell pattern is formed by embedding fine titanium oxide particles in a band-like turtle shell pattern pattern on the surface of a water-repellent resin substrate and irradiating with ultraviolet light using a light-shielding mask in other portions. The hydrophilic region 19 is a hydrophilic region composed of a set of dots. The other steps are the same as in the case of the hydrophilic UV curable resin of Example 1.

(実施例7)
親油性材料と親水性基板の場合
(親油性UV硬化樹脂+ガラス基板、金属基板)
1)ガラス基板表面にシランカップリング剤による親油性領域形成
図17に示すように、複数の凹部3を有するガラス基板表面に、それぞれの凹部3の周囲に六角形状にガラス基板表面を親水性領域11として残して、六角形の境界に帯状に親油性領域12としてアルキルトリアルコキシシラン等シランカップリング剤の膜を形成する。
(Example 7)
In the case of lipophilic material and hydrophilic substrate (lipophilic UV curable resin + glass substrate, metal substrate)
1) Lipophilic region formation by silane coupling agent on glass substrate surface As shown in FIG. 17, a glass substrate surface having a plurality of recesses 3 is formed in a hexagonal shape around each recess 3 and hydrophilic regions are formed on the glass substrate surface. 11, a film of a silane coupling agent such as an alkyltrialkoxysilane is formed as a lipophilic region 12 in the form of a band at the hexagonal boundary.

親油性領域12の形成方法としては、印刷工法などでシランカップリング剤等の親油性物質のパターンを塗布して定着する方法、表層に塗布した物質をUV光照射によってパターン状に親和性を付与するなどの方法の他、所望の発泡セル厚みを形成しやすい材料(例えば、界面活性剤を含む水溶液等)に親油性物質をまぜ、発泡工程によってパターン形状を形成した状態で加熱して親油性物質を基板上に定着させる方法も有効である。   As a method for forming the oleophilic region 12, a method of applying and fixing a pattern of an oleophilic substance such as a silane coupling agent by a printing method or the like, a substance applied on the surface layer is given affinity in a pattern shape by UV light irradiation. In addition to the above methods, a lipophilic substance is mixed in a material that easily forms the desired foam cell thickness (for example, an aqueous solution containing a surfactant), and heated in a pattern shape formed by a foaming process to make it lipophilic. A method of fixing a substance on a substrate is also effective.

2)金属基板表面にアルカンチオール等の親油性領域形成
図17に示すように、複数の凹部3を有するガラス基板表面に、それぞれの凹部3の周囲に六角形状に金属基板表面を親水性領域11として残して、六角形の境界に帯状に親油性領域12としてアルカンチオール等の膜を形成する。親油性領域12の形成方法としては、上記ガラス基板表面にシランカップリング剤による親油性領域形成と同様にすればよい。
2) Formation of a lipophilic region such as alkanethiol on the surface of the metal substrate As shown in FIG. 17, a hydrophilic region 11 is formed on the surface of the glass substrate having a plurality of recesses 3 in a hexagonal shape around each recess 3. Then, a film of alkanethiol or the like is formed as a lipophilic region 12 in a strip shape at the hexagonal boundary. The method for forming the lipophilic region 12 may be the same as the method for forming the lipophilic region with the silane coupling agent on the surface of the glass substrate.

(実施例8)
親油性材料と親油性基板の場合
(親油性UV硬化樹脂+樹脂基板)
1)樹脂基板表面に微細凹凸領域形成
図18に示すように、複数の凹部3を有する樹脂基板1表面のそれぞれの凹部3を包囲する六角形の領域に微細凹凸を施した領域を撥油性領域22として形成し、それぞれの六角形の境界に帯状に樹脂基板1表面を残して親油性領域21とする。
(Example 8)
In case of lipophilic material and lipophilic substrate (lipophilic UV curable resin + resin substrate)
1) Formation of fine uneven regions on the surface of the resin substrate As shown in FIG. 18, regions having fine unevenness formed on hexagonal regions surrounding the respective recesses 3 on the surface of the resin substrate 1 having a plurality of recesses 3 are oil-repellent regions. 22, and the surface of the resin substrate 1 is left in a strip shape at each hexagonal boundary to form an oleophilic region 21.

2)樹脂基板表面に自己相似性形状微細凹凸形状領域形成
図19に示すように、複数の凹部3を有する樹脂基板1表面のそれぞれの凹部3を包囲する六角形の領域に自己相似性形状微細凹凸形状を施した領域を撥油性領域23として形成し、それぞれの六角形の境界に帯状に樹脂基板1表面を残して親油性領域21とする。
2) Formation of self-similar shape fine unevenness region on resin substrate surface As shown in FIG. 19, self-similar shape fineness is formed in a hexagonal region surrounding each recess 3 on the surface of resin substrate 1 having a plurality of recesses 3. The region having the irregular shape is formed as the oil-repellent region 23, and the surface of the resin substrate 1 is left in a strip shape at each hexagonal boundary to form the lipophilic region 21.

3)樹脂基板表面に撥油性領域形成
図19に示すように、複数の凹部3を有する樹脂基板1表面のそれぞれの凹部3を包囲する六角形の領域にアルキルケテンダイマー層による撥油性領域23として形成し、それぞれの六角形の境界に帯状に樹脂基板1表面を残して親油性領域21とする。
3) Formation of an oil-repellent region on the surface of the resin substrate As shown in FIG. 19, an oil-repellent region 23 formed by an alkyl ketene dimer layer is formed in a hexagonal region surrounding each recess 3 on the surface of the resin substrate 1 having a plurality of recesses 3. The resin substrate 1 surface is formed in a strip shape at each hexagonal boundary to form a lipophilic region 21.

(実施例9)
親油性材料と撥水性基板の場合
(親油性UV硬化樹脂+PTFE等フッ素樹脂基板)
1)樹脂基板表面に微細凹凸領域形成
図20に示すように、複数の凹部3を有するフッ素樹脂基板1表面のそれぞれの凹部3を包囲する六角形の領域を撥油性領域24として残し、それぞれの六角形の境界に帯状に親油性領域25を形成する。フッ素樹脂基板1表面は親油性領域25の亀甲模様を形成することになる。
Example 9
Lipophilic material and water-repellent substrate (Oleophilic UV curable resin + PTFE fluororesin substrate)
1) Formation of fine uneven regions on the surface of the resin substrate As shown in FIG. 20, the hexagonal regions surrounding the respective recesses 3 on the surface of the fluororesin substrate 1 having a plurality of recesses 3 are left as the oil-repellent regions 24. The lipophilic region 25 is formed in a strip shape at the hexagonal boundary. The surface of the fluororesin substrate 1 forms a tortoiseshell pattern of the lipophilic region 25.

親油性領域25の形成には、トリメチルボロンガス(B(CH)中でフッ素樹脂にArFエキシマレーザを照射する。光解離されたBが、同時に励起されたフッ素樹脂のC−F結合からF原子を引き抜き、BFとなってガス中に拡散する。Fの抜けたCにCHが置換されて親油性を有するようになる。(参考文献:特第3340501号,東海大,村原正隆他)
以上の実施例に示した変形可能な材料の性質と基板に対する基板表面の凹部周辺の六角形領域(凹部周辺パターン)と、この六角形の境界に形成した亀甲模様領域(隔壁部パターン)の性質を、表1にまとめて記載した。
For the formation of the lipophilic region 25, an ArF excimer laser is irradiated on the fluororesin in trimethylboron gas (B (CH 3 ) 3 ). The photodissociated B extracts F atoms from the C—F bonds of the fluororesin excited at the same time and diffuses into the gas as BF 3 . CH 3 is substituted for C from which F has been removed, and thus has lipophilicity. (Reference: No. 3340501, Tokai Univ., Masataka Murahara et al.)
The properties of the deformable material shown in the above embodiment, the hexagonal region around the concave portion of the substrate surface with respect to the substrate (the concave portion peripheral pattern), and the properties of the turtle shell pattern region (partition wall pattern) formed at the boundary of this hexagon Are summarized in Table 1.

Figure 0005106887
Figure 0005106887

複合セル構造体製造方法Composite cell structure manufacturing method 従来の複合セル構造体製造方法Conventional method of manufacturing a composite cell structure 気体膨張時のセル構造の説明断面図Cross-sectional view of cell structure during gas expansion 気体膨張時のセル構造形成の説明断面図Cross-sectional view of cell structure formation during gas expansion 基板表面のパターン例Example of substrate surface pattern 減圧発泡プロセスの例(A)Example of vacuum foaming process (A) 減圧発泡プロセスの例(B)Example of vacuum foaming process (B) 減圧発泡プロセスの例(C)Example of vacuum foaming process (C) 2枚の基板間での減圧発泡プロセスの例Example of vacuum foaming process between two substrates 親油性パターンを形成した例Example of forming a lipophilic pattern 撥水性パターンを形成した例Example of forming a water-repellent pattern 微細凹凸による撥水性パターンを形成した例Example of forming a water-repellent pattern with fine irregularities 自己相似性微細凹凸による撥水性パターンを形成した例Example of water-repellent pattern formed by self-similar fine irregularities 親油性基板に親水性領域を形成した例(A)Example of forming hydrophilic region on lipophilic substrate (A) 撥水性基板に親水性領域を形成した例(A)Example of forming hydrophilic region on water repellent substrate (A) 撥水性基板に親水性領域を形成した例(B)Example of forming hydrophilic region on water repellent substrate (B) 親油性基板に親水性領域を形成した例(B)Example of forming hydrophilic region on lipophilic substrate (B) 親油性基板に撥油性領域を形成した例(A)Example of forming an oil-repellent region on an oleophilic substrate (A) 親油性基板に撥油性領域を形成した例(B)Example of forming an oil-repellent region on a lipophilic substrate (B) 撥水性基板に親油性領域を形成した例Example of forming a lipophilic region on a water-repellent substrate

符号の説明Explanation of symbols

1:基板 2:変形可能な材料 3:凹部
4:高親和性領域 5:低親和性領域 6:セル
7:押圧板
11:親水性領域 12:親油性領域 13:撥水性領域
14:撥水性領域 15:撥水性領域 16:親油性領域
17:親水性領域 18:撥水性領域 19:親水性領域
20:酸化チタン粒子 21:親油性領域 22:撥油性領域
23:撥油性領域 24:撥油性領域 25:親油性領域
1: Substrate 2: Deformable material 3: Recessed portion 4: High affinity region 5: Low affinity region 6: Cell 7: Press plate 11: Hydrophilic region 12: Lipophilic region 13: Water repellent region 14: Water repellent region Region 15: Water repellent region 16: Lipophilic region 17: Hydrophilic region 18: Water repellent region 19: Hydrophilic region 20: Titanium oxide particles 21: Lipophilic region 22: Oil repellent region 23: Oil repellent region 24: Oil repellent region Area 25: lipophilic area

Claims (12)

複数の離間した凹部を備えた表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆し、前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって変形可能な材料に複数のセルを形成する複合セル構造体製造用基板であって、
前記凹部を備えた表面は、変形可能な材料に対する親和性が異なる少なくとも2つの領域を有することを特徴とするハニカム構造シート製造用基板
A composite cell structure in which a surface having a plurality of spaced recesses is coated with a deformable material so that a space remains in the recess, and a plurality of cells are formed in the deformable material by gas expansion pressure in the recess space. A body manufacturing substrate,
The substrate for manufacturing a honeycomb structure sheet, wherein the surface including the concave portion has at least two regions having different affinity for the deformable material.
前記複数の離間した凹部は規則的に配置されており、変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち少なくとも一種の領域は、それぞれの凹部を包囲していることを特徴とする請求項1に記載のハニカム構造シート製造用基板The plurality of spaced-apart recesses are regularly arranged, and at least one of the regions having different affinity for the deformable material surrounds each recess. The substrate for manufacturing a honeycomb structured sheet according to the description. 前記凹部を包囲している領域は、規則的に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のハニカム構造シート製造用基板The substrate for manufacturing a honeycomb structure sheet according to claim 1 or 2, wherein the region surrounding the concave portion is regularly arranged. 前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の高い領域を複合セル構造体の開口部の隔壁の形状とすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のハニカム構造シート製造用基板The region having a high affinity for the deformable material among the regions having different affinity for the deformable material is formed into the shape of the partition wall of the opening of the composite cell structure. A substrate for manufacturing a honeycomb structure sheet according to any one of the above. 前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の高い領域は、変形可能な材料に対して親和性が高い複数のドットを形成した領域であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のハニカム構造シート製造用基板Of the regions having different affinity for the deformable material, the region having high affinity for the deformable material is a region in which a plurality of dots having high affinity for the deformable material are formed. The honeycomb structure sheet manufacturing substrate according to any one of claims 1 to 4. 前記変形可能な材料に対する親和性の異なる領域のうち、変形可能な材料に対する親和性の低い領域を、不連続な複数の領域とすることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のハニカム構造シート製造用基板The region having low affinity for the deformable material among the regions having different affinity for the deformable material is defined as a plurality of discontinuous regions. The substrate for manufacturing a honeycomb structured sheet according to the description. 前記親和性の低い領域は、凹部を包囲していることを特徴とする請求項6に記載のハニカム構造シート製造用基板The substrate for manufacturing a honeycomb structure sheet according to claim 6, wherein the low affinity region surrounds the concave portion. 前記親和性の低い領域は、変形可能な材料に濡れ難い微細凹凸形状を形成した領域であることを特徴とする請求項6又は7に記載のハニカム構造シート製造用基板The substrate for manufacturing a honeycomb structure sheet according to claim 6 or 7, wherein the low affinity region is a region in which a fine uneven shape that is difficult to wet is formed on a deformable material. 前記親和性の低い領域は、アルキルケテンダイマー層を形成した領域であることを特徴とする請求項6又は7に記載のハニカム構造シート製造用基板 The substrate for manufacturing a honeycomb structure sheet according to claim 6 or 7, wherein the low affinity region is a region where an alkyl ketene dimer layer is formed . 複数の離間した凹部を備えた基板の表面を変形可能な材料で凹部に空間が残るように被覆する被覆工程と、
前記凹部の空間中の気体の膨張圧力によって前記変形可能な材料に複数のセルを形成するセル形成工程とを含むハニカム構造シートの製造方法であって、
前記基板は、請求項1〜のいずれか一項に記載のハニカム構造シート製造用基板であることを特徴とするハニカム構造シートの製造方法。
A coating step of coating the surface of the substrate having a plurality of spaced recesses with a deformable material so that a space remains in the recesses;
A method of manufacturing a honeycomb structured sheet , comprising a cell forming step of forming a plurality of cells in the deformable material by an expansion pressure of a gas in the space of the recess,
The substrate is a honeycomb-structured sheet manufacturing method, which is a honeycomb-structured sheet for producing a substrate according to any one of claims 1-9.
前記被覆工程において、基板の表面を被覆した変形可能な材料はシート状であることを特徴とする請求項10に記載のハニカム構造シートの製造方法。 The method for manufacturing a honeycomb structured sheet according to claim 10, wherein in the coating step, the deformable material covering the surface of the substrate is in a sheet form. 前記複数のセルを形成された変形可能な材料を硬化してセルの形状を固定化する硬化工程を有することを特徴とする請求項10又は11に記載のハニカム構造シートの製造方法。 The method for manufacturing a honeycomb structured sheet according to claim 10 or 11, further comprising a curing step of curing the deformable material formed with the plurality of cells to fix the shape of the cells.
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