JP4906539B2 - Honeycomb structure, method for manufacturing honeycomb structure, and image display device - Google Patents
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Description
本発明は、ハニカム構造物、ハニカム構造物の製造方法及び画像表示装置に関する。 The present invention relates to a honeycomb structure, a method for manufacturing a honeycomb structure, and an image display device.
文字や静止画、動画等の所謂画像の表示用端末としては、CRTや液晶ディスプレイが広く用いられている。これらはデジタルデータを瞬時に表示し、書き換えることができるが、装置を常に持ち歩くことは容易ではない。また、自発光デバイスであるため長時間の作業では眼が疲労することや、電源をオフにすると表示が維持されないなどの難点がある。一方、文字や静止画を書類などとして配布や保存するときは、プリンタにて紙媒体に記録される。この紙媒体は、いわゆるハードコピーとして、広く使用されている。ハードコピーは多重散乱による反射を見ることになるので、自発光デバイスより視認性がよく、疲れにくい。また、軽量でハンドリングに優れていることから、自由な姿勢で読むことができる。しかし、ハードコピーは使用された後は廃棄される。一部はリサイクルされるが、そのリサイクルには、多くの労力と費用を要するなど省資源の点からは課題がある。近年、情報機器の発達に伴い、書類作成などの情報の処理をコンピュータ上で行うようになり、表示用端末上で文章を読む機会が大幅に増えている。 CRTs and liquid crystal displays are widely used as display terminals for so-called images such as characters, still images, and moving images. They can display and rewrite digital data instantly, but it is not easy to always carry the device. In addition, since it is a self-luminous device, there are problems such as eye fatigue when working for a long time and display not being maintained when the power is turned off. On the other hand, when a character or a still image is distributed or stored as a document, it is recorded on a paper medium by a printer. This paper medium is widely used as a so-called hard copy. Since hard copy sees reflections due to multiple scattering, it has better visibility than a self-luminous device and is less tiring. Moreover, since it is lightweight and excellent in handling, it can be read in a free posture. However, the hard copy is discarded after it is used. Some of them are recycled, but the recycling requires a lot of labor and cost, and there are problems in terms of resource saving. In recent years, with the development of information equipment, information processing such as document creation has been performed on a computer, and the opportunity to read text on a display terminal has greatly increased.
このような状況において、ディスプレイとハードコピーの両方の長所を持った書き換えが可能で、かつ読むという行為に適した、ペーパーライクな表示媒体へのニーズが高まっている。最近は、高分子分散型液晶、双安定性コレステリック液晶、エレクトロクロミック素子、電気泳動素子等を用いた表示媒体が反射型で明るい表示ができ、かつメモリー性のある表示媒体として研究開発が盛んに行われている。中でも電気泳動素子を用いた表示媒体は、表示品質、表示動作時の消費電力の点で優れており、例えば、特許文献1などにその原理的な発明が開示されている。 Under such circumstances, there is a growing need for a paper-like display medium that can be rewritten with the advantages of both display and hard copy and that is suitable for the act of reading. Recently, a display medium using a polymer dispersed liquid crystal, a bistable cholesteric liquid crystal, an electrochromic element, an electrophoretic element, etc. has been actively researched and developed as a reflective display medium that can display brightly and has a memory property. Has been done. Among these, a display medium using an electrophoretic element is excellent in terms of display quality and power consumption during display operation. For example, Patent Document 1 discloses a principle invention.
電気泳動方式の表示媒体では、一組の透明電極の間に、着色した分散媒中に、分散媒の色とは異なる色を有する複数の電気泳動粒子を分散させた分散液を封入してある。この場合、その電気泳動粒子(単に泳動粒子とも言う。)は、分散媒中で粒子表面に電荷を帯びており、一方の透明電極側に泳動粒子の電荷を吸引する電圧を与えた場合には、泳動粒子がその透明電極側に吸引され集積して泳動粒子の色が観測され、泳動粒子の電荷と反発する電圧を与えた場合には、泳動粒子は反対側の透明電極側に移動するため分散媒の色が観測される。この変化を利用することにより表示を行うことができる。 In an electrophoretic display medium, a dispersion liquid in which a plurality of electrophoretic particles having a color different from the color of the dispersion medium is dispersed in a colored dispersion medium between a pair of transparent electrodes. . In this case, the electrophoretic particles (also simply referred to as electrophoretic particles) are charged on the particle surface in the dispersion medium, and when a voltage for attracting the electrophoretic particles is applied to one transparent electrode side. Electrophoretic particles are attracted and accumulated on the transparent electrode side, and the color of the electrophoretic particles is observed. When a voltage repelling the charge of the electrophoretic particles is applied, the electrophoretic particles move to the opposite transparent electrode side. The color of the dispersion medium is observed. Display can be performed by using this change.
このような電気泳動素子は、ひとつ一つの画像素子であって、画像表示装置とするためには、微細な領域に配置された多くの電気泳動素子が必要となる。そこで、これらの素子を配置するための構造物が必要になる。複数の中空構造の集合体であるハニカム構造のシートはこのような微細な素子を区分して配置するのに好適な材料として知られている。それぞれのハニカムの中に泳動粒子と分散媒を配置して一つずつの画像素子し、全体として画像表示装置とすることができる。 Such an electrophoretic element is an individual image element, and in order to obtain an image display device, a large number of electrophoretic elements arranged in a fine region are required. Therefore, a structure for arranging these elements is required. A honeycomb structured sheet, which is an aggregate of a plurality of hollow structures, is known as a material suitable for arranging and arranging such fine elements. An electrophoretic particle and a dispersion medium are arranged in each honeycomb and one image element is formed at a time, so that an image display device can be obtained as a whole.
例えば、特許文献2には、電気泳動ディスプレイとその製造方法が開示されている。この電気泳動ディスプレイは、複数のセルで構成されており、各々のセルは1)セルを仕切るための壁と、2)誘電性溶媒または溶媒混合物中で分散した帯電色素粒子の分散物と、3)分散物よりも小さい比重を有し、相分離により形成されるシーリング組成物の上澄層を分散物の上で硬化させることによって形成され、分散物を各セル内に閉じ込めるように仕切壁の表面に封止するようにして付着するポリマー性シーリング層とを含んでいる。そして、このセルはマイクロエンボス加工または画像露光により複数のカップ状凹部として形成される。 For example, Patent Document 2 discloses an electrophoretic display and a manufacturing method thereof. This electrophoretic display is composed of a plurality of cells, each cell comprising 1) a wall for partitioning the cells, 2) a dispersion of charged dye particles dispersed in a dielectric solvent or solvent mixture, and 3 ) Formed by curing a supernatant layer of a sealing composition having a specific gravity smaller than that of the dispersion and formed by phase separation on the dispersion, so as to confine the dispersion in each cell. And a polymeric sealing layer that seals and adheres to the surface. This cell is formed as a plurality of cup-shaped recesses by microembossing or image exposure.
特許文献3には、基材上に隔壁で仕切られた複数のハニカム状のセルが設けられ、セル中に白色粒子と黒色粒子とでなる電気泳動粒子とこの電気泳動粒子を分散せしめる透明分散媒からなる分散系が封入されている電気泳動方式表示パネルが開示されている。このセルのサイズは、1辺が10〜50μm、高さが30〜50μm隔壁厚さが0.5〜10μmである。ハニカム状セルの製造方法は、基材上に、高分子を溶媒に溶解した高分子溶液を塗布し、高湿度環境下で乾燥・固着させて二次元ポリマーネットワークを形成し、二次元ポリマーネットワークによるパターンとして基材の垂直方向に成長させてセルの隔壁を作製するものである。 In Patent Document 3, a plurality of honeycomb-shaped cells partitioned by partition walls are provided on a base material, electrophoretic particles composed of white particles and black particles in the cells, and a transparent dispersion medium that disperses the electrophoretic particles. There is disclosed an electrophoretic display panel in which a dispersion system comprising: As for the size of this cell, one side is 10 to 50 μm, the height is 30 to 50 μm, and the partition wall thickness is 0.5 to 10 μm. The honeycomb cell manufacturing method is such that a polymer solution in which a polymer is dissolved in a solvent is applied onto a substrate, and dried and fixed in a high-humidity environment to form a two-dimensional polymer network. Cell partition walls are produced by growing the substrate in the vertical direction of the substrate.
また、ハニカム構造物の製法としては、特許文献4に記載のハニカム構造物を有する生分解性フィルムからなる癒着防止材の製法が開示されている。このハニカム構造物は、生分解ポリマーとリン系界面活性剤にて形成され、界面活性剤の効果にてハニカム構造物の生体への癒着を防止する機能を持っている。また、このハニカム構造物の膜厚は、およそ13μmである。
ハニカム構造物を電気泳動ディスプレイなどの画像表示装置の表示部マトリックスとして応用する際、高反射率、高コントラストの表示画像を得るためには画素の開口率が大きいこと、すなわち、ハニカムの中空構造における隔壁の厚さ、特に表示面側開口部の隔壁の厚さが薄いことが好適である。 When the honeycomb structure is applied as a display unit matrix of an image display device such as an electrophoretic display, in order to obtain a display image with high reflectivity and high contrast, the pixel aperture ratio is large, that is, in the honeycomb hollow structure. It is preferable that the thickness of the partition wall, particularly the thickness of the partition wall on the display surface side opening, is small.
特許文献2においては、マイクロエンボス加工または画像露光によりハニカム構造物を形成しており、各凹部を仕切っている壁の厚みは特に記載されていないが、例えば、型形状を転写するマイクロエンボス加工では、隔壁厚みが10μm以下の薄肉で高さが5倍以上の構造形成は困難であると考えられる。(型溝に材料を充填できない、離型できない)。 In Patent Document 2, the honeycomb structure is formed by microembossing or image exposure, and the thickness of the wall partitioning each concave portion is not particularly described. However, for example, in microembossing for transferring a mold shape It is considered that it is difficult to form a structure with a partition wall thickness of 10 μm or less and a height of 5 times or more. (Cannot fill the mold groove, can not release).
特許文献3においては、隔壁厚み10μm以内の薄い構造を形成可能であるが、有機溶媒の蒸発や、高分子溶液表面に配列された水滴群の蒸発を必要とするため、製造時間が長くかかる欠点がある。また、有機溶媒を蒸発させる工程を含むため環境や人体への影響を考慮した専用のチャンバーや蒸気回収工程が必要となり設備が高価となる。また、開口形状が円形のセルとなり易く、開口率を高めようと開口部の隔壁を薄くすると、セル間の隔壁が薄くなって隣接セルとつながってしまい開口率を高くすることが難しい。 In Patent Document 3, it is possible to form a thin structure having a partition wall thickness of 10 μm or less. However, since it requires evaporation of an organic solvent or evaporation of water droplet groups arranged on the surface of a polymer solution, it takes a long manufacturing time. There is. In addition, since a process for evaporating the organic solvent is included, a dedicated chamber and a vapor recovery process are required in consideration of the influence on the environment and the human body, and the equipment becomes expensive. In addition, the opening shape tends to be a circular cell, and if the partition wall of the opening is thinned so as to increase the opening ratio, it is difficult to increase the opening ratio because the partition wall between the cells is thinned and connected to adjacent cells.
このような問題点に鑑み、開口率が高く隔壁の厚さの薄いハニカム構造物及びその効率的な製造方法、並びにハニカム構造物を利用した画像表示装置を提供することにある。 In view of such problems, it is an object of the present invention to provide a honeycomb structure having a high aperture ratio and a thin partition wall, an efficient manufacturing method thereof, and an image display device using the honeycomb structure.
本発明者らは、可塑性材料の膜に複数の小気泡の気体膨脹による力を利用してハニカム構造を形成する方法を見いだし、開口率が大きく隔壁が薄いハニカム構造物を得ることにより上記課題の解決に至った。具体的には、エネルギー線硬化性樹脂とその表面張力を下げる物質とを混合することによってハニカム構造物の薄膜安定性を高めている。表面張力を下げる効果に優れた界面活性剤を用いることによって、発泡中に薄膜化した材料表面に吸着した界面活性剤が流動して表面張力を下げ、界面活性剤同士の親和性による膜表面の均質安定化等の効果を得て薄膜状態を安定化させることができるものと考えられる。以下に、本発明の課題を解決するための手段を以下に記載する。 The present inventors have found a method of forming a honeycomb structure using the force of gas expansion of a plurality of small bubbles in a film of a plastic material, and obtaining a honeycomb structure having a large aperture ratio and thin partition walls, It came to a solution. Specifically, the thin film stability of the honeycomb structure is enhanced by mixing an energy ray curable resin and a substance that lowers the surface tension thereof. By using a surfactant that is excellent in reducing the surface tension, the surfactant adsorbed on the surface of the thinned material flows during foaming to lower the surface tension, and the surface of the membrane due to the affinity between the surfactants. It is considered that the thin film state can be stabilized by obtaining effects such as homogeneous stabilization. The means for solving the problems of the present invention will be described below.
本発明は、エネルギー線により硬化する塑性変形可能な硬化材料と該硬化材料の表面張力を下げる表面張力降下剤とを含む塑性変形膜を、複数の凹部を有する基材上に配置し、前記凹部に存在する気体の体積膨張によって変形させて複数のセルを形成させた後に、エネルギー線を照射して硬化させることによって得られるハニカム構造物を含む。 According to the present invention, a plastic deformation film including a plastically deformable curable material that is cured by energy rays and a surface tension lowering agent that lowers the surface tension of the curable material is disposed on a substrate having a plurality of concave portions, and the concave portions The honeycomb structure obtained by irradiating and curing energy rays after forming a plurality of cells by being deformed by the volume expansion of the gas present in the substrate is included.
本発明は、前記表面張力降下剤が、界面活性剤である前記ハニカム構造物を含む。 The present invention includes the honeycomb structure, wherein the surface tension lowering agent is a surfactant.
本発明は、前記界面活性剤が、フッ素含有界面活性剤である前記ハニカム構造物を含む。 The present invention includes the honeycomb structure, wherein the surfactant is a fluorine-containing surfactant.
本発明は、前記フッ素含有界面活性剤が、フルオロアルキル基を有する前記ハニカム構造物を含む。 The present invention includes the honeycomb structure in which the fluorine-containing surfactant has a fluoroalkyl group.
本発明は、前記硬化材料が、ノニオン系樹脂であり、前記フッ素系界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤である前記ハニカム構造物を含む。 The present invention includes the honeycomb structure in which the curable material is a nonionic resin, and the fluorosurfactant is a nonionic surfactant.
本発明は、前記硬化材料が、紫外線硬化樹脂である前記ハニカム構造物を含む。 The present invention includes the honeycomb structure in which the curable material is an ultraviolet curable resin.
本発明は、前記紫外線硬化樹脂が、親水性である前記ハニカム構造物を含む。 The present invention includes the honeycomb structure in which the ultraviolet curable resin is hydrophilic.
本発明は、前記紫外線硬化樹脂が、ウレタンアクリレート系樹脂である前記ハニカム構造物を含む。 The present invention includes the honeycomb structure, wherein the ultraviolet curable resin is a urethane acrylate resin.
本発明は、前記紫外線硬化樹脂が、エポキシアクリレート系樹脂である前記ハニカム構造物を含む。 The present invention includes the honeycomb structure, wherein the ultraviolet curable resin is an epoxy acrylate resin.
本発明は、前記紫外線硬化樹脂が、アルコキシアクリレート系樹脂である前記ハニカム構造物を含む。 The present invention includes the honeycomb structure, wherein the ultraviolet curable resin is an alkoxy acrylate resin.
本発明は、前記ハニカム構造物のそれぞれのセルに表示媒体を挿入して表示単位を形成したことを特徴とする画像表示装置を含む。 The present invention includes an image display device in which a display unit is formed by inserting a display medium into each cell of the honeycomb structure.
本発明は、前記セルに電気泳動粒子及び電気泳動媒体を充填した前記物画像表示装置を含む。 The present invention includes the object image display device in which the cell is filled with electrophoretic particles and an electrophoretic medium.
本発明は、エネルギー線により硬化する塑性変形可能な硬化材料と該硬化材料の表面張力を下げる表面張力降下剤とを含む塑性変形膜を複数の凹部を有する基材表面に密着させる工程と、前記基材表面の凹部に存在する気体の体積膨張によって前記塑性変形膜を変形させて複数のセルを形成させる工程と、複数のセルを形成した塑性変形膜にエネルギー線を照射して硬化させる工程とを有するハニカム構造物の製造方法。 The present invention includes a step of closely attaching a plastic deformation film including a plastically deformable curable material that is cured by energy rays and a surface tension lowering agent that lowers the surface tension of the curable material to a substrate surface having a plurality of recesses, A step of forming the plurality of cells by deforming the plastic deformation film by volume expansion of a gas existing in a concave portion on the surface of the base material; and a step of curing the plastic deformation film formed with the plurality of cells by irradiating energy rays. The manufacturing method of the honeycomb structure which has this.
本発明によれば、開口率が高く隔壁の厚さの薄いハニカム構造物及びその効率的な製造方法、並びにハニカム構造物を利用した画像表示装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a honeycomb structure having a high aperture ratio and a thin partition wall, an efficient manufacturing method thereof, and an image display device using the honeycomb structure.
本発明は、紫外線等のエネルギー線により硬化する塑性変形可能な膜状の硬化材料とこの硬化材料の表面張力を下げる表面張力降下剤とを含む塑性変形膜を、複数の凹部を有する基材上に凹部に気泡を残したまま基材表面に密着するように配置し、膜状の硬化材料の基材表面に密着した面と反対側から減圧することにより、前記凹部に存在する気泡中の気体の体積膨張によって硬化材料を変形させて、それぞれの凹部に臨む部分を中空にして、複数のセルを形成させておき、このセルを形成した硬化材料にエネルギー線を照射して硬化させることによって得られるハニカム構造物である。本発明においては、硬化材料の表面張力を下げる効果に優れた界面活性剤を用いることによって、気体の発泡中に薄膜化した硬化材料中の界面活性剤が流動して硬化材料の表面張力を下げ、界面活性剤同士の親和性による膜表面の均質安定化等の効果を発現し、薄膜の状態を安定化させることができるものと考えられる。このような作用によって、薄膜の硬化材料からなるハニカム構造物の安定性を高めている。このような状態のまま硬化材料にエネルギー線を照射して硬化させ、ハニカム構造を固定化してしまうことができる。 The present invention relates to a plastic deformation film including a plastically deformable film-shaped cured material that is cured by energy rays such as ultraviolet rays and a surface tension lowering agent that lowers the surface tension of the cured material on a substrate having a plurality of recesses. The gas in the bubbles present in the recesses is arranged so as to be in close contact with the surface of the substrate while leaving bubbles in the recesses, and the pressure is reduced from the side opposite to the surface in close contact with the substrate surface of the film-like cured material. It is obtained by deforming the curable material by volume expansion of the material, hollowing the portions facing the respective recesses to form a plurality of cells, and irradiating the curable material on which the cells are formed with energy rays and curing. Honeycomb structure. In the present invention, by using a surfactant excellent in the effect of lowering the surface tension of the curable material, the surfactant in the cured material thinned during gas foaming flows to lower the surface tension of the curable material. It is considered that the effect of homogenous stabilization of the film surface due to the affinity between the surfactants can be expressed and the state of the thin film can be stabilized. By such an action, the stability of the honeycomb structure made of the thin film cured material is enhanced. In such a state, the honeycomb structure can be fixed by irradiating the cured material with energy rays and curing it.
一般に、紫外線硬化樹脂などのエネルギー硬化性樹脂を用いて同様の中空構造形成を行う場合には乾燥工程を必要としないので、プロセス時間の短縮ができる利点がある。しかしながら揮発成分が少ないため硬化時の体積収縮は少なく、隔壁を薄くすると隔壁が破れやすく薄肉化が困難であるとされていた。また、紫外線硬化樹脂は紫外線を照射するまでは硬化や粘度増加は起こらず、発泡中に薄膜化が進行する際に肉厚差が生じると薄い部分は破れやすくなる恐れがある。ラジカル反応性紫外線硬化樹脂の場合には空気中の酸素に触れる気液界面では硬化反応が阻害されて、セルが薄膜化するほど硬化し難くなる。このためセルに肉厚差が生じると、薄くなった部分はより硬化し難くなり十分硬化せずに破れやすくなり、製造が難しかった。 In general, when a similar hollow structure is formed using an energy curable resin such as an ultraviolet curable resin, there is an advantage that the process time can be shortened because a drying step is not required. However, since there are few volatile components, there is little volume shrinkage at the time of hardening, and when the partition was made thin, the partition was easy to tear and it was said that thickness reduction was difficult. Further, the ultraviolet curable resin does not cure or increase in viscosity until it is irradiated with ultraviolet rays, and if a thickness difference is caused when thinning proceeds during foaming, the thin portion may be easily broken. In the case of a radical-reactive UV curable resin, the curing reaction is hindered at the gas-liquid interface that comes into contact with oxygen in the air, and it becomes harder to cure as the cell becomes thinner. For this reason, when a difference in thickness occurs in the cell, the thinned portion is harder to be cured, is not sufficiently cured, is easily broken, and is difficult to manufacture.
これに対し、エネルギー線硬化性樹脂の表面張力を下げる物質を硬化材料に混ぜることによって、薄膜化した際に膜厚ムラが少なくなり、また硬化材料の膜に気体を吹き込むとシャボン状の泡が起こりやすくなり、生じた泡の寿命が長くなることが確認された。また、泡膜にエネルギー線照射する際に、シャボン状の泡が薄膜状のまま均一に硬化できることを確認できた。膜の表面層に界面活性剤が吸着することによって、酸素による硬化反応阻害の影響を低減するものと考えられる。特に表面張力を下げる効果に優れたフッ素系の界面活性剤を用いた際にその泡膜形成と泡安定化の効果は顕著であり、発泡工法による中空構造の形成を行う場合、隔壁厚みが10μm以下の薄膜を有するハニカム構造物を得ることが好ましい。 On the other hand, by mixing a substance that lowers the surface tension of the energy ray curable resin into the curable material, the film thickness unevenness is reduced when the film is thinned, and when a gas is blown into the film of the curable material, bubbles of bubbles are formed. It was confirmed that it was easy to occur and the lifetime of the generated bubbles was prolonged. Moreover, when irradiating the foam film with energy rays, it was confirmed that the bubble-like foam could be uniformly cured in the form of a thin film. It is considered that the influence of the inhibition of the curing reaction by oxygen is reduced by adsorbing the surfactant on the surface layer of the film. The effect of foam film formation and foam stabilization is particularly remarkable when using a fluorosurfactant that is particularly effective in reducing surface tension. When forming a hollow structure by the foaming method, the partition wall thickness is 10 μm. It is preferable to obtain a honeycomb structure having the following thin film.
本発明のハニカム構造物の製造方法について図1、図2、図3を参照にしながら説明する。図1、図2は、本発明のハニカム構造物の製造方法の例を説明する製造工程図である。図3は、参考例としてゼラチン水溶液の膜からハニカム構造を作る工程図である。まず、基本的なハニカム構造の製造方法として、図3のゼラチン膜による製造工程で説明する。ガラス、金属、プラスチック等の表面に複数の微小な凹部を設けた基板1上にゼラチン水溶液3を膜状に塗布する((a)材料塗布)。なお、凹部の空間には気体6が残るようにゼラチン水溶液3の膜を形成する。そして、基板1の表面とゼラチン水溶液3の膜とが密着したら、ゼラチン水溶液3の膜の表面側を減圧にして、凹部の空間中の気体6を膨張させる。気体6は、ゼラチン水溶液3の膜を表面側(図では上方)にゼラチン水溶液3を押し上げるように膨らんでゼラチン水溶液3の膜に中空を形成する。このとき、それぞれの凹部から発生した気体6が、それぞれ中空を形成するため、膜全体としては、ハニカム構造となる((b)材料変形)。このゼラチン水溶液3のハニカム構造をそのまま乾燥させれば、ゼラチン質のハニカム構造体となる((c)材料硬化)。 A method for manufacturing a honeycomb structure of the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 3. 1 and 2 are production process diagrams for explaining an example of a method for producing a honeycomb structure of the present invention. FIG. 3 is a process diagram for making a honeycomb structure from a gelatin aqueous solution film as a reference example. First, as a basic method for manufacturing a honeycomb structure, a manufacturing process using a gelatin film in FIG. 3 will be described. A gelatin aqueous solution 3 is applied in a film form on a substrate 1 provided with a plurality of minute recesses on the surface of glass, metal, plastic or the like ((a) material application). A film of the gelatin aqueous solution 3 is formed so that the gas 6 remains in the recess space. When the surface of the substrate 1 and the film of the gelatin aqueous solution 3 are in close contact, the surface side of the film of the gelatin aqueous solution 3 is decompressed, and the gas 6 in the space of the recess is expanded. The gas 6 expands the film of the gelatin aqueous solution 3 so as to push the gelatin aqueous solution 3 upward on the surface side (upward in the figure), and forms a hollow in the film of the gelatin aqueous solution 3. At this time, since the gas 6 generated from each recess forms a hollow, the entire membrane has a honeycomb structure ((b) material deformation). If the honeycomb structure of the gelatin aqueous solution 3 is dried as it is, a gelatinous honeycomb structure is obtained ((c) material hardening).
図1に示したハニカム構造物の製造方法は、上記のゼラチン質のハニカム構造体の製造方法と類似しているが、材料塗布の段階で界面活性剤を含む紫外線硬化樹脂4を用いている。この紫外線硬化樹脂4は、膜状やシート状にしてから基材1の表面に付着させてもよいし((a)材料塗布)、材料を基材1の表面に展開しながら付着させてもよい。(b)材料変形はゼラチン水溶液の場合と同様にすればよい。このときに界面活性剤が効果を発揮して、薄い隔壁を持つハニカム構造を形成しやすくしている。この場合、減圧の程度によってハニカム構造体の厚さを調整できる。(c)材料硬化においては、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂4を硬化させる。この際にも、界面活性剤が効果を発揮して、薄い隔壁を持つハニカム構造物を形成しやすくしている。
The manufacturing method of the honeycomb structure shown in FIG. 1 is similar to the manufacturing method of the gelatinous honeycomb structure described above, but uses an ultraviolet
通常、紫外線のようなエネルギー線硬化材料の硬化においては、揮発成分がほとんどないので、ゼラチン水溶液を材料として用いたプロセス(図3)とは異なり、数分かかる乾燥工程を必要としないことが特徴である。一般に、エネルギー線硬化材料の硬化は10秒以内で可能であるため、プロセス時間を大幅に短縮することができる。 Normally, energy ray curable materials such as ultraviolet rays have almost no volatile components, and unlike the process using gelatin aqueous solution as a material (FIG. 3), it does not require a drying step that takes several minutes. It is. In general, the energy ray curable material can be cured within 10 seconds, so that the process time can be greatly reduced.
図2に示したハニカム構造物の製造方法は、図1に示したハニカム構造物の製造方法の変形例で、抑え板として機能する基板2により紫外線硬化樹脂4の材料を基材1の表面に展開しながら付着させている((a)材料塗布)。そして、基板2を紫外線硬化樹脂4の膜状に配置したまま基板2の上部を減圧にして紫外線硬化樹脂4の膜にハニカム構造を形成する((b)材料変形)。紫外線硬化樹脂4が基板1と基板2とに密着している状態で、基板2を基板1と離間させることにより、紫外線硬化樹脂4を上下に引っ張り、その応力で基板1の凹部の空間を減圧にし、その中の気体を膨張させてもよい。この場合、基板2の上方への移動距離によってハニカム構造体の厚さを調整できる。ハニカム構造が形成されたら、紫外線照射して紫外線硬化樹脂4を硬化させてハニカム構造物を形成する((c)材料硬化)。なお、基板2を紫外線透過性のガラス等とすれば、基板2を配置したまま紫外線照射が可能である。
The manufacturing method of the honeycomb structure shown in FIG. 2 is a modification of the manufacturing method of the honeycomb structure shown in FIG. 1, and the material of the ultraviolet
この場合、ゼラチン水溶液と違って減圧発泡後に材料を乾燥させるための喚気空間を設ける必要がないので、紫外線硬化樹脂4を基板1と基板2とで挟んだ状態で上記の減圧発泡、硬化工程を行っており、これによって、微細なハニカム構造を形成したい対象の基材に直接、ハニカム構造を形成することができる。従って、ハニカム構造の接合工程や基板に移しかえる転写工程などを省くことができる利点がある。
In this case, unlike the gelatin aqueous solution, there is no need to provide an arousal space for drying the material after foaming under reduced pressure. Therefore, the above-described decompression foaming and curing steps are performed with the UV
この発明においては、上面に微小凹部を高密度で多数配置した型基板上面に所定の条件にて塑性変形機能を有する構造形成材料を塗布して型基板上面を被覆し、上記凹部と中空構造材料層とによる密閉空間内の気体圧力にて構造形成材料を延伸させて上記複数空間を同時に膨張延伸させることで、ミクロンメートルオーダーの薄い隔壁の細長い中空体を高密度で多数個一定方向に形成させてハニカム構造物を構成することができる。基板上の凹部は隣りの凹部とつながらず各々独立して存在している。 In the present invention, a structure forming material having a plastic deformation function is applied to the upper surface of a mold substrate having a large number of minute recesses arranged on the upper surface at a high density to cover the upper surface of the mold substrate. The structure forming material is stretched by the gas pressure in the sealed space by the layers, and the plurality of spaces are expanded and stretched at the same time, thereby forming a large number of thin hollow bodies with thin partition walls of micron order in a certain direction. Thus, a honeycomb structure can be configured. The concave portions on the substrate are not connected to the adjacent concave portions and exist independently.
本発明のハニカム構造物は、基板上の凹部の配列形態により、ハニカム構造物のひとつ一つの空洞の断面構造を変化させ得ることができる。例えば、基板上の凹部の配置が六方最密状(六方最密充填状態)の場合、変形したハニカム構造物の開口形状(空洞の断面構造)を六角形とすることができる。また、基板上の凹部の配置が正方格子状であれば、ハニカム構造物の開口部の形状は正方形とすることができる。図4には正方格子状の凹部の模式図を、図5には六方最密状の凹部の模式図を示した。ここでは、両者を含めてどのような断面構造であっても、多数のセルが並んでいるシート状の構造物をハニカム構造物としている。一般に、ある程度以上にセルの開口率が高くなるとセルの断面形状は、六角形や四角形になるが、セルの開口率低く隔壁の占める割合が高いとセルの断面形状は円形になりやすい。 In the honeycomb structure of the present invention, the cross-sectional structure of each cavity of the honeycomb structure can be changed depending on the arrangement form of the recesses on the substrate. For example, when the recesses on the substrate are arranged in a hexagonal close-packed state (hexagonal close-packed state), the opening shape (cavity cross-sectional structure) of the deformed honeycomb structure can be a hexagon. Moreover, if the arrangement of the recesses on the substrate is a square lattice, the shape of the opening of the honeycomb structure can be a square. FIG. 4 is a schematic diagram of a square lattice-shaped recess, and FIG. 5 is a schematic diagram of a hexagonal close-packed recess. Here, a sheet-like structure in which a large number of cells are arranged is used as the honeycomb structure regardless of the cross-sectional structure including both. In general, when the cell aperture ratio becomes higher than a certain level, the cell cross-sectional shape becomes hexagonal or quadrangular. However, when the cell aperture ratio is low and the ratio of the partition walls is high, the cell cross-sectional shape tends to be circular.
なお、図4,5に示したように、凹部の開口部が内部の断面よりも小さい、すなわち凹部内の壁面幅は入り口幅以上であることが好ましい。このようにすると、凹部に膨張するのに十分な気体の容積を確保できる一方、基板と硬化材料の膜との密着面積が十分に確保できる。図4,5においては、凹部の開口部形状を円形又は楕円形とし、内部の断面形状を四角形又は六角形としているが、凹部の形状は、膨張するのに十分な気体の容積を確保できる形状であれば、どのようなものでもよい。 As shown in FIGS. 4 and 5, it is preferable that the opening of the recess is smaller than the internal cross section, that is, the wall surface width in the recess is equal to or greater than the entrance width. In this way, it is possible to secure a sufficient gas volume to expand into the recess, while ensuring a sufficient contact area between the substrate and the film of the curable material. 4 and 5, the shape of the opening of the recess is a circle or an ellipse, and the internal cross-sectional shape is a square or a hexagon, but the shape of the recess is a shape that can secure a sufficient gas volume to expand. Anything can be used.
上述のような発泡を利用したハニカム構造物の製造方法において、セルの隔壁を薄膜化するには、気体の膨張によって基材の上の材料層が泡膜化することが望ましい。泡膜の性質を示すYoung-Laplusの式によれば、泡膜の交差する部分の曲率Rや角度は、泡膜両側の圧力差と泡膜の表面張力に依存する。従って、微細で開口形状が六角形の中空構造を形成するためには表面張力を下げる必要がある。水溶液系の材料ではアルキル硫酸塩を始めとする数々の界面活性剤を用いることで容易に泡膜を形成することが知られているが、水溶液状のエネルギー線硬化素材の場合には硬化前に水分を蒸発させる必要があり、ハニカム構造物の製造方法としては好ましくない。 In the method for manufacturing a honeycomb structure using foaming as described above, in order to reduce the cell partition walls, it is desirable that the material layer on the substrate is formed into a foam film by gas expansion. According to the Young-Laplus equation indicating the properties of the foam film, the curvature R and angle of the intersecting portion of the foam film depend on the pressure difference on both sides of the foam film and the surface tension of the foam film. Therefore, it is necessary to lower the surface tension in order to form a hollow structure with a fine hexagonal opening shape. It is known that a foam film can be easily formed by using a number of surfactants such as alkyl sulfates in aqueous solution-based materials. It is necessary to evaporate moisture, which is not preferable as a method for manufacturing a honeycomb structure.
具体的なハニカム構造物の構成例を説明する。薄い隔壁に仕切られた中空の空間が並ぶシート状の構造であり、隔壁の仕切り方によって、中空部が六角形状に開口するハニカム構造物や四角形の開口が格子状に配列した構造、また開口が円形のものも形成され得る。開口はシートの片面側だけが開口していても良いし、両面が開口していても良い。画像形成装置の表示部のマトリックスとして用いる場合、開口率が高くなければ画像のコントラストや反射率が下がるため、隔壁の厚さは10μm以内であることが好ましい。 A specific configuration example of the honeycomb structure will be described. It is a sheet-like structure in which hollow spaces partitioned by thin partition walls are arranged, and depending on how the partition walls are partitioned, a honeycomb structure in which hollow portions are opened in a hexagonal shape, a structure in which square openings are arranged in a lattice shape, and openings are Circular ones can also be formed. Only one side of the sheet may be opened, or both sides may be opened. When used as a matrix of a display unit of an image forming apparatus, the contrast and reflectance of an image are lowered unless the aperture ratio is high. Therefore, the partition wall thickness is preferably within 10 μm.
ここで、図6を参照にしながら、上述の気体膨張を利用した製造方法によって得られるハニカム構造物の隔壁厚さhの例を示す。
(a)紫外線硬化樹脂にフッ素系界面活性剤を加えた硬化材料を、図1又は図2に示す製造方法によって製造した本発明のハニカム構造物:隔壁厚み0.01〜5μm
(b)紫外線硬化樹脂のみの硬化材料を、図1又は図2に示す製造方法によって製造したハニカム構造物:隔壁厚み10μm以上
(c)ゼラチン材料からなる硬化材料を、図3に示す製造方法によって製造したハニカム構造物:隔壁厚み0.01〜5μm
上述のように(a)の本発明のハニカム構造物及び(c)のゼラチン材料からなるハニカム構造物は、隔壁厚みセルの高さ(セルの高さ)が10μmであり、画像形成装置の表示部の構成材料としてとして適した形状を備えている。
Here, an example of the partition wall thickness h of the honeycomb structure obtained by the above-described manufacturing method using gas expansion will be described with reference to FIG.
(A) A honeycomb structure of the present invention manufactured by a manufacturing method shown in FIG. 1 or 2 with a cured material obtained by adding a fluorosurfactant to an ultraviolet curable resin: partition wall thickness of 0.01 to 5 μm
(B) A honeycomb structure manufactured by a manufacturing method shown in FIG. 1 or 2 with a hardening material made only of an ultraviolet curable resin: a partition wall thickness of 10 μm or more (c) A hardening material made of a gelatin material is manufactured by the manufacturing method shown in FIG. Manufactured honeycomb structure: partition wall thickness 0.01 to 5 μm
As described above, the honeycomb structure of the present invention of (a) and the honeycomb structure made of the gelatin material of (c) have a partition wall thickness cell height (cell height) of 10 μm. It has a shape suitable as a constituent material of the part.
一般に、エネルギー線硬化素材においては、含水率が低く水溶液の系で有効であった界面活性剤をそのまま表面張力降下剤として用いることは難しい場合がある。この点、水系にも有機溶媒系にも可溶であり表面張力を下げる効果に優れたフッ素系の界面活性剤を添加したエネルギー線硬化素材において、中空構造膜の薄膜化に顕著な効果を持つ。フルオロアルキル基が末端のみに導入されたオリゴマー類は気/液(水もしくは有機溶媒)界面への配向性が高く、末端に導入されたフルオロアルキルセグメントが互いに反発するのではなく、逆に凝集しやすい性質を示すことが知られており、この性質は形成された泡膜を安定化させるのに特に有効に作用すると考えられる。 In general, in an energy ray curable material, it may be difficult to use a surfactant having a low water content and effective in an aqueous solution system as a surface tension reducing agent as it is. In this respect, energy beam curable materials that are soluble in both aqueous and organic solvent systems and have an excellent effect of lowering the surface tension have a remarkable effect on thinning the hollow structure film. . Oligomers in which fluoroalkyl groups are introduced only at the ends have high orientation at the gas / liquid (water or organic solvent) interface, and the fluoroalkyl segments introduced at the ends do not repel each other, but aggregate in the opposite direction. It is known to exhibit a facile property, and this property is believed to act particularly effectively in stabilizing the foam film formed.
本発明のハニカム構造物等を各種の実施形態を示して説明する。
(実施形態1)
図2に示した製造方法によって作成したハニカム構造物は、例えばシート状であり、シートの少なくとも片面側にそれぞれのセルの開口部があるハニカム構造物である。エネルギー線硬化性物質としては、例えば、紫外線や電子線、遠赤外線などのエネルギー線の吸収によって架橋反応、あるいは重合反応が進行して硬化する物質であればよく、エネルギー線照射前の状態が塑性変形可能な状態であれば良い。表面張力を下げる物質としては前記エネルギー線硬化性物質と混ざり、相溶、分散、あるいは気液界面に吸着して、その表面張力を下げる物質であれば良い。表面張力を下げる物質は有機系、無機系、珪素系、低分子、オリゴマー、高分子であっても良く、エネルギー線硬化性物質の表面張力を5dyne/cm以上下げる物質が好ましく、特に表面張力を10dyne/cm以上下げる物質が好ましい。
The honeycomb structure of the present invention will be described with reference to various embodiments.
(Embodiment 1)
The honeycomb structure produced by the manufacturing method shown in FIG. 2 is, for example, in the form of a sheet, and is a honeycomb structure having an opening of each cell on at least one side of the sheet. As the energy ray curable substance, for example, a substance that cures by a crosslinking reaction or a polymerization reaction by absorption of energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, and far infrared rays may be used. Any deformable state may be used. Any substance that lowers the surface tension can be used as long as it is mixed with the energy ray-curable substance and adsorbed on the interface between the solvent, the dispersion, and the gas-liquid interface. The substance that lowers the surface tension may be organic, inorganic, silicon, low molecule, oligomer, or polymer, and is preferably a substance that lowers the surface tension of the energy ray curable substance by 5 dyne / cm or more. A substance that lowers by 10 dyne / cm or more is preferable.
ハニカム構造物の各セル間の壁厚さは、0.01〜10μmの範囲に形成でき、このようなハニカム構造物のセルをひとつ一つの電気泳動表示素子の画素とすることにより、表示特性の優れた画像表示装置ができる。本発明で用いた硬化材料にて構成された微細なハニカム構造物は、紫外線硬化樹脂のみを用いたものより壁厚みが薄くできる。隔壁は表示に寄与しない部分であるので、薄くなることにより反射率、コントラストが向上する。隔壁厚みとしては、好ましくは0.05〜5μm程度が望ましい。0.05μm以下の隔壁厚みではハニカム構造物の強度が弱くなり、5μm以上だと反射率、コントラストの面で特性が良くないためである。 The wall thickness between each cell of the honeycomb structure can be formed in a range of 0.01 to 10 μm. By using each cell of the honeycomb structure as a pixel of each electrophoretic display element, display characteristics can be improved. An excellent image display device can be obtained. The fine honeycomb structure composed of the curable material used in the present invention can have a thinner wall thickness than that using only the ultraviolet curable resin. Since the partition wall does not contribute to display, the reflectance and contrast are improved by being thinned. The partition wall thickness is preferably about 0.05 to 5 μm. This is because when the partition wall thickness is 0.05 μm or less, the strength of the honeycomb structure is weak, and when it is 5 μm or more, the characteristics in terms of reflectance and contrast are not good.
ハニカム構造物の製造においては、エネルギー線硬化性物質として揮発成分が少ないものを選択することができ、乾燥時間を必要とせず、市販のエネルギー線光源、例えば紫外線光源にて短時間で硬化させることができるので、設備が安価であり、工程時間を短くし、生産性を向上させることができる。 In the manufacture of honeycomb structure, it is possible to select an energy ray-curable material with a small amount of volatile components, which does not require drying time and is cured in a short time with a commercially available energy ray light source such as an ultraviolet light source. Therefore, the equipment is inexpensive, the process time can be shortened, and the productivity can be improved.
また、本発明のハニカム構造物は、(気泡を膨張させる製造方法で形成されているので、)揮発成分が少ないエネルギー線硬化材料を用いることによって、基材フィルムに直接ハニカム構造物を形成することが可能であり、画像表示装置などに使用する際に、出来上がったハニカム構造物を別部材に接着するなどの工程を省き生産性を向上することができる。 In addition, the honeycomb structure of the present invention can be directly formed on a base film by using an energy ray curable material having a small amount of volatile components (since it is formed by a manufacturing method in which bubbles are expanded). Thus, when used in an image display device or the like, productivity can be improved by omitting a process such as bonding the completed honeycomb structure to another member.
(実施形態2)
実施形態2のハニカム構造物は、実施形態1のハニカム構造物と同様に製造されるが、エネルギー線硬化性樹脂として界面活性剤を含む電子線硬化性樹脂を用いている。例えば電子線硬化性樹脂として、不飽和ポリエステル、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、不飽和アクリル樹脂、不飽和シリコーン、不飽和フッ素樹脂など(望ましくはウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系)を用いてもよい。
(Embodiment 2)
The honeycomb structure of the second embodiment is manufactured in the same manner as the honeycomb structure of the first embodiment, but an electron beam curable resin containing a surfactant is used as the energy beam curable resin. For example, as an electron beam curable resin, unsaturated polyester, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, unsaturated acrylic resin, unsaturated silicone, unsaturated fluorine resin, etc. (preferably urethane acrylate type, epoxy acrylate type) May be used.
電子線硬化性樹脂の表面張力を下げる界面活性剤としては、電子線硬化性樹脂と混ざり、相溶、分散、あるいは気液界面に吸着して、その表面張力を下げる両親媒性物質であれば良い。界面活性剤は親水部と疎水部を有する物質であり、有機系、無機系、珪素系、低分子、オリゴマー、高分子であっても良く、エネルギー線硬化性物質の表面張力を5dyne/cm以上下げる物質が良く、望ましくは表面張力を10dyne/cm以上下げる物質が良い。例えば、ポリオルガノシロキサンを疎水基とするシリコーン系界面活性剤は大きな表面張力低下能を示し、親水基としてポリオキシアルキレン、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、アンモニウム塩などを変性基として含む変性シリコーン系界面活性剤を用いても良い。 Any surfactant that lowers the surface tension of the electron beam curable resin can be used as long as it is an amphiphilic substance that mixes with the electron beam curable resin and is dissolved, dispersed, or adsorbed on the gas-liquid interface to lower the surface tension. good. The surfactant is a substance having a hydrophilic part and a hydrophobic part, and may be an organic, inorganic, silicon, low molecule, oligomer, or polymer. The surface tension of the energy ray curable substance is 5 dyne / cm or more. A substance that lowers the surface tension is preferable, and a substance that lowers the surface tension by 10 dyne / cm or more is preferable. For example, silicone surfactants with polyorganosiloxane as a hydrophobic group exhibit a great ability to lower surface tension, and polyoxyalkylene, polyglycerin, pyrrolidone, betaine, sulfate, phosphate, ammonium salt, etc. are modified as hydrophilic groups. A modified silicone surfactant contained as a group may be used.
この微細なハニカム構造物の各セル間の壁厚みは、0.01〜10μmの範囲に形成でき、このようなハニカム構造物を電気泳動表示装置に使うことにより、表示特性が向上する。その他にも実施形態1と同様の機能作用を持つ。 The wall thickness between the cells of this fine honeycomb structure can be formed in the range of 0.01 to 10 μm. By using such a honeycomb structure for an electrophoretic display device, display characteristics are improved. In addition, it has the same function and action as the first embodiment.
(実施形態3)
実施形態3のハニカム構造物は、実施形態2のハニカム構造物と同様に製造されるが、界面活性剤として、フッ素系界面活性剤、特にフッ素含有両親媒性物質を使用している。フッ素系界面活性剤はフッ素を含有し、疎水部と親水部とを有する物質であり、低分子、オリゴマー、高分子であっても良く、エネルギー線硬化性物質の表面張力を5dyne/cm以上下げる物質が好ましく、特に表面張力を10dyne/cm以上下げる物質が好ましい。この形態のハニカム構造物も上述の実施形態1,2のハニカム構造物と同様の性能、特徴を持ち、同じような用途に用いることができる。
(Embodiment 3)
The honeycomb structure according to the third embodiment is manufactured in the same manner as the honeycomb structure according to the second embodiment, but a fluorine-based surfactant, particularly a fluorine-containing amphiphile is used as the surfactant. The fluorosurfactant is a substance containing fluorine and having a hydrophobic part and a hydrophilic part, and may be a low molecule, an oligomer or a polymer, and lowers the surface tension of the energy ray curable substance by 5 dyne / cm or more. A substance is preferable, and a substance that lowers the surface tension by 10 dyne / cm or more is particularly preferable. This form of honeycomb structure also has the same performance and characteristics as the honeycomb structures of Embodiments 1 and 2 described above, and can be used for similar applications.
(実施形態4)
実施形態4のハニカム構造物は、実施形態3のハニカム構造物と同様に製造されるが、界面活性剤として、フルオロアルキル基を有する界面活性剤を利用している。フルオロアルキル基を有する界面活性剤としては、記エネルギー線硬化性物質と混ざり、相溶、分散、あるいは気液界面に吸着して、その表面張力を下げるフルオロアルキル基を有する両親媒性物質であれば良い。フルオロアルキル基を有し、疎水部と親水部とを有する物質であり、低分子、オリゴマー、高分子であっても良く、エネルギー線硬化性物質の表面張力を5dyne/cm以上下げる物質が良く、望ましくは表面張力を10dyne/cm以上下げる物質が良い。
(Embodiment 4)
The honeycomb structure of the fourth embodiment is manufactured in the same manner as the honeycomb structure of the third embodiment, but a surfactant having a fluoroalkyl group is used as the surfactant. The surfactant having a fluoroalkyl group may be an amphiphilic substance having a fluoroalkyl group which is mixed with the energy ray curable substance and is dissolved, dispersed, or adsorbed on the gas-liquid interface to lower its surface tension. It ’s fine. It is a substance having a fluoroalkyl group and having a hydrophobic part and a hydrophilic part, and may be a low molecule, an oligomer, or a polymer, and a substance that lowers the surface tension of the energy ray curable substance by 5 dyne / cm or more is good. A substance that lowers the surface tension by 10 dyne / cm or more is desirable.
フルオロアルキル基を有する界面活性剤としては、アルキル基内の水素がすべてフッ素に置換されたパーフルオロアルキル基を含むものが望ましいが、アルキル基末端部の水素がフッ素に置換されたものでも良い。あるいは、アルコキシ基末端部の水素がフッ素に置換されたものでもよい。例えば、フッ素系界面活性剤の例としては、パーフルオロアルキル基含有両親媒性オリゴマー、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基含有スルホン酸塩、パーフルオロアルキル基含有カルボン酸塩、パーフルオロアルキル基含有カルボン酸、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステル、パーフルオロアルキル基含有スルホンアミド、パーフルオロアルキル基含有リン酸アンモニウム塩、パーフルオロアルキル基含有カルボン酸アンモニウム塩、パーフルオロアルキル基含有アクリレートポリマー及びその共重合体などを用いても良い。 The surfactant having a fluoroalkyl group preferably contains a perfluoroalkyl group in which all hydrogen in the alkyl group is substituted with fluorine, but may be one in which hydrogen at the end of the alkyl group is substituted with fluorine. Alternatively, the hydrogen at the terminal end of the alkoxy group may be substituted with fluorine. Examples of fluorosurfactants include perfluoroalkyl group-containing amphiphilic oligomers, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl group-containing sulfonates, perfluoroalkyl group-containing carboxylates, and perfluoroalkyls. Group-containing carboxylic acid, perfluoroalkyl group-containing phosphate ester, perfluoroalkyl group-containing sulfonamide, perfluoroalkyl group-containing ammonium phosphate salt, perfluoroalkyl group-containing carboxylic acid ammonium salt, perfluoroalkyl group-containing acrylate polymer, and Such a copolymer may be used.
この形態のハニカム構造物も上述の実施形態1、実施形態2、実施形態3のハニカム構造物と同様の性能、特徴を持ち、同じような用途に用いることができる。 This type of honeycomb structure also has the same performance and characteristics as the honeycomb structures of Embodiments 1, 2, and 3 described above, and can be used for similar applications.
(実施形態5)
実施形態5のハニカム構造物は、ノニオン系エネルギー線硬化性樹脂とノニオン系界面活性剤を含む材料から成る。例えば、このハニカム構造物は、シート状であり、シートの少なくとも片面側にハニカム構造物各セルの開口部がある複数の中空セルが並んだ構造物が該当する。ノニオン系エネルギー線硬化性物質としては、例えば紫外線や電子線、遠赤外線などのエネルギー線の吸収によって架橋反応、あるいは重合反応が進行して硬化するノニオン系樹脂であればよく、エネルギー線照射前の状態が塑性変形可能な状態であれば良い。例えば、ノニオン系樹脂としてエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートなどを用いてもよい。
(Embodiment 5)
The honeycomb structure of Embodiment 5 is made of a material containing a nonionic energy ray curable resin and a nonionic surfactant. For example, this honeycomb structure has a sheet shape, and corresponds to a structure in which a plurality of hollow cells each having an opening of each cell of the honeycomb structure are arranged on at least one side of the sheet. The nonionic energy ray curable substance may be any nonionic resin that cures by a crosslinking reaction or a polymerization reaction by absorption of energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, and far infrared rays. The state may be any state that can be plastically deformed. For example, epoxy acrylate, urethane acrylate, or the like may be used as the nonionic resin.
ノニオン系界面活性剤としてはエネルギー線硬化性物質と混ざり、相溶、分散、あるいは気液界面に吸着して、その表面張力を下げる両親媒性物質であれば良い。有機系、無機系、珪素系、低分子、オリゴマー、高分子であっても良く、エネルギー線硬化性物質の表面張力を5dyne/cm以上下げる物質が良く、望ましくは表面張力を10dyne/cm以上下げる物質が良い。例えばノニオン系界面活性剤の例としては、パーフルオロアルキル基含有両親媒性オリゴマー、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基含有スルホンアミド、パーフルオロアルキル基含有アクリレートポリマー及びその共重合体などを用いても良い。 Any nonionic surfactant may be used as long as it is an amphiphilic substance that is mixed with an energy ray-curable substance and is dissolved, dispersed, or adsorbed on the gas-liquid interface to lower its surface tension. Organic, inorganic, silicon-based, low-molecular, oligomer, and high-molecular materials may be used, and a material that lowers the surface tension of the energy ray-curable material by 5 dyne / cm or more is preferable, and desirably the surface tension is lowered by 10 dyne / cm or more. The substance is good. For example, examples of nonionic surfactants include perfluoroalkyl group-containing amphiphilic oligomers, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl group-containing sulfonamides, perfluoroalkyl group-containing acrylate polymers, and copolymers thereof. It may be used.
この形態のハニカム構造物も上述の実施形態1乃至実施形態4のハニカム構造物と同様の性能、特徴を持ち、同じような用途に用いることができる。さらに、ノニオン系材料の特性である無イオン性により、ハニカム構造物がイオン性を持たないので、画像表示装置に利用した際に、内壁に電気泳動粒子が固着するなどの画素成分との電気的な要因による不具合を防ぐことができる。 The honeycomb structure of this form also has the same performance and characteristics as the honeycomb structures of Embodiments 1 to 4 described above, and can be used for similar applications. Furthermore, since the honeycomb structure does not have ionicity due to the nonionic property that is a characteristic of nonionic materials, when used in an image display device, it is electrically connected to pixel components such as electrophoretic particles fixed to the inner wall. It is possible to prevent problems caused by various factors.
(実施形態6)
実施形態6のハニカム構造物は、紫外線硬化樹脂と表面張力を下げる物質とを含む硬化材料を使用している。紫外線硬化樹脂としては、紫外線の吸収によって架橋反応、あるいは重合反応が進行して硬化する物質であればよく、紫外線照射前の状態が塑性変形可能な状態であれば良い。例えばポリエステルアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、アクリルオリゴマー系アクリレート、ウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系、ポリブタジエンアクリレート系、シリコーンアクリレート系紫外線硬化樹脂など(望ましくはウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系)は比較的速やかに硬化するので安定した形状を得るのに適している。この紫外線硬化樹脂材料に加えて紫外線を吸収して重合を開始するための光重合開始剤、任意の波長における光吸収感度を増感させるための増感剤、重合開始剤との相互作用で感度や硬化度を高める重合促進剤などを加えて用いることが有効である。
(Embodiment 6)
The honeycomb structure of Embodiment 6 uses a curable material containing an ultraviolet curable resin and a substance that lowers the surface tension. The ultraviolet curable resin may be a substance that cures by a crosslinking reaction or a polymerization reaction by absorption of ultraviolet rays, and may be in a state in which the state before ultraviolet irradiation can be plastically deformed. For example, polyester acrylate, polyether acrylate, acrylic oligomer acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, polybutadiene acrylate, silicone acrylate UV curable resin (preferably urethane acrylate, epoxy acrylate) is relatively quick Since it cures, it is suitable for obtaining a stable shape. In addition to this UV curable resin material, a photopolymerization initiator for absorbing ultraviolet rays to initiate polymerization, a sensitizer for sensitizing light absorption sensitivity at an arbitrary wavelength, and sensitivity by interaction with the polymerization initiator It is effective to add a polymerization accelerator or the like to increase the degree of curing.
表面張力を下げる物質としては前記エネルギー線硬化性物質と混ざり、相溶、分散、あるいは気液界面に吸着して、その表面張力を下げる物質であれば良い。表面張力を下げる物質は有機系、無機系、珪素系、低分子、オリゴマー、高分子であっても良く、エネルギー線硬化性物質の表面張力を5dyne/cm以上下げる物質が良く、望ましくは表面張力を10dyne/cm以上下げる物質が良い。 Any substance that lowers the surface tension can be used as long as it is mixed with the energy ray-curable substance and adsorbed on the interface between the solvent, the dispersion, and the gas-liquid interface. The substance that lowers the surface tension may be organic, inorganic, silicon, low molecule, oligomer, or polymer, and the substance that lowers the surface tension of the energy ray curable substance by 5 dyne / cm or more is preferable. It is preferable to use a substance that lowers 10 dyne / cm or more.
この形態のハニカム構造物も上述の実施形態1乃至実施形態4のハニカム構造物と同様の性能、特徴を持ち、同じような用途に用いることができる。ウレタンアクリレート系樹脂を硬化材料の主成分とした場合は、ハニカム構造物は可撓性に優れ薄型ディスプレイの画像表示装置に使用した場合の信頼性を高めることができる。さらに、ウレタンアクリレート系樹脂は、対薬品性に優れており、疎水性有機溶媒からなる電気泳動液との相溶を防ぐことができ、経時的に安定した表示特性を得ることができる。 また、エポキシアクリレート系樹脂を硬化材料の主成分とした場合は、ハニカム構造物を画像表示装置に使用したときに、電極材との接合性を高めることができる。また、対薬品性に優れており、疎水性有機溶媒からなる電気泳動液との相溶を防ぐことができ、経時的に安定した表示特性を得ることができる。アルコキシアクリレート系樹脂を硬化材料の主成分とした場合は、疎水性有機溶媒からなる電気泳動液との相溶を防ぐことができ、画像表示装置に使用した場合、経時的に安定した表示特性を得ることができる。 The honeycomb structure of this form also has the same performance and characteristics as the honeycomb structures of Embodiments 1 to 4 described above, and can be used for similar applications. When urethane acrylate resin is used as the main component of the curable material, the honeycomb structure has excellent flexibility and can improve reliability when used in an image display device for a thin display. Furthermore, the urethane acrylate resin is excellent in chemical resistance, can be prevented from being compatible with an electrophoretic liquid composed of a hydrophobic organic solvent, and can obtain stable display characteristics over time. Further, when the epoxy acrylate resin is used as the main component of the curable material, when the honeycomb structure is used in the image display device, the bondability with the electrode material can be improved. In addition, it is excellent in chemical resistance, can be prevented from being compatible with an electrophoretic liquid composed of a hydrophobic organic solvent, and can obtain stable display characteristics over time. When an alkoxy acrylate resin is used as the main component of the curable material, compatibility with an electrophoretic liquid composed of a hydrophobic organic solvent can be prevented, and when used in an image display device, stable display characteristics over time. Obtainable.
(実施形態7)
実施形態7のハニカム構造物は、実施形態7のハニカム構造物において、親水性紫外線硬化樹脂と表面張力を下げる物質とを含む材料から成る硬化材料を使用している。このハニカム構造物は、例えばシート状であり、シートの少なくとも片面側にハニカム構造物各セルの開口部がある複数の中空セルが並んだ構造物が該当する。親水性紫外線硬化樹脂としては、親水性の官能基を含み、水溶性、あるいは水との親和性が高い構造からなり、紫外線の吸収によって架橋反応、あるいは重合反応が進行して硬化する物質であればよく、紫外線照射前の状態が塑性変形可能な状態であれば良い。例えばポリアルコキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系紫外線硬化樹脂などは比較的速やかに硬化するので安定した形状を得るのに適している。
(Embodiment 7)
The honeycomb structure of the seventh embodiment uses a curable material made of a material containing a hydrophilic ultraviolet curable resin and a substance that lowers the surface tension in the honeycomb structure of the seventh embodiment. This honeycomb structure is, for example, a sheet shape, and corresponds to a structure in which a plurality of hollow cells having openings of each cell of the honeycomb structure are arranged on at least one side of the sheet. The hydrophilic ultraviolet curable resin is a substance that contains a hydrophilic functional group and has a water-soluble structure or a high affinity with water, and is cured by a crosslinking reaction or a polymerization reaction by absorption of ultraviolet rays. What is necessary is just to be a state in which the state before ultraviolet irradiation can be plastically deformed. For example, polyalkoxy acrylate-based, urethane acrylate-based, epoxy acrylate-based UV curable resins and the like are suitable for obtaining a stable shape because they cure relatively quickly.
親水性紫外線硬化樹脂に加えて紫外線を吸収して重合を開始するための光重合開始剤、任意の波長における光吸収感度を増感させるための増感剤、重合開始剤との相互作用で感度や硬化度を高める重合促進剤などを加えて用いることが有効である。 In addition to hydrophilic UV curable resin, photopolymerization initiator for initiating polymerization by absorbing ultraviolet rays, sensitizer for sensitizing light absorption sensitivity at any wavelength, sensitivity by interaction with polymerization initiator It is effective to add a polymerization accelerator or the like to increase the degree of curing.
表面張力を下げる物質としては前記紫外線硬化樹脂と混ざり、相溶、分散、あるいは気液界面に吸着して、その表面張力を下げる物質であれば良い。表面張力を下げる物質は有機系、無機系、珪素系、低分子、オリゴマー、高分子であっても良く、エネルギー線硬化性物質の表面張力を5dyne/cm以上下げる物質が良く、望ましくは表面張力を10dyne/cm以上下げる物質が良い。 Any substance that lowers the surface tension can be used as long as it is mixed with the ultraviolet curable resin and adsorbed on the interface between the solvent, the dispersion, or the gas-liquid interface. The substance that lowers the surface tension may be organic, inorganic, silicon, low molecule, oligomer, or polymer, and the substance that lowers the surface tension of the energy ray curable substance by 5 dyne / cm or more is preferable. It is preferable to use a substance that lowers 10 dyne / cm or more.
この形態のハニカム構造物も上述の実施形態1乃至実施形態4のハニカム構造物と同様の性能、特徴を持ち、同じような用途に用いることができる。また、ハニカム構造物の素材として親水性紫外線硬化樹脂が主成分となるので疎水性有機溶媒からなる電気泳動液との相溶を防ぐことが容易で、電気泳動を利用した表示装置に利用した場合、経時的に安定した表示特性を得ることができる。 The honeycomb structure of this form also has the same performance and characteristics as the honeycomb structures of Embodiments 1 to 4 described above, and can be used for similar applications. In addition, since the hydrophilic UV curable resin is the main component of the honeycomb structure, it is easy to prevent compatibility with the electrophoretic liquid composed of a hydrophobic organic solvent. When used in a display device using electrophoresis Thus, stable display characteristics can be obtained over time.
(実施形態8)
実施形態8は上述のハニカム構造物を利用した画像表示装置である。実施形態8の画像表示装置は、上記のいずれかの本発明のハニカム構造物を画像表示部の画素マトリクスとして用いた装置であり、ハニカム構造物のセルの内部に、電気泳動剤(電気泳動粒子及び電気泳動媒体のスラリー)を充填した電気泳動ディスプレイ、液晶材料を充填した液晶ディスプレイ、蛍光材料を充填したELディスプレイ、エレクトロウェッティングディスプレイなどの画素仕切りを要する画像表示装置である。多数の微細なセルを持つハニカム構造物は紫外線硬化樹脂のみを用いた硬化材料として用いたものよりセルの隔壁厚さが薄い。セルの隔壁は表示に寄与しない部分であるので、薄くなることにより反射率、コントラストが向上する。画像表示装置の画素マトリクスのセルの隔壁厚さとしては、好ましくは0.05〜5μm程度が望ましい。0.05μm以下の隔壁厚さではハニカム構造物の強度が弱くなり、5μm以上だと反射率、コントラストの面で特性が良くないためである。
(Embodiment 8)
Embodiment 8 is an image display device using the above honeycomb structure. An image display apparatus according to Embodiment 8 is an apparatus using any of the above-described honeycomb structures of the present invention as a pixel matrix of an image display section, and an electrophoretic agent (electrophoretic particles) is placed inside the cells of the honeycomb structure. And an electrophoretic medium slurry), an liquid crystal display filled with a liquid crystal material, an EL display filled with a fluorescent material, and an electrowetting display. A honeycomb structure having a large number of fine cells has a cell partition wall thickness thinner than that used as a curing material using only an ultraviolet curable resin. Since the partition walls of the cells do not contribute to display, the reflectance and contrast are improved by being thinned. The partition wall thickness of the cell of the pixel matrix of the image display device is preferably about 0.05 to 5 μm. This is because when the partition wall thickness is 0.05 μm or less, the strength of the honeycomb structure is weak, and when it is 5 μm or more, the characteristics in terms of reflectance and contrast are not good.
この形態の画像表示装置においては、本発明の微細なセルを持つハニカム構造物を用いるので、表示部マトリックスの隔壁厚み10μm以下とすることができ、表示部マトリックスのセルの高い開口率によって反射率が大きく、コントラストに優れた画像特性を得ることができる。 In the image display device of this embodiment, since the honeycomb structure having fine cells of the present invention is used, the partition wall thickness of the display portion matrix can be 10 μm or less, and the reflectance is increased by the high aperture ratio of the cells of the display portion matrix. And image characteristics with excellent contrast can be obtained.
(実施形態9)
実施形態9は上述のハニカム構造物を利用した画像表示装置のうち、ハニカム構造物のセルの内部に電気泳動剤を充填した電気泳動式の画像表示装置である。この電気泳動式の画像表示装置とは、ハニカム構造物を画像表示部の画素マトリクスとして用いた装置であり、セルの内部に電気泳動剤を充填した電気泳動ディスプレイである。微細なハニカム構造物は従来例の紫外線硬化樹脂を用いたものより壁厚みが薄くなっている。隔壁は表示に寄与しない部分であるので、薄くなることにより反射率、コントラストが向上する。隔壁厚みとしては、好ましくは0.05〜5μm程度が望ましい。0.05μm以下の隔壁厚みではハニカム構造物の強度が弱くなり、5μm以上だと反射率、コントラストの面で特性が良くないためである。この形態の画像表示装置においては、本発明の微細なセルを持つハニカム構造物を用いるので、表示部マトリックスの隔壁厚み10μm以下とすることができ、表示部マトリックスのセルの高い開口率によって反射率が大きく、コントラストに優れた画像特性を得ることができる。
(Embodiment 9)
Embodiment 9 is an electrophoretic image display device in which an electrophoretic agent is filled in the cells of the honeycomb structure among the above-described image display devices using the honeycomb structure. This electrophoretic image display device is a device using a honeycomb structure as a pixel matrix of an image display unit, and is an electrophoretic display in which an electrophoretic agent is filled in a cell. The fine honeycomb structure has a thinner wall thickness than that of the conventional example using the ultraviolet curable resin. Since the partition wall does not contribute to display, the reflectance and contrast are improved by being thinned. The partition wall thickness is preferably about 0.05 to 5 μm. When the partition wall thickness is 0.05 μm or less, the strength of the honeycomb structure is weak, and when it is 5 μm or more, the characteristics in terms of reflectance and contrast are not good. In the image display device of this embodiment, since the honeycomb structure having fine cells of the present invention is used, the partition wall thickness of the display portion matrix can be 10 μm or less, and the reflectance is increased by the high aperture ratio of the cells of the display portion matrix. And image characteristics with excellent contrast can be obtained.
(実施形態10)
ハニカム構造物の製造装置および製造方法について説明する。ハニカム構造物の製造装置の例を図8、図9に示す。図8は、ハニカム構造物用の硬化材料を基板上に塗布する工程を実行する装置であり、図9は、基板上に塗布された硬化材料をハニカム構造にする装置である。図8に示すハニカム構造体製造装置20は、ガラス基板22に平面度良く、接合した型23に硬化材料30を塗布する装置であり、硬化材料30の温度を制御した上で吐出ポンプ29からスリットヘッド24へ硬化材料30を送り出すと同時に塗布テーブル21を移動させることで均一な皮膜を型23上に形成させる。型23は、ニッケル、シリコン、ガラス上にレジスト剤パターンを形成したもの、銅張り板(銅/ポリイミド積層基板)、ガラス、その他樹脂材(ポリイミド、PTE、アクリル等)などどのようなものでも使うことができる。凹部形成方法としては、エッチングを実施した。
(Embodiment 10)
A honeycomb structure manufacturing apparatus and manufacturing method will be described. Examples of the honeycomb structure manufacturing apparatus are shown in FIGS. FIG. 8 is an apparatus that executes a step of applying a hardening material for a honeycomb structure onto a substrate, and FIG. 9 is an apparatus that converts the hardening material applied onto the substrate into a honeycomb structure. A honeycomb structure manufacturing apparatus 20 shown in FIG. 8 is an apparatus that applies a curing material 30 to a
皮膜の形成が終わったら、皮膜を形成した型をガラス基板ごと図9に示す減圧チャンバー40に送り込み、減圧チャンバー40を減圧にして皮膜を発泡させる。図9はこのとき用いた減圧装置の図であり、自動的にガラス基板ごとチャンバー内に供給され、一定の真空度に減圧され、ハニカムが形成される。このときの到達圧は5×102Pasであり、このまま図示していない紫外線照射装置によって紫外線を照射して硬化材料を硬化させてしまい、硬化後にハニカム構造物となった皮膜をガラス基板ごと取り出される。このときのハニカム高さは約100μであった。 When the formation of the film is completed, the mold on which the film has been formed is fed together with the glass substrate into the decompression chamber 40 shown in FIG. 9, and the decompression chamber 40 is decompressed to foam the film. FIG. 9 is a diagram of the decompression device used at this time. The glass substrate is automatically supplied into the chamber and decompressed to a certain degree of vacuum to form a honeycomb. The ultimate pressure at this time is 5 × 10 2 Pas, and the cured material is cured by irradiating ultraviolet rays with an ultraviolet irradiation device (not shown) as it is, and the film that has become a honeycomb structure after curing is taken out together with the glass substrate. It is. The height of the honeycomb at this time was about 100 μm.
この後ハニカム膜を型から離型し、ハニカム構造体とすることができる。このとき形成されたハニカムに機能材料を注入する場合、離型面に形成された開口から注入するが、型形状によって開口が不十分な場合、可溶材料を暴露することで開口径を制御してもよい。さらにこれを高分子材料で封止し、10Vの電界をかけることで、画像表示させルことができた。 Thereafter, the honeycomb film can be released from the mold to form a honeycomb structure. When functional material is injected into the honeycomb formed at this time, it is injected from the opening formed in the mold release surface. If the opening is insufficient depending on the mold shape, the opening diameter is controlled by exposing soluble material. May be. Further, this was sealed with a polymer material, and an image was displayed by applying an electric field of 10V.
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。
(実施例1)
エポキシアクリレート系紫外線硬化樹脂として、液状のビームセットAQ9(荒川化学工業製)を使用し反応開始剤として1-ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトンとベンゾフェノンから成るIrgacure500(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)(3wt%)を用いた。ここで、AQ9液中にフッ素系界面活性剤ノベックFC−4430(スリーエム社製)を(0.5wt%)添加し、エポキシアクリレートの表面張力を下げる。この溶液をスリットコーターを用いて凹部を有する型基材上に塗布し、型基板上にエポキシアクリレート膜を形成する。このエポキシアクリレート膜の上に透明導電膜付きフィルム等の基板を配置し、減圧装置に入れて減圧にし、凹部の空気を膨張させる。ある真空度に到達し、所望の形状のセルが形成された時点で、中空層(セル)を形成されたエポキシアクリレート膜に紫外線を照射し、エポキシアクリレートを硬化させる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.
Example 1
Irgacure 500 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) consisting of 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone and benzophenone as a reaction initiator is used as an epoxy acrylate-based UV curable resin, which is a liquid beam set AQ9 (Arakawa Chemical Industries). ) Was used. Here, fluorine surfactant Novec FC-4430 (manufactured by 3M) (0.5 wt%) is added to the AQ9 solution to lower the surface tension of the epoxy acrylate. This solution is applied onto a mold base having a recess using a slit coater to form an epoxy acrylate film on the mold substrate. A substrate such as a film with a transparent conductive film is disposed on the epoxy acrylate film, put into a decompression device to reduce the pressure, and the air in the recess is expanded. When a certain degree of vacuum is reached and a cell having a desired shape is formed, the epoxy acrylate film on which the hollow layer (cell) is formed is irradiated with ultraviolet rays to cure the epoxy acrylate.
エポキシアクリレートを塑性変形性の材料として使用した場合、各セルの壁厚みhが0.01〜5μm、開口部壁厚みiが0.01〜1μm、各セルの壁と開口部の壁との交差部の曲率半径jが0.1〜5μm、開口部mが140μmのハニカム構造物が作製できる(各部位の符号は、図6を参照)。同時に透明導電膜付きフィルム等相手基板との接合が行われ、透明導電膜付きフィルム付きハニカム構造物となる。透明導電膜付きフィルム等の相手基板との接合をハニカム構造物製造と同時に行うので、工程数が少なく、設備コストや加工時間に対するコストが低減出来る効果がある。 When epoxy acrylate is used as a plastically deformable material, the wall thickness h of each cell is 0.01 to 5 μm, the opening wall thickness i is 0.01 to 1 μm, and the intersection of the wall of each cell and the wall of the opening A honeycomb structure having a radius of curvature j of 0.1 to 5 μm and an opening m of 140 μm can be manufactured (see FIG. 6 for symbols of each part). At the same time, bonding with a mating substrate such as a film with a transparent conductive film is performed, and a honeycomb structure with a film with a transparent conductive film is obtained. Since joining with a mating substrate such as a film with a transparent conductive film is performed simultaneously with the manufacture of the honeycomb structure, the number of processes is small, and there is an effect that the cost for equipment cost and processing time can be reduced.
(実施例2)
本実施例は、紫外線硬化樹脂としてウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂、表面張力を下げる物質としてポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤を添加し(0.5wt%)、ハニカム構造物素材として用いた例である。
ここではメルカプト基を含むウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂であるLoctite3301(Henkel Technologies社製)を使用した。Loctite3301液中にポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤であるシロキサン-ポリアルキレンオキサイドコポリマー:NIAXシリコーンL-650(GE東芝シリコーン社製)を(0.5wt%)添加し、ウレタンアクリレートの表面張力を下げる。この溶液をスリットコーターを用いて塗布し、型基板上にウレタンアクリレート膜を形成する。この上に透明導電膜付きフィルム等の基板を配置し、減圧し、空気を膨張させる。ある真空度に到達し、所望の形状のセルが形成された時点で、中空層(セル)の形成されたウレタンアクリレート膜に紫外線を照射し、ウレタンアクリレートを硬化させる。ウレタンアクリレートを塑性変形性の材料として使用した場合、各セルの壁厚みhが0.01〜5μm、開口部壁厚みiが0.01〜1μm、各セルの壁と開口部の壁との交差部の曲率半径jが0.1〜5μm、開口部mが140μmのハニカム構造物が作製できる(図6参照)。実施例1と同様、同時に透明導電膜付きフィルム等相手基板との接合が行われる。相手基板との接合を同時に行うので、工程数が少なく、設備コストや加工時間に対するコストが低減出来る効果がある。
(Example 2)
In this example, a urethane acrylate ultraviolet curable resin is used as an ultraviolet curable resin, and a polyether-modified silicone surfactant is added as a substance that lowers the surface tension (0.5 wt%), and used as a honeycomb structure material. .
Here, Loctite 3301 (manufactured by Henkel Technologies), which is a urethane acrylate ultraviolet curable resin containing a mercapto group, was used. Add siloxane-polyalkylene oxide copolymer: NIAX Silicone L-650 (manufactured by GE Toshiba Silicone) (0.5 wt%), which is a polyether-modified silicone surfactant, to the Loctite 3301 solution to lower the surface tension of urethane acrylate. . This solution is applied using a slit coater to form a urethane acrylate film on the mold substrate. A substrate such as a film with a transparent conductive film is placed thereon, and the pressure is reduced to expand the air. When a certain degree of vacuum is reached and a cell having a desired shape is formed, the urethane acrylate film on which the hollow layer (cell) is formed is irradiated with ultraviolet rays to cure the urethane acrylate. When urethane acrylate is used as a plastically deformable material, the wall thickness h of each cell is 0.01 to 5 μm, the opening wall thickness i is 0.01 to 1 μm, and the intersection of the wall of each cell and the wall of the opening A honeycomb structure having a radius of curvature j of 0.1 to 5 μm and an opening m of 140 μm can be manufactured (see FIG. 6). In the same manner as in Example 1, bonding with a mating substrate such as a film with a transparent conductive film is simultaneously performed. Since the bonding with the mating substrate is simultaneously performed, the number of processes is small, and there is an effect that the cost for equipment cost and processing time can be reduced.
(実施例3)
ノニオン系紫外線硬化樹脂としてウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂、ノニオン系界面活性剤としてのFC4430(0.5wt%)をハニカム構造物素材として用いた例である。
塑性変形性の材料として、ノニオン系紫外線硬化樹脂であるウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂を使用する。ウレタンアクリレート系紫外線硬化材料としては、ポリウレタンアクリレートとアクリルモノマーとの混合液であるビームセットAQ17(荒川化学工業製)を使用し反応開始剤として1-ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトンとベンゾフェノンから成るIrgacure500(3wt%)を用いた。ここで、AQ17液中にノニオン系含フッ素界面活性剤ノベックFC−4430(3M製)を(0.5wt%)添加し、ウレタンアクリレート液の表面張力を下げる。この未硬化樹脂液をスリットコーターを用いて塗布し、型基板上にウレタンアクリレート膜を形成する。この上に透明導電膜付きフィルム等の基板を配置し、減圧し、空気を膨張させる。ある真空度に到達し、所望の形状のセルが形成された時点で、中空層(セル)の形成されたウレタンアクリレート膜に紫外線を照射し、ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂を硬化させる。
Example 3
This is an example in which a urethane acrylate ultraviolet curable resin as a nonionic ultraviolet curable resin and FC4430 (0.5 wt%) as a nonionic surfactant are used as a honeycomb structure material.
As a plastically deformable material, a urethane acrylate ultraviolet curable resin which is a nonionic ultraviolet curable resin is used. As the urethane acrylate ultraviolet curing material, Irgacure 500 (3 wt.) Composed of 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone and benzophenone as a reaction initiator is used as a beam initiator AQ17 (manufactured by Arakawa Chemical Industries) which is a mixed solution of polyurethane acrylate and an acrylic monomer. %) Was used. Here, nonionic fluorine-containing surfactant Novec FC-4430 (manufactured by 3M) (0.5 wt%) is added to the AQ17 solution to lower the surface tension of the urethane acrylate solution. This uncured resin liquid is applied using a slit coater to form a urethane acrylate film on the mold substrate. A substrate such as a film with a transparent conductive film is placed thereon, and the pressure is reduced to expand the air. When a certain degree of vacuum is reached and a cell having a desired shape is formed, the urethane acrylate film on which the hollow layer (cell) is formed is irradiated with ultraviolet rays to cure the urethane acrylate ultraviolet curable resin.
ウレタンアクリレートを塑性変形性の材料として使用した場合、各セルの壁厚みhが0.01〜5μm、開口部壁厚みiが0.01〜1μm、各セルの壁と開口部の壁との交差部の曲率半径jが0.1〜5μm、開口部mが140μmのハニカム構造物が作製できる(図6参照)。同時に透明導電膜付きフィルム等相手基板との接合が行われる。相手基板との接合を同時に行うので、工程数が少なく、設備コストや加工時間に対するコストが低減出来る効果がある。 When urethane acrylate is used as a plastically deformable material, the wall thickness h of each cell is 0.01 to 5 μm, the opening wall thickness i is 0.01 to 1 μm, and the intersection of the wall of each cell and the wall of the opening A honeycomb structure having a radius of curvature j of 0.1 to 5 μm and an opening m of 140 μm can be manufactured (see FIG. 6). At the same time, bonding with a mating substrate such as a film with a transparent conductive film is performed. Since the bonding with the mating substrate is simultaneously performed, the number of processes is small, and there is an effect that the cost for equipment cost and processing time can be reduced.
(実施例4)
親水性紫外線硬化樹脂としてアルコキシアクリレート系紫外線硬化樹脂、フルオロアルキル基含有界面活性剤としてハイドロカーボンアクリレート-パーフルオロカーボンアクリレートコポリマーを添加し(0.5wt%)、ハニカム構造物素材として用いた例である。
塑性変形性の材料として、親水性紫外線硬化樹脂であるアルコキシアクリレート系紫外線硬化樹脂を使用する。具体的には水との高い親和性を有するポリエチレングリコールジアクリレート:PEG400DA(ダイセルサイテック社製)を使用し反応開始剤として1-ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトンとベンゾフェノンから成るIrgacure500(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)(3wt%)を用いた。ここで、PEG400DA液中にハイドロカーボンアクリレート-パーフルオロカーボンアクリレートコポリマー:エフトップEF802(ジェムコ社製)を(0.5wt%)添加し、アルコキシアクリレート液の表面張力を下げる。この未硬化液をスリットコーターを用いて塗布し、型基板上にアルコキシアクリレート膜を形成する。この上に透明導電膜付きフィルム等の基板を配置し、減圧し、空気を膨張させる。ある真空度に到達し、所望の形状のセルが形成された時点で、中空層(セル)の形成されたアルコキシアクリレート膜に紫外線を照射し、アルコキシアクリレート系紫外線硬化樹脂を硬化させる。
Example 4
In this example, an alkoxy acrylate ultraviolet curable resin is used as a hydrophilic ultraviolet curable resin, and a hydrocarbon acrylate-perfluorocarbon acrylate copolymer is added as a fluoroalkyl group-containing surfactant (0.5 wt%) and used as a honeycomb structure material.
As the plastically deformable material, an alkoxy acrylate UV curable resin which is a hydrophilic UV curable resin is used. Specifically, Irgacure 500 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) comprising 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone and benzophenone as a reaction initiator using polyethylene glycol diacrylate having a high affinity with water: PEG400DA (manufactured by Daicel Cytec). Manufactured) (3 wt%) was used. Here, the surface tension of the alkoxy acrylate liquid is lowered by adding (0.5 wt%) hydrocarbon acrylate-perfluorocarbon acrylate copolymer: F-top EF802 (manufactured by Gemco) into the PEG 400DA liquid. This uncured liquid is applied using a slit coater to form an alkoxy acrylate film on the mold substrate. A substrate such as a film with a transparent conductive film is placed thereon, and the pressure is reduced to expand the air. When a certain degree of vacuum is reached and a cell having a desired shape is formed, the alkoxy acrylate film on which the hollow layer (cell) is formed is irradiated with ultraviolet rays to cure the alkoxy acrylate ultraviolet curable resin.
アルコキシアクリレートを塑性変形性の材料として使用した場合、各セルの壁厚みhが0.01〜5μm、開口部壁厚みiが0.01〜1μm、各セルの壁と開口部の壁との交差部の曲率半径jが0.1〜5μm、開口部mが140μmのハニカム構造物が作製できる(図6参照)。同時に透明導電膜付きフィルム等相手基板との接合が行われる。相手基板との接合を同時に行うので、工程数が少なく、設備コストや加工時間に対するコストが低減出来る効果がある。 When alkoxy acrylate is used as a plastically deformable material, the wall thickness h of each cell is 0.01 to 5 μm, the opening wall thickness i is 0.01 to 1 μm, and the intersection between the wall of each cell and the wall of the opening A honeycomb structure having a radius of curvature j of 0.1 to 5 μm and an opening m of 140 μm can be manufactured (see FIG. 6). At the same time, bonding with a mating substrate such as a film with a transparent conductive film is performed. Since the bonding with the mating substrate is simultaneously performed, the number of processes is small, and there is an effect that the cost for equipment cost and processing time can be reduced.
(比較例)
水溶性樹脂(水溶液)塑性変形性の材料として、水溶性樹脂であるゼラチンを使用する。ゼラチンを5〜30wt%程度に水に溶解させる。この溶液をスリットコーターを用いて、型基板上にゼラチン膜を形成する。これを減圧し、空気を膨張させる。真空中でゼラチン中の残留水分を蒸発させ、乾燥、固化させる(図3参照)。塑性変形可能な材料として、ゼラチンの他に、ポリウレタン(大日本インキ工業製ハイドランWLS−201)やポリビニルアルコール(クラレ製 ポバールPVA117)なども使用できる。
(Comparative example)
Water-soluble resin (aqueous solution) As a plastically deformable material, gelatin which is a water-soluble resin is used. Gelatin is dissolved in water to about 5-30 wt%. Using this solution, a gelatin film is formed on the mold substrate using a slit coater. This is decompressed and air is expanded. Residual moisture in the gelatin is evaporated in a vacuum, dried and solidified (see FIG. 3). In addition to gelatin, polyurethane (Dainippon Ink Industries Hydran WLS-201), polyvinyl alcohol (Kuraray Poval PVA117), and the like can be used as the plastically deformable material.
ゼラチンを塑性変形性の材料として使用した場合、図6に示す各セルの壁厚みhが0.01〜5μm、開口部およびそれに対向する壁厚みi(天井部)が0.01〜2μm(中央側ほど薄い)、各セルの壁と開口部あるいはそれに対向する壁(天井部)との交差部の曲率半径jが0.1〜20μm、開口部mが140μmのハニカム構造物が作製できる。しかし、ゼラチン中の残留水分を蒸発させ、乾燥、固化させる工程に時間がかかる。また、乾燥工程があるので、透明導電膜付きフィルム等の基板と一体化したハニカム構造物が作製できない。 When gelatin is used as a plastically deformable material, the wall thickness h of each cell shown in FIG. 6 is 0.01 to 5 μm, and the opening and the wall thickness i (ceiling portion) opposite to the opening are 0.01 to 2 μm (center). A honeycomb structure having a radius of curvature j of 0.1 to 20 μm and an opening m of 140 μm at the intersection between each cell wall and the opening or the wall (ceiling) opposite to the cell can be produced. However, it takes time to evaporate residual moisture in the gelatin, and to dry and solidify it. Moreover, since there is a drying step, a honeycomb structure integrated with a substrate such as a film with a transparent conductive film cannot be produced.
(比較例2)
紫外線硬化樹脂のみを塑性変形性の材料としたハニカム構造物の製造。エポキシアクリレート系紫外線硬化樹脂AQ9(荒川化学工業製)を使用し、反応開始剤として1-ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトンとベンゾフェノンから成るIrgacure500(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)(3wt%)を用いた。スリットコーターを用いて塗布し、型基板上にエポキシアクリレート膜を形成する。この上に透明導電膜付きフィルム等の基板を配置し、減圧し、空気を膨張させハニカム構造を形成する(図2参照)。ある真空度に到達し、所望の形状のセルが形成された時点で、中空層(セル)の形成されたエポキシアクリレート膜に紫外線を照射し、エポキシアクリレートを硬化させる。エポキシアクリレート系紫外線硬化樹脂に表面張力を下げる物質を添加しない場合、ハニカム構造を形成するときにセル隔壁の厚みを薄くするため減圧時の真空度を高めると、セル隔壁が破れて隣のセルとつながってしまう傾向がある。隔壁が破れて隣のセルとつながらない真空度でハニカム構造を形成すると、各セルの壁厚みhは10〜40μmと厚肉で、開口部壁厚みiが0.01〜5μm、開口部mが100〜130μm程度となり厚肉のセル構造物が作製される(図6参照)。開口部形状はほぼ円形である。
(Comparative Example 2)
Manufacture of honeycomb structure using only UV curable resin as plastic deformable material. Epoxy acrylate ultraviolet curable resin AQ9 (manufactured by Arakawa Chemical Industries) was used, and Irgacure 500 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) (3 wt%) comprising 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone and benzophenone was used as a reaction initiator. Coating is performed using a slit coater to form an epoxy acrylate film on the mold substrate. A substrate such as a film with a transparent conductive film is placed thereon, decompressed, and air is expanded to form a honeycomb structure (see FIG. 2). When a certain degree of vacuum is reached and a cell having a desired shape is formed, the epoxy acrylate film on which the hollow layer (cell) is formed is irradiated with ultraviolet rays to cure the epoxy acrylate. If a substance that lowers the surface tension is not added to the epoxy acrylate-based UV curable resin, increasing the vacuum during decompression to reduce the thickness of the cell partition when forming a honeycomb structure will cause the cell partition to break and There is a tendency to be connected. When the honeycomb structure is formed at a degree of vacuum in which the partition walls are not broken and connected to the adjacent cells, the wall thickness h of each cell is as thick as 10 to 40 μm, the opening wall thickness i is 0.01 to 5 μm, and the opening m is 100 A thick cell structure having a thickness of about 130 μm is produced (see FIG. 6). The opening shape is substantially circular.
(実施例5)
実施例5に係る本発明の電気泳動式の画像表示装置の断面構造を図7に示す。この画像表示装置10は、図7に示すように、高さ50μm、幅の150μmのセルを持つハニカム構造体を画素としている。
画像表示装置10の主要構成は、透明導電性膜付きフィルム13、ハニカム構造物の隔壁12、隔壁12の中に充填されている電気泳動剤11、下部の電気泳動剤11の封止材14、絶縁/接着材15、及び電圧駆動回路16である。
透明導電性膜付きフィルム13は、ハニカム構造物製造時にハニカム構造物と一体化されていればよく、電気泳動材を保護するための透明PETフィルムに、スパッタリング法等で透明な共通電極であるITO(Indium Tin Oxide)層を積層したものである。電気泳動剤11は、色素粒子である電気泳動粒子及び電気泳動媒体のスラリー状混合物であり、電圧の印加により電気泳動粒子がセル中を上下に移動し、電気泳動粒子の色によりセル外に色を表示する画素の元になる部分である。電圧の印加は、上部のITO共通電極と下部のそれぞれのセルに異なった電圧を印加できる電圧駆動回路16により制御される。
(Example 5)
FIG. 7 shows a cross-sectional structure of an electrophoretic image display apparatus according to the fifth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 7, the image display device 10 uses a honeycomb structure having cells having a height of 50 μm and a width of 150 μm as pixels.
The main structure of the image display device 10 includes a film 13 with a transparent conductive film, a partition wall 12 of a honeycomb structure, an electrophoretic agent 11 filled in the partition wall 12, a sealing
The film 13 with the transparent conductive film only needs to be integrated with the honeycomb structure at the time of manufacturing the honeycomb structure. The transparent PET film for protecting the electrophoretic material is coated with ITO, which is a transparent common electrode by a sputtering method or the like. (Indium Tin Oxide) layers are stacked. The electrophoretic agent 11 is a slurry-like mixture of electrophoretic particles and electrophoretic media that are pigment particles, and the electrophoretic particles move up and down in the cell when a voltage is applied. This is a part that is a source of a pixel that displays. The voltage application is controlled by a voltage driving circuit 16 that can apply different voltages to the upper ITO common electrode and the lower cells.
隔壁12を形成しているハニカム構造物は、片側に開口を有する六方最密形状で、材料はウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂にフッ素系界面活性剤を添加したものである。封止材14は、材料はゼラチン、塗布方法はスリットコートである。その他にポリウレタン、ポリビニールアルコール等の水溶性樹脂の封止材でも同等のものが得られる。方法は、スピンコート、カーテンコートでもよい。接着層15は、材料はエポキシ樹脂、塗布方法はスリットコートである。他に、紫外線硬化接着剤、ホットメルト等でも同等のものが得られる。塗布方法は、スピンコート、カーテンコートでも同等のものが得られる。なお、電気泳動剤(電気泳動粒子及び電気泳動媒体のスラリー状混合物)を除く部品は各々接合されている。
The honeycomb structure forming the partition walls 12 is a hexagonal close-packed shape having an opening on one side, and the material is a urethane acrylate ultraviolet curable resin added with a fluorosurfactant. The sealing
この画像表示装置10の表示特性は、白反射率40%、黒反射率1%、コントラスト40の表示特性が得られる。この画像表示装置10は、曲率200mmの曲げに対して、隔壁の破壊および接合部の剥離は起きない。比較として、同じ電気泳動液を深さが50μmで10mm角のセルで表示させたとき(他の構造は同じ)の表示特性は、白反射率43%、黒反射率1%、コントラスト43であった。 As the display characteristics of the image display device 10, display characteristics of white reflectance 40%, black reflectance 1%, and contrast 40 can be obtained. In the image display device 10, the breakage of the partition walls and the separation of the joint portion do not occur with respect to the bending with the curvature of 200 mm. For comparison, when the same electrophoretic solution is displayed in a 10 mm square cell with a depth of 50 μm (other structures are the same), the display characteristics are white reflectance 43%, black reflectance 1%, and contrast 43. It was.
1:基板 2:基板 3:ゼラチン水溶液
4:紫外線硬化樹脂 5:紫外線硬化樹脂 6:気体
10:画像表示装置 11:電気泳動材 12:隔壁
13:透明導電性膜付きフィルム 14:封止材
15:絶縁/接着材 16:電圧駆動回路
20:ハニカム構造体製造装置 21:塗布テーブル 22:ガラス基板
23:型 24:スリットヘッド 25:塗布テーブル送りモータ
26:ギャップ追従ローラ 27:硬化材料桶 28:ギャップ調整用ステージ
29:定量吐出ポンプ 30:硬化材料 31:ヒートホース
32:ヒータ 33:真空計 34:リリース弁
35:真空ポンプ 40:減圧チャンバー
1: Substrate 2: Substrate 3: Gelatin aqueous solution 4: UV curable resin 5: UV curable resin 6: Gas 10: Image display device 11: Electrophoretic material 12: Partition wall 13: Film with transparent conductive film 14: Sealing material 15 : Insulation / adhesive material 16: Voltage drive circuit 20: Honeycomb structure manufacturing apparatus 21: Application table 22: Glass substrate 23: Mold 24: Slit head 25: Application table feed motor 26: Gap following roller 27: Curing material bowl 28: Gap adjustment stage 29: Constant discharge pump 30: Curing material 31: Heat hose 32: Heater 33: Vacuum gauge 34: Release valve 35: Vacuum pump 40: Depressurization chamber
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