JP5181500B2 - Display element and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、表示素子表示素子の製造方法、画像表示装置及び画像表示システムに関する。 The present invention relates to a display device, manufacturing how the display device, an image display device and an image display system.

電気泳動ディスプレイは、帯電色素粒子が溶媒中に懸濁されている顕濁液の電気泳動現象に基づく非発光デバイスである。電気泳動ディスプレイは、通常、相互に対向して配置され、スペーサーを用いて離間された電極を有する2枚のプレートを有し、電極の一方は、通常、透明である。なお、懸濁液は、2枚のプレートの間に保持されている。このとき、2つの電極間に電圧差が付与されると、帯電色素粒子は、一方の側に移動し、電圧差の極性に応じて、帯電色素粒子の色又は溶媒の色のいずれかを見ることができる。   An electrophoretic display is a non-luminescent device based on the electrophoretic phenomenon of a suspension in which charged dye particles are suspended in a solvent. An electrophoretic display usually has two plates with electrodes arranged opposite each other and separated by a spacer, one of the electrodes is usually transparent. The suspension is held between the two plates. At this time, when a voltage difference is applied between the two electrodes, the charged dye particles move to one side, and either the color of the charged dye particles or the color of the solvent is observed depending on the polarity of the voltage difference. be able to.

特許文献1には、マイクロエンボス加工又は画像露光により形成されるカップ状の凹部が複数あり、凹部に誘電性溶媒又は溶媒混合物中で分散した帯電色素粒子の分散物が充填され、分散物よりも小さい比重を有し、分散物と少なくとも部分的に非混和性であるシーリング組成物のオーバーコート層を分散物の上で硬化させることによって形成されたポリマー性シーリング層が分散物を凹部内に閉じ込めるように封止するようにして付着した電気泳動ディスプレイが開示されている。   In Patent Document 1, there are a plurality of cup-shaped recesses formed by microembossing or image exposure, and the recesses are filled with a dispersion of charged dye particles dispersed in a dielectric solvent or solvent mixture. A polymeric sealing layer formed by curing an overcoat layer of a sealing composition having a low specific gravity and at least partially immiscible with the dispersion over the dispersion confines the dispersion within the recess. An electrophoretic display attached in such a manner as to be sealed is disclosed.

しかしながら、マイクロエンボス加工又は画像露光により、凹部が形成されているため、隣接する凹部を仕切るセル壁を薄くすることが難しいという問題がある。セル壁の厚さは、表示特性に影響を及ぼし、セル壁が厚い場合、表示部分の面積が減少し、反射率やコントラストといった表示特性が悪くなる。   However, since the recesses are formed by microembossing or image exposure, there is a problem that it is difficult to make the cell walls that partition adjacent recesses thinner. The thickness of the cell wall affects the display characteristics. When the cell wall is thick, the area of the display portion is reduced, and the display characteristics such as reflectance and contrast are deteriorated.

さらに、マイクロエンボス加工又は画像露光により、凹部が形成されているため、凹部の底部を薄くすることが難しいという問題がある。マイクロエンボス加工の場合、フィルムに型を押し当て、型形状を転写することにより凹部を形成するため、フィルムの厚さは、100μm程度が下限である。さらに、このようなフィルムに凹部を形成するため、凹部の底部の厚さを10μm以下にすることは難しい。また、画像露光の場合、フィルム上にレジスト膜を形成し、レジストに凹部を形成するため、凹部の底部の厚さは、フィルムの厚さとなる。さらに、厚さが10μm以下のフィルムを扱うことが難しいため、凹部の底部の厚さを10μm以下にすることは難しい。このため、凹部に充填された帯電色素粒子を駆動する駆動電圧を小さくすることができない。さらに、凹部の底部が表示面の場合、反射率が低下する。   Furthermore, since the recess is formed by microembossing or image exposure, there is a problem that it is difficult to make the bottom of the recess thinner. In the case of micro-embossing, a concave portion is formed by pressing a mold against a film and transferring the shape of the mold, so that the lower limit of the thickness of the film is about 100 μm. Furthermore, since the recess is formed in such a film, it is difficult to make the thickness of the bottom of the recess 10 μm or less. In the case of image exposure, since a resist film is formed on the film and a recess is formed in the resist, the thickness of the bottom of the recess is the thickness of the film. Furthermore, since it is difficult to handle a film having a thickness of 10 μm or less, it is difficult to make the thickness of the bottom of the concave portion 10 μm or less. For this reason, the drive voltage for driving the charged dye particles filled in the recesses cannot be reduced. Further, when the bottom of the recess is the display surface, the reflectance is lowered.

一方、隣接する凹部を仕切るセル壁や凹部の底部を薄くすると、反りや曲げに対する強度が不足するという問題がある。   On the other hand, if the cell walls that partition adjacent recesses and the bottom of the recesses are made thin, there is a problem that the strength against warping and bending is insufficient.

また、凹部に帯電色素粒子の分散物を充填した後、誘電性溶媒の乾燥を防止するために、ポリマー性シーリング層で封止する必要があるが、ポリマー性シーリング層が厚いと反射率が低下し、駆動電圧が大きくなるという問題がある。
特許第3680996号公報
Also, after filling the concave portions with the dispersion of charged pigment particles, it is necessary to seal with a polymeric sealing layer to prevent the dielectric solvent from drying, but the reflectivity decreases when the polymeric sealing layer is thick However, there is a problem that the drive voltage increases.
Japanese Patent No. 3680996

本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、反射率が高い表示素子及び該表示素子の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、該表示素子を有する画像表示装置及び該画像表示装置を有する画像表示システムを提供することを目的とする。 In view of the problem of the prior art described above it has for its object to provide a method for producing a highly reflective display element及 beauty the display element. Further, the present invention aims at providing an image display system including an image display device and the image display device having the display device.

請求項1に記載の発明は、表示素子において、貫通孔を有する複数のセルが平面状に配置されている中空構造物を有し、該中空構造物の対向する二つの壁面に、該複数のセルが有する貫通孔の開口部を有し、該開口部を有する壁面の一つは、透明導電性膜と接合されており、該貫通孔内に、一種以上の白色粒子及び/又は着色粒子が溶媒中に分散している分散液を有することを特徴とする。これにより、反射率が高い表示素子を提供することができる。 In the display device according to the first aspect of the present invention, the display element includes a hollow structure in which a plurality of cells having through-holes are arranged in a planar shape, and the plurality of wall surfaces facing each other of the hollow structure are provided with the plurality of The cell has an opening of a through hole, and one of the wall surfaces having the opening is joined to a transparent conductive film, and one or more white particles and / or colored particles are contained in the through hole. It has the dispersion liquid disperse | distributed in a solvent, It is characterized by the above-mentioned. Thus, it is possible to provide a highly reflective display element.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の表示素子において、隣接する前記セルが有する貫通孔を隔てる隔壁の厚さ0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする。これにより、反射率が大きく、コントラストに優れる表示素子が得られる。 According to a second aspect of the present invention, in the display element according to the first aspect of the present invention, the thickness of the partition wall separating the through holes of the adjacent cells is 0.01 μm or more and 10 μm or less. Thereby, a display element having a high reflectance and excellent contrast can be obtained.

請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の表示素子において、前記開口部を有する壁面の厚さ0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする。これにより、反射率が高く、駆動電圧が小さい表示素子が得られる。 According to a third aspect of the present invention, in the display element according to the first or second aspect, the wall surface having the opening is 0.01 μm or more and 10 μm or less. As a result, a display element having a high reflectance and a low driving voltage can be obtained.

請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の表示素子において、前記開口部を有する壁面の、隣接する前記セルが有する貫通孔を隔てる隔壁との交差部を断面視すると、曲率半径が0.1μm以上50μm以下の曲線であることを特徴とする。これにより、反射率が高く、反りや曲げに対する強度が強い表示素子が得られる。 According to a fourth aspect of the present invention, in the display element according to any one of the first to third aspects, an intersection of the wall surface having the opening and the partition wall separating the through hole of the adjacent cell is provided. When viewed in cross-section, it is a curve having a radius of curvature of 0.1 μm to 50 μm. As a result, a display element having high reflectivity and high strength against warping and bending can be obtained.

請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の表示素子において、前記中空構造物は、可塑性を有する材料を乾燥させた材料からなることを特徴とする。これにより、中空構造物の反りや曲げに対する強度を向上させることができる。 According to a fifth aspect of the present invention, in the display element according to any one of the first to fourth aspects, the hollow structure is made of a material obtained by drying a plastic material. Thereby, the intensity | strength with respect to the curvature and bending of a hollow structure can be improved.

請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の表示素子において、前記可塑性を有する材料は、水溶性樹脂を含有することを特徴とする。これにより、中空構造物の耐溶剤性を向上させることができる。 According to a sixth aspect of the present invention, in the display element according to the fifth aspect, the plastic material contains a water-soluble resin. Thereby, the solvent resistance of a hollow structure can be improved.

請求項7に記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の表示素子において、前記中空構造物は、可塑性を有する材料を紫外線硬化させた材料からなることを特徴とする。これにより、中空構造物の反りや曲げに対する強度及び耐溶剤性を向上させることができる。
請求項8に記載の発明は、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の表示素子において、前記透明導電性膜に接合されていない壁面が有する開口部は、電極又は前記溶媒に不溶性の樹脂で封止されていることを特徴とする。これにより、貫通孔の内容物の漏れを抑制することができる。
請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の表示素子において、前記樹脂は、厚さが0.1μm以上10μm以下の膜であることを特徴とする。これにより、反射率を高くすると共に、駆動電圧を小さくすることができる。
According to a seventh aspect of the present invention, in the display element according to any one of the first to fourth aspects, the hollow structure is made of a material obtained by UV-curing a plastic material. Thereby, the intensity | strength with respect to the curvature and bending of a hollow structure, and solvent resistance can be improved.
According to an eighth aspect of the present invention, in the display element according to any one of the first to seventh aspects, the opening portion of the wall surface not joined to the transparent conductive film is insoluble in the electrode or the solvent. It is sealed with resin. Thereby, the leakage of the content of a through-hole can be suppressed.
According to a ninth aspect of the present invention, in the display element according to the eighth aspect, the resin is a film having a thickness of not less than 0.1 μm and not more than 10 μm. As a result, the reflectance can be increased and the drive voltage can be decreased.

請求項10に記載の発明は、請求項1乃至のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法であって、独立した複数の凹部が形成されている基板の該凹部に空間が生じるように、該基板の凹部を有する面に可塑性を有する第一の膜を形成する工程と、該第一の膜の基板に形成されていない側の面に、第二の膜を形成する工程と、該空間に存在する気体を膨張させることにより、該第一の膜を延伸させる工程と、該延伸された第一の膜を硬化させることにより、該第一の膜と該第二の膜を接合する工程を有することを特徴とする。これにより、反射率が高い表示素子の製造方法を提供することができる。 According to a tenth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a display element according to any one of the first to ninth aspects, a space is formed in the concave portion of the substrate on which a plurality of independent concave portions are formed. A step of forming a first film having plasticity on the surface of the substrate having a recess, and a step of forming a second film on the surface of the first film that is not formed on the substrate; The step of stretching the first film by expanding the gas present in the space, and bonding the first film and the second film by curing the stretched first film It has the process to perform. Thus, it is possible to provide a method for producing a highly reflective display element.

請求項11に記載の発明は、請求項10に記載の表示素子の製造方法において、前記第一の膜は、紫外線硬化性樹脂を含有し、前記第二の膜は、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させる紫外線を透過することを特徴とする。これにより、中空構造物の耐溶剤性を向上させることができる。 The invention according to claim 11 is the method for manufacturing a display element according to claim 10 , wherein the first film contains an ultraviolet curable resin, and the second film contains the ultraviolet curable resin . It transmits ultraviolet rays to be cured. Thereby, the solvent resistance of a hollow structure can be improved.

請求項12に記載の発明は、請求項1乃至のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法であって、独立した複数の凹部が形成されている基板の該凹部に空間が生じるように、該基板の凹部を有する面に可塑性を有する第一の膜を形成する工程と、該空間に存在する気体を膨張させることにより、該第一の膜を延伸させる工程と、該第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒を第二の膜に配置する工程と、該延伸された第一の膜を該第二の膜の該第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒が配置された面に接触させる工程と、該第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒を除去することにより、該第一の膜と該第二の膜を接合する工程を有することを特徴とする。これにより、これにより、反射率が大きい表示素子に適用することが可能な中空構造物複合体の製造方法を提供することができる。 A twelfth aspect of the present invention is the method for manufacturing a display element according to any one of the first to ninth aspects, wherein a space is formed in the concave portion of the substrate on which a plurality of independent concave portions are formed. A step of forming a first film having plasticity on a surface of the substrate having a recess, a step of stretching the first film by expanding a gas existing in the space, and the first disposing a solvent capable of dissolving or swelling the film in the second film, can be dissolved or swelled the first membrane of the first membrane said second film is the stretch and contacting the surface of the solvent, such are arranged, by removing the solvent capable of dissolving or swelling the first layer, the step of bonding said first membrane and said second membrane It is characterized by having. Thereby, the manufacturing method of the hollow structure composite body which can be applied to a display element with a high reflectance by this can be provided.

請求項13に記載の発明は、請求項12に記載の表示素子の製造方法において、前記延伸された第一の膜の一部を除去する工程をさらに有し、前記第二の膜の前記第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒が配置された面に該一部が除去された第一の膜を接触させることを特徴とする。これにより、中空構造物の壁面の厚さを薄くすることができる。 A thirteenth aspect of the present invention is the display element manufacturing method according to the twelfth aspect of the present invention, further comprising a step of removing a part of the stretched first film, and the second film of the second film . The first film from which the part has been removed is brought into contact with a surface on which a solvent capable of dissolving or swelling one film is disposed. Thereby, the thickness of the wall surface of a hollow structure can be made thin.

請求項14に記載の発明は、請求項12又は13に記載の表示素子の製造方法において、前記第一の膜は、水溶性樹脂を含有し、前記第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒は、水を含有することを特徴とする。これにより、中空構造物の耐溶剤性を向上させることができる。 According to a fourteenth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a display element according to the twelfth or thirteenth aspect , the first film contains a water-soluble resin, and the first film can be dissolved or swollen. A possible solvent is characterized by containing water. Thereby, the solvent resistance of a hollow structure can be improved.

請求項15に記載の発明は、画像表示装置において、請求項乃至のいずれか一項に記載の表示素子と、該表示素子に電圧を印加する手段を有することを特徴とする。これにより、表示特性又は耐久性に優れる画像表示装置を提供することができる。 The invention of claim 15 is an image display device, and wherein the display device according to any one of claims 1 to 9, further comprising a means for applying a voltage to the display element. Thereby, the image display apparatus which is excellent in display characteristics or durability can be provided.

請求項16に記載の発明は、画像表示装置において、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の表示素子と、該表示素子に電圧を印加する手段を有し、前記透明導電性膜に接合されていない壁面が有する開口部は、該表示素子に電圧を印加する手段で封止されていることを特徴とすることを特徴とする。これにより、表示特性又は耐久性に優れる画像表示装置を提供することができる。 According to a sixteenth aspect of the present invention, in the image display device, the display element according to any one of the first to seventh aspects and a means for applying a voltage to the display element are provided, and the transparent conductive film The opening of the unbonded wall surface is sealed by means for applying a voltage to the display element. Thereby, the image display apparatus which is excellent in display characteristics or durability can be provided.

請求項17に記載の発明は、画像表示システムにおいて、請求項15又は16に記載の画像表示装置を有することを特徴とする。これにより、表示特性又は耐久性に優れる画像表示システムを提供することができる。 According to a seventeenth aspect of the present invention, in the image display system, the image display device according to the fifteenth or sixteenth aspect is provided. Thereby, the image display system excellent in display characteristics or durability can be provided.

本発明によれば、反射率が高い表示素子及び該表示素子の製造方法を提供することができる。また、本発明は、該表示素子を有する画像表示装置及び該画像表示装置を有する画像表示システムを提供することができる。 According to the present invention can provide a method for producing a highly reflective display element及 beauty the display element. Further, the present invention can provide an image display system including an image display device and the image display device having the display device.

次に、本発明を実施するための最良の形態を図面と共に説明する。   Next, the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

本発明の表示素子は、貫通孔を有する複数のセルが平面状に配置されている中空構造物を有し、中空構造物の対向する二つの壁面に、複数のセルが有する貫通孔の開口部を有し、貫通孔内に、一種以上の白色粒子及び/又は着色粒子が分散されている溶媒を有し、開口部を有する壁面の一方は、透明導電性膜に接合されている。なお、透明導電性膜に接合されていない壁面が有する開口部は、一種以上の白色粒子及び/又は着色粒子が分散されている溶媒に不溶性の樹脂で封止されていてもよいし、電極で封止されていてもよい。   The display element of the present invention has a hollow structure in which a plurality of cells having through-holes are arranged in a planar shape, and openings of through-holes possessed by the plurality of cells are formed on two opposing wall surfaces of the hollow structure. One of the wall surfaces having an opening is bonded to the transparent conductive film, and the through hole has a solvent in which one or more white particles and / or colored particles are dispersed. The opening of the wall surface not joined to the transparent conductive film may be sealed with a resin insoluble in a solvent in which one or more white particles and / or colored particles are dispersed, or may be an electrode. It may be sealed.

また、本発明の表示素子は、下記(1)〜(3)の少なくとも一つの特徴を有することが好ましい。   The display element of the present invention preferably has at least one of the following features (1) to (3).

(1)隣接するセルが有する貫通孔を隔てる隔壁(以下、セル壁という)の厚さが0.01〜10μm、好ましくは0.05〜5μmであること
(2)中空構造物の開口部を有する壁面の厚さが0.01〜10μm、好ましくは0.05〜5μmであること
(3)開口部を有する壁面のセル壁との交差部を断面視すると、曲率半径が0.1〜50μm、好ましくは1〜10μmの曲線であること
なお、各部分の厚さ、曲率半径等は、表示素子、中空構造物等の断面を走査型電子顕微鏡等で観察することによって、測定することができ、任意の10箇所以上を測定して得られる平均値である。
(1) The thickness of a partition wall (hereinafter referred to as a cell wall) that separates through-holes of adjacent cells is 0.01 to 10 μm, preferably 0.05 to 5 μm. (2) An opening of a hollow structure is provided. The wall surface thickness is 0.01 to 10 μm, preferably 0.05 to 5 μm. (3) When the cross section of the wall surface having the opening with the cell wall is viewed in cross section, the radius of curvature is 0.1 to 50 μm. In addition, it is preferably a curve of 1 to 10 μm. The thickness, the radius of curvature, etc. of each part can be measured by observing the cross section of the display element, the hollow structure, etc. with a scanning electron microscope or the like. The average value obtained by measuring 10 or more arbitrary locations.

図1に、本発明で用いられる中空構造物の一例を示す。中空構造物10は、貫通孔を有する正四角柱状のセル11を複数有し、複数のセル11が平面状に配置されており、隣接するセル11が有する貫通孔は、セル壁12により仕切られている。さらに、各セル11は、中空構造物10の上部の壁面13に開口部14aを有し、下部の壁面15に開口部14bを有する。また、上部の壁面13のセル壁12との交差部16a、下部の壁面15のセル壁12との交差部16bを断面視すると、曲線である。なお、交差部16aが断面視曲線である場合、セル壁12とは、曲線を含まない領域、即ち、変曲点より下の領域を意味し、上部の壁面13とは、セル壁12より上の領域を意味する。また、交差部16bが断面視曲線である場合、セル壁12とは、曲線を含まない領域、即ち、変曲点より上の領域を意味し、下部の壁面15とは、セル壁12より下の領域を意味する。   FIG. 1 shows an example of a hollow structure used in the present invention. The hollow structure 10 has a plurality of regular quadrangular prism-shaped cells 11 having through-holes, and the plurality of cells 11 are arranged in a planar shape. The through-holes of adjacent cells 11 are partitioned by cell walls 12. ing. Furthermore, each cell 11 has an opening 14 a on the upper wall surface 13 of the hollow structure 10 and an opening 14 b on the lower wall surface 15. Further, a cross section of the intersection 16a of the upper wall surface 13 with the cell wall 12 and the intersection 16b of the lower wall surface 15 with the cell wall 12 is a curved line. When the intersection 16a is a cross-sectional curve, the cell wall 12 means a region not including a curve, that is, a region below the inflection point, and the upper wall surface 13 is above the cell wall 12. Means the area. When the intersecting portion 16b is a sectional view curve, the cell wall 12 means a region not including a curve, that is, a region above the inflection point, and the lower wall surface 15 is below the cell wall 12. Means the area.

図2に、本発明で用いられる中空構造物の他の例を示す。中空構造物20は、貫通孔を有する正六角柱状のセル21を複数有し、複数のセル21が平面状に配置されており、隣接するセル21が有する貫通孔は、セル壁22により仕切られている。さらに、各セル21は、中空構造物20の上部の壁面23に開口部24aを有し、下部の壁面25に開口部24bを有する。また、上部の壁面23のセル壁22との交差部26a及び下部の壁面25のセル壁22との交差部26bを断面視すると、曲線である。   FIG. 2 shows another example of the hollow structure used in the present invention. The hollow structure 20 includes a plurality of regular hexagonal columnar cells 21 having through holes, the plurality of cells 21 are arranged in a planar shape, and the through holes of adjacent cells 21 are partitioned by cell walls 22. ing. Further, each cell 21 has an opening 24 a on the upper wall surface 23 of the hollow structure 20 and an opening 24 b on the lower wall surface 25. Further, a cross-sectional view of the intersecting portion 26a of the upper wall surface 23 with the cell wall 22 and the intersecting portion 26b of the lower wall surface 25 with the cell wall 22 is a curved line.

なお、本発明で用いられる中空構造物は、図1及び図2に示す中空構造物に限定されず、それぞれのセルの大きさが不均一であってもよい。また、交差部は、断面視曲線でなくてもよい。   In addition, the hollow structure used by this invention is not limited to the hollow structure shown in FIG.1 and FIG.2, The magnitude | size of each cell may be non-uniform | heterogenous. Further, the intersecting portion may not be a sectional view curve.

上記(1)の特徴を有する表示素子について、図2に示す中空構造物(ハニカム構造を有するシート)を用いて説明する。中空構造物20のセル壁22の厚さが0.01〜10μm、好ましくは0.05〜5μmであるため、中空構造物20を有する表示素子の表示特性を向上させることができる。セル壁22は、表示に寄与しない部分であるので、薄くなることにより反射率、コントラストが向上する。セル壁22の厚さが0.01μm未満では、中空構造物20の強度が弱くなり、10μmを超えると、反射率、コントラストの面で特性が低下する。   The display element having the feature (1) will be described with reference to a hollow structure (sheet having a honeycomb structure) shown in FIG. Since the thickness of the cell wall 22 of the hollow structure 20 is 0.01 to 10 μm, preferably 0.05 to 5 μm, the display characteristics of the display element having the hollow structure 20 can be improved. Since the cell wall 22 is a portion that does not contribute to display, the reflectance and contrast are improved by being thinned. When the thickness of the cell wall 22 is less than 0.01 μm, the strength of the hollow structure 20 becomes weak, and when it exceeds 10 μm, the characteristics are deteriorated in terms of reflectance and contrast.

上記(2)の特徴を有する表示素子について、図2に示す中空構造物(ハニカム構造を有するシート)を用いて説明する。中空構造物20の上部の壁面23の厚さ及び下部の壁面25の厚さが0.01〜10μm、好ましくは0.05〜5μmであるため、中空構造物20を有する表示素子の表示特性を向上させることができる。上部の壁面23及び下部の壁面25を薄くすることにより、反射率、駆動電圧の面で有利となる。上部の壁面23及び下部の壁面25の厚さが0.01μm未満では、中空構造物20の強度が弱くなり、10μmを超えると、反射率、駆動電圧の面で特性が低下する。   The display element having the feature (2) will be described with reference to the hollow structure (sheet having a honeycomb structure) shown in FIG. Since the thickness of the upper wall surface 23 and the lower wall surface 25 of the hollow structure 20 are 0.01 to 10 μm, preferably 0.05 to 5 μm, the display characteristics of the display element having the hollow structure 20 are improved. Can be improved. Thinning the upper wall surface 23 and the lower wall surface 25 is advantageous in terms of reflectivity and driving voltage. If the thickness of the upper wall surface 23 and the lower wall surface 25 is less than 0.01 μm, the strength of the hollow structure 20 becomes weak, and if it exceeds 10 μm, the characteristics are degraded in terms of reflectance and drive voltage.

上記(3)の特徴を有する表示素子について、図2に示す中空構造物(ハニカム構造を有するシート)を用いて説明する。中空構造物20を断面視すると、交差部26a及び26bは、曲率半径が0.1〜50μm、好ましくは1〜10μmの曲線であることにより、中空構造物20を有する表示素子の表示特性及び強度を向上させることができる。その結果、表示素子を曲げたりして使用する場合にも、十分な強度が得られる。このように、セル壁22より厚い交差部26a及び26bを設けることにより、強度を向上させることができる。曲率半径が0.1μm未満では、表示素子を軽く反らせる程度の強度はあるが、丸めたりするのに十分な強度ではなく、50μmを超えると、表示特性、特に反射率の面で特性が低下する。   The display element having the feature (3) will be described with reference to a hollow structure (sheet having a honeycomb structure) shown in FIG. When the hollow structure 20 is viewed in cross-section, the intersecting portions 26a and 26b are curves having a radius of curvature of 0.1 to 50 μm, preferably 1 to 10 μm, so that the display characteristics and strength of the display element having the hollow structure 20 are obtained. Can be improved. As a result, sufficient strength can be obtained even when the display element is bent and used. Thus, the strength can be improved by providing the intersecting portions 26 a and 26 b thicker than the cell wall 22. If the radius of curvature is less than 0.1 μm, the display element is light enough to warp, but not strong enough to be rounded, and if it exceeds 50 μm, the display characteristics, particularly in terms of reflectivity, deteriorate. .

本発明において、前述したように、透明導電性膜に接合されていない壁面が有する開口部が樹脂で封止されている場合、開口部を封止する樹脂は、厚さが0.1〜10μm、好ましくは0.5〜5μmの膜であることが好ましい。   In the present invention, as described above, when the opening portion of the wall surface not bonded to the transparent conductive film is sealed with resin, the resin sealing the opening portion has a thickness of 0.1 to 10 μm. The film is preferably 0.5 to 5 μm.

このような特徴を有する表示素子について、図2に示す中空構造物(ハニカム構造を有するシート)を用いて説明する。中空構造物20の各セル21の貫通孔内に、一種以上の白色粒子及び/又は着色粒子が分散されている溶媒を有し、各セル21の開口部24a又は24bは、この溶媒に不溶性の樹脂で封止されている。開口部24a又は24bを封止する樹脂は、厚さが0.1〜10μm、好ましくは0.5〜5μmの膜であるため、中空構造物20を有する表示素子の表示特性を向上させることができる。なお、樹脂の膜厚を薄くすることにより、反射率、駆動電圧の面で有利となる。膜厚が0.1μm未満では、強度が弱くなり、10μmを超えると、反射率、駆動電圧の面で特性が低下する。   A display element having such characteristics will be described with reference to a hollow structure (sheet having a honeycomb structure) shown in FIG. The hollow structure 20 has a solvent in which one or more white particles and / or colored particles are dispersed in the through hole of each cell 21, and the opening 24 a or 24 b of each cell 21 is insoluble in this solvent. Sealed with resin. Since the resin for sealing the opening 24a or 24b is a film having a thickness of 0.1 to 10 μm, preferably 0.5 to 5 μm, the display characteristics of the display element having the hollow structure 20 can be improved. it can. Note that reducing the thickness of the resin is advantageous in terms of reflectivity and driving voltage. When the film thickness is less than 0.1 μm, the strength is weakened.

本発明において、中空構造物は、可塑性を有する材料を乾燥させた材料からなることが好ましい。なお、可塑性を有する材料は、特に限定されないが、水溶性樹脂を含有することが好ましい。水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、プルラン、アルブミン、CMC、ポリアクリル酸、セルロース、デンプン、ゼラチン、アルギン酸塩、グアーガム、アラビアガム、カラーギナン、トラガント、ペクチン、デキストリン、カゼイン、コラーゲン、ポリビニルメチルエーテル、カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレングリコール、酸化エチレン、寒天、ローカストビーンガム、キサンタンガム、サイクロデキストリン、タンニン酸、カラヤガム、ジュランガム、ファーセレラン、トラントガム、レシチン、キチン、キトサン、コンドロイチン硫酸ナトリウム、リグニンスルホン酸、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸ジメチルアミノエチル、ポリメタクリル酸ジメチルアミノエチル、ポリエチレンオキシド、ポリアリルアミン等が挙げられ、二種以上併用してもよい。なお、ここでいう水溶性樹脂とは、水に溶解又は膨潤する樹脂を意味する。   In the present invention, the hollow structure is preferably made of a material obtained by drying a plastic material. The material having plasticity is not particularly limited, but preferably contains a water-soluble resin. Examples of water-soluble resins include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyurethane, pullulan, albumin, CMC, polyacrylic acid, cellulose, starch, gelatin, alginate, guar gum, gum arabic, carrageenan, tragacanth, pectin, dextrin, casein, collagen, Polyvinyl methyl ether, carboxyvinyl polymer, sodium polyacrylate, polyethylene glycol, ethylene oxide, agar, locust bean gum, xanthan gum, cyclodextrin, tannic acid, karaya gum, julan gum, far selelain, tant gum, lecithin, chitin, chitosan, sodium chondroitin sulfate , Lignin sulfonic acid, methylcellulose, hydroxymethylcellulose, polyacrylamide, poly Chiren'imin, polyacrylic acid dimethylaminoethyl, poly dimethylaminoethyl methacrylate, polyethylene oxide, polyallylamine, and the like, may be used in combination. The water-soluble resin referred to here means a resin that dissolves or swells in water.

また、中空構造物は、可塑性を有する材料を紫外線硬化させた材料からなることが好ましい。このとき、可塑性を有する材料は、ウレタンアクリル系樹脂、エポキシアクリル系樹脂、アルコキシアクリル系樹脂等の紫外線硬化性樹脂を含有することが好ましい。   The hollow structure is preferably made of a material obtained by ultraviolet curing a plastic material. At this time, the plastic material preferably contains an ultraviolet curable resin such as a urethane acrylic resin, an epoxy acrylic resin, or an alkoxy acrylic resin.

本発明において、一種以上の白色粒子及び/又は着色粒子が分散されている溶媒は、特に限定されないが、白色粒子としては、酸化チタン、アルミナ等の無機粒子、ポリビニルナフタレン等の有機粒子が挙げられ、着色粒子としては、カーボンブラック、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、ジオキサジン系顔料、染色レーキ顔料等が挙げられ、溶媒としては、シリコーンオイル、イソパラフィン系炭化水素等が挙げられる。   In the present invention, the solvent in which one or more kinds of white particles and / or colored particles are dispersed is not particularly limited, and examples of the white particles include inorganic particles such as titanium oxide and alumina, and organic particles such as polyvinyl naphthalene. Examples of the colored particles include carbon black, azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, dioxazine pigments, dyed lake pigments, and solvents include silicone oil and isoparaffin hydrocarbons. Can be mentioned.

図3に、本発明で用いられる中空構造物の製造方法の一例を示す。中空構造物を製造するためには、独立した複数の凹部31aを有し、凹部31aの開口部31bが狭くなっている基板31を用いる(図3(a)参照)。まず、スリットコーター等を用いて塗布することにより、基板31上に可塑性を有する膜32を形成する(図3(b)参照)。このとき、少なくとも可塑性を有する膜32が形成された側に換気空間を設けて、乾燥させてもよい。次に、可塑性を有する膜32が形成された基板31を真空チャンバー内等に設置し、少なくとも可塑性を有する膜32が形成された側を減圧状態にすると、凹部31aに保持されている空気が膨張する。このとき、凹部31aは、可塑性を有する膜32で密閉されているので、空気の膨張により、可塑性を有する膜32が延伸変形し、基板31上に中間体33が形成される(図3(c)参照)。最後に、基板31から剥離すると、孔を有する複数のセルが平面状に配置されており、上部の壁面に開口部を有する中間体33が得られる(図3(d)参照)。このとき、正方格子状に配置された凹部31aを有する基板31(図4(a)参照)を用いると、正四角柱状のセルが正方格子状に配置された中間体(図5(a)参照)が得られ、六方最密格子状に配置された凹部31aを有する基板31(図4(b)参照)を用いると、正六角柱状のセルが六方最密格子状に配置された中間体(図5(b)参照)が得られる。   In FIG. 3, an example of the manufacturing method of the hollow structure used by this invention is shown. In order to manufacture a hollow structure, a substrate 31 having a plurality of independent recesses 31a and having a narrow opening 31b of the recess 31a is used (see FIG. 3A). First, the film | membrane 32 which has plasticity is formed on the board | substrate 31 by apply | coating using a slit coater etc. (refer FIG.3 (b)). At this time, at least a ventilation space may be provided on the side where the plastic film 32 is formed and dried. Next, when the substrate 31 on which the plastic film 32 is formed is placed in a vacuum chamber or the like and at least the side on which the plastic film 32 is formed is in a reduced pressure state, the air held in the recess 31a expands. To do. At this time, since the recess 31a is sealed with the plastic film 32, the plastic film 32 is stretched and deformed by the expansion of air, and the intermediate body 33 is formed on the substrate 31 (FIG. 3C). )reference). Finally, when peeled from the substrate 31, a plurality of cells having holes are arranged in a planar shape, and an intermediate body 33 having an opening on the upper wall surface is obtained (see FIG. 3D). At this time, when a substrate 31 (see FIG. 4A) having concave portions 31a arranged in a square lattice is used, an intermediate body (see FIG. 5A) in which square prismatic cells are arranged in a square lattice. ), And using a substrate 31 (see FIG. 4B) having recesses 31a arranged in a hexagonal close-packed lattice, an intermediate body in which regular hexagonal columnar cells are arranged in a hexagonal close-packed lattice ( FIG. 5B is obtained.

中間体33の孔の深さdは、減圧する真空度により適宜調整することができる。即ち、高真空にすると、凹部31aの空気が膨張する量が大きいので、深さdが大きくなり、低真空にすると、凹部31aの膨張量が小さいので、深さdが小さくなる。さらに高真空にすると、凹部31aの空気が膨張する量が大きくなって、中間体33の天井部33aが薄くなり、最終的に開口部が形成される。このようにして、貫通孔を有する複数のセルが平面状に配置されており、上部の壁面及び下部の壁面に開口部を有する中空構造物(図6参照)が得られる。なお、図6(a)は、正四角柱状のセルが正方格子状に配置された中空構造物であり、図6(b)は、正六角柱状のセルが六方最密格子状に配置された中空構造物である。   The depth d of the hole of the intermediate body 33 can be appropriately adjusted depending on the degree of vacuum to be reduced. That is, when the vacuum is high, the amount of expansion of the air in the recess 31a is large, so the depth d is large. When the vacuum is low, the expansion of the recess 31a is small, and the depth d is small. When the vacuum is further increased, the amount of expansion of the air in the recess 31a is increased, the ceiling 33a of the intermediate body 33 is thinned, and an opening is finally formed. In this way, a plurality of cells having through holes are arranged in a planar shape, and a hollow structure (see FIG. 6) having openings on the upper wall surface and the lower wall surface is obtained. 6A shows a hollow structure in which regular quadrangular prismatic cells are arranged in a square lattice, and FIG. 6B shows a hexagonal prismatic cell arranged in a hexagonal close-packed lattice. It is a hollow structure.

基板31としては、ニッケル基板、シリコン基板、ガラス基板上にレジスト剤パターンを形成したもの、銅張り板(銅/ポリイミド積層基板)、エッチングしたガラス基板等の他に、ポリイミド、PTE、アクリル等の樹脂基板を用いることができる。なお、基板31の凹部31aは、塗布液の浸入を抑制するために、疎水化処理されていることが好ましい。   As the substrate 31, in addition to a nickel substrate, a silicon substrate, a glass substrate formed with a resist pattern, a copper-clad plate (copper / polyimide laminated substrate), an etched glass substrate, polyimide, PTE, acrylic, etc. A resin substrate can be used. In addition, it is preferable that the recessed part 31a of the board | substrate 31 is hydrophobized in order to suppress permeation of a coating liquid.

中間体33のセル壁、上部の壁面及び下部の壁面の厚さ、セル壁と、上部の壁面及び下部の壁面との交差点を断面視した場合の曲線の曲率半径は、可塑性を有する膜32の厚さや材質、減圧条件(気圧)によって制御することが可能である。可塑性を有する膜32が薄い程、各部分の厚さが薄くなり、曲率半径が小さくなる。また、減圧時の気圧が低い程、各部分の厚さが薄くなり、曲率半径が小さくなる。さらに、可塑性を有する膜32の粘度が小さい程、各部分の厚さが薄くなり、曲率半径が小さくなる。   The cell wall of the intermediate body 33, the thickness of the upper wall surface and the lower wall surface, and the curvature radius of the curve when the intersection of the cell wall and the upper wall surface and the lower wall surface are viewed in cross section are as follows. It can be controlled by the thickness, material, and decompression conditions (atmospheric pressure). The thinner the film 32 having plasticity, the smaller the thickness of each part and the smaller the radius of curvature. Further, the lower the pressure at the time of decompression, the smaller the thickness of each part and the smaller the radius of curvature. Furthermore, as the viscosity of the plastic film 32 is smaller, the thickness of each portion becomes thinner and the radius of curvature becomes smaller.

本発明において、中間体33の下部の壁面に開口部を形成する方法としては、上記の方法の他に、機械的に除去して開口部を形成する方法、また、中間体33が水溶性を有する場合には、水に溶解させて開口部を形成する方法が挙げられる。下部の壁面を機械的に除去する際には、中間体33の下部の壁面に粘着性シートを接触させた後に、粘着性シートを引き剥がすことにより、下部の壁面が剪断され、開口部が形成される。また、下部の壁面を水に溶解させる際には、結露、湯気、水滴噴霧等により、水を下部の壁面に発生させて水に溶解させたり、エタノール等の溶媒に希釈した水等を下部の壁面に発生させたりすることにより、下部の壁面が自己収縮し、開口部が形成される。このようにして、中間体33の下部の壁面に開口部を形成することにより、本発明で用いられる中空構造物が得られる。   In the present invention, as a method of forming the opening in the lower wall surface of the intermediate body 33, in addition to the above-described method, a method of mechanically removing the opening to form the opening, or the intermediate body 33 is water-soluble. When it has, the method of dissolving in water and forming an opening part is mentioned. When mechanically removing the lower wall surface, the adhesive sheet is brought into contact with the lower wall surface of the intermediate body 33, and then the adhesive sheet is peeled off, whereby the lower wall surface is sheared and an opening is formed. Is done. When the lower wall surface is dissolved in water, water is generated on the lower wall surface by condensation, steam, water droplet spraying, etc., dissolved in water, or water diluted in a solvent such as ethanol is dissolved in the lower wall. By generating it on the wall surface, the lower wall surface is self-contracted and an opening is formed. Thus, the hollow structure used by this invention is obtained by forming an opening part in the wall surface of the lower part of the intermediate body 33. FIG.

また、中空構造物(及び中間体)のセル壁、上部の壁面及び下部の壁面は、可塑性を有する材料の表面張力により形成されているので、マイクロエンボス加工又は画像露光により形成される凹部を有する構造物と比較して、厚さを薄くすることができる。なお、中空構造物(及び中間体)の形状は、マイクロエンボス加工又は画像露光により形成することが困難である。   In addition, the cell wall, the upper wall surface, and the lower wall surface of the hollow structure (and the intermediate body) are formed by the surface tension of a plastic material, and thus have a recess formed by microembossing or image exposure. Compared with the structure, the thickness can be reduced. The shape of the hollow structure (and intermediate) is difficult to form by microembossing or image exposure.

本発明の画像表示装置としては、本発明の表示素子と、表示素子に電圧を印加する駆動素子を有するディプレイが挙げられる。このとき、本発明の表示素子において、透明導電性膜に接合されていない壁面が有する開口部を、電極又は樹脂の代わりに、駆動素子で封止したものも画像表示装置として用いることができる。また、本発明の画像表示システムとしては、本発明の画像表示装置を有する電子ブック、広告表示システム、時刻表システム、リサイクルペーパー等の画像表示装置の具体的なシステム応用例が挙げられる。   Examples of the image display device of the present invention include a display having the display element of the present invention and a drive element for applying a voltage to the display element. At this time, in the display element of the present invention, an image display device in which an opening portion of a wall surface not bonded to the transparent conductive film is sealed with a driving element instead of an electrode or a resin can be used. In addition, examples of the image display system of the present invention include specific system application examples of the image display apparatus such as an electronic book, an advertisement display system, a timetable system, and recycled paper having the image display apparatus of the present invention.

本発明の表示素子は、中空構造物の開口部を有する壁面の一方が透明導電膜に接合されている中空構造物複合体を有するが、このような中空構造物複合体は、本発明の中空構造物複合体の製造方法を用いて製造することができる。   The display element of the present invention has a hollow structure composite in which one of the wall surfaces having openings of the hollow structure is bonded to the transparent conductive film. Such a hollow structure composite is a hollow structure composite of the present invention. It can manufacture using the manufacturing method of a structure composite_body | complex.

本発明の中空構造物複合体の製造方法の第一の実施形態は、独立した複数の凹部が形成されている基板の凹部に空間が生じるように、基板の凹部を有する面に可塑性を有する第一の膜を形成する工程と、第一の膜の基板に形成されていない側の面に、第二の膜を形成する工程と、空間に存在する気体を膨張させることにより、第一の膜を延伸させる工程と、延伸された第一の膜を硬化させることにより、第一の膜と第二の膜を接合する工程を有する。このとき、第一の膜は、紫外線硬化性樹脂等の光硬化性材料を含有することが好ましく、これにより、光照射により第一の膜を硬化させることができる。また、第二の膜は、第一の膜を硬化させる光を透過することが好ましく、これにより、第二の膜の上から光照射することにより、第一の膜を硬化させることができる。このようにして基板に形成された中空構造物複合体は、基板から剥離して用いることができる。   In the first embodiment of the method for producing a hollow structure composite of the present invention, the surface having the recesses of the substrate is plastic so that a space is generated in the recesses of the substrate in which a plurality of independent recesses are formed. Forming the first film, forming the second film on the surface of the first film not formed on the substrate, and expanding the gas existing in the space, thereby And a step of bonding the first film and the second film by curing the stretched first film. At this time, the first film preferably contains a photocurable material such as an ultraviolet curable resin, whereby the first film can be cured by light irradiation. The second film preferably transmits light for curing the first film, whereby the first film can be cured by light irradiation from above the second film. Thus, the hollow structure composite body formed in the board | substrate can be peeled and used from a board | substrate.

本発明の中空構造物複合体の製造方法の第二の実施形態は、独立した複数の凹部が形成されている基板の凹部に空間が生じるように、基板の凹部を有する面に可塑性を有する第一の膜を形成する工程と、空間に存在する気体を膨張させることにより、第一の膜を延伸させる工程と、第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒を第二の膜に配置する工程と、延伸された第一の膜を第二の膜の溶媒が配置された面に接触させる工程と、溶媒を除去することにより、第一の膜と第二の膜を接合する工程を有する。このようにして基板に形成された中空構造物複合体は、基板から剥離して用いることができる。このとき、延伸させた第一の膜の一部を除去して予め開口部を形成した後に、第一の膜と第二の膜を接合してもよい。なお、第一の膜の一部を除去する際には、前述の機械的に除去して開口部を形成する方法、また、第一の膜が水溶性を有する場合には、前述の水に溶解させて開口部を形成する方法を用いることができる。また、延伸させた第一の膜は、基板から剥離した後に、担持体に担持させて第二の膜と接合しても構わない。   In the second embodiment of the method for producing a hollow structure composite of the present invention, the surface having the concave portion of the substrate is plastic so that a space is generated in the concave portion of the substrate in which the plurality of independent concave portions are formed. A step of forming one film, a step of stretching the first film by expanding a gas present in the space, and a solvent capable of dissolving or swelling the first film in the second film The step of placing, the step of bringing the stretched first membrane into contact with the surface of the second membrane where the solvent is placed, and the step of joining the first membrane and the second membrane by removing the solvent Have Thus, the hollow structure composite body formed in the board | substrate can be peeled and used from a board | substrate. At this time, a part of the stretched first film may be removed to form an opening in advance, and then the first film and the second film may be joined. When removing a part of the first film, the above-mentioned method of mechanically removing the first film to form an opening, and when the first film has water solubility, It is possible to use a method of dissolving and forming the opening. The stretched first film may be peeled off from the substrate and then carried on a carrier to be joined to the second film.

このようにして製造することが可能な本発明の中空構造物複合体は、貫通孔を有する複数のセルが平面状に配置されている中空構造物を有し、中空構造物の二つの壁面に、複数のセルが有する貫通孔の開口部を有し、開口部を有する壁面の一つは、所定の部材と接合されている。なお、開口部を有する壁面の一つに接合されている部材は、接合が可能な部材であれば、形状、材質等は、特に限定されない。また、本発明の中空構造物複合体は、貫通孔内に、流体を有してもよい。このような流体は、中空構造物及び開口部を有する壁面の一つに接合されている部材を溶解しなければ、特に限定されない。   The hollow structure composite of the present invention that can be produced in this way has a hollow structure in which a plurality of cells having through-holes are arranged in a plane, and is formed on two wall surfaces of the hollow structure. The plurality of cells have through-hole openings, and one of the wall surfaces having the openings is joined to a predetermined member. In addition, if the member joined to one of the wall surfaces which have an opening part is a member which can be joined, a shape, a material, etc. will not be specifically limited. The hollow structure composite of the present invention may have a fluid in the through hole. Such a fluid is not particularly limited as long as it does not dissolve the member joined to one of the hollow structure and the wall surface having the opening.

(中間体の製造)
図3に示す中空構造物の製造方法を用いて、中間体33を製造した。まず、スリットコーターを用いて、基板31上に、可塑性を有する材料として、ゼラチンMC−243(ゼライス社製)の5〜30重量%程度の水溶液を塗布することにより、可塑性を有する膜32を形成した。次に、可塑性を有する膜32が形成された基板31を真空チャンバー内で減圧し、凹部内の空気を膨張させた。このとき、真空中でゼラチン中の残留水分を蒸発させ、完全に乾燥、固化させた。
(Production of intermediates)
The intermediate body 33 was manufactured using the manufacturing method of the hollow structure shown in FIG. First, a plastic film 32 is formed by applying an aqueous solution of about 5 to 30% by weight of gelatin MC-243 (manufactured by Zerais) as a plastic material on the substrate 31 using a slit coater. did. Next, the substrate 31 on which the plastic film 32 was formed was decompressed in a vacuum chamber, and the air in the recess was expanded. At this time, the residual water in the gelatin was evaporated in vacuum, and completely dried and solidified.

以上のようにして、セル壁の厚さhが0.01〜5μm、上部の壁面の厚さiが0.01〜2μm、開口部の一辺の長さjが140μmであり、上部の壁面のセル壁との交差部を断面視すると、曲率半径が0.1〜20μmの曲線である中間体33(図7参照)が得られた。
(実施例1)
温度30℃、湿度80〜99%の加湿容器41内に、中間体33の開口部を密閉するための封止ブロック42を設けた。次に、加湿容器41内の封止ブロック42に、中間体33を設置した(図8(a)参照)。なお、中間体33の温度は、加湿容器41より低くする必要があり、20℃とした。中間体33は、温度が加湿容器41より低いため、中間体33上に水滴43が発生し、結露した。なお、中間体33の開口部は、密閉されているため、中間体33の内部では結露が起こらない。また、結露した中間体33の天井部33aは、水滴43に溶解した。ここで、中間体33は、空気の圧力で延伸して形成されているため、ゼラチン分子が面方向に配向し、内部応力が発生している。この状態で天井部33aが溶解し、剛性が低下するため、表面張力により自己収縮(図中、矢印参照)が起こって、開口部が形成される(図8(b)参照)。特に、中間体33の天井部33aの中央部の壁面が薄いため、中央部から開口する。このようにして、中空構造物44(図6参照)が形成された(図8(c)参照)。狙いの開口形状となるように所定時間結露させた後、開口を止めるため、加湿容器41から中空構造物44を取り出し、乾燥を行った。このとき、中空構造物44は、下部の壁面の厚さが0.01〜2μmであり、下部の壁面のセル壁との交差部を断面視すると、曲率半径が0.1〜20μmの曲線であった。
As described above, the thickness h of the cell walls 0.01 to 5 [mu] m, the thickness i a of the upper wall is 0.01 to 2 [mu] m, the length j of one side of the opening is 140 .mu.m, the top wall When the crossing portion of the cell wall was cross-sectionally viewed, an intermediate body 33 (see FIG. 7) having a curve with a radius of curvature of 0.1 to 20 μm was obtained.
Example 1
A sealing block 42 for sealing the opening of the intermediate body 33 was provided in a humidifying container 41 having a temperature of 30 ° C. and a humidity of 80 to 99%. Next, the intermediate body 33 was installed in the sealing block 42 in the humidification container 41 (refer Fig.8 (a)). In addition, the temperature of the intermediate body 33 needs to be lower than the humidification container 41, and was set to 20 ° C. Since the temperature of the intermediate body 33 is lower than that of the humidifying container 41, water droplets 43 are generated on the intermediate body 33 and condensation occurs. In addition, since the opening part of the intermediate body 33 is sealed, dew condensation does not occur inside the intermediate body 33. Further, the ceiling 33 a of the intermediate body 33 which has condensed is dissolved in the water droplets 43. Here, since the intermediate body 33 is formed by stretching under the pressure of air, the gelatin molecules are oriented in the plane direction and internal stress is generated. In this state, the ceiling portion 33a is melted and the rigidity is lowered, so that self-shrinkage (see an arrow in the figure) occurs due to surface tension, and an opening is formed (see FIG. 8B). In particular, since the wall surface of the center part of the ceiling part 33a of the intermediate body 33 is thin, it opens from the center part. In this way, a hollow structure 44 (see FIG. 6) was formed (see FIG. 8 (c)). After condensation for a predetermined time so that the target opening shape was obtained, the hollow structure 44 was taken out from the humidification container 41 and dried in order to stop the opening. At this time, in the hollow structure 44, the thickness of the lower wall surface is 0.01 to 2 μm, and when the cross section of the lower wall surface and the cell wall is viewed in cross-section, the hollow structure 44 is a curve having a curvature radius of 0.1 to 20 μm. there were.

なお、中間体33の天井部33aが薄い程、短時間で開口する。具体的には、天井部33aの厚さが0.05μmの場合、20秒で開口した。また、後述する実施例2と比較して、中空構造物44の開口面は、滑らかな形状であった。   The thinner the ceiling 33a of the intermediate body 33, the shorter the opening. Specifically, when the thickness of the ceiling portion 33a was 0.05 μm, the opening was made in 20 seconds. Moreover, compared with Example 2 mentioned later, the opening surface of the hollow structure 44 was a smooth shape.

次に、温度30℃、湿度80〜99%の加湿容器41内に、20℃の透明導電膜付きフィルム51を入れ、適量の水滴43が発生し、結露した時点で中空構造物44を加湿容器41内に入れた(図9(a)参照)。このとき、中空構造物44の温度は、結露しないように、加湿容器41より高くする必要があり、50℃とした。なお、透明導電性膜付きフィルムは、スパッタリング法等により透明なITO(Indium Tin Oxide)層が透明なPETフィルム上に形成されている。次に、中空構造物44の開口部を有する壁面と、透明導電膜付きフィルム51のITO層を接触させた後に、加湿容器41から取り出して、乾燥させ、中空構造物複合体52が得られた(図9(b)参照)。このとき、中空構造物44と透明導電膜付きフィルム51は、接着層を形成せずに接合されているが、界面同士が密着した状態で接着されるため、接着強度が非常に強くなる。なお、中空構造物44は、開口部を有する壁面を二つ有するが、いずれの壁面を透明導電膜付きフィルム51に接合してもよい。
(実施例2)
基板31上に形成された中間体33(図3(c)参照)の天井部33aに粘着性シートを接触させた後に、粘着性シートを引き剥がすことにより、天井部33aが剪断され、開口部が形成された。このようにして、基板31上に、中空構造物(図6参照)が形成され、さらに、中空構造物を基板31から剥離した。このとき、中空構造物は、下部の壁面の厚さが0.01〜2μmであり、下部の壁面のセル壁との交差部を断面視すると、曲率半径が0.1〜20μmの曲線であった。
Next, a film 51 with a transparent conductive film at 20 ° C. is placed in a humidifying container 41 having a temperature of 30 ° C. and a humidity of 80 to 99%, and when a suitable amount of water droplets 43 are generated and condensed, the hollow structure 44 is humidified. 41 (see FIG. 9A). At this time, the temperature of the hollow structure 44 needs to be higher than the humidification container 41 so as not to cause condensation, and was set to 50 ° C. In the film with a transparent conductive film, a transparent ITO (Indium Tin Oxide) layer is formed on a transparent PET film by a sputtering method or the like. Next, after the wall surface having the opening of the hollow structure 44 and the ITO layer of the film 51 with the transparent conductive film were brought into contact with each other, the hollow structure 44 was taken out from the humidifying container 41 and dried to obtain the hollow structure composite 52. (See FIG. 9B). At this time, the hollow structure 44 and the transparent conductive film-attached film 51 are bonded without forming an adhesive layer, but are bonded in a state in which the interfaces are in close contact with each other, so that the bonding strength is very strong. In addition, although the hollow structure 44 has two wall surfaces which have an opening part, you may join any wall surface to the film 51 with a transparent conductive film.
(Example 2)
After bringing the adhesive sheet into contact with the ceiling portion 33a of the intermediate body 33 (see FIG. 3C) formed on the substrate 31, the ceiling portion 33a is sheared by peeling off the adhesive sheet, thereby opening the opening portion. Formed. In this way, a hollow structure (see FIG. 6) was formed on the substrate 31, and the hollow structure was peeled from the substrate 31. At this time, the hollow structure has a lower wall surface thickness of 0.01 to 2 μm, and a cross-sectional view of the intersection of the lower wall surface and the cell wall has a curve with a curvature radius of 0.1 to 20 μm. It was.

次に、実施例1と同様にして、中空構造物と透明導電膜付きフィルムを接合することにより、中空構造物複合体を作製した。
(実施例3)
温度30℃、湿度80〜99%の加湿容器41内に、20℃の透明導電膜付きフィルム51を入れ、適量の水滴43が発生し、結露した時点で中間体33を加湿容器41内に入れた(図10(a)参照)。このとき、中間体33の温度は、結露しないように、加湿容器41より高くする必要があり、50℃とした。次に、中間体33の開口部を有さない壁面と、透明導電膜付きフィルム51のITO層を接触させた後に、加湿容器41から取り出して、乾燥させ、中空構造物複合体52が得られた(図10(b)参照)。これにより、上部の壁面及び下部の壁面に開口部を有する中空構造物44(図6参照)の形成と、中空構造物44と透明導電膜付きフィルム51の接合を同時に行うことができた。その結果、工程数を少なくして、設備コスト、加工時間に対するコストを低減することができた。なお、中間体33と透明導電膜付きフィルム51が接触した時点で、中間体33の天井部33aは、実施例1と同様に、自己収縮が起こって開口部が形成される。このとき、中空構造物複合体52は、下部の壁面の厚さが0.01〜2μmであり、下部の壁面のセル壁との交差部を断面視すると、曲率半径が0.1〜20μmの曲線であった。
(実施例4)
図3に示す中空構造物の製造方法の一部を用いて、中空構造物複合体を製造した。まず、エポキシアクリレートのAQ9(荒川化学工業社製)に、フッ素系界面活性剤ノベックFC−4430(3M社製)を添加して、エポキシアクリレートの表面張力を小さくすることにより、可塑性を有する材料とした。次に、スリットコーターを用いて、独立した複数の凹部31aを有する基板31上に、可塑性を有する材料の溶液を塗布することにより、可塑性を有する膜32を形成した。さらに、可塑性を有する膜32上に、紫外線を透過する透明導電膜付きフィルム51のITO層を配置した。次に、圧力制御装置61内で減圧して、凹部31a内の空気を膨張させ、真空度が50kPa程度に達したときに、紫外線62を照射し、エポキシアクリレートを硬化させた(図11(a)参照)。これにより、上部の壁面及び下部の壁面に開口部を有する中空構造物44(図6参照)の形成と、中空構造物44と透明導電膜付きフィルム51の接合を同時に行うことができた。その結果、工程数を少なくして、設備コスト、加工時間に対するコストを低減することができた。
Next, in the same manner as in Example 1, a hollow structure composite was produced by joining the hollow structure and a film with a transparent conductive film.
(Example 3)
A film 51 with a transparent conductive film at 20 ° C. is placed in a humidification container 41 having a temperature of 30 ° C. and a humidity of 80 to 99%. (See FIG. 10 (a)). At this time, the temperature of the intermediate body 33 needs to be higher than that of the humidifying container 41 so as to prevent condensation, and is set to 50 ° C. Next, after making the wall surface without the opening part of the intermediate body 33 and the ITO layer of the film 51 with the transparent conductive film come into contact with each other, it is taken out from the humidifying container 41 and dried to obtain the hollow structure composite body 52. (See FIG. 10B). Thereby, formation of the hollow structure 44 (refer FIG. 6) which has an opening part in an upper wall surface and a lower wall surface, and joining of the hollow structure 44 and the film 51 with a transparent conductive film were able to be performed simultaneously. As a result, it was possible to reduce the number of processes and reduce the cost for equipment and processing time. In addition, when the intermediate body 33 and the film 51 with a transparent conductive film contact, the ceiling part 33a of the intermediate body 33 self-shrinks and an opening is formed as in the first embodiment. At this time, in the hollow structure composite 52, the thickness of the lower wall surface is 0.01 to 2 μm, and when the cross section of the lower wall surface and the cell wall is viewed in cross section, the curvature radius is 0.1 to 20 μm. It was a curve.
Example 4
A hollow structure composite was manufactured using a part of the method for manufacturing a hollow structure shown in FIG. First, by adding a fluorosurfactant Novec FC-4430 (manufactured by 3M) to epoxy acrylate AQ9 (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) and reducing the surface tension of the epoxy acrylate, did. Next, a plastic film 32 was formed by applying a plastic material solution onto a substrate 31 having a plurality of independent recesses 31a using a slit coater. Furthermore, the ITO layer of the film 51 with a transparent conductive film that transmits ultraviolet rays was disposed on the film 32 having plasticity. Next, the pressure in the pressure control device 61 is reduced to expand the air in the recess 31a, and when the degree of vacuum reaches about 50 kPa, the ultraviolet ray 62 is irradiated to cure the epoxy acrylate (FIG. 11 (a)). )reference). Thereby, formation of the hollow structure 44 (refer FIG. 6) which has an opening part in an upper wall surface and a lower wall surface, and joining of the hollow structure 44 and the film 51 with a transparent conductive film were able to be performed simultaneously. As a result, it was possible to reduce the number of processes and reduce the cost for equipment and processing time.

以上のようにして、セル壁の厚さが0.01〜5μm、上部の壁面の厚さi及び下部の壁面の厚さiが0.01〜1μm、開口部の一辺の長さjが140μmであり、上部の壁面及び下部の壁面のセル壁との交差部を断面視すると、曲率半径が0.1〜5μmの曲線である中空構造物複合体52(図11(b)参照)が得られた。
(電気泳動液の製造)
白色粒子として、酸化チタンR−960(DuPont社製)の表面にメタクリル酸ラウリルをグラフト重合させたものを用いた。また、着色顔料として、カーボンブラックPRINTEX A(degussa社製)の表面にメタクリル酸2−エチルヘキシルをグラフト重合させたものを用いた。次に、分散剤Span85(ICI社製)及び帯電制御剤Sposperse17000(アビシア社製)を用いて、イソパラフィン系炭化水素IsoparG(エクソンモービル社製)中に、白色粒子及び着色粒子を超音波分散させ、電気泳動液を調製した。なお、電気泳動液の組成は、白色粒子(40重量%)、着色粒子(2重量%)、Span85(0.5重量%)、Splsperse17000(0.5重量%)、IsoparG(57重量%)とした。
(実施例5)
中空構造物複合体52としては、セル壁の厚さが2μm、上部の壁面の厚さi及び下部の壁面の厚さiが1μm、開口部の一辺の長さjが140μm、貫通孔の深さが50μm、セル間のピッチが150μmであり、上部の壁面及び下部の壁面のセル壁との交差部を断面視すると、曲率半径が5μmの曲線である中空構造物44(図6(b)参照)と、透明導電膜付きフィルム51が接合されているものを用いた。なお、透明導電膜付きフィルム51は、表示画像の透過や電気泳動液71を保護するための透明なPETフィルムと、透明な共通電極であるITO層を有する。
As described above, the thickness of the cell walls 0.01 to 5 [mu] m, the thickness i b of the thickness of i a and the lower wall of the upper wall is 0.01 to 1 [mu] m, of one side of the opening length j Is a hollow structure composite body 52 having a curvature radius of 0.1 to 5 μm (see FIG. 11B) when the cross section of the upper wall surface and the lower wall surface with the cell wall is viewed in cross section. was gotten.
(Manufacture of electrophoresis solution)
As white particles, titanium oxide R-960 (manufactured by DuPont) was grafted with lauryl methacrylate on the surface. In addition, as a coloring pigment, a carbon black PRINTEX A (manufactured by Degussa) having a graft polymerized with 2-ethylhexyl methacrylate was used. Next, using a dispersant Span85 (manufactured by ICI) and a charge control agent Spospers 17000 (manufactured by Avisia), white particles and colored particles are ultrasonically dispersed in isoparaffin hydrocarbon Isopar G (manufactured by ExxonMobil). An electrophoresis solution was prepared. The composition of the electrophoresis solution is white particles (40% by weight), colored particles (2% by weight), Span 85 (0.5% by weight), Spsperse 17000 (0.5% by weight), IsoparG (57% by weight). did.
(Example 5)
The hollow structure composite 52 has a cell wall thickness of 2 μm, an upper wall thickness ia and a lower wall thickness i b of 1 μm, an opening side j of 140 μm, a through hole When the cross section of the upper wall surface and the lower wall surface intersects with the cell wall is viewed in cross section, the hollow structure 44 (FIG. 6 (FIG. b)) and a film 51 with a transparent conductive film are used. The film 51 with a transparent conductive film has a transparent PET film for protecting the transmission of the display image and the electrophoretic liquid 71 and an ITO layer that is a transparent common electrode.

中空構造物複合体52のセル内の空間に、画像表示信号(電圧、電流等)により色素粒子が移動する電気泳動液71を注入した後、スリットコーターを用いて、電気泳動液71上に、ゼラチンMC−243(ゼライス社製)の水溶液を塗布し、乾燥させることにより、膜厚が5μmの封止膜72を形成した。(図12(a)参照)。なお、封止には、ゼラチンの他に、電気泳動液64に不溶の水溶性樹脂、例えば、ポリウレタン、ポリビニルアルコール等を用いることができる。また、塗布方法としては、スリットコート法の他に、スピンコート法、カーテンコート法等を用いてもよい。次に、スリットコーターを用いて、封止膜72上に、エポキシ樹脂を塗布して接着層73を形成した後に、封止膜72と電極74を接着させ、表示素子75が得られた(図12(b)参照)。なお、接着層73としては、エポキシ樹脂の他に、紫外線硬化接着剤、ホットメルト接着剤等を用いることができる。また、塗布方法としては、スリットコート法の他に、スピンコート法、カーテンコート法等を用いてもよい。
(実施例6)
電極74の代わりに、表示素子に画像表示信号を送るための電圧駆動回路81を用いた以外は、実施例5と同様にして、画像表示装置82を作製した(図13参照)。なお、中空構造物複合体52としては、実施例3の中空構造物複合体を用いた。
After injecting the electrophoretic liquid 71 in which the pigment particles move by the image display signal (voltage, current, etc.) into the space in the cell of the hollow structure complex 52, using a slit coater, An aqueous solution of gelatin MC-243 (manufactured by Zerais Co., Ltd.) was applied and dried to form a sealing film 72 having a thickness of 5 μm. (See FIG. 12 (a)). For sealing, in addition to gelatin, a water-soluble resin insoluble in the electrophoretic liquid 64, such as polyurethane or polyvinyl alcohol, can be used. Further, as a coating method, in addition to the slit coating method, a spin coating method, a curtain coating method, or the like may be used. Next, using a slit coater, an epoxy resin was applied on the sealing film 72 to form an adhesive layer 73, and then the sealing film 72 and the electrode 74 were adhered to obtain a display element 75 (FIG. 5). 12 (b)). As the adhesive layer 73, an ultraviolet curing adhesive, a hot melt adhesive, or the like can be used in addition to the epoxy resin. Further, as a coating method, in addition to the slit coating method, a spin coating method, a curtain coating method, or the like may be used.
(Example 6)
An image display device 82 was produced in the same manner as in Example 5 except that a voltage driving circuit 81 for sending an image display signal to the display element was used instead of the electrode 74 (see FIG. 13). As the hollow structure composite 52, the hollow structure composite of Example 3 was used.

電圧駆動回路81から表示素子に10Vの電圧を印加し、白反射率、黒反射率及びコントラストを、光量測定器を用いて測定したところ、白反射率42%、黒反射率1%、コントラスト42であり、後述する参考例と同等の優れた表示特性が得られた。また、画像表示装置82は、曲率200mmの曲げに対して、中空構造物44の破壊及び透明導電膜付きフィルム51の剥離が起こらなかった。
(実施例7)
実施例4の中空構造物複合体を用いた以外は、実施例6と同様にして、画像表示装置を作製した。
When a voltage of 10 V was applied from the voltage driving circuit 81 to the display element, and the white reflectance, black reflectance and contrast were measured using a light quantity measuring device, the white reflectance was 42%, the black reflectance was 1%, and the contrast was 42. Thus, excellent display characteristics equivalent to those of the reference example described later were obtained. In addition, in the image display device 82, the hollow structure 44 was not broken and the film 51 with the transparent conductive film was not peeled against the bending with a curvature of 200 mm.
(Example 7)
An image display device was produced in the same manner as in Example 6 except that the hollow structure composite of Example 4 was used.

電圧駆動回路81から表示素子に10Vの電圧を印加し、白反射率、黒反射率及びコントラストを、光量測定器を用いて測定したところ、白反射率42%、黒反射率1%、コントラスト42であり、後述する参考例と同等の優れた表示特性が得られた。また、画像表示装置は、曲率200mmの曲げに対して、中空構造物44の破壊及び透明導電膜付きフィルム51の剥離が起こらなかった。
(実施例8)
中空構造物複合体52としては、セル壁の厚さが2μm、上部の壁面の厚さi及び下部の壁面の厚さiが1μm、開口部の一辺の長さjが140μm、貫通孔の深さが50μm、セル間のピッチが150μmであり、上部の壁面及び下部の壁面のセル壁との交差部を断面視すると、曲率半径が5μmの曲線である中空構造物44(図6(b)参照)と、透明導電膜付きフィルム51が接合されているものを用いた。なお、透明導電膜付きフィルム51は、表示画像の透過や電気泳動液71を保護するための透明なPETフィルムと、透明な共通電極であるITO層を有する。
When a voltage of 10 V was applied from the voltage driving circuit 81 to the display element, and the white reflectance, black reflectance and contrast were measured using a light quantity measuring device, the white reflectance was 42%, the black reflectance was 1%, and the contrast was 42. Thus, excellent display characteristics equivalent to those of the reference example described later were obtained. Further, in the image display device, the hollow structure 44 was not broken and the film 51 with the transparent conductive film was not peeled against the bending with a curvature of 200 mm.
(Example 8)
The hollow structure composite 52 has a cell wall thickness of 2 μm, an upper wall thickness ia and a lower wall thickness i b of 1 μm, an opening side j of 140 μm, a through hole When the cross section of the upper wall surface and the lower wall surface intersects with the cell wall is viewed in cross section, the hollow structure 44 (FIG. 6 (FIG. b)) and a film 51 with a transparent conductive film are used. The film 51 with a transparent conductive film has a transparent PET film for protecting the transmission of the display image and the electrophoretic liquid 71 and an ITO layer that is a transparent common electrode.

中空構造物複合体52の上部の壁面に、スリットコーターを用いて、エポキシ樹脂を塗布して接着層73を形成し(図14(a)参照)、セル内の空間に、画像表示信号(電圧、電流等)により色素粒子が移動する電気泳動液71を注入した(図14(b)参照)。なお、接着層73としては、エポキシ樹脂の他に、紫外線硬化接着剤、ホットメルト接着剤等を用いることができる。また、塗布方法としては、スリットコート法の他に、スピンコート法、カーテンコート法等を用いてもよい。次に、中空構造物44と電極74を接着させ、表示素子75が得られた(図14(c)参照)。
(実施例9)
電極74の代わりに、表示素子に画像表示信号を送るための電圧駆動回路81を用いた以外は、実施例5と同様にして、画像表示装置82を作製した(図15参照)。なお、中空構造物複合体52としては、実施例3の中空構造物複合体を用いた。
An epoxy resin is applied to the upper wall surface of the hollow structure composite 52 using a slit coater to form an adhesive layer 73 (see FIG. 14A), and an image display signal (voltage) is formed in the space in the cell. , Current, etc.) was injected with an electrophoretic liquid 71 in which pigment particles move (see FIG. 14B). As the adhesive layer 73, an ultraviolet curing adhesive, a hot melt adhesive, or the like can be used in addition to the epoxy resin. Further, as a coating method, in addition to the slit coating method, a spin coating method, a curtain coating method, or the like may be used. Next, the hollow structure 44 and the electrode 74 were adhered to obtain a display element 75 (see FIG. 14C).
Example 9
An image display device 82 was produced in the same manner as in Example 5 except that a voltage driving circuit 81 for sending an image display signal to the display element was used instead of the electrode 74 (see FIG. 15). As the hollow structure composite 52, the hollow structure composite of Example 3 was used.

電圧駆動回路81から表示素子に10Vの電圧を印加し、白反射率、黒反射率及びコントラストを、光量測定器を用いて測定したところ、白反射率42%、黒反射率1%、コントラスト42であり、後述する参考例と同等の優れた表示特性が得られた。また、画像表示装置82は、曲率200mmの曲げに対して、中空構造物44の破壊及び透明導電膜付きフィルム51の剥離が起こらなかった。
(参考例)
中空構造物44の代わりに、深さが50μmで10mm角のセルを用いた以外は、実施例6と同様にして、画像表示装置を作製した。
When a voltage of 10 V was applied from the voltage driving circuit 81 to the display element, and the white reflectance, black reflectance and contrast were measured using a light quantity measuring device, the white reflectance was 42%, the black reflectance was 1%, and the contrast was 42. Thus, excellent display characteristics equivalent to those of the reference example described later were obtained. In addition, in the image display device 82, the hollow structure 44 was not broken and the film 51 with the transparent conductive film was not peeled against the bending with a curvature of 200 mm.
(Reference example)
An image display device was produced in the same manner as in Example 6 except that a 10 mm square cell having a depth of 50 μm was used instead of the hollow structure 44.

電圧駆動回路81から表示素子に10Vの電圧を印加し、白反射率、黒反射率及びコントラストを、光量測定器を用いて測定したところ、白反射率43%、黒反射率1%、コントラスト43の表示特性が得られた。   When a voltage of 10 V was applied from the voltage driving circuit 81 to the display element and the white reflectance, black reflectance and contrast were measured using a light quantity measuring device, the white reflectance was 43%, the black reflectance was 1%, and the contrast was 43. The display characteristics were obtained.

本発明で用いられる中空構造物の一例を示す図であり、上図が上面図、中図が断面図、下図が下面図である。It is a figure which shows an example of the hollow structure used by this invention, an upper figure is a top view, a middle figure is sectional drawing, and a lower figure is a bottom view. 本発明で用いられる中空構造物の他の例を示す図であり、上図が上面図、中図が断面図、下図が下面図である。It is a figure which shows the other example of the hollow structure used by this invention, an upper figure is a top view, a middle figure is sectional drawing, and a lower figure is a bottom view. 本発明で用いられる中空構造物の製造方法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing method of the hollow structure used by this invention. 図3の中空構造物の製造方法で用いられる基板を示す図である。It is a figure which shows the board | substrate used with the manufacturing method of the hollow structure of FIG. 図3の中空構造物の製造方法で得られる中間体を示す図である。It is a figure which shows the intermediate body obtained with the manufacturing method of the hollow structure of FIG. 図3の中空構造物の製造方法で得られる中空構造物を示す図である。It is a figure which shows the hollow structure obtained with the manufacturing method of the hollow structure of FIG. 実施例で得られた中間体を示す図である。It is a figure which shows the intermediate body obtained in the Example. 実施例1の中空構造物の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the hollow structure of Example 1. FIG. 実施例1の中空構造物複合体の製造方法を示す図である。1 is a view showing a method for producing a hollow structure composite of Example 1. FIG. 実施例3の中空構造物複合体の製造方法を示す図である。6 is a view showing a method for producing a hollow structure composite of Example 3. FIG. 実施例4の中空構造物複合体の製造方法を示す図である。6 is a view showing a method for producing a hollow structure composite body of Example 4. FIG. 実施例5の表示素子の製造方法を示す図である。10 is a diagram showing a method for manufacturing the display element of Example 5. FIG. 実施例6の画像表示装置を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an image display device according to a sixth embodiment. 実施例8の表示素子の製造方法を示す図である。10 is a diagram showing a method for manufacturing the display element of Example 8. FIG. 実施例9の画像表示装置を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an image display device according to a ninth embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10、20 中空構造物
11、21 セル
12、22 セル壁
13、23 上部の壁面
14a、24b、14a、24b 開口部
15、25 下部の壁面
16a、16b、26a、26b 交差部
31 基板
31a 凹部
31b 開口部
32 可塑性を有する膜
33 中間体
33a 天井部
41 加湿容器
42 封止ブロック
43 水滴
44 中空構造物
51 透明導電性膜付きフィルム
52 中空構造物複合体
61 圧力制御装置
62 紫外線
71 電気泳動液
72 封止膜
73 接着層
74 電極
75 表示素子
81 電圧駆動回路
82 画像表示装置
10, 20 Hollow structure 11, 21 Cell 12, 22 Cell wall 13, 23 Upper wall surface 14a, 24b, 14a, 24b Opening portion 15, 25 Lower wall surface 16a, 16b, 26a, 26b Intersection 31 Substrate 31a Recess 31b Opening 32 Plastic Film 33 Intermediate 33a Ceiling 41 Humidifying Container 42 Sealing Block 43 Water Drop 44 Hollow Structure 51 Film with Transparent Conductive Film 52 Hollow Structure Composite 61 Pressure Controller 62 Ultraviolet 71 Electrophoretic Liquid 72 Sealing film 73 Adhesive layer 74 Electrode 75 Display element 81 Voltage drive circuit 82 Image display device

Claims (17)

貫通孔を有する複数のセルが平面状に配置されている中空構造物を有し、
該中空構造物の対向する二つの壁面に、該複数のセルが有する貫通孔の開口部を有し、
該開口部を有する壁面の一つは、透明導電性膜と接合されており、
該貫通孔内に、一種以上の白色粒子及び/又は着色粒子が溶媒中に分散している分散液を有することを特徴とする表示素子
Having a hollow structure in which a plurality of cells having through holes are arranged in a plane;
On the two opposing wall surfaces of the hollow structure, there are openings of through holes of the plurality of cells,
One of the wall surfaces having the opening is joined to the transparent conductive film ,
A display element comprising a dispersion liquid in which one or more kinds of white particles and / or colored particles are dispersed in a solvent in the through hole .
隣接する前記セルが有する貫通孔を隔てる隔壁の厚さ0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の表示素子 Display device according to claim 1, thickness of the partition wall separating the through-hole in which the adjacent cells has is equal to or is 0.01μm or more 10μm or less. 前記開口部を有する壁面の厚さ0.01μm以上10μm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の表示素子The display element according to claim 1, wherein a thickness of the wall surface having the opening is 0.01 μm or more and 10 μm or less. 前記開口部を有する壁面の、隣接する前記セルが有する貫通孔を隔てる隔壁との交差部を断面視すると、曲率半径が0.1μm以上50μm以下の曲線であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の表示素子The curved surface having a curvature radius of 0.1 µm or more and 50 µm or less when the cross section of the wall surface having the opening and the partition wall separating the through-holes of the adjacent cells is viewed in cross section. 4. The display element according to any one of 3. 前記中空構造物は、可塑性を有する材料を乾燥させた材料からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の表示素子The display device according to claim 1, wherein the hollow structure is made of a material obtained by drying a plastic material. 前記可塑性を有する材料は、水溶性樹脂を含有することを特徴とする請求項5に記載の表示素子The display element according to claim 5, wherein the plastic material contains a water-soluble resin. 前記中空構造物は、可塑性を有する材料を紫外線硬化させた材料からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の表示素子The display element according to claim 1, wherein the hollow structure is made of a material obtained by ultraviolet-curing a plastic material. 前記透明導電性膜に接合されていない壁面が有する開口部は、電極又は前記溶媒に不溶性の樹脂で封止されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の表示素子。 The display according to any one of claims 1 to 7, wherein an opening of a wall surface not bonded to the transparent conductive film is sealed with an electrode or a resin insoluble in the solvent. element. 前記樹脂は、厚さが0.1μm以上10μm以下の膜であることを特徴とする請求項に記載の表示素子。 The display element according to claim 8 , wherein the resin is a film having a thickness of 0.1 μm to 10 μm. 請求項1乃至のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法であって、
独立した複数の凹部が形成されている基板の該凹部に空間が生じるように、該基板の凹部を有する面に可塑性を有する第一の膜を形成する工程と、
該第一の膜の基板に形成されていない側の面に、第二の膜を形成する工程と、
該空間に存在する気体を膨張させることにより、該第一の膜を延伸させる工程と、
該延伸された第一の膜を硬化させることにより、該第一の膜と該第二の膜を接合する工程を有することを特徴とする表示素子の製造方法。
A method for manufacturing a display element according to any one of claims 1 to 9 ,
Forming a first film having plasticity on the surface of the substrate having the recesses so that a space is created in the recess of the substrate on which the plurality of independent recesses are formed;
Forming a second film on the surface of the first film that is not formed on the substrate;
Stretching the first film by expanding the gas present in the space;
A method of manufacturing a display element , comprising: a step of bonding the first film and the second film by curing the stretched first film.
前記第一の膜は、紫外線硬化性樹脂を含有し、
前記第二の膜は、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させる紫外線を透過することを特徴とする請求項10に記載の表示素子の製造方法。
The first film contains an ultraviolet curable resin ,
The method for manufacturing a display element according to claim 10 , wherein the second film transmits ultraviolet light that cures the ultraviolet curable resin .
請求項1乃至のいずれか一項に記載の表示素子の製造方法であって、
独立した複数の凹部が形成されている基板の該凹部に空間が生じるように、該基板の凹部を有する面に可塑性を有する第一の膜を形成する工程と、
該空間に存在する気体を膨張させることにより、該第一の膜を延伸させる工程と、
該第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒を第二の膜に配置する工程と、
該延伸された第一の膜を該第二の膜の該第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒が配置された面に接触させる工程と、
第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒を除去することにより、該第一の膜と該第二の膜を接合する工程を有することを特徴とする表示素子の製造方法。
A method for manufacturing a display element according to any one of claims 1 to 9 ,
Forming a first film having plasticity on the surface of the substrate having the recesses so that a space is created in the recess of the substrate on which the plurality of independent recesses are formed;
Stretching the first film by expanding the gas present in the space;
Placing a solvent in the second membrane capable of dissolving or swelling the first membrane;
A step of contacting the stretched first film of the solvent capable of dissolving or swelling the first layer of said second film is disposed surface,
Removal of the solvent capable of dissolving or swelling the first layer, a method of manufacturing a display device characterized by having a step of bonding said first membrane and said second membrane.
前記延伸された第一の膜の一部を除去する工程をさらに有し、
前記第二の膜の前記第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒が配置された面に該一部が除去された第一の膜を接触させることを特徴とする請求項12に記載の表示素子の製造方法。
Further comprising removing a portion of the stretched first film;
To claim 12, wherein contacting said second layer first film the first film dissolution or said portion on the surface of the solvent is arranged capable of swelling has been removed The manufacturing method of the display element of description.
前記第一の膜は、水溶性樹脂を含有し、
前記第一の膜を溶解又は膨潤させることが可能な溶媒は、水を含有することを特徴とする請求項12又は13に記載の表示素子の製造方法。
The first film contains a water-soluble resin ,
The method of manufacturing a display element according to claim 12 or 13 , wherein the solvent capable of dissolving or swelling the first film contains water.
請求項乃至のいずれか一項に記載の表示素子と、
該表示素子に電圧を印加する手段を有することを特徴とする画像表示装置。
A display element according to any one of claims 1 to 9 ,
An image display device comprising means for applying a voltage to the display element.
請求項1乃至7のいずれか一項に記載の表示素子と、
該表示素子に電圧を印加する手段を有し、
前記透明導電性膜に接合されていない壁面が有する開口部は、該表示素子に電圧を印加する手段で封止されていることを特徴とすることを特徴とする画像表示装置。
A display element according to any one of claims 1 to 7 ,
Means for applying a voltage to the display element;
An image display device, wherein an opening of a wall surface not bonded to the transparent conductive film is sealed by means for applying a voltage to the display element.
請求項15又は16に記載の画像表示装置を有することを特徴とする画像表示システム。 The image display system characterized by having an image display apparatus according to claim 15 or 16.
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