JP5104584B2 - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Description
(付記1)
アーク放電によるプラズマ発生ガンを備えたプラズマ発生部と、
発生したプラズマを被成膜基板へ誘導するフィルターと、
前記被成膜基板を保持および処理するチャンバーと
を有する成膜装置であって、
前記プラズマ発生部に前記発生したプラズマの中央位置に遮蔽物を設けない状態で発生させたプラズマ中心の強度の15%に低下した位置までの範囲のプラズマ径よりも小径で且つ前記プラズマ発生部の管径の1/12〜1/3の第1の防着板を設置するとともに、
前記第1の防着板より小径の第2の防着板をプラズマ流の下流側に設け、
前記第2の防着板を非可動性とし、
前記第1の防着板を前記アーク放電によるプラズマ発生時にプラズマ流内に挿入し、発生から予め定めた所定時間経過した時点で退避させる機構を備える成膜装置。
(付記2)
遮蔽物を設けない状態でアーク放電により発生させたプラズマ中心の強度の15%に低下した位置までの範囲のプラズマ径よりも小径で且つプラズマ発生部の管径の1/12〜1/3の第1の防着板を前記アーク放電によるプラズマ発生時にプラズマ流内に挿入し、発生から予め定めた所定時間経過した時点で退避させるとともに、
前記第1の防着板より小径の第2の防着板をプラズマ流の下流側に設けて成膜を行う成膜方法。
(付記3) 付記2に記載の成膜方法が、磁気記録媒体の保護層の成膜方法であり、成膜直後における前記保護層における直径が0.3μm以上のマクロパーティクル数が100個以下である磁気記録媒体に対してのみ前記マクロパーティクルを除去するための表面研磨工程を行う磁気記録媒体の製造方法。
(付記4) 付記1に記載の成膜装置を用いて保護層を作製した磁気記録媒体であって、表面研磨工程前における前記保護層における直径が0.3μm以上のマクロパーティクル数が100個以下である磁気記録媒体。
(付記5) 前記保護層における炭素間結合の割合が、1≦sp3/sp2である付記4に記載の磁気記録媒体。
(付記6) 前記保護層の膜厚が、1〜3nmである付記4または付記5に記載の磁気記録媒体。
11 管部材
12 ターゲット
13 カソード
14 アノード
15 ストライカー
16 カソードコイル
17 アーク電源
18,19,20 防着板
21 プラズマ
22 マクロパーティクル
30 フィルター部
31 湾曲管部材
32 上流側コイル
33 下流側コイル
40 成膜部
41 導入管部
42 成膜室
43 ラスターコイル
44 被成膜基板
45 試料載置板
46 基板バイアス電源
47 イオンアシストシステム
51 アルミ合金基板
52 下地層
53 Co金属層
54 DLC保護層
61 ガラス基板
62 Ta下地層
63 NiFe裏打層
64 Ru中間層
65 CoCrPt磁気記録層
66 DLC保護膜
67 フッ素系潤滑剤
Claims (2)
- アーク放電によるプラズマ発生ガンを備えたプラズマ発生部と、
発生したプラズマを被成膜基板へ誘導するフィルターと、
前記被成膜基板を保持および処理するチャンバーと
を有する成膜装置であって、
前記プラズマ発生部に前記発生したプラズマの中央位置に遮蔽物を設けない状態で発生させたプラズマ中心の強度の15%に低下した位置までの範囲のプラズマ径よりも小径で且つ前記プラズマ発生部の管径の1/12〜1/3の第1の防着板を設置するとともに、
前記第1の防着板より小径の第2の防着板をプラズマ流の下流側に設け、
前記第2の防着板を非可動性とし、
前記第1の防着板を前記アーク放電によるプラズマ発生時にプラズマ流内に挿入し、発生から予め定めた所定時間経過した時点で退避させる機構を備える成膜装置。 - 遮蔽物を設けない状態でアーク放電により発生させたプラズマ中心の強度の15%に低下した位置までの範囲のプラズマ径よりも小径で且つプラズマ発生部の管径の1/12〜1/3の第1の防着板を前記アーク放電によるプラズマ発生時にプラズマ流内に挿入し、発生から予め定めた所定時間経過した時点で退避させるとともに、
前記第1の防着板より小径の第2の防着板をプラズマ流の下流側に設けて成膜を行う成膜方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008161410A JP5104584B2 (ja) | 2008-06-20 | 2008-06-20 | 成膜装置及び成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008161410A JP5104584B2 (ja) | 2008-06-20 | 2008-06-20 | 成膜装置及び成膜方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2010001530A JP2010001530A (ja) | 2010-01-07 |
JP5104584B2 true JP5104584B2 (ja) | 2012-12-19 |
Family
ID=41583476
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008161410A Active JP5104584B2 (ja) | 2008-06-20 | 2008-06-20 | 成膜装置及び成膜方法 |
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- 2008-06-20 JP JP2008161410A patent/JP5104584B2/ja active Active
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