JP5104152B2

JP5104152B2 - 有機ｅｌ装置及び電子機器

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Publication number: JP5104152B2
Application number: JP2007241900A
Authority: JP
Inventors: 将之三矢; 浩司安川
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2007-09-19
Filing date: 2007-09-19
Publication date: 2012-12-19
Anticipated expiration: 2027-09-19
Also published as: JP2009076528A

Description

本発明は、有機ＥＬ装置及び電子機器に関するものである。

有機ＥＬ（Electroluminescence）素子は、薄型、全固体型、面状自発光及び高速応答であるといった特徴を有する発光装置であり、フラットディスプレイパネルやバックライトへの応用が期待されている。このような有機ＥＬ素子を用いたディスプレイなどの表示装置をフルカラー化する方法として、例えば赤色、緑色及び青色の各色に発光する複数の発光層を有する白色有機ＥＬ素子とカラーフィルタとを組み合わせる構成がある。
ここで、白色有機ＥＬ素子の高効率化及び白色発光の調節を目的として、隣り合う２つの発光層の間に正孔及び電子の少なくとも一方の移動の移動を規制する中間層を設ける方法が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。このように２つの発光層の間に中間層を配置することで発光密度を均一化し、ＲＧＢ発光のバランスが調節された白色発光を実現している。
特開２００５−２５９４９２号公報特開２００６−１７２７６２号公報

しかしながら、上記従来の白色有機ＥＬ素子とカラーフィルタと組み合わせた表示装置では、カラーフィルタによる発光強度の減衰を考慮すると、高電流駆動が要求される。また、照明用途でも同様に、高電流駆動することになる。このように、白色有機ＥＬ素子は、発光色が変化しないことは言うまでもなく、高電流駆動・高輝度駆動に対してさらなる耐久性を持つことが要求されている。

本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされたもので、発光色の変化を抑制しつつ長寿命化が可能な有機ＥＬ装置及び電子機器を提供することを目的とする。

本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明にかかる有機ＥＬ装置は、陽極及び陰極と、該陽極及び陰極の間に配置された発光層と、前記陽極及び前記発光層の間に配置された正孔輸送層と、前記発光層及び前記正孔輸送層の間に配置された保護層とを備え、該保護層が、正孔輸送性を有する第１材料と、電子輸送性と正孔輸送性を有している第２材料とを含有することを特徴とする。
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明にかかる有機ＥＬ装置は、基板上に、第１の電極と、前記第１の電極上に設けられた正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に設けられた保護層と、前記保護層上に設けられた第１の発光層と、前記第１の発光層上に設けられた中間層と、前記中間層上に設けられた第２の発光層と、前記第２の発光層上に設けられた第３の発光層と、を備え、前記保護層は、正孔輸送性を有する第１の材料と、電子輸送性および正孔輸送性を有する第２の材料とを含み、前記中間層は、前記第１の材料および前記第２の材料により形成されており、重量比で、前記保護層における前記第１の材料の含有量は、前記第２の材料の含有量よりも大きいことを特徴とする。

この発明では、発光層と正孔輸送層の間に保護層を設けることによって、正孔輸送層が電子により劣化することを抑制して有機ＥＬ装置全体の長寿命化が図れる。すなわち、白色有機ＥＬ素子の劣化は、発光層から陽極側に向かう電子が正孔輸送層内に進入し正孔輸送材料を劣化させることが、駆動寿命を短くしている原因の１つであると考えられる。ここで、保護層に含まれる正孔輸送性と電子輸送性を有する第２材料は、一般的に正孔輸送材料よりも電子に対する耐性が高い。したがって、第２材料を含む保護層は正孔輸送層よりも電子に対する耐性が高くなっている。これにより、正孔輸送層が電子により劣化することが抑制され、正孔輸送層の長寿命化が図られ、有機ＥＬ装置全体が長寿命化する。
なお、正孔輸送層から発光層に向かう正孔は、保護層が正孔輸送性を有していることから、発光層に向けて輸送される。したがって、正孔輸送層から発光層に向かう正孔の輸送性は維持される。また、第２材料が電子輸送性を有することで、保護層と隣接する発光層との界面において滞留する電子の一部を保護層内に移動させて正孔と再結合させることができる。これにより、保護層と隣接する発光層との界面において電子が過剰に滞留することを抑制できる。

また、本発明にかかる有機ＥＬ装置は、前記陽極及び前記陰極の間に複数の発光層が配置され、該複数の発光層のうち隣り合う２つの発光層の間に中間層が配置されており、該中間層が、正孔輸送性及び電子輸送性を有すると共に、最低非占有分子軌道のエネルギー準位が前記隣り合う２つの発光層よりも高いことが好ましい。
この発明では、隣り合う２つの発光層間に中間層を設けて正孔及び電子の再結合により生成した励起子が発光層間を移動しにくくすることで、各発光層における発光輝度を調整できる。ここで、あらかじめ中間層により複数の発光層それぞれにおける発光輝度を調整していた場合であっても、正孔輸送層と発光層との間に保護層を配置することで、調整された各発光層における発光輝度を変更することなく有機ＥＬ装置全体の長寿命化が図れる。

また、本発明にかかる有機ＥＬ装置は、前記中間層が、前記第１及び第２材料からなることが好ましい。
この発明では、中間層が保護層と同一材料を用いて形成されることで、製造が容易になる。

また、本発明にかかる有機ＥＬ装置は、前記第１材料が、アミン系化合物材料であり、前記第２材料が、アセン系化合物材料であることとしてもよい。
この発明では、保護層を形成する第２材料としてアセン系材料を用いることで、この励起状態に対する耐性も改善することができる。すなわち、保護層内でも赤色発光層から侵入した電子と正孔が再結合し励起状態を形成する。そのため、保護層を形成する第２材料としてアセン系材料を用いることで、有機ＥＬ素子のさらなる長寿命化を図ることができる。

また、本発明にかかる有機ＥＬ装置は前記第２材料の前記保護層に対する含有量が、１０重量％以上９０重量％以下であることが好ましい。
この発明では、第２材料の含有量を１０重量％以上９０重量％以下とすることで、保護層における電子と正孔との再結合による劣化の抑制と、正孔輸送性の維持とが図れる。

また、本発明にかかる有機ＥＬ装置は、前記保護層の層厚が、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。
この発明では、保護層の層厚を１ｎｍ以上とすることで正孔輸送層の劣化を十分に抑制できると共に、１００ｎｍ以下とすることで発光層に向かう正孔の輸送性を維持できる。

また、本発明にかかる電子機器は、上記記載の有機ＥＬ装置を備えることを特徴とする。
この発明では、上述と同様に、中間層の劣化を抑制して有機ＥＬ装置全体の長寿命化が図れる。

〔有機ＥＬ装置〕
以下、本発明における有機ＥＬ装置の一実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。ここで、図１は有機ＥＬ装置を示す概略構成図、図２は図１の等価回路図、図３は画素領域における構成を示す概略断面図、図４は有機機能層を示す概略断面図である。

本実施形態における有機ＥＬ装置１は、図１に示すように、平面視でほぼ矩形の基板２を備えている。基板２の中央部分には、図１及び図２に示すように、複数の画素領域１１、データ線１２、走査線１３及び電源線１４が配置された実表示領域１５が形成されている。また、基板２の実表示領域１５の外側には、図１に示すように、データ線駆動回路１６及び走査線駆動回路１７が配置されたダミー領域１８が形成されている。そして、基板２のダミー領域１８の外側には、後述する陰極層（陰極）２２に接続される陰極用配線１９が配置されている。この実表示領域１５及びダミー領域１８により、画素部２０が形成されている。

複数の画素領域１１それぞれには、図２に示すように、画素電極となる陽極層（陽極）２１と、陰極層２２と、陽極層２１及び陰極層２２の間に挟みこまれる有機機能層２３とが設けられている。これら陽極層２１、陰極層２２及び有機機能層２３により、有機ＥＬ素子が構成される。また、複数の画素領域１１それぞれには、陽極層２１をスイッチング制御するためのＴＦＴ素子２４、２５と、保持容量２６とが設けられている。
ＴＦＴ素子２４は、ゲートが走査線１３に接続されて、ソースがデータ線１２に接続され、ドレインがＴＦＴ素子２５及び保持容量２６に接続されている。また、ＴＦＴ素子２４は、走査線１３を介して走査線駆動回路１７から供給された走査信号に応じて、データ線１２を介してデータ線駆動回路１６から供給されたデータ信号を保持容量２６に供給する構成となっている。
ＴＦＴ素子２５は、ゲートがＴＦＴ素子２４のドレインに接続され、ソースが電源線１４に接続され、ドレインが陽極層２１に接続されている。そして、ＴＦＴ素子２５は、保持容量２６で保持されたデータ信号に応じてオン・オフ状態が決定され、電源線１４を介して供給される駆動電流を陽極層２１に供給する構成となっている。
データ線１２、走査線１３及び電源線１４は、実表示領域１５内において格子状に配置されている。そして、データ線１２はデータ線駆動回路１６に接続され、走査線１３は走査線駆動回路１７に接続されている。

次に、基板２の画素領域１１における詳細な構成について、図３及び図４を参照しながら説明する。
基板２は、図３に示すように、例えばガラスなどの透光性材料で構成された基板本体３１と、基板本体３１上に積層されたゲート絶縁膜３２、第１及び第２層間絶縁膜３３、３４、陽極層２１、有機機能層２３、陰極層２２及び陰極保護膜３５とを備えている。また、基板２は、基板本体３１上に形成された半導体層３６と、ゲート絶縁膜３２上に形成されたゲート電極３７と、第１層間絶縁膜３３上に形成されたソース電極３８及びドレイン電極３９とを備えている。

ゲート絶縁膜３２は、例えばＳｉＯ_２やＳｉＮなどの絶縁材料で形成されており、基板本体３１上に形成された半導体層３６を被覆している。
第１層間絶縁膜３３は、例えばＳｉＯ_２などの絶縁材料で形成されており、ゲート絶縁膜３２上に形成されたゲート電極３７を被覆している。
第２層間絶縁膜３４は、アクリル系やポリイミド系などの耐熱性絶縁性樹脂材料で形成されており、第１層間絶縁膜３３上に形成されたソース電極３８及びドレイン電極３９を被覆すると共に、上面を平坦化している。また、第２層間絶縁膜３４上には、各画素領域１１を区画する隔壁４０が設けられている。

陽極層２１は、図３及び図４に示すように、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透光性の導電材料で形成されており、第２層間絶縁膜３４に形成されたコンタクトホールを介してドレイン電極３９に接続されている。また、陽極層２１の下面には、例えばＡｌで形成された反射膜（図示略）が設けられている。
有機機能層２３は、図４に示すように、陽極層２１上に順に積層された正孔注入層４１、正孔輸送層４２、保護層４３、赤色発光層（発光層）４４、中間層４５、青色発光層（発光層）４６、緑色発光層（発光層）４７及び電子輸送層４８を備えている。

正孔注入層４１は、陽極層２１から供給された正孔を陰極層２２に向けて注入する機能を有している。ここで、正孔注入層４１を構成する正孔注入材料としては、例えばＨＩ４０６（出光興産株式会社製）などが挙げられる。
正孔輸送層４２は、正孔注入層４１から注入された正孔を赤色発光層４４に向けて輸送する機能を有している。ここで、正孔輸送層４２を構成する正孔輸送材料としては、例えばＨＴ３２０（出光興産株式会社製）などが挙げられる。

保護層４３は、正孔輸送性を有する第１材料と正孔輸送性及び電子輸送性を有する第２材料とからなり、正孔輸送層４２から移動した正孔を赤色発光層４４に向けて輸送すると共に赤色発光層から正孔輸送層４２に向かう電子の一部を内部に移動させる機能を有している。
第１材料としては、α−ＮＰＤ（α−ナフチルジアミン）などのアミン系化合物材料が挙げられる。ここで、アミン系化合物材料とは、トリフェニルアミン構造を有し、アルキル基がベンゼン環の形状を有する化合物材料を示す。
また、第２材料としては、ＡＤＮ（９、１０−ジ（２−ナフチル）アントラセン）などのアセン系化合物材料が挙げられる。ここで、アセン系化合物材料とは、ポリアセン、具体的にはアントラセンやテトラセン、ペンタセンなどの誘導体を示す。
ここで、第１材料の第１及び第２材料に対する混合比は、例えば５０重量％であって１０重量％以上９０重量％以下の範囲内となっている。また、保護層４３の膜厚は、例えば５ｎｍであって１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内となっている。

赤色発光層４４は、正孔輸送層４２から移動した正孔の一部と中間層４５から移動した電子とが再結合することにより赤色に発光する機能を有している。ここで、赤色発光層４４を構成するホスト材料としては、例えばＢＨ２１５（出光興産株式会社製）などが挙げられる。また、赤色発光層４４を構成する赤色発光材料としては、例えばＲＤ００１（出光興産株式会社製）などが挙げられる。

中間層４５は、保護層４３と同様に第１及び第２材料からなり、赤色発光層４４から青色発光層４６に向かう正孔量及び青色発光層４６から赤色発光層４４に向かう電子量を調整する機能を有している。ここで、中間層４５を構成する正孔輸送材料としては、保護層４３と同一材料である例えばα−ＮＰＤなどが挙げられる。また、中間層４５を構成する電子輸送材料としては、保護層４３と同一材料である例えばＡＤＮが挙げられる。そして、第１材料の第１及び第２材料に対する混合比は、例えば５０重量％であって１０重量％以上９０重量％以下の範囲内となっている。

青色発光層４６は、中間層４５から移動した正孔の一部と緑色発光層４７から輸送された電子の一部とが再結合することにより青色に発光する機能を有している。ここで、青色発光層４６を構成するホスト材料としては、例えばＢＨ２１５（出光興産株式会社製）などが挙げられる。また、青色発光層４６を構成する青色発光材料としては、例えばＢＤ１０２（出光興産株式会社製）などが挙げられる。

緑色発光層４７は、青色発光層４６から移動した正孔と電子輸送層４８から移動した電子の一部とが再結合することにより緑色に発光する機能を有している。ここで、緑色発光層４７を構成するホスト材料としては、例えばＢＨ２１５（出光興産株式会社製）などが挙げられる。また、緑色発光層４７を構成する緑色発光材料としては、例えばＧＤ２０６（出光興産株式会社製）などが挙げられる。
電子輸送層４８は、陰極層２２から供給された電子を緑色発光層４７に向けて輸送する機能を有している。ここで、電子輸送層４８を構成する電子輸送材料としては、例えばＡｌｑ_３（トリス（８−キノリノール）アルミニウム））などが挙げられる。

陰極層２２は、図３及び図４に示すように、電子輸送層４７側から順にＬｉＦ（フッ化リチウム）膜及びＡｌ（アルミニウム）膜を積層した構成となっている。なお、陰極層２２は、複数の画素領域１１の全域にわたる共通電極となっている。
陰極保護膜３５は、図３に示すように、例えばシリコン酸化物やシリコン窒化物、シリコン窒酸化物などのシリコン化合物のような無機化合物で形成されており、製造工程において陰極層２２が腐食することを防止する。

半導体層３６は、チャネル領域と、不純物イオンを打ち込むことによって形成されたソース領域及びドレイン領域とを有している。そして、チャネル領域は、ゲート絶縁膜３２を介してゲート電極３７と対向配置されている。また、ソース領域は、ゲート絶縁膜３２及び第１層間絶縁膜３３を貫通するコンタクトホールを介してソース電極３８に接続されている。そして、ドレイン領域は、ゲート絶縁膜３２及び第１層間絶縁膜３３を貫通するコンタクトホールを介してドレイン電極３９に接続されている。
ソース電極３８は、電源線１４に接続されている。また、ドレイン電極３９は、ＴＦＴ素子２４のドレイン及び保持容量２６に接続されている。これら半導体層３６、ゲート電極３７、ソース電極３８及びドレイン電極３９により、ＴＦＴ素子２５が形成される。

また、基板２の上面には、接着層５０によりカラーフィルタ基板５１が貼付されている。カラーフィルタ基板５１は、例えばガラスなどの透光性材料で形成された基板本体５２と、基板本体５２上に形成されたカラーフィルタ層５３及び遮光層５４とを備えている。
カラーフィルタ層５３は、画素領域１１に対応して配置されており、例えばアクリルなどで形成されて各画素領域１１の表示色に対応する色材を含有している。
遮光層５４は、各画素領域１１の縁部に対応して配置されており、各画素領域１１を縁取っている。
なお、基板本体５２の内面側に凹部を設け、この凹部に水や酸素を吸収するゲッター剤（例えば、ＣａＯ、ＢａＯなど）を配置してもよい。

このような構成の有機ＥＬ装置１では、陽極層２１及び陰極層２２の間に電圧を印加すると、正孔が陽極層２１から陰極層２２に向けて移動すると共に、電子が陰極層２２から陽極層２１に向けて移動する。陽極層２１から供給された正孔は、正孔注入層４１、正孔輸送層４２及び保護層４３を経て赤色発光層４４に至る。そして、正孔は、中間層４５において正孔の移動が適宜規制された後、青色発光層４６を経て緑色発光層４７に至る。一方、陰極層２２から供給された電子は、電子輸送層４８を経て緑色発光層４７及び青色発光層４６に至る。そして、電子は、中間層４５において電子の移動が適宜規制された後、赤色発光層４４に至る。このとき、赤色発光層４４では、正孔及び電子が再結合することで赤色光を発光する。同様に、青色発光層４６では青色光を発光し、緑色発光層４７では緑色光を発光する。
また、赤色発光層４４に到達した電子は、保護層４３との界面において滞留する。そして、滞留する電子の一部が、保護層４３内に移動する。一方、保護層４３内には、正孔輸送層４２から正孔が供給される。そして、保護層４３内において電子と正孔が再結合する。このとき、保護層４３に正孔輸送性材料であるα−ＮＰＤより電子耐性に優れ、かつ電子と正孔の再結合により生ずる励起子に対する耐性が高いＡＤＮが混合されているため、保護層４３が劣化しにくくなる。これにより、正孔輸送層４２において電子及び正孔の再結合による劣化が抑制される。

〔電子機器〕
以上のような構成の有機ＥＬ装置１は、例えば図５に示すような携帯電話機（電子機器）１００の表示部１０１として用いられる。この携帯電話機１００は、表示部１０１、複数の操作ボタン１０２、受話口１０３、送話口１０４及び上記表示部１０１を有する本体部を備えている。

以上のように、本実施形態における有機ＥＬ装置１及び携帯電話機１００によれば、赤色発光層４４と正孔輸送層４２の間に保護層４３を設けることによって、正孔輸送層４２が電子により劣化することを抑制して有機ＥＬ装置１全体の長寿命化が図れる。
このとき、保護層４３が正孔輸送性を有していることから、正孔輸送層４２から赤色発光層４４に向かう正孔の輸送性が維持される。また、第２材料が電子輸送性を有することで、保護層４２と赤色発光層４４との界面において滞留する電子の一部を保護層４２内に移動させて正孔と再結合させ、保護層４２と赤色発光層４４との界面において電子が過剰に滞留することを抑制できる。
また、赤色発光層４４と青色発光層４６との間に中間層４５を配置することで、赤色発光層４４、青色発光層４６及び緑色発光層４７それぞれにおける発光輝度を調整できる。
そして、保護層４３と中間層４５とを同一材料で形成することで、有機ＥＬ装置１の製造工程を簡略化できる。
また、保護層４３の層厚を５ｎｍとすることで、正孔輸送層４２の劣化を十分に抑制できると共に、赤色発光層４４に対する正孔の輸送性を維持できる。

有機ＥＬ装置１の発光寿命及びパネル寿命それぞれを、保護層を設けない比較例と比較した。
ここで、実施例１〜３及び比較例１それぞれにおける有機ＥＬ装置は、正孔注入層の層厚を２０ｎｍ、正孔輸送層の層厚を２０ｎｍ、赤色発光層の層厚を５ｎｍ、中間層の層厚を５ｎｍ、青色発光層の層厚を１５ｎｍ、緑色発光層の層厚を１５ｎｍ、電子輸送層の層厚を２０ｎｍ、陰極層を構成するＬｉＦ膜の膜厚を１ｎｍ、陰極層を構成するＡｌ膜の膜厚を１５０ｎｍとしている。また、実施例１、２における保護層の層厚は５ｎｍ、実施例３における保護層の層厚は１０ｎｍとなっている。
そして、実施例１の保護層における第１材料であるα−ＮＰＤと第２材料であるＡＤＮとの混合比は重量比で５０：５０、実施例２、３の保護層におけるα−ＮＰＤとＡＤＮとの混合比は重量比で７０：３０となっている。また、実施例１〜３及び比較例の中間層におけるα−ＮＰＤとＡＤＮとの混合比は重量比で５０：５０となっている。

なお、ここでは、有機ＥＬ装置１それぞれを図６に示すような素子構造として測定している。すなわち、この素子構造は、図６に示すように、上面に腐食防止層１２０ａが形成された透光性の基板１２０上に陽極層２１と、有機機能層２３と、陰極層２２とを積層した構造となっている。また、陰極層２２の上面には反射膜（図示略）が設けられている。そして、陽極層２１、陰極層２２及び有機機能層２３は、封止部材１２１により封止されている。したがって、この素子構造は、ボトムエミッション構造となっている。

このような構成の実施例１〜２及び比較例１それぞれの有機ＥＬ装置において、色度座標、発光効率及び有機ＥＬ素子の寿命を測定した。この結果を表１に示す。
なお、表１において、発光効率の測定時における電流密度は、１０ｍＡ／ｃｍ^２となっている。そして、有機ＥＬ素子の寿命は、輝度が８０％まで低下したときまでの時間を測定している。このとき、有機ＥＬ素子における電流密度は、１００ｍＡ／ｃｍ^２となっている。また、発光効率と有機ＥＬ素子の寿命とは、それぞれ比較例１における測定値を基準とした値を示している。

表１に示すように、赤色発光層と正孔輸送層との間に保護膜を配置することで、複数の発光層全体による発光色を変更せずに長寿命化していることがわかる。

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、保護層の層厚は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下に限られない。
また、保護層は、α−ＮＰＤとＡＤＮとを混合した構成となっているが、他のアミン系化合物材料とアセン系化合物材料とを混合した構成など、他の正孔輸送性材料と正孔輸送性と電子輸送性をもつ材料とを混合した構成としてもよい。
そして、保護層におけるＡＤＮの含有量は、１０重量％以上９０重量％以下に限られない。

また、中間層は、保護層と同一材料を用いた構成となっているが、保護層と異なる材料を用いた構成としてもよい。
そして、赤色発光層と青色発光層との間に中間層を配置しているが、他の隣り合う２つの発光層の間に中間層を配置してもよく、中間層を配置しなくてもよい。
そして、有機機能層は、陽極層側から赤色発光層、青色発光及び緑色発光層の順に積層した構成となっているが、例えば赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層の順など、他の順番で積層してもよい。また、有機機能層は、赤色、青色及び緑色の光を発光する発光層を組み合わせた構成となっているが、他の波長の光を発光する発光層を複数組み合わせた構成としてもよい。

また、有機機能層は、陽極層と赤色発光層との間に正孔注入層及び正孔輸送層を配置しているが、少なくとも正孔輸送層が配置されていればよく、他の構成としてもよい。そして、有機機能層は、陰極層と緑色発光層との間に電子輸送層を配置しているが、緑色発光層側から順に電子輸送層及び電子注入層を配置する構成など、他の構成としてもよい。
そして、有機ＥＬ装置は、基板の上面側から光を射出するトップエミッション構造となっているが、基板の下面側から光を射出するボトムエミッション構造であってもよい。

また、有機ＥＬ装置を備える電子機器としては、携帯電話機に限らず、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant：携帯情報端末機）やパーソナルコンピュータ、ノート型パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、カーナビゲーション装置、デジタルビデオカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ページャ、電子手帳、電卓、電子ブックやプロジェクタ、ワードプロセッサ、テレビ電話機、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備える機器、照明装置、プリンタの露光ヘッドなどのような他の電子機器であってもよい。

本発明の一実施形態における有機ＥＬ装置を示す概略平面図である。図１の等価回路図である。画素領域を示す断面図である。有機機能層を示す断面図である。有機ＥＬ装置を備える携帯電話機を示す概略斜視図である。実施例１における素子構造を示す断面図である。

１有機ＥＬ装置、２１陽極層（陽極）、２２陰極層（陰極）、４２正孔輸送層、４３保護層、４４赤色発光層（発光層）、４５中間層、４６青色発光層（発光層）、４７緑色発光層（発光層）、１００携帯電話機（電子機器）

Claims

基板上に、
第１の電極と、
前記第１の電極上に設けられた正孔輸送層と、
前記正孔輸送層上に設けられた保護層と、
前記保護層上に設けられた第１の発光層と、
前記第１の発光層上に設けられた中間層と、
前記中間層上に設けられた第２の発光層と、
前記第２の発光層上に設けられた第３の発光層と、を備え、
前記保護層は、正孔輸送性を有する第１の材料と、電子輸送性および正孔輸送性を有する第２の材料とを含み、
前記中間層は、前記第１の材料および前記第２の材料により形成されており、
重量比で、前記保護層における前記第１の材料の含有量は、前記第２の材料の含有量よりも大きいことを特徴とする有機ＥＬ装置。
前記中間層が、正孔輸送性及び電子輸送性を有すると共に、最低非占有分子軌道のエネルギー準位が前記第１の発光層および前記第２の発光層よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置。
前記第１の材料が、アミン系化合物材料であり、
前記第２の材料が、アセン系化合物材料であることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ装置。
前記保護層の層厚が、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
請求項１から４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置を備えることを特徴とする電子機器。