JP5100358B2 - Filter cleaning device and filter cleaning method - Google Patents

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Description

本発明は、粉粒体処理装置に装着されるフィルタの洗浄技術に関し、特に、プリーツ状の構造を有するカートリッジフィルタの洗浄処理に関する。   The present invention relates to a cleaning technique for a filter attached to a powder processing apparatus, and more particularly to a cleaning process for a cartridge filter having a pleated structure.

医薬品や化粧品、食品などの分野では、粉体や粉粒体などの微細物を造粒、コーティング、混合、乾燥等の処理を行って種々の製品を製造している。このような処理には、微細物を気体流によって流動化して造粒等の処理を行う流動層造粒コーティング装置などの粉粒体処理装置が使用される。このような粉粒体処理装置では、粉粒体の流動化のために気体が供給される一方、その排気から粉粒体を分離するためのフィルタが設けられている。気体流によって流動化された粉粒体はこのフィルタによって濾別され、気体だけが分離されて粉粒体処理装置の外部に排出される。   In the fields of pharmaceuticals, cosmetics, foods, etc., various products are manufactured by subjecting fine substances such as powders and granules to processing such as granulation, coating, mixing, and drying. In such a process, a granular material processing apparatus such as a fluidized bed granulation coating apparatus that performs processing such as granulation by fluidizing a fine substance by a gas flow is used. In such a granular material processing apparatus, a gas is supplied for fluidizing the granular material, and a filter for separating the granular material from the exhaust gas is provided. The granular material fluidized by the gas flow is filtered by this filter, and only the gas is separated and discharged to the outside of the granular material processing apparatus.

粉粒体処理装置に使用されるフィルタとしては、濾過面積を増大させるため、濾布をプリーツ状に成形したものが使用されることが多い。ところが、このようなフィルタでは、濾材に目詰まりが生じると、気体の流通が阻害され、粉粒体の流動化が妨げられて処理効率が低下する。このため、濾材の目詰まり防止のため、適宜、濾材に付着した微粉の払い落としが行われる。微粉の払い落としは「逆洗」とも呼ばれ、流動化気体流とは逆方向にパルスエアを供給することにより行われる。例えば、フィルタの外側から内側へ流動化気体流が流通する場合には、フィルタの内側にパルスジェット用ノズルを配し、フィルタの内から外に向かってパルスエアを噴出させる。これにより、フィルタの捕集面(ここでは外側面)に付着した粉粒体の微粉が払い落とされ、フィルタ機能の維持が図られる。
特開平6-262015号公報 特開平10-235168号公報 特願2005-290669号 特願2006-189529号 特開2004-97936号公報
As a filter used for a powder processing apparatus, in order to increase a filtration area, what formed the filter cloth in the shape of a pleat is used in many cases. However, in such a filter, when clogging occurs in the filter medium, the gas flow is hindered, the fluidization of the granular material is hindered, and the processing efficiency is lowered. For this reason, in order to prevent clogging of the filter medium, the fine powder adhering to the filter medium is appropriately removed. The fine powder removal is also called “backwashing”, and is performed by supplying pulsed air in the direction opposite to the fluidized gas flow. For example, when a fluidized gas flow flows from the outside to the inside of the filter, a pulse jet nozzle is arranged inside the filter, and pulse air is ejected from the inside of the filter to the outside. Thereby, the fine powder of the granular material adhering to the collection surface (here outer surface) of a filter is removed, and maintenance of a filter function is achieved.
JP-A-6-262015 Japanese Patent Laid-Open No. 10-235168 Japanese Patent Application No. 2005-290669 Japanese Patent Application No. 2006-189529 JP 2004-97936 JP

しかしながら、フィルタに付着した粉体は、このような逆洗処理によっても完全に払い落とすことはできず、粉体が次第に蓄積され空気の流通抵抗が増大する。このため、造粒等を行う場合、処理を所定時間以上行った段階で、フィルタの洗浄処理を別途行う必要がある。特に、プリーツ状のフィルタの場合、プリーツの奥に付着した微粉は凝集しやすく、また、プリーツ奥部分には逆洗エアも通りにくいことから、プリーツ奥の微粉まで十分に除去することは難しい。特に、襞部分の折りが深いものにあっては、プリーツ奥に溜まった微粉の除去は非常に難しく、フィルタ1本当たりのプリーツ枚数が多い場合、洗浄ノズルを設置してもプリーツ1枚1枚をその奥まで洗浄することは困難であった。   However, the powder adhering to the filter cannot be completely removed even by such a backwashing process, and the powder gradually accumulates to increase the air flow resistance. For this reason, when granulation or the like is performed, it is necessary to separately perform a filter cleaning process when the process is performed for a predetermined time or more. In particular, in the case of a pleated filter, fine powder adhering to the back of the pleat is likely to aggregate, and backwash air is difficult to pass through the back of the pleat, so it is difficult to sufficiently remove the fine powder at the back of the pleat. In particular, if the folds are deeply folded, it is very difficult to remove the fine powder accumulated in the back of the pleats. If there are a large number of pleats per filter, each piece of pleats even if a cleaning nozzle is installed. It was difficult to clean the back.

本発明の目的は、流動層造粒装置等にて使用されるカートリッジフィルタを効率良く洗浄可能なフィルタ洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。   The objective of this invention is providing the filter washing | cleaning apparatus and washing | cleaning method which can wash | clean the cartridge filter used with a fluid bed granulation apparatus etc. efficiently.

本発明のフィルタ洗浄装置は、洗浄液を保持可能に形成され、前記洗浄液が注入・保持された状態で粉粒体処理装置に使用されるフィルタを回転自在に収容可能な処理容器と、前記処理容器に取り付けられ、前記洗浄液中に浸漬された状態の前記フィルタに対し気泡流又は気泡を含む液体を噴射し、前記フィルタを前記洗浄液中にて回転させつつ洗浄するノズル装置とを有することを特徴とする。   The filter cleaning apparatus of the present invention is formed so as to be able to hold a cleaning liquid, and is capable of rotatably storing a filter used in a granular material processing apparatus in a state where the cleaning liquid is injected and held, and the processing container And a nozzle device that jets a bubble flow or a liquid containing bubbles to the filter immersed in the cleaning liquid and cleans the filter while rotating the filter in the cleaning liquid. To do.

本発明にあっては、洗浄液を貯留した処理容器内にフィルタを浸漬し、処理容器に取り付けたノズル装置から噴射される気泡流又は気泡を含む液体によって、フィルタを回転させつつ洗浄処理を実施する。当該フィルタ洗浄装置では、洗浄処理に際し、フィルタが回転すると、その回転に伴う遠心力によって、フィルタの奥に溜まった微粉が洗浄液と共にフィルタ外へと排出され、効率の良い洗浄処理が実施される。   In the present invention, the filter is immersed in the processing container storing the cleaning liquid, and the cleaning process is performed while rotating the filter with the bubble flow or the liquid containing bubbles ejected from the nozzle device attached to the processing container. . In the filter cleaning apparatus, when the filter rotates during the cleaning process, the fine powder accumulated in the back of the filter is discharged out of the filter together with the cleaning liquid by the centrifugal force accompanying the rotation, and an efficient cleaning process is performed.

また、本発明の他のフィルタ洗浄装置は、洗浄液を保持可能に形成され、前記洗浄液が注入・保持された状態で、粉粒体処理装置に使用されるフィルタを回転自在に収容可能な処理容器と、前記処理容器に取り付けられ、前記洗浄液中に浸漬された状態の前記フィルタに対し液流を噴射し、前記フィルタを前記洗浄液中にて回転させつつ洗浄するノズル装置とを有することを特徴とする。   Further, another filter cleaning apparatus of the present invention is formed so as to be able to hold a cleaning liquid, and in a state in which the cleaning liquid is injected and held, a processing container capable of rotatably storing a filter used in the powder processing apparatus. And a nozzle device that is attached to the processing container and sprays a liquid flow onto the filter in a state immersed in the cleaning liquid and cleans the filter while rotating the filter in the cleaning liquid. To do.

本発明にあっては、洗浄液を貯留した処理容器内にフィルタを浸漬し、処理容器に取り付けたノズル装置から噴射される液流によって、フィルタを回転させつつ洗浄処理を実施する。当該フィルタ洗浄装置では、洗浄処理に際し、フィルタが回転すると、その回転に伴う遠心力によって、フィルタの奥に溜まった微粉が洗浄液と共にフィルタ外へと排出され、効率の良い洗浄処理が実施される。   In the present invention, the filter is immersed in the processing container in which the cleaning liquid is stored, and the cleaning process is performed while rotating the filter by the liquid flow ejected from the nozzle device attached to the processing container. In the filter cleaning apparatus, when the filter rotates during the cleaning process, the fine powder accumulated in the back of the filter is discharged out of the filter together with the cleaning liquid by the centrifugal force accompanying the rotation, and an efficient cleaning process is performed.

前記フィルタ洗浄装置において、前記処理容器に、前記洗浄液中に浸漬された状態の前記フィルタに対し超音波振動を付与し、前記フィルタを前記洗浄液中にて洗浄する超音波洗浄装置をさらに設けても良い。これにより、ノズル装置によりフィルタが回転すると共に、超音波洗浄装置から発せられる高周波の超音波により洗浄液が振動する。従って、回転洗浄に加えて、キャビテーションや洗浄液の微小振動等により洗浄液内のフィルタが洗浄される。   The filter cleaning apparatus may further include an ultrasonic cleaning apparatus that applies ultrasonic vibration to the filter immersed in the cleaning liquid and cleans the filter in the cleaning liquid. good. Accordingly, the filter is rotated by the nozzle device, and the cleaning liquid is vibrated by the high frequency ultrasonic waves emitted from the ultrasonic cleaning device. Therefore, in addition to rotational cleaning, the filter in the cleaning liquid is cleaned by cavitation, minute vibration of the cleaning liquid, or the like.

また、前記処理容器に、前記フィルタ内に挿通され前記フィルタに固定されるリテーナと、前記リテーナと回転ジョイントを介して接続され、前記リテーナが回転自在に取り付けられると共に、前記フィルタを前記処理容器内に回転自在に吊設するリテーナと、前記リテーナに取り付けられて前記フィルタの内側に配置され、前記フィルタの内周面に接触するローラを備える支持ローラユニットとを設けても良い。これにより、支持ローラユニットによってフィルタが内周側から支持され、フィルタの回転動作が安定する。   A retainer inserted into the filter and fixed to the filter is connected to the processing container; the retainer is connected to the retainer via a rotary joint; the retainer is rotatably attached; and the filter is attached to the processing container. And a support roller unit including a roller attached to the retainer and disposed on the inner side of the filter and in contact with an inner peripheral surface of the filter. Accordingly, the filter is supported from the inner peripheral side by the support roller unit, and the rotation operation of the filter is stabilized.

さらに、前記処理容器に、前記処理容器の底部に設けられた支柱と、前記支柱に回転自在に装着され、前記フィルタが外挿されるフィルタガイドと、前記フィルタガイドの外周部に設けられ、前記フィルタ外挿時に前記フィルタの内周面に当接するガイド片とを設けても良い。これにより、フィルタガイドとガイド片によってフィルタが内周側から支持され、フィルタの回転動作が安定する。   Furthermore, a support column provided at the bottom of the processing container, a filter guide rotatably mounted on the support column and inserted with the filter, and an outer peripheral part of the filter guide. You may provide the guide piece contact | abutted to the internal peripheral surface of the said filter at the time of extrapolation. Thereby, the filter is supported from the inner peripheral side by the filter guide and the guide piece, and the rotation operation of the filter is stabilized.

一方、前記フィルタを前記処理容器内に略水平な回転軸線を中心に回転自在に配置すると共に、前記ノズル装置を前記フィルタの下方に配置し、前記フィルタを、前記ノズル装置から噴射される気泡流又は気泡を含む液体の噴出圧と上昇圧によって回転させるようにしても良い。これにより、気泡の上昇圧を利用しつつ、フィルタに横方向から回転圧力を加えることができ、フィルタをより良好に回転させることが可能となる。この場合、前記フィルタ洗浄装置に、前記処理容器内に設置され、前記フィルタの中心に取り付けられた回転軸を回転自在に支持するフィルタ支持部材と、前記処理容器の底部に配置され、前記フィルタの下方から前記フィルタに対して気泡流を噴射するノズル装置とを設けても良い。
On the other hand, the filter is disposed in the processing container so as to be rotatable about a substantially horizontal rotation axis, the nozzle device is disposed below the filter, and the filter is operated by a bubble flow ejected from the nozzle device. Or you may make it rotate by the jetting pressure and rising pressure of the liquid containing a bubble . Thereby, rotational pressure can be applied to the filter from the lateral direction while using the upward pressure increase of the bubbles, and the filter can be rotated more satisfactorily. In this case, the filter cleaning device is disposed in the processing container and is disposed at the bottom of the processing container, and a filter support member that rotatably supports a rotating shaft attached to the center of the filter. You may provide the nozzle apparatus which injects a bubble flow with respect to the said filter from the downward direction.

本発明のフィルタ洗浄方法は、粉粒体処理装置にて使用されるフィルタを、洗浄液を貯留した処理容器内に収容して洗浄するフィルタ洗浄方法であって、前記フィルタを前記処理容器内に回転自在に設置し、前記処理容器内に設置されたノズル装置から、前記フィルタに対し接線方向に沿って気泡流又は気泡を含む液体を噴射し、該気泡流又は気泡を含む液体によって前記フィルタを回転させつつ前記フィルタの洗浄を行うことを特徴とするフィルタ洗浄方法。   The filter cleaning method of the present invention is a filter cleaning method for cleaning a filter used in a powder processing apparatus by storing the filter in a processing container storing a cleaning liquid, and rotating the filter into the processing container. The nozzle device installed in the processing vessel is jetted, a bubble flow or a liquid containing bubbles is ejected along the tangential direction to the filter, and the filter is rotated by the bubble flow or the liquid containing bubbles. A filter cleaning method, wherein the filter is cleaned while the filter is cleaned.

本発明にあっては、洗浄液を貯留した処理容器内にフィルタを浸漬し、処理容器に取り付けたノズル装置から噴射される気泡流又は気泡を含む液体によって、フィルタを回転させつつ洗浄処理を実施する。当該フィルタ洗浄装置では、洗浄処理の際、フィルタが回転すると、その回転に伴う遠心力によって、フィルタの奥に溜まった微粉が洗浄液と共にフィルタ外へと排出され、効率の良い洗浄処理が実施される。   In the present invention, the filter is immersed in the processing container storing the cleaning liquid, and the cleaning process is performed while rotating the filter with the bubble flow or the liquid containing bubbles ejected from the nozzle device attached to the processing container. . In the filter cleaning apparatus, when the filter rotates during the cleaning process, the fine powder accumulated in the back of the filter is discharged out of the filter together with the cleaning liquid by the centrifugal force accompanying the rotation, and an efficient cleaning process is performed. .

本発明の他のフィルタ洗浄方法は、粉粒体処理装置にて使用されるフィルタを、洗浄液を貯留した処理容器内に収容して洗浄するフィルタ洗浄方法であって、前記フィルタを前記処理容器内に回転自在に設置し、前記処理容器内に設置されたノズル装置から、前記フィルタに対し接線方向に沿って洗浄液を噴射し、該洗浄液によって前記フィルタを回転させつつ前記フィルタの洗浄を行うことを特徴とする。   Another filter cleaning method of the present invention is a filter cleaning method for storing and cleaning a filter used in a granular material processing apparatus in a processing container storing a cleaning liquid, wherein the filter is stored in the processing container. A cleaning liquid is sprayed along a tangential direction to the filter from a nozzle device installed in the processing vessel, and the filter is cleaned while rotating the filter with the cleaning liquid. Features.

本発明にあっては、洗浄液を貯留した処理容器内にフィルタを浸漬し、処理容器に取り付けたノズル装置から噴射される液流によって、フィルタを回転させつつ洗浄処理を実施する。当該フィルタ洗浄装置では、洗浄処理の際、フィルタが回転すると、その回転に伴う遠心力によって、フィルタの奥に溜まった微粉が洗浄液と共にフィルタ外へと排出され、効率の良い洗浄処理が実施される。   In the present invention, the filter is immersed in the processing container in which the cleaning liquid is stored, and the cleaning process is performed while rotating the filter by the liquid flow ejected from the nozzle device attached to the processing container. In the filter cleaning apparatus, when the filter rotates during the cleaning process, the fine powder accumulated in the back of the filter is discharged out of the filter together with the cleaning liquid by the centrifugal force accompanying the rotation, and an efficient cleaning process is performed. .

また、前記洗浄液中に浸漬された状態の前記フィルタに対し超音波振動を付与し、前記超音波によって前記フィルタを洗浄するようにしても良い。これにより、ノズル装置からの気泡流等によりフィルタが回転すると共に、超音波洗浄装置から発せられる高周波の超音波により洗浄液が振動する。従って、回転洗浄に加えて、キャビテーションや洗浄液の微小振動等により洗浄液内のフィルタが洗浄される。   In addition, ultrasonic vibration may be applied to the filter immersed in the cleaning liquid, and the filter may be cleaned with the ultrasonic waves. Accordingly, the filter rotates due to the bubble flow from the nozzle device, and the cleaning liquid vibrates due to the high frequency ultrasonic waves emitted from the ultrasonic cleaning device. Therefore, in addition to rotational cleaning, the filter in the cleaning liquid is cleaned by cavitation, minute vibration of the cleaning liquid, or the like.

さらに、前記フィルタを略水平な回転軸線を中心に回転自在に配置し、前記処理容器内の前記フィルタの下方に設置されたノズル装置から、前記気泡流又は気泡を含む液体を噴射し、該気泡流又は気泡を含む液体の噴出圧と上昇圧によって前記フィルタを回転させつつ前記フィルタの洗浄を行うようにしても良い。これにより、気泡の上昇圧を利用しつつ、フィルタに横方向から回転圧力を加えることができ、フィルタをより良好に回転させることが可能となる。 Further, the filter is disposed so as to be rotatable about a substantially horizontal rotation axis , and the bubble flow or a liquid containing bubbles is ejected from a nozzle device installed below the filter in the processing container, and the bubbles The filter may be cleaned while the filter is rotated by a jet pressure and a rising pressure of a liquid containing a flow or bubbles . Thereby, rotational pressure can be applied to the filter from the lateral direction while using the upward pressure increase of the bubbles, and the filter can be rotated more satisfactorily.

本発明のフィルタ洗浄装置によれば、洗浄液を貯留した処理容器内にフィルタを浸漬し、処理容器に取り付けたノズル装置から噴射される気泡流又は気泡を含む液体によって、フィルタを回転させつつ洗浄処理を実施するので、フィルタの奥に溜まった微粉を洗浄液と共にフィルタ外へと排出することができ、効率の良い洗浄処理を行うことが可能となる。   According to the filter cleaning apparatus of the present invention, the filter is immersed in the processing container storing the cleaning liquid, and the cleaning process is performed while rotating the filter with the bubble flow or the liquid containing bubbles ejected from the nozzle device attached to the processing container. Therefore, the fine powder collected in the back of the filter can be discharged together with the cleaning liquid to the outside of the filter, and an efficient cleaning process can be performed.

また、本発明の他のフィルタ洗浄装置によれば、洗浄液を貯留した処理容器内にフィルタを浸漬し、処理容器に取り付けたノズル装置から噴射される液流によって、フィルタを回転させつつ洗浄処理を実施するので、フィルタの奥に溜まった微粉を洗浄液と共にフィルタ外へと排出することができ、効率の良い洗浄処理を行うことが可能となる。   Further, according to another filter cleaning apparatus of the present invention, the filter is immersed in a processing container in which the cleaning liquid is stored, and the cleaning process is performed while rotating the filter by the liquid flow ejected from the nozzle device attached to the processing container. Since it implements, the fine powder collected in the back of the filter can be discharged | emitted out of a filter with a washing | cleaning liquid, and it becomes possible to perform an efficient washing process.

さらに、本発明のフィルタ洗浄装置によれば、フィルタに対し超音波振動を付与する超音波洗浄装置をさらに設けることにより、ノズル装置によるフィルタの回転洗浄と共に、超音波洗浄装置から発せられる高周波の超音波による洗浄が可能となる。従って、回転洗浄に加えて、キャビテーションや洗浄液の微小振動等により洗浄液内のフィルタを洗浄することができ、洗浄効率をより高めることが可能となる。   Furthermore, according to the filter cleaning device of the present invention, by further providing an ultrasonic cleaning device that applies ultrasonic vibrations to the filter, a high-frequency supersonic wave emitted from the ultrasonic cleaning device can be obtained along with the rotational cleaning of the filter by the nozzle device. Cleaning with sonic waves becomes possible. Therefore, in addition to rotational cleaning, the filter in the cleaning liquid can be cleaned by cavitation, minute vibration of the cleaning liquid, etc., and the cleaning efficiency can be further increased.

加えて、本発明のフィルタ洗浄装置によれば、フィルタを略水平な回転軸線を中心に回転自在に配置すると共に、ノズル装置をフィルタの下方に配置することにより、気泡の上昇圧を利用しつつ、フィルタに横方向から回転圧力を加えることができる。このため、フィルタをより良好に回転させることができ、洗浄効率の向上を図ることが可能となる。   In addition, according to the filter cleaning device of the present invention, the filter is disposed so as to be rotatable about a substantially horizontal rotation axis, and the nozzle device is disposed below the filter, thereby utilizing the upward pressure increase of the bubbles. Rotational pressure can be applied to the filter from the lateral direction. For this reason, the filter can be rotated more favorably, and the cleaning efficiency can be improved.

本発明のフィルタ洗浄方法によれば、洗浄液を貯留した処理容器内にフィルタを浸漬し、処理容器に取り付けたノズル装置から噴射される気泡流又は気泡を含む液体によって、フィルタを回転させつつ洗浄処理を実施するので、フィルタの奥に溜まった微粉を洗浄液と共にフィルタ外へと排出することができ、効率の良い洗浄処理を行うことが可能となる。   According to the filter cleaning method of the present invention, the filter is immersed in the processing container storing the cleaning liquid, and the cleaning process is performed while the filter is rotated by the bubble flow or the liquid containing bubbles ejected from the nozzle device attached to the processing container. Therefore, the fine powder collected in the back of the filter can be discharged together with the cleaning liquid to the outside of the filter, and an efficient cleaning process can be performed.

また、本発明の他のフィルタ洗浄方法によれば、洗浄液を貯留した処理容器内にフィルタを浸漬し、処理容器に取り付けたノズル装置から噴射される液流によって、フィルタを回転させつつ洗浄処理を実施するので、フィルタの奥に溜まった微粉を洗浄液と共にフィルタ外へと排出することができ、効率の良い洗浄処理を行うことが可能となる。   Further, according to another filter cleaning method of the present invention, the filter is immersed in a processing container storing a cleaning liquid, and the cleaning process is performed while rotating the filter by a liquid flow ejected from a nozzle device attached to the processing container. Since it implements, the fine powder collected in the back of the filter can be discharged | emitted out of a filter with a washing | cleaning liquid, and it becomes possible to perform an efficient washing process.

さらに、本発明のフィルタ洗浄方法によれば、洗浄液中に浸漬された状態のフィルタに対しさらに超音波振動を付与し、この超音波によってフィルタを洗浄するので、ノズル装置によるフィルタの回転洗浄と共に、超音波洗浄装置から発せられる高周波の超音波による洗浄が可能となる。従って、回転洗浄に加えて、キャビテーションや洗浄液の微小振動等により洗浄液内のフィルタを洗浄することができ、洗浄効率をより高めることが可能となる。   Furthermore, according to the filter cleaning method of the present invention, since the ultrasonic vibration is further applied to the filter immersed in the cleaning liquid and the filter is cleaned by this ultrasonic wave, along with the rotational cleaning of the filter by the nozzle device, Cleaning with high-frequency ultrasonic waves emitted from the ultrasonic cleaning apparatus is possible. Therefore, in addition to rotational cleaning, the filter in the cleaning liquid can be cleaned by cavitation, minute vibration of the cleaning liquid, etc., and the cleaning efficiency can be further increased.

加えて、本発明のフィルタ洗浄方法によれば、フィルタを略水平な回転軸線を中心に回転自在に配置し、フィルタの下方からノズル装置によって気泡流を噴射するので、気泡の上昇圧を利用しつつ、フィルタへ回転圧力を加えることができる。このため、フィルタをより良好に回転させることができ、洗浄効率の向上を図ることが可能となる。   In addition, according to the filter cleaning method of the present invention, the filter is disposed so as to be rotatable about a substantially horizontal rotation axis, and the bubble flow is ejected from below the filter by the nozzle device. Meanwhile, rotational pressure can be applied to the filter. For this reason, the filter can be rotated more favorably, and the cleaning efficiency can be improved.

以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施例1であるフィルタ洗浄装置の構成を示す説明図、図2は、図1のフィルタ洗浄装置を右方向から見た状態を示す説明図、図3は、同じく上方向から見た状態を示す説明図である。図1のフィルタ洗浄装置1は、流動層造粒コーティング装置等の粉粒体処理装置にて使用されるカートリッジフィルタの洗浄装置であり、粉粒体処理装置とは別体に形成されている。また、フィルタ洗浄装置1は、カートリッジフィルタ専用の洗浄装置となっており、粉粒体処理装置から取り外されたカートリッジフィルタは、フィルタ洗浄装置1内にて洗浄される。   FIG. 1 is an explanatory view showing a configuration of a filter cleaning apparatus that is Embodiment 1 of the present invention, FIG. 2 is an explanatory view showing a state of the filter cleaning apparatus of FIG. 1 viewed from the right direction, and FIG. It is explanatory drawing which shows the state seen from the direction. The filter cleaning apparatus 1 in FIG. 1 is a cartridge filter cleaning apparatus used in a powder processing apparatus such as a fluidized bed granulation coating apparatus, and is formed separately from the powder processing apparatus. The filter cleaning device 1 is a cleaning device dedicated to the cartridge filter, and the cartridge filter removed from the particle processing device is cleaned in the filter cleaning device 1.

図1〜3に示すように、フィルタ洗浄装置1は、断面が略小判形となった箱状の処理容器2を備えている。処理容器2には洗浄液10が満たされており、当該フィルタ洗浄装置1では、カートリッジフィルタ3(以下、フィルタ3と略記する)を洗浄液10中に浸漬し、バブリングジェット等によって回転させながら洗浄処理を行う。処理容器2はアクリル樹脂にて透明に形成されており、内部の様子、つまり、フィルタ洗浄状態が装置外から観察できるようになっている。処理容器2の上部には上蓋4、下部には底板5がそれぞれ取り付けられており、上蓋4や底板5はステンレス等の金属にて形成されている。上蓋4は処理容器2に対して着脱可能となっており、上蓋4の処理容器2側にはフィルタ3が取り付けられる。底板5の下面側にはキャスタ6が取り付けられており、フィルタ洗浄装置1は適宜移動可能となっている。   As shown in FIGS. 1-3, the filter washing | cleaning apparatus 1 is provided with the box-shaped processing container 2 by which the cross section became a substantially oval shape. The processing container 2 is filled with the cleaning liquid 10. In the filter cleaning apparatus 1, the cartridge filter 3 (hereinafter abbreviated as “filter 3”) is immersed in the cleaning liquid 10, and the cleaning process is performed while being rotated by a bubbling jet or the like. Do. The processing container 2 is formed of acrylic resin so as to be transparent, and the inside state, that is, the filter cleaning state can be observed from outside the apparatus. An upper lid 4 is attached to the upper portion of the processing container 2 and a bottom plate 5 is attached to the lower portion thereof. The upper lid 4 and the bottom plate 5 are made of metal such as stainless steel. The upper lid 4 can be attached to and detached from the processing container 2, and a filter 3 is attached to the processing container 2 side of the upper lid 4. A caster 6 is attached to the lower surface side of the bottom plate 5, and the filter cleaning device 1 can be moved as appropriate.

上蓋4には、フィルタ3が回転自在に取り付けられている。フィルタ3は、ポリエステル製の不織布からなる濾布を円筒形状に成形した濾材によって構成される。フィルタ3の外周には、濾布を襞状に曲折して形成したプリーツ部3a(図5参照)が設けられている。フィルタ3の長手方向の寸法は、小型の装置では130〜550mm、大型の装置では220〜1200mm程度、フィルタ3の外径は、小型の装置では75〜120mm、大型の装置では200〜325mm程度に形成される。プリーツ部3aは小型の装置では13〜25mm、大型の装置では45〜55mm程度に形成される。   A filter 3 is rotatably attached to the upper lid 4. The filter 3 is constituted by a filter medium obtained by forming a filter cloth made of a polyester nonwoven fabric into a cylindrical shape. On the outer periphery of the filter 3, a pleat portion 3a (see FIG. 5) formed by bending a filter cloth into a bowl shape is provided. The longitudinal dimension of the filter 3 is 130 to 550 mm for a small device, about 220 to 1200 mm for a large device, and the outer diameter of the filter 3 is about 75 to 120 mm for a small device and about 200 to 325 mm for a large device. It is formed. The pleat portion 3a is formed to have a size of 13 to 25 mm in a small device and about 45 to 55 mm in a large device.

図1に示すように、上蓋4の下方には、フィルタ3を支持するためのリテーナ7が設けられている。リテーナ7は棒状に形成されており、その上端部には回転ジョイント8が取り付けられている。リテーナ7は、洗浄液10の液面Sよりも上方に配された回転ジョイント8を介して上蓋4に対し回転自在となっている。リテーナ7の下端部にはフィルタ固定ノブ11が取り付けられており、フィルタ固定ノブ11を締め付けることにより、フィルタ3はリテーナ7に固定される。このように、フィルタ3は、リテーナ7、回転ジョイント8及びフィルタ固定ノブ11によって、上蓋4下方に回転自在な状態で吊設される。   As shown in FIG. 1, a retainer 7 for supporting the filter 3 is provided below the upper lid 4. The retainer 7 is formed in a rod shape, and a rotary joint 8 is attached to an upper end portion thereof. The retainer 7 is rotatable with respect to the upper lid 4 via a rotary joint 8 disposed above the liquid level S of the cleaning liquid 10. A filter fixing knob 11 is attached to the lower end portion of the retainer 7, and the filter 3 is fixed to the retainer 7 by tightening the filter fixing knob 11. In this way, the filter 3 is suspended in a freely rotatable state below the upper lid 4 by the retainer 7, the rotary joint 8 and the filter fixing knob 11.

リテーナ7にはまた、フィルタ3を内側から回転自在に支持するための支持ローラユニット12が設けられている。図4は、支持ローラユニット12の構成を示す説明図である。図4に示すように、支持ローラユニット12は、筒状に形成された金属製のリテーナ装着部13を備えており、リテーナ7に外挿可能に形成されている。リテーナ装着部13の外周には、回転自在に支持されたローラ14が3個等分に配置されている。リテーナ装着部13にはまた、ボルト孔15が3個等分に形成されている。ボルト孔15は、径方向に沿ってリテーナ装着部13を貫通する形で設けられており、その内面にはネジが切られている。支持ローラユニット12は、このボルト孔15にボルト16をねじ込むことによって、リテーナ7の外周部に固定される。   The retainer 7 is also provided with a support roller unit 12 for rotatably supporting the filter 3 from the inside. FIG. 4 is an explanatory diagram showing the configuration of the support roller unit 12. As shown in FIG. 4, the support roller unit 12 includes a metal retainer mounting portion 13 formed in a cylindrical shape, and is formed so as to be able to be externally inserted into the retainer 7. On the outer periphery of the retainer mounting portion 13, three rollers 14 that are rotatably supported are equally divided. The retainer mounting portion 13 is also formed with three equal bolt holes 15. The bolt hole 15 is provided so as to penetrate the retainer mounting portion 13 along the radial direction, and a screw is cut on the inner surface thereof. The support roller unit 12 is fixed to the outer peripheral portion of the retainer 7 by screwing a bolt 16 into the bolt hole 15.

このような支持ローラユニット12をリテーナ7に取り付けると、三方に配置されたローラ23がフィルタ3の内周面3bに接触する。つまり、フィルタ3は、支持ローラユニット12によって内周側から支持される形となる。このため、回転時におけるフィルタ3のブレが少なくなり、スムーズで安定的な回転動作が可能となる。なお、支持ローラユニット12を、図1に実線にて示した位置の他、破線にて示した位置にもさらに配置し、フィルタ回転の更なる安定化を図っても良い。   When such a support roller unit 12 is attached to the retainer 7, the rollers 23 arranged in three directions come into contact with the inner peripheral surface 3 b of the filter 3. That is, the filter 3 is supported from the inner peripheral side by the support roller unit 12. For this reason, blurring of the filter 3 during rotation is reduced, and a smooth and stable rotation operation is possible. In addition to the position indicated by the solid line in FIG. 1, the support roller unit 12 may be further arranged at the position indicated by the broken line to further stabilize the filter rotation.

一方、リテーナ7の上方には、支持アーム31を介して、エアシリンダ32が接続されている。エアシリンダ32は、上蓋4の側方にブラケット33によって固定されている。このエアシリンダ32により、リテーナ7は上下方向に移動可能となっている。すなわち、フィルタ3は、処理容器2内にて上下方向に移動可能に取り付けられる。なお、エアシリンダ32は必ずしも設ける必要はなく、これを省き、装置構成を簡素化して製品コストの削減を図っても良い。   On the other hand, an air cylinder 32 is connected above the retainer 7 via a support arm 31. The air cylinder 32 is fixed to the side of the upper lid 4 by a bracket 33. The retainer 7 can be moved in the vertical direction by the air cylinder 32. That is, the filter 3 is attached so as to be movable in the vertical direction within the processing container 2. Note that the air cylinder 32 is not necessarily provided, and may be omitted to simplify the apparatus configuration and reduce the product cost.

上蓋4の中央にはさらに、バブリング洗浄ユニット35が上下方向に移動可能に取り付けられている。バブリング洗浄ユニット35は、バブリングジェットノズル(ノズル装置)36と、給液管37、吸気管38とから構成されている。給液管37は、ポンプ39を介して洗浄液タンク41と接続されており、洗浄液タンク41内の洗浄液10はポンプ39によって給液管37に加圧供給される。また、吸気管38は、上端部が大気中に開放されており、バブリングジェットノズル36は吸気管38を介して大気と連通している。給液管37と吸気管38は、固定ネジ40によって、上下方向に任意の位置で固定できるようになっている。これに対し、底板5には、排水管42が取り付けられている。排水管42は、バルブ43を介して洗浄液タンク41と接続されており、バブリングジェットノズル36によって処理容器2内に供給された洗浄液10は、排水管42から排出されて洗浄液タンク41に戻り、循環使用される。   Further, a bubbling cleaning unit 35 is attached to the center of the upper lid 4 so as to be movable in the vertical direction. The bubbling cleaning unit 35 includes a bubbling jet nozzle (nozzle device) 36, a liquid supply pipe 37, and an intake pipe 38. The liquid supply pipe 37 is connected to the cleaning liquid tank 41 via a pump 39, and the cleaning liquid 10 in the cleaning liquid tank 41 is pressurized and supplied to the liquid supply pipe 37 by the pump 39. The upper end of the intake pipe 38 is open to the atmosphere, and the bubbling jet nozzle 36 communicates with the atmosphere via the intake pipe 38. The liquid supply pipe 37 and the intake pipe 38 can be fixed at an arbitrary position in the vertical direction by a fixing screw 40. On the other hand, a drain pipe 42 is attached to the bottom plate 5. The drain pipe 42 is connected to the cleaning liquid tank 41 via the valve 43, and the cleaning liquid 10 supplied into the processing container 2 by the bubbling jet nozzle 36 is discharged from the drain pipe 42 and returns to the cleaning liquid tank 41 for circulation. used.

なお、造粒コーティング処理後のフィルタ3には粉体が多く付着しているため、洗浄処理の初期段階では、洗浄液10の廃液を循環させずに廃棄処分とし、洗浄液タンク41からクリーンな洗浄液10を掛け流し状態で供給しても良く、これにより、フィルタ3を効率良く洗浄することが可能となる。そして、フィルタ3の付着物がある程度除去された段階で、図1の液循環システムにて洗浄液10を循環使用する。このように、洗浄段階に応じて洗浄液10の供給形態を適宜変更することにより、洗浄効率の向上を図りつつ、洗浄液の使用量を抑えることが可能となる。また、洗浄液10を循環使用する際には、図1のように、洗浄液タンク41を経由して洗浄液10を循環させる形態のみならず、処理容器2自体を液タンクと捉えて、バルブ43から直接ポンプ39に洗浄液10を送って洗浄液を循環させても良い。   Since a large amount of powder adheres to the filter 3 after the granulation coating process, in the initial stage of the cleaning process, the waste liquid of the cleaning liquid 10 is discarded without being circulated, and the cleaning liquid 10 is cleaned from the cleaning liquid tank 41. May be supplied in a flowing state, whereby the filter 3 can be efficiently cleaned. Then, at the stage where the deposits on the filter 3 are removed to some extent, the cleaning liquid 10 is circulated and used in the liquid circulation system of FIG. As described above, by appropriately changing the supply form of the cleaning liquid 10 according to the cleaning stage, it is possible to reduce the amount of the cleaning liquid used while improving the cleaning efficiency. When the cleaning liquid 10 is circulated and used, as shown in FIG. 1, not only the cleaning liquid 10 is circulated via the cleaning liquid tank 41, but also the processing container 2 itself is regarded as a liquid tank and directly from the valve 43. The cleaning liquid 10 may be sent to the pump 39 to circulate the cleaning liquid.

バブリングジェットノズル36には、給液管37から洗浄液10が加圧供給される。バブリングジェットノズル36では、この液流によって吸気管38から外気を吸い込み、洗浄液10に外気を混入させて気泡流を形成し、処理容器2内の洗浄液10中にジェット噴射する。図5は、バブリングジェットノズル36によるジェット噴射の様子を示す説明図である。図5に示すように、処理容器2内のフィルタ3には、略接線方向からジェット噴流44が吹き付けられる。ジェット噴流44は、回転自在に配置されたフィルタ3のプリーツ部3aに当たり、このジェット噴流44によってフィルタ3は矢印方向に回転する。当該フィルタ洗浄装置1では、バブリングジェットノズル36が、フィルタ3が同方向に回転するように配置されており、処理容器2内には破線矢印のような液流が生じる。   The cleaning liquid 10 is pressurized and supplied from a liquid supply pipe 37 to the bubbling jet nozzle 36. The bubbling jet nozzle 36 sucks outside air from the intake pipe 38 by this liquid flow, mixes the outside air into the cleaning liquid 10 to form a bubble flow, and jets it into the cleaning liquid 10 in the processing container 2. FIG. 5 is an explanatory view showing a state of jet injection by the bubbling jet nozzle 36. As shown in FIG. 5, a jet jet 44 is blown to the filter 3 in the processing container 2 from a substantially tangential direction. The jet jet 44 hits the pleat portion 3a of the filter 3 that is rotatably arranged, and the filter 3 is rotated in the direction of the arrow by the jet jet 44. In the filter cleaning apparatus 1, the bubbling jet nozzle 36 is arranged so that the filter 3 rotates in the same direction, and a liquid flow as indicated by a broken-line arrow is generated in the processing container 2.

このようなフィルタ洗浄装置1では、次のようにしてフィルタ3の洗浄処理を行う。まず、流動層造粒装置等から微粉が付着したフィルタ3を取り外し、フィルタ洗浄装置1に装着する。すなわち、リテーナ7の外側にフィルタ3を取り付け、フィルタ固定ノブ11を締め付けてフィルタ3を上蓋4に固定する。その後、洗浄液10が貯留された処理容器2内にフィルタ3を浸漬しつつ、上蓋4を処理容器2上部に取り付ける。このようにしてフィルタ洗浄装置1内にフィルタ3を収容した後、ポンプ39を作動させ、バブリングジェットノズル36から、例えば10L/min程度の吐出量にてジェット噴流44を噴射する。   In such a filter cleaning apparatus 1, the filter 3 is cleaned as follows. First, the filter 3 to which fine powder has adhered is removed from the fluidized bed granulator or the like and attached to the filter cleaning device 1. That is, the filter 3 is attached to the outside of the retainer 7, and the filter fixing knob 11 is tightened to fix the filter 3 to the upper lid 4. Thereafter, the upper lid 4 is attached to the upper portion of the processing container 2 while the filter 3 is immersed in the processing container 2 in which the cleaning liquid 10 is stored. After the filter 3 is accommodated in the filter cleaning device 1 in this way, the pump 39 is operated, and a jet jet 44 is ejected from the bubbling jet nozzle 36 at a discharge rate of, for example, about 10 L / min.

前述のように、プリーツ状に形成されたフィルタ3では、プリーツ部3aの奥は逆洗気流が通りにくく、そこに微粉が付着していると十分に払い落とせないおそれがある。そこで、当該フィルタ洗浄装置1では、バブリングジェットノズル36から洗浄液10をフィルタ3に対し噴射し、プリーツ部3aの奥に付着した微粉を洗い落とす。この際、フィルタ3には、図5に示すように接線方向からジェット噴流44が噴射され、フィルタ3は、回転ジョイント8に軸支されつつ、ジェット噴流44によって、リテーナ7を中心として水車のように回転する。フィルタ3が回転すると、その回転に伴う遠心力によって、プリーツ部3aの奥に溜まった微粉が洗浄液10と共に外周側へと送られる。すなわち、プリーツ部3aに噴射された洗浄液10は、プリーツ奥部に至ると共に、遠心力によって微粉と共にフィルタ3から排出される。   As described above, in the filter 3 formed in a pleated shape, the backwash airflow is difficult to pass through the back of the pleated portion 3a, and if fine powder adheres to the pleated portion 3a, there is a possibility that it cannot be sufficiently removed. Therefore, in the filter cleaning apparatus 1, the cleaning liquid 10 is sprayed from the bubbling jet nozzle 36 onto the filter 3, and the fine powder adhering to the back of the pleat portion 3 a is washed away. At this time, a jet jet 44 is injected from the tangential direction to the filter 3 as shown in FIG. 5, and the filter 3 is pivotally supported by the rotary joint 8 and is like a water wheel around the retainer 7 by the jet jet 44. Rotate to. When the filter 3 rotates, the fine powder accumulated in the back of the pleat portion 3a is sent to the outer peripheral side together with the cleaning liquid 10 by the centrifugal force accompanying the rotation. That is, the cleaning liquid 10 sprayed to the pleat part 3a reaches the back part of the pleat and is discharged from the filter 3 together with the fine powder by centrifugal force.

フィルタ洗浄装置1では、ジェット噴流44を噴射すると共に、エアシリンダ32によってフィルタ3を上下動させる。これにより、フィルタ3と洗浄液10が上下方向に擦れ合う形となり、洗浄効果がさらに向上する。また、図1のようにバブリングジェットノズル36を配し、フィルタ3の下部を洗浄した後、バブリング洗浄ユニット35を上方に移動させ、フィルタ3を下から上へ順に洗浄する。この際、バブリング洗浄ユニット35は、透明な処理容器2の外からフィルタ3の洗浄状態を確認しつつ、適宜手動にて引き上げ、適当な位置で固定ネジ40にて固定する。なお、バブリング洗浄ユニット35にエアシリンダ等の駆動手段を接続し、上下移動を機械駆動としても良い。   In the filter cleaning device 1, the jet 3 is ejected and the filter 3 is moved up and down by the air cylinder 32. As a result, the filter 3 and the cleaning liquid 10 rub against each other in the vertical direction, and the cleaning effect is further improved. Further, as shown in FIG. 1, the bubbling jet nozzle 36 is disposed and the lower portion of the filter 3 is washed, and then the bubbling washing unit 35 is moved upward to wash the filter 3 in order from the bottom to the top. At this time, the bubbling cleaning unit 35 manually lifts the filter 3 from the outside of the transparent processing container 2 while checking the cleaning state of the filter 3 and fixes it with a fixing screw 40 at an appropriate position. Note that driving means such as an air cylinder may be connected to the bubbling cleaning unit 35 so that the vertical movement is mechanically driven.

このように、フィルタ洗浄装置1では、フィルタ3に対し接線方向から洗浄液10を噴射し、バブリングジェットノズル36によってフィルタ3を回転させつつ洗浄を行うので、逆洗のみでは洗浄しきれなかったプリーツ奥部の微粉も、遠心力を利用した回転洗浄処理によって十分に洗浄できる。また、フィルタ洗浄装置1は、フィルタ3を回転させるための複雑な駆動装置を有しておらず、安価な装置構成にて、フィルタ3の精密洗浄処理を行うことができる。さらに、フィルタ洗浄装置1をカートリッジフィルタの専用装置とすることにより、装置構成も簡略化でき、製品価格も抑えられる。   In this way, in the filter cleaning device 1, the cleaning liquid 10 is sprayed from the tangential direction to the filter 3 and cleaning is performed while rotating the filter 3 by the bubbling jet nozzle 36. Therefore, the back of the pleat that cannot be cleaned only by backwashing. Part of the fine powder can also be sufficiently cleaned by the rotational cleaning process using centrifugal force. In addition, the filter cleaning device 1 does not have a complicated drive device for rotating the filter 3, and the filter 3 can be precisely cleaned with an inexpensive device configuration. Furthermore, by using the filter cleaning device 1 as a dedicated device for the cartridge filter, the device configuration can be simplified and the product price can be reduced.

なお、図1のフィルタ洗浄装置1では、バブリングジェットノズル36を装置中央に設けた構成を示したが、図6に示すように、バブリングジェットノズル36を処理容器2の壁面2aに配置しても良い。また、バブリングジェットノズル36に代えて、洗浄液10が加圧噴射される液流発生ノズル(ノズル装置)45を使用しても良く、この場合も、図7に示すように、液流発生ノズル45を処理容器壁面2aに配置しても良い。   In the filter cleaning apparatus 1 shown in FIG. 1, the configuration in which the bubbling jet nozzle 36 is provided in the center of the apparatus is shown. However, as shown in FIG. 6, the bubbling jet nozzle 36 may be arranged on the wall surface 2 a of the processing container 2. good. Further, instead of the bubbling jet nozzle 36, a liquid flow generation nozzle (nozzle device) 45 through which the cleaning liquid 10 is injected under pressure may be used. Also in this case, as shown in FIG. May be disposed on the processing vessel wall surface 2a.

次に、本発明の実施例2として、超音波洗浄を併用したフィルタ洗浄装置について説明する。実施例1では、フィルタ洗浄装置1に、バブリングジェットノズル36あるいは液流発生ノズル45を使用した例を示したが、より洗浄効果を高めるため、さらに、超音波洗浄器を用いても良い。図8は、本発明の実施例2であるフィルタ洗浄装置50の構成を示す説明図である。なお、以下の実施例では、実施例1と同様の部材、部分については同一の符号を付し、その説明は省略する。   Next, as Example 2 of the present invention, a filter cleaning apparatus using ultrasonic cleaning together will be described. In the first embodiment, an example in which the bubbling jet nozzle 36 or the liquid flow generation nozzle 45 is used in the filter cleaning device 1 has been described. However, in order to further improve the cleaning effect, an ultrasonic cleaner may be further used. FIG. 8 is an explanatory diagram showing a configuration of a filter cleaning device 50 that is Embodiment 2 of the present invention. In the following embodiments, the same members and portions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図8に示すように、フィルタ洗浄装置50では、処理容器2の壁面2aに、液流発生ノズル45と共に超音波洗浄装置51が取り付けられている。超音波洗浄装置51は超音波振動子を備えており、装置外に設けられた発信器52に接続されている。超音波振動子としては、電気的な入力を機械振動に変換する振動子、例えば、電気−機械変換素子の一つである圧電セラミック素子などが使用される。超音波振動子には、発信器52から15〜50kHz程度の高周波信号が入力され、この電気的な振動が機械的な振動に変換され出力される。   As shown in FIG. 8, in the filter cleaning device 50, an ultrasonic cleaning device 51 is attached to the wall surface 2 a of the processing container 2 together with the liquid flow generation nozzle 45. The ultrasonic cleaning device 51 includes an ultrasonic vibrator and is connected to a transmitter 52 provided outside the device. As the ultrasonic vibrator, a vibrator that converts electrical input into mechanical vibration, for example, a piezoelectric ceramic element that is one of electro-mechanical conversion elements is used. A high frequency signal of about 15 to 50 kHz is input from the transmitter 52 to the ultrasonic vibrator, and this electrical vibration is converted into mechanical vibration and output.

フィルタ洗浄装置50では、実施例1のような液流発生ノズル45による回転洗浄と、超音波洗浄装置51による超音波洗浄を同時並行して行うハイブリッド洗浄が実施される。すなわち、処理容器2内に洗浄液10を注入し、液流発生ノズル45と超音波洗浄装置51を作動させると、液流発生ノズル45からの噴流によりフィルタ3が回転すると共に、超音波洗浄装置51から発せられる高周波の超音波により洗浄液が振動する。そして、前述の回転洗浄に加えて、キャビテーションや洗浄液の微小振動等により、洗浄液10内のフィルタ3が洗浄される。特に、プリーツ加工されたフィルタ3のような複雑な形状物では、この超音波洗浄によって襞の奥まで効果的に洗浄でき、より効果的な洗浄処理が可能となる。なお、液流発生ノズル45と超音波洗浄装置51は、必ずしも同時作動させる必要はなく、それぞれを適宜作動させて洗浄処理を行うことも可能である。   In the filter cleaning device 50, the hybrid cleaning is performed in which the rotational cleaning by the liquid flow generating nozzle 45 and the ultrasonic cleaning by the ultrasonic cleaning device 51 are performed in parallel as in the first embodiment. That is, when the cleaning liquid 10 is injected into the processing container 2 and the liquid flow generation nozzle 45 and the ultrasonic cleaning device 51 are operated, the filter 3 is rotated by the jet flow from the liquid flow generation nozzle 45, and the ultrasonic cleaning device 51. The cleaning liquid is vibrated by high-frequency ultrasonic waves emitted from. In addition to the above-described rotational cleaning, the filter 3 in the cleaning liquid 10 is cleaned by cavitation, minute vibration of the cleaning liquid, or the like. In particular, a complicated shape such as the pleated filter 3 can be effectively cleaned to the back of the ridge by this ultrasonic cleaning, and a more effective cleaning process can be performed. Note that the liquid flow generation nozzle 45 and the ultrasonic cleaning device 51 are not necessarily operated simultaneously, and it is also possible to perform the cleaning process by appropriately operating each of them.

一方、フィルタ洗浄装置50では、超音波洗浄装置51を処理容器2の壁面2aに配置しているが、超音波洗浄装置51を底板5上に配置しても良い。図9は、超音波洗浄装置51を底板5上に配置した変形例(超音波洗浄装置55)を示す説明図である。図9に示すように、超音波洗浄装置55では、液流発生ノズル45が処理容器壁面2aの略中央に設けられており、処理容器2の底面に当たる底板5の上面5aに超音波洗浄装置51が設置されている。超音波洗浄装置55においては、液流発生ノズル45によってフィルタ3を回転させつつ、フィルタ底面側から超音波洗浄装置55によって洗浄液10に振動を付与し、フィルタ3のハイブリッド洗浄を行う。   On the other hand, in the filter cleaning device 50, the ultrasonic cleaning device 51 is disposed on the wall surface 2 a of the processing container 2, but the ultrasonic cleaning device 51 may be disposed on the bottom plate 5. FIG. 9 is an explanatory view showing a modified example (ultrasonic cleaning device 55) in which the ultrasonic cleaning device 51 is arranged on the bottom plate 5. As shown in FIG. 9, in the ultrasonic cleaning device 55, the liquid flow generating nozzle 45 is provided in the approximate center of the processing vessel wall surface 2 a, and the ultrasonic cleaning device 51 is placed on the upper surface 5 a of the bottom plate 5 that contacts the bottom surface of the processing vessel 2. Is installed. In the ultrasonic cleaning device 55, the filter 3 is rotated by the liquid flow generating nozzle 45, and vibration is applied to the cleaning liquid 10 by the ultrasonic cleaning device 55 from the filter bottom surface side to perform hybrid cleaning of the filter 3.

図10は、本発明の実施例3であるフィルタ洗浄装置60の構成を示す説明図である。前述の実施例では、処理容器2内にフィルタ3を2個収容可能な構成を示したが、フィルタ収容個数は2個には限定されず、1個でも3個以上でも適宜変更可能である。そこで、実施例3のフィルタ洗浄装置60は、フィルタ3を4個収容可能な大型の装置となっている。フィルタ洗浄装置60では、処理容器2の壁面2aに液流発生ノズル45が4個設置されており、各液流発生ノズル45からの噴流により、フィルタ3が同方向に回転するようになっている。このような大型装置では、一度に処理できるフィルタの個数が増加し、その分、洗浄処理の効率化が図られる。   FIG. 10 is an explanatory diagram showing the configuration of a filter cleaning device 60 that is Embodiment 3 of the present invention. In the above-described embodiment, the configuration in which two filters 3 can be accommodated in the processing container 2 has been shown. However, the number of filters accommodated is not limited to two, and can be appropriately changed by one or three or more. Therefore, the filter cleaning device 60 according to the third embodiment is a large device that can accommodate four filters 3. In the filter cleaning device 60, four liquid flow generation nozzles 45 are installed on the wall surface 2 a of the processing container 2, and the filter 3 is rotated in the same direction by a jet flow from each liquid flow generation nozzle 45. . In such a large apparatus, the number of filters that can be processed at a time is increased, and the efficiency of the cleaning process is increased accordingly.

図11は、本発明の実施例4であるフィルタ洗浄装置70の構成を示す説明図である。実施例4のフィルタ洗浄装置70では、フィルタ3を上下動させるためのエアシリンダ71が処理容器2内に配置されており、装置のコンパクト化が図られている。   FIG. 11 is an explanatory diagram showing a configuration of a filter cleaning device 70 that is Embodiment 4 of the present invention. In the filter cleaning device 70 according to the fourth embodiment, an air cylinder 71 for moving the filter 3 up and down is disposed in the processing container 2 so that the device can be made compact.

図11に示すように、フィルタ洗浄装置70においても、上蓋4の下方には、フィルタ3を支持するためのエアシリンダ71が設けられている。エアシリンダ71は筒状に形成されており、装置外に設けられた図示しないコンプレッサと接続されている。エアシリンダ71のピストンロッド72の下端には、回転ジョイント73が取り付けられている。回転ジョイント73にはフィルタ回転軸74が取り付けられており、フィルタ回転軸74は回転ジョイント73を介してエアシリンダ71に対し回転自在となっている。フィルタ回転軸74の下端部にはフィルタ固定ノブ75が取り付けられており、フィルタ固定ノブ75を締め付けることにより、フィルタ3はフィルタ回転軸74に固定される。   As shown in FIG. 11, also in the filter cleaning device 70, an air cylinder 71 for supporting the filter 3 is provided below the upper lid 4. The air cylinder 71 is formed in a cylindrical shape and is connected to a compressor (not shown) provided outside the apparatus. A rotary joint 73 is attached to the lower end of the piston rod 72 of the air cylinder 71. A filter rotation shaft 74 is attached to the rotation joint 73, and the filter rotation shaft 74 is rotatable with respect to the air cylinder 71 via the rotation joint 73. A filter fixing knob 75 is attached to the lower end portion of the filter rotating shaft 74, and the filter 3 is fixed to the filter rotating shaft 74 by tightening the filter fixing knob 75.

このように、実施例4のフィルタ洗浄装置70では、フィルタ3は、エアシリンダ71、回転ジョイント73、フィルタ回転軸74及びフィルタ固定ノブ75によって、上蓋4下方に回転自在な状態で吊設される。また、フィルタ3は、エアシリンダ71によって上下方向に移動可能となっており、洗浄液10中を上下方向に揺動しつつジェット噴流44による回転洗浄が実施できるようになっている。   As described above, in the filter cleaning device 70 according to the fourth embodiment, the filter 3 is suspended from the air cylinder 71, the rotary joint 73, the filter rotation shaft 74, and the filter fixing knob 75 so as to be rotatable below the upper lid 4. . Further, the filter 3 can be moved in the vertical direction by the air cylinder 71, and can be rotated and cleaned by the jet jet 44 while swinging in the cleaning liquid 10 in the vertical direction.

エアシリンダ71には、実施例1のフィルタ洗浄装置と同様に、フィルタ3を内側から回転自在に支持するための支持ローラユニット21が設けられている。図12は、支持ローラユニット21の構成を示す説明図である。図4に示すように、支持ローラユニット21は、金属製の取付板22の外周に、ローラ23を3個等分に配置した構成となっている。取付板22には、ボルト孔24と回転軸孔25が形成されており、取付板22は、ボルト26によって回転ジョイント73の下面に取り付けられる。その際、回転軸孔25には、フィルタ回転軸74が遊嵌状態で挿通される。ローラ23は、フィルタ3の内周面3bに接触し、フィルタ3はこの支持ローラユニット21によって内周側から支持され、安定的な回転動作が可能となる。   As with the filter cleaning device of the first embodiment, the air cylinder 71 is provided with a support roller unit 21 for rotatably supporting the filter 3 from the inside. FIG. 12 is an explanatory diagram showing the configuration of the support roller unit 21. As shown in FIG. 4, the support roller unit 21 has a configuration in which three rollers 23 are equally divided on the outer periphery of a metal mounting plate 22. A bolt hole 24 and a rotation shaft hole 25 are formed in the attachment plate 22, and the attachment plate 22 is attached to the lower surface of the rotary joint 73 by a bolt 26. At that time, the filter rotation shaft 74 is inserted into the rotation shaft hole 25 in a loosely fitted state. The roller 23 is in contact with the inner peripheral surface 3b of the filter 3, and the filter 3 is supported from the inner peripheral side by the support roller unit 21 so that a stable rotation operation is possible.

なお、フィルタ3は、下端と上端の両方をローラ23にて支えれば回転時のブレが少なくなり、スムーズな回転が可能となる。ところが、フィルタサイズが大きいものを基準に支持ローラユニット21を配置すると、上下のローラ23間の距離が大きくなる。すると、小さいサイズのフィルタを洗浄する場合、フィルタ3は、フィルタ固定ノブ75によってフィルタ回転軸74下端に固定されるため、上方のローラ23がフィルタ3から外れる可能性がある。そのため、フィルタサイズの大小に関わらず安定した回転洗浄を行うためには、ローラ23は、図11のようにやや下目の位置に設置することが好ましい。   In addition, if the filter 3 supports both a lower end and an upper end with the roller 23, the blur at the time of rotation will reduce and smooth rotation will be attained. However, when the support roller unit 21 is arranged based on a filter having a large filter size, the distance between the upper and lower rollers 23 increases. Then, when cleaning a small size filter, the filter 3 is fixed to the lower end of the filter rotation shaft 74 by the filter fixing knob 75, so that the upper roller 23 may come off from the filter 3. Therefore, in order to perform stable rotational cleaning regardless of the size of the filter, the roller 23 is preferably installed at a slightly lower eye position as shown in FIG.

また、支持ローラユニット21を、図11に実線にて示した位置の他、破線にて示した位置にもさらに配置し(支持ローラユニット76)、フィルタ回転の更なる安定化を図っても良い。支持ローラユニット76は、図4に示した支持ローラユニット12と同様の構成となっており、エアシリンダ71の外側にボルト固定される。なお、支持ローラユニット76では、装着対象(実施例1ではリテーナ7、実施例4ではエアシリンダ71)の径に合わせて、リテーナ装着部13の内径が支持ローラユニット12よりも大きく形成されている。   In addition to the position indicated by the solid line in FIG. 11, the support roller unit 21 may be further disposed at the position indicated by the broken line (support roller unit 76) to further stabilize the filter rotation. . The support roller unit 76 has the same configuration as the support roller unit 12 shown in FIG. 4 and is bolted to the outside of the air cylinder 71. In the support roller unit 76, the inner diameter of the retainer mounting portion 13 is formed larger than that of the support roller unit 12 in accordance with the diameter of the mounting target (the retainer 7 in the first embodiment and the air cylinder 71 in the fourth embodiment). .

図13は、本発明の実施例5であるフィルタ洗浄装置80の構成を示す説明図、図14は、図13のフィルタ洗浄装置80を上方から見た状態を示す説明図である。実施例5のフィルタ洗浄装置80では、フィルタ3が処理容器2の底部に支持されている。   FIG. 13 is an explanatory diagram showing a configuration of a filter cleaning device 80 that is Embodiment 5 of the present invention, and FIG. 14 is an explanatory diagram showing a state of the filter cleaning device 80 of FIG. 13 as viewed from above. In the filter cleaning device 80 of the fifth embodiment, the filter 3 is supported on the bottom of the processing container 2.

図13に示すように、処理容器2の底面2bには、フィルタ3を支持するための支柱81が設けられている。支柱81はステンレス鋼にて形成されており、同じくステンレス鋼にて形成された円板状のベース板82上に立設されている。ベース板82は、径の異なる上下二段の構成となっており、下段部82aが底面2bに固定され、上段部82bの中央に支柱81が固定されている。支柱81の外側には、ステンレス鋼にて形成された円筒形状のフィルタガイド83が回転自在に外挿される。フィルタガイド83の下部外周には、合成樹脂にて形成された3個のガイド片84が等分に取り付けられている。ガイド片84の外周寸法は、フィルタ3の内周寸法と略同寸法(若干小径)に形成されている。   As shown in FIG. 13, a support column 81 for supporting the filter 3 is provided on the bottom surface 2 b of the processing container 2. The support column 81 is formed of stainless steel, and is erected on a disk-shaped base plate 82 that is also formed of stainless steel. The base plate 82 has a two-stage configuration with different diameters. The lower step portion 82a is fixed to the bottom surface 2b, and the support column 81 is fixed to the center of the upper step portion 82b. A cylindrical filter guide 83 formed of stainless steel is externally attached to the outside of the column 81 so as to be freely rotatable. Three guide pieces 84 formed of synthetic resin are equally attached to the lower outer periphery of the filter guide 83. The outer peripheral dimension of the guide piece 84 is formed to be approximately the same dimension (slightly smaller) as the inner peripheral dimension of the filter 3.

フィルタガイド83の高さ方向の寸法は、支柱81の高さよりも小さくなっている。このため、支柱81にフィルタガイド83を取り付けると、支柱81の先端部がフィルタガイド83の上端から突出する。このフィルタガイド83から突出した支柱先端部には、合成樹脂製の回転キャップ85が取り付けられる。回転キャップ85は、フィルタガイド83と同外径の円柱形状となっており、下端部には支柱挿入孔87が形成されている。回転キャップ85は、この支柱挿入孔87に支柱81の先端部を挿入する形で、フィルタガイド83の上方に取り付けられる。また、回転キャップ85の上端部には、フィルタ支持軸86が突設されている。フィルタ支持軸86は、フィルタ3の底板3cの中央に形成された軸孔3dよりも若干小径に形成されている。   The dimension of the filter guide 83 in the height direction is smaller than the height of the support column 81. For this reason, when the filter guide 83 is attached to the column 81, the tip of the column 81 protrudes from the upper end of the filter guide 83. A rotation cap 85 made of synthetic resin is attached to the end of the column protruding from the filter guide 83. The rotation cap 85 has a cylindrical shape with the same outer diameter as the filter guide 83, and a column insertion hole 87 is formed at the lower end. The rotation cap 85 is attached above the filter guide 83 in such a manner that the tip end portion of the support column 81 is inserted into the support column insertion hole 87. A filter support shaft 86 projects from the upper end portion of the rotation cap 85. The filter support shaft 86 is formed to have a slightly smaller diameter than the shaft hole 3 d formed at the center of the bottom plate 3 c of the filter 3.

フィルタ洗浄装置80では、次のようにして処理容器2内にフィルタ3を取り付ける。図15は、フィルタ3の取付過程を示す説明図である。ここではまず、図15(a)のような形で処理容器2の底面2bに固定されている支柱81に、同図(b)のように、上方から、フィルタガイド83と回転キャップ85を取り付ける。この場合、フィルタガイド83と回転キャップ85は支柱81に対し遊嵌状態となっており、両者は支柱81に回転自在に取り付けられる。支柱81にフィルタガイド83等を取り付けた後、フィルタ3を上方からフィルタガイド83等に被せるような形で取り付ける。この場合、フィルタ3は上下を逆にして取り付けられ、同図(c)に示すように、フィルタ支持軸86がフィルタ底板3cの軸孔3dに挿入される形となる。   In the filter cleaning apparatus 80, the filter 3 is attached in the processing container 2 as follows. FIG. 15 is an explanatory diagram showing a process of attaching the filter 3. Here, first, as shown in FIG. 15B, the filter guide 83 and the rotation cap 85 are attached to the support column 81 fixed to the bottom surface 2b of the processing container 2 in the form as shown in FIG. . In this case, the filter guide 83 and the rotation cap 85 are loosely fitted to the support column 81, and both are rotatably attached to the support column 81. After the filter guide 83 and the like are attached to the support column 81, the filter 3 is attached so as to cover the filter guide 83 and the like from above. In this case, the filter 3 is mounted upside down, and the filter support shaft 86 is inserted into the shaft hole 3d of the filter bottom plate 3c as shown in FIG.

一方、フィルタガイド83の外側にフィルタ3を装着すると、図13に示すように、ガイド片84の外端がフィルタ3の内周面3bに当接する。フィルタ3の内周面3bは、金属製のパンチング部材やメッシュ部材にて形成されており、フィルタ3は、3個のガイド片84によって内側から支持される。すなわち、フィルタ3は、上端側がフィルタ支持軸86にて支持されると共に、その下端側はガイド片84によって支持される。また、その際、フィルタガイド83と回転キャップ85が支柱81に回転自在に取り付けられているため、フィルタ3も支柱81に対し回転自在な状態で支持される。   On the other hand, when the filter 3 is mounted outside the filter guide 83, the outer end of the guide piece 84 comes into contact with the inner peripheral surface 3b of the filter 3 as shown in FIG. The inner peripheral surface 3 b of the filter 3 is formed of a metal punching member or a mesh member, and the filter 3 is supported from the inside by three guide pieces 84. That is, the upper end side of the filter 3 is supported by the filter support shaft 86 and the lower end side thereof is supported by the guide piece 84. At this time, since the filter guide 83 and the rotation cap 85 are rotatably attached to the support column 81, the filter 3 is also supported in a rotatable state with respect to the support column 81.

このようなフィルタ洗浄装置80においても、処理容器2の中央部にバブリング洗浄ユニット88が取り付けられている。バブリング洗浄ユニット88には、バブリングジェットノズル(ノズル装置)89が設けられており、図示しないポンプにより、給液管90を介して洗浄液が加圧供給される。図14に示すように、処理容器2内のフィルタ3には、バブリングジェットノズル89から略接線方向に沿ってジェット噴流44が吹き付けられる。これにより、支柱81に回転自在に支持されたフィルタ3は、図14の矢印方向に回転する。従って、逆洗のみでは洗浄しきれなかったプリーツ奥部の微粉も、遠心力を利用した回転洗浄処理によって十分に洗浄できる。また、当該フィルタ洗浄装置80も、フィルタ3を回転させるための複雑な駆動装置を有しておらず、安価な装置構成にて、フィルタ3の精密洗浄処理を行うことができる。   Also in such a filter cleaning device 80, a bubbling cleaning unit 88 is attached to the central portion of the processing container 2. The bubbling cleaning unit 88 is provided with a bubbling jet nozzle (nozzle device) 89, and the cleaning liquid is pressurized and supplied through a liquid supply pipe 90 by a pump (not shown). As shown in FIG. 14, a jet jet 44 is blown from the bubbling jet nozzle 89 along the substantially tangential direction to the filter 3 in the processing container 2. Thereby, the filter 3 rotatably supported by the support | pillar 81 rotates in the arrow direction of FIG. Therefore, fine powder at the back of the pleats that could not be cleaned only by backwashing can be sufficiently cleaned by the rotary cleaning process using centrifugal force. Also, the filter cleaning device 80 does not have a complicated drive device for rotating the filter 3, and the filter 3 can be precisely cleaned with an inexpensive device configuration.

なお、図13のフィルタ洗浄装置80においても、前述同様、バブリングジェットノズル89を処理容器2の壁面に配置しても良く、バブリングジェットノズル89に代えて、洗浄液10が加圧噴射される液流発生ノズルを使用しても良い。また、バブリングジェットノズル89と超音波洗浄器を併用することも可能である。   In the filter cleaning device 80 of FIG. 13 as well, the bubbling jet nozzle 89 may be arranged on the wall surface of the processing vessel 2 as described above. Instead of the bubbling jet nozzle 89, the liquid flow in which the cleaning liquid 10 is jetted under pressure is used. A generating nozzle may be used. It is also possible to use the bubbling jet nozzle 89 and an ultrasonic cleaner together.

一方、前述の実施例では、フィルタ3を処理容器2内に縦置き(回転軸が鉛直方向に配置された状態)し、横方向(水平方向)から気泡流や水/気泡流をフィルタ3に噴射してフィルタを回転洗浄する構成となっている。ところが、横方向から噴射された気泡流等は、噴射後、大気方向に上昇するため、気泡流等がフィルタ3に対して真横から当たらず、気泡流等のみでは効率の良い洗浄処理が実施できない場合がある。   On the other hand, in the above-described embodiment, the filter 3 is placed vertically in the processing container 2 (with the rotation axis arranged in the vertical direction), and bubble flow or water / bubble flow is applied to the filter 3 from the horizontal direction (horizontal direction). The filter is configured to spray and rotate and clean the filter. However, since the bubble flow or the like injected from the lateral direction rises in the atmospheric direction after the injection, the bubble flow or the like does not hit the filter 3 from the side, and an efficient cleaning process cannot be performed only by the bubble flow or the like. There is a case.

そこで、本発明者らは、前述のような課題を解決すべく、フィルタ3を横置き(回転軸が水平方向に配置された状態)し、下方から気泡流を噴射する方式を考案した。図16,17は、本発明の実施例6であるフィルタ洗浄装置100の構成を示す説明図であり、図16はフィルタ洗浄装置100を側面方向から見た断面図、図17はフィルタ洗浄装置100を正面方向から見た断面図である。   Therefore, the present inventors have devised a system in which the filter 3 is placed horizontally (in a state where the rotation shaft is disposed in the horizontal direction) and a bubble flow is ejected from below in order to solve the above-described problems. 16 and 17 are explanatory views showing the configuration of the filter cleaning device 100 according to the sixth embodiment of the present invention. FIG. 16 is a cross-sectional view of the filter cleaning device 100 as viewed from the side, and FIG. It is sectional drawing which looked at from the front direction.

図16,17に示すように、当該フィルタ洗浄装置100では、前述の実施例と異なり、処理容器2内にフィルタ3が横置きされている。処理容器2の底板5には、フィルタ支持板(フィルタ支持部材)101a,101bが立設されており、フィルタ3は、その上端部に回転自在に取り付けられる。フィルタ3には、洗浄処理の際に回転軸102が取り付けられ、この回転軸102がフィルタ支持板101a,101bにて回転自在に支持される。すなわち、フィルタ3は、処理容器2内にて、略水平な回転軸線Oを中心に回転自在に設置されている。   As shown in FIGS. 16 and 17, in the filter cleaning apparatus 100, the filter 3 is placed horizontally in the processing container 2, unlike the above-described embodiment. Filter support plates (filter support members) 101a and 101b are erected on the bottom plate 5 of the processing container 2, and the filter 3 is rotatably attached to the upper end portion thereof. A rotating shaft 102 is attached to the filter 3 during the cleaning process, and the rotating shaft 102 is rotatably supported by the filter support plates 101a and 101b. That is, the filter 3 is installed in the processing container 2 so as to be rotatable about a substantially horizontal rotation axis O.

処理容器2の底部には、気泡流供給用のエアノズル103が配置されている。エアノズル103には、給気管104が接続されており、この給気管104を介して、図示しない外部のコンプレッサからエアノズル103に圧縮空気が供給される。エアノズル103は、図17に示すように、装置の長手方向に2個配置されている。さらに、底板5の下面側には、ドレイン105が取り付けられており、処理容器2内の洗浄液10を容器外に排出できるようになっている。   An air nozzle 103 for supplying a bubble flow is disposed at the bottom of the processing container 2. An air supply pipe 104 is connected to the air nozzle 103, and compressed air is supplied to the air nozzle 103 from an external compressor (not shown) through the air supply pipe 104. As shown in FIG. 17, two air nozzles 103 are arranged in the longitudinal direction of the apparatus. Further, a drain 105 is attached to the lower surface side of the bottom plate 5 so that the cleaning liquid 10 in the processing container 2 can be discharged out of the container.

このようなフィルタ洗浄装置100においては、給気管104を介して圧縮空気がエアノズル103に供給されると、エアノズル103から上方のフィルタ3に向かって気泡流が噴射される。フィルタ3には、接線方向からエアノズル103の気泡流が噴射され、この気泡流によって、フィルタ3は回転軸102を中心として回転する。この際、エアノズル103から噴射された気泡流には、その噴出圧に加えて、水中から大気中へと気泡が上昇する圧力(浮力)が加わる。これにより、フィルタ3は、噴出圧+上昇圧の相乗効果によって効率良く回転する。   In such a filter cleaning device 100, when compressed air is supplied to the air nozzle 103 via the air supply pipe 104, a bubble flow is jetted from the air nozzle 103 toward the upper filter 3. A bubble flow from the air nozzle 103 is jetted onto the filter 3 from the tangential direction, and the filter 3 rotates about the rotation shaft 102 by this bubble flow. At this time, in addition to the ejection pressure, the bubble flow ejected from the air nozzle 103 is subjected to pressure (buoyancy) that causes the bubbles to rise from the water to the atmosphere. Thereby, the filter 3 rotates efficiently by the synergistic effect of the ejection pressure + the rising pressure.

このように、当該実施例のフィルタ洗浄装置100では、フィルタ3を処理装置2内に横置きし、フィルタ3に対し下方から気泡流を供給することにより、気泡の上昇圧を利用しつつ、フィルタ3に真横から回転圧力を加えることができる。このため、気泡の持つエネルギを効率良く利用することができ、フィルタ3をより良好に回転させることが可能となる。従って、効率の良い洗浄処理が可能となる。   Thus, in the filter cleaning apparatus 100 of the embodiment, the filter 3 is placed horizontally in the processing apparatus 2 and a bubble flow is supplied to the filter 3 from below, so that the filter 3 A rotational pressure can be applied to 3 from the side. For this reason, the energy which a bubble has can be utilized efficiently, and it becomes possible to rotate the filter 3 more favorably. Therefore, an efficient cleaning process is possible.

加えて、当該フィルタ洗浄装置100では、洗浄効率の向上に伴い、水流を併用することなく、気泡流のみで十分な洗浄効果を得ることができる。このため、前述のような洗浄液の循環路も不要となる。また、処理容器2には排水用のドレイン105を設ければ足り、装置構成自体も簡素化される。なお、図16,17のフィルタ洗浄装置100においても、超音波洗浄器の併用が可能である。   In addition, in the filter cleaning apparatus 100, a sufficient cleaning effect can be obtained with only the bubbly flow without using a water flow together with the improvement of the cleaning efficiency. This eliminates the need for the cleaning liquid circulation path as described above. Further, it is sufficient that the processing container 2 is provided with a drain 105 for drainage, and the apparatus configuration itself is simplified. 16 and 17 can be used in combination with an ultrasonic cleaner.

なお、エアノズル103に代えて、前述のバブリングジェットノズルを使用することも可能である。また、エアノズル103の個数は2個には限定されず、フィルタ3のサイズにより、適宜変更可能である。さらに、図16,17では、処理容器2における洗浄液10の液面Sがフィルタ3の上端位置よりも低くなっており、フィルタ3が処理液10内に完全に没していないが、液面Sの位置は適宜設定可能である。   Instead of the air nozzle 103, the above-described bubbling jet nozzle can be used. Further, the number of the air nozzles 103 is not limited to two, and can be appropriately changed depending on the size of the filter 3. Further, in FIGS. 16 and 17, the liquid level S of the cleaning liquid 10 in the processing container 2 is lower than the upper end position of the filter 3, and the filter 3 is not completely submerged in the processing liquid 10. The position of can be set as appropriate.

本発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。   It goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.

例えば、実施例1のフィルタ洗浄装置1では、ローラ14を3個備えた支持ローラユニット12を使用しているが、ローラ14の個数はこれには限定されず、少なくとも2個以上あれば良い。但し、フィルタ3の安定支持の観点からするとローラ14は3個以上ある方が好ましい。従って、コスト的な面と支持効果の面を勘案すると、ローラ14を等分に配置する構成が特に好ましい。   For example, in the filter cleaning apparatus 1 according to the first embodiment, the support roller unit 12 including three rollers 14 is used. However, the number of rollers 14 is not limited to this, and it is sufficient that there are at least two or more. However, from the viewpoint of stable support of the filter 3, it is preferable that there are three or more rollers 14. Accordingly, in consideration of cost and support effect, a configuration in which the rollers 14 are arranged equally is particularly preferable.

また、実施例2のフィルタ洗浄装置50,55にて、実施例1と同様にバブリングジェットノズル36を使用することも勿論可能である。さらに、実施例2では、液流発生ノズル45による回転洗浄と、超音波洗浄装置51による超音波洗浄を同時に行う旨述べたが、それぞれを独立して行うことも可能である。   Further, it is of course possible to use the bubbling jet nozzle 36 in the filter cleaning devices 50 and 55 of the second embodiment as in the first embodiment. Further, in the second embodiment, it has been described that the rotational cleaning by the liquid flow generating nozzle 45 and the ultrasonic cleaning by the ultrasonic cleaning device 51 are performed simultaneously, but each can be performed independently.

一方、液流発生ノズル45やバブリングジェットノズル36を処理容器壁面2aに設置する構成では、ノズルの上下移動を行う場合、装置構成が複雑化するため、液流発生ノズル45等を上下方向に複数個配置しても良い。これにより、ノズルを上下移動させることなくフィルタ3全体を洗浄することが可能となる。なお、実施例1において、バブリングジェットノズル36を上下に複数個配置することも勿論可能である。   On the other hand, in the configuration in which the liquid flow generation nozzle 45 and the bubbling jet nozzle 36 are installed on the processing vessel wall surface 2a, when the nozzle is moved up and down, the apparatus configuration becomes complicated. It may be arranged individually. As a result, the entire filter 3 can be cleaned without moving the nozzle up and down. In the first embodiment, it is of course possible to arrange a plurality of bubbling jet nozzles 36 vertically.

加えて、前述の実施例ではポンプ39をフィルタ洗浄装置外に配置した構成を示したが、給液用のポンプを処理容器2内に配置しても良い。これにより、フィルタ洗浄システム全体を小型化することができ、装置の省スペース化を図ることが可能となる。   In addition, in the above-described embodiment, the configuration in which the pump 39 is disposed outside the filter cleaning apparatus is shown. However, a pump for supplying liquid may be disposed in the processing container 2. As a result, the entire filter cleaning system can be reduced in size, and the space of the apparatus can be saved.

本発明の実施例1であるフィルタ洗浄装置の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the filter washing | cleaning apparatus which is Example 1 of this invention. 図1のフィルタ洗浄装置を右方向から見た状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which looked at the filter washing | cleaning apparatus of FIG. 1 from the right direction. 図1のフィルタ洗浄装置を上方から見た状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which looked at the filter washing | cleaning apparatus of FIG. 1 from upper direction. 支持ローラユニットの構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of a support roller unit. バブリングジェットノズルによるジェット噴射の様子を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the mode of jet injection by a bubbling jet nozzle. バブリングジェットノズルを処理容器の壁面に配置した場合の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows a structure at the time of arrange | positioning a bubbling jet nozzle on the wall surface of a processing container. バブリングジェットノズルに代えて液流発生ノズルを使用し処理容器の壁面に配置した場合の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure at the time of using the liquid flow generation | occurrence | production nozzle instead of a bubbling jet nozzle, and arrange | positioning on the wall surface of a processing container. 本発明の実施例2であるフィルタ洗浄装置の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the filter washing | cleaning apparatus which is Example 2 of this invention. 超音波洗浄装置を底板上に配置した変形例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the modification which has arrange | positioned the ultrasonic cleaning apparatus on the baseplate. 本発明の実施例3であるフィルタ洗浄装置の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the filter washing | cleaning apparatus which is Example 3 of this invention. 本発明の実施例4であるフィルタ洗浄装置の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the filter washing | cleaning apparatus which is Example 4 of this invention. 図11のフィルタ洗浄装置で使用される支持ローラユニットの構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the support roller unit used with the filter washing | cleaning apparatus of FIG. 本発明の実施例5であるフィルタ洗浄装置の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the filter washing | cleaning apparatus which is Example 5 of this invention. 図13のフィルタ洗浄装置を上方から見た状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which looked at the filter washing | cleaning apparatus of FIG. 13 from upper direction. 図13のフィルタ洗浄装置におけるフィルタのセット方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the set method of the filter in the filter washing | cleaning apparatus of FIG. 本発明の実施例6であるフィルタ洗浄装置の構成を示す説明図であり、装置を側面方向から見た断面図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the filter washing | cleaning apparatus which is Example 6 of this invention, and is sectional drawing which looked at the apparatus from the side surface direction. 図16のフィルタ洗浄装置を正面方向から見た断面図である。It is sectional drawing which looked at the filter washing | cleaning apparatus of FIG. 16 from the front direction.

符号の説明Explanation of symbols

1 フィルタ洗浄装置
2 処理容器
2a 壁面
2b 底面
3 カートリッジフィルタ
3a プリーツ部
3b 内周面
3c 底板
3d 軸孔
4 上蓋
5 底板
5a 上面
6 キャスタ
7 リテーナ
8 回転ジョイント
10 洗浄液
11 フィルタ固定ノブ
12 支持ローラユニット
13 リテーナ装着部
14 ローラ
15 ボルト孔
16 ボルト
21 支持ローラユニット
22 取付板
23 ローラ
24 ボルト孔
25 回転軸孔
26 ボルト
31 支持アーム
32 エアシリンダ
33 ブラケット
35 バブリング洗浄ユニット
36 バブリングジェットノズル
37 給液管
38 吸気管
39 ポンプ
40 固定ネジ
41 洗浄液タンク
42 排水管
43 バルブ
44 ジェット噴流
45 液流発生ノズル
50 フィルタ洗浄装置
51 超音波洗浄装置
52 発信器
55 超音波洗浄装置
60 フィルタ洗浄装置
70 フィルタ洗浄装置
71 エアシリンダ
72 ピストンロッド
73 回転ジョイント
74 フィルタ回転軸
75 フィルタ固定ノブ
76 支持ローラユニット
80 フィルタ洗浄装置
81 支柱
82 ベース板
82a 下段部
82b 上段部
83 フィルタガイド
84 ガイド片
85 回転キャップ
86 フィルタ支持軸
87 支柱挿入孔
88 バブリング洗浄ユニット
89 バブリングジェットノズル
90 給液管
100 フィルタ洗浄装置
101a,101b フィルタ支持板(フィルタ支持部材)
102 回転軸
103 エアノズル
104 給気管
105 ドレイン
O 回転軸線
S 液面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Filter washing | cleaning apparatus 2 Processing container 2a Wall surface 2b Bottom surface 3 Cartridge filter 3a Pleated part 3b Inner peripheral surface 3c Bottom plate 3d Shaft hole 4 Top lid 5 Bottom plate 5a Top surface 6 Caster 7 Retainer 8 Rotating joint 10 Cleaning liquid 11 Filter fixing knob 12 Support roller unit 13 Retainer mounting portion 14 Roller 15 Bolt hole 16 Bolt 21 Support roller unit 22 Mounting plate 23 Roller 24 Bolt hole 25 Rotating shaft hole 26 Bolt 31 Support arm 32 Air cylinder 33 Bracket 35 Bubbling cleaning unit 36 Bubbling jet nozzle 37 Supply pipe 38 Intake Pipe 39 Pump 40 Fixing screw 41 Cleaning liquid tank 42 Drain pipe 43 Valve 44 Jet jet 45 Liquid flow generating nozzle 50 Filter cleaning device 51 Ultrasonic cleaning device 52 Transmitter 55 Ultrasonic cleaning device 60 Fill Cleaning device 70 Filter cleaning device 71 Air cylinder 72 Piston rod 73 Rotary joint 74 Filter rotation shaft 75 Filter fixing knob 76 Support roller unit 80 Filter cleaning device 81 Support column 82 Base plate 82a Lower step portion 82b Upper step portion 83 Filter guide 84 Guide piece 85 Rotating cap 86 Filter support shaft 87 Column insertion hole 88 Bubbling cleaning unit 89 Bubbling jet nozzle 90 Supply pipe 100 Filter cleaning devices 101a and 101b Filter support plates (filter support members)
102 Rotating shaft 103 Air nozzle 104 Air supply pipe 105 Drain O Rotating axis S Liquid level

Claims (3)

洗浄液を保持可能に形成され、前記洗浄液が注入・保持された状態で、粉粒体処理装置に使用されるフィルタを回転自在に収容可能な処理容器と、
前記処理容器に取り付けられ、前記洗浄液中に浸漬された状態の前記フィルタに対し気泡流又は気泡を含む液体を噴射し、前記フィルタを前記洗浄液中にて回転させつつ洗浄するノズル装置とを有してなるフィルタ洗浄装置であって、
前記フィルタは、前記処理容器内に略水平な回転軸線を中心に回転自在に配置されると共に、前記ノズル装置は、前記フィルタの下方に配置され、
前記フィルタは、前記ノズル装置から噴射される気泡流又は気泡を含む液体の噴出圧と上昇圧によって回転することを特徴とするフィルタ洗浄装置。
A processing container that is formed so as to be able to hold a cleaning liquid, and in which the cleaning liquid is poured and held, and a filter used in the powder processing apparatus can be rotatably accommodated,
Attached to the processing vessel, the washing liquid the filter of the submerged state in respect to jet a liquid containing bubble flow or bubble, have a nozzle apparatus for cleaning while rotating the filter in the in the cleaning liquid A filter cleaning device comprising:
The filter is disposed in the processing container so as to be rotatable around a substantially horizontal rotation axis, and the nozzle device is disposed below the filter.
The filter cleaning device according to claim 1, wherein the filter is rotated by a jet flow and a rising pressure of a bubble flow or a bubble-containing liquid jetted from the nozzle device.
請求項1記載のフィルタ洗浄装置において、前記処理容器は、
前記処理容器内に設置され、前記フィルタの中心に取り付けられた回転軸を回転自在に支持するフィルタ支持部材と、
前記処理容器の底部に配置され、前記フィルタの下方から前記フィルタに対して気泡流を噴射するノズル装置とを有することを特徴とするフィルタ洗浄装置。
The filter cleaning apparatus according to claim 1, wherein the processing container is
A filter support member installed in the processing container and rotatably supporting a rotation shaft attached to the center of the filter;
A filter cleaning apparatus , comprising: a nozzle device that is disposed at a bottom portion of the processing container and injects a bubble flow toward the filter from below the filter.
粉粒体処理装置にて使用されるフィルタを、洗浄液を貯留した処理容器内に収容して洗浄するフィルタ洗浄方法であって、A filter cleaning method for cleaning a filter used in a powder processing apparatus by storing it in a processing container storing a cleaning liquid,
前記フィルタを、略水平な回転軸線を中心として、前記処理容器内に回転自在に設置し、The filter is rotatably installed in the processing vessel around a substantially horizontal rotation axis,
前記処理容器内の前記フィルタの下方に設置されたノズル装置から、前記フィルタに対し接線方向に沿って気泡流又は気泡を含む液体を噴射し、該気泡流又は気泡を含む液体の噴出圧と上昇圧によって前記フィルタを回転させつつ前記フィルタの洗浄を行うことを特徴とするフィルタ洗浄方法。From the nozzle device installed below the filter in the processing container, a bubble flow or a liquid containing bubbles is ejected along the tangential direction to the filter, and an ejection pressure and an upper pressure of the liquid containing the bubble flow or bubbles are increased. A filter cleaning method, wherein the filter is cleaned while rotating the filter by boosting.
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