JP5098783B2 - Ultraviolet curable composition for optical disc and optical disc - Google Patents

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高密度記録可能な光ディスクとして主流となっているDVD(Digital Versatile Disc)は厚さ0.6mmの2枚の基板を接着剤で貼り合わせた構造を有している。DVDにおいては高密度化を達成するため、CD(Compact Disc)に比べ短波長の650nmのレーザーを用い、光学系も高開口数化している。   A DVD (Digital Versatile Disc), which is the mainstream as an optical disk capable of high-density recording, has a structure in which two substrates having a thickness of 0.6 mm are bonded together with an adhesive. In order to achieve high density in a DVD, a 650 nm laser having a shorter wavelength is used compared to a CD (Compact Disc), and the optical system has a high numerical aperture.

しかし、HDTV(high definition television)に対応した高画質の映像等を記録または再生する為には更なる高密度化が必要となる。DVDの次世代に位置する更なる高密度記録の方法及びその光ディスクの検討が行われており、DVDよりも更に短波長のブルーレーザー及び高開口数の光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている。   However, it is necessary to further increase the density in order to record or reproduce a high-quality video or the like corresponding to HDTV (high definition television). High-density recording methods and optical discs for the next generation of DVD have been studied, and high-density recording using a new optical disc structure using a blue laser with a shorter wavelength and a high numerical aperture optical system than DVD. A scheme has been proposed.

この新しい光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約100μmの光透過層を積層してなり、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。この光ディスクの光透過層には、生産性の観点から、紫外線硬化型組成物を使用することがもっぱら研究されている。   This new optical disk is formed by forming a recording layer on a transparent or opaque substrate made of plastic such as polycarbonate, and then laminating a light transmission layer of about 100 μm on the recording layer, and recording light or The optical disk has a structure in which reproduction light or both are incident. From the viewpoint of productivity, the use of an ultraviolet curable composition for the light transmission layer of this optical disc has been studied exclusively.

ブルーレーザーを使用した光ディスクは長期に安定した記録再生特性を保持する必要がある。このため、光透過層には形状安定性に優れるものが望まれ、また最外層として使用する場合には優れた耐磨耗性を有することが求められる。ブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクの光透過層に使用する紫外線硬化型組成物としては、例えば、エポキシアクリレートとウレタンアクリレートとを併用し、重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを使用した紫外線硬化型組成物が開示されている(特許文献1参照)。当該紫外線硬化型組成物は、耐久性と高光透過率とを有する硬化膜を与えるものであるが、湿熱環境変化時に発生する反りの更なる低減が望まれていた。   An optical disk using a blue laser needs to maintain stable recording / reproducing characteristics for a long time. For this reason, the light transmission layer is desired to have excellent shape stability, and when used as the outermost layer, it is required to have excellent wear resistance. As an ultraviolet curable composition used for a light transmission layer of an optical disc that is recorded or reproduced by a blue laser, for example, ultraviolet rays using epoxy acrylate and urethane acrylate in combination and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as a polymerization initiator. A curable composition is disclosed (see Patent Document 1). Although the ultraviolet curable composition provides a cured film having durability and high light transmittance, it has been desired to further reduce the warpage generated when the wet heat environment changes.

初期および耐久時の寸法安定性に優れる硬化物層を形成し得る光硬化型組成物として、ウレタン(メタ)アクリレートを含有し、硬化膜の弾性率が100〜600MPaの組成物が開示されている(特許文献2参照)。しかし、これら組成物の硬化物は耐摩耗性が十分でなく、光ディスクの最外層の光透過層として適用すると傷つきが生じる場合があった。   As a photocurable composition capable of forming a cured product layer having excellent dimensional stability at the initial stage and durability, a composition containing urethane (meth) acrylate and having a cured film having an elastic modulus of 100 to 600 MPa is disclosed. (See Patent Document 2). However, the cured products of these compositions have insufficient wear resistance, and may be damaged when applied as the outermost light-transmitting layer of the optical disk.

特開2002−109785号公報JP 2002-109785 A 特開2007−80448号公報JP 2007-80448 A

本発明が解決しようとする課題は、湿熱環境変化時における反りが少なく、耐摩耗性に優れた硬化膜を与える紫外線硬化型組成物、及び湿熱環境変化時においても光透過層の反りが少なく耐摩耗性に優れた光ディスクを提供することにある。   The problems to be solved by the present invention are an ultraviolet curable composition that gives a cured film with little warpage when changing to a wet heat environment, and a light transmission layer with little warpage even when changing to a wet heat environment. An object of the present invention is to provide an optical disc having excellent wear characteristics.

本発明の紫外線硬化型組成物は、(メタ)アクリロイル基濃度が4.2mmol/g以下であり、紫外線硬化後の硬化膜の30℃における弾性率が2000MPa以上の紫外線硬化型組成物である。当該構成の紫外線硬化型組成物によれば、(メタ)アクリロイル基濃度が低いため光ディスクの反りの原因となる紫外線照射時の硬化収縮を低減し、さらに湿熱環境変化時における反り変化の少ない硬化膜を実現できる。また、紫外線硬化後の硬化膜の30℃における弾性率が2000MPa以上であることから外部からの荷重によって変形にしにくく寸法安定性に優れた硬化膜を実現でき、優れた耐磨耗性を有する硬化膜を実現できる。   The ultraviolet curable composition of the present invention is an ultraviolet curable composition having a (meth) acryloyl group concentration of 4.2 mmol / g or less and an elastic modulus at 30 ° C. of the cured film after ultraviolet curing of 2000 MPa or more. According to the ultraviolet curable composition having such a configuration, since the concentration of the (meth) acryloyl group is low, the cured shrinkage at the time of ultraviolet irradiation that causes warping of the optical disk is reduced, and further, the cured film has little change in warpage when the wet heat environment changes. Can be realized. Moreover, since the elastic modulus at 30 ° C. of the cured film after UV curing is 2000 MPa or more, it is possible to realize a cured film that is difficult to be deformed by an external load and excellent in dimensional stability, and has excellent wear resistance. A membrane can be realized.

すなわち本発明は、基板上に、少なくとも光反射層と、光透過層とが積層され、前記光透過層側からレーザー光を入射して情報の再生を行う光ディスクの光透過層に使用する紫外線硬化型組成物であって、(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリレートモノマーを含有し、(メタ)アクリロイル基濃度が4.2mmol/g以下であり、紫外線硬化後の硬化膜の30℃における弾性率が2000MPa以上である光ディスク用紫外線硬化型組成物、および、当該紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を有する光ディスクを提供する。   That is, the present invention is an ultraviolet curing used for a light transmission layer of an optical disc in which at least a light reflection layer and a light transmission layer are laminated on a substrate, and laser light is incident from the light transmission layer side to reproduce information. Type composition comprising a (meth) acrylate oligomer and a (meth) acrylate monomer, having a (meth) acryloyl group concentration of 4.2 mmol / g or less, and an elastic modulus at 30 ° C. of the cured film after UV curing Provided are an ultraviolet curable composition for optical discs having a viscosity of 2000 MPa or more, and an optical disc having a light transmission layer comprising a cured product of the ultraviolet curable composition.

本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、湿熱環境変化時においても反り変化が少ない硬化膜を形成することができるため、湿熱環境変化時においても、特性劣化の少ない光ディスクを実現できる。また、当該組成物の硬化膜は耐摩耗性に優れることから、光透過層を最外層として適用できるため、その表層にハードコート層を設けなくとも傷つきの少ない光ディスクを実現できる。このような組成物の硬化膜を光透過層とする光ディスクは、湿熱環境変化時においても特性の低下が生じにくく、傷つきが少ないため、信号特性の劣化が少なく、短波長のブルーレーザーによっても好適に情報の記録・再生が可能である。   Since the ultraviolet curable composition for optical discs of the present invention can form a cured film with little warpage change even when the wet heat environment changes, an optical disc with little characteristic deterioration can be realized even when the wet heat environment changes. Further, since the cured film of the composition is excellent in abrasion resistance, the light transmission layer can be applied as the outermost layer, and thus an optical disk with little damage can be realized without providing a hard coat layer on the surface layer. An optical disc using a cured film of such a composition as a light-transmitting layer is less susceptible to deterioration in characteristics even when the humidity and heat environment changes, and is less likely to be scratched. In addition, information can be recorded / reproduced.

本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリレートモノマーを含有し、(メタ)アクリロイル基濃度が4.2mmol/g以下であり、紫外線硬化後の硬化膜の30℃における弾性率が2000MPa以上の光ディスク用紫外線硬化型組成物である。また、当該光ディスク紫外線硬化型組成物は、基板上に、少なくとも光反射層と、光透過層とが積層され、前記光透過層側からレーザー光を入射して情報の再生を行う光ディスクの光透過層として使用される。   The ultraviolet curable composition for optical disks of the present invention contains a (meth) acrylate oligomer and a (meth) acrylate monomer, has a (meth) acryloyl group concentration of 4.2 mmol / g or less, and is a cured film after ultraviolet curing. It is an ultraviolet curable composition for optical discs having an elastic modulus at 30 ° C. of 2000 MPa or more. In addition, the optical disk ultraviolet curable composition has at least a light reflection layer and a light transmission layer laminated on a substrate, and receives light from the light transmission layer side to reproduce information by optical transmission of the optical disk. Used as a layer.

[(メタ)アクリレートオリゴマー]
本発明の紫外線硬化型組成物に使用する(メタ)アクリレートオリゴマーは、特に制限されず、各種のウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレートを使用できる。なかでも紫外線硬化型組成物の(メタ)アクリロイル基濃度と硬化後の弾性率を上記範囲に調整しやすいことから、ウレタン(メタ)アクリレート及びエポキシ(メタ)アクリレートを好ましく使用できる。また、多官能の(メタ)アクリレートオリゴマーを使用することが好ましい。
[(Meth) acrylate oligomer]
The (meth) acrylate oligomer used in the ultraviolet curable composition of the present invention is not particularly limited, and various urethane (meth) acrylates, epoxy (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, and polyether (meth) acrylates may be used. Can be used. Among these, urethane (meth) acrylate and epoxy (meth) acrylate can be preferably used because the (meth) acryloyl group concentration of the ultraviolet curable composition and the elastic modulus after curing are easily adjusted to the above ranges. Moreover, it is preferable to use a polyfunctional (meth) acrylate oligomer.

本発明の紫外線硬化型組成物中の(メタ)アクリレート中のオリゴマーの含有量は、使用する(メタ)アクリレートオリゴマーや(メタ)アクリレートモノマーの組み合わせにより適宜調整すれば良いが、紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の20〜80質量%程度で調整することが好ましい。   The content of the oligomer in the (meth) acrylate in the ultraviolet curable composition of the present invention may be appropriately adjusted depending on the combination of the (meth) acrylate oligomer and (meth) acrylate monomer used, but the ultraviolet curable composition. It is preferable to adjust by about 20-80 mass% in the ultraviolet curable compound contained in the.

ウレタン(メタ)アクリレートとしては、ポリエーテル骨格のウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル骨格のウレタン(メタ)アクリレート、ポリカーボネート骨格のウレタン(メタ)アクリレートなどのポリウレタン(メタ)アクリレート等を例示できる。   Examples of the urethane (meth) acrylate include polyurethane (meth) acrylates such as urethane (meth) acrylate having a polyether skeleton, urethane (meth) acrylate having a polyester skeleton, and urethane (meth) acrylate having a polycarbonate skeleton.

なかでも、分子内に3個以上のヒドロキシル基を有する化合物(a)と、分子内に2個以上のイソシアネート基を有する化合物(b)と、ヒドロキシル基と(メタ)アクリロイル基とを有する化合物(c)とから得られるウレタン(メタ)アクリレート(U1)を使用することが好ましい。当該ウレタン(メタ)アクリレート(U1)の使用により、湿熱環境変化時に反りの少ない柔軟性を硬化膜に付与できる。また、ウレタン(メタ)アクリレートの有するウレタン結合により、凝集性が向上し、凝集破壊が生じにくくなるため、得られる硬化物は好適な密着性を有する。   Especially, the compound (a) which has a 3 or more hydroxyl group in a molecule | numerator, the compound (b) which has a 2 or more isocyanate group in a molecule | numerator, the compound (a) which has a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group ( It is preferable to use urethane (meth) acrylate (U1) obtained from c). By using the urethane (meth) acrylate (U1), it is possible to impart flexibility to the cured film with less warpage when the wet heat environment changes. Further, the urethane bond of urethane (meth) acrylate improves cohesiveness and makes it difficult for cohesive failure to occur, and thus the resulting cured product has suitable adhesion.

3個以上のヒドロキシル基を有する化合物(a)としては、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、グリセリン、ポリグリセリン、及びこれらのエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブチレンオキサイド、2,3−ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドの付加物、ε−カプロラクトン等のラクトン付加物があげられる。   Examples of the compound (a) having three or more hydroxyl groups include trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, glycerin, polyglycerin, and ethylene oxide, propylene oxide, and 1,2-butylene oxide. And adducts of alkylene oxides such as 1,3-butylene oxide and 2,3-butylene oxide, and lactone adducts such as ε-caprolactone.

分子内に2個以上のイソシアネート基を有する化合物(b)としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、シクロヘキサンジイソシアネート、ビス(イソシアナトシクロヘキシル)メタン、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート類が挙げられる。なかでも、分子内に2個のイソシアネート基を有するジイソシアネート化合物を好ましく使用でき、特にイソホロンジイソシアネートは、色相の悪化が無く、かつ光線透過性も低下することがないため特に好ましい。   Examples of the compound (b) having two or more isocyanate groups in the molecule include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, cyclohexane diisocyanate, and bis (isocyanatocyclohexyl). Examples thereof include polyisocyanates such as methane, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and m-phenylene diisocyanate. Among them, a diisocyanate compound having two isocyanate groups in the molecule can be preferably used, and isophorone diisocyanate is particularly preferable because it does not deteriorate the hue and does not lower the light transmittance.

ヒドロキシル基と(メタ)アクリロイル基とを有する化合物(c)としては、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン(メタ)アクリレート等があり、さらにこれらの(メタ)アクリレートと2個以上のヒドロキシル基を有する化合物とを反応させて得られる化合物でも良い。あるいは2個以上のヒドロキシキル基を有する化合物と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる化合物でも良く、例えばグリシジルエーテル化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応物、グリコール化合物のモノ(メタ)アクリレート体等が挙げられる。   Examples of the compound (c) having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, and hydroxycaprolactone (meth) acrylate. Further, a compound obtained by further reacting these (meth) acrylates with a compound having two or more hydroxyl groups may be used. Alternatively, it may be a compound obtained by reacting a compound having two or more hydroxyl groups with (meth) acrylic acid. For example, an addition reaction product of a glycidyl ether compound and (meth) acrylic acid, or a mono (meth) glycol compound (meta) ) Acrylate and the like.

上記ウレタン(メタ)アクリレート(U1)のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量(Mw)としては、1000〜20000であることが好ましく、1500〜15000であることがより好ましい。これにより、本発明の紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの耐久性及び耐光性がより優れたものとなる。なお、GPCは東ソー(株)社製 HLC−8020を用い、カラムはGMHxl−GMHxl−G200Hxl−G1000Hxlwを使用するものとし、溶媒はTHFを用い、1.0ml/minの流量でカラム温度が40℃、検出器温度が30℃、分子量は標準ポリスチレン換算で測定を行うものとする。   As a weight average molecular weight (Mw) measured by the gel permeation chromatography (GPC) of the said urethane (meth) acrylate (U1), it is preferable that it is 1000-20000, and it is more preferable that it is 1500-15000. Thereby, the durability and light resistance of the optical disk using the ultraviolet curable composition of the present invention are further improved. The GPC uses HLC-8020 manufactured by Tosoh Corporation, the column uses GMHxl-GMHxl-G200Hxl-G1000Hxlw, the solvent uses THF, and the column temperature is 40 ° C. at a flow rate of 1.0 ml / min. The detector temperature is 30 ° C., and the molecular weight is measured in terms of standard polystyrene.

上記ウレタン(メタ)アクリレート(U1)を使用する場合には、紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の5〜40質量%で使用することが好ましく、10〜30質量%であることが特に好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート(U1)の含有量を当該範囲とすることで硬化膜に適度な柔軟性を付与することが可能となり、特に湿熱環境変化時における反りの少ない硬化膜を実現できる。   When using the said urethane (meth) acrylate (U1), it is preferable to use at 5-40 mass% in the ultraviolet curable compound contained in an ultraviolet curable composition, and being 10-30 mass%. Is particularly preferred. By setting the content of the urethane (meth) acrylate (U1) in the above range, it is possible to impart an appropriate flexibility to the cured film, and in particular, it is possible to realize a cured film with less warpage when the wet heat environment changes.

また、エポキシ(メタ)アクリレートとしては、例えば、グリシジルエーテル型エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸を反応させることで得られたエポキシアクリレートを用いることができる。グリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加ジグリシジルエーテル、ビスフェノールFあるいはそのアルキレンオキサイド付加ジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加ジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールFあるいはそのアルキレンオキサイド付加ジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル等を挙げることができ、これらのエポキシ(メタ)アクリレート等の活性エネルギー線硬化性オリゴマーの1種もしくは2種以上を用いる事が出来る。
また、式(1)〜(2)
Moreover, as an epoxy (meth) acrylate, the epoxy acrylate obtained by making a glycidyl ether type epoxy compound and (meth) acrylic acid react can be used, for example. Examples of the glycidyl ether type epoxy compound include bisphenol A or its alkylene oxide-added diglycidyl ether, bisphenol F or its alkylene oxide-added diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide-added diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F or its alkylene. Oxide-added diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether and the like, and one of these active energy ray-curable oligomers such as epoxy (meth) acrylate or Two or more types can be used.
Moreover, Formula (1)-(2)

Figure 0005098783
Figure 0005098783

Figure 0005098783
(式(1)〜(2)中、X〜Xは、それぞれ独立してSO、CH、CH(CH)またはC(CHを表し、R〜Rはそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。)
で表される構造単位の少なくとも一種と、
式(3)〜(4)
Figure 0005098783
(In the formulas (1) to (2), X 1 to X 2 each independently represents SO 2 , CH 2 , CH (CH 3 ) or C (CH 3 ) 2 , and R 1 to R 4 represent Independently represents a hydrogen atom or a methyl group.)
At least one of structural units represented by:
Formula (3)-(4)

Figure 0005098783
(式(3)中、Xは、SO、CH、CH(CH)またはC(CHを表し、R〜Rはそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。)
Figure 0005098783
(In the formula (3), X 3 represents SO 2 , CH 2 , CH (CH 3 ) or C (CH 3 ) 2 , and R 5 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. )

Figure 0005098783
(式(4)中、Xは、SO、CH、CH(CH)またはC(CHを表し、R〜Rはそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。)
で表される構造単位とからなり、
前記式(1)で表される構造単位中のYが、式(1)〜(2)で表される他の構造単位のZ〜Zのいずれか又は式(3)中のZに結合し、
前記式(2)で表される構造単位中のY〜Yが、それぞれ水素原子、あるいは、式(1)〜(2)で表される他の構造単位のZ〜Zのいずれか又は式(3)中のZに結合し、
前記式(1)〜(2)で表される構造単位中のZ〜Zが、それぞれ式(1)〜式(2)で表される他の構造単位中のY〜Yのいずれか又は式(4)中のYと結合した分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)を使用することが好ましい。
Figure 0005098783
(In formula (4), X 4 represents SO 2 , CH 2 , CH (CH 3 ) or C (CH 3 ) 2 , and R 7 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. )
And a structural unit represented by
Y 1 in the structural unit represented by the formula (1) is any one of Z 1 to Z 3 of other structural units represented by the formulas (1) to (2) or Z in the formula (3). 4 and
Y 2 to Y 3 in the structural unit represented by the formula (2) are hydrogen atoms or Z 1 to Z 3 of other structural units represented by the formulas (1) to (2), respectively. Or bonded to Z 4 in formula (3),
Z 1 to Z 3 in the structural units represented by the above formulas (1) to (2) are Y 1 to Y 3 in other structural units represented by the formulas (1) to (2), respectively. It is preferable to use any branched epoxy (meth) acrylate (E1) bonded to Y 4 in the formula (4).

上記分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)のなかでも、X〜XがC(CHであり、R〜Rが水素原子のものが、安価に製造できると共に反応制御が容易となるため好ましい。 Among the branched epoxy (meth) acrylates (E1), those in which X 1 to X 4 are C (CH 3 ) 2 and R 1 to R 8 are hydrogen atoms can be produced at low cost and the reaction control is easy. This is preferable.

また、上記分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)は、式(5)   The branched epoxy (meth) acrylate (E1) has the formula (5)

Figure 0005098783
(式(5)中、XはSO、CH、CH(CH)またはC(CHを表し、R〜R10はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。)
で表されるエポキシ(メタ)アクリレート(E2)とのエポキシ(メタ)アクリレート混合物として使用されても良い。通常、分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)の製造時に、式(5)で表されるエポキシ(メタ)アクリレート(E2)が生成するため、両者の混合物を使用することが製造工程上有利である。
Figure 0005098783
(Wherein (in 5), X 5 is SO 2, CH 2, CH ( CH 3) or C (CH 3) represents 2, R 9 ~R 10 independently represents a hydrogen atom or a methyl group.)
It may be used as an epoxy (meth) acrylate mixture with an epoxy (meth) acrylate (E2) represented by: Usually, when the branched epoxy (meth) acrylate (E1) is produced, the epoxy (meth) acrylate (E2) represented by the formula (5) is generated. Therefore, it is advantageous in the production process to use a mixture of both. .

本発明においては、上記分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)として、式(6)   In the present invention, the branched epoxy (meth) acrylate (E1) is represented by the formula (6)

Figure 0005098783
(式(6)中、X〜Xは、それぞれ独立してSO、CH、CH(CH)またはC(CHを表し、R11〜R16はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、nは0〜20である。)
で表される分岐エポキシ(メタ)アクリレートを有することが反応制御が容易となるため好ましい。なかでも、X〜XがC(CHであり、R11〜R16が水素原子のものが、安価に製造できると共に反応制御が容易となるため特に好ましい。
Figure 0005098783
(In formula (6), X 6 to X 8 each independently represent SO 2 , CH 2 , CH (CH 3 ) or C (CH 3 ) 2 , and R 11 to R 16 each independently represent hydrogen. Represents an atom or a methyl group, and n is 0-20.)
It is preferable to have a branched epoxy (meth) acrylate represented by Among these, those in which X 6 to X 8 are C (CH 3 ) 2 and R 11 to R 16 are hydrogen atoms are particularly preferable because they can be produced at low cost and the reaction control becomes easy.

上記分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)は多くの分岐構造を分子骨格中に有している事で、紫外線硬化後の塗膜構造が高架橋密度に形成される事が特徴であり、特に分子中にフェニル骨格を有することで、フェニル骨格に起因する硬い分子骨格を有するため、アクリロイル基の含有量を低く設計して紫外線硬化による架橋反応を少なくしても、塗膜硬度を硬く設計する事が可能となる。すなわち、紫外線硬化時に生じる硬化収縮による硬化膜内の歪みを緩和することができ、その結果、高い弾性率を有し、塗膜の膜厚を厚く設計しても硬化時の反りが少ない光ディスク用塗料を実現できる。光ディスクの中でも特に厚い光透過層が必要とされるブルーレーザーにより信号の記録再生を行う光ディスク用途に最適である。   The branched epoxy (meth) acrylate (E1) has many branched structures in the molecular skeleton, and is characterized in that the coating film structure after UV curing is formed with a high crosslinking density. Since it has a hard molecular skeleton due to the phenyl skeleton, the coating film hardness can be designed to be hard even if the acryloyl group content is designed low and the crosslinking reaction due to ultraviolet curing is reduced. It becomes possible. That is, distortion in the cured film due to curing shrinkage that occurs during UV curing can be alleviated, and as a result, it has a high elastic modulus and has little warpage during curing even when the coating film thickness is designed to be thick A paint can be realized. Among optical discs, it is most suitable for optical disc applications in which signals are recorded and reproduced by a blue laser that requires a particularly thick light transmission layer.

上記分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)は、
(1−1)芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)、
(1−2)(1−2−1)芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)
および/または
(1−2−2)前記(A1)および(A2)以外の
芳香族二官能エポキシ樹脂(B)、
および
(1−3)リン系触媒(C)
を含有する混合物中の芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)中の水酸基とアクリロイル基とを、或いは、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)および芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)中の水酸基とアクリロイル基とを反応させて水酸基、アクリロイル基およびエポキシ基を有する分岐エポキシ(メタ)アクリレート中間体(e1)を含有する反応混合物を得た後、該反応混合物と不飽和モノカルボン酸とを混合し、該反応混合物中の分岐エポキシ(メタ)アクリレート中間体(e1)のエポキシ基と前記不飽和モノカルボン酸中のカルボキシル基とを反応させて得ることができる。
The branched epoxy (meth) acrylate (E1) is
(1-1) Diacrylate (A2) of an aromatic bifunctional epoxy resin,
(1-2) (1-2-1) Aromatic bifunctional epoxy resin monoacrylate (A1)
And / or
(1-2-2) Other than (A1) and (A2)
Aromatic bifunctional epoxy resin (B),
And (1-3) phosphorus catalyst (C)
In the diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin in the mixture containing the diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin and the monoester of the aromatic bifunctional epoxy resin. A reaction mixture containing a branched epoxy (meth) acrylate intermediate (e1) having a hydroxyl group, an acryloyl group and an epoxy group is obtained by reacting the hydroxyl group in the acrylate (A1) with an acryloyl group. It can be obtained by mixing with a saturated monocarboxylic acid and reacting the epoxy group of the branched epoxy (meth) acrylate intermediate (e1) in the reaction mixture with the carboxyl group in the unsaturated monocarboxylic acid.

前記反応混合物中の水酸基とアクリロイル基とエポキシ基を有する分岐エポキシ(メタ)アクリレート中間体(e1)は、芳香族二官能エポキシ樹脂ジアクリレート(A2)中の水酸基とアクリロイル基とを、或いは、芳香族二官能エポキシ樹脂ジアクリレート(A2)および芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)中の水酸基とアクリロイル基とを反応させて得られる分岐状のエポキシ(メタ)アクリレートであり、芳香族二官能ジアクリレート(A2)、芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)および芳香族エポキシ化合物(B)からなる群から選ばれる1種以上の樹脂成分は、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)と、芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)および/または芳香族二官能エポキシ樹脂(B)と、リン系触媒(C)を含有する混合物内(反応系内)での分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)の合成反応を行なった後の未反応樹脂成分である。   The branched epoxy (meth) acrylate intermediate (e1) having a hydroxyl group, an acryloyl group, and an epoxy group in the reaction mixture is a hydroxyl group and an acryloyl group in the aromatic bifunctional epoxy resin diacrylate (A2) or an aromatic group. A branched epoxy (meth) acrylate obtained by reacting a hydroxyl group and an acryloyl group in a monoacrylate (A1) of an aromatic bifunctional epoxy resin diacrylate (A2) and an aromatic bifunctional epoxy resin. One or more resin components selected from the group consisting of a functional diacrylate (A2), a monoacrylate (A1) of an aromatic bifunctional epoxy resin, and an aromatic epoxy compound (B) are diacrylates of an aromatic bifunctional epoxy resin. (A2) and monoacrylate (A1) of aromatic bifunctional epoxy resin and / or Unreacted resin component after the synthesis reaction of the branched epoxy (meth) acrylate (E1) in the mixture (in the reaction system) containing the aromatic bifunctional epoxy resin (B) and the phosphorus catalyst (C) It is.

前記芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)は、芳香族二官能エポキシ樹脂(b)中の2個のエポキシ基がアクリル酸(a)でアクリロイル化されているものである。ここで用いる芳香族二官能エポキシ樹脂(b)としては、例えば、
テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂等のビフェノール型エポキシ樹脂;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性の芳香族二官能エポキシ樹脂;ジヒドロキシナフタレン類をエポキシ化してなるジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂;芳香族二価カルボン酸のグリシジルエステル型樹脂;キシレノールから誘導された二官能エポキシ樹脂、ナフタレンアラルキルエポキシ樹脂;これら芳香族二官能エポキシ樹脂をジシクロペンタジエンで変性したエポキシ樹脂;これら芳香族二官能エポキシ樹脂をジカルボン酸類で変性したエステル変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
The diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin is one in which two epoxy groups in the aromatic bifunctional epoxy resin (b) are acryloylated with acrylic acid (a). As an aromatic bifunctional epoxy resin (b) used here, for example,
Biphenol type epoxy resins such as tetramethylbiphenol type epoxy resin; Bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and bisphenol S type epoxy resin; Dicyclopentadiene modified aromatic bifunctional epoxy resin; Dihydroxynaphthalene-type epoxy resins obtained by epoxidizing naphthalenes; Glycidyl ester-type resins of aromatic divalent carboxylic acids; Bifunctional epoxy resins derived from xylenol, naphthalene aralkyl epoxy resins; Examples include epoxy resins modified with pentadiene; ester-modified epoxy resins obtained by modifying these aromatic bifunctional epoxy resins with dicarboxylic acids.

芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)の調製に用いる芳香族二官能エポキシ樹脂(b)は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   The aromatic bifunctional epoxy resin (b) used for the preparation of the diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin may be used alone or in combination of two or more.

前記芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)および/または芳香族エポキシ化合物(B)としては、例えば、前記芳香族二官能エポキシ樹脂(b)中の2個のエポキシ基のうち1個のエポキシ基がアクリル酸でアクリル化されている芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)の単独、前記芳香族二官能エポキシ樹脂(b)の単独、または、これらの混合物が挙げられる。ここで用いる芳香族二官能エポキシ樹脂(b)としては、前記芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)の調製に用いるものと同じものを使用しても良いし、異なるものを使用しても良い。また、芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)の調製に用いる芳香族二官能エポキシ樹脂(b)は単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   Examples of the monoacrylate (A1) and / or aromatic epoxy compound (B) of the aromatic bifunctional epoxy resin include, for example, one of the two epoxy groups in the aromatic bifunctional epoxy resin (b). A monoacrylate (A1) of an aromatic bifunctional epoxy resin having an epoxy group acrylated with acrylic acid, the aromatic bifunctional epoxy resin (b) alone, or a mixture thereof. The aromatic bifunctional epoxy resin (b) used here may be the same as that used for the preparation of the diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin, or a different one may be used. Also good. Moreover, the aromatic bifunctional epoxy resin (b) used for the preparation of the monoacrylate (A1) of the aromatic bifunctional epoxy resin may be used alone or in combination of two or more.

反応混合物を得るには、例えば、それぞれ別途製造した芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)と、別途製造した芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)および/または芳香族二官能エポキシ樹脂(B)と、リン系触媒(C)とを含有する混合物中で、必要により有機溶剤または反応性希釈剤の存在下、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)中の水酸基とアクリロイル基とを反応させる、或いは、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)および芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)中の水酸基とアクリロイル基とを反応させれば良い。反応させる時の温度は通常100〜170℃、好ましくは100〜150℃である。反応させる時間は通常1〜20時間、好ましくは2〜15時間である。なお、この際には、別途製造した芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)が芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)および/または芳香族二官能エポキシ樹脂(B)を含有してなる混合物であってもよく、またゲル化を生じない範囲であれば、必要に応じて3官能以上の芳香族多官能エポキシ樹脂のアクリレートを併用してもよい。さらに、この際、芳香族モノエポキシ化合物のモノアクリレートおよび/または芳香族モノエポキシ化合物を併用してもよい。   In order to obtain the reaction mixture, for example, a diacrylate (A2) of an aromatic bifunctional epoxy resin produced separately, a monoacrylate (A1) of an aromatic bifunctional epoxy resin and / or an aromatic bifunctional epoxy produced separately, respectively. Hydroxyl and acryloyl in the diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin in a mixture containing the resin (B) and the phosphorus catalyst (C), if necessary, in the presence of an organic solvent or a reactive diluent. A hydroxyl group in the diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin and the monoacrylate (A1) of the aromatic bifunctional epoxy resin may be reacted with the acryloyl group. The temperature for the reaction is usually 100 to 170 ° C, preferably 100 to 150 ° C. The reaction time is usually 1 to 20 hours, preferably 2 to 15 hours. In this case, the diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin produced separately contains the monoacrylate (A1) of the aromatic bifunctional epoxy resin and / or the aromatic bifunctional epoxy resin (B). As long as it does not cause gelation, an acrylate of a trifunctional or higher functional polyfunctional epoxy resin may be used in combination. In this case, a monoacrylate of an aromatic monoepoxy compound and / or an aromatic monoepoxy compound may be used in combination.

前記したように、前記反応混合物を得るには芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)と、芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)および/または芳香族二官能エポキシ樹脂(B)と、リン系触媒(C)を含有する混合物を用いるが、これら(A2)と(A1)および/または(B)として、芳香族二官能エポキシ樹脂(b)とアクリル酸(a)とを、芳香族二官能エポキシ樹脂(b)中のエポキシ基がアクリル酸(a)中のカルボキシル基に対して過剰となる条件で反応させて、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)と、芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)および/または芳香族二官能エポキシ樹脂(B)を含有する反応系とした(以下、この工程を「工程1」と略記することがある。)ものを用いると、以後の反応混合物の製造を続いて実施できることから好ましい。   As described above, in order to obtain the reaction mixture, an aromatic difunctional epoxy resin diacrylate (A2), an aromatic bifunctional epoxy resin monoacrylate (A1) and / or an aromatic bifunctional epoxy resin (B) And a mixture containing a phosphorus-based catalyst (C), these (A2) and (A1) and / or (B), aromatic bifunctional epoxy resin (b) and acrylic acid (a), The aromatic bifunctional epoxy resin (b) is reacted with an epoxy group in excess of the carboxyl group in the acrylic acid (a), and the aromatic bifunctional epoxy resin diacrylate (A2) A reaction system containing a monoacrylate (A1) of an aromatic bifunctional epoxy resin and / or an aromatic bifunctional epoxy resin (B) (hereinafter, this process is abbreviated as “process 1”) There.) With those, preferred since it can be performed subsequently the preparation of subsequent reaction mixtures.

特に、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)と芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)を含有する反応系〔ただし、未反応の芳香族二官能エポキシ樹脂(B)を含有していてもよい。〕、すなわち、前記(A2)と(A1)からなる反応系、または前記(A2)と(A1)と(B)からなる反応系とすることが、容易に実施できることから好ましい。   In particular, a reaction system containing a diacrylate (A2) of an aromatic bifunctional epoxy resin and a monoacrylate (A1) of an aromatic bifunctional epoxy resin [however, an unreacted aromatic bifunctional epoxy resin (B) is contained. It may be. That is, a reaction system composed of (A2) and (A1) or a reaction system composed of (A2), (A1) and (B) is preferable because it can be easily carried out.

さらにこの反応系内の芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)中の水酸基とアクリロイル基とを、或いは、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)および芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)中の水酸基とアクリロイル基とを、リン系触媒(C)の存在下で反応させる。そして、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)、或いは、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)及び芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)を高分子量化してなる、水酸基とアクリロイル基とエポキシ基を有する分岐エポキシ(メタ)アクリレート中間体(e1)ならびに、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)、芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)および芳香族二官能エポキシ樹脂(B)からなる群から選ばれる1種以上の未反応樹脂成分とを含有する反応混合物とする。   Furthermore, the hydroxyl group and acryloyl group in the diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin in the reaction system, or the monoacrylate of the aromatic bifunctional epoxy resin diacrylate (A2) and the aromatic bifunctional epoxy resin are used. The hydroxyl group and acryloyl group in the acrylate (A1) are reacted in the presence of the phosphorus catalyst (C). A hydroxyl group obtained by increasing the molecular weight of a diacrylate (A2) of an aromatic bifunctional epoxy resin or a diacrylate (A2) of an aromatic bifunctional epoxy resin and a monoacrylate (A1) of an aromatic bifunctional epoxy resin. Branched epoxy (meth) acrylate intermediate (e1) having acryloyl group and epoxy group, diacrylate (A2) of aromatic bifunctional epoxy resin, monoacrylate (A1) of aromatic bifunctional epoxy resin and aromatic difunctional epoxy resin Let it be the reaction mixture containing 1 or more types of unreacted resin components chosen from the group which consists of a functional epoxy resin (B).

尚、本発明で用いる芳香族二官能エポキシ樹脂(B)は前記(A1)および(A2)以外のエポキシ樹脂である。前記工程1では、芳香族二官能エポキシ樹脂(b)とアクリル酸(a)とを、芳香族二官能エポキシ樹脂(b)中のエポキシ基がアクリル酸(a)中のカルボキシル基に対して過剰となる条件で反応させるので、アクリル酸(a)と反応せずに残った芳香族二官能エポキシ樹脂(b)が存在する。この残存する芳香族二官能エポキシ樹脂(b)は、芳香族二官能エポキシ樹脂(b)とアクリル酸(a)との反応物である芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)や芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)と異なる。従って、残存する芳香族二官能エポキシ樹脂(b)は(A1)および(A2)以外の芳香族二官能エポキシ樹脂(B)となる。   The aromatic bifunctional epoxy resin (B) used in the present invention is an epoxy resin other than the above (A1) and (A2). In the step 1, the aromatic bifunctional epoxy resin (b) and the acrylic acid (a) are used in an excess amount of the epoxy group in the aromatic bifunctional epoxy resin (b) with respect to the carboxyl group in the acrylic acid (a). Therefore, there is an aromatic bifunctional epoxy resin (b) remaining without reacting with acrylic acid (a). The remaining aromatic bifunctional epoxy resin (b) is an aromatic bifunctional epoxy resin diacrylate (A2) or aromatic which is a reaction product of the aromatic bifunctional epoxy resin (b) and acrylic acid (a). Different from monoacrylate (A1) of bifunctional epoxy resin. Therefore, the remaining aromatic bifunctional epoxy resin (b) becomes an aromatic bifunctional epoxy resin (B) other than (A1) and (A2).

本発明で用いるリン系触媒(C)としては、例えば、ホスフィン類、ホスホニウム塩類等が挙げられる。中でも、ホスフィン類が最も好ましい。   Examples of the phosphorus catalyst (C) used in the present invention include phosphines and phosphonium salts. Of these, phosphines are most preferable.

前記ホスフィン類としては、トリアルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリアルキルフェニルホスフィン等が挙げられ、なかでも反応制御が容易なことからトリフェニルホスフィンが特に好ましい。   Examples of the phosphines include trialkylphosphine, triphenylphosphine, trialkylphenylphosphine and the like, and triphenylphosphine is particularly preferable because of easy reaction control.

リン系触媒(C)の使用量としては、触媒量が多いほど混合物中の芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)および芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)中の水酸基とアクリロイル基との反応が進行しやすいが、ゲル化しやすくなることおよび組成物の安定性が悪化することを考慮すると、芳香族二官能エポキシ樹脂(b)とアクリル酸(a)の合計重量に対して10〜30,000ppmの範囲が好ましい。   As the amount of the phosphorus catalyst (C) used, the larger the catalyst amount, the hydroxyl group and acryloyl in the diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin and the monoacrylate (A1) of the aromatic bifunctional epoxy resin in the mixture In consideration of the fact that the reaction with the group tends to proceed, but the gelation is likely to occur and the stability of the composition is deteriorated, the total weight of the aromatic bifunctional epoxy resin (b) and acrylic acid (a) A range of 10 to 30,000 ppm is preferred.

前記芳香族二官能エポキシ樹脂(b)や芳香族二官能エポキシ樹脂(B)としては、なかでも硬化性に優れる樹脂組成物が得られることから、エポキシ当量が135〜2,000g/当量であるものが好ましく、エポキシ当量が135〜500g/当量であるものがより好ましい。また、硬化物の機械物性に優れる樹脂組成物が得られることから、テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂等のビフェノール型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン類をエポキシ化してなるジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂が好ましく、ビスフェノールA型エポキシ樹脂または1,6−ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂がより好ましく、ビスフェノールA型エポキシ樹脂が最も好ましい。   As said aromatic bifunctional epoxy resin (b) and aromatic bifunctional epoxy resin (B), since the resin composition excellent in sclerosis | hardenability is obtained especially, an epoxy equivalent is 135-2,000 g / equivalent. The thing whose epoxy equivalent is 135-500 g / equivalent is more preferable. Moreover, since a resin composition having excellent mechanical properties of a cured product can be obtained, biphenol type epoxy resins such as tetramethylbiphenol type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, etc. A bisphenol type epoxy resin and a dihydroxynaphthalene type epoxy resin obtained by epoxidizing dihydroxynaphthalene are preferable, a bisphenol A type epoxy resin or a 1,6-dihydroxynaphthalene type epoxy resin is more preferable, and a bisphenol A type epoxy resin is most preferable.

芳香族二官能エポキシ樹脂(b)中のエポキシ基がアクリル酸(a)中のカルボキシル基に対して過剰である範囲としては、特に限定されないが、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)中の水酸基とアクリロイル基の反応、或いは、芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート(A2)および芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート(A1)中の水酸基とアクリロイル基の反応が円滑に進行することから、芳香族二官能エポキシ樹脂(b)中のエポキシ基とアクリル酸(a)中のカルボキシル基の当量比〔(エポキシ基当量)/(カルボキシル基当量)〕が1.1〜5.5となる範囲であることが好ましい。また、得られる分岐型ポリエーテル樹脂の分子量調整が容易になることから、前記当量比〔(エポキシ基当量)/(カルボキシル基当量)〕は、なかでも1.25〜3.0となる範囲であることがより好ましい。   The range in which the epoxy group in the aromatic bifunctional epoxy resin (b) is excessive relative to the carboxyl group in the acrylic acid (a) is not particularly limited, but is a diacrylate (A2) of the aromatic bifunctional epoxy resin. Reaction of hydroxyl group and acryloyl group in diacrylate (A2) of aromatic bifunctional epoxy resin and monoacrylate (A1) of aromatic bifunctional epoxy resin should proceed smoothly. From the above, the equivalent ratio [(epoxy group equivalent) / (carboxyl group equivalent)] of the epoxy group in the aromatic bifunctional epoxy resin (b) and the carboxyl group in the acrylic acid (a) is 1.1 to 5.5. It is preferable that it is the range. In addition, since the molecular weight of the obtained branched polyether resin can be easily adjusted, the equivalent ratio [(epoxy group equivalent) / (carboxyl group equivalent)] is 1.25 to 3.0. More preferably.

反応混合物中のエポキシ基と前記不飽和モノカルボン酸中のカルボキシル基とを反応させる工程においては、前記反応混合物中のエポキシ基と不飽和モノカルボン酸中のカルボキシル基を反応させることにより、エポキシ基の大部分または全部が消費されて、水酸基とアクリロイル基含有不飽和モノカルボン酸エステル構造を有する分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)となり、反応系はこの分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)と芳香族二官能エポキシ樹脂のジ(不飽和モノカルボン酸)エステルを含有する分岐エポキシ(メタ)アクリレート組成物(II)を得ることができる。   In the step of reacting the epoxy group in the reaction mixture with the carboxyl group in the unsaturated monocarboxylic acid, an epoxy group is obtained by reacting the epoxy group in the reaction mixture with the carboxyl group in the unsaturated monocarboxylic acid. Most of or all of the above is consumed to form a branched epoxy (meth) acrylate (E1) having a hydroxyl group and an acryloyl group-containing unsaturated monocarboxylic acid ester structure, and the reaction system is composed of this branched epoxy (meth) acrylate (E1) and aroma. A branched epoxy (meth) acrylate composition (II) containing a di (unsaturated monocarboxylic acid) ester of a group II functional epoxy resin can be obtained.

ここで用いる不飽和モノカルボン酸としては、例えば、重合性不飽和基とカルボキシル基をそれぞれ1個有する化合物等が挙げられ、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、モノメチルマレート、モノエチルマレート、モノプロピルマレート、モノブチルマレート、モノ(2−エチルヘキシル)マレート、ソルビン酸等を通常用いるが、さらにヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシシクロへキシル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の様な水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物とジカルボン酸無水物との反応による得られる不飽和ハーフエステル化物、重合性不飽和基と1個のカルボキシル基を有する化合物にε−カプロラクトンを反応させたラクトン変性不飽和モノカルボン酸、アクリル酸のダイマー等であってもよい。これらの中でも、アクリル酸および/またはメタクリル酸が好ましい。   Examples of the unsaturated monocarboxylic acid used here include compounds having one polymerizable unsaturated group and one carboxyl group, and specifically include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, monomethyl. Malate, monoethylmalate, monopropylmalate, monobutylmalate, mono (2-ethylhexyl) malate, sorbic acid, etc. are usually used, but hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxy A dicarboxylic acid anhydride and a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group such as butyl (meth) acrylate, hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, etc. Obtained by reaction Unsaturated half ester, polymerizable unsaturated group and one lactone-modified unsaturated monocarboxylic acids with compounds ε- caprolactone reacted with a carboxyl group, may be a dimer of acrylic acid. Among these, acrylic acid and / or methacrylic acid are preferable.

また、反応混合物中のエポキシ基と不飽和モノカルボン酸中のカルボキシル基の当量比(エポキシ基/カルボキシル基)が0.9/1〜1/0.9となる範囲で反応させることで経時安定性、硬化性に優れる分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)が得られることから好ましい。さらに、活性エネルギー線硬化性に優れることから、不飽和モノカルボン酸としてはアクリル酸および/またはメタクリル酸が好ましい。   In addition, it is stable over time by reacting the epoxy group in the reaction mixture and the carboxyl group in the unsaturated monocarboxylic acid in an amount ratio of 0.9 / 1 to 1 / 0.9 (epoxy group / carboxyl group). This is preferable because a branched epoxy (meth) acrylate (E1) having excellent properties and curability is obtained. Furthermore, acrylic acid and / or methacrylic acid are preferable as the unsaturated monocarboxylic acid because of its excellent active energy ray curability.

反応混合物中のエポキシ基と不飽和モノカルボン酸の反応温度は通常80〜160℃であるが、なかでも合成時の安定性が良好なことから100〜140℃であることが好ましい。また、反応時間は、通常1〜20時間、好ましくは2〜15時間である。この時、反応触媒として、塩基性触媒を追加添加しても良い。   The reaction temperature of the epoxy group and the unsaturated monocarboxylic acid in the reaction mixture is usually from 80 to 160 ° C., and among these, from 100 to 140 ° C. is preferable because the stability during synthesis is good. Moreover, reaction time is 1 to 20 hours normally, Preferably it is 2 to 15 hours. At this time, a basic catalyst may be additionally added as a reaction catalyst.

塩基性触媒としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリスジメチルアミノメチルフェノール、ベンジルジメチルアミン、ジエタノールアミン等の3級アミン類;テトラメチルアンモニュウムハイドロオキサイド、テトラブチルアンモニュウムハイドロオキサイド等の4級アンモニュウムヒドロキシド類;2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;ジエチルアミン塩酸塩、ジアザビスシクロウンデセン等の窒素化合物類;トリフェニルホスフィン等のトリアルキルホスフィン類;テトラ−n−ブチルホスホニウムハイドロオキサイド等のテトラアルキルホスホニウムハイドロオキサイド類;ナフテン酸クロムなどの金属塩類;トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩類;テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイド、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド等のホスホニウム塩類等のハロゲン系触媒;水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等の無機触媒が挙げられる。   Examples of the basic catalyst include tertiary amines such as triethylamine, tributylamine, trisdimethylaminomethylphenol, benzyldimethylamine and diethanolamine; quaternary ammonium hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetrabutylammonium hydroxide. Imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole; nitrogen compounds such as diethylamine hydrochloride and diazabiscycloundecene; trialkylphosphines such as triphenylphosphine; tetra-n-butyl Tetraalkylphosphonium hydroxides such as phosphonium hydroxide; metal salts such as chromium naphthenate; trimethylbenzylammonium chloride, tetra Quaternary ammonium salts such as chill chloride; tetra -n- butyl phosphonium bromide, silver-based catalysts such as phosphonium salts such as ethyltriphenylphosphonium bromide; sodium hydroxide, and inorganic catalysts such as lithium hydroxide.

これらの塩基性触媒としては、非ハロゲン系触媒が好ましく、さらに3級アミン類、4級アンモニュウム塩類等の窒素化合物類;ホスフィン類、ホスホニウム塩類等のリン系触媒等が好ましい。これらのなかでも、第一工程で必須の触媒として使用できることから、ホスフィン類、ホスホニウム塩類等のリン系触媒がより好ましく、ホスフィン類が最も好ましい。   As these basic catalysts, non-halogen-based catalysts are preferable, and nitrogen compounds such as tertiary amines and quaternary ammonium salts; phosphorus-based catalysts such as phosphines and phosphonium salts are preferable. Among these, phosphorus catalysts such as phosphines and phosphonium salts are more preferable, and phosphines are most preferable because they can be used as an essential catalyst in the first step.

前記ホスフィン類としては、トリアルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリアルキルフェニルホスフィン等が挙げられ、なかでも反応制御が容易なことからトリフェニルホスフィンが特に好ましい。   Examples of the phosphines include trialkylphosphine, triphenylphosphine, trialkylphenylphosphine and the like, and triphenylphosphine is particularly preferable because of easy reaction control.

塩基性触媒の使用量としては、触媒量が多いほど反応が進行しやすいが、ゲル化しやすくなることおよび組成物の安定性が悪化することを考慮すると、芳香族二官能エポキシ樹脂(b)とアクリル酸(a)の合計重量に対して10〜30,000ppmの範囲が好ましい。異なるリン系触媒を添加しても良いし、反応途中で追加しても良い。   As the amount of the basic catalyst used, the more the amount of the catalyst, the more easily the reaction proceeds. However, in consideration of the fact that gelation is likely and the stability of the composition deteriorates, the aromatic bifunctional epoxy resin (b) and The range of 10-30,000 ppm is preferable with respect to the total weight of acrylic acid (a). Different phosphorus catalysts may be added, or may be added during the reaction.

本発明の分岐エポキシ(メタ)アクリレートを合成した場合、通常、上記式(1)や(2)で表される構造単位の繰り返し数nが1〜100の範囲にある分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)と、上記式(5)で表されるエポキシ(メタ)アクリレートの混合物として得られ、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー等で分析すると、nが種々の値を示す化合物の分布が観察できる。従って、本発明の紫外線硬化型組成物を調整する際には、当該混合物を使用することが簡便である。当該混合物を使用する場合には、n=1〜100の分岐エポキシ(メタ)アクリレートを30質量%以上含有する混合物を使用することが好ましく、35質量%以上含有する混合物がより好ましい。   When the branched epoxy (meth) acrylate of the present invention is synthesized, a branched epoxy (meth) acrylate having a repeating number n of the structural unit represented by the above formula (1) or (2) in the range of 1 to 100 is usually used. Obtained as a mixture of E1) and the epoxy (meth) acrylate represented by the above formula (5), and analyzed by, for example, gel permeation chromatography, the distribution of compounds in which n has various values can be observed. Therefore, when adjusting the ultraviolet curable composition of this invention, it is easy to use the said mixture. When using the said mixture, it is preferable to use the mixture containing 30 mass% or more of branched epoxy (meth) acrylates of n = 1-100, and the mixture containing 35 mass% or more is more preferable.

本発明においては、上記の分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)と上記式(5)で表されるエポキシ(メタ)アクリレートの混合物のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定した結果より確認される分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)の重量平均分子量(Mw)が、1000〜10000のものを使用することが好ましく、1500〜8000であることが好ましく、2000〜6000であることがさらに好ましい。分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)の分子量を上記の範囲とすることにより、粘度が必要以上に高くなる事が避けられ、本発明の紫外線硬化型組成物中に含有される必須成分である分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)の含有量を高くする事が出来る。また、混合物中の分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)とエポキシ(メタ)アクリレート(E2)との比が、上記GPCで測定したクロマトグラムによる面積比で、分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)/エポキシ(メタ)アクリレート(E2)=10/1〜1/2であることが好ましく、5/1〜1/1であることがより好ましく、3/1〜3/2が更に好ましい。   In this invention, it confirms from the result measured by the gel permeation chromatography (GPC) of the mixture of said branched epoxy (meth) acrylate (E1) and the epoxy (meth) acrylate represented by said Formula (5). The weight average molecular weight (Mw) of the branched epoxy (meth) acrylate (E1) is preferably 1000 to 10,000, preferably 1500 to 8000, and more preferably 2000 to 6000. By making the molecular weight of the branched epoxy (meth) acrylate (E1) within the above range, it is possible to avoid the viscosity from becoming higher than necessary, and the branched component that is an essential component contained in the ultraviolet curable composition of the present invention. The content of the epoxy (meth) acrylate (E1) can be increased. Further, the ratio of the branched epoxy (meth) acrylate (E1) to the epoxy (meth) acrylate (E2) in the mixture is an area ratio according to the chromatogram measured by the GPC, and the branched epoxy (meth) acrylate (E1) / Epoxy (meth) acrylate (E2) = 10/1 to 1/2 is preferable, 5/1 to 1/1 is more preferable, and 3/1 to 3/2 is still more preferable.

なお、GPCによる重量平均分子量は、例えば、東ソー(株)社製 HLC−8220を用い、カラムはSuper HZM―M4本を使用し、溶媒はTHFを用い、1.0ml/minの流量でカラム温度が40℃、検出器温度が30℃、分子量は標準ポリスチレン換算で測定を行うことで特定される。   The weight average molecular weight by GPC is, for example, using HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation, using 4 Super HZM-M columns as the column, using THF as the solvent, and the column temperature at a flow rate of 1.0 ml / min. Is 40 ° C., the detector temperature is 30 ° C., and the molecular weight is specified by measuring in terms of standard polystyrene.

分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)を使用する場合には、分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)を紫外線硬化型組成物に含まれるラジカル重合性化合物全量中の10〜80質量%含有することが好ましく、20〜70質量%含有することがより好ましい。   When the branched epoxy (meth) acrylate (E1) is used, the branched epoxy (meth) acrylate (E1) may be contained in an amount of 10 to 80% by mass in the total amount of the radical polymerizable compound contained in the ultraviolet curable composition. Preferably, the content is 20 to 70% by mass.

上記のウレタン(メタ)アクリレート(U1)と分岐エポキシ(メタ)アクリレート(E1)は併用して使用することも好ましく、これらを併用する場合には、(UA1)/(E1)で表される質量比で、1/5〜1/1で使用することで、高い弾性率を得やすくなるため好ましい。   The urethane (meth) acrylate (U1) and the branched epoxy (meth) acrylate (E1) are also preferably used in combination. When these are used in combination, the mass represented by (UA1) / (E1) The ratio is preferably 1/5 to 1/1 because it is easy to obtain a high elastic modulus.

[(メタ)アクリレートモノマー]
本発明の紫外線硬化型組成物に使用する(メタ)アクリレートモノマーとしては、特に制限されず、一分子中に一の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートモノマー(以下、単官能(メタ)アクリレートと称する)や、一分子中に二個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートモノマー(以下、二官能の(メタ)アクリレートと称する。)、更には一分子中に三以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートモノマー(以下、多官能の(メタ)アクリレートモノマーと称する。)を使用でき、これらを適宜配合することで、所望の粘度、硬化後の弾性率を有する組成物を得ることができる。
[(Meth) acrylate monomer]
The (meth) acrylate monomer used in the ultraviolet curable composition of the present invention is not particularly limited, and a (meth) acrylate monomer having one (meth) acryloyl group in one molecule (hereinafter referred to as monofunctional (meth)). Acrylate), a (meth) acrylate monomer having two (meth) acryloyl groups in one molecule (hereinafter referred to as a bifunctional (meth) acrylate), and three or more ( A (meth) acrylate monomer having a (meth) acryloyl group (hereinafter referred to as a polyfunctional (meth) acrylate monomer) can be used, and a composition having a desired viscosity and an elastic modulus after curing by appropriately blending these. You can get things.

単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、等の脂肪族(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラシクロドデカニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、イソボルニル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシメチル−2−メチルビシクロヘプタンアダマンチル(メタ)アクリレート、などを使用できる。   Examples of monofunctional (meth) acrylates include ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, and octadecyl. (Meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl ( Aliphatic (meth) acrylates such as (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydride Aromatic (meth) acrylates such as xyl-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, di Cyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetracyclododecanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, alicyclic (meth) acrylate such as glycidyl (meth) acrylate, caprolactone modified tetrahydro Furfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, isobornyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxymethyl-2- Chi ruby cycloheptane adamantyl (meth) acrylate, and the like can be used.

中でも、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートを用いた場合、膜厚変化量が少なく、反り変化量も少なくなるため、好ましい。   Among these, when tetrahydrofurfuryl acrylate or phenoxyethyl acrylate is used, it is preferable because the amount of change in film thickness is small and the amount of change in warpage is also small.

二官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2−メチル−1,8−オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール1モルに4モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸ジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、脂環式構造を有する(メタ)アクリレートとしては、脂環式の二官能(メタ)アクリレートとして、ノルボルナンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジエタノールジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド2モル付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド2モル付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド2モル付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド2モル付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等を使用できる。   Examples of the bifunctional (meth) acrylate include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth) acrylate. , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2-methyl-1,8-octanediol di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di ( Obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol Diol Di (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified alkylated phosphoric acid di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di ( (Meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate having alicyclic structure, alicyclic bifunctional (meth) acrylate, norbornane dimethanol di (meth) Di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to acrylate, norbornane diethanol di (meth) acrylate, norbornane dimethanol, tricycle Di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to tricyclodecane diethanol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol, and pentacyclopentadecane dimethanol Di (meth) acrylate, pentacyclopentadecane diethanol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to pentacyclopentadecane dimethanol, ethylene oxide or pentacyclopentadecane diethanol Di (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentane di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of propylene oxide, hydroxy Valaldehyde-modified trimethylolpropane di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, propylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, and the like can be used.

なかでもトリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等が好ましく、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレートが特に好ましい。   Of these, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, etc. are preferred, and hydroxypivalin. Acid neopentyl glycol di (meth) acrylate and ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate are particularly preferred.

また、硬化後の弾性率を高く調整したい場合に、三官能以上の(メタ)アクリレートを使用してもよく、例えば、ビス(2−アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス(2−アクリロイルオキシプロピル)ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス(2−アクリロイルオキシブチル)ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス(2−メタクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス(2−メタクリロイルオキシプロピル)ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス(2−メタクリロイルオキシブチル)ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−アクリロイルオキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(2−アクリロイルオキシブチル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロイルオキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(2−メタクリロイルオキシブチル)イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート、等を使用できる。   Further, when it is desired to adjust the elastic modulus after curing to a high level, trifunctional or higher (meth) acrylates may be used. For example, bis (2-acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, bis (2-acryloyloxy) Propyl) hydroxypropyl isocyanurate, bis (2-acryloyloxybutyl) hydroxybutyl isocyanurate, bis (2-methacryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, bis (2-methacryloyloxypropyl) hydroxypropyl isocyanurate, bis (2- Methacryloyloxybutyl) hydroxybutyl isocyanurate, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (2-acryloyloxypropyl) isocyanurate, tris (2-actyl (Royloxybutyl) isocyanurate, tris (2-methacryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (2-methacryloyloxypropyl) isocyanurate, tris (2-methacryloyloxybutyl) isocyanurate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditri 3 moles of methylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1 mole of trimethylolpropane Diol or tri (meth) acrylate of triol obtained by adding the above ethylene oxide or propylene oxide, dipentaene Polyfunctional (meth) acrylates of poly (meth) acrylate of Suritoru, etc. can be used.

また、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等の紫外線硬化性化合物も必要に応じて使用できる。   Moreover, ultraviolet curable compounds, such as N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl caprolactam, a vinyl ether monomer, can also be used as needed.

本発明における紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物全量中の単官能(メタ)アクリレートの含有量としては、5〜60質量%であることが好ましく、特に10〜50質量%であることが好ましい。二官能(メタ)アクリレートの含有量は3〜40質量%であることが好ましく、特に5〜30質量%であることが好ましい。また、三官能以上の(メタ)アクリレートの含有量は、20質量%以下であることが好ましく、特に10質量%以下であることが好ましい。   The content of the monofunctional (meth) acrylate in the total amount of the ultraviolet curable compound contained in the ultraviolet curable composition in the present invention is preferably 5 to 60% by mass, particularly 10 to 50% by mass. Is preferred. The content of the bifunctional (meth) acrylate is preferably 3 to 40% by mass, particularly preferably 5 to 30% by mass. Further, the content of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate is preferably 20% by mass or less, particularly preferably 10% by mass or less.

[開始剤、添加剤]
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物中には、上記(メタ)アクリレートオリゴマーや(メタ)アクリレートモノマー以外に、公知の光重合開始剤、及び熱重合開始剤等を用いる事が出来る。
[Initiator, additive]
In the ultraviolet curable composition for optical disks of the present invention, known photopolymerization initiators, thermal polymerization initiators, and the like can be used in addition to the (meth) acrylate oligomers and (meth) acrylate monomers.

本発明に使用できる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン及び2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤等がある。   Examples of the photopolymerization initiator that can be used in the present invention include benzoin isobutyl ether, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, benzyl, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one and 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2 There are molecular cleavage types such as morpholinopropan-1-one and hydrogen abstraction type photopolymerization initiators such as benzophenone, 4-phenylbenzophenone, isophthalphenone, 4-benzoyl-4′-methyl-diphenyl sulfide.

本発明の紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N,N−ジメチルベンジルアミン及び4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。   In the ultraviolet curable composition of the present invention, as necessary, surfactants, leveling agents, thermal polymerization inhibitors, antioxidants such as hindered phenols and phosphites, and light stabilizers such as hindered amines are added as necessary. Can also be used. Examples of sensitizers include trimethylamine, methyldimethanolamine, triethanolamine, p-dimethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylbenzylamine and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone or the like can be used, and further, an amine that does not cause an addition reaction with the photopolymerizable compound can be used in combination.

[紫外線硬化型組成物]
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、上記例示した(メタ)アクリレートオリゴマー及び(メタ)アクリレートモノマーとを含有し、(メタ)アクリロイル基濃度が4mmol/g以下であり、紫外線硬化後の硬化膜の30℃における弾性率が2000MPa以上の紫外線硬化型組成物である。
[UV curable composition]
The ultraviolet curable composition for optical disks of the present invention contains the above-exemplified (meth) acrylate oligomer and (meth) acrylate monomer, has a (meth) acryloyl group concentration of 4 mmol / g or less, and is cured after UV curing. It is an ultraviolet curable composition having an elastic modulus at 30 ° C. of 2000 MPa or more.

本発明においては、(メタ)アクリロイル基濃度と弾性率を当該範囲とすることにより、紫外線照射時の硬化収縮を低減し、湿熱環境変化時における反り変化の少ない硬化膜を実現できる。また、紫外線硬化後の硬化膜の30℃における弾性率が2000MPa以上であることから外部からの荷重によって変形にしにくく寸法安定性に優れた硬化膜を実現できる。さらに、多官能ウレタン(メタ)アクリレートを使用することで優れた耐磨耗性を有する硬化膜を実現できる。   In the present invention, by setting the (meth) acryloyl group concentration and the elastic modulus within the above ranges, it is possible to reduce the curing shrinkage at the time of ultraviolet irradiation and to realize a cured film with little warpage change at the time of wet heat environment change. Moreover, since the elastic modulus at 30 ° C. of the cured film after UV curing is 2000 MPa or more, it is possible to realize a cured film that is difficult to be deformed by an external load and excellent in dimensional stability. Furthermore, the cured film which has the outstanding abrasion resistance is realizable by using polyfunctional urethane (meth) acrylate.

また、本発明の紫外線硬化型組成物においては、その設計(メタ)アクリロイル基濃度を4.2mmol/g以下、好ましくは4.1mmol/g以下、より好ましくは4.05mmol/g以下とする。設計(メタ)アクリロイル基濃度を当該範囲とすることで、紫外線照射時の硬化収縮を低減し、湿熱環境変化時における反り変化の少ない硬化膜を形成できるため、光ディスクに適用した際に様々な使用環境下での反り変化を低減できる。   Moreover, in the ultraviolet curable composition of this invention, the design (meth) acryloyl group density | concentration shall be 4.2 mmol / g or less, Preferably it is 4.1 mmol / g or less, More preferably, it is 4.05 mmol / g or less. By setting the design (meth) acryloyl group concentration within this range, curing shrinkage during UV irradiation can be reduced, and a cured film can be formed with less warpage change when changing to a moist heat environment. It is possible to reduce changes in warpage under the environment.

紫外線硬化型組成物中の(メタ)アクリロイル基濃度とは、紫外線硬化型組成物1g中に含まれる(メタ)アクリロイル基の濃度(mmol)をいう。詳細には、(メタ)アクリレート成分を任意の複数成分含んでいる紫外線硬化型組成物においては、下式により算出される濃度である。   The (meth) acryloyl group concentration in the ultraviolet curable composition refers to the concentration (mmol) of the (meth) acryloyl group contained in 1 g of the ultraviolet curable composition. Specifically, in an ultraviolet curable composition containing a plurality of (meth) acrylate components, the concentration is calculated by the following equation.

[紫外線硬化型組成物の(メタ)アクリロイル基濃度]=[Σm/Σm](mmol/g)
:紫外線硬化型組成物に含まれる成分iの配合量(g)
:成分iの(メタ)アクリロイル基濃度(mmol/g)
[(Meth) acryloyl group concentration of ultraviolet curable composition] = [Σm i c i / Σm i ] (mmol / g)
m i : Compounding amount (g) of component i contained in the ultraviolet curable composition
c i : (meth) acryloyl group concentration of component i (mmol / g)

また、個々の(メタ)アクリレート成分であるi成分の(メタ)アクリロイル基濃度は、下式により算出される。   Moreover, the (meth) acryloyl group density | concentration of i component which is each (meth) acrylate component is calculated by the following formula.

[成分iの(メタ)アクリロイル基濃度]=[F×10/M](mmol/g)
F:成分iの1分子あたりの(メタ)アクリロイル基数
M:成分iの1分子あたりの分子量(g/mol)
[(Meth) acryloyl group concentration of component i] = [F × 10 3 / M] (mmol / g)
F: Number of (meth) acryloyl groups per molecule of component i M: Molecular weight per molecule of component i (g / mol)

なお、上記算出に際し、組成物中の添加剤等の質量は計算の際に考慮しないものとする。   In the above calculation, the mass of the additive and the like in the composition is not considered in the calculation.

本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線を照射した後の硬化膜の弾性率が、2000MPa(30℃)以上となるように調整することが好ましい。中でも2000〜3500MPaとなる組成であることがより好ましい。弾性率がこの範囲となる組成であると、外部からの荷重によって変形しにくく寸法安定性に優れた光ディスクを得ることができる。   The ultraviolet curable composition of the present invention is preferably adjusted so that the elastic modulus of the cured film after irradiation with ultraviolet rays is 2000 MPa (30 ° C.) or more. Among these, a composition of 2000 to 3500 MPa is more preferable. When the elastic modulus is in this range, an optical disk that is not easily deformed by an external load and has excellent dimensional stability can be obtained.

本発明の紫外線硬化型組成物において、(メタ)アクリロイル基濃度を下げつつ弾性率を上げるに際しては、一定の架橋点間距離を確保すると共に、架橋密度を高くする組成物設計が有効である。また、架橋点間距離を確保する際には、モノマー成分の高分子量化よりも、高分子量の(メタ)アクリレートオリゴマーにより調整することが好ましい。また架橋密度の向上においては、(メタ)アクリレートオリゴマー成分の多官能化や、(メタ)アクリレートモノマーの多官能化により向上させることができる。具体的にはフレキシブルな構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーと、主鎖は剛直な骨格であるが、オリゴマーとしては比較的自由に架橋点を形成しやすい櫛形のエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーとを併用することが好ましい。   In the ultraviolet curable composition of the present invention, in order to increase the elastic modulus while lowering the (meth) acryloyl group concentration, it is effective to design a composition that ensures a certain distance between crosslinking points and increases the crosslinking density. Moreover, when ensuring the distance between bridge | crosslinking points, it is preferable to adjust with a high molecular weight (meth) acrylate oligomer rather than high molecular weight of a monomer component. Moreover, in the improvement of a crosslinking density, it can improve by polyfunctionalization of a (meth) acrylate oligomer component or polyfunctionalization of a (meth) acrylate monomer. Specifically, a polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer having a flexible structure and a comb-shaped epoxy (meth) acrylate oligomer that has a rigid skeleton as the main chain, but can easily form a crosslinking point as an oligomer. It is preferable to use together.

本発明の紫外線硬化型組成物は、上記紫外線硬化性化合物を調整し、粘度を800〜5000mPa・s、好ましくは1000〜2500mPa・sとすることで、厚膜の光透過層を好適に形成できる。   The ultraviolet curable composition of the present invention can suitably form a thick light-transmitting layer by adjusting the ultraviolet curable compound and adjusting the viscosity to 800 to 5000 mPa · s, preferably 1000 to 2500 mPa · s. .

[光ディスク]
本発明の光ディスクは、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクであって、光透過層が、上記の紫外線硬化型組成物の硬化物からなるものである。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した紫外線硬化型組成物を使用することにより、高温高湿下でも、銀又は銀合金を反射膜として使用した場合に、優れた耐久性を得ることができるため、良好に情報の記録・再生を行うことができる。
[optical disk]
The optical disc of the present invention is an optical disc in which at least a light reflection layer and a light transmission layer are formed on a substrate, and recording or reproduction is performed with a laser beam through the light transmission layer. It consists of a cured product of the composition. The optical disk of the present invention obtains excellent durability when silver or a silver alloy is used as a reflective film, even under high temperature and high humidity, by using the above-described ultraviolet curable composition as a light transmission layer. Therefore, information can be recorded / reproduced satisfactorily.

本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が370〜430nmであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましく、100μmの厚さにおいて405nmの光の透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることが特に好ましい。   The light transmitting layer in the optical disk of the present invention preferably transmits a blue laser whose laser light oscillation wavelength is 370 to 430 nm efficiently, and has a transmittance of 405 nm light of 85% or more at a thickness of 100 μm. Is preferable, and 90% or more is particularly preferable.

本発明の光ディスクにおける光透過層の厚みは70〜110μmであることが好ましい。光透過層の厚みは、通常、約100μmに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。   The thickness of the light transmission layer in the optical disk of the present invention is preferably 70 to 110 μm. The thickness of the light transmission layer is usually set to about 100 μm, but the thickness greatly affects the light transmittance and signal reading and recording, and therefore needs to be sufficiently managed. The light transmission layer may be formed of a single cured layer having the thickness or a plurality of layers may be laminated.

光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、400nm近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、10〜60nm程度の厚さとすることが好ましい。   The light reflection layer may be any layer that can reflect a laser beam and form an optical disc that can be recorded and reproduced. For example, a metal such as gold, copper, or aluminum or an alloy thereof, or an inorganic compound such as silicon can be used. . Of these, silver or an alloy containing silver as a main component is preferably used because of the high reflectance of light in the vicinity of 400 nm. The thickness of the light reflecting layer is preferably about 10 to 60 nm.

基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。   As the substrate, a disk-shaped circular resin substrate can be used, and polycarbonate can be preferably used as the resin. When the optical disc is read-only, pits for recording information are formed on the surface of the substrate that is laminated with the light reflecting layer.

また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。   In the case of a writable optical disc, an information recording layer is provided between the light reflecting layer and the light transmitting layer. The information recording layer only needs to be capable of recording / reproducing information, and may be any of a phase change recording layer, a magneto-optical recording layer, and an organic dye recording layer.

情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ZnSとSiOの混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ge−Sb−Te系、Sb−Te系、Ag−In−Sb−Te系合金を用いることができる。 When the information recording layer is a phase change recording layer, the information recording layer is usually composed of a dielectric layer and a phase change film. The dielectric layer is required to have a function of buffering heat generated in the phase change layer and a function of adjusting the reflectivity of the disk, and a mixed composition of ZnS and SiO 2 is used. The phase change film causes a difference in reflectance between the amorphous state and the crystalline state due to the phase change of the film, and uses a Ge—Sb—Te, Sb—Te, or Ag—In—Sb—Te alloy. Can do.

本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層が積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。   The optical disk of the present invention may have two or more information recording sites. For example, in the case of a read-only optical disc, a first light reflection layer and a first light transmission layer are laminated on a substrate having pits, and the first light transmission layer or other layers are laminated, A second light reflection layer and a second light transmission layer may be formed on the layer. In this case, pits are formed on the first light transmission layer and other layers laminated thereon. In addition, in the case of a recordable / reproducible optical disc, an information recording layer, a light reflecting layer, and a light transmitting layer are laminated on a substrate, and the second layer is further formed on the light transmitting layer. A structure having two information recording layers by forming a light reflecting layer, a second information recording layer, and a second light transmission layer, or a structure having three or more information recording layers by similarly stacking layers It is good. In the case of laminating a plurality of layers, it may be appropriately adjusted so that the sum of the layer thicknesses of the respective layers becomes the above-mentioned thickness.

また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層であってもよいが、更にその表層に表面コート層を設けてもよいが、光透過層を最表層とすることで工程が簡略化できるため好ましい。   In the optical disc of the present invention, the light transmission layer may be the outermost layer, but a surface coat layer may be further provided on the surface layer, but the process can be performed by using the light transmission layer as the outermost layer. This is preferable because it can be simplified.

本発明の光ディスクは、100μm厚の光透過層を有する光ディスクを、25℃95%RHから25℃45%RHに変化させた際の試験前後のラジアルチルト(Radial Tilt)が、いずれも±1°以内であることが好ましく、ブルーレイディスクの規格である±0.8°以内であることが更に好ましい。   The optical disc of the present invention has a radial tilt of ± 1 ° before and after the test when an optical disc having a light-transmitting layer having a thickness of 100 μm is changed from 25 ° C. 95% RH to 25 ° C. 45% RH. Is preferably within ± 0.8 ° which is the standard of Blu-ray Disc.

また、テーバー摩耗試験器ロータリアブレッサー((株)東洋精機製)にて摩耗輪CS−10Fを用い加重250gにて50回転摩耗した際の405nmにおける拡散透過率(JIS K−7105)変化が10%以下であることが好ましい。   In addition, the change in diffuse transmittance (JIS K-7105) at 405 nm when wearing 50 wheels at a load of 250 g using a wear wheel CS-10F in a Taber abrasion tester Rotary Bresser (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) is 10 % Or less is preferable.

本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、1枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、1枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。   The optical disc of the present invention includes a read-only disc and a recordable / reproducible disc. A read-only disc is provided with a pit as an information recording layer when a single circular resin substrate is injection-molded, and then a light reflecting layer is formed on the information recording layer, and further on the light reflecting layer. It can be produced by applying a UV curable composition by spin coating or the like and then curing it by UV irradiation to form a light transmission layer. In addition, a recordable / reproducible disc is formed by forming a light reflecting layer on one circular resin substrate, and then providing an information recording layer such as a phase change film or a magneto-optical recording film, and further on the light reflecting layer. It can be manufactured by applying an ultraviolet curable composition to the substrate by spin coating or the like and then curing it by ultraviolet irradiation to form a light transmission layer.

光反射層上に塗布した紫外線硬化型組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、USP5904795記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。   When the ultraviolet curable composition applied on the light reflecting layer is cured by irradiating with ultraviolet rays, for example, it can be performed by a continuous light irradiation method using a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp, or the like, or by a flash irradiation method described in US Pat. No. 5,904,795. It can also be done. The flash irradiation method is more preferable in that it can be cured efficiently.

紫外線を照射する場合、積算光量は0.05〜1J/cmとなるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は0.05〜0.8J/cmであることがより好ましく、0.05〜0.6J/cmであることが特に好ましい。本発明の光ディスクに使用する紫外線硬化型組成物は、積算光量が少量であっても、十分に硬化し、光ディスク端面や表面のタックが発生せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生しない。 When irradiating with ultraviolet rays, it is preferable to control the accumulated light amount to be 0.05 to 1 J / cm 2 . More preferably accumulated light amount is 0.05~0.8J / cm 2, and particularly preferably 0.05~0.6J / cm 2. The ultraviolet curable composition used for the optical disk of the present invention is sufficiently cured even when the integrated light quantity is small, and does not cause tacking of the end face or surface of the optical disk, and further does not cause warping or distortion of the optical disk.

[実施態様]
以下、本発明の光ディスクの具体例として、単層型光ディスク及び二層型光ディスクの具体的構成の一例を以下に示す。
[Embodiment]
Hereinafter, as specific examples of the optical disc of the present invention, examples of specific configurations of a single-layer optical disc and a double-layer optical disc are shown below.

本発明の光ディスクのうち、単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図1に示したように、基板1上に、光反射層2と、光透過層3とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラック(グルーブ)を模式的に表したものである。光透過層3は、本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、その厚さは100±10μmの範囲である。基板1の厚さは1.1mm程度、光反射膜は銀等の薄膜である。   Among the optical discs of the present invention, as a preferred embodiment of a single-layer type optical disc, for example, as shown in FIG. 1, a light reflecting layer 2 and a light transmitting layer 3 are laminated on a substrate 1 to transmit light. A configuration for recording or reproducing information by injecting a blue laser from the layer side can be exemplified. The irregularities in the figure schematically represent recording tracks (grooves). The light transmission layer 3 is a layer made of a cured product of the ultraviolet curable composition of the present invention, and its thickness is in the range of 100 ± 10 μm. The thickness of the substrate 1 is about 1.1 mm, and the light reflecting film is a thin film such as silver.

図2は図1に示した構成の最表層にハードコート層4を設けた構成である。ハードコート層は、高硬度で、耐摩耗性に優れる層であることが好ましい。ハードコート層の厚さは、1〜10μmであることが好ましく、3〜5μmであることがより好ましい
多層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図3に示したように、基板1上に、光反射層5と、光透過層6とが積層され、さらにその上に、光反射層2と、光透過層3とが積層され、光透過層3側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う二層型光ディスクの構成が例示できる。光透過層3及び光透過層6は、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、少なくともいずれかの層が本発明の紫外線硬化型組成物からなる層である。層の厚さとしては、光透過層3の厚さと光透過層6の厚さの和が100±10μmの範囲である。基板1の厚さは1.1mm程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
FIG. 2 shows a configuration in which a hard coat layer 4 is provided on the outermost layer of the configuration shown in FIG. The hard coat layer is preferably a layer having high hardness and excellent wear resistance. The thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 3 to 5 μm. As a preferred embodiment of the multilayer optical disc, for example, as shown in FIG. The light reflection layer 5 and the light transmission layer 6 are laminated, and further, the light reflection layer 2 and the light transmission layer 3 are laminated thereon, and a blue laser is incident from the light transmission layer 3 side to receive information. An example of the configuration of a two-layered optical disk that performs recording or reproduction is exemplified. The light transmissive layer 3 and the light transmissive layer 6 are layers made of a cured product of an ultraviolet curable composition, and at least one of the layers is a layer made of the ultraviolet curable composition of the present invention. As the thickness of the layer, the sum of the thickness of the light transmission layer 3 and the thickness of the light transmission layer 6 is in the range of 100 ± 10 μm. The thickness of the substrate 1 is about 1.1 mm, and the light reflecting film is a thin film such as silver.

当該構成の二層型光ディスクにおいては、記録トラック(グルーブ)が、光透過層6の表面にも形成されるため、光透過層6は、接着性に優れる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層の上に、記録トラックを好適に形成できる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層を積層した複層で形成されていてもよい。また当該構成においても最表層にハードコート層が設けられていてもよい。   In the two-layer type optical disc having the above configuration, since the recording track (groove) is also formed on the surface of the light transmission layer 6, the light transmission layer 6 is made of a cured film of an ultraviolet curable composition having excellent adhesiveness. On the layer, you may form with the multilayer which laminated | stacked the layer which consists of a cured film of the ultraviolet curable composition which can form a recording track suitably. Also in this configuration, a hard coat layer may be provided on the outermost layer.

図1に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、記録トラック(グルーブ)と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板1を作製する。次に基板1の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層2を成膜する。この上に本発明の紫外線硬化型組成物を塗布し、ディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させ、光透過層3を形成し、図1の光ディスクを作製する。図2の光ディスクの場合には、この上に更にスピンコート等によりハードコート層4を形成する。
A method for manufacturing the optical disk shown in FIG. 1 will be described below.
First, a substrate 1 having a guide groove for tracking a laser beam called a recording track (groove) is manufactured by injection molding a polycarbonate resin. Next, a light reflecting layer 2 is formed on the surface of the substrate 1 on the recording track side by sputtering or vapor-depositing a silver alloy or the like. The ultraviolet curable composition of the present invention is applied onto this, and the ultraviolet curable composition is cured by irradiating ultraviolet rays from one or both sides of the disk to form the light transmissive layer 3 to produce the optical disk of FIG. To do. In the case of the optical disk of FIG. 2, a hard coat layer 4 is further formed thereon by spin coating or the like.

図3に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック(グルーブ)と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板1を作製する。次に、基板1の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層6を成膜する。
A method for manufacturing the optical disk shown in FIG. 3 will be described below.
First, a substrate 1 having a guide groove for tracking laser light called a recording track (groove) is manufactured by injection molding polycarbonate resin. Next, the light reflecting layer 6 is formed on the surface of the substrate 1 on the recording track side by sputtering or vapor-depositing a silver alloy or the like.

この上に、本発明の紫外線硬化型組成物又は任意の紫外線硬化型組成物の光透過層5を形成するが、その際に型を用いて表面に記録トラック(グルーブ)を転写する。記録トラック(グルーブ)を転写する工程は次の通りである。基板1に形成された光反射層6上に紫外線硬化型組成物を塗布し、その上に記録トラック(グルーブ)を形成するための型と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させる。その後、型を剥離して、光透過層5の記録トラック(グルーブ)を有する側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層2を成膜し、この上に、紫外線硬化型組成物を塗付した後、紫外線照射により硬化させ、光透過層3を形成することで、図3の光ディスクを作製できる。また、光反射層に相変化型記録層を用いる場合でも上記と同様の方法により光ディスクを作成することができる。   On this, the light transmissive layer 5 of the ultraviolet curable composition of the present invention or an arbitrary ultraviolet curable composition is formed. At that time, a recording track (groove) is transferred to the surface using the mold. The process of transferring the recording track (groove) is as follows. An ultraviolet curable composition is applied on the light reflecting layer 6 formed on the substrate 1 and bonded to a mold for forming a recording track (groove) thereon, and ultraviolet light is applied from one or both sides of the bonded disk. To cure the ultraviolet curable composition. Thereafter, the mold is peeled off, and the light reflecting layer 2 is formed by sputtering or vapor-depositing a silver alloy or the like on the surface of the light transmitting layer 5 having the recording tracks (grooves). After applying the mold composition, it is cured by ultraviolet irradiation to form the light transmission layer 3, whereby the optical disk of FIG. 3 can be produced. Even when a phase change recording layer is used for the light reflection layer, an optical disc can be produced by the same method as described above.

次に、合成例及び実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の「部」は「質量部」を表す。   Next, although a synthesis example and an Example are given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these Examples. Hereinafter, “parts” in the examples represent “parts by mass”.

<合成例1>(EA1の合成)
温度計、攪拌機および環流冷却器を備えたフラスコに、フェノキシエチルアクリレート(PEA)65.5gを入れ、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量189g/当量;DIC(株)製EPICLON850)189gを溶解し、重合禁止剤としてハイドロキノン0.1gを加えた後、アクリル酸50.7g(0.7mol)を仕込んだ。触媒としてトリフェニルフォスフィン0.48gを添加し、撹拌を行いながら2時間で130℃まで昇温した。130℃で6時間保持した後、酸価が0mg/KOHになったことを確認した後、80℃まで降温してアクリル酸22.2g(0.3mol)を仕込んだ。1時間で再び130℃まで昇温してトリフェニルフォスフィン0.48gを添加し4時間保持後、分岐エポキシ(メタ)アクリレート(EA1)を含有する淡黄色透明の樹脂状の反応混合物(酸価=0.2mg/KOH、エポキシ当量=15000)を得た。
<Synthesis Example 1> (Synthesis of EA1)
A flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser was charged with 65.5 g of phenoxyethyl acrylate (PEA), and 189 g of bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 189 g / equivalent; EPICLON 850 manufactured by DIC Corporation) was dissolved. After adding 0.1 g of hydroquinone as a polymerization inhibitor, 50.7 g (0.7 mol) of acrylic acid was charged. 0.48 g of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the temperature was raised to 130 ° C. in 2 hours while stirring. After maintaining at 130 ° C. for 6 hours, after confirming that the acid value became 0 mg / KOH, the temperature was lowered to 80 ° C. and 22.2 g (0.3 mol) of acrylic acid was charged. The temperature was raised again to 130 ° C. over 1 hour, 0.48 g of triphenylphosphine was added and held for 4 hours, and then a pale yellow transparent resinous reaction mixture (acid value) containing branched epoxy (meth) acrylate (EA1) = 0.2 mg / KOH, epoxy equivalent = 15000).

<合成例2>(EA2の合成)
合成例1と同様の装置を用い、ビスフェノールA型エポキシ樹脂189gを溶解し、重合禁止剤としてハイドロキノン0.1gを加えた後、アクリル酸72.4g(1mol)を仕込んだ。触媒としてトリフェニルフォスフィン2.64gを添加し、撹拌を行いながら2時間で110℃まで昇温した。110℃で6時間保持した後、エポキシ(メタ)アクリレート(EA2)を含有する淡黄色透明の樹脂状の反応混合物(酸価=0.2mg/KOH、エポキシ当量=12000)を得た。
<Synthesis Example 2> (Synthesis of EA2)
Using the same apparatus as in Synthesis Example 1, 189 g of bisphenol A type epoxy resin was dissolved, 0.1 g of hydroquinone was added as a polymerization inhibitor, and then 72.4 g (1 mol) of acrylic acid was charged. 2.64 g of triphenylphosphine was added as a catalyst, and the temperature was raised to 110 ° C. over 2 hours while stirring. After maintaining at 110 ° C. for 6 hours, a pale yellow transparent resinous reaction mixture (acid value = 0.2 mg / KOH, epoxy equivalent = 12000) containing epoxy (meth) acrylate (EA2) was obtained.

<合成例3>(UA1の合成)
合成例1と同様の装置を用い、デスモジュールW 786g(3mol、ジシクロヘキシルメタン−4,4‘−ジイソシアネート:住化バイエルウレタン(株)製、ジイソシアネート)、SCAT−52A 0.56g(オクチル錫系化合物:第一三共ケミカルファーマ(株)製、ウレタン化触媒)、メトキノン 0.56g(p−メトキシフェノール:精工化学工業(株)製、重合禁止剤)、ヨシノックスBHT 5.57g(2,6−ジ−t−ブチル−P―クレゾール:(株)APIコーポレーション製、酸化防止剤)を入れ、均一に混合しながら徐々に昇温した。50℃に達したところで、HEA(3mol、2−ヒドロキシエチルアクリレート:大阪有機化学工業(株)製、活性水素含有アクリルモノマー)348gを分割添加し、80℃で2時間反応後、アクトコールMN−700(1.02mol、3官能ポリオール(多官能ポリオール)、三井化学ポリウレタン(株)製、水酸基価238mgKOH/g)721.3gを加えさらに5時間反応させた。NCO%が0.2%以下になったことを確認し、フェノキシエチルアクリレート(PEA)465.5gを加え、混合し、ウレタンアクリレート(UA1)を含有する淡黄色透明の樹脂状の反応混合物を得た。得られたウレタンアクリレートの組成モル比、アクリロイル基濃度を表1に示す。
<Synthesis Example 3> (Synthesis of UA1)
Using the same device as in Synthesis Example 1, 786 g of Desmodur W (3 mol, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate: diisocyanate manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.), 0.56 g of SCAT-52A (octyltin compound) : Daiichi Sankyo Chemical Pharma Co., Ltd., urethanization catalyst), methoquinone 0.56 g (p-methoxyphenol: Seiko Chemical Industry Co., Ltd., polymerization inhibitor), Yoshinox BHT 5.57 g (2,6- Di-t-butyl-P-cresol: manufactured by API Corporation, antioxidant) was added, and the temperature was gradually raised while mixing uniformly. When the temperature reached 50 ° C., 348 g of HEA (3 mol, 2-hydroxyethyl acrylate: manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., active hydrogen-containing acrylic monomer) was added in portions. After reacting at 80 ° C. for 2 hours, Actol MN- Then, 721.3 g of 700 (1.02 mol, trifunctional polyol (polyfunctional polyol), manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethane Co., Ltd., hydroxyl value 238 mgKOH / g) was added, and the mixture was further reacted for 5 hours. After confirming that NCO% was 0.2% or less, 465.5 g of phenoxyethyl acrylate (PEA) was added and mixed to obtain a light yellow transparent resinous reaction mixture containing urethane acrylate (UA1). It was. Table 1 shows the composition molar ratio and acryloyl group concentration of the obtained urethane acrylate.

<合成例4〜11>(UA2〜UA9の合成)
各原料成分を表1に示す組成比率で用いた以外は合成例3と同様にして反応を行い、それぞれウレタンアクリレート(UA2〜UA9)を得た。得られたウレタンアクリレートの組成モル比、アクリロイル基濃度を表1に示す。組成モル比は多官能ポリオール/ジイソシアネート/活性水素含有アクリルモノマーのモル比で記入した。
<Synthesis Examples 4 to 11> (Synthesis of UA2 to UA9)
Except having used each raw material component by the composition ratio shown in Table 1, it reacted like the synthesis example 3, and obtained urethane acrylate (UA2-UA9), respectively. Table 1 shows the composition molar ratio and acryloyl group concentration of the obtained urethane acrylate. The composition molar ratio was entered as the molar ratio of polyfunctional polyol / diisocyanate / active hydrogen-containing acrylic monomer.

Figure 0005098783
Figure 0005098783

表1中の記号、名称は、以下のとおりである。
VESTANAT IPDI:3−イソシアナートメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート、エボニックデグサジャパン(株)製
コスモネート T−100S:トルエンジイソシアネート、三井化学ポリウレタン(株)製
HEA−CL1:中間体、ヒドロキシエチルアクリレート−ε−カプロラクタム1モル付加物(表2合成例12参照)
HEA−CL2:中間体、ヒドロキシエチルアクリレート−ε−カプロラクタム2モル付加物(表2合成例13参照)
TMP−CL3:中間体、トリメチロールプロパン−ε−カプロラクタム3モル付加物(表2合成例14参照)
TMP−CL6:中間体、トリメチロールプロパン−ε−カプロラクタム6モル付加物(表2合成例15参照)
TMP:トリメチロールプロパン、三菱ガス化学(株)製
グリセリン:精製グリセリン、花王(株)製
PTG850SN:ポリテトラメチレングリコール、保土谷化学(株)製、水酸基価126.3mgKOH/g
The symbols and names in Table 1 are as follows.
VESTANAT IPDI: 3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate, Cosmonate manufactured by Evonik Degussa Japan Co., Ltd. T-100S: Toluene diisocyanate, HEA-CL1: manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethane Co., Ltd., hydroxy Ethyl acrylate-ε-caprolactam 1 mol adduct (see Table 2, Synthesis Example 12)
HEA-CL2: Intermediate, hydroxyethyl acrylate-ε-caprolactam 2-mole adduct (see Table 2, Synthesis Example 13)
TMP-CL3: intermediate, trimethylolpropane-ε-caprolactam 3 mol adduct (see Table 2, Synthesis Example 14)
TMP-CL6: Intermediate, trimethylolpropane-ε-caprolactam 6-mol adduct (see Table 2, Synthesis Example 15)
TMP: Trimethylolpropane, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. Glycerin: Purified glycerin, manufactured by Kao Co., Ltd. PTG850SN: Polytetramethylene glycol, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd., hydroxyl value 126.3 mgKOH / g

<合成例12>(表1中の中間体、HEA−CL1の合成例)   <Synthesis Example 12> (Synthesis example of intermediate in Table 1, HEA-CL1)

合成例1と同様の装置を用い、プラクセルM 342g(3mol、ε−カプロラクトン、ダイセル化学工業(株)製)、HEA 348g(3mol、2−ヒドロキシエチルアクリレート:大阪有機化学工業(株)製)、ネオスタンU−28 0.28g(オクタン酸錫:日東化成(株)製)、メトキノン 0.14g(p−メトキシフェノール:精工化学工業(株)製、重合禁止剤)、ヨシノックスBHT 1.38g(2,6−ジ−t−ブチル−P―クレゾール:(株)APIコーポレーション製、酸化防止剤)を入れ、均一に混合しながら徐々に昇温した。130℃で反応し、サンプリングを行い、ガードナー粘度が一定となったところで反応を終了し、中間体 HEA−CL1(ヒドロキシエチルアクリレート−ε−カプロラクタム1モル付加物)を得た。   Using the same apparatus as in Synthesis Example 1, 342 g of Plaxel M (3 mol, ε-caprolactone, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 348 g of HEA (3 mol, 2-hydroxyethyl acrylate: manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Neostan U-28 0.28 g (tin octoate: manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.), methoquinone 0.14 g (p-methoxyphenol: manufactured by Seiko Chemical Industry Co., Ltd., polymerization inhibitor), Yoshinox BHT 1.38 g (2 , 6-di-t-butyl-P-cresol: manufactured by API Corporation, antioxidant), and gradually heated while uniformly mixing. The reaction was performed at 130 ° C., sampling was performed, and the reaction was terminated when the Gardner viscosity became constant to obtain an intermediate HEA-CL1 (hydroxyethyl acrylate-ε-caprolactam 1 mol adduct).

<合成例13〜15>
各原料成分を表2に示す組成比率で用いた以外は合成例12と同様にして反応を行い、それぞれ中間体 HEA−CL2、TMP−CL3、TMP−CL6を得た。
<Synthesis Examples 13-15>
Except having used each raw material component by the composition ratio shown in Table 2, it reacted like the synthesis example 12, and obtained intermediate body HEA-CL2, TMP-CL3, and TMP-CL6, respectively.

Figure 0005098783
Figure 0005098783

下記表3〜5に示した組成(表中の組成の数値は質量部を表す)により配合した各組成物を60℃で3時間加熱、溶解して、実施例1〜12及び比較例1〜4の各実施例及び比較例の紫外線硬化型組成物を調製した。得られた組成物について、下記の評価を行い、得られた結果を表3〜5に示す。   Each composition blended according to the composition shown in the following Tables 3 to 5 (the numerical values in the table represent parts by mass) are heated and dissolved at 60 ° C. for 3 hours, and Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 1 are dissolved. The ultraviolet curable composition of each Example of 4 and the comparative example was prepared. The following evaluation was performed about the obtained composition, and the obtained result is shown to Tables 3-5.

<粘度の測定方法>
紫外線硬化型組成物について、25℃における粘度をB型粘度計((株)東京計器製、BM型)を用いて測定した。
<Measurement method of viscosity>
About the ultraviolet curable composition, the viscosity in 25 degreeC was measured using the B-type viscosity meter (the Tokyo Keiki make, BM type | mold).

<弾性率の測定方法>
活性エネルギー線硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が100±10μmになるように塗布した後、メタルハライドランプ(コールドミラー付き、ランプ出力120W/cm)を用いて窒素雰囲気中で500mJ/cmで硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティー・エイ・インストルメント(株)社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、30℃における動的弾性率E’を弾性率とした。
<Measurement method of elastic modulus>
The active energy ray-curable composition was applied on a glass plate so that the cured coating film was 100 ± 10 μm, and then a metal halide lamp (with a cold mirror, lamp output 120 W / cm) was used at 500 mJ / in a nitrogen atmosphere. and cured at cm 2. The elastic modulus of this cured coating film was measured with an automatic dynamic viscoelasticity measuring apparatus manufactured by TA Instruments Co., Ltd., and the dynamic elastic modulus E ′ at 30 ° C. was defined as the elastic modulus.

<反り・信号評価用光ディスクの作成条件>
直径120mm、厚さ1.1mmのポリカーボネート基板を準備し、(株)コベルコ科研製銀合金ターゲットGBD05(銀を主成分とするビスマスとの合金)を20〜40nmの膜厚でスパッタした後、反対面側に窒化シリコン(SiNx)を5〜10nmの膜厚でスパッタした。得られた基板の銀合金反射膜上に、表3の各組成物をオリジン電気(株)製の塗布実験機を使用し膜厚が硬化後に100±5μmとなるように塗布した。ウシオ電機(株)製クセノンフラッシュ照射装置(型式:FUV−201WJ02)を使用し、仮硬化2ショット(充電電圧3420V)、本硬化10ショット(充電電圧3420V)の条件で紫外線を照射、硬化させ試験用サンプルディスクを得た。
<Conditions for creating optical disks for warping and signal evaluation>
After preparing a polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.1 mm, sputtering a silver alloy target GBD05 (alloy with bismuth containing silver as a main component) manufactured by Kobelco Research Institute, Inc. with a film thickness of 20 to 40 nm, Silicon nitride (SiNx) was sputtered to a thickness of 5 to 10 nm on the surface side. On the silver alloy reflective film of the obtained substrate, each composition shown in Table 3 was applied using an application experiment machine manufactured by Origin Electric Co., Ltd. so that the film thickness would be 100 ± 5 μm after curing. Using a xenon flash irradiation device (model: FUV-201WJ02) manufactured by Ushio Electric Co., Ltd., UV irradiation and curing were performed under the conditions of pre-curing 2 shots (charging voltage 3420V) and main curing 10 shots (charging voltage 3420V). A sample disk was obtained.

<磨耗性評価用光ディスクの作成条件>
直径120mm、厚さ1.2mmのポリカーボネート基板を準備し、表3の各組成物をスピンコーターで膜厚が硬化後に100±10μmとなるように塗布した。コールドミラー付きメタルハライドランプ120W/cmを用いて照射量500mJ/cm2(アイグラフィックス社製光量計UVPF−36)の紫外線を2回照射、硬化させ試験用サンプルディスクを得た。
<Conditions for creating an optical disk for wear resistance evaluation>
A polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm was prepared, and each composition shown in Table 3 was applied by a spin coater so that the film thickness became 100 ± 10 μm after curing. Using a metal halide lamp with a cold mirror 120 W / cm, UV rays having an irradiation amount of 500 mJ / cm 2 (light meter UVPF-36 manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) were irradiated twice and cured to obtain a test sample disk.

<反り評価>
Dr.Schwab Inspection Technology社(製)argus bluを用い反り角の測定を行った。半径位置が55mmから56mmでのRadial Tiltの平均値から反り角を求めた。初期の反り角と表3の各組成物の硬化後の反り角を測定した。また、各サンプルディスクについて環境試験器「PR−2PK」(エスペック(株)製)を使用し、各種温湿度環境下での暴露(耐久試験)後の反り角を測定した。なお、表3にて耐久試験前の反り角は硬化後、25℃45%RH環境下1日放置後の測定値であり、耐久試験後の反り角は80℃85%RHの環境下240時間放置後、サンプルディスクを取り出し25℃45%RH環境下1日放置後の測定値である。硬化後の反り角並びに耐久試験後の反り角について以下のように評価した。ここで、反り角の値が正(+)の場合は組成物を塗布した側とは反対側に、負(−)の場合は塗布した側に反ったことを意味する。下記基準に基づき評価を行った。
「紫外線照射による硬化収縮に伴う反り変化」
○:反り変化量が±0.8度以内
△:反り変化量が±0.8度を超え±1.0度以内
×:反り変化量が±1.0度を超える
「耐久試験による反り変化」
○:反り変化量が±0.8度以内
△:反り変化量が±0.8度を超え±1.0度以内
×:反り変化量が±1.0度を超える
<Evaluation of warpage>
The curvature angle was measured using an argus blu manufactured by Dr. Schwab Inspection Technology. The warp angle was determined from the average value of Radial Tilt when the radial position was 55 mm to 56 mm. The initial warp angle and the warp angle after curing of each composition in Table 3 were measured. Further, for each sample disk, an environmental tester “PR-2PK” (manufactured by ESPEC Co., Ltd.) was used to measure the warp angle after exposure (endurance test) under various temperature and humidity environments. In Table 3, the warp angle before the endurance test is a measured value after standing for 1 day in an environment of 25 ° C. and 45% RH after curing. The warp angle after the endurance test is 240 hours in an environment of 80 ° C. and 85% RH. It is a measured value after taking out the sample disk after standing and leaving it in a 25 ° C. 45% RH environment for one day. The warpage angle after curing and the warpage angle after the durability test were evaluated as follows. Here, when the value of the warp angle is positive (+), it means that the warp angle is opposite to the side where the composition is applied, and when it is negative (−), it means that the warp angle is warped. Evaluation was performed based on the following criteria.
“Change in warpage due to curing shrinkage due to UV irradiation”
○: Warpage variation is within ± 0.8 degrees △: Warpage variation exceeds ± 0.8 degrees and within ± 1.0 degrees ×: Warpage variation exceeds ± 1.0 degrees "
○: Warpage variation is within ± 0.8 degrees △: Warpage variation exceeds ± 0.8 degrees and within ± 1.0 degrees ×: Warpage variation exceeds ± 1.0 degrees

<光ディスクの耐久試験>
各サンプルディスクについて環境試験器「PR−2PK」(エスペック(株))を使用して、80℃85%RH240時間の湿熱環境変化時での曝露(耐久試験)を行った。
<Endurance test of optical disc>
Each sample disk was subjected to exposure (durability test) when the wet heat environment changed at 80 ° C. and 85% RH for 240 hours using an environmental tester “PR-2PK” (Espec Corp.).

<光ディスクのエラーレート測定>
各サンプルディスクのエラーレートRandom SERをパルステック工業(株)製「BD MASTER」を用いて測定した。耐久試験後のRandom SERの平均値を下記基準に基づき評価した。
○:2×10−4以下
△:2×10−4を越え5×10−3以下
×:5×10−3を越える
<Optical error rate measurement>
The error rate Random SER of each sample disk was measured using “BD MASTER” manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. The average value of Random SER after the durability test was evaluated based on the following criteria.
○: 2 × 10 -4 or less △: 2 × 10 exceed -4 5 × 10 -3 or less ×: exceeding 5 × 10 -3

<光ディスクの湿度ショック試験>
各サンプルディスクについて環境試験器「PR−2PK」(エスペック(株))を使用して、25℃95%RHの環境下で48時間経過した後、25℃45%RHまで急速に湿度のみを下げた。(湿度ショック試験)。環境試験器から取り出して3時間までの反り測定をおこなった。半径位置が57mmから58mm位置でのRadial Tiltの最小値から試験前後の反り変化量を求め、下記基準に基づき評価を行った。
○:反り角の最小値が±0.8度以内かつ反り変化量が±0.8度以内
△:反り角の最小値が±0.8度以内かつ反り変化量が±0.8度を超え±1.0度以内
×:反り角の最小値が±0.8度を超える
<Humidity shock test of optical disc>
For each sample disk, use the environmental tester “PR-2PK” (Espec Corp.), and after 48 hours in an environment of 25 ° C. and 95% RH, rapidly reduce only the humidity to 25 ° C. and 45% RH. It was. (Humidity shock test). The warpage was measured for up to 3 hours after removal from the environmental tester. The amount of warpage change before and after the test was determined from the minimum value of Radial Tilt at a radial position of 57 mm to 58 mm, and evaluation was performed based on the following criteria.
○: The minimum value of the warp angle is within ± 0.8 degrees and the warpage change is within ± 0.8 degrees. △: The minimum value of the warp angle is within ± 0.8 degrees and the warpage change is ± 0.8 degrees. Exceeding ± 1.0 degree ×: The minimum value of the warp angle exceeds ± 0.8 degree

<光ディスクの摩耗試験>
各サンプルディスクについて、テーバー摩耗試験器ロータリアブレッサー((株)東洋精機製)にて摩耗輪CS−10Fを用い加重250gにて50回転摩耗した。その後、JIS K−7105に従い、分光光度計「UV−3100」(島津製作所(株)製)にて405nmにおける全光線透過光量と拡散光量を測定し拡散透過率を算出し、磨耗試験前後の拡散透過率の差(ΔH)を計算し、下記基準に基づき評価を行った。
○:試験前後の拡散透過率の差(ΔH)が10%以下
×:試験前後の拡散透過率の差(ΔH)が10%を越える
<Wear test of optical disc>
Each sample disk was worn 50 revolutions at a load of 250 g using a wear wheel CS-10F in a Taber abrasion tester Rotaria rear presser (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.). After that, according to JIS K-7105, the total light transmitted light amount and diffused light amount at 405 nm are measured with a spectrophotometer “UV-3100” (manufactured by Shimadzu Corporation) to calculate the diffuse transmittance, and the diffusion before and after the wear test The transmittance difference (ΔH) was calculated and evaluated based on the following criteria.
○: Diffuse transmittance difference (ΔH) before and after the test is 10% or less ×: Diffuse transmittance difference (ΔH) before and after the test exceeds 10%

Figure 0005098783
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Figure 0005098783
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Figure 0005098783
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表3〜5中の記号は以下のとおりである。
EA1:合成例1に記載のエポキシアクリレート
EA2:合成例2に記載のエポキシアクリレート
UA1:合成例3に記載のウレタンアクリレート
UA2:合成例4に記載のウレタンアクリレート
UA3:合成例5に記載のウレタンアクリレート
UA4:合成例6に記載のウレタンアクリレート
UA5:合成例7に記載のウレタンアクリレート
UA6:合成例8に記載のウレタンアクリレート
UA7:合成例9に記載のウレタンアクリレート
UA8:合成例10に記載のウレタンアクリレート
UA9:合成例11に記載のウレタンアクリレート
PETA:ペンタエリスリトールテトラアクリレート
TMPTA:トリメチロールプロパントリアクリレート
HPNDA:ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート
TPGDA:トリプロピレングリコールジアクリレート
BisA−4EO−DA:EO変性(4モル)ビスフェノールAジアクリレート
PEA:フェノキシエチルアクリレート
PM−2:エチレンオキシド変性リン酸メタクリレート(日本化薬(株)製)
GA:没食子酸(大日本住友製薬(株)製)
Irg184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
The symbols in Tables 3 to 5 are as follows.
EA1: Epoxy acrylate described in Synthesis Example 1 EA2: Epoxy acrylate described in Synthesis Example 2 UA1: Urethane acrylate described in Synthesis Example 3 UA2: Urethane acrylate described in Synthesis Example 4 UA3: Urethane acrylate described in Synthesis Example 5 UA4: urethane acrylate described in Synthesis Example 6 UA5: urethane acrylate described in Synthesis Example 7 UA6: urethane acrylate described in Synthesis Example 8 UA7: urethane acrylate described in Synthesis Example 9 UA8: urethane acrylate described in Synthesis Example 10 UA9: urethane acrylate described in Synthesis Example 11 PETA: pentaerythritol tetraacrylate TMPTA: trimethylolpropane triacrylate HPNDA: neopentyl glycol diacrylate hydroxypivalate T GDA: tripropylene glycol diacrylate BisA-4EO-DA: EO-modified (4 mol) bisphenol A diacrylate PEA: phenoxyethyl acrylate PM-2: (manufactured by Nippon Kayaku Co.) ethylene oxide-modified phosphoric acid methacrylate
GA: Gallic acid (manufactured by Dainippon Sumitomo Pharma Co., Ltd.)
Irg184: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone

表3〜5に示すように、本発明の組成物を使用した実施例1〜12の光ディスクは、各種環境試験後の反り変化が小さく、耐久試験において良好な信号特性を示した。また、耐摩耗性試験においても優れた耐摩耗性を示した。一方、比較例1〜2の光ディスクは、各種環境試験後の反り変化が大きく、また、比較例3〜4の光ディスクは耐久試験時の反り変化が大きいものであった。   As shown in Tables 3 to 5, the optical discs of Examples 1 to 12 using the composition of the present invention showed little signal change after various environmental tests, and showed good signal characteristics in the durability test. In the abrasion resistance test, excellent abrasion resistance was exhibited. On the other hand, the optical disks of Comparative Examples 1 and 2 have large warpage changes after various environmental tests, and the optical disks of Comparative Examples 3 and 4 have large warpage changes during the durability test.

本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the single layer type optical disk of this invention. 本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the single layer type optical disk of this invention. 本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the double layer type | mold optical disk of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 光反射層
3 紫外線硬化型組成物の光透過層
4 ハードコート層
5 光反射層
6 紫外線硬化型組成物の光透過層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Light reflection layer 3 Light transmission layer of ultraviolet curable composition 4 Hard coat layer 5 Light reflection layer 6 Light transmission layer of ultraviolet curable composition

Claims (8)

基板上に、少なくとも光反射層と、光透過層とが積層され、前記光透過層側からレーザー光を入射して情報の再生を行う光ディスクの光透過層に使用する紫外線硬化型組成物であって、エポキシ(メタ)アクリレート又はウレタン(メタ)アクリレートを含有し、(メタ)アクリロイル基濃度が3.86〜4.2mmol/gであり、紫外線硬化後の硬化膜の30℃における弾性率が2000MPa以上であることを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物。 An ultraviolet curable composition for use in a light transmission layer of an optical disc in which at least a light reflection layer and a light transmission layer are laminated on a substrate and laser light is incident from the light transmission layer side to reproduce information. In addition, epoxy (meth) acrylate or urethane (meth) acrylate is contained, the (meth) acryloyl group concentration is 3.86 to 4.2 mmol / g, and the elastic modulus at 30 ° C. of the cured film after UV curing is 2000 MPa. An ultraviolet curable composition for optical discs characterized by the above. 前記ウレタン(メタ)アクリレートが、分子内に3個以上のヒドロキシル基を有する化合物(a)と、分子内に2個以上のイソシアネート基を有する化合物(b)と、ヒドロキシル基と(メタ)アクリロイル基とを有する化合物(c)とから得られるウレタン(メタ)アクリレートである請求項1に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。The urethane (meth) acrylate comprises a compound (a) having 3 or more hydroxyl groups in the molecule, a compound (b) having 2 or more isocyanate groups in the molecule, a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group. The ultraviolet curable composition for optical disks according to claim 1, which is a urethane (meth) acrylate obtained from a compound (c) having: 前記ウレタン(メタ)アクリレートの含有量が、紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の10〜30質量%である請求項1又は2に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。The ultraviolet curable composition for optical disks according to claim 1 or 2, wherein the content of the urethane (meth) acrylate is 10 to 30% by mass in the ultraviolet curable compound contained in the ultraviolet curable composition. 前記エポキシ(メタ)アクリレートの含有量が、紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の20〜70質量%である請求項1〜3のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。The ultraviolet curable composition for an optical disk according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the epoxy (meth) acrylate is 20 to 70% by mass in the ultraviolet curable compound contained in the ultraviolet curable composition. . 前記(メタ)アクリレートモノマーとして、二官能(メタ)アクリレートモノマーを5〜30質量%及び単官能(メタ)アクリレートモノマーを10〜50質量%含有する請求項1〜4のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。 The optical disk according to any one of claims 1 to 4 , wherein the (meth) acrylate monomer contains 5 to 30% by mass of a bifunctional (meth) acrylate monomer and 10 to 50% by mass of a monofunctional (meth) acrylate monomer. UV curable composition. 25℃におけるB型粘度が800〜5000mPa・Sである請求項1〜5のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。 The ultraviolet curable composition for optical discs according to any one of claims 1 to 5 , wherein the B-type viscosity at 25 ° C is 800 to 5000 mPa · S. 基板上に、少なくとも光反射層と、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、前記紫外線硬化型組成物が、請求項1〜6のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物であることを特徴とする光ディスク。 An optical disc in which at least a light reflection layer and a light transmission layer made of a cured product of an ultraviolet curable composition are laminated on a substrate, and a blue laser is incident from the light transmission layer side to reproduce information, An optical disc, wherein the ultraviolet curable composition is the ultraviolet curable composition for optical discs according to any one of claims 1 to 6 . 前記光透過層の厚さが70〜110μmの範囲にある請求項に記載の光ディスク。 The optical disk according to claim 7 , wherein a thickness of the light transmission layer is in a range of 70 to 110 μm.
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JPH11100419A (en) * 1997-09-26 1999-04-13 Jsr Corp Radiation-curable resin composition
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JP4603996B2 (en) * 2005-04-07 2010-12-22 三菱化学メディア株式会社 Optical recording medium
JP4100453B2 (en) * 2006-05-24 2008-06-11 大日本インキ化学工業株式会社 Optical disc and ultraviolet curable composition for optical disc
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