JP2012203917A - Photocurable composition for light transmission layer, optical disk and manufacturing method of optical disk - Google Patents
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本発明は、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通して３７０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲内に発振波長を有する半導体レーザー（以下ブルーレーザーと称す）により記録又は再生を行う光ディスクの光透過層に適した光硬化性組成物、光ディスクおよび光ディスクの製造方法に関する。 The present invention relates to an optical disc in which at least a light reflection layer and a light transmission layer are formed, and recording or reproduction is performed by a semiconductor laser (hereinafter referred to as a blue laser) having an oscillation wavelength within a range of 370 nm to 430 nm through the light transmission layer. The present invention relates to a photocurable composition suitable for a light transmission layer, an optical disc, and a method for producing the optical disc.
近年、情報技術の発展により大容量の情報記録の伝達が可能になった。これに伴い、大容量となる映像、音楽、コンピューターデータ等を記録及び再生出来る高密度大容量の光ディスクが要求されている。 In recent years, the development of information technology has made it possible to transmit large volumes of information records. Accordingly, a high-density and large-capacity optical disk capable of recording and reproducing large-capacity video, music, computer data, and the like is required.
高密度記録媒体として伸長を見せているＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ）は厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤにおいては高密度化を達成するため、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄｉｓｃ）に比べ短波長の６５０ｎｍのレーザーを用い、光学系も高開口数化している。 A DVD (Digital Versatile Disc) that has been growing as a high-density recording medium has a structure in which two substrates having a thickness of 0.6 mm are bonded together with an adhesive. In order to achieve high density in a DVD, a 650 nm laser having a shorter wavelength is used compared to a CD (Compact Disc), and the optical system has a high numerical aperture.
しかし、ＨＤＴＶ（ｈｉｇｈ ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）に対応した高画質の映像等を記録または再生する為には更なる高密度化が必要となる。ＤＶＤの次世代に位置する更なる高密度記録の方法及びその光ディスクの検討が行われており、ＤＶＤよりも更に短波長のブルーレーザー及び高開口数の光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている。 However, it is necessary to further increase the density in order to record or reproduce a high-quality video or the like corresponding to HDTV (high definition television). High-density recording methods and optical discs for the next generation of DVD have been studied, and high-density recording using a new optical disc structure using a blue laser with a shorter wavelength and a high numerical aperture optical system than DVD. A scheme has been proposed.
この新しい光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約１００μｍの光透過層を積層してなり、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。この光ディスクの光透過層には、生産性の観点から、光硬化性組成物を使用することがもっぱら研究されている。 This new optical disk is formed by forming a recording layer on a transparent or opaque substrate made of plastic such as polycarbonate, and then laminating a light transmission layer of about 100 μm on the recording layer, and recording light or The optical disk has a structure in which reproduction light or both are incident. From the viewpoint of productivity, the use of a photocurable composition for the light transmission layer of this optical disc has been studied exclusively.
このような光透過層の形成に際しては、光反射層を積層した光ディスク基板の中心部であるセンターホール上にキャップを設置し、当該キャップ部に光硬化性組成物を滴下してスピンコートにより光透過層を形成する方法（例えば特許文献１参照）や、光反射層を積層した光ディスク基板の光反射層上のセンターホール周辺に直接光硬化性組成物を塗布し、当該光硬化性組成物をスピンコート等により展延して形成する方法（例えば特許文献２参照）が用いられている。前者の方法は、光硬化性組成物の塗工性制御が容易であり均質な膜が得られやすいが、キャップの設置等により製造工程が増加し、製造コストが高くなりやすい。これに対し、後者の方法によれば、製造コストの低減が図られるが、光硬化性組成物の膜厚が不均一になりやすい、或いは、スジが入る等の塗工性の問題を生じやすく均質な膜を得にくい問題があった。 In forming such a light transmission layer, a cap is placed on the center hole, which is the center of the optical disk substrate on which the light reflection layer is laminated, and a photocurable composition is dropped on the cap and light is applied by spin coating. A method of forming a transmission layer (see, for example, Patent Document 1) or a photocurable composition is applied directly to the periphery of a center hole on a light reflecting layer of an optical disk substrate on which a light reflecting layer is laminated. A method of forming a film by spin coating or the like (see, for example, Patent Document 2) is used. In the former method, it is easy to control the coating property of the photocurable composition and a uniform film is easily obtained. However, the manufacturing process increases due to the installation of a cap and the manufacturing cost tends to increase. In contrast, according to the latter method, the manufacturing cost can be reduced, but the film thickness of the photocurable composition tends to be non-uniform, or coating problems such as streaking tend to occur. There was a problem that it was difficult to obtain a homogeneous film.
一方で、ブルーレーザーを使用する光ディスクの光透過層においては、従来型の光ディスクに比して高い性能が要求され、良好な耐久性、耐光性等が求められる。耐久性や耐光性に優れた光透過層用組成物としては、ビスフェノール型エポキシ化合物を柔軟な構造のポリエステルよって変性した化合物を含有する光硬化性組成物が開示されている（例えば、特許文献３参照）。当該化合物を含有する光硬化性組成物は、高温高湿試験後の反射率低下の低減や、反りの低減が可能となり、ブルーレーザーを使用する光ディスクとして好適な特性を実現できる。しかし、当該組成物は、光反射層上に直接光硬化性組成物を塗布し、展延して光透過層を形成する方法に適用した場合に、塗工性の制御が特に困難であり、塗工展延時に放射状のスジが生じやすく、良好な信号読取が困難となる場合があった。 On the other hand, a light transmission layer of an optical disc using a blue laser is required to have higher performance than a conventional optical disc, and good durability and light resistance are required. As a composition for a light transmission layer having excellent durability and light resistance, a photocurable composition containing a compound obtained by modifying a bisphenol-type epoxy compound with a polyester having a flexible structure is disclosed (for example, Patent Document 3). reference). The photocurable composition containing the compound can reduce the decrease in reflectivity after the high-temperature and high-humidity test and reduce the warpage, and can realize characteristics suitable as an optical disk using a blue laser. However, when the composition is applied to a method in which a light curable composition is applied directly on a light reflecting layer and applied to form a light transmissive layer by spreading, control of coatability is particularly difficult, At the time of coating spreading, radial streaks are likely to occur, and it may be difficult to read a good signal.
本発明の目的は、光反射層上のセンターホール周辺に直接塗布、展延した場合にも塗工欠陥が無く好適な信号読取が可能で、かつ、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を低減できる光透過層を形成できる光硬化性組成物、および、光ディスクを提供する事にある。 The object of the present invention is to enable suitable signal reading without coating defects even when directly applied and spread around the center hole on the light reflecting layer, and in a high temperature and high humidity environment or under light exposure. An object of the present invention is to provide a photocurable composition capable of forming a light transmission layer capable of reducing deterioration of a light reflecting film, and an optical disk.
本発明者らは、ビスフェノール型エポキシ化合物を柔軟な構造のポリエステルによって変性した化合物と、特定の鎖状脂肪族２官能性（メタ）アクリレートとを含有する光硬化性組成物が、高温高湿試験後の反射率低下の少なく、反りが少ない光透過層を、光反射層上に直接塗布、展延した場合にも塗工欠陥なく形成できることを見出し本発明に至った。 The present inventors have developed a photocurable composition containing a compound obtained by modifying a bisphenol-type epoxy compound with a flexible polyester and a specific chain aliphatic difunctional (meth) acrylate, at a high temperature and high humidity test. The present inventors have found that a light-transmitting layer with less reflectance reduction and less warping can be formed without coating defects even when applied and spread directly on the light-reflecting layer.
すなわち本発明は、光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に光硬化性組成物を直接塗布展延して形成される光透過層が積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクの光透過層に使用する光硬化性組成物であって、
（メタ）アクリレートオリゴマーとして、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られる変性エポキシ（メタ）アクリレートを含有し、
（メタ）アクリレートモノマーとして、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有する光透過層用光硬化性組成物を提供するものである。
That is, in the present invention, a light transmission layer formed by directly applying and spreading a photocurable composition is laminated around a center hole on a light reflection layer of a substrate provided with a light reflection layer, and the light transmission layer side A photocurable composition used for a light transmission layer of an optical disc that reproduces information by entering a blue laser from
As a (meth) acrylate oligomer, a modified epoxy (meth) acrylate obtained by reacting a lactone adduct of hydroxyalkyl (meth) acrylate, a dibasic acid anhydride and an epoxy resin,
Provided is a photocurable composition for a light-transmitting layer, which contains at least one selected from 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate as a (meth) acrylate monomer. Is.
本発明の光透過層用光硬化性組成物は、得られる硬化膜の弾性率を低く抑えることができ、硬化時に生じた硬化膜内の歪みを緩和し、反りを抑えることができる。また、銀又は銀合金反射膜の光ディスクにおいて、該組成物を光透過層として使用した場合に、優れた耐久性や耐光性を得ることができる。そして、光反射層上に直接塗布、展延した場合にも放射状のスジが生じにくく、塗工欠陥がない光透過層を好適に得ることができる。 The photocurable composition for light transmissive layers of the present invention can suppress the elastic modulus of the resulting cured film, reduce the distortion in the cured film that occurs during curing, and suppress warpage. In addition, when the composition is used as a light transmission layer in a silver or silver alloy reflective film optical disk, excellent durability and light resistance can be obtained. And when it apply | coats and spreads directly on a light reflection layer, a radial streak is hard to produce and the light transmissive layer without a coating defect can be obtained suitably.
したがって、本発明の光透過層用光硬化性組成物は、耐久性や耐光性に優れ、反りの少ない光ディスクを低コストで製造できることから、要求特性の高いブルーレーザーを使用する光ディスクの光透過層用組成物に最適な組成物である。 Therefore, the photocurable composition for a light transmissive layer of the present invention can produce an optical disk having excellent durability and light resistance and less warping at low cost. Therefore, the light transmissive layer of an optical disk using a blue laser having high required characteristics. It is an optimal composition for the composition for use.
［光硬化性組成物］
本発明の光透過層用光硬化性組成物は、光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に光硬化性組成物を直接塗布展延して形成される光透過層が積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクの光透過層として適用される光硬化性組成物である。そして、本発明の光透過層用光硬化性組成物は、（メタ）アクリレートオリゴマー、（メタ）アクリレートモノマーを光硬化性化合物として含有し、（メタ）アクリレートオリゴマーとして、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られる変性エポキシ（メタ）アクリレートを、（メタ）アクリレートモノマーとして、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有することで、光反射層上に直接塗布展延して光透過層を形成する光ディスクにおいて、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を低減できる光透過層を、塗工欠陥無く好適に形成できる。
[Photocurable composition]
The photocurable composition for a light transmissive layer of the present invention is a light transmissive layer formed by directly coating and spreading a photocurable composition around a center hole on a light reflective layer of a substrate provided with a light reflective layer. Is a photocurable composition applied as a light transmissive layer of an optical disc in which a blue laser is incident from the light transmissive layer side to reproduce information. And the photocurable composition for light transmissive layers of this invention contains a (meth) acrylate oligomer and a (meth) acrylate monomer as a photocurable compound, and a hydroxyalkyl (meth) acrylate as a (meth) acrylate oligomer. A modified epoxy (meth) acrylate obtained by reacting a lactone adduct, a dibasic acid anhydride and an epoxy resin is used as a (meth) acrylate monomer, and 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonane Light reflection under high-temperature and high-humidity environment or light exposure in optical discs that contain at least one selected from diol di (meth) acrylates and form a light-transmitting layer by coating and spreading directly on the light-reflecting layer A light-transmitting layer that can reduce film deterioration can be suitably formed without coating defects.
本発明に使用する変性エポキシ（メタ）アクリレートは、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートである。変性エポキシ（メタ）アクリレートに使用するヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物は、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートにラクトンを開環付加して得られる。ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等を好ましく使用できる。ラクトンとしては、例えば、β−プロピオラクトン、β−ブチロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン等が挙げられる。これら、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物によりエポキシ樹脂を変性することで、得られる硬化皮膜に柔軟性を付与でき、剛直な骨格のエポキシ樹脂の特性を有しつつ好適に反りを低減できる。これらの中でも、１モルの２−ヒドロキシエチルアクリレートに１〜２モルのε−カプロラクトンが付加した化合物が好ましい。 The modified epoxy (meth) acrylate used in the present invention is an epoxy (meth) acrylate obtained by reacting a lactone adduct of hydroxyalkyl (meth) acrylate, a dibasic acid anhydride and an epoxy resin. The lactone adduct of hydroxyalkyl (meth) acrylate used for the modified epoxy (meth) acrylate is obtained by ring-opening addition of lactone to hydroxyalkyl (meth) acrylate. As hydroxyalkyl (meth) acrylate, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate and the like can be preferably used. Examples of the lactone include β-propiolactone, β-butyrolactone, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, β-methyl-δ-valerolactone, γ-caprolactone, and ε-caprolactone. . By modifying the epoxy resin with these lactone adducts of hydroxyalkyl (meth) acrylate, flexibility can be imparted to the resulting cured film, and the warp can be suitably reduced while having the characteristics of a rigid skeleton epoxy resin. . Among these, a compound in which 1 to 2 mol of ε-caprolactone is added to 1 mol of 2-hydroxyethyl acrylate is preferable.
二塩基酸無水物としては、フタル酸無水物、１，２，３，６テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、２，３，４，５−テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、ヘキサヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、琥珀酸無水物及びその誘導体、モノアルキル琥珀酸無水物及びその誘導体、ジアルキル琥珀酸無水物及びその誘導体、マレイン酸無水物及びその誘導体、モノアルキルマレイン酸無水物及びその誘導体、ジアルキルマレイン酸無水物及びその誘導体が挙げられる。中でもフタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物を用いることが好ましい。 Dibasic acid anhydrides include phthalic anhydride, 1,2,3,6 tetrahydrophthalic anhydride and derivatives thereof, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride and derivatives thereof, 1,2, 3,4-tetrahydrophthalic anhydride and derivatives thereof, 2,3,4,5-tetrahydrophthalic anhydride and derivatives thereof, hexahydrophthalic anhydride and derivatives thereof, succinic anhydride and derivatives thereof, monoalkyl Succinic anhydride and derivatives thereof, dialkyl succinic anhydride and derivatives thereof, maleic anhydride and derivatives thereof, monoalkylmaleic anhydride and derivatives thereof, and dialkylmaleic anhydride and derivatives thereof. Of these, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and hexahydrophthalic anhydride are preferably used.
エポキシ樹脂としては、特に構造が限定されるものではないが、例えば、ビスフェノ−ル型エポキシ樹脂類、ノボラック型エポキシ樹脂類、脂環式エポキシ樹脂類、グリシジルエステル類、グリシジルエステル類、グリシジルアミン類、複素環式エポキシ樹脂類、臭素化エポキシ樹脂類などが挙げられる。 The structure of the epoxy resin is not particularly limited. For example, bisphenol type epoxy resins, novolac type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, glycidyl esters, glycidyl esters, glycidyl amines. , Heterocyclic epoxy resins, brominated epoxy resins, and the like.
上記のビスフェノ−ル型エポキシ樹脂類としては、ビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂の２級水酸基にε−カプロラクトン付加したラクトン変性エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルＳ型エポキシ樹脂等；上記のノボラック型エポキシ樹脂としては、フェノ−ルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルＡノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂等；上記脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレ−ト、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレ−ト、１−エポキシエチル−３，４−エポキシシクロヘキサン等；前記グリシジルエステル類としては、フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマ−酸グリシジルエステル等；前記グリシジルアミン類としては、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルＰ−アミノフェノ−ル、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン等；前記複素環式エポキシ樹脂としては、１，３−ジグリシジル−５，５−ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレ−ト等が挙げられる。
中でも、ビスフェノ−ル型エポキシ樹脂は、硬化皮膜の安定性及びコストパーフォマンスに優れ、取りわけビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂が、接着力、耐久性などの性能とコストに優れ、好ましい。
Examples of the bisphenol type epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, lactone-modified epoxy resins obtained by adding ε-caprolactone to secondary hydroxyl groups of bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, Bisphenol S type epoxy resin and the like; Examples of the novolak type epoxy resin include phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, dicyclopentadiene novolak type epoxy resin and the like; Examples of the alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane. Carboxylate 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, etc .; as the glycidyl ester, phthalic acid diglycidyl ester, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, dimer acid glycidyl ester, etc .; as the glycidyl amines, tetraglycidyl Diaminodiphenylmethane, triglycidyl P-aminophenol, N, N-diglycidylaniline and the like; Examples of the heterocyclic epoxy resin include 1,3-diglycidyl-5,5-dimethylhydantoin and triglycidyl isocyanurate Can be mentioned.
Among them, the bisphenol type epoxy resin is excellent in the stability of the cured film and the cost performance, and the bisphenol A type epoxy resin is particularly preferable because of excellent performance and cost such as adhesive strength and durability.
本発明に使用する変性エポキシ（メタ）アクリレートの分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定される重量平均分子量（Ｍｗ）で、５００〜２００００であることが好ましく、８００〜１５０００であることがより好ましい。変性エポキシ（メタ）アクリレートの分子量を上記の範囲とすることにより、本発明の光硬化性組成物を使用した光ディスクの耐久性及び耐光性がより優れたものとなる。なお、ＧＰＣによる重量平均分子量は、例えば、東ソー（株）社製 ＨＬＣ−８０２０を用い、カラムはＧＭＨｘｌ−ＧＭＨｘｌ−Ｇ２００Ｈｘｌ−Ｇ１０００Ｈｘｌｗを使用し、溶媒はＴＨＦを用い、１．０ｍｌ／ｍｉｎの流量でカラム温度が４０℃、検出器温度が３０℃、分子量は標準ポリスチレン換算で測定を行うことで特定される。 The molecular weight of the modified epoxy (meth) acrylate used in the present invention is a weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography (GPC), preferably 500 to 20000, and preferably 800 to 15000. Is more preferable. By setting the molecular weight of the modified epoxy (meth) acrylate within the above range, the durability and light resistance of the optical disk using the photocurable composition of the present invention are further improved. The weight average molecular weight by GPC is, for example, using HLC-8020 manufactured by Tosoh Corporation, the column using GMHxl-GMHxl-G200Hxl-G1000Hxlw, the solvent using THF, and a flow rate of 1.0 ml / min. The column temperature is 40 ° C., the detector temperature is 30 ° C., and the molecular weight is specified by performing measurement in terms of standard polystyrene.
ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂の反応順序は、変性エポキシ（メタ）アクリレートを製造できる順序であれば特に制限されるものではないが、下記の反応工程で製造することが簡易に製造できるため好ましい。第一段の反応として、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物と二塩基酸無水物とを、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物の水酸基と二塩基酸無水物のモル比が０.９〜１．１、好ましくは等モルにて反応させてハーフエステル化合物を得る。次いで、第二段の反応として、得られたハーフエステル化合物とエポキシ樹脂とを、ハーフエステル化合物のカルボキシル基とエポキシ樹脂のグリシジル基とを、モル比が０.９〜１．１、好ましくは等モルにて反応させる。 The reaction order of the hydroxyalkyl (meth) acrylate lactone adduct, dibasic acid anhydride and epoxy resin is not particularly limited as long as it is an order in which a modified epoxy (meth) acrylate can be produced. Since it can manufacture easily, it is preferable. In the first stage reaction, a hydroxyalkyl (meth) acrylate lactone adduct and a dibasic acid anhydride are combined, and a hydroxyalkyl (meth) acrylate lactone adduct molar ratio of the hydroxyl group and the dibasic acid anhydride is 0. The half ester compound is obtained by reacting at 9 to 1.1, preferably equimolar. Next, as the second-stage reaction, the obtained half ester compound and epoxy resin are mixed with the carboxyl group of the half ester compound and the glycidyl group of the epoxy resin in a molar ratio of 0.9 to 1.1, preferably etc. React in moles.
この第１段及び第２段の反応は、禁止剤の存在下、反応温度６０〜１２０℃、好ましくは７０〜１００℃で反応する事が望ましい。当該温度範囲とすることで、ラクトン付加物の不飽和二重結合の重合が生じにくく、短い反応時間で反応しやすくなる。また、グリシジル基の開環触媒として公知任意の触媒を用いる事が出来る。トリエチレンジアミン、トリｎブチルアミン等の三級アミン類、トリフェニルフォスファイト、亜燐酸エステル、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類などがその代表例として挙げる事が出来る。 The first stage and second stage reactions are preferably carried out in the presence of an inhibitor at a reaction temperature of 60 to 120 ° C, preferably 70 to 100 ° C. By setting the temperature range, the polymerization of the unsaturated double bond of the lactone adduct is unlikely to occur, and the reaction is facilitated in a short reaction time. Any known catalyst can be used as the ring-opening catalyst for the glycidyl group. Representative examples include tertiary amines such as triethylenediamine and tri-n-butylamine, phosphines such as triphenyl phosphite, phosphite, and triphenylphosphine.
本発明の光硬化性組成物中には、上記変性エポキシ（メタ）アクリレートを、紫外線硬化型組成物の固形分全体に対して３０〜８０質量％含有することが好ましく、４０〜７０質量％含有することが特に好ましい。 In the photocurable composition of the present invention, the modified epoxy (meth) acrylate is preferably contained in an amount of 30 to 80% by mass, and 40 to 70% by mass, based on the entire solid content of the ultraviolet curable composition. It is particularly preferable to do this.
本発明の光硬化性組成物中には、（メタ）アクリレートモノマーとして、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有する。これらモノマーを、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を低減に好適な上記変性エポキシ（メタ）アクリレートと併用することで、光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に光硬化性組成物を直接塗布展延して光透過層を形成する場合にも塗工欠陥無く好適な光透過層を形成できる。 The photocurable composition of the present invention contains at least one selected from 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate as the (meth) acrylate monomer. . By using these monomers in combination with the above modified epoxy (meth) acrylate suitable for reducing deterioration of the light reflecting film under high temperature and high humidity environment or light exposure, the light reflecting layer of the substrate provided with the light reflecting layer Even when the light curable composition is directly applied and spread around the upper center hole to form a light transmissive layer, a suitable light transmissive layer can be formed without coating defects.
本発明の光硬化性組成物中には、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレートの総量が、紫外線硬化型組成物の固形分全体に対して２〜２０質量％含有することが好ましく、２〜１５質量％含有することが特に好ましい。 In the photocurable composition of the present invention, the total amount of 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate is based on the total solid content of the ultraviolet curable composition. It is preferable to contain 2-20 mass%, and it is especially preferable to contain 2-15 mass%.
本発明の光硬化性組成物は、ブルーレーザーにより情報の再生を行う光ディスクの光透過層に使用する組成物として好適な粘度や、好適な弾性率の皮膜形成を行うに際し、上記変性エポキシ（メタ）アクリレート以外の（メタ）アクリレートオリゴマーや、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート以外の（メタ）アクリレートモノマーを適宜使用してもよい。 The photocurable composition of the present invention is suitable for use in the formation of a film having a viscosity suitable for a light transmission layer of an optical disk for reproducing information by a blue laser and a film having a suitable elastic modulus. ) (Meth) acrylate oligomers other than acrylates and (meth) acrylate monomers other than 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate may be used as appropriate.
変性エポキシ（メタ）アクリレート以外の（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、オリゴマーとしては、例えば、ポリエーテル骨格のウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル骨格のウレタン（メタ）アクリレート、ポリカーボネート骨格のウレタン（メタ）アクリレートなどのポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル骨格のポリオールに（メタ）アクリル酸をエステル化したポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル骨格のポリオールに（メタ）アクリル酸をエステル化したポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂のグリシジル基にアクリル酸を反応したエポキシアクリレート等を例示できる。 Examples of the (meth) acrylate oligomer other than the modified epoxy (meth) acrylate include, for example, a urethane (meth) acrylate having a polyether skeleton, a urethane (meth) acrylate having a polyester skeleton, and a urethane (meth) having a polycarbonate skeleton. Polyurethane (meth) acrylate such as acrylate, polyester (meth) acrylate obtained by esterifying (meth) acrylic acid to polyol of polyester skeleton, polyether (meth) acrylate obtained by esterifying (meth) acrylic acid to polyol of polyether skeleton An epoxy acrylate obtained by reacting acrylic acid with a glycidyl group of an epoxy resin can be exemplified.
これら変性エポキシ（メタ）アクリレート以外の（メタ）アクリレートオリゴマーを使用する場合には、変性エポキシ（メタ）アクリレートを含む（メタ）アクリレートオリゴマーの総量が、紫外線硬化型組成物の固形分全体に対して３０〜８０質量％とすることが好ましく、４０〜７０質量％とすることが特に好ましい。 When (meth) acrylate oligomers other than these modified epoxy (meth) acrylates are used, the total amount of (meth) acrylate oligomers containing modified epoxy (meth) acrylate is based on the total solid content of the ultraviolet curable composition. It is preferable to set it as 30-80 mass%, and it is especially preferable to set it as 40-70 mass%.
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート以外の（メタ）アクリレートモノマーとしては、単官能（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート以外の二官能（メタ）アクリレート、三官能以上の多官能（メタ）アクリレートの一種以上を適宜使用できる。 Monofunctional (meth) acrylates and 1,6-hexanediol di (meth) as (meth) acrylate monomers other than 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate One or more of bifunctional (meth) acrylates other than acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate and trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylates can be used as appropriate.
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタンアダマンチル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタンアダマンチル（メタ）アクリレート、などを使用できる。 Examples of monofunctional (meth) acrylates include ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, and octadecyl. (Meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl ( Aliphatic (meth) acrylates such as (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl ( A) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate and other aromatic (meth) acrylates, dicyclopentenyl (meth) acrylate , Dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetracyclododecanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, 2- ( Alicyclic (meth) acrylates such as (meth) acryloyloxymethyl-2-methylbicycloheptaneadamantyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, Rishijiru (meth) acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloyl morpholine, 2- (meth) acryloyloxy-2-methyl bicycloheptane adamantyl (meth) acrylate, and the like can be used.
上記単官能（メタ）アクリレートのなかでも、イソアミル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートが好ましい。 Among the above monofunctional (meth) acrylates, isoamyl (meth) acrylate, ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, dicyclo Pentanyl (meth) acrylate and caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate are preferred.
なかでも、フェノキシエチルアクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、は十分な柔軟性を与え、且つ耐久性が良いので好ましい。 Of these, phenoxyethyl acrylate and ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate are preferable because they provide sufficient flexibility and good durability.
本発明の光硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物全量中の単官能（メタ）アクリレートの含有量としては、５〜４０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることが特に好ましい。 As content of monofunctional (meth) acrylate in the radical polymerizable compound whole quantity contained in the photocurable composition of this invention, it is preferable that it is 5-40 mass%, and it is 10-30 mass%. Particularly preferred.
二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、脂環式構造を有する（メタ）アクリレートとしては、脂環式の二官能（メタ）アクリレートとして、ノルボルナンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等を使用できる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth) acrylate. , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2-methyl-1,8-octanediol di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di ( Obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol Diol Di (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified alkylated phosphoric acid di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di ( (Meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate having alicyclic structure, alicyclic bifunctional (meth) acrylate, norbornane dimethanol di (meth) Di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to acrylate, norbornane diethanol di (meth) acrylate, norbornane dimethanol, tricycle Di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to tricyclodecane diethanol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol, and pentacyclopentadecane dimethanol Di (meth) acrylate, pentacyclopentadecane diethanol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to pentacyclopentadecane dimethanol, ethylene oxide or pentacyclopentadecane diethanol Di (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentane di (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of propylene oxide, hydroxy Neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. can be used.
上記二官能（メタ）アクリレートのなかでは、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが好ましい。 Among the above bifunctional (meth) acrylates, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meta) ) Acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentane di (meth) acrylate, and hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate.
なかでも、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートは、耐久性が良いので好ましい。また、ネオペンチルグリコール及び１，６−ヘキサンジオールジアクリレートは、ポリカーボネート基板に対する密着性を良好にするため好ましい。 Of these, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, and tripropylene glycol diacrylate are preferred because of their good durability. Further, neopentyl glycol and 1,6-hexanediol diacrylate are preferable because they have good adhesion to the polycarbonate substrate.
本発明の光硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物全量中の二官能（メタ）アクリレートの含有量としては、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレートを含む総量で、５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることが特に好ましい。 As content of the bifunctional (meth) acrylate in the radical polymerizable compound whole quantity contained in the photocurable composition of this invention, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di ( The total amount including (meth) acrylate is preferably 5 to 50% by mass, and particularly preferably 10 to 40% by mass.
また、硬化後の弾性率を高く調整したい場合には、三官能以上の（メタ）アクリレートを使用することができる。例えば、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、等を使用できる。 Further, when it is desired to adjust the elastic modulus after curing to a high level, trifunctional or higher functional (meth) acrylates can be used. For example, bis (2-acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, bis (2-acryloyloxypropyl) hydroxypropyl isocyanurate, bis (2-acryloyloxybutyl) hydroxybutyl isocyanurate, bis (2-methacryloyloxyethyl) hydroxy Ethyl isocyanurate, bis (2-methacryloyloxypropyl) hydroxypropyl isocyanurate, bis (2-methacryloyloxybutyl) hydroxybutyl isocyanurate, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (2-acryloyloxypropyl) isocyanate Nurate, Tris (2-acryloyloxybutyl) isocyanurate, Tris (2-methacryloyloxyethyl) isocyanurate , Tris (2-methacryloyloxypropyl) isocyanurate, tris (2-methacryloyloxybutyl) isocyanurate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, penta Diol of triol obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of erythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane Polyfunctional (meth) acrylates such as tri (meth) acrylate and poly (meth) acrylate of dipentaerythritol can be used.
なかでも、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリアクリレートは、硬化性が速く且つ硬化収縮率が低いため好ましい。 Of these, a triacrylate of triol obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide to 1 mol of trimethylolpropane is preferred because it has high curability and low cure shrinkage.
本発明の光硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物全量中の三官能以上の（メタ）アクリレートの含有量としては、１〜３０質量％であることが好ましく、２〜２０質量％であることが好ましい。 The content of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate in the total amount of the radical polymerizable compound contained in the photocurable composition of the present invention is preferably 1 to 30% by mass, and 2 to 20% by mass. It is preferable.
また、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等のラジカル重合性化合物も必要に応じて使用できる。 Moreover, radically polymerizable compounds such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam and vinyl ether monomers can be used as necessary.
本発明の光硬化性組成物に使用する光重合開始剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明で使用する光重合開始剤として好適である。本発明に使用する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤を使用することができる。 As the photopolymerization initiator used in the photocurable composition of the present invention, any known and conventional ones can be used, but those of molecular cleavage type or hydrogen abstraction type are suitable as the photopolymerization initiator used in the present invention. It is. Examples of the photopolymerization initiator used in the present invention include benzoin isobutyl ether, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, benzyl, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one and 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2 -Molecular cleavage types such as morpholinopropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, isophthalphenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenyl sulfide, etc. It can be used hydrogen abstraction type photopolymerization initiator.
また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、かつ紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。また、光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。 Examples of sensitizers include trimethylamine, methyldimethanolamine, triethanolamine, p-dimethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylbenzylamine and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone or the like can be used, and further, an amine that does not cause an addition reaction with the photopolymerizable compound can be used in combination. Of course, it is preferable to select and use those which are excellent in solubility in the ultraviolet curable compound and do not inhibit the ultraviolet transmittance. In addition, in the photocurable resin composition, as necessary, surfactants, leveling agents, thermal polymerization inhibitors, antioxidants such as hindered phenols and phosphites, and light stabilizers such as hindered amines are added as necessary. Can also be used.
更に必要に応じて、接着性、密着性を改善するシランカップリング剤、チタンカップリング剤等の助剤、或いは濡れ性や表面平滑性を改善する助剤を公知任意の量加えることが出来る。 Further, if necessary, an auxiliary agent such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent that improves adhesiveness or adhesion, or an auxiliary agent that improves wettability or surface smoothness can be added in any known amount.
また、本発明の光硬化性組成物においては、没食子酸または没食子酸エステルを添加することで、光ディスクを高温高湿環境下に長時間放置した後の反射膜の外観変化、及び信号の読み取りエラーの増加を、特に好適に防止できるため好ましい。 Further, in the photocurable composition of the present invention, by adding gallic acid or gallic acid ester, the appearance change of the reflective film after leaving the optical disc in a high temperature and high humidity environment for a long time, and signal reading error This is preferable because an increase in the amount can be prevented particularly suitably.
上記没食子酸エステルとしては、没食子酸メチル、没食子酸エチル、没食子酸プロピル、没食子酸イソプロピル、没食子酸イソペンチル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、没食子酸テトラデシル、没食子酸ヘキサデシル、没食子酸オクタデシル等が例示できる。なかでも没食子酸が特に好ましく使用できる。 Examples of the gallic acid ester include methyl gallate, ethyl gallate, propyl gallate, isopropyl gallate, isopentyl gallate, octyl gallate, dodecyl gallate, tetradecyl gallate, hexadecyl gallate, octadecyl gallate, and the like. . Of these, gallic acid can be particularly preferably used.
没食子酸または没食子酸エステルの光硬化性組成物中への添加量としては、光硬化性組成物全体に対して、０．０１〜５質量％が好ましく、より好ましくは０．０２〜０．５質量％である。 As addition amount to the photocurable composition of a gallic acid or a gallic acid ester, 0.01-5 mass% is preferable with respect to the whole photocurable composition, More preferably, it is 0.02-0.5. % By mass.
本発明の光硬化性組成物の粘度は、５００〜４０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、８００〜２０００ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。粘度を当該範囲とすることで、光ディスクの光透過層を好適に作製できる。 The viscosity of the photocurable composition of the present invention is preferably 500 to 4000 mPa · s, particularly preferably 800 to 2000 mPa · s. By setting the viscosity within the above range, the light transmission layer of the optical disc can be suitably produced.
本発明の光硬化性組成物は、光照射した後の硬化膜の弾性率が、３０〜２５００ＭＰａ（２５℃）となるように調整することが好ましい。中でも３０〜１６００ＭＰａとなる組成であることが好ましく、中でも３０〜１０００ＭＰａとなる組成であることがより好ましい。弾性率がこの範囲となる組成であると、硬化時の歪みが緩和され易く、高温高湿環境下に長時間曝されても接着力の低下が少なく光ディスクの機械的強度を高めることが容易である。 The photocurable composition of the present invention is preferably adjusted so that the elastic modulus of the cured film after light irradiation is 30 to 2500 MPa (25 ° C.). Among these, a composition of 30 to 1600 MPa is preferable, and a composition of 30 to 1000 MPa is more preferable. When the composition has an elastic modulus in this range, distortion during curing is easily relaxed, and even when exposed to a high temperature and high humidity environment for a long time, the adhesive strength does not decrease and it is easy to increase the mechanical strength of the optical disk. is there.
本発明の光硬化性組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。 In the photocurable composition of the present invention, as necessary, surfactants, leveling agents, thermal polymerization inhibitors, antioxidants such as hindered phenols and phosphites, and light stabilizers such as hindered amines are added as necessary. Can also be used. Examples of sensitizers include trimethylamine, methyldimethanolamine, triethanolamine, p-dimethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylbenzylamine and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone or the like can be used, and further, an amine that does not cause an addition reaction with the photopolymerizable compound can be used in combination.
［光ディスク］
本発明の光ディスクは、センターホールを有する基板上に光反射層が設けられ、当該光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に、上記の光硬化性組成物を直接塗布展延し、光硬化して形成された光透過層を有する光ディスクであり、前記光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクである。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した光硬化性組成物を使用することにより、光硬化性組成物を直接基板上に塗布展延して形成される光透過層であっても好適な特性で塗工欠陥の無い光透過層となり、良好に情報の記録・再生を行うことができる。
[optical disk]
In the optical disk of the present invention, a light reflecting layer is provided on a substrate having a center hole, and the above photocurable composition is directly applied around the center hole on the light reflecting layer of the substrate provided with the light reflecting layer. An optical disc having a light transmission layer formed by spreading and photocuring, and recording or reproducing with a laser beam through the light transmission layer. The optical disk of the present invention may be a light transmissive layer formed by coating and spreading a photocurable composition directly on a substrate by using the above-described photocurable composition as a light transmissive layer. It becomes a light transmissive layer with excellent characteristics and no coating defects, and information can be recorded and reproduced satisfactorily.
本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましい。光透過層の厚みは５０〜１５０μｍの範囲であり、７５〜１５０μｍであることが特に好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。 It is preferable that the light transmission layer in the optical disk of the present invention efficiently transmits a blue laser having an oscillation wavelength of laser light of 370 to 430 nm. The thickness of the light transmission layer is in the range of 50 to 150 μm, and particularly preferably 75 to 150 μm. The thickness of the light transmission layer is usually set to about 100 μm, but the thickness greatly affects the light transmittance and signal reading and recording, and therefore needs to be sufficiently managed. The light transmission layer may be formed of a single cured layer having the thickness or a plurality of layers may be laminated.
光硬化性組成物の塗布、展延方法は特に制限されないが、光ディスク基板への光硬化性組成物の塗布、展延に通常使用されるスピンコーターによる塗布、展延が好ましい。 The method for applying and spreading the photocurable composition is not particularly limited, but it is preferable to apply and spread the photocurable composition onto the optical disk substrate using a spin coater that is usually used for spreading.
光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、４００ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、１０〜６０ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。 The light reflection layer may be any layer that can reflect a laser beam and form an optical disc that can be recorded and reproduced. For example, a metal such as gold, copper, or aluminum or an alloy thereof, or an inorganic compound such as silicon can be used. . Of these, silver or an alloy containing silver as a main component is preferably used because of the high reflectance of light in the vicinity of 400 nm. The thickness of the light reflecting layer is preferably about 10 to 60 nm.
基板としては、センターホールを有するディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。 As the substrate, a disc-shaped circular resin substrate having a center hole can be used, and polycarbonate can be preferably used as the resin. When the optical disc is read-only, pits for recording information are formed on the surface of the substrate that is laminated with the light reflecting layer.
また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。 In the case of a writable optical disc, an information recording layer is provided between the light reflecting layer and the light transmitting layer. The information recording layer only needs to be capable of recording / reproducing information, and may be any of a phase change recording layer, a magneto-optical recording layer, and an organic dye recording layer.
情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。 When the information recording layer is a phase change recording layer, the information recording layer is usually composed of a dielectric layer and a phase change film. The dielectric layer is required to have a function of buffering heat generated in the phase change layer and a function of adjusting the reflectivity of the disk, and a mixed composition of ZnS and SiO 2 is used. The phase change film causes a difference in reflectance between the amorphous state and the crystalline state due to the phase change of the film, and uses a Ge—Sb—Te, Sb—Te, or Ag—In—Sb—Te alloy. Can do.
本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層とが積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。 The optical disk of the present invention may have two or more information recording sites. For example, in the case of a read-only optical disc, a first light reflection layer and a first light transmission layer are laminated on a substrate having pits, and the first light transmission layer or other layers are laminated, A second light reflection layer and a second light transmission layer may be formed on the layer. In this case, pits are formed on the first light transmission layer and other layers laminated thereon. In addition, in the case of a recordable / reproducible optical disc, an information recording layer, a light reflecting layer, and a light transmitting layer are laminated on a substrate, and the second layer is further formed on the light transmitting layer. The light reflecting layer, the second information recording layer, and the second light transmitting layer are formed to have two information recording layers, or similarly, the layers are laminated to have three or more information recording layers. It is good also as a structure. In the case of laminating a plurality of layers, it may be appropriately adjusted so that the sum of the layer thicknesses of the respective layers becomes the above-mentioned thickness.
また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層であってもよいが、更にその表層に表面コート層を設けてもよい。 In the optical disk of the present invention, the light transmission layer may be the outermost layer, but a surface coat layer may be provided on the surface layer.
本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、１枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に光硬化性組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、１枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に光硬化性組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。 The optical disc of the present invention includes a read-only disc and a recordable / reproducible disc. A read-only disc is provided with a pit as an information recording layer when a single circular resin substrate is injection-molded, and then a light reflecting layer is formed on the information recording layer, and further on the light reflecting layer. After the photocurable composition is applied by a spin coating method or the like, it can be produced by curing by ultraviolet irradiation to form a light transmission layer. In addition, a recordable / reproducible disc is formed by forming a light reflecting layer on one circular resin substrate, and then providing an information recording layer such as a phase change film or a magneto-optical recording film, and further on the light reflecting layer. It can be manufactured by applying a photocurable composition to the substrate by spin coating or the like and then curing it by ultraviolet irradiation to form a light transmission layer.
光反射層上に塗布した光硬化性組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。 In the case of curing the photocurable composition applied on the light reflecting layer by irradiating with ultraviolet rays, for example, it can be performed by a continuous light irradiation method using a metal halide lamp, a high pressure mercury lamp, or the like, or by a flash irradiation method described in US Pat. No. 5,904,795. It can also be done. The flash irradiation method is more preferable in that it can be cured efficiently.
紫外線を照射する場合、積算光量は０．０５〜１Ｊ／ｃｍ２となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は０．０５〜０．８Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、０．０５〜０．６Ｊ／ｃｍ２であることが特に好ましい。本発明の光ディスクに使用する光硬化性組成物は、積算光量が少量であっても、十分に硬化し、光ディスク端面や表面のタックが発生せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生しない。 When irradiating with ultraviolet rays, it is preferable to control the accumulated light amount to be 0.05 to 1 J / cm 2 . More preferably accumulated light amount is 0.05~0.8J / cm 2, and particularly preferably 0.05~0.6J / cm 2. The photocurable composition used in the optical disk of the present invention is sufficiently cured even when the accumulated light amount is small, and does not cause the end face or surface tack of the optical disk, and further does not cause warping or distortion of the optical disk.
［実施態様］
以下、本発明の光ディスクの具体例として、単層型光ディスク及び二層型光ディスクの具体的構成の一例を以下に示す。
[Embodiment]
Hereinafter, as specific examples of the optical disc of the present invention, examples of specific configurations of a single-layer optical disc and a double-layer optical disc are shown below.
本発明の光ディスクのうち、単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図１に示したように、基板１上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラック（グルーブ）を模式的に表したものである。光透過層３は、本発明の光硬化性組成物の硬化物からなる層であり、その厚さは１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。 Among the optical discs of the present invention, as a preferred embodiment of a single-layer type optical disc, for example, as shown in FIG. 1, a light reflecting layer 2 and a light transmitting layer 3 are laminated on a substrate 1 to transmit light. A configuration for recording or reproducing information by injecting a blue laser from the layer side can be exemplified. The irregularities in the figure schematically represent recording tracks (grooves). The light transmission layer 3 is a layer made of a cured product of the photocurable composition of the present invention, and its thickness is in the range of 100 ± 10 μm. The thickness of the substrate 1 is about 1.1 mm, and the light reflecting film is a thin film such as silver.
図２は図１に示した構成の最表層にハードコート層４を設けた構成である。ハードコート層は、高硬度で、耐摩耗性に優れる層であることが好ましい。ハードコート層の厚さは、１〜１０μｍであることが好ましく、３〜５μｍであることがより好ましい
多層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図３に示したように、基板１上に、光反射層５と、光透過層６とが積層され、さらにその上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層３側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う二層型光ディスクの構成が例示できる。光透過層３及び光透過層６は、光硬化性組成物の硬化物からなる層であり、少なくともいずれかの層が本発明の光硬化性組成物からなる層である。層の厚さとしては、光透過層３の厚さと光透過層６の厚さの和が１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
FIG. 2 shows a configuration in which a hard coat layer 4 is provided on the outermost layer of the configuration shown in FIG. The hard coat layer is preferably a layer having high hardness and excellent wear resistance. The thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 3 to 5 μm. As a preferred embodiment of the multilayer optical disc, for example, as shown in FIG. The light reflection layer 5 and the light transmission layer 6 are laminated, and further, the light reflection layer 2 and the light transmission layer 3 are laminated thereon, and a blue laser is incident from the light transmission layer 3 side to receive information. An example of the configuration of a two-layered optical disk that performs recording or reproduction is exemplified. The light transmissive layer 3 and the light transmissive layer 6 are layers made of a cured product of a photocurable composition, and at least one of the layers is a layer made of the photocurable composition of the present invention. As the thickness of the layer, the sum of the thickness of the light transmission layer 3 and the thickness of the light transmission layer 6 is in the range of 100 ± 10 μm. The thickness of the substrate 1 is about 1.1 mm, and the light reflecting film is a thin film such as silver.
当該構成の二層型光ディスクにおいては、記録トラック（グルーブ）が、光透過層６の表面にも形成されるため、光透過層６は、接着性に優れる光硬化性組成物の硬化膜からなる層の上に、記録トラックを好適に形成できる光硬化性組成物の硬化膜からなる層を積層した複層で形成されていてもよい。また当該構成においても最表層にハードコート層が設けられていてもよい。 In the two-layer type optical disc having the above configuration, since the recording track (groove) is also formed on the surface of the light transmission layer 6, the light transmission layer 6 is made of a cured film of a photocurable composition having excellent adhesiveness. On the layer, you may form with the multilayer which laminated | stacked the layer which consists of a cured film of the photocurable composition which can form a recording track suitably. Also in this configuration, a hard coat layer may be provided on the outermost layer.
図１に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、光ディスク用のセンターホールを有する円形基板に、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜する。この光反射層が設けられた基板の光反射層上のセンターホール周辺に、本発明の光硬化性組成物をセンターキャップを用いることなく光反射層上に直接塗布する。この際の光硬化性組成物の塗布はセンターホールの周囲に円状に滴下することが好ましい。また複数の円を形成するように滴下してもよい。当該光硬化性組成物を塗布した後、スピンコート等により光硬化性組成物を展延し、ディスクの片面または両面から紫外線を照射して、光硬化性組成物を硬化させ、光透過層３を形成し、図１の光ディスクを作製する。図２の光ディスクの場合には、この上に更にスピンコート等によりハードコート層４を形成する。
A method for manufacturing the optical disk shown in FIG. 1 will be described below.
First, polycarbonate resin is injection-molded to produce a substrate 1 having a guide groove for tracking laser light called a recording track (groove) on a circular substrate having a center hole for an optical disk. Next, the light reflecting layer 2 is formed on the surface of the substrate 1 on the recording track side by sputtering or vapor deposition of silver alloy or the like. The photocurable composition of the present invention is directly applied on the light reflecting layer without using a center cap around the center hole on the light reflecting layer of the substrate provided with the light reflecting layer. In this case, the photocurable composition is preferably applied in a circle around the center hole. Further, it may be dropped so as to form a plurality of circles. After the photocurable composition is applied, the photocurable composition is spread by spin coating or the like, and the photocurable composition is cured by irradiating ultraviolet rays from one or both sides of the disk. To form the optical disk of FIG. In the case of the optical disk of FIG. 2, a hard coat layer 4 is further formed thereon by spin coating or the like.
図３に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に、基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層６を成膜する。
A method for manufacturing the optical disk shown in FIG. 3 will be described below.
First, a substrate 1 having a guide groove for tracking laser light called a recording track (groove) is manufactured by injection molding polycarbonate resin. Next, the light reflecting layer 6 is formed on the surface of the substrate 1 on the recording track side by sputtering or vapor-depositing a silver alloy or the like.
この上に、本発明の光硬化性組成物又は任意の光硬化性組成物の光透過層５を形成するが、その際に型を用いて表面に記録トラック（グルーブ）を転写する。記録トラック（グルーブ）を転写する工程は次の通りである。基板１に形成された光反射層６上に、光硬化性組成物を塗布し、その上に記録トラック（グルーブ）を形成するための型と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、光硬化性組成物を硬化させる。その後、型を剥離して、光透過層５の記録トラック（グルーブ）を有する側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜し、この上に、上記と同様にして光硬化性組成物をセンターホール周辺に直接塗付展延した後、紫外線照射により硬化させ、光透過層３を形成することで、図３の光ディスクを作製できる。また、光反射層に相変化型記録層を用いる場合でも上記と同様の方法により光ディスクを作成することができる。 On this, the photocurable composition of the present invention or the light transmissive layer 5 of any photocurable composition is formed. At that time, a recording track (groove) is transferred to the surface using a mold. The process of transferring the recording track (groove) is as follows. A photocurable composition is applied onto the light reflecting layer 6 formed on the substrate 1 and bonded to a mold for forming a recording track (groove) thereon. From one side or both sides of the bonded disc. The photocurable composition is cured by irradiating with ultraviolet rays. Thereafter, the mold is peeled off, and the light reflecting layer 2 is formed by sputtering or vapor-depositing a silver alloy or the like on the surface of the light transmitting layer 5 having the recording tracks (grooves). Similarly, the optical curable composition shown in FIG. 3 can be produced by directly applying and spreading the photocurable composition around the center hole and then curing it by ultraviolet irradiation to form the light transmitting layer 3. Even when a phase change recording layer is used for the light reflection layer, an optical disc can be produced by the same method as described above.
次に、合成例及び実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の「部」は「質量部」を表す。 Next, although a synthesis example and an Example are given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these Examples. Hereinafter, “parts” in the examples represent “parts by mass”.
なお本発明で平均分子量の測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）を用い、下記の条件により求めた。
測定装置 ； 東ソー株式会社製 ＨＬＣ−８２２０
カラム ； 東ソー株式会社製ガードカラムＨＸＬ−Ｈ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｇ５０００ＨＸＬ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨＸＬ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｇ３０００ＨＸＬ
＋東ソー株式会社製 ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬ
検出器 ； ＲＩ（示差屈折計）
データ処理：東ソー株式会社製 ＳＣ−８０１０
測定条件： カラム温度 ４０℃
溶媒 テトラヒドロフラン
流速 １．０ｍｌ／分
標準 ；ポリスチレン
試料 ；樹脂固形分換算で０．４重量％のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの（１００μｌ）
In the present invention, the average molecular weight was measured under the following conditions using a gel permeation chromatograph (GPC).
Measuring device: HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation
Column: Tosoh Corporation guard column HXL-H
+ Tosoh Corporation TSKgel G5000HXL
+ Tosoh Corporation TSKgel G4000HXL
+ Tosoh Corporation TSKgel G3000HXL
+ Tosoh Corporation TSKgel G2000HXL
Detector: RI (differential refractometer)
Data processing: Tosoh Corporation SC-8010
Measurement conditions: Column temperature 40 ° C
Solvent tetrahydrofuran
Flow rate 1.0 ml / min Standard; polystyrene sample; 0.4% by weight tetrahydrofuran solution in terms of resin solid content filtered through a microfilter (100 μl)
＜合成例１＞
温度計、攪拌機および環流冷却器を備えたフラスコに、プラクセルＦＡ１−ＤＤＭ（ダイセル化学工業株式会社製 ２−ヒドロキシエチルエチルアクリレートのε−カプロラクトン１モル付加物）を２３０ｇ、無水フタル酸を１４８ｇ、重合禁止剤としてハイドロキノン０．１ｇ仕込んだ後、攪拌を行いながら２時間で１２０℃まで昇温した。１２０℃で１０時間反応後、８０℃まで降温してビスフェノールＡ型エポキシ樹脂１８９ｇ、トリフェニルホスフィン２．８５ｇを添加した。再び１２０℃まで昇温後、４時間保持してエポキシ（メタ）アクリレート樹脂（ＥＡ−１）を含有する淡黄色透明の樹脂状の反応混合物（酸価＝０．７、酢酸ブチル希釈粘度（反応混合物／酢酸ブチル＝７０／３０）＝Ｆ−Ｇ、エポキシ当量＝１０，２００）を得た。ＧＰＣによる分子量分布測定結果からエポキシアクリレート樹脂（ＥＡ−１）の数平均分子量（Ｍｎ）は１３６０、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３８４０であった。
<Synthesis Example 1>
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, 230 g of Plaxel FA1-DDM (1 mol adduct of ε-caprolactone of 2-hydroxyethylethyl acrylate manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and 148 g of phthalic anhydride are polymerized After adding 0.1 g of hydroquinone as an inhibitor, the temperature was raised to 120 ° C. in 2 hours while stirring. After reacting at 120 ° C. for 10 hours, the temperature was lowered to 80 ° C., and 189 g of bisphenol A type epoxy resin and 2.85 g of triphenylphosphine were added. The temperature was raised again to 120 ° C. and held for 4 hours, and a light yellow transparent resinous reaction mixture containing an epoxy (meth) acrylate resin (EA-1) (acid value = 0.7, butyl acetate diluted viscosity (reaction) Mixture / butyl acetate = 70/30) = FG, epoxy equivalent = 10,200). From the results of molecular weight distribution measurement by GPC, the number average molecular weight (Mn) of the epoxy acrylate resin (EA-1) was 1360, and the weight average molecular weight (Mw) = 3840.
＜合成例２＞
温度計、攪拌機および環流冷却器を備えたフラスコに、プラクセルＦＡ２−Ｄ（ダイセル化学工業株式会社製 ２−ヒドロキシエチルエチルアクリレートのε−カプロラクトン２モル付加物）を５０５ｇ、無水フタル酸を２１７ｇ、重合禁止剤としてハイドロキノン０．５ｇ仕込んだ後、攪拌を行いながら２時間で９０℃まで昇温した。９０℃で９時間反応後、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂２７６ｇ、トリフェニルホスフィン２ｇを添加した。９５℃まで昇温後、５時間保持してエポキシ（メタ）アクリレート樹脂（ＥＡ−２）を含有する淡黄色透明の樹脂状の反応混合物（酸価＝０．８、粘度（２５℃、Ｐａ・ｓ）１３２）を得た。
<Synthesis Example 2>
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 505 g of Plaxel FA2-D (2-hydroxyethylethyl acrylate ε-caprolactone 2-mol adduct made by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and 217 g of phthalic anhydride are polymerized After charging 0.5 g of hydroquinone as an inhibitor, the temperature was raised to 90 ° C. in 2 hours while stirring. After 9 hours of reaction at 90 ° C., 276 g of bisphenol A type epoxy resin and 2 g of triphenylphosphine were added. After the temperature was raised to 95 ° C., the reaction mixture was a pale yellow transparent resin-like reaction mixture (acid value = 0.8, viscosity (25 ° C., Pa · s) 132) was obtained.
＜光硬化性樹脂組成物の製造＞
下記表１、２に示した組成により配合した各組成物を６０℃で３時間加熱、溶解して、実施例１〜１１及び比較例１〜８の各実施例及び比較例の光硬化型組成物を調製した。得られた組成物について、下記の評価を行った。得られた結果を表１〜２、図４〜５に示した。
<Manufacture of a photocurable resin composition>
Each composition blended according to the composition shown in Tables 1 and 2 below is heated and dissolved at 60 ° C. for 3 hours, and the photocurable compositions of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 8 are used. A product was prepared. The following evaluation was performed about the obtained composition. The obtained results are shown in Tables 1-2 and FIGS.
＜粘度の測定方法＞
光硬化型組成物について、２５℃における粘度をＢ型粘度計（（株）東京計器製、ＢＭ型）を用いて測定した。
<Measurement method of viscosity>
About the photocurable composition, the viscosity in 25 degreeC was measured using the B-type viscosity meter (Corporation | KK Tokyo Keiki make, BM type | mold).
＜弾性率の測定方法＞
光硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が１００±１０μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で２５０ｍＪ／ｃｍ２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティー・エイ・インストルメント（株）社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、２５℃における動的弾性率Ｅ’を弾性率とした。
<Measurement method of elastic modulus>
The photocurable composition was applied on a glass plate so that the cured coating film was 100 ± 10 μm, and then 250 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere using a metal halide lamp (with a cold mirror, lamp output 120 W / cm). And cured. The elastic modulus of this cured coating film was measured with an automatic dynamic viscoelasticity measuring apparatus manufactured by TA Instruments Inc., and the dynamic elastic modulus E ′ at 25 ° C. was defined as the elastic modulus.
＜ディスク基板に対する塗工試験＞
センターに直径１５ｍｍのセンターホールを有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの信号ピットを設けたブルーレイディスク基板を準備し、銀を主成分とするビスマスとの合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、反対面側に窒化シリコン（ＳｉＮｘ）を５〜１０ｎｍの膜厚でスパッタした。得られたディスク基板の銀合金反射膜上に、表１，２の各組成物をオリジン電気（株）製の塗布試験機を使用して、膜厚が硬化後に９７±２μｍになるように塗工した。塗工方法としては、まず工程１として、除電ブローしたディスク基板をカバースピンナへ搬送する。次に、工程２（ＵＶ硬化樹脂滴下工程）として、カバースピンナを低速回転（約５０ｒｐｍ）させながら、基板の中心から半径約１８ｍｍの位置に、ノズルからＵＶ硬化樹脂を約３．６秒間基板に直接滴下する。このときＵＶ硬化樹脂は基板上で円形状に約３周する。次に、工程３（スピンコーティング工程）として、カバースピンナを約４秒間高速回転（約１３００ｒｐｍ）させ、ＵＶ硬化樹脂を基板の周縁部まで展延する。なお、ＵＶ硬化樹脂の光透過膜層の厚さは、ＵＶ硬化樹脂の粘度とカバースピンナの回転速度及び回転時間を調節することで適宜調整可能である。次に、工程４（ＵＶ仮照射工程）として、ディスク基板をカバースピンナからキュアスピンナへ搬送し、キュアスピンナを回転（約８００ｒｐｍ）させながら、キュアマスクで覆った状態で紫外線（２ショット、充電電圧３４２０Ｖ）を照射する。これによりディスク基板の周縁部で盛上がったＵＶ硬化樹脂が平滑になる。さらに、工程５（ＵＶ本照射工程）として、ディスク基板の外側にリフレクタを付けた状態で紫外線（２０ショット、充電電圧３４２０Ｖ）を照射する。最後に工程６として、ディスク基板をキュアスピナから排出ステージへ搬送する。得られたサンプルディスクについて、（株）溝尻光学工業所製の「シャドーグラフ（ＬＸ−２３０ＢＳ）」を使用して、塗工面の平滑性（外観）を評価した。また、エラーレート（ＲａｎｄｏｍＳＥＲ）をパルステック工業（株）製「ＢＤ ＭＡＳＴＥＲ」を用いて測定した。実施例１の光硬化性組成物を使用した光ディスクの外観を確認した写真を図４に、比較例３の光硬化性組成物を使用した光ディスクの外観を確認した写真を図５に示した。
◎：塗工面にスジ（塗布痕）がなくて、エラーレートも異常なし
○：塗工面にスジ（塗布痕）がうっすらと見えるが、エラーレートには異常なし
×：塗工面にスジ（塗布痕）が明瞭に見えて、エラーレートも異常あり
<Coating test on disk substrate>
A Blu-ray disc substrate having a center hole with a diameter of 15 mm at the center and a signal pit with a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm was prepared, and an alloy with bismuth mainly composed of silver was sputtered to a thickness of 20 to 40 nm. Thereafter, silicon nitride (SiNx) was sputtered to a thickness of 5 to 10 nm on the opposite surface side. On the silver alloy reflective film of the obtained disk substrate, each composition shown in Tables 1 and 2 was applied using an application tester manufactured by Origin Electric Co., Ltd. so that the film thickness became 97 ± 2 μm after curing. Worked. As a coating method, first, as Step 1, the disk substrate that has been blown by static elimination is transported to a cover spinner. Next, as step 2 (UV curable resin dripping step), while rotating the cover spinner at a low speed (about 50 rpm), the UV curable resin is applied to the substrate for about 3.6 seconds from the nozzle at a position with a radius of about 18 mm. Drop directly. At this time, the UV curable resin makes a circle about 3 times on the substrate. Next, as step 3 (spin coating step), the cover spinner is rotated at a high speed (about 1300 rpm) for about 4 seconds, and the UV curable resin is spread to the peripheral edge of the substrate. In addition, the thickness of the light transmissive film layer of the UV curable resin can be appropriately adjusted by adjusting the viscosity of the UV curable resin, the rotation speed and the rotation time of the cover spinner. Next, as step 4 (UV pre-irradiation step), the disk substrate is transported from the cover spinner to the cure spinner, and the cure spinner is rotated (about 800 rpm) while being covered with a cure mask, ultraviolet rays (2 shots, charging voltage) 3420V). As a result, the UV curable resin that has risen at the periphery of the disk substrate becomes smooth. Further, as step 5 (UV main irradiation step), ultraviolet rays (20 shots, charging voltage 3420V) are irradiated with a reflector attached to the outside of the disk substrate. Finally, in step 6, the disk substrate is transported from the cure spinner to the discharge stage. About the obtained sample disk, the smoothness (appearance) of the coating surface was evaluated using "Shadowgraph (LX-230BS)" manufactured by Mizoji Optical Corporation. Further, the error rate (RandomSER) was measured using “BD MASTER” manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. The photograph which confirmed the external appearance of the optical disk using the photocurable composition of Example 1 was shown in FIG. 4, and the photograph which confirmed the external appearance of the optical disk using the photocurable composition of Comparative Example 3 was shown in FIG.
◎: No streaks (coating marks) on the coated surface and no error rate ○: Streaks (coating marks) appear slightly on the coated surface, but there is no abnormality in the error rate ×: Streaks (coating marks) on the coated surface ) Is clearly visible and the error rate is abnormal
＜耐久・荷重・反り評価用光ディスクの作製条件＞
センターに直径１５ｍｍのセンターホールを有する直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの信号ピットを設けたブルーレイディスク基板を準備し、銀を主成分とするビスマスとの合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、反対面側に窒化シリコン（ＳｉＮｘ）を５〜１０ｎｍの膜厚でスパッタした。得られた基板の銀合金反射膜上に、表１，２の各組成物をオリジン電気（株）製の塗布試験機を使用し膜厚が硬化後に９７±２μｍになるように塗工した。さらに、ハードコートを硬化後の膜厚が３±１μｍとなるように塗布した。なお、ハードコートはＤＩＣ（株）製のダイキュアクリアＨＣ−３を用いた。ウシオ電機（株）製キセノンフラッシュ照射装置（型式：ＦＵＶ−２０１ＷＪ０２）を使用し、仮硬化２ショット（充電電圧３４２０Ｖ）、本硬化２０ショット（充電電圧３４２０Ｖ）、ハードコート硬化１０ショット（充電電圧３４２０Ｖ）の条件で紫外線を照射、硬化させた試験用サンプルディスクを得た。
<Conditions for optical disk for durability / load / warp evaluation>
A Blu-ray disc substrate having a center hole with a diameter of 15 mm at the center and a signal pit with a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm was prepared, and an alloy with bismuth mainly composed of silver was sputtered to a thickness of 20 to 40 nm. Thereafter, silicon nitride (SiNx) was sputtered to a thickness of 5 to 10 nm on the opposite surface side. On the silver alloy reflective film of the obtained substrate, each composition shown in Tables 1 and 2 was applied using an application tester manufactured by Origin Electric Co., Ltd. so that the film thickness became 97 ± 2 μm after curing. Further, the hard coat was applied so that the film thickness after curing was 3 ± 1 μm. The hard coat used was Dicure Clear HC-3 manufactured by DIC Corporation. Using a xenon flash irradiation device (model: FUV-201WJ02) manufactured by USHIO INC., Pre-curing 2 shots (charging voltage 3420V), main curing 20 shots (charging voltage 3420V), hard coat curing 10 shots (charging voltage 3420V) The test sample disk was irradiated and cured under the conditions of
＜光ディスクの耐久試験＞
各サンプルディスクについて環境試験器（エスペック（株）製「ＰＲ−２ＰＫ」）を使用して、８０℃８５％ＲＨの湿熱環境下で９６時間暴露を行った。その後、２３℃５０％ＲＨの環境下に２４時間放置した後、各サンプルディスクのエラーレート（ＲａｎｄｏｍＳＥＲ）をパルステック工業（株）製「ＢＤ ＭＡＳＴＥＲ」を用いて測定した。耐久試験後のエラーレート平均値を下記基準に基づき評価した。
○：２×１０−４以下
×：２×１０−４を超える
<Endurance test of optical disc>
Each sample disk was exposed for 96 hours in a wet heat environment of 80 ° C. and 85% RH using an environmental tester (“PR-2PK” manufactured by Espec Corp.). Thereafter, the sample was allowed to stand in an environment of 23 ° C. and 50% RH for 24 hours, and then the error rate (RandomSER) of each sample disk was measured using “BD MASTER” manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. The average error rate after the durability test was evaluated based on the following criteria.
○: 2 × 10 −4 or less ×: Over 2 × 10 −4
＜光ディスクの荷重試験＞
各サンプルディスクの光透過層の面にＣＤ保管用不織布シートを載せ、さらに半径３５〜４５ｍｍの範囲に６２５ｇの重り（単位面積あたりの荷重２４．９ｇ／ｃｍ２）を載せ、２３℃５０％ＲＨ環境下で９６時間荷重を与え続けた。その後、ディスクから重りと不織布を取り除き、パルステック工業（株）製「ＢＤ ＭＡＳＴＥＲ」を用いてエラーレート（ＲａｎｄｏｍＳＥＲ）を測定した。除荷後１時間経過時点でのエラーレート平均値を下記基準に基づき評価した。
◎：２×１０−４以下
○：２×１０−４を超え５×１０−３以下
×：５×１０−３超える
<Load test of optical disc>
A non-woven sheet for CD storage is placed on the surface of the light transmissive layer of each sample disk, and a 625 g weight (a load of 24.9 g / cm 2 per unit area) is placed in a radius of 35 to 45 mm, and 23 ° C. and 50% RH. The load was continued for 96 hours under the environment. Thereafter, the weight and the nonwoven fabric were removed from the disc, and the error rate (RandomSER) was measured using “BD MASTER” manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. The average error rate at 1 hour after unloading was evaluated based on the following criteria.
A: 2 × 10 −4 or less ○: Over 2 × 10 −4 and 5 × 10 −3 or less ×: Over 5 × 10 −3
＜光ディスクの湿度ショック（反り）試験＞
各サンプルディスクについて２３℃５０％ＲＨの環境下にて光ディスク機械特性評価装置ＩＱＰＣ（Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製）を用い、半径位置５８ｍｍでのＲａｄｉａｌ Ｔｉｌｔを測定し、これを初期値とした。初期値を測定した各サンプルディスクを２５℃９５％ＲＨの環境下に９６時間放置した後、２３℃５０％ＲＨの環境下に取り出し、３時間後まで反り測定をおこなった。最大値または最小値と初期値との差から最大変化量を求め下記基準に基づき評価した。
○：初期値からの最大変化量が±０．８°以内
×：初期値からの最大変化量が±０．８°を超える
<Humidity shock (warp) test of optical disc>
For each sample disk, an optical disk mechanical property evaluation apparatus IQPC (manufactured by Dr. Schwab) was measured in an environment of 23 ° C. and 50% RH, and a radial tilt at a radial position of 58 mm was measured and used as an initial value. Each sample disk whose initial value was measured was allowed to stand for 96 hours in an environment of 25 ° C. and 95% RH, then taken out in an environment of 23 ° C. and 50% RH, and warpage was measured until 3 hours later. The maximum change amount was obtained from the difference between the maximum value or the minimum value and the initial value, and evaluated based on the following criteria.
○: The maximum change from the initial value is within ± 0.8 ° ×: The maximum change from the initial value exceeds ± 0.8 °
表１中の化合物は以下の通り。
ＥＡ−１：合成例１で合成したビスフェノールＡ型変性エポキシアクリレート
ＥＡ−２：合成例２で合成したビスフェノールＡ型変性エポキシアクリレート
Ｖ−５５３０:ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のグリシジル基に直接アクリル酸が付加した構造のエポキシアクリレート;ＤＩＣ（株）製
ＰＨ−６２１０：脂肪酸ウレタンアクリレート；コグニスジャパン（株）製
ＥＯ−ＴＭＰＴＡ：ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート
ＢｉｓＡ−１０ＥＯ−ＤＡ：ＥＯ変性（１０モル）ビスフェノールＡジアクリレート
ＨＤＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
ＮＤＤＡ：１，９−ノナンジオールジアクリレート
ＴＣＤＤＭＤＡ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
ＬＡ：ラウリルアクリレート
ＴＰＧＤＡ：トリプロピレングリコールジアクリレート
ＤＰＧＤＡ：ジプロピレングリコールジアクリレート
ＰＥＡ：フェノキシエチルアクリレート
ＣＢＡ：エチルカルビトールアクリレート
ＰＭ−２：エチレンオキシド変性リン酸メタクリレート；日本化薬（株）製
Ｉｒｇ.１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン；ＢＡＳＦ社製
ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド；ＢＡＳＦ社製
ＧＡ：没食子酸；大日本住友製薬（株）製
ベンゾトリアゾールＲ：１，２，３−ベンゾトリアゾール；精工化学（株）製
ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ：２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール；ＢＡＳＦ社製
The compounds in Table 1 are as follows.
EA-1: Bisphenol A-modified epoxy acrylate synthesized in Synthesis Example 1 EA-2: Bisphenol A-modified epoxy acrylate V-5530 synthesized in Synthesis Example 2: Acrylic acid added directly to the glycidyl group of bisphenol A-type epoxy resin Epoxy acrylate having a structure as described above; DIC Co., Ltd. PH-6210: Fatty acid urethane acrylate; Cognis Japan Co., Ltd. EO-TMPTA: EO-modified trimethylolpropane triacrylate BisA-10EO-DA: EO-modified (10 mol) bisphenol A Diacrylate HDDA: 1,6-hexanediol diacrylate NDDA: 1,9-nonanediol diacrylate TCDDMDA: tricyclodecane dimethanol diacrylate NPGDA: neopentyl glycol diacrylate LA: Lauryl acrylate TPGDA: Tripropylene glycol diacrylate DPGDA: Dipropylene glycol diacrylate PEA: Phenoxyethyl acrylate CBA: Ethyl carbitol acrylate PM-2: Ethylene oxide-modified phosphate methacrylate; Nippon Kayaku Co., Ltd. Irg. 184: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone; TPO manufactured by BASF: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; GA manufactured by BASF; gallic acid; Benzotriazole manufactured by Dainippon Sumitomo Pharma Co., Ltd. R: 1, 2, 3-benzotriazole; Seiko Chemical Co., Ltd. TINUVIN P: 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole; manufactured by BASF
上記表１から明らかなとおり、本願発明の光硬化性組成物は、センターホール周辺に直接塗布、展延した場合にも塗工欠陥が無く好適な信号読取が可能で、かつ、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を低減できる光透過層を形成できるものであった。一方、比較例１〜２の光硬化性組成物は、高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を抑制できないものであり、比較例３〜８の光硬化性組成物は塗工欠陥が生じるものであった。 As is clear from Table 1 above, the photocurable composition of the present invention is capable of suitable signal reading with no coating defects even when directly applied and spread around the center hole, and has a high temperature and high humidity environment. It was possible to form a light transmission layer that can reduce deterioration of the light reflecting film under exposure or light exposure. On the other hand, the photocurable compositions of Comparative Examples 1 and 2 cannot suppress deterioration of the light reflecting film under a high-temperature and high-humidity environment or under light exposure, and the photocurable compositions of Comparative Examples 3 to 8 are A coating defect occurred.
Claims (8)
（メタ）アクリレートオリゴマーとして、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られる変性エポキシ（メタ）アクリレートを含有し、
（メタ）アクリレートモノマーとして、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする光透過層用光硬化性組成物。 A light transmissive layer is formed by coating and spreading a photocurable composition directly around the center hole on the light reflective layer of the substrate provided with the light reflective layer, and a blue laser is incident from the light transmissive layer side. A photocurable composition for use in a light transmission layer of an optical disk for reproducing information,
As a (meth) acrylate oligomer, a modified epoxy (meth) acrylate obtained by reacting a lactone adduct of hydroxyalkyl (meth) acrylate, a dibasic acid anhydride and an epoxy resin,
The photo-curing layer for a light-transmitting layer comprising at least one selected from 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate as a (meth) acrylate monomer Composition.
前記光透過層が、光反射層上に光硬化性組成物を直接塗布して展延し、光硬化させて得られる光透過層であり、
前記光硬化性組成物が、（メタ）アクリレートオリゴマーとして、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物、二塩基酸無水物及びエポキシ樹脂を反応させて得られる変性エポキシ（メタ）アクリレートを含有し、（メタ）アクリレートモノマーとして、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする光ディスク。 An optical disc in which at least a light reflection layer and a light transmission layer are stacked on a substrate, and a blue laser is incident from the light transmission layer side to reproduce information,
The light-transmitting layer is a light-transmitting layer obtained by directly applying and spreading a photocurable composition on the light-reflecting layer and spreading and photocuring.
The photocurable composition contains, as a (meth) acrylate oligomer, a hydroxyalkyl (meth) acrylate lactone adduct, a dibasic acid anhydride and a modified epoxy (meth) acrylate obtained by reacting with an epoxy resin, An optical disk comprising, as a (meth) acrylate monomer, at least one selected from 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate.
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