JP5056208B2 - Conductive film for in-mold molding and method for producing plastic molded article with transparent conductive layer - Google Patents

Conductive film for in-mold molding and method for producing plastic molded article with transparent conductive layer Download PDF

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Description

本発明は、プラスチック成形品を射出成形により成形するに際して、プラスチック成形品本体の成形と同時に、成形品本体の表面に透明導電層を転写により積層一体化するインモールド成形に好適に用いられる転写用導電性フィルムに関する。また、本発明は、前記転写用導電性フィルムを用いてインモールド成形により透明導電層付きプラスチック成形品を製造する方法に関する。   The present invention is suitable for in-mold molding, which is used for in-mold molding in which a transparent conductive layer is laminated and integrated on the surface of a molded product body simultaneously with molding of the molded product body when molding a plastic molded product by injection molding. The present invention relates to a conductive film. The present invention also relates to a method for producing a plastic molded article with a transparent conductive layer by in-mold molding using the transfer conductive film.

透明導電層付き成形品としては、エレクトロルミネッセンスパネル電極、エレクトロクロミック素子電極、液晶電極、透明面発熱体、タッチパネルのような透明電極、エレクトリックペーパー、静電容量スイッチ、透明な電磁波遮蔽層が付けられたディスプレイ(CRTなど)などが挙げられる。   As a molded product with a transparent conductive layer, an electroluminescence panel electrode, an electrochromic device electrode, a liquid crystal electrode, a transparent surface heating element, a transparent electrode such as a touch panel, an electric paper, a capacitance switch, and a transparent electromagnetic wave shielding layer are attached. Display (such as CRT).

現在、透明導電層は主にスパッタリング法によって製造されている。スパッタリング法は、ある程度大きな面積のものでも、表面電気抵抗の低い導電層を形成できる点では優れている。しかし、装置が大掛かりで成膜速度が遅いという欠点がある。また、透明導電層を形成すべき面が平面状でない場合には、スパッタリング法によって均一な導電層を形成できないという欠点もある。   Currently, the transparent conductive layer is mainly produced by a sputtering method. The sputtering method is excellent in that a conductive layer having a low surface electric resistance can be formed even if it has a somewhat large area. However, there is a drawback that the apparatus is large and the film forming speed is slow. In addition, when the surface on which the transparent conductive layer is to be formed is not planar, there is a disadvantage that a uniform conductive layer cannot be formed by sputtering.

スパッタリング法による欠点を解決すべく、特開2002−347150号公報、及び特開2003−16842号公報には、対象物体表面に転写によって透明導電層を付与するための転写用導電層フィルムが開示されている。透明導電層は、支持体上に支持体とは剥離可能に設けられた導電性微粒子の圧縮層からなる。対象物体表面への透明導電層の転写は、転写用導電層フィルムに設けられた接着剤層を介して紫外線照射によって行われる。   In order to solve the disadvantages caused by the sputtering method, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-347150 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-16842 disclose a conductive layer film for transfer for applying a transparent conductive layer to a target object surface by transfer. ing. The transparent conductive layer is composed of a compressed layer of conductive fine particles provided on the support so as to be peelable from the support. The transfer of the transparent conductive layer to the surface of the target object is performed by ultraviolet irradiation through an adhesive layer provided on the transfer conductive film.

特開2004−152221号公報には、ベースフィルム上に転写可能な透明電極膜を形成してなる転写フィルムを、タッチパネル基板成形用射出成形金型内に挿入し、タッチパネル基板成形用材料を射出注入し、タッチパネル基板を成形すると同時に、前記転写フィルムの透明電極膜をタッチパネル表面に転写する、インモールド成形によるタッチパネル用電極基板の製造方法が開示されている。   In JP-A-2004-152221, a transfer film formed by forming a transparent electrode film that can be transferred onto a base film is inserted into an injection mold for molding a touch panel substrate, and a material for molding the touch panel substrate is injected and injected. And the manufacturing method of the electrode substrate for touchscreens by the in-mold shaping | molding which transfers the transparent electrode film of the said transfer film to the touchscreen surface simultaneously with shape | molding a touchscreen substrate is disclosed.

特開2002−347150号公報JP 2002-347150 A 特開2003−16842号公報JP 2003-16842 A 特開2004−152221号公報JP 2004-152221 A

特開2004−152221号公報によれば、転写フィルムの作製に際して、ベースフィルム上への透明電極膜の形成方法として、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法(ゾル−ゲル法)が挙げられている。これらの電極膜形成方法では、電極膜は無機材料膜であり、有機樹脂成分は含まれていない。そのため、電極膜は可撓性に乏しく、歪み撓み等に追従することはできない。特に、インモールド成形時の高温環境下におけるフィルム変形時に、電極膜にクラックが生じてしまい、導電性に悪影響を及ぼす。また、転写フィルムの透明電極膜と注入された溶融樹脂とが直接接するので、電極膜とタッチパネル基板との密着性は良くない。   According to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-152221, as a method for forming a transparent electrode film on a base film when producing a transfer film, an electron beam method, a sputtering method, a resistance heating vapor deposition method, a chemical reaction method (sol-gel method) ). In these electrode film forming methods, the electrode film is an inorganic material film and does not contain an organic resin component. For this reason, the electrode film is poor in flexibility and cannot follow strain distortion or the like. In particular, when the film is deformed in a high temperature environment during in-mold molding, a crack is generated in the electrode film, which adversely affects the conductivity. Moreover, since the transparent electrode film of the transfer film and the injected molten resin are in direct contact, the adhesion between the electrode film and the touch panel substrate is not good.

本発明の目的は、透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造するために好適に用いられる転写用導電性フィルムを提供することにある。また、本発明の目的は、前記転写用導電性フィルムを用いて、透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造する方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a conductive film for transfer that is suitably used for producing a plastic molded article with a transparent conductive layer by in-mold molding. Another object of the present invention is to provide a method for producing a plastic molded article with a transparent conductive layer by in-mold molding, using the conductive film for transfer.

特に、本発明の目的は、電気抵抗値の低い透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造するために好適に用いられる転写用導電性フィルムを提供することにある。また、特に、本発明の目的は、前記転写用導電性フィルムを用いて、電気抵抗値の低い透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造する方法を提供することにある。   In particular, an object of the present invention is to provide a conductive film for transfer that is suitably used for producing a plastic molded article with a transparent conductive layer having a low electrical resistance value by in-mold molding. In particular, an object of the present invention is to provide a method for producing a plastic molded article with a transparent conductive layer having a low electrical resistance value by in-mold molding, using the conductive film for transfer.

本発明者らは、透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造するために好適に用いられる転写用導電性フィルムについて検討し、本発明に到達した。   The present inventors have studied a conductive film for transfer that is suitably used for producing a plastic molded article with a transparent conductive layer by in-mold molding, and have reached the present invention.

本発明には、以下の発明が含まれる。
(1) 支持体と、前記支持体上の前記支持体とは剥離可能な透明導電層と、前記透明導電層上の放射線硬化性材料の硬化物層と、前記硬化物層上の熱溶融性樹脂層とを少なくとも有し、
前記放射線硬化性材料の硬化物層は、0.5〜7.0μmの厚みを有し、
前記熱溶融性樹脂層は、0.5〜5.0μmの厚みを有し、
前記透明導電層は、導電性微粒子と該導電性微粒子相互間に含浸した前記放射線硬化性材料の硬化物とを含む、インモールド成形用導電性フィルム。
The present invention includes the following inventions.
(1) A support, a transparent conductive layer that can be peeled off from the support on the support, a cured layer of a radiation curable material on the transparent conductive layer, and a heat-fusible layer on the cured product layer Having at least a resin layer,
The cured product layer of the radiation curable material has a thickness of 0.5 to 7.0 μm,
The hot-melt resin layer has a thickness of 0.5 to 5.0 μm,
The transparent conductive layer is an in-mold conductive film including conductive fine particles and a cured product of the radiation curable material impregnated between the conductive fine particles.

(2) 前記導電性微粒子は、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、ガリウムドープ酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、硼素ドープ酸化亜鉛、及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる、上記(1) に記載の導電性フィルム。   (2) The conductive fine particles include indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), gallium-doped indium oxide, zinc-doped indium oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), and oxidation. As described in (1) above, selected from the group consisting of zinc, aluminum-doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), fluorine-doped zinc oxide, indium-doped zinc oxide, boron-doped zinc oxide, and cadmium oxide. Conductive film.

(3) 前記透明導電層は、0.05〜5μmの厚みを有する、上記(1) 又は(2) に記載の導電性フィルム。   (3) The conductive film according to (1) or (2), wherein the transparent conductive layer has a thickness of 0.05 to 5 μm.

(4) 前記熱溶融性樹脂は、溶融粘度が100〜10,000dPa・s/200℃であるものである、上記(1) 〜(3) のうちのいずれかに記載の導電性フィルム。 (4) The conductive film according to any one of (1) to (3), wherein the heat-meltable resin has a melt viscosity of 100 to 10,000 dPa · s / 200 ° C.

(5) 前記熱溶融性樹脂は、熱溶融性ウレタン変性共重合ポリエステル樹脂である、上記(1) 〜(4) のうちのいずれかに記載の導電性フィルム。 (5) The conductive film according to any one of (1) to (4), wherein the heat-meltable resin is a heat-meltable urethane-modified copolymer polyester resin .

(6) 前記インモールド成形用導電性フィルムは、
支持体上に導電性微粒子の分散液を塗布、乾燥し、導電性微粒子の含有層を形成し、
前記導電性微粒子の含有層を圧縮し、導電性微粒子相互間に空隙が存在する導電性微粒子の圧縮層を形成し、
前記導電性微粒子の圧縮層の上に、放射線硬化性材料を塗布、乾燥して、放射線硬化性材料を導電性微粒子相互間に含浸させると共に、放射線硬化性材料の層を形成し、
放射線照射を行って、導電性微粒子相互間に含浸している放射線硬化性材料、及び層を形成している放射線硬化性材料を硬化させ、
得られた放射線硬化性材料の硬化物層の上に、熱溶融性樹脂を塗布、乾燥して、熱溶融性樹脂の層を形成する、
ことにより得られたものである、上記(1) 〜(5) のうちのいずれかに記載の導電性フィルム。
(6) The conductive film for in-mold molding is
A dispersion of conductive fine particles is applied onto a support, dried, and a layer containing conductive fine particles is formed.
Compressing the conductive fine particle-containing layer to form a conductive fine particle compressed layer in which voids exist between the conductive fine particles;
On the compressed layer of the conductive fine particles, a radiation curable material is applied and dried to impregnate the radiation curable material between the conductive fine particles, and a layer of the radiation curable material is formed.
Radiation irradiation is performed to cure the radiation curable material impregnated between the conductive fine particles and the radiation curable material forming the layer,
On the cured layer of the obtained radiation-curable material, a hot-melt resin is applied and dried to form a hot-melt resin layer.
The conductive film according to any one of (1) to (5), which is obtained by the above.

(7) プラスチック成形品本体と、前記成形品本体の表面に付与された透明導電層とを含む透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造する方法であって、
支持体と、前記支持体上の前記支持体とは剥離可能な透明導電層と、前記透明導電層上の放射線硬化性材料の硬化物層と、前記硬化物層上の熱溶融性樹脂層とを少なくとも有し、前記放射線硬化性材料の硬化物層は、0.5〜7.0μmの厚みを有し、前記熱溶融性樹脂層は、0.5〜5.0μmの厚みを有し、前記透明導電層は、導電性微粒子と該導電性微粒子相互間に含浸した前記放射線硬化性材料の硬化物とを含むインモールド成形用導電性フィルムを準備し、
前記導電性フィルムを、前記支持体面が射出成形用金型内の一方の型面を向くようにセットし、前記フィルムの熱溶融性樹脂層面と他方の型面との間にキャビティーが形成されるように型締めし、その後、
前記キャビティー内に溶融樹脂を射出して、冷却し、プラスチック成形品本体を成形すると共に、成形品本体の表面に前記透明導電層を積層一体化する、
ことを含む、透明導電層付きプラスチック成形品の製造方法。
(7) A method for producing a plastic molded article with a transparent conductive layer comprising a plastic molded article main body and a transparent conductive layer applied to the surface of the molded article main body by in-mold molding,
A support, a transparent conductive layer peelable from the support on the support, a cured layer of a radiation curable material on the transparent conductive layer, and a heat-meltable resin layer on the cured layer The cured product layer of the radiation curable material has a thickness of 0.5 to 7.0 μm, the hot-melt resin layer has a thickness of 0.5 to 5.0 μm, The transparent conductive layer prepares a conductive film for in-mold molding containing conductive fine particles and a cured product of the radiation curable material impregnated between the conductive fine particles,
The conductive film is set so that the support surface faces one mold surface in the injection mold, and a cavity is formed between the heat-meltable resin layer surface of the film and the other mold surface. And then clamp
Injecting molten resin into the cavity, cooling, molding a plastic molded product body, and laminating and integrating the transparent conductive layer on the surface of the molded product body,
The manufacturing method of the plastic molded product with a transparent conductive layer including this.

(8) 前記透明導電層付きプラスチック成形品は、前記成形品本体の湾曲した表面に透明導電層が付与されたものである、上記(7) に記載のプラスチック成形品の製造方法。   (8) The method for producing a plastic molded article according to the above (7), wherein the plastic molded article with a transparent conductive layer is obtained by providing a transparent conductive layer on the curved surface of the molded article body.

なお、本発明において、「前記支持体とは剥離可能な透明導電層」とは、支持体と透明導電層とが互いに剥離可能な状態であることを意味する。本発明のインモールド成形用転写用導電性フィルムを実際に使用する際には、成形品本体の表面に積層一体化された導電層から支持体を剥離することもあるし、薄い成形品本体の表面に積層一体化された導電層を成形品と共に、支持体から剥離することもある。   In the present invention, the “transparent conductive layer that is peelable from the support” means that the support and the transparent conductive layer are peelable from each other. When the in-mold transfer conductive film of the present invention is actually used, the support may be peeled off from the conductive layer laminated and integrated on the surface of the molded product body, or the thin molded product body The conductive layer laminated and integrated on the surface may be peeled off from the support together with the molded product.

本発明のインモールド成形用導電性フィルムにおいては、透明導電層は、導電性微粒子と該導電性微粒子相互間に含浸した放射線硬化性材料の硬化物とを含んでいる。このため、前記透明導電層は、可撓性に優れており歪み撓み等に追従することが可能であり、また、インモールド成形時の高温環境下におけるフィルム変形によっても前記透明導電層にクラックが生じることがない。さらに、導電性微粒子相互間に含浸した放射線硬化性材料の硬化物は、前記透明導電層中における導電性微粒子相互の位置関係を固定化し、導電性微粒子相互の接触を維持する役目を果たす。そのため、インモールド成形時の高温環境プロセスを経ても、成形品に付与された透明導電層の電気抵抗値を低く維持することができる。   In the conductive film for in-mold molding of the present invention, the transparent conductive layer contains conductive fine particles and a cured product of a radiation curable material impregnated between the conductive fine particles. For this reason, the transparent conductive layer is excellent in flexibility and can follow strain deflection, and cracks are also generated in the transparent conductive layer due to film deformation under a high temperature environment during in-mold molding. It does not occur. Furthermore, the cured product of the radiation curable material impregnated between the conductive fine particles serves to fix the positional relationship between the conductive fine particles in the transparent conductive layer and maintain the contact between the conductive fine particles. Therefore, the electrical resistance value of the transparent conductive layer imparted to the molded product can be kept low even through a high temperature environmental process during in-mold molding.

また、本発明のインモールド成形用導電性フィルムにおいては、インモールド成形時に、前記導電性フィルムの熱溶融性樹脂層と注入された溶融樹脂とが接して溶着するので、成形品本体と透明導電層との密着性は非常に良好である。   In the in-mold molding conductive film of the present invention, the in-mold molding heat-melting resin layer and the injected molten resin are in contact with each other and welded. The adhesion with the layer is very good.

本発明のインモールド成形用導電性フィルムを用いてインモールド成形を行うことにより、プラスチック成形品本体を成形すると共に、成形品本体の所望の表面に前記導電性フィルムの透明導電層を積層一体化することができる。得られた透明導電層は、可撓性に優れており、インモールド成形時の高温環境下においてもクラックが生じることがない。さらに、成形品に付与された透明導電層の電気抵抗値は低く維持される。   By performing in-mold molding using the conductive film for in-mold molding of the present invention, a plastic molded product body is molded, and a transparent conductive layer of the conductive film is laminated and integrated on a desired surface of the molded product body. can do. The obtained transparent conductive layer is excellent in flexibility and does not crack even in a high temperature environment during in-mold molding. Furthermore, the electrical resistance value of the transparent conductive layer imparted to the molded product is kept low.

また、熱溶融性樹脂層と成形品本体とが溶着しているので、成形品本体と透明導電層との密着性は非常に良好である。透明導電層を付与すべき成形品本体の表面が平面状ではなく、曲面状であっても、透明導電層をクラックを生じさせることなく良好に付与することができる。   Moreover, since the heat-meltable resin layer and the molded product body are welded, the adhesion between the molded product body and the transparent conductive layer is very good. Even if the surface of the molded product body to which the transparent conductive layer is to be applied is not flat but curved, the transparent conductive layer can be applied satisfactorily without causing cracks.

このように、本発明によれば、透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造するために好適に用いられる転写用導電性フィルムが提供される。この転写用導電性フィルムは、インモールド成形に好適に用いられるが、インモールド成形用途のみならず、熱溶融性樹脂層を介して熱転写を行うその他の用途にも用いることができる。また、本発明によれば、前記転写用導電性フィルムを用いて、電気抵抗値の低い透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により簡便に製造する方法が提供される。   Thus, according to this invention, the electroconductive film for transfer used suitably in order to manufacture the plastic molded product with a transparent conductive layer by in-mold molding is provided. Although this conductive film for transfer is suitably used for in-mold molding, it can be used not only for in-mold molding but also for other applications in which thermal transfer is performed via a hot-melt resin layer. Moreover, according to this invention, the method of manufacturing simply the plastic molded product with a transparent conductive layer with a low electrical resistance value by in-mold molding using the said electroconductive film for transfer is provided.

本発明は、エレクトロルミネッセンスパネル電極、エレクトロクロミック素子電極、液晶電極、透明面発熱体、タッチパネルのような透明電極、エレクトリックペーパー、静電容量スイッチ、透明な電磁波遮蔽層が付けられたディスプレイ(CRTなど)などの製造に適用することができる。   The present invention includes an electroluminescence panel electrode, an electrochromic element electrode, a liquid crystal electrode, a transparent surface heating element, a transparent electrode such as a touch panel, an electric paper, a capacitance switch, and a display with a transparent electromagnetic wave shielding layer (such as a CRT). ) And the like.

図面を参照して、本発明を説明する。まず、本発明の転写用導電性フィルムについて説明する。   The present invention will be described with reference to the drawings. First, the transfer conductive film of the present invention will be described.

図1は、本発明の転写用導電性フィルムの一例を示す断面図である。図1において、導電性フィルム(10)は、支持体(1) 上に剥離層(2) と透明導電層(3) と放射線硬化性材料の硬化物層(4) と熱溶融性樹脂層(5) とをこの順で有している。剥離層(2) は、透明導電層(3) との剥離を容易にするための任意の層である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the transfer conductive film of the present invention. In FIG. 1, a conductive film (10) is formed on a support (1) with a release layer (2), a transparent conductive layer (3), a cured material layer (4) of a radiation curable material, and a heat-meltable resin layer ( 5) in this order. The release layer (2) is an arbitrary layer for facilitating the release from the transparent conductive layer (3).

支持体(1) は、可撓性樹脂フィルムである。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ナイロンフィルム、アクリルフィルム、セロハンフィルム、ノルボルネンフィルム(JSR(株)製、アートンなど)等が挙げられる。支持体(1) の厚みは、例えば5〜100μmであり、ハンドリング性や成形安定性を考慮すると15〜75μmが好ましい。   The support (1) is a flexible resin film. Examples of the resin film include polyester films such as polyethylene terephthalate (PET), polyolefin films such as polyethylene and polypropylene, polycarbonate films, nylon films, acrylic films, cellophane films, norbornene films (manufactured by JSR Corporation, Arton, etc.), etc. Is mentioned. The thickness of the support (1) is, for example, 5 to 100 μm, and preferably 15 to 75 μm in consideration of handling properties and molding stability.

支持体(1) 上には、図示の例では、剥離層(2) が形成されている。剥離層(2) は、インモールド成形後に成形体本体と一体化された導電層(3) と剥離層(2) との間での剥離を容易にするための任意の層であり、比較的硬い樹脂層(例えば、鉛筆硬度2H以上4H以下)とするとよい。   On the support (1), a release layer (2) is formed in the illustrated example. The peeling layer (2) is an arbitrary layer for facilitating peeling between the conductive layer (3) integrated with the molded body after in-mold molding and the peeling layer (2). It is good to set it as a hard resin layer (for example, pencil hardness 2H or more and 4H or less).

剥離層(2) は、一般にハードコート剤として知られている材料を必要に応じて溶剤に溶解した液を支持体(1) 上に塗布、乾燥して、硬化させることにより形成することができる。ハードコート剤としては、特に制限されることなく、公知の各種ハードコート剤を用いることができる。例えば、シリコーン系、アクリル系、メラミン系等の熱硬化型ハードコート剤を用いることができる。これらの中でも、シリコーン系ハードコート剤は、高い硬度が得られる点で優れている。   The release layer (2) can be formed by applying a solution prepared by dissolving a material generally known as a hard coat agent in a solvent, if necessary, on the support (1), drying and curing. . The hard coat agent is not particularly limited, and various known hard coat agents can be used. For example, silicone-based, acrylic-based, melamine-based thermosetting hard coat agents can be used. Among these, the silicone-based hard coat agent is excellent in that high hardness can be obtained.

また、不飽和ポリエステル樹脂系、アクリル系等のラジカル重合性ハードコート剤、エポキシ系、ビニルエーテル系等のカチオン重合性ハードコート剤等の紫外線硬化型ハードコート剤を用いてもよい。紫外線硬化型ハードコート剤は、硬化反応性等の製造性の点から好ましい。これらの中でも、硬化反応性、表面硬度を考慮すると、アクリル系のラジカル重合性ハードコート剤が望ましい。   Further, an ultraviolet curable hard coat agent such as an unsaturated polyester resin-based or acrylic-based radical polymerizable hard coat agent or an epoxy-based or vinyl ether-based cationic polymerizable hard coat agent may be used. The ultraviolet curable hard coat agent is preferable from the viewpoint of productivity such as curing reactivity. Among these, in view of curing reactivity and surface hardness, an acrylic radical polymerizable hard coating agent is desirable.

ハードコート剤の塗布は、グラビアシリンダー、リバース等のロールコーター、メイヤーバー、スリットダイコーター等公知の方法で行うとよい。   The hard coat agent may be applied by a known method such as a gravure cylinder, reverse roll coater, Mayer bar, slit die coater or the like.

塗布後、適切な温度範囲で乾燥し、その後、硬化させる。熱硬化型ハードコート剤の場合には、適切な熱を与えて、例えばシリコーン系ハードコート剤の場合には60〜120℃程度に、1分間〜48時間加熱して硬化させる。紫外線硬化型ハードコート剤の場合には、紫外線照射を行い、硬化させる。紫外線照射は、キセノンランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等のランプを用いて、紫外線を200〜2000mJ/cm2 程度照射するとよい。剥離層(2) の厚さは、例えば0.5〜20μm程度であり、好ましくは0.5〜2μm程度である。 After application, it is dried in an appropriate temperature range and then cured. In the case of a thermosetting hard coat agent, appropriate heat is applied. For example, in the case of a silicone type hard coat agent, it is cured by heating to about 60 to 120 ° C. for 1 minute to 48 hours. In the case of an ultraviolet curable hard coat agent, it is cured by irradiating with ultraviolet rays. The ultraviolet irradiation may be performed by using a lamp such as a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, or a tungsten lamp to irradiate about 200 to 2000 mJ / cm 2 . The thickness of the release layer (2) is, for example, about 0.5 to 20 μm, preferably about 0.5 to 2 μm.

剥離層(2) を設けない場合には、支持体(1) の導電層(3) 側の表面は、インモールド成形後に成形体本体と一体化された導電層(3) と支持体(1) との剥離を容易にするために剥離処理されていることが好ましい。例えば、シリコーン剥離剤等を塗布するとよい。   When the release layer (2) is not provided, the surface on the conductive layer (3) side of the support (1) is formed on the conductive layer (3) and the support (1 In order to facilitate the separation from the above, it is preferable that the separation treatment is performed. For example, a silicone release agent may be applied.

支持体(1) 上に直接、又は支持体(1) 上の剥離層(2) 上に、透明導電層(3) を形成する。本発明において、導電層(3) の形成のために、各種の導電性微粒子から選ばれる導電性微粒子を用いる。   A transparent conductive layer (3) is formed directly on the support (1) or on the release layer (2) on the support (1). In the present invention, conductive fine particles selected from various conductive fine particles are used for forming the conductive layer (3).

透明導電層の製造においては、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、ガリウムドープ酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、硼素ドープ酸化亜鉛、酸化カドミウム等の導電性無機微粒子が用いられる。ITOがより優れた導電性が得られる点で好ましい。あるいは、ATO、ITO等の無機材料を硫酸バリウム等の透明性を有する微粒子の表面にコーティングしたものを用いることもできる。これら微粒子の粒子径は、導電層の用途に応じて要求される光学特性及び電気特性により異なり、また、粒子の形状により一概には言えないが、1.0μm以下が好ましく、1nm〜100nmがより好ましく、5nm〜100nmがさらに好ましい。粒子径が1.0μmを超えると、導電層表面のヘイズ値が悪化するなどの光学特性の悪化を招く。   In the production of the transparent conductive layer, indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), gallium-doped indium oxide, zinc-doped indium oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), zinc oxide Conductive inorganic fine particles such as aluminum-doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), fluorine-doped zinc oxide, indium-doped zinc oxide, boron-doped zinc oxide, and cadmium oxide are used. ITO is preferable in that it provides better conductivity. Or what coated inorganic material, such as ATO and ITO, on the surface of fine particles which have transparency, such as barium sulfate, can also be used. The particle diameter of these fine particles varies depending on the optical characteristics and electrical characteristics required depending on the use of the conductive layer, and cannot be generally specified depending on the shape of the particles, but is preferably 1.0 μm or less, more preferably 1 nm to 100 nm. Preferably, 5 nm to 100 nm is more preferable. When the particle diameter exceeds 1.0 μm, optical properties such as haze value on the surface of the conductive layer are deteriorated.

本発明において、透明とは可視光を透過することを意味する。光の散乱度合いについては、導電層の用途により要求されるレベルが異なる。本発明では、一般に半透明といわれるような散乱のあるものも含まれる。   In the present invention, the transparent means that visible light is transmitted. Regarding the degree of light scattering, the required level varies depending on the use of the conductive layer. In the present invention, those having scattering, which is generally referred to as translucent, are also included.

本発明において、上記各種の導電性微粒子から目的に応じて選ばれる導電性微粒子を分散した液を導電性塗料として用いる。この導電性塗料を支持体(1) 上に直接、又は支持体(1) 上の剥離層(2) 上に、塗布、乾燥し、導電性微粒子含有層を形成する。その後、前記導電性微粒子含有層を圧縮し、導電性微粒子の圧縮層を形成して、導電層(3) を得る。   In the present invention, a liquid in which conductive fine particles selected from the various conductive fine particles according to the purpose are dispersed is used as the conductive paint. This conductive paint is applied directly on the support (1) or on the release layer (2) on the support (1) and dried to form a conductive fine particle-containing layer. Thereafter, the conductive fine particle-containing layer is compressed to form a compressed layer of conductive fine particles to obtain a conductive layer (3).

導電性微粒子を分散する液体としては、特に限定されることなく、既知の各種液体を使用することができ、水、あるいは水と親和性のある極性有機溶剤が好ましい。特にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類が好ましい。これら液体は、単独でも2種以上の混合したものでも使用することができる。また、液体の種類により、分散剤を使用することもできる。   The liquid in which the conductive fine particles are dispersed is not particularly limited, and various known liquids can be used, and water or a polar organic solvent having an affinity for water is preferable. Particularly preferred are alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, and amides such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone (NMP) and N, N-dimethylacetamide. These liquids can be used singly or as a mixture of two or more. Moreover, a dispersing agent can also be used according to the kind of liquid.

用いる液体の量は、特に制限されず、導電性微粒子の分散液が塗布に適した粘度を有するようにすればよい。例えば、導電性微粒子100重量部に対して、液体100〜100,000重量部程度である。導電性微粒子と液体の種類に応じて適宜選択するとよい。   The amount of the liquid to be used is not particularly limited, and the dispersion liquid of the conductive fine particles may have a viscosity suitable for coating. For example, the amount is about 100 to 100,000 parts by weight of liquid with respect to 100 parts by weight of conductive fine particles. It is good to select suitably according to the kind of electroconductive fine particles and liquid.

導電性微粒子の液体中への分散は、公知の分散手法により行うとよい。中でもメディアミルによる分散が好適である。分散メディアとしては、従来から用いられているガラスビーズ、アルミナビーズ、チタニアビーズ、ジルコニアビーズ等が使用可能であるが、ジルコニアビーズが最適である。分散メディアは、その直径が小さくなるほど分散能力が高まる傾向にある。導電性微粒子の分散は、過分散になると、得られる導電層の導電性が悪化する傾向があり、一方、分散不十分であると、得られる導電層表面の粗さが粗くなる傾向がある。分散メディアは、直径0.03〜1.0mm程度のものを用いるとよい。   The dispersion of the conductive fine particles in the liquid may be performed by a known dispersion method. Among these, dispersion by a media mill is preferable. Conventionally used glass beads, alumina beads, titania beads, zirconia beads and the like can be used as the dispersion medium, and zirconia beads are most suitable. Dispersion media tend to increase the dispersibility as the diameter decreases. When the dispersion of the conductive fine particles is excessively dispersed, the conductivity of the obtained conductive layer tends to be deteriorated. On the other hand, when the dispersion is insufficient, the surface of the obtained conductive layer tends to be rough. A dispersion medium having a diameter of about 0.03 to 1.0 mm may be used.

導電性微粒子の分散液は、樹脂を含まないことが好ましい。すなわち、樹脂量=0であることが好ましい。樹脂を用いなければ、導電層において、樹脂によって導電性微粒子同士の接触が阻害されることがない。従って、導電性微粒子相互間の導電性が確保され、得られる導電層の電気抵抗値が低い。導電性を損なわない程度の量であれば、樹脂を含むことも可能であるが、例えば、分散液中における樹脂の含有量の上限は、分散前の体積で表して、導電性微粒子の体積を100としたとき、25未満の体積であり、好ましくは19以下の体積である。バインダーとしての役割を果たす程度の量の樹脂を用いると、導電性微粒子同士の接触がバインダーにより阻害され、微粒子間の電子移動が阻害され導電性が低下する。   The dispersion of conductive fine particles preferably does not contain a resin. That is, it is preferable that the resin amount = 0. If no resin is used, contact between the conductive fine particles is not inhibited by the resin in the conductive layer. Therefore, the conductivity between the conductive fine particles is ensured, and the electric resistance value of the obtained conductive layer is low. It is possible to include a resin as long as it does not impair the conductivity. For example, the upper limit of the content of the resin in the dispersion is expressed by the volume before dispersion, and the volume of the conductive fine particles is expressed as follows. When 100, the volume is less than 25, preferably 19 or less. When an amount of resin that plays a role as a binder is used, contact between the conductive fine particles is inhibited by the binder, electron transfer between the fine particles is inhibited, and conductivity is lowered.

このように導電層には圧縮時において(すなわち、導電性微粒子の分散液中において)樹脂を用いないことが好ましく、用いるとしても少量が好ましい。用いる場合の樹脂量は、導電層の目的に応じて、ある程度変化し得るので、適宜決定するとよい。   Thus, it is preferable not to use a resin in the conductive layer during compression (that is, in a dispersion of conductive fine particles), and even if used, a small amount is preferable. The amount of resin to be used may be appropriately determined because it can vary to some extent depending on the purpose of the conductive layer.

導電性微粒子の分散液を支持体(1) 上に直接、又は支持体(1) 上の剥離層(2) 上に、塗布、乾燥し、導電性微粒子含有層を形成する。
導電性微粒子分散液の塗布は、特に限定されることなく、公知の方法により行うことができる。例えば、リバースロール法、ダイレクトロール法、ブレード法、ナイフ法、エクストルージョンノズル法、カーテン法、グラビアロール法、バーコート法、ディップ法、キスコート法、スクイズ法などの塗布法によって行うことができる。
A dispersion of conductive fine particles is applied directly on the support (1) or on the release layer (2) on the support (1) and dried to form a conductive fine particle-containing layer.
The application of the conductive fine particle dispersion is not particularly limited and can be performed by a known method. For example, it can be performed by a coating method such as a reverse roll method, a direct roll method, a blade method, a knife method, an extrusion nozzle method, a curtain method, a gravure roll method, a bar coat method, a dip method, a kiss coat method, or a squeeze method.

次に、形成された導電性微粒子含有層を圧縮し、導電性微粒子の圧縮層(3) を得る。圧縮することにより、膜の強度を向上させる。すなわち、圧縮することで導電性微粒子相互間の接触点が増え接触面が増加する。このため、塗膜強度が上がると共に、電気抵抗が低下する。   Next, the formed conductive fine particle-containing layer is compressed to obtain a compressed layer (3) of conductive fine particles. By compressing, the strength of the film is improved. That is, by compressing, the contact points between the conductive fine particles increase and the contact surface increases. For this reason, the coating strength increases and the electrical resistance decreases.

圧縮は44N/mm2 以上の圧縮力で行うことが好ましい。44N/mm2 未満の低圧であれば、導電性微粒子含有層を十分に圧縮することができず、導電性に優れた導電層が得られにくい。135N/mm2 以上の圧縮力がより好ましく、180N/mm2 の圧縮力が更に好ましい。圧縮力が高いほど、塗膜強度が向上し、より導電性に優れた層が得られる。圧縮力を高くするほど装置の耐圧を上げなくてはならないので、一般には1000N/mm2 までの圧縮力が適当である。圧縮は、特に限定されることなく、シートプレス、ロールプレス等により行うことができるが、ロールプレス機を用いて行うことが好ましい。圧縮の詳細については、前掲の特開2002−347150号公報、特開2003−16842号公報に記載されている。 The compression is preferably performed with a compressive force of 44 N / mm 2 or more. If the pressure is less than 44 N / mm 2 , the conductive fine particle-containing layer cannot be sufficiently compressed, and it is difficult to obtain a conductive layer having excellent conductivity. 135N / mm 2 or more compressive force and more preferably, compressive force of 180 N / mm 2 is more preferable. The higher the compressive force, the better the coating film strength and the more excellent the conductivity. Since the pressure resistance of the apparatus has to be increased as the compressive force is increased, generally a compressive force of up to 1000 N / mm 2 is appropriate. The compression is not particularly limited and can be performed by a sheet press, a roll press, or the like, but is preferably performed using a roll press machine. Details of the compression are described in the above-mentioned JP-A-2002-347150 and JP-A-2003-16842.

このようにして、導電性微粒子の圧縮層(3) が形成される。導電性微粒子圧縮層の厚さ(=透明導電層の厚さ)は、用途にもよるが、0.05〜5μm程度とすればよく、0.1〜3μmが好ましい。厚さが0.05μm未満では、インモールド成形後の成形品において、表面抵抗値の上昇を招き、一方、5μmを超えると、全光線透過率が低下する等の光学特性の悪化を引き起こしやすい。   In this way, a compressed layer (3) of conductive fine particles is formed. The thickness of the conductive fine particle compressed layer (= thickness of the transparent conductive layer) may be about 0.05 to 5 μm, preferably 0.1 to 3 μm, although it depends on the application. If the thickness is less than 0.05 μm, the surface resistance value is increased in the molded product after in-mold molding. On the other hand, if the thickness exceeds 5 μm, the optical characteristics such as a decrease in total light transmittance are likely to be deteriorated.

形成された導電性微粒子の圧縮層(3) は、多孔質の層であり、導電性微粒子相互間に空隙が存在する。   The formed conductive fine particle compression layer (3) is a porous layer, and voids exist between the conductive fine particles.

導電性微粒子の圧縮層(3) の上に、放射線硬化性材料を塗布、乾燥して、放射線硬化性材料を導電性微粒子相互間に含浸させると共に、圧縮層(3) 上に放射線硬化性材料の層を形成する。その後、放射線照射(電子線、紫外線など)を行って、導電性微粒子相互間に含浸している放射線硬化性材料を硬化させると共に、層を形成している放射線硬化性材料を硬化させ、放射線硬化性材料の硬化物層(4) を得る。   On the compressed layer (3) of conductive fine particles, a radiation curable material is applied and dried, and the radiation curable material is impregnated between the conductive fine particles, and the radiation curable material is applied on the compressed layer (3). Forming a layer. After that, radiation irradiation (electron beam, ultraviolet ray, etc.) is performed to cure the radiation curable material impregnated between the conductive fine particles, and the radiation curable material forming the layer is cured to cure the radiation. A cured product layer (4) of the functional material is obtained.

圧縮層(3) 中の導電性微粒子相互間に放射線硬化性材料を含浸させ硬化することによって、圧縮された導電性微粒子と含浸した放射線硬化性材料の硬化物とからなる可撓性に優れる透明導電層(3) が得られる。放射線硬化性材料の含浸は、導電性微粒子の圧縮層(3) が形成された後、すなわち、導電性微粒子相互が圧縮操作により互いに接合し導通性が確保された後に行われているので、透明導電層(3) の導電性は高い。しかも、導電性微粒子相互間の空隙が放射線硬化性材料の硬化物で満たされるので、透明導電層(3) 中における導電性微粒子の圧縮状態が維持され、導電性微粒子相互の位置関係が固定化され、導電性微粒子相互の接触が確実に維持される。そのため、インモールド成形時の高温環境プロセスを経ても、成形品に付与された透明導電層の電気抵抗値は低く維持される。   Transparent with excellent flexibility consisting of compressed conductive fine particles and a cured product of the impregnated radiation curable material by impregnating and curing the radiation curable material between the conductive fine particles in the compressed layer (3) A conductive layer (3) is obtained. The impregnation with the radiation curable material is performed after the conductive fine particle compression layer (3) is formed, i.e., after the conductive fine particles are joined to each other by a compression operation to ensure conductivity. The conductivity of the conductive layer (3) is high. In addition, since the voids between the conductive fine particles are filled with the cured product of the radiation curable material, the compressed state of the conductive fine particles in the transparent conductive layer (3) is maintained, and the positional relationship between the conductive fine particles is fixed. Thus, the contact between the conductive fine particles is reliably maintained. For this reason, the electrical resistance value of the transparent conductive layer imparted to the molded product is kept low even through a high temperature environmental process during in-mold molding.

放射線硬化性材料の硬化物層(4) の厚さは、0.1〜10μm程度とすればよく、0.5〜7.0μmが好ましい。厚さが0.1μm未満では、圧縮層(3) 中への放射線硬化性材料の含浸量が少ない場合があり、導電性微粒子相互間の空隙が放射線硬化性材料の硬化物で満たされない場合がある。そのため、上述した導電性微粒子相互の接触の維持が不十分となり、インモールド成形時の高温環境プロセスによって、導電層の電気抵抗値が上昇することが懸念される。一方、厚さが10μmを超えると、圧縮層(3) 中への放射線硬化性材料の含浸量は十分であり、導電層の電気抵抗値の上昇抑制効果は飽和する。   The thickness of the cured product layer (4) of the radiation curable material may be about 0.1 to 10 μm, and preferably 0.5 to 7.0 μm. If the thickness is less than 0.1 μm, the amount of impregnation of the radiation curable material into the compressed layer (3) may be small, and the gap between the conductive fine particles may not be filled with the cured product of the radiation curable material. is there. For this reason, the above-described contact between the conductive fine particles is insufficiently maintained, and there is a concern that the electrical resistance value of the conductive layer is increased by a high-temperature environmental process during in-mold molding. On the other hand, when the thickness exceeds 10 μm, the amount of impregnation of the radiation curable material into the compression layer (3) is sufficient, and the effect of suppressing the increase in the electric resistance value of the conductive layer is saturated.

放射線硬化性材料としては、光学的に透明な紫外線硬化性材料及び電子線硬化性材料から選択する。   The radiation curable material is selected from optically transparent ultraviolet curable materials and electron beam curable materials.

放射線硬化性材料は、紫外線(電子線)硬化性化合物やその重合用組成物から構成されることが好ましい。このようなものとしては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートのような(メタ)アクリル系二重結合;ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合;マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線あるいは電子線照射によってラジカルを発生し、架橋あるいは重合する反応性二重結合基を分子中に含有又は導入したモノマー、オリゴマー及びポリマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に3官能以上のものであることが好ましく、1種のみ用いても2種以上併用してもよい。また、単官能のものを必要に応じて用いてもよい。   The radiation curable material is preferably composed of an ultraviolet (electron beam) curable compound or a composition for polymerization thereof. Examples of such compounds include (meth) acrylic double bonds such as ester compounds of acrylic acid and methacrylic acid, epoxy acrylate and urethane acrylate; allylic double bonds such as diallyl phthalate; Mention may be made of monomers, oligomers, polymers, and the like that contain or introduce reactive double bond groups in the molecule that generate radicals by irradiation with ultraviolet rays or electron beams such as saturated double bonds, and are crosslinked or polymerized. These are preferably polyfunctional, particularly trifunctional or higher, and may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use a monofunctional thing as needed.

紫外線(電子線)硬化性モノマーとしては、分子量2000未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量2000〜10000のものが好適である。これらとしては、スチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ) アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ) アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ) アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ) アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ) アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の(メタ) アクリレート等が挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体等が挙げられる。   As the ultraviolet (electron beam) curable monomer, a compound having a molecular weight of less than 2000 is preferable, and as the oligomer, a monomer having a molecular weight of 2000 to 10,000 is preferable. These include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, etc. Preferred examples include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, phenol ethylene oxide Examples include adduct (meth) acrylate. In addition, examples of the ultraviolet curable oligomer include oligoester acrylate and an acrylic modified product of urethane elastomer.

さらに、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素ポリマー、ポリエチレン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂等の樹脂に、公知の手法により(メタ)アクリル系二重結合を導入して放射線感応変性を行ったものを使用することができる。   In addition, (meth) acrylic double resin can be applied to resins such as acrylic resin, silicone resin, fluoropolymer, polyethylene resin, cycloolefin resin, polyurethane resin, polyester resin, and polyether resin by a known method. Those in which a bond is introduced and subjected to radiation sensitive modification can be used.

放射線硬化性材料は、公知の光重合開始剤を含んでもよい。光重合開始剤は、放射線として電子線を用いる場合には特に必要はないが、紫外線を用いる場合には必要となる。光重合開始剤は、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すればよい。光重合開始剤のうち、光ラジカル開始剤としては、例えば、ダロキュア1173、イルガキュア651 、イルガキュア184 、イルガキュア907 (いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製)が挙げられる。光重合開始剤の含有量は、例えば、前記紫外線硬化性成分に対して、0.5〜5重量%程度である。   The radiation curable material may contain a known photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is not particularly required when an electron beam is used as radiation, but is required when ultraviolet rays are used. The photopolymerization initiator may be appropriately selected from ordinary ones such as acetophenone, benzoin, benzophenone, and thioxanthone. Among the photopolymerization initiators, examples of the photo radical initiator include Darocur 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, and Irgacure 907 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals). The content of the photopolymerization initiator is, for example, about 0.5 to 5% by weight with respect to the ultraviolet curable component.

また、放射線硬化性材料として、エポキシ化合物及び光カチオン重合触媒を含有する組成物も使用される。   Moreover, the composition containing an epoxy compound and a photocationic polymerization catalyst is also used as a radiation curable material.

放射線硬化性材料の塗布は、グラビアシリンダー、リバース等のロールコーター、メイヤーバー、スリットダイコーター等公知の方法で行うとよい。また、塗布に際して、圧縮層(3) の導電性微粒子相互間によりよく含浸させるために、適切な溶剤で希釈して、放射線硬化性材料の粘度を調整してもよい。   The application of the radiation curable material may be performed by a known method such as a roll coater such as a gravure cylinder or reverse, a Mayer bar, or a slit die coater. Further, at the time of application, in order to better impregnate between the conductive fine particles of the compression layer (3), the viscosity of the radiation curable material may be adjusted by diluting with an appropriate solvent.

放射線硬化性材料の硬化物層(4) の上に、熱溶融性樹脂を塗布、乾燥して、熱溶融性樹脂層(5) を形成する。熱溶融性樹脂層(5) を形成することによって、インモールド成形時に、熱溶融性樹脂層(5) と注入された溶融樹脂とが接して溶着するので、成形品本体と透明導電層との密着性が非常に良好となる。   On the cured layer (4) of the radiation curable material, a hot-melt resin is applied and dried to form a hot-melt resin layer (5). By forming the heat-meltable resin layer (5), the heat-meltable resin layer (5) and the injected molten resin are in contact and welded during in-mold molding. Adhesion is very good.

熱溶融性樹脂は、常温(25℃)では固体であり、熱により溶融する樹脂である。熱溶融性樹脂は、光学的に透明であり、例えば、90℃以上の温度で溶融状態となるものであればよい。   The heat-meltable resin is a resin that is solid at normal temperature (25 ° C.) and melts by heat. The heat-meltable resin is optically transparent as long as it is in a molten state at a temperature of 90 ° C. or higher.

熱溶融性樹脂としては、特に制限されることなく、公知のポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、オレフィン系樹脂、硝化綿系樹脂、ポリウレタン系樹脂、塩化ゴム系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体等を用いることができる。これらの中でも、成形品用の樹脂と相溶性の良好な樹脂が好ましい。溶融粘度が100〜10,000dPa・s/200℃であるものが好ましい。熱溶融性樹脂は、結晶融点を有し、構造的に凝集力が高いため、汎用有機溶剤に難溶性であるという特徴を有する。従って、水中、水/有機溶剤中、あるいは有機溶剤中の懸濁エマルジョン形態で使用されることが一般的である。しかしながら、凝集力の程度によっては、有機溶剤に可溶な熱溶融性樹脂も存在する。   The heat-meltable resin is not particularly limited, and is a known polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, polycarbonate resin, olefin resin, nitrified cotton resin, polyurethane resin, chlorinated rubber resin, Polyamide resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers and the like can be used. Among these, resins having good compatibility with the resin for molded products are preferable. Those having a melt viscosity of 100 to 10,000 dPa · s / 200 ° C. are preferred. A heat-meltable resin has a crystalline melting point and a structurally high cohesive force, and therefore has a feature that it is hardly soluble in a general-purpose organic solvent. Therefore, it is generally used in the form of a suspension emulsion in water, water / organic solvent, or organic solvent. However, depending on the degree of cohesive force, there are also hot-melt resins that are soluble in organic solvents.

熱溶融性樹脂の塗布は、グラビアシリンダー、リバース等のロールコーター、メイヤーバー、スリットダイコーター等公知の方法で行うとよい。塗布後、樹脂の溶融温度よりも低い適切な温度範囲で乾燥し、熱溶融性樹脂層(5) を形成する。熱溶融性樹脂層(5) の厚みは、0.1〜50μmが好ましく、0.5〜5.0μmがより好ましい。熱溶融性樹脂層(5) は、層(5) の少なくとも表層部の樹脂が、インモールド成形時に、注入された溶融樹脂と接して溶着し、成形品本体と透明導電層とを密着性良く接合する役目を果たす。そのためには、熱溶融性樹脂層(5) の厚みは0.1μm以上であることが好ましく、一方、50μmを超えると接合する効果は飽和する。   Application of the heat-meltable resin may be performed by a known method such as a gravure cylinder, reverse roll coater, Mayer bar, slit die coater or the like. After coating, the resin is dried in an appropriate temperature range lower than the melting temperature of the resin to form a hot-melt resin layer (5). The thickness of the heat-meltable resin layer (5) is preferably from 0.1 to 50 μm, more preferably from 0.5 to 5.0 μm. In the heat-meltable resin layer (5), at least the surface layer resin of the layer (5) is welded in contact with the injected molten resin during in-mold molding, and the molded product body and the transparent conductive layer have good adhesion. Plays the role of joining. For this purpose, the thickness of the heat-meltable resin layer (5) is preferably 0.1 μm or more. On the other hand, if it exceeds 50 μm, the effect of joining is saturated.

以上のようにして、本発明の転写用導電性フィルムが得られる。なお、転写用導電性フィルムを使用するまでに、熱溶融性樹脂層(5) の表面を適切な離型紙で保護しておいてもよい。   As described above, the transfer conductive film of the present invention is obtained. Note that the surface of the heat-meltable resin layer (5) may be protected with an appropriate release paper before using the transfer conductive film.

次に、前記転写用導電性フィルムを用いて、透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造する方法について説明する。   Next, a method for producing a plastic molded product with a transparent conductive layer by in-mold molding using the conductive film for transfer will be described.

図2は、本発明の転写用導電性フィルムを用いて、透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド射出成形により製造する方法を説明するための概略断面図である。図3は、得られた透明導電層付きプラスチック成形品の断面図である。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining a method for producing a plastic molded article with a transparent conductive layer by in-mold injection molding using the transfer conductive film of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view of the obtained plastic molded article with a transparent conductive layer.

図2において、(A)は射出成形開始前の状態を表しており、(B)は金型を型閉めした状態を表しており、(C)は射出成形後の状態を表している。射出成形金型は、固定型(31)と可動型(32)とを型閉めすると、製造したい成形品形状に合致したキャビティー(34)が得られるようになされている。   2A shows a state before the start of injection molding, FIG. 2B shows a state where the mold is closed, and FIG. 2C shows a state after injection molding. The injection mold has a cavity (34) that matches the shape of a molded product desired to be manufactured when the fixed mold (31) and the movable mold (32) are closed.

(A)を参照して、固定型(31)と可動型(32)との間に、本発明の転写用導電性フィルム(10)が、支持体(1) 面が可動型(32)の型面(32a) を向き、熱溶融性樹脂層(5) 面が固定型(31)の型面(31a) を向くように配置され、位置決めされている。フィルム(10)の詳細な層構成の図示は省略されている。(B)を参照して、導電性フィルム(10)を可動型(32)の型面(32a) 側から吸引し、固定型(31)と可動型(32)とを型閉めする。射出ゲート(33)からキャビティー(34)内に溶融樹脂を射出して、冷却する。(C)を参照して、可動型(32)を移動させ、成形品本体(21)の片面に導電層(3) が付けられた成形品(20)を取り出す。   Referring to (A), between the fixed mold (31) and the movable mold (32), the transfer conductive film (10) of the present invention has the support (1) surface of the movable mold (32). The mold surface (32a) faces and the heat-meltable resin layer (5) surface faces the mold surface (31a) of the fixed mold (31) and is positioned. The detailed layer structure of the film (10) is not shown. Referring to (B), the conductive film (10) is sucked from the mold surface (32a) side of the movable mold (32), and the fixed mold (31) and the movable mold (32) are closed. The molten resin is injected from the injection gate (33) into the cavity (34) and cooled. Referring to (C), the movable mold (32) is moved, and the molded product (20) having the conductive layer (3) attached to one side of the molded product body (21) is taken out.

このようにして、所望形状の成形品本体(21)の所望の面に透明導電層(3) が積層一体化された成形品(20)が簡便に得られる。   In this manner, a molded product (20) in which the transparent conductive layer (3) is laminated and integrated on a desired surface of a molded product body (21) having a desired shape can be easily obtained.

図3を参照して、得られた透明導電層付きプラスチック成形品(20)は、導電性フィルム(10)の熱溶融性樹脂層(5) の少なくとも表層部の樹脂が、インモールド成形時に、注入された溶融樹脂と接して溶着し、そのため、成形品本体(21)と透明導電層(3) とは非常に密着性良く接合されている。図3においては、層(5) と成形品本体(21)との界面を便宜的に破線で示してあるが、実際にはこのような界面は存在していないと考えられる。得られた透明導電層(3) 中の導電性微粒子相互間の空隙には含浸した放射線硬化性材料の硬化物が存在しているため、透明導電層(3) は可撓性に優れており、成形品本体の表面が曲面状であっても、クラックが生じることがなく、さらに、導電性微粒子相互の接触が確実に維持され、成形品に付与された透明導電層の電気抵抗値は低く維持される。成形品の使用中においても耐久性に優れる。さらに、透明導電層(3) はヘイズも小さく光学特性にも優れている。   Referring to FIG. 3, the obtained plastic molded article with a transparent conductive layer (20) is such that at least the surface layer resin of the heat-meltable resin layer (5) of the conductive film (10) is in-mold molded. The molded resin body (21) and the transparent conductive layer (3) are bonded to each other with very good adhesion. In FIG. 3, the interface between the layer (5) and the molded article body (21) is indicated by a broken line for convenience, but it is considered that such an interface does not actually exist. Since the cured product of the impregnated radiation curable material exists in the space between the conductive fine particles in the obtained transparent conductive layer (3), the transparent conductive layer (3) is excellent in flexibility. Even if the surface of the molded product body is curved, cracks do not occur, the contact between the conductive fine particles is reliably maintained, and the electrical resistance value of the transparent conductive layer applied to the molded product is low Maintained. Excellent durability even during use of molded products. Furthermore, the transparent conductive layer (3) has a small haze and excellent optical properties.

成形品本体を形成するための樹脂としては、その用途に応じて、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、オレフィン系樹脂等の従来から用いられている各種の樹脂を用いるとよい。   As the resin for forming the molded article main body, various kinds of resins conventionally used such as acrylic resins, polycarbonate resins, olefin resins, and the like may be used depending on the application.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]
(転写用導電性フィルム)
まず、図1に示す転写用導電性フィルムを作製した。
[Example 1]
(Conductive film for transfer)
First, the conductive film for transfer shown in FIG. 1 was produced.

50μm厚のPETフィルムHPE(帝人デュポンフィルム製)を支持体(1) として用いた。PETフィルム(1) の易接面上に、シリコーンハードコート液KP−854(信越化学工業(株)製)を塗布、乾燥し、60℃環境下にて、48時間で硬化させ、1.0μm厚の剥離層(2) を形成した。   A 50 μm thick PET film HPE (manufactured by Teijin DuPont Films) was used as the support (1). A silicone hard coat solution KP-854 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is applied onto the easy-contact surface of the PET film (1), dried, and cured in a 60 ° C. environment for 48 hours, 1.0 μm. A thick release layer (2) was formed.

一次粒径が26nmのITO微粒子(DOWAエレクトロニクス(株)製)100重量部にエタノール300重量部を加え、メディアをジルコニアビーズとして分散機にて分散した。得られたITO塗液をPETフィルム(1) の剥離層(2) 上に、バーコーターを用いて塗布し、50℃の温風を送って乾燥し、ITO微粒子含有層を形成した。このITO微粒子含有層の厚みは1.5μmであった。得られたフィルムを圧縮前ITOフィルムと称する。   300 parts by weight of ethanol was added to 100 parts by weight of ITO fine particles (manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd.) having a primary particle size of 26 nm, and the media was dispersed as zirconia beads with a disperser. The obtained ITO coating solution was applied onto the release layer (2) of the PET film (1) using a bar coater, dried by sending hot air of 50 ° C., and an ITO fine particle-containing layer was formed. The thickness of the ITO fine particle-containing layer was 1.5 μm. The obtained film is called an ITO film before compression.

一対の直径140mmの金属ロール(ロール表面にハードクロムめっき処理が施されたもの)を備えるロールプレス機を用いて、前記圧縮前ITOフィルムを金属ロール間に挟み圧縮した。圧縮圧力は183N/mm2 (線圧:330N/mm、圧縮幅:1.8mm)であり、送り速度は5m/分であった。このようにして、ITO微粒子の圧縮層(3) を形成した。圧縮層(3) の厚みは1.0μmであった。 The pre-compression ITO film was sandwiched between metal rolls and compressed using a roll press machine equipped with a pair of metal rolls having a diameter of 140 mm (the roll surface was subjected to hard chrome plating). The compression pressure was 183 N / mm 2 (linear pressure: 330 N / mm, compression width: 1.8 mm), and the feed rate was 5 m / min. In this way, a compressed layer (3) of ITO fine particles was formed. The thickness of the compressed layer (3) was 1.0 μm.

この時点において、圧縮層(3) の表面電気抵抗値を測定したところ、450Ω/□であった。表面電気抵抗(四探針法)の測定は、三菱化学社製のロレスタGPを使用して、JIS K7194に準じて行った。   At this time, the surface electrical resistance value of the compressed layer (3) was measured and found to be 450Ω / □. The surface electrical resistance (four probe method) was measured according to JIS K7194 using a Loresta GP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.

放射線硬化性材料として、反応性二重結合を有するアクリル樹脂溶液(モノマー成分:新中村化学工業(株)製ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、溶媒:MEK(メチルエチルケトン)、反応開始剤:イルガキュア184(アクリルモノマー成分に対して3重量%)、溶液の固形分濃度:20重量%)を用いた。   As a radiation curable material, an acrylic resin solution having a reactive double bond (monomer component: dipentaerythritol hexaacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., solvent: MEK (methyl ethyl ketone), reaction initiator: Irgacure 184 (acrylic monomer) 3% by weight with respect to the components), and the solid content concentration of the solution: 20% by weight).

圧縮層(3) 上に、上記アクリル樹脂溶液を硬化後の厚み3.0μmとなるように塗布し、乾燥し、その後、紫外線照射を行い、硬化させ、放射線硬化性材料の硬化物層(4) を形成した。この操作において、上記アクリル樹脂溶液は圧縮層(3) 中に含浸し、硬化された。   On the compression layer (3), the acrylic resin solution is applied so as to have a cured thickness of 3.0 μm, dried, and then irradiated with ultraviolet rays to be cured, and a cured product layer (4 ) Formed. In this operation, the acrylic resin solution was impregnated into the compressed layer (3) and cured.

硬化物層(4) 上に、熱溶融性ウレタン変性共重合ポリエステル樹脂溶液[組成:ウレタン変性共重合ポリエステル(Tg=83℃)12重量部、メチルエチルケトン44重量部、トルエン44重量部]を乾燥後の厚み1.0μmとなるように塗布し、80℃の温風を送って乾燥し、熱溶融性樹脂層(5) を得た。このようにして、転写用導電性フィルム(10)を作製した。   After drying the heat-meltable urethane-modified copolymer polyester resin solution [composition: 12 parts by weight of urethane-modified copolymer polyester (Tg = 83 ° C.), 44 parts by weight of methyl ethyl ketone, 44 parts by weight of toluene] on the cured product layer (4). Was applied to a thickness of 1.0 μm, dried by sending warm air at 80 ° C. to obtain a hot-melt resin layer (5). In this way, a conductive film for transfer (10) was produced.

(透明導電層付き基板)
次に、転写用導電性フィルム(10)を用いて、図2に示した操作でインモールド成形を行い、厚み2.0mmの透明導電層付き基板を作製した。
(Substrate with transparent conductive layer)
Next, using the conductive film for transfer (10), in-mold molding was performed by the operation shown in FIG. 2 to produce a substrate with a transparent conductive layer having a thickness of 2.0 mm.

固定型(31)と可動型(32)との間に、導電性フィルム(10)を、支持体(1) 面が可動型(32)の型面(32a) を向き、熱溶融性樹脂層(5) 面が固定型(31)の型面(31a) を向くように配置した。次に、導電性フィルム(10)を可動型(32)の型面(32a) 側から吸引し、固定型(31)と可動型(32)とを型閉めした。続いて、射出ゲート(33)からキャビティー(34)内に270〜330℃にて溶融したアートン樹脂(JSR(株)製、ARTON F4520)を射出注入して、冷却し、基板を作製した。基板表面には、均一な透明導電層が形成されていた。図2及び図3には、表面が湾曲した基板が例示されているが、種々の形状の基板を作製可能なことはいうまでもない。   Between the fixed mold (31) and the movable mold (32), the conductive film (10) is placed, and the support (1) surface faces the mold surface (32a) of the movable mold (32). (5) The surface was arranged so as to face the mold surface (31a) of the fixed mold (31). Next, the conductive film (10) was sucked from the mold surface (32a) side of the movable mold (32), and the fixed mold (31) and the movable mold (32) were closed. Subsequently, Arton resin (ARTON F4520 manufactured by JSR Corporation) melted at 270 to 330 ° C. was injected and injected from the injection gate (33) into the cavity (34), and cooled to prepare a substrate. A uniform transparent conductive layer was formed on the substrate surface. 2 and 3 exemplify substrates having curved surfaces, it goes without saying that substrates having various shapes can be manufactured.

(表面電気抵抗(四探針法))
三菱化学社製のロレスタGPを使用して、JIS K7194に準じて、得られた透明導電層の表面電気抵抗値を測定したところ、450Ω/□であった。
(Surface electrical resistance (four probe method))
Using a Loresta GP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, the surface electrical resistance value of the obtained transparent conductive layer was measured according to JIS K7194, and found to be 450Ω / □.

[実施例2]
放射線硬化性材料として、上記アクリル樹脂溶液の代わりに、反応性二重結合を有するシクロオレフィン樹脂溶液(モノマー成分:新中村化学工業(株)製トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、溶媒:MEK、反応開始剤:イルガキュア184(シクロオレフィンモノマー成分に対して3重量%)、溶液の固形分濃度:20重量%)を用いた以外は、実施例1と同様にして転写用導電性フィルム(10)を作製した。
[Example 2]
As a radiation curable material, instead of the acrylic resin solution, a cycloolefin resin solution having a reactive double bond (monomer component: tricyclodecane dimethanol diacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., solvent: MEK, reaction) The conductive film for transfer (10) was transferred in the same manner as in Example 1 except that the initiator: Irgacure 184 (3% by weight relative to the cycloolefin monomer component) and the solid content concentration of the solution: 20% by weight were used. Produced.

この転写用導電性フィルム(10)を用いて、実施例1と同様にして透明導電層付き基板を作製した。基板表面には、均一な透明導電層が形成されていた。得られた透明導電層の表面電気抵抗値を測定したところ、470Ω/□であった。   Using this transfer conductive film (10), a substrate with a transparent conductive layer was produced in the same manner as in Example 1. A uniform transparent conductive layer was formed on the substrate surface. It was 470 ohm / square when the surface electrical resistance value of the obtained transparent conductive layer was measured.

[実施例3]
放射線硬化性材料として、上記アクリル樹脂溶液の代わりに、反応性二重結合を有するウレタンアクリレート樹脂溶液(モノマー成分:新中村化学工業(株)製UA512、溶媒:MEK、反応開始剤:イルガキュア184(ウレタンアクリレートモノマー成分に対して3重量%)、溶液の固形分濃度:20重量%)を用いた以外は、実施例1と同様にして転写用導電性フィルム(10)を作製した。
[Example 3]
As a radiation curable material, instead of the acrylic resin solution, a urethane acrylate resin solution having a reactive double bond (monomer component: UA512 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., solvent: MEK, reaction initiator: Irgacure 184 ( A conductive film for transfer (10) was prepared in the same manner as in Example 1 except that 3 wt% relative to the urethane acrylate monomer component and the solid content concentration of the solution: 20 wt%) were used.

この転写用導電性フィルム(10)を用いて、実施例1と同様にして透明導電層付き基板を作製した。基板表面には、均一な透明導電層が形成されていた。得られた透明導電層の表面電気抵抗値を測定したところ、480Ω/□であった。   Using this transfer conductive film (10), a substrate with a transparent conductive layer was produced in the same manner as in Example 1. A uniform transparent conductive layer was formed on the substrate surface. It was 480 ohms / square when the surface electrical resistance value of the obtained transparent conductive layer was measured.

[比較例1]
この比較例においては、放射線硬化性材料の硬化物層(4) のない転写用導電性フィルムを次のように作製した。
[Comparative Example 1]
In this comparative example, a conductive film for transfer without a cured product layer (4) of a radiation curable material was produced as follows.

実施例1と同様にして、50μm厚のPETフィルム(1) の易接面上に1.0μm厚の剥離層(2) を形成し、剥離層(2) 上にITO微粒子の1.0μm厚の圧縮層(3) を形成した。   In the same manner as in Example 1, a 1.0 μm-thick release layer (2) was formed on the easy-contact surface of a 50 μm-thick PET film (1), and ITO fine particles of 1.0 μm thickness were formed on the release layer (2). The compressed layer (3) was formed.

圧縮層(3) 上に、実施例1で用いたのと同じ熱溶融性ウレタン変性共重合ポリエステル樹脂溶液を乾燥後の厚み1.0μmとなるように塗布し、80℃の温風を送って乾燥した。前記熱溶融性ポリエステル樹脂は圧縮層(3) 中に含浸し、透明導電層(3) と熱溶融性樹脂層(5) を得た。このようにして、転写用導電性フィルムを作製した。   On the compression layer (3), the same hot-melting urethane-modified copolymerized polyester resin solution used in Example 1 was applied so that the thickness after drying was 1.0 μm, and hot air at 80 ° C. was sent. Dried. The hot-melt polyester resin was impregnated in the compression layer (3) to obtain a transparent conductive layer (3) and a hot-melt resin layer (5). Thus, a conductive film for transfer was produced.

この転写用導電性フィルム(10)を用いて、実施例1と同様にして透明導電層付き基板を作製した。基板表面には、均一な透明導電層が形成されていた。得られた透明導電層の表面電気抵抗値を測定したところ、2200Ω/□であった。   Using this transfer conductive film (10), a substrate with a transparent conductive layer was produced in the same manner as in Example 1. A uniform transparent conductive layer was formed on the substrate surface. When the surface electrical resistance value of the obtained transparent conductive layer was measured, it was 2200Ω / □.

[比較例2]
125μm厚のPETフィルム支持体上に、厚み30nmのITO薄膜をスパッタリング法により形成し、導電性フィルムとした。
[Comparative Example 2]
An ITO thin film having a thickness of 30 nm was formed on a PET film support having a thickness of 125 μm by a sputtering method to obtain a conductive film.

固定型(31)と可動型(32)との間に、この導電性フィルムを、支持体面が可動型(32)の型面(32a) を向き、ITO薄膜面が固定型(31)の型面(31a) を向くように配置した。次に、導電性フィルムを可動型(32)の型面(32a) 側から吸引し、固定型(31)と可動型(32)とを型閉めした。続いて、射出ゲート(33)からキャビティー(34)内に溶融したアートン樹脂(JSR(株)製、ARTON F4520)を射出注入して、冷却し、基板を作製した。基板上の導電層の表面にはクラックが発生していた。そのため、導電層の表面電気抵抗値は測定できなかった。   This conductive film is placed between the fixed mold (31) and the movable mold (32) with the support surface facing the mold surface (32a) of the movable mold (32) and the ITO thin film surface being the mold of the fixed mold (31). It was arranged to face the surface (31a). Next, the conductive film was sucked from the mold surface (32a) side of the movable mold (32), and the fixed mold (31) and the movable mold (32) were closed. Subsequently, a molten Arton resin (manufactured by JSR Co., Ltd., ARTON F4520) was injected and injected from the injection gate (33) into the cavity (34), and cooled to prepare a substrate. Cracks occurred on the surface of the conductive layer on the substrate. Therefore, the surface electrical resistance value of the conductive layer could not be measured.

実施例1〜3で示したように、本発明に合致するインモールド成形用導電性フィルムを用いると、透明導電層中の導電性微粒子相互間の空隙には含浸した放射線硬化性材料の硬化物が存在し、導電性微粒子相互の接触が確実に維持されるため、インモールド成形時の高温環境プロセスを経ても、成形品に付与された透明導電層の電気抵抗値を低く維持することができる。一方、比較例1においては、透明導電層中の導電性微粒子相互間の空隙には含浸した熱溶融性ポリエステル樹脂が存在しているが、インモールド成形時の高温環境プロセスによって、透明導電層の電気抵抗値の上昇が見られた。   As shown in Examples 1 to 3, when an in-mold conductive film conforming to the present invention is used, a cured product of a radiation curable material impregnated in the space between the conductive fine particles in the transparent conductive layer Therefore, the electrical resistance value of the transparent conductive layer applied to the molded product can be kept low even after a high temperature environmental process during in-mold molding. . On the other hand, in Comparative Example 1, the impregnated hot-melt polyester resin is present in the space between the conductive fine particles in the transparent conductive layer. An increase in electrical resistance was observed.

本発明の転写用導電性フィルムの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the electroconductive film for transfer of this invention. 透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド射出成形により製造する方法を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the method to manufacture the plastic molded product with a transparent conductive layer by in-mold injection molding. 透明導電層付きプラスチック成形品の断面図である。It is sectional drawing of a plastic molded product with a transparent conductive layer.

符号の説明Explanation of symbols

(10):転写用導電性フィルム
(1) :支持体
(2) :剥離層
(3) :透明導電層
(4) :放射線硬化性材料の硬化物層
(5) :熱溶融性樹脂層
(31):固定型
(32):可動型
(33):射出ゲート
(34):キャビティー
(20):成形品
(21):成形品本体
(10): Conductive film for transfer
(1): Support
(2): Release layer
(3): Transparent conductive layer
(4): Cured material layer of radiation curable material
(5): Hot melt resin layer
(31): Fixed type
(32): Movable type
(33): Injection gate
(34): Cavity
(20): Molded product
(21): Molded product body

Claims (8)

支持体と、前記支持体上の前記支持体とは剥離可能な透明導電層と、前記透明導電層上の放射線硬化性材料の硬化物層と、前記硬化物層上の熱溶融性樹脂層とを少なくとも有し、
前記放射線硬化性材料の硬化物層は、0.5〜7.0μmの厚みを有し、
前記熱溶融性樹脂層は、0.5〜5.0μmの厚みを有し、
前記透明導電層は、導電性微粒子と該導電性微粒子相互間に含浸した前記放射線硬化性材料の硬化物とを含む、インモールド成形用導電性フィルム。
A support, a transparent conductive layer peelable from the support on the support, a cured layer of a radiation curable material on the transparent conductive layer, and a heat-meltable resin layer on the cured layer Having at least
The cured product layer of the radiation curable material has a thickness of 0.5 to 7.0 μm,
The hot-melt resin layer has a thickness of 0.5 to 5.0 μm,
The transparent conductive layer is an in-mold conductive film including conductive fine particles and a cured product of the radiation curable material impregnated between the conductive fine particles.
前記導電性微粒子は、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、ガリウムドープ酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、硼素ドープ酸化亜鉛、及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる、請求項1に記載の導電性フィルム。   The conductive fine particles include indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), gallium-doped indium oxide, zinc-doped indium oxide, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), zinc oxide, and aluminum. The conductive film according to claim 1, which is selected from the group consisting of doped zinc oxide (AZO), gallium doped zinc oxide (GZO), fluorine doped zinc oxide, indium doped zinc oxide, boron doped zinc oxide, and cadmium oxide. 前記透明導電層は、0.05〜5μmの厚みを有する、請求項1又は2に記載の導電性フィルム。   The conductive film according to claim 1, wherein the transparent conductive layer has a thickness of 0.05 to 5 μm. 前記熱溶融性樹脂は、溶融粘度が100〜10,000dPa・s/200℃であるものである、請求項1〜3のうちのいずれか1項に記載の導電性フィルム。The conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the heat-meltable resin has a melt viscosity of 100 to 10,000 dPa · s / 200 ° C. 前記熱溶融性樹脂は、熱溶融性ウレタン変性共重合ポリエステル樹脂である、請求項1〜4のうちのいずれか1項に記載の導電性フィルム。The conductive film according to claim 1, wherein the heat-meltable resin is a heat-meltable urethane-modified copolymer polyester resin. 前記インモールド成形用導電性フィルムは、
支持体上に導電性微粒子の分散液を塗布、乾燥し、導電性微粒子の含有層を形成し、
前記導電性微粒子の含有層を圧縮し、導電性微粒子相互間に空隙が存在する導電性微粒子の圧縮層を形成し、
前記導電性微粒子の圧縮層の上に、放射線硬化性材料を塗布、乾燥して、放射線硬化性材料を導電性微粒子相互間に含浸させると共に、放射線硬化性材料の層を形成し、
放射線照射を行って、導電性微粒子相互間に含浸している放射線硬化性材料、及び層を形成している放射線硬化性材料を硬化させ、
得られた放射線硬化性材料の硬化物層の上に、熱溶融性樹脂を塗布、乾燥して、熱溶融性樹脂の層を形成する、
ことにより得られたものである、請求項1〜5のうちのいずれか1項に記載の導電性フィルム。
The conductive film for in-mold molding is
A dispersion of conductive fine particles is applied onto a support, dried, and a layer containing conductive fine particles is formed.
Compressing the conductive fine particle-containing layer to form a conductive fine particle compressed layer in which voids exist between the conductive fine particles;
On the compressed layer of the conductive fine particles, a radiation curable material is applied and dried to impregnate the radiation curable material between the conductive fine particles, and a layer of the radiation curable material is formed.
Radiation irradiation is performed to cure the radiation curable material impregnated between the conductive fine particles and the radiation curable material forming the layer,
On the cured layer of the obtained radiation-curable material, a hot-melt resin is applied and dried to form a hot-melt resin layer.
The electroconductive film of any one of Claims 1-5 which is obtained by this.
プラスチック成形品本体と、前記成形品本体の表面に付与された透明導電層とを含む透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造する方法であって、
支持体と、前記支持体上の前記支持体とは剥離可能な透明導電層と、前記透明導電層上の放射線硬化性材料の硬化物層と、前記硬化物層上の熱溶融性樹脂層とを少なくとも有し、前記放射線硬化性材料の硬化物層は、0.5〜7.0μmの厚みを有し、前記熱溶融性樹脂層は、0.5〜5.0μmの厚みを有し、前記透明導電層は、導電性微粒子と該導電性微粒子相互間に含浸した前記放射線硬化性材料の硬化物とを含むインモールド成形用導電性フィルムを準備し、
前記導電性フィルムを、前記支持体面が射出成形用金型内の一方の型面を向くようにセットし、前記フィルムの熱溶融性樹脂層面と他方の型面との間にキャビティーが形成されるように型締めし、その後、
前記キャビティー内に溶融樹脂を射出して、冷却し、プラスチック成形品本体を成形すると共に、成形品本体の表面に前記透明導電層を積層一体化する、
ことを含む、透明導電層付きプラスチック成形品の製造方法。
A method for producing a plastic molded article with a transparent conductive layer comprising a plastic molded article main body and a transparent conductive layer applied to the surface of the molded article main body by in-mold molding,
A support, a transparent conductive layer peelable from the support on the support, a cured layer of a radiation curable material on the transparent conductive layer, and a heat-meltable resin layer on the cured layer The cured product layer of the radiation curable material has a thickness of 0.5 to 7.0 μm, the hot-melt resin layer has a thickness of 0.5 to 5.0 μm, The transparent conductive layer prepares a conductive film for in-mold molding containing conductive fine particles and a cured product of the radiation curable material impregnated between the conductive fine particles,
The conductive film is set so that the support surface faces one mold surface in the injection mold, and a cavity is formed between the heat-meltable resin layer surface of the film and the other mold surface. And then clamp
Injecting molten resin into the cavity, cooling, molding a plastic molded product body, and laminating and integrating the transparent conductive layer on the surface of the molded product body,
The manufacturing method of the plastic molded product with a transparent conductive layer including this.
前記透明導電層付きプラスチック成形品は、前記成形品本体の湾曲した表面に透明導電層が付与されたものである、請求項7に記載のプラスチック成形品の製造方法。   The method for producing a plastic molded product according to claim 7, wherein the plastic molded product with a transparent conductive layer is obtained by providing a transparent conductive layer on a curved surface of the molded product main body.
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